JP2002231129A

JP2002231129A - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法

Info

Publication number: JP2002231129A
Application number: JP2001029084A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Kado; 博行加道
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2001-02-06
Filing date: 2001-02-06
Publication date: 2002-08-16
Anticipated expiration: 2021-02-06
Also published as: JP4654520B2

Abstract

(57)【要約】【課題】低電圧駆動が可能なプラズマディスプレイパ
ネルおよびその製造方法を提供する。【解決手段】第一プレートおよび少なくとも蛍光体層
１０が設けられた第二プレート表面に酸化カルシウム、
酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち１種類あるい
は２種類以上からなる保護層５、１３を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、高品質な表示や大画面化などディ
スプレイのさらなる高性能化が要求されるようになり、
種々のディスプレイの開発がなされている。注目される
代表的なディスプレイとしては、ＣＲＴディスプレイ、
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパ
ネル（ＰＤＰ）などが挙げられる。

【０００３】以下では、従来のプラズマディスプレイパ
ネルについて図面を参照しながら説明する。図４は交流
型（ＡＣ型）のプラズマディスプレイパネルの概略を示
す断面図である。

【０００４】図４において、第一プレートは、前面ガラ
ス基板４１上に維持電極および走査電極４２が形成され
ている。さらに、これらの電極４２は、誘電体層４３及
び酸化マグネシウム（ＭｇＯ）保護層４４により覆われ
ている。

【０００５】また、第二プレートは、背面ガラス基板４
５上に、アドレス電極４６および隔壁４７、蛍光体層
（５０〜５２）が設けられており、４９が放電ガスを封
入する放電空間となっている。前記蛍光体層はカラー表
示のために、赤５０、緑５１、青５２の３色の蛍光体層
が順に配置されている。上記の各蛍光体層（５０〜５
２）は、放電によって発生する波長の短い真空紫外線
（波長１４７ｎｍ）により励起発光する。

【０００６】蛍光体層５０〜５２を構成する蛍光体とし
ては、一般的に以下の材料が用いられている。「青色蛍光体」：ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ「緑色蛍光体」：Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：ＭｎまたはＢａＡｌ₁₂
Ｏ₁₉：Ｍｎ「赤色蛍光体」：Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕまたは（Ｙ_xＧｄ_1-x）Ｂ
Ｏ₃：Ｅｕこの２枚のガラス基板間の放電空間にはＮｅ−Ｘｅ等の
混合ガスを封入し、放電により発生する波長の短い真空
紫外光（１４７ｎｍ）によって蛍光体層（５０〜５２）
が励起され、Ｒ、Ｇ、Ｂの可視光を前面ガラス基板側か
ら発することによりカラー表示を行っている。

【０００７】ＰＤＰの動作電圧は、この保護層の２次電
子放出係数に依存する。従って仕事関数が酸化マグネシ
ウムよりも小さいアルカリ土類金属の酸化物を誘電体膜
表面の保護層として用いることで、動作電圧を低電圧化
することが提案されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＰＤＰ
の動作電圧としての、維持電極と走査電極間に印加する
維持電圧は、前記構成で低減できるが、これらの電極と
アドレス電極に印加するアドレス電圧の低減に関して
は、この構成だけでは不十分であった。

【０００９】さらに、これらのアルカリ土類金属の酸化
物は吸湿性が高く、保護膜形成後に雰囲気中の水分を吸
着し、水酸化物に変質し、結果的に不安定な放電特性と
なるという課題があった。

【００１０】以上のように低電圧駆動が可能なＰＤＰを
製造し、これを得るためには、いまだ多くの改良の余地
がみられる。

【００１１】本発明は上記課題に鑑みてなされたもので
あって、その目的は、低電圧駆動可能な保護層を備える
優れた発光効率のＰＤＰおよびその製造方法を提供する
ことにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法
は、第一プレートに保護層を形成する保護層形成工程
と、前記第一プレート面と、少なくとも蛍光体層を形成
した第二プレート面とを対向させて当該二枚のプレート
間を封着する封着工程とを経るプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法であって、前記保護層は、酸化カルシウ
ム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち少なくと
も１種類以上を含み、少なくとも前記保護層形成工程後
から前記封着工程までを乾燥雰囲気中で連続して行うこ
とを特徴とする。

【００１３】前記構成において、保護層が酸化マグネシ
ウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリ
ウムのうち少なくとも２種類以上の混合物からなること
が好ましい。

【００１４】また、保護層が酸化マグネシウム、酸化カ
ルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち少
なくとも２種類以上が積層された構成であることが好ま
しい。

【００１５】また、保護層が酸化ストロンチウムと酸化
バリウムの混合物からなることが好ましい。

【００１６】さらに、少なくとも蛍光体層を形成した第
二プレートを乾燥雰囲気中で加熱する加熱工程を有し、
保護層形成工程後および前記加熱工程から前記封着工程
までを乾燥雰囲気中で連続して行うことが好ましい。

