WO2006049121A1 - プラズマディスプレイパネル用保護膜及びその保護膜の製造方法、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 - Google Patents

プラズマディスプレイパネル用保護膜及びその保護膜の製造方法、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法 Download PDF

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WO2006049121A1
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cao
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display panel
electrode
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Toshiharu Kurauchi
Muneto Hakomori
Kazuya Uchida
Shunji Misawa
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Ulvac, Inc.
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Definitions

  • the present invention relates to a plasma display panel, and more particularly to a protective film thereof and a method for manufacturing the protective film.
  • PDPs plasma display panels
  • PDPs plasma display panels
  • the PDP is mainly a three-electrode surface discharge type consisting of a front plate with a sustain electrode and a scan electrode formed on a glass substrate and a back plate with an address electrode formed on a glass substrate. It has become.
  • a sealed gas is sealed between the front plate and the back plate.
  • the sealed sealed gas is turned into plasma, and ultraviolet rays are emitted.
  • a phosphor film is arranged at a position where the emitted ultraviolet rays are irradiated, the phosphor film emits light by ultraviolet rays, and colored light is emitted.
  • a dielectric film is formed on the sustain electrode and the scan electrode, and a protective film of MgO is further formed on the dielectric film to protect the dielectric film.
  • the dielectric film is not damaged by the plasma, and the electrostatic capacity of the dielectric film does not change as the sustain electrode and the scan electrode are not only maintained in a state of being insulated by the dielectric film. Therefore, the electrical characteristics of the plasma display panel are maintained.
  • the discharge voltage of the PDP depends on the secondary electron emission coefficient of the protective film. It has been proposed to use an alkaline earth metal oxide whose work function is lower than that of MgO as a protective film to lower the discharge voltage.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-231129 discloses SrO, CaO, BaO, SrO + BaO as protective films.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 2002-231129
  • the present invention provides a protective film having a discharge voltage lower than that of the MgO film and excellent in spatter resistance, and a method for forming the protective film, and a PDP manufacturing method that significantly reduces the initial discharge aging time of PDP using the protective film. provide.
  • the present invention is located on the surface of one or both of the first and second electrodes, and a voltage is applied between the first and second electrodes. Then, the protective film is exposed to the plasma formed between the first and second electrodes, and is composed of SrO and Ca.
  • the protective film contains O and the CaO content is 20 mol% or more and 90 mol% or less.
  • This invention is a protective film, Comprising: Said 1st electrode is arrange
  • the present invention includes a first panel in which a first electrode is disposed on the surface, and a second panel in which a second electrode is disposed on the surface.
  • a sealing gas is sealed in between, a protective film is disposed on the surface of one or both of the first and second electrodes, and the plasma formed between the first and second panels is
  • a plasma display panel configured to be exposed to a protective film, wherein the protective film contains SrO and CaO, and the content of CaO in the protective film is 20 mol% or more and 90 mol% or less. It is a plasma display panel.
  • the present invention is a plasma display panel, wherein a third electrode is disposed on the surface of the first panel.
  • the present invention provides a plasma display panel, wherein the filler gas contains a Ne and Xe, the content of the Xe is a plasma display panel is 10 vol 0/0 above.
  • the present invention is a method for forming a protective film comprising a protective film containing SrO and CaO, comprising: a first vapor deposition material comprising SrO as a main component; a second vapor deposition material comprising CaO as a main component; Are arranged separately in the same vacuum chamber, and the vapor generation amount of the first and second vapor deposition materials is controlled so that the CaO content in the protective film is 20 mol% or more and 90 mol% or less.
  • a method of forming a protective film for evaporating the first and second vapor deposition materials is arranged separately in the same vacuum chamber, and the vapor generation amount of the first and second vapor deposition materials is controlled so that the CaO content in the protective film is 20 mol% or more and 90 mol% or less.
  • the present invention is a protective film manufacturing method in which the protective film is formed on a first panel having a first electrode formed on a surface and a second panel having a second electrode formed on the surface.
  • a dielectric film is disposed on one or both of the first and second electrodes, and the vapors of the first and second vapor deposition materials reach the dielectric film, respectively.
  • the first vapor deposition material containing SrO and the second vapor deposition material containing CaO are separately arranged in the same vacuum chamber, and the first and second vapor deposition materials are controlled while controlling the amount of vapor generation.
  • the dressing material is heated and the surfaces of the first and second panels contain SrO and CaO, and the CaO
  • a method for producing a plasma display panel comprising: a step of forming a protective film having a content of 20 mol% to 90 mol%; and a sealing step of bonding the first and second panels, at least the protective film This is a method for manufacturing a plasma display panel in which the steps from the forming step to the sealing step are performed in a vacuum atmosphere.
  • the present invention is configured as described above, and a display device using the protective film of the present invention has first and second electrodes.
  • a sealed gas that forms plasma is sealed in the device and a voltage is applied between the first and second electrodes, a plasma of the sealed gas is formed inside the device, and the cations in the plasma are Of the first and second electrodes, the bow I is drawn to the electrode on the side placed at a negative potential.
  • the protective film of the present invention When a DC voltage is applied between the first and second electrodes, the protective film of the present invention is disposed on at least the electrode to which a negative potential is applied, and the first and second electrodes are When an AC voltage is applied, if the protective film of the present invention is disposed on one or both electrodes, the protective film protects the electrode and its surrounding members with a cation force.
  • the first and second electrodes are the sustain electrode and the address electrode. It becomes a combination force or a combination of a scan electrode and an address electrode.
  • the protective film of the present invention is formed on both the sustain electrode and the scan electrode. It is good to arrange.
  • the protective film of the present invention is applied to the surface of the dielectric film on the sustain electrode and the dielectric on the scan electrode. It may be arranged on the film surface to protect the dielectric film.
  • the protective film used in the present invention contains both SrO and CaO, and the conventional protective film (MgO film) is obtained by setting the concentration of CaO in the protective film of the present invention to 20 mol% or more and 90 mol% or less. ) Has better spatter resistance due to positive ions during discharge, and reduces the discharge voltage of the PDP, thereby improving the panel life and lowering the cost of the driver circuit for driving the PDP. .
  • the present invention it is possible to stably form a PDP protective film having excellent electron emission characteristics, comprising the protective film of the present invention containing both SrO and CaO.
  • the Xe concentration in the mixed gas of Ne and Xe enclosed in the PDP is increased to improve the brightness, and the PDP can be manufactured with a long lifetime and low manufacturing cost.
  • FIG. 1 is a perspective view illustrating an example of a plasma display panel of the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view for explaining a method for producing a plasma display panel according to the present invention.
  • Reference numeral 1 in FIG. 1 shows an example of the plasma display panel of the present invention.
