WO2006048982A1 - 気密封止用キャップ、気密封止用キャップの製造方法および電子部品収納用パッケージ - Google Patents

気密封止用キャップ、気密封止用キャップの製造方法および電子部品収納用パッケージ Download PDF

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WO2006048982A1
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sealing cap
hermetic sealing
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Masaharu Yamamoto
Kenji Takano
Junji Hira
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Neomax Materials Co., Ltd.
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Definitions

  • Hermetic sealing cap manufacturing method of hermetic sealing cap, and electronic component storage package
  • the present invention relates to a hermetic sealing cap, a method for manufacturing a hermetic sealing cap, and an electronic component storage package, and more particularly to a hermetic sealing cap used for storing electronic components, and hermetic sealing.
  • the present invention relates to a cap manufacturing method and an electronic component storage package.
  • SMD Surface Mount Device
  • SAW surface acoustic wave filters
  • crystal resonators used for noise removal of mobile phones.
  • Such an electronic component storage package includes an electronic component storage member (case) on which the electronic component is mounted and an airtight cap for hermetically sealing the electronic component storage member.
  • the hermetic sealing cap is joined to the electronic component housing member via the solder layer when heated. Thereafter, the electronic component package is attached to a printed wiring board such as an electronic device by being heated again.
  • an Au—Sn alloy (Sn: about 20 mass%) is used so that the sealing portion of the hermetic sealing cap does not melt.
  • High melting point solder mainly composed of precious metals such as high melting point solder and Sn-Pb alloy power are used.
  • high melting point solder with Au-Sn alloy strength is very expensive, and high melting point solder with Sn-Pb alloy strength contains Pb, so it should not be used from an environmental point of view. U prefer.
  • a Ni-based metal layer is disposed on the upper surface of the core (base material), and a Ni alloy layer and a brazing material layer (diffusing into the brazing material layer when hermetic sealing is performed on the lower surface (A)
  • An electronic component package using a lid (a hermetic sealing cap) that is integrally formed by stacking the solder layers in this order and then pressing and bonding the four-layer materials is disclosed.
  • the Ni alloy layer diffuses into the brazing filler metal layer during hermetic sealing, and an intermetallic compound is formed in the brazing filler metal layer.
  • a four-layer material including a brazing material layer is integrally formed by press-contacting, so that the brazing material layer is an electronic component package. It is arranged so as to cover the upper surface of the electronic component arranged inside. For this reason, when the lid is hermetically sealed, the characteristics of the electronic component may deteriorate due to the brazing material layer being scattered on the electronic component.
  • a Ni alloy layer is formed on the lower surface of the base material, and a solder layer is formed only on the sealing portion on the lower surface of the Ni alloy layer It is conceivable to form.
  • the solder layer is diffused by disposing the solder paste on the lower surface of the Ni alloy layer and then melting the solder paste. Is generally formed.
  • the present invention has been made to solve the above-described problems, and one object of the present invention is to suppress the deterioration of the characteristics of the electronic component and reduce the material cost.
  • Caps for hermetic sealing that can use solder that does not contain Pb and that can suppress a decrease in hermeticity, a method for manufacturing a cap for hermetic sealing, a knock box for storing electronic components, and
  • An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an electronic component storage package.
  • a hermetic sealing cap provides a hermetic sealing used for an electronic component storage package including an electronic component storage member for storing an electronic component.
  • the second layer includes the first layer. When the solder layer is joined to the electronic component housing member at a second temperature higher than the first temperature, the first layer is attached to the second layer. And has a function of diffusing into the solder layer.
  • the second layer is configured to suppress the first layer from diffusing into the solder layer at the first temperature.
  • the hermetic sealing cap is heated to the second temperature higher than the first temperature to join the electronic component storage member via the solder layer, the solder layer with respect to the electronic component storage member is Since the wettability can be prevented from being lowered, the airtightness of the electronic component storage package can be prevented from being lowered.
  • the solder layer is disposed inside the electronic component storage package. Since it is possible to prevent the upper surface of the component from being covered, it is possible to suppress the solder layer from being scattered on the electronic component when the hermetic sealing cap is joined to the electronic component storage member. Thereby, it can suppress that the characteristic of an electronic component deteriorates.
  • the second layer is joined to the electronic component housing member at the second temperature where the solder layer is higher than the first temperature, the first layer is diffused to the solder layer via the second layer. By making it function, an intermetallic compound can be formed in the solder layer.
  • the melting point of the solder layer can be increased.
  • the solder layer melts due to the high temperature of the electronic component storage package and the high temperature of the solder layer. It can be suppressed.
  • the first temperature is a temperature at which the solder layer is formed by melting the solder paste
  • the second temperature is This is the temperature at which the hermetic sealing cap is joined to the electronic component housing member by melting the solder layer.
  • the second layer is made of Ni.
  • the second layer of N can easily prevent the first layer from diffusing into the solder layer.
  • the second layer has a thickness of 0.03 111 or more and 0.075 m or less.
  • the first layer contains 7.5% by mass to 20% by mass of Co as a diffusion promoting material.
  • the first layer when the solder layer is bonded to the electronic component housing member at the second temperature higher than the first temperature, the first layer is sufficiently connected to the solder layer via the second layer. Since it can be diffused, it is enough for the solder layer An amount of intermetallic compound can be formed.
  • the base material is formed of a Fe—Ni—Co-based alloy. If comprised in this way, since the thermal expansion coefficient of a base material can be made small, the thermal expansion coefficient of the cap for airtight sealing can be made small. This makes it possible to reduce the difference in thermal expansion coefficient between the hermetic sealing cap and the electronic component storage member when the electronic component storage member is formed of a thermal expansion coefficient force such as ceramic or a dice material. In addition, it is possible to suppress the occurrence of cracks and cracks at the joint between the hermetic sealing cap and the electronic component housing member at high temperatures.
  • the first layer and the second layer are formed by plating. With this configuration, the first layer and the second layer can be easily formed.
  • the first layer is preferably formed on the entire surface of the substrate.
  • the second layer is formed on the entire surface of the first layer. If comprised in this way, the 1st layer and the 2nd layer can be more easily formed by plating.
  • the solder layer does not contain Pb and contains Ag. Even when using low-melting-point solder that does not contain Pb and has Sn-Ag force, the melting point of the solder layer is high when the hermetic sealing cap and the electronic component storage member are joined. Thus, when the electronic component storage package is attached to a printed wiring board such as an electronic device, the solder layer can be prevented from melting.
  • An electronic component storage package is an electronic component storage package including an electronic component storage member for storing an electronic component.
  • a third layer is formed in the electronic component housing member corresponding to the solder layer, and the solder layer and the third layer are joined to each other. At the same time, an intermetallic compound containing Sn of the solder layer is formed at the joint between the hermetic sealing cap and the electronic component housing member.
  • the second layer is suppressed from diffusing the first layer into the solder layer at the first temperature.
  • the hermetic sealing cap is heated to a second temperature higher than the first temperature to join the electronic component storage member via the solder layer, the wettability of the solder layer to the electronic component storage member Therefore, it is possible to prevent the airtightness of the electronic component storage package from being lowered.
  • the solder layer is disposed inside the electronic component storage package. Since it is possible to suppress covering the upper surface of the electronic component, it is possible to suppress the solder layer from being scattered on the electronic component when the hermetic sealing cap is joined to the electronic component storage member. Thereby, it can suppress that the characteristic of an electronic component deteriorates.
  • the second layer is joined to the electronic component housing member at the second temperature where the solder layer is higher than the first temperature, the first layer is diffused to the solder layer via the second layer.
  • an intermetallic compound can be formed in the solder layer, so that the melting point of the solder layer can be increased.
  • the solder layer melts due to the high temperature of the electronic component storage package and the high temperature of the solder layer. Can be suppressed.
  • there is no need to use an expensive Au—Sn alloy or Sn—Pb alloy high melting point solder so that the material cost can be reduced and solder containing no Pb is used. be able to.
  • the joint portion between the hermetic sealing cap and the electronic component storage member includes an intermetallic compound having Ni—Sn-based alloy force, Second layer corresponding to the joint between the sealing cap and the electronic component housing member This part is diffused in the intermetallic compound.
  • the first layer can be easily diffused into the solder layer via the second layer.
  • a method for manufacturing an airtight sealing cap is a method for manufacturing an airtight sealing cap used in an electronic component storage package including an electronic component storage member for storing an electronic component.
  • the solder layer When the solder layer is formed at the first temperature, the first layer is prevented from diffusing into the solder layer, and the solder layer is connected to the electronic component housing member at the second temperature higher than the first temperature.
  • a second layer having a function of diffusing the first layer to the solder layer through the second layer is formed. Including a process.
  • the step of forming the second layer includes the step of forming the solder layer at the first temperature.
