WO2007018222A1 - 発光ダイオード用基板及び発光ダイオード - Google Patents

発光ダイオード用基板及び発光ダイオード Download PDF

Info

Publication number
WO2007018222A1
WO2007018222A1 PCT/JP2006/315695 JP2006315695W WO2007018222A1 WO 2007018222 A1 WO2007018222 A1 WO 2007018222A1 JP 2006315695 W JP2006315695 W JP 2006315695W WO 2007018222 A1 WO2007018222 A1 WO 2007018222A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
light
emitting diode
substrate
light emitting
layer
Prior art date
Application number
PCT/JP2006/315695
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Shin-Ichi Sakata
Atsuyuki Mitani
Original Assignee
Ube Industries, Ltd.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ube Industries, Ltd. filed Critical Ube Industries, Ltd.
Priority to JP2007529599A priority Critical patent/JP5029362B2/ja
Priority to US11/990,235 priority patent/US7863636B2/en
Priority to EP06768434.0A priority patent/EP1914810B1/en
Priority to CN200680028839XA priority patent/CN101238595B/zh
Publication of WO2007018222A1 publication Critical patent/WO2007018222A1/ja

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/10—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on aluminium oxide
    • C04B35/111—Fine ceramics
    • C04B35/117—Composites
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/44—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on aluminates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
    • C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/653—Processes involving a melting step
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • C09K11/77—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals
    • C09K11/7766—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals containing two or more rare earth metals
    • C09K11/7774—Aluminates
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/50—Wavelength conversion elements
    • H01L33/501—Wavelength conversion elements characterised by the materials, e.g. binder
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/14—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3217—Aluminum oxide or oxide forming salts thereof, e.g. bauxite, alpha-alumina
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3217—Aluminum oxide or oxide forming salts thereof, e.g. bauxite, alpha-alumina
    • C04B2235/3222—Aluminates other than alumino-silicates, e.g. spinel (MgAl2O4)
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3224—Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
    • C04B2235/3225—Yttrium oxide or oxide-forming salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3224—Rare earth oxide or oxide forming salts thereof, e.g. scandium oxide
    • C04B2235/3229—Cerium oxides or oxide-forming salts thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02—Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30—Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/32—Metal oxides, mixed metal oxides, or oxide-forming salts thereof, e.g. carbonates, nitrates, (oxy)hydroxides, chlorides
    • C04B2235/3286—Gallium oxides, gallates, indium oxides, indates, thallium oxides, thallates or oxide forming salts thereof, e.g. zinc gallate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/74—Physical characteristics
    • C04B2235/76—Crystal structural characteristics, e.g. symmetry
    • C04B2235/762—Cubic symmetry, e.g. beta-SiC
    • C04B2235/764—Garnet structure A3B2(CO4)3
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/80—Phases present in the sintered or melt-cast ceramic products other than the main phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/96—Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
    • C04B2235/963—Surface properties, e.g. surface roughness
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00—Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/70—Aspects relating to sintered or melt-casted ceramic products
    • C04B2235/96—Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
    • C04B2235/9646—Optical properties
    • C04B2235/9661—Colour
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto

Definitions

  • the present invention relates to a substrate for a light-emitting diode that can be used for a display, illumination, backlight light source, and the like, and a light-emitting diode using the light-emitting diode substrate.
  • White light-emitting diodes are lightweight, do not use mercury, and have a long life, so that demand is expected to expand rapidly in the future.
  • the most commonly used method for converting blue light of a blue light emitting element into white light is, for example, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-208815.
  • a coating layer containing a phosphor that absorbs part of the light and emits yellow light, and a mold layer for mixing the blue light of the light source and the yellow light from the coating layer are provided, and are in a complementary color relationship.
  • a pseudo white color is obtained by mixing blue and yellow.
  • a light emitting device is attached to the substrate itself on which the blue light emitting element is formed.
  • Proposals have been made for a method that does not use powder.
  • a YAG: Ce phosphor single crystal is formed on a substrate whose main surface is the (1 1 1) plane.
  • a nitride semiconductor layer consisting of y N (0 ⁇ x ⁇ 1, 0 ⁇ y ⁇ 1, 0 ⁇ x + y ⁇ 1) is formed, and blue light emitted from the light emitting layer is directly incident on the substrate and the substrate itself
  • a method to obtain a homogeneous white color with no color unevenness using only a light emitting chip without using a coating layer containing the phosphor powder by emitting homogeneous yellow fluorescence from the YAG phosphor powder As another method not used, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-082845 discloses a method for obtaining a white light emitting diode using a ZnSe single crystal. In this method, a ZnSe substrate is provided with the function of sel f-activated (SA) emission, and a ZnSe-based blue light-emitting diode is formed on this substrate. In this method, white light is obtained.
  • SA sel f-activated
  • YAG (1 1 1) High-quality nitride semiconductor layer due to the large difference between the lattice spacing of the substrate and the lattice spacing of I n x Gai _ x N forming the nitride semiconductor buffer layer formed on the substrate It is thought that this is because it is difficult to form.
  • the white light emitting diodes based on ZnSe single crystals described in JP-A-2000-082845 have a problem of deterioration of the elements, and improvement of the quality of the Zn Se substrate is required for improvement.
  • life extension requires a reduction in dislocation density, and improvements such as optimization of the device fabrication process and material changes are currently being made. This is described, for example, in the application and future prospects of white LED lighting system technology, supervised by Tsunemasa Taguchi, CMC Publishing, 2003, page 170.
  • A1 2 0 3 single crystal As a substrate for InGaN blue light-emitting diodes. It is what is a (0001) plane of the A1 2 0 3 single crystal (Safuaiya), has a long track record. In addition, in a device fabricated using this A 1 2 0 3 single crystal, there has been no report of a problem of deterioration of the light emitting device due to A 1 2 0 3 degradation. Therefore, when Seisuru create a white light emitting diode using emission of the substrate itself, A1 2 0 3 is achieved by a method of constituting the blue light emitting element to the substrate is most desirable Rukoto. For this purpose, it becomes necessary light emission of the substrate itself, as described above, a method so as to obtain a yellow light emission incident blue light to A 1 2 0 3 single crystal has not been reported.
  • An object of the present invention is to form a good light-emitting diode element without using phosphor powder, to reduce the deterioration, and to transmit light from the light-emitting diode element and to emit light using a part of the transmitted light. Furthermore, it is an object to provide a light emitting diode substrate capable of mixing and emitting transmitted light and new light emission, and a light emitting diode using the light emitting diode substrate.
  • the present invention provides a single crystal layer capable of forming a light emitting diode element, and at least two oxide phases selected from a single metal oxide and a composite metal oxide, continuously and three-dimensionally.
  • the present invention relates to a light emitting diode substrate characterized by containing a metal element oxide that emits, and a light emitting diode using the light emitting diode substrate.
  • the single crystal layer A 1 2 0 3, S i C, ZnO, and it is preferable that consists of a material selected from the group consisting of GaN.
  • An embodiment of the substrate for a light emitting diode according to the present invention is characterized in that a bonding layer made of a substance capable of bonding both materials is provided between the single crystal layer and the ceramic composite layer for light conversion. To do. In addition, it is preferable that a fluorescent material is present in the bonding layer.
  • the solidified body is an A1 2 0 3, characterized in that it consists Yg A ls O, 2 Prefecture, which is activated by cerium.
  • the substrate can be used as a light emitting surface without using phosphor powder, the formation of a light emitting diode element (semiconductor layer) is hindered, the deterioration is small, and the light mixing property is improved. It is possible to provide a light emitting diode with little color unevenness.
  • the InGaN-based blue light-emitting element can produce a blue light emitting device I The InGaN-based using a single crystal substrate such as A l 2 0 3 with Oite most proven to produce the blue light-emitting device using the I The InGaN-based substrates of the present invention
  • the light emitted from the InGaN-based blue light-emitting element is directly guided to the substrate in the same manner as the ZnSe substrate, and while transmitting blue light, simultaneously absorbs part of the blue light and generates yellow light, and at the same time
  • the white light-emitting diode with uniform light can be obtained by effectively mixing excitation light and fluorescence by three-dimensional entanglement of multiple crystal phases.
  • a white light emitting diode can be obtained simply by manufacturing a blue light emitting element on this substrate, and the manufacturing process of the light emitting diode can be greatly simplified.
  • another phosphor is present on the bonding surface, thereby providing a substrate capable of controlling the color tone, and controlling the color tone of the light emitting diode is extremely high. It also has the feature that it can be easily done. For this tone control As a result, the degree of freedom in the emission wavelength of the ceramic composite increases, and as a result, the degree of freedom in the compositional design of the ceramic composite material increases.
  • the light-emitting diode of the present invention is characterized in that a light-emitting diode element is formed on the single crystal layer of the light-emitting diode substrate, and light is extracted from the light-emitting diode substrate side.
  • FIG. 1A is a schematic sectional view showing an embodiment of a light emitting diode substrate of the present invention.
  • FIG. 1B is a schematic cross-sectional view showing another embodiment of a light emitting diode substrate of the present invention.
  • FIG. 2 is a schematic view showing an embodiment of a light emitting diode using a substrate according to the present invention.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of the structure of the ceramic composite for light conversion according to the present invention obtained in Example 1.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view showing how the substrates according to the present invention obtained in Example 1 are joined.
  • FIG. 5 is a light emission spectrum diagram of the light emitting diode obtained in Example 1.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view showing a bonding layer of a substrate according to the present invention obtained in Example 2.
  • FIG. 7 is a light emission spectrum diagram of the light emitting diode obtained in Example 3. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • the substrate of the present invention comprises a single crystal layer and a light as shown in FIG. 1A, for example. It is a laminated structure by bonding the ceramic composite layer for conversion.
  • a light emitting diode substrate 1 is composed of a single crystal layer 2, a ceramic composite 3, and optionally a junction layer 4.
  • the single crystal layer according to the present invention is a layer made of a conventional single crystal on which a semiconductor such as a light emitting diode element can be formed. For example, aluminum oxide (A 1 2 0 3 ), silicon carbide (SiC) Zinc oxide ( ⁇ ) and gallium nitride (GaN).
  • the ceramic composite layer for light conversion according to the present invention is formed of a ceramic composite material including a phosphor, and a solidified body in which metal oxides are continuously and three-dimensionally entangled with each other. Consists of. Examples of the metal oxide include a single metal oxide or a complex oxide, and the single metal oxide or the complex metal oxide contains an element that exhibits a function, for example, fluorescence. Such a solidified body is a composite material made by melting and solidifying the raw metal oxide. A single metal oxide is an oxide of one kind of metal, and a composite metal oxide is an oxide of two or more kinds of metals. Each oxide has a three-dimensionally intertwined structure. In addition, other oxide phases may exist between these intertwined oxide phases.
  • Such single metal oxides include aluminum oxide (A1 2 0 3 ), zirconium oxide (Zr0 2 ), magnesium oxide (MgO), silicon oxide (Si0 2 ), titanium oxide (Ti0 2 ) and barium oxide (BaO). ), Beryllium oxide (BeO), calcium oxide (CaO), chromium oxide (Cr 2 0 3 ), and other rare earth element oxides (La 2 0 3 , Y 2 0 3 , Ce0 2 , Pr 6 0, ,, Nd 2 0 3 , Sm 2 0 3 , Gd 2 0 3 , Eu 2 0 3 , Tb 4 0 Dy 2 0 3 , Ho 2 0 3 , Er 2 0 3 , Tm 2 0 3 , Yb 2 0 3 , Lu 2 0 3) and the like.
  • the composite metal oxides include LaA 10 3 , CeAlO PrA10 3 , NdA10 3 , SmA10 3 , EuA10 3 , GdAlO DyA10 3 , ErA10 3 , Yb 4 Al 2 0 9 , Y 3 A1 5 0 12 , Er 3 Al 5 0 12 , Tb 3 Al 5 0 12 , 11A1 2 0 3 • La 2 0 3 , 11A 1 2 0 3 Nd 2 0 3 , 3 Dy 2 0 3 ⁇ 5 A 1 2 0 3 , 2 Dy 2 0 3 ⁇ A 1 2 0 3 , 1 1A 1 2 0 3 -Pr 2 0 3 , EuAl,, 0, 8 , 2 Gd 2 0 3 ⁇ Al 2 0 3 , 11AI 2 0 3 ⁇ Sm 2 0 3 , Yb 3 A1 5 0 12 , CeAl,, Oj 8 , Er 4 Al 2 0 9 etc. are
  • a method of directly joining at a high temperature can be used. This method is the simplest method and the most ideal method in that it does not have a different phase at the interface.
  • the bonding temperature and time are required to be 1700-1800 ° C and 1-50 hours. At higher temperatures, deformation of the single crystal plate and the ceramic composite plate occurs. Also, the bonding hardly proceeds at low temperatures.
  • the A 1 2 0 3 single crystal layer and the ceramic composite layer need to be exposed to high temperatures for a long time, which is disadvantageous in terms of cost.
  • the single crystal layer and the ceramic composite layer there is a method in which a very small amount of a low melting point material (for example, silica) is interposed as a bonding layer on the bonding surface.
  • a low melting point material for example, silica
  • the composition must be determined in consideration of the process temperature and atmosphere of the InGaN light emitting diode.
  • typical Pyrex (registered trademark) glass 900 ° C to 1300 ° C and 1 hour to 10 hours are required.
  • the joining pressure is not necessarily required, but it is more preferable to apply a pressure of 0.01 to 100 MPa using a hot press device or the like because it is more adhesive.
