WO2004081667A1 - 電子写真感光体 - Google Patents

電子写真感光体 Download PDF

Info

Publication number
WO2004081667A1
WO2004081667A1 PCT/JP1992/001194 JP9201194W WO2004081667A1 WO 2004081667 A1 WO2004081667 A1 WO 2004081667A1 JP 9201194 W JP9201194 W JP 9201194W WO 2004081667 A1 WO2004081667 A1 WO 2004081667A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
resin
group
block
polymer
polymer component
Prior art date
Application number
PCT/JP1992/001194
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Eiichi Kato
Kazuo Ishii
Original Assignee
Eiichi Kato
Kazuo Ishii
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP26690391A external-priority patent/JPH0580545A/ja
Priority claimed from JP30265991A external-priority patent/JPH05113672A/ja
Priority claimed from JP13963192A external-priority patent/JPH05313382A/ja
Priority claimed from JP13963092A external-priority patent/JPH05313381A/ja
Application filed by Eiichi Kato, Kazuo Ishii filed Critical Eiichi Kato
Priority to US08/064,056 priority Critical patent/US5382488A/en
Publication of WO2004081667A1 publication Critical patent/WO2004081667A1/ja

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0528Macromolecular bonding materials
    • G03G5/0589Macromolecular compounds characterised by specific side-chain substituents or end groups
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0528Macromolecular bonding materials
    • G03G5/0592Macromolecular compounds characterised by their structure or by their chemical properties, e.g. block polymers, reticulated polymers, molecular weight, acidity

