JP3112704B2

JP3112704B2 - 電子写真感光体

Info

Publication number: JP3112704B2
Application number: JP03162322A
Authority: JP
Inventors: 栄一加藤; 一夫石井
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1991-06-07
Filing date: 1991-06-07
Publication date: 2000-11-27
Anticipated expiration: 2015-11-27
Also published as: JPH04361266A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
詳しくは静電特性及び耐湿性に優れた電子写真感光体に
関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真感光体は、所定の特性を得るた
め、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応じ
て、種々の構成をとる。

【０００３】電子写真感光体の代表的なものとして、支
持体上に光導電層が形成されている感光体及び表面に絶
縁層を備えた感光体があり、広く用いられている。支持
体と少なくとも１つの光導電層から構成される感光体
は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯電、
画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画像形
成に用いられる。

【０００４】更には、ダイレクト製版用のオフセット原
版として電子写真感光体を用いる方法が広く実用されて
いる。特に近年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から
数千枚程度の印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式
として重要となってきている。こうした状況の中で、電
子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結着
樹脂は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結着樹
脂への分散能力が優れるとともに、形成された記録体層
の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層の
光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰が
大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮影時の湿度の変
化によってこれら特性を安定に保持していることが必要
である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備す
る必要がある。

【０００５】更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用
原版の研究が鋭意行なわれており、電子写真感光体とし
ての静電特性と印刷原版としての印刷特性を両立させた
光導電層用の結着樹脂が必要である。

【０００６】無機光導電材料、分光増感色素及び結着樹
脂を少なくとも含有する光導電層において、結着樹脂の
化学構造によって、平滑性のみならず静電特性が大きく
影響を受けることが判ってきた。特に静電特性におい
て、暗中電荷保持率（Ｄ．Ｒ．Ｒ．）や光感度が大きく
左右される。

【０００７】これに対し、特開昭６３−２１７３５４
号、同６４−７０７６１号に記載の技術によれば、酸性
基含有重合成分が重合体主鎖にランダムに存在する低分
子量の樹脂あるいは重合体主鎖の片末端に酸性基を結合
して成る低分子量の樹脂を結着樹脂として用いる事で平
滑性及び静電特性を良化できる様になった。これらは、
該低分子量の樹脂が、光導電体の分散を充分に行ない光
導電体同志の凝集を抑制する効果を有すること及び光導
電体と分光増感色素との吸着を疎外しないで該無機光導
電体の化学量論的な欠陥に充分に吸着するとともに光導
電体の表面をゆるやかに且つ充分に被覆していることに
よると推定される。

【０００８】その作用機構により、無機光導電体の化学
量論的な欠陥部が多少変動しても、充分な吸着領域をも
つ事から比較的安定した無機光導電体、分光増感色素及
び樹脂同志の相互作用が保たれると推論される。

【０００９】そして、これらの低分子量の樹脂のみでは
不充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめるため
に、中〜高分子量の他の樹脂を併用する技術あるいは硬
化性基を含有した樹脂を併用して成膜後に硬化する技術
等が特開昭６４−５６４号、同６３−２２０１４９号、
同６３−２２０１４８号、特開平１−２８０７６１号、
同１−１１６６４３号、同１−１６９４５５号、同１−
２１１７６６号、同２−３４８５９号、同２−５３０６
４号、同２−５６５５８号、特願平１−１６３７９６
号、同１−２１２９９４号、同１−２２９３７９号、同
１−１８９２４５号等に記載されている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の樹脂又は樹脂の組合せを用いても、環境が高温・高湿
から低温・低湿まで著しく変動した場合における安定し
た性能の維持においてはいまだ不充分であることが判っ
た。半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
では、従来の可視光による全面同時露光方式に比べ、露
光時間が長くなり、また露光強度にも制約があることか
ら、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に対して、
より高い性能が要求される。

【００１１】特に、電子写真式平版印刷用原版におい
て、半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
を採用した場合，従来の感光体で実際に試験してみる
と、上記の静電特性が十分に満足できるものでなく、特
にＥ_1/2とＥ_1/10との差が大きく複写画像の階調が軟調
となり、更には露光後の残留電位を小さくするのが困難
となり、複写画像のカブリが顕著となってしまい、又、
オフセットマスターとして印刷しても、印刷物に印刷原
稿の貼り込み跡が出てしまう等の問題が現れた。

【００１２】更に、近年、線画及び網点から成る画像の
複写画像のみならず、連続階調から成る高精細な画像を
液体現像剤を用いて忠実に再現する技術の実現が望まれ
ているが、前記公知の技術はこれらの要望まで十分に満
足できるものではなかった。

【００１３】従来公知の技術においては、低分子量の樹
脂と併用する中〜高分子量の樹脂によって、上記低分子
量の樹脂で高性能化された静電特性が低下することがあ
り、実際に前記した様なこれら公知の樹脂の組合せで用
いた光導電層を有する電子写真感光体は、前述の様な高
精細な画像（特に連続階調画像）の忠実な複写画像の再
現性あるいは、低出力のレーザー光を用いたスキャンニ
ング露光方式による撮像性に対して、問題を生じ得るこ
とが明らかになった。

【００１４】本発明は、以上の様な従来公知の電子写真
感光体の有する課題を改良するものである。本発明の目
的は、複写画像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高
湿の如く変動した場合でも、常に安定して良好な静電特
性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真感光体
を提供することである。

【００１５】本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ
環境依存性の小さいＣＰＣ電子写真感光体を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効な電子写真感光体を
提供することである。

【００１６】本発明の更なる目的は、電子写真式平版印
刷原版として、静電特性（特に暗電荷保持性及び光感
度）に優れ、原画（特に高精細な連続階調画像）に対し
て忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面一様な
地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、また耐
刷性の優れた平版印刷原版を提供することである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記目的は無機光導電
体、分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光
導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
が、下記に示される樹脂〔Ａ〕の少なくとも１種及び下
記樹脂〔Ｂ〕の少なくとも１種を含有して成る事を特徴
とする電子写真感光体により達成されることが見出され
た。樹脂〔Ａ〕１×１０³〜２×１０⁴の重量平均分子量を有し、下記
一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位を重合体成分とし
て３０重量％以上含有し、且つ重合体主鎖の片末端に−
ＰＯ₃Ｈ₂、−ＳＯ₃Ｈ、−ＣＯＯＨ、−Ｐ（＝Ｏ）
（ＯＨ）Ｒ¹〔Ｒ¹は炭化水素基又は−ＯＲ²（Ｒ²は
炭化水素基を表す）を表す〕及び環状酸無水物基から選
択される少なくとも１種の極性基を結合してなる樹脂。

【００１８】

【化４】

【００１９】〔式（Ｉ）中、ａ¹、ａ²は各々水素原子、
ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−ＣＯＯＲ⁴又
は炭化水素基を介した−ＣＯＯＲ⁴（ここで、Ｒ⁴ は炭化
水素基を表す）を表す。Ｒ³は炭化水素基を表す。〕樹脂〔Ｂ〕２×１０⁴〜１×１０⁶の重量平均分子量を有し、上記樹
脂〔Ａ〕における一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位
を少なくとも１種重合体成分として３０重量％以上含有
し、上記樹脂〔Ａ〕で示される特定の極性基は含有しな
いブロックＡ部と上記樹脂〔Ａ〕で示される特定の極性
基のうちから選択される少なくとも１種の極性基を含有
する重合体成分を０．０５〜１０重量％含有するブロッ
クＢ部とを含むＡＢＡ型ブロック共重合体から成る樹
脂。

【００２０】即ち、本発明の結着樹脂は、上記一般式
（Ｉ）で示される重合体成分を含有する重合体主鎖の片
末端に上記特定の極性基を結合してなる低分子量重合体
（樹脂〔Ａ〕）と、上記式（Ｉ）で示される重合体成分
を含有するブロックＡ部と上記特定の極性基含有成分を
含有するブロックＢ部とを含むＡＢＡ型ブロック共重合
体（樹脂〔Ｂ〕）とから少なくとも構成される。

【００２１】種々検討の結果、前述の如く、低分子量の
極性基末端結合樹脂を中〜高分子量の樹脂と併用する公
知の技術においては、併用する中〜高分子量の樹脂によ
り、上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が低
下してしまうことのあることが判った。そして、これら
の中〜高分子量樹脂が、該光導電層中で、光導電体、分
光増感色素及び低分子量の樹脂同志の相互作用に更に適
切に相互作用させることも、予想以上に重要な原因であ
ることが明らかになってきた。

【００２２】かかる検討を重ねた結果、極性基を片末端
に結合する低分子量の樹脂〔Ａ〕と併用すべき中〜高分
子量の樹脂として、本発明に従う極性基非含有のブロッ
クＡと極性基含有のブロックＢとを含有するＡＢＡ型ブ
ロック共重合体を用いることにより、前記課題が有効に
解決されることが見出されたものである。

【００２３】この事は、本発明の結着樹脂〔Ａ〕及び
〔Ｂ〕の相乗効果により、光導電体粒子が充分に分散さ
れ且つ凝縮しない状態で存在し、更に分光増感色素が光
導電体粒子表面に充分に吸着されていること及び光導電
体表面の余分な活性サイトを結着樹脂が充分に吸着して
トラップを補償していること等によるものと推定され
る。

【００２４】即ち、特定の極性基を片末端に結合した低
分子量体の樹脂〔Ａ〕は、光導電体粒子に充分吸着して
該粒子を均一に分散し、その高分子鎖が非常に短いこと
により凝集を抑制すること、又、分光増感色素の吸着疎
外を起こさないこと等の重要な作用を有する。

【００２５】更に、特定の極性基を所定量含有するブロ
ックＢを該極性基を含有せず且つ特定の重合体成分で構
成されるブロックＡが両側に結合したＡＢＡ型ブロック
共重合体を用いることで、光導電層の機械的強度が充分
に保持されると同時に、静電特性（特に光感度）の向上
及び撮像性（特に連続階調画像の再現性）の向上が図ら
れた。

【００２６】樹脂〔Ｂ〕においては、極性基を含有する
ブロックＢ部分が無機光導電体と強く相互作用し、ブロ
ックＢ部の両端に存在する極性基を含まないブロックＡ
部分は高分子鎖間の絡み合いを促進する作用を有するも
のと考えられる。

【００２７】これらのことより、その詳細は不明である
が、光導電体粒子、分光増感色素、上記樹脂〔Ａ〕及び
樹脂〔Ｂ〕が共存した時に、これらが特に該色素の光導
電体粒子への吸着疎外の抑制あるいは電子写真的な相互
作用に適切に関与し、且つ光導電層の強度向上に効果を
もたらすことができたものと推定される。

【００２８】この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用
色素として特に有効なポリメチン色素あるいはフタロシ
アニン系顔料で特に顕著な効果を示した。一方、光導電
体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の電子写真感
光体を従来公知のダイレクト刷版として用いた場合には
優れた撮像性とともに著しく良好な保水性を示す。

【００２９】即ち、電子写真感プロセスを経て複写画像
を形成した本発明の感光体を、従来公知の不感脂化処理
液により非画像部を化学処理により不感脂化して、印刷
用原版とし、これをオフセット印刷により印刷した時に
優れた印刷用原版としての性能を示すものである。

