JP2002358897A

JP2002358897A - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法

Info

Publication number: JP2002358897A
Application number: JP2001166586A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Kado; 博行加道
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2001-06-01
Filing date: 2001-06-01
Publication date: 2002-12-13

Abstract

(57)【要約】【課題】低電圧駆動が可能なプラズマディスプレイパ
ネルおよびその製造方法を提供する。【解決手段】第一プレートおよび少なくとも蛍光体層
１０が設けられた第二プレート表面にアルカリ金属（Ｌ
ｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのいずれか）とハロゲン
（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいずれか）の化合物あるいはア
ルカリ金属酸化物からなる保護層５、１３を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、高品質な表示や大画面化などディ
スプレイのさらなる高性能化が要求されるようになり、
種々のディスプレイの開発がなされている。注目される
代表的なディスプレイとしては、ＣＲＴディスプレイ、
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパ
ネル（ＰＤＰ）などが挙げられる。

【０００３】以下では、従来のプラズマディスプレイパ
ネルについて図面を参照しながら説明する。図４は交流
型（ＡＣ型）のプラズマディスプレイパネルの概略を示
す断面図である。

【０００４】図４において、第一プレートは、前面ガラ
ス基板４１上に維持電極および走査電極４２が形成され
ている。さらに、これらの電極４２は、誘電体層４３及
び酸化マグネシウム（ＭｇＯ）保護層４４により覆われ
ている。

【０００５】また、第二プレートは、背面ガラス基板４
５上に、アドレス電極４６および隔壁４７、蛍光体層
（５０〜５２）が設けられており、これら２枚のプレー
トと隔壁４７とで囲まれ、放電ガスが封入された空間そ
れぞれが放電空間となっている。前記蛍光体層はカラー
表示のために、赤５０、緑５１、青５２の３色の蛍光体
層が順に配置されている。上記の各蛍光体層（５０〜５
２）は、放電によって発生する波長の短い真空紫外線
（波長１４７ｎｍ）により励起発光する。

【０００６】蛍光体層５０〜５２を構成する蛍光体とし
ては、一般的に以下の材料が用いられている。

【０００７】「青色蛍光体」：ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅ
ｕ「緑色蛍光体」：Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：ＭｎまたはＢａＡｌ₁₂
Ｏ₁₉：Ｍｎ「赤色蛍光体」：Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕまたは（Ｙ_xＧｄ_1-x）Ｂ
Ｏ₃：Ｅｕこの２枚のガラス基板間の放電空間にはＮｅ−Ｘｅ等の
混合ガスを封入し、放電により発生する波長の短い真空
紫外光（１４７ｎｍ）によって蛍光体層（５０〜５２）
が励起され、Ｒ、Ｇ、Ｂの可視光を前面ガラス基板側か
ら発することによりカラー表示を行っている。

【０００８】ＰＤＰの動作電圧は、保護層に依存する。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ＰＤＰの保護層として
は従来酸化マグネシウムが用いられていたが、消費電力
を下げるためには、さらに低電圧化する必要がある。

【００１０】以上のように低電圧駆動が可能なＰＤＰを
製造し、これを得るためには、いまだ多くの改良の余地
がみられる。

【００１１】本発明は上記課題に鑑みてなされたもので
あって、その目的は、低電圧駆動可能な保護層を備える
優れた発光効率のＰＤＰおよびその製造方法を提供する
ことにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法
は、第一プレートに保護層を形成する保護層形成工程
と、前記第一プレート面と、少なくとも蛍光体層を形成
した第二プレート面とを対向させて当該二枚のプレート
間を封着する封着工程とを経るプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法であって、前記保護層は、アルカリ金属
とハロゲンの化合物あるいはアルカリ金属酸化物からな
り、少なくとも前記保護層形成工程後から前記封着工程
までを乾燥雰囲気中で連続して行うことを特徴とする。

【００１３】前記構成において、少なくとも蛍光体層を
形成した第二プレートを乾燥雰囲気中で加熱する加熱工
程を有し、保護層形成工程後および前記加熱工程から前
記封着工程までを乾燥雰囲気中で連続して行うことが好
ましい。