Definitions

  • the present invention relates to an electrophotographic photoreceptor, and more particularly to an electrophotographic photoreceptor excellent in electrostatic characteristics and moisture resistance.
  • the electrophotographic photoreceptor has various configurations in order to obtain predetermined characteristics or according to the type of the applied electrophotographic process.
  • photoreceptors As typical electrophotographic photoreceptors, there are a photoreceptor having a photoconductive layer formed on a support and a photoreceptor having an insulating layer on the surface, and are widely used.
  • Photoreceptors composed of a support and at least one photoconductive layer are used for image formation by the most common electrophotographic processes, namely charging, image exposure and development, and, if necessary, transfer.
  • an electrophotographic photosensitive member as an offset master for direct plate making has been widely used.
  • direct electrophotographic lithography has become important as a method for printing high-quality printed matter with a print number of several hundred to several thousand sheets.
  • the binder resin used to form the photoconductive layer of the electrophotographic photoreceptor has excellent film forming properties of itself and the ability to disperse the photoconductive powder in the binder resin.
  • the formed recording medium layer has good adhesion to the substrate, and the photoconductive layer of the recording medium layer has excellent charging ability, low dark decay, large light decay, low pre-exposure fatigue,
  • it is necessary to have various electrostatic characteristics such as a necessity of maintaining these characteristics stably due to a change in humidity at the time of photographing, and excellent imaging properties.
  • a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductor, a spectral dye, and a binder resin has been found that not only smoothness but also electrostatic characteristics are greatly affected by the chemical structure of the binder resin. Especially in the case of electrostatic characteristics, dark charge retention (DRR) and light sensitivity are greatly affected.
  • the scanning exposure method using a semiconductor laser beam has a longer exposure time and a limited exposure intensity compared to the conventional simultaneous exposure method using visible light, so the electrostatic characteristics, especially dark charge Higher performance is required for retention characteristics and light sensitivity.
  • Electrophotographic photoreceptors having a photoconductive layer used in combination with these known resins are capable of reproducing high-resolution images (especially continuous-tone images) faithfully reproducing images or low-power lasers. It has been clarified that a problem may occur with respect to the image quality of the scanning exposure method using one light.
  • the present invention is to improve the problems of the above-described known electrophotographic photoreceptors.
  • One object of the present invention is to provide an electronic device that maintains a stable and good electrostatic characteristic and maintains a clear and high-quality image even when the environment at the time of forming a copy image fluctuates such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity.
  • An object of the present invention is to provide a photoreceptor.
  • Another object of the present invention is to provide a CPC electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic characteristics and low environmental dependency.
  • Still another object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member effective for a scanning exposure method using a semiconductor laser beam.
  • Still another object of the present invention is to reproduce a copied image which is excellent in electrostatic characteristics (especially dark charge retention and light sensitivity) and which is faithful to an original image (especially a high-resolution continuous tone image).
  • An object of the present invention is to provide an electrophotographic lithographic printing plate precursor which does not generate not only a uniform background stain on the entire printed matter but also a dot-like background stain and has excellent printing durability.
  • An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductor, a spectral sensitizing dye and a binder resin, wherein the binder resin comprises at least one of the following resins [A]: An electrophotographic photoreceptor characterized by comprising at least one of the following and the following resin [B].
  • a 1 and a 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, a COOR 4 or a C 00 R 4 through a hydrocarbon group (where R 4 is Represents a hydrogen group).
  • R 3 represents a hydrocarbon group.
  • X 1 0 ⁇ 1 X 1 has 0 6 weight-average molecular weight of, containing a polymer component having at least one polar group selected from among the specific polar group represented by the resin (A)
  • An AB block copolymer comprising an A block and a B block containing a polymer component represented by the general formula (I) in the resin [A], wherein the A block is a polymer component having the polar group.
  • the binder resin of the present invention comprises the polymer component represented by the general formula (I) and the above-described feature.
  • a resin (A) which is a star-type polymer in which at least three polymer chains containing a specific polar group-containing component are bonded to an organic molecule, and A containing the above specific polar group-containing component It is at least composed of a resin [B] which is an AB block copolymer including a block and a B block containing a polymer component represented by the above general formula (I).
  • those used for the purpose of improving the smoothness and the electrostatic property of the photoconductive layer are mainly composed of an acidic group-containing polymer component.
  • the resin include a resin present in the chain or at one end and a graft copolymer in which an acidic group is present in the graft portion or at the end of the main chain, and an AB-pro or Soku copolymer containing an acidic group as a block.
  • the low-molecular-weight resin (A) of the present invention is different from the known resin in the bonding pattern of the polymer components, and is a star-type copolymer in which the chemical structure of the polymer is significantly specified. is there.
  • the polar group-containing component present in the polymer chain of the resin (A) of the present invention is sufficiently adsorbed on the stoichiometric defect of the inorganic photoconductor, and other components constituting the polymer chain (For example, the component of the general formula (I)) is presumed to cover the surface of the inorganic photoconductor slowly and sufficiently.
  • the component of the general formula (I) is presumed to cover the surface of the inorganic photoconductor slowly and sufficiently.
  • the photoconductor trap is sufficiently compensated for better than the conventionally known acidic group-containing low molecular weight resin, the humidity characteristics are improved, and the photoconductor particles are sufficiently dispersed. It has also been found that the aggregation of the particles is suppressed.
  • the above-described low-molecular-weight resin has a higher It has been found that the improved electrostatic characteristics may be reduced. It is also more important than expected that these medium to high molecular weight resins more appropriately interact with the photoconductor, spectral sensitizing dye and low molecular weight resin in the photoconductive layer. It has become clear that this is the cause.
  • the polar group-containing A block As the resin of the medium to high polymer S to be used in combination with the low molecular weight resin (A) containing the specific polar group in the polymer chain of the star polymer, the polar group-containing A block according to the present invention is used. Uses AB block copolymer with polar group-free B block It has been found that the above-mentioned problem is effectively solved.
  • the photoconductor particles exist in a state where they are sufficiently dispersed and do not condense, and furthermore, spectral sensitizing dyes and chemical sensitizers Stable at a high-performance level due to the fact that the resin is sufficiently adsorbed on the surface of the photoconductor particles and the extra active site on the surface of the photoconductor is sufficiently adsorbed by the binder resin to compensate for the trap. It is presumed that the electrostatic characteristics can be maintained at the same time.
  • the resin (A) which is a low-molecular-weight polyurethane polymer containing a specific polar group, sufficiently adsorbs to the photoconductor particles to uniformly disperse the particles, It has important effects such as suppression of aggregation due to the short chain, and prevention of adsorption and alienation of the spectral sensitizing dye. Also, by using a medium to high molecular weight AB block copolymer containing an A block containing a specific polar group and a B block containing no A block, the mechanical strength of the photoconductive layer is greatly improved. This is thought to be due to the fact that the A block portion of this resin interacts weaker with the photoconductor particles than the resin [A] and the entanglement effect between the polymer chains of the B block portions.
  • the electrostatic characteristics are further improved as compared with the case where a known middle to high molecular weight resin is used in combination. This is considered to be due to the fact that the portion of the A block interacting with the photoconductor particles has a polarity, and thus acts to suppress the adsorption and alienation of the spectral sensitizing dye. From these facts, the details are unknown, but when the photoconductor particles, the spectral sensitizing dye, the resin [A] and the resin [B] coexist, they are added to the photoconductive particles of the spectral sensitizing dye. It is presumed that they were able to appropriately contribute to the suppression of adsorption and alienation or to the electrophotographic interaction, and also had the effect of improving the strength of the photoconductive layer.
  • This effect is particularly remarkable in a polymethine dye or a phthalocyanine pigment which is particularly effective as a spectral sensitizing dye for near infrared to infrared.
  • the electrophotographic photoreceptor of the present invention using photoconductive zinc oxide as a photoconductor is used as a conventionally known direct printing master, remarkably good water retention as well as excellent imaging properties are obtained. Is shown. That is, the photoreceptor of the present invention, on which a copied image is formed through an electrophotographic process, is rendered non-image-sensitive by chemical treatment using a conventionally known desensitizing solution to form a printing plate, which is then subjected to offset printing. This indicates the performance that was obtained when printing was performed using. When the photoreceptor of the present invention was desensitized, the non-image area was sufficiently hydrophilized and the water retention was improved, so that the number of printed sheets was dramatically improved.
  • each of the resin [A] and the resin [B] used as the binder resin has uniformly and sufficiently dispersed the zinc oxide particles, and the surface of the zinc oxide particles and the vicinity of the surface are readily compatible with the desensitizing aqueous solution. It is presumed that they form a state where they interact and cause a reaction.
  • the resin [A] is a star having at least three polymer chains containing a polymer component having a specific polar group and a polymer component corresponding to the repeating unit represented by the general formula (I) in the same molecule.
  • Type polymer a polymer component having a specific polar group and a polymer component corresponding to the repeating unit represented by the general formula (I) in the same molecule.
  • the star polymer of the present invention is schematically shown, for example, as follows. P o 1 y m e r)
  • X represents an organic molecule
  • P 0 1 ymer represents a polymer chain.
  • three or more polymer chains bonded to an organic molecule are structurally identical. And the lengths of the respective polymer layers may be the same or different.
  • the polymer chain contains at least one polymer component having a specific polar group and at least one polymer component represented by the general formula (I), and the configuration of these components may take various modes. That is, the specific polar group-containing component constituting the polymer chain and the general formula (I The component represented by) may exist randomly in the polymer chain or may exist as a block.
  • the resin [A] is an AB block comprising an A block containing a polymer component having a specific polar group and a B block containing a polymer component represented by the general formula (I). It is a star-type polymer consisting of at least three polymer chains bonded to an organic molecule. The B block does not contain the specific polar groups contained in the A block. In this case, the sequence of the A block and the B block in the polymer chain may be any order.
  • Such a resin [A] is schematically shown as follows.
  • the upper limit of the number of polymer chains bonded to an organic molecule is at most 15 and usually about 10 at most.
  • the weight average molecular weight of the resin (A) is 1 ⁇ 10 3 to 2 ⁇ 10 4 , preferably 3 ⁇ 10 3 to 1 ⁇ 10 4 , and the glass transition point of the resin (A) is preferably 1 to 4.
  • the temperature is from 0 ° C to 110 ° C, more preferably from 120 ° C to 90 ° C.
  • the molecular weight of the resin (A) is smaller than 1 ⁇ 10 3 , the film-forming ability is lowered and sufficient film strength cannot be maintained.On the other hand, if the molecular weight is larger than 2 ⁇ 10 4, even the resin of the present invention may be used. Electrophotographic characteristics under severe conditions of high temperature, high humidity, low temperature and low humidity, especially for photoreceptors using near infrared to infrared spectral sensitizing dyes (particularly initial potential, dark charge retention and photosensitivity) Of the present invention that the variation of The effect diminishes.
  • the content of the polymer component corresponding to the repeating unit of the general formula (I) is at least 30% by weight, preferably 30 to 99% by weight, more preferably 30 to 99% by weight in the resin [A].
  • the polymer component having a specific polar group is present in an amount of 1 to 20% by weight, preferably 3 to 15% by weight in the resin [A].
  • the content of the polar group-containing component in the resin [A] is less than 1% by weight, the initial potential is low, and it is difficult to obtain a sufficient image density.
  • the content of the polar group-containing component is more than 20% by weight, the dispersibility of the photoconductor is lowered even though it is a low molecular weight substance, and the background fouling increases when used as an offset mass. Tend.
  • a 1 and a 2 each preferably represent a hydrogen atom, a halogen atom (eg, a chlorine atom or a bromine atom), a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (eg, a methyl group, an ethyl group) , A propyl group, a butyl group, etc.), —C 0 R or via a hydrocarbon group —C 0 R 4 (R 4 is a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group or an aryl group the expressed, they may be substituted, and specifically, represents the to table) the same contents as those described below R 3.
  • a 1 is hydrogen atom
  • a 2 is a methyl group is preferable.
  • Examples of the hydrocarbon group in one C 4 O 4 group via the above hydrocarbon group include a methylene group, an ethylene group, and a propylene group.
  • R 3 preferably represents an optionally substituted hydrocarbon group having 18 or less carbon atoms.
  • the substituent may be any substituent other than the polar group contained in the polar group-containing polymer component in the resin [A].
  • a halogen atom for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.
  • — OR 8 —C 0 OR 6 or one OCOR 6
  • R 6 represents an alkyl group having 1 to 22 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group, and a decyl group.
  • a dodecyl group, a hexadecyl group, an octadecyl group, etc. Preferred hydrocarbon groups include an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, Decyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, 2-chloro Butyl, 2-bromoethyl, 2-cyanoethyl, 2-hydroxyl, 2-methoxycarbonylethyl, 2-methoxyl, 2-ethoxyl, 3-hydroxypropyl, 3-hydroxyl Bromopropyl group, etc., an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, butyl group, aryl group, 2-methyl-1-propeny
  • a methacrylate component containing a specific aryl group represented by the following general formula (Ia) and / or the general formula (lb) is used.
  • the polymer component represented is more preferred.
  • Such a low-molecular-weight resin containing a specific aryl group may be hereinafter referred to as a resin [ ⁇ '].
  • T i and T 2 are each a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, —CO Ra or —COO Ra (R a is a carbon atom Represents 1 to 10 hydrocarbon groups), and 1 ⁇ and L 2 each represent a single bond or a linking group having 1 to 4 linking atoms connecting —COO— and a benzene ring.
  • the proportion of the methacrylate polymer component corresponding to the repeating unit of the general formula (la) and / or the general formula (Ib) in the resin [ ⁇ '] is 30% by weight or more in the resin [ ⁇ '].
  • the proportion of the polymer component having a specific polar group is 1 to 20% by weight, preferably 3 to 15% by weight in the resin [ ⁇ ']. .
  • resin [ ⁇ '] further improves the electrostatic properties (especially V 1 () , DRR, E 1/10 ).
  • preferred 1 ⁇ and T 2 are each a hydrogen atom, a chlorine atom and a bromine atom, and a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms.
  • Alkyl groups having 1 to 4 atoms eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, etc.
  • aralkyl groups having 7 to 9 carbon atoms eg, benzyl group, phenyl group, 3-phenylpropyl group, Benzyl group, dichlorobenzyl group, promobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, monomethyl-benzyl group, and aryl group (for example, phenyl group, tolyl group, xylyl group, promophenyl) Group, methoxyxyphenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group)
  • one C 00 (as a preferred R a may be mentioned those mentioned as preferred hydrocarbon group
  • L! And L 2 are each - C OO- directly coupling a benzene ring bond or one (CH 2) ni - (! N represents an integer of 1 ⁇ 3), - CH 2 0 C 0 -, - CH 2 CH 20 C 0, one (CH 20 ) ml — (mi represents an integer of 1 or 2), — a connecting group having 1 to 4 connecting atoms such as CH 2 CH 20 —, etc.
  • Preferable examples include a direct bond or a linking group having 1 to 2 linking atoms.
  • the polymer component having a specific polar group in the resin [A] will be described.
  • the polar group in the polar group-containing polymer component includes one P 0 3 H 2 and one S
  • R 1 represents a hydrocarbon group or one OR 2 (R 2 represents a hydrocarbon group).
  • the hydrocarbon group represented by R 1 or R 2 is specifically an aliphatic group having 1 to 22 carbon atoms which may be substituted (eg, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, an octyl group) Group, decyl group, dodecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-methoxethyl group, 3-ethoxypropyl group, aryl group, crotonyl group, butenyl group, cyclohexyl group, benzyl group, A phenethyl group, a 3-phenylpropyl group, a methylbenzyl group, a cyclobenzyl group, a fluorobenzy
  • the cyclic acid anhydride group is a group containing at least one cyclic acid anhydride.
  • Examples of the contained cyclic acid anhydride include aliphatic dicarboxylic acid anhydride and aromatic dicarboxylic acid. Anhydrides.
  • aliphatic dicarboxylic anhydrides include succinic anhydride ring, daltaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, cyclopentane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, and cyclohexane one.
  • halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom
  • alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group or a hexyl group.
  • aromatic dicarboxylic anhydride examples include a phthalic anhydride ring and a naphthalene anhydride.
  • a dicarboxylic acid anhydride ring, a pyridine dicarboxylic acid anhydride ring, a thiophene dicarboxylic acid anhydride ring, etc., and these rings are, for example, a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom, a methyl group or an ethyl group.
  • the polar group in the resin [A] may be directly bonded to the polymer chain, or may be bonded via a linking group.
  • the linking group may be any of the linking groups. For example, specific examples include: [C Cd! ) (d 2)] (d!
  • d 2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom (a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an OH group, a cyano group, an alkyl group (a methyl group, an ethyl group) , 2-chloroethyl, 2-hydroxyl, propyl, butyl, hexyl, etc.), aralkyl (benzyl, phenethyl, etc.), or phenyl, etc.
  • a halogen atom a chlorine atom, a bromine atom, etc.
  • an OH group a cyano group
  • an alkyl group a methyl group, an ethyl group
  • 2-chloroethyl 2-hydroxyl
  • propyl butyl, hexyl, etc.
  • aralkyl benzyl, phenethyl, etc.
  • C (d 3 ) C (d 4 )]] (d 3 and d 4 represent the same contents as di and d 2), —C e H 10 —, one C e H 4 one, one 0 —, — S—, -N (d 5 ) —Cd 5 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group (specifically, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (eg, methyl Group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, 2-methoxethyl group, 2-chloroethyl group, 2 —Cyanoethyl group, benzyl group, methylbenzyl group, phenyl group, phenyl group, tolyl group, chlorophenyl group, methoxyphenyl group, butylphenyl group, etc.)]), one CO-,
  • a hetero atom or a condensed ring thereof may be used.
  • a thiophene ring, Gin ring, furan ring, imidazole ring, piperidine ring, morpholine ring, etc.) or —Si (d 6 ) (d 7) (d 6 and d 7 may be the same or different It often represents a hydrocarbon group or 10 da (d 8 is a hydrocarbon group), and these hydrocarbon groups include those listed for d 5. Same may be mentioned) single bond group or the like and, linking group constituted by a combination thereof.
  • Such a polymer component having a polar group can be copolymerized with, for example, a monomer corresponding to the repeating unit represented by the general formula (I) (including the general formulas (Ia) and (lb)). Any compounds derived from the vinyl compound containing the polar group may be used. Examples of the vinyl compound are described in, for example, “Polymer Data: Handbook [Basic Edition]” edited by The Society of Polymer Science, Japan, Baifukan (published in 1986).
  • acrylic acid, ⁇ and / or or; 8-substituted acrylic acid for example, acetoxy form, ⁇ -acetoxymethyl form, a- (2-amino) ethyl form, ⁇ -chloro form
  • Oral body ⁇ -promo body, monofluoro body, monotriptysilyl body, ⁇ —cyano body, / 3-cyclomouth body, 3-promo body, monochloro- ⁇ -methoxy body, a, ⁇ -dic Liposome
  • maleic acid maleic acid half-esters
  • e 1 represents H or CH 3
  • e 2 represents H, CH 3 or CH 2 CO CH 3
  • e 1 represents H or CH 3
  • e 2 represents H, CH 3 or CH 2 CO CH 3
  • R 14 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
  • R 15 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a benzyl group or a phenyl group
  • c represents an integer of 1 to 3
  • d represents 2 to 11
  • E represents an integer of 1 to 11
  • f represents an integer of 2 to 4
  • g represents an integer of 2 to 10.
  • the polar group-containing component is present in the A block, and the polar group-containing component is contained in the A block in two or more types. These two or more polar group-containing components may be contained in the A block by either random copolymerization or block copolymerization.
  • the resin (A) may contain a polymer component other than the above-mentioned polymer component. As such a polymer component, a polymer component corresponding to a repeating unit represented by the following general formula (H) is preferable.
  • H general formula (H)
  • D 1 is — C OO—, — OCO—,-(CH 2 ) k — OCO—,
  • alkyl groups which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, decyl group)
  • An alkenyl group which may have 4 to 18 carbon atoms and may be substituted (for example, a 2-methyl-11-propenyl group, a 2-ptenyl group,
  • aralkyl groups which may be substituted (for example, benzyl group, phenyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, A jyl group, a bromobenzyl group, a methylbenzyl group, an ethylbenzyl group, a methoxybenzyl group, a dimethylpentyl group, a dimethoxybenzyl group, etc.), an alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted (for example, , A cyclohexyl group, a 2-cyclohexylethyl group, a 2-cyclopentylethyl group, etc.) or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (for example, a phenyl group, a naphthyl group, a Ryl, xylyl, propylphenyl, butylphenyl
  • D 1 is - representative of the C e H 4 one benzene ring may have a substituent.
  • substituents include a halogen atom (for example, chlorine atom, bromine atom, etc.), an alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), an alkoxy group ( For example, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group and the like can be mentioned.
  • hydrocarbon group represented by D 2 it is a preferred correct hydrocarbon group, an alkyl group which may be substituted in the number of 1-2 2 carbons (e.g., methyl group, Echiru group, propyl group, butyl group, Pentyl, hexyl, heptyl, octyl, decyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, 2-chloroethyl, 2-bromoethyl, 2-cyanoethyl Group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethoxy group, 3-bromopropyl group, etc., and optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (eg, 2-methyl-1-prophenyl) Group, 2-pentenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group,
  • aromatic groups for example, phenyl, naphthyl, tolyl, xylyl, propylphenyl, butylphenyl, octylphenyl, dodecylphenyl, methoxyphenyl, ethoxyphenyl, phenyl
  • Toxylphenyl decyloxyphenyl, chlorophenyl, dichlorophenyl, promophenyl, cyanophenyl, acetylphenyl, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, and methoxycarbonyl
  • Acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecylylamidophenyl group, etc. Acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecylylamidophenyl group, etc.
  • D 1 is preferably one of C 0 0—, —0 C 0—, —CH 2 OCO—, —CH 2 COO—, — 0—, —C 0 NH—, —S 0 2 NH- or - CGH 4 - represents a.
  • the polymer component which can be contained in the resin [A] corresponds to another repeating unit copolymerizable with the polymer component of the general formula (I).
  • Monomers for example, acrylonitrile, methacrylonitrile, heterocyclic vinyls (for example, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinylpyrazol, vinyldioxane, vinyloxazine). These other monomers are preferably used in an amount not exceeding 20 parts by weight in 100 parts by weight of the resin [A].
  • the organic molecule to which three or more polymer chains are bonded in the resin [A] according to the present invention is not particularly limited as long as it has a molecular weight of 100 or less.
  • the following trivalent or higher valent hydrocarbon residues may be mentioned.
  • Ri ⁇ r 4 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. Provided that one at least of the r 1 and r 2 or r 3 and r 4 are connected to the polymer chain Yes.
  • organic residues may be composed of one or any combination of these, and in the case of a combination, — 0—, — S—, — N (r 7 ) —, — CO—, — CS—, — C 00 -, - CO (r 7 ) -, one S 0 2 -, - S 0 2 N (r 7) - (wherein r 7 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon), - NH COO, - NH CO NH -, A heterocyclic group containing a hetero atom such as an oxygen atom, a zeo atom, a nitrogen atom (for example, a thiophene ring, a pyridine ring, a silane ring, a imidazole ring, a benzoimidazole ring, a furan ring, a It may contain a combination of bonding units such as a lysine ring, a pyrazine ring, a
  • Examples of the organic molecule to which another polymer chain is bonded include those composed of a combination of -N-, -P- or -Si- and the above-mentioned bonding unit. However, specific examples of the organic molecule according to the present invention are not limited to these.
  • the star polymer of the present invention can be synthesized using a conventionally known method for synthesizing a star polymer of a monomer having a polar group and having a polymerizable double bond group.
  • a polymerization reaction using a carbanion as an initiator Specifically, M. Morton, T.E.Helminiaketal, J. Polym.Sci., 57 ⁇ 471 (1962), B. Gordon III, M.B1 umentha 1, J.E.L oftus >> etal, Polym.Bull., 11, 3449 (1980), R.B.Bates, WA Beavers, eta UJ.Or g. Chem., 4 4 ⁇ 3800 (1 979) Can be synthesized according to
  • a monomer having a specific polar group of the present invention which is not protected is used, and a compound containing a dithiol group and / or a compound containing a zanteto group is used as an initiator.
  • a compound containing a dithiol group and / or a compound containing a zanteto group is used as an initiator.
  • it can be synthesized by performing a polymerization reaction under light irradiation.
  • the weight average molecular weight of the resin (A) of the present invention can be easily adjusted by appropriately selecting the type and amount of the monomer and the polymerization initiator to be used, the polymerization temperature, and the like, as is conventionally known in the polymerization reaction. be able to.
  • the resin (B) contains an A block containing a polymer component having a specific polar group and a polymer component corresponding to the repeating unit represented by the general formula (I), and has a polymer having the above specific polar group.
  • AB block copolymer containing B block without coalescing component is there.
  • the AB block copolymer according to the present invention is a mode (1): a block copolymer in which an A block and a B block are bonded, and a mode (2): a weight of the A block in the mode (1) opposite to the B block in the mode (1).
  • Embodiment (3) Includes a block copolymer in which B blocks are bonded to both ends of A block.
  • the resin [B] contains a polymer component having a specific polar group in an amount of 0.05 to 10% by weight based on the resin [B] and 30% by weight or more of the polymer component represented by the general formula (I). It is characterized by
  • the content of the polar group-containing component in the resin [B] is less than 0.05% by weight, the initial potential is too low to obtain a sufficient image density, while the content of the polar group-containing component is more than 10% by weight.
  • the dispersibility of the photoconductor particles is reduced, the film smoothness and the electrophotographic properties are reduced under high-temperature and high-humidity conditions.
  • the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in the copolymer is smaller than the total amount of the specific polar group-containing polymer component contained in the resin (A). On the other hand, it is preferably from 10% by weight to 50% by weight.
  • the total amount of the resin [B] is less than 10% by weight of that of the resin [A], electrophotographic properties (particularly, dark charge retention and light sensitivity) and film strength tend to decrease.
  • the content exceeds 50% by weight, the uniformity of the dispersion of the photoconductor particles may be insufficient, and the electron photographic characteristics may decrease, or the water retention of the offset master may decrease.
  • the weight average molecular weight of the resin (B) is 3 X 1 0 4 - 1 X 1 0 8, preferably 5 X 10 4 - a 5 X 1 0 5. If the molecular weight of the resin [B] is less than 3 X 10, the film-forming ability will be reduced and sufficient film strength cannot be maintained, and the molecular weight will be larger than 1 X 10 e. In addition, the effect of the resin [B] of the present invention is reduced, and the electrophotographic characteristics are not much different from those of the conventionally known resin.
  • the glass transition point of the resin [B] is preferably in the range of ⁇ 10 ° C. to 100 ° C., and more preferably 0 ° C. to 90 ° C.
  • polymer component containing a specific polar group constituting the A block of the AB block copolymer (resin [B]) of the present invention include the specific polar group of the above-mentioned resin [A]. And the same as the polymer component to be used.
  • Two or more types of polymer components containing a specific polar group may be contained in the A block, and in this case, two or more types of polar group-containing components may be either copolymerized in the A block by either random copolymerization or block copolymerization. It may be contained in an aspect.
  • the A block may contain a polymer component other than the polar group-containing polymer component, and the polymer component is preferably a compound represented by the general formula (H) described in detail in the resin [A]. And a polymer component corresponding to the repeating unit (1). Further, as a polymer component that can be contained in the A block together with the polymer component corresponding to the general formula (H), a unit corresponding to another repeating unit copolymerizable with the polymer component of the general formula (H) And acrylonitrile, methacrylonitrile, and heterocyclic vinyls (eg, vinylpyridine, vinylimidazole, vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinylvirazole, vinyldioxane, vinyloxazine). These other monomers are preferably used in an amount not exceeding 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the total polymer components of the A block.
  • the polymer component is preferably a compound represented by the general formula (H) described in detail in the resin [A
  • the B block contains at least a polymer component represented by the repeating unit represented by the general formula (I).
  • the component represented by the general formula (I) is preferably contained in the B block component in an amount of preferably at least 30% by weight, more preferably at least 50% by weight.
  • polymer component represented by the general formula (I) The details of the polymer component represented by the general formula (I) are the same as those described for the resin [A]. Examples of other polymer components that can be contained include those described as the polymer component represented by the general formula (H) that can be contained in the A block and other components copolymerizable therewith. However, in B block, A block It does not contain a specific polar group-containing polymer component contained in the polymer.
  • Preferred components as the polymer component other than the polar group-containing component of the B block portion are:
  • a 1 and a 2 each represent a hydrogen atom
  • the hydrocarbon group of R 3 has a carbon number of 1 to 6 optionally substituted alkyl groups (for example, methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, 2-chloroethyl, 2-cyanoethyl, 2-methoxyethyl, 2 mono-phenylethyl group, 2,3-dichloropropyl propyl group, etc.).
  • those wherein m 1 and m 2 both represent a hydrogen atom and the hydrocarbon group of D 2 represents the same as described for R 3 above can be mentioned. .
  • the AB block copolymer of the resin [B] used in the present invention can be produced by a conventionally known polymerization reaction method.
  • the polar group is set as a functional group in which the polar group is protected in advance, and an organometallic compound (for example, alkyl lithiums, lithium diisopropylamide, alkyl Magnesium halides, etc.)
  • organometallic compound for example, alkyl lithiums, lithium diisopropylamide, alkyl Magnesium halides, etc.
  • Known ionizing reactions such as ion polymerization reaction using a hydrogen iodide / iodine system, photopolymerization reaction using porphyrin metal complex as a catalyst, or group transfer polymerization reaction.
  • deprotection reaction of the functional group protecting the polar group is carried out by hydrolysis reaction, hydrogenolysis reaction, oxidative decomposition reaction or photolysis reaction, etc.
  • hydrolysis reaction hydrogenolysis reaction
  • oxidative decomposition reaction oxidative decomposition reaction
  • photolysis reaction etc.
  • reaction scheme (A) One example is shown in the following reaction scheme (A).
  • R represents an alkyl group, porphyrin ring residue, etc.
  • ⁇ rep Indicates a protecting group (eg, -C (C 6 H 5 ) 3 , —Si (C 3 H 7 ) 3 etc.)
  • b Indicates a bond between blocks
  • n, m Indicates the repeating unit Specifically, for example, P.Lutz, P.Massoneta Polym.Bull. 12.2, 79 (1984), BC Anderson, G.D.An dresetal, Ma cromo lecules, 14, 1601 (1980), K. Hatada, K. Ute.etaPo1ym.J .., 977 (1980), 181 0 3 7 (1 986), Hiroshi Ute, Koichi Hatada, Polymer Processing, _L, 36 (1 987), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Collection of Polymers, 46, 18 9 (1 989), M. Kuroki, T. Aida, J. Am.
  • the AB block copolymer uses a monomer that does not protect the polar group, and uses a compound containing a dithiocarbamate group and / or a compound containing a xanthate group as an initiator under light irradiation. It can also be synthesized by performing a polymerization reaction. For example, Takayuki Otsu, Macromolecules, ⁇ , 248 (1988), Goichi Hinomori, Ryuichi Otsu, Po1ym.Rep.Jap. 988), JP-A-64-111, JP-A-64-26619, Nobuyuki Azuma, etc., Polymer Preprints, Japan.
  • the compound can be synthesized according to the synthesis method described in 9 87). Further, an azobis compound containing a portion of either the A block or the B block (ie, a high-molecular azobis initiator) is synthesized, and this is used as an initiator to form a simple block for forming the other block. A method of synthesizing monomers by a radical polymerization reaction can also be used.
  • Akira Ueda Susumu Nagai, Journal of Polymers, _, 469 (19987), Akira Ueda, Report of Osaka Municipal Industrial Research Institute, (1989), etc. It can be synthesized by a method.
  • the weight average molecular weight of the polymer initiator is 2 ⁇ 10 10 because of the ease of synthesis of the polymer azobis initiator and the regularity of the polymerization reaction for blocking. It is preferably 4 or less.
  • the resin [B] of the present invention it is preferable that the B block has a longer polymer chain than the A block. From the above, when synthesizing by this reaction, a method using a polymer initiator containing an A block is preferable. For example, it can be synthesized according to the following reaction scheme (B).
  • the resin [B] may have a polar group bonded directly or via a linking group to one end of the polymer main chain of the A block containing the polymer component having a polar group.
  • the polar group bonded to the terminal may be the same as or different from the polar group contained in the polymer component constituting the A block.
  • the linking group include those described for the case where the polar group is present in the polymer chain in the resin [A].
  • the AB block copolymer having a polar group at the terminal can be produced by a conventionally known polymerization reaction method.
  • the polar group is set as a functional group in which the polar group is protected in advance, and an organometallic compound (for example, alkyl lithium, lithium diisopropylamide, Alkyl magnesium halides) or known so-called riving polymerization reactions such as ion polymerization reaction using hydrogen iodide and iodine, photopolymerization reaction using porphyrin metal complex as a catalyst, or group transfer polymerization reaction.
  • organometallic compound for example, alkyl lithium, lithium diisopropylamide, Alkyl magnesium halides
  • riving polymerization reactions such as ion polymerization reaction using hydrogen iodide and iodine, photopolymerization reaction using porphyrin metal complex as a catalyst, or group transfer polymerization reaction.
  • a specific polar group is directly introduced at the termination reaction, or a functional group capable of binding the polar group is introduced, and then the polar group is chemically bonded.
  • the deprotection reaction is carried out by hydrolysis, hydrogenolysis, oxidative decomposition, photodecomposition, etc. of the functional group in which the polar group is protected. And a method of forming a functional group.
  • One example is shown in the following reaction scheme (C).
  • R represents an alkyl group, porphyrin ring residue, etc.
  • ⁇ Prep Indicates a protecting group (for example, -C (C 6 H 5 ) 3 -Si (C 3 H 7 ) 3 etc.) b: Indicates a bond between blocks
  • mn Indicates the repeating unit
  • the AB block copolymer uses a monomer which does not protect the polar group and contains a dithiocarbamate group-containing compound having a specific polar group as a substituent and / or a zantate group.
  • the compound can also be synthesized by performing a polymerization reaction under light irradiation using a compound as an initiator.
  • the resin [B] can be synthesized according to the synthesis method described in the literature and the like.
  • the protection of the specific polar group by the protecting group and the elimination of the protecting group (deprotection reaction) can be easily carried out by utilizing conventionally known knowledge.
  • a method described in detail in a review of the literature and the like described in this regard is appropriately selected and carried out. be able to.
  • a block copolymer (hereinafter, sometimes referred to as a BAB block copolymer) in which a B block is bonded to both ends of an A block will be described.
  • the B block portions at both ends may be structurally the same or different, each containing at least a polar group component in the A block portion and a polymer component represented by the general formula (I) Should just be included.
  • the length of each polymer chain may be the same or different.
  • the BAB block copolymer used in the present invention can be produced by a conventionally known polymerization reaction method. Specifically, in a monomer corresponding to the polymer component containing the specific polar group, a functional group in which the polar group is protected in advance is used, and an organometallic compound (eg, alkyl lithiums, lithium diisopropyl amide) is used, and alkylmagnesium halides) or a known so-called riving polymerization reaction such as a photopolymerization reaction or a group transfer polymerization reaction using a porphyrin metal complex as a catalyst, or an ionic polymerization reaction using a hydrogen iodide or iodine system.
  • organometallic compound eg, alkyl lithiums, lithium diisopropyl amide
  • riving polymerization reaction such as a photopolymerization reaction or a group transfer polymerization reaction using a porphyrin metal complex as a catalyst, or an i
  • reaction scheme (D) After synthesizing an AB block copolymer, a method of forming a polar group by performing a deprotection reaction such as a hydrolysis reaction, a hydrogenolysis reaction, an oxidative decomposition reaction, or a photodecomposition reaction on a functional group having a protected polar group, and the like. Can be One example is shown in the following reaction scheme (D). Reaction scheme (D)
  • R represents an alkyl group, porphyrin ring residue, etc.
  • ⁇ rep represents a protecting group (eg, 1 C (C 6 H 5 ) 3 , —Si (C 3 H 7 ) 3 etc.)
  • n, m, n Indicates a single bounce Specifically, for example, P.Lutz, P.Massonetal, Polym.Bull. 12.2, 79 (1980), B.C.Anderson, G.D • Andresetal , Ma cr omo lecules ⁇ 1 4, 1 6 0 1 ( 1 9 8 1), K. H atada s K. U t e. etal, P ol ym. J.
  • the BAB block copolymer uses a monomer that does not protect the polar group and is polymerized under light irradiation using a compound containing a dithiocarbamate group and / or a compound containing a xanthate group as an initiator. It can also be synthesized by performing a reaction. For example, in the synthesis method of the resin [B], the resin [B] can be synthesized according to the synthesis method described in the literature and the like.
  • the use ratio of the resin (A) and the resin (B) of the present invention is preferably from 0.05 to 0.60 0.95 to 0.40, more preferably from the weight ratio of the resin (A) and the resin (B). 0.1 0 ⁇ 0.4 0 / 0.9 0-0.60. If the weight ratio of the resin [A] is less than 0.05 in the usage ratio of the resin [A] and the resin [B], the effect of improving the electrostatic properties is diminished. On the other hand, if it exceeds 0.60, the film strength of the photoconductive layer may not be maintained sufficiently (particularly as an electrophotographic lithographic printing original plate).
  • the resin [A] and the resin [B] used for the photoconductive layer may each be used in combination of two or more.
  • the binder resin provided for the photoconductive layer of the present invention a resin known for inorganic photoconductors may be used in addition to the resin [A] and the resin [B] of the present invention.
  • the proportion of these other resins used is preferably not more than 30 parts by weight in 100 parts by weight of the total binder resin. If the ratio is exceeded, the effect of the present invention is significantly reduced.
  • other resins that can be used in combination include, for example, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, styrene butadiene copolymer, styrene-methacrylate copolymer, methacrylate copolymer, and acrylic resin. Rate copolymers, vinyl acetate copolymers, polybutyral, alkyd resins, silicone resins, epoxy resins, epoxy ester resins, polyester resins, and the like.
  • the total amount of the binder resin used in the photoconductive layer of the present invention is preferably from 100 parts by weight to 100 parts by weight, more preferably 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the inorganic photoconductor. It is 15 parts by weight to 50 parts by weight. If the total amount ratio of the binder resin is less than 10 parts by weight, the film strength of the photoconductive layer cannot be maintained. On the other hand, if the amount exceeds 100 parts by weight, the electrostatic characteristics are degraded, and the copied image is deteriorated in the actual imaging performance.
  • Examples of the inorganic photoconductor used in the present invention include zinc oxide, titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, carbon dioxide, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide, and lead sulfide. No.
  • spectral sensitizing dye used in the present invention various dyes can be used alone or in combination as needed.
  • examples of the carboxylic dye, the triphenylmethane dye, the xanthene dye, and the phthalein dye include JP-B-51-4522, JP-A-50-93034, No. 50—1 1 4 2 2 7; No. 5 3—3 9 13 0; No. 5 3—8 2 3 5 3; U.S. Patent Nos. 3,052, 540, 4 , 054,450 and JP-A-57-164566.
  • the electrophotographic photoreceptor of the present invention is excellent in that even when various sensitizing dyes are used in combination, the performance is hardly changed by the sensitizing dye. Further, if necessary, various conventionally known additives for an electrophotographic photosensitive layer such as a chemical sensitizer may be used in combination. For example, the review mentioned above: Imaging 19
  • Electron-accepting compounds for example, halogens
  • the addition amount of these various additives is not particularly limited, but is usually 0.0001 to 2.0 parts by weight based on 100 parts by weight of the photoconductor.
  • the thickness of the photoconductive layer is preferably from 1 to 100 m, particularly preferably from 10 to 50 m.
  • the thickness of the charge generation layer is preferably from 0.01 to 1 ⁇ 111, particularly from 0.05 to 0. .5 ⁇ m is preferred.
  • an insulating layer is provided for the main purpose of protecting the photoconductor, improving durability, and improving dark charge characteristics. At this time, the insulating layer is set relatively thin, and the insulating layer provided when the photoreceptor is used in a specific electrophotographic process is set relatively thick.
  • the thickness of the insulating layer is set to 5 to 70111, in particular to 10 to 50 // m.
  • Examples of the charge transport material of the laminated photoreceptor include polyvinyl carbazole, oxazole dyes, pyrazoline dyes, and triphenylmethane dyes.
  • the thickness of the charge transport layer is preferably 5 to 40 m, particularly preferably 10 to 30 ⁇ m.
  • Typical resins used for forming the insulating layer or the charge transport layer include polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, and vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin.
  • Thermoplastic resins and curable resins of polyacrylic resin, polyolefin resin, urethane resin, polyester resin, epoxy resin, melamine resin, silicon resin are used as appropriate.
  • the photoconductive layer according to the present invention can be provided on a conventionally known support.
  • the support of the electrophotographic photosensitive layer is conductive.
  • the conductive support the same as in the related art, for example, a low-resistance material such as metal, paper, plastic sheet, or the like is used.
  • Conductive treatment by impregnating with, for example, a conductive material on the basic back surface (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided) and at least one layer for the purpose of preventing curling. What provided a water-resistant adhesive layer on the surface of the support
  • At least one or more pre-coat layers are provided on the surface layer of the support, if necessary, or a substrate obtained by laminating a base conductive plastic on which aluminum or the like is deposited on paper is used. Can be used.
  • conductive substrates or conductive materials include Yukio Sakamoto, electrophotography s14 (o.1), P2-11 (1975), Hiroyuki Moriga, "Introductory Special Paper” Chemistry of Polymers ”(1975), MF Hoover, J. Macromol. Sci. Chem. A—4 (6), 1332-7-1417 Use the ones described on page (1970).
  • the electrophotographic photoreceptor of the present invention can be used in applications utilizing conventionally known electrophotographic processes.
  • the photoreceptor of the present invention can be used in any of the recording methods of the PPC method and the CPC method, and either a dry developer or a liquid developer can be used as a developer.
  • the photoreceptor of the present invention using photoconductive zinc oxide as a photoconductor uses a photoconductive zinc oxide or a photoconductive titanium oxide having no pollution and good whiteness as an original plate for offset printing.
  • the photoreceptor can be used for an underlay recording material or a color group used in an offset printing process.
  • a mixed solution of 66 g of methyl methacrylate, 30 g of methyl acrylate, 4 g of acrylic acid, and 28 g of an initiator having the following structure (I-I-1) and 150 g of tetrahydrofuran was added to nitrogen.
  • the mixture was heated to a temperature of 50 ° C under an air stream.
  • the Mw of each of the obtained polymers was in the range of 6 ⁇ 10 3 to 9 ⁇ 10 3 .
  • the obtained polymer had a range of 5 ⁇ 10 3 to 9 ⁇ 10 3 .
  • each monomer corresponding to the polymer component in Table 16 below and 25 g of tetrahydrofuran were added, and light irradiation was performed again for 15 hours in the same manner as described above.
  • the Mw of the obtained polymer was in the range of 5 ⁇ 10 3 to 8 ⁇ 10 3 .
  • a mixed solution of 100 g of methyl methacrylate and 200 g of tetrahydrofuran was sufficiently degassed under a stream of nitrogen to give a solution of 120 g. Cooled to C. 0.8 g of 1,1-diphenylbutyllithium was added and reacted for 12 hours. Furthermore, a mixed solution of 60 g of methyl acrylate, 6 g of trimethylmethyl methacrylate and 5 g of tetrahydrofuran was sufficiently degassed under a nitrogen stream, and then added to the mixed solution. The reaction was continued for another 8 hours. After the mixture was heated to 0 ° C., 10 ml of methanol was added, and the mixture was reacted for 30 minutes to stop the polymerization.
  • the temperature of the obtained polymer solution was adjusted to 30 ° C. while stirring, and 3 ml of a 30% ethanol solution of hydrogen chloride was added thereto, followed by stirring for 1 hour. Next, the solvent was distilled off under reduced pressure until the total amount of the reaction mixture was reduced to half, and then reprecipitated in 1 liter of petroleum ether. The precipitate was collected, dried under reduced pressure, and the polymer obtained had a Mw of 7.3 ⁇ 10 4 and a yield of 72 g.
  • a mixed solution of 70 g of methyl methacrylate, 30 g of methyl acrylate, 0.5 g of (tetrahydrofuran vorfinate) aluminum methyl and 60 g of methylene chloride was heated to a temperature of 30 ° C under a nitrogen stream. did. This was irradiated with a 300 W xenon lamp through a glass filter from a distance of 25 cm, and reacted for 12 hours. 60 g of methyl acrylate and 3.2 g of benzyl methacrylate were added to the mixture, and the mixture was similarly irradiated with light for 8 hours, and 3 g of methanol was added to the reaction mixture to give 30 g. The reaction was stopped by stirring for minutes.
  • a mixed solution of ethyl methacrylate (100 g) and toluene (200 g) was sufficiently degassed under a nitrogen stream and cooled to 0 ° C. Then, 2.5 g of 1,1-diphenyl-3-methylpentyllithium was added, and the mixture was stirred for 6 hours. Further, 60 g of methyl methacrylate and 11.7 g of 4-vinylbenzenecarboxylic acid triisopropylsilyl ester were added to the mixture, and the mixture was stirred for 6 hours. Then, 3 g of methanol was added and the mixture was stirred for 30 minutes.
  • a mixture of 50 g of methyl methacrylate, 25 g of ethyl methacrylate, and 1.0 g of benzylisoproxanthate was sealed in a vessel under a nitrogen stream, and heated to a temperature of 50 ° C. This was irradiated with light through a glass filter from a distance of 10 cm with a 400 W high-pressure mercury lamp for 6 hours to carry out photopolymerization. This polymer was made into a solution having a concentration of 40% with tetrahydrofuran, to which 22 g of methyl acrylate was added, and the mixture was replaced with nitrogen and irradiated again with light for 10 hours.
  • a mixed solution of 70 g of methyl methacrylate and 170 g of toluene was heated to 70 ° C. while stirring under a nitrogen stream.
  • a solution prepared by dissolving 30 g of the above polymer in 30 g of toluene was replaced with nitrogen in advance, and the mixture was further reacted for 8 hours.
  • the obtained polymer was reprecipitated in 2 liters of methanol, and the collected powder was dried.
  • the yield of the obtained polymer was ⁇ 2 g, and Mw was 4 ⁇ 10.
  • Resin [B] shown in Table 18 below was synthesized by the same reaction method as in Synthesis Example 3 of Resin [B].
  • the Mw of each of the obtained resins was in the range of 5 ⁇ 10 4 to 9 ⁇ 10 4 .
  • Synthetic examples 17 to 23 of resin [B] Resins [B-17] to [B-23] Resin [B] The same reaction method as in Synthetic Example 4 of resin [B] was used. B] was synthesized. Mw of the resin obtained was in the range of 4 X 1 0 4 ⁇ 8 xl 0 4.
  • a mixture of 85 g of the above polymer, 14 g of methyl methacrylate, 1 g of methacrylic acid and 150 g of tetrahydrofuran was heated under a nitrogen stream. The temperature was 50 ° C. This was photopolymerized for 16 hours under the same light irradiation conditions as in Synthesis Example 101. The reaction product was re-precipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain a block polymer having an Mw of 9.5 ⁇ 10 in a yield of 83 g.
  • a mixed solution of ethyl methacrylate (80 g) and toluene (200 g) was sufficiently degassed under a nitrogen stream and cooled to 120.
  • 2.0 g of 1,1-diphenyl-13-methylpentyllithium was added, and the mixture was stirred for 12 hours.
  • 19 g of methyl methacrylate and 1.5 g of 4-vinylphenylcarbonyloxytrimethylsilane was reacted for 12 hours. Then, the mixture was reacted for 2 hours under a stream of carbon dioxide, and further reacted at 0 ° C. For 2 hours.
  • Photopolymerization was carried out by irradiating with a 400 W high pressure mercury lamp from a distance of 10 cm through a glass filter for 10 hours.
  • the obtained reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain a polymer having a weight average molecular weight (Mw) of 2 ⁇ 10 in a yield of 78 g.
  • Initiator [1—201] A mixed solution of 10 g of the above polymer, 65 g of methyl methacrylate, 25 g of methyl acrylate and 100 g of tetrahydrofuran was heated to a temperature of 50 ° C. under a nitrogen stream. The mixture was irradiated with light under the same conditions as above for 15 hours. The reaction product was reprecipitated in 1.5 liters of methanol, and the precipitate was collected and dried. The yield of the polymer obtained was 75 g, and the Mw was 8 ⁇ 10 4 .
  • an initiator [1-202] 14.8 g having the following structure was used in place of the initiator [1-201] 13.4 g was subjected to a reaction treatment under the same conditions as in Synthesis Example 201 to obtain 73 g of an M5 10 ′′ polymer.
  • a mixed solution of 80 g of methyl methacrylate, 20 g of ethyl acrylate, 13.5 g of an initiator having the following structure (1 to 203) and 150 g of tetrahydrofuran was subjected to a temperature of 50 g under a nitrogen stream. Heated to ° C. The mixture was irradiated with light for 10 hours under the same conditions as in Synthesis Example 201.
  • the reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected by filtration and dried.
  • a mixed solution of 60 g of the above polymer, 30 g of methyl acrylate, 10 g of methacrylic acid and 100 g of tetrahydrofuran was irradiated at a temperature of 50 ° C under a nitrogen stream, and irradiated with light in the same manner as above. For 10 hours.
  • the reaction product was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain 73 g of powder.
  • the polymer 6 0 g was allowed Echirume Tak Li rate 3 0 g, a mixed solution of Mechiruaku Li rate 1 O g and te tigers human Dorofuran 1 0 O g to temperatures 5 0 D C in a nitrogen stream pressure. Light irradiation was performed for 10 hours in the same manner as described above. This reaction product was re-precipitated in 1.5 liters of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain 76 g of a polymer having an Mw of 9 ⁇ 10 4 .
  • a mixed solution of 50 g of methyl methacrylate and 100 g of tetrahydrofuran was sufficiently degassed under a nitrogen stream, and cooled to ⁇ 20 ° C. 1.2 g of 1,1-diphenylpentyllithium was added and reacted for 12 hours. Furthermore, a mixed solution of 30 g of methyl acrylate, 3 g of triphenylmethyl methacrylate and 50 g of tetrahydrofuran was sufficiently degassed in a nitrogen stream to this mixed solution, and then was added and reacted for 8 hours.
  • a mixed solution of 70 g of methyl methacrylate, 30 g of methyl acrylate, 0.5 g of (tetrafluorobenzyl borinate), aluminum methyl and 200 g of methylene chloride was heated at a temperature of 30 under a nitrogen stream. And This was irradiated with light of 300 W—xenon lamp through a glass filter from a distance of 25 cm, and reacted for 12 hours. Further, 40 g of ethyl acrylate and 6.4 g of benzyl methacrylate were added to this mixture, and the mixture was reacted in the same manner for 10 hours under light irradiation.
  • Synthetic example 206 of resin [B] 206 to 215 Resin [B-206] to [B-215] Using the same reaction method as in Synthetic example 202 of resin [B], the following table was used. Resin [B] shown in 13 was synthesized. The Mw of the obtained polymer was in the range of 5 ⁇ 10 4 to 7 ⁇ 10 4 .
  • Mw of each polymer is 7 X 1 0 4 ⁇ 8, in the range of 5 X 1 0 4
  • the sensitive optical layer formation was prepared, which on conductive treated paper, dried adhesion amount as that Do and 2 5 g / m 2, was coated with Waiyaba, 1 1 0 ° C After drying for 10 seconds in the dark, the mixture was allowed to stand in a dark place at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours to produce an electrophotographic photosensitive material (hereinafter simply referred to as a photosensitive material).
  • a photosensitive material an electrophotographic photosensitive material
  • Example I-11 instead of 6 g of the resin [A-8] and 34 g of the resin [B-1], 6 g of the resin [R-I-1] having the following structure and the resin [R-I- 2] An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example I-11, except that 34 g was used.
  • Example I-11 instead of resin [A-8] 6 and resin [8-1] 34 g, 6 g of resin [R-I 13] having the following structure and resin [R-I— 4] An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example I-11, except that 34 g was used.
  • Example I-1 Comparative Example] -1 Comparative Example G 2 Smoothness of photoconductive layer (sec / ce) Note 1) 300 285 0 Image quality Note 3 ⁇ 4
  • the photosensitive material was measured for its smoothness (sec / cc) using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) under the condition of an air capacity of 1 cc.
  • the photosensitive material After leaving the photosensitive material for one day and night under the following environmental conditions, the photosensitive material is charged with 16 kV, and a 2.8 mW output gallium-aluminum-arsenide semiconductor laser (oscillation wavelength: 780 nm) is used as a light source.
  • a gallium-aluminum-arsenide semiconductor laser oscillation wavelength: 780 nm
  • Te, 6 4 dose under erg / cm 2 on the photosensitive material surface, after speed de exposure of pitch 2 5 m and Sukiyaningu speed 3 0 0 m / sec, as the liquid developer, ELP-T (Fuji photo Fi Developed using Lum Co., Ltd.), washed with a rinse solution of Isoparaffin Isopar G (manufactured by Etsuso Chemical Co., Ltd.), and fixed, and visually observed the copied image (capri, image quality). evaluated.
  • the degree of hydrophilization due to the desensitizing treatment when the photosensitive material was used as a printing master was examined by processing under the following forced conditions.
  • the photosensitive material itself (original plate without plate making: abbreviated as raw plate) is used as an etching machine by using a desensitizing solution ELP-EX, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., diluted 5 times with distilled water. I passed.
  • ELP-EX desensitizing solution
  • the light-sensitive material of the present invention is an actual copied image, which has no pre-ground force, and has high definition image portions such as fine lines, fine characters, or continuous tone halftone dots. A clear image was obtained. And environmental conditions during imaging are low temperature, low humidity or high temperature, high Even under severe conditions such as humidity, stable and clear copied images were obtained.
  • Comparative Examples I-11 and I-2 good copy images were obtained under normal temperature and normal humidity (I) environment conditions. Density unevenness in the continuous tone).
  • the printing plate for offset master was desensitized and its performance as a printing plate was examined.
  • the photosensitive material before plate making was subjected to desensitization treatment under forced conditions in which the desensitizing power of Note 3) was weakened, and actual printing was performed, and the degree of ink adhesion was observed. Only the original was good, and in Comparative Examples I-11 and I-12, the occurrence of inking adhesion was observed. Furthermore, the photosensitive material actually made as in Note 4) was processed under ordinary desensitizing conditions and printed, and the original plate of the present invention was free from background stains and faithful reproduction of images was observed. 8,000 printed materials were obtained.
  • Comparative Example I-11 had 3,000 sheets and Comparative Example I-2 had 5,000 sheets. Furthermore, the original plate made under severe environmental conditions (I I) and (I I I) also had a poorer image than a printed one due to poor reproduction of the copied image.
  • the above is a condition in which the resin [A] and the resin [B] of the present invention appropriately interact with zinc oxide particles and do not inhibit the adsorption of the spectral sensitizing dye and the chemical sensitizer to the zinc oxide particles.
  • the desensitizing reaction with the desensitizing solution is easily and sufficiently advanced, and the function of the resin (B). This is considered to indicate that the film strength has been significantly improved by the method.
  • methine dye [I-II] 0.020 g with the following structure, N-hydroxymaleine imid.
  • a mixture of 200 g and 300 g of toluene was operated in the same manner as in Example I-11 to prepare an electrophotographic photosensitive material.
  • the light-sensitive material of the present invention had good smoothness and was in a sufficiently uniform dispersion state.
  • the values were stable and good even when the conditions fluctuated.
  • a faithful copy image was reproduced with respect to the manuscript, and no ground force was recognized.
  • 8000 sheets of good printed matter were obtained as the offset master master after desensitization and printing.
  • Example I-12 the procedure was repeated except that the resin [A-12] and the resin [B-2] were replaced with the respective resins [A] and [B] of the following Table I-13.
  • Each electrophotographic photoreceptor was produced in the same manner as in Example I-11. Table I-1
  • each photosensitive material of the present invention was excellent in all aspects of the smoothness, film strength, electrostatic properties and printability of the photoconductive layer. Further, it was found that the use of the resin [ ⁇ '] further improved electrostatic characteristics.
  • An electrophotographic photosensitive material was prepared under the same conditions as in Example I-11, except that the methine dye [I-I] used in Example I-11 was replaced with the dye shown in Table I-1 below. Was. Table 1 I-1 4
  • each electrophotographic photoreceptor was manufactured by being left in a dark place at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours.
  • the surface of the photoconductive layer is charged to 140 V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer is irradiated with visible light having an illuminance of 2.0 lux, and the surface potential (V i 0) is 1/10 or Calculate the exposure time to 1/100 and calculate the exposure amount E 1/10 or E 1 / 10Q ( lux ⁇ sec).
  • Comparative Example I-13 shows that, under severe conditions, in addition to the original as a copy image, the frame of the cut and pasted part (that is, the pasted trace) is the non-image part. The occurrence of white spots was observed as a background stain or in a solid image area. However, in each case of the present invention, clear images with no background stain were obtained.
  • Fat! A 13) 6 g and resin [B-5] 34 g, photoconductive zinc oxide 200 g, peranin 0.02 g, rose bengal 0.04 g, bromphenol blue 1
  • a mixture of 0.3 g of phthalic anhydride, 0.40 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene was processed in the same manner as in Example I-27 to prepare a light-sensitive material.
  • the performance of the photosensitive material of the present invention was examined in the same manner as in Example I-27. All were excellent in chargeability, dark charge retention, light sensitivity, and the actual copied image was at a high temperature. Even under severe conditions of high humidity (30 ° C, 80% RH) or low temperature and low humidity (15 ° C, 30% RH), it is clear with no pre-ground force and no unevenness in the image area. Gave a nice picture. In addition, when this was used as an original for offset mass printing, clear prints were obtained at 8,000 sheets.
  • Example I-29 instead of 6 g of the resin [A-13] and 4 g of the resin [B-5] 34, 6 g of the resin [A] of Table I-6 and the resin [B] 3 Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example I-129 except that 4 g was used.
  • All of the photosensitive materials of the present invention are excellent in chargeability, dark charge retention, and light sensitivity, and the actual copied images are also high temperature and high humidity (30 ° C, 80% RH), low temperature and low humidity (15 ° C). (C, 30% RH), a clear image was obtained without the occurrence of pre-ground force, unevenness of the image area, or the occurrence of fine line skipping.
  • a printed image of clear image quality free of background smear was obtained even after printing 8,000 sheets or more.
  • Resin [A-102] 6 g (as solid content), resin! : B-1) 3 4 g (solid content 200 g of photoconductive zinc oxide, 0.018 g of methine dye [II-I] having the following structure, 0.115 g of phthalic anhydride, and 300 g of toluene are homogenized. 1 (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.), dispersed for 8 minutes at a rotation speed of 7 ⁇ 10 3 r.p.m to prepare a photosensitive layer formed product.
  • Example II-11 instead of 6 g of the resin [A-102] and 34 g of the resin [B-1], 6 g of the resin [R-II-1] having the following structure and the resin [R-II] —2] An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example II-11, except that 34 g was used. Comparative resin [R-II-1 1]
  • Example II-1 instead of resin [A-102] 62 and resin [8-1] 34 g, 6 g of resin [R-II-3] having the following structure and resin [R- II-4] An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example II-11, except that 34 g was used.
  • Example ⁇ -1 Comparative example ⁇ -1 Comparative example ⁇ -2 Smoothness of photoconductive layer ( sec / ec ) Note 1) 290 280 Image quality Note 2)
  • the smoothness (sec Zc c) of the photosensitive material was measured using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) under the condition of an air capacity of 1 cc.
  • the photosensitive material was charged at ⁇ 6 kV, and a 2.8 mW output gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength: 780 nm) was used as a light source.
  • ELP-T Fluji Photo Developed using Lum Co., Ltd.
  • Isoparaffin Isopar G manufactured by Etsuso Chemical Co., Ltd.
  • the environmental conditions at the time of imaging were 20 and performed at 65% RH (I), 30 ° C, 80% RH (II) and 15 ° C, 30% RH (III).
  • the degree of hydrophilization due to the desensitizing treatment when the photosensitive material was used as a printing master was examined by processing under the following forced conditions.
  • the photosensitive material itself (original plate without plate making: abbreviated as raw plate) is used as an etching machine by using a desensitizing solution ELP-EX manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. I passed.
  • the light-sensitive material of the present invention is an actual copy image, without any pre-ground force, and very fine lines (high-definition image portions such as fine characters or continuous tone halftone dots) A clear image was obtained. And environmental conditions at the time of imaging are low temperature, low humidity or high temperature Stable and clear copy images were obtained even under severe conditions such as high humidity.
  • Comparative Examples II-1 and II-12 good copy images were obtained under the normal temperature and normal humidity (I) environment conditions. Density unevenness in the continuous tone).
  • each photosensitive material before plate making was desensitized under forced conditions that reduced the desensitizing power of Note 3), printed, and observed for ink adhesion. Only the original plate of the invention was good, and in Comparative Examples II-11 and II-12, the occurrence of inking was observed. In addition, the photosensitive material actually made as in Note 4) was processed under normal desensitizing conditions. Then, after printing, the original plate of the present invention was able to obtain 8,000 sheets of printed matter free from background stains and capable of faithfully reproducing images.
  • Comparative Example II-1 had 3,000 sheets and Comparative Example II-12 had 5,000 sheets. Furthermore, the original plate made under severe environmental conditions (I I) and (I I I) also had a poorer printed image than the printed one due to poor reproduction of the copied image.
  • the above is a condition in which the resin [A] and the resin [B] of the present invention properly interact with the zinc oxide particles and do not inhibit the adsorption of the spectral dye and the chemical dye to the zinc oxide particles.
  • the desensitizing reaction with the desensitizing solution is easily and sufficiently advanced, and the function of the resin (B). This is considered to indicate that the film strength has been significantly improved by the method.
  • methine dye [II-I II] A mixture of 0.020 g, 0.2 g of N-hydroxymaleine imide and 300 g of toluene was treated in the same manner as in Example II-1 to obtain an electrophotographic photosensitive material. was prepared.
  • the film properties (surface smoothness), electrostatic properties and imaging properties of this photosensitive material were examined. Further, the printing suitability when used as an electrophotographic lithographic printing plate precursor was examined. The results are shown in Table II-12.
  • DRR dark charge retention rate
  • the light-sensitive material of the present invention had good smoothness and was in a sufficiently uniform dispersion state.
  • the values were stable and good even when the conditions fluctuated.
  • a faithful copy image was reproduced with respect to the manuscript, and no ground force was recognized.
  • 10,000 sheets of good printed matter were obtained after desensitization treatment and printing.
  • Example ⁇ -2 except that the resin [ ⁇ -115] and the resin [ ⁇ -2] were replaced with the respective resin [ ⁇ ] and each resin [ ⁇ ] in Table II-13 below, Each electrophotographic photoreceptor was produced in the same manner as in Example II-11. Table II-1-3
  • each photosensitive material of the present invention was satisfactory in all aspects of the smoothness, film strength, electrostatic properties, and printability of the photoconductive layer.
  • Example II-11 An electrophotographic photosensitive material was prepared under the same conditions as in Example II-11 except that the methine dye [11-1] used in Example II-1 was replaced with the dye shown in Table II-4 below. Was. Table 1 ⁇ — 4
  • the photosensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and the actual copied images are also high-temperature and high-humidity (30 ° C, 80% RH) and low-temperature low-humidity (15 Examples II-27 and II-28 which gave clear images without the occurrence of ground force even under severe conditions (° C, 30% RH)
  • each electrophotographic photoreceptor was manufactured by being left in a dark place at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours.
  • Example II-27 in place of the resin [A-101] and the resin [B-20], 6 g of the resin [R-II-1] and the resin [R-II- Use 3 4 g A photosensitive material was produced in the same manner as in Example II-27 except for the above.
  • the surface of the photoconductive layer is charged to 140 V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer is irradiated with visible light having an illuminance of 2.0 lux, and the surface potential (V 10 ) becomes 1/10 or 1 ⁇ Calculate the time until it attenuates to 100, and calculate the exposure amount E 1/10 or E 1 / 10Q ( lux ⁇ sec).
  • a mixture of 0.03 ⁇ , 0.40 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene was subjected to the following operations in the same manner as in Example II-27 to prepare a photosensitive material.
  • Example II-29 instead of 5 g of the resin [A-116] and 35 g of the resin [B-5], 6 g of the resin [A] of Table II-6 below and 6 g of the resin [B] Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example II-29 except that 34 g was used.
  • the light-sensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention, and light sensitivity, and the actual copied images are also high temperature and high humidity (30 ° C, 80% RH), low temperature and low humidity (15 ° C). (C, 30% RH), a clear image was obtained without the occurrence of ground capri or unevenness in the image area or the occurrence of fine line skipping.
  • Example III-1-1 Resin [A-3] 6 g (as solid content), Resin [B-201] 34 g (as solid content), photoconductive zinc oxide 200 g, methine dye having the following structure [ III-I] A mixture of 0.018 g, 0.15 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene was mixed in a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) at a rotation speed of 6 ⁇ 10 3 r. .
  • a photosensitive layer formation was prepared, which on conductive treated paper, dried adhesion amount as a 2 8 g / m 2, was coated with a wire one bar, 1 1 0 The resultant was dried at 10 ° C. for 10 seconds, and then left in a dark place at 20 ° C. and 65% RH for 2 hours to produce an electrophotographic photosensitive material.
  • Example III-11 6 g of resin [R-III-11] having the following structure and resin [R-III] were used instead of 6 g of resin [A-3] and 34 g of resin [B-201]. —2] An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example III-11, except that 34 g was used. Comparative resin [R-III-1]
  • Example III-11 instead of 6 g of the resin [A-3] and 34 g of the resin [B-201], 6 g of the resin [R-III-13] having the following structure and the resin [R-III 1-4) An electrophotographic photosensitive material was produced in the same manner as in Example III-11, except that 34 g was used.
  • Example m-1 Comparative example m-1 Comparative example m-2 Smoothness of photoconductive layer ( sec / cc ) * 1) 310 320 300 Image quality * 2 )
  • the light-sensitive material was measured for its smoothness (sec / cc) using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) under the condition of an air capacity of 1 cc.
  • the photosensitive material After leaving the photosensitive material for one day and night under the following environmental conditions, the photosensitive material is charged at 16 kV, and a 2.8 mW output gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength: 780 nm) is used as a light source.
  • a speed exposure of 25 m pitch and a scanning speed of 30 O m / sec under a radiation dose of 64 er / cm 2 on the surface of the photosensitive material ELP-T (Fuji Photo Film ( Developed using), washed with a rinse solution of Isoparaffin Isopar G (manufactured by Etsu Chemical Co., Ltd.), washed and fixed, and visually observed the copied image (capri, image quality). evaluated.
  • the degree of hydrophilization due to the desensitizing treatment when the photosensitive material was used as a printing master was examined by processing under the following forced conditions.
  • the photosensitive material itself (original plate without plate making: abbreviated as raw plate) is used as an etching machine by using an aqueous solution obtained by diluting ELP-EX, a desensitizing solution made by Fuji Photo Film Co., Ltd., 5 times with distilled water. I passed.
  • the light-sensitive material of the present invention is an actual copied image, has no ground force, and has a fine line.
  • Very clear images were obtained with high-definition image parts such as fine characters or halftone dots of continuous reading gradation.
  • environmental conditions at the time of imaging are low temperature, low humidity or high temperature- Stable and clear copy images were obtained even under severe conditions such as high humidity.
  • Comparative Examples III-1-1 and ⁇ -2 good copy images were obtained under normal temperature and normal humidity (I) environmental conditions, but when the environmental conditions fluctuated, both high-resolution image portions (In particular, density unevenness occurred in the intermediate density portion of the continuous tone).
  • the printing plate for offset master was desensitized and its performance as a printing plate was examined.
  • each photosensitive material before plate making was desensitized under forced conditions that reduced the desensitizing power of Note 3), printed, and observed for ink adhesion. Only the master plate of the invention was good, and ink adhesion was observed in Comparative Examples III-11 and III-12.
  • the photosensitive material actually made as in Note 4 was processed under ordinary desensitizing conditions and printed, and the original plate of the present invention was free from background stains and faithful reproduction of images was observed. 8,000 printed materials were obtained.
  • Comparative Example III-11 had 3,000 sheets and Comparative Example III-12 had 5,000 sheets. Furthermore, the original plate made under severe environmental conditions (II) and (III) also had a poorer printed image than the printed one due to poor reproduction of the copied image.
  • the above is a condition in which the resin [A] and the resin [B] of the present invention appropriately interact with zinc oxide particles and do not inhibit adsorption of the spectral dye and the chemical sensitizer to the zinc oxide particles.
  • the desensitizing reaction with the desensitizing solution is easily and sufficiently advanced, and the function of the resin (B). This is considered to indicate that the film strength has been significantly improved by the method.
  • the photoconductive layer surface is charged to 150 V by corona discharge, it is irradiated with monochromatic light having a wavelength of 78 O nm until the surface potential (V 1 () ) attenuates to 1 Z 10.
  • the exposure time E t / io (erg / cm 2 ) is calculated from this.
  • irradiation with monochromatic light with a wavelength of 780 nm causes the surface potential (V 10 ) to attenuate to 1/100
  • the exposure time E / D (erg / cm 2 ) is calculated from this.
  • Environmental conditions during imaging were 20 ° C, 65% RH (I), 30 ° C, 80% RH (II) and 15 ° C, 30% RH (III).
  • the light-sensitive material of the present invention had good smoothness and a sufficiently uniform dispersion state.
  • the values were stable and good even when the conditions fluctuated.
  • a faithful copy image was reproduced with respect to the manuscript, and no ground force was recognized.
  • 10,000 sheets of good printed matter were obtained after desensitization treatment and printing.
  • Example III-12 except that the resin [ ⁇ -12] and the resin [ ⁇ -202] were replaced with the respective resins [ ⁇ ] and the respective resins [ ⁇ ] shown in Table III-13 below, Each electrophotographic photoreceptor was manufactured in the same manner as in Example III-II. Table III-3
  • each photosensitive material of the present invention was excellent in all aspects of the smoothness of the surface layer, the film strength, the electrostatic properties and the printability. Further, it was found that the use of the resin [ ⁇ '] further improved the electrostatic characteristics.
  • Example III-11 An electrophotographic photosensitive material was produced under the same conditions as in Example III-11 except that the methine dye [III-I] used in Example III-11 was replaced with the dye shown in Table III-4 below. .
  • Table I m-4 the methine dye [III-I] used in Example III-11 was replaced with the dye shown in Table III-4 below.
  • All of the photosensitive materials of the present invention are excellent in chargeability, dark charge retention, and light sensitivity, and the actual copied images are also high temperature and high humidity (30 ° C, 80 RH) and low temperature and low humidity (15, Even under severe conditions (30% RH), clear images without fog were obtained.
  • Examples III-27 and III-28 are excellent in chargeability, dark charge retention, and light sensitivity, and the actual copied images are also high temperature and high humidity (30 ° C, 80 RH) and low temperature and low humidity (15, Even under severe conditions (30% RH), clear images without fog were obtained. Examples III-27 and III-28
  • Each electrophotographic photoreceptor was prepared by being left for 4 hours.
  • Example III-127 instead of the resin [A-1] and the resin [B-208], 6 g of the resin [R-III-1] and a resin [R-III-15] having the following structure 3 4 g A light-sensitive material was produced in the same manner as in Example III-27 except that was used. Comparative resin [R-III-5]
  • the surface of the photoconductive layer is charged to 140 V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer is irradiated with visible light having an illuminance of 2.0 lux, and the surface potential (V 10 ) is 1 ⁇ 10 or 1 Calculate the time to decay to / 100 and calculate the exposure amount ⁇ 1/10 or ⁇ 1/10 . (Lux ⁇ sec).
  • Comparative Example III-3 shows that, under severe conditions, in addition to the original as a copied image, the frame of the cut and pasted part (that is, the pasted trace) is the non-image part. The occurrence of uneven white spots was observed as a background stain or in a solid image area. However, in the case of the present invention, clear images without background contamination were obtained.
  • Example III-27 When the photosensitive material of the present invention was operated in the same manner as in Example III-27 to examine its performance, all were excellent in chargeability, dark charge retention, and light sensitivity, and the actual copied image was also high temperature and high humidity. (30 ° C, 80% RH) or low temperature (low humidity (15 ° C, 30 RH)) provided a clear image with no pre-ground force and no unevenness in the image area. . In addition, when this was used as an offset master master and printing was performed, and 8,000 sheets were obtained, printed matter of clear image quality was obtained.
  • Example II-29 instead of 5 g of the resin [A-27] and 35 g of the resin [B-224], 6 g of the resin [A] of Table III-16 and the resin [B Each photosensitive material was prepared in the same manner as in Example III-129 except that 34 g was used.
  • the light-sensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention, and light sensitivity, and the actual copied images are high in temperature and humidity (30%, 80% RH), low temperature and low humidity (15 ° C (30% RH), a clear image free of occurrence of pre-ground force, unevenness of the image portion, thin line skipping, etc. was obtained.
  • temperature and humidity (30%, 80% RH)
  • low temperature and low humidity 15 ° C (30% RH)
  • a mixture of 0.018 g, 0.15 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene was homogenized.
  • a photosensitive layer formed product was prepared by dispersing in a Nizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) at a rotation speed of 6 ⁇ 10 3 rpm for 8 minutes to prepare a photosensitive layer-formed product. as a g / m 2, by coating a wire bar, 1 1 0 dried 1 0 seconds ° C, then left for 24 hours under the conditions of 2 0 ° Cs 6 5% RH in the dark An electrophotographic photosensitive material was produced.
  • Example IV-1 instead of 7 g of the resin [A-103] and 33 g of the resin [B-201], 7 g of the resin [R-IV-1] having the following structure and the resin [R -IV-2] An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example IV-1, except that 33 g was used.
  • Example IV-1 in place of 7 g of resin [A-103] and 33 g of resin [B-201], 7 g of resin [R-IV-3] having the following structure and resin [R —IV—4] An electrophotographic photosensitive material was prepared in the same manner as in Example IV-1, except that 33 g was used.
  • Example IV-1 Comparative example IV-1 Comparative example IV-2 Smoothness of photoconductive layer (sec / cc) * 1) 450 430 455 Image quality * 2 )
  • the photosensitive material was measured for its smoothness (sec Zc c) using a Beck smoothness tester (manufactured by Kumagai Riko Co., Ltd.) under the condition of an air capacity of 1 cc.
  • the photosensitive material After leaving the photosensitive material for one day and night under the following environmental conditions, the photosensitive material is charged at 16 kV, and a 2.8 mW gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength: 780 nm) is used as a light source.
  • a dose of 64 er / cm 2 on the surface of the photosensitive material at a pitch of 25 ⁇ m and a scanning speed of 300 m / sec ELP-T (Fuji Photo Developed using Lum Co., Ltd.), washed with a rinse of Isoparaffin Isopar G (manufactured by Etsuso Chemical Co., Ltd.) solvent, and fixed, and visually observe the copied image (capri, image quality). evaluated.
  • Environmental conditions during imaging were 20 ° C, 65% RH (I). 30 ° C, 80% RH (11), and 15 ° C, 30% RH (III).
  • the degree of hydrophilization due to the desensitizing treatment when the photosensitive material was used as a printing master was examined by processing under the following forced conditions.
  • the photosensitive material itself (original plate without plate making: abbreviated as raw plate) is used as an etching machine by using an aqueous solution obtained by diluting ELP-EX, a desensitizing solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., five times with distilled water. I passed. Next, these plates were printed using a Hamadaster 8005 X type manufactured by Hamadas Yuichi Co., Ltd., and the 50,000th printed matter from the start of printing was visually evaluated for the presence of soiling.
  • the photographic material of the present invention is an actual copied image, with no ground force, and fine lines * High-definition image portions such as fine characters or continuous tone halftone dots A clear image was obtained. And environmental conditions at the time of imaging are low temperature, low humidity or high temperature Stable and clear copy images were obtained even under severe conditions such as high humidity.
  • Comparative Examples IV-1 and IV-2 good copy images were obtained under the normal temperature and normal humidity (I) environment conditions. Density unevenness in the continuous tone).
  • the printing plate for offset master was desensitized and its performance as a printing plate was examined.
  • the photosensitive material before plate making was subjected to desensitization treatment under forced conditions in which the desensitizing power of Note 3) was weakened, and actual printing was performed, and the degree of ink adhesion was observed. Only the original was good, and in Comparative Examples IV-1 and IV-2, the occurrence of inking was observed. Furthermore, the photosensitive material actually made as in Note 4) was processed under ordinary desensitizing conditions and printed, and the original plate of the present invention was free from background stains and faithful reproduction of images was observed. 8,000 printed materials were obtained.
  • the above is a condition in which the resin [A] and the resin [B] of the present invention appropriately interact with zinc oxide particles and do not inhibit adsorption of the spectral dye and the chemical sensitizer to the zinc oxide particles.
  • the desensitizing reaction with the desensitizing solution is easily and sufficiently progressing, and the resin (B) This is considered to indicate that the film strength has been significantly improved by the function.
  • a mixture of 0.20 g of toluene and 300 g of toluene was operated in the same manner as in Example IV-1, to produce an electrophotographic photosensitive material. did. 3 K
  • the film properties (surface smoothness), electrostatic properties and imaging properties of this photosensitive material were examined. Further, the printing suitability when used as an electrophotographic lithographic printing plate precursor was examined. The results are shown in Table IV-2.
  • the light-sensitive material of the present invention had good smoothness and was in a sufficiently uniform dispersion state.
  • the values were stable and good even when the conditions fluctuated.
  • a faithful copy image was reproduced with respect to the manuscript, and no ground force was recognized.
  • 10,000 sheets of good printed matter were obtained after desensitization treatment and printing.
  • Example IV-2 the resin [A-111] and the resin [B-202] were replaced with the resin [A] and the resin [B] shown in Table IV-3 below, respectively. was operated in the same manner as in Example IV-1 to produce each electrophotographic photosensitive member. Table IV-4
  • each photosensitive material of the present invention was excellent in all aspects of the smoothness, film strength, electrostatic properties and printability of the photoconductive layer. Furthermore, it was found that the use of the resin [ ⁇ '3 further improved the electrostatic characteristics.
  • An electrophotographic photosensitive material was prepared under the same conditions as in Example IV-1 except that the methine dye [IV-I] used in Example IV-1 was replaced with the dye shown in Table IV-4 below. Was. Table IV-4
  • the photosensitive materials of the present invention are all excellent in chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and the actual copied images are high in temperature and humidity (30 ° C, 80% RH) and low temperature and low humidity (15 ° C). (C, 30% RH), it provided a clear image with no pre-ground potential.
  • Example IV-27 and IV-28 are all excellent in chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and the actual copied images are high in temperature and humidity (30 ° C, 80% RH) and low temperature and low humidity (15 ° C). (C, 30% RH), it provided a clear image with no pre-ground potential.
  • each electrophotographic photoreceptor was prepared by being left in a dark place at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours.
  • Example IV-27 in place of the resin [A-130] and the resin [B- 211], 6 g of the resin [R-IV-1] and the resin [R-IV —5] A photographic material was prepared in the same manner as in Example IV-27, except that 34 g was used. Comparative resin [R-IV-5]
  • the surface of the photoconductive layer is charged to 140 V by corona discharge, the surface of the photoconductive layer is irradiated with visible light having an illuminance of 2.0 lux, and the surface potential (V 10 ) is 1 Z 10 or 1
  • the exposure amount E or E ⁇ is calculated from this . . (Lux ⁇ sec).
  • Comparative Example IV-3 shows that, under severe conditions, in addition to the original as a copied image, the frame of the cut and pasted part (that is, the pasted trace) is the non-image part. The occurrence of white spots was observed as a background stain or in a solid image area. However, in each case of the present invention, clear images with no background stain were obtained.
  • Example IV-29 instead of 5 g of the resin [A-116] and 35 g of the resin [B-205], 6 g of the resin [A] of Table IV-6 and the resin [ B] Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example IV-29 except that 34 g was used.
  • All of the photosensitive materials of the present invention are excellent in chargeability, dark charge retention, and light sensitivity, and the actual copied images are also high temperature and high humidity (30 ° C, 80% RH), low temperature and low humidity (15 ° C). (C, 30% RH), a clear image was obtained without the occurrence of pre-ground force, unevenness of the image area, or the occurrence of fine line skipping. Furthermore, when printing was performed as an offset mass master, a clear image with no scum was obtained even after printing 8,000 sheets or more. Industrial applicability
  • ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is excellent in electrostatic characteristics (especially under severe conditions), As a result, an electrophotographic photoreceptor having excellent mechanical strength can be obtained. In particular, it is effective for a scanning exposure method using one light of a semiconductor laser.
  • the resin of the present invention having a repeating unit containing a specific methacrylate component, the electrostatic characteristics are further improved.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Description

