WO2005123308A1 - 含銅スズ粉及びその含銅スズ粉の製造方法並びにその含銅スズ粉を用いた導電性ペースト - Google Patents

含銅スズ粉及びその含銅スズ粉の製造方法並びにその含銅スズ粉を用いた導電性ペースト Download PDF

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Takahiko Sakaue
Keita Furumoto
Katsuhiko Yoshimaru
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Definitions

  • Copper-containing tin powder method for producing the copper-containing tin powder, and conductive paste using the copper-containing tin powder
  • the invention according to the present application relates to a copper-containing tin powder, a method for producing the copper-containing tin powder, and a conductive paste using the copper-containing tin powder.
  • the main purpose is to provide finely divided copper-containing tin powder and a conductive paste using the copper-containing tin powder, which can be used in the same applications as solder powder and cannot be achieved with conventional solder powder.
  • Patent Document 1 As a constituent powder of a conductive adhesive used for filling via holes of a multilayer printed wiring board and for positioning when mounting components such as IC components on the printed wiring board, Solder powder has been widely used.
  • solder powder is made of a so-called lead-free solder material.
  • solder eutectic solder of 63% by weight of tin and 37% by weight of lead has been used.
  • the large environmental load such as the lead contained in home appliance parts such as TV cathode-ray tubes and other electronic devices, which cause water pollution after being discarded.
  • Perspective of reducing lead content The use of lead-free solder has become mainstream.
  • an atomizing method is generally used for the production of the solder powder or tin powder.
  • An advantage of the solder powder obtained by this manufacturing method is that it has excellent dispersibility of the powder particles as compared with the powder obtained by the wet method.
  • Patent Document 1 JP-A-10-058190
  • Patent Document 2 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-15482
  • solder powder or tin powder (hereinafter referred to as "solder powder or the like") produced by the atomizing method has a very broad particle size distribution and has fine particles.
  • I tried Limit of particle size distribution is 1 ⁇ ! It is generally in the range of ⁇ 10 m, and it is known that it is difficult to obtain fine powder having an average particle diameter of 5 ⁇ m or less when directly observed with an electron microscope without containing coarse particles. I have been.
  • the first problem is that a conductive paste using a solder powder or the like having a broad particle size distribution and having an average particle size of more than 5 ⁇ m lacks the ability to form fine circuits and fill small via holes. Exists. On the other hand, for recent copper powders used for similar applications, products with an average particle size of 5 m or less, and in some cases 1 ⁇ m or less, are supplied. Looking at the current situation, it is impossible to compete with the solder powder obtained by the conventional atomizing method.
  • the second problem is that when the solder powder or the like obtained by the atomizing method is used for filling the via hole of the multilayer printed wiring board, the flow of solder powder inside the via hole during the component mounting process or at the time of reflow. Alternatively, it melts at the reflow temperature, and the shape filled in the via hole is deformed and contracts.
  • copper-containing tin powder and a method for producing the same as described below.
  • copper-containing tin powder production method of copper-containing tin powder
  • conductive paste using copper-containing tin powder will be described in this order.
  • the first feature of the copper-containing tin powder according to the present invention is that it is a copper-containing tin powder produced by a wet displacement method using copper powder as a starting material, and has an unsubstituted residual copper content of 30% by weight or less. So The reason for using copper-containing tin powder is that it has properties close to those of solder powder and tin powder, which also contain lead.
  • the copper-containing tin powder according to the present invention is converted into copper-containing tin powder by a wet substitution method using copper powder as a starting material, so that the copper component constituting the copper powder, which is a starting material, is used. Replacing with 100% tin is difficult even from technical common sense. However, it is necessary to replace most of the copper component constituting the powder particles with the tin component in order to be referred to as copper-containing tin powder.After the surface layer of the 1S copper powder particles has been replaced with tin, the replacement rate has increased. It is significantly reduced, and the possibility that copper components remain in the center increases.
  • the ability to reduce the copper component to 30 wt% or less, based on empirical judgment, does not completely eliminate the copper component.
  • the lower limit is not clearly defined here, the lower limit is considered to be about 0.5 wt% of the unsubstituted residual copper in the experimental results.
  • the content of the copper component remaining in the copper-containing tin powder was measured by collecting lg of the copper-containing tin powder, dissolving it in a nitric acid solution, and dissolving it in the solution. Is analyzed by ion plasma emission spectroscopy (ICP method), etc., detected as the copper content per lg of copper-containing tin powder, and this is calculated by converting it to a calibration curve. is there.
  • ICP method ion plasma emission spectroscopy
  • the second characteristic of the copper-containing tin powder according to the present invention is that if a substantially spherical copper powder is used as the copper powder used as a starting material, a substantially spherical copper-containing tin powder can be obtained, and the copper powder used as a starting material If flat copper powder such as flakes is used, flat copper-containing tin powder can be obtained. In other words, if a copper powder having an average primary particle diameter smaller than that of the solder powder obtained by the conventional atomizing method is used as a raw material, a finer level of fine copper-containing tin powder than before can be obtained.
  • a copper-containing tin powder produced by the following wet substitution method using a substantially spherical copper powder having an average primary particle diameter of 5 ⁇ m or less as a starting material has the sharp particle size distribution, It becomes a copper-containing tin powder with a diameter of 5 m or less and a roughly spherical particle strength, and it is a product excellent in forming fine circuits and filling small-diameter via holes, which was previously considered impossible to manufacture.
  • Such fine copper-containing tin powder cannot be obtained by the atomizing method, and the low-temperature fusing characteristics are improved by the fine particles being reduced.
  • the reason that the average primary particle diameter is 5 ⁇ m or less is that the average particle diameter is uniform by the conventional atomizing method. This is a range of power that cannot be manufactured, and reflects current market requirements, so it is not considered that a lower limit should be particularly limited.
  • the average primary particle size of the roughly spherical and flat powder particles is 5 ⁇ m or less, and more preferably 3 ⁇ m or less, the fillability of filling small diameter via holes with a diameter of 50 m rapidly improves. However, the filling property in the via hole is improved, and the heat shrinkage resistance is significantly improved. If the lower limit is to be set, the viscosity of the conductive paste should be considered.
  • the viscosity of the conductive paste increases as the powder particles contained therein become finer, and the handleability tends to be difficult. If the average primary particle size is less than 0 .: Lm, the viscosity of the conductive paste produced using this powder will be significantly increased, and the viscosity will change with time. Handling and management are complicated. Therefore, more preferably, the average primary particle size is in the range of 0.1 ⁇ m to 3 ⁇ m.
  • the particle size of the obtained copper-containing tin powder becomes smaller. That is, when the copper powder is used as the copper-containing tin powder by using the wet substitution method, it can be said that the fine powder is not much different from the average primary particle diameter of the copper powder as a starting material or smaller than the average primary particle diameter. Accordingly, the present inventors assumed that the powder properties (average primary particle size, aspect ratio with respect to the flat-shaped powder) of the copper powder as a starting material were assumed to use the manufacturing method described later. As a criterion, the change rate of each powder property of the obtained copper-containing tin powder is -20% to + 5%. Here, the rate of change is: ([value of copper-containing tin powder after substitution] [value of copper powder before substitution]) / [value of copper powder before substitution] X 100 (% ).
