WO2005008338A1 - ネガ型感光性樹脂組成物及びネガ型感光性エレメント - Google Patents

ネガ型感光性樹脂組成物及びネガ型感光性エレメント Download PDF

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WO2005008338A1
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negative photosensitive
photosensitive resin
liquid crystal
substrate
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PCT/JP2004/010184
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Naoki Yamada
Manabu Saitou
Hiroyuki Tanaka
Hiroshi Yamazaki
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Hitachi Chemical Co., Ltd.
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Definitions

  • the present invention relates to a negative photosensitive resin composition, a negative photosensitive element, a method for producing a projection having a curved surface or a projection for controlling liquid crystal alignment using the same, and a liquid crystal alignment control obtained by the production method.
  • the present invention relates to a projection having a liquid crystal alignment control projection, and a liquid crystal panel using the substrate.
  • a liquid crystal display device (hereinafter abbreviated as LCD) having image quality comparable to a CRT (Cathode Ray Tube), and having characteristics of being thin and lightweight is considered to be an image display device as an alternative to a CRT, such as a personal computer. It has been incorporated into many consumer devices such as OA devices and televisions, as well as home appliances, and the market is expected to expand further.
  • LCD liquid crystal display device
  • TFT-LCD Thin Film Transistor
  • TN Transmission Nematic
  • TN-type TFT-LCDs have been adopted from a relatively early stage especially for A equipment, which involves a lot of individual work.However, multiple people see the same screen, that is, multiple people with different viewing angles can watch at the same time. Adoption in home appliances, such as those for television applications, is expected to be delayed.
  • VA Vertical Aligned
  • an MVA (Multi-domain Vertical Alignment) method has been proposed (for example, Japanese Patent No. 2947350, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-193975). Reference).
  • the feature of this method is that the viewing angle dependency is reduced by providing projections for controlling the alignment of the liquid crystal when a voltage is applied, respectively, on the liquid crystal layer side of a pair of substrates.
  • a liquid crystal alignment control projection on a substrate for realizing the MVA method is formed using a liquid positive-type photosensitive resin composition. That is, it is formed by laminating a positive photosensitive resin composition on a substrate using a wet process such as a spin coating method, providing a resin pattern by a photo process, and then performing a curing process.
  • the method of laminating a liquid resin composition in the wet process has various problems as the size of the substrate to be laminated increases.
  • the film thickness uniformity there is a problem that the dispersion of the film thickness on the same substrate becomes large due to slight blurring of the substrates to be laminated, slight distortion of the substrate at the time of lamination, and surrounding airflow at the time of lamination.
  • Variations in the thickness of the resin composition layer lead to variations in the height of the liquid crystal alignment control projections, which causes display unevenness.
  • the positive-type resin composition is generally in a liquid state, it is inconvenient to handle and store the resin composition, and since it is a wet process, the process of forming the resin composition layer on the substrate is not performed. Not many resists are discarded without becoming unnecessary.
  • An object of the present invention is to solve the problems in the liquid positive photosensitive resin composition and achieve the following objects.
  • an object of the present invention is to provide a negative photosensitive resin composition capable of forming a projection for controlling liquid crystal alignment that achieves an accuracy higher than that formed by the positive photosensitive resin composition. It is to be.
  • Another object of the present invention is to provide the above-described negative working photosensitive material, which can be used in a transfer method (laminating method), can be easily stored, can be used without waste, and has excellent film thickness stability.
  • An object of the present invention is to provide a photosensitive element using a functional resin composition.
  • Another object of the present invention is to provide the negative photosensitive resin composition or the photosensitive element. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a projection having a curved surface using the method.
  • Another object of the present invention is to provide a method for producing a projection for controlling liquid crystal alignment using the negative photosensitive resin composition or the photosensitive element.
  • Another object of the present invention is to provide a projection for controlling liquid crystal alignment excellent in uniformity.
  • Another object of the present invention is to provide a substrate having projections for controlling liquid crystal orientation, which enables a liquid crystal panel to be manufactured with high yield.
  • Still another object of the present invention is to provide a liquid crystal panel having reduced viewing angle dependence, which is suitably used not only for OA equipment but also for home electric appliances.
  • a reaction containing (a) an alkali-soluble resin, (b) a reactive monomer, and (c) a photoreaction initiator and being compounded to achieve such an object.
  • the present invention provides a negative photosensitive resin composition characterized in that the monofunctional reactive monomer accounts for 50% or more of the total mass parts of the reactive monomer.
  • the surface shape of the protrusion is a smooth curved surface, the height of the protrusion is 0.5-5 / im, and the accuracy of the height of the protrusion is ⁇ 0. .1 ⁇ m or less is provided for a liquid crystal alignment control projection.
  • a negative photosensitive element that can be used for a transfer method (laminate method), can be easily stored, can be used without waste, and has excellent film thickness stability can be used.
  • a photosensitive element having a negative photosensitive resin composition layer using the negative photosensitive resin composition on a body is provided.
  • the negative-type photosensitive resin composition or the negative-type photosensitive resin composition layer of the negative-type photosensitive element is laminated on a substrate, and A step of forming a negative photosensitive resin composition layer, (II) a step of patterning the negative photosensitive resin composition layer by irradiation with actinic rays, ( ⁇ ) a step of obtaining a resin pattern by development, and (IV) There is provided a method for producing a projection having a curved surface, the method including at least a step of heating a resin pattern.
  • the negative-type photosensitive resin composition or the negative-type photosensitive resin composition layer of the negative-type photosensitive element is laminated on a substrate, and Forming a negative photosensitive resin composition layer; (II) irradiating an actinic ray to form a negative photosensitive resin composition.
  • a method for producing a projection for controlling liquid crystal alignment which comprises at least a step of patterning a composition layer, a step of (III) obtaining a resin pattern by development, and a step of (IV) obtaining a projection having a smooth curved surface by heating.
  • a substrate having the projection for controlling liquid crystal alignment.
  • a liquid crystal panel using a substrate having the liquid crystal alignment control projection.
  • FIG. 1 is a conceptual diagram showing a state where a negative photosensitive resin composition of the present invention is laminated on a glass substrate, and a photomask is placed with a space of 100 ⁇ m therebetween.
  • 1 is a glass substrate
  • 2 is a negative photosensitive resin composition layer
  • 10 is a photomask.
  • FIG. 2 is a conceptual diagram of a glass substrate after exposure and alkali development of a negative photosensitive resin composition of the present invention, and a resin pattern obtained on the glass substrate.
  • 1 indicates a glass substrate
  • 3 indicates a resin pattern formed using a negative photosensitive resin composition.
  • FIG. 3 is a conceptual diagram of a glass substrate having a projection for controlling liquid crystal alignment according to the present invention.
  • 1 indicates a glass substrate
  • 4 indicates a projection for controlling liquid crystal alignment.
  • the present invention is not limited to a TFT-LCD, but may be applied to electrodes such as a simple matrix type LCD and a plasma address type LCD.
  • the present invention is applicable to an LCD in which a liquid crystal layer is provided between a pair of substrates having a liquid crystal and a voltage is applied between the electrodes to control a liquid crystal arrangement direction to perform display.
  • the present invention is not limited to this.
  • the negative photosensitive resin composition of the present invention contains (a) an alkali-soluble resin, (b) a reactive monomer, and (c) a photoreaction initiator. 5 of all parts by mass
  • the resin composition is characterized in that monofunctional reactive monomers account for 0% or more.
  • the (a) alkali-soluble resin used in the present invention has solubility, dispersibility, and the like, which are dissolved and dispersed in an alkaline developer, and the desired development processing is performed.
  • an alkaline developer there are no particular restrictions on things.
  • (meth) acrylic resin, hydroxystyrene resin, novolak resin, polyester resin and the like can be mentioned.
  • (a) all-soluble resins particularly preferred are copolymers of the following monomers (1) and (2).
  • Acrylic acid methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, itaconic acid, citraconic acid, mesaconic acid, cinnamic acid, monosuccinic acid (2- (meta) aryliloxixyl), ⁇ -carboxy
  • the content of the copolymer component derived from the monomer (1) is preferably 1 to 50% by mass, particularly preferably 530% by mass.
  • the molecular weight of the alkali-soluble resin must be 5,000,000,000,000,000 as the weight average molecular weight in terms of polystyrene by GPC (hereinafter, also simply referred to as "weight average molecular weight (Mw)"). It is more preferably 10,000-300,000.
  • the acid value of the alkali-soluble resin is preferably from 20 to 300 (KOHmg / g), more preferably from 30 to 250 (KOHmg / g), and from 50 to 150 (KOHmg / g). Les, preferred to. When the acid value is less than 20 (KOHmg / g), development with an aqueous alkali solution becomes difficult, and when it exceeds 300 (KOHmg / g), peeling of the resin pattern from the substrate frequently occurs.