【００１７】また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法は、第一プレートに保護層を形成する保護
層形成工程と、少なくとも蛍光体層を形成した第二プレ
ートに保護層を形成する保護層形成工程と、前記第一プ
レート面と前記第二プレート面とを対向させて当該二枚
のプレート間を封着する封着工程とを経るプラズマディ
スプレイパネルの製造方法であって、前記第一プレート
の保護層は、酸化マグネシウムからなり、前記第二プレ
ートの保護層は、酸化カルシウム、酸化ストロンチウ
ム、酸化バリウムのうち少なくとも１種類以上を含み、
少なくとも前記第二プレートへの保護層形成工程後から
前記封着工程までを乾燥雰囲気中で連続して行うことを
特徴とする。

【００１８】前記構成において、第二プレートの保護層
が酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチ
ウム、酸化バリウムのうち少なくとも２種類以上の混合
物からなることが好ましい。

【００１９】また、第二プレートの保護層が酸化マグネ
シウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バ
リウムのうち少なくとも２種類以上が積層された構成で
あることが好ましい。

【００２０】また、第二プレートの保護層が酸化ストロ
ンチウムと酸化バリウムの混合物からなることが好まし
い。

【００２１】さらに、少なくとも前記第一および第二プ
レートへの保護層形成工程後から前記封着工程までを乾
燥雰囲気中で連続して行うことが好ましい。

【００２２】また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法は、第一プレートに保護層を形成する保護
層形成工程と、少なくとも蛍光体層を形成した第二プレ
ートに保護層を形成する保護層形成工程と、前記第一プ
レート面と前記第二プレート面とを対向させて当該二枚
のプレート間を封着する封着工程とを経るプラズマディ
スプレイパネルの製造方法であって、前記第一プレート
および第一プレートの保護層は、酸化カルシウム、酸化
ストロンチウム、酸化バリウムのうち少なくとも１種類
以上を含み、少なくとも前記第一プレートおよび第二プ
レートへの保護層形成工程後から前記封着工程までを乾
燥雰囲気中で連続して行うことを特徴とする。

【００２３】前記構成において、少なくとも第一プレー
トあるいは第二プレートのいずれかの保護層が酸化マグ
ネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化
バリウムのうち少なくとも２種類以上の混合物からなる
ことが好ましい。

【００２４】また、少なくとも第一プレートあるいは第
二プレートのいずれかの保護層が酸化マグネシウム、酸
化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのう
ち少なくとも２種類以上が積層された構成であることが
好ましい。

【００２５】また、少なくとも第一プレートあるいは第
二プレートのいずれかの保護層が酸化ストロンチウムと
酸化バリウムの混合物からなることが好ましい。

【００２６】また、これらの構成において、第二プレー
トの保護層が第一プレートの保護層よりも薄いことが好
ましい。

【００２７】さらに、第二プレートの保護層が１００ｎ
ｍ以下の厚さであることが好ましい。

【００２８】さらに、少なくとも蛍光体層を形成した第
二プレートを乾燥雰囲気中で加熱する加熱工程を有し、
前記加熱工程から前記第二プレートへの保護層形成工程
までを乾燥雰囲気中で連続して行うことが好ましい。

【００２９】さらに、封着工程から排気工程までを乾燥
雰囲気中で連続して行うことが好ましい。

【００３０】さらに、前記第二プレートの加熱工程また
は封着工程の乾燥雰囲気が、酸素ガスもしくは酸素を含
むガスであることが好ましい。

【００３１】さらに、前記乾燥雰囲気中で連続して行う
工程間の雰囲気を、大気圧よりも陽圧の乾燥ガス雰囲気
に保持することが好ましい。

【００３２】さらに、乾燥雰囲気が露点−２０℃以下の
ガス雰囲気であることが好ましい。

【００３３】また、上記課題を解決するために、本発明
のプラズマディスプレイパネルは、一対の平行に配され
た少なくとも酸化マグネシウムからなる保護層が形成さ
れた第一プレートと、少なくとも蛍光体層が形成された
第二プレートの間に、ガス媒体が封入された放電空間が
形成されたプラズマディスプレイパネルであって、前記
第二プレートの最表面が保護層で覆われ、前記保護層
は、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウ
ムのうち少なくとも１種類以上を含むことを特徴とす
る。

【００３４】前記構成において、第二プレートの保護層
が酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチ
ウム、酸化バリウムのうち少なくとも２種類以上の混合
物からなることが好ましい。

【００３５】また、第二プレートの保護層が酸化マグネ
シウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バ
リウムのうち少なくとも２種類以上が積層された構成で
あることが好ましい。