明 細 書
電子写真感光体 技術分野
本発明は電子写真感光体に関し、 詳しく は静電特性及び耐湿性に優れた電子写 真感光体に関する。 背景技術
電子写真感光体は、 所定の特性を得るため、 あるいは適用される電子写真プロ セスの種類に応じて、 種々の構成をとる。
電子写真感光体の代表的なものとして、 支持体上に光導電層が形成されている 感光体及び表面に絶縁層を備えた感光体があり、 広く用いられている。
支持体と少なく とも 1つの光導電層から構成される感光体は、 最も一般的な電 子写真プロセスによる、 即ち帯電、 画像露光及び現像、 更に必要に応じて転写に よる画像形成に用いられる。
更には、 ダイレク ト製版用のオフセッ ト原版として電子写真感光体を用いる方 法が広く実用されている。 特に近年、 ダイレク ト電子写真平版は数百枚から数千 枚程度の印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要となってきている 。 こう した状況の中で、 電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結 着樹脂は、 それ自体の成膜性および光導電性粉体の結着樹脂への分散能力が優れ るとともに、 形成された記録体層の基材に対する接着性が良好であり、 しかも記 録体層の光導電層は帯電能力に優れ、 暗減衰が小さく、 光減衰が大きく、 前露光 疲労が少なく、 且つ、 撮影時の湿度の変化によってこれら特性を安定に保持して いることが必要である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備する必要が ある。
更に、 電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究が鋭意行なわれており、 電子写真感光体としての静電特性と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導 電眉用の結着樹脂が必要である。
無機光導電体、 分光增感色素及び結着樹脂を少なく とも含有する光導電層にお いて、 結着樹脂の化学構造によって、 平滑性のみならず静電特性が大きく影響を 受けることが判ってきた。 特に静電特性において、 暗電荷保持率 (D. R. R. ) や光感度が大きく左右される。
特開昭 6 3— 2 1 7 3 5 4号、 米国特許第 4, 9 8 8, 5 7 2号、 同 5, 0 2 1, 3 1 1号、 同 5, 1 3 4, 0 5 1号、 同 4, 4 9 5, 4 0 7号、 同 5, 0 6 3, 1 3 0号、 同 5, 0 8 9, 3 6 8号、 欧州特許 E P— A— 0 3 8 9 9 2 8号 、 同 E P— A— 0 4 3 2 7 2 7号等には、 酸性基を有する成分を持つ種々の低分 子量の樹脂を用いて光導電層の平滑性ゃ静電特性を改良する技術が開示されてい る。
それら種々の低分子量の樹脂の作用機構により、 無機光導電体の化学量論的な 欠陥部が多少変動しても、 充分な吸着領域をもつ事から比較的安定した無機光導 電体、 分光増感色素及び樹脂同志の相互作用が保たれると推論される。 なかでも 、 グラフ ト型共重合体や A Bプロック共重合体を用いると、 環境が変動しても比 較的安定した性能を得ることができることが判つている。
更に、 これら酸性基を含有する低分子量の樹脂と中〜高分子量の樹脂を併用し て光導電層の機械的強度を改善する技術が、 米国特許第 4 , 8 7 1, 6 3 8号、 同 4, 9 6 8 , 5 7 2号、 同 4, 9 5 2, 4 7 5号、 同 5 , 0 3 0, 5 3 4号、 同 5, 0 0 9 , 9 7 5号、 同 5, 0 7 3, 4 6 7号、 同 5, 0 7 7, 1 6 6号、 同 5, 1 0 4, 7 6 0号、 同 5, 1 0 4, 7 5 9号、 欧州特許 E P— A— 0 4 1 0 3 2 4号及び同 E P -A- 0 4 4 0 2 2 6号各公報等に記載されている。 発明が解決しょうとする課題
しかしながら、 これらの樹脂又は樹脂の組合せを用いても、 環境が高温 ·高湿 から低温 ·低湿まで著しく変動した場合における安定した性能の維持においては いまだ不充分であることが判った。 半導体レーザ一光を用いたスキャ ンニング露 光方式では、 従来の可視光による全面同時露光方式に比べ、 露光時間が長くなり 、 また露光強度にも制約があることから、 静電特性、 特に暗電荷保持特性、 光感 度に対して、 より高い性能が要求される。
特に、 電子写真式平版印刷用原版において、 半導体レーザー光を用いたスキヤ ンユング露光方式を採用した場合, 従来の感光体で実際に試験してみると、 上記 の静電特性が十分に満足できるものでなく、 特に E 1 /2 と E との差が大きく 複写画像の階調が軟調となり、 更には露光後の残留電位を小さくするのが困難と なり、 複写画像のカプリが顕著となってしまった。 又、 平版印刷用原版として用 いた場合、 印刷物に印刷原稿の貼り込み跡が出てしまう等の問題が現れた。 更に、 近年、 線画及び網点から成る画像の複写画像のみならず、 連続階調から 成る高精細な画像を液体現像剤を用いて忠実に再現する技術の実現が望まれてい るが、 前記公知の技術はこれらの要望まで十分に満足できるものではなかった。 従来公知の技術においては、 低分子量の樹脂と併用する中〜高分子量の樹脂に よって、 上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が低下することがあり、 実際に前記した様なこれら公知の樹脂の組合せで用いた光導電層を有する電子写 真感光体は、 前述の様な高精細な画像 (特に連続階調画像) の忠実な複写画像の 再現性あるいは、 低出力のレーザ一光を用いたスキヤ ンニング露光方式による撮 像性に対して、 問題を生じ得ることが明らかになった。
本発明は、 以上の様な従来公知の電子写真感光体の有する課題を改良するもの である。
本発明の 1つの目的は、 複写画像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高湿の 如く変動した場合でも、 常に安定して良好な静電特性を維持し、 鮮明で良質な画 像を有する電子写真感光体を提供することである。
本発明のもう 1つの目的は、 静電特性に優れ且つ環境依存性の小さい C P C電 子写真感光体を提供することである。
本発明の更にもう 1つの目的は、 半導体レーザー光を用いたスキヤンニング露 光方式に有効な電子写真感光体を提供することである。
本発明の更にもう 1つの目的は、 静電特性 (特に暗電荷保持性及び光感度) に 優れ、 原画 (特に高精細な連続階調画像) に対して忠実な複写画像を再現し、 且 つ、 印刷物の全面一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、 また耐 刷性の優れた電子写真式平版印刷用原版を提供することである。
本発明の他の目的は以下の記載から明らかになるであろう。 発明の開示
本発明の目的は無機光導電体、 分光増感色素及び結着樹脂を少なく とも含有す る光導電層を有する電子写真感光体において、 該結着樹脂が、 下記樹脂 〔A〕 の 少なく とも 1種及び下記樹脂 〔B〕 の少なく とも 1種を含有して成る事を特徵と する電子写真感光体。
樹脂 〔A〕
1 X 1 03 〜 2 X 1 04 の重量平均分子量を有し、 — P 03 H2 、 — S 03 H、 — C OOH、 一 P (=0) (OH) R1 CR1 は炭化水素基又は— OR2 (R2 は炭化水素基を表す) を表す〕 及び環状酸無水物基から選択される少なく とも 1 種の極性基を有する重合体成分と下記一般式 ( I ) で示される重合体成分を含有 する高分子鎖を有機分子中に少なく とも 3個結合してなるスター型重合体であつ て、 該極性基を有する重合体成分を 1〜 2 0重量%含有し、 該一般式 ( I ) で示 される重合体成分を 3 0重量%以上含有する重合体。 一般式 ( I )
a 1 a 2
-^C H - C ^—
C 00 - R3
〔式 ( I ) 中、 a 1 、 a 2 は各々水素原子、 ハロゲン原子、 シァノ基、 炭化水素 基、 一 COOR4 又は炭化水素基を介した一 C 00 R4 (ここで、 R4 は炭化水 素基を表す) を表す。 R3 は炭化水素基を表す。 〕
樹脂 〔B〕
3 X 1 0 ~ 1 X 1 06 の重量平均分子量を有し、 上記樹脂 〔A〕 で示される 特定の極性基のうちから選択される少なく とも 1種の極性基を有する重合体成分 を含有する Aプロックと上記樹脂 〔A〕 における一般式 ( I ) で示される重合体 成分を含有する Bプロックとを含む A Bプロック共重合体であって、 Aプロック は該極性基を有する重合体成分を 0.0 5〜 1 0重量%含有し、 Bブロックは該ー 般式 ( I ) で示される重合体成分を 3 0重量%以上含有する共重合体。
即ち、 本発明の結着樹脂は、 上記一般式 ( I ) で示される重合体成分と上記特 定の極性基含有成分とを含有する高分子鎖を有機分子中に少なく とも 3個結合し て成るスター型重合体である樹脂 〔A〕 と、 上記特定の極性基含有成分を含有す る Aブロックと上記一般式 ( I ) で示される重合体成分を含有する Bブロックと を含む A Bプロック共重合体である樹脂 〔B〕 とから少なく とも構成される。 前述の如く、 公知の低分子量の酸性基含有結着樹脂のうち、 光導電層の平滑性 及ぴ静電特性を良化させる目的で用いられるものとして、 酸性基含有重合体成分 が重合体主鎖中あるいは片末端に存在する澍脂、 酸性基をグラフ ト部中あるいは 主鎖末端に存在するダラフ ト型共重合体、 酸性基をプロックで含有する A Bプロ 、ソク共重合体が挙げられる。 これに対し、 本発明の低分子量の樹脂 〔A〕 は、 公 知の樹脂とは重合体成分の結合パターンが異なるものであり、 ポリマーの化学構 造を著しく特定化したスター型共重合体である。
即ち、 本発明の樹脂 〔A〕 の高分子鎖中に存在する極性基含有成分は無機光導 電体の化学量論的な欠陥部に充分に吸着し、 また高分子鎖を構成する他の成分 ( 例えば一般式 ( I ) の成分) は、 無機光導電体の表面をゆるやかに且つ充分に被 覆していると推定される。 この作用により、 無機光導電体の化学量論的な欠陥部 が多少変動しても充分な吸着領域をもつ事から、 常に安定した無機光導電体と樹 脂 〔A〕 との相互作用が保たれると推論される。 本発明に従えば従来公知の酸性 基含有の低分子量樹脂に比べて一段と良好に光導電体のトラップを充分に捕償し 、 湿度特性を向上させ、 光導電体粒子の分散が充分に行なわれ、 更に該粒子の凝 集も抑制することを見出した。
種々検討の結果、 前述の如く、 低分子量の極性基含有樹脂を中〜高分子量の樹 脂と併用する公知の技術においては、 併用する中〜高分子量の樹脂により、 上記 低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が低下してしまうことがあることが判 つた。 そして、 これらの中〜高分子量樹脂が、 該光導電層中で、 光導電体、 分光 増感色素及び低分子量の樹脂の相互作用に更に適切に相互作用させることも、 予 想以上に重要な原因であることが明らかになつてきた。
そして、 上記特定の極性基をスター型重合体の高分子鎖中に含有する低分子量 の樹脂 〔A〕 と併用すべき中〜高分子 Sの樹脂として、 本発明に従う極性基含有 の Aブロックと極性基非含有の Bプロックとを有する A Bプロック共重合体を用 いることにより、 前記課題が有効に解決されることを見出した。
この事は、 本発明の結着樹脂 〔A〕 及び 〔B〕 の相乗効果により、 光導電体粒 子が充分に分散され且つ凝縮しない状態で存在し、 更に分光増感色素や化学増感 剤が光導電体粒子表面に充分に吸着していること及び光導電体表面の余分な活性 サイ トを結着樹脂が充分に吸着してトラップを補償していること等により高性能 なレベルで安定に静電特性を維持できるものと推定される。
即ち、 特定の極性基を含有する低分子量のス夕一型重合体である樹脂 〔A〕 は 、 前述の如く、 光導電体粒子に充分吸着して該粒子を均一に分散し、 その高分子 鎖が短いことにより凝集を抑制すること、 又、 分光増感色素の吸着疎外を起こさ ないこと等の重要な作用を有する。 又、 特定の極性基を含有する Aブロックとそ れを含まない Bプロックを含む中〜高分子量の A Bプロック共重合体を用いるこ とで光導電層の機械的強度が大巾に向上する。 これは、 この樹脂の Aブロックの 部分が光導電体粒子と樹脂 〔A〕 よりも弱い相互作用をすること及び Bプロッ ク の部分同志の高分子鎖間の絡み合い効果等によるものと考えられる。
更には、 公知の中〜高分子量の樹脂を併用する場合に比べて静電特性がより良 化する。 これは、 光導電体粒子と相互作用をもつ Aブロックの部分が極性を有す ることから分光増感色素の吸着疎外を抑制する働きをしているものと考えられる 。 これらのことより、 その詳細は不明であるが、 光導電体粒子、 分光増感色素 、 樹脂 〔A〕 及び樹脂 〔B〕 が共存した時に、 これらが分光増感色素の光導電体 粒子への吸着疎外の抑制あるいは電子写真的な相互作用に適切に関与し、 且つ光 導電層の強度向上に効果をもたらすことができたものと推定される。
この作用は、 近赤外〜赤外用の分光増感色素として特に有効なポリメチン色素 あるいはフタ口シァニン系顔料で特に顕著である。
更に、 光導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の電子写真感光体を従 来公知のダイ レク ト印刷用原版として用いた場合に、 優れた撮像性とともに著し く良好な保水性を示す。 即ち、 電子写真プロセスを経て複写画像を形成した本発 明の感光体を、 従来公知の不感脂化処理液により非画像部を化学処理により不感 脂化して、 印刷版とし、 これをオフセツ ト印刷により印刷した時に れた性能を 示すものである。 本発明の感光体を不感脂化処理すると、 非画像部の親水化が充分になされ、 保 水性が向上することから印刷枚数が飛躍的に向上した。 このことは、 不感脂化処 理で親水性表面に改質される働きをする酸化亜鉛の化学反応が、 容易に且つ多量 に進行しうる状態を形成していることによるものと考えられる。 即ち、 結着樹脂 として用いた樹脂 〔A〕 及び樹脂 〔B〕 の各々が酸化亜鉛粒子を均一に充分分散 していること及び酸化亜鉛粒子表面 ·表面近傍が不感脂化処理水溶液と迅速に相 互作用し反応を起こす様な状態を形成しているものと推定される。
以下に、 本発明の電子写真感光体の光導電層の結着樹脂として用いられる樹脂 〔A〕 について更に詳しく説明する。
樹脂 〔A〕 は特定の極性基を有する重合体成分と一般式 ( I ) で示される繰返 し単位に相当する重合体成分を含有する高分子鎖を同一分子中に少なく とも 3個 有するスター型重合体である。
本発明のスター型重合体を模式的に示すと例えば下記のように表わされる。 P o 1 y m e r〕
P o 1 y m e r〕 P o 1 y m e r〕
Figure imgf000009_0001
P o 1 y m e r〕
〔ここで、 Xは有機分子を表わし、 〔P 0 1 y m e r〕 は高分子鎖を表わす〕 スター型重合体において、 有機分子に結合した 3個以上存在する高分子鎖は、 それぞれ構造的に同一であっても異なっていてもよく、 またそれぞれの高分子鑌 の長さは同じであっても異なっていてもよい。
高分子鎖は、 上述の通り、 特定の極性基を有する重合体成分と一般式 ( I ) で 示される重合体成分をそれぞれ一種以上含有するが、 これら成分の構成は種々の 態様をとり得る。 即ち、 高分子鎖を構成する特定の極性基含有成分と一般式 ( I ) で示される成分とは高分子鎖中にランダムに存在してもよいし、 ブロックとし て存在してもよい。
後者の場合、 樹脂 〔A〕 は特定の極性基を有する重合体成分を含有する Aプロ ックと一般式 ( I ) で示される重合体成分を含有する Bプロックとから構成され る A Bプロッ ク高分子鎖が有機分子中に少なく とも 3個結合してなるスター型重 合体である。 Bプロックは Aプロックで含有される特定の極性基を含有しない。 この場合、 Aプロックと Bプロックの高分子鎖中における配列の順序はいずれで もよい。 かかる樹脂 〔A〕 を模式的に示すと下記の如くになる。
Figure imgf000010_0001
〔ここで、 Xは有機分子を表わし、 (A ) は Aブロックを表わし、 (B ) は Bブ ロックを表わし、 (A ) — ( B ) は高分子鎖を表わす〕
樹脂 〔A〕 のスター型重合体において、 有機分子に結合する高分子鎖数の上限 は多くても 1 5個、 通常 1 0個程度である。
樹脂 〔A〕 の重量平均分子量は 1 X 1 0 3 〜 2 X 1 0 4 、 好ましく は 3 X 1 0 3 ~ 1 X 1 0 4 であり、 樹脂 〔A〕 のガラス転移点は好ましく は一 4 0 °C〜 1 1 0 °C、 より好ましくは一 2 0 °C ~ 9 0 °Cである。
樹脂 〔A〕 の分子量が 1 X 1 0 3 より小さくなると、 皮膜形成能が低下し充分 な膜強度を保てず、 一方分子量が 2 X 1 0 4 より大きくなると本発明の樹脂であ つても、 特に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感光体において、 高温 ·高湿、 低温 ·低湿の苛酷な条件下での電子写真特性 (特に初期電位、 暗電荷保持率及び 光感度) の変動が多少大きくなり、 安定した複写画像が得られるという本発明の 効果が薄れてしまう。
樹脂 〔A〕 において、 一般式 ( I ) の繰り返し単位に相当する重合体成分の存 在割合は、 樹脂 〔A〕 中 3 0重量%以上、 好ましくは 3 0 ~ 9 9重量%、 より好 ましく は 5 0 - 9 9重量%以上、 特定の極性基を有する重合体成分の存在割合は 、 樹脂 〔A〕 中 1 ~ 2 0重量%、 好ましく は 3〜 1 5重量%である。
樹脂 〔A〕 における極性基含有成分量が 1重量%より少ないと、 初期電位が低 くて充分な画像濃度を得ることが困難となる。 一方該極性基含有成分量が 2 0重 量%よりも多いと、 いかに低分子量体といえども光導電体の分散性が低下し、 更 にオフセッ トマス夕一として用いるときに地汚れが増大する傾向がある。
次に樹脂 〔A〕 の重合体主鎖中に含有される、 前記一般式(I ) で示される繰り 返し単位を更に説明する。 一般式(I ) において a 1 , a 2 は、 各々好ましくは水 素原子、 ハロゲン原子 (例えば塩素原子、 臭素原子等) 、 シァノ基、 炭素数 1〜 4のアルキル基 (例えばメチル基、 ェチル基、 プロピル基、 ブチル基等) 、 — C 0 0 R 又は炭化水素基を介した— C 0 0 R 4 ( R 4 は水素原子、 アルキル基、 アルケニル基、 ァラルキル基、 脂環式基又はァリール基を表し、 これらは置換さ れていてもよく、 具体的には、 下記 R 3 について説明したものと同様の内容を表 す) を表す。 特に、 a 1 が水素原子、 a 2 がメチル基の場合が好ましい。
上記炭化水素基を介した一 C 0 0 R 4 基における炭化水素基としては、 メチレ ン基、 エチレン基、 プロピレン基などが挙げられる。
R 3 は好ましく は炭素数 1 8以下の置換されていてもよい炭化水素基を表わす 。 置換基としては樹脂 〔A〕 における上記極性基含有重合体成分に含まれる極性 基以外の置換基であればいずれでもよく、 例えば、 ハロゲン原子 (例えばフッ素 原子、 塩素原子、 臭素原子等) 、 — O R 8 、 - C 0 O R 6 又は一 O C O R 6 ( R 6 は炭素数 1〜 2 2のアルキル基を表わし、 例えばメチル基、 ェチル基、 プロピ ル基、 プチル基、 へキシル基、 ォクチル基、 デシル基、 ドデシル基、 へキサデシ ル基、 ォクタデシル基等である) 等の置換基が挙げられる。 好ましい炭化水素基 としては、 炭素数 1〜 1 8の置換されてもよいアルキル基 (例えばメチル基、 ェ チル基、 プロピル基、 プチル基、 ペンチル基、 へキシル基、 ヘプチル基、 ォクチ ル基、 デシル基、 ドデシル基、 へキサデシル基、 ォクタデシル基、 2—クロロェ チル基、 2 —ブロモェチル基、 2 —シァノエチル基、 2 —ヒ ドロキシェチル基、 2 —メ トキシカルボニルェチル基、 2 —メ トキシェチル基、 2—エ トキシェチル 基、 3—ヒ ドロキシプロピル基、 3—ブロモプロピル基等) 、 炭素数 2〜 1 8の 置換されてもよいアルケニル基 (例えばビュル基、 ァリル基、 2—メチルー 1 — プロぺニル基、 2—ブテニル基、 2—ペンテニル基、 3—メチルー 2—ペンテ二 ル基、 1—ペンテニル基、 1 一へキセニル基、 2 —へキセニル基、 4 ーメチル一 2—へキセニル基等) 、 炭素数 7〜 1 2の置換されてもよいァラルキル基 (例え ばべンジル基、 フエネチル基、 3 ーフヱニルプロピル基、, ナフチルメチル基、 2 —ナフチルェチル基、 クロ口べンジル基、 プロモベンジル基、 メチルベンジル基 、 ェチルベンジル基、 メ トキシベンジル基、 ジメチルベンジル基、 ジメ トキシべ ンジル基等) 、 炭素数 5〜 8の置換されてもよい脂環式基 (例えばシクロペンチ ル基、 シクロへキシル基、 2 —シクロへキシルェチル基、 2—シクロペンチルェ チル基等) 又は炭素数 6 ~ 1 2 の置換されてもよい芳香族基 (例えばフユニル基 、 ナフチル基、 ト リル基、 キシリル基、 プロピルフヱニル基、 プチルフヱニル基 、 ォクチルフヱニル基、 ドデシルフヱニル基、 メ トキシフヱニル基、 エ トキシフ ェニル基、 ブトキシフヱニル基、 デシルォキシフヱニル基、 クロロフヱニル基、 ジクロロフヱニル基、 プロモフヱニル基、 シァノ フヱニル基、 ァセチルフヱニル 基、 メ トキシカルボニルフヱニル基、 エトキシカルボニルフヱニル基、 ブトキシ カルボニルフヱニル基、 ァセ トアミ ドフヱニル基、 プロピオアミ ドフヱニル基、 ドデシロイルアミ ドフヱニル基等) 等があげられる。
一般式(I ) の繰り返し単位に相当する重合体成分において、 下記一般式 ( I a ) 及び 又は一般式 ( l b ) で示される特定のァリ一ル基を含有するメタク リ レ 一ト成分で表される重合体成分がより好ましい。 このような特定のァリ一ル基を 含有する低分子量樹脂を以降樹脂 〔Α ' 〕 と称することもある。 一般式 ( l a)
Figure imgf000013_0001
一般式 ( l b)
Figure imgf000013_0002
〔式 ( I a) 及び ( l b ) において、 T i 及び T2 は各々水素原子、 ハロゲン原 子、 炭素数 1〜 1 0の炭化水素基、 — C O Ra 又は— C O O Ra (Ra は炭素数 1 ~ 1 0の炭化水素基を表す) を表し、 1^ 及び L 2 は各々— C O O—とべンゼ ン環を結合する単結合又は連結原子数 1〜 4個の連結基を表す〕
樹脂 〔Α ' 〕 における一般式 ( l a) 及び/又は一般式 ( I b ) の繰り返し単 位に相当するメタク リ レー 卜の重合体成分の存在割合は樹脂 〔Α' 〕 中 3 0重量 %以上、 好ま しく は 5 0 ~ 9 7重量%、 特定の極性基含有の重合体成分の存在割 合は樹脂 〔Α' 〕 中 1〜 2 0重量%、 好ま しく は 3〜 1 5重量%である。
樹脂 〔Α' 〕 を用いると更に静電特性 (特に V1 ()、 D. R. R. , E 1/10) が 向上する。
一般式 ( I a) において、 好ま しい 1\ 及び T2 と して、 各々水素原子、 塩素 原子及び臭素原子の外に、 炭素数 1〜 1 0の炭化水素基と して、 好ま しく は炭素 数 1 ~ 4のアルキル基 (例えばメチル基、 ェチル基、 プロピル基、 ブチル基等) 、 炭素数 7〜 9のァラルキル基 (例えばべンジル基、 フヱネチル基、 3 —フエ二 ルプロピル基、 クロ口べンジル基、 ジクロロべンジル基、 プロモベンジル基、 メ チルべンジル基、 メ トキシベンジル基、 クロ口一メチルーベンジル基) およびァ リ一ル基 (例えばフヱニル基、 ト リル基、 キシリル基、 プロモフヱニル基、 メ 卜 キシフヱニル基、 クロ口フエ二ル基、 ジクロロフェニル基) 、 並びに一 C O Ra 及び一 C 00 Ra (好ましい Ra としては上記の炭素数 1 ~ 1 0の好ましい炭化 水素基として記載したものを挙げることができる) を挙げることができる。
一般式 ( l a) 及び ( l b) において、 L! 及び L 2 は各々— C OO—とベン ゼン環を結合する直接結合又は一 (CH2 ) n i - (n! は 1〜3の整数を表す) 、 - C H 2 0 C 0 -、 — CH2 CH2 0 C 0 、 一 (C H2 0) ml— (mi は 1 又は 2の整数を表す) 、 — CH2 CH2 0 -等の如き連結原子数 1〜 4個の連結 基であり、 より好ましく は直接結合又は連結原子数 1〜 2個の連結基を挙げるこ とができる。
本発明の樹脂 〔A〕 で用いられる一般式 ( I a) 又は ( I b ) で示される繰り 返し単位に相当する重合体成分の具体例を以下に挙げる。 しかし、 本発明の範囲 はこれに限定されるものではない。 以下の ( a— 1 ) 〜 ( a— 1 7 ) において、 nは 1 ~4の整数、 mは 0~3の整数、 pは 1 ~ 3の整数、 R1()〜R13はいずれ も一 Cn H2n+1又は一 (CH2 ) m- C B H5 (ただし、 n, mは上記と同じ) 、 Xi 及び X2 は、 同じでも異なってもよく、 各々水素原子、 — C 1、 一 B r、 一 Iを表す。
Figure imgf000015_0001
Figure imgf000015_0002
20H
P
P P CD
O
Figure imgf000016_0001
(a— 12)
CH3 -fCH2-C^—
Figure imgf000017_0001
(a— 13)
CH3 -tCH2-C) ~
CO
Figure imgf000017_0002
(a- 14)
CH3
Figure imgf000017_0003
Figure imgf000017_0004
次に、 樹脂 〔A〕 における特定の極性基を有する重合体成分について説明する。 極性基含有重合体成分における極性基は、 前述の通り、 一 P 03 H2 、 一 S
0
II
03 H, — C O OH、 — F— OH、 及び環状酸無水物基から選ばれるものである c
R 1
一 P (=0) (0 H) R1 基において、 R1 は炭化水素基又は一 OR2 (R2 は炭化水素基を表す) を表す。 R1 あるいは R2 で表わされる炭化水素基は具体 的には炭素数 1 ~ 2 2の置換されてもよい脂肪族基 (例えばメチル基、 ェチル基 、 プロピル基、 プチル基、 へキシル基、 ォクチル基、 デシル基、 ドデシル基、 ォ クタデシル基、 2—クロ口ェチル基、 2—メ トキシェチル基、 3—エ トキシプロ ピル基、 ァリル基、 クロ トニル基、 ブテニル基、 シクロへキシル基、 ベンジル基 、 フエネチル基、 3—フヱニルプロピル基、 メチルベンジル基、 クロ口べンジル 基、 フロロべンジル基、 メ トキシベンジル基等) 、 又は置換されていてもよいァ リール基 (例えばフエ二ル基、 ト リル基、 ェチルフヱニル基、 プロピルフヱニル 基、 クロロフヱニル基、 フロロフヱニル基、 プロモフエ二ル基、 クロローメチル ーフヱニル基、 ジクロロフェニル基、 メ トキシフヱニル基、 シァノ フヱニル基、 ァセ トアミ ドフヱニル基、 ァセチルフヱニル基、 ブトキシフヱニル基等) 等であ る。
また、 環状酸無水物基とは、 少なく とも 1つの環状酸無水物を含有する基であ り、 含有される環状酸無水物と しては、 脂肪族ジカルボン酸無水物、 芳香族ジカ ルボン酸無水物が挙げられる。
脂肪族ジカルボン酸無水物の例と しては、 コハク酸無水物環、 ダルタコン酸無 水物環、 マレイ ン酸無水物環、 シクロペンタン一 1, 2—ジカルボン酸無水物環 、 シクロへキサン一 1, 2—ジカルボン酸無水物環、 シクロへキセン一 1 , 2— ジカルボン酸無水物環、 2 , 3—ビシクロ 〔 2 , 2 , 2〕 ォクタジカルボン酸無 水物環等が挙げられ、 これらの環は、 例えば塩素原子、 臭素原子等のハロゲン原 子、 メチル基、 ェチル基、 プチル基、 へキシル基等のアルキル基等で置換されて いてもよい。
また、 芳香族ジカルボン酸無水物の例と しては、 フタル酸無水物環、 ナフタ レ ンージカルボン酸無水物環、 ピリ ジンージカルボン酸無水物環、 チオフヱン一ジ カルボン酸無水物環等が挙げられ、 これらの環は、 例えば塩素原子、 臭素原子等 のハロゲン原子、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基、 ブチル基等のアルキル基、 ヒ ドロキシル基、 シァノ基、 ニ トロ基、 アルコキシカルボニル基 (アルコキシ基 と しては、 例えばメ トキシ基、 ェトキシ基等) 等で置換されていてもよい。
樹脂 〔A〕 における極性基は重合体鎖に直接結合してもよいし、 連結基を介し て結合してもよい。 連結基と しては、 いずれの結合する基でもよいが、 例えば具 体的に挙げるとすれば、 一 〔C Cd! )(d 2 ) 〕 一 (d! 、 d 2 は同じでも異な つてもよく、 各々水素原子、 ハロゲン原子 (塩素原子、 臭素原子等) 、 OH基、 シァノ基、 アルキル基 (メチル基、 ェチル基、 2—クロ口ェチル基、 2—ヒ ドロ キシェチル基、 プロピル基、 ブチル基、 へキシル基等) 、 ァラルキル基 (ベンジ ル基、 フェネチル基等) 、 又はフ 二ル基等を表す) 、 — 〔 (C ( d 3 ) =C ( d4 ) 〕 一 (d3 、 d 4 は d i 、 d 2 と同一の内容を表す) 、 — Ce H10—、 一 Ce H4 一、 一 0—、 — S—、 -N (d5 ) 一 Cd5 は、 水素原子又は炭化水素 基を表す (炭化水素基と して具体的には炭素数 1〜 1 2の炭化水素基 (例えばメ チル基、 ェチル基、 プロピル基、 プチル基、 へキシル基、 ォクチル基、 デシル基 、 ドデシル基、 2—メ トキシェチル基、 2—クロ口ェチル基、 2—シァノエチル 基、 ベンジル基、 メチルベンジル基、 フヱネチル基、 フヱニル基、 ト リル基、 ク ロロフヱニル基、 メ トキシフヱニル基、 プチルフヱニル基等) が挙げられる) 〕 、 一 C O -、 一 C OO -、 一 O C O -、 - C O (d 5 ) 一、 - S 02 N ( d 5 ) 一、 - S 02 一、 一 NHC ONH -、 — NH C OO -、 - NH S 02 一、 一 C ONHCOO—、 — C ONHCONH—、 複素環 (ヘテロ原子と して、 ◦、 S、 N等を少なく とも 1種含有する 5〜 6員環又はこれらの縮合環であればいずれで もよい : 例えばチォフェン環、 ピリ ジン環、 フラン環、 イ ミ ダゾ一ル環、 ピペリ ジン環、 モルホリ ン環等が挙げられる) 又は— S i (d6 ) ( d 7 ) 一 (d6 、 d 7 は同じでも異なってもよく、 炭化水素基又は一 0 d a (d 8 は炭化水素基) を表す。 これらの炭化水素基と しては、 d 5 で挙げたものと同一のものを挙げる ことができる) 等の結合基の単独又は、 これらの組合せにより構成された連結基 等が挙げられる。 このような極性基を含有する重合体成分は、 例えば一般式 ( I ) 〔一般式 ( I a) , ( l b) も含む〕 で示される繰り返し単位に相当する単量体と共重合し得 る該極性基を含有するビニル系化合物から誘導されるものであればいずれでもよ い。 ビニル系化合物と しては、 例えば、 高分子学会編 「高分子データ 。 ハン ドブ ック 〔基礎編〕 」 培風館 ( 1 9 8 6年刊) 等に記載されている。 具体的には、 了 ク リル酸、 α及び/'又は; 8置換アク リル酸 (例えばなーァセ トキシ体、 α—ァセ トキシメチル体、 a一 ( 2 -ァミ ノ) ェチル体、 α—クロ口体、 α—プロモ体、 一フロロ体、 び一 ト リ プチルシリル体、 《—シァノ体、 /3—クロ口体、 3—プ ロモ体、 一クロロー ^ーメ トキシ体、 a, β—ジク Ό口体等) 、 メ タク リル酸 、 ィタコン酸、 イタコン酸半エステル類、 イタコン酸半ァミ ド類、 クロ ト ン酸、 2—ァルケ二ルカルボン酸類 (例えば 2—ペンテン酸、 2—メチル— 2—へキセ ン酸、 2—ォクテン酸、 4一メチル一 2—へキセン酸、 4—ェチル一 2—ォクテ ン酸等) 、 マレイ ン酸、 マレイ ン酸半エステル類、 マレイ ン酸半アミ ド類、 ビニ ルベンゼンカルボン酸、 ビュルベンゼンスルホン酸、 ビニルスルホン酸、 ビニル ホスホン酸、 ジカルボン酸類のビニル基又はァリル基の半エステル誘導体、 及び これらのカルボン酸又はスルホン酸のエステル又はァミ ド誘導体の置換基中に該 極性基を含有する化合物等が挙げられる。
以下にこの様なタイプの極性基含有の重合体成分について例示する。 ここで、 e 1 は H又は CH3 を示し、 e 2 は H、 CH3 又は CH2C OO CH3 を示し、
R 14は炭素数 1〜 4のアルキル基を示し、 R 15は炭素数 1〜 6のアルキル基、 ベンジル基又はフヱニル基を示し、 cは 1 ~ 3の整数を示し、 dは 2〜 1 1の整 数を示し、 eは 1〜 1 1の整数を示し、 f は 2〜4の整数を示し、 gは 2 ~ 1 0 の整数を示す。 6 T
HO
Figure imgf000021_0001
(^-q)
HOOOp(zHO)000
(ε-q)
Figure imgf000021_0002
(2-q)
Figure imgf000021_0003
(τ一 ¾
I76ll00/Z66ldf/X3d ■99Ϊ80請 OAV
Figure imgf000022_0001
〇一 π>
Figure imgf000022_0002
22)( ocC〇oow c〇0CH〇〇B:H:n
〇〇0〇〇〇li 一 ' ~、
cr
I-1
o
Figure imgf000023_0001
N
(bsi (b— 13)
Figure imgf000024_0001
(b-14)
Figure imgf000024_0002
(b— 15) ei e-p
\ I 0
COO(CH2)2-0-P-OH OH
(b-16)
Figure imgf000024_0003
ε ζ
HOOO HOOO
~ (HO―
(os-q)
~ (i- 〇
HOOO
(sx-q)
HO
Figure imgf000025_0001
て 3
(8i-q)
Figure imgf000025_0002
t6ll00IZ66ld£l∑3d ■99Ϊ80請 OAV (b-21)
Figure imgf000026_0001
(b-22)
Figure imgf000026_0002
(b-23)
■(C — CH
S03H
(b-24)
1CH2-CH) ~
CH2COOH
Figure imgf000026_0003
Figure imgf000027_0001
Figure imgf000028_0001
(b— 31)
Figure imgf000028_0002
(b— 32)
Figure imgf000028_0003
(b-33)
"(
Figure imgf000028_0004
〇 〇 〇
Figure imgf000029_0001
1
CO CO CO CO
^3
Η: δ
\
HO 8 Z
Figure imgf000030_0001
HOOO-
Figure imgf000030_0002
(6s-q)
Figure imgf000031_0001
ο ε
H
HO -
Figure imgf000032_0001
(6 ー q) sHzOO
HO-
Figure imgf000032_0002
(8 一 q)
Figure imgf000032_0003
(ん 一 q)
Figure imgf000032_0004
(9 ー q)
I76ll00/Z66ldf/X3d ■99Ϊ80請 OAV I ε
Figure imgf000033_0001
(ss-q)
Figure imgf000033_0002
(i9-q)
Figure imgf000033_0003
(09-q)
I76ll00/Z66ldf/X3d ■99Ϊ80請 OAV また、 A Bブロック共重合体を高分子鎖に含む樹脂 〔A〕 において、 上記極性 基含有成分は、 Aブロック中に存在し、 極性基含有成分は Aブロック中に 2種以 上含有されていてもよく、 これら 2種以上の極性基含有成分は Aプロック中にお いてランダム共重合又はプロック共重合のいずれで含有されていてもよい。 樹脂 〔A〕 は上記の重合体成分以外の重合体成分を含有していてもよく、 かか る重合体成分としては好ましく は下記一般式 (H) の繰り返し単位に相当する重 合体成分が挙げられる。 一般式 (I)
m 1 m 2
I I
— - C H - C -)―
D 1—— D 2
(式 (H) 中、 D1 は— C OO—、 — O C O—、 - (CH2 ) k — O C O—、