  • the reactive monomer (b) used in the present invention at least 50% of the total mass of the reactive monomer to be blended is a monofunctional reactive monomer, that is, an ethylenically unsaturated bond is contained in the molecule.
  • a monofunctional reactive monomer that is, an ethylenically unsaturated bond is contained in the molecule.
  • Monofunctional reactive monomers include nourphenylpolyoxyethylene (meth) atalylate, ⁇ - chloro-1-hydroxypropyl-/ 3 '— (meth) atalyloyloxetyl-o_phthalate, — Phthalic acid-based compounds such as hydroxyethynole- ⁇ '— (meth) atalyloyloxethyl _ ⁇ _phthalate, ⁇ -hydroxypropyl- ⁇ '-(meth) atalyloyloxyshethyl ⁇ _phthalate, and (meth) a Examples thereof include alkyl (meth) acrylate such as methyl acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate.
  • a monofunctional reactive monomer capable of realizing a projection having a smooth curved surface
  • a phthalic acid-based compound is preferably used for realizing the smooth curved surface.
  • These monofunctional reactive monomers may be used alone or in combination of two or more.
  • These monofunctional reactive monomers may be used in combination with other polyfunctional reactive monomers, that is, reactive monomers having two or more ethylenically unsaturated bonds in the molecule.
  • a compound obtained by reacting an ⁇ , ⁇ monounsaturated carboxylic acid with a polyhydric alcohol, a bisphenol-based (meth) atalylate compound, a glycidyl group-containing compound, and a / 3-unsaturated carboxylic acid Compounds obtained by the reaction, (meth) atalylate toys having a urethane bond in the molecule and the like can be mentioned.
  • Examples of the compound obtained by reacting the above-mentioned polyhydric alcohol with / 3-unsaturated carboxylic acid include, for example, polyethylene glycol di (meth) acrylate having 214 ethylene groups, propylene Polypropylene glycol di (meth) acrylate having 2 to 14 groups, Trimequilonorema. Rono Kunji (Meta) Atarilate Trimequilo 'Lev.
  • Examples of the ⁇ -unsaturated carboxylic acid include (meth) acrylic acid and the like.
  • the bisphenol-based (meth) atalylate conjugates that is, 2,2_bis (4-((meth) acryloxypolyethoxy) phenyl) propane
  • 2,2_bis (4-((meth) acryloxypolyethoxy) phenyl) propane include, for example, 2,2- Bis (4 _ ((meth) atali mouth xydiethoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4-((meth) atalyloxytriethoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (4-1-((meth) ataryloxy) Pentaethoxy) pheninole) propane, 2,2-bis (4-((meth) atali-acid ethoxy) phenyl) propane, and the like, and 2,2-bis (4- (methacryloxypentaethoxy) ) Phenyl) propane is commercially available as BPE-500 (product name, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).
  • Examples of the compound obtained by reacting the above glycidinole group-containing compound with a, monounsaturated carboxylic acid include, for example, trimethylolpropane triglycidyl ether tri (meth) atalylate, 2,2-bis ( 4-((meta) Atari mouth xii 2-hydroxypropyloxy) phenyl)
  • Examples of the (meth) atalylate conjugate having a urethane bond in the molecule include a (meth) acrylic monomer having a ⁇ group at the ⁇ -position, isophorone diisocyanate, and 2,6_toluene. Addition products with diisocyanate, 2,4-toluene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, etc., and tris ((meth) atalicyclic xyltetratetraethylene glycol isocyanate) hexane. Methylene isocyanurate, ⁇ modified urethane di (meth) acrylate, and ⁇ , ⁇ modified urethane di (meth) acrylate.
  • represents ethylene oxide
  • modified compound has a block structure of an ethylene oxide group.
  • represents propylene oxide
  • ⁇ modified compound is a propylene oxide group Block structure.
  • reactive monomers having two or more ethylenically unsaturated bonds in the molecule are used alone or in combination of two or more.
  • bisphenol A (meth) acrylate A system compound is preferably used.
  • the monofunctional reactive monomer preferably occupies 50 to 90% of the total mass of the monomer, more preferably occupies 60 to 85% of the total mass, and more preferably 70 to 80%. %. If the monofunctional reactive monomer accounts for 90% or more, the curing of the pattern becomes insufficient, and the accuracy of the thickness of the obtained pattern may deteriorate.
  • Examples of the (c) photoreaction initiator used in the present invention include benzophenone, N, N, N ′, N′-tetramethinolee 4,4′-diaminobenzozophenone (Michler's ketone), ⁇ , ⁇ , ⁇ ′, ⁇ '-tetraethyl-4,4'-diaminobenzophenone, 4-methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, 2_benzyl-2-dimethylamino-1_ (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2,2-dimethoxy-1 Aromatic ketones such as 1,2-diphenylethane 1 1-one, 1-hydroxy-cyclohexylofeninole ketone, 2-methyl-1_ (4- (methylthio) phenyl) _2_morpholinopropanone-1, 2- Thiethylthioxanthone, 2-propylthioxanthone, 2-isopropylthiox
  • the substituents substituted on the two 2,4,5-triarylinoleimidazole may be the same or different.
  • a thioxanthone compound and a tertiary amine compound may be combined, such as a combination of getyl thioxanthone and dimethylamino benzoic acid.
  • 2,4,5-triarylimidazole dimer it is preferable to use 2,4,5-triarylimidazole dimer. These are used alone or in combination of two or more.
  • the negative photosensitive resin composition of the present invention preferably contains (a) 65 to 80 parts by mass of an alkali-soluble resin and (b) 20 to 35 parts by mass of a reactive monomer. (A) When the amount of the alkali-soluble resin is less than 65 parts by mass, the adhesion to the substrate may be reduced. When the amount is more than 80 parts by mass, it may be difficult to obtain a projection having a smooth curved surface stably.
  • the amount of the photoreaction initiator (c) used in the present invention is desirably 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total of (a) and (b). If the amount is less than 0.1 part by mass, the photosensitivity tends to be low, and if it exceeds 10 parts by mass, the heat resistance tends to decrease.
  • the negative photosensitive resin composition of the present invention includes a dye, a color former, a plasticizer, a pigment, a polymerization inhibitor, a surface modifier, a stabilizer, an adhesion promoter, A thermosetting agent or the like can be added as needed. These are used alone or in combination of two or more.
  • the negative photosensitive resin composition of the present invention can be used by dissolving it in a solvent, if necessary.
  • the solvent include methanol, ethanol, propanol, isopropanol, 1-methoxy_2_propanol, acetone, methylethylketone methinoreserosonolev, etinoreserosonolev, toluene, and ethyl acetate.
  • examples thereof include ole, ethyl ethyl lactate, acetonitrile, tetrahydrofuran, chloroform, N, N-dimethylhonoleamide, and propylene glycol monomethyl ether. These may be used alone or in combination of two or more. From the viewpoint of ease of drying when forming the resin composition layer, acetone, methyl ethyl ketone and toluene are preferred.
  • the thickness of the negative-type photosensitive resin composition layer in the present invention may be a thickness at which a projection having a desired height is finally obtained. — 12 zm is more preferred, and 39 xm is particularly preferred.
  • the negative photosensitive resin composition of the present invention it has heat resistance and chemical resistance, the surface of the projection is a smooth curved surface, and the height of the projection is 0.5. — It is possible to obtain a projection for controlling liquid crystal alignment with a height of 5 zm and a height accuracy of ⁇ 0.1 ⁇ m or less.
  • the height of the protrusion refers to the height of the apex of the protrusion on the substrate from the substrate, and the accuracy of the height of the protrusion refers to the height of each obtained protrusion on the same substrate.
  • the negative photosensitive element of the present invention can be obtained by laminating the negative photosensitive resin composition on an appropriate support.
  • a known support can be used without any particular limitation.
  • a film having a thickness of about 5 to 100 / im made of a material such as polypropylene such as polypropylene or polyester such as polyethylene terephthalate is preferable because it is particularly preferable in that it is peeled off after patterning with a light beam.
  • a cover film may be further laminated on the negative photosensitive element.
  • cover film examples include a film made of polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polycarbonate, or the like and having a thickness of about 5 to 100 ⁇ m.
  • the negative-type photosensitive element of the present invention is wound into a roll. Can be stored.
  • a method for laminating the negative photosensitive resin composition in the present invention a known method can be used.
  • a doctor blade coating method, a Meyer bar coating method, a roll coating method, a screen coating method, Spinner coating method, ink jet coating method, spray coating method, dip coating method, gravure coating And a curtain coating method a known method can be used.