  • the step of forming the second layer having a function of suppressing the diffusion of the first layer into the solder layer, it is possible to prevent an intermetallic compound from being formed in the solder layer at the first temperature. Since it can suppress, it can suppress that melting
  • the solder layer with respect to the electronic component storage member is Since the wettability can be prevented from being lowered, the airtightness of the electronic component storage package can be prevented from being lowered.
  • the solder layer is disposed inside the electronic component housing package. Since it is possible to prevent the upper surface of the component from being covered, it is possible to suppress the solder layer from being scattered on the electronic component when the hermetic sealing cap is joined to the electronic component storage member.
  • the second layer is joined to the electronic component housing member at a second temperature at which the solder layer is higher than the first temperature
  • the first layer is diffused to the solder layer through the second layer. It is possible to form an intermetallic compound in the solder layer.
  • the melting point of the solder layer can be increased.
  • the solder layer is prevented from melting due to the high temperature of the electronic component storage package and the high temperature of the solder layer. can do.
  • there is no need to use a high melting point solder such as an expensive Au—Sn alloy or Sn—Pb alloy alloy, so that the material cost can be reduced and solder containing no Pb is used. be able to.
  • the step of forming the solder layer includes Sn in the region where the electronic component housing member on the surface of the second layer is joined. And a step of forming a solder layer mainly composed of Sn by melting the solder paste at a first temperature.
  • the second layer is made of Ni. According to this configuration, the second layer that is also N can easily suppress the first layer from diffusing into the solder layer.
  • the second layer has a thickness of 0.03 ⁇ m or more and 0.075 ⁇ m or less.
  • the second layer which is also N, easily suppresses the first layer from diffusing into the solder layer at the first temperature, and the solder layer is higher than the first temperature.
  • the first layer can be formed so as to have a function of diffusing the solder layer through the second layer.
  • the first layer contains 7.5% by mass to 20% by mass of Co as a diffusion promoting material.
  • the base material is formed of an Fe-Ni-Co-based alloy. If comprised in this way, the thermal expansion of a base material will be carried out. Since the tension coefficient can be reduced, the thermal expansion coefficient of the hermetic sealing cap can be reduced. As a result, when the electronic component storage member is formed of a thermal expansion coefficient force such as ceramic or a material, the difference in thermal expansion coefficient between the hermetic sealing cap and the electronic component storage member can be reduced. It is possible to suppress the occurrence of cracks and cracks at the joint between the hermetic sealing cap and the electronic component housing member.
  • the step of forming the first layer includes a step of forming the first layer by plating
  • the forming step includes a step of forming the second layer by plating.
  • the step of forming the first layer includes a step of forming the first layer by plating
  • the step of forming the second layer includes a step of forming the second layer by plating.
  • the step of forming the first layer by plating includes the step of forming the first layer on the entire surface of the base material, and the second layer is formed by plating.
  • the step includes a step of forming the second layer on the entire surface of the first layer.
  • the solder layer does not contain Pb and contains Ag. Even when using low melting point solder composed of Sn-Ag that does not contain Pb as described above, the melting point of the solder layer is high when the hermetic sealing cap and the electronic component housing member are joined due to the configuration of the invention described above. Thus, when the electronic component storage package is attached to a printed wiring board such as an electronic device, the solder layer can be prevented from melting.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a hermetic sealing cap used in an electronic component storage package according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a bottom view showing a hermetic sealing cap according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view for explaining a method of manufacturing the hermetic sealing cap according to the embodiment of the present invention shown in FIG. 1.
  • FIG. 4 illustrates a method for manufacturing a hermetic sealing cap according to an embodiment of the present invention shown in FIG. It is sectional drawing for clarifying.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining a method of manufacturing the hermetic sealing cap shown in FIG. 1 according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining a method of manufacturing the hermetic sealing cap shown in FIG. 1 according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view for explaining a method for manufacturing an electronic component storage package using the hermetic sealing cap shown in FIG. 1.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining a method for manufacturing an electronic component storage package using the hermetic sealing cap shown in FIG. 1.
  • FIG. 9 is a sectional view for explaining a method of manufacturing an electronic component storage package using the hermetic sealing cap shown in FIG. 1.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view showing a hermetic sealing cap used in an electronic component storage package according to a first modification of one embodiment of the present invention.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view showing a hermetic sealing cap used in an electronic component storage package according to a second modification of the embodiment of the present invention.
  • a hermetic sealing cap 1 is formed so as to surround a surface of the low thermal expansion layer 2 and a low thermal expansion layer 2 made of an Fe—Ni—Co alloy.
  • Co-containing Ni—Co alloy (Co: about 7.5 mass% to about 20 mass%) layer 3 and a surface of Ni—Co alloy layer 3 are formed to surround the surface of Ni—Co alloy layer 3
  • the low thermal expansion layer 2 is an example of the “base material” in the present invention
  • the Ni—Co alloy layer 3 is an example of the “first layer” in the present invention.
  • the Ni layer 4 is an example of the “second layer” in the present invention.
  • the low thermal expansion layer 2 is formed to have a thickness of approximately 0.15 mm and approximately 3.5 mm square.
  • Ni — Co alloy layer 3 is formed by plating with a thickness of about 2 m.
  • the Ni layer 4 is formed by plating with a thickness of about 0.03111 to about 0.075 / zm.
  • the solder layer 5 has a width of about 0.45 mm and a thickness of about 0.05 mm in an area where an electronic component housing member 10 described later on the lower surface of the Ni layer 4 is joined. It is formed to have.
  • FIG. 3 to 6 are cross-sectional views for explaining a method of manufacturing the hermetic sealing cap shown in FIG. 1 according to the embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 and FIGS. 3 to 6 a method for manufacturing a hermetic sealing cap according to an embodiment of the present invention will be described.
  • a Fe-Ni-Co alloy plate-like coil is punched out by pressing to provide a Fe-Ni-Co alloy having a thickness of about 0.15 mm in about 3.5 mm square.
  • a low thermal expansion layer 2 made of Ni—Co alloy is formed.
  • a Ni—Co alloy layer 3 is formed by plating with a thickness of about 2 m.
  • the Ni layer 4 is formed by plating on the entire surface of the Ni—Co alloy layer 3 with a thickness of about 0.03 ⁇ m to about 0.075 ⁇ m.
  • solder paste 6 is applied by screen printing to a width of about 0.45mm in a region where an electronic component housing member 10 to be described later is joined on the lower surface of the Ni layer 4. It is formed to have a thickness of 0.08 mm. Then, by heating the solder paste 6 (see Fig. 6) at a temperature of about 235 ° C (first temperature), the solder layer 5 has a thickness of about 0.05 mm as shown in Figs. It forms so that it may have. In this manner, the hermetic sealing cap 1 according to the embodiment of the present invention is formed.
  • an electronic device in which a tungsten layer 13, a Ni—Co alloy layer 14, and an Au layer 15 are formed in this order on the upper surface of a ceramic frame 12 disposed on a ceramic substrate 11.
  • the Ni—Co alloy layer 14 is an example of the “third layer” in the present invention.
  • the electronic component 20 having the bumps 21 is attached on the upper surface of the ceramic substrate 11.
  • the solder layer 5 of the hermetic sealing cap 1 formed by the above-described method is disposed so as to be in contact with the upper surface of the ceramic frame body 12. Thereafter, the solder layer 5 is melted at a temperature of about 300 ° C. to about 320 ° C.
  • the hermetic sealing cap 1 is attached to the ceramic frame. Bond to the top of body 12.
  • the Ni layer 4 diffuses into the solder layer 5 having Sn—Ag alloy strength, so the portion where the Ni layer 4 is diffused
  • the Ni—Co alloy layer 3 is bonded to the solder layer 5 via Further, since the Ni—Co alloy layer 3 diffuses into the solder layer 5 having Sn—Ag alloy force, the intermetallic compound 7 containing the Ni—Sn alloy as shown in FIG. 9 is formed in the solder layer 5. Is done.
  • the Au layer 15 diffuses into the solder layer 5.
  • an electronic component storage package stores an airtight sealing cap 1, an electronic component 20 such as a SAW filter or a crystal resonator, and the electronic component 20.
  • an electronic component housing member 10 for performing the above.
  • the electronic component storage member 10 includes a ceramic substrate 11 having an insulating material force such as alumina, and a ceramic frame having an insulating material force such as alumina constituting a storage space on a predetermined region of the surface of the ceramic substrate 11. Includes 12.
  • An electronic component 20 is attached via a bump 21 on the ceramic substrate 11 located in the storage space surrounded by the ceramic frame 12.
  • the intermetallic compound 7 has a needle shape and is formed so as to diffuse throughout the solder layer 5. The portion of the Ni layer 4 on which the solder layer 5 is formed diffuses into the intermetallic compound 7, and the Ni—Co alloy layer 3 passes through the portion where the Ni layer 4 is diffused, Bonded to solder layer 5.
  • the Ni layer 4 is prevented from diffusing into the solder layer 5 at the temperature (about 235 ° C.) when the Ni—Co alloy layer 3 forms the solder layer 5.