- (CH2 ) k - C OO- (kは 1〜3の整数を表わす) 、 — 0—、 一 S 02
、 — C O -、 - C ON (D3) -、 一 S 02 N (D3)—、 — C ONHC OO -、 一
C ONHC ONH—又は— C6 H4 —を表わす (ここで D3 は水素原子又は炭化 水素基を表わす) 。 D2 は炭化水素基を表わす。 m1 及び m2 は、 互いに同じで も異なってもよく、 各々前記一般式 ( I ) 中の a 12 と同一の内容を表わす
。 ) D3 で示される炭化水素基のうち、 好ましい炭化水素基としては、 炭素数
1〜1 8の置換されてもよいアルキル基 (例えば、 メチル基、 ェチル基、 プロピ ル基、 ブチル基、 ペンチル基、 へキシル基、 ヘプチル基、 ォクチル基、 デシル基
、 ドデシル基、 へキサデシル基、 ォクタデシル基、 2—クロ口ェチル基、 2—ブ ロモェチル基、 2—シァノエチル基、 2—メ トキシカルボニルェチル基、 2—メ トキシェチル基、 3—ブロモプロピル基等) 、 炭素数 4〜1 8の置換されてもよ いアルケニル基 (例えば、 2—メチル一 1一プロぺニル基、 2—プテニル基、 2
—ペンテニル基、 3—メチル一 2—ペンテニル基、 1—ペンテニル基、 1—へキ セニル基、 2—へキセニル基、 4—メチル— 2—へキセニル基等) 、. 炭素数 7〜
1 2の置換されてもよいァラルキル基 (例えば、 ベンジル基、 フヱネチル基、 3 ーフヱニルプロピル基、 ナフチルメチル基、 2—ナフチルェチル基、 クロ口ベン ジル基、 ブロモベンジル基、 メチルベンジル基、 ェチルベンジル基、 メ トキシべ ンジル基、 ジメチルペンジル基、 ジメ トキシベンジル基等) 、 炭素数 5〜8の置 換されてもよい脂環式基 (例えば、 シクロへキシル基、 2 —シクロへキシルェチ ル基、 2 —シクロペンチルェチル基等) 、 又は炭素数 6 ~ 1 2の置換されてもよ い芳香族基 (例えば、 フヱニル基、 ナフチル基、 ト リル基、 キシリル基、 プロピ ルフエ二ル基、 プチルフヱニル基、 ォクチルフエニル基、 ドデシルフェニル基、 メ トキシフヱニル基、 エ トキシフエニル基、 ブトキシフヱニル基、 デシルォキシ フエニル基、 クロロフヱニル基、 ジクロロフヱニル基、 プロ乇フヱニル基、 シァ ノ フヱニル基、 ァセチルフヱニル基、 メ トキシカルボニルフヱニル基、 エ トキシ カルボキシフヱニル基、 ブトキシカルボニルフヱニル基、 ァセ トアミ ドフヱニル 基、 プロピオアミ ドフヱニル基、 ドデシロイルア ミ ドフヱニル基等) が挙げられ る。
D 1 が— C e H 4 一を表わす場合、 ベンゼン環は置換基を有してもよい。 置換 基と しては、 ハロゲン原子 (例えば塩素原子、 臭素原子等) 、 アルキル基 (例え ばメチル基、 ェチル基、 プロピル基、 プチル基、 クロロメチル基、 メ トキシメチ ル基等) 、 アルコキシ基 (例えばメ トキシ基、 エ トキシ基、 プロピオキシ基、 プ トキシ基等) 等が挙げられる。
D 2 で示される炭化水素基のうち、 好ま しい炭化水素基と しては、 炭素数 1〜 2 2の置換されてもよいアルキル基 (例えば、 メチル基、 ェチル基、 プロピル基 、 ブチル基、 ペンチル基、 へキシル基、 ヘプチル基、 ォクチル基、 デシル基、 ド デシル基、 ト リデシル基、 テ トラデシル基、 へキサデシル基、 ォクタデシル基、 2 —クロ口ェチル基、 2 —ブロモェチル基、 2 —シァノエチル基、 2 —メ トキシ カルボニルェチル基、 2 —メ トキシェチル基、 3 —プロモプロピル基等) 、 炭素 数 4〜 1 8の置換されてもよいアルケニル基 (例えば、 2 —メチルー 1 一プロべ ニル基、 2 —プテニル基、 2 —ペンテニル基、 3 —メチル— 2 —ペンテニル基、 1 一ペンテニル基、 1 —へキセニル基、 2 —へキセニル基、 4 —メチルー 2 —へ キセニル基等) 、 炭素数 7 ~ 1 2の置換されてもよいァラルキル基 (例えば、 ベ ンジル基、 フヱネチル基、 3 —フエニルプロピル基、 ナフチルメチル基、 2 —ナ フチルェチル基、 クロ口べンジル基、 ブロモベンジル基、 メチルベンジル基、 ェ チルベンジル基、 メ トキシベンジル基、 ジメチルベンジル基、 ジメ トキシベンジ ル基等) 、 炭素数 5〜 8の置換されてもよい脂環式基 (例えば、 シクロへキシル 基、 2—シクロへキシルェチル基、 2 —シクロペンチルェチル基等) 、 炭素数 6
〜 1 2の置換されてもよい芳香族基 (例えば、 フヱニル基、 ナフチル基、 ト リル 基、 キシリル基、 プロピルフヱニル基、 プチルフヱニル基、 ォクチルフヱニル基 、 ドデシルフヱニル基、 メ トキシフヱニル基、 エトキシフエニル基、 プ トキシフ ェニル基、 デシルォキシフヱニル基、 クロロフヱニル基、 ジクロロフヱニル基、 プロモフエ二ル基、 シァノフエ二ル基、 ァセチルフエニル基、 メ トキシカルボ二 ルフヱニル基、 エ トキシカルボニルフヱニル基、 プトキシカルボ二ルフヱニル基
、 ァセ トアミ ドフ Xニル基、 プロピオアミ ドフエ二ル基、 ドデシロイルア ミ ドフ ェニル基等) が挙げられる。
一般式 (H ) において、 D 1 は好ましく は一 C 0 0—、 — 0 C 0—、 - C H 2 O C O—、 - C H 2 C O O—、 — 0—、 — C 0 N H—、 — S 0 2 N H—又は— C G H 4 —を表わす。
更に、 一般式 (I ) に相当する重合体成分のほか樹脂 〔A〕 中に含有され得る 重合体成分として、 一般式 (I ) の重合体成分と共重合しうる他の繰り返し単位 に相当する単量体、 例えばァクリロニト リル、 メタクリロニト リル、 複素環ビニ ル類 (例えばビニルピリジン、 ビニルイ ミダゾ一ル、 ビニルピロリ ドン、 ビニル チォフェ ン、 ビニルピラゾ一ル、 ビニルジォキサン、 ビニルォキサジン等) 等が 挙げられる。 これら他の単量体は樹脂 〔A〕 1 0 0重量部中 2 0重量部を超えな い範囲で用いられることが好ましい。
本発明に従う樹脂 〔A〕 において高分子鎖が 3本以上結合する有機分子として は、 その分子量が 1 0 0 0以下のものであれば特に限定されるものではない。 例 をあげれば、 下記の如き 3価以上の炭化水素残基が挙げられる。
Figure imgf000037_0001
(ここで、 ( ) は繰返し単位を表わす。 r i〜 r 4は水素原子又は炭化水素基 を表わす。 但し r 1及び r 2又は r 3及び r 4のうち少なく とも 1つは高分子鎖 に連結する。 )
これらの有機残基は単独又はこれらの任意の組み合わせの構成からなり、 組み 合わせの場合は、 — 0—、 — S—、 — N ( r 7) ―、 — C O—、 — C S―、 — C 00 -、 - C O ( r 7) ―、 一 S 02 -、 - S 02N ( r 7) ― (ここで r 7 は水素原子又は炭化水素を表す) 、 ― NH C O O 、 ― NH C O NH -、 酸素原 子、 ィォゥ原子、 窒素原子等のへテロ原子含有の複素環基 (例えば、 チォフェン 環、 ピリ ジン環、 ビラン環、 ィミダゾ一ル環、 ベンゾィ ミダゾ一ル環、 フラン環 、 ピぺリ ジン環、 ピラジン環、 ピロール環、 ピぺラジン環等) 等の結合 単位の組み合わせを含んでいてもよい。 0
II I
他の高分子鎖が結合する有機分子としては、 ― N—、 一 P—又は一 S i —と上 記結合単位との組み合わせから構成されるものが挙げられる。 しかしながら、 本 発明に従う有機分子の具体例としては、 これらに限定されるものではない。
本発明のスター型重合体は、 従来公知の極性基含有で且つ重合性二重結合基を もつ単量体のスター型ポリマーの合成法を利用して合成することができる。 例え ばその一つとしてカルバニオンを開始剤とする重合反応が挙げられる。 具体的に は、 M. M o r t o n、 T. E . H e l m i n i a k e t a l、 J . P o l y m. S c i . 、 5 7ヽ 4 7 1 ( 1 9 6 2 ) 、 B. G o r d o n I I I、 M. B 1 u m e n t h a 1 , J. E . L o f t u s >> e t a l、 P o l ym. B u l l . 、 1 1 , 3 4 9 ( 1 9 8 4) 、 R. B . B a t e s、 W. A. B e a v e r s、 e t a U J . O r g. C h e m. 、 4 4 ^ 3 8 0 0 ( 1 9 7 9 ) に記載の方法 に従って合成できる。
但し、 本反応を用いる際には、 本発明の特定の極性基は、 保護した官能基とし て用いて重合させた後、 保護の脱離を行う。
これらの、 本発明の特定の極性基の保護基による保護及びその保護基の脱離 ( 脱保護反応) については、 従来公知の知見を利用して容易に行なうことができる 。 例えば前記引用文献にも種々記載されており、 更には、 岩倉義男、 栗田恵輔、 「反応性高分子」 (株) 講談社刊 ( 1 9 7 7年) 、 T. W. G r e e n e、 「P r o t e c t i v e G r o u s i n O r g a n i c S y n t h e s i s」 , J o h n W i l e y & S o n s ( 1 9 8 1年) 、 J. F. W. M c Om i e、 「 P r o t e c t i v e G r o u p s i n O r g a n i c C h e m i s t r y」 P l e n um P r e s s、 ( 1 9 7 3年) 等の総説に詳 細に記載されている方法を適宜選択して行なうことができる。
他の方法としては、 本発明の特定の極性基を保護しないままの単量体を用い、 ジチォ力一バメ一ト基を含有する化合物及び/又はザンテ一 ト基を含有する化合 物を開始剤として、 光照射下に重合反応を行なって合成することもできる。 例え ば、 大津隆行、 高分子、 _ 、 2 4 8 ( 1 9 8 8 ) 、 槍森俊一、 大津隆一、 P o 1 ym. R e p. J a p. 3 7. 3 5 0 8 ( 1 9 8 8 ) 、 特開昭 6 4— 1 1 1号 、 特開昭 6 4— 2 6 6 1 9号、 東信行等、 P o l yme r P r e p r i n t s 、 J a a n 3 6 > ( 6 ) 、 1 5 1 1 ( 1 9 8 7) 、 M. N i wa、 N. H i g a s h i、 e t a l、 J . Ma c r omo l . S c i . C h e m. A 2 _£ ( 5 ) 、 5 6 7 ( 1 9 8 7 ) 等に記載の合成方法に従って合成することができる。 本発明の樹脂 〔A〕 の重量平均分子量の調整は、 重合反応において従来公知の 如く、 用いる単量体及び重合開始剤の種類 ·量、 重合温度等を適当に選択するこ とにより容易に行なうことができる。
以下に、 本発明の電子写真感光体の光導電層の結着樹脂として用いられる樹脂 〔 B〕 について更に詳しく説明する。
樹脂 〔B〕 は特定の極性基を有する重合体成分を含有する Aプロックと一般式 ( I ) で示される繰返し単位に相当する重合体成分を含有し、 且つ上記特定の極 性基を有する重合体成分を含有しない Bプロックを含む A Bプロック共重合体で ある。
本発明による A Bブロック共重合体は、 態様 ( 1 ) : Aブロックと Bブロック が結合したブロック共重合体、 態様 ( 2 ) :態様 ( 1 ) において Aブロックの B プロックと結合する反対側の重合体主鎖の末端に特定の極性基が結合したプロッ ク共重合体、 態様 ( 3 ) : Aプロックの両端に Bブロックが結合したプロック共 重合体を包含する。 これらを模式的に示すと以下のようになる。
態様 ( 1 ) ( Aブロック) 一 b— ( Bプロック)
態様 ( 2 ) (極性基) ― ( Aプロック) — b— ( Bプロック)
態様 ( 3 ) ( Bプロック) 一 b— ( Aプロック) 一 b— ( Bプロック) なお一 b —はプロック間の結合を表わす。
樹脂 〔B〕 は特定の極性基を有する重合体成分を樹脂 〔B〕 を基準として 0. 0 5〜 1 0重量%及び一般式 ( I ) で示される重合体成分を 3 0重量%以上含有す ることを特徵としている。
樹脂 〔B〕 における極性基含有成分が 0. 0 5重量%より少ないと、 初期電位が 低くて充分な画像濃度を得ることができず、 他方極性基含有成分が 1 0重量%ょ りも多いと、 光導電体粒子の分散性が低下し、 膜平滑度及び電子写真特性が高温 高湿条件下で低下し、 更にオフセッ トマスターとして用いるときに地汚れが増大 するため好ましくない。
また、 樹脂 〔B〕 において、 共重合体中に含有される特定の極性基含有重合体 成分の総量が、 前記樹脂 〔A〕 中に含有される特定の極性基含有重合体成分の総 量に対し 1 0重量%〜5 0重量%であることが好ましい。
樹脂 〔B〕 における該総量が樹脂 〔A〕 のそれの 1 0重量%未満であると、 電 子写真特性 (特に暗電荷保持率、 光感度) 及び膜強度が低下する傾向がある。 ま た、 5 0重量%を越えると、 光導電体粒子の分散の均一化が不充分となり電子写 真特性が低下したり、 オフセッ ト原版としては保水性が低下したりすることがあ る。
樹脂 〔B〕 の重量平均分子量は 3 X 1 0 4 - 1 X 1 0 8 、 好ましく は 5 X 104 - 5 X 1 0 5 である。 樹脂 〔 B〕 の分子量が 3 X 1 0 より小さくなると、 皮膜 形成能が低下し充分な膜強度が保てず、 また分子量が 1 X 1 0 e より大きくなる と本発明の樹脂 〔B〕 の効果が少なくなり、 従来公知の樹脂と電子写真特性があ まり変らなくなる。
樹脂 〔B〕 のガラス転移点は、 ― 1 0 °C ~ 1 0 0 °Cの範囲のものが好ましいが 、 より好ましく は 0 °C〜 9 0 °Cである。
本発明の A Bプロック共重合体 (樹脂 〔B〕 ) の Aプロックを構成する特定の 極性基を含有する重合体成分の具体例としては、 前記した樹脂 〔A〕 の特定の極 性基を含有する重合体成分と同様のものを挙げることができる。
特定の極性基を含有する重合体成分は Aプロック中に 2種以上含有されていて もよく、 その場合 2種以上の極性基含有成分は Aプロック中においてランダム共 重合又はプロック共重合のいずれの態様で含有されていてもよい。
Aプロック中には上記極性基含有の重合体成分以外の重合体成分を含有してい てもよく、 かかる重合体成分としては好ましく は前記樹脂 〔A〕 のところで詳細 に記載した一般式 (H ) の繰り返し単位に相当する重合体成分が挙げられる。 更に、 一般式 (H ) に相当する重合体成分とともに Aブロック中に含有され得 る重合体成分として、 一般式 (H ) の重合体成分と共重合しうる他の繰り返し単 位に相当する単量体、 例えばァクリロニトリル、 メタク リロニト リル、 複素環ビ ニル類 (例えばビニルピリジン、 ビニルイミダゾ一ル、 ビニルピロリ ドン、 ビニ ルチオフヱン、 ビニルビラゾール、 ビニルジォキサン、 ビニルォキサジン等) 等 が挙げられる。 これら他の単量体は Aブロックの全重合体成分 1 0 0重量部中 2 0重量部を超えない範囲で用いられることが好ましい。
次に A Bブロック共重合体 (樹脂 〔B〕 ) において、 Bブロックを構成する重 合体成分について詳しく説明する。
Bプロックは、 少なく とも前記一般式 ( I ) で示される繰り返し単位で示され る重合体成分を含有する。 一般式 ( I ) で示される成分は Bブロック成分中好ま しく は 3 0重量%以上、 より好ましく は 5 0重量%以上含有される。
一般式 ( I ) で示される重合体成分の詳細については、 前記樹脂 〔A〕 で説明 したものと同様である。 他の含有され得る重合体成分としては、 前記 Aブロック に含有され得る一般式 (H ) で示される重合体成分及びそれと共重合しうる他の 成分として記載したものが挙げられる。 但し、 Bプロックにおいては、 Aブ口ッ クで含有される特定の極性基含有重合体成分を含有しないことを特徴とする。
Bプロック部の極性基含有成分以外の重合体成分として好ましい成分は、 前記 一般式 ( I ) において、 a 1 及び a 2 のいずれもが水素原子を表し、 且つ R 3 の 炭化水素基が炭素数 1〜 6の置換されていてもよいアルキル基 (例えばメチル基 、 ェチル基、 プロピル基、 プチル基、 ペンチル基、 へキシル基、 2—クロロェチ ル基、 2 —シァノエチル基、 2—メ トキシェチル基、 2 一チェニルェチル基、 2 , 3—ジクロ口プロピル基等) を表すものを挙げることができる。 また、 一般式 ( I ) において、 m 1 及び m 2 のいずれもが水素原子を表し、 且つ D 2 の炭化 水素基が、 上記 R 3 について述べたものと同じものを表わすものを挙げることが できる。
本発明に用いられる樹脂 〔B〕 の A Bブロック共重合体は、 従来公知の重合反 応法によって製造することができる。 具体的には、 該特定の極性基を含有する重 合体成分に相当する単量体において該極性基を予め保護した官能基としておき、 有機金属化合物 (例えばアルキルリチウム類、 リチウムジイソプロピルアミ ド、 アルキルマグネシゥムハライ ド類等) もしく はョゥ化水素/ョゥ素系等によるィ オン重合反応、 ポルフィ リ ン金属錯体を触媒とする光重合反応又はグループ移動 重合反応等の公知のいわゆるリ ビング重合反応で A Bプロック共重合体を合成し た後、 極性基を保護した官能基を加水分解反応、 加水素分解反応、 酸化分解反応 又は光分解反応等によって脱保護反応を行ない、 極性基を形成させる方法が挙げ られる。 その 1つの例を下記の反応スキーム (A ) に示した。
反応スキーム (A)
CH3
CH2 = C
I
COOCH3 重合反応
Figure imgf000042_0001
CH3 CH3
R— (CH2― g^b— (CH2― C^-H
COOCH3 COO -(Prep 脱保護反応
CH3 CH3
R— fCH2 - C^b— (CH2― C)^-H
COOCH3 COOH
R:アルキル基、 ポルフ ィ リ ン環残基等を示す
^rep):保護基 (例えば- C(C6H5)3、 —Si(C3H7)3等)を示す b:ブロック間の結合を示す
n,m:繰返し単位を示す 具体的には、 例えば、 P. L u t z、 P. Ma s s o n e t a P o l y m. B u l l . 1 2. , 7 9 ( 1 9 8 4 ) 、 B. C. An d e r s o n、 G. D . An d r e s e t a l、 Ma c r omo l e c u l e s、 1 4、 1 6 0 1 ( 1 9 8 1 ) 、 K. H a t a d a、 K. U t e . e t a P o 1 y m . J. 丄 丄、 9 7 7 ( 1 9 8 5 ) 、 1 8 1 0 3 7 ( 1 9 8 6 ) 、 右手浩ー、 畑田耕一、 高分子加工、 _L 、 3 6 6 ( 1 9 8 7 ) 、 東村敏延、 沢本光男、 高分子論文集、 4 6、 1 8 9 ( 1 9 8 9 ) 、 M. K u r o k i、 T. A i d a、 J. Am. C h e m. S o c . 1 0 9、 4 7 3 7 ( 1 9 8 7 ) 、 相田卓三、 井上祥平、 有機合成 化学、 4 3、 3 0 0 ( 1 9 8 5 ) 、 D. Y. S o g a h、 W. R. H e r t i e r e t a 1 , Ma c r o mo l e c u l e s、 2 0 , 1 4 7 3 ( 1 9 8 7 ) 等に 記載の合成方法に従って容易に合成することができる。
上記特定の極性基の保護基による保護及びその保護基の脱離 (脱保護反応) に ついては、 従来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。 例えば前記引 用文献にも種々記載されているが、 更には、 岩倉義男、 栗田恵輔、 「反応性高分 子」 (株) 講談社刊 ( 1 9 7 7年) 、 T. W. G r e e n e、 「 P r o t e c t i v e G r o u p s i n O r g a n i c S y n t h e s i s」 , J O II n W i l e y & S o n s ( 1 9 8 ^) 、 J. F. W. M c Om i e、 「 P r o t e c t i v e G r o u p s i n O r g a n i c C h e m i s t r y」 P l e n um P r e s s、 ( 1 9 7 3年) 等の総説に詳細に記載され ている方法を適宜選択して行なうことができる。
また、 A Bブロック共重合体は、 極性基を保護しないままの単量体を用い、 ジ チォカーバメイ ト基を含有する化合物及び/又はザンテ一 ト基を含有する化合物 を開始剤として、 光照射下に重合反応を行なって合成することもできる。 例えば 、 大津隆行、 高分子、 丄, 2 4 8 ( 1 9 8 8 ) 、 檜森後一、 大津隆一、 P o 1 y m. R e p. J a p. 3 7. 3 5 0 8 ( 1 9 8 8 ) 、 特開昭 6 4— 1 1 1号、 特開昭 6 4 - 2 6 6 1 9号、 東信行等、 P o l ym e r P r e p r i n t s、 J a p a n. 3 6、 ( 6 ) 、 1 5 1 1 ( 1 9 8 7 ) 、 M. N i w a、 N. H i g a s h i、 e t a l、 J . Ma c r o mo l . S c i . C h e m. A 2 4 ( 5 ) 、 5 6 7 ( 1 9 8 7 ) 等に記載の合成方法に従って合成することができる。 更には、 Aプロックまたは Bプロックのいずれかの部分を含有するァゾビス化 合物 (即ち、 高分子ァゾビス開始剤) を合成し、 これを開始剤として、 他の一方 のプロックを形成するための単量体類をラジカル重合反応で合成する方法を用い ることもできる。 具体的には、 上田明、 永井進、 高分子論文集、 _ 、 4 6 9 ( 1 9 8 7 ) 、 上田明、 大阪市立工業研究所報告、 ( 1 9 8 9 ) 等に記载 された方法で合成することができる。
この反応を利用して合成する場合には、 高分子ァゾビス開始剤の合成のし易さ 及びプロッ ク化の重合反応の規則性等から該高分子開始剤の重量平均分子量は、 2 X 1 0 4 以下が好ましい。 一方、 本発明の樹脂 〔B〕 においては、 Bプロック の方が Aプロックよりも高分子鎖が長い方が好ましい。 以上のことから、 この反 応で合成する場合、 Aブロック含有の高分子開始剤を用いる方法が好ましい。 例 えば下記に示す様な反応スキーム (B ) に従って合成することができる。
反応スキーム (B)
Figure imgf000045_0001
HO(CH2)2S- iCRz一 一 CH)
Figure imgf000045_0002
COOCH3
Figure imgf000045_0003
,m,n:繰返し単位を示す 樹脂 〔B〕 は、 上述の如く、 極性基を有する重合体成分を含有する Aブロック の重合体主鎖の片末端に直接あるいは連結基を介して極性基が結合していてもよ い。 この場合、 末端に結合する極性基は Aブロックを構成する重合体成分に含ま れる極性基と同じでも異つてもよい。 連結基としては、 例えば前記樹脂 〔A〕 に おいて極性基が重合体鎖中に存在する場合に関して記載したものが挙げられる。 末端に極性基を有する A Bプロック共重合体は、 従来公知の重合反応法によつ て製造することができる。 具体的には、 該特定の極性基を含有する重合体成分に 相当する単量体において該極性基を予め保護した官能基としておき、 有機金属化 合物 (例えばアルキルリチゥム類、 リチウムジイソプロピルアミ ド、 アルキルマ グネシゥムハライ ド類等) もしく はョゥ化水素 zヨウ素系等によるィォン重合反 応、 ポルフィ リ ン金属錯体を触媒とする光重合反応又はグループ移動重合反応等 の公知のいわゆるリ ビング重合反応で A Bプロック共重合体を重合反応した後、 停止反応時に特定の極性基を直接導入するか、 あるいは該極性基を結合できる官 能基を導入した後極性基を化学結合させ、 その後、 重合体成分中の極性基を保護 した官能基を加水分解反応、 加水素分解反応、 酸化分解反応又は光分解反応等に よって脱保護反応を行ない、 極性基を形成させる方法が挙げられる。 その 1つの 例を下記の反応スキーム (C ) に示した。
反応スキーム(C)
CH3
CH2 = C
I
COOCH3 重合反応
Figure imgf000047_0001
極性基又は極性基に
Figure imgf000047_0002
CH3 CH3
R ~ (CH2 - C I)—— b ~~ (CH2 - C) ~ COOH
n c- J m
COOCH3 COOH
R :アルキル基、 ポルフ ィ リ ン環残基等を示す
^Prep ):保護基(例えば- C(C6H5)3 - Si(C3H7)3等)を示す b:ブロック間の結合を示す
m n :繰返し単位を示す これらは、 例えば、 前記樹脂 〔B〕 の合成法ところで、 これに関して記載した 文献等に記載の合成方法に従って容易に合成することができる。
また、 A Bブロック共重合体は、 極性基を保護しないままの単量体を用い、 且 つ特定の極性基を置換基として含むジチォカーバメィ ト基を含有する化合物及び /又はザンテ一 ト基を含有する化合物を開始剤として、 光照射下に重合反応を行 なって合成することもできる。 例えば、 前記樹脂 〔B〕 の合成法のところで、 こ れに関して記載した文献等に記載の合成方法に従って合成することができる。 上記特定の極性基の保護基による保護及びその保護基の脱離 (脱保護反応) に ついては、 従来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。 例えば前記引 用文献にも種々記載されているが、 更には、 前記樹脂 〔B〕 の合成法のところで 、 これに関して記載した文献等の総説に詳細に記載されている方法を適宜選択し て行なうことができる。
樹脂 〔 B〕 のうち、 Aブロックの両端に Bブロックが結合したブロック共重合 体 (以下 B A Bプロック共重合体と称することもある) について述べる。
両端にある Bブロック部は構造的に同じであっても異なっていてもよく、 それ ぞれ少なく とも Aブロック部中の極性基成分を含まず且つ一般式 ( I ) で示され る重合体成分を含んでいればよい。 またそれぞれの重合体鎖の長さも同じであつ ても異なつていてもよい。
本発明に用いられる B A Bブロック共重合体は、 従来公知の重合反応法によつ て製造することができる。 具体的には、 該特定の極性基を含有する重合体成分に 相当する単量体において該極性基を予め保護した官能基としておき、 有機金属化 合物 (例えばアルキルリチウム類、 リチウムジイソプロピルアミ ド、 アルキルマ グネシゥムハライ ド類等) もしく はヨウ化水素ノヨウ素系等によるイオン重合反 応、 ポルフィ リ ン金属錯体を触媒とする光重合反応又はグループ移動重合反応等 の公知のいわゆるリ ビング重合反応で A Bプロック共重合体を合成した後、 極性 基を保護した官能基を加水分解反応、 加水素分解反応、 酸化分解反応又は光分解 反応等によって脱保護反応を行ない、 極性基を形成させる方法が挙げられる。 そ の 1つの例を下記の反応スキーム (D ) に示した。 反応スキーム (D)
Figure imgf000049_0001
CH3
I
(i)CH2 = C
COO -(Prep
Figure imgf000049_0002
重合反応
(iii)停止反応.
脱保護反応
Figure imgf000049_0003
H3
R:アルキル基、 ポルフィ リ ン環残基等を示す
^rep):保護基(例えば一 C(C6H5)3、 — Si(C3H7)3等)を示す
b:ブロック間の結合を示す
n,m,n: 呆返し単 を示す 具体的には、 例えば、 P. L u t z、 P. Ma s s o n e t a l、 P o l y m. B u l l . 1 2. , 7 9 ( 1 9 8 4) 、 B . C. An d e r s o n、 G. D • An d r e s e t a l、 Ma c r omo l e c u l e sヽ 1 4、 1 6 0 1 ( 1 9 8 1 ) 、 K. H a t a d as K. U t e. e t a l、 P o l ym. J. 1 丄、 9 7 7 ( 1 9 8 5) 、 1 8 ^ 1 0 3 7 ( 1 9 8 6 ) 、 右手浩一、 畑田耕一、 高分子加工、 J__、 3 6 6 ( 1 9 8 7 ) 、 東村敏延、 沢本光男、 高分子論文集、 4 8ヽ 1 8 9 ( 1 9 8 9) 、 M. Ku r o k i、 T. A i d a、 J . Am. C h e m. S o c . 1 0 9、 4 7 3 7 ( 1 9 8 7 ) 、 相田卓三、 井上祥平、 有機合成 化学、 J_、 3 0 0 ( 1 9 8 5) 、 D. Y. S o g a h、 W. R. H e r t i e r e t a 1 , Ma c r omo l e c u l e s ^ 2 0、 1 4 7 3 ( 1 9 8 7 ) 、 M . Mo r t o n、 T. E . H e 1 m i n i a k e t a l、 J . P o l ym. S c i . 、 5 7 4 7 1 ( 1 9 6 2 ) 、 B. G o r d o n I I I、 M. B l um e n t h a J . E. L o f t u s 、 P o l ym. B u l l . 、 1 1 ^ 3 4 9 ( 1 9 8 4 ) 、 R. B . B a t e s、 W. A. B e a v e r s e t a l、 J . O r . C h e m. , 丄丄、 3 8 0 0 ( 1 9 7 9 ) 等に記載の合成方法に従つ て容易に合成することができる。
上記特定の極性基の保護基による保護及びその保護基の脱離 (脱保護反応) に ついては、 従来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。 例えば前記引 用文献にも種々記載されているが、 更には、 前記樹脂 〔B〕 の合成法のところで 、 これに関して記載した文献等の総説に詳細に記載されている方法を適宜選択し て行なうことができる。
また、 BABブロック共重合体は、 極性基を保護しないままの単量体を用い、 ジチォカーバメイ ト基を含有する化合物及び/又はザンテー ト基を含有する化合 物を開始剤として、 光照射下に重合反応を行なって合成することもできる。 例え ば、 前記樹脂 〔B〕 の合成法のところで、 これに関して記載した文献等に記載の 合成方法に従って合成することができる。
本発明の樹脂 〔A〕 と樹脂 〔B〕 の使用割合は、 樹脂 〔A〕 Z樹脂 〔B〕 の重 量比で 0.0 5〜 0.6 0 0.9 5〜 0.4 0であることが好ましく、 より好ましく は 0. 1 0 ~ 0.4 0 / 0.9 0 - 0.6 0である。 樹脂 〔A〕 と樹脂 〔B〕 の使用割合において樹脂 〔A〕 の重量比が 0. 0 5未満 になると、 静電特性向上の効果が薄れてしまう。 一方 0. 6 0を超えると光導電層 の膜強度が充分維持できなくなる場合 (特に電子写真式平版印刷用原版として) が生じる。
光導電層に供される樹脂 〔A〕 及び樹脂 〔B〕 は各々 2種以上使用してもよく
、 重要なことは上記の様な樹脂 〔A〕 と樹脂 〔B〕 の使用割合で使用されること である。
本発明の光導電層に供される結着樹脂として、 本発明の樹脂 〔A〕 及び樹脂 〔B〕 以外に無機光導電体用として公知の樹脂を併用することもできる。 但し、 これらの他の樹脂の使用割合は、 全結着樹脂 1 0 0重量部中 3 0重量部を越えな い範囲が好ましい。 この割合を越えると、 本発明の効果は著しく低下してしまう 。 併用可能な他の樹脂としては例えば、 代表的なものは塩化ビニルー酢酸ビニ ル共重合体、 スチレンーブタジェン共重合体、 スチレンーメタクリ レー 卜共重合 体、 メタクリ レート共重合体、 ァク リ レー ト共重合体、 酢酸ビュル共重合体、 ポ リ ビュルプチラール、 アルキ ド樹脂、 シリ コーン樹脂、 エポキシ樹脂、 エポキシ エステル樹脂、 ポリエステル樹脂等がある。
具体的には、 柴田隆治 ·石綿次郎 「高分子」 第 1 7卷、 第 2 7 8頁 ( 1 9 6 8 年) 、 宮本晴視 ·武井英彦 「ィメ一ジング」 1 9 7 3 (N o . 8 ) 第 9頁、 中村 孝一編 「絶縁材料用バインダーの実際技術」 第 1 0章、 C. H. C. 出版 ( 1 9 8 5年刊) 、 D. D. T a t t、 S . C. H e i d e c k e r、 T a p p i、 丄 _9_ (N o . 1 0 ) 、 4 3 9 ( 1 9 6 6 ) 、 E. S . B a l t a z z i、 R. G. B l a n c l o t t e e t a P h o t o . S c i . E n g. 1 6 (N o . 5 ) 、 3 5 4 ( 1 9 7 2 ) 、 グェン · チャ ン ·ケ一、 清水 勇、 井上英ー、 電子 写真学会誌 1 8 (N o . 2 ) 、 2 8 ( 1 9 8 0 ) 、 特公昭 5 0 - 3 1 0 1 1号、 特開昭 5 3 — 5 4 0 2 7号、 同 5 4 — 2 0 7 3 5号、 同 5 7 — 2 0 2 5 4 4号、 同 5 8 — 6 8 0 4 6号等に記載の樹脂が挙げられる。
本発明の光導電層において用いられる結着樹脂の総量は、 無機光導電体 1 0 0 重量部に対して、 1 0重量部〜 1 0 0重量部であることが好ましく、 より好まし くは 1 5重量部〜 5 0重量部である。 結着樹脂の総量比が 1 0重量部未満になると、 光導電層の膜強度が維持できな くなる。 又 1 0 0重量部を超えると、 静電特性が低下し、 実際の撮像性において 複写画像の悪化を生じてしまう。
本発明に使用する無機光導電体としては、 酸化亜鉛、 酸化チタン、 硫化亜鉛、 硫化カ ドミ ウム、 炭酸力 ドミ ゥム、 セレン化亜鉛、 セレン化カ ドミ ウム、 セレン 化テルル、 硫化鉛等が挙げられる。
本発明に使用する分光増感色素としては、 必要に応じて各種の色素を単独又は 併用して用いることができる。 例えば、 宫本晴視、 武井英彦、 イメージング 1 9 7 3 (N o. 8 ) 第 1 2頁、 C. J. Y o u n g等、 RCA R e v i e 1 5、 4 6 9頁 ( 1 9 5 4 ) 、 清田航平等、 電気通信学会論文誌 J 6 3 C
( o. 2 ) 、 9 7頁 ( 1 9 8 0 ) 、 原崎勇次等、 工業科学雑誌 7 8及 び 1 8 8頁 ( 1 9 6 3 ) 、 谷忠昭、 日本写真学会誌 _^_、 2 0 8頁 ( 1 9 7 2 ) 等の総説引例のカーボ二ゥム系色素、 ジフヱニルメタン色素、 ト リフヱニルメ タ ン色素、 キサンテン系色素、 フタ レイ ン系色素、 ポリ メチン色素 (例えば、 ォ キソノール色素、 メ ロシアニン色素、 シァニン色素、 口ダシァニン色素、 スチリ ル色素等) 、 フタロシアニン色素 (金属を含有してもよい) 等が挙げられる。 更に具体的には、 カーボ二ゥム系色素、 ト リフヱニルメタン色素、 キサンテン 系色素、 フタレイン系色素としては、 特公昭 5 1— 4 5 2号、 特開昭 5 0— 9 0 3 3 4号、 同 5 0— 1 1 4 2 2 7号、 同 5 3— 3 9 1 3 0号、 同 5 3— 8 2 3 5 3号、 米国特許第 3, 0 5 2 , 5 4 0号、 同 4, 0 5 4, 4 5 0号、 特開昭 5 7 - 1 6 4 5 6号等に記載のものが挙げられる。
ォキソノール色素、 メ ロシアニン色素、 シァニン色素、 口ダシァニン色素等の ポリメチン色素としては、 F. M. H am e r 「T h e C y a n i n e D y e s a n d R e l a t e d C omp o u n d s」 等に記載の色素類が使 用可能であり、 更に具体的には、 米国特許第 3, 0 4 7, 3 8 4号、 同 3, 1 1 0 , 5 9 1号、 同 3, 1 2 1 , 0 0 8号、 同 3, 1 2 5 , 4 4 7号、 同 3, 1 2 8, 1 7 9号、 同 3 , 1 3 2, 9 4 2号、 同 3, 6 2 2 , 3 1 7号、 英国特許第
1, 2 2 6 , 8 9 2号、 同 1 , 3 0 9 , 2 7 4号、 同 1, 4 0 5 , 8 9 8号、 特 公昭 4 8— 7 8 1 4号、 同 5 5— 1 8 8 9 2号等に記載の色素が挙げられる。 更に 7 0 0 nm以上の近赤外〜赤外光域を分光增感するポリメチン色素として 、 特開昭 4 7 — 8 4 0号、 同 4 7 — 4 4 1 8 0号、 特公昭 5 1 — 4 1 0 6 1号、 特開昭 4 9一 5 0 3 4号、 同 4 9 — 4 5 1 2 2号、 同 5 7 — 4 6 2 4 5号、 同 5