【００３０】本発明の感光体を不感脂化処理すると、非
画像部の親水化が充分になされ、保水性が向上すること
から印刷枚数が飛躍的に向上した。このことは、不感脂
化処理で親水性表面に改質する働きをする酸化亜鉛の化
学反応が、容易に且つ多量に進行しうる状態を形成して
いることによるものと考えられる。即ち、結着樹脂とし
て用いた樹脂〔Ａ〕及び樹脂〔Ｂ〕の各々が酸化亜鉛粒
子を均一に充分分散していること及び酸化亜鉛粒子表面
・表面近傍の状態が不感脂化処理水溶液と迅速に相互作
用し反応を起こす様な分散状態を形成しているものと推
定される。

【００３１】更には本発明において、低分子量の樹脂
〔Ａ〕として、下記一般式（Ｉａ）及び一般式（Ｉｂ）
で示される、２位に、及び／又は２位と６位に特定の置
換基を有するベンゼン環又は無置換のナフタレン環を含
有する、特定の置換基をもつメタクリレート成分を含有
する樹脂〔Ａ〕（以降この低分子量体をとくに樹脂〔Ａ
Ａ〕と称する）であることが好ましい。

【００３２】

【化５】

【００３３】

【化６】

【００３４】〔式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）中、Ａ¹及びＡ
²は互いに独立に、それぞれ水素原子、炭素数１〜１０
の炭化水素基、塩素原子、臭素原子、−ＣＯＲ⁵又は−
ＣＯＯＲ⁵（Ｒ⁵は炭素数１〜１０の炭化水素基を示
す）を表す。

【００３５】Ｂ¹及びＢ²はそれぞれ−ＣＯＯ−とベン
ゼン環を結合する、単結合又は連結原子数１〜４個の連
結基を表わす。〕上記特定の樹脂〔ＡＡ〕を用いると樹
脂〔Ａ〕の場合よりもより一層電子写真特性（特に
Ｖ₁₀、Ｄ．Ｒ．Ｒ、Ｅ_1/10）の向上が達成できる。

【００３６】この事の理由は不明であるが、１つの理由
として、メタクリレートのエステル成分である、オルト
位に置換基を有する平面性のベンゼン環又はナフタレン
環の効果により、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマ
ー分子鎖の配列が適切に行なわれることによるものと考
えられる。

【００３７】以下に、本発明の結着樹脂について詳しく
説明する。まず、本発明の樹脂〔Ａ〕について説明す
る。樹脂〔Ａ〕の重量平均分子量は１×１０³〜２×１
０⁴、好ましくは３×１０³〜１×１０⁴であり、樹脂
〔Ａ〕のガラス転移点は好ましくは−３０℃〜１１０
℃、より好ましくは−２０℃〜９０℃である。

【００３８】樹脂〔Ａ〕の分子量が１×１０³より小さ
くなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度を保てず、
一方分子量が２×１０⁴より大きくなると、特に近赤外
〜赤外分光増感色素を用いた感光体において、高温・高
湿、低温・低湿の苛酷な条件下での暗減衰保持率及び光
感度の変動が多少大きくなり、安定した複写画像が得ら
れるいとう本発明の効果が薄れてしまう。

【００３９】樹脂〔Ａ〕における一般式（Ｉ）の繰り返
し単位に相当する重合体成分の存在割合は３０重量％以
上、好ましくは５０〜９７重量％、重合体主鎖の片末端
に結合する極性基の含有量は０．５〜１５重量％、好ま
しくは１〜１０重量％である。

【００４０】樹脂〔Ａ〕における極性基含有量が０．５
重量％より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度
を得ることができない。一方、該極性基含有量が１５重
量％よりも多いと、いかに低分子量体といえども分散性
が低下し、更にオフセットマスターとして用いるときに
地汚れが増大する。

【００４１】また、前記した一般式（Ｉａ）又は（Ｉ
ｂ）で示される特定のメタクリレ−ト成分を含有する、
片末端に極性基を結合する樹脂〔ＡＡ〕において、式
（Ｉａ）及び／又は式（Ｉｂ）の繰り返し単位に相当す
るメタクリレ−ト成分の存在割合は３０重量％以上、好
ましくは５０〜９７重量％、重合体主鎖の片末端に結合
する極性基の存在割合は樹脂〔Ａ〕中０．５〜１５重量
％、好ましくは１〜１０重量％である。

【００４２】次に樹脂〔Ａ〕中に３０重量％以上含有さ
れる、前記一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位を更に
説明する。ａ¹及びａ²は各々水素原子、ハロゲン原子
（例えば塩素原子、臭素原子）、シアノ基、炭素数１〜
４のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等）、−ＣＯＯＲ⁴又は炭化水素基を介し
た−ＣＯＯＲ⁴（ここで、Ｒ⁴ は炭素数１〜１８のアルキ
ル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基又はアリ
−ル基を表し、これらは置換されていてもよく、具体的
には下記Ｒ³で説明するものと同様のものを挙げられ
る）を表す。更に、ａ¹が水素原子であり、ａ²がメチル
基であることが好ましい。

【００４３】Ｒ³は炭素数１〜１８の置換されていても
よいアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル
基、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシ
ル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−
シアノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−メトキ
シエチル基、２−エトキシエチル基、３−ヒドロキシプ
ロピル基等）、炭素数２〜１８の置換されてもよいアル
ケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニ
ル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オク
テニル基等）、炭素数７〜１２の置換されてもよいアラ
ルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、ナフチ
ルメチル基、２−ナフチルエチル基、メトキシベンジル
基、エトキシベンジル基、メチルベンジル基等）、炭素
数５〜８の置換されてもよいシクロアルキル基（例え
ば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプ
チル基等）又は炭素数６〜１２の置換されてもよいアリ
−ル基（例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、
メシチル基、ナフチル基、メトキシフェニル基、エトキ
シフェニル基、フロロフェニル基、ジフロロフェニル
基、ブロモフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフ
ェニル基、ヨ−ドフェニル基、メトキシカルボニルフェ
ニル基、エトキシカルボニルフェニル基、シアノフェニ
ル基等）等が挙げられる。

【００４４】このような置換基Ｒ³を有する成分である
一般式（Ｉ）の繰り返し単位において、より好ましくは
前記一般式（Ｉａ）及び／又は一般式（Ｉｂ）で示され
る繰り返し単位の重合体成分が挙げられる。

【００４５】式（Ｉａ）において、好ましいＡ¹及びＡ
²として、互いに独立に各々水素原子、塩素原子及び臭
素原子の外に、炭素数１〜１０の炭化水素基として、好
ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基）、炭素数７〜９のア
ラルキル基（例えばベンジル基、フェネチル基、３−フ
ェニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジ
ル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキシ
ベンジル基、クロロメチルベンジル基）及びアリール基
（例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモフ
ェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基）、並びに−ＣＯＲ⁵及び−ＣＯＯＲ
⁵（好ましいＲ⁵としては上記の炭素数１〜１０の好ま
しい炭化水素基として記載したものを挙げることができ
る）を挙げることができる。

【００４６】式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）において、Ｂ¹及
びＢ²は各々−ＣＯＯ−とベンゼン環を結合する単結合
又は−（ＣＨ₂）_a−（ａは１〜３の整数を表す）、−
ＣＨ₂ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯ−、−（ＣＨ₂
Ｏ）_b−（ｂは１又は２の整数を表す）、−ＣＨ₂ＣＨ
₂Ｏ−等の如き連結原子数１〜４個の連結基であり、よ
り好ましくは単結合又は結合原子数１〜２個の連結基を
挙げることができる。

【００４７】本発明の樹脂〔Ａ〕で用いられる式（Ｉ
ａ）又は（Ｉｂ）で示される繰り返し単位の具体例を以
下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに限定される
ものではない。また、以下の（ａ−１）〜（ａ−２０）
において、ｃは１〜４の整数、ｄは０又は１〜３の整
数、ｅは１〜３の整数、Ｒ⁶はいずれも−ＣｃＨ_2c+1又
は−（ＣＨ₂）_d−Ｃ₆Ｈ₅（ただし、ｃ、ｄは上記と
同じ）を表し、Ｄ¹及びＤ²は同じでも異なってもよ
く、水素原子、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉのいずれかを表
す。

【００４８】

【化７】

【００４９】

【化８】

【００５０】

【化９】

【００５１】

【化１０】

【００５２】

【化１１】

【００５３】次に低分子量の樹脂〔Ａ〕の重合体主鎖の
片末端に結合する極性基について説明する。該極性基
は、−ＰＯ₃Ｈ₂、−ＳＯ₃Ｈ、−ＣＯＯＨ、−Ｐ（＝
Ｏ）（ＯＨ）Ｒ¹ 、環状酸無水物含有基から少なくとも
選ばれる。

【００５４】ここで、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）Ｒ¹は、下
記化１２で表わされる基を示し、ここにおいて該Ｒ¹は
炭化水素基又は−ＯＲ²基（Ｒ²は炭化水素基を表す）
を表し、具体的にはＲ¹は置換されていてもよい炭素数
１〜１２の脂肪族基（例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、オクタデシル基、２−クロロエチル
基、２−メトキシエチル基、３−エトキシプロピル基、
アリル基、クロトニル基、ブテニル基、シクロヘキシル
基、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル
基、メチルベンジル基、クロロベンジル基、フロロベン
ジル基、メトキシベンジル基等）又は置換されていても
よいアリ−ル基（フェニル基、トリル基、エチルフェニ
ル基、プロピルフェニル基、クロロフェニル基、フロロ
フェニル基、ブロモフェニル基、クロロ−メチル−フェ
ニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル基、シ
アノフェニル基、アセトアミドフェニル基、アセチルフ
ェニル基、ブトキシフェニル基等）等であり、Ｒ²はＲ
¹と同一の内容を表す。

【００５５】

【化１２】また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも１つの環状
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。

【００５６】脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、
コハク酸無水物、、グルタコン酸無水物環、マレイン酸
無水物環、シクロぺンタン−１，２−ジカルボン酸無水
物環、シクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸無水物
環、シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物環、
２，３−ビシクロ〔２．２．２〕オクタジカルボン酸無
水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば塩素原子、
臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチ
ル基、ヘキシル基等のアルキル基等が置換されていても
よい。

【００５７】また、芳香族ジカルボン酸無水物の例とし
ては、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無
水物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン
−ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、
例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基（アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、
エトキシ基等）等が置換されていてもよい。

【００５８】樹脂〔Ａ〕においては、該極性基は重合体
主鎖の片末端に結合されて含有される。該極性基は重合
体主鎖の片末端に直接結合してもよいし、連結基を介し
て結合してもよい。かかる連結基としては、いずれの結
合する基でもよいが、例えば具体的に挙げるとすれば、
−ＣＲ²¹Ｒ²²−〔ここでＲ²¹、Ｒ²²は同じでも異なって
いてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子（塩素原子、
臭素原子等）、ＯＨ基、シアノ基、アルキル基（メチル
基、エチル基、２−クロロエチル基、２−ヒドロキシエ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等）、アラ
ルキル基（ベンジル基、フェネチル基等）、フェニル基
等を表す〕、−（ＣＨＲ²¹−ＣＨＲ²²）−、−Ｃ₆Ｈ₁₀
−、−Ｃ₆Ｈ₄−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ²³−〔ここで
Ｒ²³は水素原子又は炭化水素基｛炭化水素基として具体
的には炭素数１〜１２の炭化水素基（例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基、ドデシル基、２−メトキシエチル基、
２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、ベンジル
基、メチルベンジル基、フェネチル基、フェニル基、ト
リル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、ブチ
ルフェニル基等）が挙げられる｝を表す〕、−ＣＯ−、
−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＯＮＲ²³−、−ＳＯ₂Ｎ
Ｒ²³−、−ＳＯ₂−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯＯ
−、−ＮＨＳＯ₂−、−ＣＯＮＨＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ
ＣＯＮＨ−、複素環（ヘテロ原子としてＯ、Ｓ、Ｎ等を
少なくとも一種含有する５もしくは６員環又はこれらの
縮合環であればいずれでもよく、例えばチオフェン環、
ピリジン環、フラン環、イミダゾール環、ピペリジン
環、モルホリン環等が挙げられる）又は−ＳｉＲ²⁴Ｒ²⁵
〔ここでＲ²⁴、Ｒ²⁵は同じでも異なっていてもよく、各
々炭化水素基又は−ＯＲ²⁶（ここでＲ²⁶は炭化水素基を
表す）を表す。これらの炭化水素基としては、Ｒ²³で挙
げたものと同様のものを挙げることができる〕等の結合
基の単独又はこれらの２以上の組合せにより構成された
連結基等が挙げられる。