【００１４】また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法は、第一プレートに保護層を形成する保護
層形成工程と、少なくとも蛍光体層を形成した第二プレ
ートに保護層を形成する保護層形成工程と、前記第一プ
レート面と前記第二プレート面とを対向させて当該二枚
のプレート間を封着する封着工程とを経るプラズマディ
スプレイパネルの製造方法であって、前記第一プレート
の保護層は、酸化マグネシウムからなり、前記第二プレ
ートの保護層は、アルカリ金属とハロゲンの化合物ある
いはアルカリ金属酸化物からなり、少なくとも前記第二
プレートへの保護層形成工程後から前記封着工程までを
乾燥雰囲気中で連続して行うことを特徴とする。

【００１５】前記構成において、少なくとも前記第一お
よび第二プレートへの保護層形成工程後から前記封着工
程までを乾燥雰囲気中で連続して行うことが好ましい。

【００１６】また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法は、第一プレートに保護層を形成する保護
層形成工程と、少なくとも蛍光体層を形成した第二プレ
ートに保護層を形成する保護層形成工程と、前記第一プ
レート面と前記第二プレート面とを対向させて当該二枚
のプレート間を封着する封着工程とを経るプラズマディ
スプレイパネルの製造方法であって、前記第一プレート
および第二プレートの保護層は、アルカリ金属とハロゲ
ンの化合物あるいはアルカリ金属酸化物からなり、少な
くとも前記第一プレートおよび第二プレートへの保護層
形成工程後から前記封着工程までを乾燥雰囲気中で連続
して行うことを特徴とする。

【００１７】前記構成において、第二プレートの保護層
が第一プレートの保護層よりも薄いことが好ましい。

【００１８】また、第二プレートの保護層が１００ｎｍ
以下の厚さであることが好ましい。

【００１９】さらに、少なくとも蛍光体層を形成した第
二プレートを乾燥雰囲気中で加熱する加熱工程を有し、
前記加熱工程から前記第二プレートへの保護層形成工程
までを乾燥雰囲気中で連続して行うことが好ましい。

【００２０】さらに、封着工程から排気工程までを乾燥
雰囲気中で連続して行うことが好ましい。

【００２１】さらに、前記第二プレートの加熱工程また
は封着工程の乾燥雰囲気が、酸素ガスもしくは酸素を含
むガスであることが好ましい。

【００２２】さらに、前記乾燥雰囲気中で連続して行う
工程間の雰囲気を、大気圧よりも陽圧の乾燥ガス雰囲気
に保持することが好ましい。

【００２３】さらに、乾燥雰囲気が露点−２０℃以下の
ガス雰囲気であることが好ましい。

【００２４】また、上記課題を解決するために、本発明
のプラズマディスプレイパネルは、少なくとも酸化マグ
ネシウムからなる保護層が形成された第一プレートと、
少なくとも蛍光体層が形成された第二プレートとが互い
に対向して配され、該プレートの間に、ガス媒体が封入
された放電空間が形成されたプラズマディスプレイパネ
ルであって、前記第二プレートの最表面が保護層で覆わ
れ、前記保護層は、アルカリ金属とハロゲンの化合物あ
るいはアルカリ金属酸化物からなることを特徴とする。

【００２５】また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルは、第一プレートと、少なくとも蛍光体層が形成され
た第二プレートとが互いに対向して配され、該プレート
の間に、ガス媒体が封入された放電空間が形成されたプ
ラズマディスプレイパネルであって、前記第一プレート
および第二プレートの最表面が保護層で覆われ、前記保
護層は、アルカリ金属とハロゲンの化合物あるいはアル
カリ金属酸化物からなることを特徴とする。

【００２６】さらに、本発明のプラズマディスプレイパ
ネルは、少なくとも保護層が形成された第一プレート
と、少なくとも蛍光体層が形成された第二プレートとが
互いに対向して配され、該プレートの間に、ガス媒体が
封入された放電空間が形成されたプラズマディスプレイ
パネルであって、前記保護層は、アルカリ金属とハロゲ
ンの化合物あるいはアルカリ金属酸化物からなることを
特徴とする。