  • Table 1 shows an example of the fine, substantially spherical copper-containing tin powder.
  • the substantially spherical powder shown in Table 1 has an average primary particle size (average value of the particle size in the field of view when observed with a scanning electron microscope). It was used as a raw material, and was replaced with copper tin-containing powder in the same manner as in Example 1 described later, and the best result was obtained. As can be seen from Table 1, there is almost no change in the powder characteristics before and after substitution.
  • the value of D shown for reference in this specification is the value obtained by laser diffraction scattering.
  • a copper-containing tin powder produced by the following wet displacement method using flake-shaped flat copper powder having an average primary particle diameter of 5 ⁇ m or less as a starting material has an average primary particle diameter of 5% or less. It becomes a copper-containing tin powder with a flat shape of 5 ⁇ m or less, which is a product that was previously considered impossible to manufacture.
  • Such fine and flat copper-containing tin powder cannot be obtained by the atomizing method, and can contribute to the improvement of the low-temperature fusion characteristics and the void filling rate due to the fact that the powder particles are fine-grained. It becomes.
  • the filling property of filling the small-diameter via hole with a diameter of 50 ⁇ m is improved. It is rapidly improved, the filling property in the via hole is improved, and the heat shrink resistance is significantly improved. Then, as described above, it is more preferable that the average primary particle size be in the range of 0.1 ⁇ m to 3 ⁇ m in consideration of the viscosity of the conductive paste.
  • Table 2 shows an example of fine flake-shaped copper-containing tin powder.
  • the flake powder shown in Table 1 has an average primary particle size (average value of the longest particle size in the visual field observed by a scanning electron microscope) of 0.62 ⁇ m and an aspect ratio (average primary particle size).
  • Copper powder with excellent particle size distribution of 7 was used as a starting material, and replaced by the same method as in Example 1 described below to obtain a copper-containing tin powder. It is obtained.
  • Table 2 there is no significant change in the primary particle diameter and the aspect ratio before and after substitution.
  • the production of the copper-containing tin powder according to the present invention is characterized in that a wet replacement method is employed in which the copper powder is brought into contact with a tin-substituted plating solution to dissolve the copper component constituting the copper powder and simultaneously displace and precipitate tin. Have. Then, it is preferable to use an aqueous solution containing stannous chloride, thiourea, and an acid solution as the tin-substituted plating solution at this time.
  • a tin component having a low melting point accounts for 70% or more. Therefore, when the conductive paste containing only the copper-containing tin powder according to the present invention is mixed and a conductor such as a via hole is formed to remove the organic agent of the paste, the filling property in the via hole is reduced. Regardless of the improvement, voids are usually generated when the copper-containing tin powder is filled, and if the copper-containing tin powder particles fuse together, it is natural that a dimensional change will occur. is there. That is, a limit naturally occurs even when the dimensional stability as a conductor is kept good.
  • the mixing ratio of the copper-containing tin powder according to the present invention to other powders such as copper powder is not particularly limited. Factors that should be considered are factors determined in consideration of the purpose of use of the mixed powder, the combination of the copper-containing tin powder to be mixed with the particle size distribution of other powders, and the like. However, as a result of earnest studies by the present inventors, it is desirable that the copper-containing tin powder according to the present invention be contained in an amount of lwt% to 50wt%. When the copper-containing tin powder is less than ⁇ %, it is processed into a conductive paste to form conductors such as via holes.
  • the particles of the copper-containing tin powder melt and the particles of the other powder cannot be stably connected to each other, and mechanical strength cannot be ensured.
  • the conductor is processed into a conductive paste to form a conductor such as a via hole, and when the conductor is heated by reflow heat or the like. The stability of the conductor shape suddenly deteriorates.
  • the metal powder such as the copper-containing tin powder and the above-mentioned mixed powder according to the present invention is processed into a conductive paste by being mixed with an organic agent, and is used to form an electrode for a chip component, a circuit for a printed wiring board and a via hole. Used for formation and the like.
  • a high-precision conductor having high strength, thickness, width, and linearity of the circuit edge which cannot be formed using conventional tin powder and solder powder. It can be formed.
  • the copper-containing tin powder according to the present invention is produced by a wet substitution method using copper powder as a starting material.
  • the copper-containing tin powder obtained by this production method is characterized by an unsubstituted copper component. Will remain.
  • the method for producing copper-containing tin powder employed in the present invention does not greatly change the powder characteristics of the copper powder as a starting material and the powder characteristics of the obtained copper-containing tin powder.
  • flat copper powder such as substantially spherical copper powder and flake copper powder, it becomes possible to obtain extremely fine copper-containing tin powder compared to solder powder and tin powder obtained by the conventional atomizing method. .
  • the copper-containing tin powder according to the present invention is obtained by using a wet replacement method in which the copper powder is brought into contact with a tin-substitute plating to dissolve a copper component constituting the copper powder and replace and precipitate tin. Copper-containing tin powder can be efficiently produced.
  • the production of the copper-containing tin powder according to the present invention employs a wet substitution method in which the copper powder and the tin-substituted plating solution are brought into contact with each other to dissolve the copper component constituting the copper powder and simultaneously displace and precipitate tin. Therefore, it is preferable to use an aqueous solution containing stannous chloride, thiourea, and an acid solution as the tin-substituted plating solution.
  • tartaric acid any of tartaric acid, ascorbic acid, and hydrochloric acid as the acid solution.
  • tartaric acid it is preferable to use an aqueous solution containing stannous salt as lgZl to 200 gZl, thiourea as 10 gZl to 500 gZl, and tartaric acid as 10 gZl to 40 Og / 1 as the tin-substituted plating solution.
  • stannous salt as lgZl to 200 gZl
  • thiourea as 10 gZl to 500 gZl
  • tartaric acid 10 gZl to 40 Og / 1
  • the concentration of the first tin salt is less than lg / 1, the replacement rate of tin becomes slow and the amount of solution supplied becomes large, so that the industrially required productivity is not satisfied. And, even if the concentration of the first tin salt exceeds 200 gZl, the efficiency of substitution from copper to tin does not improve, but rather the surface of the obtained copper-containing tin powder becomes rough, which increases when processed into a conductive paste. It is a sticky factor.
  • Thiourea is a complexing agent for tin that precipitates by substitution, exhibits a smoothing effect, and also functions as a copper dissolution promoter. If the thiourea concentration is less than lOgZl, the surface of the obtained copper-containing tin powder becomes rough, which causes a viscosity increase when processed into a conductive paste. On the other hand, even if the thiourea concentration exceeds 500 gZl, the surface of the copper-containing tin powder obtained by substitution precipitation becomes even more wasteful of resources.
  • Tartaric acid is an oxidizing agent for dissolving copper powder, and in particular, plays a role as a main agent for rapidly dissolving the surface of oxidized copper powder and promptly performing a substitution reaction.
  • the tartaric acid concentration is less than 10 g / l, rapid dissolution of the surface of the copper powder does not occur, and the substitution reaction itself does not proceed rapidly.
  • the amount of tartaric acid is increased to a range where the tartaric acid concentration exceeds 400 gZl in relation to the above stannous chloride concentration, the balance between the dissolution rate of the copper powder and the deposition rate of tin is lost, and the powder of the original copper powder is lost. It is not possible to cause a rapid substitution reaction without changing body characteristics.