【００３６】また、第二プレートの保護層が酸化ストロ
ンチウムと酸化バリウムの混合物からなることが好まし
い。

【００３７】また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルは、一対の平行に配された第一プレートと、少なくと
も蛍光体層が形成された第二プレートの間に、ガス媒体
が封入された放電空間が形成されたプラズマディスプレ
イパネルであって、前記第一プレートおよび第二プレー
トの最表面が保護層で覆われ、前記保護層は、酸化カル
シウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち少な
くとも１種類以上を含むことを特徴とする。

【００３８】前記構成において、少なくとも第一プレー
トあるいは第二プレートのいずれかの保護層が酸化マグ
ネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化
バリウムのうち少なくとも２種類以上の混合物からなる
ことが好ましい。

【００３９】また、少なくとも第一プレートあるいは第
二プレートのいずれかの保護層が酸化マグネシウム、酸
化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのう
ち少なくとも２種類以上が積層された構成であることが
好ましい。

【００４０】さらに、少なくとも第一プレートあるいは
第二プレートのいずれかの保護層が酸化ストロンチウム
と酸化バリウムの混合物からなることが好ましい。

【００４１】さらに、本発明のプラズマディスプレイパ
ネルは、一対の平行に配された少なくとも保護層が形成
された第一プレートと、少なくとも蛍光体層が形成され
た第二プレートの間に、ガス媒体が封入された放電空間
が形成されたプラズマディスプレイパネルであって、前
記保護層は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化
ストロンチウム、酸化バリウムのうち少なくとも２種類
以上の混合物からなることを特徴とする。

【００４２】また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルは、一対の平行に配された少なくとも保護層が形成さ
れた第一プレートと、少なくとも蛍光体層が形成された
第二プレートの間に、ガス媒体が封入された放電空間が
形成されたプラズマディスプレイパネルであって、前記
保護層は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ス
トロンチウム、酸化バリウムのうち少なくとも２種類以
上が積層された構成であることを特徴とする。

【００４３】さらに、本発明のプラズマディスプレイパ
ネルは、前記いずれかの製造方法により製造されたこと
を特徴とする。

【００４４】さらに、これらの構成において、第二プレ
ートの保護層が第一プレートの保護層よりも薄いことが
好ましい。

【００４５】さらに、第二プレートの保護層が１００ｎ
ｍ以下の厚さであることが好ましい。

【００４６】さらに、本発明のプラズマディスプレイ表
示装置は、前記プラズマディスプレイパネルと前記プラ
ズマディスプレイパネルを駆動する駆動回路とを備えた
プラズマディスプレイパネル表示装置であることを特徴
とする。

【００４７】

【発明の実施の形態】（ＰＤＰの構成）図1は、本発明
の実施の形態に係る交流面放電型プラズマディスプレイ
パネル（以下単に「ＰＤＰ」という）の主要構成を示す
部分的な断面斜視図である。

【００４８】図1に示すように、ＰＤＰの構成は互いに
主面を対向させて配設された第一プレートおよび第二プ
レートに大別される。

【００４９】第一プレートの基板となる前面ガラス基板
１には、その一方の主面に帯状の電極が積層され、複数
対の表示電極２、３（維持電極２、走査電極３）が形成
されている。

【００５０】表示電極２，３を配設した前面ガラス基板
１には、当該ガラスの主面全体にわたって誘電体層４と
酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムの
うち１種類あるいは２種類以上からなる保護層５が順次
形成されている。

【００５１】第二プレートの基板となる背面ガラス基板
６には、その一方の主面に複数のアドレス電極７が一定
間隔毎にストライプ状に並設され、このアドレス電極７
を内包するように背面ガラス基板６の全面にわたって誘
電体層８が形成されている。誘電体層８の上には、さら
に隣接するアドレス電極７の間隙に合わせて隔壁９が配
設され、そして隣接する2つの隔壁９の側面とその間の
誘電体層８の面上には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色
（Ｂ）のそれぞれに対応する蛍光体層１０〜１２が形成
されている。

【００５２】さらに、この蛍光体層１０〜１２を内包す
るように背面ガラス基板６の全面にわたって酸化カルシ
ウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち１種類
あるいは２種類以上からなる保護層１３が形成されてい
る。

【００５３】このような構成を有する第一プレートと第
二プレートは、アドレス電極７と表示電極２，３の互い
の長手方向が直交するように対向させながら、両プレー
トの外周縁部をガラスフリットで封着されている。この
両プレート間にはＨｅ、Ｘｅ、Ｎｅなどの希ガス成分か
らなる放電ガス（封入ガス）が所定の圧力（通常５００
〜６００Ｔｏｒｒ（６６．５〜７９．８ｋＰａ）程度）
で封入されている。