【００５９】更に好ましくは樹脂〔Ａ〕は上記式
（Ｉ）で示される重合体成分〔式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）
で示されるものを含む〕とともに，これと共重合する重
合体成分として上記と同様の極性基のうちの少なくとも
一種を含有する共重合成分を０．０５〜１０重量％含有
することが、より静電特性を向上する上で好ましい。

【００６０】これらの共重合成分中の極性基は、前記し
た重合体主鎖の片末端に結合する極性基と同様の内容を
示すが、これらは互いに同じでも異なっていてもよい。
樹脂〔Ａ〕において、共重合成分として含有される極性
基と重合体主鎖の片末端に結合される極性基の存在割合
は、本発明の光導電層を構成する他の結着樹脂、分光増
感色素、化学増感剤又はそれ以外の添加剤の種類、量に
よって異なり、その割合は任意に調節することが好まし
い。重要なことは、両者の極性基の総量が０．５〜１５
重量％の範囲内で使用されることである。

【００６１】このような樹脂〔Ａ〕における任意の極性
基含有の共重合成分の具体例は、例えば一般式（Ｉ）
〔一般式（Ｉａ）、（Ｉｂ）も含む〕で示される繰り返
し単位に相当する単量体と共重合し得る該極性基を含有
するビニル系化合物であればいずれでもよく、例えば、
高分子学会編「高分子データ・ハンドブック〔基礎
編〕」培風館（１９８６年刊）等に記載されている。具
体的には、アクリル酸、α及び／又はβ置換アクリル酸
（例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、
α−（２−アミノ）エチル体、α−クロロ体、α−ブロ
モ体、α−フルオロ体、α−トリブチルシリル体、α−
シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロ−
β−メトキシ体、α，β−ジクロロ体等）、メタクリル
酸、イタコン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸
半アミド類、クロトン酸、２−アルケニルカルボン酸類
（例えば２−ペンテン酸、２−メチル−２−ヘキセン
酸、２−オクテン酸、４−メチル−２−ヘキセン酸、４
−エチル−２−オクテン酸等）、マレイン酸、マレイン
酸半エステル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼ
ンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスル
ホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基
又はアリル基の半エステル誘導体及びこれらのカルボン
又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換
基中に該極性基を含有する化合物等が挙げられる。

【００６２】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、ｂ¹は−Ｈ又は−ＣＨ₃を示し、ｂ²
は−Ｈ、−ＣＨ₃又は−ＣＨ ₂ＣＯＯＣＨ₃を示し、Ｒ
⁷は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁸は炭素数１
〜６のアルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示し、
ｆは１〜３の整数を示し、ｇは２〜１１の整数を示し、
ｈは１〜１１の整数を示し、ｉは２〜４の整数を示し、
ｊは２〜１０の整数を示す。

【００６３】

【化１３】

【００６４】

【化１４】

【００６５】

【化１５】

【００６６】

【化１６】

【００６７】

【化１７】

【００６８】

【化１８】

【００６９】

【化１９】

【００７０】

【化２０】

【００７１】

【化２１】

【００７２】

【化２２】

【００７３】

【化２３】

【００７４】

【化２４】

【００７５】更に低分子量体の樹脂〔Ａ〕は、前記した
一般式（Ｉ）、（Ｉａ）及び／又は（Ｉｂ）に相当する
単量体及び任意の前記極性基を含有する重合体成分に相
当する単量体と共に、これら以外の他の単量体を共重合
成分として含有してもよい。このような他の共重合成分
としては、例えば一般式（Ｉ）で説明した以外の置換基
を含有するメタクリル酸エステル類、アクリル酸エステ
ル類、クロトン酸エステル類に加え、α−オレフィン
類、カルボン酸ビニル又はアリル酸エステル類（例えば
カルボン酸として、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草
酸、安息香酸、ナフタレンカルボン酸等）、アクリロニ
トリル、メタクリロニトリル、ビニルエーテル類、イタ
コン酸エステル類（例えばジメチルエステル、ジエチル
エステル等）、アクリルアミド類、メタクリルアミド
類、メタクリル酸、アクリル酸、クロトン酸、イタコン
酸、イタコン酸無水物、スチレン類（例えばスチレン、
ビニルトルエン、クロロスチレン、ヒドロキシスチレ
ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチルスチレン、メトキシ
カルボニルスチレン、メタンスルホニルオキシスチレ
ン、ビニルナフタレン等）、ビニルスルホン含有化合
物、ビニルケトン含有化合物、複素環ビニル類（例えば
ビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾー
ル、ビニルチオフェン、ビニルイミダゾリン、ビニルピ
ラゾール、ビニルジオキサン、ビニルキノリン、ビニル
テトラゾール、ビニルオキサジン等）等が挙げられる
が、これらに限定されるものではない。これら他の単
量体は樹脂〔Ａ〕中３０重量％を超えないことが好まし
い。

【００７６】樹脂〔Ａ〕において、重合体主鎖の片末端
に極性基を結合する方法としては、従来公知のアニオン
重合あるいはカチオン重合によって得られるリビングポ
リマ−の末端に種々の主薬を反応させる方法（イオン重
合法による方法）、分子中に特定の極性基を含有した重
合開始剤及び／又は連鎖移動剤を用いてラジカル重合さ
せる方法（ラジカル重合法による方法）、あるはイオン
重合法もしくはラジカル重合法によって得られた末端に
反応基（例えばアミノ基、ハロゲン原子、エポキシ基、
酸ハライド基等）含有の重合体を高分子反応によって本
発明の特定の極性基に変換する方法等の合成法によって
容易に製造することができる。

【００７７】具体的には、Ｐ．Ｄｒｅｙｆｕｓｓａｎ
ｄＲ．Ｐ．Ｑｕｉｒｋ、Ｅｎｃｙｃｌ．Ｐｏｌｙｍ．
Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．、７、５５１（１９８７）、中篠善
樹、山下雄也「染料と薬品」３０、２３２（１９８
５）、上田明、永井進「化学と工業」６０、５７（１９
８６）等の総説及びそれに引例の文献、特許等に記載の
方法にしたがって合成することができる。

【００７８】用いることのできる連鎖移動剤としては、
例えば該極性基又は上記反応性基（即ち該極性基に誘導
しうる基）を含有するメルカプト化合物（例えばチオグ
リコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、２−メル
カプトプロピオン酸、３−メルカプトプロピオン酸、３
−メルカプト酪酸、Ｎ−（２−メルカプトプロピオニ
ル）グリシン、２−メルカプトニコチン酸、３−〔Ｎ−
（２−メルカプトエチル）カルバモイル〕プロピオン
酸、３−〔Ｎ−（２−メルカプトエチル）アミノ〕プロ
ピオン酸、Ｎ−（３−メルカプトプロピオニル）アラニ
ン、２−メルカプトエタンスルホン酸、３−メルカプト
プロパンスルホン酸、４−メルカプトブタンスルホン
酸、２−メルカプトエタノール、３−メルカプト−１，
２−プロパンジオール、１−メルカプト−２−プロパノ
ール、３−メルカプト−２−ブタノール、メルカプトフ
ェノール、２−メルカプトエチルアミン、２−メルカプ
トイミダゾール、２−メルカプト−３−ピリジノール、
４−（２−メルカプトエチルオキシカルボニル）フタル
酸無水物、２−メルカプトエチルホスホノ酸、２−メル
カプトエチルホスホノ酸モノメチルエステル等）、ある
いは上記極性基又は置換基含有のヨード化アルキル化合
物（例えばヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、２−ヨー
ドエタノール、２−ヨードエタンスルホン酸、３−ヨー
ドプロパンスルホン酸等）等が挙げられる。好ましくは
メルカプト化合物である。

【００７９】用いることのできる該極性基又は特定の反
応性基を含有する重合開始剤としては、例えば、４，
４’−アゾビス（４−シアノ吉草酸）、４，４’−アゾ
ビス（４−シアノ吉草酸クロライド）、２，２’−アゾ
ビス（２−シアノプロパノール）、２，２’−アゾビス
（２−シアノペンタノール）、２，２’−アゾビス〔２
−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンア
ミド、２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−〔１，１
−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル〕
プロピオンアミド｝、２，２’−アゾビス｛２−〔１−
（２−ヒドロキシエチル）−２−イミダゾリン−２−イ
ル〕プロパン｝、２，２’−アゾビス〔２−（２−イミ
ダゾリン−２−イル）プロパン〕、２，２’−アゾビス
〔２−（４，５，６，７−テトラヒドロ−１Ｈ−１，３
−ジアゾピン−２−イル）プロパン〕等又はこれらの誘
導体等が挙げられる。

【００８０】これらの連鎖移動剤又は重合開始剤は、各
々全単量体１００重量部に対して好ましくは０．１〜１
５重量部、より好ましくは２〜１０重量部である。ま
た、他の製造方法としては、分子中に本発明の特定の極
性基を置換基として含有するジチオカルバメート基含有
化合物又はザンテ−ト基含有化合物を光開始剤として用
いる光重合法を用いることができる。具体的には、後述
の樹脂〔Ｂ〕の製造法で引例した文献によって容易に合
成することができる。

【００８１】上記ジチオカルバメート基又はザンテ−ト
化合物として、例えば下記式（ＰＩ）又は（ＰＩＩ）で
示される化合物を挙げることができる。

【００８２】

【化２５】

【００８３】

【化２６】上記式（ＰＩ）及び（ＰＩＩ）中のＲ³¹〜Ｒ³³又はＲ³⁴
及びＲ³⁵のいずれか一つの置換基中に前記した特定の極
性基のうちの少なくとも一つを含有するものである。こ
こで、Ｒ³¹〜Ｒ³⁵は炭化水素基を表し、具体的には前記
一般式（Ｉ）のＲ³と同一の内のものを挙げられる。

【００８４】次に本発明の樹脂〔Ｂ〕について説明す
る。樹脂〔Ｂ〕は、一般式（Ｉ）で示される重合体成分
を３０重量％以上含有し且つ特定の極性基を含有しない
ブロックＡ部と特定の極性基含有の重合体成分を０．０
５〜１０重量％含有するブロックＢ部とを含むＡＢＡ型
ブロック共重合体からなる樹脂であり、該重合体は模式
的に示すと以下のようになっている。