  • the tin-substituted plating solution includes stannous chloride of lgZl to 200gZl, thiourea of 5gZl to 300gZl, and ascorbic acid of 10gZl to 300g. It is preferable to use an aqueous solution containing Zi. By using the tin-substituted plating solution having such a composition, it is possible to cause a rapid substitution reaction without changing the powder characteristics of the original copper powder.
  • Thiourea is a complexing agent for tin that precipitates by substitution, exerts a smoothing effect, and at the same time functions as a copper dissolution promoter. Therefore, tartaric acid was used as an acid solution. Same as in the case. However, it is possible to reduce the thiourea content when using ascorbic acid. When the thiourea concentration is less than 5 gZl, the dissolution rate of the copper powder becomes slow and the industrial productivity is not satisfied, and the surface of the obtained copper-containing tin powder is rough, which causes a thickening when processed into a conductive paste. It is. On the other hand, even if the thiourea concentration exceeds 3 OOgZl, the surface of the copper-containing tin powder obtained by substitution precipitation becomes smoother than that, which is a waste of resources.
  • Ascorbic acid is an oxidizing agent for dissolving copper powder by interaction with thiourea, and particularly for rapidly dissolving the surface of oxidized copper powder and promptly performing a substitution reaction. It plays a role as the main ingredient.
  • the ascorbic acid concentration is less than 10 g / l, rapid dissolution of the surface of the copper powder does not occur, and the substitution reaction itself does not proceed rapidly.
  • the balance between the dissolution rate of copper powder and the deposition rate of tin is lost even if the amount of ascorbic acid is increased to a range where the ascorbic acid concentration exceeds 300 gZl.
  • the substitution reaction is caused to occur within a temperature range of 30 ° C. to 90 ° C. with sufficient stirring. If the solution temperature is lower than 30 ° C, the replacement rate of tin becomes slow and the reaction time becomes long, so that the industrially required productivity is not satisfied. On the other hand, if the solution temperature exceeds 90 ° C, the replacement rate of tin becomes too fast, and the powder characteristics of the original copper powder tend to fluctuate and the solution life is shortened.
  • the method of contacting the copper powder with the tin-substituted plating solution is as follows: It is preferable to adopt a method in which the state is brought into one state and a tin-substituted plating solution is added thereto. At this time, the added kamune of the tin-substituted plating solution may be added all at once or may be added slowly while maintaining a constant addition rate. In order to keep the powder characteristics of the original copper powder from fluctuating as much as possible, gently added soybean pulp over 10 minutes or more, more preferably 1 hour or more is preferred.
  • the following substitution reaction was carried out as a condition under which a rapid substitution reaction could be caused without changing the powder characteristics of the original copper powder.
  • 50 g of copper powder was dispersed in 10 L of pure water, a copper powder slurry was maintained at a liquid temperature of 40 ° C., and 5 L of a tin-substituted plating solution was added thereto over a predetermined period of time to obtain the present invention.
  • a copper-containing tin powder was obtained.
  • the tin-substituted plating solution was an aqueous solution containing 16.14 gZl of 16.Og / U thiourea and 103.6 gZl of tartaric acid, respectively, at a temperature of 40 ° C.
  • the tin-substituted plating solution was gradually added over 10 minutes using the above-described substitution method, using the substantially spherical copper powder (FIG. 1) listed in Table 3 as a starting material. Copper-containing tin powder (Fig. 2) was obtained.
  • the residual copper content of the copper-containing tin powder obtained in Example 1 was 15.2% by weight.
  • the obtained copper-containing tin powder is a fine powder having a primary particle diameter of 2.03 ⁇ m. This is because there is no significant change in the powder properties of the obtained copper-containing tin powder. This can be understood from a comparison between FIGS. 1 and 2.
  • Example 2 a rapid substitution reaction without changing the powder characteristics of the original copper powder was performed.
  • the same substitution reaction as in Example 1 was performed under the conditions that can cause the reaction.
  • the tin-substituted plating solution was slowly added over 2 hours using the above-described substitution method.
  • the copper-containing tin powder (Fig. 4) was obtained.
  • the residual copper content of the copper-containing tin powder obtained in Example 2 was 5. Owt%.
  • the obtained copper-containing tin powder is a fine powder having a primary particle diameter of 1.17 m. This is because there is no significant change in the powder properties of the obtained copper-containing tin powder. This can be understood by comparing FIGS. 3 and 4.
  • Example 3 the same substitution reaction as in Example 1 was performed as a condition under which a rapid substitution reaction could be caused without changing the powder characteristics of the original copper powder.
  • the tin-substituted plating solution was added slowly over 2 hours using the above-described substitution method.
  • the copper-containing tin powder (Fig. 6) was obtained.
  • the residual copper content of the copper-containing tin powder obtained in Example 3 was 3.1%.
  • the obtained copper-containing tin powder had a primary particle size of 0.27 ⁇ m, and was a fine powder. It is a component that there is no large variation between the characteristics and the powder characteristics of the obtained copper-containing tin powder. This can be understood by comparing FIGS. 5 and 6.
  • Example 4 the same substitution reaction as in Example 1 was performed as a condition under which a rapid substitution reaction could be caused without changing the powder characteristics of the original copper powder.
  • the tin-substituted plating solution was added all at once using the above-described substitution method, and the copper-containing copper powder according to the present invention was added.
  • Tin powder (Fig. 7) was obtained.
  • the residual copper content of the copper-containing tin powder obtained in Example 4 was 26.9 wt%.
  • the obtained copper-containing tin powder had a primary particle diameter of 0.30 ⁇ m, and was a very fine powder. This is because there is no significant change in the powder characteristics of the obtained copper-containing tin powder. This can be understood by comparing FIGS. 5 and 7.
  • Example 7 the same substitution reaction as in Example 1 was performed as a condition under which the rapid substitution reaction could be caused without changing the powder characteristics of the original copper powder.
  • a tin-substituted plating solution was gently added over 2 hours using the above-described substitution method.
  • the copper-containing tin powder according to the present invention (Fig. 9) was obtained.
  • the residual copper content of the copper-containing tin powder obtained in Example 5 was 17.7% by weight.
  • the obtained copper-containing tin powder is a fine powder having a primary particle diameter of 0.53 t and a fine powder. This is because there is no significant change in the powder properties of the obtained copper-containing tin powder. This can be understood by comparing FIGS. 8 and 9.
  • the following substitution reaction was performed as a condition capable of causing a rapid substitution reaction without changing the powder characteristics of the original copper powder.
  • 25 g of copper powder was dispersed in 2 L of pure water to prepare a copper powder slurry maintained at a liquid temperature of 50 ° C, and 3 L of a tin-substituted plating solution was added thereto over a predetermined period of time. Copper tin powder was obtained.
  • the tin-substituted plating solution at this time was an aqueous solution containing 27. Og / U thiourea in 43.3 gZl of ascorbic acid stannous and 43.3 gZl of ascorbic acid, and the liquid temperature was 50 ° C.
  • the obtained copper-containing tin powder has a primary particle size of 1.14 m and is a fine powder.
  • the powder characteristics of the copper powder as a starting material This is because there is no large variation in the primary particle diameter of the obtained copper-containing tin powder. This can be understood by comparing FIGS. 3 and 10.