【００５４】（ＰＤＰの動作）このＰＤＰを駆動する時
には不図示のパネル駆動部によって、アドレス（走査）
電極７と表示電極２，３にパルスを印加して書き込み放
電（アドレス放電）を行った後、各対の表示電極２，３
にパルスを印加する。これによりアドレス放電がなされ
た当該表示電極２，３の間隙で放電が開始される。そし
て放電空間において維持放電がなされ、画面表示が行わ
れる。

【００５５】ここで、本実施の形態の主な特徴は、酸化
カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち
１種類あるいは２種類以上からなる保護層５および保護
層１３と、この構成を有するＰＤＰの製造方法にある。

【００５６】ＰＤＰの動作時には、第一プレートおよび
第二プレートの最表面が仕事関数の小さな酸化カルシウ
ム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち１種類あ
るいは２種類以上からなる保護層で覆われているため
に、電子放出特性が良好となり、従来に比べてアドレス
電圧、維持電圧ともに低電圧駆動が可能なＰＤＰが得ら
れる。

【００５７】（ＰＤＰの製造方法）本実施の形態のＰＤ
Ｐの製造工程図を図２に示す。

【００５８】本実施の形態のＰＤＰの製造方法は、誘電
体まで形成された前面ガラス基板に酸化カルシウム、酸
化ストロンチウム、酸化バリウムのうち１種類あるいは
２種類以上からなる保護層を形成する前面基板保護層形
成工程、蛍光体層および封着用フリット（フリット焼成
済み）まで形成された背面ガラス基板に酸化カルシウ
ム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち１種類あ
るいは２種類以上からなる保護層を形成する背面基板保
護層形成工程、これらの基板を位置合わせするアライメ
ント工程、その後に封着する封着工程、封着後のパネル
内を排気し放電ガスを封入する排気工程からなり、これ
らの製造工程（搬送を含む）をドライガス供給装置を用
い、乾燥雰囲気中で連続して行うものとした。

【００５９】酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸
化バリウムのうち１種類あるいは２種類以上からなる保
護層は蒸着法により形成したが、蒸着法の代わりに公知
のスパッタ法やＣＶＤ法によっても保護層を形成するこ
ともできる。

【００６０】なお、保護層形成工程以外は、ある程度の
密閉性を持たせた室内に、ドライガスを導入し、内部を
大気圧よりも陽圧のドライガス雰囲気に保持すること
で、比較的簡易な装置でドライガス雰囲気を実現するこ
とができた。

【００６１】酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸
化バリウムのうち１種類あるいは２種類以上からなる保
護層には吸水性があり、雰囲気中の水分が多いと水酸化
物などに変質することがある。これは保護層としての機
能を低下させる原因（具体的には、放電遅れの悪化や放
電電圧の上昇による消費電力の増加などの原因）とな
る。また保護層中に取り込まれた水分は、封着工程のの
ちに蛍光体層へ移動し、これを変性させて表示性能の低
下を招くことがある。

【００６２】そこで、上記のように乾燥雰囲気で各工程
を行い、保護層に水分が含まれるのを抑制するものとし
た。これによって、水分の吸収を回避して純度よく形成
された保護層により、ＰＤＰの動作時には蛍光体層の変
性を防止しつつ、従来に比べてアドレス電圧、維持電圧
ともに低電圧駆動が可能で、いっそう優れた表示性能が
発揮されることとなる。

【００６３】なお、上記実施の形態では、保護層の形成
方法としてスパッタリング、蒸着、あるいはＣＶＤの例
を示したが、本発明はこれに限定するものではなく、印
刷法、ダイコート法、ゾルゲル法、ＣＭＤ法などを用い
てもよい。ただし、これらの方法でも前述したドライガ
ス雰囲気を用いる必要があることは言うまでもない。

【００６４】また、第二プレートに厚い保護層を形成し
た場合、蛍光体を励起するための真空紫外線が十分に蛍
光体まで透過することが困難になる。従って、第二プレ
ートに形成された保護層は、第一プレートに形成された
保護層よりも薄くすることが好ましく、また透過率をあ
げるために１００ｎｍ以下にすることが好ましい。

【００６５】さらに、蛍光体層を形成した第二プレート
に保護層を形成する場合、あらかじめそれまでに付着し
た水分を除去するために、保護層形成工程の前に、第二
プレートをドライガス雰囲気中で加熱する加熱工程を経
ることで、さらに良好な保護層が形成された。ただし、
この工程から保護層形成工程までの間をドライガス雰囲
気中で連続して行う必要があることは言うまでもない。