  • the plasma display panel 1 has first and second panels 10 and 20.
  • the first panel 10 has a first glass substrate 11, and a plurality of sustain electrodes 15 and a plurality of scanning electrodes 16 are arranged on the surface of the first glass substrate 11. .
  • a plurality of sustain electrodes 15 and a plurality of scanning electrodes 16 are shown.
  • each sustain electrode 15 and each scan electrode 16 are elongated, and sustain electrode 15 and scan electrode 16 are alternately arranged on the surface of first glass substrate 11 at a predetermined interval. Yes.
  • a dielectric film 12 made of an insulating material is disposed on the surface of the first glass substrate 11 on the side where the sustain electrode 15 and the scan electrode 16 are disposed. Scanning with adjacent sustain electrodes 15 The electrodes 16 are spaced apart from each other, and the dielectric film 12 is formed so as to cover the surfaces and side surfaces of the sustain electrode 15 and the scan electrode 16, and the dielectric film is formed between the sustain electrode 15 and the scan electrode 16 adjacent to each other. Since it is filled with 12, the sustain electrode 15 and the scan electrode 16 are insulated from each other.
  • a protective film 14 whose main component contains both SrO and CaO is disposed over the entire surface, and therefore, on each sustain electrode 15 and each scan electrode 16. Is in a state where a protective film 14 is arranged.
  • the second panel 20 has a second glass substrate 21. On the surface of the second glass substrate 21, a plurality of linear address electrodes 25 are arranged in parallel at predetermined intervals.
  • an elongated partition wall 23 is disposed along the longitudinal direction of the address electrode 25.
  • each address electrode 25 is covered with phosphor films 22R, 22G, and 22B of one color.
  • the sustain electrode 15 and the scan electrode 16 are laminated so that they are aligned perpendicularly, and the height from the surface of the second glass substrate 21 to the tip of the partition wall 23 is the same as the surface force of the second glass substrate 21 to the surface of the address electrode 25. Therefore, the tip of the partition wall 23 is brought into contact with the protective film 14 of the first panel 10, and the space between the phosphor films 22R, 22G, 22B and the protective film 14 is separated by the partition wall 23. It is in a state.
  • Reference numeral 29 in FIG. 1 indicates a light emission space that is a space on each of the phosphor films 22R, 22G, and 22B divided by the partition walls 23.
  • Each light emission space 29 includes a mixed gas of Ne and Xe.
  • a gas containing 10% by volume or more of Xe gas is filled as an enclosed gas.
  • an alternating voltage is applied between the scan electrode 16 to which the voltage is applied and the sustain electrode 15 corresponding to the scan electrode 16 to cause a sustain discharge.
  • the protective film 14 is positioned on the sustain electrode 15 and the scan electrode 16 with the dielectric film 12 interposed therebetween, and the protective film 14 contains both SrO and CaO as main components.
  • the CaO concentration is 20 mol% or more and 90 mol% or less.
  • the protective film of the present invention has higher electron emission characteristics than the conventional protective film (MgO film), even when the Xe concentration of the encapsulated gas is increased, the sustain discharge is performed at a relatively low discharge voltage. As a result of the sustain discharge, the sealed gas is turned into plasma and ultraviolet rays are generated.
  • the surface of the first and second panels 10 and 20 is exposed to the plasma due to the plasma of the sealed gas, but the protective film 14 is disposed on the surface of the dielectric film 12. Therefore, the dielectric film 12 is protected without being etched by plasma.
  • the plasma display panel 1 of the present invention is low! Can be driven with a discharge voltage, and when driven with a low discharge voltage, the protective film 14 is exposed to the plasma of the enclosed gas.
  • the etching rate is slow. Therefore, the plasma display panel 1 of the present invention has a longer life than the conventional one.
  • the sustain electrode 15 and the scan electrode 16 are arranged so as to be orthogonal to the address electrode 25, and light is emitted from the light emitting cell where the selected scan electrode 16 and the address electrode 25 intersect. Occur.
  • the phosphor films 22R, 22G, and 22B located in the light emitting cell are either red, green, or blue. Color visible light is emitted.
  • a weaker voltage is applied between the selected scan electrode 16 and the sustain electrode 15 adjacent to the scan electrode 16 than during the sustain discharge, so that the sustain discharge is performed.
  • a weaker discharge erase discharge
  • the wall charges in the light emission space 29 are neutralized and the light emitting cells are turned off.
  • Reference numeral 2 in FIG. 2 shows an example of a film forming apparatus.
  • This film deposition system 2 has two electron beams Guns (EB guns) 5a and 5b, and four first and second hearths 3 and 4, respectively.
  • the first hearth 3 is provided with a first vapor deposition material having SrO force.
  • the second hearth is provided with a second vapor deposition material having CaO force.
  • the first hearth 3 is arranged in a line inside the vacuum chamber, and the second hearth 4 is arranged in the same vacuum chamber as the first hearth 4 along the arrangement direction of the first hearth 3. It has been.
  • each first hearth 3 and each second hearth 4 are placed in the same vacuum atmosphere, and the electron beam is maintained while maintaining the vacuum atmosphere.
  • the electron beams 6a and 6b are irradiated into the respective hearths 3 and 4 from the guns 5a and 5b, the SrO in the first hearth 3 and the CaO in the second hearth 4 evaporate, and the vapor of SrO in the vacuum atmosphere. Ca O vapor is released.
  • First glass substrate 11 having sustain electrode 15, scan electrode 16, and dielectric film 12 formed on the surface was carried into the vacuum atmosphere, and sustain electrode 15 and scan electrode 16 were formed. With the side facing down, run above the first and second hearths 3 and 4 along their alignment direction.
  • the first glass substrate 11 passes above the first and second hearths 3 and 4. In some cases, both SrO vapor and CaO vapor reach the first glass substrate 11.
  • SrO vapor generation amount and CaO vapor generation amount by changing the beam irradiation target hearth 3 and 4 by adjusting the beam trajectory, adjusting the beam irradiation time and beam irradiation intensity to each hearth 3 and 4 Is controlled to a predetermined ratio, the first panel 10 in which the protective film 14 containing SrO and CaO at a predetermined ratio is formed on the first glass substrate 11 is obtained.
  • the number of first and second hearths 3 and 4 is not limited to four each.
  • the number of each may be 1 or more and 3 or less, or 5 or more, respectively.
  • the same number of first and second hearths 3 and 4 may be arranged in the vacuum chamber, or different numbers of first and second hearths 3 and 4 may be arranged.
  • the number and shape of the first and second hearths 3 and 4 are not particularly limited as long as SrO and CaO can be separately arranged in the same vacuum chamber.