  • the drying temperature is preferably from 60 to 130 ° C, and the drying time is preferably from 1 minute to 1 hour.
  • a negative photosensitive resin composition is laminated (coated) on a substrate, or a negative photosensitive resin composition layer of a negative photosensitive element is laminated (laminated) on a substrate. Then, a step of forming a negative photosensitive resin composition layer on the substrate, ( ⁇ ) a step of patterning the negative photosensitive resin composition layer by irradiation with actinic rays, and ( ⁇ ) a resin pattern by development. And (IV) at least performing a step of heating the resin pattern.
  • a projection having a curved surface can be manufactured.
  • the projection for controlling liquid crystal alignment of the present invention can be formed by (I) laminating (coating) a negative photosensitive resin composition on a substrate, or a negative photosensitive resin of a negative photosensitive element. Laminating (laminating) the composition layer so as to be in close contact with the substrate to form a negative photosensitive resin composition layer on the substrate; and (II) irradiating with an actinic ray to form the negative photosensitive resin composition layer.
  • (III) a step of selectively removing a portion of the resin composition layer that has not been irradiated with actinic rays by development to form a pattern made of the resin composition, and (IV) It can be manufactured by performing at least a step of obtaining a projection having a smooth curved surface by heating.
  • the development is performed by a known method such as a dipping method, a spray method, brushing, and strapping using an alkaline aqueous solution. If necessary, two or more developing methods may be used in combination.
  • the alkaline aqueous solution for example, a dilute solution of 0.1 to 5% by weight of sodium carbonate, a dilute solution of 0.1 to 5% by weight of potassium carbonate, and a dilute solution of 0.1 to 15% by weight of sodium hydroxide are used.
  • the pH of the alkaline aqueous solution is preferably in the range of 911, and the temperature is adjusted according to the developability of the negative photosensitive resin composition layer. Further, a surfactant, an antifoaming agent, an organic solvent and the like may be mixed in the alkaline aqueous solution.
  • the calorie heat temperature is 200 300. C force preferred, 230-280. More preferred than C force, 250-260 ° C force S more preferred.
  • the heating time is preferably at least 0.5 hour, more preferably 0.5-5 hours, and even more preferably 1-2 hours.
  • a known actinic light source can be used, and examples thereof include a carbon arc lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, and a xenon lamp. Pumps and the like, and are not particularly limited as long as they effectively emit actinic rays such as ultraviolet rays.
  • the irradiation amount of the actinic ray is usually 10 l ⁇ 10 4 mj / cm 2 , and the irradiation may be accompanied by heating.
  • the active ray irradiation dose is less than 10 mj / cm 2, the effect tends to be insufficient, and when it is more than 1 X 10 4 mj / cm 2 , there is ⁇ around toward the photosensitive resin layer is discolored.
  • Examples of the substrate on which the negative photosensitive resin composition layer is formed include a transparent substrate that exhibits good visible light transmittance suitable for displaying an image.
  • Examples of the transparent substrate include a substrate having a thickness of about 0.15 mm, such as a glass plate and a synthetic resin plate, on which electrodes for driving a liquid crystal are formed.
  • Examples of the electrode for driving the liquid crystal include an ITO (indium tin oxide) electrode and the like.
  • the pressure of the laminating roll be a linear pressure of 50—1 ⁇ 10 5 N / m, more preferably 2.5 ⁇ 10 2 —5 ⁇ 10 4 N / m. It is particularly preferred to be 5 ⁇ 10 2 —4 ⁇ 10 4 N / m. If the pressure is less than 50 N / m, there is a tendency that the adhesive cannot be sufficiently adhered. If the pressure exceeds 1 ⁇ 10 5 N / m, the photosensitive element tends to cause edge fusion.
  • the lamination temperature is preferably 100-160 ° C, and more preferably 110-130 ° C.
  • the substrate having the liquid crystal alignment control projections according to the present invention includes, for example, the liquid crystal alignment control projections made of a negative photosensitive resin composition that has been patterned and cured according to the above-described manufacturing process. It is obtained by forming.
  • a liquid crystal panel using a substrate having a projection for liquid crystal control is, for example, separately provided with two substrates having the projection for liquid crystal control or one substrate having the projection for liquid crystal control. It is obtained by providing a substrate to be manufactured in a suitable space, laminating the space, injecting liquid crystal into the space, and sealing the space with a sealant or the like. Wiring to a driver IC or the like is appropriately laid on the liquid crystal panel for driving the liquid crystal.
  • the reactive monomer to be blended 50% or more of the total mass parts of the reactive monomer to be blended is a monofunctional type.
  • a reactive monomer By using a reactive monomer, the formation of projections for controlling liquid crystal alignment, which has conventionally been achieved only with a positive photosensitive resin composition, can be achieved using a negative photosensitive resin composition. Further, the projections for controlling liquid crystal alignment produced using the negative photosensitive resin composition are excellent in thickness accuracy, and therefore, have more uniform liquid crystal alignment as compared with the case using the positive photosensitive resin composition.
  • a substrate having control projections can be obtained, and a liquid crystal panel using the substrate can be manufactured with high yield.
  • a negative-type photosensitive resin composition having the composition shown in Table 1 was prepared and applied on a glass substrate (3 cm x 3 cm, 0.5 mm thick) by spin coating, and then heated at 110 ° C using a hot air convection dryer. For 3 minutes to form a negative photosensitive resin composition layer (thickness: 4 ⁇ m), thereby producing a laminate in which the glass substrate and the negative photosensitive resin composition layer were laminated (FIG. 1). On the laminated substrate, a photomask was set on the side of the negative photosensitive resin composition layer with a space of 100 ⁇ interposed therebetween.
  • a 3 kW ultra-high pressure mercury lamp (HMW-590, manufactured by Oak Co., Ltd.) UV light of 100 mj / cm 2 (Fig. 2).
  • the laminate was subjected to spray development using a developer containing 0.5 wt% of lithium carbonate and 0.5 wt% of a surfactant to obtain a substrate having a desired resin pattern.
  • the resin pattern had a rectangular cross section, but when the substrate was heated and cured at 250 ° C. for one hour, a substrate having a liquid crystal alignment control projection having a desired smooth curved surface was obtained. ( Figure 3, Table 2).
  • the negative photosensitive resin composition of Example 1 was applied on a 50-zm-thick polyethylene terephthalate film (support) using a die coating method so that the film thickness when dried was 4 ⁇ m. After drying with a hot air convection dryer at 110 ° C. for 3 minutes, the film was further covered with a polypropylene film having a thickness of 30 ⁇ m as a cover film to form a negative photosensitive element. While peeling off the polypropylene film of the obtained negative photosensitive element, A negative photosensitive resin composition layer on a substrate (3 cm X 3 cm, thickness 0.5 mm) at a roll temperature of 130 ° C, a roll linear pressure of 1500 N / m, and a speed of 1. Om / min.
  • a glass substrate, a negative photosensitive resin composition layer, and a support were laminated to produce a substrate.
  • the support of the substrate was peeled off, exposed, developed and cured in the same manner as in Example 1 to obtain a projection for controlling liquid crystal alignment (Table 2).
  • a negative photosensitive resin composition having the composition shown in Table 1 was prepared and applied on a glass substrate (3 cm ⁇ 3 cm, 0.5 mm thick) using a spin coating method, and the negative photosensitive resin composition layer was prepared. (Thickness: 4 ⁇ m), and a laminated body in which a glass substrate and a negative photosensitive resin composition layer were laminated was produced. On the laminated substrate, on the side of the negative-type photosensitive resin composition layer, a photomask was set with a space of ⁇ ⁇ interposed therebetween, and a 3 kW ultra-high pressure mercury lamp (HMW-590, Oak was irradiated with ultraviolet rays of 300 mj / cm 2 at Seisakusho).
  • HMW-590, Oak was irradiated with ultraviolet rays of 300 mj / cm 2 at Seisakusho.
  • the laminate was spray-developed using a developing solution containing 0.5 wt% of potassium carbonate and 0.5 wt% of a surfactant to obtain a substrate having a desired resin pattern.
  • the resin pattern had a rectangular cross section, the pattern after heating and curing the substrate at 250 ° C. for 1 hour was observed, and the resin pattern was rectangular and the desired surface was smooth.
  • a substrate having a curved liquid crystal alignment control projection was not obtained (Table 2).