  • FIGS. 11 and 12 show the force of the two types of tin powder obtained by the atomizing method.
  • the powder obtained by this atomization method has a large variation in the primary particle diameter, so that the particle shape force in the field of view of the scanning electron microscope is directly observed. It is not meaningful to measure the average primary particle size.
  • the copper-containing tin powder described in the examples clearly has a uniform primary particle size even with finer particles.
  • the fact that it is clear is the power.
  • the copper-containing tin powder according to the present invention is produced by a wet displacement method using copper powder as a starting material, and the copper-containing tin powder obtained by this production method is a powder of copper powder as a starting material. Since there is no large variation between the body properties and the powder properties of the obtained copper-containing tin powder, using flat copper powder such as fine-grained substantially spherical copper powder and flake copper powder, the same as fine copper powder This makes it possible to produce conductive paste that has powder characteristics and can be used in fine circuits.
  • copper powder which has been established as a technique for stably forming fine powder into a fine powder, can be used as a raw material. Tin powder can be supplied to the plant.
  • FIG. 1 A scanning electron microscope image of a substantially spherical copper powder before replacement.
  • FIG. 2 is a scanning electron microscope image of the copper-containing tin powder obtained after replacement.
  • FIG. 3 is a scanning electron microscope image of a substantially spherical copper powder before replacement.
  • FIG. 4 is a scanning electron microscope image of the copper-containing tin powder obtained after replacement.
  • FIG. 5 is a scanning electron microscope image of observing a substantially spherical copper powder before replacement.

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Abstract

 微小配線回路形成及び微小ビアホールの穴埋め性に優れ、低温融着性を発揮する微粒の含銅スズ粉を提供することを目的とする。この目的を達成するため、銅粉を出発原料として湿式置換法で製造した含銅スズ粉であって、未置換の残留銅量が30wt%以下のものである。また、出発原料である銅粉の粉体特性を基準としたときに、得られた含銅スズ粉の平均一次粒径等の変化率は-20~+5%である含銅スズ粉を採用する。そして、この含銅スズ粉の製造には、銅粉とスズ置換メッキ液とを接触させ、銅粉を構成する銅成分を溶解させスズを置換析出させる湿式置換法を採用する。

Description

明 細 書
含銅スズ粉及びその含銅スズ粉の製造方法並びにその含銅スズ粉を用 いた導電性ペースト
技術分野
[0001] 本件出願に係る発明は、含銅スズ粉及びその含銅スズ粉の製造方法並びにその 含銅スズ粉を用いた導電性ペーストに関する。特に、半田粉と同様の用途で使用可 能で、且つ、従来の半田粉では達成不可能な微粒した含銅スズ粉及びその含銅ス ズ粉を用いた導電性ペーストの提供を主要な目的とする。
背景技術
[0002] 現在、多層プリント配線板のビアホールの充填用、プリント配線板への IC部品等の 部品実装時の位置決めに用いる導電性接着剤の構成粉体として、特許文献 1に開 示されたような半田粉が広く用いられてきた。
[0003] この半田粉は、いわゆる鉛フリー半田素材で構成されたものであることが一般ィ匕し ている。従来の半田と称する素材は、錫 63wt%、鉛 37wt%の共晶半田が用いられ てきた。ところが、テレビのブラウン管に代表される家電製品部品、その他電子機器 中に含まれる鉛が、廃棄された後に水質汚染を起こす等の環境負荷の大きさが問題 になり、家電製品等に含まれるトータル鉛量を削減する観点力 鉛フリー半田の使用 が主流となってきたのである。
[0004] そして、上記半田粉又はスズ粉の製造には、特許文献 2に示すように、アトマイズ法 が用いられるのが一般ィ匕している。この製造方法で得られる半田粉の長所は、湿式 法で得られる粉体と比べて、粉粒の分散性に優れると 、う点にある。
[0005] 特許文献 1 :特開平 10— 058190号公報
特許文献 2:特開 2000 - 15482号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0006] しカゝしながら、アトマイズ法で製造される半田粉若しくはスズ粉 (以下、「半田粉等」 と称する。)は、粒度分布が極めてブロードであり、且つ、粉粒を微粒ィ匕しょうとしたと きの粒度分布の限界が 1 π!〜 10 mの範囲にあるのが一般的であり、粗粒を含む ことなぐ電子顕微鏡で直接観察したときの平均粒径が 5 μ m以下の微粒粉を得るこ とが困難であることが知られてきた。このようなブロードな粒度分布を持ち、平均粒径 力 / z mを超える半田粉等に関しては、次のような問題が存在している。