  • the number of electron beam guns 5a and 5b is not limited to two. If the electron beam can be applied to both Hearth 3 and 4, the number may be one, or three or more.
  • the first panel 10 on which the protective film 14 is formed is transported in a vacuum atmosphere without being exposed to the atmosphere, and the first panel 10 and the second panel 20 described above are in the same heating vacuum chamber.
  • the surface of the first panel 10 on which the sustain electrode 15 and the scanning electrode 16 are formed and the address electrode of the second panel 20 are formed while the inside of the heating vacuum chamber is maintained in a vacuum atmosphere.
  • the surface is faced and aligned with the address electrode so that the sustain electrode and the scan electrode intersect at a predetermined position.
  • the first and second panels 10 and 20 are bonded together in the heating vacuum chamber while heating, the first and second panels 10 and 20 are transported in a vacuum atmosphere to the atmosphere. It carries in the cooling chamber in which the vacuum atmosphere was formed without exposing, and the 1st, 2nd panel joined together is cooled, maintaining the vacuum atmosphere of this cooling chamber. Furthermore, the plasma display panel 1 can be obtained by injecting the above-mentioned sealed gas between the first and second panels 10 and 20 in a vacuum atmosphere and sealing the sealed gas after injecting it.
  • the protective film 14 is not exposed to the atmosphere after the protective film 14 is formed until the protective film 14 is sealed by bonding the first and second panels 10 and 20 together. Even if the main component of the protective film 14 is made of a highly water-absorbing material such as SrO and CaO, moisture absorption is prevented.
  • the protective films 14 for the first and second panels were prepared by changing the concentrations of SrO and CaO, and the plasma display panel 1 having 300 light emitting cells in the surface was obtained.
  • Each plasma display panel 1 has a height of 150 m from the barrier ribs 23 and the surface of the phosphor films 22R, 22G, 22B on the address electrodes 25 to the surface of the protective film 14 on the sustain electrodes 15 and the scan electrodes 16.
  • the height of the discharge space is 80 ⁇ m
  • the enclosed gas is a mixed gas of Ne and Xe (a mixed gas that also has power of Ne and Xe) and contains 12% by volume of Xe gas.
  • the pressure is 400 Torr. Table 1 below shows the CaO concentration (mol%) in the protective film 14.
  • both the protective film that only uses SrO and the protective film that has both SrO and CaO have a lower discharge voltage than the MgO film.
  • the sputter resistance is defined by the reciprocal of the etching rate at a predetermined discharge shown in Table 1, when the sputter resistance of the MgO film is 1, the SrO and CaOO are less than 10 mol% of CaO concentration.
  • the sputter resistance of the protective film of the present invention containing both of these is less than 1 and is not excellent, but in the range of 20 mol% to 90 mol%, it exceeds 1 and is excellent.
  • the protective film of the present invention containing both SrO and CaO having a CaO concentration of 20 mol% has a sputter resistance of about 1.34, and when the CaO concentration is 60 mol%, the sputter resistance is about 1.54 and the CaO concentration is 90 mol. In%, the sputter resistance is about 1.37, and the protective film of the present invention having a CaO concentration of 60 mol% is the most excellent.
  • the first cell lighting voltage is stable at about 160V and the final cell lighting voltage is about 100V, and within the range of the CaO concentration. Since the variation in discharge characteristics due to the difference in CaO concentration is small! /, There is also an effect that the variation in concentration does not affect the drive control even between cells.
  • the CaO concentration when the CaO concentration is in the range of 20 mol% or more and 90 mol% or less, it is a mixed gas of Ne and Xe in order to improve the luminance as an enclosed gas, Even when an encapsulated gas containing 12% by volume of e is used, the discharge voltage is lower than that when using the MgO film and the resistance to notch is excellent, making it possible to achieve a long-life PDP. Therefore, it goes without saying that a sufficient effect can be expected even if the Xe concentration is 10% by volume or more, which has been proposed for conventional MgO films.
  • an effect can be expected even when the height of the discharge space and the enclosed gas pressure are set to a predetermined value, and further, an effect can be expected even if the size of the PDP panel is 42 "or larger.
  • Fig. 3 is a graph showing the results of the composition analysis. Since the vapor pressures of SrO and CaO are different, when the mixed material of SrO and CaO is evaporated, the composition of the mixed material and the protective film As shown in Fig. 3, the relationship between the CaO concentration in the vapor deposition material and the CaO concentration in the protective film is a predetermined relationship with a displacement point.
  • composition of the protective film to be formed also changes with time at the start of film formation.
  • the discharge voltage of the PDP did not decrease when a protective film was formed from these vapor deposition materials.
  • the discharge was continuously performed, and the change with time of the discharge voltage was measured, and the result is shown in the graph of FIG.
  • the PDP produced by the production method of the present invention has a stable discharge voltage after aging for 1 hour of initial discharge.
  • the period between the first and second panels 10 and 20 to the bonding step is dry gas (N Gas)
  • the protective film of the present invention is a PDP in which a dielectric film is also arranged on the second panel 20 side as shown in Patent Document 1, It can be applied to PDPs that require protective films, such as discharge PDPs, and PDP manufacturing methods.
  • the process from the process of forming the protective film to the process of bonding to the first panel 10 is performed in a vacuum atmosphere without being exposed to the air. It is preferable.
  • the first and second substrates are not limited to glass substrates, but may be plastic substrates, ceramics or the like. Although it can be made of various materials, it is preferable that at least the substrate on which light is emitted is transparent.
  • the method of forming the protective film is not limited to the EB vapor deposition method as long as CaO vapor and SrO vapor can be generated separately.
  • a noose 3 containing SrO and CaO It is possible to heat the housed house 4 with heating means such as an electric heating coil to generate CaO vapor and SrO vapor separately.
  • the protective film 14 of the present invention is disposed on the sustain electrode 15 and the scan electrode 16 via the dielectric film 12, but the present invention is not limited to this, and the sustain electrode
  • the protective film 14 may be disposed so as to contact the surface of 15 and the surface of the scanning electrode 16.
  • the protective film 14 of the present invention is formed on the surface of the phosphor films 22R, 22G, and 22B, the address electrode 25 and the phosphor films 22R, 22G, and 22B are also protected from plasma.
  • plasma may be formed by applying a DC or AC voltage between electrodes arranged on different panels.
  • a DC voltage is applied between electrodes on different panels, at least on the negative potential side.
  • the protective film of the present invention is disposed on one or both electrodes. That's fine.