  • a bonding layer made of a substance capable of adhering both layers is provided between the single crystal layer and the ceramic composite layer for light conversion.
  • bonding adhesive
  • any phosphor material can be present in the bonding layer. This phosphor makes it possible to control the color tone of the light emitting diode.
  • Various fluorescent materials can be cited as the phosphor material to be present at the junction.
  • Ca 2 Si 5 N 8 activated by europium emitting red fluorescence and attached by europium
  • a material such as activated CaAl SiN 3 is preferred.
  • Epoxy resin, silicon resin, etc. can be used as the adhesive material.
  • a 1 2 0 3 single crystal as the single crystal layer, to form a blue light emitting element of the I The InGaN based on this, the light emitted from the blue light emitting element, enters the A 1 2 0 3 single crystal layer, Furthermore, it is incident on the ceramic composite layer for light conversion. Part of the blue light is transmitted as it is, and part of the blue light is absorbed by the ceramic composite layer for light conversion, for example, yellow light is newly emitted. In the ceramic composite layer for light conversion, a plurality of crystal phases are intertwined three-dimensionally, and blue light and yellow light are effectively mixed and emitted in this intertwining.
  • a bonding layer as shown in Fig. 1B.
  • the bonding layer lowers the bonding temperature between the single crystal layer and the ceramic composite layer for light conversion, simplifies the process, and provides new functions. For example, a new phosphor can be added to control the color tone. In addition to the color mixture of blue and yellow light as described above, it is possible to add new light (for example, red) and control the color tone.
  • a method using Si C, ZnO, or GaN in addition to A 1 2 0 3 is also known.
  • the same function can be realized by bonding the plate of SiC, ZnO, GaN and the plate of the present ceramic composite for light conversion.
  • the substrate material for the light-emitting diode element will be described below, but this substrate is limited to this example because various applications can be considered depending on the combination of the elements of the material constituting the single crystal layer and the ceramic composite layer. It is not a thing.
  • a 1 2 0 3 plate made with single-crystal layer is CZ method, is produced from the melt in such EFG process, they can be commercially available products because they are widely available commercially.
  • the ceramic composite layer for light conversion also contains A 1 2 0 3 crystals. If a ceramic composite for light conversion containing A 1 2 0 3 is used, the difference in refractive index at the joint surface with the A 1 2 0 3 single crystal layer becomes very small, and light can be transmitted effectively. become able to.
  • a 1 2 0 3 a (0001) to the substrate surface A 1 2 0 3 of the light conversion material is more preferable to bond with (0001) plane, In this way, A 1 2 0 3 layer This is because the difference in refractive index due to the crystal orientation disappears at the junction, and light can be transmitted most efficiently.
  • the crystal phase that coexists with the A 1 2 0 3 crystal of the ceramic composite layer for light conversion must be an A 3 X 5 0 1 2 type crystal that is a composite metal oxide activated with at least cerium.
  • A includes one or more elements selected from the group of Y, Tb, Sm, Gd, La, and Er.
  • the structural formula includes one or more elements selected from Al and Ga. The case is particularly preferred. This is because the ceramic composite for light conversion comprising this particularly preferable combination absorbs a part of the light from purple to blue light and emits yellow fluorescence.
  • the combination of Y 3 A1 5 0, 2 activated by cerium and Al 2 0 3 crystal is suitable because it emits strong fluorescence.
  • a very important feature of the ceramic composite for light conversion is that the crystal phases are not independent, but the phases are integrated as an inseparable relationship.
  • Y 3 A is not simply two crystals but also A 1 2 0 3
  • a 1 5 0 1 2 Ce crystal from a single melt with a composition that is not even 1 5 0 1 2 , there are two crystals This is different from the case where two crystals exist independently. In this sense, the two crystals are inseparable.
  • Such clots are merely A 1 2 0 3 crystal and YAG: the state of Ce crystals are mixed is different to the qualitative, Thus, the ceramic composite body exhibits specific fluorescence behavior.
  • the solidified body constituting the ceramic composite layer for light conversion is produced by melting and solidifying the raw metal oxide.
  • a solidified body by a simple method of cooling and condensing the melt charged in a crucible held at a predetermined temperature while controlling the cooling temperature, but the most preferable is a unidirectional solidification method. It is a thing. This is because the crystal phase contained by unidirectional solidification grows continuously in a single crystal state or a similar state, and each phase has a single crystal orientation.
  • the ceramic composite for use in the present application has previously been disclosed in JP-A-7-149597, JP-A-7-187893, except that at least one phase contains a metal element oxide that emits fluorescence.
  • the nitride semiconductor layer as an example of the semiconductor layer formed on the substrate of the present invention includes a plurality of nitride compound semiconductor layers.
  • Each of the nitride compound semiconductor layers has a general formula: - y N (0 ⁇ X ⁇ 1 , 0 ⁇ y ⁇ l, 0 ⁇ x + y ⁇ 1) is preferably configured by a nitride-based compound represented by the.
  • the nitride semiconductor layer has at least a light emitting layer that emits visible light.
  • a plurality of nitride-based compound semiconductor layers and a method for forming these layers are known techniques as disclosed in, for example, Jpn. J. Appl. Pys. Vol. 34 (1995), L798, etc. is there. Specifically, a GaN buffer layer and an n-electrode are formed on a substrate.
  • N-type—GaN Si contact layer
  • n-type—Al. 5 Ga. g N Si layer
  • n-type—In. .. 5 Ga. 95 N Si layer
  • InGaN layer forming a single quantum well-structured light emitting layer
  • J Ga Q 9 N Mg barrier layer
  • p-type p electrode is formed - GaN: Mg-layer by a method such as M0CVD, can be obtained by laminating in this order.
  • the structure of the light emitting layer may be a multiple quantum well structure, a homo structure, a hetero structure, or a double hetero structure.
  • a light-emitting diode device fabricated in this manner can be used as a white light-emitting diode by simply placing it in a package as shown in Fig. 2 and connecting it to an electrode.
  • reference numeral 1 is a light emitting diode substrate
  • 2 is a single crystal layer
  • 3 is a ceramic composite
  • 5 is a light emitting element (diode element)
  • 6 and 7 are electrodes
  • 8 is a package.
  • Example 1 HI A1 2 0 3 powder (purity 99.99%) and Y 2 0 3 powder (purity 99 ⁇ 999%) were prepared in a molar ratio of 82:18, and Ce0 2 powder (purity 99.99%) was charged. and so that weighed a 0.03 mol YsAlsO, 2 1 mole produced by the reaction of. These powders were wet-mixed in ethanol by a pole mill for 16 hours, and then ethanol was removed using an evaporator to obtain a raw material powder. The raw material powder was pre-melted in a vacuum furnace and used as a raw material for unidirectional solidification.
  • the raw material was thaw under a pressure of 1.33xl (T 3 Pa (10- 5 Torr). Then the same atmosphere The crucible is lowered at a rate of 5 ⁇ / hour in 3 ⁇ 1 5 0 12 : solidified of Ce and type aluminum oxide type crystals A 1 2 0 3 The obtained solidified body was yellow.
  • Figure 3 shows the cross-sectional structure parallel to the solidification direction of the solidified body.
  • the white part is Y 3 ⁇ 1 5 0 12 : Ce crystal
  • the black part is AI 2 0 3 crystal. It can be seen that the two crystals have a structure intertwined with each other.
  • a substrate of lOmmX 10 mm and 1 mm thickness was cut out from the ceramic composite material with diamond monk cutlet, and further finished to a thickness of 0.6 mm with a grinding machine, and one surface was polished to a mirror surface.
  • the average surface roughness was measured and found to be 0.014 microns.
  • FIG. 4 shows the state of joining after joining.
  • the upper side is an A 1 2 0 3 single crystal substrate, and the lower side is a ceramic composite substrate. It turns out that both are closely_contact
  • TMG trimethylgallium
  • TMA trimethylaluminum
  • nitrogen gas and dopant gas are flowed along with carrier gas on the A1 2 0 3 single crystal layer (0001) surface of the substrate prepared by bonding, and then nitrided by M0CVD method
  • a physical compound semiconductor was deposited to obtain a blue light-emitting layer.
  • SiH 4 and Cp 2 Mg as dopant gases, n-type nitride compound semiconductors and p-type nitride compound semiconductors were formed, and pn junctions were formed.
  • n-type one GaN n electrode is formed: via the A 1 2 0 3 GaN buffer layer on the single crystal layer.
  • Si contactor coat layer n-type one Alo 5 Ga. 9 N: Si layer, n-type ⁇ ⁇ . .. . 5 Ga Q 95 N: Si layer, InGaN layer which forms a single quantum well structure-type light-emitting layer, p-type - A1 Q t Ga Q 9 N :.. P -type one which Mg barrier layer, a p-electrode is formed
  • a GaN: Mg layer was formed. Each pn electrode was formed by the sputtering method, a scribe line was drawn on the substrate, and it was divided by applying external force to obtain a light emitting diode.
  • Figure 5 shows the emission spectrum of the resulting light-emitting diode. Blue light from the nitride semiconductor layer and yellow fluorescence from the ceramic composite layer excited by it were observed. The light emitted from this substrate was evenly mixed in the substrate, and good white light was obtained.
  • a solution containing 30% of spherical amorphous silica having a diameter of 10 to 20 dragons was applied onto the 10 ⁇ 10 M plate of the ceramic composite for light conversion prepared in Example 1 using a spin-coil. After coating, the substrate was heated to 60 ° C to remove the solvent component. Thereafter, put a plate of similar A1 2 0 3 single crystal in Example 1 to the optical converting ceramic composite plates of amorphous silica coated surface, was placed in hot Topuresu apparatus, pressurized with 0.03MPa While heating to 1300 ° C, the mixture was held for 2 hours and gradually cooled.
  • Figure 6 shows the resulting substrate.
  • the upper side is a plate of A 1 2 0 3 single crystal
  • the lower side is a plate of a ceramic composite for light conversion.
  • the light-emitting diode manufactured in the same manner as in Example 1 using the thus-produced light-emitting diode substrate is similar to the substrate obtained in Example 1, and the blue light from the nitride semiconductor layer is thereby generated. Yellow fluorescence from the excited ceramic composite layer was observed. The light emitted from this substrate was evenly mixed in the substrate, and good white light was obtained.
  • Figure 7 shows the emission spectrum of the resulting device.
  • a blue emission, a yellow emission from the substrate, and a red emission from the red phosphor were added, resulting in an emission spectrum that emphasized the emission of 650 dragons. This light was warm white. This confirms that color tone control is possible.
  • Industrial applicability According to the present invention, a good light emitting diode element can be formed without using phosphor powder, the deterioration is small, light from the light emitting diode element is transmitted, and a part of the transmitted light is emitted.
  • a light-emitting diode substrate capable of mixing and emitting transmitted light and new light emission and a light-emitting diode using the substrate are provided, it is industrially useful.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)
  • Led Devices (AREA)
  • Recrystallisation Techniques (AREA)