6 — 3 5 1 4 1号、 同 5 7 — 1 5 7 2 5 4号、 同 6 1— 2 6 0 4 4号、 同 6 1 — 2 7 5 5 1号、 米国特許第 3, 6 1 9 , 1 5 4号、 同 4, 1 7 5 , 9 5 6号、 「 R e s e a r c h D i s c l o s u r e」 1 9 8 2年、 2 1 6、 第 1 1 7〜 1 1 8頁等に記載のものが挙げられる。 本発明の電子写真感光体は種々の増感色素 を併用させても、 その性能が増感色素により変動しにくい点において優れている 。 更には、 必要に応じて、 化学増感剤等の従来知られている電子写真感光層用 各種添加剤を併用することもできる。 例えば、 前記した総説: イメージング 1 9
7 3 ( o . 8 ) 第 1 2頁等の総説引例の電子受容性化合物 (例えば、 ハロゲン
、 ベンゾキノ ン、 クロラニル、 酸無水物有機カルボン酸等) 、 小門宏等、 「最近 の光導電材料と感光体の開発 ·実用化」 第 4章〜第 6章 · 日本科学情報 (株) 出 版部 ( 1 9 8 6年) の総説引例のポリァリ一ルアルカン化合物、 ヒンダ一 トフ二 ノール化合物、 p—フエ二レンジアミ ン化合物等が挙げられる。
これら各種添加剤の添加量は、 特に限定的ではないが、 通常光導電体 1 0 0重 量部に対して 0. 0 0 0 1〜 2. 0重量部である。
光導電層の厚さは 1〜 1 0 0 m、 特に 1 0〜 5 0 mが好適である。
また、 電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発生層として光導電層を 使用する場合は電荷発生層の厚さは 0. 0 1〜 1 ^ 111、 特に 0. 0 5〜 0. 5 〃 mが好適である。
感光体の保護および耐久性、 暗電荷特性の改善等を主目的として絶縁層を付設 させる場合もある。 この時は絶縁層は比較的薄く設定され、 感光体を特定の電子 写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比較的厚く設定される。
後者の場合、 絶縁層の厚さは、 5〜7 0 111、 特には、 1 0〜 5 0 // mに設定 される。
積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリ ビニルカルバゾール、 ォキサゾール 系色素、 ピラゾリ ン系色素、 トリフエニルメタン系色素などがある。 電荷輸送層 の厚さとしては 5〜4 0 m、 特には 1 0〜 3 0 β mが好適である。 絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては、 代表的なものは、 ポ リスチレン樹脂、 ポリエステル樹脂、 セルロース樹脂、 ポリエーテル樹脂、 塩化 ビニル樹脂、 酢酸ビニル樹脂、 塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体樹脂、 ポリアク リル樹脂、 ポリオレフィ ン樹脂、 ウレタ ン樹脂、 ポリエステル澍脂、 エポキシ樹 脂、 メラミ ン樹脂、 シリ コン樹脂の熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜用いられ る
本発明による光導電層は、 従来公知の支持体上に設けることができる。 一般に 云って電子写真感光層の支持体は、 導電性であることが好ましく、 導電性支持体 としては、 従来と全く同様、 例えば、 金属、 紙、 プラスチツクシ一 ト等の基本に 低抵抗性物質を含浸させるなどして導電処理したもの、 基本の裏面 (感光層を設 ける面と反対面) に導電性を付与し、 更にはカール防止を図る等の目的で少なく とも 1層以上をコ一 卜したもの、 前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの
、 前記支持体の表面層に必要に応じて少なく とも 1層以上のプレコ一ト層が設け られたもの、 アルミ二ゥム等を蒸着した基体導電化プラスチックを紙にラ ミネー トしたもの等が使用できる。
具体的に、 導電性基体あるいは導電化材料の例としては、 坂本幸男、 電子写真 s 1 4 ( o. 1 ) 、 P 2〜 1 1 ( 1 9 7 5 ) 、 森賀弘之、 「入門特殊紙の化学 」 高分子刊行会 ( 1 9 7 5 ) 、 M. F. H o o v e r, J. Ma c r omo l . S c i . C h e m. A— 4 ( 6 ) 、 第 1 3 2 7〜第 1 4 1 7頁 ( 1 9 7 0 ) 等に 記載されているもの等を用いる。
本発明の電子写真感光体は、 従来公知のあらゆる電子写真プロセスを利用した 用途において使用することができる。
即ち、 本発明の感光体は P P C方式および C P C方式のいずれの記録方式にも 利用でき、 又、 現像剤として乾式現像剤あるいは液体現像剤のいずれも用いるこ とができる。
特に、 高精細なオリ ジナルの忠実な複写画像形成が可能なことから、 液体現像 剤との組合せで利用すると、 本発明の効果がより発揮される。
又カラー現像剤との組合せとすることで、 黒白複写画像のみならず、 カラ一複 写画像にも応用することができる。 例えば、 滝沢九郎、 「写真工業」 U_、 3 4 ( 1 9 7 5年) 、 安西正保、 「電子通信学会技術研究報告」 丄丄、 1 7 ( 1 9 7 7年) 等に記載の方法が用いられる。
更に近年の電子写真プ口セスを利用した他のシステムにおいても有効に用いら れる。
例えば光導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の感光体は、 オフセッ ト印刷用原版として、 又無公害で白色度の良好な光導電性酸化亜鉛あるいは光導 電性酸化チタンを用いた感光体は、 オフセッ ト印刷プロセスで用いられる版下用 記録材料あるいはカラ一プループ等に用いることができる。 発明を実施するための最良の形態
以下に実施例により本発明を更に詳細に説明するが、 本発明の内容がこれらに 限定されるものではない。
以下に樹脂 〔A〕 の合成例を具体的に例示する。
樹脂 〔A〕 の合成例 1 : 〔A - 1〕
メチルメタク リ レー ト 6 6 g、 メチルァク リ レー ト 3 0 g、 アク リル酸 4 g及 び下記構造の開始剤 〔 I 一 1〕 2 8 g及ぴテトラヒ ドロフラン 1 5 0 gの混合溶 液を窒素気流下に温度 5 0°Cに加温した。
開始剤 〔 I 一 1〕
R— CH2— CH— CH2— R R:
Figure imgf000055_0001
この溶液に 4 0 0 Wの高圧水銀灯で 1 0 cmの距離からガラスフィルターを通 して 1 0時間光照射し光重合した。 得られた反応物をメタノール 1 リ ツ トル中に 再沈し、 沈殿物を捕集し、 乾燥した。 得られた重合体の収量は 7 2 gで、 重 fi平 均分子量 (Mw) 8 X 1 03 であった。 重量平均分子量 (Mw) はポリスチレン 換算による G P C法の値を示す (以下同様) o 樹脂 〔A— 1〕
〔P〕
〔Pト CHg ~ CH ~ CH2 P〕
P〕
Figure imgf000056_0001
樹脂 〔A〕 の合成例 2 : 〔A - 2〕
樹脂 〔A〕 の合成例 1において、 開始剤 〔 1 — 1〕 2 8 gの代わりに、 下記構 造の開始剤 〔 1 — 2〕 3 6. 3 gを用いた他は、 樹脂 〔A〕 の合成例 1 と同様の 条件で操作して重合体を得た。 得られた重合体の収量は 7 5 gで Mw 7. 5 X 1 03 であつた。
開始剤 〔 I 一 2〕
Figure imgf000056_0002
樹脂 〔A— 2〕
P〕 :
Figure imgf000056_0003
樹脂 〔A〕 の合成例 3 ~ 9 : 〔A— 3〕 〜 〔A— 9〕
2—クロロフヱニルメタクリ レート 9 5 g、 メタク リル酸 5 g、 下記表一 1 の 開始剤 0. 1 0モル及びテトラヒ ドロフラン 1 0 0 gの混合溶液とした他は、 樹 脂 〔A〕 の合成例 1 と同様の条件で操作し、 各重合体を得た。 得られた各重合体 の M は 6 X 1 0 3 〜 8 X 1 03 の範囲であつた。
表一 1
C R
Figure imgf000058_0001
Figure imgf000058_0002
表一 1 (つづき 1)
Figure imgf000059_0001
表一 1 (つづき 2)
Figure imgf000060_0001
樹脂 〔A〕 の合成例 1 0〜 2 5 : 〔A— : L 0〕 〜 〔A— 2 5〕
樹脂 〔A〕 の合成例 1 において、 メチルメタク リ レー ト、 メチルァク リ レー ト 及びァク リル酸の代わりに、 下記表一 2に記載の重合体成分に相当する各単量体 を用いた他は、 樹脂 〔A〕 の合成例 1 と同様の条件で操作して各重合体を得た。
5 得られた各重合体の M wは 6 X 1 0 3 〜 9 X 1 0 3 の範囲であつた。
10
15
20
HOOO
9/96 Zl-Y SI
-H0-¾0-
H0O0
<Q)-HNOOO
9/^6 9H90¾0- χτ-ν IT
-o-¾o-
HOOO
3/ 36 1 7 3H90¾0- . οτ-ν οτ
一入一 H-
Figure imgf000062_0001
s—
ϋί m ()§12^3—..
Figure imgf000063_0001
I76ll00/Z66ldf/X3d ■99Ϊ80請 OAV 2(つづき 2)
Figure imgf000064_0001
Figure imgf000065_0001
樹脂 〔A〕 の合成例 2 6 ~ 3 0 : 〔A— 2 6〕 〜 〔A— 3 0〕
前記開始剤 〔 I一 2〕 3 3. 9 g、 及び下記表一 3で示される各重合体成分に 相当する単量体の混合物を、 窒素気流下、 温度 4 0 °Cに加温した。 以下の操作を 合成例 1 と同様にして、 光照射し、 重合させた後、 固形分を取り出し、 テトラヒ ドロフラ ン 2 5 0 m l に溶解した後、 メタノール 1. 5 リ ッ トル中に再沈し、 沈 殿物を濾集 ·乾燥した。 各重合体の収量は 6 0 ~ 7 5 gで Mw 6 X 1 03 ~ 8 X
1 03 であった。
Figure imgf000067_0001
表— 3 (つづき 1)
Figure imgf000068_0001
樹脂 〔A〕 の合成例 1 0 1 : 〔A— 1 0 1〕
ベンジルメタクリ レー ト 4 7. 5 g、 下記開始剤 〔 1 — 1 0 1〕 2 4. 8 g及 びテトラヒ ドロフラン 7 0 gの混合物を、 窒素気流下に温度 4 0 °Cとした。 この 溶液に 4 0 0 Wの高圧水銀灯で 1 0 c mの距離からガラスフィ ルタ一を通して 1 0時間光照射して光重合した。
開始剤 〔 1 — 1 0 1〕
Figure imgf000069_0001
δ 次に、 この重合物に、 メタクリル酸 2. 5 g及びテトラヒ ドロフラン 5 gの混合 溶液を加え、 窒素気流下、 温度 4 0 °Cで更に上記と同様にして光照射を 1 0時間行 なった。
水ノメタノール ( 2 / 1 ) の混合溶液 8 0 0 m l中に再沈し、 沈殿物を捕集し 、 乾燥した。 得られた重合体の収量は 3 8 gで Mw 8. 5 X 1 03 であった。 樹 脂 〔A— 1 0 1〕
Figure imgf000069_0002
P〕 : -CH2
Figure imgf000069_0003
樹脂 〔A〕 の合成例 1 0 2 ~ 1 1 0 : 〔A— 1 0 2〕 〜 〔A— 1 1 0〕
樹脂 〔 A〕 の合成例 1 0 1 において、 ベンジルメ タク リ レー ト 4 7. 5 g及び メ タク リル酸 2. 5 gの代わりに、 下記表一 4に示した重合体成分に相当する各 単量体に各々代えた他は、 樹脂 〔A〕 の合成例 1 0 1 と同様に操作して各重合体 を合成した。 得られた各重合体の Mwは 7 X 1 03 〜 1 X 1 04 の範囲であつた ( 表 - 4
P〕
Figure imgf000070_0001
樹脂〔A〕 c
〔A〕 一 R 一 Y - 一 Ζ - x/ y / z の合成例
CI 一し Ηク― C3一
102 A - 102 95/0/5
COOH
CH3
103 A - 103 - C -† - 94/0/6
COOH
Figure imgf000071_0001
表 - 4 (つづき 2)
Figure imgf000072_0001
樹脂 〔A〕 の合成例 1 1 1〜 1 1 6 : 〔 A— 1 1 1〕 〜 [: A— 1 1 6〕
2—クロロフヱニルメタク リ レー ト 4 0 g、 下記表一 5の開始剤 0. 0 2モル 及びテトラヒ ドロフラン 5 0 gの混合溶液を樹脂 〔A〕 の合成例 1 0 1 と同様に して光照射を 8時間行なつた。
次に、 この反応物に、 ベンジルメ夕ク リ レー 卜 7. 5 g、 メタク リル酸 2. 5 g及びテトラヒ ドロフラン 1 0 gの混合溶液を加えた後、 上記合成例 1 0 1 と同 様にして反応を行なつた。
得られた重合体の は 5 X 1 03 〜 9 X 1 03 の範囲であつた。
Z 丄
Figure imgf000074_0001
I76ll00/Z66ldf/X3d ■99Ϊ80請 OAV 表ー5 (つづき 1)
Figure imgf000075_0001
樹脂 〔A〕 の合成例 1 1 7〜 1 2 5 : 〔A— 1 1 7〕 ~ 〔A— 1 2 5〕 メチルメタクリ レート 5 2. 5 g、 メチルァクリ レー ト 1 7. 5 g、 下記開始 剤 〔 I — 1 0 8〕 4 4 g及びテトラヒ ドロフラン 7 5 gの混合溶液を、 温度 5 0
°Cで窒素気流下に、 樹脂 〔A〕 の合成例 1 0 1 と同様の条件下で光照射を 1 5時 間行なつた。 開始剤 〔 1 — 1 0 8〕
Figure imgf000076_0001
この重合物に、 下記表一 6の重合体成分に相当する各単量体及びテトラヒ ドロ フラン 2 5 gを加え、 再び上記と同様にして光照射を 1 5時間行なった。 得られ た重合体の Mwは 5 X 1 03 ~ 8 X 1 03 の範囲であつた。
表- 6
Figure imgf000077_0001
表一 6 (つづき 1)
Figure imgf000078_0001
表 - 6 (つづき 2)
Figure imgf000079_0001
樹脂 〔A〕 の合成例 1 2 6〜 1 3 1 : 〔A— 1 2 6〕 〜 〔A— 1 3 1〕 下記表一 7に記載の重合体成分に相当する各単量体、 及び下記開始剤 〔 I - 1 0 9〕 0. 0 3モルを用いた他は、 樹脂 〔A〕 の合成例 1 0 1 と同様に操作して 、 各重合体を得た。 得られた重合体の Mwは 4 X 1 03 〜 9 X 1 03 の範囲であ つた。 開始剤 〔 I 0 9〕
Figure imgf000080_0001
Figure imgf000081_0001
0 8 ()露 ¾7 §11
Figure imgf000082_0001
t76ll00/Z66Tdf/X3d .99180/1-OOi OAV 以下に樹脂 〔B〕 の合成例を具体的に例示する。
樹脂 〔B〕 の合成例 1 :樹脂 〔B - 1〕
メチルメ タク リ レー ト 1 0 0 g及びテ トラヒ ドロフラン 2 0 0 gの混合溶液を 窒素気流下に充分に脱気し、 一 2 0。Cに冷却した。 1 , 1 ージフエニルブチルリ チウム 0. 8 gを加え 1 2時間反応した。 更に、 この混合溶液に、 メチルァク リ レ — 卜 6 0 g、 ト リ フヱニルメチルメ夕ク リ レー ト 6 g及ぴテ トラ ヒ ドロフラ ン 5 gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気した後添加し、 更に 8時間反応した。 こ の混合物を 0 °Cにした後、 メ タノール 1 0 m lを加え 3 0分間反応し、 重合を停 止させた。 得られた重合体溶液を攪拌下にて温度 3 0 °Cとし、 これに 3 0 %塩化 水素エタノール溶液 3 m 1 を加え 1時間攪拌した。 次に、 減圧下に反応混合物を 全体量が半分になるまで溶媒を留去した後、 石油エーテル 1 リ ッ トル中に再沈し た。 沈殿物を捕集し、 減圧乾燥して得られた重合体の M wは 7. 3 X 1 0 4 で、 収 量は 7 2 gであった。
樹脂 〔B - 1〕
Figure imgf000083_0001
(重量比)
b : プロック間の結合を示す (以下同様) 樹脂 〔B〕 の合成例 2 :樹脂 〔B - 2〕
メチルメタク リ レー ト 7 0 g、 メチルァク リ レー ト 3 0 g、 (テ トラフヱニル ボルフイ ナー ト) アルミニウムメチル 0. 5 g及び塩化メチレン 6 0 gの混合溶液 を窒素気流下にて温度 3 0 °Cとした。 これに 3 0 0 W—キセノ ンランプ光をガラ スフィ ルタ一を通して 2 5 c mの距離から光照射し、 1 2時間反応した。 この混 合物に更に、 メチルァク リ レー ト 6 0 g、 ベンジルメ夕ク リ レー ト 3. 2 gを加え 、 同様に 8時間光照射した後、 この反応混合物にメ タノール 3 gを加えて 3 0分 間攪拌し反応を停止させた。 次にこの反応混合物に P d — Cを加え、 温度 2 5 °C で 1時間接触還元反応を行なった。 不溶物を濾別した後石油エーテル 5 0 0 m l 中に再沈し、 沈殿物を捕集し乾燥した。 得られた重合体は収量 1 1 8 3で¾4 は 8 X 1 04 であった。 樹脂 〔B - 2〕
CH.< CH3
I
-(CH2-C)- 43. 4 -(CH2-CH)- -b CH2-CH -(CH2-C)mr
COOCH3 COOCH3 COOCH3 COOH 樹脂 〔B〕 の合成例 3 :樹脂 〔B 3〕
ェチルメタク リ レー ト 1 0 0 g及びトルエン 2 0 0 gの混合溶液を窒素気流下 に充分に脱気し 0 °Cに冷却した。 次いで 1 , 1 —ジフヱ二ルー 3—メチルペンチ ルリチウム 2.5 gを加え、 6時間攪拌した。 更にこの混合物にメチルメタク リ レ — ト 6 0 g、 4 -ビニルベンゼンカルボン酸トリイソプロビルシリルエステル 1 1. 7 gを加え 6時間攪拌した後、 メタノール 3 gを加えて 3 0分間攪拌した。 次にこの反応混合物に 3 0 %塩化水素エタノール溶液 1 0 gを加え 2 5でで 1時 間攪拌した後、 メタノール 1 リ ッ トル中に再沈し捕集した沈殿物をメタノール 3 0 0 m 1で 2回洗浄し乾燥した。 得られた重合体は、 収量は 1 2 1 gで Mwは 6. 5 X 1 04 であった。 樹脂 〔B - 3〕
-(CH2-
Figure imgf000084_0001
樹脂 〔B〕 の合成例 4 :樹脂 〔B - 4〕
メチルメタク リ レー ト 6 7 g、, ベンジル N , N—ジェチルジチォカーバメ一 ト
4. 8 gの混合物を、 窒素気流下に容器に密閉し、 温度 5 0 gに加温した。 これに
4 0 0 Wの高圧水銀灯で 1 0 c mの距離からガラスフィルターを通して、 6時間 光照射し光重合した。 これにメチルァクリ レー ト 3 2 g、 アクリル酸 1 g及びメ チルェチルケトン 1 8 0 gを加えた後窒素置換し、 再び 1 0時間光照射した。 得られた反応物をメタノ一ル 1 リ ツ トルに再沈、 捕集し乾燥した。 得られた重 合体は、 収量は 7 3 gで Mwは 4.8 X 1 04 であった。
樹脂 〔B— 4〕
CH3
-(CH2 ~Cnrr b -(CH -CHH-, ~ (CHa-CH -
I I
COOCH COOCH3 C00H 樹脂 〔B〕 の合成例 5 :樹脂 〔B - 5〕
メチルメ タク リ レー ト 5 0 g、 ェチルメタク リ レー ト 2 5 g、 ベンジルイソプ ルザンテー ト 1. 0 gの混合物を、 窒素気流下に容器に密閉し、 温度 5 0 °Cに加温 した。 これに 4 0 0 Wの高圧水銀灯で 1 0 c mの距離からガラスフィルターを通 して 6時間光照射し光重合した。 この重合物をテトラヒ ドロフランで濃度 4 0 % の溶液にしこれにメチルァクリ レー ト 2 2 gを加えて窒素置換し再び 1 0時間光 照射した。 次にこの混合物に 2— ( 2 ' 一カルボキシェチル) カルボニルォキシ ェチルメタク リ レー ト 3 gを加えて再び窒素置換し再び 8時間光照射した。 得ら れた反応物を、 メ タノール 2 リ ッ トル中に再沈し、 捕集した粉末を乾燥した。 得 られた重合体は収量は 6 3 gで Mwは 6 X 1 04 であった。
樹脂 〔B - 5〕
Figure imgf000085_0001
CH3
* b -{CH2-CH)- ~ (CH2-C -
I I
COOCHs C00(CH2)20C0(CH2)2C00H 樹脂 〔B〕 の合成例 6 :樹脂 〔B— 6〕 ェチルァク リ レー ト 9 7 g、 メタク リル酸 3 g、 2 —メルカプトエタノール 2 g及びテ トラヒ ドロフラン 2 0 0 gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温度 6 0 °Cに加温した。 これに、 2 , 2 ' ーァゾビスイソバレロ二 ト リル ( A . I . V . . ) 1. 0 gを加え 4時間反応し、 更に A . I . V . N . 0. 5 gを加え 4時 間反応した。 この反応混合物を温度 2 0 °Cにした後、 4, 4 1 ーァゾビス (シァノ 吉草酸) 8. 6 g、 ジシクロへキシルジカルポジイ ミ ド 1 2 g、 4 - ( N, -ジ メチル) ピリジル 0. 2 g及びテトラヒ ドロフラ ン 3 0 gの混合溶液を 1時間で滴 下した。 そのまま更に 2時間攪拌した後、 8 5 %ギ酸水溶液を 5 g加えて更に 3 0分間攪拌した。 次に析出した結晶を濾別後、 濾液を温度 2 5 °Cで溶媒を減圧下 に留去した。 得られた下記構造の重合体 (高分子開始剤) の M wは 6. 3 X 1 0 3 であった。
〔高分子開始剤〕
Figure imgf000086_0001
メチルメタク リ レート 7 0 g及びトルエン 1 7 0 gの混合溶液を窒素気流下攪 拌しながら温度 7 0 °Cに加温した。 これに、 上記重合体 3 0 gをトルエン 3 0 g に溶解した溶液を予かじめ窒素置換した後、 加えて、 8時間反応した。 得られた 重合体をメタノール 2 リ ツ トル中に再沈し、 補集した粉末を-乾燥した。 得られた 重合体は収量は Ί 2 gで M wは 4 X 1 0 であった。
樹脂 〔B— 6〕
Figure imgf000086_0002
樹脂 〔 B〕 の合成例 7〜 1 6 :樹脂 〔 B — 7〕 〜 〔 B — 1 6〕
樹脂 〔B〕 の合成例 3と同様の反応方法で、 下記表一 8に示す樹脂 〔B〕 を合 成した。
得られた各樹脂の M wは 5 X 1 0 4 〜 9 X 1 0 4 の範囲であつた。
表一 8
Figure imgf000088_0001
表— 8(つづき)
樹脂の〔 B〕 樹 脂 R32 -Xl- R33 -Y2- - z3 - p/q/r/y/z 合成例 〔B〕 (重量比)
11 〔 B - 11〕 -CH2-CH- -CH2CH- COOH
-C3H7 -CH3 I 61/10/20/8/1.0
COOCH2CH2OCH3 -CH2-C-
CH2COOH
CH3
-CH2CH- -CH3 -CH2CH- -CH2C- 59/10/20/10/1.0
12 〔 B— 12〕 一 CH3 ―※
C00C2H5 COCH3 COO(CH2)2〇
0
1
※一 P一 OH
1
OH
CHq
-CH2C-
13 〔 B-13〕 一 CH3 -C2H5 COO(CH2)20CO 81/0/15/0/4
。\\
表一 8(つづき)
樹脂〔 B 樹 脂 R32 p/q/r/y/z
-Xl- R33 -Y2- 一 z3 - の合成例 〔B (重量比)
CH3
- CH2?H - -CH2CH-
—し r c /o <i
14 一し 6Η5 n 丫 CN CONH(CH2)4COOH όϋ/Ζϋ/4θ/0
C00C2H5
-CH2CH- -CH2CH-
15 〔 B— 15 -CH2C6H5 -CH3 COO(CH2)20CO¾ 75/0/15/6.5/3.5
OCOCH3
(CH2)2— COOH
16 -CH3 -C2H5 80/0/14/4/2
Figure imgf000090_0001
樹脂 〔B〕 の合成例 1 7〜 2 3 :樹脂 〔B— 1 7〕 〜 〔B— 2 3〕 樹脂 〔B〕 の合成例 4と同様の反応方法で、 下記表一 9に示す樹脂 〔B〕 を合 成した。 得られた各樹脂の Mwは 4 X 1 04 〜 8 x l 04 の範囲であった。
0 6
Figure imgf000092_0001
I76ll00/Z66ldf/X3d ■99Ϊ80請 OAV ΐ 6
Figure imgf000093_0001
t^6llOO/Z66ldf/X3<I ん 99180/tOOZ OAV 樹脂 〔 B〕 の合成例 1 0 1 :樹脂 〔 B— 1 0 1〕
メチルァクリ レー ト 4 7. 5 g、 アクリル酸 2. 5 g、 2 —カルボキシェチル N , N一ジェチルジチォカーバメ― ト 〔開始剤 1 - 1 0 1 ) 7. 6 g及びテトラヒ ドロ フラ ン 5 0 gの混合物を、 窒素気流下に容器に密閉し、 温度 5 0 °Cに加温した。 これに、 4 0 0 Wの高圧水銀灯で 1 0 c mの距離からガラスフィルターを通して、 8時間光照射し光重合した。 この反応物を石油エーテル 5 0 0 ミ リ リ ツ トル中に 再沈し、 沈殿物を捕集 ·乾燥した。 得られた重合体の収量は 4 1 gで Mwは 1. 0 X 1 0 4 であった。
更に、 上記重合体 (高分子開始剤となる) 1 0 g、 メチルメ タ ク リ レー ト 6 5 g、 メ チルァク リ レート 2 5 g及びテトラヒ ドロフラ ン 1 0 0 gの混合物を、 窒 素気流下に温度 5 0でとした。 これに上記と同条件で光照射し、 1 0時間光重合 した。 得られた混合物をメタノール 1 リ ツ トル中に再沈し、 沈殿物を捕集 ·乾燥 した。 得られたプロック重合体の収量は 8 5 gで Mwは 8. 5 X 1 0 であった。 樹脂 〔B— 1 0 1〕
Figure imgf000094_0001
樹脂 〔 B - 2〕 の合成例 1 0 2 :樹脂 〔 B— 1 0 2〕
メチルメタク リ レート 6 7 g、 メチルァク リ レー ト 3 3 g、 ベンジル N—ェチ ルー N— ( 2 一カルボキシルェチル) ジチォカーバメ一ト 〔開始剤 1 — 1 0 2〕 2. 2 g及びテトラヒ ドロフラ ン 1 0 0 gの混合溶液を窒素気流下温度 5 0 °Cと し た。 これに合成例 1 0 1 と同様の光照射条件で 8時間光重合した。 反応混合物を- メタノール 1 リ ッ トル中に再沈し、 沈殿物を捕集 ·乾燥して、 M 8 X 1 0 © 重合体を収量 8 5 gで得た。 上記重合体 8 5 g、 メチルメ タ ク リ レート 1 4 g、 メタク リル酸 1 g及びテトラヒ ドロフラン 1 5 0 gの混合物を窒素気流下に温度 5 0 °Cとした。 これを、 合成例 1 0 1 と同様の光照射条件下で 1 6時間光重合し た。 反応物をメタノ一ル 1 リ ッ トル中に再沈し、 沈殿物を捕集 ·乾燥して、 M w 9. 5 X 1 0 のプロック重合体を収量 8 3 gで得た。
樹脂 〔B - 1 0 2〕
CH 3
6 ίΐ 5 Cn 2 -(CH2 -C )m ~ (CH2 -CH b
I I
C00CH3 COOCH3
Figure imgf000095_0001
樹脂 〔 B〕 の合成例 1 0 3 :樹脂 〔 B— 1 0 3〕
ェチルメタク リ レー ト 8 0 g及びトルエン 2 0 0 gの混合溶液を窒素気流下に 充分に脱気し一 2 0でに冷却した。 次いで 1, 1 一ジフヱニル一 3 —メチルペン チルリチウム 2. 0 gを加え、 1 2時間攪拌した。 更にこの混合物にメチルメタク リ レート 1 9 g及び 4 一ビニルフヱニルカルボニルォキシト リメチルシラン 1. 5 gを加え 1 2時間反応した後、 二酸化炭素気流下に 2時間そのまま反応し、 更に 温度 0 °Cで 2時間反応した。 この反応混合物に、 3 0 %塩酸 1 0 gを含有したメ 夕ノール溶液 1 リ ッ トルを 3 0分間で攪拌下に滴下し、 そのまま 1時間攪拌した, 析出した粉末を濾別し、 更にメタノールで洗浄し、 乾燥した。 収量 7 5 gで M w 6. 5 X 1 0 4 のブロック重合体を得た。
樹脂 〔B - 1 0 3〕
Figure imgf000095_0002
樹脂 〔 B〕 の合成例 1 0 4〜 1 1 3 :樹脂 〔B— 1 0 4〕 〜 〔B - 1 1 3〕 樹脂 〔B〕 の合成例 1 0 2と同様の反応方法で、 下記表一 1 0に示す樹脂 〔B〕 を合成した。 得られた各重合体の Mwは 7 X 1 04 〜 9 X 1 04 の範囲であつた。
表— 10
Figure imgf000097_0001
Figure imgf000098_0001
I76ll00/Z66ldf/X3d ん99180請 OAV 表- 10 (つづき)
Figure imgf000099_0001
樹脂 〔B〕 の合成例 1 1 4〜 1 2 0 :樹脂 〔B— 1 1 4〕 〜 〔B— 1 2 0〕 合成例 1 0 1において、 開始剤 1 — 1 0 1 7. 6 gの代わりに、 下記表一 1 1 の各開始剤 4. 2 X 1 0一3モルを用いた他は、 合成例 1 0 1 と同様にして、 各プロ ック重合体を合成した。 各樹脂の Mwは 8 X 1 04 〜 1 0 X 1 0 4 の範囲であつ
5 た。
10
15
20
表一 11
Figure imgf000101_0001
樹脂 〔B〕 の合成例 1 2 1〜 1 3 0 :樹脂 〔B— 1 2 1〕 ~ 〔B— 1 3 0〕 下記表一 1 2に相当する各重合体を合成例 1 0 2の方法と同様に光重合反応で 合成した。 各樹脂の M wは、 6 X 1 0 4 〜 8 X 1 0 4 の範囲であつた。
ΐ 0 ΐ
Figure imgf000103_0001
Figure imgf000103_0002
^6TT00/r66Tdf/I3d ム 99Ϊ80請 OAV Z 0 ΐ
Figure imgf000104_0001
^61100/Ζ66ϊ«ΙΓ/Χ3«Ι .99180/1-ΟΟί ΟΛ\ 樹脂 〔B〕 の合成例 2 0 1 :樹脂 〔B— 2 0 1〕
メチルアタリ レー ト 9 0 g、 アクリル酸 1 0 g及び下記構造の開始剤 〔 I 一 2 0 1〕 1 3. 4 gの混合溶液を、 窒素気流下に温度 4 0 °Cに加温した。 この溶液に
4 0 0 Wの高圧水銀灯で 1 0 c mの距離からガラスフィ ルターを通して 1 0時間 光照射し光重合した。 得られた反応物をメタノール 1 リ ッ トル中に再沈し、 沈殿 物を捕集し乾燥して、 収量 7 8 gで重量平均分子量 (Mw) 2 X 1 0 の重合体 を得た。
開始剤 〔 1 — 2 0 1〕
Figure imgf000105_0001
上記重合体 1 0 g、 メチルメタクリ レート 6 5 g、 メチルァク リ レー ト 2 5 g 及びテトラヒ ドロフラ ン 1 0 0 gの混合溶液を窒素気流下に温度 5 0 °Cに加温し た。 この混合物を、 上記と同様の条件で光照射を 1 5時間行なった。 この反応物 をメタノール 1. 5 リ ッ トル中に再沈し、 沈殿物を捕集 ·乾燥して得られた重合体 の収量は 7 5 gで Mwは 8 X 1 04 であつた。
樹脂 〔B— 2 0 1〕
-(CH2
Figure imgf000105_0002
ί CH2 H -hrr-
Figure imgf000105_0003
00H
CH£
i b CH2-C 5 (CH2-CHK^-
I I COOCH3 COOCH3
(重量比) 樹脂 〔B〕 の合成例 2 0 2 :樹脂 〔B— 2 0 2〕
樹脂 〔B〕 の合成例 2 0 1において、 開始剤 〔 1 — 2 0 1〕 1 3. 4 gの代わり に下記構造の開始剤 〔 1 — 2 0 2〕 1 4. 8 gを用いた他は、 合成例 2 0 1 と同様 の条件で反応処理をし、 M 5 1 0 " の重合体を 7 3 g得た。
開始剤 〔 1 — 2 0 2〕 :
Figure imgf000106_0001
樹脂 〔B — 2 0 2〕 :
CH3
-(CH2-
Figure imgf000106_0002
* b CH2- C
I I
C00CH3 COOCH3
樹脂 〔B〕 の合成例 2 0 3 :樹脂 〔B— 2 0 3〕
メチルメタク リ レー ト 8 0 g、 ェチルァクリ レー ト 2 0 g、 下記構造の開始剤 〔 1 — 2 0 3〕 1 3. 5 g及びテ トラヒ ドロフラン 1 5 0 gの混合溶液を窒素気流 下温度 5 0 °Cに加温した。 この混合物に、 合成例 2 0 1 と同様の条件で光照射を 1 0時間行なつた。
開始剤 〔 1 — 2 0 3〕 :
S
CH3 \ II
CH-0-C-SCH2C6H5 この反応物をメタノ一ル 1 リ ッ トル中に再沈し、 沈殿物を濾集 ·乾燥した。 上 記重合体 6 0 g、 メチルァクリ レ一 ト 3 0 g、 メタク リル酸 1 0 g及びテトラヒ ドロフラン 1 0 0 gの混合溶液を窒素気流下温度 5 0 °Cとし、 上記と同様にして 光照射を 1 0時間行なった。 この反応物をメ タノール 1 リ ツ トル中に再沈し、 沈 殿物を捕集 乾燥し、 粉末 7 3 gを得た。 更にこの重合体 6 0 g、 ェチルメ タク リ レー ト 3 0 g、 メチルァク リ レー ト 1 O g及びテ トラ ヒ ドロフラン 1 0 O gの 混合溶液を窒素気流中温度 5 0 DCに加温した。 これを、 上記と同様にして光照射 を 1 0時間行なった。 この反応物をメ タノール 1. 5 リ ッ トル中に再沈し、 沈殿 物を捕集 *乾燥し、 Mw 9 X 1 04 の重合体を 7 6 g得た。
樹脂 〔B— 2 0 3〕
Figure imgf000107_0001
* b CH2 ~ IDTTJ
Figure imgf000107_0002
OOCHs 樹脂 〔 B〕 の合成例 2 0 4 :樹脂 〔 B— 2 0 4〕
メチルメ タク リ レー ト 5 0 g及びテ トラヒ ドロフラン 1 0 0 gの混合溶液を窒 素気流下に充分に脱気し、 — 2 0 °Cに冷却した。 1 , 1 —ジフヱニルペンチルリチ ゥム 1. 2 gを加え 1 2時間反応した。 更に、 この混合溶液に、 メチルァク リ レー ト 3 0 g、 ト リ フヱニルメチルメタク リ レー ト 3 g及びテ トラヒ ドロフラ ン 5 0 gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気した後添加し、 8時間反応した。 更に、 メチルメタク リ レー ト 5 0 g及びテトラヒ ドロフラン 5 0 gの混合溶液を窒素気 流下に充分に脱気した後、 上記反応液に添加し、 1 0時間反応した。 この混合物 を 0 °Cにした後、 メ タノール 1 0 m l を加え 3 0分間反応し、 重合を停止させた。 得られた重合体溶液を攪拌下にて温度 3 0 °Cとし、 これに 3 0 %塩化水素ェ夕ノ —ル溶液 3 m 1を加え 1時間攪拌した。 次に、 減圧下に反応混合物を全体量が半 分になるまで溶媒を留去した後、 メタノール 1 リ ッ トル中に再沈した。 沈殿物を 補集し、 減圧乾燥して得られた重合体の M wは 8. 5 1 0 4 で収量は 6 5 gであ つた。 樹脂 〔 B— 2 0 4〕 :
CH3 CHf
I
-(CH2 -C - 3 8. 1 b CH 2 - CH + や CH 2 - C + b *
COOCH., COOCH COOH
Figure imgf000108_0001
樹脂 〔 B〕 の合成例 2 0 5 :樹脂 〔 B— 2 0 5〕
メチルメタク リ レー ト 7 0 g、 メチルァク リ レー ト 3 0 g、 (テ トラフヱニル ボルフイ ナー ト) アルミニウムメチル 0. 5 g及び塩化メチレン 2 0 0 gの混合溶 液を窒素気流下にて温度 3 0でとした。 これに 3 0 0 W—キセノ ンランプ光をガ ラスフィ ルターを通して 2 5 c mの距離から光照射し、 1 2時間反応した。 この 混合物に更に、 ェチルァク リ レー ト 4 0 g、 ベンジルメ タク リ レー ト 6. 4 gを加え 、 同様にして光照射下 1 0時間反応した。 更に、 この混合物に、 メチルメタク リ レート 7 0 g及びメチルァクリ レート 3 0 gを加え、 同様に光照射下に 1 2時間 反応した。 この反応混合物にメタノール 3 gを加え 3 0分間攪拌し反応を停止さ せた。 次にこの反応混合物に P d— Cを加え、 温度 2 5 °Cで 1時間接触還元反応 を行なった。 不溶物を濾別した後、 メタノール 2 リ ツ トル中に再沈し、 沈殿物を 濾集 ·乾燥して、 重合体 1 8 0 gを得た。 その M wは 8. 5 X 1 0 4 であった。 樹脂 〔B— 2 0 5〕