Description

明 細 書
プラズマディスプレイパネル用保護膜及びその保護膜の製造方法、ブラ ズマディスプレイパネル及びその製造方法
技術分野
[0001] 本発明はプラズマディスプレイパネルに関し、特にその保護膜と、保護膜の製造方 法に関するものである。
背景技術
[0002] 従来より、 PDP (プラズマディスプレイパネル)は表示装置の分野で広く用いられて おり、近年、大画面で高品質かつ、低価格の PDPが要求されている。
一般に PDPはガラス基板上に維持電極及び走査電極が形成された前面板と、ガラ ス基板上にアドレス電極が形成された背面板とが貼り合わされて構成されている 3電 極面放電型が主流となってきて 、る。
[0003] 前面板と背面板の間には封入ガスが封入されており、走査電極とアドレス電極との 間で電圧を印加して放電を起こすと、封入された封入ガスがプラズマ化し、紫外線が 放出される。放出された紫外線が照射される位置に蛍光体膜を配置しておけば、紫 外線によって蛍光体膜が発光して、着色光が放出される。
[0004] 一般に、維持電極及び走査電極上には、誘電体膜が形成され、さらにその上に誘 電体膜を保護するために MgOの保護膜が形成されて 、る。
放電維持のために、走査電極と維持電極に交流電圧を印加すると、封入ガスのプ ラズマ化により発生した陽イオンが走査電極側及び維持電極側に入射するが、維持 電極及び走査電極と、それら電極上の誘電体膜は保護膜によって陽イオンカゝら保護 される。
[0005] 従って、プラズマによって誘電体膜の損傷が起こらず、維持電極と走査電極が誘電 体膜で絶縁された状態が維持されるだけではなぐ誘電体膜の静電容量も変化しな Vヽので、プラズマディスプレイパネルの電気的特性は維持される。
[0006] 近年、高性能化の要求に伴 、、 PDPの輝度を向上させるために、封入ガスとして 通常用いられる Neと Xeの混合ガス中の Xeの濃度を従来の 5%程度から 10%以上ま で高くして発光強度を上げる方法が提案されている。
[0007] しかし、保護膜が MgOの場合、封入ガス中の Xe濃度を高くすると放電電圧が上昇 し、耐スパッタ性が低下して保護膜としての機能が低下するため、パネル寿命が短く なることが問題であった。また、 PDPを駆動させるためのドライバー回路もより高電圧 対応の仕様が必要となり、 PDP駆動制御系の製造コストが高くなることが問題とされ ていた。
[0008] PDPの放電電圧は保護膜の 2次電子放出係数に依存する。仕事関数が MgOより も小さいアルカリ土類金属の酸化物を保護膜として用い、放電電圧を低電圧化する ことが提案されている。
[0009] 例えば、特開 2002— 231129には、保護膜として SrO、 CaO、 BaO、 SrO + BaO
、 BaO + CaO, SrO + CaO + BaOが紹介されている。
[0010] これらの保護膜は、放電中の陽イオンによるスパッタに対する耐性が MgOに比べ て弱ぐ PDPの寿命面で不利なため、 PDPの前面パネル保護膜のみならず、少なく とも蛍光体膜を形成された背面パネルにも保護膜を形成することにより寿命面の問 題を克服する技術が示されて 、る。
特許文献 1 :特開 2002— 231129号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0011] し力しながら、上記従来技術の実施においては、保護膜形成工程の増加により PD P製造コストが高くなるという問題がある。また、上記保護膜は MgO同等以上に、放 電初期において必要とされる長時間のエージング処理の問題が残されていた。本発 明は MgO膜よりも放電電圧が低ぐかつスパッタ耐性の優れた保護膜及びその形成 方法と、該保護膜を使用する PDPの放電初期エージング処理時間を大幅に短縮す る PDP製造方法を提供する。
課題を解決するための手段
[0012] 上記課題を解決するために、本発明は、第一、第二の電極のいずれか一方または 両方の電極の表面上に位置し、前記第一、第二の電極間に電圧が印加されると、前 記第一、第二の電極間に形成されるプラズマに曝される保護膜であって、 SrOと Ca Oとを含有し、前記 CaOの含有率は 20mol%以上 90mol%以下にされた保護膜で ある。
本発明は保護膜であって、前記第一の電極は第一のパネルの表面上に配置され、 前記第二の電極は第二のパネルの表面上に配置された保護膜である。
本発明は、第一の電極が表面上に配置された第一のパネルと、第二の電極が表面 上に配置された第二のパネルとを有し、前記第一、第二のパネルの間には封入ガス が封入され、前記第一、第二の電極のいずれか一方又は両方の表面上に保護膜が 配置され、前記第一、第二のパネルの間に形成されるプラズマに前記保護膜が曝さ れるように構成されたプラズマディスプレイパネルであって、前記保護膜は SrOと Ca Oとを含有し、前記保護膜中の前記 CaOの含有率は 20mol%以上 90mol%以下に されたプラズマディスプレイパネルである。
本発明はプラズマディスプレイパネルであって、前記第一のパネルの表面上には 第三の電極が配置されたプラズマディスプレイパネルである。
本発明はプラズマディスプレイパネルであって、前記封入ガスは、 Neと Xeとを含有 し、前記 Xeの含有率は 10体積0 /0以上であるプラズマディスプレイパネルである。 本発明は SrOと、 CaOとを含有する保護膜を形成する保護膜の形成方法であって 、 SrOを主成分とする第一の蒸着材料と、 CaOを主成分とする第二の蒸着材料とを 同じ真空槽内部に別々に配置し、前記第一、第二の蒸着材料の蒸気発生量を制御 して、前記保護膜中の前記 CaOの含有率が 20mol%以上 90mol%以下になるよう に、前記第一、第二の蒸着材料を蒸発させる保護膜の形成方法である。
本発明は表面に第一の電極が形成された第一のパネルと、表面に第二の電極が 形成された第二のパネル上に前記保護膜を形成する保護膜製造方法であって、前 記第一、第二の電極のうち、いずれか一方又は両方の電極上には誘電体膜が配置 され、前記第一、第二の蒸着材料の蒸気をそれぞれ前記誘電体膜上に到達させて、 前記誘電体膜表面に前記保護膜を形成する保護膜の製造方法である。
本発明は SrOを含有する第一の蒸着材料と、 CaOを含有する第二の蒸着材料とを 同じ真空槽内部に別々に配置し、蒸気発生量を制御しながら前記第一、第二の蒸 着材料を加熱し、第一、第二のパネルの表面に、 SrOと CaOとを含有し、前記 CaO の含有率が 20mol%以上 90mol%以下の保護膜を形成する工程と、前記第一、第 二のパネルを貼り合せる封着工程とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法 であって、少なくとも前記保護膜の形成工程カゝら前記封着工程までを真空雰囲気中 で行うプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