【００２７】さらに、本発明のプラズマディスプレイパ
ネルは、前記いずれかの製造方法により製造されたこと
を特徴とする。

【００２８】さらに、これらの構成において、第二プレ
ートの保護層が第一プレートの保護層よりも薄いことが
好ましい。

【００２９】さらに、第二プレートの保護層が１００ｎ
ｍ以下の厚さであることが好ましい。

【００３０】さらに、本発明のプラズマディスプレイ表
示装置は、前記プラズマディスプレイパネルと前記プラ
ズマディスプレイパネルを駆動する駆動回路とを備えた
プラズマディスプレイパネル表示装置であることを特徴
とする。

【００３１】

【発明の実施の形態】（ＰＤＰの構成）図１は、本発明
の実施の形態に係る交流面放電型プラズマディスプレイ
パネル（以下単に「ＰＤＰ」という）の主要構成を示す
部分的な断面斜視図である。

【００３２】図１に示すように、ＰＤＰの構成は互いに
主面を対向させて配設された第一プレートおよび第二プ
レートに大別される。

【００３３】第一プレートの基板となる前面ガラス基板
１には、その一方の主面に帯状の電極が積層され、複数
対の表示電極２、３（維持電極２、走査電極３）が形成
されている。

【００３４】表示電極２，３を配設した前面ガラス基板
１には、当該ガラスの主面全体にわたって誘電体層４と
アルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのいずれ
か）とハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいずれか）の化
合物あるいはアルカリ金属酸化物からなる保護層５が順
次形成されている。

【００３５】第二プレートの基板となる背面ガラス基板
６には、その一方の主面に複数のアドレス電極７が一定
間隔毎にストライプ状に並設され、このアドレス電極７
を内包するように背面ガラス基板６の全面にわたって誘
電体層８が形成されている。誘電体層８の上には、さら
に隣接するアドレス電極７の間隙に合わせて隔壁９が配
設され、そして隣接する2つの隔壁９の側面とその間の
誘電体層８の面上には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色
（Ｂ）のそれぞれに対応する蛍光体層１０〜１２が形成
されている。

【００３６】さらに、この蛍光体層１０〜１２を内包す
るように背面ガラス基板６の全面にわたってアルカリ金
属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのいずれか）とハロゲ
ン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいずれか）の化合物あるいは
アルカリ金属酸化物からなる保護層１３が形成されてい
る。

【００３７】このような構成を有する第一プレートと第
二プレートは、アドレス電極７と表示電極２，３の互い
の長手方向が直交するように対向させながら、両プレー
トの外周縁部をガラスフリットで封着されている。この
両プレート間にはＨｅ、Ｘｅ、Ｎｅなどの希ガス成分か
らなる放電ガス（封入ガス）が所定の圧力（通常５００
〜６００Ｔｏｒｒ（６６．５〜７９．８ｋＰａ）程度）
で封入されている。

【００３８】（ＰＤＰの動作）このＰＤＰを駆動する時
には不図示のパネル駆動部によって、アドレス（走査）
電極７と表示電極２，３にパルスを印加して書き込み放
電（アドレス放電）を行った後、各対の表示電極２，３
にパルスを印加する。これによりアドレス放電がなされ
た当該表示電極２，３の間隙で放電が開始される。そし
て放電空間において維持放電がなされ、画面表示が行わ
れる。

【００３９】ここで、本実施の形態の主な特徴は、アル
カリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのいずれか）と
ハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいずれか）の化合物あ
るいはアルカリ金属酸化物からなる保護層５および保護
層１３と、この構成を有するＰＤＰの製造方法にある。

【００４０】ＰＤＰの動作時には、第一プレートおよび
第二プレートの最表面がアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、
Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのいずれか）とハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂ
ｒ、Ｉのいずれか）の化合物あるいはアルカリ金属酸化
物からなる保護層により、従来に比べてアドレス電圧、
維持電圧ともに低電圧駆動が可能なＰＤＰが得られる。

【００４１】（ＰＤＰの製造方法）本実施の形態のＰＤ
Ｐの製造工程図を図２に示す。

【００４２】本実施の形態のＰＤＰの製造方法は、誘電
体まで形成された前面ガラス基板にアルカリ金属（Ｌ
ｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのいずれか）とハロゲン
（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいずれか）の化合物あるいはア
ルカリ金属酸化物からなる保護層を形成する前面基板保
護層形成工程、蛍光体層および封着用フリット（フリッ
ト焼成済み）まで形成された背面ガラス基板にアルカリ
金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのいずれか）とハロ
ゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいずれか）の化合物あるい
はアルカリ金属酸化物からなる保護層を形成する背面基
板保護層形成工程、これらの基板を位置合わせするアラ
イメント工程、その後に封着する封着工程、封着後のパ
ネル内を排気し放電ガスを封入する排気工程からなり、
これらの製造工程（搬送を含む）をドライガス供給装置
を用い、乾燥雰囲気中で連続して行うものとした。