【００６６】また、本実施の形態では封着工程後、排気
工程を経たが、封着と排気を連続して行うことも可能で
ある。

【００６７】また、乾燥雰囲気を実現するためのドライ
ガスとしては、空気、酸素、窒素等を用いることが可能
であるが、露点−２０℃以下のガスが望ましく、−４０
℃以下がさらに望ましい。

【００６８】さらに、第二プレートの加熱工程または封
着工程で用いるドライガスとしては、酸素ガスもしくは
酸素を含むガスであることが望ましい。これは、ＰＤＰ
用蛍光体として酸化物蛍光体が多く、無酸素雰囲気で加
熱すると酸素欠損等を生じ劣化する可能性があるためで
ある。

【００６９】（実施の形態の変形例１）本実施の形態で
は、第一プレートおよび第二プレートの両プレートに酸
化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのう
ち１種類あるいは２種類以上からなる保護層を形成した
が、第二プレート最表面は従来通り蛍光体層とし、第一
プレート最表面のみに酸化カルシウム、酸化ストロンチ
ウム、酸化バリウムのうち１種類あるいは２種類以上か
らなる保護層を設けても良い。

【００７０】この場合でも、低減幅は小さいが、駆動電
圧低減効果が得られた。

【００７１】このＰＤＰの製造方法においても、第一プ
レートの酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バ
リウムのうち１種類あるいは２種類以上からなる保護層
を安定に保持するために、前記保護層形成工程後から封
着工程までを乾燥雰囲気中で連続して行う必要があるこ
とは言うまでもない。

【００７２】さらに、蛍光体層を形成した第二プレート
を第一プレートと対向させ封着する前に、あらかじめそ
れまでに付着した水分を除去するために、第二プレート
を乾燥雰囲気中で加熱する加熱工程を経ることで、さら
に安定したプロセスが実現した。ただし、この加熱工程
から封着工程までの間を乾燥雰囲気中で連続して行う必
要があることは言うまでもない。

【００７３】（実施の形態の変形例２）本実施の形態で
は、第一プレートおよび第二プレートの両プレートに酸
化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのう
ち１種類あるいは２種類以上からなる保護層を形成した
が、第一プレート最表面は従来通り酸化マグネシウムか
らなる保護層とし、第二プレート最表面のみに酸化カル
シウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち１種
類あるいは２種類以上からなる保護層を設けても良い。

【００７４】酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸
化バリウムのうち１種類あるいは２種類以上からなる保
護層は、電子放出特性は酸化マグネシウムよりも高い
が、放電中の陽イオンによるスパッタに対しては、酸化
マグネシウムよりも弱いという欠点を有し、これらの材
料を保護層として用いた場合、ＰＤＰの寿命面で不利な
状況となる。

【００７５】したがって、実施の形態の変形例２のよう
に、ＰＤＰの駆動中に陽イオンによる衝撃が頻繁に起こ
ることによる、第一プレート側は、従来通り酸化マグネ
シウムを用いた保護層を設け、陽イオンによる衝撃が小
さい第二プレート側にのみ、酸化カルシウム、酸化スト
ロンチウム、酸化バリウムのうち１種類あるいは２種類
以上からなる保護層を設けた構成とすることで、寿命の
問題もなく、かつ低電圧駆動が可能なＰＤＰを実現する
ことができた。

【００７６】このＰＤＰの製造方法においても、第二プ
レートの酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バ
リウムのうち１種類あるいは２種類以上からなる保護層
を安定に保持するために、前記保護層形成工程後から封
着工程までを乾燥雰囲気中で連続して行う必要があるこ
とは言うまでもない。

【００７７】また、第一プレートの酸化マグネシウムか
らなる保護層の形成工程後も、第二プレート保護層形成
後と同様に、乾燥雰囲気中で保つことで、さらに安定し
たプロセスを実現できた。

【００７８】さらに、蛍光体層を形成した第二プレート
に保護層を形成する場合、あらかじめそれまでに付着し
た水分を除去するために、保護層形成工程の前に、第二
プレートを乾燥雰囲気中で加熱する加熱工程を経ること
で、さらに良好な保護層が形成された。ただし、この工
程から保護層形成工程までの間をドライガス雰囲気中で
連続して行う必要があることは言うまでもない。

【００７９】以上の実施の形態において、保護層を酸化
カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのいず
れか単独で形成するよりも、これらのうち二種類以上の
混合物として形成したり、積層して形成する方が電圧低
下には効果があった。これらのメカニズムは明確ではな
いが、二種類以上の混合物あるいは積層物にすることで
保護層の仕事関数が低下し、電子放出能力が向上したた
めと考えられる。なかでも、酸化ストロンチウムと酸化
バリウムの混合物を用いた場合が、低電圧化には最も効
果があった。

【００８０】さらに、保護層として、酸化マグネシウム
を、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウ
ムに混合させることで、低電圧化だけでなく放電中のイ
オン衝撃に対する耐性も向上した。