【００８５】（ブロックＡ部）−（ブロックＢ部）−
（ブロックＡ部）ここで、両端にあるブロックＡ部は構造的に同じであっ
ても異なっていてもよく、それぞれ少なくともブロック
Ｂ部中の極性基成分を含まず且つ一般式（Ｉ）で示され
る重合体成分を含んでいればよい。またそれぞれの重合
体鎖の長さも同じであっても異なっていてもよい。

【００８６】樹脂〔Ｂ〕の重量平均分子量は２×１０⁴
〜１×１０⁶、好ましくは３×１０⁴〜５×１０⁵であ
る。樹脂〔Ｂ〕の分子量が２×１０⁴より小さくなる
と、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、また分
子量が１×１０⁶より大きくなると本発明の樹脂〔Ｂ〕
の効果が少なくなり、従来公知の樹脂と同程度の電子特
性になってしまう。

【００８７】該樹脂〔Ｂ〕のガラス転移点は、−１０℃
〜１００℃の範囲のものが好ましいが、より好ましくは
０℃〜９０℃である。樹脂〔Ｂ〕は、上記の様にＡＢＡ
型のブロック共重合体となっているが共重合体全体とし
ての各重合体成分の割合は上記の内容と同一のものであ
る。

【００８８】上記樹脂〔Ｂ〕中に含有される共重合成分
である一般式（Ｉ）で示される重合体成分及び特定の極
性基含有成分の具体的内容は、樹脂〔Ａ〕において説明
したと同様のものが挙げられる。

【００８９】ブロック共重合体〔Ｂ〕における、特定の
極性基含有成分の重合体成分量は、共重合体〔Ｂ〕中
０．０５〜１０重量％、好ましくは０．５〜８重量％の
割合で含有される。

【００９０】樹脂〔Ｂ〕における該極性基含有量が０．
０５重量部より少ないと、初期電位が低くて充分な画像
濃度を得ることができず、該極性基含有量が１０重量部
よりも多いと、分散性が低下し、膜平滑度及び高温高湿
下の電子写真特性が低下し、更にオフセットマスターと
して用いるときに地汚れが増大するため、好ましくな
い。

【００９１】更に、樹脂〔Ｂ〕中に含有される特定の極
性基含有の重合体成分は、樹脂〔Ａ〕中に含有される特
定の極性基含有重合体成分の総量に対して１０重量％〜
５０重量％の範囲で用いられることが好ましい。該量が
１０重量％より少ないと、電子写真特性（特に暗中電荷
保持率、光感度）の低下が著しく、膜の強度も低下す
る。また、５０重量％を超えると、分散の均一化が不充
分となり、電子写真特性が低下し、オフセット原版とし
ては保水性が低下する。

【００９２】一方、樹脂〔Ｂ〕においてブロックＡ部の
重合体成分として少なくとも含有される一般式（Ｉ）で
示される重合体成分量は、そのブロックＡ部における全
重量中、好ましくは３０重量％〜１００重量％、より好
ましくは５０重量％〜１００重量％である。

【００９３】また、樹脂〔Ｂ〕のブロックＡ部におい
て、上記した重合体成分以外に他の共重合体成分を含有
してもよく、かかる重合体成分としては好ましくは下記
一般式（ＩＩ）の繰り返し単位に相当する重合体成分が
挙げられる。

【００９４】

【化２７】

【００９５】〔式（ＩＩ）中、Ｘ¹は−ＣＯＯ−、−Ｏ
ＣＯ−、−（ＣＨ₂）_p−ＯＣＯ−、−（ＣＨ₂）_p−
ＣＯＯ−（ｐは１〜３の整数を表わす）、−Ｏ−、−Ｓ
Ｏ₂−、−ＣＯ−、−ＣＯＮ（Ｑ² ）−、−ＳＯ₂Ｎ
（Ｑ² ）−、−ＣＯＮＨＣＯＯ−、−ＣＯＮＨＣＯＮＨ
−又は−Ｃ₆Ｈ₄−を表わす（ここでＱ²は水素原子又
は炭化水素基を表わす）。

【００９６】Ｑ¹は炭化水素基を表わす。ｍ¹及びｍ²
は、互いに同じでも異なってもよく、前記式（Ｉ）中の
ａ¹、ａ²とそれぞれ同一の内容を表わす。〕ここで、
Ｑ²は水素原子のほか、好ましい炭化水素基としては、
炭素数１〜１８の置換されてもよいアルキル基（例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプ
チル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、２−クロロエチ
ル基、２−ブロモエチル基、２−シアノエチル基、２−
メトキシカルボニルエチル基、２−メトキシエチル基、
３−ブロモプロピル基等）、炭素数４〜１８の置換され
てもよいアルケニル基（例えば、２−メチル−１−プロ
ペニル基、２−ブテニル基、２−ぺンテニル基、３−メ
チル−２−ぺンテニル基、１−ぺンテニル基、１−ヘキ
セニル基、２−ヘキセニル基、４−メチル−２−ヘキセ
ニル基等）、炭素数７〜１２の置換されてもよいアラル
キル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等）、炭素数
５〜８の置換されてもよい脂環式基（例えば、シクロヘ
キシル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シクロぺ
ンチルエチル基等）、又は炭素数６〜１２の置換されて
もよい芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ト
リル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェ
ニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メ
トキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェ
ニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、
ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニ
ル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、エトキシカルボキシフェニル基、ブトキシカルボ
ニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオア
ミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等）が
挙げられる。

【００９７】Ｘ¹が−Ｃ₆Ｈ₄−を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子（例えば塩素原子、臭素原子等）、アルキル基
（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
クロロメチル基、メトキシメチル基等）、アルコキシ基
（例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブ
トキシ基等）等が挙げられる。

【００９８】Ｑ¹は、炭化水素基を表わし、好ましい炭
化水素基としては、炭素数１〜２２の置換されてもよい
アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、２−クロロエチ
ル基、２−ブロモエチル基、２−シアノエチル基、２−
メトキシカルボニルエチル基、２−メトキシエチル基、
３−ブロモプロピル基等）、炭素数４〜１８の置換され
てもよいアルケニル基（例えば、２−メチル−１−プロ
ペニル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、３−メ
チル−２−ぺンテニル基、１−ぺンテニル基、１−ヘキ
セニル基、２−ヘキセニル基、４−メチル−２−ヘキセ
ニル基等）、炭素数７〜１２の置換されてもよいアラル
キル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等）、炭素数
５〜８の置換されてもよい脂環式基（例えば、シクロヘ
キシル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シクロぺ
ンチルエチル基等）、炭素数６〜１２の置換されてもよ
い芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル
基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル
基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル
基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジク
ロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル
基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニ
ルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミ
ドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等）が挙
げられる。

【００９９】更に好ましくは、一般式（ＩＩ）におい
て、Ｘ¹は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ＯＣＯ
−、−ＣＨ₂ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＳＯ
₂ＮＨ−又は−Ｃ₆Ｈ₄−を表わす。

【０１００】更には、式（ＩＩ）に示される重合体成分
とともに該Ａブロック中に含有され得る重合体成分とし
て、該式（ＩＩ）の重合体成分と共重合しうる他の繰り
返し単位に相当する単量体、例えばアクリロニトリル、
メタクリロニトリル、複素環ビニル類（例えばビニルピ
リジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリドン、ビニ
ルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、
ビニルオキサジン等）等が挙げられる。これら他の単量
体は樹脂〔Ｂ〕の全重合体成分１００重量部中２０重量
部を超えない範囲で用いられる。

【０１０１】次に樹脂〔Ｂ〕におけるブロックＢ部の重
合体成分について説明する。本発明のＡＢＡ型ブロック
共重合体（樹脂〔Ｂ〕）のブロックＢ部における特定の
極性基を含有する重合成分の具体例としては、前記した
樹脂〔Ａ〕の特定の極性基を含有する重合体成分と同様
のものを挙げることができる。

【０１０２】上記の如き特定の極性基を含有する重合成
分は該ブロックＢ部中に２種以上含有されていてもよ
く、その場合における該２種以上の極性基含有成分は該
ブロックＢ部中においてランダム共重合又はブロック共
重合のいずれの態様で含有されていてもよい。

【０１０３】また、ブロックＢ部中には、上記の極性基
含有重合体成分とともに他の共重合体成分を含有しても
よい。他の共重合成分としては、ブロックＡ部で含有さ
れ得る前記重合体成分、即ち、一般式（Ｉ）、（ＩＩ）
及びその他の重合成分として記載したもの等を挙げるこ
とができる。これらの重合成分は、ブロックＢ部１００
重量部中９０〜９９．９５重量部である。

【０１０４】かかるブロックＢ部の極性基含有成分以外
の他の重合成分として好ましい成分は、前記一般式
（Ｉ）で示される成分において、ａ¹及びａ²のいずれ
もが水素原子を表し、且つＲ³の炭化水素が炭素数１〜
６の置換されていてもよいアルキル基（例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、
２−メトキシエチル基、２−チエニルエチル基、２，３
−ジクロロプロピル基等）を表すものを挙げることがで
きる。また、一般式（ＩＩ）で示される成分において、
ｍ¹及びｍ²のいずれもが水素原子を表し、且つＱ¹の
炭化水素が、上記Ｒ³にて好ましいと記載したものと同
様のものを表すものも同様に好ましい成分として挙げる
ことができる。更に、他の成分として挙げられたものも
用いることができるが、この場合、これらの共重合成分
類は、ブロックＢ部１００重量部中０．５〜１０重量部
内であることが好ましい。

【０１０５】本発明のＡＢＡ型ブロック共重合体〔Ｂ〕
は、従来公知の重合反応法によって製造することができ
る。具体的には、該特定の極性基を含有する重合体成分
に相当する単量体において該極性基を予め保護した官能
基としておき、有機金属化合物（例えばアルキルリチウ
ム類、リチウムジイソプロピルアミド、アルキルマグネ
シウムハライド類等）もしくはヨウ化水素／ヨウ素系等
によるイオン重合反応、ポルフィリン金属錯体を触媒と
する光重合反応又はグループ移動重合反応等の公知のい
わゆるリビング重合反応でＡＢブロック共重合体を合成
した後、極性基を保護した官能基を加水分解反応、加水
素分解反応、酸化分解反応又は光分解反応等によって脱
保護反応を行ない、極性基を形成させる方法が挙げられ
る。その１つの例を下記の反応スキーム（１）に示し
た。

【０１０６】

【化２８】

【０１０７】これらは、例えば、Ｐ．Ｌｕｔｚ、Ｐ．Ｍ
ａｓｓｏｎｅｔａｌ、Ｐｏｌｙｍ．Ｂｕｌｌ．１
２．，７９（１９８４）、Ｂ．Ｃ．Ａｎｄｅｒｓｏｎ、
Ｇ．Ｄ．Ａｎｄｒｅｗｓｅｔａｌ、Ｍａｃｒｏｍｏｌ
ｅｃｕｌｅｓ、１４、１６０１（１９８１）、Ｋ．Ｈａ
ｔａｄａ、Ｋ．Ｕｔｅ．ｅｔａｌ、Ｐｏｌｙｍ．Ｊ．１
７、９７７（１９８５）、１８、１０３７（１９８
６）、右手浩一、畑田耕一、高分子加工、３６、３６６
（１９８７）、東村敏延、沢本光男、高分子論文集、４
６、１８９（１９８９）、Ｍ．Ｋｕｒｏｋｉ、Ｔ．Ａｉ
ｄａ、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１０９、４７３７
（１９８７）、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、４
３、３００（１９８５）、Ｄ．Ｙ．Ｓｏｇａｈ、Ｗ．
Ｒ．Ｈｅｒｔｌｅｒｅｔａｌ．Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕ
ｌｅｓ、２０、１４７３（１９８７）、Ｍ．Ｍｏｒｔｏ
ｎ、Ｔ．Ｅ．Ｈｅｌｍｉｎｉａｋｅｔａｌ、Ｊ．Ｐｏ
ｌｙｍ．Ｓｃｉ．、５７、４７１（１９６２）、Ｂ．Ｇ
ｏｒｄｏｎＩＩＩ、Ｍ．Ｂｌｕｍｅｎｔｈａｌ、Ｊ．
Ｅ．Ｌｏｆｔｕｓ、Ｐｏｌｙｍ．Ｂｕｌｌ．、１１、
３４９（１９８４）、Ｒ．Ｂ．Ｂａｔｅｓ、Ｗ．Ａ．Ｂ
ｅａｖｅｒｓｅｔａｌ、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、４
４、３８００（１９７９）等に記載の合成方法に従って
容易に合成することができる。

