JP2003029405A - 感放射線性樹脂組成物、それから形成された突起材およびスペーサー、ならびにそれらを具備する液晶表示素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 垂直配向型液晶表示素子の突起材
とスペーサーを同時に形成するために好適に用いられる
感放射線性樹脂組成物、およびそれから形成された突起
材およびスペーサー、それらを具備する液晶表示素子を
提供すること。 【解決手段】 感放射線性樹脂組成物は、［Ａ］
（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和カルボ
ン酸無水物、（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合物、な
らびに（ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）以外のオレ
フィン系不飽和化合物、の共重合体、［Ｂ］エチレン性
不飽和結合を有する重合性化合物、ならびに［Ｃ］感放
射線重合開始剤を含有する。突起材およびスペーサーは
それから同時に形成され、液晶表示装素子はそのスペー
サーおよび突起材を具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、垂直型液晶表示素
子の突起材およびスペーサーを同時に形成するために好
適な感放射線性樹脂組成物、それから形成された突起材
およびスペーサー、ならびにそれらを具備する液晶表示
素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示パネルはフラットパネルディス
プレーの中で今日最も広く使用されているが、特に、Ｔ
ＦＴ（薄膜トランジスター）方式の液晶表示パネル（Ｔ
ＦＴ−ＬＣＤ）が、パソコン、ワープロ等のＯＡ機器
や、液晶テレビ等の普及に伴って、表示品質に対する要
求性能がますます厳しくなっている。ＴＦＴ−ＬＣＤの
中で現在最も利用されている方式はＴＮ（Twisted Nema
tic)型ＬＣＤであり、この方式は、２枚の透明な電極の
外側に配向方向が９０度異なる偏光膜をそれぞれ配置
し、２枚の透明な電極の内側に配向膜を配置するととも
に、両配向膜間にネマチック型液晶を配置して、液晶の
配向方向が一方の電極側から他方の電極側にかけて９０
度捩じれるようにしたものである。この状態で無偏光の
光が入射すると、一方の偏光板を透過した直線偏光が液
晶中を偏光方向がずれながら透過するため他方の偏光板
を透過できて、明状態となる。次に、両電極に電圧を印
加して液晶分子を直立させると、液晶に達した直線偏光
がそのまま透過するため他方の偏光板を透過できず、暗
状態となる。その後、再び電圧を印加しない状態にする
と、明状態に戻ることになる。このようなＴＮ型ＬＣＤ
は、近年における技術改良により、正面でのコントラス
トや色再現性などはＣＲＴと同等あるいはそれ以上とな
っている。しかしながら、ＴＮ型ＬＣＤには視野角が狭
いという大きな問題がある。このような問題を解決する
ものとして、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic)型ＬＣＤ
やＭＶＡ（Multi-domain Vertically Aligned)型ＬＣＤ
（垂直配向型液晶表示パネル）が開発されている。これ
らのうちＳＴＮ型ＬＣＤは、ＴＮ型ＬＣＤのネマチック
型液晶中に光活性物質であるカイラル剤をブレンドし
て、液晶分子の配向軸が２枚の電極間で１８０度以上捩
じれるようにしたものである。またＭＶＡ型ＬＣＤは、
「液晶」Vol.3,No.2,117(1999)および特開平１１−２５
８６０５号公報に記載されているように、負の誘電率異
方性を有するネガ型液晶と垂直方向の配向膜を組み合わ
せて、ＴＮ型ＬＣＤの旋光モードではなく複屈折モード
を利用したものであり、電圧を印加していない状態で
も、配向膜に近い位置にある液晶の配向方向がほぼ垂直
に維持されるため、コントラスト、視野角などに優れ、
また液晶を配向させるためのラビング処理を行なわなく
てもよいなど製造工程の面でも優れている。ＭＶＡ型Ｌ
ＣＤにおいては、１つの画素領域で液晶が複数の配向方
向をとりうるようにするために、ドメイン規制手段とし
て、表示側の電極を１つの画素領域内にスリットを有す
るものとするとともに、光の入射側の電極上の同一画素
領域内に、電極のスリットと位置をずらして、斜面を有
する突起（例えば、三角錐状、半凸レンズ形状等）を形
成している。このような突起材は、通常、微細加工が可
能で、形状の制御が容易であるといった利点を持つ、フ
ォトリソグラフィーにより形成される。

【０００３】一方、液晶パネルには２枚の基板の間隔を
一定に保つために所定のスペーサーを設置する必要があ
る。従来、このようなスペーサーとして、所定の粒径を
有するガラスビーズ、プラスチックビーズ等のスペーサ
ー粒子が使用されていた。しかし、これらスペーサー粒
子は、ガラス基板上にランダムに散布されるため、有効
画素部内に上記スペーサーが存在すると、スペーサーの
写り込みがあったり、入射光が散乱を受け液晶パネルの
コントラストが低下するという問題があった。これらの
問題を解決するために感放射線性樹脂組成物を用いて有
効画素部以外にスペーサーをフォトリソグラフィーによ
り形成する方法がとられるようになってきた。

【０００４】突起材形成とスペーサー形成は感放射線性
樹脂を使用したフォトリソグラフィーを使用するという
点で同様のプロセスが使用できるが、下記するようにそ
れぞれの要求性能が異なる。 突起材とスペーサーとで、要求される膜厚が異なるこ
と。 要求される形状が、突起材は半凸レンズ状であるのに
対し、スペーサーは柱状または準テーパ状と、それぞれ
異なること。

【０００５】また、突起材上には配向膜を形成する必要
があるため、後の工程で配向膜を形成した際にハジキが
出ないよう、配向膜材料に対する十分な塗れ性が必要と
なる。一方、スペーサーは、液晶パネルに係る外部圧力
にも変形しないよう、高度の圧縮強度が必要とされる。
さらに、突起材、スペーサーともに、後のパネル組立工
程で加えられる熱に対する耐性が必要となる。