【００８１】また、酸化カルシウム、酸化ストロンチウ
ム、酸化バリウムのうち１種類あるいは２種類以上から
なる保護層表面に、酸化マグネシウムを薄く被覆するこ
とによっても、低電圧化だけでなく放電中のイオン衝撃
に対する耐性向上に有効であった。この場合、低電圧効
果を維持するために、被覆する酸化マグネシウムは、１
０ｎｍ以下が好ましい。

【００８２】なお、ＰＤＰの駆動時には、図３に示すよ
うに、ＰＤＰに各ドライバ及びパネル駆動回路９０を接
続して、点灯させようとするセルの走査電極９１ａとア
ドレス電極９２間に印加してアドレス放電を行った後
に、表示電極９１ａ，９１ｂ間にパルス電圧を印加して
維持放電を行う。そして、当該セルで放電に伴って紫外
線を発光し、蛍光体層で可視光に変換する。このように
してセルが点灯することによって、画像が表示される。

【００８３】

【実施例】本発明の効果を検証するために、前記実施の
形態に基づいて幾つかの構成の保護層を形成したＰＤＰ
を作製し、従来のＰＤＰと比較した。

【００８４】パネルは４２”サイズである。隔壁の高さ
は０．１ｍｍ、隔壁の間隔は０．３６ｍｍに設定した。
また、蛍光体材料としては「青色蛍光体」：ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ「緑色蛍光体」：Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ「赤色蛍光体」：（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ₃：Ｅｕを用いた。

【００８５】酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロン
チウム（ＳｒＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）のうち１種
類あるいは２種類以上からなる保護層および酸化マグネ
シウム（ＭｇＯ）からなる保護層は、電子ビーム蒸着に
より作製し、第一プレート側は厚さ５００ｎｍ、第二プ
レート側は厚さ５０ｎｍとした。

【００８６】封入する放電ガスの組成は、５％キセノン
（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを放電ガスとし
て５００Ｔｏｒｒ（６６．５ｋＰａ）封入した。

【００８７】表１に本実施例のＰＤＰを駆動可能とする
ためのアドレス電圧および維持電圧の測定結果を示す。

【００８８】

【表１】

【００８９】パネルＮｏ．１から７は本実施の形態の構
成のパネルである。また、パネルＮｏ．８は従来の構成
を用いた比較例である。

【００９０】本実施の形態の保護層構成にすることで、
アドレス電圧および維持電圧の低減することが可能とな
った。

【００９１】これは、酸化カルシウム、酸化ストロンチ
ウム、酸化バリウムのうち１種類あるいは２種類以上か
らなる保護層を有するＰＤＰを、ドライ雰囲気中で安定
に作製することが可能になったために、保護層の電子放
出確率が向上し、放電電圧が低下したものと考えられ
る。

【００９２】特に、保護層として酸化ストロンチウムと
酸化バリウムの混合物を用いたＰＤＰは、駆動電圧低減
効果が大きかった。これは、酸化ストロンチウムと酸化
バリウムの混合物とすることで、酸化ストロンチウムあ
るいは酸化バリウム単体よりも、仕事関数が低減され、
電子放出能力が向上したためと考えられる。

【００９３】なお、以上の実施例においては、面放電型
のＰＤＰを例示したが、対向放電型のＰＤＰなど、保護
層が必要なＰＤＰすべてに適用することができる。

【００９４】

【発明の効果】以上のことから明らかなように、本発明
によれば、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化
バリウムのうち１種類あるいは２種類以上からなる電子
放出特性の優れた保護層を安定に形成することが可能と
なり、これらの保護層を備えたＰＤＰにより、アドレス
電圧、維持電圧ともに低電圧化を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施の形態におけるＰＤＰの主要構成図