  • a positive-type liquid resist is applied on a glass substrate (3 cm X 3 cm, thickness 0.5 mm) by spin coating to form the positive-type photosensitive resin composition layer (thickness 4 ⁇ m), A laminated body in which a glass substrate and a positive photosensitive resin composition layer were laminated was produced. Exposure was performed in the same manner as in Example 1 using a photomask capable of obtaining a resin pattern having the same dimensions as in Examples 1 and 2. After exposure, development was performed using a 0.5% TMAH aqueous solution to obtain a substrate having a desired resin pattern. The substrate having the resin pattern was heated at 220 ° C. for 1 hour to cure the resin pattern to obtain a substrate having a liquid crystal alignment control projection having a smooth curved surface. And 2 (Table 2). ⁇ Evaluation of heat resistance of pattern>
  • the substrates having the liquid crystal alignment control projections obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example 2 were each heated at 250 ° C. for 1 hour. After cooling to room temperature, the shape of the projections was observed and the thickness was measured. As a result, none of the projections for controlling the liquid crystal alignment had changed before heating (Table 2).
  • the substrates having the liquid crystal alignment control protrusions obtained in Examples 1, 2 and Comparative Example 2 were subjected to 30 minutes in 25 ° C pure water, 30 minutes in 50 ° C pure water, 30 minutes in 25 ° C isopropyl alcohol, and After standing in 25 ° C CN-methylpyrrolidone for 5 minutes under any condition, pulling up and drying, observing the shape of the protrusion and measuring the thickness, any protrusion for controlling liquid crystal alignment was found to be a chemical. There was no change from before immersion in Table 2 (Table 2).
  • indicates that no change was found in the projection shape and thickness as a result of the evaluation of the heat resistance or chemical resistance test.
  • Example 2 when compared with Example 1 in which a resin composition layer was formed on a glass substrate using a liquid negative photosensitive resin composition by a spin coating method, a film-like negative mold was used.
  • Example 2 in which the resin composition layer was formed on a glass substrate using a photosensitive element, the thickness accuracy of the projections for controlling the liquid crystal alignment was high, and the film stability was good.
  • the negative photosensitive resin composition of the present invention is suitably used for forming projections for controlling liquid crystal alignment.
  • the projections for controlling the liquid crystal alignment of the present invention have excellent height As compared with the case where a resin composition is used, a substrate having more uniform liquid crystal alignment control projections can be obtained, and a liquid crystal panel using the substrate can be manufactured with high yield.

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Abstract

 本発明は、ポジ型感光性樹脂組成物で形成されるもの以上の精度を実現する液晶配向制御用突起が形成可能な、ネガ型感光性樹脂組成物、及び、転写法(ラミネート方式)に用いることが可能な、保存が容易で無駄なく使うことが可能であり、膜厚安定性に優れる、前記ネガ型感光性樹脂組成物を用いた感光性エレメントを提供することを目的とする。本発明は、(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)反応性モノマー、及び、(c)光反応開始剤を含有し、かつ、配合される(b)反応性モノマーの全質量部の50%以上を単官能型反応性モノマーが占めることを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物、及び、支持体上に、前記ネガ型感光性樹脂組成物を用いたネガ型感光性樹脂組成物層を有するネガ型感光性エレメントに関する。

Description

明 細 書
ネガ型感光性樹脂組成物及びネガ型感光性エレメント
技術分野
[0001] 本発明は、ネガ型感光性樹脂組成物、ネガ型感光性エレメント、及び、それらを用 いた曲面を有する突起又は液晶配向制御用突起の製造方法、前記製造方法により 得られる液晶配向制御用突起、前記液晶配向制御用突起を有する基板、並びに、 前記基板を用いて成る液晶パネルに関する。
^景技術
[0002] CRT (Cathode Ray Tube)に匹敵する画質を備え、かつ薄型、軽量という特徴 を有する液晶表示装置(以下 LCDと略す)は、 CRTの代替となる画像表示装置と目 され、パーソナルコンピュータ等の OA機器向けをはじめ、テレビジョン向け等、多く の民生用機器 '家電機器に組み込まれており、その市場は一層の拡大が期待されて いる。
[0003] 中でも TFT (Thin Film Transistor)方式の LCD (以下 TFT— LCDと略す)は、 応答速度の速さから、特に 10インチ以上の大画面型 LCDの大部分を占めている。
[0004] TFT— LCDは従来、ノーマリホワイトモードの TN (Twisted Nematic)型 LCDが 一般的であった。しかし、この TN方式の欠点として、コントラスト、色再現性など、所 望の表示特性が実現されるのは、観察者が画面を正面から視認する場合に限られる 、即ち、視角が狭レ、こと (視角依存性)が挙げられる。そのため、特に個人での作業が 多い〇A機器向けには比較的早くから TN型 TFT-LCDは採用されてきたが、複数 人数が同一画面を見ること、即ち、視角が異なる複数人数が同時に視聴することが 予想されるテレビジョン用途向けなどの家電機器への採用は遅れていた。