【０１０８】又、本発明の特定の極性基の保護基による
保護及びその保護基の脱離（脱保護反応）については、
従来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。
例えば前記引用文献にも種々記載されており、更には、
岩倉義男、栗田恵輔、「反応性高分子」（株）講談社刊
（１９７７年）、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、「Ｐｒｏｔｅ
ｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳ
ｙｎｔｈｅｓｉｓ」，ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏ
ｎｓ（１９８１年）、Ｊ．Ｆ．Ｗ．ＭｃＯｍｉｅ、「Ｐ
ｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓｉｎＯｒｇａｎ
ｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ」ＰｌｅｎｕｍＰｒｅｓｓ、
（１９７３年）等の総説に詳細に記載されている方法を
適宜選択して行なうことができる。

【０１０９】更に、ＡＢＡ型ブロック共重合体〔Ｂ〕
は、極性基を保護しないままの単量体を用い、ジチオカ
ルバメート基を含有する化合物及び／又はザンテート基
を含有する化合物を開始剤として、光照射下に重合反応
を行なって合成することもできる。例えば、大津隆行、
高分子、３７，２４８（１９８８）、檜森俊一、大津隆
一、Ｐｏｌｙｍ．Ｒｅｐ．Ｊａｐ．３７．３５０８（１
９８８）、特開昭６４−１１１号、特開昭６４−２６６
１９号、東信行等、ＰｏｌｙｍｅｒＰｒｅｐｒｉｎｔ
ｓ、Ｊａｐａｎ、３６、（６）、１５１１（１９８
７）、Ｍ．Ｎｉｗａ、Ｎ．Ｈｉｇａｓｈｉ、ｅｔａｌ、
Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｃｉ．Ｃｈｅｍ．Ａ２４
（５）、５６７（１９８７）等に記載の合成方法に従っ
て合成することができる。

【０１１０】本発明の光導電層に供される結着樹脂とし
て、本発明の樹脂〔Ａ〕及び樹脂〔Ｂ〕以外に前記した
無機光導電体用の公知の樹脂を併用することもできる。
但し、これらの他の樹脂の使用割合は、全結着樹脂１０
０重量部中３０重量部を越えない範囲が好ましい。この
割合を越えると、本発明の効果は著しく低下してしま
う。

【０１１１】併用可能な他の樹脂としては例えば、代表
的なものは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン
−ブタジェン共重合体、スチレン−メタクリレート共重
合体、メタクリレート共重合体、アクリレート共重合
体、酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエ
ステル樹脂、ポリエステル樹脂等である。

【０１１２】具体的には、柴田隆治・石綿次郎「高分
子」第１７巻、第２７８頁（１９６８年）、宮本晴視・
武井英彦「イメージング」１９７３（Ｎｏ．８）第９
頁、中村孝一編「絶縁材料用バインダーの実際技術」第
１０章、Ｃ．Ｈ．Ｃ．出版（１９８５年刊）、Ｄ．Ｄ．
Ｔａｔｔ、Ｓ．Ｃ．Ｈｅｉｄｅｃｋｅｒ、Ｔａｐｐｉ、
４９（Ｎｏ．１０）、４３９（１９６６）、Ｅ．Ｓ．Ｂ
ａｌｔａｚｚｉ、Ｒ．Ｇ．Ｂｌａｎｃｌｏｔｔｅｅｔ
ａｌ、Ｐｈｏｔｏ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．１６（Ｎｏ．
５）、３５４（１９７２）、グエン・チャン・ケー、清
水勇、井上英一、電子写真学会誌１８（Ｎｏ．２）、
２８（１９８０）、特公昭５０−３１０１１号、特開昭
５３−５４０２７号、同５４−２０７３５号、同５７−
２０２５４４号、同５８−６８０４６号各号公報等に開
示の樹脂が挙げられる。

【０１１３】本発明の光導電層において用いられる結着
樹脂の総量は、無機光導電体１００重量部に対して、１
０重量部〜１００重量部であることが好ましく、より好
ましくは１５重量部〜５０重量部である。

【０１１４】本発明の樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の使用割
合は、樹脂〔Ａ〕／樹脂〔Ｂ〕の重量比で０．０５〜
０．８／０．９５〜０．２０であることが好ましく、よ
り好ましくは０．１０〜０．５０／０．９０〜０．５０
である。

【０１１５】結着樹脂の総量が１０重量部より少なくな
ると、光導電層の膜強度が維持できなくなる。又１００
重量部より多くなると、静電特性が低下し、実際の撮像
性においても複写画像の悪化を生じてしまう。

【０１１６】又、本発明の樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の使
用割合において樹脂〔Ａ〕の重量比が０．０５より小さ
くなると、静電特性向上の効果が薄れてしまう。一方
０．８より大きくなると光導電層の膜強度が充分維持で
きなくなる場合（特に電子写真式平版印刷用原版とし
て）が生じる。

【０１１７】本発明に使用する無機光導電材料として
は、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウ
ム、炭酸カドミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウ
ム、セレン化テルル、硫化鉛等が挙げられる。

【０１１８】本発明に使用する分光増感色素としては、
必要に応じて各種の色素を単独又は併用して用いる。例
えば、宮本晴視、武井英彦、イメージング１９７３（Ｎ
ｏ．８）第１２頁、Ｃ．Ｊ．Ｙｏｕｎｇ等、ＲＣＡＲ
ｅｖｉｅｗ１５、４６９（１０５４）、清田航平等、
電気通信学会論文誌Ｊ６３ −Ｃ（Ｎｏ．２）、９７
（１９８０）、原崎勇次等、工業科学雑誌６６７８及び
１８８（１９６３）、谷忠昭、日本写真学会誌３５、２
０８（１９７２）等の総説引例のカーボニウム系色素、
ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、キサ
ンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素（例
えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン
色素、ロダシアニン色素、スチリル色素等）、フタロシ
アニン色素（金属を含有してもよい）等が挙げられる。

【０１１９】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン
系色素を中心に用いたものとしては、特公昭５１−４５
２号、特開昭５０−９０３３４号、同５０−１１４２２
７号、同５３−３９１３０号、同５３−８２３５３号、
米国特許第３，０５２，５４０号、同４，０５４，４５
０号、特開昭５７−１６４５６号等に記載のものが挙げ
られる。

【０１２０】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、Ｆ．Ｍ．Ｈａｍｅｒ「ＴｈｅＣｙａｎｉｎｅＤ
ｙｅｓａｎｄＲｅｌａｔｅｄＣｏｍｐｏｕｎｄ」
等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には、
米国特許第３，０４７，３８４号、同３，１１０，５９
１号、同３，１２１，００８号、同３，１２５，４４７
号、同３，１２８，１７９号、同３，１３２，９４２
号、同３，６２２，３１７号、英国特許第１，２２６，
８９２号、同１，３０９，２７４号、同１，４０５，８
９８号、特公昭４８−７８１４号、同５５−１８８９２
号等に記載の色素が挙げられる。

【０１２１】更に７００ｎｍ以上の長波長の近赤外〜赤
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭４
７−８４０号、同４７−４４１８０号、特公昭５１−４
１０６１号、特開昭４９−５０３４号、同４９−４５１
２２号、同５７−４６２４５号、同５６−３５１４１
号、同５７−１５７２５４号、同６１−２６０４４号、
同６１−２７５５１号、米国特許第３，６１９，１５４
号、同４，１７５，９５６号、「ＲｅｓｅａｒｃｈＤ
ｉｓｃｌｏｓｕｒｅ」１９８２年、２１６、第１１７〜
１１８頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体
は種々の増感色素を併用させても、その性能が増感色素
により変動しにくい点において優れている。更には、必
要に応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写真
感光層用各種添加剤を併用することもできる。例えば、
前記した総説：イメージング１９７３（Ｎｏ．８）第１
２頁等の総説引例の電子受容性化合物（例えば、ハロゲ
ン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物有機カルボン
酸等）、小門宏等、「細菌の光導電材料と感光体の開発
・実用化」第４章〜第６章・日本科学情報（株）出版部
（１９８６年）の総説引例のポリアリールアルカン化合
物、ヒンダートフェノール化合物、ｐ−フェニレンジア
ミン化合物等が挙げられる。

【０１２２】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体１００重量部に対して０．０
００１〜２．０重量部である。光導電層の厚さは１〜１
００μ、特に１０〜５０μが好適である。

【０１２３】また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感
光体の電荷発生層として光導電層を使用する場合は電荷
発生層の厚さは０．０１〜１μ、特に０．０５〜０．５
μが好適である。

【０１２４】感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の
改善等を主目的として絶縁層を付設させる場合もある。
この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。

【０１２５】後者の場合、絶縁層の厚さは、５〜７０
μ、特には、１０〜５０μに設定される。積層型感光体
の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバゾール、オキ
サゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリフェニルメタ
ン系色素などがある。電荷輸送層の厚さとしては５〜４
０μ、特には１０〜３０μが好適である。

【０１２６】絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる
樹脂としては、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポ
リエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ−酢ビ共重合体
樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹
脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜
用いられる。

【０１２７】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基体に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基体の裏面（感光層を設け
る面と反対面）に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも１層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも１層以上のプレ
コート層が設けられたもの、Ａｌ等を蒸着した基体導電
化プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用でき
る。

【０１２８】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例としては、坂本幸男、電子写真、１４（Ｎｏ．
１）、Ｐ２〜１１（１９７５）、森賀弘之、「入門特殊
紙の化学」高分子刊行会（１９７５）、Ｍ．Ｆ．Ｈｏｏ
ｖｅｒ、Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｃｉ．Ｃｈｅｍ．Ａ
−４（６）、第１３２７〜第１４１７頁（１９７０）等
に記載されているもの等を用いる。

【０１２９】本発明の電子写真感光体を利用した電子写
真式印刷用原版を用いた印刷物の作成は、上記した構成
からなる電子写真用原版に常法により複写画像を形成
後、非画像部を不感脂化処理することで作成される。

【０１３０】酸化亜鉛の不感脂化方法としては、従来公
知の処理液のいずれをも用いることができる。例えば、
フェロシアン系化合物を不感脂化の主剤として用いた、
特開昭６２−２３９１５８号、同６２−２９２４９２
号、同６３−９９９９３号、同６３−９９９４号、特公
昭４０−７３３４号、同４５−３３６８３号、特開昭５
７−１０７８８９号、特公昭４６−２１２４４号、同４
４−９０４５号、同４７−３２６８１号、同５５−９３
１５号、特開昭５２−１０１１０２号各公報等が挙げら
れる。