【０００６】以上のように、突起材とスペーサーとは相
異なる形状、化学的性質を要求されるため、従来、別々
の感放射線性材料を使用し、別々の工程で形成する必要
があった。なお、特開２００１−８３５１７号公報に
は、ネガ型感光材料を使用し、突起材とスペ−サーを同
時形成することができる旨が開示されているが、当該公
報にはこのような用途に使用されるべき感放射線性組成
物の具体的な態様は何ら開示されておらず、突起材とス
ペーサーとを同時に形成するための感放射線性組成物
は、未だ知られておらず、このような材料の提供が強く
求められている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の事情
に鑑みなされたもので、その目的は、垂直配向型液晶表
示素子の突起材とスペーサーを同時に形成するために好
適に用いられる感放射線性樹脂組成物、およびそれから
形成された突起材およびスペーサー、それらを具備する
液晶表示素子を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題は、第一に、
［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および／または不飽和
カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基含有不飽和化合
物、ならびに（ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）以外
のオレフィン系不飽和化合物、の共重合体（以下、「共
重合体Ａ」という。）、［Ｂ］エチレン性不飽和結合を
有する重合性化合物、ならびに［Ｃ］感放射線重合開始
剤を含有する感放射線性樹脂組成物によって達成され
る。

【０００９】上記課題は第二に、上記組成物から形成さ
れた突起材およびスペ−サーによって達成される。上記
課題は第三に、上記突起材およびスペ−サーを具備する
液晶表示素子により達成される。以下、本発明の感放射
線性樹脂組成物の各成分について詳細に述べる。

【００１０】共重合体Ａ 本発明で用いられる共重合体Ａは、（ａ１）不飽和カル
ボン酸および／または不飽和カルボン酸無水物（以下、
「化合物（ａ１）」という。）、（ａ２）エポキシ基含
有不飽和化合物（以下、「化合物（ａ２）」とい
う。）、ならびに（ａ３）前記（ａ１）および（ａ２）
以外のオレフィン系不飽和化合物（以下、「化合物（ａ
３）」という。）、の共重合体である。共重合体［Ａ］
は、化合物（ａ１）、化合物（ａ２）および化合物（ａ
３）を溶媒中で、重合開始剤の存在下にラジカル重合す
ることによって製造することができる。

【００１１】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、化
合物（ａ１）から誘導される構成単位を、好ましくは３
〜２５重量％、特に好ましくは５〜２０重量％含有して
いる。この構成単位が３重量％未満である共重合体は、
アルカリ水溶液に溶解しにくくなり、一方２５重量％を
超える共重合体はアルカリ水溶液に対する溶解性が大き
くなりすぎる傾向にあり、突起材およびスペーサーの膜
厚のコントロールが困難になる。化合物（ａ１）として
は、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸など
のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン
酸、メサコン酸、イタコン酸などのジカルボン酸；およ
びこれらジカルボン酸の無水物が挙げられる。これらの
うち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸など
が共重合反応性、アルカリ水溶液に対する溶解性および
入手が容易である点から好ましく用いられる。これら
は、単独であるいは組み合わせて用いられる。

【００１２】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、化
合物（ａ２）から誘導される構成単位を、好ましくは１
０〜７０重量％、特に好ましくは２０〜６０重量％含有
している。この構成単位が１０重量％未満の場合は得ら
れるスペーサーの強度が低下する傾向にあり、一方７０
重量％を超える場合は組成物の保存安定性が低下する場
合がある。

【００１３】化合物（ａ２）としては、例えばアクリル
酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルア
クリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリ
シジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリ
ル酸−３,４−エポキシブチル、メタクリル酸−３,４−
エポキシブチル、アクリル酸−６,７−エポキシヘプチ
ル、メタクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、α−エ
チルアクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニ
ルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグ
リシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエー
テル、アクリル酸−β−メチルグリシジル、アクリル酸
−３−メチル−３,４−エポキシブチル、メタクリル酸
−β−メチルグリシジル、メタクリル酸−３−メチル−
３,４−エポキシブチルなどが挙げられる。これらのう
ち、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸−６,７−
エポキシヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエー
テル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビ
ニルベンジルグリシジルエーテル、メタクリル酸−β−
メチルグリシジルなどが共重合反応性および得られるス
ペーサーの強度を高める点から好ましく用いられる。こ
れらは、単独であるいは組み合わせて用いられる。

【００１４】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、化
合物（ａ３）から誘導される構成単位を、好ましくは１
０〜７０重量％、特に好ましくは２０〜５０重量％含有
している。この構成単位が１０重量％未満の場合は、組
成物の保存安定性が低下する場合があり、一方７０重量
％を超える場合は共重合体［Ａ］がアルカリ水溶液に溶
解しにくくなる。

【００１５】化合物（ａ３）としては、例えばメチルメ
タクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタ
クリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチ
ルメタクリレートなどのメタクリル酸アルキルエステ
ル；メチルアクリレート、イソプロピルアクリレートな
どのアクリル酸アルキルエステル；シクロヘキシルメタ
クリレート、２−メチルシクロヘキシルメタクリレー
ト、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イ
ル メタクリレート、トリシクロ［５．２．１．
０^{2 ,6}］デカン−８−イル オキシエチルメタクリレー
ト、イソボロニルメタクリレートなどのメタクリル酸環
状アルキルエステル；シクロヘキシルアクリレート、２
−メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシクロ
［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イル アクリレー
ト、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン−８−イ
ル オキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレ
ートなどのアクリル酸環状アルキルエステル；フェニル
メタクリレート、ベンジルメタクリレートなどのメタク
リル酸アリールエステル；フェニルアクリレート、ベン
ジルアクリレートなどのアクリル酸アリールエステル；
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジ
エチルなどのジカルボン酸ジエステル；２−ヒドロキシ
エチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタク
リレートなどのヒドロキシアルキルエステル；およびス
チレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ
−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチ
レン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビ
ニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルア
ミド、酢酸ビニル、１,３−ブタジエン、イソプレン、
２,３−ジメチル−１,３−ブタジエンなどが挙げられ
る。