  • the solder layer 5 is heated by heating the hermetic sealing cap 1 to a temperature (about 300 ° C. to about 320 ° C.) higher than the temperature (about 235 ° C.) when forming the solder layer 5.
  • the solder layer 5 is formed in the region where the electronic component housing member 10 on the surface of the Ni layer 4 is joined. Accordingly, it is possible to suppress the solder layer 5 from covering the upper surface of the electronic component 20 disposed inside the electronic component storage package, so that when the hermetic sealing cap 1 is joined to the electronic component storage member 10 In addition, the solder layer 5 can be prevented from being scattered on the electronic component 20. Thereby, it is possible to suppress the deterioration of the characteristics of the electronic component 20.
  • the Ni layer 4 is joined to the electronic component housing member 10 at a temperature (about 300 ° C. to about 320 ° C.) higher than the temperature at which the solder layer 5 forms the solder layer 5 (about 235 ° C.).
  • the intermetallic compound 7 can be formed in the solder layer 5 by functioning so that the Ni—Co alloy layer 3 is diffused in the solder layer 5, so that the solder layer after forming the electronic component housing package is formed.
  • the melting point of 5 can be increased.
  • the solder layer 5 is heated due to the high temperature of the electronic component storage package and the high temperature of the solder layer 5. It can suppress melting. In this case, it is not necessary to use an expensive Au—Sn alloy or Sn—Pb alloy high melting point solder, so that the material cost can be reduced and solder containing no Pb can be used.
  • the Ni—Co alloy layer 3 is diffused into the solder layer 5 by the Ni layer 4 by disposing the Ni layer 4 between the Ni—Co alloy layer 3 and the solder layer 5. This can be easily suppressed.
  • the Ni layer 4 is formed to a thickness of 0.03 ⁇ m or more, whereby the Ni layer 4 is easily formed and the Ni—Co alloy layer 3 forms the solder layer 5.
  • the solder layer 5 is higher than the temperature at which the solder layer 5 is formed (about 235 ° C). It can be formed to have a function of diffusing the Ni-Co alloy layer 3 to the solder layer 5 through the Ni layer 4 when joining with the electronic component housing member 10 at a temperature of about 320 ° C. .
  • the Ni—Co alloy layer 3 contains 7.5% by mass to 20% by mass of Co as a diffusion promoter so that the solder layer 5 forms the solder layer 5.
  • the Ni-Co alloy layer 3 is passed through the Ni layer 4 As a result, the solder layer 5 can be sufficiently diffused, so that a sufficient amount of the intermetallic compound 7 can be formed in the solder layer 5.
  • the low thermal expansion layer 2 is formed of an Fe-Ni-Co-based alloy.
  • the thermal expansion coefficient of the low thermal expansion layer 2 can be reduced, so that the thermal expansion coefficient of the hermetic sealing cap 1 can be reduced.
  • the Ni—Co alloy layer 3 and the Ni layer 4 can be easily formed by forming the Ni—Co alloy layer 3 and the Ni layer 4 by plating.
  • soldering is performed when the hermetic sealing cap 1 and the electronic component housing member 10 are joined. Since the intermetallic compound 7 in which the melting point of the layer 5 is increased is formed, the solder layer 5 can be prevented from melting when the electronic component storage package is attached to a printed wiring board such as an electronic device.
  • the temperature is about 235 ° C.
  • solder paste 6 having Sn—Ag alloy strength is applied to the region where the electronic component housing member 10 on the lower surface of the Ni—Co alloy layer 3 is joined by a screen printing method with a width of about 0.45 mm. It was formed to a thickness of 08mm. Then, the solder paste 6 was heated at a temperature of about 235 ° C. (first temperature). For these samples, the growth state of the Ni—Sn alloy (intermetallic compound 7) was confirmed. The results are shown in Table 1.
  • the solder paste 6 made of Sn-Ag alloy is applied by screen printing to a width of about 0.4 mm. The thickness was formed. Then, the solder paste 6 was heated at a temperature of about 235 ° C. (first temperature). Regarding these samples, the diffusion state of the Ni—Co alloy layer 3 to the solder layer 5 made of Sn—Ag alloy was confirmed. The results are shown in Table 2.
  • hermetic sealing cap 1 using Ni layer 4 having a thickness of 0.03 ⁇ m to 0.2 ⁇ m (Examples 4 to 6, Comparative Examples 6 and 7) ), It has been found that the Ni layer 4 force Ni—Co alloy layer 3 has a function of suppressing diffusion into the solder layer 5 having Sn—Ag alloy force.