【００４３】アルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃ
ｓのいずれか）とハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいず
れか）の化合物あるいはアルカリ金属酸化物からなる保
護層は蒸着法により形成したが、蒸着法の代わりに公知
のスパッタ法やＣＶＤ法によっても保護層を形成するこ
ともできる。

【００４４】なお、保護層形成工程以外は、ある程度の
密閉性を持たせた室内に、ドライガスを導入し、内部を
大気圧よりも陽圧のドライガス雰囲気に保持すること
で、比較的簡易な装置でドライガス雰囲気を実現するこ
とができた。

【００４５】アルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃ
ｓのいずれか）とハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいず
れか）の化合物あるいはアルカリ金属酸化物からなる保
護層には吸水性あるいは水と反応しやすく、雰囲気中の
水分が多いと水酸化物などに変質することがある。これ
は保護層としての機能を低下させる原因（具体的には、
放電遅れの悪化や放電電圧の上昇による消費電力の増加
などの原因）となる。また保護層中に取り込まれた水分
は、封着工程ののちに蛍光体層へ移動し、これを変性さ
せて表示性能の低下を招くことがある。

【００４６】そこで、上記のように乾燥雰囲気で各工程
を行い、保護層に水分が含まれるのを抑制するものとし
た。これによって、水分の吸収を回避して純度よく形成
された保護層により、ＰＤＰの動作時には蛍光体層の変
性を防止しつつ、従来に比べてアドレス電圧、維持電圧
ともに低電圧駆動が可能で、いっそう優れた表示性能が
発揮されることとなる。

【００４７】なお、上記実施の形態では、保護層の形成
方法としてスパッタリング、蒸着、あるいはＣＶＤの例
を示したが、本発明はこれに限定するものではなく、印
刷法、ダイコート法、ゾルゲル法、ＣＭＤ法などを用い
てもよい。ただし、これらの方法でも前述したドライガ
ス雰囲気を用いる必要があることは言うまでもない。

【００４８】また、第二プレートに厚い保護層を形成し
た場合、蛍光体を励起するための真空紫外線が十分に蛍
光体まで透過することが困難になる。従って、第二プレ
ートに形成された保護層は、第一プレートに形成された
保護層よりも薄くすることが好ましく、また透過率をあ
げるために１００ｎｍ以下にすることが好ましい。

【００４９】さらに、蛍光体層を形成した第二プレート
に保護層を形成する場合、あらかじめそれまでに付着し
た水分を除去するために、保護層形成工程の前に、第二
プレートをドライガス雰囲気中で加熱する加熱工程を経
ることで、さらに良好な保護層が形成された。ただし、
この工程から保護層形成工程までの間をドライガス雰囲
気中で連続して行う必要があることは言うまでもない。

【００５０】また、本実施の形態では封着工程後、排気
工程を経たが、封着と排気を連続して行うことも可能で
ある。

【００５１】また、乾燥雰囲気を実現するためのドライ
ガスとしては、空気、酸素、窒素等を用いることが可能
であるが、露点−２０℃以下のガスが望ましく、−４０
℃以下がさらに望ましい。

【００５２】さらに、第二プレートの加熱工程または封
着工程で用いるドライガスとしては、酸素ガスもしくは
酸素を含むガスであることが望ましい。これは、ＰＤＰ
用蛍光体として酸化物蛍光体が多く、無酸素雰囲気で加
熱すると酸素欠損等を生じ劣化する可能性があるためで
ある。

【００５３】（実施の形態の変形例１）本実施の形態で
は、第一プレートおよび第二プレートの両プレートにア
ルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのいずれか）
とハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいずれか）の化合物
あるいはアルカリ金属酸化物からなる保護層を形成した
が、第二プレート最表面は従来通り蛍光体層とし、第一
プレート最表面のみにアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、
Ｒｂ、Ｃｓのいずれか）とハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、
Ｉのいずれか）の化合物あるいはアルカリ金属酸化物か
らなる保護層を設けても良い。