【０１３１】しかし、該処理液の安全性の点から、以下
に挙げる処理液が好ましい。例えば、フィチン酸系化合
物を主剤として用いた、特公昭４３−２８４０８号、同
４５−２４６０９号、特開昭５１−１０３５０１号、同
５４−１０００３号、同５３−８３８０５号、同５３−
８３８０６号、同５３−１２７００２号、同５４−４４
９０１号、同５６−２１８９号、同５７−２７９６号、
同５７−２０３９４号、同５９−２０７２９号各公報に
記載のもの、金属キレ−ト形成可能な水溶性ポリマ−を
主剤として用いた、特公昭３８−９６６５号、同３９−
２２２６３号、同４０−７６３号、同４３−２８４０４
号、同４７−２９６４２号、特開昭５２−１２６３０２
号、同５２−１３４５０１号、同５３−４９５０６号、
同５３−５９５０２号、同５３−１０４３０２号各公報
等に記載のもの、金属錯体系化合物を主剤として用い
た、特開昭５３−１０４３０１号、特公昭５５−１５３
１３号、同５４−４１９２４号各公報等に記載のもの、
あるいは無機及び有機酸系化合物を主剤として用いた、
特公昭３９−１３７０２号、同４０−１０３０８号、同
４６−２６１２４号、特開昭５１−１１８５０１号、同
５６−１１１６９５号各公報等に記載されたもの等が挙
げられる。

【０１３２】本発明の電子写真感光体は、従来公知のあ
らゆる電子写真プロセスを利用した用途において利用す
ることができる。即ち、本発明の感光体はＰＰＣ方式お
よびＣＰＣ方式のいずれの記録方式にも利用でき、又、
現像剤として乾式現像剤あるいは液体現像剤のいずれの
組合せにも用いることができる。

【０１３３】特に、高精細なオリジナルの忠実な複写画
像形成が可能なことから、液体現像剤との組合せで利用
すると、本発明の効果がより発揮される。又カラー現像
剤との組合せとすることで、黒白複写画像のみならず、
カラー複写画像にも応用することができる（例えば、滝
沢九郎、「写真工業」３３、３４（１９７５年）、安西
正保、「電子通信学会技術研究報告７７、１７（１９７
７年）等に記載の方法）。

【０１３４】更に近年の電子写真プロセスを利用した他
の用途への利用のシステムにおいても有効である。例え
ば光導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の感
光体は、オフセット平版印刷用原版として、また無公害
で白色度の良好な光導電性酸化亜鉛あるいは光導電性酸
化チタンを用いた感光体は、オフセット印刷プロセスで
用いられる版下用記載材料あるいはカラープループ等に
用いることができる。

【０１３５】

【実施例】以下実施例により本発明を例証する。

【０１３６】

【樹脂〔Ａ〕の合成】樹脂〔Ａ］の合成例１：〔Ａ−１〕ベンジルメタクリレート９６ｇ、チオサリチル酸４ｇ及
びトルエン２００ｇの混合溶液を窒素気流下に温度７５
℃に加温した。Ａ．Ｉ．Ｂ．Ｎ．１．０ｇを加え４時間
反応した。更にＡ．Ｉ．Ｂ．Ｎ．を０．４ｇ加え２時
間、その後更にＡ．Ｉ．Ｂ．Ｎ．を０．２ｇ加え３時間
攪拌した。得られた共重合体〔Ａ−１〕は下記の構造を
有し、そのＭｗは６．８×１０³であった。（Ｍｗはポ
リスチレン換算によるＧＰＣ法の値を示す）。

【０１３７】

【化２９】

【０１３８】樹脂〔Ａ〕の合成例２〜１３：〔Ａ−２〕
〜〔Ａ〜１３〕樹脂〔Ａ〕の合成例１において、ベンジルメタクリレー
ト９６ｇに代えて、下記表−Ａの単量体を用いて、その
他は合成例１と同様に操作して各樹脂〔Ａ−２〕〜〔Ａ
−１３〕を合成した。各樹脂のＭｗは６．０×１０³〜
８×１０³であった。

【０１３９】

【表１】

【０１４０】

【表２】

【０１４１】

【表３】

【０１４２】樹脂〔Ａ〕の合成例１４〜２４：〔Ａ−１
４〕〜〔Ａ−２４〕樹脂〔Ａ〕の合成例１において、ベンジルメタクリレー
ト９６ｇ、チオサリチル酸４ｇに代えて、下記表−Ｂに
示すメタクリレート、メルカプト化合物を用い、またト
ルエン２００ｇに代えてトルエン１５０ｇ及びイソプロ
パノール５０ｇとした外は、合成例１と同様に反応して
各樹脂［Ａ−１４］〜［Ａ−２４］を合成した。得られ
た各共重合体のＭｗは６．８×１０³であった。

【０１４３】

【表４】

【０１４４】

【表５】

【０１４５】

【表６】

【０１４６】樹脂〔Ａ〕の合成例２５：〔Ａ−２５〕１−ナフチルメタクリレート１００ｇ、トルエン１５０
ｇ及びイソプロパノール５０ｇの混合溶液を窒素気流下
に温度８０℃に加温した。４，４′−アゾビス（４−シ
アノ）吉草酸（略称Ａ．Ｃ．Ｖ．）５．０ｇを加え５時
間攪拌した。更にＡ．Ｃ．Ｖ．を１ｇ加え２時間、その
後更にＡ．Ｃ．Ｖ．を１ｇ加え３時間攪拌した。得られ
た重合体のＭｗは７．５×１０³であった。

【０１４７】

【化３０】

【０１４８】樹脂〔Ａ〕の合成例２６：〔Ａ−２６〕メチルメタクリレート５０ｇ及び塩化メチレン１５０ｇ
の混合溶液を窒素気流下−２０℃に冷却した。直前に調
整した１０％１，１−ジフェニルヘキシルリチウムヘキ
サン溶液を１．０ｇ加え、５時間攪拌した。これに二酸
化炭素を流量１０ｍｌ／ｃｃで１０分間攪拌下に流した
後、冷却をやめて、反応混合物が室温になるまで攪拌放
置した。次にこの反応混合物を、１Ｎ塩酸５０ｃｃをメ
タノール１リットル中に溶かした溶液中に再沈し、白色
粉末を濾集した。この粉末を中性になるまで水洗した
後、減圧乾燥した。収量１８ｇで、Ｍｗは６．５×１０
³であった。

【０１４９】

【化３１】

【０１５０】樹脂〔Ａ〕の合成例２７：〔Ａ−２７〕ベンジルメタクリレート９７ｇアクリル酸、３ｇ下記構
造の開始剤〔Ｉ−１〕９．７ｇ及びテトラヒドロフラン
１００ｇの混合溶液を窒素気流下に温度５０℃に加温し
た。これを、４００Ｗの高圧水銀灯で１０ｃｍの距離が
ガラスフィルターを通して１２時間光照射し重合反応を
行なった。

【０１５１】得られた反応物をｎ−ヘキサン１リットル
中に再沈し、沈殿物を補集・乾燥して収量７５ｇでＭｗ
８×１０³の重合体を得た。

【０１５２】

【化３２】

【０１５３】

【化３３】

【０１５４】樹脂〔Ａ〕の合成例２８〜３３：〔Ａ−２
８〕〜〔Ａ−３３〕樹脂〔Ａ〕の合成例２７において、ベンジルメタクリレ
ート９７ｇの代わりに下記表−Ｃの重合体成分に相当す
る単量体を９７ｇ及び開始剤〔Ｉ−１〕９．７ｇの代わ
りに下記表−Ｃの開始剤〔Ｉ〕を各０．０４４モルを用
いた他は、構成例２７と同様に操作して、各重合体を得
た。各重合体のＭｗは７×１０³〜９×１０³の範囲で
あった。

【０１５５】

【表７】

【０１５６】

【表８】

【０１５７】樹脂〔Ｂ〕の合成例１：〔Ｂ−１〕メチルアクリレート９０ｇアクリル酸１０ｇ及び下記構
造の開始剤〔Ｉ−１〕１３．４ｇの混合溶液を、窒素気
流下に温度４０℃に加温した。この溶液に４００Ｗの高
圧水銀灯で１０ｃｍの距離からガラスフィルターを通し
て１０時間光照射し光重合した。得られた反応物をメタ
ノール１１中に再沈し、沈殿物を補集し乾燥して、収量
７８ｇで重合平均分子量（Ｍｗ）２×１０⁴の重合体を
得た。

【０１５８】

【化３４】

【０１５９】上記重合体１０ｇ、メチルメタクリレート
６５ｇ、メチルアクリレート２５ｇ及びテトラヒドロフ
ラン１００ｇの混合溶液を窒素気流下に温度５０℃に加
温した。この混合物を、上記と同様の条件で光照射を１
５時間行なった。

【０１６０】この反応物をメタノール１．５リットル中
に再沈し、沈殿物を補集・乾燥して得られた重合体の収
量は７５ｇでＭｗ８×１０⁴であった。

【０１６１】

【化３５】

【０１６２】樹脂〔Ｂ〕の合成例２：〔Ｂ−２〕樹脂〔Ｂ〕の合成例１において開始剤〔Ｉ−１〕１３．
４ｇの代わりに下記構造の開始剤１４．８ｇを用いた他
は、合成例１と同様の条件で反応処理をし、Ｍｗ５×１
０⁴の重合体を７３ｇ得た。

【０１６３】

【化３６】

【０１６４】

【化３７】

【０１６５】樹脂〔Ｂ〕の合成例３：〔Ｂ−３〕メチルメタクリレート８０ｇ、エチルアクリレート２０
ｇ、下記構造の開始剤〔Ｉ−３〕１３．５ｇ及びテトラ
ヒドロフラン１５０ｇの混合溶液を窒素気流下温度５０
℃に加温した。この混合物を、樹脂〔Ｂ〕の合成例１と
同様の条件で光照射を１０時間行なった。この反応物を
メタノール１ｌ中に再沈し、沈殿物を濾集・乾燥した。
上記重合体６０ｇ、メチルアクリレート３０ｇ、メタク
リル酸１０ｇ及びテトラヒドロフラン１００ｇの混合溶
液を窒素気流下温度５０℃とし、上記と同様にして光照
射を１０時間行なった。

【０１６６】この反応物をメタノール８００ｍｌ中に再
沈し、沈殿物を補集・乾燥し、粉末７５ｇを得た。

【０１６７】

【化３８】

【０１６８】更にこの重合体６０ｇ、エチルメタクリレ
ート３０ｇ、メチルアクリレート１０ｇ及びテトラヒド
ロフラン１００ｇの混合溶液を窒素気流中温度５０℃に
加温した。これを、上記と同様にして光照射を１０時間
行なった。

【０１６９】この反応物をメタノール８００ml中に再沈
し、沈殿物を補集・乾燥し、Ｍｗ９×１０⁴の重合体を
７５ｇ得た。

【０１７０】

【化３９】

【０１７１】樹脂〔Ｂ〕の合成例４：〔Ｂ−４〕メチルメタクリレート５０ｇ及びテトラヒドロフラン１
００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−２０
℃に冷却した。１，１−ジフェニルペンチルチウム１．
２ｇを加え１２時間反応した。更に、この混合溶液に、
メチルアクリレート３０ｇ、トリフェニルメチルメタク
リレート３ｇ及びテトラヒドロフラン５０ｇの混合溶液
を窒素気流下に充分に脱気した後添加し、８時間反応し
た。更に、メチルメタクリレート５０ｇ及びテトラヒド
ロフラン５０ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し
た後、上記及び液に添加し、１０時間反応した。

