KR100878794B1 - 감광성 수지조성물, 및 이것을 이용한 액정배향제어용 범프 - Google Patents
감광성 수지조성물, 및 이것을 이용한 액정배향제어용 범프 Download PDFInfo
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Abstract
Description
막두께(㎛) | 유전율 | OD값 | |
실시예 1 | 1.8 | 4.5 | 1.0 |
실시예 2 | 1.8 | 4.4 | 1.0 |
비교예 1 | 1.8 | 45 | 2.5 |
비교예 2 | 1.8 | 15 | 1.8 |
Claims (8)
- 복수분할 수직배향 방식의 액정셀 안에 설치되며, 액정의 배향을 제어하기 위한 범프를 형성하는 감광성 수지조성물로서,적어도 3종 이상의 유기안료를 함유하고, 가색혼합에 의해 흑색을 이루도록 상기 유기안료를 함유하며,상기 유기안료의 함계량이, 용제 이외의 전체고형성분에 대하여 10질량% 이상 60질량% 이하이고,상기 범프의 유전율이 7 이하인 것을 특징으로 하는 감광성 수지조성물.
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- 삭제
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,광중합성 화합물(A)과 광중합 개시제(B)를 함유하는 감광성 수지조성물.
- 제 1 항 또는 제 5 항에 기재된 감광성 수지조성물에 의해 형성되는 액정배향제어용 범프.
- 제 6 항에 있어서,막두께 1㎛에서의 OD값이 0.6 이상인 액정배향제어용 범프.
- 삭제
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---|---|---|---|---|
JP2008077073A (ja) * | 2006-08-23 | 2008-04-03 | Mitsubishi Chemicals Corp | 液晶配向制御突起用感光性組成物、液晶配向制御突起、及び液晶表示装置 |
KR101486560B1 (ko) * | 2010-12-10 | 2015-01-27 | 제일모직 주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층 |
SG11201802076PA (en) | 2015-09-30 | 2018-04-27 | Toray Industries | Negative photosensitive resin composition, cured film, element and display device each provided with cured film, and method for manufacturing display device |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020018589A (ko) * | 2000-08-31 | 2002-03-08 | 무네유키 가코우 | 광경화성 조성물 및 액정표시소자 |
JP2002244293A (ja) | 2001-02-22 | 2002-08-30 | Nof Corp | アルカリ現像性レジスト用樹脂組成物、ドライフィルム及びそれらの硬化物よりなるレジスト |
JP2003029405A (ja) * | 2001-07-17 | 2003-01-29 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、それから形成された突起材およびスペーサー、ならびにそれらを具備する液晶表示素子 |
KR20040031137A (ko) * | 2002-10-04 | 2004-04-13 | 삼성전자주식회사 | 용해 특성을 조절하는 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한이층 구조의 패턴 형성 방법 |
WO2005008338A1 (ja) | 2003-07-17 | 2005-01-27 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | ネガ型感光性樹脂組成物及びネガ型感光性エレメント |
KR20050101920A (ko) * | 2004-04-20 | 2005-10-25 | 주식회사 엘지화학 | 액정 표시 장치용 블랙 매트릭스에 사용되는 감광성 수지조성물 |
KR20060063475A (ko) * | 2004-12-07 | 2006-06-12 | 주식회사 동진쎄미켐 | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한액정디스플레이 컬러필터의 제조방법 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07100764B2 (ja) * | 1990-07-03 | 1995-11-01 | 宇部興産株式会社 | 黒色光硬化性ポリマー組成物及び黒色の光硬化膜の形成方法 |
JP3977513B2 (ja) * | 1998-04-28 | 2007-09-19 | 東レ株式会社 | 分割配向用基板及びこれを用いた液晶表示装置 |
KR100612994B1 (ko) * | 2000-05-12 | 2006-08-14 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치 및 그에 사용되는 기판 |
JP2003295197A (ja) * | 2002-04-05 | 2003-10-15 | Toray Ind Inc | 液晶分割配向用突起、カラーフィルター、電極基板、および、これを用いた液晶表示装置 |
JP4461683B2 (ja) * | 2003-01-17 | 2010-05-12 | セイコーエプソン株式会社 | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置用基板の製造方法 |
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020018589A (ko) * | 2000-08-31 | 2002-03-08 | 무네유키 가코우 | 광경화성 조성물 및 액정표시소자 |
JP2002244293A (ja) | 2001-02-22 | 2002-08-30 | Nof Corp | アルカリ現像性レジスト用樹脂組成物、ドライフィルム及びそれらの硬化物よりなるレジスト |
JP2003029405A (ja) * | 2001-07-17 | 2003-01-29 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物、それから形成された突起材およびスペーサー、ならびにそれらを具備する液晶表示素子 |
KR20040031137A (ko) * | 2002-10-04 | 2004-04-13 | 삼성전자주식회사 | 용해 특성을 조절하는 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한이층 구조의 패턴 형성 방법 |
WO2005008338A1 (ja) | 2003-07-17 | 2005-01-27 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | ネガ型感光性樹脂組成物及びネガ型感光性エレメント |
KR20050101920A (ko) * | 2004-04-20 | 2005-10-25 | 주식회사 엘지화학 | 액정 표시 장치용 블랙 매트릭스에 사용되는 감광성 수지조성물 |
KR20060063475A (ko) * | 2004-12-07 | 2006-06-12 | 주식회사 동진쎄미켐 | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한액정디스플레이 컬러필터의 제조방법 |
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