【００５４】この場合でも、低減幅は小さいが、駆動電
圧低減効果が得られた。

【００５５】このＰＤＰの製造方法においても、第一プ
レートのアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓの
いずれか）とハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいずれ
か）の化合物あるいはアルカリ金属酸化物からなる保護
層を安定に保持するために、前記保護層形成工程後から
封着工程までを乾燥雰囲気中で連続して行う必要がある
ことは言うまでもない。

【００５６】さらに、蛍光体層を形成した第二プレート
を第一プレートと対向させ封着する前に、あらかじめそ
れまでに付着した水分を除去するために、第二プレート
を乾燥雰囲気中で加熱する加熱工程を経ることで、さら
に安定したプロセスが実現した。ただし、この加熱工程
から封着工程までの間を乾燥雰囲気中で連続して行う必
要があることは言うまでもない。

【００５７】（実施の形態の変形例２）本実施の形態で
は、第一プレートおよび第二プレートのアルカリ金属
（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのいずれか）とハロゲン
（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいずれか）の化合物あるいはア
ルカリ金属酸化物からなる保護層を形成したが、第一プ
レート最表面は従来通り酸化マグネシウムからなる保護
層とし、第二プレート最表面のみにアルカリ金属（Ｌ
ｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのいずれか）とハロゲン
（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいずれか）の化合物あるいはア
ルカリ金属酸化物からなる保護層を設けても良い。

【００５８】アルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃ
ｓのいずれか）とハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいず
れか）の化合物あるいはアルカリ金属酸化物からなる保
護層は、放電中の陽イオンによるスパッタに対しては、
酸化マグネシウムよりも弱いという欠点を有し、これら
の材料を保護層として用いた場合、ＰＤＰの寿命面で不
利な状況となる。

【００５９】したがって、実施の形態の変形例２のよう
に、ＰＤＰの駆動中に陽イオンによる衝撃が頻繁に起こ
るので、第一プレート側は、従来通り酸化マグネシウム
を用いた保護層を設け、陽イオンによる衝撃が小さい第
二プレート側にのみ、アルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、
Ｒｂ、Ｃｓのいずれか）とハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、
Ｉのいずれか）の化合物あるいはアルカリ金属酸化物か
らなる保護層を設けた構成とすることで、寿命の問題も
なく、かつ低電圧駆動が可能なＰＤＰを実現することが
できた。

【００６０】このＰＤＰの製造方法においても、第二プ
レートのアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓの
いずれか）とハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいずれ
か）の化合物あるいはアルカリ金属酸化物からなる保護
層を安定に保持するために、前記保護層形成工程後から
封着工程までを乾燥雰囲気中で連続して行う必要がある
ことは言うまでもない。

【００６１】また、第一プレートの酸化マグネシウムか
らなる保護層の形成工程後も、第二プレート保護層形成
後と同様に、乾燥雰囲気中で保つことで、さらに安定し
たプロセスを実現できた。

【００６２】さらに、蛍光体層を形成した第二プレート
に保護層を形成する場合、あらかじめそれまでに付着し
た水分を除去するために、保護層形成工程の前に、第二
プレートを乾燥雰囲気中で加熱する加熱工程を経ること
で、さらに良好な保護層が形成された。ただし、この工
程から保護層形成工程までの間をドライガス雰囲気中で
連続して行う必要があることは言うまでもない。

【００６３】なお、ＰＤＰの駆動時には、図３に示すよ
うに、ＰＤＰに各ドライバ及びパネル駆動回路９０を接
続して、点灯させようとするセルの走査電極９１ａとア
ドレス電極９２間に印加してアドレス放電を行った後
に、表示電極９１ａ，９１ｂ間にパルス電圧を印加して
維持放電を行う。そして、当該セルで放電に伴って紫外
線を発光し、蛍光体層で可視光に変換する。このように
してセルが点灯することによって、画像が表示される。