【００１６】これらのうち、スチレン、ｔ−ブチルメタ
クリレート、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デカン
−８−イル メタクリレート、ｐ−メトキシスチレン、
２−メチルシクロヘキシルアクリレート、１,３−ブタ
ジエンなどが共重合反応性およびアルカリ水溶液に対す
る溶解性の点から好ましい。これらは、単独であるいは
組み合わせて用いられる。

【００１７】共重合体［Ａ］の製造に用いられる溶媒と
しては、具体的には、例えばメタノール、エタノールな
どのアルコール類；テトラヒドロフランなどのエーテル
類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエーテ
ル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテートなどのエチレングリコールアルキルエーテル
アセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチ
ルエーテルなどのジエチレングリコール類；プロピレン
グリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチ
ルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、
プロピレングリコールブチルエーテルなどのプロピレン
グリコールモノアルキルエーテル類；プロピレングリコ
ールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
エチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロ
ピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチル
エーテルアセテートなどのプロピレングリコールアルキ
ルエーテルアセテート類；プロピレングリコールメチル
エーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチル
エーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピ
ルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチ
ルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコール
アルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレンな
どの芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロヘ
キサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノ
ンなどのケトン類；および酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸
エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチ
ル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、
ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロ
キシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピ
ル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、
３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプ
ロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチ
ル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メト
キシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プ
ロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エ
トキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢
酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチ
ル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、
ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢
酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピ
オン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−
メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオ
ン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エ
トキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸
プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブト
キシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エ
チル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキ
シプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチ
ル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプ
ロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチ
ル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプ
ロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピ
ル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシ
プロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチ
ル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポ
キシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メ
チル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシ
プロピオン酸プロピル、３−ブトキシプロピオン酸ブチ
ルなどのエステル類が挙げられる。

【００１８】共重合体［Ａ］の製造に用いられる重合開
始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知ら
れているものが使用でき、例えば２,２’−アゾビスイ
ソブチロニトリル、２,２’−アゾビス−（２,４−ジメ
チルバレロニトリル）、２,２’−アゾビス−（４−メ
トキシ−２,４−ジメチルバレロニトリル）などのアゾ
化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキ
シド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１,１’−ビ
ス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサンなどの有
機過酸化物；および過酸化水素が挙げられる。ラジカル
重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、過酸化物
を還元剤とともに用いてレドックス型開始剤としてもよ
い。

【００１９】本発明で用いられる共重合体［Ａ］は、ポ
リスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」とい
う）が、通常、１×１０³〜５×１０⁵、好ましくは２×
１０³〜２×１０^４であることが望ましい。Ｍｗが１×
１０³未満であると、得られる被膜は、現像性、残膜率
などが低下したり、またパターン形状、耐熱性などに劣
ることがあり、一方５×１０⁵を超えると、アルカリ溶
解性が低下しすぎたりパターン形状に劣ることがある。

【００２０】上記のように本発明で用いられる共重合体
［Ａ］は、カルボキシル基および／またはカルボン酸無
水物基ならびにエポキシ基とを有しており、アルカリ水
溶液に対して適切な溶解性を有するとともに、加熱によ
り容易に硬化させることができる。上記の共重合体
［Ａ］を含む感放射線性樹脂組成物は、後述する露光後
の現像工程において、良好なアルカリ溶解性を示し、ま
た膜べりすることなく、容易に所定パターンの突起材と
スペーサーを同時に形成することができる。

【００２１】重合性化合物［Ｂ］ 本発明で用いられる重合性化合物［Ｂ］としては、例え
ば、単官能、２官能または３官能以上の（メタ）アクリ
レートが挙げられる。

【００２２】上記単官能（メタ）アクリレートとして
は、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、カルビトール（メタ）アクリレート、イソボルニル
（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）ア
クリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−
２−ヒドロキシプロピルフタレートなどが挙げられ、そ
の市販品としては、例えばアロニックスＭ−１０１、同
Ｍ−１１１、同Ｍ−１１４（東亜合成（株）製）、ＫＡ
ＹＡＲＡＤ ＴＣ−１１０Ｓ、同ＴＣ−１２０Ｓ（日本
化薬（株）製）、ビスコート１５８、同２３１１（大阪
有機化学工業（株）製）が挙げられる。

【００２３】上記２官能（メタ）アクリレートとして
は、例えばエチレングリコール（メタ）アクリレート、
１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１,
９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリプロ
ピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチ
レングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキ
シエタノールフルオレンジアクリレートなどが挙げら
れ、その市販品としては、例えばアロニックスＭ−２１
０、同Ｍ−２４０、同Ｍ−６２００（東亜合成（株）
製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＨＤＤＡ、同ＨＸ−２２０、同
Ｒ−６０４（日本化薬（株）製）、ビスコート２６０、
同３１２、同３３５ＨＰ（大阪有機化学工業（株）製）
などが挙げられる。