Abstract

蛍光体粉末を用いず、良好な発光ダイオード素子が形成可能であり、劣化が少なく、発光ダイオード素子の光を透過および、透過光の一部を利用して発光し、しかも透過光と新たな発光の光を混合して放出することのできる発光ダイオード用基板を提供する。　本発明の発光ダイオード用基板は、発光ダイオード素子が形成可能な単結晶層と、単一金属酸化物および複合金属酸化物から選ばれる少なくとも２つ以上の酸化物相が連続的にかつ三次元的に相互に絡み合って形成されている凝固体からなる光変換用セラミックス複合体層とが積層された発光ダイオード用基板であり、該凝固体中の酸化物相のうち少なくとも１つは蛍光を発する金属元素酸化物を含有していることを特徴とする。

Description

発光ダイォード用基板及び発光ダイオード 技術分野
本発明は、 ディスプレイ、 照明、 バックライ ト光源等に利用でき る発光ダイオード用の基板、 及びその発光ダイオード用基板を用い た発光ダイォードに関する。明
背景技術 書
近年、 窒化物系化合物半導体を用いた青色発光素子を発光源とす る白色発光ダイオードの開発研究が盛んに行われている。 白色発光 ダイオードは軽量で、 水銀を使用せず、 長寿命であることから、 今 後、 需要が急速に拡大することが予測されている。 青色発光素子の 青色光を白色光へ変換する方法として最も一般的に行なわれている 方法は、 例えば特開 2000— 2088 15号公報に記載されているように、 青色発光素子の前面に、 青色光の一部を吸収して黄色光を発する蛍 光体を含有するコーティ ング層と、 光源の青色光とコーティ ング層 からの黄色光を混色するためのモールド層とを設け、 補色関係にあ る青色と黄色を混色することにより擬似的に白色を得るものである 。 従来、 コーティ ング層としては、 セリウムで付活されたイツ トリ ゥムアルミニウムガーネッ ト （YAG : Ce) 粉末とエポキシ樹脂の混 合物が採用されている。 しかし、 この方法ではコーティ ング層を塗 布する際に、 含まれる蛍光体粉末の分布のむらや発光ダイオード個 体毎の蛍光体粉末の量のバラツキ等が生じやすく、 それに起因する 発光ダイオードの色むらが指摘されている。
これを回避するため、 青色発光素子を形成する基板自身に発光機 能をもたせ、 粉末を利用しない方法の提案がなされている。 たとえ ば、 特開 2003— 204080号公報では YAG： Ce蛍光体単結晶の （1 1 1) 面 を主面とした基板上に
Figure imgf000004_0001
y N ( 0≤ x≤ 1 、 0≤ y≤ 1 、 0≤ x + y≤ 1 ) からなる窒化物半導体層を形成し、 発光層から発 光される青色光を直接基板に入射し基板自身から均質な黄色蛍光を 発光させることで、 蛍光体粉末を含むコーティ ング層を用いずに発 光チップのみで色むらのない均質な白色を得る方法を提案している また、 YAG蛍光体粉末を用いない別の方法として、 特開 2000— 082 845号公報に ZnSe単結晶による白色発光ダイオードを得る方法が開 示されている。 この方法は、 ZnSe基板に s e l f- ac t iva t ed ( SA) 発光 の機能を持たせ、 この基板の上に ZnSe系の青色発光ダイオードを形 成し、 この素子から青色の発光と同時に黄色の発光を行い白色を得 る方法である。
しかし、 前記特開 2003— 204080号公報に記載の YAG ( 1 1 1) 面基板 にした白色発光ダイオードの実績はほとんど知られていない。 YAG ( 1 1 1 ) 基板の格子間隔とその上に形成される窒化物半導体バッフ ァ層を構成する I n x G a i _ x Nの格子間隔との差が大きいため、 良質な 窒化物半導体層を形成することが難しいためであると考えられる。
また、 前記特開 2000— 082845号公報に記載の ZnSe単結晶による白 色発光ダイオードは、 素子の劣化が問題となっており、 改善には Zn Se基板の品質の向上が求められている。 特に寿命伸張には転位密度 の低減が必要であり、 素子化プロセスの最適化、 材料の変更などの 改良が現在行われている。 このことは、 例えば、 白色 LED照明シス テム技術の応用と将来展望、 監修 田口常正、 シーエムシ一出版、 2003年、 170ページに記載されている。
現在、 InGaN系の青色発光ダイオード用の基板として広く採用さ れているのは、 A12 03単結晶 （サフアイャ） の （0001 ) 面であり、 長い実績がある。 しかも、 この A 12 03単結晶を用いて作製した素子 においては A 12 03劣化に伴う、 発光素子の劣化の問題は報告されて いない。 従って、 基板自身の発光を用いて白色発光ダイオードを作 製する場合、 A12 03基板に青色発光素子を構成する方法で達成され ることが最も望ましい。 このためには、 前述のように基板自身の発 光が必要になるが、 A 12 03単結晶に青色の光を入射し黄色の発光を 得るような方法は報告されていない。
本発明の目的は、 蛍光体粉末を用いず、 良好な発光ダイオード素 子が形成可能であり、 劣化が少なく、 発光ダイオード素子の光を透 過および、 透過光の一部を利用して発光し、 しかも透過光と新たな 発光の光を混合して放出することのできる発光ダイオード用基板及 びその発光ダイオード用基板を用いた発光ダイオードを提供するこ とである。 発明の概要
本発明者らは、 鋭意検討した結果、 特定の材料の層を接合するこ とで積層し、 上記問題を解決できることを見いだし、 本発明にいた つた。
すなわち、 本発明は、 発光ダイオード素子が形成可能な単結晶層 と、 単一金属酸化物および複合金属酸化物から選ばれる少なく とも 2つ以上の酸化物相が連続的にかつ三次元的に相互に絡み合って形 成されている凝固体からなる光変換用セラミックス複合体層とが積 層された発光ダイオード用基板であり、 該凝固体中の酸化物相のう ち少なく とも 1つは蛍光を発する金属元素酸化物を含有しているこ とを特徴とする発光ダイオード用基板、 及びその発光ダイオード用 基板を用いた発光ダイオードに関する。 本発明の発光ダイオード用基板の一実施形態では、 前記単結晶層 が、 A 12 03、 S i C、 ZnO、 及び GaNからなる群から選ばれる材料から構 成されていることが好ましい。
また、 本発明の発光ダイオード用基板の一実施形態は、 前記単結 晶層と光変換用セラミックス複合体層との間に、 両材料を接着可能 な物質からなる接合層を有することを特徴とする。 また、 前記接合 層に蛍光物質を存在させることが好ましい。
また、 発光ダイオード用基板の一実施形態は、 前記凝固体が A12 0 3と、 セリウムで付活された Yg A l s O , 2とから構成されていることを 特徴とする。
本発明の発光ダイオード用基板を用いることにより、 蛍光体粉末 を用いずに、 基板が発光面として使用でき、 発光ダイオード素子 （ 半導体層） の形成がしゃすく、 劣化が少なく、 光の混合性がよく、 色むらの少ない発光ダイオードを提供することができる。
また、 本発明の基板を用いると I nGaN系の青色発光素子の作製に おいて最も実績のある A l 2 03などの単結晶基板を用いて I nGaN系の青 色発光素子を作製でき、 I nGaN系の青色発光素子から放出された光 を、 ZnS e基板と同様に直接基板に導いて、 青色光を透過させながら 、 同時に青色光の一部を吸収させ黄色光を発生させ、 さらに同時に 、 複数の結晶相の 3次元的な絡み合いによって、 効果的に励起光と 蛍光を混色して均一な光の白色発光ダイオードを得ることができる 。 しかも、 この基板の上に青色発光素子を作製するだけで、 白色発 光ダイオードを得る事ができ、 発光ダイオードの作製工程を大幅に 簡略化することができる。 さらに、 単結晶基板とセラミックス複合 体の接合時に接合面に別の蛍光体を存在させることによって、 色調 の制御が可能な基板を提供することができ、 発光ダイォ一ドの色調 の制御が非常に容易にできるという特徴も有する。 この色調制御に より、 セラミ ックス複合体の発光波長の自由度が大きくなるため、 結果的にセラミックス複合材料の組成的な設計の自由度を増すこと になる。
本発明の発光ダイオードは、 上記の発光ダイォ一ド用基板の単結 晶層上に発光ダイオード素子を形成してなり、 発光ダイオード用基 板側から光を取り出すことを特徴とする。 図面の簡単な説明
図 1 Aは本発明の発光ダイォ一ド用基板の一実施形態を示す模式 的断面図である。 図 1 Bは本発明の発光ダイォ一ド用基板の他の実 施形態を示す模式的断面図である。
図 2は本発明に係る基板を使用した発光ダイオードの一実施形態 を示す模式図である。
図 3は実施例 1で得られた本発明に係る光変換用セラミック複合 体の組織断面図である。
図 4は実施例 1で得られた本発明に係る基板の接合の様子を示す 断面図である。
図 5は実施例 1で得られた発光ダイオードの発光スぺク トル図で ある。
図 6は実施例 2で得られた本発明に係る基板の接合層を示す断面 図である。
図 7は実施例 3で得られた発光ダイオードの発光スぺク トル図で ある。 発明を実施するための最良の形態
以下、 図を用いて、 本発明を詳細に説明する。