【００６４】

【実施例】本発明の効果を検証するために、前記実施の
形態に基づいて幾つかの構成の保護層を形成したＰＤＰ
を作製し、従来のＰＤＰと比較した。

【００６５】パネルは４２”サイズである。隔壁の高さ
は０．１ｍｍ、隔壁の間隔は０．３６ｍｍに設定した。
また、蛍光体材料としては「青色蛍光体」：ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ「緑色蛍光体」：Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ「赤色蛍光体」：（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ₃：Ｅｕを用いた。

【００６６】アルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃ
ｓのいずれか）とハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいず
れか）の化合物あるいはアルカリ金属酸化物からなる保
護層および酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層
は、電子ビーム蒸着により作製し、第一プレート側は厚
さ５００ｎｍ、第二プレート側は厚さ５０ｎｍとした。

【００６７】封入する放電ガスの組成は、５％キセノン
（Ｘｅ）ガスを含むネオン（Ｎｅ）ガスを放電ガスとし
て５００Ｔｏｒｒ（６６．５ｋＰａ）封入した。

【００６８】表１に本実施例のＰＤＰを駆動可能とする
ためのアドレス電圧および維持電圧の測定結果を示す。

【００６９】

【表１】

【００７０】パネルＮｏ．１から４は本実施の形態の構
成のパネルである。また、パネルＮｏ．５は従来の構成
を用いた比較例である。

【００７１】本実施の形態の保護層構成にすることで、
アドレス電圧および維持電圧の低減することが可能とな
った。

【００７２】なお、保護層材料としては、以上の実施例
以外のアルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓのい
ずれか）とハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいずれか）
の化合物あるいはアルカリ金属酸化物を同様に電圧低減
効果が得られた。

【００７３】さらに、以上の実施例においては、面放電
型のＰＤＰを例示したが、対向放電型のＰＤＰなど、保
護層が必要なＰＤＰすべてに適用することができる。

【００７４】

【発明の効果】以上のことから明らかなように、本発明
によれば、アルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ
のいずれか）とハロゲン（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉのいずれ
か）の化合物あるいはアルカリ金属酸化物からなる保護
層を安定に形成することが可能となり、これらの保護層
を備えたＰＤＰにより、アドレス電圧、維持電圧ともに
低電圧化を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施の形態におけるＰＤＰの主要構成図