  • the Ni-Co alloy layer 3 is formed on the entire surface of the low thermal expansion layer 2 by plating, but the present invention is not limited to this, and is shown in FIG.
  • the Ni—Co alloy layer 3a may be formed by pressure welding to the upper and lower surfaces of the low thermal expansion layer 2, as shown in FIG.
  • the Ni—Co alloy layer 3 b is pressed only on the lower surface of the low thermal expansion layer 2. It may be formed by contact bonding.
  • the Co content of the Ni-Co alloy layer 3 of the hermetic sealing cap is about 7.5 mass% to about 20 mass%.
  • the Co content of the Ni—Co alloy layer 3 of the hermetic cap may be less than 5 mass%.
  • the Co content of the Ni—Co alloy layer 14 of the electronic component housing member is increased. This facilitates the growth of the Ni—Sn alloy (intermetallic compound) in the solder layer, so that the melting point of the solder layer can be increased. Thereby, sufficient heat resistance can be obtained when the electronic component storage package is attached to the printed circuit board of the electronic device.
  • the force showing an example in which a Sn-Ag alloy (Ag: about 3.5% by mass) is used for the solder layer.
  • the present invention is not limited to this. Even if the content is other than 3.5% by mass, it is also possible to use a solder composed of Sn as a main component.

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Abstract

 電子部品(20)の特性が劣化するのを抑制し、材料コストを低減するとともに、Pbを含まない半田を使用することができ、かつ、気密性が低下するのを抑制することが可能な気密封止用キャップ(1)が得られる。この気密封止用キャップは、低熱膨張層(2)と、低熱膨張層の表面上に形成され、拡散促進材を含むNiを主成分とするNi-Co合金層(3)と、Ni-Co合金層の表面上に形成されるNi層(4)と、Ni層の表面上の電子部品収納部材(10)が接合される領域に形成されるSnを主成分とする半田層(5)とを備えている。Ni層は、Ni-Co合金層が約235°C(第1の温度)で半田層に拡散するのを抑制するとともに、半田層が約300°C~約320°C(第2の温度)で電子部品収納部材と接合する際に、Ni-Co合金層をNi層を介して半田層に拡散させる機能を有する。

Description

気密封止用キャップ、気密封止用キャップの製造方法および電子部品収 納用パッケージ
技術分野
[0001] この発明は、気密封止用キャップ、気密封止用キャップの製造方法および電子部 品収納用パッケージに関し、特に、電子部品を収納するために用いられる気密封止 用キャップ、気密封止用キャップの製造方法および電子部品収納用パッケージに関 する。
背景技術
[0002] 従来、携帯電話の雑音除去などに用いられる SAWフィルタ (表面弾性波フィルタ) や水晶振動子などの電子部品の気密封止に用いる SMD (Surface Mount Devi ce)パッケージ (表面実装型デバイスパッケージ)などの電子部品収納用パッケージ が知られている。そして、このような電子部品収納用パッケージは、電子部品が搭載 される電子部品収納部材 (ケース)と、電子部品収納部材を気密封止する気密封止 用キャップとから構成される。この気密封止用キャップは、加熱されることにより半田 層を介して電子部品収納部材に接合される。その後、電子部品用パッケージは、再 度加熱されることにより電子機器などのプリント配線基板に取り付けられる。従来では 、電子部品収納用パッケージが電子機器などのプリント配線基板に取り付けられる際 に、気密封止用キャップの封止部分が溶融しないように、 Au— Sn系合金(Sn:約 20 質量%)などの貴金属を主成分とした高融点半田や Sn—Pb系合金力もなる高融点 半田が用いられている。し力しながら、 Au—Sn系合金力もなる高融点半田は、非常 に高価であるとともに、 Sn— Pb系合金力もなる高融点半田は、 Pbを含むため、環境 面などから使用しな 、方が好ま U、。
[0003] そこで、従来、気密封止用キャップの封止部分に低融点半田を用いた場合にも、電 子部品収納用パッケージが電子機器などのプリント配線基板に取り付けられる際に、 気密封止用キャップの封止部分が溶融しな 、ようにした電子部品収納用パッケージ が提案されている。このような電子部品収納用パッケージは、たとえば、国際公開 W O02Z078085号公報に開示されて 、る。上記国際公開 WO02Z078085号公報 には、芯部 (基材)の上面上に Ni基金属層を配置するとともに、下面上に、気密封止 時にろう材層に拡散する Ni合金層およびろう材層(半田層)をこの順番で重ね合わ せた後、この 4層材を圧接接合することによって一体的に形成した蓋体 (気密封止用 キャップ)を用いた電子部品用パッケージが開示されている。このような電子部品用 ノ ッケージでは、気密封止時に Ni合金層がろう材層に拡散するので、ろう材層中に 金属間化合物が形成される。これにより、半田層の融点を高くすることができるので、 電子部品用パッケージが電子機器などのプリント配線基板に取り付けられる際に、蓋 体の封止部分が溶融するのを抑制することができる。し力しながら上記国際公開 WO 02Z078085号公報に開示された構造では、ろう材層を含む 4層材を圧接接合する ことによって一体的に蓋体を形成するので、ろう材層が電子部品用パッケージの内 部に配置される電子部品の上面を覆うように配置される。このため、蓋体を用いて気 密封止する際に、ろう材層が電子部品に飛散することにより電子部品の特性が劣化 する場合があると 、う不都合がある。
[0004] このような不都合を解消するため、上記国際公開 WO02Z078085号公報の構造 において、基材の下面上に Ni合金層を形成し、 Ni合金層の下面上の封止部分のみ に半田層を形成することが考えられる。このように部分的に半田層を形成する場合に は、 Ni合金層の下面上の封止部分に半田ペーストを配置した後、半田ペーストを溶 融することによって、 Ni合金層が拡散する半田層を形成するのが一般的である。
[0005] し力しながら、上記国際公開 WO02Z078085号公報の構造において、 Ni合金層 の下面上の封止部分に半田ペーストを配置した後半田ペーストを溶融することによつ て半田層を形成すると、半田ペーストを溶融して半田層を形成する際に、半田層に 金属間化合物が形成されるとともに半田層の融点が高くなるという不都合が生じる。 このため、半田層の形成後に、半田層を溶融して気密封止用キャップを電子部品収 納部材に接合する際に、半田層が溶融しに《なるという不都合がある。その結果、 電子部品収納部材に対する半田層のぬれ性が低下するので、電子部品収納用パッ ケージの気密性が低下する場合があるという問題点がある。
発明の開示 [0006] この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の 1 つの目的は、電子部品の特性が劣化するのを抑制し、材料コストを低減するとともに 、 Pbを含まない半田を使用することができ、かつ、気密性が低下するのを抑制するこ とが可能な気密封止用キャップ、気密封止用キャップの製造方法、電子部品収納用 ノ ッケージおよび電子部品収納用パッケージの製造方法を提供することである。
[0007] 上記目的を達成するために、この発明の第 1の局面による気密封止用キャップは、 電子部品を収納するための電子部品収納部材を含む電子部品収納用パッケージに 用いられる気密封止用キャップであって、基材と、基材の表面上に形成され、拡散促 進材を含む Niを主成分とする第 1の層と、第 1の層の表面上に形成される第 2の層と 、第 2の層の表面上の電子部品収納部材が接合される領域に形成される Snを主成 分とする半田層とを備え、第 2の層は、第 1の層が第 1の温度で半田層に拡散するの を抑制するとともに、半田層が第 1の温度よりも高い第 2の温度で電子部品収納部材 と接合する際に、第 1の層を第 2の層を介して半田層に拡散させる機能を有する。