[0013] 本発明は上記のように構成されており、本発明の保護膜が用いられる表示装置は 第一、第二の電極を有している。その装置内にプラズマを形成する封入ガスを封入し ておき、第一、第二の電極間に電圧を印加すると、装置の内部に封入ガスのプラズ マが形成され、プラズマ中の陽イオンは、第一、第二の電極のうち、負電位に置かれ た側の電極に弓 Iき寄せられる。
[0014] 第一、第二の電極の間に直流電圧を印加される場合は、少なくとも負電位が印加さ れる電極上に本発明の保護膜を配置し、第一、第二の電極間に交流電圧が印加さ れる場合には一方又は両方の電極上に本発明の保護膜を配置すれば、該保護膜に よって電極と、その周囲の部材が陽イオン力 保護される。
[0015] 第一のパネル上に維持電極と走査電極、第二のパネル上にアドレス電極が配置さ れた上記のプラズマディスプレイパネルでは、第一、第二の電極は維持電極とァドレ ス電極の組み合わせ力、又は走査電極とアドレス電極の組み合わせになる。
[0016] 特に、上記プラズマディスプレイパネルでは、維持電極と走査電極の間に高い交流 電圧を印力 tlしてプラズマを形成するから、本発明の保護膜を維持電極上と走査電極 上の両方に配置するとよい。
[0017] 一般にプラズマディスプレイパネルでは、維持電極上と走査電極上には誘電体膜 が配置されているから、本発明保護膜を維持電極上の誘電体膜表面上と、走査電極 上の誘電体膜表面上に配置し、誘電体膜を保護するとよい。
[0018] 本発明に用いられる保護膜は、 SrOと CaOの両方を含有し、本発明保護膜中の C aOの濃度を 20mol%以上 90mol%以下にすることで、従来の保護膜 (MgO膜)より も放電中の陽イオンによるスパッタ耐性がすぐれ、かつ PDPの放電電圧を低減させ、 これにより、パネル寿命を向上させるとともに、 PDPを駆動させるためのドライバ一回 路のコストを下げる効果を有する。
[0019] プラズマディスプレイパネルの輝度を高くするために、 Neと Xeの混合ガスであって 、 Xeを 10体積%以上含有する封入ガスを用いると、放電電圧が上昇し、保護膜がェ ツチングされやすくなるが、本発明の保護膜はスパッタ耐性が高 、のでパネル寿命 が短くならない。
発明の効果
[0020] 本発明によれば SrOと CaOの両方を含有する本発明保護膜からなる電子放出特 性の優れた PDP保護膜を安定に形成することが可能となる。また、 PDP内に封入す る Neと Xeの混合ガス中の Xe濃度を高くして輝度を向上させ、長寿命かつ製造コスト の低 、PDPの製造が可能になる。
図面の簡単な説明
[0021] [図 1]本発明のプラズマディスプレイパネルの一例を説明する斜視図
[図 2]本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法を説明する斜視図
[図 3]SrOと CaOの混合蒸着材料を用いた場合の保護膜の組成を説明するグラフ
[図 4]放電電圧と、エージング時間との関係を説明するグラフ
符号の説明
[0022] 1……プラズマディスプレイパネル 11……第一の基板 14……保護膜 15 ……維持電極 16……走査電極 21……第二の基板 25……アドレス電極 発明を実施するための最良の形態
[0023] 図 1の符号 1は本発明のプラズマディスプレイパネルの一例を示している。
このプラズマディスプレイパネル 1は、第一、第二のパネル 10、 20を有している。
[0024] 第一のパネル 10は、第一のガラス基板 11を有しており、第一のガラス基板 11の表 面上には、維持電極 15と、走査電極 16がそれぞれ複数配置されている。尚、図 1で は維持電極 15と走査電極 16をそれぞれ 1本ずつ図示した。
[0025] ここでは、各維持電極 15と、各走査電極 16はそれぞれ細長であって、維持電極 15 と走査電極 16は第一のガラス基板 11表面上で所定間隔を空けて交互に並べられて いる。
[0026] 第一のガラス基板 11の維持電極 15と走査電極 16が配置された側の面上には、絶 縁材料カゝらなる誘電体膜 12が配置されている。互いに隣接する維持電極 15と走査 電極 16は互いに離間しており、誘電体膜 12は維持電極 15と走査電極 16の表面及 び側面を覆うように形成され、互いに隣接する維持電極 15と走査電極 16の間は誘 電体膜 12で充填されているので、維持電極 15と走査電極 16は互いに絶縁された状 態になっている。
[0027] 誘電体膜 12の表面上には、主成分が SrOと CaOの両方を含有する保護膜 14が全 面にわたって配置されており、従って、各維持電極 15上と各走査電極 16上には保 護膜 14が配置された状態になっている。
[0028] 第二のパネル 20は第二のガラス基板 21を有している。第二のガラス基板 21表面 上には、複数本の直線状のアドレス電極 25が互いに所定間隔をあけて平行配置さ れている。
第二のガラス基板 21表面上のアドレス電極 25とアドレス電極 25との間には、細長 の隔壁 23がアドレス電極 25の長手方向に沿って配置されている。
[0029] 互いに隣接する隔壁 23の間にはそれぞれ異なる色の蛍光色素を含有する蛍光体 膜 (赤色の蛍光体膜 22Rと、緑色の蛍光体膜 22Gと、青色の蛍光体膜 22B)のいず れか 1つが配置されており、各アドレス電極 25はいずれ力 1色の蛍光体膜 22R、 22 G、 22Bで覆われた状態になっている。
[0030] 第一、第二のパネル 10、 20は、保護膜 14が露出する面と、隔壁 23が形成された 側の面が互いに対向し、アドレス電極 25に対し、維持電極 15と走査電極 16が直交 するように位置合わせされた状態で貼り合わされており、第二のガラス基板 21表面か ら隔壁 23先端までの高さは、第二のガラス基板 21表面力もアドレス電極 25表面まで の高さよりも大きいので、隔壁 23の先端が第一のパネル 10の保護膜 14に当接され、 蛍光体膜 22R、 22G、 22Bと保護膜 14との間の空間は、隔壁 23で区分けされた状 態になっている。
[0031] 図 1の符号 29は、隔壁 23によって区分けされた各蛍光体膜 22R、 22G、 22B上の 空間である発光空間を示しており、各発光空間 29には、 Neと Xeの混合ガスであって 、 Xeガスを 10体積%以上含有するガスが封入ガスとして充満されて ヽる。