【００２４】上記３官能以上の（メタ）アクリレートと
しては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリ
レート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォ
スフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アク
リレートなどが挙げられ、その市販品としては、例えば
アロニックスＭ−３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４０
２、同Ｍ−４０５、同Ｍ−４５０、同Ｍ−７１００、同
Ｍ−８０３０、同Ｍ−８０６０（東亜合成（株）製）、
ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ、同ＤＰＨＡ、同ＤＰＣＡ
−２０、同ＤＰＣＡ−３０、同ＤＰＣＡ−６０、同ＤＰ
ＣＡ−１２０（日本化薬（株）製）、ビスコート２９
５、同３００、同３６０、同ＧＰＴ、同３ＰＡ、同４０
０（大阪有機化学工業（株）製）などが挙げられる。

【００２５】それらのうちでも重合性が良好であり、得
られるスペーサーの強度が向上する点から３官能以上の
（メタ）アクリレートが好ましく用いられ、とくに、ペ
ンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサタ（メタ）アクリレート等が
好ましい。これら重合性化合物［Ｂ］の使用量は、共重
合体［Ａ］１００重量部当たり、通常５０〜２００重量
部、好ましくは７０〜１４０重量部、とくに好ましくは
８０〜１２０重量部である。この範囲の使用量とするこ
とで、得られる突起材やスペーサーの膜厚の制御が容易
となり、強度と密着性に優れた効果物を与える感放射線
性樹脂組成物とすることができる。これらの単官能、２
官能または３官能以上の（メタ）アクリレートは、単独
であるいは組み合わせて用いられる。

【００２６】重合開始剤［Ｃ］ 本発明において重合開始剤［Ｃ］としては、例えば感放
射線ラジカル重合開始剤などを使用することができる。

【００２７】感放射線ラジカル重合開始剤としては、例
えばベンジル、ジアセチルなどのα−ジケトン類；ベン
ゾインなどのアシロイン類；ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテルなどのアシロインエーテル類；チオキサント
ン、２,４−ジエチルチオキサントン、チオキサントン
−４−スルホン酸、ベンゾフェノン、４,４’−ビス
（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４,４’−ビス
（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどのベンゾフェノ
ン類；アセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェ
ノン、α,α’−ジメトキシアセトキシベンゾフェノ
ン、２,２’−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノ
ン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル−１−
［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−
１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチル
アミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−
１−オンなどのアセトフェノン類；アントラキノン、
１,４−ナフトキノンなどのキノン類；フェナシルクロ
ライド、トリブロモメチルフェニルスルホン、トリス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのハロゲン
化合物；２,４,６−トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキサイド、ビス（２,４,６−トリメチルベン
ゾイル）フェニルホスフィンオキサイドなどのアシルホ
スフィンオキサイド類；およびジ−ｔ−ブチルパーオキ
サイドなどの過酸化物が挙げられる。

【００２８】この感放射線ラジカル重合開始剤の市販品
としては、たとえばＩＲＧＡＣＵＲＥ−１８４、同３６
９、同５００、同６５１、同９０７、同１７００、同８
１９、同１０００、同２９５９、同１４９、同１８０
０、同１８５０、Ｄａｒｏｃｕｒ−１１７３、同１１１
６、同２９５９、同１６６４、同４０４３（チバ・スペ
シャルティ・ケミカルズ社製）、ＫＡＹＡＣＵＲＥ−Ｄ
ＥＴＸ 、同 ＭＢＰ、同 ＤＭＢＩ 、同 ＥＰＡ、
同 ＯＡ（日本化薬（株）製）、ＶＩＣＵＲＥ−１０、
同５５（ＳＴＡＵＦＦＥＲ Ｃｏ.ＬＴＤ 製）、ＴＲ
ＩＧＯＮＡＬＰ１（ＡＫＺＯ Ｃｏ.ＬＴＤ 製）、Ｓ
ＡＮＤＯＲＡＹ １０００（ＳＡＮＤＯＺＣｏ.ＬＴＤ
製）、ＤＥＡＰ（ＡＰＪＯＨＮ Ｃｏ.ＬＴＤ
製）、ＱＵＡＮＴＡＣＵＲＥ−ＰＤＯ、同 ＩＴＸ、同
ＥＰＤ（ＷＡＲＤ ＢＬＥＫＩＮＳＯＰ Ｃｏ.ＬＴ
Ｄ 製）等が挙げられる。また、これら感放射線ラジカ
ル重合開始剤と感放射線増感剤とを併用することによっ
て、高感度の感放射線性樹脂組成物を得ることも可能で
ある。

【００２９】本発明における重合開始剤［Ｃ］の好まし
いものとしては、アシロイン類、アシロインエーテル
類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、アシルホス
フィンオキサイド類があげられ、そのうちでもとくに２
−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−
モルフォリノ−１−プロパノン、２，４−ジエチルチオ
キサントン、ビス（２,４,６−トリメチルベンゾイル）
フェニルホスフィンオキサイド、２−ベンジル−２−ジ
メチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブ
タン−１−オンが好ましく用いられる。重合開始剤
［Ｃ］の使用量は、共重合体［Ａ］１００重量部当た
り、通常１〜５０重量部、好ましくは５〜４０重量部、
とくに好ましくは２０〜３５重量部である。この範囲の
使用量とすることで、得られる突起材やスペーサーの膜
厚の制御が容易となり、強度と電圧保持率のバランスに
優れた硬化物を与える感放射線性樹脂組成物を得ること
ができる。