CH3 CH£ CH»-C CH2 "CH) 12. 4 b CHS -CH )I B, , (CH2 -CH I-F- I I
COOCH COOCH3 COOC H5 COOH
Figure imgf000109_0001
樹脂 〔 B〕 の合成例 2 0 6〜 2 1 5 :樹脂 〔B— 2 0 6〕 ~ 〔B - 2 1 5〕 樹脂 〔B〕 の合成例 2 0 2と同様の反応方法で、 下記表一 1 3に示す樹脂 〔B〕 を合成した。 得られた重合体の Mwは 5 X 1 04 ~ 7 X 1 0 4 の範囲であつた。
8 0 ΐ
Figure imgf000110_0001
Figure imgf000110_0002
^6llOO/Z66ldf/X3d ん 99180/tOOZ OAV
Figure imgf000111_0001
Figure imgf000112_0001
樹脂 〔B〕 の合成例 2 1 6〜 2 1 9 :樹脂 〔B— 2 1 6〕 〜 〔B— 2 1 9〕
樹脂 〔B〕 の合成例 2 0 1 において、 開始剤 〔 1 — 2 0 1〕 1 3. 4 gの代わり
に下記表一 1 4の開始剤を各々 5 X 1 0 _2モル用いた他は、 合成例 2 0 1 と同様
に操作して重合体を得た。 各重合体の Mwは 7 X 1 04 〜8, 5 X 1 04 の範囲で
5 め つ ΐ乙。
10
Figure imgf000113_0001
15
20
表一 14
Figure imgf000114_0001
樹脂 〔 B〕 の合成例 2 2 0 ~ 2 2 6 :樹脂 〔B— 2 2 0〕 ~ 〔B— 2 2 6〕 ベンジルメタク リ レート 9 0 g、 アクリル酸 1 0 g及び下記構造の開始剤 〔 I - 2 0 8 ] 7.8 gの混合溶液を窒素気流下に温度 4 0 °Cに加温した。 これを、 合 成例 2 0 1 と同様の光照射条件で 5時間反応した。 得られた重合体をテトラヒ ド 口フラン 2 0 0 g'に溶解後、 メ タノール 1.0 リ ッ トル中に再沈し、 沈殿物を濾集 •乾燥した。
開始剤 〔 1 — 2 0 8〕
Figure imgf000115_0001
この重合体を 2 0 g、 下記表一 1 5に記載の重合体成分に相当する各単量体、 及びテトラヒ ドロフラン 1 0 0 gの混合溶液を、 上記と同様に操作して光照射し て 1 5時間反応した。 得られた各重合体をメタノ一ル 1.5 リ ツ トル中に再沈し、 沈殿物を濾集 ·乾燥して、 Mw4 x l 0 - 7 X 1 04 の範囲の重合体を 6 0〜 7 0 g得た。
表— 15
Figure imgf000116_0001
表一 15(つづき) 樹脂〔B〕 x/y/z 樹脂〔B〕 一 R 一 Y— — z—
の合成例 (重量比)
224 CB-224 一 C C6H5 38.5/1.5/0
225 〔B - 225〕 -C2H5 40/0/0
-CH2-CH- -CH2CH- 、
226 -C2H5 1 / \ 30/7.5/2.5
CON 0
〇 \ 1
実施例 I 一 1
樹脂 〔A— 8〕 6 g (固形分量として) 、 樹脂 〔B— 1〕 3 4 g (固形分量と して) 、 光導電性酸化亜鉛 2 0 0 g、 下記構造のメチン色素 〔 I 一 I 〕 0. 0 1 8 g、 無水フタル酸 0. 1 5 g及びトルエン 3 0 0 gの混合物をホモジナイザ一 (日本精機 (株) 製) 中、 回転数 6 X 1 03 r . p . m. で 7分間分散して、 感 光層形成物を調製し、 これを導電処理した紙に、 乾燥付着量が 2 5 g/m2 とな る様に、 ヮィヤーバーで塗布し、 1 1 0 °Cで 1 0秒間乾燥し、 ついで暗所で 2 0 °C、 6 5 %RHの条件下で 2 4時間放置することにより、 電子写真感光材料 (以 下、 単に感光材料ともいう) を作製した。
メチン色素 〔 I — I 〕
Figure imgf000118_0001
比較例 I 一 1
実施例 I 一 1において、 樹脂 〔A— 8〕 6 g及び樹脂 〔B— 1〕 3 4 gの代わ りに、 下記構造の樹脂 〔R— I — 1〕 6 g及び樹脂 〔R— I — 2〕 3 4 gを用い た他は、 実施例 I 一 1 と同様に操作して電子写真感光材料を作製した。
比較用樹脂 〔R— I — 1 〕
~~ (CH2
Figure imgf000118_0002
比較用樹脂 〔R— I — 2〕
CH3
~~ (CH2- H r-
Figure imgf000119_0001
00H
Mw: 7X 10" (ランダム共重合体) 比較例 I 一 2
実施例 I 一 1において、 樹脂 〔A— 8〕 6 及ぴ樹脂 〔8— 1〕 3 4 gの代わ りに、 下記構造の樹脂 〔R— I 一 3〕 6 g及び樹脂 〔R— I — 4〕 3 4 gを用い た他は、 実施例 I 一 1 と同様に操作して電子写真感光材料を作製した。
比較用樹脂 〔R— I — 3〕 画 C(CH2)2S
Figure imgf000119_0002
Mw: 8.5X 103
比較用樹脂 〔R— I 一 4〕
CH 3 η3
I I
~~ (CH2 - Οτ^ ~ (CH2一 CH -
COOCH3 C00(CH2)2S -(CH2-CH -r- CH2-CH - COOCH3 C00H
Mw: 7.5X104 (グラフ ト型共重合体) これらの感光材料について、 撮像性及び印刷適性を調べた。 結果を下記表一 I 1に示す。 表一 I一 1
実施例 I - 1 比較例]: -1 比較例ト2 光導電層の平滑性 (sec/ce) 注 1) 300 285 0 撮 像 性 注 ¾
I (20°C ,65%RH) 非常に良好 良 好 良 好
Π (30°C ,80%RH) 良 好 ø連続階調部 同 左 の中間濃度域
にムラが発生
•地力 ブリ微
かに有り m(15°C,30%RH) 良 好 ベ夕画像部に 同 左 白ヌケが発生 生 版 保 水 性 注 3) 良 好 良 好 極く微かに 地汚れ見ら れる 耐 刷 性 注4) 8千枚 刷り出しより 同 左 画像部に欠損
あり
表一 I 一 1に示した評価項目の実施の態様は以下の通りである。
注 1 ) 光導電層の平滑性:
感光材料は、 ベック平滑度試験機 (熊谷理工 (株) 製) を用い、 空気容量 1 c cの条件にて、 その平滑度 ( s e c / c c ) を測定した。
注 2 ) 撮像性:
感光材料を下記の環境条件で 1昼夜放置した後、 感光材料を一 6 k Vで帯電し 、 光源として 2. 8 mW出力のガリウム—アルミニウムーヒ素半導体レーザー ( 発振波長 7 8 0 n m) を用いて、 感光材料表面上で 6 4 e r g / c m 2 の照射量 下で、 ピッチ 2 5 m及びスキヤニング速度 3 0 0 m/ s e cのスピー ド露光後、 液体現像剤として、 E L P— T (富士写真フィ ルム (株) 製) を用いて現像し、 イソパラフィ ンァイソパー G (エツソ化学 (株) 製) 溶媒のリ ンス液で洗浄後定 着することで得られた複写画像 (カプリ、 画像の画質) を目視評価した。
撮像時の環境条件は 2 0 °C、 6 5 %RH ( I ) 、 3 0 °C、 8 0 %RH (II) 及 び 1 5 °C、 3 0 %RH (III)で実施した。
注 3 ) 生版保水性:
感光材料を印刷用原版として用いる際の不感脂化処理による親水化の程度を、 下記の強制条件で処理して調べた。
感光材料そのもの (製版しない原版:即ち、 生版と略称) を富士写真フィ ルム (株) 製不感脂化処理液 E L P - E Xを蒸留水を 5倍に希釈した水溶液を用いて 、 エッチングマシーンに 1回通した。
次に、 これらの版をハマダス夕一 (株) 製ハマダスター 8 0 0 5 X型を用いて 印刷し、 刷り出しから 5 0枚目の印刷物の地汚れの有無を目視で評価した。
注 4 ) 耐刷性:
感光材料を上記注 2 ) と同一の操作で製版した後、 E L P— E Xを用いて、 ェ ツチングマシーンを 1回通した後、 印刷物の地汚れが目視で判別できるまでの印 刷枚数を調べた。
表— I 一 1に示す様に、 本発明の感光材料は、 実際の複写画像で、 地力プリが なく、 細線 ·細文字あるいは連続階調の網点部分等高精細な画像部分が非常に鮮 明な画像が得られた。 且つ、 撮像時の環境条件が、 低温 ·低湿あるいは高温 ·高 湿といった過酷な条件下でも、 安定した鮮明な複写画像が得られた。
他方、 比較例 I 一 1及び I— 2は、 常温 '常湿 ( I ) の環境条件では、 良好な 複写画像が得られたが、 環境条件が変動すると、 いずれも高精細な画像部分 (特 に連続階調の中間濃度部分) に濃度のムラが発生してしまつた。
次にオフセッ トマスター用印刷原版として、 不感脂化処理して、 印刷原版とし ての性能を調べた。
まず、 製版をしない前の感光材料を、 注 3 ) の不感脂化力を弱めた強制条件下 に不感脂化処理し、 実際に印刷して、 イ ンキの付着程度を観察した所、 本発明の 原版のみが良好で、 比較例 I 一 1及び I 一 2 ともィンキ付着の発生が見られた。 更に、 注 4 ) の様に実際に製版した感光材料を、 通常の不感脂化条件で処理し 、 印刷した所、 本発明の原版は、 地汚れの発生がなく、 画像の忠実な再現が認め られる印刷物を 8千枚得ることができた。
他方、 比較例 I 一 1 は 3千枚又比較例 I — 2は 5千枚であつた。 更に、 過酷な 環境条件である (I I) 及び (I I I )で製版した原版は、 複写画像の再現不良のため 、 刷り出しより印刷物の画像も不良となった。
以上の事は、 本発明の樹脂 〔A〕 及び樹脂 〔B〕 が適切に酸化亜鉛粒子と相互 作用し、 且つ分光増感色素、 化学增感剤の酸化亜鉛粒子への吸着を阻害しない状 態を形成することで優れた電子写真特性を有すると同時に、 不感脂化処理液によ る不感脂化反応が容易に且つ充分に進行し易い状態を形成している事及び樹脂 〔 B〕 の働きによる膜強度の著しい向上を達成していることを示すものと考えられ る。
実施例 I 一 2
樹脂 〔A - 1 2〕 7 g (固形分量として) 、 樹脂 !; B— 2〕 3 3 g (固形分量 として) 、 光導電性酸化亜鉛 2 0 0 g、 下記構造のメチン色素 〔 I 一 I I〕 0 . 0 2 0 g、 N—ヒ ドロキシマレイ ンイ ミ ド 0 . 2 0 g及びトルェン 3 0 0 gの混合 物を、 実施例 I 一 1 と同様に操作して、 電子写真感光材料を作製した。 メチン色素: 〔 1 — 11〕
Figure imgf000123_0001
この感光材料の皮膜性 (表面の平滑度) 、 静電特性及び撮像性を調べた。 更に 、 電子写真式平版印刷用原版として用いた時の印刷適性を調べた。 それらの結果 を表一 I 一 2に示す。
顏/:I£9i/ -.
Figure imgf000124_0001
表— I — 2に示した評価項目の静電特性の実施の態様は以下の通りである。 注 5 ) 静電特性:
温度 2 0 °C、 6 5%RHの暗室中で、 感光材料にペーパーアナライザー (川口 電機 (株) 製べ一パ—アナライザ一 S P— 4 2 8型) を用いて、 - 6 k Vで 2 0 秒間コロナ放電させた後、 1 0秒間放置し、 この時の表面電位 。を測定した。 次いでそのまま暗中で 1 2 0秒間静置させた後の電位 V 13D を測定し、 1 2 0秒 間暗減衰させた後の電位の保持性、 即ち、 暗電荷保持率,〔DRR ( ) 〕 を 〔 ( V 1 30 /V 10) X 1 0 0 (%) 〕 で求めた。
また、 コロナ放電により光導電層表面を一 5 0 0 Vに帯電させた後、 波長 7 8 0 nmの単色光で照射し、 表面電位 (V1()) が 1 Z 1 0に減衰するまでの時間を 求め、 これから露光量 E1/10 ( e r g/ c m2 ) を算出する。 更に E 1/10測定と 同様にコロナ放電により— 5 0 0 Vに帯電させた後、 波長 7 8 0 nmの単色光で 照射し、 表面電位 (V10) が 1 Z 1 0 0に減衰するまでの時間を求め、 これから 露光量 Ε 1/1()。 ( e r c m2 ) を算出する。 撮像時の環境条件は 2 0 °C、 6 5 %RH ( I ) 、 3 0 °C、 8 0 %RH (II)及び 1 5 °C、 3 0 %RH (III) で実施 した。
本発明の感光材料は、 平滑性は良好で充分に均一な分散状態になっていた。 又 環境条件を変えて静電特性を調べた所、 条件が変動しても安定で且つ良好な値を 示した。 実際の撮像性においても、 原稿に対して忠実な複写画像を再現し、 且つ 地力プリ も認められなかった。 又、 オフセッ トマスター原版として、 不感脂化処 理して、 印刷した所良好な印刷物が 8千枚得られた。
実施例 I — 3〜 I一 2 2
実施例 I 一 2において、 樹脂 〔A - 1 2〕 及び樹脂 〔B— 2〕 に代えて、 下記 表— I 一 3の各樹脂 〔A〕 及び各樹脂 〔B〕 に代えた他は、 実施例 I一 1と同様 に操作して、 各電子写真感光体を作製した。 表一 I 一 3
Figure imgf000126_0001
これらの感光材料の実際の撮像性を調べた所、 細線 ·文字の再現性良好で中間 調のムラの発生もない、 地力プリの全くない鮮明な複写画像のものが得られた。 また、 オフセッ トマスター原版として用いて、 実施例 I ― 2と同様にして印刷し た所、 いずれも少なく とも、 8千枚以上印刷することができた。
以上から、 本発明の各感光材料は光電導層の平滑性、 膜強度、 静電特性及び印 刷適性の全ての点において良好なものであった。 さらに、 樹脂 〔Α ' 〕 を用いる ことにより静電特性がさらに向上することが判つた。
実施例 I — 2 3〜 I — 2 6
実施例 I 一 1において用いた、 メチン色素 〔 I 一 I〕 の代わりに下記表一 I ― 4の色素に代えた他は、 実施例 I 一 1 と同様の条件で電子写真感光材料を作製し た。 表一 I一 4
実施例 色 素 色素の化学構造
CH CH3 QH3严 3
1-23 [I - m] (CH2)4S03 e (C¾)4S03K
1-24 [I - IV]
(ΟΗ2)4 θ3ϋ (し iizMbUsi a
1-25 [I-V]
Figure imgf000127_0001
表一]:一 4 (つづき)
Figure imgf000128_0001
本発明の感光材料はいずれも帯電性、 暗電荷保持率、 光感度に優れ、 実際の複 写画像も高温 ·高湿 ( 3 0 °C、 8 0 %R H) 及び低温 ·低湿 ( 1 5 °C、 3 0 %R H) の過酷な条件においても、 地力プリの発生のない、 鮮明な画像を与えた。 実施例 I 一 2 7及び I — 2 8
樹脂 〔 A— 1〕 7 gと樹脂 〔 B — 2 0〕 3 3 g (実施例 I — 2 7 ) あるいは榭 脂 〔A— 2 6〕 7 gと樹脂 〔B— 1 6〕 3 3 g (実施例 1 — 2 8 ) と、 光導電性 酸化亜鉛 2 0 0 g、 ゥラニン 0. 0 2 g、 下記構造のメチン色素 〔 I 一 VII 〕 0 。 0 3 g、 下記構造のメチン色素 〔 I 一 VIII〕 0. 0 3 g、 p —ヒ ドロキシ安息 香酸 0. 1 8 g及びトルエン 3 0 0 gの混合物をホモジナイザー中で回転数 7 X 1 0 8 r . p . mで 6分間分散して感光層形成物を調整し、 これを導電処理した 紙に、 乾燥付着量が 2 0 g/m2 となる様にワイヤーバーで塗布し、 1 1 0 °Cで 2 0秒間乾燥した。 次いで暗所で 2 0 °C、 6 5 %R Hの条件下で 2 4時間放置す ることにより各電子写真感光体を作製した。
メチン色素: 〔 I 一 VII〕
Figure imgf000129_0001
Figure imgf000129_0002
比較例 I 一 3
実施例 1 — 2 7において、 樹脂 〔A— 1〕 及び樹脂 〔B - 2 0〕 の代わりに、 前記樹脂 〔R— I — 1〕 6 g及び下記構造の樹脂 〔R— I - 5〕 3 4 gを用いた 他は、 実施例 I 一 2 7と同様にして、 感光材料を作製した。 比較用樹脂 〔R - I 一 5〕
CH3 Cn 3 υΗ 3
I I I
H00C-(CH2 Y- C - (CH2一 C ni (CH—
I !
CN COOCH a $
§C00(CH2)20C0(CH2)2S-(CH2— CH)-
COOCHg
Mw: 7.5X 104 実施例 I 一 1 と同様に、 感光材料の各特性を調べた。 その結果を下記表一 I 5にまとめた。
表— 1—5
Figure imgf000131_0001
上記の測定において、 静電特性及び撮像性については下記の操作に従った他は
、 実施例 I 一 1 と同様の操作で行なった。
注 6 ) 静電特性の E ハ。及び E!ハ。。 の測定方法
コロナ放電により光導電層表面を一 4 0 0 Vに帯電させた後、 該光導電層表面 を照度 2. 0ルックスの可視光で照射し、 表面電位 ( V i 0 ) が 1 / 1 0又は 1 / 1 0 0に減衰するまでの時間を求め、 これから露光量 E 1/10又は E 1/10Q (ルツ クス ·秒) を算出する。
注 7 ) 撮像性
感光材料を下記の環境条件で 1昼夜放置した後、 全自動製版機 E P L - 4 0 4 V (富士写真フィルム (株) 製) で E P L— Tをトナーとして用いて製版して得 られた複写画像 (カプリ、 画像の画質) を目視評価した。 撮像時の環境条件は、 2 0 °C、 6 5 %RH ( I ) 、 3 0 °C、 8 0 %RH (II) 及び 1 5 °C、 3 0 %R H (III)で実施した。 但し、 複写用の原稿 (即ち、 版下原稿) には、 ほかの原稿を 切り抜いて、 貼り込みを行なって作成したものを用いた。
各感光材料において、 光導電層の平滑性、 静電特性についてはともに良好な性 能を示した。 しかし、 実際の撮像性を調べて見ると、 比較例 I 一 3は、 過酷条件 下で複写画像として原稿以外に、 切り抜いて貼り込んだ部分の枠 (即ち、 貼り込 み跡) が非画像部の地汚れとしてあるいはベタ画像部に白ヌケのムラの発生が認 められた。 しかし、 本発明のものは、 いずれも、 地汚れのない、 鮮明な画像のも のが得られた。
更に、 これらをオフセッ ト印刷用原版として不感脂化処理して印刷した所、 本 発明のものはいずれも地汚れのない鮮明な画質の印刷物が 8千枚以上得られた。 しかし、 比較例 I — 3は、 過酷条件下で製版した原版では上記の貼り込み跡が、 不感脂化処理でも除去されず、 刷り出しの印刷物から発生してしまうか、 あるい は製版画像のムラが印刷物に発生した。 以上のことより、 本発明の感光材料のみ が、 良好な特性を与えることができた。
実施例 1 - 2 9
榭脂 !: A 1 3〕 6 g及び樹脂 〔B - 5〕 3 4 g、 光導電性酸化亜鉛 2 0 0 g 、 ゥラニン 0. 0 2 g、 ローズベンガル 0. 0 4 g、 ブロムフヱノールブル一 0 . 0 3 g、 無水フタル酸 0. 4 0 g及びトルエン 3 0 0 gの混合物を、 実施例 I 一 2 7 と同様に以下操作して、 感光材料を作成した。
本発明の感光材料を、 実施例 I 一 2 7と同様に操作して各性能を調べた所、 い ずれも帯電性、 暗電荷保持率、 光感度に優れ、 実際の複写画像も高温。高湿 ( 3 0 °C、 8 0 %RH) あるいは低温 ·低湿 ( 1 5 °C、 3 0 %RH) の過酷な条件に おいても、 地力プリ、 画像部のムラの発生のない、 鮮明な画像を与えた。 更に、 これをオフセッ トマス夕一の原版として用いて印刷した所、 8千枚の所でも鮮明 な画質の印刷物を得た。
実施例 I — 3 0 ~ I - 4 5
実施例 I 一 2 9において、 樹脂 〔A— 1 3〕 6 g及び樹脂 〔B— 5〕 3 4 gの 代わりに、 下記表— I — 6の樹脂 〔A〕 6 g及び樹脂 〔B〕 3 4 gを用いた他は 、 実施例 I 一 2 9と同様にして各感光材料を作製した。
表一 I 一 6
Figure imgf000133_0001
本発明の感光材料はいずれも帯電性、 暗電荷保持率、 光感度に優れ、 実際の複 写画像も高温 ·高湿 ( 3 0 °C、 8 0 %RH) 、 低温 ·低湿 ( 1 5 °C、 3 0 %RH ) の過酷な条件においても地力プリ又は画像部のムラの発生や細線飛びの発生等 のない鮮明な画像を与えた。 更に、 オフセッ トマスター原版として印刷した所、 8千枚以上印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物が得られた。 実施例 II一 1
樹脂 〔A— 1 0 2〕 6 g (固形分量として) 、 樹脂 !: B— 1〕 3 4 g (固形分 量として) 、 光導電性酸化亜鉛 2 0 0 g、 下記構造のメチン色素 〔II一 I〕 0. 0 1 8 g、 無水フタル酸 0 · 1 5 g及びトルェン 3 0 0 gの混合物をホモジナイ ザ一 (日本精機 (株) 製) 中、 回転数 7 X 1 03 r . p . mで 8分間分散して、 感光層形成物を調製し、 これを導電処理した紙に、 乾燥付着量が 2 5 g/m2 と なる様に、 ワイヤーバーで塗布し、 1 1 0 °Cで 1 0秒間乾燥し、 ついで暗所で 2 0 °C、 6 5 %RHの条 下で 2 4時間放置することにより、 電子写真感光材料を 作製した。
メチン色素 〔II一 I〕
Figure imgf000134_0001
比較例 II一 1
実施例 II一 1において、 樹脂 〔A— 1 0 2〕 6 g及び樹脂 〔B— 1〕 3 4 gの 代わりに、 下記構造の樹脂 〔R— II— 1〕 6 g及び樹脂 〔R— II— 2〕 3 4 gを 用いた他は、 実施例 II一 1 と同様に操作して電子写真感光材料を作製した。 比較用樹脂 〔R— II一 1〕
Figure imgf000134_0002
比較用樹脂 〔R— II— 2〕
CH3
I
-~ (CH2— C " -(CH2-CH^rr •CH2-CHh ^
C00CH3 C0OCH3 C00H
Mw: 7X104 (ランダム共重合体) 比較例 II一 2
実施例 II— 1において、 樹脂 〔A— 1 0 2〕 6 2及ぴ樹脂 〔8— 1〕 3 4 gの 代わりに、 下記構造の樹脂 〔R— II - 3〕 6 g及び樹脂 〔R— II— 4〕 3 4 gを 用いた他は、 実施例 II一 1 と同様に操作して電子写真感光材料を作製した。
比較用樹脂 〔R— II - 3〕
H00C(CH2)2S
Figure imgf000135_0001
Mw: 8.5X 103 比較用樹脂 〔R— II— 4〕
—— (CH2 -
Figure imgf000135_0002
Mw: 7.5X 104 (グラフ ト型共重合体) これらの感光材料について、 撮像性及び印刷適性を調べた。 その結果を表— II 1に示す。 表- Π-:
実施例 Π - 1 比較例 Π - 1 比較例 Π - 2 光導電層の平滑性 (sec/ec) 注 1) 290 280 撮 像 性 注 2)
I (20 ,65%RH) 非常に良好 良 好 良 好
Π (30°C ,30 RH) 良 好 ø連続階調部 同 左 の中間濃度域
にムラが発生
•地カ ブリ微
かに有り m(15°C ,30%RH) 良 好 ベ夕画像部に 同 左 白ヌケが発生
生 版 保 水 性 注 3) 良 好 良 好 極く微かに 地汚れ見ら れる 耐 刷 性 注4) 8千枚 刷り出しより 同 左 画像部に欠損
あり
表一 11一 1に示した評価項目の実施の態様は以下の通りである。
注 1 ) 光導電層の平滑性:
感光材料は、 ベッ ク平滑度試験機 (熊谷理工 (株) 製) を用い、 空気容量 1 c cの条件にて、 その平滑度 (s e c Z c c ) を測定した。
注 2 ) 撮像性:
感光材料を下記の環境条件で 1昼夜放置した後、 感光材料を— 6 k Vで帯電し 、 光源として 2. 8 mW出力のガリウム一アルミ ニウム一ヒ素半導体レーザー ( 発振波長 7 8 0 nm) を用いて、 感光材料表面上で 6 4 e r / c m 2 の照射量 下で、 ピッチ 2 5 〃 m及びスキヤニング速度 3 0 0 m/ s e cのスピード露光後 液体現像剤として、 E L P—T (富士写真フィ ルム (株) 製) を用いて現像し、 イソパラフィ ンァイソパー G (エツソ化学 (株) 製) 溶媒のリ ンス液で洗浄後定 着することで得られた複写画像 (カプリ、 画像の画質) を目視評価した。
撮像時の環境条件は 2 0で、 6 5 %RH ( I ) 、 3 0 °C、 8 0 %RH (II) 及 び 1 5 °C、 3 0 %RH (III)で実施した。
注 3 ) 生版保水性:
感光材料を印刷用原版として用いる際の不感脂化処理による親水化の程度を、 下記の強制条件で処理して調べた。
感光材料そのもの (製版しない原版:即ち、 生版と略称) を富士写真フィ ルム (株) 製不感脂化処理液 E L P一 E Xを蒸留水を 5倍に希釈した水溶液を用いて 、 エッチングマシーンに 1回通した。
次に、 これらの版をハマダスター (株) 製ハマダスター 8 0 0 5 X型を用いて 印刷し、 刷り出しから 5 0枚目の印刷物の地汚れの有無を目視で評価した。
注 4 ) 耐刷性:
感光材料を上記注 2 ) と同一の操作で製版した後、 E L P— E Xを用いて、 ェ ツチングマシーンを 1回通した後、 印刷物の地汚れが目視で判別できるまでの印 刷枚数を調べた。
表 - II一 1に示す様に、 本発明の感光材料は、 実際の複写画像で、 地力プリが なく、 細線《細文字あるいは連続階調の網点部分等の高精細な画像部分が非常に 鮮明な画像が得られた。 且つ、 撮像時の環境条件が、 低温,低湿あるいは高温 · 高湿といった過酷な条件下でも、 安定した鮮明な複写画像が得られた。
他方、 比較例 I I— 1及び I I一 2は、 常温 ·常湿 ( I ) の環境条件では、 良好な 複写画像が得られたが、 環境条件が変動すると、 いずれも高精細な画像部分 (特 に連続階調の中間濃度部分) に濃度のムラが発生してしまつた。
次にオフセッ トマスター用印刷原版として、 不感脂化処理して、 印刷原版と し ての性能を調べた。
まず、 製版をしない前の各感光材料を、 注 3 ) の不感脂化力を弱めた強制条件 下に不感脂化処理し、 実際に印刷して、 イ ンキの付着程度を観察した所、 本発明 の原版のみが良好で、 比較例 I I一 1及び I I一 2 ともィンキ付着の発生が見られた 更に、 注 4 ) の様に実際に製版した感光材料を、 通常の不感脂化条件で処理し 、 印刷した所、 本発明の原版は、 地汚れの発生がなく、 画像の忠実な再現が認め られる印刷物を 8千枚得ることができた。
他方、 比較例 Π— 1 は 3千枚又比較例 I I一 2は 5千枚であった。 更に、 環境条 件が過酷な (I I ) 及び (I I I )で製版した原版は、 複写画像の再現不良のため、 刷 り出しより印刷物の画像も不良となった。
以上の事は、 本発明の樹脂 〔A〕 及び樹脂 〔B〕 が適切に酸化亜鉛粒子と相互 作用し、 且つ分光增感色素、 化学增感剤の酸化亜鉛粒子への吸着を阻害しない状 態を形成することで優れた電子写真特性を有すると同時に、 不感脂化処理液によ る不感脂化反応が容易に且つ充分に進行し易い状態を形成している事及び樹脂 〔 B〕 の働きによる膜強度の著しい向上を達成していることを示すものと考えられ る。
実施例 I I一 2
樹脂 〔A— 1 1 5〕 5 g (固形分量として) 、 樹脂 〔B— 2〕 3 5 g (固形分 量として) 、 光導電性酸化亜鉛 2 0 0 g、 下記構造のメチン色素 〔I I一 I I〕 0 . 0 2 0 g、 N—ヒ ドロキシマレイ ンイ ミ ド 0 . 2 0 g及び卜ルェン 3 0 0 gの混 合物を、 実施例 I I— 1 と同様に操作して、 電子写真感光材料を作製した。 メチン色素 : 〔Π— π〕 3K
Figure imgf000139_0001
この感光材料の皮膜性 (表面の平滑度) 、 静電特性及び撮像性を調べた。 更に 、 電子写真式平版印刷用原版として用いた時の印刷適性を調べた。 それらの結果 を表一 I I一 2に示す。
Figure imgf000140_0001
¾Π2ΙΙ 表一 II一 2に示した評価項目の静電特性の実施の態様は以下の通りである。 注 5 ) 静電特性:
温度 2 0 °C、 6 5 %RHの暗室中で、 感光材料にペーパーアナライザー (川口 電機 (株) 製ペーパーアナライザー S P— 4 2 8型) を用いて、 — 6 k Vで 2 0 秒間コロナ放電させた後、 1 0秒間放置し、 この時の表面電位 V10を測定した。 次いでそのまま暗中で 1 2 0秒間静置させた後の電位 V13Q を測定し、 1 2 0秒 間暗減衰させた後の電位の保持性、 即ち、 暗電荷保持率 〔DRR (%) 〕 を 〔 ( V 130 /V ,ο) 1 0 0 (%) 〕 で求めた。
また、 コロナ放電により光導電層表面を一 5 0 0 Vに帯電させた後、 波長 7 8 O nmの単色光で照射し、 表面電位 (V1()) が 1ノ 1 0に減衰するまでの時間を 求め、 これから露光量 E 1/10 ( e r g/ c m2 ) を算出する。 更に E!ハ。測定と 同様にコロナ放電により一 5 0 0 Vに帯電させた後、 波長 7 8 0 nmの単色光で 照射し、 表面電位 (V 10) が 1 / 1 0 0に減衰するまでの時間を求め、 これから 露光量 Ε 1/1()。 ( e r c m2 ) を算出する。 撮像時の環境条件は 2 0 °C、 6 5 %RH (I) 、 3 0 °C、 8 0 %RH (II)及び 1 5 °C、 3 0 %RH (III) で実施し た。
本発明の感光材料は、 平滑性は良好で充分に均一な分散状態になっていた。 又 環境条件を変えて静電特性を調べた所、 条件が変動しても安定で且つ良好な値を 示した。 実際の撮像性においても、 原稿に対して忠実な複写画像を再現し、 且つ 地力プリ も認められなかった。 又、 オフセッ トマスター用原版として、 不感脂化 処理して、 印刷した所良好な印刷物が 1万枚得られた。
実施例 II一 3〜Π— 2 2
実施例 Π— 2において、 樹脂 〔Α— 1 1 5〕 及び樹脂 〔Β— 2〕 に代えて、 下 記表— II一 3の各樹脂 〔Α〕 及び各樹脂 〔Β〕 に代えた他は、 実施例 II一 1 と同 様に操作して、 各電子写真感光体を作製した。 表一 II一 3
Figure imgf000142_0001
これらの感光材料の実際の撮像性を調べた所、 細線 ·文字の再現性良好で中間 調のムラの発生もない、 地力プリの全くない鮮明な複写画像のものが得られた。 又、 オフセッ トマスター原版として用いて、 実施例 II— 2と同様にして印刷し た所、 いずれも少なく とも、 8千枚以上印刷することができた。
以上から、 本発明の各感光材料は光電導層の平滑性、 膜強度、 静電特性及び印 刷適性の全ての点において良好なものであつた。
さらに、 樹脂 〔Α' 〕 を用いることにより静電特性がさらに向上することが判 つた。
実施例 II— 2 3〜11— 2 6
実施例 II— 1において用いた、 メチン色素 〔11— 1〕 の代わりに下記表一 II— 4の色素に代えた他は、 実施例 II一 1と同様の条件で電子写真感光材料を作製し た。 表一 Π— 4
Figure imgf000143_0001
Figure imgf000144_0001
本発明の感光材料は、 いずれも帯電性、 暗電荷保持率、 光感度に優れ、 実際の 複写画像も高温 ·高湿の ( 3 0 °C、 8 0 %RH) 及び低温 ·低湿 ( 1 5 °C、 3 0 %RH) の過酷な条件においても、 地力プリの発生のない、 鮮明な画像を与えた 実施例 II— 2 7及び II— 2 8
樹脂 〔 A— 1 0 1〕 6 gと樹脂 !: B— 2 0〕 3 4 g (実施例 11一 2 7 ) あるい は樹脂 〔A— 1 2 1〕 6 gと樹脂 〔B— 1 6〕 3 4 g (実施例 II一 2 8 ) と、 光 導電性酸化亜鉛 2 0 0 g、 ゥラニン 0. 0 2 g、 下記構造のメチン色素 〔II一 VI I 〕 0. 0 3 g、 下記構造のメチン色素 〔11— VIII〕 0. 0 3 g、 p—ヒ ドロキ シ安息香酸 0. 1 8 g及びトルエン 3 0 0 gの混合物をホモジナイザー中で回転 数 7 X 1 03 r . p. mで 1 0分間分散して感光層形成物を調整し、 これを導電 処理した紙に、 乾燥付着量が 2 0 gZm2 となる様にワイヤーバーで塗布し、 1 1 0 °Cで 2 0秒間乾燥した。 次いで暗所で 2 0 °C、 6 5 %RHの条件下で 2 4時 間放置することにより各電子写真感光体を作製した。
メチン色素 : 〔11— VII〕
Figure imgf000145_0001
Figure imgf000145_0002
比較例 II— 3
実施例 II一 2 7において、 樹脂 〔A— 1 0 1〕 及び樹脂 〔B— 2 0〕 の代わり に、 前記樹脂 〔R— II— 1〕 6 g及び下記構造の樹脂 〔R— II一 5〕 3 4 gを用 いた他は、 実施例 I I一 2 7と同様にして、 感光材料を作製した。
比較用樹脂 〔R — I I— 5〕
H00C-CCH2)ir-
Figure imgf000146_0001
iC00(CH2) 20C0(CH2)2S-(CH2-CH)-
COOCHj
Mw: 7.5X10' 実施例 I I一 1 と同様に、 感光材料の各特性を調べた。 その結果を下記表一 I I一 5にまとめた。
表一 Π— 5
Figure imgf000147_0001
上記の測定において、 静電特性及び撮像性については下記の操作に従った他は
、 実施例 II一 1 と同様の操作で行なった。
注 6) 静電特性の E ικι。及び E!ハ。。 の測定方法
コロナ放電により光導電層表面を一 4 0 0 Vに帯電させた後、 該光導電層表面 を照度 2. 0ルックスの可視光で照射し、 表面電位 (V10) が 1 / 1 0又は 1 Ζ 1 0 0に減衰するまでの時間を求め、 これから露光量 E 1/10又は E 1/10Q (ルツ クス ·秒) を算出する。
注 7 ) 撮像性
感光材料を下記の環境条件で 1昼夜放置した後、 全自動製版機 E P L - 4 0 4 V (富士写真フィルム (株) 製) で E P L— Tをトナーとして用いて製版して得 られた複写画像 (カプリ、 画像の画質) を目視評価した。 撮像時の環境条件は、 2 0 °C、 6 5 %R H ( I ) . 3 0°C、 8 0 %RH (II) 及び 1 5°C、 3 0 %RH (III)で実施した。 但し、 複写用の原稿 (即ち、 版下原稿) には、 ほかの原稿を 切り抜いて、 貼り込みを行なって作成したものを用いた。
各感光材料において、 光導電層の平滑性、 静電特性についてはともに良好な性 能を示した。 しかし、 実際の撮像性を調べて見ると、 比較例 II— 3は、 過酷条件 下で複写画像として原稿以外に、 切り抜いて貼り込んだ部分の枠 (即ち、 貼り込 み跡) が非画像部の地汚れとしてあるいはベタ画像部に白ヌケのムラの発生が認 められた。 しかし、 本発明のものは、 いずれも、 地汚れのない、 鮮明な画像のも のが得られた。
更に、 これらをオフセッ ト印刷用原版として不感脂化処理して印刷した所、 本 発明のものはいずれも地汚れのない鮮明な画質の印刷物が 8千枚以上得られた。 しかし、 比較例 II一 3は、 過酷条件下で製版した原版では上記の貼り込み跡が、 不感脂化処理でも除去されず、 刷り出しの印刷物から発生してしまうか、 あるい は製版画像のムラが印刷物に発生した。 以上のことより、 本発明の感光材料のみ が、 良好な特性を与えることができた。
実施例 II一 2 9
樹脂 〔A— 1 1 6〕 5 g及び樹脂 〔B - 5〕 3 5 g、 光導電性酸化亜鉛 2 0 0 g、 ゥラニン 0. 0 2 g、 ローズベンガル 0. 0 4 g、 ブロムフヱノールブル一 0. 0 3 ^、 無水フタル酸0. 4 0 g及びトルエン 3 0 0 gの混合物を、 実施例 II- 2 7と同様に以下操作して、 感光材料を作成した。
本発明の感光材料を、 実施例 II一 2 7と同様に操作して各性能を調べた所、 い ずれも帯電性、 暗電荷保持率、 光感度に優れ、 実際の複写画像も高温,高湿 ( 3 0°C、 8 0 %RH) あるいは低温。低湿 ( 1 5 °C、 3 0 %RH) の過酷な条件に おいても、 地力プリ、 画像部のムラの発生のない、 鮮明な画像を与えた。
更に、 これをオフセッ トマスターの原版として用いて印刷した所、 8千枚の所 でも鮮明な画質の印刷物を得た。
実施例 II一 3 0〜11一 4 5
実施例 Π— 2 9において、 樹脂 〔A— 1 1 6〕 5 g及び樹脂 〔B - 5〕 3 5 g の代わりに、 下記表一 II— 6の樹脂 〔A〕 6 g及び樹脂 〔B〕 3 4 gを用いた他 は、 実施例 Π— 2 9と同様にして各感光材料を作製した。