[0005] また、 TFT—LCDの別の方式として、液晶の垂直配向を用レ、る VA (Vertical Ali gned)方式が提案された。 VA方式は、応答速度とコントラストに関しては TN方式より 格段に優れるものの、視角依存性に関しては TN方式と同様の問題が残されていた。
[0006] VA方式の視角依存性の解消手法として、 MVA(Multi— domain Vertical Ali gnment)方式が提案された(例えば、特許 2947350号公報、特開 2000 - 193975 号公報参照)。この方式の特徴は、 1対の基板の液晶層側にそれぞれ、電圧印加時 の液晶の配向を制御する突起を設けることで視角依存性を低減する点である。
[0007] MVA方式の応用による TFT— LCDの視角依存性低減は、テレビジョン用途に代 表される家電機器への LCD搭載を容易にし、これにより、それまでの OA機器向けの みならず、家電機器向けとしても CRTに代わる画像表示装置として LCDが急速に普 及することとなった。
[0008] MVA方式を実現するための基板上の液晶配向制御用突起は、液状のポジ型感 光性樹脂組成物を用いて形成されるのが一般的である。即ち、基板上にポジ型感光 性樹脂組成物をスピンコート法等のウエット工程を用いて積層し、フォトプロセスにて 樹脂パターンを設け、続レ、て硬化処理を行うことで形成される。
[0009] ウエット工程で液状の樹脂組成物を積層する方式は、積層する基板のサイズが大き くなるにつれ、様々な問題が生じている。特に膜厚均一性については、積層する基 板の微弱なブレ、積層時の基板のわずかな歪み、積層時の周囲の気流などが原因 で、同一基板内での膜厚バラツキが大きくなるという問題がある。樹脂組成物層の膜 厚バラツキは、液晶配向制御用突起の高さのバラツキに繋がり、表示ムラの原因とな る。また、ポジ型樹脂組成物は一般に液状であり、その使用 ·保存にあたっては取り 扱いに不便であり、ウエット工程であることから基板上への樹脂組成物層の形成プロ セスでは、樹脂組成物層とならずに廃棄されるレジストが少なくない。
発明の開示
[0010] 本発明は、前記液状ポジ型感光性樹脂組成物における問題を解決し、以下の目 的を達成することを課題とする。
[0011] 即ち、本発明の目的は、前記ポジ型感光性樹脂組成物で形成されるもの以上の精 度を実現する液晶配向制御用突起が形成可能な、ネガ型感光性樹脂組成物を提供 することである。
[0012] また、本発明の他の目的は、転写法 (ラミネート方式)に用いることが可能な、保存 が容易で無駄なく使うことが可能であり、膜厚安定性に優れる、前記ネガ型感光性榭 脂組成物を用いた感光性エレメントを提供することである。
[0013] また、本発明の他の目的は、前記ネガ型感光性樹脂組成物又は感光性エレメント を用いた曲面を有する突起の製造方法を提供することである。
[0014] また、本発明の他の目的は、前記ネガ型感光性樹脂組成物又は感光性エレメント を用いた液晶配向制御用突起の製造方法を提供することである。
[0015] また、本発明の他の目的は、均一性に優れた液晶配向制御用突起を提供すること である。
[0016] また、本発明の他の目的は、液晶パネルを歩留良く製造することを可能とする、液 晶配向制御用突起を有する基板を提供することである。
[0017] さらに、本発明の他の目的は、視角依存性の低減された、 OA機器向けのみならず 家電機器向けとしても好適に用レ、られる液晶パネルを提供することである。
[0018] このような目的を達成するために、本発明によれば、(a)アルカリ可溶性樹脂、 (b) 反応性モノマー、 (c)光反応開始剤を含有し、かつ、配合される反応性モノマーの全 質量部の 50%以上を単官能型反応性モノマーが占めることを特徴とするネガ型感 光性樹脂組成物が提供される。好ましくは、前記ネガ型感光性樹脂組成物は、突起 の表面形状が滑らかな曲面であり、かつ、突起の高さが 0. 5— 5 /i mであり、突起の 高さの精度が ± 0. 1 β m以下である液晶配向制御用突起を与える。
[0019] また本発明によれば、転写法 (ラミネート方式)に用いることが可能な、保存が容易 で無駄なく使うことが可能であり、膜厚安定性に優れるネガ型感光性エレメントとして 、支持体上に、前記ネガ型感光性樹脂組成物を用いたネガ型感光性樹脂組成物層 を有する感光性エレメントが提供される。
[0020] また、本発明によれば、 (I)前記ネガ型感光性樹脂組成物、又は、前記ネガ型感光 性エレメントのネガ型感光性樹脂組成物層を基板上に積層し、基板上にネガ型感光 性樹脂組成物層を形成する工程、(II)活性光線の照射により、ネガ型感光性樹脂組 成物層をパターユングする工程、(ΠΙ)現像により樹脂パターンを得る工程、及び、( IV)樹脂パターンを加熱する工程を少なくとも含む曲面を有する突起の製造方法が 提供される。
[0021] また、本発明によれば、 (I)前記ネガ型感光性樹脂組成物、又は、前記ネガ型感光 性エレメントのネガ型感光性樹脂組成物層を基板上に積層し、基板上にネガ型感光 性樹脂組成物層を形成する工程、(II)活性光線の照射により、ネガ型感光性樹脂組 成物層をパターユングする工程、(III)現像により樹脂パターンを得る工程、及び、( IV)加熱により滑らかな曲面を有する突起を得る工程を少なくとも含む液晶配向制御 用突起の製造方法が提供される。
[0022] また、本発明によれば、前記製造方法により製造された液晶配向制御用突起が提 供される。
[0023] また、本発明によれば、前記液晶配向制御用突起を有する基板が提供される。
[0024] さらに、本発明によれば、前記液晶配向制御用突起を有する基板を用いて成る液 晶パネルが提供される。
[0025] 本発明の開示は、 2003年 7月 17曰に出願された特願 2003—275924号及び 200 3年 9月 11日に出願された特願 2003—319750号に記載の主題と関連しており、そ れらの開示内容は引用によりここに援用される。
図面の簡単な説明
[0026] [図 1]図 1は、本発明のネガ型感光性樹脂組成物をガラス基板上に積層し、 100 μ m の空間を挟みフォトマスクを設置した状態の概念図である。図中、 1はガラス基板、 2 はネガ型感光性樹脂組成物層、 10はフォトマスクを示す。
[図 2]図 2は、本発明のネガ型感光性樹脂組成物を露光、アルカリ現像した後のガラ ス基板と、前記ガラス基板上に得られた樹脂パターンの概念図である。図中、 1はガ ラス基板、 3はネガ型感光性樹脂組成物を用いて形成された樹脂パターンを示す。
[図 3]図 3は、本発明の液晶配向制御用突起を有するガラス基板の概念図である。図 中、 1はガラス基板、 4は液晶配向制御用突起を示す。
発明を実施するための最良の形態
[0027] 以下、本発明の説明は主に TFT— LCDの構造を例とする力 本発明は TFT— LC Dに限らず、単純マトリクス型 LCDや、プラズマアドレス型の LCD等の、それぞれに 電極を有する一対の基板間に液晶層を設け、それぞれの電極間に電圧を印加する ことで液晶の配列方向を制御して表示を行う LCDに適用可能であり、本発明の用途 は特に TFT— LCDに限定されるものではない。
[0028] 本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)反応性モノマ 一、 (c)光反応開始剤を含有し、かつ、配合される反応性モノマーの全質量部の内 5 0%以上を単官能型反応性モノマーが占めることを特徴とする樹脂組成物である。
[0029] 本発明で用いる(a)アルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ性の現像液によって溶 解、分散等をし、 目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性、分散性等を有す るものであれば特に制限はなレ、。例えば (メタ)アクリル系樹脂、ヒドロキシスチレン樹 脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂などを挙げることができる。このような(a)アル力 リ可溶性樹脂のうち、特に好ましいものとしては、下記の単量体(1)と単量体(2)との 共重合体を挙げることができる。
[0030] 単量体( 1 ):カルボキシル基含有モノマー類
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、ィタコン酸、シトラコン酸、 メサコン酸、ケィ皮酸、コハク酸モノ(2— (メタ)アタリロイロキシェチル)、 ω—カルボキ
[0031] 単量体(2):その他の共重合可能なモノマー類
(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ェチル、 (メタ)アクリル酸 η-プチル、 (メタ) アクリル酸 η-ラウリル、(メタ)アクリル酸ベンジル、グリシジル(メタ)アタリレート、ジシ クロペンタニル (メタ)アタリレート、 (メタ)アクリル酸 2—ヒドロキシェチル、(メタ)アタリ ル酸 2—ヒドロキシプロピル、 (メタ)アクリル酸 3—ヒドロキシプロピルなどの(メタ)アタリ ル酸エステル類;スチレン、 α—メチルスチレンなどの芳香族ビエル系モノマー類;ブ タジェン、イソプレンなどの共役ジェン類;ポリスチレン、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、 ポリ(メタ)アクリル酸ェチル、ポリ(メタ)アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の 末端に (メタ)アタリロイル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマー類: ο—ヒド ロキシスチレン、 m—ヒドロキシスチレン、 p—ヒドロキシスチレンなどのフエノール性水 酸基含有モノマー類など。