【００３０】本発明の組成物は、上記の［Ａ］〜［Ｃ］
成分を含有するものであるが、必要に応じて、［Ｄ］下
記一般式（１）

【００３１】

【化２】

【００３２】（式中、Ｒ¹〜Ｒ⁶は同一でも異なっていて
もよく、それぞれ水素原子または基−ＣＨ₂ＯＲを示
し、Ｒは水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を示
す。）で表わされる化合物を含有していてもよい。この
ような化合物としては、例えばヘキサメチロールメラミ
ン、ヘキサブチロールメラミン、部分メチロール化メラ
ミン及びそのアルキル化体、テトラメチロールベンゾグ
アナミン、部分メチロール化ベンゾグアナミン及びその
アルキル化体等を挙げることができる。このような化合
物の市販品としては、例えば、サイメル３００、３０
１、３０３、３７０、３２５、３２７、７０１、２６
６、２６７、２３８、１１４１、２７２、２０２、１１
５６、１１５８、１１２３、１１７０、１１７４、ＵＦ
Ｒ６５、３００（三井サイアナミッド（株）製）、ニカ
ラックＭｘ−７５０、−０３２、−７０６、−７０８、
−４０、−３１、ニカラックＭｓ−１１、ニカラックＭ
ｗ−３０（（株）三和ケミカル製）などを好ましく使用
することができる。

【００３３】［Ｄ］上記一般式（１）で表される化合物
の使用量は、共重合体［Ａ］１００重量部当たり、通常
１００重量部以下、好ましくは１〜１００重量部、とく
に好ましくは５〜５０重量部である。このような使用量
とすることで、得られる突起材の形状を良好とすること
ができる。

【００３４】また、本発明の感放射線性樹脂組成物は、
（Ｅ）界面活性剤を含有することもできる。このような
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤；シリコン系
界面活性剤；ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポ
リオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチ
レンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキ
ルエーテル類；ポリオキシエチレンオクチルフェニルエ
ーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルな
どのポリオキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキ
シエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステア
レートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類
等を挙げることができる。

【００３５】このような界面活性剤の市販品としては、
ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００（ＢＭ ＣＨＥＭＩＥ
社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１４４Ｄ、同Ｆ
１７１，同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７７、同Ｆ１
７８Ａ、同Ｆ１７８Ｋ、同Ｆ１７９、同Ｆ１８３、同Ｆ
１８４、同Ｆ１９１（大日本インキ化学工業（株）
製）、フロラードＦＣ−１３５、同ＦＣ−１７０Ｃ、同
ＦＣ−１７１、同ＦＣ−１７６、同ＦＣ−４３０、同Ｆ
Ｃ−４３１、メガファックＲＳ−１、同ＲＳ−７、同Ｒ
Ｓ−９、同ＲＳ−１５、同Ｒ−０８（住友スリーエム
（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同Ｓ−１１３、同
Ｓ−１３１、同Ｓ−１４１、同Ｓ−１４５、同Ｓ−３８
２、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０２、同ＳＣ−１０
３、同ＳＣ−１０４、同ＳＣ−１０５、同ＳＣ−１０６
（旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３０１、同３０
３、同３５２（新秋田化成（株）製）、ＳＨ−２８Ｐ
Ａ、ＳＨ−１９０、ＳＨ−１９３、ＳＺ−６０３２、Ｓ
Ｆ−８４２８、ＤＣ−５７、ＤＣ−１９０（東レ・ダウ
コーニング・シリコーン（株）製）、オルガノシロキサ
ンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メ
タ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ.５７、９５
（共栄社化学（株）製）、フタージェントＦＴ−２５
０、同ＦＴ−２５１、同ＦＴＸ−２１８（（株）ネオス
製）等を挙げることができる。

【００３６】これらの界面活性剤は、共重合体［Ａ］１
００重量部に対して、通常、０．２重量部以下、好まし
くは０．００１〜０．０５重量部、より好ましくは０．
００３〜０．０２重量部で用いられる。界面活性剤の量
が０．２重量部を超える場合は、配向膜塗布時のハジキ
が生じやすくなる場合がある。

【００３７】本発明の感放射線性樹脂組成物は、さらに
接着助剤を含有していてもよい。このような接着助剤と
しては、官能性シランカップリング剤が好ましく使用さ
れ、例えばカルボキシル基、メタクリロイル基、イソシ
アネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシ
ランカップリング剤が挙げられる。具体的にはトリメト
キシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニル
トリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリ
エトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、β−（３,４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリメトキシシランなどが挙げられる。このような
接着助剤は、共重合体［Ａ］１００重量部に対して、好
ましくは２０重量部以下、より好ましくは１０重量部以
下の量で用いられる。接着助剤の量が２０重量部を超え
る場合は、現像残りが生じやすくなる。本発明の感放射
線性樹脂組成物は、本発明の目的を損なわない範囲で、
必要に応じて上記以外に他の成分を含有していてもよ
い。

【００３８】本発明の感放射線性樹脂組成物は、上記の
共重合体［Ａ］、重合性化合物［Ｂ］および重合開始剤
［Ｃ］、および任意的に添加される他の成分を均一に混
合することによって調製される。通常、本発明の感放射
線性樹脂組成物は、適当な溶媒に溶解されて溶液状態で
用いられる。例えば共重合体［Ａ］、重合性化合物
［Ｂ］、重合開始剤［Ｃ］および任意的に添加されるそ
の他の成分を、所定の割合で混合することにより、溶液
状態の感放射線性樹脂組成物を調製することができる。
本発明の感放射線性樹脂組成物の調製に用いられる溶媒
としては、共重合体［Ａ］、重合性化合物［Ｂ］、重合
開始剤［Ｃ］および任意的に添加されるその他の成分を
均一に溶解し、各成分と反応しないものが好ましく用い
られる。