【図２】実施の形態におけるＰＤＰの製造工程を示す図

【図３】本実施の形態のＰＤＰに駆動回路を接続したＰ
ＤＰ表示装置を示す図

【図４】従来の交流面放電型プラズマディスプレイパネ
ルの概略断面図

【符号の説明】

１前面ガラス基板２維持電極３走査電極４誘電体層５保護層６背面ガラス基板７アドレス電極８誘電体層９隔壁１０蛍光体層（Ｒ）１１蛍光体層（Ｇ）１２蛍光体層（Ｂ）１３保護層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】第一プレートに保護層を形成する保護層
形成工程と、前記第一プレート面と、少なくとも蛍光体
層を形成した第二プレート面とを対向させて当該二枚の
プレート間を封着する封着工程とを経るプラズマディス
プレイパネルの製造方法であって、前記保護層は、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、
酸化バリウムのうち少なくとも１種類以上を含み、少な
くとも前記保護層形成工程後から前記封着工程までを乾
燥雰囲気中で連続して行うことを特徴とするプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】保護層が酸化マグネシウム、酸化カルシ
ウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち少なく
とも２種類以上の混合物からなることを特徴とする請求
項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】保護層が酸化マグネシウム、酸化カルシ
ウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち少なく
とも２種類以上が積層された構成であることを特徴とす
る請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
法。
【請求項４】保護層の最表面層が、酸化マグネシウム
であることを特徴とする請求項３記載のプラズマディス
プレイパネルの製造方法。
【請求項５】保護層が酸化ストロンチウムと酸化バリ
ウムの混合物からなることを特徴とする請求項１記載の
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】少なくとも蛍光体層を形成した第二プレ
ートを乾燥雰囲気中で加熱する加熱工程を有し、保護層
形成工程後および前記加熱工程から前記封着工程までを
乾燥雰囲気中で連続して行うことを特徴とする請求項１
から５のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル
の製造方法。
【請求項７】第一プレートに保護層を形成する保護層
形成工程と、少なくとも蛍光体層を形成した第二プレー
トに保護層を形成する保護層形成工程と、前記第一プレ
ート面と前記第二プレート面とを対向させて当該二枚の
プレート間を封着する封着工程とを経るプラズマディス
プレイパネルの製造方法であって、前記第一プレートの保護層は、酸化マグネシウムからな
り、前記第二プレートの保護層は、酸化カルシウム、酸
化ストロンチウム、酸化バリウムのうち少なくとも１種
類以上を含み、少なくとも前記第二プレートへの保護層
形成工程後から前記封着工程までを乾燥雰囲気中で連続
して行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネル
の製造方法。
【請求項８】第二プレートの保護層が酸化マグネシウ
ム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウ
ムのうち少なくとも２種類以上の混合物からなることを
特徴とする請求項７記載のプラズマディスプレイパネル
の製造方法。
【請求項９】第二プレートの保護層が酸化マグネシウ
ム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウ
ムのうち少なくとも２種類以上が積層された構成である
ことを特徴とする請求項８記載のプラズマディスプレイ
パネルの製造方法。
【請求項１０】第二プレートの保護層の最表面層が、
酸化マグネシウムであることを特徴とする請求項９記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１１】第二プレートの保護層が酸化ストロン
チウムと酸化バリウムの混合物からなることを特徴とす
る請求項７記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
法。
【請求項１２】少なくとも前記第一および第二プレー
トへの保護層形成工程後から前記封着工程までを乾燥雰
囲気中で連続して行うことを特徴とする請求項７から１
１のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製
造方法。
【請求項１３】第一プレートに保護層を形成する保護
層形成工程と、少なくとも蛍光体層を形成した第二プレ
ートに保護層を形成する保護層形成工程と、前記第一プ
レート面と前記第二プレート面とを対向させて当該二枚
のプレート間を封着する封着工程とを経るプラズマディ
スプレイパネルの製造方法であって、前記第一プレートおよび第一プレートの保護層は、酸化
カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち
少なくとも１種類以上を含み、少なくとも前記第一プレ
ートおよび第二プレートへの保護層形成工程後から前記
封着工程までを乾燥雰囲気中で連続して行うことを特徴
とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】少なくとも第一プレートあるいは第二
プレートのいずれかの保護層が酸化マグネシウム、酸化
カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち
少なくとも２種類以上の混合物からなることを特徴とす
る請求項１３記載のプラズマディスプレイパネルの製造
方法。
【請求項１５】少なくとも第一プレートあるいは第二
プレートのいずれかの保護層が酸化マグネシウム、酸化
カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち
少なくとも２種類以上が積層された構成であることを特
徴とする請求項１３記載のプラズマディスプレイパネル
の製造方法。
【請求項１６】少なくとも第一プレートあるいは第二
プレートのいずれかの保護層の最表面層が、酸化マグネ
シウムであることを特徴とする請求項１５記載のプラズ
マディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１７】少なくとも第一プレートあるいは第二
プレートのいずれかの保護層が酸化ストロンチウムと酸
化バリウムの混合物からなることを特徴とする請求項１
３記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１８】第二プレートの保護層が第一プレート
の保護層よりも薄いことを特徴とする請求項７から１７
のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造