[0032] 単量体(1)に由来する共重合成分の含有率は、好ましくは 1一 50質量%、特に好 ましくは 5 30質量%である。 (a)アルカリ可溶性樹脂の分子量としては、 GPCによ るポリスチレン換算の重量平均分子量 (以下、単に「重量平均分子量 (Mw)」ともいう )として、 5, 000 5, 000, 000であることカ好ましく、さらに好ましくは 10, 000— 3 00, 000とされる。 (a)アルカリ可溶性樹脂の酸価としては、 20 300 (KOHmg/g )が好ましぐ 30— 250 (KOHmg/g)がより好ましぐ 50 150 (KOHmg/g)が特 に好ましレ、。前記酸価が 20 (KOHmg/g)未満ではアルカリ水溶液での現像が困難 となり、また 300 (KOHmg/g)を超えると樹脂パターンの基板からの剥離が頻発す る。
[0033] 本発明において、単量体(1)としては、(メタ)アクリル酸を用いることが好ましぐ単 量体(2)としては、(メタ)アクリル酸エステル類を用いることが好ましレ、。
[0034] 本発明で用いる(b)反応性モノマーとしては、配合される反応性モノマーの全質量 部の内 50%以上を単官能型反応性モノマー、即ち分子内にエチレン性不飽和結合 を 1つ有する反応性モノマー、が占めることを特徴とする。単官能型反応性モノマーと しては、ノユルフェ二ルポリオキシエチレン(メタ)アタリレート、 γ—クロ口一 一ヒドロキ シプロピル— /3 ' —(メタ)アタリロイルォキシェチルー o_フタレート、 —ヒドロキシェチ ノレ一 β ' —(メタ)アタリロイルォキシェチル _ο_フタレート、 β—ヒドロキシプロピル一 β ' —(メタ)アタリロイルォキシェチルー ο_フタレート等のフタル酸系化合物、(メタ)ァク リル酸メチルエステル、(メタ)アクリル酸ェチルエステル、(メタ)アクリル酸ブチルエス テル、 (メタ)アクリル酸 2—ェチルへキシルエステル等の(メタ)アクリル酸アルキルエス テル等が挙げられる。本発明においては、滑らかな曲面を有する突起を実現できる 単官能型反応性モノマーであれば、特に制限はなレ、が、前記滑らかな曲面の実現の ためには、フタル酸系化合物が好ましく用いられる。これらの単官能型反応性モノマ 一は単独で又は 2種類以上を組み合わせて使用される。
[0035] これらの単官能型反応性モノマーは、これ以外の多官能型反応性モノマー、即ち 分子内にエチレン性不飽和結合を 2つ以上有する反応性モノマー、と併用してもよい 。例えば、多価アルコールに α , β一不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物 、ビスフヱノール Α系(メタ)アタリレートイ匕合物、グリシジル基含有化合物にひ、 /3—不 飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、分子内にウレタン結合を有する(メタ) アタリレートイ匕合物等が挙げられる。
[0036] 上記多価アルコールにひ, /3—不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物とし ては、例えば、エチレン基の数が 2 14であるポリエチレングリコールジ(メタ)アタリレ ート、プロピレン基の数が 2— 14であるポリプロピレングリコールジ(メタ)アタリレート、 トリメキローノレマ。ロノくンジ (メタ)アタリレート トリメキロー'レフ。 πパソ " l r^々、ァ々" ト、トリメチロールプロパンエトキシトリ(メタ)アタリレート、トリメチロールプロパンジエト キシトリ(メタ)アタリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ(メタ)アタリレート、トリ メチロールプロパンテトラエトキシトリ(メタ)アタリレート、トリメチロールプロパンペンタ エトキシトリ(メタ)アタリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アタリレート、テトラメチロ ールメタンテトラ(メタ)アタリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アタリレート、ジペン タエリスリトールテトラ(メタ)アタリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アタリレー ト、ジペンタエリスリトールへキサ(メタ)アタリレート等が挙げられる。
[0037] 上記ひ, β—不飽和カルボン酸としては、例えば、(メタ)アクリル酸等が拳げられる
[0038] 上記ビスフヱノール Α系(メタ)アタリレートイ匕合物、即ち、 2, 2_ビス(4— ( (メタ)ァク リロキシポリエトキシ)フエニル)プロパンとしては、例えば、 2, 2—ビス(4_ ( (メタ)アタリ 口キシジエトキシ)フエニル)プロパン、 2, 2—ビス(4— ( (メタ)アタリロキシトリエトキシ) フエニル)プロパン、 2, 2—ビス(4一((メタ)アタリロキシペンタエトキシ)フエ二ノレ)プロ パン、 2, 2-ビス(4一((メタ)アタリ口キシデ力エトキシ)フエニル)プロパン等が挙げら れ、 2, 2—ビス(4— (メタクリロキシペンタエトキシ)フエニル)プロパンは、 BPE— 500 ( 新中村化学工業 (株)製、製品名)として商業的に人手可能である。
[0039] 上記グリシジノレ基含有化合物に a , 一不飽和カルボン酸を反応させて得られる化 合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ(メタ)アタリレ ート、 2, 2—ビス(4— ( (メタ)アタリ口キシー 2—ヒドロキシープロピルォキシ)フエニル)プ 口パン等が拳げられる。
[0040] 上記分子内にウレタン結合を有する (メタ)アタリレートイ匕合物としては、例えば、 β 位に〇Η基を有する(メタ)アクリルモノマーとイソホロンジイソシァネート、 2, 6_トルェ ンジイソシァネート、 2, 4_トルエンジイソシァネート、 1 , 6—へキサメチレンジイソシァ ネート等との付加反応物、トリス((メタ)アタリ口キシテトラエチレングリコールイソシァ ネート)へキサメチレンイソシァヌレート、 Ε〇変性ウレタンジ(メタ)アタリレート、 Ε〇, Ρ Ο変性ウレタンジ (メタ)アタリレート等が挙げられる。なお、 Ε〇はエチレンオキサイド を示し、 Ε〇変性された化合物はエチレンオキサイド基のブロック構造を有する。また 、 ΡΟはプロピレンオキサイドを示し、 Ρ〇変性された化合物はプロピレンオキサイド基 のブロック構造を有する。
[0041] これらの分子内にエチレン性不飽和結合を 2つ以上有する反応性モノマーは単独 で又は 2種類以上を組み合わせて使用される。本発明においては、滑らかな曲面を 有する突起を実現できる多官能型反応性モノマーであれば、特に制限はないが、前 記滑らかな曲面の実現のためには、ビスフエノール A (メタ)アタリレート系化合物が好 ましく用いられる。
[0042] 配合される反応性モノマーとしては、単官能型反応性モノマーがその全質量部の 5 0— 90%を占めること力好ましく、 60— 85%を占めること力 Sより好ましく、 70— 80%を 占めることがさらに好ましい。 90%以上を単官能型反応性モノマーが占めるとパター ンの硬化が不十分となり、得られるパターンの厚さ精度が悪化する場合がある。
[0043] 本発明で用いる(c)光反応開始剤としては、例えばベンゾフヱノン、 N, N, N', N' —テトラメチノレー 4, 4 '—ジァミノべンゾフエノン(ミヒラーケトン)、 Ν, Ν, Ν ', Ν'—テトラ ェチルー 4, 4 '—ジァミノべンゾフエノン、 4ーメトキシー 4'—ジメチルァミノべンゾフエノン 、 2_ベンジルー 2—ジメチルァミノ— 1_ (4—モルホリノフエニル)—ブタノン一 1、 2, 2—ジ メトキシ一 1 , 2—ジフエニルェタン一 1_オン、 1—ヒドロキシーシクロへキシルーフエニノレー ケトン、 2—メチルー 1_ (4- (メチルチオ)フエニル) _2_モルフォリノプロパノン— 1等の 芳香族ケトン類、 2—ェチルチオキサントン、 2_プロピルチォキサントン、 2—イソプロピ ルチオキサントン、 2, 4—ジメチルチオキサントン、 2, 4—ジェチルチオキサントン等の チォキサントン類、 2—ェチルアントラキノン、フエナントレンキノン、 2_t—ブチルアント ラキノン、オタタメチルアントラキノン、 1 , 2_ベンズアントラキノン、 2, 3—べンズアント ラキノン、 2—フエ二ルアントラキノン、 2, 3—ジフエ二ルアントラキノン、 1一クロ口アントラ キノン、 2—メチルアントラキノン、 1 , 4_ナフトキノン、 9, 10—フエナンタラキノン、 2—メ チルー 1, 4—ナフトキノン、 2, 3—ジメチルアントラキノン等のキノン類、ベンゾインメチ ノレエーテル、ベンゾインェチルエーテル、ベンゾインフエニルエーテル等のベ: ンエーテル類、ベンゾイン、メチルベンゾイン、ェチルベンゾイン等のベンゾノ ベンジルメチルケタール等のベンジル誘導体、 2_ (o—クロロフヱ二ノレ)一 4, 5—ジフエ 二ルイミダゾ一ルニ量体、 2_ (o_クロ口フエ二ル)— 4, 5—ジ(m—メトキシフエニル)イミ ダゾールニ量体、 2_ (o_フルオロフヱ二ノレ)— 4, 5—フエ二ルイミダゾ一ルニ量体、 2— (o—メトキシフエニル)一 4, 5—ジフエ二ルイミダゾ一ルニ量体、 2_ (p—メトキシフエ二ル ) _4, 5—ジフエ二ルイミダゾ一ルニ量体、 2, 4—ジ(p—メトキシフエ二ル)— 5_フエニル イミダゾールニ量体、 2_ (2, 4—ジメトキシフエニル)_4, 5—ジフエ二ルイミダゾールニ 量体等の 2, 4, 5—トリアリールイミダゾールニ量体類、 2—メルカプトべンゾイミダゾー ル等のベンゾイミダゾール類、 9_フエ二ルァクリジン、 1 , 7_ビス(9, 9 '—アタリジニル )ヘプタン等のアタリジン誘導体、 N—フエニルグリシン、 N—フエニルグリシン誘導体、 クマリン系化合物などが挙げられる。