【００３９】具体的には、例えばメタノール、エタノー
ルなどのアルコール類；テトラヒドロフランなどのエー
テル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチ
レングリコールモノエチルエーテルなどのグリコールエ
ーテル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソ
ルブアセテートなどのエチレングリコールアルキルエー
テルアセテート類；ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテルなどのジエチレン
グリコール類；プロピレングリコールメチルエーテル、
プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリ
コールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチル
エーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエー
テル類；プロピレングリコールメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、
プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プ
ロピレングリコールブチルエーテルアセテートなどのプ
ロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類；プ
ロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プ
ロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プ
ロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、
プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートな
どのプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート
類；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；メチ
ルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−
４−メチル−２−ペンタノンなどのケトン類；および酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２
−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２
−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メ
チルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒド
ロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒド
ロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン
酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−
ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオ
ン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル、３−
ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル類が挙げら
れる。

【００４０】これらの溶剤の中で、溶解性、各成分との
反応性および塗膜形成のしやすさから、グリコールエー
テル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテー
ト類、エステル類およびジエチレングリコール類が好ま
しく用いられる。

【００４１】さらに前記溶媒とともに高沸点溶媒を併用
することもできる。併用できる高沸点溶媒としては、例
えばＮ−メチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルム
アミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセト
アミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエー
テル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソ
ホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、
１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、
安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチ
ル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレ
ン、フェニルセロソルブアセテートなどが挙げられる。
また上記のように調製された組成物溶液は、孔径０.５
μｍ程度のミリポアフィルタなどを用いて濾過した後、
使用に供することもできる。

【００４２】突起およびスペーサーの形成 次に本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて、突起材お
よびスペーサーを同時に形成する方法について述べる。
本発明の感放射線性樹脂組成物を基板表面に塗布し、プ
レベークにより溶媒を除去することによって塗膜を形成
する。上記基板としては、ガラス、石英、シリコン、ポ
リカーボネート、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミ
ド、ポリイミド、ポリエーテルスルホン等を使用するこ
とができる。上記感放射線性樹脂組成物を基板表面に塗
布する方法としては、適宜の方法、例えばスプレー法、
ロールコート法、回転塗布法などの各種の方法を採用す
ることができる。上記プレベークの条件は、各成分の種
類、配合割合などによっても異なるが、通常７０〜１２
０℃で１〜１５分間程度である。このとき、プレベーク
の条件を変更することにより、スペーサーの膜厚を制御
することもできる。次いで、可視光線、紫外線、遠紫外
線、電子線、Ｘ線等の放射線を照射し、露光工程を行う
が、ここで、突起材とする領域およびスペーサーとする
領域について、異なる実質露光量にて露光する。このと
き、突起材とする領域の実効露光量は、スペーサー部の
実効露光量よりも少なくする。使用する放射線として
は、１９０〜４５０ｎｍの範囲の波長を含む放射線が好
ましく、特に３６０ｎｍの波長を含む放射線(紫外線）
が好ましい。ここで、突起材とする領域およびスペーサ
ーとする領域について、異なる実効露光量にて露光する
方法としては適宜の方法が採用できるが、例えば、以下
の方法を使用することができる。 放射線透過率の大なる部分と放射線透過率の小なる
部分を有するパターンマスクを介して露光する方法。 パターンの異なる２種のパターンマスクを用いて複
数回露光する方法。 塗膜上面からの露光と基板裏面からの露光の双方を
行う方法。

【００４３】このときの実効露光量としては、突起材と
する領域については、通常、１００〜２０００Ｊ／
ｍ^２、好ましくは２００〜１５００Ｊ／ｍ^２、とくに好
ましくは４００〜１０００Ｊ／ｍ^２である。この範囲の
実効露光量とすることで、形成される突起材の膜厚を
０．１〜３．０μｍ、好ましくは０．５〜２．０μｍ、
とくに好ましくは１．０〜１．５μｍに制御することが
できる。また、スペーサーとする領域の実効露光量とし
ては、通常、５００〜１００００Ｊ／ｍ^２、好ましくは
８００〜５０００Ｊ／ｍ^２、とくに好ましくは１０００
〜４０００Ｊ／ｍ^２である。この範囲の実効露光量とす
ることで、形成されるスペーサーの膜厚を１〜１０μ
ｍ、好ましくは２〜８μｍ、とくに好ましくは３〜５μ
ｍに制御することができる。このとき、スペーサーとす
る領域の実効露光量を突起材とする領域の実効露光量よ
り大きくすることが好ましい。そのような実効露光量で
各領域を露光することにより、スペーサー部の膜厚を、
突起材部の膜厚より大きくすることができる。また、大
なる実効露光量にて露光されたスペーサー部は十分な強
度を有することができ、一方、小なる実効露光量にて露
光された突起材部は後述するポストベーク工程によって
その形状を配向規制に有効な形状に成形することができ
るようになる。

【００４４】次に現像液により現像し、不要な部分を除
去して所定パターンを形成する。現像方法は液盛り法、
ディッピング法、シャワー法などのいずれでもよく、現
像時間は通常1０〜１８０秒間である。上記現像液とし
ては、アルカリ水溶液、例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタ
ケイ酸ナトリウム、アンモニアなどの無機アルカリ類；
エチルアミン、ｎ−プロピルアミンなどの１級アミン
類；ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミンなどの２
級アミン類；トリメチルアミン、メチルジエチルアミ
ン、ジメチルエチルアミン、トリエチルアミンなどの３
級アミン類；ジメチルエタノールアミン、メチルジエタ
ノールアミン、トリエタノールアミンなどの３級アミン
類；ピロール、ピペリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ
−メチルピロリジン、１,８−ジアザビシクロ［５.４.
０］−７−ウンデセン、１,５−ジアザビシクロ［４.
３.０］−５−ノネンなどの環状３級アミン類；ピリジ
ン、コリジン、ルチジン、キノリンなどの芳香族３級ア
ミン類；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テト
ラエチルアンモニウムヒドロキシドなどの４級アンモニ
ウム塩の水溶液を使用することができる。また上記アル
カリ水溶液に、メタノール、エタノールなどの水溶性有
機溶媒および／または界面活性剤を適当量添加した水溶
液を現像液として使用することもできる。現像後、流水
洗浄を３０〜９０秒間行い、さらに圧縮空気や圧縮窒素
で風乾させることが好ましい。