【０１７２】この混合物を０℃にした後、メタノール１
０ｍｌを加え３０分間反応し、重合を停止させた。得ら
れた重合体溶液を攪拌下にて温度３０℃とし、これに３
０％塩化水素エタノール溶液３ｍｌを加え１時間攪拌し
た。次に、減圧下に反応混合物を全体量が半分になるま
で溶媒を留去した後、メタノール１リットル中に再沈し
た。沈殿物を補集し、減圧乾燥して得られた重合体
は、Ｍｗ８．５×１０⁴で収量６５ｇであった。

【０１７３】

【化４０】

【０１７４】樹脂〔Ｂ〕の合成例５：〔Ｂ−５〕メチルメタクリレート７０ｇ、メチルアクリレート３０
ｇ（テトラフェニルポルフィナート）アルミニウムメチ
ル０．５ｇ及び塩化メチレン２００ｇの混合溶液を窒素
気流下にて温度３０℃とした。これに３００Ｗ−キセノ
ンランプ光をガラスフィルターを通して２５ｃｍの距離
から光照射し、１２時間反応した。この混合物に更に、
エチルアクリレート４０ｇ及びベンジルメタクリレート
６．４ｇを加え、同様にして光照射下１０時間反応し
た。更に、この混合物に、メチルメタクリレート７０ｇ
及びメチルアクリレート３０ｇを加え、同様に光照射下
に１２時間反応した。この反応混合物にメタノール３ｇ
を加えて３０分間攪拌し反応を停止させた。次にこの反
応混合物にＰｄ−Ｃを加え、温度２５℃で１時間接触還
元反応を行なった。

【０１７５】不溶物を濾別した後、メタノール２リット
ル中に再沈し、沈殿物を濾集・乾燥して、重合体１８０
ｇを得た。そのＭｗは８．５×１０⁴であった。

【０１７６】

【化４１】

【０１７７】樹脂〔Ｂ〕の合成例６〜１５：〔Ｂ−６〕
〜〔Ｂ−１５〕樹脂〔Ｂ〕の合成例２と同様の反応方法で、下記表−Ｄ
に示す樹脂〔Ｂ〕を合成した。

【０１７８】得られた共重合体のＭｗは５×１０⁴〜７
×１０⁴の範囲であった。

【０１７９】

【表９】

【０１８０】

【表１０】

【０１８１】

【表１１】

【０１８２】樹脂〔Ｂ〕の合成例１６〜１９：〔Ｂ−１
６〕〜〔Ｂ−１９〕樹脂〔Ｂ〕の合成例１において、開始剤〔Ｉ−１〕１
３．４ｇの代わりに下記表−Ｅの開始剤を各々５×１０
^-2モル用いた他は、合成例１と同様に操作して樹脂〔Ｂ
−１〕と同一組成の重合体を得た。

【０１８３】各重合体のＭｗは７×１０⁴〜８．５×１
０⁴であった。

【０１８４】

【表１２】

【０１８５】樹脂〔Ｂ〕の合成例２０〜２６：〔Ｂ−２
０〕〜〔Ｂ−２６〕ベンジルメタクリレート９０ｇ、アクリル酸１０ｇ及び
下記構造の開始剤〔Ｉ−８〕９．５ｇの混合溶液を、窒
素気流下に温度４０℃に加温した。これを、樹脂〔Ｂ〕
の合成例１と同様の光照射条件で５時間反応した。得ら
れた重合体をテトラヒドロフラン２００ｇに溶解後、メ
タノール１．５リットル中に再沈し、沈殿物を濾集・乾
燥した。

【０１８６】

【化４２】

【０１８７】この重合体を２００ｇ、下記表−Ｆに記載
の重合体成分に相当する各単量体、及びテトラヒドロフ
ラン１００ｇの混合溶液を、上記と同様の操作して光照
射して１５時間反応した。

【０１８８】得られた各重合体をメタノール１．５リッ
トル中に再沈し、沈殿物を濾集・乾燥して、Ｍｗ４×１
０⁴〜７×１０⁴の重合体を６０〜７０ｇ得た。

【０１８９】

【表１３】

【０１９０】

【表１４】

【０１９１】実施例１並びに比較例１及び２樹脂〔Ａ−６〕５ｇ（固形分量として）、樹脂〔Ｂ−
１〕３５ｇ（固形分量として）、光導電極酸化亜鉛２０
０ｇ下記構造のシアニン色素〔Ｉ〕０．０１８ｇ無水フ
タル酸０．４５ｇ及びトルエン３００ｇの混合物をホモ
ジナイザー（日本精機（株）製）中、回転数７×１０³
ｒｐｍで１０分間分散して、感光層形成物を調製し、こ
れを導電処理した紙に、乾燥付着量が２０ｇ／ｍ²とな
る様に、ワイヤーバーで塗布し、１１０℃で１０秒間乾
燥し、ついで暗所で２０℃、６５％ＲＨの条件下で２４
時間放置することにより、電子写真感光材料を作製し
た。

【０１９２】

【化４３】

【０１９３】比較例１：実施例１において、樹脂〔Ｂ−１〕３５ｇの代わりに下
記構造の樹脂〔Ｒ−１〕３４ｇを用いた他は、実施例１
と同様に操作して電子写真感光材料を作製した。

【０１９４】

【化４４】

【０１９５】比較例２：実施例１において、樹脂〔Ｂ−１〕３５ｇの代わりに下
記構造の樹脂〔Ｒ−２〕３５ｇとした他は、実施例１と
同様に操作して電子写真感光材料を作製した。

【０１９６】

【化４５】

【０１９７】これらの感光材料について、静電特性、撮
像性及び環境条件（２０℃、６５％ＲＨ）及び（３０
℃、８０％ＲＨ）とした時の撮像性を調べた。以上の結
果を表−Ｇに示す。

【０１９８】

【表１５】

【０１９９】表−Ｇに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。注１）静電特性：温度２０℃、６５％ＲＨの暗室中で、
各感光材料にペーパーアナライザー（川口電機（株）製
ペーパーアナライザーＳＰ−４２８型）を用いて−６ｋ
Ｖで２０秒間コロナ放電させた後、１０秒間放置し、こ
の時の表面電位Ｖ₁₀を測定した。次いでそのまま暗中で
９０秒間静置させた後の電位Ｖ₁₀₀を測定し、９０秒間
暗減衰させた後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率
〔ＤＲＲ（％）〕を（Ｖ₁₀₀／Ｖ₁₀）×１００（％）で
求めた。

【０２００】又コロナ放電により光導電層表面を−４０
０Ｖに帯電させた後、該光導電層表面をガリウム−アル
ミニウム−ヒ素半導体レーザー（発振波長７８０ｎｍ）
光で照射し、表面電位（Ｖ₁₀）が１／１０に減衰するま
での時間を求め、これから露光量Ｅ_1/10（ｅｒｇ／ｃｍ
²）を算出する。又、同様に表面電位（Ｖ₁₀）が１／１
００に減衰するまでの時間を求め、これから露光量Ｅ
_1/100 （ｅｒｇ／ｃｍ²）を算出する。測定時の環境条
件は、２０℃、６５％ＲＨ（Ｉ）と３０℃、８０％ＲＨ
（II）で行なった。注２）撮像性：各感光材料を以下の環境条件で１昼夜放
置した後、各感光材料を−６ｋＶで帯電し、光源として
２．８ｍＷ出力のガリウム−アルミニウム−ヒ素、半導
体レーザー（発振波長７８０ｎｍ）を用いて、感光材料
表面上で６４ｅｒｇ／ｃｍ²の照射量下、ピッチ２５μ
ｍ及びスキャニング速度３００ｍ／ｓｅｃのスピード露
光後液体現像剤として、ＥＬＰ−Ｔ（富士写真フイルム
（株）製）を用いて現像し、イソパラフィンアイソパー
Ｇ（エッソ化学（株）製）溶媒のリンス液で洗浄後定着
することで得られた複写画像（カブリ、画像の画質）を
目視評価した。

【０２０１】撮像時の環境条件は２０℃６５％ＲＨ
（Ｉ）と３０℃８０％ＲＨ（II）で実施した。表−Ｇに
示す様に、本発明の感光材料は、静電特性が良好で、実
際の複写画像も地カブリがなく複写画質も鮮明であっ
た。一方比較例Ａ，Ｂは、光感度Ｅ_1/10及びＥ_1/100の
低下が生じ、実際の複写画像でも細線・文字等のカスレ
や、リンス処理した後でも微かな地カブリが除去されず
に残存してしまった。

【０２０２】又、静電特性とは一致しないが、複写原稿
の連続階調部分の中間濃度でのムラ発生が生じてしまっ
た。本発明の感光体と比較例の感光体とではＥ_1/100値
が大きく異なる。Ｅ_1/100値は、実際の撮像性におい
て、露光後、非画像部（既に露光された部位）にどれだ
けの電位が残っているかを示すものであり、この値が小
さい程現像後の非画像部の地汚れが生じなくなる事を示
す。

【０２０３】具体的には−１０Ｖ以下の残留電位
（Ｖ _R ）にすることが必要となり、即ち実際にはＶ_R−
１０Ｖ以下とするために、どれだけ露光量が必要となる
かということで、半導体レーザー光によるスキャンニン
グ露光方式では、小さい露光量でＶ_Rを−１０Ｖ以下に
することは、複写機の光学系の設計上（装置のコスト、
光学系光路の精度等）非常に重要なことである。

【０２０４】以上のことより、本発明の樹脂を用いた場
合にのみ静電特性及び撮像性を満足する電子写真感光体
が得られ、特に半導体レーザー光スキャニング露光方式
の感光体システムに優位になることが明らかとなった。実施例２樹脂〔Ａ−４〕５ｇ（固形分量として）、樹脂〔Ｂ−
２〕３５ｇ（固形分量として）、光導電性酸化亜鉛２０
０ｇ、下記構造のメチン色素（II）０．０２０ｇ、Ｎ−
ヒドロキシマレインイミド０．２０ｇ及びトルエン３０
０ｇの混合物を、実施例１と同様に操作して、電子写真
感光材料を作製した。

【０２０５】

【化４６】

【０２０６】この感光材料の皮膜性（表面の平滑度）、
静電特性、撮像性及び環境条件を３０℃、８０％ＲＨと
した時の静電特性、撮像性を調べた。更に、電子写真式
平版印刷用原版として用いた時の印刷性を調べた。

【０２０７】

【表１６】

【０２０８】表−Ｈに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。注３）表面層の平滑性：得られた感光材料は、ベック平
滑度試験機（熊谷理工（株）製）を用い、空気容量１ｃ
ｃの条件にて、その平滑度（ｓｅｃ／ｃｃ）を測定し
た。注４）水との接触角：各感光材料を不感脂化処理液ＥＰ
Ｌ−ＥＸ（富士写真フイルム（株）製）を蒸留水で２倍
に希釈した溶液を用いて、エッチングプロセッサーに１
回通して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留
水２μｌの水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニ
オメーターで測定する。注５）耐刷性：前記注２）の撮像性と同条件にして、製
版して、トナー画像を形成し、上記注４）と同条件で不
感脂化処理し、これをオフセットマスターとして、オフ
セット印刷機（桜井製作所（株）製オリバー５２型）に
かけ、印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問
題が生じないで印刷できる枚数を示す（印刷枚数が多い
程、耐刷性が良好なことを表わす）。