[0044] また、 2, 4, 5—トリアリーノレイミダゾーノレ二量体において、 2つの 2, 4, 5—トリアリー ノレイミダゾールに置換した置換基は同一でも相違していてもよレ、。また、ジェチルチ ォキサントンとジメチルァミノ安息香酸の組み合わせのように、チォキサントン系化合 物と 3級ァミン化合物とを組み合わせてもよい。また、密着性及び感度の見地からは、 2, 4, 5—トリアリールイミダゾールニ量体を用いることが好ましい。これらは単独で又 は 2種類以上を組み合わせて使用される。
[0045] 本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、(a)アルカリ可溶性樹脂を 65— 80質量部 、(b)反応性モノマーを 20— 35質量部含むことが好ましい。 (a)アルカリ可溶性樹脂 が 65質量部未満では基板への密着性が低下する場合があり、 80質量部を超えると 滑らかな曲面を有する突起を安定して得ることが困難になる場合がある。
[0046] 本発明で用いる(c)光反応開始剤の使用量は、 (a)および (b)の総量 100質量部 に対して、 0. 1— 10質量部とすることが望ましい。この使用量が 0. 1質量部未満で は、光感度が低い傾向があり、 10質量部を超えると、耐熱性が低下する傾向がある。
[0047] また、本発明におけるネガ型感光性樹脂組成物には、上記成分の他、染料、発色 剤、可塑剤、顔料、重合禁止剤、表面改質剤、安定剤、密着性付与剤、熱硬化剤等 を必要に応じて添カ卩することができる。これらは単独で又は 2種類以上を組み合わせ て使用される。
[0048] さらに、本発明におけるネガ型感光性樹脂組成物には、必要に応じて溶剤に溶解 して用いることも出来る。前記溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノ ール、イソプロパノール、 1—メトキシ _2_プロパノール、アセトン、メチルェチルケトン メチノレセロソノレブ、ェチノレセロソノレブ、トルエン、酢酸ェチ ノレ、乳酸ェチル、ァセトニトリル、テトラヒドロフラン、クロ口ホルム、 N, N—ジメチルホ ノレムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。これらは単独で 、又は 2種類以上を組み合わせて使用されるが、樹脂組成物層形成時の乾燥の容 易さの見地から、アセトン、メチルェチルケトン、トルエンが好ましい。
[0049] 本発明におけるネガ型感光性樹脂組成物層の厚さは、最終的に目的とする高さの 突起が得られる厚さとすれば良ぐ 1一 15 z mとすることが好ましぐ 2— 12 z mとす ることがより好ましぐ 3 9 x mとすることが特に好ましい。
[0050] 本発明のネガ型感光性樹脂組成物によれば、耐熱性、耐薬品性を有し、突起の表 面形状が滑らかな曲面であり、かつ、その突起の高さが 0. 5— 5 z mであり、突起の 高さの精度が ± 0. 1 μ m以下である液晶配向制御用突起を得ることが可能である。 また、本発明において突起の高さとは、基板上の突起の頂点の、基板からの高さを レ、い、突起の高さの精度とは、得られる個々の突起の高さの、同一基板内における ばらつきの範囲の幅をレ、う。
[0051] 本発明におけるネガ型感光性エレメントは、適切な支持体に前記ネガ型感光性樹 脂組成物を積層することで得られる。支持体としては、特に制限無く公知のものを使 用することができるが、基板上に前記ネガ型感光性エレメントを密着するように積層 する点、及び前記ネガ型感光性エレメントを貼り付け、活性光線によるパターニング を行った後、剥離する点で特に好適であるという理由から、ポリプロピレンなどのポリ ォレフィン、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル等を材質とした厚さ 5— 10 0 /i m程度のフィルムが好ましい。また、前記ネガ型感光性エレメントの上には、さら にカバーフィルムが積層されていてもよレ、。そのようなカバーフィルムとしては、ポリエ チレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート等からなる厚さ 5— 100 μ m程度のフィルムが挙げられ、本発明のネガ型感光性エレメントはロール 状に卷レ、て保管することができる。
[0052] 本発明におけるネガ型感光性樹脂組成物の積層方法としては、公知の方法を用い ること力 Sでき、例えば、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法 、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナ一コーティング法、インクジ ヱットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコー ティング法、カーテンコーティング法等が挙げられる。乾燥温度は、 60— 130°Cとす ることが好ましぐ乾燥時間は、 1分一 1時間とすることが好ましい。
[0053] 本発明においては、 (I)ネガ型感光性樹脂組成物を基板上に積層(塗布)、又は、 ネガ型感光性エレメントのネガ型感光性樹脂組成物層を基板上に積層(ラミネート) し、基板上にネガ型感光性樹脂組成物層を形成する工程、(Π)活性光線の照射によ り、ネガ型感光性樹脂組成物層をパターニングする工程、(ΙΠ)現像により樹脂パター ンを得る工程、及び、 (IV)樹脂パターンを加熱する工程を少なくとも行うことによって
、曲面を有する突起を製造することができる。
[0054] また、同様に、本発明の液晶配向制御用突起は、(I)ネガ型感光性樹脂組成物を 基板上に積層(塗布)、又は、ネガ型感光性エレメントのネガ型感光性樹脂組成物層 を基板上に密着するように積層(ラミネート)し、基板上にネガ型感光性樹脂組成物 層を形成する工程、(II)活性光線の照射により、ネガ型感光性樹脂組成物層をパタ 一二ングする工程、(III)現像により、前記樹脂組成物層の活性光線が照射されてい ない部分を選択的に除去して前記樹脂組成物からなるパターンを形成する工程、及 び、(IV)加熱により滑らかな曲面を有する突起を得る工程を少なくとも行うことによつ て製造できる。
[0055] 現像は、アルカリ性水溶液を用いて、ディップ方式、スプレー方式、ブラッシング、ス ラッピング等の公知の方法により行われる。必要に応じて 2種以上の現像方法を併用 してもよレ、。アルカリ性水溶液としては、たとえば、 0. 1一 5重量%炭酸ナトリウムの希 薄溶液、 0. 1— 5重量%炭酸カリウムの希薄溶液、 0. 1一 5重量%水酸化ナトリウム の希薄溶液が用いられる。アルカリ性水溶液の pHは、 9一 11の範囲とすることが好 ましぐその温度は、ネガ型感光性樹脂組成物層の現像性に合わせて調節される。 また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、有機溶剤等を混入させてもよ レ、。
[0056] カロ熱温度は 200 300。C力好ましく、 230— 280。C力より好ましく、 250— 260°C力 S さらに好ましレ、。加熱時間は 0. 5時間以上が好ましぐ 0. 5— 5時間がより好ましぐ 1 一 2時間がさらに好ましい。なお、本発明における活性光線としては、公知の活性光 源が使用でき、例えば、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンラ ンプ等が挙げられ、紫外線等の活性光線を有効に放射するものであれば特に制限さ れない。この時の活性光線の照射量は、通常、 10— l X 104mj/cm2であり、照射の 際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線照射量が、 10mj/cm2未満では、効果 が不十分となる傾向があり、 1 X 104mj/cm2を超えると、感光性樹脂層が変色する ί頃向がある。
[0057] ネガ型感光性樹脂組成物層を形成する基板としては、画像の表示に適する良好な 可視光の透過率を示す透明基板が挙げられる。前記透明基板としては、ガラス板、 合成樹脂板等の、厚さ 0. 1 5mm程度の基板に、液晶駆動用の電極が形成された もの等が挙げられる。液晶駆動用の電極としては、 ITO (酸化インジウム錫)電極等が 挙げられる。
[0058] 基板上に、本発明におけるネガ型感光性エレメントを密着するように積層する(ラミ ネート)方法としては、例えば、エレメントがカバーフィルムを有しているときは、それを 剥離除去しながら、ラミネータ等により圧着することによって行うことができる。この場 合の積層ロールの圧着圧力は、線圧で、 50— 1 X 105N/mとすることが好ましぐ 2 . 5 X 102— 5 X 104N/mとすることがより好ましぐ 5 X 102— 4 X 104N/mとするこ とが特に好ましい。この圧着圧力が、 50N/m未満では、充分に密着できない傾向 があり、 1 X 105N/mを超えると、感光性エレメントがエッジフュージョンを起こす傾 向がある。また、積層温度は、 100— 160°C力 S好ましく、 110— 130°Cがより好ましレヽ