[0007] 第 1の問題は、ブロードな粒度分布を持ち、平均粒径が 5 μ mを超える半田粉等を 用いた導電性ペーストでは、微細回路形成及び微小ビアホールの穴埋め性に欠け るという欠点が存在する。一方で、同様の用途で使用される近年の銅粉では、粉粒 の平均粒径が 5 m以下、場合によっては 1 μ m以下の製品が供給されている。この ような現状を見るに、従来のアトマイズ法で得られる半田粉等では、全く対抗不可能 である。
[0008] 第 2の問題は、アトマイズ法で得られた半田粉等を、多層プリント配線板のビアホー ルの充填用に用いると、部品実装工程におけるフロー或いはリフロー時にビアホー ル内部の半田粉力 フロー或いはリフロー温度で融解し、ビアホールの内部に充填 した形状が変形し収縮挙動をすることになる。ビアホールの内部に充填した半田粉 等に粗粒が存在するほど、融着温度が高くなり、収縮挙動による寸法変化が大きぐ そのビアホールの外層に位置する外層回路との接続信頼性が失われる傾向となる。 この傾向は、アトマイズ法で得られた半田粉等と銅粉等他の粉体と混合して使用した 場合でも同様である。
[0009] 以上のことから、従来のアトマイズ法で得られる半田粉等と同様の用途で使用でき、 微小配線回路の微小ビアホールの穴埋め性に優れ、低温融着性を確保出来る微粒 の半田粉若しくはスズ粉が求められてきたのである。
課題を解決するための手段
[0010] そこで、本件発明者等は、以下に説明する含銅スズ粉及びその製造方法に想到し たのである。以下、「含銅スズ粉」、「含銅スズ粉の製造方法」、「含銅スズ粉を用いた 導電性ペースト」の順に説明する。
[0011] く本件発明に係る含銅スズ粉 >
本件発明に係る含銅スズ粉の第 1の特徴は、銅粉を出発原料として湿式置換法で 製造した含銅スズ粉であって、未置換の残留銅量が 30wt%以下ということである。そ して、含銅スズ粉としたのは、鉛を含むこともなぐ半田粉及びスズ粉に近い性状を備 えているためである。
[0012] 本件発明に係る含銅スズ粉は、銅粉を出発原料として湿式置換法で含銅スズ粉へ と転換して ヽくのであるから、出発原料である銅粉を構成する銅成分を 100%スズに 置換することは、技術常識的に考えても困難である。しかしながら、含銅スズ粉と称す るからには、粉粒を構成する銅成分の大部分がスズ成分に置換している必要はある 1S 銅粉粒の表層がスズに置換して以降は、置換速度が著しく低下し、中心部に銅 成分が残留する可能性が高くなる。そこで、現在まで本件発明者等が行った研究結 果に基づき、経験的に判断すれば銅成分を 30wt%以下とすることが出来る力 完全 に銅成分が無くなることはないのである。ここで、下限値を明確に定めていないが、実 験結果では未置換の残留銅量が 0. 5wt%程度が下限と考えられる。
[0013] なお、本件明細書にぉ 、て、含銅スズ粉中に残留した銅成分の含有量測定は、含 銅スズ粉を lg採取し、これを硝酸溶液に全溶解させ、その溶液中に含まれる銅成分 をイオンプラズマ発光分光分析法 (ICP法)等により分析し、含銅スズ粉 lg当たりの 銅含有量として検出し、これを検量線に対比して換算して算出したものである。
[0014] 本件発明に係る含銅スズ粉の第 2の特徴は、出発原料として用いる銅粉に略球形 の銅粉を用いれば略球形の含銅スズ粉が得られ、出発原料として用いる銅粉にフレ ーク状等の扁平形状の銅粉を用いれば扁平形状の含銅スズ粉が得られると ヽうので ある。つまり、従来のアトマイズ法で得られる半田粉等よりも微細な平均一次粒子径 等を持つ銅粉を原料として用いれば、従来にな ヽレベルの微粒の含銅スズ粉が得ら れるのである。
[0015] 例えば、平均一次粒子径が 5 μ m以下の略球状の銅粉を出発原料として、以下の 湿式置換法で製造した含銅スズ粉は、そのシャープな粒度分布を持ち、平均一次粒 径が 5 m以下の略球状粉粒力もなる含銅スズ粉となり、従来には製造不可能といわ れていた微細回路形成及び小径ビアホールの充填性に優れた製品となるのである。 このように微粒な含銅スズ粉は、アトマイズ法では得ることが出来ず、粉粒が微粒ィ匕し たことで、低温での融着特性が向上するのである。
[0016] ここで、平均一次粒径が 5 μ m以下としているのは、従来のアトマイズ法で粒径の揃 つた製品が製造出来な力つた範囲であり、現在の市場要求を反映させたものである ためで、本来特に下限値の限定を要するものではないと考える。しかしながら、略球 形状及び扁平粉の粉粒の平均一次粒径が 5 μ m以下、より好ましくは 3 μ m以下とな ると、 50 m径レベルの小径ビアホールの穴埋めの充填性が急激に向上し、ビアホ ール内の充填性が向上し耐熱収縮性が著しく向上するのである。そして、敢えて下 限値を定めるとするならば、導電性ペーストの粘度を考慮すべきと考える。導電性べ 一ストの粘度は、そこに含ませる粉体の粉粒が微粒ィ匕すればするほど高くなり、取扱 性が困難となる傾向にある。平均一次粒径が 0.: L mより小さな値となると、この粉体 を用いて製造する導電性ペーストの粘度を著しく増粘化させるとともに、粘度の経時 変化が大きくなるため、導電性ペーストの取り扱い及び管理が煩雑ィ匕するのである。 従って、より好ましくは、平均一次粒径が 0. 1 μ m〜3 μ mの範囲である。
[0017] 更に、出発原料として用いた銅粉の平均粒径を基準に考えると、得られる含銅スズ 粉の粒径は、更に小さめになるのである。即ち、銅粉を湿式置換法を用いて含銅スズ 粉とした場合、出発原料である銅粉の持つ平均一次粒径と大差ないか、それ以下の 微粒にできると言えるのである。そこで、本件発明者等が、後述する製造方法を用い ることを前提として、出発原料である銅粉の粉体特性 (平均一次粒径、扁平形状粉に 関してのアスペクト比)の各値を基準としてみると、得られた含銅スズ粉の各粉体特性 の変化率は— 20%〜+ 5%となるのである。ここで、変化率は、各粉体特性において 、 ( [置換後の含銅スズ粉の値] [置換前の銅粉の値] ) / [置換前の銅粉の値] X 1 00 (%)で算出するものとする。
[0018] 表 1に微粒の略球状含銅スズ粉の一例を示して 、る。この表 1に示した略球状粉は 、平均一次粒径 (走査型電子顕微鏡で観察したときの視野内にある粒径の平均値) 力 2. 16 mの粒度分布に優れた銅粉を出発原料として用いて、後述する実施例 1と同様の方法で置換して含銅スズ粉としたものであり、最も良好な結果の得られたも のである。この表 1から分かるように、置換前後の粉体特性に殆ど変化がないことが 分かる。また、本件明細書において参考的に示した D の値は、レーザー回折散乱
50
式粒度分布測定装置 Micro Trac HRA 9320— 100型(1^6(15 +?^0 111:1^ 社製)を用いて測定した体積累積粒径のことである。 [0019] [表 1]
Figure imgf000006_0001