[0008] この発明の第 1の局面による気密封止用キャップでは、上記のように、第 2の層を、 第 1の層が第 1の温度で半田層に拡散するのを抑制するように機能させることによつ て、第 1の温度では、半田層に金属間化合物が形成されるのを抑制することができる ので、半田層の融点が高くなるのを抑制することができる。これにより、気密封止用キ ヤップを第 1の温度よりも高い第 2の温度に加熱することにより半田層を介して電子部 品収納部材に接合する際に、電子部品収納部材に対する半田層のぬれ性が低下 するのを抑制することができるので、電子部品収納用パッケージの気密性が低下す るのを抑制することができる。また、第 2の層の表面上の電子部品収納部材が接合さ れる領域に、 Snを主成分とする半田層を形成することによって、半田層が電子部品 収納用パッケージの内部に配置される電子部品の上面を覆うのを抑制することがで きるので、気密封止用キャップを電子部品収納部材に接合する際に、半田層が電子 部品に飛散するのを抑制することができる。これにより、電子部品の特性が劣化する のを抑制することができる。また、第 2の層を、半田層が第 1の温度よりも高い第 2の温 度で電子部品収納部材と接合する際に、第 1の層を第 2の層を介して半田層に拡散 させるように機能させることによって、半田層に金属間化合物を形成することができる ので、半田層の融点を高くすることができる。これにより、電子部品収納用パッケージ を電子機器のプリント配線基板に取り付ける際に、電子部品収納用パッケージが高 温になるとともに半田層も高温になることに起因して、半田層が溶融するのを抑制す ることができる。この場合、高価な Au— Sn系合金や Sn— Pb系合金カゝらなる高融点 半田を用いる必要がないので、材料コストを低減することができるとともに、 Pbを含ま ない半田を使用することができる。
[0009] 上記第 1の局面による気密封止用キャップにおいて、好ましくは、第 1の温度は、半 田ペーストを溶融させることにより半田層を形成する際の温度であり、第 2の温度は、 半田層を溶融させることにより気密封止用キャップを電子部品収納部材に接合する 際の温度である。このように構成すれば、半田ペーストを溶融することにより半田層を 形成する際の第 1の温度では、第 2の層の機能により、半田層に金属間化合物が形 成されるのを抑制することができるので、容易に、半田層の形成時に半田層の融点 が高くなるのを抑制することができる。これにより、気密封止用キャップを電子部品収 納部材に接合する際に、半田層が溶融しやすくなるので、気密封止用キャップを、電 子部品収納部材に容易に接合することができる。
[0010] 上記第 1の局面による気密封止用キャップにおいて、好ましくは、第 2の層は、 Niに より形成されている。このように構成すれば、 N なる第 2の層により、第 1の層が半 田層に拡散するのを容易に抑制することができる。
[0011] 上記第 2の層が Niにより形成されている気密封止用キャップにおいて、好ましくは、 第 2の層は、 0. 03 111以上0. 075 m以下の厚みを有する。このように構成すれば 、容易に、 N なる第 2の層を、第 1の層が第 1の温度で半田層に拡散するのを抑 制するとともに、半田層が第 1の温度よりも高い第 2の温度で電子部品収納部材と接 合する際に、第 1の層を第 2の層を介して半田層に拡散させる機能を有するように形 成することができる。
[0012] 上記第 1の局面による気密封止用キャップにおいて、好ましくは、第 1の層は、拡散 促進材として、 Coを 7. 5質量%〜20質量%含有する。このように構成すれば、半田 層が第 1の温度よりも高い第 2の温度で電子部品収納部材と接合される際に、第 1の 層を第 2の層を介して半田層に十分に拡散させることができるので、半田層に十分な 量の金属間化合物を形成することができる。
[0013] 上記第 1の局面による気密封止用キャップにおいて、好ましくは、基材は、 Fe-Ni — Co系合金により形成されている。このように構成すれば、基材の熱膨張係数を小 さくすることができるので、気密封止用キャップの熱膨張係数を小さくすることができる 。これにより、電子部品収納部材がセラミックなどの熱膨張係数力 、さい材料により形 成される場合に、気密封止用キャップと電子部品収納部材との熱膨張係数差を小さ くすることができるので、高温時に気密封止用キャップと電子部品収納部材との接合 部に割れやひびが発生するのを抑制することができる。
[0014] 上記第 1の局面による気密封止用キャップにおいて、好ましくは、第 1の層および第 2の層は、メツキにより形成されている。このように構成すれば、第 1の層および第 2の 層を容易に形成することができる。
[0015] 上記第 1の層および第 2の層がメツキにより形成されている気密封止用キャップにお いて、好ましくは、第 1の層は、基材の表面の全面上に形成されているとともに、第 2 の層は、第 1の層の表面の全面上に形成されている。このように構成すれば、第 1の 層および第 2の層をメツキにより、より容易に形成することができる。
[0016] 上記第 1の局面による気密封止用キャップにおいて、好ましくは、半田層は、 Pbを 含有しないとともに、 Agを含有する。このように Pbを含まない Sn— Ag力もなる低融 点半田を用いる場合にも、上記した発明の構成により、気密封止用キャップと電子部 品収納部材との接合時に半田層の融点が高くなる金属間化合物が形成されるので、 電子部品収納用パッケージを電子機器などのプリント配線基板に取り付ける場合に、 半田層が溶融するのを抑制することができる。
[0017] この発明の第 2の局面による電子部品収納用パッケージは、電子部品を収納する ための電子部品収納部材を含む電子部品収納用パッケージであって、基材と、基材 の表面上に形成され、拡散促進材を含む Niを主成分とする第 1の層と、第 1の層の 表面上に形成される第 2の層と、第 2の層の表面上の電子部品収納部材が接合され る領域に形成される Snを主成分とする半田層とを含み、第 2の層は、第 1の層が第 1 の温度で半田層に拡散するのを抑制するとともに、半田層が第 1の温度よりも高い第 2の温度で電子部品収納部材と接合する際に、第 1の層を第 2の層を介して半田層 に拡散させる機能を有する、気密封止用キャップを備え、半田層に対応する電子部 品収納部材の部分には、第 3の層が形成され、半田層と第 3の層とが接合されている とともに、気密封止用キャップと電子部品収納部材との接合部には、半田層の Snを 含む金属間化合物が形成されている。
[0018] この発明の第 2の局面による電子部品収納用パッケージでは、上記のように、第 2 の層を、第 1の層が第 1の温度で半田層に拡散するのを抑制するように機能させるこ とによって、第 1の温度では、半田層に金属間化合物が形成されるのを抑制すること ができるので、半田層の融点が高くなるのを抑制することができる。これにより、気密 封止用キャップを第 1の温度よりも高い第 2の温度に加熱することにより半田層を介し て電子部品収納部材に接合する際に、電子部品収納部材に対する半田層のぬれ性 が低下するのを抑制することができるので、電子部品収納用パッケージの気密性が 低下するのを抑制することができる。また、第 2の層の表面上の電子部品収納部材が 接合される領域に、 Snを主成分とする半田層を形成することによって、半田層が電 子部品収納用パッケージの内部に配置される電子部品の上面を覆うのを抑制するこ とができるので、気密封止用キャップを電子部品収納部材に接合する際に、半田層 が電子部品に飛散するのを抑制することができる。これにより、電子部品の特性が劣 化するのを抑制することができる。また、第 2の層を、半田層が第 1の温度よりも高い 第 2の温度で電子部品収納部材と接合する際に、第 1の層を第 2の層を介して半田 層に拡散させるように機能させることによって、半田層に金属間化合物を形成するこ とができるので、半田層の融点を高くすることができる。これにより、電子部品収納用 ノ ッケージを電子機器のプリント配線基板に取り付ける際に、電子部品収納用パッケ ージが高温になるとともに半田層も高温になることに起因して、半田層が溶融するの を抑制することができる。この場合、高価な Au— Sn系合金や Sn— Pb系合金力ゝらな る高融点半田を用いる必要がないので、材料コストを低減することができるとともに、 Pbを含まな 、半田を使用することができる。
[0019] 上記第 2の局面による電子部品収納用パッケージにおいて、好ましくは、気密封止 用キャップと電子部品収納部材との接合部は、 Ni— Sn系合金力もなる金属間化合 物を含み、気密封止用キャップと電子部品収納部材との接合部に対応する第 2の層 の部分は、金属間化合物中に拡散している。このように構成すれば、第 1の層を、第 2の層を介して半田層に容易〖こ拡散させることができる。
[0020] この発明の第 3の局面による気密封止用キャップの製造方法は、電子部品を収納 するための電子部品収納部材を含む電子部品収納用パッケージに用いられる気密 封止用キャップの製造方法であって、基材を準備する工程と、基材の表面上に拡散 促進材を含む Niを主成分とする第 1の層を形成する工程と、第 1の層の表面上に第 2の層を形成する工程と、第 2の層の表面上の電子部品収納部材が接合される領域 に Snを主成分とする半田層を形成する工程とを備え、第 2の層を形成する工程は、 第 1の温度で半田層を形成する際に、第 1の層が半田層に拡散するのを抑制すると ともに、半田層が第 1の温度よりも高い第 2の温度で電子部品収納部材と接合する際 に、第 1の層を第 2の層を介して半田層に拡散させる機能を有する第 2の層を形成す る工程を含む。
[0021] この発明の第 3の局面による気密封止用キャップの製造方法では、上記のように、 第 2の層を形成する工程は、第 1の温度で半田層を形成する際に、第 1の層が半田 層に拡散するのを抑制する機能を有する第 2の層を形成する工程を含むことによつ て、第 1の温度では、半田層に金属間化合物が形成されるのを抑制することができる ので、半田層の融点が高くなるのを抑制することができる。これにより、気密封止用キ ヤップを第 1の温度よりも高い第 2の温度に加熱することにより半田層を介して電子部 品収納部材に接合する際に、電子部品収納部材に対する半田層のぬれ性が低下 するのを抑制することができるので、電子部品収納用パッケージの気密性が低下す るのを抑制することができる。また、第 2の層の表面上の電子部品収納部材が接合さ れる領域に Snを主成分とする半田層を形成することによって、半田層が電子部品収 納用パッケージの内部に配置される電子部品の上面を覆うのを抑制することができる ので、気密封止用キャップを電子部品収納部材に接合する際に、半田層が電子部 品に飛散するのを抑制することができる。これにより、電子部品の特性が劣化するの を抑制することができる。また、第 2の層を、半田層が第 1の温度よりも高い第 2の温度 で電子部品収納部材と接合する際に、第 1の層を第 2の層を介して半田層に拡散さ せるように機能させることによって、半田層に金属間化合物を形成することができるの で、半田層の融点を高くすることができる。これにより、電子部品収納用パッケージを 電子機器のプリント配線基板に取り付ける際に、電子部品収納用パッケージが高温 になるとともに半田層も高温になることに起因して、半田層が溶融するのを抑制する ことができる。この場合、高価な Au— Sn系合金や Sn— Pb系合金カゝらなる高融点半 田を用いる必要がないので、材料コストを低減することができるとともに、 Pbを含まな い半田を使用することができる。