【００４５】その後、ポストベーク処理を行うことが好
ましい。ポストベーク処理は、ホットプレート、オーブ
ンなどの加熱装置により、所定温度、例えば１５０〜２
５０℃で、所定時間、例えばホットプレート上なら５〜
３０分間、オーブン中では３０〜９０分間加熱処理をす
ることにより目的とする突起材およびスペーサーを同時
に形成することができる。上記の方法により形成された
突起材は、その断面形状が図１（Ｃ）のような半凸レン
ズ形状であり、液晶の配向規制を効果的に行いうるもの
となり、かつ、液晶表示装置の製造における後の工程で
塗布される配向剤に対する濡れ性に優れる。また、上記
の方法により形成された突起材は、その断面形状が図１
（Ａ）のような長方形または図１（Ｂ）のような順テー
パー形状であり、スペーサーとして十分な機械的強度を
有するものである。

【００４６】

【実施例】以下に合成例、実施例を示して、本発明をさ
らに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定
されるものではない。

【００４７】合成例１ 冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビ
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）７重量部および
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル３００重量
部を仕込んだ。引き続きスチレン２１重量部、メタクリ
ル酸１４重量部、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デ
カン−８−イル メタクリレート２０重量部、メタクリ
ル酸グリシジル４５重量部を仕込み窒素置換した後、ゆ
るやかに攪拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇さ
せ、この温度を５時間保持し共重合体［Ａ−１］を含む
重合体溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は
２５．０重量％であり、重合体の重量平均分子量は８,
０００であった（重量平均分子量はＧＰＣ（ゲルパーミ
エイションクロマトグラフィー） ＨＬＣ−８０２０
（東ソー（株）製）を用いて測定したポリスチレン換算
分子量である）。

【００４８】合成例２ 冷却管、撹拌機を備えたフラスコに、２,２’−アゾビ
ス（２,４−ジメチルバレロニトリル）７重量部および
ジエチレングリコールメチルエチルエーテル３００重量
部を仕込んだ。引き続きスチレン１５重量部、メタクリ
ル酸１６重量部、トリシクロ［５．２．１．０^2,6］デ
カン−８−イル メタクリレート２９重量部およびメタ
クリル酸グリシジル４０重量部を仕込み窒素置換した
後、さらに１，３−ブタジエンを５重量部仕込みゆるや
かに攪拌を始めた。溶液の温度を７０℃に上昇させ、こ
の温度を５時間保持し共重合体［Ａ−３］を含む重合体
溶液を得た。得られた重合体溶液の固形分濃度は２４．
９重量％であり、重合体の重量平均分子量は、７０００
であった。

【００４９】実施例１ 感放射線性樹脂組成物の調製 合成例１で得られた共重合体を含有する溶液（共重合体
［Ａ−１］ １００重量部（固形分）に相当）と、成分
［Ｂ］としてのＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬
（株）製）９０重量部と、成分［Ｃ］としての２−メチ
ル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフ
ォリノ−１−プロパノン（イルガキュア９０７；チバ・
スペシャルティー・ケミカルズ社製）３０重量部と、
［Ｄ］界面活性剤としてＳＨ−２８ＰＡ（東レシリコー
ン（株）製）０．００５重量部とを混合し、固形分濃度
が３０重量％になるようにプロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテートに溶解させた後、孔径０.５μ
ｍのミリポアフィルタで濾過して感放射線性樹脂組成物
の溶液（Ｓ−１）を調製した。

【００５０】（Ｉ）ＭＶＡ用突起およびスペーサーの形
成 ガラス基板上にスピンナーを用いて、上記組成物溶液
（Ｓ−１）を塗布した後、９０℃で３分間ホットプレー
ト上でプレベークして塗膜を形成した。上記で得られた
塗膜に所定パターンマスクを用いて、３６５ｎｍでの強
度が１００Ｗ／ｍ²である紫外線をＭＶＡ突起部に５
秒、スペーサー部に３０秒間照射した。このときの実効
露光量は、突起材部で５００Ｊ／ｍ²、スペーサー部で
３０００Ｊ／ｍ²に相当する。このときの紫外線照射は
空気中で行った。次いでテトラメチルアンモニウムヒド
ロキシド０．２重量％水溶液で２５℃で６０秒間現像し
た後、純水で１分間リンスした。ついで、オーブン中
で、２２０℃で６０分間加熱し、ストライプ幅１０μ
ｍ、高さ１．０μｍの突起剤および、パターン底部が１
２μｍ×１２μｍ角、高さ３．５μｍのスペーサーパタ
ーンを同時に形成した。

【００５１】（II）スペーサー強度の評価 上記（Ｉ）で得られたスペーサーの圧縮強度を微小圧縮
試験機（ＭＣＴＭ−２００、島津製作所製）を用いて評
価した。直径５０μｍの平面圧子により、１０ｍＮの荷
重を加えたときの変形量を測定した（測定温度：２３
℃）。この値が０．５μｍ以下のとき、スペーサーの圧
縮強度は良好といえる。結果を表１に示す。