[0020] また、平均一次粒子径が 5 μ m以下のフレーク状の扁平形状の銅粉を出発原料と して、以下の湿式置換法で製造した含銅スズ粉は、その平均一次粒径が 5 μ m以下 の扁平形状の含銅スズ粉となり、従来では製造不可能といわれていた製品となるの である。このように微粒且つ扁平形状を持つ含銅スズ粉は、アトマイズ法では得ること が出来ず、粉粒が微粒ィ匕したことで、低温での融着特性及び空隙充填率の向上に 寄与出来るものとなるのである。そして、この扁平形状の含銅スズ粉でも、粉粒の平 均一次粒径が 5 μ m以下、より好ましくは 3 μ m以下となると、 50 μ m径レベルの小径 ビアホールの穴埋めの充填性が急激に向上し、ビアホール内の充填性が向上し耐 熱収縮性が著しく向上するのである。そして、上述したと同様に、導電性ペーストの 粘度を考慮し、平均一次粒径が 0. 1 μ m〜3 μ mの範囲とすることがより好ましいの である。
[0021] 表 2に微粒のフレーク形状の粉粒の含銅スズ粉の一例を示している。この表 1に示 したフレーク粉は、平均一次粒径 (走査型電子顕微鏡で観察したときの視野内にある 粉粒の長径の平均値)が 0. 62 μ m、アスペクト比(平均一次粒径 Z平均厚さ) 7の粒 度分布に優れた銅粉を出発原料として用いて、後述する実施例 1と同様の方法で置 換して含銅スズ粉としたものであり、最も良好な結果の得られたものである。この表 2 から分かるように、置換前後の一次粒子径及びアスペクト比に大きな変動がないこと が分かる。
[0022] [表 2] 扁 平 形 状 粉
項 目 単位 置換前の銅粉 置換後の含銅スズ粉 変化率 (%) 平均一次粒径 H m 0 . 6 2 0 . 6 4 + 3 . 2
D s o 0 . 7 5 0 . 7 1
ァスぺク卜比 - 7 . 0 6 . 9 1 . 8
[0023] <本件発明に係る含銅スズ粉の製造方法 >
本件発明に係る含銅スズ粉の製造は、銅粉とスズ置換メツキ液とを接触させ、銅粉 を構成する銅成分を溶解させ同時にスズを置換析出させる湿式置換法を採用する 点に特徴を有する。そして、このときのスズ置換メツキ液は、塩化第 1スズ、チォ尿素、 酸溶液を含む水溶液を用いることが好まし 、のである。
[0024] <本件発明に係る含銅スズ粉を含む混合銅粉 >
本件発明に係る含銅スズ粉は、融点の低いスズ成分が 70%以上を占めている。従 つて、本件発明に係る含銅スズ粉のみを含む導電性ペーストにカ卩ェして、ビアホー ル等の導体形成を行い、ペーストの有機剤を除去しょうとすると、ビアホール内の充 填性がいかに向上しても、含銅スズ粉を充填した状態での空隙が発生しているのが 常であり、その含銅スズ粉の粉粒同士が融着すれば寸法変化を起こすのが当然であ る。即ち、導体としての寸法安定性を良好に保つにも自ずと限界が生じるのである。
[0025] そこで、加熱時に含銅スズ粉の融着による変形が起こっても、ビアホール内の導体 形状の基本的骨格の寸法変化を最小限に抑制するため、融点の高い銅粉、銀粉等 の他の粉体と混合して用いれば、低融点金属であるスズ粉を 100%用いる場合に比 ベて、更に、導体形状の安定性を確保する事が容易になる。
[0026] 更に、本件発明に係る含銅スズ粉と銅粉等の他の粉体との混合割合は、特に限定 を要するものではない。敢えて考慮すべき要因を挙げるとすれば、当該混合粉体の 使用目的、混合する含銅スズ粉と他の粉体との粒度分布との組み合わせ等を考慮し て決定される要因である。但し、本件発明者等が鋭意研究した結果、本件発明に係 る含銅スズ粉を lwt%〜50wt%含有させることが望まし ヽ。含銅スズ粉が ^%未 満の場合には、導電性ペーストに加工して、ビアホール等の導体形成を行った場合 に、含銅スズ粉の粉粒が溶融して他の粉体の粉粒間を安定して連結させることがで きず、機械的強度の確保ができない。これに対して、含銅スズ粉が 50wt%を越える 場合には、導電性ペーストに加工して、ビアホール等の導体形成を行った場合、当 該導体がリフローの熱等による加熱を受けたときの導体形状の安定性が、急激に悪 化し出すのである。
[0027] <本件発明に係る含銅スズ粉を含む導電性ペースト >
本件発明に係る含銅スズ粉及び上記混合粉体等の金属粉体は、有機剤と混合す ることにより導電性ペーストに加工され、チップ部品の電極形成、プリント配線板の回 路形成及びビアホール形成等に用いられる。本件発明に係る微粒の含銅スズ粉を 用いることで、従来のスズ粉及び半田粉を用いては形成出来な力つた回路の厚さ、 幅、回路エッジの直線性等に高 、精度の導体形成が可能となるのである。
発明の効果
[0028] 本件発明に係る含銅スズ粉は、銅粉を出発原料として湿式置換法で製造したもの であり、この製造方法で得られた含銅スズ粉の特徴としては、未置換の銅成分が残 留するものとなる。そして、本件発明で採用した含銅スズ粉の製造方法は、出発原料 である銅粉の粉体特性と、得られた含銅スズ粉の粉体特性とに大きな変動が無 ヽた め、微粒略球状銅粉、フレーク銅粉等の扁平銅粉を使用して、従来のアトマイズ法で 得られた半田粉及びスズ粉と比べて、極めて微粒の含銅スズ粉とすることが可能とな る。
[0029] また、本件発明に係る含銅スズ粉は、銅粉とスズ置換メツキとを接触させ、銅粉を構 成する銅成分を溶解させスズを置換析出させる湿式置換法を用いることで上記含銅 スズ粉を効率よく生産することが可能となる。
発明を実施するための最良の形態
[0030] 以下、本件発明に係る含銅スズ粉を製造するための実施形態を説明し、実施例及 び比較例を示しつつ、本件発明に関し、より詳細に説明する。
<本件発明に係る含銅スズ粉を製造するための実施形態 >
本件発明に係る含銅スズ粉の製造は、銅粉とスズ置換メツキ液とを接触させ、銅粉 を構成する銅成分を溶解させ同時にスズを置換析出させる湿式置換法を採用するも のであり、スズ置換メツキ液には、塩化第 1スズ、チォ尿素、酸溶液を含む水溶液を用 V、ることが好まし 、のである。
[0031] ここで、酸溶液とは、酒石酸、ァスコルビン酸、塩酸のいずれかを用いることが特に 好ましいのである。酸溶液として酒石酸を用いる場合のスズ置換メツキ液には、塩ィ匕 第 1スズを lgZl〜200gZl、チォ尿素を 10gZl〜500gZl、酒石酸を 10gZl〜40 Og/1として含む水溶液を用いることが好まし 、のである。このような組成のスズ置換 メツキ液を用いることで、元の銅粉の粉体特性を変動させることなぐ迅速な置換反応 を起こさせることが出来るのである。
[0032] 塩ィ匕第 1スズ濃度が lg/1未満の場合には、スズの置換速度が遅くなり、溶液供給 量も多くなるため、工業的に求められる生産性を満足しないのである。そして、塩ィ匕 第 1スズ濃度が 200gZlを超えても、銅からスズへの置換効率は向上せず、むしろ得 られる含銅スズ粉の表面が粗くなり、導電性ペーストに加工したときの増粘要因となる のである。
[0033] チォ尿素は、置換析出するスズの錯化剤であり、平滑ィ匕効果を発揮するものであり 、同時に銅の溶解プロモータとして機能するものである。チォ尿素濃度が lOgZl未 満となると、得られる含銅スズ粉の表面が粗くなり、導電性ペーストに加工したときの 増粘要因となるのである。一方、チォ尿素濃度が 500gZlを超えても、置換析出して 得られる含銅スズ粉の表面が、それ以上に滑らかになる事はなぐ資源の無駄遣いと なるのである。