[0022] 上記第 3の局面による気密封止用キャップの製造方法において、好ましくは、半田 層を形成する工程は、第 2の層の表面上の電子部品収納部材が接合される領域に S nを主成分とする半田ペーストを配置する工程と、第 1の温度で半田ペーストを溶融 することにより Snを主成分とする半田層を形成する工程とを含む。このように構成す れば、第 2の層の表面上の電子部品収納部材が接合される領域のみに、 Snを主成 分とする半田層を容易に形成することができる。
[0023] 上記第 3の局面による気密封止用キャップの製造方法において、好ましくは、第 2 の層は、 Niにより形成されている。このように構成すれば、 N もなる第 2の層により 、第 1の層が半田層に拡散するのを容易に抑制することができる。
[0024] 上記第 2の層が Niにより形成されている気密封止用キャップの製造方法において、 好ましくは、第 2の層は、 0. 03 μ m以上 0. 075 μ m以下の厚みを有する。このように 構成すれば、容易に、 N もなる第 2の層を、第 1の層が第 1の温度で半田層に拡散 するのを抑制するとともに、半田層が第 1の温度よりも高い第 2の温度で電子部品収 納部材と接合する際に、第 1の層を第 2の層を介して半田層に拡散させる機能を有 するよう〖こ形成することがでさる。
[0025] 上記第 3の局面による気密封止用キャップの製造方法において、好ましくは、第 1 の層は、拡散促進材として、 Coを 7. 5質量%〜20質量%含有する。このように構成 すれば、半田層が第 1の温度よりも高い第 2の温度で電子部品収納部材と接合され る際に、第 1の層を第 2の層を介して半田層に十分に拡散させることができるので、半 田層に十分な量の金属間化合物を形成することができる。
[0026] 上記第 3の局面による気密封止用キャップの製造方法において、好ましくは、基材 は、 Fe—Ni— Co系合金により形成されている。このように構成すれば、基材の熱膨 張係数を小さくすることができるので、気密封止用キャップの熱膨張係数を小さくする ことができる。これにより、電子部品収納部材がセラミックなどの熱膨張係数力 、さい 材料により形成される場合に、気密封止用キャップと電子部品収納部材との熱膨張 係数差を小さくすることができるので、高温時に気密封止用キャップと電子部品収納 部材との接合部に割れやひびが発生するのを抑制することができる。
[0027] 上記第 3の局面による気密封止用キャップの製造方法において、好ましくは、第 1 の層を形成する工程は、第 1の層をメツキにより形成する工程を含み、第 2の層を形 成する工程は、第 2の層をメツキにより形成する工程を含む。このように構成すれば、 第 1の層および第 2の層を容易に形成することができる。
[0028] 上記第 1の層を形成する工程が第 1の層をメツキにより形成する工程を含み、第 2の 層を形成する工程が第 2の層をメツキにより形成する工程を含む気密封止用キャップ の製造方法において、好ましくは、第 1の層をメツキにより形成する工程は、第 1の層 を基材の表面の全面上に形成する工程を含み、第 2の層をメツキにより形成する工程 は、第 2の層を第 1の層の表面の全面上に形成する工程を含む。このように構成すれ ば、第 1の層および第 2の層をメツキにより、より容易に形成することができる。
[0029] 上記第 3の局面による気密封止用キャップの製造方法において、好ましくは、半田 層は、 Pbを含有しないとともに、 Agを含有する。このように Pbを含まない Sn— Agか らなる低融点半田を用いる場合にも、上記した発明の構成により、気密封止用キヤッ プと電子部品収納部材との接合時に半田層の融点が高くなる金属間化合物が形成 されるので、電子部品収納用パッケージを電子機器などのプリント配線基板に取り付 ける場合に、半田層が溶融するのを抑制することができる。
図面の簡単な説明
[0030] [図 1]本発明の一実施形態による電子部品収納用パッケージに用いられる気密封止 用キャップを示した断面図である。
[図 2]本発明の一実施形態による気密封止用キャップを示した下面図である。
[図 3]図 1に示した本発明の一実施形態による気密封止用キャップの製造方法を説 明するための断面図である。
[図 4]図 1に示した本発明の一実施形態による気密封止用キャップの製造方法を説 明するための断面図である。
[図 5]図 1に示した本発明の一実施形態による気密封止用キャップの製造方法を説 明するための断面図である。
[図 6]図 1に示した本発明の一実施形態による気密封止用キャップの製造方法を説 明するための断面図である。
[図 7]図 1に示した気密封止用キャップを用いる電子部品収納用パッケージの製造方 法を説明するための断面図である。
[図 8]図 1に示した気密封止用キャップを用いる電子部品収納用パッケージの製造方 法を説明するための断面図である。
[図 9]図 1に示した気密封止用キャップを用いる電子部品収納用パッケージの製造方 法を説明するための断面図である。
[図 10]本発明の一実施形態の第 1変形例による電子部品収納用パッケージに用いら れる気密封止用キャップを示した断面図である。
[図 11]本発明の一実施形態の第 2変形例による電子部品収納用パッケージに用いら れる気密封止用キャップを示した断面図である。
発明を実施するための最良の形態
[0031] 以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
[0032] まず、図 1および図 2を参照して、本発明の一実施形態による気密封止用キャップ の構造について説明する。
[0033] 本発明の一実施形態による気密封止用キャップ 1は、図 1に示すように、 Fe-Ni- Co合金からなる低熱膨張層 2と、低熱膨張層 2の表面を取り囲むように形成された拡 散促進材としての Coを含有する Ni— Co合金 (Co :約 7. 5質量%〜約 20質量%)層 3と、 Ni— Co合金層 3の表面を取り囲むように形成された Ni層 4と、 Ni層 4の下面の 所定の領域上に形成され Sn— Ag合金 (Ag :約 3. 5質量%)からなる半田層 5とを含 んでいる。なお、低熱膨張層 2は、本発明の「基材」の一例であり、 Ni— Co合金層 3 は、本発明の「第 1の層」の一例である。また、 Ni層 4は、本発明の「第 2の層」の一例 である。
[0034] 低熱膨張層 2は、約 3. 5mm角で約 0. 15mmの厚みに形成されている。また、 Ni — Co合金層 3は、約 2 mの厚みでメツキにより形成されている。また、 Ni層 4は、約 0. 03 111〜約0. 075 /z mの厚みでメツキにより形成されている。また、半田層 5は、 図 2に示すように、 Ni層 4の下面上の後述する電子部品収納部材 10が接合される領 域に、約 0. 45mmの幅で約 0. 05mmの厚みを有するように形成されている。
[0035] 図 3〜図 6は、図 1に示した本発明の一実施形態による気密封止用キャップの製造 方法を説明するための断面図である。次に、図 1および図 3〜図 6を参照して、本発 明の一実施形態による気密封止用キャップの製造方法について説明する。
[0036] まず、図 3に示すように、 Fe— Ni— Co合金からなる板状コイルをプレス加工によつ て打ち抜くことにより、約 3. 5mm角で約 0. 15mmの厚みを有する Fe— Ni— Co合 金からなる低熱膨張層 2を形成する。この低熱膨張層 2の表面の全面上に、図 4に示 すように、 Ni— Co合金層 3を約 2 mの厚みでメツキにより形成する。そして、 Ni— C o合金層 3の表面の全面上に、図 5に示すように、 Ni層 4を約 0. 03 m〜約 0. 075 μ mの厚みでメツキにより形成する。
[0037] 次に、 Ni層 4の下面上の後述する電子部品収納部材 10が接合される領域に、図 6 に示すように、半田ペースト 6をスクリーン印刷法により約 0. 45mmの幅で約 0. 08m mの厚みを有するように形成する。そして、約 235°Cの温度 (第 1の温度)で半田ぺー スト 6 (図 6参照)を加熱することにより、図 1および図 2に示すように、半田層 5を約 0. 05mmの厚みを有するように形成する。このようにして、本発明の一実施形態による 気密封止用キャップ 1が形成される。
[0038] 次に、図 7〜図 9を参照して、本発明の一実施形態による電子部品収納用パッケ一 ジの製造方法にっ 、て説明する。
[0039] まず、図 7に示すように、セラミック基板 11上に配置したセラミック枠体 12の上面上 に、タングステン層 13、 Ni— Co合金層 14および Au層 15をこの順番で形成した電 子部品収納部材 10を準備する。なお、 Ni— Co合金層 14は、本発明の「第 3の層」の 一例である。その後、セラミック基板 11の上面上にバンプ 21を有する電子部品 20を 取り付ける。そして、前述の方法で形成した気密封止用キャップ 1の半田層 5をセラミ ック枠体 12の上面に接触するように配置する。その後、約 300°C〜約 320°Cの温度( 第 2の温度)で半田層 5を溶融させることにより、気密封止用キャップ 1をセラミック枠 体 12の上面に接合する。なお、この約 300°C〜約 320°Cの温度(第 2の温度)では、 Ni層 4は、 Sn—Ag合金力 なる半田層 5中に拡散するので、その Ni層 4が拡散した 部分を介して Ni— Co合金層 3が半田層 5に接合する。また、 Ni— Co合金層 3は、 S n—Ag合金力 なる半田層 5中に拡散するので、半田層 5には、図 9に示すような Ni —Sn合金を含む金属間化合物 7が形成される。また、 Au層 15は、半田層 5中に拡 散する。このようにして、本発明の一実施形態による電子部品収納用パッケージが形 成される。