[0032] 次に、このプラズマディスプレイパネル 1を点灯させる工程について説明する。
選択した走査電極 16とアドレス電極 25の間に電圧を印加すると、それらの電極が 交差する発光セルで書き込み放電が起こる。
[0033] 次いで、電圧を印加した走査電極 16と、該走査電極 16に対応する維持電極 15と の間に交流電圧を印加し、維持放電を起こす。
[0034] 上述したように、誘電体膜 12を挟んで維持電極 15、走査電極 16上には保護膜 14 が位置しており、この保護膜 14は主成分が SrOと CaOの両方を含有し、その CaO濃 度は 20mol%以上 90mol%以下にされた本発明保護膜である。
[0035] 本発明保護膜は従来の保護膜 (MgO膜)に比べて電子放出特性が高いので、封 入ガスの Xe濃度を高くした場合であっても、比較的低 ヽ放電電圧で維持放電を起こ り、維持放電によって封入ガスがプラズマ化し、紫外線が発生する。
[0036] このとき、封入ガスのプラズマ化によって、第一、第二のパネル 10、 20の表面がプ ラズマに曝されるが、誘電体膜 12表面上には保護膜 14が配置されているので、誘 電体膜 12はプラズマでエッチングされずに保護される。
[0037] 上述したように、本発明のプラズマディスプレイパネル 1は、低!、放電電圧で駆動可 能であり、低放電電圧で駆動させれば、保護膜 14が封入ガスのプラズマで曝されて も、エッチングされる速度が遅い。従って、本発明のプラズマディスプレイパネル 1は 従来に比べて寿命が長い。
[0038] 上述したように、維持電極 15と走査電極 16は、アドレス電極 25に対して直交するよ うに配置されており、選択した走査電極 16とアドレス電極 25とが交差する発光セルで 発光が起こる。
[0039] 発光セルで紫外線の発光が起こり、その発光セルに位置する蛍光体膜 22R、 22G 、 22Bに紫外線が入射すると、蛍光体膜 22R、 22G、 22B力も赤、緑、青のいずれか の色の可視光が放出される。
[0040] 尚、発光セルを消灯するには、選択された走査電極 16と、該走査電極 16に隣接す る維持電極 15の間に、維持放電の時よりも弱い電圧を印加し、維持放電よりも弱い 放電 (消去放電)を起こすと、発光空間 29内の壁電荷が中和され、発光セルが消灯 する。
[0041] 次に、本発明の保護膜 14を形成する工程の一例について説明する。
図 2の符号 2は成膜装置の一例を示して 、る。この成膜装置 2は 2台の電子ビーム ガン (EBガン) 5a、 5bと、それぞれ 4個の第一、第二のハース 3、 4とを有しており、第 一のハース 3には SrO力もなる第一の蒸着材料がそれぞれ配置され、第二のハース には CaO力もなる第二の蒸着材料がそれぞれ配置されている。
[0042] 第一のハース 3は真空槽内部で一列に並べられており、第二のハース 4は第一の ハース 4と同じ真空槽内部で、第一のハース 3の並び方向に沿って並べられている。
[0043] この真空槽内部は予め真空排気され、各第一のハース 3と各第二のハース 4はそ れぞれ同じ真空雰囲気に置かれており、該真空雰囲気を維持しながら、電子ビーム ガン 5a、 5bから各ハース 3、 4内に電子ビーム 6a、 6bを照射すると、第一のハース 3 内の SrOと、第二のハース 4内の CaOが蒸発し、真空雰囲気中に SrOの蒸気と、 Ca Oの蒸気が放出される。
[0044] 表面に維持電極 15と走査電極 16と誘電体膜 12が形成された状態の第一のガラス 基板 11を、その真空雰囲気中に搬入し、維持電極 15と走査電極 16が形成された側 の面を下側に向けた状態で、第一、第二のハース 3、 4の上方を、それらの並び方向 に沿って走行させる。
[0045] 第一のハース 3の列と第二のハース 4の列は近接配置されているので、第一のガラ ス基板 11が第一、第二のハース 3、 4の上方位置を通過するときには、第一のガラス 基板 11上に SrOの蒸気と CaOの蒸気の両方が到達する。
[0046] ビーム軌跡変更調整によるビーム照射対象ハース 3、 4の変更、各ハース 3、 4への ビームの照射時間、ビーム照射強度の調整により、 SrOの蒸気発生量と、 CaOの蒸 気発生量とを所定割合に制御すれば、第一のガラス基板 11上に、 SrOと CaOを所 定割合で含有する保護膜 14が形成された第一のパネル 10が得られる。
[0047] 尚、本発明の保護膜の形成方法において、第一、第二のハース 3、 4の数はそれぞ れ 4個に限定されるものではなぐ第一、第二のハース 3、 4の数はそれぞれ 1個以上 3個以下であってもよいし、それぞれ 5個以上であってもよい。また、真空槽内に同じ 数の第一、第二のハース 3、 4を配置してもよいし、異なる数の第一、第二のハース 3 、 4を配置してもよい。要するに第一、第二のハース 3、 4は同じ真空槽内に SrOと Ca Oを別々に配置可能であれば、その数も形状も特に限定されるものではない。
[0048] また、電子ビームガン 5a、 5bの台数も 2台に限定されるものではなぐ第一、第二の ハース 3、 4の両方に電子ビームを照射可能であれば、その台数は 1台であってもよ いし、 3台以上であってもよい。
[0049] 保護膜 14が形成された第一のパネル 10を、大気に晒さずに真空雰囲気中を運搬 し、第一のパネル 10と、上述した第二のパネル 20とを同じ加熱用真空槽へ搬入し、 加熱用真空槽内を真空雰囲気に維持したまま、第一のパネル 10の維持電極 15と走 查電極 16が形成された面と、第二のパネル 20のアドレス電極が形成された面とを対 向させ、アドレス電極に対し維持電極と走査電極が所定の位置で交差するように位 置合わせする。
[0050] 加熱用真空槽内で第一、第二のパネル 10、 20を加熱しながら貼り合わせを行った 後、第一、第二のパネル 10、 20を真空雰囲気中で運搬し、大気に晒さずに真空雰 囲気が形成された冷却室に搬入し、該冷却室の真空雰囲気を維持しながら、張り合 わされた第一、第二のパネルを冷却する。更に、真空雰囲気中で上述した封入ガス を第一、第二のパネル 10、 20の間に注入し、封入ガスを注入後封止すれば、プラズ マディスプレイパネル 1が得られる。
[0051] このように、本発明の製造方法では、少なくとも第一のパネル 10に保護膜 14を形 成する工程から、第一、第二のパネル 10、 20を貼り合わせる工程までの工程と、各 工程の間の運搬は、真空雰囲気中で行われ、第一、第二のパネル 10、 20が大気に 晒されること力ない。