本発明の基板は、 例えば図 1 Aに示されるような、 単結晶層と光 変換用セラミックス複合体層とを接合することにより積層した構造 である。 図 1において、 発光ダイオード用基板 1は単結晶層 2、 セ ラミック複合体 3、 任意に接合層 4からなる。 本発明に係る単結晶 層は、 その上に発光ダイオード素子などの半導体を形成可能な従来 の単結晶からなる層であり、 例えば、 酸化アルミニウム （A 1203 ) 、 炭化ケィ素 （SiC) 、 酸化亜鉛 （ΖιιΟ) 、 窒化ガリウム （GaN) が 挙げられる。
本発明に係る光変換用セラミック複合体層は、 蛍光体を含むセラ ミック複合材料で形成され、 金属酸化物どう しが連続的にかつ 3次 元的に相互に絡み合って形成されている凝固体からなる。 金属酸化 物としては、 単一金属酸化物、 または、 複合酸化物があり、 前記単 一金属酸化物または前記複合金属酸化物は、 機能、 例えば蛍光、 を 発現する元素等を含有している。 このような凝固体は、 原料金属酸 化物を融解後、 凝固して作られる複合材料である。 単一金属酸化物 とは、 1種類の金属の酸化物であり、 複合金属酸化物は、 2種以上 の金属の酸化物である。 それぞれの酸化物は、 三次元的に相互に絡 み合った構造をしている。 また、 これらの絡み合った酸化物相の間 に他の酸化物相が存在する事もある。
このような単一金属酸化物としては、 酸化アルミニウム （A1203 ) 、 酸化ジルコニウム （Zr02) 、 酸化マグネシウム （MgO) 、 酸化 シリコン （Si02) 、 酸化チタン （Ti02) 酸化バリウム （BaO) 、 酸 化ベリ リウム （BeO) 、 酸化カルシウム （CaO) 、 酸化クロミゥム （ Cr203 ) 等の他、 希土類元素酸化物 （La203、 Y203、 Ce02、 Pr60, , , Nd203、 Sm203、 Gd203、 Eu203、 Tb40い Dy203、 Ho203、 Er203、 Tm20 3、 Yb203、 Lu203 ) が挙げられる。 また複合金属酸化物としては LaA 103、 CeAlOい PrA103、 NdA103、 SmA103、 EuA103、 GdAlO DyA103 、 ErA103、 Yb4Al 209、 Y3A15012、 Er3Al5012、 Tb3Al5012、 11A1203 • La203、 11A 1203 · Nd203、 3 Dy203 · 5 A 1203、 2 Dy203 · A 1203、 1 1A 1203 - Pr203 , EuAl, , 0, 8 , 2 Gd203 · Al 203、 11AI 203 · Sm203、 Yb 3A15012、 CeAl, , Oj 8 , Er4 Al209等が挙げられる。
単結晶層となる板と光変換用セラミックス複合体層となる板とを 接合する方法としては、 例えば、 高温で直接接合する方法を用いる ことができる。 この方法は、 最も簡単な方法であり界面に異相を有 しないという点で最も理想的な方法である。 単結晶層となる板とし てアルミナ基板を用いる場合、 接合の温度、 時間は 1700〜 1800°C、 1時間〜 50時間程度が必要である。 それ以上の温度になると単結晶 の板とセラミックス複合体の板の変形が起きる。 また、 低温では接 合がほとんど進行しない。 しかし、 A 1203単結晶層とセラミックス 複合体層を高温に長時間さらす必要がありコス ト的には不利である この問題を解決する方法として、 単結晶層とセラミ ックス複合体 層の接合面に、 非常に少量の低融点材料 （たとえばシリカ） を接合 層として介在させる方法がある。 この方法によって、 より低温で接 合が可能になり、 温度の低減と時間の短縮によって、 コスト的なメ リ ッ トが生じる。 ガラス等の低融点化合物を介在させる場合には、 InGaN系発光ダイォ一ドのプロセス上の温度、 雰囲気に考慮してそ の組成を決めなければならない。 代表的なパイ レックス （登録商標 ) ガラスの場合、 900°C〜 1300°C、 1時間〜 10時間程度を要する。 接合圧力は必ずしも必要ではないが、 圧力をかけたほうがより密着 性があるので、 ホッ トプレス装置などを用いて 0.01〜100MPaのよう な圧力をかけるほうが好ましい。
さらに、 本発明の発光ダイオード用基板の一実施形態では、 前記 単結晶層と光変換用セラミック複合体層との間に、 両層を接着可能 とする物質からなる接合層を有する。 より低温で接合させるために 樹脂を接合層として用いるとさらに低温で接合 （接着） が可能であ る。 この場合、 その接合層にあらゆる蛍光体物質を存在させること が可能になる。 この蛍光体によって発光ダイオードの色調の制御が 可能になる。 接合部分に存在させる蛍光体物質は各種の蛍光材料が 挙げられるが、 白色発光ダイオードへの適用を考えた場合、 赤色の 蛍光を発するユーロピウムで付活した Ca2 S i 5 N8、 ユーロピウムで付 活した CaAl S iN3のような材料が好ましい。 接着材料としてはェポキ シ樹脂、 シリコン樹脂などを用いることが可能である。
単結晶層として A 12 03単結晶を用い、 この上に I nGaN系の青色発光 素子を形成すると、 青色発光素子から放出された光は、 A 12 03単結 晶層に入り、 さらに、 光変換用セラミックス複合体層に入射される 。 青色光の一部はそのまま透過し、 青色光の一部は光変換用セラミ ックス複合体層に吸収され、 たとえば黄色の光が新たに放出される 。 光変換用セラミックス複合体層は、 複数の結晶相が 3次元的に絡 み合っているので、 この絡み合いにおいて、 青色光と黄色光が有効 に混合されて放出される。
また、 図 1 Bに示されるような接合層を介在させることも'可能で ある。 接合層は単結晶層と光変換用セラミックス複合体層の接合の 温度を低温化させ、 プロセスの簡易化がはかれる他、 新たな機能を 付与することが可能になる。 たとえば、 新たな蛍光体を加えること で、 色調を制御するような機能が挙げられる。 上記のような青色と 黄色の光の混色に加え新たな光 （たとえば、 赤色） を加えることが 可能になり色調の制御が可能になる。
青色発光素子の単結晶層としては、 A 12 03の他に、 S i C、 ZnO、 GaN を用いる方法も知られている。 この場合、 S i C、 ZnO、 GaNの板と本 光変換用セラミックス複合体の板を接合することで同様の機能を発 現することが可能である。 以下発光ダイォード素子用の基板材料について述べるが、 本基板 は単結晶層とセラミックス複合体層を構成する材料の元素の組み合 わせによって、 様々な適用が考えられるので本実施例だけに限定さ れるものではない。
本発明に用いる A 12 03単結晶層となる板は CZ法、 EFG法などで融液 から作製されるが、 それらは広く市販されているので市販品を利用 することができる。
I nGaN系の青色発光素子を作製するためには AI 2 03単結晶層となる 板と光変換用セラミックス複合体層となる板を接合することが望ま しい。 このため光変換用セラミックス複合体層にも A 12 03結晶を含 むことが好ましい。 A 12 03を含む光変換用セラミック複合体を用い ると、 A12 03単結晶層との接合面において屈折率の差が非常に小さ くなり、 効果的に光を透過することができるようになる。 特に、 A 1 2 03 ( 0001 ) を基板面にするときには、 光変換材料の A 12 03は （ 0001 ) 面で接合させることがより好ましい、 こうすることで、 A 12 03層 の接合部分では結晶方位による屈折率の差がなくなり、 最も効率的 に光の透過が行えるようになるからである。
光変換用セラミックス複合体層の A 12 03結晶と共存する結晶相と しては、 少なく ともセリウムで付活された複合金属酸化物である A3 X5 01 2型結晶であることが好ましい。 構造式中 Aには Y、 Tb、 Sm、 G d、 La、 Erの群から選ばれる 1種以上の元素、 同じく構造式中 に は Al、 Gaから選ばれる 1種以上の元素が、 含まれる場合が特に好ま しい。 この特に好ましい組み合わせからなる光変換用セラミック複 合体は、 紫から青色の光を透過しながら、 その一部を吸収し、 黄色 の蛍光を発するためである。 なかでもセリウムで付活された Y3 A15 0 , 2と、 Al 2 03結晶の組み合わせは強い蛍光を発するため好適である 光変換用セラミックス複合体における非常に重要な特徴は、 各結 晶相が独立ではなく、 各相が不可分な関係として一体化しているこ とである。 上記の A 12 03結晶と Yg A l s O , 2 ： Ceからなる光変換用セラ ミックス複合体の場合、 単に 2つの結晶が存在するのではなく、 A 1 2 03でもない Y3 A 15 01 2でもない組成をもつ一種類の融液から同時に A 12 03結晶と Y3 A 15 01 2 ： C e結晶が結晶化をした結果として 2つの結晶 が存在しているのであって、 独立に 2つの結晶が存在する場合とは 異なる。 この意味において 2つの結晶は不可分である。 このような 凝固体は単なる A 12 03結晶と YAG： Ce結晶が混在している状態とは本 質的に異なっており、 このため、 このセラミックス複合体は特異な 蛍光挙動を示す。