【図２】実施の形態におけるＰＤＰの製造工程を示す図

【図３】本実施の形態のＰＤＰに駆動回路を接続したＰ
ＤＰ表示装置を示す図

【図４】従来の交流面放電型プラズマディスプレイパネ
ルの概略断面図

【符号の説明】

１前面ガラス基板２維持電極３走査電極４誘電体層５保護層６背面ガラス基板７アドレス電極８誘電体層９隔壁１０蛍光体層（Ｒ）１１蛍光体層（Ｇ）１２蛍光体層（Ｂ）１３保護層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】第一プレートに保護層を形成する保護層
形成工程と、前記第一プレート面と、少なくとも蛍光体
層を形成した第二プレート面とを対向させて当該二枚の
プレート間を封着する封着工程とを経るプラズマディス
プレイパネルの製造方法であって、前記保護層は、アルカリ金属とハロゲンの化合物あるい
はアルカリ金属酸化物からなり、少なくとも前記保護層
形成工程後から前記封着工程までを乾燥雰囲気中で連続
して行うことを特徴とするプラズマディスプレイパネル
の製造方法。
【請求項２】少なくとも蛍光体層を形成した第二プレ
ートを乾燥雰囲気中で加熱する加熱工程を有し、保護層
形成工程後および前記加熱工程から前記封着工程までを
乾燥雰囲気中で連続して行うことを特徴とする請求項１
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】第一プレートに保護層を形成する保護層
形成工程と、少なくとも蛍光体層を形成した第二プレー
トに保護層を形成する保護層形成工程と、前記第一プレ
ート面と前記第二プレート面とを対向させて当該二枚の
プレート間を封着する封着工程とを経るプラズマディス
プレイパネルの製造方法であって、前記第一プレートの保護層は、酸化マグネシウムからな
り、前記第二プレートの保護層は、アルカリ金属とハロ
ゲンの化合物あるいはアルカリ金属酸化物からなり、少
なくとも前記第二プレートへの保護層形成工程後から前
記封着工程までを乾燥雰囲気中で連続して行うことを特
徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】少なくとも前記第一および第二プレート
への保護層形成工程後から前記封着工程までを乾燥雰囲
気中で連続して行うことを特徴とする請求項３に記載の
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】第一プレートに保護層を形成する保護層
形成工程と、少なくとも蛍光体層を形成した第二プレー
トに保護層を形成する保護層形成工程と、前記第一プレ
ート面と前記第二プレート面とを対向させて当該二枚の
プレート間を封着する封着工程とを経るプラズマディス
プレイパネルの製造方法であって、前記第一プレートおよび第二プレートの保護層は、アル
カリ金属とハロゲンの化合物あるいはアルカリ金属酸化
物からなり、少なくとも前記第一プレートおよび第二プ
レートへの保護層形成工程後から前記封着工程までを乾
燥雰囲気中で連続して行うことを特徴とするプラズマデ
ィスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】第二プレートの保護層が第一プレートの
保護層よりも薄いことを特徴とする請求項５に記載のプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】第二プレートの保護層が１００ｎｍ以下
の厚さであることを特徴とする請求項５または６に記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】少なくとも蛍光体層を形成した第二プレ
ートを乾燥雰囲気中で加熱する加熱工程を有し、前記加
熱工程から前記第二プレートへの保護層形成工程までを
乾燥雰囲気中で連続して行うことを特徴とする請求項５
から７のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル
の製造方法。
【請求項９】封着工程から排気工程までを乾燥雰囲気
中で連続して行うことを特徴とする請求項１から８のい
ずれかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
法。
【請求項１０】前記第二プレートの加熱工程または封
着工程の乾燥雰囲気が、酸素ガスもしくは酸素を含むガ
スであることを特徴とする請求項１から９のいずれかに
記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１１】前記乾燥雰囲気中で連続して行う工程
間の雰囲気を、大気圧よりも陽圧の乾燥ガス雰囲気に保
持することを特徴とする請求項１から１０のいずれかに
記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１２】乾燥雰囲気が露点−２０℃以下のガス
雰囲気であることを特徴とする請求項１から１１のいず
れかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１３】少なくとも酸化マグネシウムからなる
保護層が形成された第一プレートと、少なくとも蛍光体
層が形成された第二プレートとが互いに対向して配さ
れ、該プレートの間に、ガス媒体が封入された放電空間
が形成されたプラズマディスプレイパネルであって、前記第二プレートの最表面が保護層で覆われ、前記保護
層は、アルカリ金属とハロゲンの化合物あるいはアルカ
リ金属酸化物からなることを特徴とするプラズマディス
プレイパネル。
【請求項１４】第一プレートと、少なくとも蛍光体層
が形成された第二プレートとが互いに対向して配され、
該プレートの間に、ガス媒体が封入された放電空間が形
成されたプラズマディスプレイパネルであって、前記第一プレートおよび第二プレートの最表面が保護層
で覆われ、前記保護層は、アルカリ金属とハロゲンの化
合物あるいはアルカリ金属酸化物からなることを特徴と
するプラズマディスプレイパネル。
【請求項１５】少なくとも保護層が形成された第一プ
レートと、少なくとも蛍光体層が形成された第二プレー
トとが互いに対向して配され、該プレートの間に、ガス
媒体が封入された放電空間が形成されたプラズマディス
プレイパネルであって、前記保護層は、アルカリ金属とハロゲンの化合物あるい
はアルカリ金属酸化物からなることを特徴とするプラズ
マディスプレイパネル。
【請求項１６】請求項１から１２のいずれかの製造方
法により製造されたことを特徴とするプラズマディスプ
レイパネル。
【請求項１７】第二プレートの保護層が第一プレート
の保護層よりも薄いことを特徴とする請求項１３から１
４または１６のいずれかに記載のプラズマディスプレイ
パネル。
【請求項１８】第二プレートの保護層が１００ｎｍ以
下の厚さであることを特徴とする請求項１３から１４ま
たは１６または１７のいずれかに記載のプラズマディス
プレイパネル。
【請求項１９】プラズマディスプレイパネルと前記プ
ラズマディスプレイパネルを駆動する駆動回路とを備え
たプラズマディスプレイパネル表示装置であって、前記プラズマディスプレイパネルが請求項１３から１８
のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネルである
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル表示装
置。