[0034] 酒石酸は、銅粉を溶解させるための酸化剤であり、特に酸化した銅粉の表面を迅 速に溶解し、置換反応を迅速に行わせるための主剤としての役割を果たすのである 。ここで酒石酸濃度が lOgZl未満となると、銅粉の表面の迅速な溶解が起こらなくな るため、置換反応自体が迅速に進行しなくなるのである。そして、上記塩化第 1スズ 濃度との関係において、酒石酸濃度が 400gZlを超える範囲に酒石酸量を増やして も、銅粉の溶解速度とスズの析出速度とのバランスが崩れ、元の銅粉の粉体特性を 変動させることなぐ迅速な置換反応を起こさせることが出来なくなるのである。
[0035] 酸溶液としてァスコルビン酸を用いる場合のスズ置換メツキ液には、塩化第 1スズを lgZl〜200gZl、チォ尿素を 5gZl〜300gZl、ァスコルビン酸を 10gZl〜300g Ziとして含む水溶液を用いることが好まし 、のである。このような組成のスズ置換メッ キ液を用いることで、元の銅粉の粉体特性を変動させることなぐ迅速な置換反応を 起こさせることが出来るのである。
[0036] 塩ィ匕第 1スズ濃度範囲を定めた理由に関しては、上述の酸溶液として酒石酸を用 いた場合と同様である。
[0037] チォ尿素は、置換析出するスズの錯化剤であり、平滑ィ匕効果を発揮するものであり 、同時に銅の溶解プロモータとして機能するものである点で、酸溶液として酒石酸を 用いた場合と同様である。しかしながら、ァスコルビン酸を用いた場合の方力 チォ 尿素含有量を減量することが可能となる。チォ尿素濃度が 5gZl未満となると、銅粉 の溶解速度が遅くなり工業的生産性を満足せず、得られる含銅スズ粉の表面が粗く 、導電性ペーストに加工したときの増粘要因となるのである。一方、チォ尿素濃度が 3 OOgZlを超えても、置換析出して得られる含銅スズ粉の表面が、それ以上に滑らか になる事はなぐ資源の無駄遣いとなるのである。
[0038] ァスコルビン酸は、チォ尿素との相互作用により銅粉を溶解させるための酸化剤で あり、特に酸ィ匕した銅粉の表面を迅速に溶解し、置換反応を迅速に行わせるための 主剤としての役割を果たすのである。ここでァスコルビン酸濃度が lOgZl未満となる と、銅粉の表面の迅速な溶解が起こらなくなるため、置換反応自体が迅速に進行し なくなるのである。そして、上記塩ィ匕第 1スズ濃度との関係に置いて、ァスコルビン酸 濃度が 300gZlを超える範囲にァスコルビン酸量を増やしても、銅粉の溶解速度とス ズの析出速度とのバランスが崩れ、元の銅粉の粉体特性を変動させることなぐ迅速 な置換反応を起こさせることが出来なくなるのである。
[0039] そして、上記 、ずれかの溶液を用いて置換反応を起こさせるためには、溶液温度を
30°C〜90°Cの範囲とし、十分に攪拌しながら、置換反応を起こさせることが好ましい のである。溶液温度が 30°C未満となると、スズの置換速度が遅くなり反応時間が掛か るため、工業的に求められる生産性を満足しないのである。一方、溶液温度が 90°C を超えると、スズの置換速度が速くなりすぎて、元の銅粉の粉体特性が変動しやすく なり、溶液寿命も短命化するのである。
[0040] また、銅粉とスズ置換メツキ液との接触方法は、銅粉を水溶液中に分散させたスラリ 一状態とし、ここにスズ置換メツキ液を添加する方法を採用することが好ましい。このと きのスズ置換メツキ液の添カ卩は、一括で添加しても、一定の添加速度を維持して緩や かに添加しても構わない。し力しながら、元の銅粉の粉体特性を極力変動させないた めには、 10分以上、より好ましくは 1時間以上の時間をかけた緩やかな添カ卩が好まし いのである。
実施例 1
[0041] 以下の実施例では、元の銅粉の粉体特性を変動させることなぐ迅速な置換反応を 起こさせることが出来る条件として、以下の置換反応を行った。 50gの銅粉を 10Lの 純水に分散させ、液温を 40°Cに維持した銅粉スラリーを調整し、ここにスズ置換メッ キ液 5Lを所定時間かけて添加して、本件発明に係る含銅スズ粉を得た。このときの スズ置換メツキ液は、塩ィ匕第 1スズを 16. Og/Uチォ尿素を 146. 4gZl、酒石酸を 1 03. 6gZlをそれぞれ含む水溶液であり、液温 40°Cとした。そして、この実施例では 、表 3に掲げる略球形状の銅粉(図 1)を出発原料として、上記置換方法を用いスズ 置換メツキ液を 10分かけて緩やかに添加して、本件発明に係る含銅スズ粉(図 2)を 得たのである。なお、この実施例 1で得られた含銅スズ粉の残留銅分は 15. 2wt%で めつに。
[0042] [表 3]
Figure imgf000011_0001
[0043] この表 3から分力るように、得られた含銅スズ粉は一次粒子径が 2. 03 μ mという微 粒の粉体であり、出発原料である銅粉の粉体特性と、得られた含銅スズ粉の粉体特 性とに大きな変動が無いことが分力るのである。このことは、図 1及び図 2を対比する ことからも理解出来る。
実施例 2
[0044] 以下の実施例では、元の銅粉の粉体特性を変動させることなぐ迅速な置換反応を 起こさせることが出来る条件として、実施例 1と同様の置換反応を行った。そして、こ の実施例では、表 4に掲げる略球形状の銅粉(図 3)を出発原料として、上記置換方 法を用いスズ置換メツキ液を 2時間かけて緩やかに添加して、本件発明に係る含銅ス ズ粉(図 4)を得たのである。なお、この実施例 2で得られた含銅スズ粉の残留銅分は 5. Owt%であった。
[0045] [表 4]
Figure imgf000012_0001
[0046] この表 4から分力、るように、得られた含銅スズ粉は一次粒子径が 1. 17 mという微 粒の粉体であり、出発原料である銅粉の粉体特性と、得られた含銅スズ粉の粉体特 性とに大きな変動が無いことが分力るのである。このことは、図 3及び図 4を対比する ことからも理解出来る。
実施例 3
[0047] 以下の実施例では、元の銅粉の粉体特性を変動させることなぐ迅速な置換反応を 起こさせることが出来る条件として、実施例 1と同様の置換反応を行った。そして、こ の実施例では、表 5に掲げる略球形状の銅粉(図 5)を出発原料として、上記置換方 法を用いスズ置換メツキ液を 2時間かけて緩やかに添加して、本件発明に係る含銅ス ズ粉(図 6)を得たのである。なお、この実施例 3で得られた含銅スズ粉の残留銅分は 3. 1 %であった。
[0048] [表 5] 略 球 状 粉
項 目 単位 置換前の銅粉 置換後の含銅スズ粉 変化率 (%) 平均一次粒径 μ. m 0 . 3 2 0 . 2 7 - 1 5 . 6
D s o 0 . 4 1 0 . 5 9 - [0049] この表 5から分力るように、得られた含銅スズ粉は一次粒子径が 0. 27 μ mと 、ぅ微 粒の粉体であり、出発原料である銅粉の粉体特性と、得られた含銅スズ粉の粉体特 性とに大きな変動が無いことが分力るのである。このことは、図 5及び図 6を対比する ことからも理解出来る。
実施例 4
[0050] 以下の実施例では、元の銅粉の粉体特性を変動させることなぐ迅速な置換反応を 起こさせることが出来る条件として、実施例 1と同様の置換反応を行った。そして、こ の実施例では、表 6に掲げる略球形状の銅粉(図 5)を出発原料として、上記置換方 法を用いスズ置換メツキ液を一括で添加して、本件発明に係る含銅スズ粉(図 7)を得 たのである。なお、この実施例 4で得られた含銅スズ粉の残留銅分は 26. 9wt%であ つた