表— II一 6
Figure imgf000149_0001
本発明の感光材料はいずれも帯電性、 暗電荷保持率、 光感度に優れ、 実際の複 写画像も高温 ·高湿 ( 3 0 °C、 8 0 % R H ) 、 低温 ·低湿 ( 1 5 °C、 3 0 %R H ) の過酷な条件においても地カプリ又は画像部のムラの発生や細線飛びの発生等 のない鮮明な画像を与えた。
更にオフセッ トマスター原版として印刷した所、 8千枚以上印刷しても地汚れ の発生のない鮮明な画質の印刷物が得られた。
実施例 III 一 1 樹脂 〔A— 3〕 6 g (固形分量として) 、 樹脂 〔B— 2 0 1〕 3 4 g (固形分 量と して) 、 光導電性酸化亜鉛 2 0 0 g、 下記構造のメチン色素 〔III 一 I〕 0 . 0 1 8 g、 無水フタル酸 0. 1 5 g及びトルエン 3 0 0 gの混合物をホモジナ ィザ一 (日本精機 (株) 製) 中、 回転数 6 X 1 03 r . p. m. で 7分間分散し て、 感光層形成物を調製し、 これを導電処理した紙に、 乾燥付着量が 2 8 g/m 2 となる様に、 ワイヤ一バーで塗布し、 1 1 0 °Cで 1 0秒間乾燥し、 ついで暗所 で 2 0 °C、 6 5 %RHの条件下で 2 時間放置することにより、 電子写真感光材 料を作製した。
メチン色素 [III - I〕
Figure imgf000150_0001
比較例 II I 一 1
実施例 III 一 1において、 樹脂 〔A— 3〕 6 g及び樹脂 〔B— 2 0 1〕 3 4 g の代わりに、 下記構造の樹脂 〔R— III 一 1〕 6 g及び樹脂 〔R— III — 2〕 3 4 gを用いた他は、 実施例 III 一 1と同様に操作して電子写真感光材料を作製し た。 比較用樹脂 〔R— III — 1〕
CH3 CH3
Figure imgf000150_0002
W 200 比較用樹脂 〔R— III — 2〕
CH3
~~ (CH2一 (CH2一 CH - "1し H2一 Ηττ~
COOCH3 COOCH3 C00H
Mw: 7X 10" (ランダム共重合体) 比較例 III 一 2
実施例 III 一 1において、 樹脂 〔A— 3〕 6 g及び樹脂 〔B— 2 0 1〕 3 4 g の代わりに、 下記構造の樹脂 〔R— III 一 3〕 6 g及び樹脂 〔R— III 一 4〕 3 4 gを用いた他は、 実施例 III 一 1 と同様に操作して電子写真感光材料を作製し た。
比較用樹脂 〔R— III — 3〕 画 C(CH2)2S -(CH2
Figure imgf000151_0001
Mw: 8.5X 103 比較用樹脂 〔R— ΠΙ - 4〕
~~ (CH2
Figure imgf000151_0002
Mw: 7.5X104 (グラフ ト型共重合体) これらの感光材料について、 撮像性及び印刷適性を調べた。 結果を表一 III 1に示す。 表一 ΙΠ - 1
実施例 m - 1 比較例 m - 1 比較例 m- 2 光導電層の平滑性 (sec/cc) 注 1) 310 320 300 撮 像 性 注2)
I (20°C ,65%RH) 非常に良好 良 好 良 好
Π (30°C ,80 RH) 良 好 «連続階調部 同 左 の中間濃度域
にムラが ϋ生
•地力 ブリ微
かに有り ni(15°C ,30%RH) 良 好 ベ夕画像部に 同 左 白ヌケが発生 生 版 保 水 性 注 3) 良 好 良 好 極く微かに 地汚れ見ら れる 耐 lj 性 注4) 8千枚 刷り出しより 同 左 画像部に欠損
あり
表一 III 一 1に示した評価項目の実施の態様は以下の通りである。
注 1 ) 光導電層の平滑性 .:
感光材料は、 ベック平滑度試験機 (熊谷理工 (株) 製) を用い、 空気容量 1 c cの条件にて、 その平滑度 ( s e c/c c) を測定した。
注 2 ) 撮像性 :
感光材料を下記の環境条件で 1昼夜放置した後、 感光材料を一 6 k Vで帯電し 、 光源として 2. 8 mW出力のガリウム一アルミニウム—ヒ素半導体レーザー ( 発振波長 7 8 0 nm) を用いて、 感光材料表面上で 6 4 e r / c m 2 の照射量 下で、 ピッチ 2 5 m及びスキャニング速度 3 0 O m/s e cのスピード露光後 液体現像剤として、 E L P— T (富士写真フィ ルム (株) 製) を用いて現像し、 イソパラフィ ンァイソパー G (エツソ化学 (株) 製) 溶媒のリ ンス液で ί洗浄後定 着することで得られた複写画像 (カプリ、 画像の画質) を.目視評価した。
撮像時の環境条件は 2 0 °C、 6 5 %RH ( I ) 、 3 0 °C、 8 0 RH (II) 及 び 1 5 °C、 3 0 %RH (I II)で実施した。
注 3 ) 生版保水性:
感光材料を印刷用原版として用いる際の不感脂化処理による親水化の程度を、 下記の強制条件で処理して調べた。
感光材料そのもの (製版しない原版:即ち、 生版と略称) を富士写真フィ ルム (株) 製不感脂化処理液 E L P - E Xを蒸留水で 5倍に希釈した水溶液を用いて 、 エッチングマシーンに 1回通した。
次に、 これらの版をハマダスター (株) 製ハマダスター 8 0 0 5 X型を用いて 印刷し、 刷り出しから 5 0枚目の印刷物の地汚れの有無を目視で評価した。
注 4 ) 耐刷性:
感光材料を上記注 2 ) と同一の操作で製版した後、 E L P— EXを用いて、 ェ ツチングマシーンを 1回通した後、 印刷物の地汚れが目視で判別できるまでの印 刷枚数を調べた。
表一 III 一 1 に示す様に、 本発明の感光材料は、 実際の複写画像で、 地力プリ がなく、 細線。細文字あるいは連読階調の網点部分等高精細な画像部分が非常に 鮮明な画像が得られた。 且つ、 撮像時の環境条件が、 低温 ·低湿あるいは高温 - 高湿といつた過酷な条件下でも、 安定した鮮明な複写画像が得られた。
他方、 比較例 III 一 1及び ΙΠ - 2は、 常温 '常湿 ( I ) の環境条件では、 良 好な複写画像が得られたが、 環境条件が変動すると、 いずれも高精細な画像部分 (特に連続階調の中間濃度部分) に濃度のムラが発生してしまつた。
次にオフセッ トマスター用印刷原版として、 不感脂化処理して、 印刷原版とし ての性能を調べた。
まず、 製版をしない前の各感光材料を、 注 3 ) の不感脂化力を弱めた強制条件 下に不感脂化処理し、 実際に印刷して、 イ ンキの付着程度を観察した所、 本発明 の原版のみが良好で、 比較例 III 一 1及び III 一 2ともインキ付着の発生が見ら れた。
更に、 注 4 ) の様に実際に製版した感光材料を、 通常の不感脂化条件で処理し 、 印刷した所、 本発明の原版は、 地汚れの発生がなく、 画像の忠実な再現が認め られる印刷物を 8千枚得ることができた。
他方、 比較例 III 一 1は 3千枚又比較例 III 一 2は 5千枚であった。 更に、 環 境条件が過酷な (II) 及び (III)で製版した原版は、 複写画像の再現不良のため 、 刷り出しより印刷物の画像も不良となった。
以上の事は、 本発明の樹脂 〔A〕 及び樹脂 〔B〕 が適切に酸化亜鉛粒子と相互 作用し、 且つ分光增感色素、 化学増感剤の酸化亜鉛粒子への吸着を阻害しない状 態を形成することで優れた電子写真特性を有すると同時に、 不感脂化処理液によ る不感脂化反応が容易に且つ充分に進行し易い状態を形成している事及び樹脂 〔 B〕 の働きによる膜強度の著しい向上を達成していることを示すものと考えられ る。
実施例 III - 2
樹脂 〔A— 1 2〕 5 g (固形分量として) 、 樹脂 〔B— 2 0 2〕 3 5 g (固形 分量として) 、 光導電性酸化亜鉛 2 0 0 g、 下記構造のメチン色素 〔III 一 II〕 0. 0 2 0 g、 N—ヒ ドロキシマレイ ンイ ミ ド 0. 2 0 g及ぴトルエン 3 0 0 g の混合物を、 実施例 III 一 1 と同様に操作して、 電子写真感光材料を作製した。 メチン色素: 〔III 一 II〕 K
Figure imgf000155_0001
この感光材料の皮膜性 (表面の平滑度) 、 静電特性及び撮像性を調べた。 更に 、 電子写真式平版印刷用原版として用いた時の印刷適性性を調べた。 それらの結 果を表一 III 一 2に示す。
Figure imgf000156_0001
臼21- 表一 III 一 2に示した評価項目の静電特性の実施の態様は以下の通りである。 注 5 ) 静電特性:
温度 2 0 °C、 6 5 %RHの暗室中で、 感光材料にペーパーアナライザ一 (川口 電機 (株) 製ペーパーアナライザー S P— 4 2 8型) を用いて、 一 6 k Vで 2 0 秒間コロナ放電させた後、 1 0秒間放置し、 この時の表面電位 V10を測定した。 次いでそのまま暗中で 1 2 0秒間静置させた後の電位 V13Q を測定し、 1 2 0秒 間暗減衰させた後の電位の保持性、 即ち、 暗電荷保持率 〔D RR (%) 〕 を 〔 ( V130 /V 10) x 1 0 0 (%) 〕 で求めた。
また、 コロナ放電により光導電層表面を一 5 0 0 Vに帯電させた後、 波長 7 8 O nmの単色光で照射し、 表面電位 (V1()) が 1 Z 1 0に減衰するまでの時間を 求め、 これから露光量 E t/io ( e r g/ c m2 ) を算出する。 更に E 1/10測定と 同様にコロナ放電により一 5 0 0 Vに帯電させた後、 波長 7 8 0 nmの単色光で 照射し、 表面電位 (V10) が 1 / 1 0 0に減衰するまでの時間を求め、 これから 露光量 E / D ( e r g/ c m2 ) を算出する。 撮像時の環境条件は 2 0 °C、 6 5 %RH (I) 、 3 0 °C、 8 0 %RH (II)及び 1 5 °C、 3 0 %RH (III) で実施し た。
本発明の感光材料は、 平滑性は良好で充分に均一な分散伏態になっていた。 又 環境条件を変えて静電特性を調べた所、 条件が変動しても安定で且つ良好な値を 示した。 実際の撮像性においても、 原稿に対して忠実な複写画像を再現し、 且つ 地力プリ も認められなかった。 又、 オフセッ トマス夕一用原版として、 不感脂化 処理して、 印刷した所良好な印刷物が 1万枚得られた。
実施例 ΙΠ — 3〜ΙΠ - 2 2 '
実施例 III 一 2において、 樹脂 〔Α— 1 2〕 及び樹脂 〔Β— 2 0 2〕 に代えて 、 下記表一 III 一 3の各樹脂 〔Α〕 及び各樹脂 〔Β〕 に代えた他は、 実施例 III 一 2と同様に操作して、 各電子写真感光体を作製した。 表一 III - 3
Figure imgf000158_0001
これらの感光材料の実際の撮像性を調べた所、 細線 ·文字の再現性良好で中間 調のムラの発生もない、 地力プリの全くない鮮明な複写画像のものが得られた。 また、 オフセッ トマスタ一原版として用いて、 実施例 2と同様にして印刷した所 、 いずれも少なく とも、 8千枚以上印刷することができた。
以上から、 本発明の各感光材料は表面層の平滑性、 膜強度、 静電特性及び印刷 適性の全ての点において良好なものであった。 さらに、 樹脂 〔Α' 〕 を用いるこ とにより静電特性がさらに向上することが判つた。
実施例 III — 2 3〜ΙΙΙ - 2 6
実施例 III 一 1において用いた、 メチン色素 〔III ― I〕 の代わりに下記表— III — 4の色素に代えた他は、 実施例 III 一 1 と同様の条件で電子写真感光材料 を作製した。 表一 m - 4
Figure imgf000159_0001
表 - m- 4 (つづき)
Figure imgf000160_0001
本発明の感光材料はいずれも帯電性、 暗電荷保持率、 光感度に優れ、 実際の複 写画像も高温 ·高湿 ( 3 0 °C、 8 0 RH) 及び低温 ·低湿 ( 1 5で、 3 0 %R H) の過酷な条件においても、 地カブリの発生のない、 鮮明な画像を与えた。 実施例 III - 2 7及び III - 2 8
樹脂 〔A— 1〕 6 gと樹脂 〔B— 2 0 8〕 3 4 g (実施例 III - 2 7 ) あるい は樹脂 〔A— 2 9〕 6 gと樹脂 〔B— 2 2 2〕 3 4 g (実施例 III - 2 8 ) と、 光導電性酸化亜鉛 2 O O g、 ゥラニン 0. 0 2 g、 下記構造のメチン色素 〔III -VII ] 0. 0 3 g、 下記構造のメチン色素 〔III 一 VI II〕 0. 0 3 g、 p—ヒ ドロキシ安息香酸 0. 1 8 g及びトルエン 3 0 0 gの混合物をホモジナイザ一中 で回転数 6 X 1 03 r . p. mで 6分間分散して感光層形成物を調整し、 これを 導電処理した紙に、 乾燥付着量が 2 0 g/m2 となる様にワイヤーバーで塗布し 、 1 1 0 °Cで 2 0秒間乾燥した。 次いで暗所で 2 0 °C、 6 5 %RHの条件下で 2
4時間放置することにより各電子写真感光体を作製した。
Figure imgf000161_0001
Figure imgf000161_0002
比較例 I II - 3
実施例 III 一 2 7において、 樹脂 〔A— 1〕 及び樹脂 〔B— 2 0 8〕 の代わり に、 前記樹脂 〔R— III — 1〕 6 g及び下記構造の樹脂 〔R— III 一 5〕 3 4 g を用いた他は、 実施例 III - 2 7 と同様にして、 感光材料を作製した。 比較用樹脂 〔R— III — 5〕
Figure imgf000162_0001
*C00(CH2)20C0(CH2)2S-(CH2-CH -
I
COOCH3
Mw: 7.5 104 実施例 III ― 1 と同様に、 感光材料の各特性を調べた。 結果を下記表一 III 5にまとめた。
> 表一 m— 5
実施例 m - 27 実施例 ΠΙ - 28 比較例 m - s
. 結着樹脂 〔 A - 1〕! C Α-29) / 〔 R-ni-i〕 / f η "*ι 〔 Β-208 J L B-222 J C R-ni-5〕 光導電層の平滑性 (see/ce) ΑθΌ 性 注6)
I (20°C , 65%RH) 785 715
Π (30。C, 80%腿) c *
580 770
ffl (15°C , 30%RH) bUU ί oU
I (20°C, 65%RH) 88 94 88
D.R.R.(%) Ο
Π (30°G , 80%RH) yu QQ
OO
Π (15°C, 30%RH) QQ QO
I (20°C , 65%RH) 11.5 8.4 10.5
El/10
(mx-sec ) H (30 C, 80 RH) 11.0 8.0 10.0
Π (15°C, 30%RH) 1丄 9 Q 1
V.X 丄丄 ,o
I (20°C, 65%RH) 21 14 24
Ei/ioo
(lux-sec ) Π (30°G, 80%RH) 19 13 28
ΠΙ (15V , 30 RH) 23 16 31 撮 像 性 注 7)
I (20°C, 65%RH) 良 好 ' 非常に良好 良 好
Π (30。C, 80%RH) 良 好 非常に良好 貼り込み跡残 存、 中間調にム ラが発生
Π (15°C, 30%RH) 良 好 非常に良好 画像部に白ヌケ のムラが発生 生 版 保 水 性 良 好 非常に良好 良 好. 耐 刷 性
8千枚 8千枚 ' 5千枚 上記の測定において、 静電特性及び撮像性については下記の操作に従つた他は
、 実施例 III 一 1と同様の操作で行なった。
注 6 ) 静電特性の E ικι。及び E 1/1()。 の測定方法
コロナ放電により光導電層表面を一 4 0 0 Vに帯電させた後、 該光導電層表面 を照度 2. 0ルックスの可視光で照射し、 表面電位 ( V 10) が 1 Ζ 1 0又は 1 / 1 0 0に減衰するまでの時間を求め、 これから露光量 Ε 1/10又は Ε 1/10。 (ルツ クス ·秒) を算出する。
注 7 ) 撮像性
感光材料を下記の環境条件で 1昼夜放置した後、 全自動製版機 E P L - 4 0 4 V (富士写真フィルム (株) 製) で E P L— Τをトナーとして用いて製版して得 られた複写画像 (カプリ、 画像の画質) を目視評価した。 撮像時の環境条件は、 2 0 °C、 6 5 %RH ( I ) 、 3 0 °C、 8 0 %RH (II) 及び 1 5 °C、 3 0 %RH (ΠΙ)で実施した。 但し、 複写用の原稿 (即ち、 版下原稿) には、 ほかの原稿を 切り抜いて、 貼り込みを行なって作成したものを用いた。
各感光材料において、 光導電層の平滑性、 静電特性についてはともに良好な性 能を示した。 しかし、 実際の撮像性を調べて見ると、 比較例 III — 3は、 過酷条 件下で複写画像として原稿以外に、 切り抜いて貼り込んだ部分の枠 (即ち、 貼り 込み跡) が非画像部の地汚れとしてあるいはベタ画像部に白ヌケのムラの発生が 認められた。 しかし、 本発明のものは、 いずれも、 地汚れのない、 鮮明な画像の ものが得られた。
更に、 これらをオフセッ ト印刷用原版として不感脂化処理して印刷した所、 本 発明のものはいずれも地汚れのない鮮明な画質の印刷物が 8千枚以上得られた。 しかし、 比較例 III — 3は、 過酷条件下で製版した原版では上記の貼り込み跡が 、 不感脂化処理でも除去されず、 刷り出しの印刷物から発生してしまうか、 ある いは製版画像のムラが印刷物に発生した。 以上のことより、 本発明の感光材料の みが、 良好な特性を与えることができた。
実施例 III - 2 9
樹脂 〔A - 2 7〕 5 g及ぴ澍脂 〔B - 2 2 4〕 3 5 g、 光導電性酸化亜鉛 2 0 O g、 ゥラニン 0. 0 2 g、 ローズべンガル 0. 0 4 g、 ブロムフヱノールプル — 0. 0 3 8、 無水フタル酸 0. 4 0 g及びトルエン 3 0 0 gの混合物を、 実施 例 III - 2 7と同様に以下操作して、 感光材料を作成した。
本発明の感光材料を、 実施例 III - 2 7と同様に操作して各性能を調べた所、 いずれも帯電性、 暗電荷保持率、 光感度に優れ、 実際の複写画像も高温 ·高湿 ( 3 0 °C、 8 0 % R H ) あるいは低温《低湿 ( 1 5 °C、 3 0 R H) の過酷な条件 においても、 地力プリ、 画像部のムラの発生のない、 鮮明な画像を与えた。 更に 、 これをオフセッ トマスターの原版として用いて印刷した所、 8千枚の所でも鮮 明な画質の印刷物を得た。
実施例 III — 3 0 -III 一 4 1
実施例 ΙΠ - 2 9 において、 樹脂 〔A— 2 7〕 5 g及び樹脂 〔B - 2 2 4〕 3 5 gの代わりに、 下記表— III 一 6の樹脂 〔A〕 6 g及び樹脂 〔B〕 3 4 gを用 いた他は、 実施例 III 一 2 9と同様にして各感光材料を作製した。
表一 III 一 6
Figure imgf000165_0001
本発明の感光材料はいずれも帯電性、 暗電荷保持率、 光感度に優れ、 実際の複 写画像も高温 ·高湿 ( 3 0で、 8 0 %RH) 、 低温 ·低湿 ( 1 5 °C、 3 0 %RH ) の過酷な条件においても地力プリ又は画像部のムラの発生や細線飛びの発生等 のない鮮明な画像を与えた。 更に、 オフセッ トマスター原版として印刷した所、
8千枚以上印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物が得られた。
実施例 IV— 1
樹脂 〔A— 1 0 3〕 7 g (固形分 3として) 、 樹脂 〔B— 2 0 1〕 3 3 g (固 形分量として) 、 光導電性酸化亜鉛 2 0 0 g、 下記構造のメチン色素 〔IV— I〕
0. 0 1 8 g、 無水フタル酸 0. 1 5 g及びトルエン 3 0 0 gの混合物をホモジ ナイザー (日本精機 (株) 製) 中、 回転数 6 X 1 03 r . p. m. で 8分間分散 して、 感光層形成物を調製し、 これを導電処理した紙に、 乾燥付着量が 2 5 g/ m2 となる様に、 ワイヤーバーで塗布し、 1 1 0 °Cで 1 0秒間乾燥し、 ついで暗 所で 2 0 °Cs 6 5 %RHの条件下で 2 4時間放置することにより、 電子写真感光 材料を作製した。 メチン色素 〔IV - I〕
Figure imgf000166_0001
比較例 IV— 1
実施例 IV— 1において、 樹脂 〔A— 1 0 3〕 7 g及び樹脂 〔B— 2 0 1〕 3 3 gの代わりに、 下記構造の樹脂 〔R— IV— 1〕 7 g及び樹脂 〔R - IV— 2〕 3 3 gを用いた他は、 実施例 IV— 1 と同様に操作して電子写真感光材料を作製した。
比較用樹脂 〔R— IV— 1〕
Figure imgf000166_0002
Mw: 8X 103
比較用樹脂 〔R— IV— 2〕
CH3
~~ (CH2― C n (CH2― CH ^r- -(CH -CHh-
I I I COOCH3 COOCH3 CO OH
Mw: 7X 10" (ランダム共重合体) 比較例 IV - 2
実施例 IV— 1 において、 樹脂 〔A— 1 0 3〕 7 g及び樹脂 〔B— 2 0 1〕 3 3 gの代わりに、 下記構造の樹脂 〔R— IV— 3〕 7 g及び樹脂 〔R— IV— 4〕 3 3 gを用いた他は、 実施例 IV— 1 と同様に操作して電子写真感光材料を作製した。
比較用樹脂 〔R— IV - 3〕 画 C(CH2)2S
Figure imgf000167_0001
Mw: 8.5X10 比較用樹脂 〔R— IV— 4〕 (CH2一
Figure imgf000167_0002
)2S -(CH2 - CH T7-(CH2 - CH> - COOCH3 C00H
Mw: 7.5X104 (グラフ ト型共重合体) これらの感光材料について、 撮像性及び印刷適性を調べた。 結果を表一 IV— 1 に示す。
表一 IV—:
実施例 IV - 1 比較例 IV- 1 比較例 IV - 2 光導電層の平滑性 (sec/cc) 注 1) 450 430 455 撮 像 性 注2)
I (20°C ,65%RH) 非常に良好 良 好 良 好
Π (30°C ,80%RH) 良 好 。連続階調部 1口 j 左 の中間濃度域
にムラが発生
•地力 ブ リ微
¾r ni (15oC ,30 RH) 良 好 ベタ画像部に 同 左 ヌケ ,ί¾·
生 版 保 水 性 注3) 良 好 良 好 極く微かに 地汚れ見ら れる
8千枚 刷り出しより 同 左 耐 刷 性 注4)
画像部に欠損
あり
表一 IV— 1に示した評価項目の実施の態様は以下の通りである。
注 1 ) 光導電層の平滑性:
感光材料は、 ベック平滑度試験機 (熊谷理工 (株) 製) を用い、 空気容量 1 c cの条件にて、 その平滑度 ( s e c Z c c ) を測定した。
注 2 ) 撮像性:
感光材料を下記の環境条件で 1昼夜放置した後、 感光材料を一 6 k Vで帯電し 、 光源として 2 . 8 mW出力のガリウム一アルミニウム—ヒ素半導体レーザー ( 発振波長 7 8 0 n m ) を用いて、 感光材料表面上で 6 4 e r / c m 2 の照射量 下で、 ピッチ 2 5 〃 m及びスキャニング速度 3 0 0 m/ s e cのスピー ド露光後 液体現像剤として、 E L P— T (富士写真フィ ルム (株) 製) を用いて現像し、 イソパラフィ ンァイソパー G (エツソ化学 (株) 製) 溶媒のリ ンス液で洗浄後定 着することで得られた複写画像 (カプリ、 画像の画質) を目視評価した。 撮像時 の環境条件は 2 0 °C、 6 5 % R H ( I ) . 3 0 °C、 8 0 % R H ( 1 1) 及び 1 5 °C 、 3 0 % R H ( I I I)で実施した。
注 3 ) 生版保水性:
感光材料を印刷用原版として用いる際の不感脂化処理による親水化の程度を、 下記の強制条件で処理して調べた。
感光材料そのもの (製版しない原版:即ち、 生版と略称) を富士写真フィ ルム (株) 製不感脂化処理液 E L P一 E Xを蒸留水で 5倍に希釈した水溶液を用いて 、 エッチングマシーンに 1回通した。 次に、 これらの版をハマダス夕一 (株) 製 ハマダスター 8 0 0 5 X型を用いて印刷し、 刷り出しから 5 , 0枚目の印刷物の地 汚れの有無を目視で評価した。
注 4 ) 耐刷性 :
感光材料を上記注 2 ) と同一の操作で製版した後、 E L P— E Xを用いて、 ェ ッチンダマシーンに 1回通した後、 印刷物の地汚れが目視で判別できるまでの印 刷枚数を調べた。
表一 IV- 1に示す様に、 本発明の感光材料は、 実際の複写画像で、 地力プリが なく、 細線 *細文字あるいは連続階調の網点部分等の高精細な画像部分が非常に 鮮明な画像が得られた。 且つ、 撮像時の環境条件が、 低温 ·低湿あるいは高温 · 高湿といつた過酷な条件下でも、 安定した鮮明な複写画像が得られた。
他方、 比較例 IV— 1及び IV - 2は、 常温 '常湿 ( I ) の環境条件では、 良好な 複写画像が得られたが、 環境条件が変動すると、 いずれも高精細な画像部分 (特 に連続階調の中間濃度部分) に濃度のムラが発生してしまつた。
次にオフセッ トマスター用印刷原版として、 不感脂化処理して、 印刷原版とし ての性能を調べた。
まず、 製版をしない前の感光材料を、 注 3 ) の不感脂化力を弱めた強制条件下 に不感脂化処理し、 実際に印刷して、 イ ンキの付着程度を観察した所、 本発明の 原版のみが良好で、 比較例 IV— 1及び IV— 2 ともィンキ付着の発生が見られた。 更に、 注 4 ) の様に実際に製版した感光材料を、 通常の不感脂化条件で処理し 、 印刷した所、 本発明の原版は、 地汚れの発生がなく、 画像の忠実な再現が認め られる印刷物を 8千枚得ることができた。
他方、 比較例 IV - 1及び比較例 IV - 2は、 環境条件が過酷な (I I ) 及び (I I I) で製版した原版は、 複写画像の再現不良のため、 刷り出しより印刷物の画像も不 良となった。
以上の事は、 本発明の樹脂 〔A〕 及び樹脂 〔B〕 が適切に酸化亜鉛粒子と相互 作用し、 且つ分光增感色素、 化学増感剤の酸化亜鉛粒子への吸着を阻害しない状 態を形成することで優れた電子写真特性を有すると同時に、 不感脂化処理液によ る不感脂化反応が容易に且つ充分に進行し易い伏態を形成している事及び樹脂 〔 B〕 の働きによる膜強度の著しい向上を達成していることを示すものと考えられ る。
実施例 IV - 2
樹脂 〔A— 1 1 1〕 6 g (固形分量として) 、 樹脂 〔B— 2 0 2〕 3 4 g (固 形分量として) 、 光導電性酸化亜鉛 2 0 0 g、 下記構造のメチン色素 〔IV— I I〕 0 . 0 2 0 s N —ヒ ドロキシマレイ ンイ ミ ド 0 . 2 0 g及びトルエン 3 0 0 g の混合物を、 実施例 IV— 1 と同様に操作して、 電子写真感光材料を作製した。 3K
Figure imgf000171_0001
この感光材料の皮膜性 (表面の平滑度) 、 静電特性及び撮像性を調べた。 更に 、 電子写真式平版印刷用原版として用いた時の印刷適性を調べた。 それらの結果 を表一 I V— 2に示す。
Figure imgf000172_0001
自 H 2c。
0¾3RH C<。
13RHC。
(seccc/ 21
; V 2I 表一 IV— 2に示した評価項目の静電特性の実施の態様は以下の通りである。 注 5 ) 静電特性:
温度 2 0で、 6 5%RHの暗室中で、 感光材料にペーパーアナライザ一 (川口 電機 (株) 製ペーパーアナライザ一 S P— 4 2 8型) を用いて、 一 6 k Vで 2 0 秒間コロナ放電させた後、 1 0秒間放置し、 この時の表面電位 V 10を測定した。 次いでそのまま暗中で 1 2 0秒間静置させた後の電位 V13。 を測定し、 1 2 0秒 間暗減衰させた後の電位の保持性、 即ち、 暗電荷保持率 〔DRR (%) 〕 を 〔 ( V ! 30 /Vio) X 1 0 0 (%) 〕 で求めた。
また、 コロナ放電により光導電層表面を一 5 0 0 Vに帯電させた後、 波長 7 8 0 nmの単色光で照射し、 表面電位 (V1()) が 1 Z 1 0に減衰するまでの時間を 求め、 これから露光量 E 1/10 (e r gZcm2 ) を算出する。 更に E 1/10測定と 同様にコロナ放電により— 5 0 0 Vに帯電させた後、 波長 7 8 0 nmの単色光で 照射し、 表面電位 (V10) が 1 1 0 0に減衰するまでの時間を求め、 これから 露光量 E!/ioo ( e r c m2 ) を算出する。 撮像時の環境条件は 2 0 °C、 6 5 R H (I) 、 3 0 °C、 8 0 %RH(II)及び 1 5 °C、 3 0 %RH (III) で実施し た。
本発明の感光材料は、 平滑性は良好で充分に均一な分散状態になっていた。 又 環境条件を変えて静電特性を調べた所、 条件が変動しても安定で且つ良好な値を 示した。 実際の撮像性においても、 原稿に対して忠実な複写画像を再現し、 且つ 地力プリ も認められなかった。 又、 オフセッ トマスター用原版として、 不感脂化 処理して、 印刷した所良好な印刷物が 1万枚得られた。
実施例 IV— 3〜IV— 2 2
実施例 IV— 2において、 樹脂 〔A— 1 1 1〕 及び樹脂 〔B— 2 0 2〕 に代えて 、 下記表一 IV— 3の各樹脂 〔A〕 及び各樹脂 〔B〕 に代えた他は、 実施例 IV— 1 と同様に操作して、 各電子写真感光体を作製した。 表一 IV— 3
Figure imgf000174_0001
これらの感光材料の実際の撮像性を調べた所、 細線 ·文字の再現性良好で中間 調のムラの発生もない、 地力プリの全くない鮮明な複写画像のものが得られた。 又、 オフセッ トマスター原版として用いて、 実施例 IV— 2と同様にして印刷し た所、 いずれも少なく とも、 8千枚以上印刷することができた。
以上から、 本発明の各感光材料は光電導層の平滑性、 膜強度、 静電特性及び印 刷適性の全ての点において良好なものであった。 さらに、 樹脂 〔Α ' 3 を用いる ことにより静電特性がさらに向上することが判った。
実施例 IV— 2 3〜IV— 2 6
実施例 IV— 1において用いた、 メチン色素 〔IV— I〕 の代わりに下記表一 IV— 4の色素に代えた他は、 実施例 IV— 1 と同様の条件で電子写真感光材料を作製し た。 表一 IV— 4
Figure imgf000175_0001
表一 IV - 4(つづき) 実施例 色 素 色素の化学構造
IV - 26 [IV- VI]
Figure imgf000176_0001
本発明の感光材料は、 いずれも帯電性、 暗電荷保持率、 光感度に優れ、 実際の 複写画像も高温 '高湿 ( 3 0 °C、 8 0 %RH) 及び低温 ·低湿 ( 1 5 °C、 3 0 % RH) の過酷な条件においても、 地力プリの発生のない鮮明な画像を与えた。 実施例 IV - 2 7及び IV - 2 8
樹脂 〔A— 1 3 0〕 6 gと樹脂 〔B— 2 1 1〕 3 4 g (実施例 IV— 2 7 ) ある いは樹脂 〔A— 1 1 7〕 6 gと樹脂 〔B— 2 0 8〕 3 4 g (実施例 IV— 2 8 ) と 、 光導電性酸化亜鉛 2 O O g、 ゥラニン 0. 0 2 g、 下記構造のメチン色素 〔IV -VII 3 0. 0 3 g, 下記構造のメチン色素 〔IV— VI II〕 0. 0 3 g、 p—ヒ ド ロキシ安息香酸 0. 1 8 g及びトルエン 3 0 0 gの混合物をホモジナイザー中で 回転数 7 X 1 03 r . p. m. で 5分間分散して感光層形成物を調整し、 これを 導電処理した紙に、 乾燥付着量が 2 0 g/m2 となる様にワイヤーバーで塗布し 、 1 1 0 °Cで 2 0秒間乾燥した。 次いで暗所で 2 0 °C、 6 5 %RHの条件下で 2 4時間放置することにより各電子写真感光体を作製した。
Figure imgf000177_0001
Figure imgf000177_0002
比較例 IV— 3
実施例 IV— 2 7において、 樹脂 〔A— 1 3 0〕 及び樹脂 〔B - 2 1 1〕 の代わ りに、 前記樹脂 〔R— IV— 1〕 6 g及び下記構造の樹脂 〔R— IV— 5〕 3 4 gを 用いた他は、 実施例 IV— 2 7と同様にして、 感光材料を作製した。 比較用樹脂 〔R - IV— 5〕
CH;
H00C-{CH2 — C -(CH,一 C r (CH-厂 CH ~
I I
- C00CH3
*C00(CH2)20C0(CH2)2S-(CH2— CH}- c COOCHa
N
Mw: 7.5X 104 実施例 IV - 1 と同様に、 感光材料の各特性を調べた。 その結果を下記表一 IV— にまとめた。
表— W— 5
Figure imgf000179_0001
上記の測定において、 静電特性及び撮像性については下記の操作に従った他は
、 実施例 IV— 1 と同様の操作で行なった。
注 6 ) 静電特性の E 及び E 1/1 ()Q の測定方法
コロナ放電により光導電層表面を一 4 0 0 Vに帯電させた後、 該光導電層表面 を照度 2. 0ルックスの可視光で照射し、 表面電位 (V10) が 1 Z 1 0又は 1 Z 1 0 0に減衰するまでの時間を求め、 これから露光量 E 又は E ικι。。 (ルツ クス ·秒) を算出する。
注 7 ) 撮像性
感光材料を下記の環境条件で 1昼夜放置した後、 全自動製版機 E P L— 4 0 4 V (富士写真フィルム (株) 製) で E P L— Tをトナーとして用いて製版して得 られた複写画像 (カプリ、 画像の画質) を目視評価した。 撮像時の環境条件は、 2 0 °C、 6 5 %RH ( I ) 3 0 °C、 8 0 %RH (II) 及び 1 5 °C、 3 0 %RH (III)で実施した。 但し、 複写用の原稿 (即ち、 版下原稿) には、 ほかの原稿を 切り抜いて、 貼り込みを行なって作成したものを用いた。
各感光材料において、 光導電層の平滑性、 静電特性についてはともに良好な性 能を示した。 しかし、 実際の撮像性を調べて見ると、 比較例 IV— 3は、 過酷条件 下で複写画像として原稿以外に、 切り抜いて貼り込んだ部分の枠 (即ち、 貼り込 み跡) が非画像部の地汚れとしてあるいはベタ画像部に白ヌケのムラの発生が認 められた。 しかし、 本発明のものは、 いずれも、 地汚れのない、 鮮明な画像のも のが得られた。
更に、 これらをオフセッ ト印刷用原版として不感脂化処理して印刷した所、 本 発明のものはいずれも地汚れのない鮮明な画質の印刷物が 8千枚以上得られた。 しかし、 比較例 IV— 3は、 過酷条件下で製版した原版では上記の貼り込み跡が、 不感脂化処理でも除去されず、 刷り出しの印刷物から発生してしまうか、 あるい は製版画像のムラが印刷物に発生した。 以上のことより、 本発明の感光材料のみ が、 良好な特性を与えることができた。
実施例 IV— 2 9
樹脂 〔 A - 1 1 6〕 5 g及び樹脂 〔 B - 2 0 5〕 3 5 g、 光導電性酸化亜鉛 2 0 0 g、 ゥラニン 0. 0 2 g、 ローズベンガル 0. 0 4 g、 ブロムフヱノ一ルブ ル一 0. 0 3 8、 無水フタル酸0. 4 0 g及びトルエン 3 0 0 gの混合物を、 実 施例 IV— 2 7と同様に以下操作して、 感光材料を作成した。
本発明の感光材料を、 実施例 IV— 2 7と同様に操作して各性能を調べた所、 い ずれも帯電性、 暗電荷保持率、 光感度に優れ、 実際の複写画像も高温 ·高湿 ( 3 0 °C、 8 0 %RH) あるいは低温 ·低湿 ( 1 5 °C、 3 0 %RH) の過酷な条件に おいても、 地力プリ、 画像部のムラの発生のない、 鮮明な画像を与えた。 更に、 これをオフセッ トマス夕一の原版として用いて印刷した所、 8千枚の所でも鮮明 な画質の印刷物を得た。
実施例 IV— 3 0〜IV— 4 1
実施例 IV— 2 9において、 樹脂 〔A— 1 1 6〕 5 g及び樹脂 〔B— 2 0 5〕 3 5 gの代わりに、 下記表— IV— 6の樹脂 〔A〕 6 g及び樹脂 〔B〕 3 4 gを用い た他は、 実施例 IV— 2 9と同様にして各感光材料を作製した。
表一 IV— 6
Figure imgf000181_0001
本発明の感光材料はいずれも帯電性、 暗電荷保持率、 光感度に優れ、 実際の複 写画像も高温 ·高湿 ( 3 0 °C、 8 0 %RH) 、 低温 ·低湿 ( 1 5 °C、 3 0 %RH ) の過酷な条件においても地力プリ又は画像部のムラの発生や細線飛びの発生等 のない鮮明な画像を与えた。 更にオフセッ トマス夕一原版として印刷した所、 8 千枚以上印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物が得られた。 産業上の利用可能性
本発明によれば、 静電特性 (とくに厳しい条件下での静電特性) に優れ、 鮮明 で良質な画像を与え、 優れた機械的強度を有する電子写真感光体を得ることがで きる。 特に、 半導体レーザ一光を用いたスキャニング露光方式に有効である。 特 定のメタクリ レート成分を含有する繰り返し単位を有する本発明の樹脂に用いる ことにより更に静電特性が向上する。