方法。
【請求項１９】第二プレートの保護層が１００ｎｍ以
下の厚さであることを特徴とする請求項７から１８のい
ずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
法。
【請求項２０】少なくとも蛍光体層を形成した第二プ
レートを乾燥雰囲気中で加熱する加熱工程を有し、前記
加熱工程から前記第二プレートへの保護層形成工程まで
を乾燥雰囲気中で連続して行うことを特徴とする請求項
７から１９のいずれかに記載のプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法。
【請求項２１】封着工程から排気工程までを乾燥雰囲
気中で連続して行うことを特徴とする請求項1から２０
のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造
方法。
【請求項２２】前記第二プレートの加熱工程または封
着工程の乾燥雰囲気が、酸素ガスもしくは酸素を含むガ
スであることを特徴とする請求項１から２１のいずれか
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２３】前記乾燥雰囲気中で連続して行う工程
間の雰囲気を、大気圧よりも陽圧の乾燥ガス雰囲気に保
持することを特徴とする請求項１から２２のいずれかに
記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２４】乾燥雰囲気が露点−２０℃以下のガス
雰囲気であることを特徴とする請求項１から２３のいず
れかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２５】一対の平行に配された少なくとも酸化
マグネシウムからなる保護層が形成された第一プレート
と、少なくとも蛍光体層が形成された第二プレートの間
に、ガス媒体が封入された放電空間が形成されたプラズ
マディスプレイパネルであって、前記第二プレートの最表面が保護層で覆われ、前記保護
層は、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリ
ウムのうち少なくとも１種類以上を含むことを特徴とす
るプラズマディスプレイパネル。
【請求項２６】第二プレートの保護層が酸化マグネシ
ウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリ
ウムのうち少なくとも２種類以上の混合物からなること
を特徴とする請求項２５記載のプラズマディスプレイパ
ネル。
【請求項２７】第二プレートの保護層が酸化マグネシ
ウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリ
ウムのうち少なくとも２種類以上が積層された構成であ
ることを特徴とする請求項２５記載のプラズマディスプ
レイパネル。
【請求項２８】第二プレートの保護層の最表面層が、
酸化マグネシウムであることを特徴とする請求項２７記
載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項２９】第二プレートの保護層が酸化ストロン
チウムと酸化バリウムの混合物からなることを特徴とす
る請求項２５記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３０】一対の平行に配された第一プレート
と、少なくとも蛍光体層が形成された第二プレートの間
に、ガス媒体が封入された放電空間が形成されたプラズ
マディスプレイパネルであって、前記第一プレートおよび第二プレートの最表面が保護層
で覆われ、前記保護層は、酸化カルシウム、酸化ストロ
ンチウム、酸化バリウムのうち少なくとも１種類以上を
含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項３１】少なくとも第一プレートあるいは第二
プレートのいずれかの保護層が酸化マグネシウム、酸化
カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち
少なくとも２種類以上の混合物からなることを特徴とす
る請求項３０記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３２】少なくとも第一プレートあるいは第二
プレートのいずれかの保護層が酸化マグネシウム、酸化
カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウムのうち
少なくとも２種類以上が積層された構成であることを特
徴とする請求項３０記載のプラズマディスプレイパネ
ル。
【請求項３３】少なくとも第一プレートあるいは第二
プレートのいずれかの保護層の最表面層が、酸化マグネ
シウムであることを特徴とする請求項３２記載のプラズ
マディスプレイパネル。
【請求項３４】少なくとも第一プレートあるいは第二
プレートのいずれかの保護層が酸化ストロンチウムと酸
化バリウムの混合物からなることを特徴とする請求項３
０記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３５】一対の平行に配された少なくとも保護
層が形成された第一プレートと、少なくとも蛍光体層が
形成された第二プレートの間に、ガス媒体が封入された
放電空間が形成されたプラズマディスプレイパネルであ
って、前記保護層は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸
化ストロンチウム、酸化バリウムのうち少なくとも２種
類以上の混合物からなることを特徴とするプラズマディ
スプレイパネル。
【請求項３６】一対の平行に配された少なくとも保護
層が形成された第一プレートと、少なくとも蛍光体層が
形成された第二プレートの間に、ガス媒体が封入された
放電空間が形成されたプラズマディスプレイパネルであ
って、前記保護層は、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸
化ストロンチウム、酸化バリウムのうち少なくとも２種
類以上が積層された構成であることを特徴とするプラズ
マディスプレイパネル。
【請求項３７】請求項１から２４のいずれかの製造方
法により製造されたことを特徴とするプラズマディスプ
レイパネル。
【請求項３８】第二プレートの保護層が第一プレート
の保護層よりも薄いことを特徴とする請求項２５から３
４または３７のいずれかに記載のプラズマディスプレイ
パネル。
【請求項３９】第二プレートの保護層が１００ｎｍ以
下の厚さであることを特徴とする請求項２５から３４ま
たは３７または３８のいずれかに記載のプラズマディス
プレイパネル。
【請求項４０】プラズマディスプレイパネルと前記プ
ラズマディスプレイパネルを駆動する駆動回路とを備え
たプラズマディスプレイパネル表示装置であって、前記プラズマディスプレイパネルが請求項２５から３９
のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルである
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル表示装
置。