【０２０９】表−Ｈに示す様に、本発明の感光材料は、
光導電層の平滑性膜の機械的強度及び静電特性が良好
で、実際の複写画像も地カブリがなく複写画質も鮮明で
あった。このことは光導電体と結着樹脂が充分に吸着
し、且つ、粒子表面を被覆していることによるものと推
定される。同様の理由で、オフセットマスター原版とし
て用いた場合でも不感脂化処理液による不感脂化処理が
充分に進行し、非画像部の水との接触角が１０度以下と
小さく、充分に親水化されていることが判る。実際に印
刷して印刷物の地汚れを観察しても地汚れは全く認めら
れず、鮮明な画質の印刷物が１万枚得られた。

【０２１０】以上の事は、本発明の樹脂〔Ａ〕と樹脂
〔Ｂ〕が適切に酸化亜鉛粒子と相互作用し、不感脂化処
理液による不感脂化反応が容易に且つ充分に進行し易す
い状態を形成している事及び樹脂〔Ｂ〕の働きによる膜
強度の著しい向上を達成していることを示すものであ
る。実施例３〜１８実施例２において、樹脂〔Ａ−４〕及び樹脂〔Ｂ−２〕
に代えて、下記表−Ｉの各樹脂〔Ａ〕及び各樹脂〔Ｂ〕
に代えた他は、実施例１と同様に操作して、各電子写真
感光体を作製した。

【０２１１】実施例２と同様にして静電特性を測定し
た。結果を表−Ｉに示す。

【０２１２】

【表１７】

【０２１３】又、これらの感光材料の実際の撮像性を調
べた所、細線・文字の再現性良好で中間調のムラの発生
もなく、地カブリの全くない鮮明な複写画像のものが得
られた。

【０２１４】又、オフセットマスター原版として用い
て、実施例２と同様にして印刷した所、いずれも少なく
とも１万枚以上印刷することができた。以上から、本発
明の各感光材料は光導電層の平滑性、膜強度、静電特性
及び印刷性の全ての点において良好なものであった。

【０２１５】さらに、樹脂〔ＡＡ〕を用いることにより
静電特性がさらに向上することが判った。実施例１９〜２２実施例１において用いた、シアニン色素〔Ｉ〕の代わり
に下記表−Ｊの色素に代えた他は、実施例１と同様の条
件で電子写真感光材料を作製した。

【０２１６】

【表１８】

【０２１７】

【表１９】

【０２１８】本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗
電荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高
湿の（３０℃、８０％ＲＨ）の過酷な条件においても、
地カブリの発生のない、鮮明な画像を良えた。実施例２３及び２４並びに比較例３樹脂〔Ａ−１〕（実施例２３）又は樹脂〔Ａ−２８〕
（実施例２４）のいずれか６．５ｇ、樹脂〔Ｂ−１７〕
３３．５ｇ、酸化亜鉛２００ｇ、ウラニン０．０２ｇ、
下記構造のメチン色素〔ＶII〕０．０３ｇ、下記構造の
メチン色素〔VIII〕０．０３ｇ、ｐ−ヒドロキシ安息香
酸０．１８ｇ及びトルエン３００ｇの混合物をホモジナ
イザー中で回転数７×１０³ｒｐｍで１０分間分散して
感光層形成物を調整し、これを導電処理した紙に、乾燥
付着量が２０ｇ／ｍ²となる様にワイヤーバーで塗布
し、１１０℃で２０秒間乾燥した。次いで暗所で２０
℃、６５％ＲＨの条件下で２４時間放置することにより
各電子写真感光体を作製した。

【０２１９】

【化４７】

【０２２０】

【化４８】

【０２２１】比較例３実施例２３において、樹脂〔Ｂ−１７〕３３．５ｇの代
わりに、下記構造の樹脂〔Ｒ−３〕３３．５ｇを用いた
他は、実施例２３と同様にして、感光材料を作製した。

【０２２２】実施例１と同様に、各感光材料の各特性を
調べた。その結果を下記表−Ｋにまとめた。

【０２２３】

【化４９】

【０２２４】

【表２０】

【０２２５】上記の測定において、静電特性及び撮像性
については下記の操作に従った他は、実施例１と同様の
操作で行なった。注６）静電特性のＥ_1/10及びＥ_1/100の測定方法コロナ放電により光導電層表面を−４００Ｖに帯電させ
た後、該光導電層表面を照度２．０ルックスの可視光で
照射し、表面電位（Ｖ₁₀）が１／１０又は１／１００に
減衰するまでの時間を求め、これから露光量Ｅ_1/10又は
Ｅ_1/100（ルックス・秒）を算出する。注７）撮像性各感光材料を以下の環境条件で１昼夜放置した後、全自
動製版機ＥＰＬ−４０４Ｖ（富士写真フイルム（株）
製）でＥＰＬ−Ｔをトナーとして用いて製版して得られ
た複写画像（カブリ、画像の画質）を目視評価した。撮
像時の環境条件は、２０℃６５％ＲＨ（Ｉ）と３０℃８
０％ＲＨ（II）で実施した。但し、複写用の原稿（即
ち、版下原稿）には、ほかの原稿を切り抜いて、貼り込
みを行なって作成したものを用いた。

【０２２６】各感光材料において、光導電層の平滑性及
び強度において、その差は認められなかった。しかし、
静電特性において、比較例３は、特に光感度Ｅ_1/100 の
値が大きく、これは高温、高湿になるとより一層助長さ
れ、劣化してしまった。本発明の感光材料の静電特性は
良好であり、更に、特定の置換基を有する樹脂〔Ａ〕を
用いた実施例２４は、非常に良好であり、特にＥ_1/100
の値が小さくなった。

【０２２７】実際の撮像性を調べて見ると、比較例３
は、複写画像として原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ
部分の枠（即ち、貼り込み跡）が非画像部の地汚れとし
て認められた。しかし、本発明のものは、いずれも、地
汚れのない、鮮明な画像のものが得られた。

【０２２８】更に、これらをオフセット印刷用原版とし
て不感脂化処理して印刷した所、本発明のものはいずれ
も地汚れのない鮮明な画質の印刷物が１万枚得られた。
しかし、比較例３は、上記の貼り込み跡が、不感脂化処
理でも除去されず、刷り出しの印刷物から発生してしま
った。

【０２２９】以上のことより、本発明の感光材料のみ
が、良好な特性を与えることができた。実施例２５樹脂〔Ａ−２２〕５ｇ及び樹脂〔Ｂ−２２〕３５ｇ、酸
化亜鉛２００ｇ、ウラニン０．０２ｇ、ローズベンガル
０．０４ｇ、ブロムフェノールブルー０．０３ｇ、無水
フタル酸０．４０ｇ及びトルエン３００ｇの混合物を、
実施例２４と同様に以下操作して、感光材料を作成し
た。

【０２３０】本発明の感光材料を、実施例２４と同様に
操作して各性能を調べた所、いずれも帯電性、暗電荷保
持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の
（３０℃、−８０％ＲＨ）の過酷な条件においても、地
カブリの発生のない、鮮明な画像を与えた。

【０２３１】更に、これをオフセットマスターの原版と
して用いて印刷した所、１万枚の所でも鮮明な画質の印
刷物を得た。実施例２６〜４９実施例２５において、樹脂〔Ａ−２２〕５ｇ及び樹脂
〔Ｂ−２２〕３５ｇの代わりに、下記表−Ｌの樹脂
〔Ａ〕５ｇ及び樹脂〔Ｂ〕３５ｇを用いた他は、実施例
２３と同様にして各感光材料を作製した。

【０２３２】

【表２１】

【０２３３】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿
（３０℃、８０％ＲＨ）の過酷な条件においても地カブ
リの発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を与え
た。

【０２３４】更にオフセットマスター原版として印刷し
た所、１万枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質
の印刷物が得られた。

【０２３５】

【発明の効果】本発明によれば、静電特性（とくに厳し
い条件下での静電特性）に優れた、鮮明で良質な画像を
有し、更に優れた機械的強度を有する電子写真感光体を
得ることができる。特に、半導体レーザー光を用いたス
キャニング露光方式に有効である。

【０２３６】式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）で示される特定の
メタクリレート成分を含有する繰り返し単位を本発明の
樹脂に用いることにより、更に静電特性が向上する。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03G 5/05 101

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】無機光導電材料、分光増感色素及び結着
樹脂を少なくとも含有する光導電層を有する電子写真感
光体において、該結着樹脂が、下記樹脂〔Ａ〕の少なく
とも１種及び下記樹脂〔Ｂ〕の少なくとも１種を含有し
て成ることを特徴とする電子写真感光体。樹脂〔Ａ〕１×１０³〜２×１０⁴の重量平均分子量を有し、下記一
般式（Ｉ）で示される繰り返し単位を重合体成分として
３０重量％以上含有し、且つ重合体主鎖の片末端に−Ｐ
Ｏ₃Ｈ₂、−ＳＯ₃Ｈ、−ＣＯＯＨ、−Ｐ（＝Ｏ）（Ｏ
Ｈ）Ｒ¹〔Ｒ¹は炭化水素基又は−ＯＲ²（Ｒ²は炭化水
素基を表す）を表す〕及び環状酸無水物基から選択され
る少なくとも１種の極性基を結合してなる樹脂。【化１】〔式（Ｉ）中、ａ¹、ａ²は各々水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基、炭化水素基、−ＣＯＯＲ⁴又は炭化水素
基を介した−ＣＯＯＲ⁴（ここで、Ｒ⁴ は炭化水素基を表
す）を表す。Ｒ³は炭化水素基を表す。〕樹脂〔Ｂ〕２×１０⁴〜１×１０⁶の重量平均分子量を有し、上記樹
脂〔Ａ〕における一般式（Ｉ）で示される繰り返し単位
を少なくとも１種重合体成分として３０重量％以上含有
し、上記樹脂〔Ａ〕で示される特定の極性基は含有しな
いブロックＡ部と上記樹脂〔Ａ〕で示される特定の極性
基のうちから選択される少なくとも１種の極性基を含有
する重合体成分を０．０５〜１０重量％含有するブロッ
クＢ部とを含むＡＢＡ型ブロック共重合体から成る樹
脂。
【請求項２】上記樹脂〔Ａ〕が、一般式（Ｉ）で示さ
れる共重合体成分として下記一般式（Ｉａ）及び下記一
般式（Ｉｂ）で示されるアリール基含有のメタクリレー
ト成分のうちの少なくとも１つを含有することを特徴と
する請求項１記載の電子写真感光体。【化２】【化３】〔式（Ｉａ）及び（Ｉｂ）中、Ａ¹及びＡ²は互いに独
立に各々水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、塩素
原子、臭素原子、−ＣＯＲ⁵又は−ＣＯＯＲ⁵（Ｒ⁵は
炭素数１〜１０の炭化水素基を表す）を表し、Ｂ¹及び
Ｂ²は各々−ＣＯＯ−とベンゼン環を結合する単結合又
は連結原子数１〜４個の連結基を表す。〕
【請求項３】上記樹脂〔Ｂ〕において、全共重合体中
に含有される特定の極性基含有重合体成分の含有率（重
量％）が、上記樹脂〔Ａ〕中に含有される特定の極性基
含有重合体成分の含有率（重量％）の、１０％〜５０％
であることを特徴とする請求項１又は２記載の電子写真
感光体。