[0059] 本発明における液晶配向制御用突起を有する基板は、例えば、前記基板上に、前 記製造工程に従いパターニング及び硬化処理されたネガ型感光性樹脂組成物から なる前記液晶配向制御用突起を形成することで得られる。
[0060] 本発明における液晶制御用突起を有する基板を用レ、た液晶パネルは、例えば、前 記液晶制御用突起を有する基板 2枚か又は前記液晶制御用突起を有する基板 1枚 と、別途製造される基板とを、適切な空間を設けて貼りあわせ、その空間に液晶を注 入した後、前記空間を封止剤等により密閉することで得られる。前記液晶パネルには 、液晶駆動の為、適宜ドライバ ICなどとの配線が敷設される。
[0061] 本発明において、配合される反応性モノマーの全質量部の 50%以上を単官能型 反応性モノマーとすることにより、従来ポジ型感光性樹脂組成物のみで達成されてい た液晶配向制御用突起の形成を、ネガ型感光性樹脂組成物を用いて達成すること が可能となる。また、前記ネガ型感光性樹脂組成物を用いて作製される液晶配向制 御用突起は、厚さ精度に優れることから、ポジ型感光性樹脂組成物を用いた場合に 比べ、より均一な液晶配向制御用突起を有する基板を得ることが可能であり、前記基 板を用いた液晶パネルを歩留り良く製造することができる。
[0062] 実施例
次に、本発明を実施例により具体的に説明する。
[0063] (実施例 1)
〔反応性モノマーの全質量部の 50 %以上を単官能型反応性モノマーが占めるネガ 型感光性樹脂組成物〕
表 1に示す組成のネガ型感光性樹脂組成物を調製し、スピンコーティング法を用い てガラス基板(3cm X 3cm、厚さ 0. 5mm)上に塗布し、 110°Cの熱風対流式乾燥機 で 3分間乾燥して、ネガ型感光性樹脂組成物層(厚さ 4 μ m)を形成し、ガラス基板、 ネガ型感光性樹脂組成物層が積層した積層体を作製した (図 1 )。前記積層基板上 、ネガ型感光性樹脂組成物層の側に、 100 μ ΐηの空間を挟みフォトマスクを設置し、 これにフォトマスクの側から 3kW超高圧水銀灯(HMW - 590、株式会社オーク製作 所製)で lOOmj/cm2の紫外線を照射した(図 2)。紫外線露光後、積層体を炭酸力 リウム 0. 5wt%及び界面活性剤 0. 5wt%含有する現像液を用いてスプレー現像を 行い、所望の樹脂パターン有する基板を得た。前記樹脂パターンは、断面が矩形で あつたが、前記基板を 250°C、 1時間加熱し、硬化させたところ、所望の表面が滑らか な曲面の液晶配向制御用突起を有する基板が得られた(図 3、表 2)。
[0064] (実施例 2)
50 z mの厚さのポリエチレンテレフタラートフィルム(支持体)上に、実施例 1のネガ 型感光性樹脂組成物を、ダイコーティング法を用いて乾燥時膜厚が 4 μ mとなるよう に塗布し、 110°Cの熱風対流式乾燥機で 3分間乾燥した後、さらにカバーフィルムと して 30 μ mの厚さのポリプロピレンフィルムで被覆して、ネガ型感光性エレメントを作 成した。得られたネガ型感光性エレメントのポリプロピレンフィルムを剥離しながらガラ ス基板(3cm X 3cm、厚さ 0. 5mm)の上にネガ型感光性樹脂組成物層を、ロール 温度 130°C、ロール線圧 1500N/m、速度 1. Om/minの条件で密着するように貼 り付け (ラミネート)して、ガラス基板、ネガ型感光性樹脂組成物層、支持体が積層し た基板を作製した。前記基板の支持体を剥離し、実施例 1と同様の手法で露光、現 像及び硬化を行い、液晶配向制御用突起を得た(表 2)。
[0065] (比較例 1 )
〔反応性モノマーの全質量部の単官能型反応性モノマーが締める割合が 50%未満 のネガ型感光性樹脂組成物〕
表 1に示す組成のネガ型感光性樹脂組成物を調製し、スピンコーティング法を用い てガラス基板(3cm X 3cm、厚さ 0. 5mm)上に塗布し、前記ネガ型感光性樹脂組成 物層(厚さ 4 μ m)を形成し、ガラス基板、ネガ型感光性樹脂組成物層が積層した積 層体を作製した。前記積層基板上、ネガ型感光性樹脂組成物層の側に、 Ι ΟΟ μ τη の空間を挟みフォトマスクを設置し、これにフォトマスクの側から 3kW超高圧水銀灯( HMW— 590、株式会社オーク製作所製)で 300mj/cm2の紫外線を照射した。紫 外線露光後、積層体を炭酸カリウム 0. 5wt%及び界面活性剤 0. 5wt%含有する現 像液を用いてスプレー現像を行い、所望の樹脂パターン有する基板を得た。前記榭 脂パターンは、断面が矩形であつたが、前記基板を 250°C、 1時間加熱し、硬化させ た後のパターンを観察したところ、樹脂パターンは矩形であり、所望の表面が滑らか な曲面の液晶配向制御用突起を有する基板は得られなかった (表 2)。
[0066] (比較例 2)
ポジ型液状レジストを、スピンコーティング法を用いてガラス基板(3cm X 3cm、厚 さ 0. 5mm)上に塗布し、前記ポジ型感光性樹脂組成物層(厚さ 4 μ m)を形成し、ガ ラス基板、ポジ型感光性樹脂組成物層が積層した積層体を作製した。実施例 1及び 2と同等の寸法の樹脂パターンが得られるフォトマスクを用いて、実施例 1と同様の手 法で露光した。露光後、 0. 5 %TMAH水溶液を用いて現像を行レ、、所望の樹脂パ ターンを有する基板を得た。前記樹脂パターンを有する基板を 220°C、 1時間加熱し 、樹脂パターンを硬化させ、表面が滑らかな曲面の液晶配向制御用突起を有する基 板を得たが、厚さの精度が実施例 1及び 2よりも低かった (表 2)。 [0067] <パターンの耐熱性評価 >
実施例 1、 2及び比較例 2で得られた液晶配向制御用突起を有する基板を、それぞ れ 250°C、 1時間加熱した。室温まで冷却した後、突起の形状を観察し厚さを測定し たところ、いずれの液晶配向制御用突起も加熱前から変化していなかった (表 2)。
[0068] <パターンの耐薬品性評価 >
実施例 1、 2及び比較例 2で得られた液晶配向制御用突起を有する基板を、 25°C 純水中 30分、 50°C純水中 30分、 25°Cイソプロピルアルコール中 30分及び 25°CN 一メチルピロリドン中 5分の内、いずれかの条件でそれぞれ放置し、引き上げて乾燥し た後、突起の形状を観察し厚さを測定したところ、いずれの液晶配向制御用突起も 薬品に浸漬する前から変化してレ、なかった (表 2)。
[0069] なお、表 2中、〇は耐熱性又は耐薬品性試験の評価の結果、突起形状及び厚さに 変化が見られなかったことを示す。
[0070] 上記したように、配合される反応性モノマーの全質量部における単官能型反応性 モノマーの占める割合が 50%未満である比較例 1では、硬化処理後の形状が矩形 であり、滑らかな曲面は実現せず、また、ポジ型レジストを用いた比較例 2では、液晶 配向制御用突起の厚さ精度が目標の ± 0. 1 μ mを達成できなかった。
[0071] 実施例 1と 2を比較すると、液状のネガ型感光性樹脂組成物をスピンコーティング法 を用いてガラス基板上に樹脂組成物層を形成した実施例 1よりも、フィルム状のネガ 型感光性エレメントを用いてガラス基板上に樹脂組成物層を形成した実施例 2の方 、液晶配向制御用突起の厚さ精度が高ぐ膜厚安定性が良好であった。
[表 1]
表 1 . ネガ型感光性樹脂組成物の配合量
Figure imgf000017_0001
[表 2]
表 2 .パターニング結果と液晶配向制御用突起の耐熱性及び耐薬品性
Figure imgf000017_0002
産業上の利用可能性
本発明のネガ型感光性樹脂組成物は、液晶配向制御用突起の形成に好適に用い られる。本発明の液晶配向制御用突起は、高さ精度に優れることから、ポジ型感光性 樹脂組成物を用いた場合に比べ、より均一な液晶配向制御用突起を有する基板を 得ることが可能であり、前記基板を用いた液晶パネルを歩留り良く製造することがで きる。

Claims

請求の範囲
[1] (a)アルカリ可溶性樹脂、(b)反応性モノマー、及び、(c)光反応開始剤を含有し、 かつ、配合される(b)反応性モノマーの全質量部の 50%以上を単官能型反応性モノ マーが占めることを特徴とするネガ型感光性樹脂組成物。
[2] 突起の表面形状が滑らかな曲面であり、かつ、突起の高さが 0. 5— 5 μ mであり、 突起の高さの精度が ± 0. l z m以下である液晶配向制御用突起を与える請求項 1 記載のネガ型感光性樹脂組成物。
[3] 支持体上に、請求項 1又は 2記載のネガ型感光性樹脂組成物を用いたネガ型感光 性樹脂組成物層を有するネガ型感光性エレメント。
[4] (I)請求項 1若しくは 2記載のネガ型感光性樹脂組成物、又は、請求項 3記載のネ ガ型感光性エレメントのネガ型感光性樹脂組成物層を基板上に積層し、基板上にネ ガ型感光性樹脂組成物層を形成する工程、
(Π)活性光線の照射により、ネガ型感光性樹脂組成物層をパターニングする工程、
(III)現像により樹脂パターンを得る工程、及び、
(IV)樹脂パターンを加熱する工程
を少なくとも含む曲面を有する突起の製造方法。
[5] (I)請求項 1若しくは 2記載のネガ型感光性樹脂組成物、又は、請求項 3記載のネ ガ型感光性エレメントのネガ型感光性樹脂組成物層を基板上に積層し、基板上にネ ガ型感光性樹脂組成物層を形成する工程、
(II)活性光線の照射により、ネガ型感光性樹脂組成物層をパターニングする工程、
(III)現像により樹脂パターンを得る工程、及び、
(IV)加熱により滑らかな曲面を有する突起を得る工程
を少なくとも含む液晶配向制御用突起の製造方法。
[6] 請求項 5記載の製造方法により製造された液晶配向制御用突起。
[7] 請求項 6記載の液晶配向制御用突起を有する基板。
[8] 請求項 7記載の液晶配向制御用突起を有する基板を用いて成る液晶パネル。
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