光変換用セラミ ックス複合体層を構成する凝固体は、 原料金属酸 化物を融解後、 凝固させることで作製される。 例えば、 所定温度に 保持したルツボに仕込んだ溶融物を、 冷却温度を制御しながら冷却 凝結させる簡単な方法で凝固体を得ることができるが、 最も好まし いのは一方向凝固法により作製されたものである。 一方向凝固をお こなうことにより含まれる結晶相が単結晶状態、 またはそれに類似 の状態で連続的に成長し、 各相が単一の結晶方位となるためである 本発明に用いる光変換用セラミック複合体は、 少なく とも 1つの 相が蛍光を発する金属元素酸化物を含有していることを除き、 本願 出願人が先に特開平 7— 149597号公報、 特開平 7— 187893号公報、 特開平 8— 81257号公報、 特開平 8— 253389号公報、 特開平 8— 253 390号公報および特開平 9— 67194号公報並びにこれらに対応する米 国出願 （米国特許第 5, 569, 547号、 同第 5, 484， 752号、 同第 5, 902, 96 3号） 等に開示したセラミックス複合材料と同様のものであること ができ、 これらの公報に開示した製造方法で製造できる。 本発明の基板上に形成する半導体層の一例としての窒化物半導体 層は、 複数の窒化物系化合物半導体の層からなる。 複数の窒化物系 化合物半導体の層は、 それぞれ、 一般式、
Figure imgf000013_0001
— yN ( 0≤ X ≤ 1、 0≤ y≤ l、 0≤ x + y≤ 1 ) で表わされる窒化物系化合物 により構成されることが好ましい。 そして、 窒化物半導体層は、 少 なく とも可視光を発する発光層を有する。 良好な発光層を形成する ためには、 それぞれの層で、 各機能に最適な組成に調整した複数の 窒化物系化合物半導体の層を積層することが好ましい。
複数の窒化物系化合物半導体の層およびこれらの層の形成方法は 、 例えば、 Jpn. J. Appl. P ys. Vol. 34 (1995) , L798等に開示さ れているように公知の技術である。 具体的には、 基板上に、 GaNの バッファ層、 n電極が形成される n型— GaN： Siコンタク ト層、 n 型— Al。.5Ga。. gN： Si層、 n型— In。 .。 5 Ga。 .95 N： S i層、 単一量子井 戸構造型発光層を形成する InGaN層、 p型一 Al。 . j GaQ .9 N： Mg障壁層 、 p電極が形成される p型— GaN： Mg層を M0CVDなどの方法により、 順に積層することにより得ることができる。 発光層の構造は他に、 多重量子井戸構造や、 ホモ構造、 ヘテロ構造あるいはダブルへテロ 構造としても良い。 このように作製した発光ダイオード素子を、 図 2に示すようなパッケージに入れ、 電極と接続するだけで、 白色発 光ダイオードとして使用することができる。
図 2において、 参照数字 1は発光ダイオード用基板、 2は単結晶 層、 3はセラミック複合体、 5は発光素子 （ダイオード素子） 、 6 、 7は電極、 8はパッケージである。 実施例
以下、 具体的例を挙げ、 本発明を更に詳しく説明する。
(実施例 1 ) ひ 一 A1203粉末 （純度 99.99 %) と Y203粉末 （純度 99· 999 %) をモ ル比で 82： 18となるよう、 また Ce02粉末 （純度 99.99 %) を仕込み 酸化物の反応により生成する YsAlsO, 2 1モルに対し 0.03モルとな るよう秤量した。 これらの粉末をエタノール中、 ポールミルによつ て 16時間湿式混合した後、 エバポレーターを用いてエタノールを脱 媒して原料粉末を得た。 原料粉末は、 真空炉中で予備溶解し一方向 凝固の原料とした。
次に、 この原料をそのままモリブデンルツポに仕込み、 一方向凝 固装置にセッ トし、 1.33xl(T3Pa (10— 5Torr) の圧力下で原料を融 解した。 次に同一の雰囲気においてルツボを 5■/時間の速度で下 降させ、 ガ一ネ ッ ト型結晶である Υ3Α15012 ： Ceと 型酸化アルミ二 ゥム型結晶である A 1203からなる凝固体を得た。 得られた凝固体は 黄色を呈していた。
凝固体の凝固方向に平行な断面組織を図 3に示す。 白い部分が Y3 Α15012 ： Ce結晶、 黒い部分が AI 203結晶である。 二つの結晶が相互 に絡み合った組織を有していることが分かる。
セラミックス複合材料から、 ダイヤ.モンドカツ夕一で lOmmX 10mm 、 厚み 1 mmの基板を切り出し、 さらに、 研削盤で 0.6匪の厚みに仕 上げた、 さらに一方の表面を研磨して鏡面にした。 この平均表面粗 さを測定したところ 0.014ミクロンであった。 一方、 A 1203単結晶は 市販品の （ 0001) 面の基板を用いた。 大きさは 10匪 X10皿、 厚み 0. 5mm, 表面粗さは、 l ninであった。
次に、 光変換用セラミックス複合体の板を下側に配置し、 その上 に、 A 1203単結晶の板を載せ、 電気炉に設置した。 この際に、 A1203 単結晶の板と光変換用セラミックス複合体の板の鏡面どう しが向い 合うように配置した。 この試料を、 大気中、 1700°Cで 20時間保持し 、 接合することにより、 積層した。 図 4に接合後の接合の様子を示 す断面図を示す。 上側が A 1203単結晶基板で、 下側がセラミックス 複合体基板である。 両者が密着していることがわかる。 特に A1203 の部分は同じ結晶相であるため、 非常に良好な接合ができている。 接合により作成した基板の A1203単結晶層 （0001) 面上に TMG (ト リメチルガリウム） ガス、 TMA (トリメチルアルミニウム） ガス、 窒素ガスおよびドーパントガスをキャリアガスと共に流し、 M0CVD 法で窒化物系化合物半導体を製膜し、 青色発光層を得た。 ドーパン トガスとして SiH4と Cp2Mgとを切り替えることによって n型窒化物 系化合物半導体と p型窒化物系化合物半導体を形成し、 pn接合を形 成させた。 具体的には、 A 1203単結晶層上に GaNのバッファ層を介し て、 n電極が形成される n型一 GaN : Siコンタク ト層、 n型一 Alo.5 Ga。.9N : Si層、 n型一 Ιη。.。5GaQ.95N： Si層、 単一量子井戸構造型 発光層を形成する InGaN層、 p型— A1Q . t GaQ .9 N： Mg障壁層、 p電極 が形成される p型一 GaN： Mg層を形成した。 pn各電極をスパッ夕法 により形成し、 基板にスクライブラインを引き、 外力を加えること により分割し、 発光ダイオードを得た。
得られた発光ダイオードの発光スぺク トルを図 5に示す。 窒化物 半導体層からの青色光と、 それにより励起されたセラミック複合体 層からの黄色の蛍光が観測された。 この基板から放出された光は、 さらに、 本基板内でむらなく混合され、 良好な白色光が得られた。
(実施例 2 )
直径 10〜20龍の球形ァモルファスシリカを 30%含む溶液を、 実施 例 1で作製した光変換用セラミックス複合体の 10顏 X 10Mの板上に スピン · コ一夕一を用いて塗布した。 塗布後、 この基板を 60°Cに加 熱し、 溶媒成分を除去した。 その後に、 この光変換用セラミックス 複合体の板のアモルファスシリカ塗布面上に実施例 1 と同様の A120 3単結晶の板を載せ、 ホッ トプレス装置に設置し、 0.03MPaで加圧を しながら 1 300 °Cに加熱し 2時間保持して徐冷した。 得られた基板を 図 6に示す。 上側が A 1 2 03単結晶の板であり、 下側が光変換用セラ ミックス複合体の板である。 界面には接着相であるシリカ相が存在 している。
このようにして作製した発光ダイオード用基板を用いて実施例 1 と同様に作製した発光ダイオードは、 実施例 1で得られた基板と同 様に、 窒化物半導体層からの青色光と、 それにより励起されたセラ ミック複合体層からの黄色の蛍光が観測された。 この基板から放出 された光は、 さらに、 本基板内でむらなく混合され、 良好な白色光 が得られた。
(実施例 3 )
エポキシ樹脂と赤色蛍光体として C aA l S i N3粉末を重量比で 1 ： 1 に秤量し、 ペイントシエ一カーで 30分混合し、 混合スラリーを得た 。 これを真空デシケ一夕に入れて脱泡した。 このペース トを実施例 1で作製した光変換用セラミックス複合体の板上に塗布した。 さら に、 実施例 1 と同じ方法で作製した青色発光素子の作成されたサフ アイャ基板と光変換用セラミックス複合体を張り合わせた。 この材 料を 1 50°Cの恒温槽に入れ樹脂を硬化させた。 得られた基板にスク ライブラインを引き、 外力を加えることにより分割し、 発光ダイォ 一ド素子を得た。
得られた素子の発光スペク トルを図 7 に示した。 青色の発光と、 基板からの黄色の蛍光の発光と、 赤色蛍光体からの赤色の発光が付 加され、 6 50龍の発光が強調された発光スペク トルが得られた。 こ の光は暖色系の白色であった。 このことから色調制御が可能である ことが確認できた。 産業上の利用可能性 本発明によれば、 蛍光体粉末を用いず、 良好な発光ダイオード素 子が形成可能であり、 劣化が少なく、 発光ダイオード素子の光を透 過および、 透過光の一部を利用して発光し、 しかも透過光と新たな 発光の光を混合して放出することのできる発光ダイオード用基板、 及びその基板を用いた発光ダイオードが提供されるので、 産業上の 有用である。