[0052] 即ち、保護膜 14が形成されてから、第一、第二のパネル 10、 20の貼り合わせによ つて保護膜 14が密閉されるまでの間、保護膜 14は大気に晒されないので、保護膜 1 4の主成分が SrOと CaOのように吸水性の高 ヽ材料で構成されて 、ても、水分の吸 収が防止される。
[0053] SrOや CaOが水分を吸収すると水酸化物等に変質し、プラズマディスプレイパネル の保護膜に用いた時に、その変質が放電遅延の悪化や、放電電圧の上昇等の原因 となり、放電特性を安定ィ匕するための初期エージング時間の長大化の原因にもなる。 また、保護膜 14中に取り込まれた水分は、蛍光体膜 22R、 22G、 22Bに移動し、蛍 光体膜 22R、 22G、 22Bを変性させ、プラズマディスプレイパネルの表示能力を低下 させる力 上述したように本発明の製造方法では、製造工程での保護膜 14の水分吸 収が防止されるので、放電電圧の低電圧駆動が可能で、表示性能に優れたプラズマ ディスプレイパネル 1が得られる。
実施例
[0054] く SrO— CaO濃度〉
SrOと CaOの濃度を変えて第一、第二のパネルの保護膜 14を作成し、面内に 300 個の発光セルを有するプラズマディスプレイパネル 1を得た。尚、各プラズマディスプ レイパネル 1は、隔壁 23の高さ力 150 m、アドレス電極 25上の蛍光体膜 22R、 22 G、 22B表面から、維持電極 15及び走査電極 16上の保護膜 14表面までの高さであ る放電する空間の高さが 80 μ m、封入ガスは Neと Xeの混合ガス(Neと Xeと力もなる 混合ガス)であって、 Xeガスを 12体積%含有し、その封入圧力は 400Torrである。 下記表 1に、保護膜 14中の CaO濃度 (mol%)を記載する。
[0055] [表 1]
表 1 : SrO-CaO複合酸化膜の放電電圧および耐スパッ夕性測定結果
Figure imgf000012_0001
[0056] 次に、各プラズマディスプレイパネル 1を用いて、 300個の発光セルに対して最初 の 1個目が放電開始するのに必要な第一セル点灯電圧と、全灯している PDPの駆動 電圧を徐々に下げて 、つた時に最後のセルが消灯する最終セル消灯電圧とを測定 し、その測定結果を上記表 1に記載した。尚、上述した SrOと CaOの両方を含有する 本発明保護膜に変え、 MgOで保護膜 14を構成した場合の測定結果も併せて表 1に 記載した。 [0057] 更に、各プラズマディスプレイパネル 1に用いたものと同じ保護膜 14を、上記封入 ガス(Neと Xeの混合ガスであって、 Xeを 12体積0 /0含有する)のプラズマに 2000時 間晒し、保護膜 14がエッチングされた深さ (膜厚減少量)を測定し、その結果も表 1に 記載した。
上記表 1から明らかなように、 SrOだけ力 なる保護膜と、 SrOと CaOの両方を有す る保護膜は、いずれも MgO膜よりも放電電圧が低い。
[0058] また、スパッタ耐性を表 1で示された所定放電でのエッチング速度の逆数で定義す ると、 MgO膜のスパッタ耐性を 1とした時、 CaO濃度が 10mol%以下では SrOと Ca Oの両方を含有する本発明保護膜のスパッタ耐性は 1未満で優れないが、 20mol% 以上 90mol%以下の範囲においては 1を超え優れる。
[0059] CaO濃度が 20mol%の SrOと CaOの両方を含有する本発明保護膜のスパッタ耐 性は約 1. 34、 CaO濃度が 60mol%ではスパッタ耐性は約 1. 54、 CaO濃度が 90m ol%ではスパッタ耐性は約 1. 37であり、スパッタ耐性は CaO濃度が 60mol%の本 発明保護膜が最も優れる。
[0060] なお、 CaO濃度が 20mol%以上 60mol%以下の場合において、第一セル点灯電 圧が 160V程度、最終セル消灯電圧も 100V程度と安定しており、その CaO濃度の 範囲にお 、ては、 CaO濃度の違 ヽによる放電特性のばらつきが小さ!/、ので多様の 濃度のばらつきがセル間であっても駆動制御上影響を来たさないという効果もある。
[0061] 本実施の形態の保護膜で、 CaOの濃度が 20mol%以上 90mol%以下の範囲に おいては、封入ガスとして輝度を向上させるために、 Neと Xeの混合ガスであって、 X eを 12体積%含有する封入ガスを使用しても MgO膜使用時と比べ放電電圧も低くス ノッタ耐性も優れて長寿命の PDPとすることが可能となった。従って、従来の MgO膜 に対して提案されていた Xe濃度 10体積%以上であっても十分効果が期待されること は言うまでもない。
[0062] また、 PDPの設計仕様により、放電空間の高さや封入ガス圧力を所定の設定として も効果が期待され、更に PDPパネルを対角 42"以上のサイズとしても効果が期待さ れる。
[0063] <蒸着材料濃度 > 蒸着材料として SrOと CaOを混合した混合材料を用い、該混合材料に電子ビーム を照射して、 SrOと CaOの両方を含有する本発明保護膜を形成し、その方法で形成 された保護膜について、組成分析を調べた。
[0064] 図 3はその組成分析の結果を示すグラフであり、 SrOと CaOとでは蒸気圧が異なる ため、 SrOと CaOの混合材料を蒸発させた場合に、混合材料の組成と、保護膜の組 成にずれが生じ、図 3に示されるように蒸着材料中の CaO濃度と保護膜中の CaO濃 度の関係が変位点をもつ所定の関係となっている。
[0065] 図示しないが、この関係は蒸着材料の減少とともに著しく変化することを確認した。
従って、形成される保護膜の組成は成膜開始時力も経時的に変化してしまうと推測さ れる。
[0066] これに対し、本発明の保護膜の形成方法は、図 2に示したように SrOと CaOを個別 に蒸発させており、上述したようにビーム照射対象ハースの変更、各ハースへのビー ムの照射時間、ビーム照射強度等の調整により、各蒸発源からの蒸発速度を最適化 することができる。従って、 SrOと CaOを個別に蒸発させる本発明では、 SrOと CaO の割合の制御が容易であり、組成比率が安定した保護膜を形成することができる。
[0067] なお、電子ビーム蒸着による SrOと CaOの両方を含有する本発明保護膜を形成し ようとする場合、一般的には大気中において安定な SrCOと CaCOを蒸着材料に用
3 3
いるが、それらの蒸着材料で保護膜を形成すると、 PDPの放電電圧が低下しなかつ た。