[0040] 本発明の一実施形態による電子部品収納用パッケージは、図 8に示すように、気密 封止用キャップ 1と、 SAWフィルタや水晶振動子などの電子部品 20と、電子部品 20 を収納するための電子部品収納部材 10とによって構成されている。この電子部品収 納部材 10は、アルミナなどの絶縁性材料力もなるセラミック基板 11と、セラミック基板 11の表面の所定の領域上に収納空間を構成するアルミナなどの絶縁性材料力 な るセラミック枠体 12とを含んでいる。また、セラミック枠体 12によって囲まれた収納空 間内に位置するセラミック基板 11上には、バンプ 21を介して電子部品 20が取り付け られている。また、金属間化合物 7は、針状を有するとともに、半田層 5の全体に拡散 するように形成されている。また、半田層 5が形成された Ni層 4の部分は、金属間化 合物 7中に拡散しているとともに、その Ni層 4が拡散した部分を介して、 Ni— Co合金 層 3は、半田層 5に接合している。
[0041] 本実施形態では、上記のように、 Ni層 4を、 Ni— Co合金層 3が半田層 5を形成する 際の温度 (約 235°C)で半田層 5に拡散するのを抑制するように機能させることによつ て、半田層 5を形成する際の温度 (約 235°C)では、半田層 5に金属間化合物 7が形 成されるのを抑制することができるので、気密封止用キャップ 1の単体での半田層 5 の融点が高くなるのを抑制することができる。これにより、気密封止用キャップ 1を半 田層 5を形成する際の温度 (約 235°C)よりも高 、温度 (約 300°C〜約 320°C)に加熱 することにより半田層 5を介して電子部品収納部材 10に接合する際に、電子部品収 納部材 10に対する半田層 5のぬれ性が低下するのを抑制することができるので、電 子部品収納用パッケージの気密性が低下するのを抑制することができる。また、 Ni層 4の表面上の電子部品収納部材 10が接合される領域に、半田層 5を形成することに よって、半田層 5が電子部品収納用パッケージの内部に配置される電子部品 20の上 面を覆うのを抑制することができるので、気密封止用キャップ 1を電子部品収納部材 10に接合する際に、半田層 5が電子部品 20に飛散するのを抑制することができる。 これにより、電子部品 20の特性が劣化するのを抑制することができる。また、 Ni層 4を 、半田層 5が半田層 5を形成する際の温度 (約 235°C)よりも高い温度 (約 300°C〜約 320°C)で電子部品収納部材 10と接合する際に、 Ni— Co合金層 3を半田層 5に拡 散させるように機能させることによって、半田層 5に金属間化合物 7を形成することが できるので、電子部品収納用パッケージ形成後の半田層 5の融点を高くすることがで きる。これにより、電子部品収納用パッケージを電子機器のプリント配線基板に取り付 ける際に、電子部品収納用パッケージが高温になるとともに半田層 5も高温になるこ とに起因して、半田層 5が溶融するのを抑制することができる。この場合、高価な Au —Sn系合金や Sn—Pb系合金力 なる高融点半田を用いる必要がないので、材料 コストを低減することができるとともに、 Pbを含まない半田を使用することができる。
[0042] また、本実施形態では、 Ni— Co合金層 3と半田層 5との間に Ni層 4を配置すること によって、 Ni層 4により、 Ni— Co合金層 3が半田層 5に拡散するのを容易に抑制する ことができる。
[0043] また、本実施形態では、 Ni層 4を、 0. 03 μ m以上の厚みに形成することによって、 容易に、 Ni層 4を、 Ni— Co合金層 3が半田層 5を形成する際の温度 (約 235°C)で半 田層 5に拡散するのを抑制するとともに、半田層 5が半田層 5を形成する際の温度( 約 235°C)よりも高 、温度 (約 300°C〜約 320°C)で電子部品収納部材 10と接合する 際に、 Ni— Co合金層 3を Ni層 4を介して半田層 5に拡散させる機能を有するように形 成することができる。
[0044] また、本実施形態では、 Ni— Co合金層 3に、拡散促進材として、 Coを 7. 5質量% 〜20質量%含有させることによって、半田層 5が半田層 5を形成する際の温度 (約 23 5°C)よりも高 、温度 (約 300°C〜約 320°C)で電子部品収納部材 10と接合される際 に、 Ni— Co合金層 3を Ni層 4を介して半田層 5に十分に拡散させることができるので 、半田層 5に十分な量の金属間化合物 7を形成することができる。
[0045] また、本実施形態では、低熱膨張層 2を、 Fe— Ni— Co系合金により形成すること によって、低熱膨張層 2の熱膨張係数を小さくすることができるので、気密封止用キヤ ップ 1の熱膨張係数を小さくすることができる。これにより、電子部品収納部材 10がセ ラミックなどの熱膨張係数力 S小さい材料により形成される場合に、気密封止用キヤッ プ 1と電子部品収納部材 10との熱膨張係数差を小さくすることができるので、高温時 に気密封止用キャップ 1と電子部品収納部材 10との接合部に割れやひびが発生す るのを抑 ff¾することができる。
[0046] また、本実施形態では、 Ni— Co合金層 3および Ni層 4を、メツキにより形成すること によって、 Ni— Co合金層 3および Ni層 4を容易に形成することができる。
[0047] また、本実施形態では、半田層 5に Pbを含まない Sn—Ag力もなる低融点半田を用 いる場合にも、気密封止用キャップ 1と電子部品収納部材 10との接合時に半田層 5 の融点が高くなる金属間化合物 7が形成されるので、電子部品収納用パッケージを 電子機器などのプリント配線基板に取り付ける場合に、半田層 5が溶融するのを抑制 することができる。
[0048] また、本実施形態では、 Ni層 4の表面上の電子部品収納部材 10が接合される領 域に Sn— Ag合金力もなる半田ペースト 6を配置した後、約 235°Cの温度で半田べ 一スト 6を溶融することにより Sn—Ag合金力もなる半田層 5を形成することによって、 Ni層 4の表面上の電子部品収納部材 10が接合される領域のみに、 Sn— Ag合金か らなる半田層 5を容易に形成することができる。
(実施例)
次に、上記した一実施形態による気密封止用キャップ 1の効果を確認するために行 つた比較実験について説明する。まず、 Ni— Co合金層 3が Sn— Ag合金力もなる半 田層 5に拡散することによる Ni— Sn合金 (金属間化合物 7)の成長性(半田層 5の耐 熱性)を調べた比較実験について説明する。この比較実験では、本実施形態に対応 する実施例 1〜3による試料と、比較例 1〜3による試料とを作製した。
[0049] まず、 Fe— Ni— Co合金力もなる板状コイルをプレス加工によって打ち抜くことによ り、約 3. 5mm角で約 0. 15mmの厚みを有する Fe— Ni— Co合金からなる低熱膨張 層 2を形成した。この低熱膨張層 2の表面の全面上に、 Coの質量比率を、それぞれ 、 7. 5質量%(実施例 1)、 10質量%(実施例 2)、 20質量%(実施例 3)、 0質量%( 比較例 1)、 3質量% (比較例 2)および 5質量% (比較例 3)にした Ni— Co合金層 3を 約 2 /z mの厚みでメツキにより形成した。次に、 Ni— Co合金層 3の下面上の電子部 品収納部材 10が接合される領域に、 Sn—Ag合金力もなる半田ペースト 6をスクリー ン印刷法により約 0. 45mmの幅で約 0. 08mmの厚みに形成した。そして、約 235 °Cの温度(第 1の温度)で半田ペースト 6を加熱した。これらの試料について、 Ni— S n合金 (金属間化合物 7)の成長状態を確認した。その結果を表 1に示す。
[0050] [表 1]
Figure imgf000017_0001
[0051] 上記表 1を参照して、 Coを 7. 5質量%〜20質量%含有する Ni— Co合金層 3を用 いた気密封止用キャップ 1 (実施例 1〜3)では、 Sn— Ag合金力 なる半田層 5中で Ni— Sn合金力もなる金属間化合物 7が十分成長することが判明した。一方、 Coを 0 質量%〜5質量%含有する Ni— Co合金層 3を用いた気密封止用キャップ 1 (比較例 1〜3)では、 Sn— Ag合金力もなる半田層 5中で Ni— Sn合金力もなる金属間化合物 7が十分成長しないことが判明した。これは、 Ni— Co合金層 3の拡散促進材としての Coの含有率が小さくなるにしたがって、 Ni— Co合金層 3が Sn— Ag合金力もなる半 田層 5に拡散しにくくなるためであると考えられる。
[0052] 次に、 Ni層 4の厚みによる半田層 5の形成後における Ni— Co合金層 3の半田層 5 への拡散状態を調べた比較実験について説明する。この比較実験では、本実施形 態に対応する実施例 4〜6による試料と、比較例 4〜7による試料とを作製した。
[0053] まず、 Fe— Ni— Co合金力もなる板状コイルをプレスカ卩ェによって打ち抜くことによ り、約 3. 5mm角で約 0. 15mmの厚みを有する Fe— Ni— Co合金からなる低熱膨張 層 2を形成した。この低熱膨張層 2の表面の全面上に、 Ni— Co合金 (Co :約 10質量 %)層 3を約 2 mの厚みでメツキにより形成した。そして、 Ni— Co合金層 3の表面の 全面上に、それぞれ、 0. 03 m (実施例 4)、 0. 05 m (実施例 5)、 0. 075 m ( 実施例 6)、 0 m (比較例 4)、 0. 01 m (比較例 5)、 0. 1 m (比較例 6)および 0. 2 m (比較例 7)の厚みを有する Ni層 4をメツキにより形成した。
[0054] 次に、 Ni層 4の下面上の電子部品収納部材 10が接合される領域に、 Sn— Ag合金 力 なる半田ペースト 6をスクリーン印刷法により約 0. 45mmの幅で約 0. 08mmの 厚みに形成した。そして、約 235°Cの温度 (第 1の温度)で半田ペースト 6を加熱した 。これらの試料について、 Ni— Co合金層 3の Sn— Ag合金からなる半田層 5への拡 散状態を確認した。その結果を表 2に示す。
[0055] [表 2]
Figure imgf000018_0001
[0056] 上記表 2を参照して、 0. 03 μ m〜0. 2 μ mの厚みを有する Ni層 4を用いた気密封 止用キャップ 1 (実施例 4〜6、比較例 6および 7)では、 Ni層 4力 Ni— Co合金層 3が Sn— Ag合金力 なる半田層 5中に拡散するのを抑制する機能を有することが判明し た。