Claims

1 . 発光ダイオード素子が形成可能な単結晶層と、 単一金属酸化 物および複合金属酸化物から選ばれる少なく とも 2つ以上の酸化物 相が連続的にかつ三次元的に相互に絡み合って形成されている凝固 体からなる光変換用セラミックス複合体層とが積層された発光ダイ 請
オード用基板であり、 該凝固体中の酸化物相のうち少なく とも 1つ は蛍光を発する金属元素酸化物を含有していることを特徴とする発 光ダイオード用基板。
2 . 前記単結晶層が、 A 1 2 03、 S i C、 ZnO、 及び GaNからなる群から 選ばれる材料からなることを特徴とする請求項 1記載の発光ダイォ 囲
―ド用基板。
3 . 前記単結晶層と前記光変換用セラミックス複合体層が直接に 接合されていることを特徴とする請求項 1 または 2に記載の発光ダ ィォード用基板。
4 . 前記単結晶層と前記光変換用セラミックス複合体層との間に 、 前記両層を接合可能な物質からなる接合層を有することを特徴と する請求項 1 または 2に記載の発光ダイオード用基板。
5 . 前記接合層が樹脂であることを特徴とする請求項 4に記載の 発光ダイォード用基板。
6 . 前記接合層がシリカであることを特徴とする請求項 4に記載 の発光ダイォード用基板。
7 . 前記接合層に蛍光物質を存在させることを特徴とする請求項 4〜 6のいずれか 1項に記載の発光ダイオード用基板。
8 . 前記単結晶層が A 1 2 03であり、 前記光変換用セラミックス複 合体層が A 1 2 03結晶と、 セリウムで付活された A3 X5 01 2型結晶 （式中 、 Aは Y、 Tb、 Sm、 Gd、 L a、 E rの群から選ばれる 1種以上の元素、 Xは Al Gaから選ばれる 1種以上の元素である。 ） を含むセラミツ クス複合体であることを特徴とする請求項 1 7のいずれか 1項記 載の発光ダイォード用基板。
9. 前記セリゥムで付活された A3X50】2型結晶が Y3A150) 2： Ceであ ることを特徴とする請求項 8に記載の発光ダイオード。
10. 請求項 1 9のいずれか 1項に記載の発光ダイオード用基板 の前記単結晶層上に発光ダイオード素子を形成してなり、 前記発光 ダイォード用基板側から光を取り出すことを特徴とする発光ダイォ ―ド。
11. 前記発光ダイォード素子が InGaN系発光ダイォード素子であ ることを特徴とする請求項 10に記載の発光ダイオード。
12. 前記発光ダイオード素子が、 一般式、 IiixAlyGa! yN ( 0≤ x≤ l 0≤y≤ l 0≤ x + y≤ 1 ) で表わされる窒化物系化合 物の複数の層により構成されることを特徴とする請求項 10に記載の 発光ダイォード。
PCT/JP2006/315695 2005-08-10 2006-08-02 発光ダイオード用基板及び発光ダイオード WO2007018222A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007529599A JP5029362B2 (ja) 2005-08-10 2006-08-02 発光ダイオード用基板及び発光ダイオード
US11/990,235 US7863636B2 (en) 2005-08-10 2006-08-02 Substrate for light-emitting diode, and light-emitting diode
EP06768434.0A EP1914810B1 (en) 2005-08-10 2006-08-02 Substrate for light emitting diode and light emitting diode
CN200680028839XA CN101238595B (zh) 2005-08-10 2006-08-02 发光二极管用基板以及发光二极管

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005-231505 2005-08-10
JP2005231505 2005-08-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2007018222A1 true WO2007018222A1 (ja) 2007-02-15

Family

ID=37727405

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2006/315695 WO2007018222A1 (ja) 2005-08-10 2006-08-02 発光ダイオード用基板及び発光ダイオード

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7863636B2 (ja)
EP (1) EP1914810B1 (ja)
JP (1) JP5029362B2 (ja)
KR (1) KR101036530B1 (ja)
CN (1) CN101238595B (ja)
WO (1) WO2007018222A1 (ja)

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009031696A1 (ja) * 2007-09-04 2009-03-12 Ube Industries, Ltd. 発光素子形成用複合基板及びその製造方法
JP2010287777A (ja) * 2009-06-12 2010-12-24 Koito Mfg Co Ltd 発光モジュールおよび車両用前照灯
JP2010287687A (ja) * 2009-06-10 2010-12-24 Koito Mfg Co Ltd 発光モジュールおよび発光モジュールの製造方法
JP2011216543A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Ube Industries Ltd 発光ダイオード、それに用いられる発光ダイオード用基板及びその製造方法
WO2012077599A1 (ja) 2010-12-10 2012-06-14 宇部興産株式会社 光変換用セラミック複合体及びその製造方法
JP2012527742A (ja) * 2009-05-22 2012-11-08 パナソニック株式会社 半導体発光装置及びそれを用いた光源装置
WO2013008751A1 (ja) 2011-07-08 2013-01-17 宇部興産株式会社 光変換用セラミック複合体の製造方法
JP2015023291A (ja) * 2013-07-22 2015-02-02 中国科学院福建物質構造研究所Ｆｕｊｉａｎ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ Ｏｆ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｏｎ Ｔｈｅ Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ Ｏｆ Ｍａｔｔｅｒ， Ｃｈｉｎｅｓｅ Ａｃａｄｅｍｙｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ ＧａＮ系ＬＥＤエピタキシャル構造およびその製造方法
JP2015179719A (ja) * 2014-03-19 2015-10-08 日亜化学工業株式会社 蛍光体板、発光装置及び蛍光体板の製造方法、発光装置の製造方法
KR20160144567A (ko) * 2015-06-08 2016-12-19 삼성전자주식회사 발광소자 패키지, 파장 변환 필름 및 그 제조 방법
JP2017067993A (ja) * 2015-09-30 2017-04-06 宇部興産株式会社 基板の製造方法及びそれによって得られた基板並びに発光装置の製造方法
JP2018109664A (ja) * 2016-12-28 2018-07-12 クアーズテック株式会社 波長変換用接合体
WO2020179637A1 (ja) * 2019-03-01 2020-09-10 京セラ株式会社 セラミック構造体および該セラミック構造体を備えてなる支持機構
CN112159213A (zh) * 2020-10-29 2021-01-01 贵州赛义光电科技有限公司 一种零光衰发光陶瓷及其制备方法
CN114361315A (zh) * 2020-10-13 2022-04-15 福建中科芯源光电科技有限公司 一种无机材料封装的白光led芯片、器件及其制备方法与应用

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201201409A (en) * 2010-06-29 2012-01-01 Semileds Optoelectronics Co Chip-type light emitting device having precisely coated wavelength-converting layer and packaged structure thereof
US20120037925A1 (en) * 2010-08-10 2012-02-16 Sheen Calvin W Engineered Substrate for Light Emitting Diodes
JP2012124473A (ja) * 2010-11-15 2012-06-28 Ngk Insulators Ltd 複合基板及び複合基板の製造方法
KR101559649B1 (ko) 2014-01-22 2015-10-13 한양대학교 산학협력단 발광 소자 및 그 제조 방법
WO2015195820A1 (en) * 2014-06-18 2015-12-23 Osram Sylvania Inc. Method of making a ceramic wavelength converter assembly
JP2018097351A (ja) * 2016-12-15 2018-06-21 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 発光素子及び発光素子の製造方法
US10128419B1 (en) * 2017-08-03 2018-11-13 Lumileds Llc Method of manufacturing a light emitting device
DE102018126924A1 (de) * 2018-10-29 2020-04-30 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Leuchtdiodenchips mit einer Konverterschicht und Leuchtdiodenchip
DE102020117119A1 (de) * 2019-07-04 2021-03-18 Schott Ag Optisches Konverterrad