[0051] [表 6]
Figure imgf000013_0001
[0052] この表 6から分かるように、得られた含銅スズ粉は一次粒子径が 0. 30 μ mと!、ぅ微 粒の粉体であり、出発原料である銅粉の粉体特性と、得られた含銅スズ粉の粉体特 性とに大きな変動が無いことが分力るのである。このことは、図 5及び図 7を対比する ことからも理解出来る。
実施例 5
[0053] 以下の実施例では、元の銅粉の粉体特性を変動させることなぐ迅速な置換反応を 起こさせることが出来る条件として、実施例 1と同様の置換反応を行った。そして、こ の実施例では、表 7に掲げる粉粒がフレーク形状をした銅粉(図 8)を出発原料として 、上記置換方法を用いスズ置換メツキ液を 2時間かけて緩やかに添加して、本件発 明に係る含銅スズ粉(図 9)を得たのである。なお、この実施例 5で得られた含銅スズ 粉の残留銅分は 17. 7wt%であった。 [0054] [表 7]
Figure imgf000014_0001
[0055] この表 7から分力るように、得られた含銅スズ粉は一次粒子径が 0.53 t 、ぅ微 粒の粉体であり、出発原料であるフレーク銅粉の粉体特性と、得られた含銅スズ粉の 粉体特性とに大きな変動が無いことが分力るのである。このことは、図 8及び図 9を対 比することからも理解出来る。
実施例 6
[0056] 以下の実施例では、元の銅粉の粉体特性を変動させることなぐ迅速な置換反応を 起こさせることが出来る条件として、以下の置換反応を行った。 25gの銅粉を 2Lの純 水に分散させ、液温を 50°Cに維持した銅粉スラリーを調整し、ここにスズ置換メツキ 液 3Lを所定時間かけて添加して、本件発明に係る含銅スズ粉を得た。このときのス ズ置換メツキ液は、塩ィ匕第 1スズを 27. Og/Uチォ尿素を 43.3gZl、ァスコルビン 酸を 43.3gZlをそれぞれ含む水溶液であり、液温 50°Cとした。そして、この実施例 では、表 8に掲げる略球形状の銅粉(図 3)を出発原料として、上記置換方法を用い スズ置換メツキ液を 5分かけて添加して、本件発明に係る含銅スズ粉(図 10)を得た のである。なお、この実施例 6で得られた含銅スズ粉の残留銅分は 24.5wt%であつ た。
[0057] [表 8] 略 球 状 粉
項 目 単位 置換前の銅粉 置換後の含銅スズ粉 変化率 (%) 平均一次粒径 m 1. 32 1. 1 4 - 1 3. 6
Dso 1. 34 1. 21 一 [0058] この表 8から分力るように、得られた含銅スズ粉は一次粒子径が 1. 14 mと 、ぅ微 粒の粉体であり、出発原料である銅粉の粉体特性と、得られた含銅スズ粉の一次粒 子径に大きな変動が無いことが分力るのである。このことは、図 3及び図 10を対比す ることからも理解出来る。
比較例
[0059] この比較例では、アトマイズ法で得られた 2種類のスズ粉を示している。このアトマイ ズ法で得られた 2種類のスズ粉を示したの力 図 11及び図 12である。これらの走査 型電子顕微鏡写真カゝら分力ゝるように、このアトマイズ法で得られた粉体は、一次粒子 径のバラツキが大きいため、走査型電子顕微鏡の視野中の粒子形状力も直接観察 する平均一次粒子径を測定する意義はな 、と考える。
[0060] 図 11及び図 12に示した走査型電子顕微鏡像と、上記各実施例とを対比すると、明 らかに実施例に記載の含銅スズ粉の方が微粒でも一次粒径が揃っていることが明ら 力となるのである。
産業上の利用可能性
[0061] 本件発明に係る含銅スズ粉は、銅粉を出発原料として湿式置換法で製造したもの であり、この製造方法で得られた含銅スズ粉は、出発原料である銅粉の粉体特性と、 得られた含銅スズ粉の粉体特性とに大きな変動が無いため、微粒略球状銅粉、フレ 一ク銅粉等の扁平銅粉を使用して、微粒銅粉と同程度の粉体特性を持つ、微細回 路に対応可能な導電性ペーストの製造を可能とする。
[0062] また、製造技術的観点から見ても、最も安定的に微粒粉体とする技術の確立された 銅粉を原料とすることができ、アトマイズ法と比べたときに極めて微粒の含銅スズ粉を 巿場に供給できるものとなる。
図面の簡単な説明
[0063] [図 1]置換前の略球状の銅粉を観察した走査型電子顕微鏡像。
[図 2]置換後に得られた含銅スズ粉を観察した走査型電子顕微鏡像。
[図 3]置換前の略球状の銅粉を観察した走査型電子顕微鏡像。
[図 4]置換後に得られた含銅スズ粉を観察した走査型電子顕微鏡像。
[図 5]置換前の略球状の銅粉を観察した走査型電子顕微鏡像。 圆 6]置換後に得られた含銅スズ粉を観察した走査型電子顕微鏡像。
圆 7]置換後に得られた含銅スズ粉を観察した走査型電子顕微鏡像。
圆 8]置換前のフレーク形状の銅粉を観察した走査型電子顕微鏡像。
圆 9]置換後に得られたフレーク形状の含銅スズ粉を観察した走査型電子顕微鏡像 圆 10]置換後に得られた含銅スズ粉を観察した走査型電子顕微鏡像。
圆 11]アトマイズ法で得られたスズ粉を観察した走査型電子顕微鏡像。
圆 12]アトマイズ法で得られたスズ粉を観察した走査型電子顕微鏡像。

Claims

請求の範囲
[1] 銅粉を出発原料として湿式置換法で製造した含銅スズ粉であって、未置換の残留銅 量が 30wt%以下であることを特徴とした含銅スズ粉。
[2] 銅粉を出発原料として湿式置換法で製造した含銅スズ粉であって、
当該含銅スズ粉の平均一次粒径が 5 μ m以下の略球状粉粒カゝらなることを特徴とし た請求項 1に記載の含銅スズ粉。
[3] 銅粉を出発原料として湿式置換法で製造した含銅スズ粉であって、
当該含銅スズ粉の平均一次粒径が 5 μ m以下のフレーク粉状粉粒カゝらなることを特 徴とした請求項 1に記載の含銅スズ粉。
[4] 粉粒の持つ平均アスペクト比が、 1〜20である扁平形状をしたことを特徴とした請求 項 3に記載のフレーク粉状粉粒からなる含銅スズ粉。
[5] 銅粉を出発原料として湿式置換法で製造した含銅スズ粉であって、
出発原料である銅粉の平均一次粒径、扁平形状粉に関してのアスペクト比の値を 基準としたときに、得られた含銅スズ粉の平均一次粒径及び扁平形状粉に関しての アスペクト比の変化率が 20%〜 + 5%であることを特徴とした請求項 1〜請求項 4 の!、ずれかに記載の含銅スズ粉。
[6] 請求項 1〜請求項 5の ヽずれかに記載の含銅スズ粉を製造する方法であって、 銅粉とスズ置換メツキ液とを接触させ、銅粉を構成する銅成分を溶解させスズを置 換析出させる湿式置換法を用いることを特徴とする含銅スズ粉の製造方法。
[7] スズ置換メツキ液は、塩化第 1スズ、チォ尿素、酸溶液を含む水溶液であることを特 徴とする請求項 6に記載の含銅スズ粉の製造方法。
[8] 請求項 1〜請求項 5の ヽずれかに記載の含銅スズ粉と他の粉体とを混合して得られ る混合粉体。
[9] 請求項 1〜請求項 5の 、ずれかに記載の含銅スズ粉を用いたことを特徴とした導電 性ペースト。
[10] 請求項 8に記載の混合粉体を用いたことを特徴とした導電性ペースト。
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