【００５２】（III）ＭＶＡ用突起およびスペーサーの
断面形状の評価 上記（Ｉ）で形成したＭＶＡ用突起およびスペーサーの
断面形状を走査型電子顕微鏡で観察した。断面形状の評
価基準を図１に示す。突起材の場合、断面形状が図１
（Ｃ）のように半凸レンズ状となった場合に形状は良好
であり、図１（Ａ）のような柱状または図１（Ｂ）のよ
うな順テーパー状に形成された場合は、断面形状不良で
ある。一方、スペーサーの場合、図１（Ａ）のような柱
状または図１（Ｂ）のような順テーパー状に形成された
場合は断面形状良好であり、図１（Ｃ）のように半凸レ
ンズ状となった場合に形状は不良である。結果を表１に
示す。

【００５３】（IV）耐熱性の評価 上記（Ｉ）で形成したスペーサー付き基板をオーブン
中、２５０℃で６０分加熱して加熱前後の寸法変化率を
測定した。スペーサーの高さの寸法変化率を表１に示
す。この値が加熱前後で±５％以内の時に耐熱性は良好
といえる。

【００５４】（Ｖ）配向膜塗布性の評価 上記(Ｉ)で得られた基板に、液晶配向剤としてＡＬ３０
４６（ジェイ・エス・アール（株）製）を液晶配向膜塗
布用印刷機により塗布した。ＭＶＡ突起上の配向剤のハ
ジキの有無を光学顕微鏡で観察した。ハジキの有無を表
１に示す。

【００５５】（VI）ラビング耐性の評価 上記(Ｉ)で得られた基板に、液晶配向剤としてＡＬ３０
４６（ジェイ・エス・アール（株）製）を液晶配向膜塗
布用印刷機により塗布し、１８０℃で1時間乾燥し、乾
燥膜厚０.０５μｍの塗膜を形成した。この塗膜に、ナ
イロン製の布を巻き付けたロールを有するラビングマシ
ーンにより、ロールの回転数５００ｒｐｍ、ステージの
移動速度１ｃｍ/秒でラビング処理を行った。この時、
ＭＶＡ突起およびスペーサーパターンの削れや剥がれの
有無を表１に示す。

【００５６】実施例２ 実施例１において、成分［Ｃ］としての２−メチル−１
−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ
プロパン−１−オン（イルガキュア９０７；チバ・スペ
シャルティー・ケミカルズ社製）３０重量部の代わりに
ビス（２,４,６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフ
ォスフィンオキサイド（イルガキュア８１９；チバ・ス
ペシャルティー・ケミカルズ社製）２５重量部を使用し
た他は、実施例１と同様にして組成物溶液（Ｓ−２）を
調製し評価した。結果を表１に示す。

【００５７】実施例３ 実施例２において、共重合体［Ａ−１］を含有する溶液
の代わりに共重合体［Ａ−２］を含有する溶液を用いた
他は、実施例２と同様にして組成物溶液（Ｓ−３）を調
製し、評価した。結果を表１に示す。

【００５８】実施例４ 実施例１において、［Ｄ］成分としてヘキサメチロール
メラミン１０重量部を加えた他は、実施例１と同様にし
て組成物溶液（Ｓ−４）を調製し評価した。結果を表１
に示す。

【００５９】

【表１】

【００６０】

【発明の効果】本発明により、垂直配向型液晶表示素子
の突起材とスペーサーを同時に形成するために好適に用
いられる感放射線性樹脂組成物、およびそれから形成さ
れた突起材およびスペーサー、それらを具備する液晶表
示素子が提供される。本発明で得られる突起材は、配向
膜材料に値する十分な塗れ性を持つ。一方、本発明で得
られるスペーサーは、液晶パネルに係る外部圧力にも変
形しないよう、高度の圧縮強度を有する。さらに、突起
材、スペーサーともに、後のパネル組立工程で加えられ
る熱に対する十分な耐性を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】パターンの断面形状を示す模式図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA03 AA04 AA10 AA13 AB14 AB17 AC01 AD01 BC12 BC31 BC83 CA00 CB08 CB10 CB41 CC17 FA17 2H090 HA14 HA15 HB09Y HC08 HC18 HC20 HD14 JA03 JB02 JC03 JC07 KA04 MA01 MB14 4J011 AA05 PA65 PA66 PA68 PA69 PA70 PA76 4J026 AA16 AA17 AA24 AA25 AA38 AA45 AA48 AA49 AA50 AA52 AA67 AA68 AA69 BA28 BA29 BA30 BA41 DB36 GA07

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ［Ａ］（ａ１）不飽和カルボン酸および
   ／または不飽和カルボン酸無水物、（ａ２）エポキシ基
   含有不飽和化合物、ならびに（ａ３）前記（ａ１）およ
   び（ａ２）以外のオレフィン系不飽和化合物、の共重合
   体、［Ｂ］エチレン性不飽和結合を有する重合性化合
   物、ならびに［Ｃ］感放射線重合開始剤を含有すること
   を特徴とする、垂直配向型液晶表示素子の突起材とスペ
   ーサーを同時に形成するための感放射線性樹脂組成物。
2. 【請求項２】 さらに、［Ｄ］下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ¹〜Ｒ⁶は同一でも異なっていてもよく、それ
   ぞれ水素原子または基−ＣＨ₂ＯＲを示し、Ｒは水素原
   子または炭素数１〜６のアルキル基を示す。）で表わさ
   れる化合物を含有することを特徴とする、請求項１に記
   載の感放射線性樹脂組成物。
3. 【請求項３】 さらに界面活性剤を含有する、請求項１
   または２に記載の感放射線性樹脂組成物。
4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれか一項に記載の感
   放射線性樹脂組成物から形成された突起材およびスペー
   サー。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の突起材およびスペーサ
   ーを具備する液晶表示素子。