[0068] 得られた保護膜の組成分析を行った結果、保護膜中に多量のカーボンが含まれて おり、 2次電子放射特性が低下したものと考えられる。大気中で不安定な蒸着材料で ある SrOと CaOを用い、独立に蒸発させることにより、放電電圧の低い保護膜が安定 に得られることが分力つた。
[0069] <真空雰囲気連続処理 >
保護膜 14形成から加熱による封着 (第一、第二のパネル 10、 20の貼り合わせ)、そ の後の冷却までを真空中で連続して行うことの効果を比較評価するために下記表 2 に示す手順で処理を行った。
[0070] [表 2] :真空中連続処理方法と乾燥雰囲気中連続処理方法の比較手順
Figure imgf000015_0001
[0071] 実施例及び比較例のプラズマディスプレイパネル 1につ 、て、継続して放電を行 ヽ 、放電電圧の経時的変化を測定し、その結果を図 4のグラフに記載した。
上記表 2と図 4から明らかなように、本発明の製造方法により製造した PDPは初期 放電 1時間のエージングで放電電圧が安定ィ匕していることがわかる。
[0072] これに対し、特開 2002— 231129号に記載されているように、保護膜の形成後、 第一、第二のパネル 10、 20の貼り合わせ工程までの間を、ドライガス (Nガス)の乾
2 燥雰囲気中で行った比較例では、 10時間経過にぉ 、ても放電電圧が安定しておら ず、放電電圧が安定するまでの時間が長くかかった。
[0073] SrOと CaOの混合膜を保護膜に用いた場合には、乾燥雰囲気による製造プロセス と比べて真空による連続プロセスが初期エージング時間の短縮に非常に有効である ことがわかった。
[0074] 以上は、面放電型の PDPを例示したが、本発明の保護膜は、特許文献 1で示され るような第二のパネル 20側にも誘電体膜を配置する PDPや、対向放電型 PDPなど、 保護膜が必要とされる PDP並びに、 PDP製造方法に適用することができる。
[0075] 第二のパネル 20にも本発明の保護膜を形成する時には、保護膜を形成する工程 から、第一のパネル 10と貼り合わせる工程までを大気に晒さず、真空雰囲気中で行 うことが好ましい。
[0076] 第一、第二の基板はガラス基板に限定されず、プラスチック基板やセラミック等の種 々の材料で構成することも可能であるが、少なくとも光が放出される側の基板は透明 であることが好ましい。
[0077] また、保護膜の成膜方法は、 CaOの蒸気と SrOの蒸気を別々に発生可能であれば 、 EB蒸着法に限定されず、例えば SrOの収容されたノヽース 3と、 CaOの収容された ハース 4を電熱コイル等の加熱手段で加熱し、 CaOの蒸気と SrOの蒸気を別々に発 生させることち可會である。
[0078] 以上は、誘電体膜 12を介して維持電極 15上と走査電極 16上に本発明の保護膜 1 4を配置する場合について説明したが、本発明はこれに限定されず、維持電極 15表 面と走査電極 16表面に保護膜 14を接触するように配置してもよい。
[0079] また、本発明の保護膜 14を、蛍光体膜 22R、 22G、 22B表面上に形成すれば、ァ ドレス電極 25及び蛍光体膜 22R、 22G、 22Bもプラズマから保護される。
[0080] 以上は、同一パネル上に配置された維持電極と走査電極との間に電圧を印加して プラズマを形成する場合について説明した力 本発明はこれに限定されるものでは ない。例えば異なるパネルにそれぞれ配置された電極の間に、直流又は交流電圧を 印加してプラズマを形成してもよく、異なるパネル上の電極間に直流電圧を印加する 場合には、少なくとも負電位側に置かれる電極上に本発明の保護膜を配置すればよ ぐ異なるパネル上の電極間に交流電圧を印加する場合には、いずれか一方又は両 方の電極上に本発明の保護膜を配置すればよい。

Claims

請求の範囲
[1] 第一、第二の電極の 、ずれか一方または両方の電極の表面上に位置し、前記第 一、第二の電極間に電圧が印加されると、前記第一、第二の電極間に形成されるプ ラズマに曝される保護膜であって、
SrOと CaOとを含有し、
前記 CaOの含有率は 20mol%以上 90mol%以下にされた保護膜。
[2] 前記第一の電極は第一のパネルの表面上に配置され、
前記第二の電極は第二のパネルの表面上に配置された請求項 1記載の保護膜。
[3] 第一の電極が表面上に配置された第一のパネルと、第二の電極が表面上に配置さ れた第二のパネルとを有し、
前記第一、第二のパネルの間には封入ガスが封入され、
前記第一、第二の電極のいずれか一方又は両方の表面上に保護膜が配置され、 前記第一、第二のパネルの間に形成されるプラズマに前記保護膜が曝されるように 構成されたプラズマディスプレイパネルであって、
前記保護膜は SrOと CaOとを含有し、
前記保護膜中の前記 CaOの含有率は 20mol%以上 90mol%以下にされたプラズ マディスプレイパネノレ。
[4] 前記第一のパネルの表面上には第三の電極が配置された請求項 2記載のプラズ マディスプレイパネノレ。
[5] 前記封入ガスは、 Neと Xeとを含有し、
前記 Xeの含有率は 10体積%以上である請求項 3記載のプラズマディスプレイパネ ル。
[6] SrOと、 CaOとを含有する保護膜を形成する保護膜の形成方法であって、
SrOを主成分とする第一の蒸着材料と、 CaOを主成分とする第二の蒸着材料とを 同じ真空槽内部に別々に配置し、
前記第一、第二の蒸着材料の蒸気発生量を制御して、前記保護膜中の前記 CaO の含有率が 20mol%以上 90mol%以下になるように、前記第一、第二の蒸着材料 を蒸発させる保護膜の形成方法。
[7] 表面に第一の電極が形成された第一のパネルと、表面に第二の電極が形成された 第二のパネル上に前記保護膜を形成する請求項 6記載の保護膜製造方法であって 前記第一、第二の電極のうち、いずれか一方又は両方の電極上には誘電体膜が 配置され、
前記第一、第二の蒸着材料の蒸気をそれぞれ前記誘電体膜上に到達させて、前 記誘電体膜表面に前記保護膜を形成する保護膜の製造方法。
[8] SrOを含有する第一の蒸着材料と、 CaOを含有する第二の蒸着材料とを同じ真空 槽内部に別々に配置し、
蒸気発生量を制御しながら前記第一、第二の蒸着材料を加熱し、第一、第二のパ ネルの表面に、 SrOと CaOとを含有し、前記 CaOの含有率が 20mol%以上 90mol %以下の保護膜を形成する工程と、
前記第一、第二のパネルを貼り合せる封着工程とを有するプラズマディスプレイパ ネルの製造方法であって、
少なくとも前記保護膜の形成工程カゝら前記封着工程までを真空雰囲気中で行うプ ラズマディスプレイパネルの製造方法。
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