Claims

請 求 の 範 囲
1. 無機光導電体、 分光増感色素及び結着樹脂を少なく とも含有する光導電層 を有する電子写真感光体において、 該結着樹脂が、 下記樹脂 〔A〕 の少なく とも 1種及び下記樹脂 〔B〕 の少なく とも 1種を含有して成る事を特徵とする電子写 真感光体。
樹脂 〔A〕
1 X 1 03 〜 2 X 1 04 の重量平均分子量を有し、 一 P 03 H2 、 一 S 03 H 一 C 0〇 H、 — P (= 0) (OH) R 1 CR 1 は炭化水素基又は一 OR2 (R2 は炭化水素基を表す) を表す〕 及び環状酸無水物基から選択される少なく とも 1 種の極性基を有する重合体成分と下記一般式 ( I ) で示される重合体成分を含有 する高分子鎖を有機分子中に少なく とも 3個結合してなるスタ一型重合体であつ て、 該極性基を有する重合体成分を 1 ~ 2 0重量%含有し、 該一般式 ( I ) で示 される重合体成分を 3 0重量%以上含有する重合体。 一般式 ( I )
a 1 a 2
I I
- c H - c
C 00 - R3
〔式 ( I ) 中、 a 1 、 a 2 は各々水素原子、 ハロゲン原子、 シァノ基、 炭化水 素基、 — COOR4 又は炭化水素基を介した一 C OOR4 (ここで、 R4 は炭化 水素基を表す) を表す。 R3 は炭化水素基を表す。 〕
樹脂 〔B〕
3 X 1 0 ~ 1 X 1 06 の重量平均分子量を有し、 上記樹脂 〔A〕 で示される 特定の極性基のうちから選択される少なく とも 1種の極性基を有する重合体成分 を含有する Aプロックと上記樹脂 〔A〕 における一般式 ( I ) で示される重合体 成分を含有する Bプロックとを含む A Bプロック共重合体であつて、 Aプロ ク は該極性基を有する重合体成分を 0.0 5〜 1 0重量%含有し、 Bブロックは該一 般式 ( I ) で示される重合体成分を 3 0重量%以上含有する共重合体。
2. 上記樹脂 〔A〕 が一般式 ( I ) で示される重合体成分として、 下記一般 式 ( I a) 及び ( l b) で示されるァリール基含有のメタクリ レ一 ト成分のうち の少なく とも 1つを含有することを特徴とする請求項 1記載の電子写真感光体。 一般式 ( l a)
Figure imgf000184_0001
一般式 ( l b)
Figure imgf000184_0002
〔式 ( I a ) 及び ( I b ) 中、 T i 及び T2 は互いに独立に各々水素原子、 炭素 数 1〜 1 0の炭化水素基、 ハロゲン原子、 シァノ基、 一 CORa 又は一 C 00R a (Ra は炭素数 1〜 1 0の炭化水素基を表す) を表し、 及び L2 は各々一 C 00一とベンゼン環を結合する単結合又は連結原子数 1〜 4個の連結基を表す
3. 上記樹脂 〔B〕 において、 共重合体中に含有される特定の極性基含有重 合体成分の総量が、 上記樹脂 〔A〕 中に含有される特定の極性基含有重合体成分 の総量に対し 1 0重量%〜 5 0重量%であることを特徴とする請求項 1記載の電 子写真感光体。
4. 上記樹脂 〔A〕 において、 高分子鎖が極性基を有する重合体成分を含む Aプロックと一般式 ( I ) で示される重合体成分を含む Bプロックとから構成さ れる A Bプロック高分子鎖であることを特徵とする請求項 1記載の電子写真感光 体。
5. 上記樹脂 〔 B〕 力 Aブロックと Bブロックが結合した A Bブロック共 重合体であることを特徴とする請求項 1記載の電子写真感光体。
6 . 上記樹脂 〔 B〕 が、 Aプロックの Bブロックと結合する反対側の末端に 極性基含有重合体成分が結合した A Bプロック共重合体であることを特徴とする 請求項 1記載の電子写真感光体。
7 . 上記樹脂 〔 B〕 力 Aプロックの両端に Bプロックが結合した A Bプ口 ック共重合体であることを特徽とする請求項 1記載の電子写真感光体。
PCT/JP1992/001194 1991-09-19 1992-09-18 電子写真感光体 WO2004081667A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/064,056 US5382488A (en) 1991-09-19 1992-09-18 Electrophotographic light-sensitive material

Applications Claiming Priority (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26690391A JPH0580545A (ja) 1991-09-19 1991-09-19 電子写真感光体
JP3/266903 1991-09-19
JP3/302659 1991-10-23
JP30265991A JPH05113672A (ja) 1991-10-23 1991-10-23 電子写真感光体
JP4/139630 1992-05-06
JP4/139631 1992-05-06
JP13963192A JPH05313382A (ja) 1992-05-06 1992-05-06 電子写真感光体
JP13963092A JPH05313381A (ja) 1992-05-06 1992-05-06 電子写真感光体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2004081667A1 true WO2004081667A1 (ja) 2004-09-23

Family

ID=27472240

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP1992/001194 WO2004081667A1 (ja) 1991-09-19 1992-09-18 電子写真感光体

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5382488A (ja)
WO (1) WO2004081667A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE69227453T2 (de) * 1991-05-02 1999-03-18 Fuji Photo Film Co Ltd Elektrophotographischer photorezeptor
US6309784B1 (en) * 2000-02-14 2001-10-30 Lexmark International, Inc. Charge transport layers and/or charge generation layers comprising unsaturated aliphatic hydrocarbons and photoconductors including the same
WO2011145111A1 (en) * 2010-05-18 2011-11-24 Secretary, Department Of Information Technology (Dit) Micro/nano photoconductor

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02125266A (ja) * 1988-11-04 1990-05-14 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真式製版用印刷原版
JPH02127651A (ja) * 1988-11-08 1990-05-16 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光体
JPH02135457A (ja) * 1988-11-17 1990-05-24 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光体
JPH02167551A (ja) * 1988-11-08 1990-06-27 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光体
JPH032870A (ja) * 1989-05-31 1991-01-09 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真式平版印刷用原版
JPH0313951A (ja) * 1989-06-13 1991-01-22 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真式平版印刷用原版
JPH0317664A (ja) * 1989-06-15 1991-01-25 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真式平版印刷用原版
JPH0329954A (ja) * 1989-06-28 1991-02-07 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光体
JPH0339967A (ja) * 1989-07-07 1991-02-20 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真式平版印刷用原版
JPH0342665A (ja) * 1989-07-10 1991-02-22 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光体
JPH0342666A (ja) * 1989-07-10 1991-02-22 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光体
JPH0346665A (ja) * 1989-07-14 1991-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真式平版印刷用原版

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH039967A (ja) * 1989-06-06 1991-01-17 Dainichiseika Color & Chem Mfg Co Ltd 磁気記録媒体

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02125266A (ja) * 1988-11-04 1990-05-14 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真式製版用印刷原版
JPH02127651A (ja) * 1988-11-08 1990-05-16 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光体
JPH02167551A (ja) * 1988-11-08 1990-06-27 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光体
JPH02135457A (ja) * 1988-11-17 1990-05-24 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光体
JPH032870A (ja) * 1989-05-31 1991-01-09 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真式平版印刷用原版
JPH0313951A (ja) * 1989-06-13 1991-01-22 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真式平版印刷用原版
JPH0317664A (ja) * 1989-06-15 1991-01-25 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真式平版印刷用原版
JPH0329954A (ja) * 1989-06-28 1991-02-07 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光体
JPH0339967A (ja) * 1989-07-07 1991-02-20 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真式平版印刷用原版
JPH0342665A (ja) * 1989-07-10 1991-02-22 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光体
JPH0342666A (ja) * 1989-07-10 1991-02-22 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真感光体
JPH0346665A (ja) * 1989-07-14 1991-02-27 Fuji Photo Film Co Ltd 電子写真式平版印刷用原版

Also Published As

Publication number Publication date
US5382488A (en) 1995-01-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2004081667A1 (ja) 電子写真感光体
JPH0619147A (ja) 電子写真感光体
JPH04175761A (ja) 電子写真式平版印刷用原版
JP3112704B2 (ja) 電子写真感光体
JP3262375B2 (ja) 電子写真感光体
JP3176976B2 (ja) 電子写真感光体
JP3112715B2 (ja) 電子写真感光体
JP3112712B2 (ja) 電子写真感光体
JP3214672B2 (ja) 電子写真感光体
JP3166110B2 (ja) 電子写真感光体
JP3112713B2 (ja) 電子写真感光体
JP3112718B2 (ja) 電子写真感光体
JP3126195B2 (ja) 電子写真感光体
JP2982081B2 (ja) 電子写真感光体
JPH0651541A (ja) 電子写真感光体
WO1992020015A1 (en) Electrophotographic photoreceptor
WO1992018906A1 (en) Electrophotographic lithographic printing plate
WO1992018907A1 (en) Electrophotographic photoreceptor
JPH0534942A (ja) 電子写真感光体
JPH0430170A (ja) 電子写真感光体
JPH0425849A (ja) 電子写真感光体
JPH03238462A (ja) 電子写真感光体
JPH04182651A (ja) 電子写真式平版印刷用原版
JPH05113673A (ja) 電子写真感光体
JPH05313382A (ja) 電子写真感光体

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 08064056

Country of ref document: US

AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): US