[0057] 次に、 Ni層 4の厚みによる気密封止後における Ni—Sn合金 (金属間化合物 7)の 成長性 (Ni層 4の半田層 5への拡散性)を調べた比較実験について説明する。この 比較実験では、上記した実施例 4〜6および比較例 4〜7にそれぞれ対応する試料 を用いて実施例 7〜9および比較例 8〜: L 1による試料を作製した。なお、この比較実 験では、電子部品収納部材 10の Ni— Co合金層 14が Sn—Ag合金力もなる半田層 5に拡散すると、気密封止用キャップ 1の Ni— Co合金層 3の半田層 5への拡散に起 因する Ni—Sn合金 (金属間化合物 7)の成長性 (Ni層 4の半田層 5への拡散性)が 不明確になるので、気密封止用キャップ 1単体での実験を行った。 [0058] まず、セラミック基板 11上に配置したセラミック枠体 12の上面上に、タングステン層 13、 Ni—Co合金層 14および Au層 15をこの順番で形成した電子部品収納部材 10 を準備した。そして、実施例 4〜6および比較例 4〜7に対応する試料を、約 300°C〜 約 320°Cの温度 (第 2の温度)で溶融させることにより、実施例 7〜9および比較例 8 〜: L 1による試料を作製した。これらの試料について、 Ni— Sn合金 (金属間化合物 7) の成長状態を確認した。その結果を表 3に示す。
[0059] [表 3]
Figure imgf000019_0001
[0060] 上記表 3を参照して、 0 μ m〜0. 075 μ mの厚みを有する Ni層 4を用いた気密封 止用キャップ 1 (実施例 7〜9、比較例 8および 9)では、 Ni層 4は、 Sn—Ag合金から なる半田層 5中に拡散するとともに、その Ni層 4が拡散した部分を介して Ni—Co合 金層 3が Sn—Ag合金力もなる半田層 5に拡散することにより金属間化合物 7が形成 されることが判明した。
[0061] なお、今回開示された実施形態および実施例は、すべての点で例示であって制限 的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態およ び実施例の説明ではなく請求の範囲によって示され、さらに請求の範囲と均等など の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。
[0062] たとえば、上記実施形態では、 Ni— Co合金層 3を低熱膨張層 2の表面の全面上に メツキにより形成する例を示したが、本発明はこれに限らず、図 10に示した本発明の 一実施形態による第 1変形例のように、 Ni— Co合金層 3aを低熱膨張層 2の上面およ び下面に圧接接合することにより形成してもよいし、図 11に示した本発明の一実施 形態による第 2変形例のように、 Ni— Co合金層 3bを低熱膨張層 2の下面のみに圧 接接合することにより形成してもよい。
[0063] また、上記実施形態では、気密封止用キャップの Ni— Co合金層 3の Coの含有率 を約 7. 5質量%〜約 20質量%にした例を示したが、本発明はこれに限らず、気密封 止用キャップの Ni— Co合金層 3の Coの含有率を 5質量%未満にしてもよい。この場 合、電子部品収納部材の Ni— Co合金層 14の Coの含有率を大きくする必要がある。 これにより、気密封止用キャップの Ni— Co合金層 3の Coの含有率を 5質量%未満に した場合にも、電子部品収納部材の Ni— Co合金層 14の Coの含有率を大きくするこ とにより、半田層中の Ni— Sn合金 (金属間化合物)を成長しやすくすることができる ので、半田層の融点を高くすることができる。これにより、電子部品収納用パッケージ を電子機器のプリント配線基板に取り付ける際に十分な耐熱性を得ることができる。
[0064] また、上記実施形態では、半田層に Sn— Ag合金 (Ag :約 3. 5質量%)を用いた例 を示した力 本発明はこれに限らず、半田層の Agの含有率を 3. 5質量%以外の含 有率にしてもょ 、し、 Snを主成分とする他の組成からなる半田を用いてもょ 、。

Claims

請求の範囲
[1] 電子部品(20)を収納するための電子部品収納部材(10)を含む電子部品収納用 ノッケージに用いられる気密封止用キャップ(1)であって、
基材 (2)と、
前記基材の表面上に形成され、拡散促進材を含む Niを主成分とする第 1の層(3) と、
前記第 1の層の表面上に形成される第 2の層(4)と、
前記第 2の層の表面上の前記電子部品収納部材が接合される領域に形成される S nを主成分とする半田層(5)とを備え、
前記第 2の層は、前記第 1の層が第 1の温度で前記半田層に拡散するのを抑制す るとともに、前記半田層が前記第 1の温度よりも高い第 2の温度で前記電子部品収納 部材と接合する際に、前記第 1の層を前記第 2の層を介して前記半田層に拡散させ る機能を有する、気密封止用キャップ。
[2] 前記第 1の温度は、半田ペースト(6)を溶融させることにより前記半田層を形成する 際の温度であり、
前記第 2の温度は、前記半田層を溶融させることにより前記気密封止用キャップを 前記電子部品収納部材に接合する際の温度である、請求項 1に記載の気密封止用 キャップ。
[3] 前記第 2の層は、 Niにより形成されている、請求項 1または 2に記載の気密封止用 キャップ。
[4] 前記第 2の層は、 0. m以上 0. 075 m以下の厚みを有する、請求項 3に記 載の気密封止用キャップ。
[5] 前記第 1の層は、前記拡散促進材として、 Coを 7. 5質量%〜20質量%含有する、 請求項 1〜4のいずれか 1項に記載の気密封止用キャップ。
[6] 前記基材は、 Fe— Ni— Co系合金により形成されている、請求項 1〜5のいずれか
1項に記載の気密封止用キャップ。
[7] 前記第 1の層および前記第 2の層は、メツキにより形成されている、請求項 1〜6の いずれか 1項に記載の気密封止用キャップ。
[8] 前記第 1の層は、前記基材の表面の全面上に形成されているとともに、
前記第 2の層は、前記第 1の層の表面の全面上に形成されている、請求項 7に記載 の気密封止用キャップ。
[9] 前記半田層は、 Pbを含有しないとともに、 Agを含有する、請求項 1〜8のいずれか
1項に記載の気密封止用キャップ。
[10] 電子部品(20)を収納するための電子部品収納部材(10)を含む電子部品収納用 パッケージであって、 基材 (2)と、前記基材の表面上に形成され、拡散促進材を含む Niを主成分とする 第 1の層(3)と、前記第 1の層の表面上に形成される第 2の層 (4)と、前記第 2の層の 表面上の前記電子部品収納部材が接合される領域に形成される Snを主成分とする 半田層(5)とを含み、前記第 2の層は、前記第 1の層が第 1の温度で前記半田層に 拡散するのを抑制するとともに、前記半田層が前記第 1の温度よりも高い第 2の温度 で前記電子部品収納部材と接合する際に、前記第 1の層を前記第 2の層を介して前 記半田層に拡散させる機能を有する、気密封止用キャップ(1)を備え、
前記半田層に対応する前記電子部品収納部材の部分には、第 3の層(14)が形成 され、
前記半田層と前記第 3の層とが接合されているとともに、
前記気密封止用キャップと前記電子部品収納部材との接合部には、前記半田層の Snを含む金属間化合物(7)が形成されている、電子部品収納用パッケージ。
[11] 前記気密封止用キャップと前記電子部品収納部材との接合部は、 Ni— Sn系合金 からなる金属間化合物を含み、
前記気密封止用キャップと前記電子部品収納部材との接合部に対応する前記第 2 の層の部分は、前記金属間化合物中に拡散している、請求項 10に記載の電子部品 収納用パッケージ。
[12] 電子部品(20)を収納するための電子部品収納部材(10)を含む電子部品収納用 ノ ッケージに用いられる気密封止用キャップ(1)の製造方法であって、
基材 (2)を準備する工程と、
前記基材の表面上に拡散促進材を含む Niを主成分とする第 1の層(3)を形成する 工程と、
前記第 1の層の表面上に第 2の層 (4)を形成する工程と、
前記第 2の層の表面上の前記電子部品収納部材が接合される領域に Snを主成分 とする半田層(5)を形成する工程とを備え、
前記第 2の層を形成する工程は、第 1の温度で前記半田層を形成する際に、前記 第 1の層が前記半田層に拡散するのを抑制するとともに、前記半田層が前記第 1の 温度よりも高い第 2の温度で前記電子部品収納部材と接合する際に、前記第 1の層 を前記第 2の層を介して前記半田層に拡散させる機能を有する第 2の層を形成する 工程を含む、気密封止用キャップの製造方法。
[13] 前記半田層を形成する工程は、前記第 2の層の表面上の前記電子部品収納部材 が接合される領域に Snを主成分とする半田ペースト (6)を配置する工程と、前記第 1 の温度で前記半田ペーストを溶融することにより前記 Snを主成分とする前記半田層 を形成する工程とを含む、請求項 12に記載の気密封止用キャップの製造方法。
[14] 前記第 2の層は、 Niにより形成されている、請求項 12または 13に記載の気密封止 用キャップの製造方法。
[15] 前記第 2の層は、 0. 03 111以上0. 075 m以下の厚みを有する、請求項 14に記 載の気密封止用キャップの製造方法。
[16] 前記第 1の層は、前記拡散促進材として、 Coを 7. 5質量%〜20質量%含有する、 請求項 12〜15のいずれか 1項に記載の気密封止用キャップの製造方法。
[17] 前記基材は、 Fe— Ni— Co系合金により形成されている、請求項 12〜16のいずれ 力 1項に記載の気密封止用キャップの製造方法。
[18] 前記第 1の層を形成する工程は、前記第 1の層をメツキにより形成する工程を含み、 前記第 2の層を形成する工程は、前記第 2の層をメツキにより形成する工程を含む、 請求項 12〜17のいずれか 1項に記載の気密封止用キャップの製造方法。
[19] 前記第 1の層をメツキにより形成する工程は、前記第 1の層を前記基材の表面の全 面上に形成する工程を含み、
前記第 2の層をメツキにより形成する工程は、前記第 2の層を前記第 1の層の表面 の全面上に形成する工程を含む、請求項 18に記載の気密封止用キャップの製造方 法。
[20] 前記半田層は、 Pbを含有しないとともに、 Agを含有する、請求項 12〜19のいずれ 力 1項に記載の気密封止用キャップの製造方法。
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