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1017396A (ja) * 1996-07-01 1998-01-20 Ube Ind Ltd セラミックス複合材料
JPH1041546A (ja) * 1996-07-22 1998-02-13 Nippon Sanso Kk 発光素子
JPH10163527A (ja) * 1996-11-27 1998-06-19 Matsushita Electron Corp 面状光源
JPH10209505A (ja) * 1997-01-17 1998-08-07 Stanley Electric Co Ltd 発光ダイオードおよびその製造方法
JP2000261034A (ja) * 1999-03-10 2000-09-22 Sumitomo Electric Ind Ltd 発光装置
JP2001036150A (ja) * 1999-07-19 2001-02-09 Citizen Electronics Co Ltd 発光ダイオード
JP2001085747A (ja) * 1999-09-13 2001-03-30 Sanken Electric Co Ltd 半導体発光装置
JP2001210874A (ja) * 2000-01-27 2001-08-03 Sharp Corp 発光ダイオードチップおよび発光ダイオード
JP2003204080A (ja) * 2001-10-23 2003-07-18 Nichia Chem Ind Ltd 窒化物半導体素子及びその成長方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3216683B2 (ja) 1993-10-08 2001-10-09 宇部興産株式会社 セラミックス複合材料
US5484752A (en) * 1993-11-12 1996-01-16 Ube Industries, Ltd. Ceramic composite material
JP3128044B2 (ja) 1993-11-12 2001-01-29 宇部興産株式会社 セラミックス複合材料
JP3264106B2 (ja) 1993-11-12 2002-03-11 宇部興産株式会社 セラミックス複合材料
JP3412381B2 (ja) 1995-01-19 2003-06-03 宇部興産株式会社 セラミックス複合材料
US5902763A (en) 1995-01-19 1999-05-11 Ube Industries, Inc. Fused ceramic composite
JP3412378B2 (ja) 1995-01-19 2003-06-03 宇部興産株式会社 セラミックス複合材料
TW383508B (en) 1996-07-29 2000-03-01 Nichia Kagaku Kogyo Kk Light emitting device and display
US5902963A (en) 1996-09-18 1999-05-11 Schneider Electric High voltage insulator
JPH11253390A (ja) 1998-03-16 1999-09-21 Olympus Optical Co Ltd 内視鏡
JP3087742B2 (ja) 1998-07-09 2000-09-11 住友電気工業株式会社 白色ｌｅｄ
WO2001009963A1 (fr) * 1999-07-29 2001-02-08 Citizen Electronics Co., Ltd. Diode electroluminescente
JP2002141559A (ja) * 2000-10-31 2002-05-17 Sanken Electric Co Ltd 発光半導体チップ組立体及び発光半導体リードフレーム
US7554258B2 (en) * 2002-10-22 2009-06-30 Osram Opto Semiconductors Gmbh Light source having an LED and a luminescence conversion body and method for producing the luminescence conversion body
KR100639647B1 (ko) * 2003-01-20 2006-11-01 우베 고산 가부시키가이샤 광 변환용 세라믹스 복합 재료 및 그 용도
US7361938B2 (en) * 2004-06-03 2008-04-22 Philips Lumileds Lighting Company Llc Luminescent ceramic for a light emitting device
CN100342558C (zh) * 2004-08-11 2007-10-10 深圳市瑞丰光电子有限公司 陶瓷封装发光二极管的封装方法
EP1862035B1 (en) * 2005-03-14 2013-05-15 Koninklijke Philips Electronics N.V. Phosphor in polycrystalline ceramic structure and a light-emitting element comprising same
US7341878B2 (en) * 2005-03-14 2008-03-11 Philips Lumileds Lighting Company, Llc Wavelength-converted semiconductor light emitting device
US7514721B2 (en) * 2005-11-29 2009-04-07 Koninklijke Philips Electronics N.V. Luminescent ceramic element for a light emitting device

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1017396A (ja) * 1996-07-01 1998-01-20 Ube Ind Ltd セラミックス複合材料
JPH1041546A (ja) * 1996-07-22 1998-02-13 Nippon Sanso Kk 発光素子
JPH10163527A (ja) * 1996-11-27 1998-06-19 Matsushita Electron Corp 面状光源
JPH10209505A (ja) * 1997-01-17 1998-08-07 Stanley Electric Co Ltd 発光ダイオードおよびその製造方法
JP2000261034A (ja) * 1999-03-10 2000-09-22 Sumitomo Electric Ind Ltd 発光装置
JP2001036150A (ja) * 1999-07-19 2001-02-09 Citizen Electronics Co Ltd 発光ダイオード
JP2001085747A (ja) * 1999-09-13 2001-03-30 Sanken Electric Co Ltd 半導体発光装置
JP2001210874A (ja) * 2000-01-27 2001-08-03 Sharp Corp 発光ダイオードチップおよび発光ダイオード
JP2003204080A (ja) * 2001-10-23 2003-07-18 Nichia Chem Ind Ltd 窒化物半導体素子及びその成長方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP1914810A4 *

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5388068B2 (ja) * 2007-09-04 2014-01-15 宇部興産株式会社 発光素子形成用複合基板及びその製造方法
WO2009031696A1 (ja) * 2007-09-04 2009-03-12 Ube Industries, Ltd. 発光素子形成用複合基板及びその製造方法
JP2012527742A (ja) * 2009-05-22 2012-11-08 パナソニック株式会社 半導体発光装置及びそれを用いた光源装置
US9006763B2 (en) 2009-05-22 2015-04-14 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Semiconductor light-emitting device and light source device using the same
JP2010287687A (ja) * 2009-06-10 2010-12-24 Koito Mfg Co Ltd 発光モジュールおよび発光モジュールの製造方法
JP2010287777A (ja) * 2009-06-12 2010-12-24 Koito Mfg Co Ltd 発光モジュールおよび車両用前照灯
JP2011216543A (ja) * 2010-03-31 2011-10-27 Ube Industries Ltd 発光ダイオード、それに用いられる発光ダイオード用基板及びその製造方法
US9543480B2 (en) 2010-12-10 2017-01-10 Ube Industries, Ltd. Ceramic composite for light conversion and method for manufacture thereof
WO2012077599A1 (ja) 2010-12-10 2012-06-14 宇部興産株式会社 光変換用セラミック複合体及びその製造方法
WO2013008751A1 (ja) 2011-07-08 2013-01-17 宇部興産株式会社 光変換用セラミック複合体の製造方法
US9334197B2 (en) 2011-07-08 2016-05-10 Ube Industries, Ltd. Method for producing ceramic composite for light conversion
JP2015023291A (ja) * 2013-07-22 2015-02-02 中国科学院福建物質構造研究所Ｆｕｊｉａｎ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ Ｏｆ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｏｎ Ｔｈｅ Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ Ｏｆ Ｍａｔｔｅｒ， Ｃｈｉｎｅｓｅ Ａｃａｄｅｍｙｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅｓ ＧａＮ系ＬＥＤエピタキシャル構造およびその製造方法
JP2015179719A (ja) * 2014-03-19 2015-10-08 日亜化学工業株式会社 蛍光体板、発光装置及び蛍光体板の製造方法、発光装置の製造方法
KR20160144567A (ko) * 2015-06-08 2016-12-19 삼성전자주식회사 발광소자 패키지, 파장 변환 필름 및 그 제조 방법
KR102409965B1 (ko) 2015-06-08 2022-06-16 삼성전자주식회사 발광소자 패키지, 파장 변환 필름 및 그 제조 방법
JP2017067993A (ja) * 2015-09-30 2017-04-06 宇部興産株式会社 基板の製造方法及びそれによって得られた基板並びに発光装置の製造方法
JP2018109664A (ja) * 2016-12-28 2018-07-12 クアーズテック株式会社 波長変換用接合体
WO2020179637A1 (ja) * 2019-03-01 2020-09-10 京セラ株式会社 セラミック構造体および該セラミック構造体を備えてなる支持機構
JPWO2020179637A1 (ja) * 2019-03-01 2021-12-23 京セラ株式会社 セラミック構造体および該セラミック構造体を備えてなる支持機構
JP7204879B2 (ja) 2019-03-01 2023-01-16 京セラ株式会社 セラミック構造体および該セラミック構造体を備えてなる支持機構
CN114361315A (zh) * 2020-10-13 2022-04-15 福建中科芯源光电科技有限公司 一种无机材料封装的白光led芯片、器件及其制备方法与应用
CN112159213A (zh) * 2020-10-29 2021-01-01 贵州赛义光电科技有限公司 一种零光衰发光陶瓷及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR101036530B1 (ko) 2011-05-24
JP5029362B2 (ja) 2012-09-19
EP1914810A1 (en) 2008-04-23
JPWO2007018222A1 (ja) 2009-02-19
EP1914810B1 (en) 2017-10-04
CN101238595A (zh) 2008-08-06
EP1914810A4 (en) 2013-11-27
CN101238595B (zh) 2012-07-04
US7863636B2 (en) 2011-01-04
KR20080030089A (ko) 2008-04-03
US20090166667A1 (en) 2009-07-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5029362B2 (ja) 発光ダイオード用基板及び発光ダイオード
JP4586802B2 (ja) 発光ダイオード素子、発光ダイオード用基板及び発光ダイオード素子の製造方法
EP1837921B1 (en) Photo-conversion structure and light-emitting device using same
JP5649005B2 (ja) 発光素子形成用複合基板、発光ダイオード素子及びその製造方法
JP2006005367A (ja) 発光デバイスのための発光セラミック
TW201402782A (zh) 光轉換用陶瓷複合體及使用其之發光裝置
TW200817305A (en) Ceramic composite for phototransformation and light emitting device using the same
JP5388068B2 (ja) 発光素子形成用複合基板及びその製造方法
JP2011216543A (ja) 発光ダイオード、それに用いられる発光ダイオード用基板及びその製造方法
JP6672674B2 (ja) 基板の製造方法及びそれによって得られた基板並びに発光装置の製造方法
WO2016182758A1 (en) Method of making a single crystal wavelength conversion element, single crystal wavelength conversion element, and light source containing same
JP5366079B2 (ja) 発光素子形成用複合基板、発光ダイオード素子及びその製造方法
JP2010238834A (ja) 発光ダイオード用基板の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200680028839.X

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2007529599

Country of ref document: JP

REEP Request for entry into the european phase

Ref document number: 2006768434

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2006768434

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 11990235

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020087003321

Country of ref document: KR

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE