JPH02135457A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0592—Macromolecular compounds characterised by their structure or by their chemical properties, e.g. block polymers, reticulated polymers, molecular weight, acidity
-
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0589—Macromolecular compounds characterised by specific side-chain substituents or end groups
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性及び
耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。
耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。
特にCPC感光体として性能の優れたものに関する。
(従来の技術)
電子写真感光体は、所定の特性を得るため、あるいは適
用される電子写真プロセスの種類に応じて、種々の構成
をとる。
用される電子写真プロセスの種類に応じて、種々の構成
をとる。
電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光導
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。
支持体と少なくとも1つの光導電層から構成される感光
体は、最も一触的な電子写真プロセスによる、即ち帯電
、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画像
形成に用いられる。
体は、最も一触的な電子写真プロセスによる、即ち帯電
、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画像
形成に用いられる。
更には、ダイレクト製版用のオフセット原版として電子
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。特に近
年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数十枚程度の
印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要と
なってきている。
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。特に近
年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数十枚程度の
印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要と
なってきている。
電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結
合剤は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結合剤
中への分散能力が優れるとともに、形成された記録体層
の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層の
光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰が
大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮像時の湿度の変
化によってこれら特性を安定に保持していることが必要
である等の各種の静電特性および優れた撮1象性を具備
する必要がある。
合剤は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結合剤
中への分散能力が優れるとともに、形成された記録体層
の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層の
光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰が
大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮像時の湿度の変
化によってこれら特性を安定に保持していることが必要
である等の各種の静電特性および優れた撮1象性を具備
する必要がある。
古くから公知の樹脂として、例えばシリコーン樹脂(特
公昭34−6670号)、スチレン−ブタジェン樹脂(
特公昭35−1960号)、アルキッド樹脂、マレイン
酸樹脂、ポリアミド(特公昭35−11219号)、酢
酸ビニル樹脂(特公昭41−2425号)、酢酸ビニル
共重合体(特公昭41−2426号)、アクリル樹脂(
特公昭35−11216号)、アクリル酸エステル共重
合体(例えば特公昭35−11219号、特公昭36−
8510号、特公昭41−13946号等)等が知られ
ている。
公昭34−6670号)、スチレン−ブタジェン樹脂(
特公昭35−1960号)、アルキッド樹脂、マレイン
酸樹脂、ポリアミド(特公昭35−11219号)、酢
酸ビニル樹脂(特公昭41−2425号)、酢酸ビニル
共重合体(特公昭41−2426号)、アクリル樹脂(
特公昭35−11216号)、アクリル酸エステル共重
合体(例えば特公昭35−11219号、特公昭36−
8510号、特公昭41−13946号等)等が知られ
ている。
しかし、これらの樹脂を用いた電子写真感光材料におい
ては、1)光導電性粉体との親和性が不足し、塗工液の
分散性が不良となる、2)光導電層の帯電性が低い、3
)複写画像の画像部(特に網点再現性・解像力)の品質
が悪い、4)複写画像作成時の環境(例えば高温高温、
低温低湿等)にその画質が影響されやすい、等のいずれ
かの問題があった。
ては、1)光導電性粉体との親和性が不足し、塗工液の
分散性が不良となる、2)光導電層の帯電性が低い、3
)複写画像の画像部(特に網点再現性・解像力)の品質
が悪い、4)複写画像作成時の環境(例えば高温高温、
低温低湿等)にその画質が影響されやすい、等のいずれ
かの問題があった。
光導電層の静電特性の改良方法として種々の方法が提案
されており、その1つの方法として、例えば、芳香族環
又はフラン環にカルボキシル基又はニトロ基を含有する
化合物、あるいはジカルボン酸の無水物を更に組合せて
、光導電層に共存させる方法が特公昭42−6878号
及び特公昭45−3073号に開示されている。しかし
、これらの方法によって改良された感光材料でもその静
電特性は充分でなく、特に光減衰特性の優れたものは得
られていない。そこでこの感光材料の感度不足を改良す
るために、光導電層中に増感色素を多量に加える方法が
従来とられてきたが、このような方法によって作製され
た感光材料は、白色度が著しく劣化し、記録体としての
品質低下を生じ、場合によっては感光材料の暗減衰の劣
化を起こし、充分な複写画像が得られなくなってしまう
という問題を有していた。
されており、その1つの方法として、例えば、芳香族環
又はフラン環にカルボキシル基又はニトロ基を含有する
化合物、あるいはジカルボン酸の無水物を更に組合せて
、光導電層に共存させる方法が特公昭42−6878号
及び特公昭45−3073号に開示されている。しかし
、これらの方法によって改良された感光材料でもその静
電特性は充分でなく、特に光減衰特性の優れたものは得
られていない。そこでこの感光材料の感度不足を改良す
るために、光導電層中に増感色素を多量に加える方法が
従来とられてきたが、このような方法によって作製され
た感光材料は、白色度が著しく劣化し、記録体としての
品質低下を生じ、場合によっては感光材料の暗減衰の劣
化を起こし、充分な複写画像が得られなくなってしまう
という問題を有していた。
一方、光導電層に用いる結着樹脂として樹脂の平均分子
量を調節して用いる方法が特開昭6010254号に開
示されている。即ち、酸価4〜50のアクリル樹脂で平
均分子量が103〜10’の分布の成力・のものと、1
0’〜2X105の分布の成分のものを併用することに
より、静電特性(特にPPC感光体としての繰り返し再
現性)、耐湿性等を改良する技術が記載されている。
量を調節して用いる方法が特開昭6010254号に開
示されている。即ち、酸価4〜50のアクリル樹脂で平
均分子量が103〜10’の分布の成力・のものと、1
0’〜2X105の分布の成分のものを併用することに
より、静電特性(特にPPC感光体としての繰り返し再
現性)、耐湿性等を改良する技術が記載されている。
更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究が
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂として、例えば、特公昭50−31011号で
は、フマル酸存在下で(メタ)アクリレート系モノマー
と他のモノマーと共重合させた、Mtml、8〜10x
lO’でTglo〜80゛cの樹脂と、(メタ)アクリ
レート系モノマーとフマル酸以外の他のモノマーとから
成る共重合体とを併用したもの、又特開昭535402
7号では、カルボン酸基をエステル結合から少なくとも
原子数7個離れて有する置換基をもつ(メタ)アクリル
酸エステルを含む三元共重合体を用いるもの、又特開昭
54−20735号・特開昭57−202544号では
、アクリル酸及びヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
トを含む4元又は5元共重合体を用いるもの、又特開昭
58−68046号では、炭素数6〜12のアルキル基
を置換基とする(メタ)アクリル酸エステル及びカルボ
ン酸含有のビニルモノマーを含む3元共重合体を用いる
もの等が光導電層の不感脂化性の向上に効果があると記
載されている。
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂として、例えば、特公昭50−31011号で
は、フマル酸存在下で(メタ)アクリレート系モノマー
と他のモノマーと共重合させた、Mtml、8〜10x
lO’でTglo〜80゛cの樹脂と、(メタ)アクリ
レート系モノマーとフマル酸以外の他のモノマーとから
成る共重合体とを併用したもの、又特開昭535402
7号では、カルボン酸基をエステル結合から少なくとも
原子数7個離れて有する置換基をもつ(メタ)アクリル
酸エステルを含む三元共重合体を用いるもの、又特開昭
54−20735号・特開昭57−202544号では
、アクリル酸及びヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
トを含む4元又は5元共重合体を用いるもの、又特開昭
58−68046号では、炭素数6〜12のアルキル基
を置換基とする(メタ)アクリル酸エステル及びカルボ
ン酸含有のビニルモノマーを含む3元共重合体を用いる
もの等が光導電層の不感脂化性の向上に効果があると記
載されている。
しかしながら、上記した静電特性、耐湿特性に効果があ
るとされる樹脂であっても、現実に評価してみると特に
帯電性、暗電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導電
層の平滑性等に問題があり、実用上満足できるものでは
なく、又、電子写真式平版印刷用原版として開発された
とする結着樹脂においても、現実に評価してみると前記
の静電特性、印刷物の地汚れ、等に問題があった。
るとされる樹脂であっても、現実に評価してみると特に
帯電性、暗電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導電
層の平滑性等に問題があり、実用上満足できるものでは
なく、又、電子写真式平版印刷用原版として開発された
とする結着樹脂においても、現実に評価してみると前記
の静電特性、印刷物の地汚れ、等に問題があった。
更に、これらの問題点を解決するために、結着樹脂とし
て酸性基を含有する共重合成分を0.05〜10重量%
含有する低分子量の樹脂(Mw103〜104)を用い
ることにより、光導電層の平滑性及び静電特性を良好に
し、しかも地汚れのない画質を得ることが特開昭63−
2173511号に、更にかかる低分子量樹脂を高分子
量の樹脂(MwlO’以上)と組合せて用いることによ
り、上記特性を阻害せずに、光導電層の膜強度を充分な
らしめ耐剛性を向上させることが特願昭6349817
号、特開昭63−220148号及び同63−2201
49号に記載されている。
て酸性基を含有する共重合成分を0.05〜10重量%
含有する低分子量の樹脂(Mw103〜104)を用い
ることにより、光導電層の平滑性及び静電特性を良好に
し、しかも地汚れのない画質を得ることが特開昭63−
2173511号に、更にかかる低分子量樹脂を高分子
量の樹脂(MwlO’以上)と組合せて用いることによ
り、上記特性を阻害せずに、光導電層の膜強度を充分な
らしめ耐剛性を向上させることが特願昭6349817
号、特開昭63−220148号及び同63−2201
49号に記載されている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、これらの樹脂を用いても、環境が高温・
高温から低温・低湿まで著しく変動した場合における安
定した性能の維持においてはいまだ不充分であることが
判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング露
光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に比
べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約がある
ことから、静電特性、特に暗電荷保持性、光感度に対し
て、より高い性能が要求される。
高温から低温・低湿まで著しく変動した場合における安
定した性能の維持においてはいまだ不充分であることが
判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング露
光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に比
べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約がある
ことから、静電特性、特に暗電荷保持性、光感度に対し
て、より高い性能が要求される。
本発明は、以上の様な従来の電子写真感光体の有する課
題を改良するものである。
題を改良するものである。
本発明の目的は、複写画像形成時の環境が低温低湿ある
いは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真
感光体を提供することである。
いは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真
感光体を提供することである。
本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存度の
小さいCPC電子写真感光体を提供することである。
小さいCPC電子写真感光体を提供することである。
本発明の他の目的は半導体レーザー光を用いたスキャニ
ング露光方式に有効な電子写真感光体を提供することに
ある。
ング露光方式に有効な電子写真感光体を提供することに
ある。
(課題を解決するための手段)
前記の課題は、無機光導電材料及び結着樹脂を少な(と
も含有する光導電層を有する電子写真感光体において、
該結着樹脂が下記樹脂[A)の少なくとも1種及び下記
樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有することを特徴とす
る電子写真感光体により解決されることが見出された。
も含有する光導電層を有する電子写真感光体において、
該結着樹脂が下記樹脂[A)の少なくとも1種及び下記
樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有することを特徴とす
る電子写真感光体により解決されることが見出された。
樹脂(A)
IXIO”〜2×104の重量平均分子量を有し、下記
式(1)又は式(II)で示される少なくとも1つの繰
り返し単位を30重量%以上重合成分として含有する重
合体であり、且つ重合体主鎖の片末端にのみ−PO,H
2基、−5O3)I基、0の炭化水素基又は−OR’
(R’は炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を示す
)、−3R基及びフェノール性OH基の酸性基並びに環
状酸無水物含有基のうちの少なくとも1つの置換基を結
合して成る樹脂。
式(1)又は式(II)で示される少なくとも1つの繰
り返し単位を30重量%以上重合成分として含有する重
合体であり、且つ重合体主鎖の片末端にのみ−PO,H
2基、−5O3)I基、0の炭化水素基又は−OR’
(R’は炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を示す
)、−3R基及びフェノール性OH基の酸性基並びに環
状酸無水物含有基のうちの少なくとも1つの置換基を結
合して成る樹脂。
式(1)
式(II)
CH。
される重合性二重結合基を結合して成る重量平均分子量
2×104以下の一官能性マクロモノマーと下記−数式
(V)で示されるモノマーとから少なくとも成る共重合
体である樹脂。
2×104以下の一官能性マクロモノマーと下記−数式
(V)で示されるモノマーとから少なくとも成る共重合
体である樹脂。
〔式中、X、及びx2は互いに独立に、それぞれ水素原
子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原子、臭素原子
、 COY I又は−COOY、(Y。
子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原子、臭素原子
、 COY I又は−COOY、(Y。
及びY2は各々炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を
表わす。但し、X、とX2がともに水素原子を表わすこ
とはない。
表わす。但し、X、とX2がともに水素原子を表わすこ
とはない。
Wl及びW2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を結合
する、直接結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わ
す。〕 樹脂〔B〕 下記−数式(TVa)及び(IVb)で示される重合体
成分のうちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の一
方の末端にのみ下記−数式(II[)で示■− 〔式(II[)中、■は−000−1−OCO−CH2
0CO−1−CH,COO−−0−−so2−y −c
o−−CONHCOO−化水素基を表わす)。al、a
zは、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロ
ゲン原子、シアン基、炭化水素基、−coo−z又は炭
化水素を介した一Coo−Z (Zは水素原子又は置換
されてもよい炭化水素基を示す)を表わす。〕一般数式
IVa) b、 b2−←CH−C→− Xo Q。
する、直接結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わ
す。〕 樹脂〔B〕 下記−数式(TVa)及び(IVb)で示される重合体
成分のうちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の一
方の末端にのみ下記−数式(II[)で示■− 〔式(II[)中、■は−000−1−OCO−CH2
0CO−1−CH,COO−−0−−so2−y −c
o−−CONHCOO−化水素基を表わす)。al、a
zは、互いに同じでも異なってもよく、水素原子、ハロ
ゲン原子、シアン基、炭化水素基、−coo−z又は炭
化水素を介した一Coo−Z (Zは水素原子又は置換
されてもよい炭化水素基を示す)を表わす。〕一般数式
IVa) b、 b2−←CH−C→− Xo Q。
一般式(rVb) b、 b2+CH−C→
− 〔式(IVa)又は(IVb)中、X、は、弐(II[
)中の■と同一の内容を表わす。
− 〔式(IVa)又は(IVb)中、X、は、弐(II[
)中の■と同一の内容を表わす。
Qoは、炭素数1〜18の脂肪族基又は炭素数6〜12
の芳香族基を表わす。b+ 、b2は互いに同じでも異
なってもよく、式(III)中のa、、a2と同一の内
容を表わす。
の芳香族基を表わす。b+ 、b2は互いに同じでも異
なってもよく、式(III)中のa、、a2と同一の内
容を表わす。
し、ここでYは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、
アルコキシ基又は−COOZ’ (Z’はアルキル基
、アラルキル基又はアリール基を示す)を表わす。〕 (式(V)中、Xlは、式(IVa)中のxoと同一の
内容を表わし、Q、は、式・・(■a)中のQoと同一
の内容を表わす。CI、CIは互いに同じでも異なって
もよく、式(III)中のal、aZと同一の内容を表
わす。) 即ち、本発明に供される結着樹脂は、特定の置換基をも
つメタクリレート重合成分を含有し、更に重合体主鎖の
末端に酸性基及び/又は環状酸無水物含有基(以下本明
細書中では特にことわらない限り酸性基の語の中に環状
酸無水物含有基も含むものとする)を結合して成る低分
子量の樹脂(A)と、上記マクロモノマー(M)及び−
数式(III)で示されるモノマーを各々少なくとも1
種含むクシ型共重合体から成る樹脂〔B〕とから少なく
とも構成される。
アルコキシ基又は−COOZ’ (Z’はアルキル基
、アラルキル基又はアリール基を示す)を表わす。〕 (式(V)中、Xlは、式(IVa)中のxoと同一の
内容を表わし、Q、は、式・・(■a)中のQoと同一
の内容を表わす。CI、CIは互いに同じでも異なって
もよく、式(III)中のal、aZと同一の内容を表
わす。) 即ち、本発明に供される結着樹脂は、特定の置換基をも
つメタクリレート重合成分を含有し、更に重合体主鎖の
末端に酸性基及び/又は環状酸無水物含有基(以下本明
細書中では特にことわらない限り酸性基の語の中に環状
酸無水物含有基も含むものとする)を結合して成る低分
子量の樹脂(A)と、上記マクロモノマー(M)及び−
数式(III)で示されるモノマーを各々少なくとも1
種含むクシ型共重合体から成る樹脂〔B〕とから少なく
とも構成される。
本発明では、特定の置換基をもつメタクリレート共重合
成分を含有する酸性基末端結合樹脂(A〕は、樹脂中の
重合体主鎖の末端に結合する酸性基が無機光導電体の化
学量論的な欠陥に吸着し、且つ低分子量体であることか
ら、光導電体の表面のX+ Q+ 被覆性を向上させることで光導電体のトラップを補償す
ると共に湿度特性を飛躍的に向上させる一方、光導電体
の分散が充分に行なわれ、凝集を抑制するとともに、高
温・高温から低温・低湿まで環境変化が著しく変動して
も安定した高性能の電子写真特性を維持することが判っ
た。そして樹脂〔B〕は、樹脂CA)を用いたことによ
る上記電子写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂(
A)のみでは不充分な光導電層の機械的強度を充分なら
しめるものである。特に半導体レーザーを用いたスキャ
ニング露光方式を用いる場合に有効である。
成分を含有する酸性基末端結合樹脂(A〕は、樹脂中の
重合体主鎖の末端に結合する酸性基が無機光導電体の化
学量論的な欠陥に吸着し、且つ低分子量体であることか
ら、光導電体の表面のX+ Q+ 被覆性を向上させることで光導電体のトラップを補償す
ると共に湿度特性を飛躍的に向上させる一方、光導電体
の分散が充分に行なわれ、凝集を抑制するとともに、高
温・高温から低温・低湿まで環境変化が著しく変動して
も安定した高性能の電子写真特性を維持することが判っ
た。そして樹脂〔B〕は、樹脂CA)を用いたことによ
る上記電子写真特性の高性能を全く阻害せずに、樹脂(
A)のみでは不充分な光導電層の機械的強度を充分なら
しめるものである。特に半導体レーザーを用いたスキャ
ニング露光方式を用いる場合に有効である。
本発明における低分子量体の樹脂〔A〕のみを結着樹脂
として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充分に吸
着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平滑性及
び静電特性において良好で、地汚れのない画質が得られ
得るが、その膜強度がいまだ充分ではなく、耐久性にお
いて満足すべき結果が得られない。
として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充分に吸
着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平滑性及
び静電特性において良好で、地汚れのない画質が得られ
得るが、その膜強度がいまだ充分ではなく、耐久性にお
いて満足すべき結果が得られない。
本発明の樹脂を用いた場合に無機光導電体と結着樹脂の
吸着・被覆の相互作用が適切に行なわれ、且つ光導電層
の膜強度が保持されるものである。
吸着・被覆の相互作用が適切に行なわれ、且つ光導電層
の膜強度が保持されるものである。
更に、樹脂〔B〕は、該クシ型共重合体主鎖の片末端に
のみ−PO,H2基、−3O3H基、−〇〇 00H基、−OH基、−3H基及び−P−OH基OR″ (R“は炭化水素基を表わす)から選ばれる少なくとも
1つの酸性基を更に結合して成る樹脂(以下樹脂〔B′
〕と称することもある)であることが好ましい。
のみ−PO,H2基、−3O3H基、−〇〇 00H基、−OH基、−3H基及び−P−OH基OR″ (R“は炭化水素基を表わす)から選ばれる少なくとも
1つの酸性基を更に結合して成る樹脂(以下樹脂〔B′
〕と称することもある)であることが好ましい。
樹脂〔B′〕を用いると、静電特性、特にり。
R,R及びE l/I11がより良好となり、樹脂(A
)を用いたことによる優れた特性を全く妨げず、その効
果は特に高温・高温、低温低湿等の如き環境変化におい
ても変動が殆んどなく好ましい。更に、膜強度もより良
好となり、耐剛性が向上する。
)を用いたことによる優れた特性を全く妨げず、その効
果は特に高温・高温、低温低湿等の如き環境変化におい
ても変動が殆んどなく好ましい。更に、膜強度もより良
好となり、耐剛性が向上する。
樹脂(A)において、重量平均分子量は1×103〜2
×104、好ましくは3X103〜l×104、式(1
)又は式(II)の繰り返し単位(以下(i)と称する
こともある)に相当する共重合成分の存在割合は30重
量%以上、好ましくは50〜97重量%、重合体主鎖の
末端に結合する酸性基の樹脂(A)中における存在割合
は0゜5〜15重量%、好ましくは1〜10重量%であ
る。また、樹脂(A)のガラス転移点は好ましくは一1
0°C〜100°C1より好ましくは一5°C〜80°
Cである。
×104、好ましくは3X103〜l×104、式(1
)又は式(II)の繰り返し単位(以下(i)と称する
こともある)に相当する共重合成分の存在割合は30重
量%以上、好ましくは50〜97重量%、重合体主鎖の
末端に結合する酸性基の樹脂(A)中における存在割合
は0゜5〜15重量%、好ましくは1〜10重量%であ
る。また、樹脂(A)のガラス転移点は好ましくは一1
0°C〜100°C1より好ましくは一5°C〜80°
Cである。
樹脂(A)の分子量がlXl0’より小さくなると、皮
膜形成能が低下し十分な膜強度が保てない。一方分子量
が2×104より大きくなると電子写真特性(特に初期
電位、暗減衰保持率)が劣化するため好ましくない。特
にかかる高分子量体の場合に酸性基含有量が3%を越え
るとかかる電子写真特性の劣化が著しく、オフセットマ
スターとして用いたときに地汚れが顕著となる。
膜形成能が低下し十分な膜強度が保てない。一方分子量
が2×104より大きくなると電子写真特性(特に初期
電位、暗減衰保持率)が劣化するため好ましくない。特
にかかる高分子量体の場合に酸性基含有量が3%を越え
るとかかる電子写真特性の劣化が著しく、オフセットマ
スターとして用いたときに地汚れが顕著となる。
樹脂[A)における酸性基含有量が0.5重量%より少
ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得ることが
できない。一方該酸性基台有りが15重量%よりも多い
と、分散性が低下し、膜平滑度及び電子写真特性の高温
特性が低下し、更にオフセットマスターとして用いると
きに地汚れが増大する。
ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得ることが
できない。一方該酸性基台有りが15重量%よりも多い
と、分散性が低下し、膜平滑度及び電子写真特性の高温
特性が低下し、更にオフセットマスターとして用いると
きに地汚れが増大する。
本発明の樹脂(A)は、式(1)又は式(II)で示さ
れる繰り返し単位(i)を重合成分又は共重合成分とし
て含有し、更に特定の酸性基を重合体主鎖末端に結合し
て成る。弐(1)又は式(II)で示される繰り返し単
位は、樹脂(A)中に2種以上含有されていてもよい。
れる繰り返し単位(i)を重合成分又は共重合成分とし
て含有し、更に特定の酸性基を重合体主鎖末端に結合し
て成る。弐(1)又は式(II)で示される繰り返し単
位は、樹脂(A)中に2種以上含有されていてもよい。
式(1)において、好ましい粘及びX2として、それぞ
れ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに、好まし
い炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)、炭
素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基、フェネ
チル基、3−フェニルプロピル基、クロロベンジル基、
ジクロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジ
ル基、メトキシベンジル基、クロロ−メチル−ベンジル
基等)及びアリール基(例えばフェニル基、トリル基、
シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)、並びに−C
OY、及び−COOY2 (好ましいYl及びY2と
しては上記好ましい炭化水素基として記載したものを挙
げることができる)を挙げることができる。但し、Xl
とX2がともに水素原子を表わすことはない。
れ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに、好まし
い炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)、炭
素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基、フェネ
チル基、3−フェニルプロピル基、クロロベンジル基、
ジクロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジ
ル基、メトキシベンジル基、クロロ−メチル−ベンジル
基等)及びアリール基(例えばフェニル基、トリル基、
シリル基、ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、ジクロロフェニル基等)、並びに−C
OY、及び−COOY2 (好ましいYl及びY2と
しては上記好ましい炭化水素基として記載したものを挙
げることができる)を挙げることができる。但し、Xl
とX2がともに水素原子を表わすことはない。
弐(1)において、W、は−C00−とヘンゼン環を結
合する直接結合又は −(−CH2+−(nは1〜3の整数を表わす)、CH
,CCH2OC 0−(−CHzOh−(は1又は2の整数を表わす)、
CHz CHz O−1 等の如き連結原子数1〜4個の連結基を表わす。
合する直接結合又は −(−CH2+−(nは1〜3の整数を表わす)、CH
,CCH2OC 0−(−CHzOh−(は1又は2の整数を表わす)、
CHz CHz O−1 等の如き連結原子数1〜4個の連結基を表わす。
弐(II)におけるW2はW、と同一の内容を表わす。
本発明の樹脂(A)で用いられる式(1)又は(II)
で示される繰り返し単位(i)の具体例を以下に挙げる
。しかし、本発明の範囲はこれらに限定されるものでは
ない。
で示される繰り返し単位(i)の具体例を以下に挙げる
。しかし、本発明の範囲はこれらに限定されるものでは
ない。
i−2)
i−6)
CH。
!
Hz
/
CHzC−Hs
CH3
CH3
CHl
し31′l7
CH。
/
Cb Hs
CH:l
/
l
H3
CH。
/
CH3
!
CH。
/
CH3
i−15)
CH。
CH3
CH。
/
i−12)
i−13)
i−14)
i−19)
i−20)
CH。
/
CH。
CH。
/
CH。
CH。
/
CHユ
CH3
CH。
CH。
CH3
CH。
CH3
CH。
CH3
CH。
CH。
■
CH。
CH。
CH。
一+CH。
C+
CH。
−(−CH,−C−一÷−
i−36)
CH3
CH3
CH。
CH。
CH3
i−38)
CH。
/
C0CH2C,Hl
i−39)
CH3
/
C0CH。
■−4O)
CH。
また、本発明の樹脂(A)における重合体主鎖の末端に
結合する酸性基において、好ましい酸性基として、
PO3H2基、−3O3H基、−COげることかできる
。
結合する酸性基において、好ましい酸性基として、
PO3H2基、−3O3H基、−COげることかできる
。
P−OH基において、Rは炭化水素基又はOH
R’ (R’は炭化水素基を表わす)を表わし、R及
びR′は好ましくは炭素数1〜22の脂肪族基(例えば
、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシ
ル基、2−クロロエチル基、2−メトキシエチル基、3
−エトキシプロピル基、アリル基、クロトニル基、ブテ
ニル基、シクロへキシル基、ベンジル基、フェネチル基
、3−フェニルフロヒル基、メチルベンジル基、クロロ
ベンジル基、フロロベンジル基、メトキシベンジル基等
)、又は置換されてもよいアリール基(例えば、フェニ
ル基、トリル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル
基、クロロフェニル基、フロロフェニル基、ブロモフェ
ニル基、クロロ−メチル−フェニル基、ジクロロフェニ
ル基、メトキシフェニル基、シアノフェニル基、アセト
アミドフェニル基、アセチルフェニル基、ブトキシフェ
ニル基等)等を表わす。
びR′は好ましくは炭素数1〜22の脂肪族基(例えば
、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシ
ル基、2−クロロエチル基、2−メトキシエチル基、3
−エトキシプロピル基、アリル基、クロトニル基、ブテ
ニル基、シクロへキシル基、ベンジル基、フェネチル基
、3−フェニルフロヒル基、メチルベンジル基、クロロ
ベンジル基、フロロベンジル基、メトキシベンジル基等
)、又は置換されてもよいアリール基(例えば、フェニ
ル基、トリル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル
基、クロロフェニル基、フロロフェニル基、ブロモフェ
ニル基、クロロ−メチル−フェニル基、ジクロロフェニ
ル基、メトキシフェニル基、シアノフェニル基、アセト
アミドフェニル基、アセチルフェニル基、ブトキシフェ
ニル基等)等を表わす。
また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環状
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。
脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無水
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロペンクン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2.3−ビシク
ロ[2,2゜2コオクタンジカルポン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環は、例えば塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロペンクン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2.3−ビシク
ロ[2,2゜2コオクタンジカルポン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環は、例えば塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
又芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸無
水物環、ナフタレンジカルボン酸無水物環、ピリジンジ
カルボン酸無水物環、チオフェンジカルボン酸無水物環
等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原子、臭素
原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基、シアノ
基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基(アルコキシ基
としては、例えば、メトキシ基、工l−キシ基等)が置
換されていてもよい。
水物環、ナフタレンジカルボン酸無水物環、ピリジンジ
カルボン酸無水物環、チオフェンジカルボン酸無水物環
等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原子、臭素
原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基、シアノ
基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基(アルコキシ基
としては、例えば、メトキシ基、工l−キシ基等)が置
換されていてもよい。
本発明の重合体は、少なくとも上記式(1)又又は(I
I)で表わされる各成分からなる重合体の主鎖の末端に
上記酸性基を結合させるように合成すればよい。具体的
には、該酸性基又は後に変換して該酸性基に変えること
のできる官能基を含有する重合開始剤を用いる方法、あ
るいは該酸性基又は後に該酸性基に変換できる官能基を
含有する連鎖移動剤を用いる方法、前記両者を併用する
方法、更には、アニオン重合法において停止反応を利用
し、該酸性基を導入する方法等を用いて製造することが
できる。
I)で表わされる各成分からなる重合体の主鎖の末端に
上記酸性基を結合させるように合成すればよい。具体的
には、該酸性基又は後に変換して該酸性基に変えること
のできる官能基を含有する重合開始剤を用いる方法、あ
るいは該酸性基又は後に該酸性基に変換できる官能基を
含有する連鎖移動剤を用いる方法、前記両者を併用する
方法、更には、アニオン重合法において停止反応を利用
し、該酸性基を導入する方法等を用いて製造することが
できる。
例えば、P、 Dreyfuss、 R,P、口uir
k、 Encycl。
k、 Encycl。
Polym、 Sci、 Eng、 7,55H198
7)、V、 Percec、 Appl。
7)、V、 Percec、 Appl。
Polym、 Sci、 285.95(1985)
、P、 F、 Rempp、 E。
、P、 F、 Rempp、 E。
FranLa、 Adv、 Polym、 Sc
i、 58+ H1984)、 Y、 Yama
shita、 J、^pp1. Polym、 Sci
、 Appl、 Polym、 Symp。
i、 58+ H1984)、 Y、 Yama
shita、 J、^pp1. Polym、 Sci
、 Appl、 Polym、 Symp。
36、 193(1981) 、R,^sami0M、
Takaki、 Makr。
Takaki、 Makr。
mol、 Chem、 5upp1.12.163(1
985)等の総説引例の合成方法によって製造すること
ができる。
985)等の総説引例の合成方法によって製造すること
ができる。
更に、本発明の樹脂(A)は、前記した一般式(1)又
は(II)の繰り返し単位に相当する単量体とともに、
これら以外の他の単量体を共重合成分として含有しても
よい。
は(II)の繰り返し単位に相当する単量体とともに、
これら以外の他の単量体を共重合成分として含有しても
よい。
例えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビニル又はアリ
ルエステル類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル
、ビニルエーテル類、アクリル酸エステル類、メタクリ
ル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド
類、スチレン類、複素環ビニル類(例えばビニルピロリ
ドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルチ
オフェン、ビニルイミダシリン、ビニルチアゾール、ビ
ニルジオキサン、ビニルキノリン、ビニルチアゾール、
ビニルオキサジン等)等が挙げられる。
ルエステル類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル
、ビニルエーテル類、アクリル酸エステル類、メタクリ
ル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド
類、スチレン類、複素環ビニル類(例えばビニルピロリ
ドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルチ
オフェン、ビニルイミダシリン、ビニルチアゾール、ビ
ニルジオキサン、ビニルキノリン、ビニルチアゾール、
ビニルオキサジン等)等が挙げられる。
樹脂〔B〕は、前記した物性を満たし、−官能性マクロ
モノマー(M)と−数式(V)で示される単量体とを少
なくとも含有するクシ型の共重合体から成る樹脂である
事を特徴とする。
モノマー(M)と−数式(V)で示される単量体とを少
なくとも含有するクシ型の共重合体から成る樹脂である
事を特徴とする。
樹脂〔B〕は、好ましくは重量平均分子量が2×104
以上の、クシ型共重合体樹脂である。より好ましくは重
量平均分子量が5X10’〜3×10sである。
以上の、クシ型共重合体樹脂である。より好ましくは重
量平均分子量が5X10’〜3×10sである。
樹脂〔B〕のガラス転移点は好ましくは0°C〜120
°Cの範囲、より好ましくは10°C〜90°Cである
。
°Cの範囲、より好ましくは10°C〜90°Cである
。
一官能性マクロモノマー(M)は、−数式(III)で
示される重合性二重結合基を、−数式(IVa)又は(
IVb)で示される重合体成分を少なくとも1種含有す
る重合体主鎖の一方の末端にのみ結合して成る、重量平
均分子12×104以下のものである。
示される重合性二重結合基を、−数式(IVa)又は(
IVb)で示される重合体成分を少なくとも1種含有す
る重合体主鎖の一方の末端にのみ結合して成る、重量平
均分子12×104以下のものである。
−数式(III)、(IVa)及び(IVb)において
、al、a2.、■、b、、bz、xO,Qo及びQに
含まれる炭化水素基は各々示された炭素数(未置換の炭
化水素基としての)を有するが、これら炭化水素基は置
換基を有していてもよい。
、al、a2.、■、b、、bz、xO,Qo及びQに
含まれる炭化水素基は各々示された炭素数(未置換の炭
化水素基としての)を有するが、これら炭化水素基は置
換基を有していてもよい。
マクロモノマー(M)を示す一般式(III)におイテ
、■は−COO−−0CO−−CH□0CO−1CIl
□coo−−o −−s o□−−CO−CON HC
OO−−CON HCON Hを表わす。ここでR1は
、水素原子のほか、好ましい炭化水素基としては、炭素
数1〜18の置換されてもよいアルキル基(例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘ
キサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル基、
2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキ
シカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、3−ブ
ロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換されてもよ
いアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロペニル
基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メチル−
2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−へキセニル
基、2−へキセニル基、4−メチル−2−ヘキセニル基
等)、炭素数7〜12の置換されていてもよいアラルキ
ル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニ
ルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル
基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベン
ジル基、エチルヘンシル基、メトキシベンジル基、ジメ
チルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数5
〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘキ
シル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペン
チルエチル基等)又は、炭素数6〜12の置換されても
よい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリ
ル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニ
ル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メト
キシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニ
ル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ソ
クロロフェニル基、プロモフ二ニル基、シアノフェニル
基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシ力ルポニルフlニル基、ブトキシカルボニ
ルフェニル恭、アセトアミISフェニル基、プロピオア
ミドフェニル基、ドデシロイルアミトフェニル基等)が
あげられる。
、■は−COO−−0CO−−CH□0CO−1CIl
□coo−−o −−s o□−−CO−CON HC
OO−−CON HCON Hを表わす。ここでR1は
、水素原子のほか、好ましい炭化水素基としては、炭素
数1〜18の置換されてもよいアルキル基(例えば、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘ
キサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチル基、
2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−メトキ
シカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、3−ブ
ロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換されてもよ
いアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロペニル
基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メチル−
2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−へキセニル
基、2−へキセニル基、4−メチル−2−ヘキセニル基
等)、炭素数7〜12の置換されていてもよいアラルキ
ル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニ
ルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル
基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベン
ジル基、エチルヘンシル基、メトキシベンジル基、ジメ
チルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数5
〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘキ
シル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペン
チルエチル基等)又は、炭素数6〜12の置換されても
よい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリ
ル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニ
ル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メト
キシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニ
ル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ソ
クロロフェニル基、プロモフ二ニル基、シアノフェニル
基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシ力ルポニルフlニル基、ブトキシカルボニ
ルフェニル恭、アセトアミISフェニル基、プロピオア
ミドフェニル基、ドデシロイルアミトフェニル基等)が
あげられる。
換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲン原子(
例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、メチル基、クロロメチ
ル基、メトキシエチル基等)、アルコキシ基(例えばメ
トキシ基、工1−キシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基
等)等が挙げられる。
例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、メチル基、クロロメチ
ル基、メトキシエチル基等)、アルコキシ基(例えばメ
トキシ基、工1−キシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基
等)等が挙げられる。
a、及びa2は、互いに同じでも異なっていてもよく、
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、−Coo−Z又は炭化水素を介したC00Z (
Zは、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基、アル
ケニル基、アラルキル基、脂環式基又はアリール基を表
わし、これらは置換されていてもよく、具体的には、上
記R,について説明したものと同様の内容を表わす)を
表わす。
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等)、−Coo−Z又は炭化水素を介したC00Z (
Zは、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基、アル
ケニル基、アラルキル基、脂環式基又はアリール基を表
わし、これらは置換されていてもよく、具体的には、上
記R,について説明したものと同様の内容を表わす)を
表わす。
上記炭化水素を介したーcoo−z基における炭化水素
としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が
挙げられる。
としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が
挙げられる。
更に好ましくは、−C式(1)において、■は、−CO
O−−0CO−−CH20CO CH2COO−1−0−−CONHCOO−−CONI
ICONH−1−CONI+−1a2は互いに同じでも
異なってもよく、水素原子、メチル基、−cooz又は
−CH2COOZ (Zは、水素原子又は炭素数1〜6
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘキシル基等)を表わす。更により好まし
くはaa2においていずれか一方が必ず水素原子を表わ
す。
O−−0CO−−CH20CO CH2COO−1−0−−CONHCOO−−CONI
ICONH−1−CONI+−1a2は互いに同じでも
異なってもよく、水素原子、メチル基、−cooz又は
−CH2COOZ (Zは、水素原子又は炭素数1〜6
のアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基、ヘキシル基等)を表わす。更により好まし
くはaa2においていずれか一方が必ず水素原子を表わ
す。
即ち、−形式(III)で表わされる重合性二重結合基
として、具体的には、 CH2=CH−C−0 CH,0 、CH2=CH−0 CH,=C CH,=CH−C0NH O=C−O− CI(3 CI’b=CC0NH− CH。
として、具体的には、 CH2=CH−C−0 CH,0 、CH2=CH−0 CH,=C CH,=CH−C0NH O=C−O− CI(3 CI’b=CC0NH− CH。
CH=CH−CONH
一般式(IVa)において、X、は式(II[)中の■
と同一の内容を表わす。
と同一の内容を表わす。
b、 、b、は互いに同しでも異なってもよく、式(I
II)中のal、alと同一の内容を表わす。
II)中のal、alと同一の内容を表わす。
Qoは、炭素数1−18の脂肪族基又は炭素数6〜12
の芳香族基を表わす。
の芳香族基を表わす。
具体的には、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2
−ヒドロキシルエチル基、2−メトキシエチル基、2−
エトキシエチル基、2−シアノエチル基、3−クロロプ
ロピル基、2−(トリメトキシシリル)エチル基、2−
テトラヒドロフリル基、2−チエニルエチル基、2−N
、N−ジメチルアミノエチル基、2−N、 N−ジエチ
ルアミノエチル基等)、炭素数5〜8のシクロアルキル
基(例えばシクロヘプチル基、シクロヘキシル基、シク
ロオクチル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよい
アラルキル基(例えばヘンシル基、フェネチル暴、3−
フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチル
エチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、ジク
ロロベンジル基、メチルヘンシル基、クロロメチル−ベ
ンジル基、ジメチルベンジル基ミトリメチルベンジル基
、メトキシベンジル基等)等の脂肪族基が挙げられる。
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2
−ヒドロキシルエチル基、2−メトキシエチル基、2−
エトキシエチル基、2−シアノエチル基、3−クロロプ
ロピル基、2−(トリメトキシシリル)エチル基、2−
テトラヒドロフリル基、2−チエニルエチル基、2−N
、N−ジメチルアミノエチル基、2−N、 N−ジエチ
ルアミノエチル基等)、炭素数5〜8のシクロアルキル
基(例えばシクロヘプチル基、シクロヘキシル基、シク
ロオクチル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよい
アラルキル基(例えばヘンシル基、フェネチル暴、3−
フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチル
エチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、ジク
ロロベンジル基、メチルヘンシル基、クロロメチル−ベ
ンジル基、ジメチルベンジル基ミトリメチルベンジル基
、メトキシベンジル基等)等の脂肪族基が挙げられる。
更に炭素数6〜12の置換されてもよいアリール基(例
えばフェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフェニ
ル基、ブロモフェニル基、ジクロロフェニル基、クロロ
−メチル−フェニル基、メトキシフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、ナフチル基、クロロナフチル基
等)等の芳香族基が挙げられる。
えばフェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフェニ
ル基、ブロモフェニル基、ジクロロフェニル基、クロロ
−メチル−フェニル基、メトキシフェニル基、メトキシ
カルボニルフェニル基、ナフチル基、クロロナフチル基
等)等の芳香族基が挙げられる。
式(IVa)において好ましくは、Xoは−COOOC
C)−−CH2COO−−−CH20C00−−CO−
−CONIICOO−−CONIICONII−1b+
、bzの好ましい例は、前記したal、alと同様の内
容を表わす。
C)−−CH2COO−−−CH20C00−−CO−
−CONIICOO−−CONIICONII−1b+
、bzの好ましい例は、前記したal、alと同様の内
容を表わす。
式(IVb)において、Qは−CN、 CON Hzン
原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、炭化水素基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロ
ロメチル基、フェニル基等)、アルコキシ基(例えばメ
トキシ基、エトキシ基等)又は−COOZ’ (Z’
は好ましくは炭素数1〜8のアルキル基、炭素数7〜1
2のアラルキル基又はアリール基を表わす)を表わす。
原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、炭化水素基(例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロ
ロメチル基、フェニル基等)、アルコキシ基(例えばメ
トキシ基、エトキシ基等)又は−COOZ’ (Z’
は好ましくは炭素数1〜8のアルキル基、炭素数7〜1
2のアラルキル基又はアリール基を表わす)を表わす。
マクロモノマー(M)は、弐(IVa)又は(■b)で
示される重合体成分を2種以上含有していてもよい。文
武(■a)においてQ6が脂肪族基の場合、炭素数6〜
12の脂肪族基は、マクロモノマ−(M)中の全重合体
成分中の20重量%を越えない範囲で用いることが好ま
しい。
示される重合体成分を2種以上含有していてもよい。文
武(■a)においてQ6が脂肪族基の場合、炭素数6〜
12の脂肪族基は、マクロモノマ−(M)中の全重合体
成分中の20重量%を越えない範囲で用いることが好ま
しい。
更には、−形式(IVa)におけるX。が−COO−で
ある場合には、マクロモノマ−(M)中の全重合体成分
中、式(IVa)で示される重合体成分が少なくとも3
0重量%以上含有されることが好ましい。
ある場合には、マクロモノマ−(M)中の全重合体成分
中、式(IVa)で示される重合体成分が少なくとも3
0重量%以上含有されることが好ましい。
又、マクロモノマー(M)において、式(IV a )
及び/又は(IVb)で示される重合体成分とともに共
重合されうる繰り返し単位に相当する単量体として、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド
類、メタクリルアミド類、スチレン及びそのBW導体(
例えばビニルトルエン、クロロスチレン、ジクロロスチ
レン、ブロモスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、N
、 N−ジメチルアミノメチルスチレン等)、複素環
ビニル類(例えばビニルピリジン、ビニルピラゾ−ル、
ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、ビニルピラゾー
ル、ビニルジオキサン、ビニルオキサジン等)等が挙げ
られろ。
及び/又は(IVb)で示される重合体成分とともに共
重合されうる繰り返し単位に相当する単量体として、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド
類、メタクリルアミド類、スチレン及びそのBW導体(
例えばビニルトルエン、クロロスチレン、ジクロロスチ
レン、ブロモスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、N
、 N−ジメチルアミノメチルスチレン等)、複素環
ビニル類(例えばビニルピリジン、ビニルピラゾ−ル、
ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、ビニルピラゾー
ル、ビニルジオキサン、ビニルオキサジン等)等が挙げ
られろ。
本発明において供されるマクロモノマーは、上述の如き
、−形式(lVa)及び/又は(IVb)で示される繰
返し単位から成る重合体主鎖の一方の末端にのみ、−形
式(III)で示される重合性二重結合基が、直接結合
するか、あるいは、任意の連結基で結合された化学構造
を有するものである。
、−形式(lVa)及び/又は(IVb)で示される繰
返し単位から成る重合体主鎖の一方の末端にのみ、−形
式(III)で示される重合性二重結合基が、直接結合
するか、あるいは、任意の連結基で結合された化学構造
を有するものである。
式(II[)成分と式(IVa)又は(TVb)成分を
連結する基としては、炭素−炭素結合(−重結合あるい
は二重結合)、炭素−へテロ原子結合(ヘテロ原子とし
ては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素
原子等)、ヘテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意
の組合せで構成されるものである。
連結する基としては、炭素−炭素結合(−重結合あるい
は二重結合)、炭素−へテロ原子結合(ヘテロ原子とし
ては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素
原子等)、ヘテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意
の組合せで構成されるものである。
本発明のマクロモノマー(M)のうち好ましいものは式
(Via)又は(Vlb)で示される如きものである。
(Via)又は(Vlb)で示される如きものである。
式(Via)
a+ at
CH=Cb、 b2
V−W−+C−C→−
Q
式(VIa)又は(Vlb)中、a I 、az 、b
l、b2、■、Xo、Qo、Qは各々、式(■)、式(
IVa)及び式(IVb)において説明したものと同一
の内容を表わす。
l、b2、■、Xo、Qo、Qは各々、式(■)、式(
IVa)及び式(IVb)において説明したものと同一
の内容を表わす。
R3は、水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子
、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基
、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
等)等を示す〕、 C OO −NHCOO−−NHCONH−−3i[R,は、水素
原子、前記式(IVa)におけるQoと同様の内容を表
わす炭化水素基を示す1等の原子団から選ばれた単独の
連結基もしくは任意の組合せで構成された連結基を表わ
す。
、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基
、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
等)等を示す〕、 C OO −NHCOO−−NHCONH−−3i[R,は、水素
原子、前記式(IVa)におけるQoと同様の内容を表
わす炭化水素基を示す1等の原子団から選ばれた単独の
連結基もしくは任意の組合せで構成された連結基を表わ
す。
マクロモノマー(M)の重量平均分子量が2×10’を
超えると、式(V)で示されるモノマーとの共重合性が
低下する。他方、分子量が小さすぎると感光層の電子写
真特性の向上効果が小さくなるので、1×103以上で
あることが好ましい。
超えると、式(V)で示されるモノマーとの共重合性が
低下する。他方、分子量が小さすぎると感光層の電子写
真特性の向上効果が小さくなるので、1×103以上で
あることが好ましい。
本発明のマクロモノマー(M)は、従来公知の合成方法
によって製造することができる。例えば、アニオン重合
あるいはカチオン重合によって得られるリビングポリマ
ーの末端に種々の試薬を反応させてマクロマーとするイ
オン重合法による方法、分子中に、カルボキシル基、ヒ
ドロキシル基、アミノ基等の反応性基を含有した重合開
始剤及び/又は連鎖移動剤を用いて、ラジカル重合して
得られる末端反応性基結合のオリゴマーと種々の試薬を
反応させてマクロマーにするラジカル重合法による方法
、重付加あるいは重縮合反応により得られたオリゴマー
に上記ラジカル重合方法と同様にして、重合性二重結合
基を導入する重付加縮合法による方法等が挙げられる。
によって製造することができる。例えば、アニオン重合
あるいはカチオン重合によって得られるリビングポリマ
ーの末端に種々の試薬を反応させてマクロマーとするイ
オン重合法による方法、分子中に、カルボキシル基、ヒ
ドロキシル基、アミノ基等の反応性基を含有した重合開
始剤及び/又は連鎖移動剤を用いて、ラジカル重合して
得られる末端反応性基結合のオリゴマーと種々の試薬を
反応させてマクロマーにするラジカル重合法による方法
、重付加あるいは重縮合反応により得られたオリゴマー
に上記ラジカル重合方法と同様にして、重合性二重結合
基を導入する重付加縮合法による方法等が挙げられる。
具体的には、P、Dreyfuss & R,I’、Q
uirk。
uirk。
Encyc/!、 Polym、 Sci、 Eng、
、 7. 551 (1987) 、 P、 F、
Rempp E、Franta、^du、、Poly
m、Sci。
、 7. 551 (1987) 、 P、 F、
Rempp E、Franta、^du、、Poly
m、Sci。
−ξi8. 1 (1984)、 V、Perc
ec、八pp1..Polym、Sci、。
ec、八pp1..Polym、Sci、。
I苅五、95 (1984)、R。
Asami、M、TakaRi、Makvamol、C
hem、5upp1.上又、163 (1985) 、
P、Rempp、et aI!、。
hem、5upp1.上又、163 (1985) 、
P、Rempp、et aI!、。
Makvamol、Chem、5uppffi、 8
、 3 (1984) +用上雄資、化学工業、↓旦
、56 (1987)、山下雄也、高分子、立上、98
8 (1982)。
、 3 (1984) +用上雄資、化学工業、↓旦
、56 (1987)、山下雄也、高分子、立上、98
8 (1982)。
小林四部、高分子、↓立、625 (1981)、束材
敷延、日本接着協会誌上旦、536 (1982)、伊
藤浩−1高分子加工、1五、262 (1986)、乗
置四部、津田隆、機能材料、1987 No、10.
5等の総説及びそれに引例の文献・特許等に記載の方法
に従って合成することができる。
敷延、日本接着協会誌上旦、536 (1982)、伊
藤浩−1高分子加工、1五、262 (1986)、乗
置四部、津田隆、機能材料、1987 No、10.
5等の総説及びそれに引例の文献・特許等に記載の方法
に従って合成することができる。
本発明のマクロモノマー(M)は、よく具体的には、下
記の化合物を例として挙げることができる。
記の化合物を例として挙げることができる。
但し、本発明の範囲は、これらに限定されるものではな
い。
い。
C11゜
CH2=CCll3 b
COOCIlzCIICIlzOOCCll□C1l□
C−←C1l□−C→−01l
CN C00Rb=t+Xc)1:l又は
−CIl。C00C113O1l C
N C00Rb=nXC1+、又は−C1
l□C00CHIR=−CJ(2n++ (n:1〜1
8の整数) 、−CIIZC6115、−C61+S(
5) C1l□;C b−11又はCH。
C−←C1l□−C→−01l
CN C00Rb=t+Xc)1:l又は
−CIl。C00C113O1l C
N C00Rb=nXC1+、又は−C1
l□C00CHIR=−CJ(2n++ (n:1〜1
8の整数) 、−CIIZC6115、−C61+S(
5) C1l□;C b−11又はCH。
C112=CCl13 b
COOCII□C−一÷CIl□−C−→−CN
C00R C11゜ C1h=C b=Il、CI:I又は C112COOCIl:l 、 CH2=Cb COOCHzcHcll□0OC−+CH□−C−+−
0)I X b−I+又はC1+、、X ニーC00C113、CN Cb 11 s又は CII=CI COOCII□CI+2−3−+CH2C−一戸一 OOR b=H又は−CIl3、 C1h=CI+ C0NIICIIZC112−5+C1l□C−→− 0OR b−11又は−C1h、 R・−C,,11□。。1 (n:1〜18の整数) C11□C611,又は−Cbl+5 CIl□二C COO(C1l□)200C−←C1+。
C00R C11゜ C1h=C b=Il、CI:I又は C112COOCIl:l 、 CH2=Cb COOCHzcHcll□0OC−+CH□−C−+−
0)I X b−I+又はC1+、、X ニーC00C113、CN Cb 11 s又は CII=CI COOCII□CI+2−3−+CH2C−一戸一 OOR b=H又は−CIl3、 C1h=CI+ C0NIICIIZC112−5+C1l□C−→− 0OR b−11又は−C1h、 R・−C,,11□。。1 (n:1〜18の整数) C11□C611,又は−Cbl+5 CIl□二C COO(C1l□)200C−←C1+。
C−→−
×
a=t(又はC11,、b=l+又はCIl:l、QC
,111□□。
,111□□。
(n:1〜18の整数)
OCOC−82□1
(m:1〜18の整数)
COOCIl、、
C6115又は−CN
(]4)
CIl2−C11
5O2NII (CH□Y「S−+C11゜C□−トー
0OR
b=l+又はCH3、
Cnl+2.、。
(n:1〜18の整数)
−CIhC6115又は−C61(、。
0OR
a=lI又はC113、
b−11又はC)13
C,、lh□1
(n:1〜18の整数)
CH□C61+、、又は−C4I+。
a=H又はCII+、
b=l+又はC1h、
a=lI又はCHl、b=H又はCH3、C1H2n+
1 (n:1〜18の整数) CIIZC6H5又は−CbHs 0OR a=H又はCIl:、、b−11又はCI(、、n・2
〜4の整数、 C,H2□1 (n:1〜18の整数) 、−CH2C611S又は−Cb t(5b=I+又は
C111、 C,Hz、l。
1 (n:1〜18の整数) CIIZC6H5又は−CbHs 0OR a=H又はCIl:、、b−11又はCI(、、n・2
〜4の整数、 C,H2□1 (n:1〜18の整数) 、−CH2C611S又は−Cb t(5b=I+又は
C111、 C,Hz、l。
(n:1=18の整数)
−CHzCbH5又は
C6115
a−11又はC113、b=l+又はC1(3、CnH
2n+I (n:1〜18の整数)CII□C,IIS
又は−C611,。
2n+I (n:1〜18の整数)CII□C,IIS
又は−C611,。
X=−Cffi。
Br 。
011又は−CN
a=Il又はC113
0COC,Hz、、++
(n:1〜18の整数)
、−CN。
C0NII□又は−C611,、、
R=−C,、l126+1 (n:1〜18の整数)又
は−CII□C,l15 X=−CN、−CON)+2又は−C,115、R=−
C,、Hz、、−+ (n:1〜18の整数)CII□
C,l+5又は a=H又はC1l:l、b=IL C1+、又は−C
IIZCOOCH:l、R=−CnHznet (n:
1〜18の整数)又は−CthC7Itsa=ll又は
CI+3、b−11又はCH3、X=−COOCIh、
−C,IIS又はC00I? a=l!又はC113、b=lI、C113又は−CI
hCOOCIh、R−C,l+2.、I (n:1〜1
8の整数)又は−CI12C611SR a=tl又はC1h R=−C,1lz−、+ (n:1〜18の整数)X=
lL C11,、Cn、 Br、OCI+3又は C00CII3 0B a−1(又はCH□ R”−Cnl12i−1(n:1〜18の整数)CIl
□CbH3又は 0OR a=fl又はC1+。
は−CII□C,l15 X=−CN、−CON)+2又は−C,115、R=−
C,、Hz、、−+ (n:1〜18の整数)CII□
C,l+5又は a=H又はC1l:l、b=IL C1+、又は−C
IIZCOOCH:l、R=−CnHznet (n:
1〜18の整数)又は−CthC7Itsa=ll又は
CI+3、b−11又はCH3、X=−COOCIh、
−C,IIS又はC00I? a=l!又はC113、b=lI、C113又は−CI
hCOOCIh、R−C,l+2.、I (n:1〜1
8の整数)又は−CI12C611SR a=tl又はC1h R=−C,1lz−、+ (n:1〜18の整数)X=
lL C11,、Cn、 Br、OCI+3又は C00CII3 0B a−1(又はCH□ R”−Cnl12i−1(n:1〜18の整数)CIl
□CbH3又は 0OR a=fl又はC1+。
R=−CnHznet (n:1〜18の整数)、Cl
1zCblls又は 前記したマクロモノマー(M)と共重合する単量体は、
−形式(V)で示される。式(V)において、CI、C
2は、互いに同じでも異なってもよく、弐(III)の
al、a2と同一の内容を表わす。Xlは弐(IVa)
のX。と、Qlは式(lVa)のQ、と各々同一の内容
を表わす。
1zCblls又は 前記したマクロモノマー(M)と共重合する単量体は、
−形式(V)で示される。式(V)において、CI、C
2は、互いに同じでも異なってもよく、弐(III)の
al、a2と同一の内容を表わす。Xlは弐(IVa)
のX。と、Qlは式(lVa)のQ、と各々同一の内容
を表わす。
更に、本発明の樹脂〔B〕は、前記したマクロモノマー
(M)及び−形式(V)の単量体とともに、これら以外
の他の単量体を共重合成分として含有してもよい。
(M)及び−形式(V)の単量体とともに、これら以外
の他の単量体を共重合成分として含有してもよい。
例えば、酸性基を含有するビニル系化合物、αオレフイ
ン類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド、スチレン、ビニル基含有
ナフタレン化合物(例えばビニル−ナフタレン、l−イ
ソペロベニルナフタリン等)ビニル基含有複素環化合物
(例えばビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルチ
オフェン、ビニル−テトラヒドロフラン、ビニル−13
−ジオキソラン、ビニルイミダゾール、ビニルチアゾー
ル、ビニルオキサヅリン等)等の化合物が挙げられる。
ン類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド、スチレン、ビニル基含有
ナフタレン化合物(例えばビニル−ナフタレン、l−イ
ソペロベニルナフタリン等)ビニル基含有複素環化合物
(例えばビニルピリジン、ビニルピロリドン、ビニルチ
オフェン、ビニル−テトラヒドロフラン、ビニル−13
−ジオキソラン、ビニルイミダゾール、ビニルチアゾー
ル、ビニルオキサヅリン等)等の化合物が挙げられる。
樹脂〔B〕において、マクロマー(M)を繰り返し単位
とする共重合成分と、−形式(V)で示される単量体を
繰り返し単位とする共重合成分の組成比は、1〜90/
99〜10(重量組成比)であり、好ましくは5〜60
/95〜40重量組成比である。
とする共重合成分と、−形式(V)で示される単量体を
繰り返し単位とする共重合成分の組成比は、1〜90/
99〜10(重量組成比)であり、好ましくは5〜60
/95〜40重量組成比である。
上記の酸性基を含有するビニル系化合物としては、例え
ば、高分子データ[高分子データ・ハンドブック〔基礎
編]」培風館(1986年)等に記載されている。具体
的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸(
例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、α
−(2−アミン)メチル体、α−クロロ体、α−ブロモ
体、αフロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シアノ
体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロβ−メト
キシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタ
コン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半アミド
類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例えば
2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オ
クテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチル−
2オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エステル
類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン酸
、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニ
ルホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基
の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又はスル
ホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基中に酸
性基を含有する化合物等が挙げられる。
ば、高分子データ[高分子データ・ハンドブック〔基礎
編]」培風館(1986年)等に記載されている。具体
的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸(
例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル体、α
−(2−アミン)メチル体、α−クロロ体、α−ブロモ
体、αフロロ体、α−トリブチルシリル体、α−シアノ
体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロβ−メト
キシ体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタ
コン酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半アミド
類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類(例えば
2−ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オ
クテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチル−
2オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エステル
類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン酸
、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニ
ルホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリル基
の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又はスル
ホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基中に酸
性基を含有する化合物等が挙げられる。
他の共重合成分として、「酸性基を含有するビニル系化
合物」を繰り返し単位として含有する場合、該酸性基含
有共重合成分は共重合体中の10重量%を越えない事が
好ましい。
合物」を繰り返し単位として含有する場合、該酸性基含
有共重合成分は共重合体中の10重量%を越えない事が
好ましい。
該酸性基含有成分が10重量%を越えると、無機光導電
体粒子との相互作用が著しくなり、感光体表面の平滑性
が阻害され、結果として、電子写真特性(特に、帯電性
、暗中電荷保持性)が悪化してしまう。
体粒子との相互作用が著しくなり、感光体表面の平滑性
が阻害され、結果として、電子写真特性(特に、帯電性
、暗中電荷保持性)が悪化してしまう。
更に、本発明の好ましい態様として用いることのできる
樹脂〔B′〕は、−形式(V)で示される繰り返し単位
を少なくとも1種及びマクロモノマー(M)で示される
繰り返し単位を少なくとも1種含有する重合体主鎖の片
末端にのみ、−1)03H2基、−3O3H基、−CO
OH基、−OH法、SH基及びPO3R″H基から選ば
れる少なくとも一つの酸性基を結合して成る重合体であ
る。
樹脂〔B′〕は、−形式(V)で示される繰り返し単位
を少なくとも1種及びマクロモノマー(M)で示される
繰り返し単位を少なくとも1種含有する重合体主鎖の片
末端にのみ、−1)03H2基、−3O3H基、−CO
OH基、−OH法、SH基及びPO3R″H基から選ば
れる少なくとも一つの酸性基を結合して成る重合体であ
る。
ここで、−PO,RnH基におけるR nは炭化水素基
を表わし、具体的には前記のRにて記載した炭化水素基
を具体例として挙げることができる。
を表わし、具体的には前記のRにて記載した炭化水素基
を具体例として挙げることができる。
又、上記酸性基を重合体主鎖の片末端に結合する場合に
は、重合体主鎖中にカルボキシル基、スルホ基、ヒドロ
キシル基、ホスホノ基の極性基を含有する共重合成分を
含をしないことが好ましい。
は、重合体主鎖中にカルボキシル基、スルホ基、ヒドロ
キシル基、ホスホノ基の極性基を含有する共重合成分を
含をしないことが好ましい。
樹脂〔B′〕において、上記酸性基は重合体主鎖の一方
の末端に直接結合するが、あるいは任意の連結基を介し
て結合した化学構造を有する。
の末端に直接結合するが、あるいは任意の連結基を介し
て結合した化学構造を有する。
結合基としては炭素−炭素結合(−重結合あるいは二重
結合)、炭素−へテロ原子結合(ヘテロ原子としては例
えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子等
)、ヘテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意の組合
せで構成されるものである。例えば、−(C)−(R5
、R6は前記のR2、R3と同一の内容を表わす)、s
Oz−−CON−−3o□N− R7R7 R。
結合)、炭素−へテロ原子結合(ヘテロ原子としては例
えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子等
)、ヘテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意の組合
せで構成されるものである。例えば、−(C)−(R5
、R6は前記のR2、R3と同一の内容を表わす)、s
Oz−−CON−−3o□N− R7R7 R。
(R,は、前記のR1と同一の内容を表わす)等の原子
団から選ばれた単独の連結基又は任意の組合せで構成さ
れた連結基等が挙げられる。
団から選ばれた単独の連結基又は任意の組合せで構成さ
れた連結基等が挙げられる。
樹脂〔B′〕において重合体主鎖の片末端にのみに結合
する該酸性基の含有量は、樹脂〔B′〕100重量部当
り好ましくは0.1〜15重量%、より好ましくは0.
5〜10重量%である。0゜1重量%未満では膜強度の
向上効果が小さくなり、15重量%以上では光導電体分
散物の調整時に光導電体が均一に分散されず、凝集が生
じ、均一な塗膜が形成されなくなる。
する該酸性基の含有量は、樹脂〔B′〕100重量部当
り好ましくは0.1〜15重量%、より好ましくは0.
5〜10重量%である。0゜1重量%未満では膜強度の
向上効果が小さくなり、15重量%以上では光導電体分
散物の調整時に光導電体が均一に分散されず、凝集が生
じ、均一な塗膜が形成されなくなる。
重合体主鎖の片末端にのみ特定の酸性基を結合して成る
本発明の樹脂〔B′〕は、従来公知のアニオン重合ある
いはカチオン重合によって得られるリビングポリマーの
末端に種々の試薬を反応させる方法(イオン重合法によ
る方法)、分子中に特定の酸性基を含有した重合開始剤
及び/又は連鎖移動剤を用いてラジカル重合させる方法
(ラジカル重合法による方法)、あるいは以上の如きイ
オン重合法もしくはラジカル重合法によって得られた末
端に反応性基含有の重合体を高分子反応によって本発明
の特定の酸性基に変換する方法等の合成法によって容易
に製造することができる。
本発明の樹脂〔B′〕は、従来公知のアニオン重合ある
いはカチオン重合によって得られるリビングポリマーの
末端に種々の試薬を反応させる方法(イオン重合法によ
る方法)、分子中に特定の酸性基を含有した重合開始剤
及び/又は連鎖移動剤を用いてラジカル重合させる方法
(ラジカル重合法による方法)、あるいは以上の如きイ
オン重合法もしくはラジカル重合法によって得られた末
端に反応性基含有の重合体を高分子反応によって本発明
の特定の酸性基に変換する方法等の合成法によって容易
に製造することができる。
具体的には、P、 Dreyfuss 、 R,P
、Quirk。
、Quirk。
Encycl 、 Polym、 Sci、 En
g、 7.551(1987)、中條善樹、山下雄也
「染料と薬品」、30.232 (1985)、上田明
、永井進「科学と工業」直立、57 (1986)等の
総説及びそれに引用の文献等に記載の方法によって製造
することができる。
g、 7.551(1987)、中條善樹、山下雄也
「染料と薬品」、30.232 (1985)、上田明
、永井進「科学と工業」直立、57 (1986)等の
総説及びそれに引用の文献等に記載の方法によって製造
することができる。
本発明に用いる樹脂(A)と樹脂[B]((B’ )も
含む)の使用量の割合は、使用する無機光導電材料の種
類、粒径、表面状態によって異なるが一般に樹脂[A]
と樹脂〔B〕の用いる割合は5〜80対95〜20(重
量比)であり、好ましくは10〜60対90〜40(重
量比)である。
含む)の使用量の割合は、使用する無機光導電材料の種
類、粒径、表面状態によって異なるが一般に樹脂[A]
と樹脂〔B〕の用いる割合は5〜80対95〜20(重
量比)であり、好ましくは10〜60対90〜40(重
量比)である。
本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜鉛、
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛、等が挙げられる。
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛、等が挙げられる。
無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光導
電体100重量部に対して、結着樹脂を10〜100重
量部なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で
使用する。
電体100重量部に対して、結着樹脂を10〜100重
量部なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で
使用する。
本発明では、必要に応じて各種の色素を分光増感剤とし
て併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング1973 (No、8)第12頁、C,
J、 Young等、 RCA Review土旦、4
69 (1954)、清田航平等、電気通信学会論文誌
J 63−C(No、2)、 97 (1980L原
崎勇次等、工業化学雑誌66 78 及び188(1
963)、谷忠昭1日本写真学会誌主5. 208 (
1972)等の総説引例のカーボニウム系色素、ジフェ
ニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、キサンチン
系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素(例えば、
オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ログシアニン色素、スチリル色素等)、フタロシアニン
色素(金属含有してもよい)等が挙げられる。
て併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング1973 (No、8)第12頁、C,
J、 Young等、 RCA Review土旦、4
69 (1954)、清田航平等、電気通信学会論文誌
J 63−C(No、2)、 97 (1980L原
崎勇次等、工業化学雑誌66 78 及び188(1
963)、谷忠昭1日本写真学会誌主5. 208 (
1972)等の総説引例のカーボニウム系色素、ジフェ
ニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、キサンチン
系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素(例えば、
オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ログシアニン色素、スチリル色素等)、フタロシアニン
色素(金属含有してもよい)等が挙げられる。
更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニルメ
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51−452号、特開昭
50−90334号、特開昭50−114227号、特
開昭53−39130号、特開昭53−82353号、
米国特許第3゜052.540号、米国特許第4,05
4,450号、特開昭57−16456号等に記載のも
のが挙げられる。
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51−452号、特開昭
50−90334号、特開昭50−114227号、特
開昭53−39130号、特開昭53−82353号、
米国特許第3゜052.540号、米国特許第4,05
4,450号、特開昭57−16456号等に記載のも
のが挙げられる。
オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、M
、lIarmmar rThe Cyanine D
yes andRelated Compounds
J等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には
、米国特許第3.o47.384号、米国特許第3,1
10.591号、米国特許第3.121,008号、米
国特許第3゜125.447号、米国特許第3,128
,179号、米国特許第3,132,942号、米国特
許第3,622,317号、英国特許第1,226.8
92号、英国特許第L 309,274号、英国特許第
L 405.898号、特公昭487814号、特公
昭55−18892号等に記載の色素が挙げられる。
ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、M
、lIarmmar rThe Cyanine D
yes andRelated Compounds
J等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には
、米国特許第3.o47.384号、米国特許第3,1
10.591号、米国特許第3.121,008号、米
国特許第3゜125.447号、米国特許第3,128
,179号、米国特許第3,132,942号、米国特
許第3,622,317号、英国特許第1,226.8
92号、英国特許第L 309,274号、英国特許第
L 405.898号、特公昭487814号、特公
昭55−18892号等に記載の色素が挙げられる。
更に、700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分
光増感するポリメチン色素として、特開昭47−840
号、特開昭4’l−44180号、特公昭51−410
61号、特開昭49−5034号、特開昭49−451
22号、特開昭5746245号、特開昭56−351
41号、特開昭57−157254号、特開昭61−2
6044号、特開昭61−27551号、米国特許第3
619.154号、米国特許第4,175,956号、
rResearch Disclosure J 19
B 2年、216、第117〜118頁等に記載のも
のが挙げられる。本発明の感光体は種々の増感色素を併
用させても、その性能が増感色素により変動しにくい点
において優れている。更には、必要に応じて、化学増感
剤等の従来知られている電子写真感光層用各種添加剤を
併用することもできる。例えば、前記した総説;イメー
ジング1973 (No、8)第12頁等の総説引例の
電子受容性化合物(例えば、ハロゲン、ベンゾキノン、
クロラニル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小門宏等
、「最近の光導電材料と感光体の開発・実用化」第4章
〜第6章二日本科学情報(株)出版部(1986年)の
総説引例のボリアリールアルカン化合物、ヒンダードフ
ェノール化合物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙
げられる。
光増感するポリメチン色素として、特開昭47−840
号、特開昭4’l−44180号、特公昭51−410
61号、特開昭49−5034号、特開昭49−451
22号、特開昭5746245号、特開昭56−351
41号、特開昭57−157254号、特開昭61−2
6044号、特開昭61−27551号、米国特許第3
619.154号、米国特許第4,175,956号、
rResearch Disclosure J 19
B 2年、216、第117〜118頁等に記載のも
のが挙げられる。本発明の感光体は種々の増感色素を併
用させても、その性能が増感色素により変動しにくい点
において優れている。更には、必要に応じて、化学増感
剤等の従来知られている電子写真感光層用各種添加剤を
併用することもできる。例えば、前記した総説;イメー
ジング1973 (No、8)第12頁等の総説引例の
電子受容性化合物(例えば、ハロゲン、ベンゾキノン、
クロラニル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小門宏等
、「最近の光導電材料と感光体の開発・実用化」第4章
〜第6章二日本科学情報(株)出版部(1986年)の
総説引例のボリアリールアルカン化合物、ヒンダードフ
ェノール化合物、p−フェニレンジアミン化合物等が挙
げられる。
これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではないが、
通常光導電体100重量部に対して0゜0001〜2.
0重量部である。
通常光導電体100重量部に対して0゜0001〜2.
0重量部である。
光導電層の厚さは1〜100μ、特には10〜50μが
好適である。
好適である。
また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特には0.05〜0. 5μが好適
である。
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特には0.05〜0. 5μが好適
である。
感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主目
的として絶縁層を付設させる場合もある。
的として絶縁層を付設させる場合もある。
この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。
後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、1
0〜50μに設定される。
0〜50μに設定される。
積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバ
ゾール、オキサゾール系色素、ビラプリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。
ゾール、オキサゾール系色素、ビラプリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。
電荷輸送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜3
0μが好適である。
0μが好適である。
絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ酸ビ共重合体樹脂、ポリアク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、エポキ
シ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及
び硬化性樹脂が適宜用いられる。
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ酸ビ共重合体樹脂、ポリアク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、エポキ
シ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及
び硬化性樹脂が適宜用いられる。
本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、A!等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、A!等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。
具体的に、導電体基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男、電子写真、 14. (No、1)。
坂本幸男、電子写真、 14. (No、1)。
22〜11 (1975L森賀弘之、 「入門特殊紙の
化学」高分子刊行会(1975)、M、F。
化学」高分子刊行会(1975)、M、F。
1!oover、 J、 Macromol、 Sc
i、 Chem、A−4(6)第1327〜1417頁
(1970)等に記載されているもの等を用いる。
i、 Chem、A−4(6)第1327〜1417頁
(1970)等に記載されているもの等を用いる。
(実施例)
以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容がこ
れらに限定されるものではない。
れらに限定されるものではない。
樹脂(A)の製造例1:樹脂(A−1)2−クロロ−6
−メチルフェニルメタクリレート95g、l−ルエン1
50g及びイソプロパツール50gの混合溶液を窒素気
流下80°Cの温度に加温した後、4,4′〜アゾビス
(4−シアノ吉草M)(以下略号A、B、C,V、とす
る)5gを加え、10時間反応させた。
−メチルフェニルメタクリレート95g、l−ルエン1
50g及びイソプロパツール50gの混合溶液を窒素気
流下80°Cの温度に加温した後、4,4′〜アゾビス
(4−シアノ吉草M)(以下略号A、B、C,V、とす
る)5gを加え、10時間反応させた。
得られた共重合体(A−1)の重量平均分子量は6,5
00、ガラス転移点は40 ’Cであった。
00、ガラス転移点は40 ’Cであった。
樹脂(A−1)の構造
C1,CH。
C)13
樹脂(A)の製造例2〜23:樹脂(A−2:l〜(A
−23) 表−1に示す共重合体を樹脂(A)の製造例1の製造条
件と同様に操作して製造した。
−23) 表−1に示す共重合体を樹脂(A)の製造例1の製造条
件と同様に操作して製造した。
得られた樹脂(A−23〜(A−23〕の各樹脂の重量
平均分子量は6,000〜8.000であった。
平均分子量は6,000〜8.000であった。
N
oo−R
樹脂(A)の製造例24:樹脂〔A−24〕2.6−シ
クロロフエニルメタクリレート97g、チオグリコール
酸3g1 トルエン150g及びイソプロパツール50
gの混合溶液を窒素気流下65°Cの温度に加温した後
、アゾビスイソブチロニトリル0,8gを加え8時間反
応させた。得られた共重合体(A−24)の重量平均分
子量は7800、ガラス転移点は36゛Cであった。
クロロフエニルメタクリレート97g、チオグリコール
酸3g1 トルエン150g及びイソプロパツール50
gの混合溶液を窒素気流下65°Cの温度に加温した後
、アゾビスイソブチロニトリル0,8gを加え8時間反
応させた。得られた共重合体(A−24)の重量平均分
子量は7800、ガラス転移点は36゛Cであった。
樹脂CA
24〕の構造
C!
樹脂(A)の製造例25〜30:樹脂[A−25)〜[
A−30) 樹脂(A)の製造例24において用いたチオグリコール
酸を表−2の化合物に代えた他は、前記製造例24と同
様の条件にして各共重合体を合成した。
A−30) 樹脂(A)の製造例24において用いたチオグリコール
酸を表−2の化合物に代えた他は、前記製造例24と同
様の条件にして各共重合体を合成した。
表−2
吋
マクロモノマーの1゛告11: M−1メチルメタクリ
レ一ト95g、チオグリコール酸5g及びトルエン20
0gの混合溶液を、窒素気流下撹拌しながら、温度75
°Cに加温した。2゜2′−アゾビス(シアノ吉草酸)
(略称A、C。
レ一ト95g、チオグリコール酸5g及びトルエン20
0gの混合溶液を、窒素気流下撹拌しながら、温度75
°Cに加温した。2゜2′−アゾビス(シアノ吉草酸)
(略称A、C。
V、)1.0gを加え、8時間反応した。次にこの反応
溶液にグリシジルメタクリレ−)8g、NN−ジメチル
ドデシルアミン1、Og及びも−ブチルハイドロキノン
0.5gを加え、温度100°Cにて、12時間撹拌し
た。冷却後この反応溶液をメタノール21中に再沈し、
白色粉末を82g得た。重合体(M−1)の数平均分子
量は6,500であった。
溶液にグリシジルメタクリレ−)8g、NN−ジメチル
ドデシルアミン1、Og及びも−ブチルハイドロキノン
0.5gを加え、温度100°Cにて、12時間撹拌し
た。冷却後この反応溶液をメタノール21中に再沈し、
白色粉末を82g得た。重合体(M−1)の数平均分子
量は6,500であった。
マクロモノマーの製造12: M−2
メチルメタクリレ一ト95g、チオグリコール酸5g及
びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下撹拌しなが
ら、温度70゛Cに加温した。2゜2′−アゾビス(イ
ソブチロニトリル)(略称A。
びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下撹拌しなが
ら、温度70゛Cに加温した。2゜2′−アゾビス(イ
ソブチロニトリル)(略称A。
1、B、 N、 ) 1. 5gを加え、8時間反応し
た。
た。
次にこの反応溶液に、グリシジルメタクリレート7.5
g、N、N−ジメチルドデシルアミン1゜0g及びt−
ブチルハイドロキノン0.8gを加え、温度100°C
にて、12時間撹拌した。冷却後、この反応溶液をメタ
ノール21中に再沈し、無色透明の粘稠物85gを得た
。重合体(M−2)の数平均分子量は2,400であっ
た。
g、N、N−ジメチルドデシルアミン1゜0g及びt−
ブチルハイドロキノン0.8gを加え、温度100°C
にて、12時間撹拌した。冷却後、この反応溶液をメタ
ノール21中に再沈し、無色透明の粘稠物85gを得た
。重合体(M−2)の数平均分子量は2,400であっ
た。
マクロモノマーの11′告JM−3
プロピルメタクリレート94g、2−メルカプトエタノ
ール6g、トルエン200gの混合溶液を窒素気流下温
度70°Cに加温した。A、1.B、N、1.2gを加
え、8時間反応した。
ール6g、トルエン200gの混合溶液を窒素気流下温
度70°Cに加温した。A、1.B、N、1.2gを加
え、8時間反応した。
次にこの反応溶液を水浴中で冷却して温度20°Cとし
、トリエチルアミン10.2gを加え、メタクリル酸ク
ロライド14.5gを温度25°C以下で撹拌下して滴
下した。滴下後そのまま1時間更に撹拌した。その後、
し−ブチルハイ1′ロキノン0.5gを加え温度60°
Cに加温し、4時間撹拌した。冷却後、メタノール2!
中に再沈し、無色透明な粘稠物79gを得た。重合体(
M−3)の数平均分子量は4,500であった。
、トリエチルアミン10.2gを加え、メタクリル酸ク
ロライド14.5gを温度25°C以下で撹拌下して滴
下した。滴下後そのまま1時間更に撹拌した。その後、
し−ブチルハイ1′ロキノン0.5gを加え温度60°
Cに加温し、4時間撹拌した。冷却後、メタノール2!
中に再沈し、無色透明な粘稠物79gを得た。重合体(
M−3)の数平均分子量は4,500であった。
マクロモノマーの即P告14: M−4工チルメタクリ
レート95g及びトルエン200gの混合溶液を窒素気
流下に温度70°Cに加温した。2,2′−アゾビス(
シアノヘプタツール)5gを加え、8時間反応した。
レート95g及びトルエン200gの混合溶液を窒素気
流下に温度70°Cに加温した。2,2′−アゾビス(
シアノヘプタツール)5gを加え、8時間反応した。
冷却後、この反応液を水浴中で温度20°Cとし、トリ
エチルアミン1.0g及びメタクリル酸無水物21gを
加え1時間撹拌した後、温度60’Cで6時間撹拌した
。
エチルアミン1.0g及びメタクリル酸無水物21gを
加え1時間撹拌した後、温度60’Cで6時間撹拌した
。
得られた反応物を冷却した後メタノール2!中に再沈し
、無色透明な粘稠物75gを得た。重合体(M−4)の
数平均分子量は6,200であった。
、無色透明な粘稠物75gを得た。重合体(M−4)の
数平均分子量は6,200であった。
マクロモノマーの製゛告[M−5
ベンジルメタクリレ一ト93g、3−メルカプトプロピ
オン酸7g1 トルエン170g及びイソプロパツール
30gの混合物を窒素気流下に温度70°Cに加温し、
均一溶液とした。A、 1.B。
オン酸7g1 トルエン170g及びイソプロパツール
30gの混合物を窒素気流下に温度70°Cに加温し、
均一溶液とした。A、 1.B。
N、 2.0gを加え、8時間反応した。冷却後、メ
タノール21中に再沈し、減圧下に温度50°Cに加熱
して、溶媒を留去した。得られた粘稠物をトルエン20
0gに溶解し、この混合溶液にグリシジルメタクリレー
ト16g、N、N−ジメチルドデシルメタクリレート1
.0g及びむ−ブチルハイドロキノン1.0gを加え温
度110°Cで10時間撹拌した。この反応溶液を再び
メタノール2で中に再沈した。得られた淡黄色の粘稠物
(M5)の数平均分子量は3,400であった。
タノール21中に再沈し、減圧下に温度50°Cに加熱
して、溶媒を留去した。得られた粘稠物をトルエン20
0gに溶解し、この混合溶液にグリシジルメタクリレー
ト16g、N、N−ジメチルドデシルメタクリレート1
.0g及びむ−ブチルハイドロキノン1.0gを加え温
度110°Cで10時間撹拌した。この反応溶液を再び
メタノール2で中に再沈した。得られた淡黄色の粘稠物
(M5)の数平均分子量は3,400であった。
マクロモノマーの製花例6:M−6
プロビルメククリレート95g1チオグリコール酸5g
及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下撹拌しな
がら温度70°Cに加温した。A。
及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下撹拌しな
がら温度70°Cに加温した。A。
1、 B、N、 1. 0gを加え8時間反応した
。次に反応溶液にグリシジルメタクリレート13g、N
、 N−ジメチルドデシルアミン1.0g及びtブチ
ルハイドロキノン1.0gを加え、温度110°Cにて
10時間撹拌した。冷却後、この反応溶液をメタノール
21中に再沈し、白色粉末を86g得た。重合体(M−
6)の数平均分子量は3゜500であった。
。次に反応溶液にグリシジルメタクリレート13g、N
、 N−ジメチルドデシルアミン1.0g及びtブチ
ルハイドロキノン1.0gを加え、温度110°Cにて
10時間撹拌した。冷却後、この反応溶液をメタノール
21中に再沈し、白色粉末を86g得た。重合体(M−
6)の数平均分子量は3゜500であった。
マクロモノマーの一1I′告[:M−7メチルメタクリ
レ一ト40g、エチルメタクリレート54g、2−メル
カプトエチルアミン6g。
レ一ト40g、エチルメタクリレート54g、2−メル
カプトエチルアミン6g。
トルエン150g及びテトラヒドロフラン50gの混合
物を窒素気流下撹拌しながら温度75°Cに加温した。
物を窒素気流下撹拌しながら温度75°Cに加温した。
A、I、 B、 N、 2. 0gを加え8時間
反応した。次にこの反応溶液を水浴中温度20゛Cとし
、これにメタクリル酸無水物23gを温度が25°Cを
越えない様にして滴下し、その後そのまま更に1時間撹
拌した。2,2゛ −メチレンビス(6−t−ブチル−
p−クレゾール)0.5gを加え、温度40°Cで3時
間撹拌した。冷却後、この溶液をメタノール21中に再
沈し、粘稠物83gを得た。重合体(M−7)の数平均
分子量は2.200であった。
反応した。次にこの反応溶液を水浴中温度20゛Cとし
、これにメタクリル酸無水物23gを温度が25°Cを
越えない様にして滴下し、その後そのまま更に1時間撹
拌した。2,2゛ −メチレンビス(6−t−ブチル−
p−クレゾール)0.5gを加え、温度40°Cで3時
間撹拌した。冷却後、この溶液をメタノール21中に再
沈し、粘稠物83gを得た。重合体(M−7)の数平均
分子量は2.200であった。
マクロモノマーの11′告[M−8
2−クロロフェニルメタクリレート95g、トルエン1
50g及びエタノール150gの混合溶液を窒素気流下
に温度75°Cに加温した。A、C。
50g及びエタノール150gの混合溶液を窒素気流下
に温度75°Cに加温した。A、C。
V、5gを加え、8時間反応した。次に、グリシジルア
クリレート15g、N、N−ジメチルドデシルアミン1
.0g及び2,2゛−メチレンビス(6−t−ブチル−
P−クレゾール)1.0gを加え温度100°Cで15
時間撹拌した。冷却後、この反応液をメタノール2i中
に再沈し、透明な粘稠物83gを得た。重合体(M−8
)の数平均分子量は3,600であった。
クリレート15g、N、N−ジメチルドデシルアミン1
.0g及び2,2゛−メチレンビス(6−t−ブチル−
P−クレゾール)1.0gを加え温度100°Cで15
時間撹拌した。冷却後、この反応液をメタノール2i中
に再沈し、透明な粘稠物83gを得た。重合体(M−8
)の数平均分子量は3,600であった。
マクロモノマーの 告 9〜18:M−9〜Mマクロモ
ノマーの製造例3において、メタクリル酸クロライドの
代わりに、表−3の酸ハライド化合物を用いた他は、該
製造例3と同様に操作して、それぞれマクロモノマー(
M−9)〜(M2S)を製造した。
ノマーの製造例3において、メタクリル酸クロライドの
代わりに、表−3の酸ハライド化合物を用いた他は、該
製造例3と同様に操作して、それぞれマクロモノマー(
M−9)〜(M2S)を製造した。
尚、(M−9)〜(Pvl−18)のマクロモノマーの
匹は4,000〜5,000であった。
匹は4,000〜5,000であった。
マクロモノマーの °”−19〜27:M−19〜M−
27 マクロモノマーの製造例2において、メチルメタクリレ
ートの代わりに、表−4の単量体をを用いた他は、製造
例2と同様に操作してマクロモノマー(M−19)〜(
M−27)を製造した。
27 マクロモノマーの製造例2において、メチルメタクリレ
ートの代わりに、表−4の単量体をを用いた他は、製造
例2と同様に操作してマクロモノマー(M−19)〜(
M−27)を製造した。
表−4
の
2〜15 :
B−2)〜
樹脂CB〕の製造例1と同様の重合条件で、下記表−5
の樹脂〔B〕を製造した。各樹脂のnwは8X10’〜
1..5X10’の範囲であった。
の樹脂〔B〕を製造した。各樹脂のnwは8X10’〜
1..5X10’の範囲であった。
ニー1−ルメタクリレート70g2マクロモノマー(M
−1)30g及びトルエン150gの混合溶液を窒素気
流下温度70°Cに加温した0次に、A。
−1)30g及びトルエン150gの混合溶液を窒素気
流下温度70°Cに加温した0次に、A。
!、 B、N、 0. 5gを加え、4時間反応し、
更に、A、 1. B、 N、 0. 3gを加
えて6時間反応させた。得られた共重合体(B−13の
重量平均分子量は9.8X10’でガラス転移点は72
”Cであった。
更に、A、 1. B、 N、 0. 3gを加
えて6時間反応させた。得られた共重合体(B−13の
重量平均分子量は9.8X10’でガラス転移点は72
”Cであった。
しυυC■3
Bの゛” 16: CB−16)
エチルメタクリレート70g、マクロモノマー(M−2
)30g及びトルエン150g及びイソプロパツール5
0gの混合溶液を窒素気流下温度70°Cに加温した。
)30g及びトルエン150g及びイソプロパツール5
0gの混合溶液を窒素気流下温度70°Cに加温した。
次に、4.4′−アゾビフ(4シアノ吉草酸0.8gを
加え、10時間反応させた。得られた共重合体の重量平
均分子量(Mw)は9.8X10’でガラス転移点は7
2゛Cであった。
加え、10時間反応させた。得られた共重合体の重量平
均分子量(Mw)は9.8X10’でガラス転移点は7
2゛Cであった。
〔B〕−16の組成式
%式%
樹脂〔B〕の製造例16において、マクロモノマー(M
−2)の代わりに、下表−6のマクロモツマーを用いた
他は、該製造例16と同様に操作して、各樹脂〔B〕を
製造した。各樹脂のnwは9X10’〜1.2×104
であった。
−2)の代わりに、下表−6のマクロモツマーを用いた
他は、該製造例16と同様に操作して、各樹脂〔B〕を
製造した。各樹脂のnwは9X10’〜1.2×104
であった。
表−6
を各々製造した。
樹脂〔B〕の製造例16において、A、 C,V。
の代わりに、下表−7のアゾビス系化合物を用いた他は
、該製造例16と同様に操作して、重合体〔B の製′” 33〜39 : 樹脂〔B〕の製造例32において、チオグリコール酸の
代わりに下記表−8の化合物を用いた他は該製造例32
と同様に操作して重合体を製造した。
、該製造例16と同様に操作して、重合体〔B の製′” 33〜39 : 樹脂〔B〕の製造例32において、チオグリコール酸の
代わりに下記表−8の化合物を用いた他は該製造例32
と同様に操作して重合体を製造した。
表−8
Bの 32: B−32
ブチルメタクリレート80g、マクロモノマー(M−8
)20g、チオグリコール酸1.0g、トルエン100
g及びイソプロパツール50gの混合溶液を窒素気流下
に温度80°Cに加温した。
)20g、チオグリコール酸1.0g、トルエン100
g及びイソプロパツール50gの混合溶液を窒素気流下
に温度80°Cに加温した。
1.1′−アゾビス(シクロヘキサン−1−カルボニト
リル)(略称A、C,H,N、 ) 0. 5gを加え
4時間撹拌し、更にA、 C,HoN、 0. 3
gを加え4時羽撹拌した。得られた重合体のiwは、8
.0XIO’で、ガラス転移点は41゛Cであった。
リル)(略称A、C,H,N、 ) 0. 5gを加え
4時間撹拌し、更にA、 C,HoN、 0. 3
gを加え4時羽撹拌した。得られた重合体のiwは、8
.0XIO’で、ガラス転移点は41゛Cであった。
樹脂(B−32)の組成
Bの”−40〜48: B−40
樹脂〔B〕の製造例26と同様の重合条件で下記表−9
の共重合体を製造した。各樹脂の’Mwは9.5X10
’〜1.2×104の範囲であった。
の共重合体を製造した。各樹脂の’Mwは9.5X10
’〜1.2×104の範囲であった。
表−9
Bの″49〜56:
B−49
樹脂〔B〕の製造例16におけると同様の重合条件で、
下記表−10の各樹脂を製造した。得られた各樹脂〔B
〕のMwは9.5X10’ 〜l。
下記表−10の各樹脂を製造した。得られた各樹脂〔B
〕のMwは9.5X10’ 〜l。
lXl0’であった。
表−10
COOC3117
実施例1〜2及び比較例A−D
実施例1
樹脂(A)の製造例1で製造した樹脂(A−136g(
固形分量として)、樹脂〔B〕の製造例1で製造した樹
脂(B−1334g (固形分量として)、酸化亜鉛2
00g、下記構造のシアニン色素(A)0.018g、
無水フタル酸0. 05g及びトルエン300gの混合
物をボールミル中で2時間分散して、怒光層形成物を調
製し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が22g/
n(となる様に、ワイヤーバーで塗布し、110’Cで
30秒間乾燥し、ついで暗所で20’C65%RHの条
件下で24時間放置することにより、電子写真感光材料
を作製した。
固形分量として)、樹脂〔B〕の製造例1で製造した樹
脂(B−1334g (固形分量として)、酸化亜鉛2
00g、下記構造のシアニン色素(A)0.018g、
無水フタル酸0. 05g及びトルエン300gの混合
物をボールミル中で2時間分散して、怒光層形成物を調
製し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が22g/
n(となる様に、ワイヤーバーで塗布し、110’Cで
30秒間乾燥し、ついで暗所で20’C65%RHの条
件下で24時間放置することにより、電子写真感光材料
を作製した。
シアニン色素(A)
実施例2
実施例1において、樹脂CB−1)34gの代わりに樹
脂(B−16)、34gを用いた他は、実施例1と同様
に操作して、電子写真感光材料を作製した。
脂(B−16)、34gを用いた他は、実施例1と同様
に操作して、電子写真感光材料を作製した。
比較例A
実施例1において結着樹脂として用いた樹脂(A−1)
及び(B−1)の代わりに、樹脂〔A−1)のみを40
g (固形分量として)用いる以外は実施例1と同様の
操作で電子写真感光材料Aを製造した。
及び(B−1)の代わりに、樹脂〔A−1)のみを40
g (固形分量として)用いる以外は実施例1と同様の
操作で電子写真感光材料Aを製造した。
比較例B
結着樹脂として、下記樹脂(R−1)のみを40g用い
る以外は実施例1と同様の操作で電子写真感光材料I3
を製造した。
る以外は実施例1と同様の操作で電子写真感光材料I3
を製造した。
樹脂(R−1]
一〇CH2
CH。
C−一一寸君一−←CH2−CH−すr−C00CzH
s C0OH〔重量組成比〕 Mw:6,500 Tg 40°C比較例C 結着樹脂として上記樹脂(R−LL6g及び上記樹脂C
B−1)34g(固形分量として)用いる以外は実施例
1と同様の操作で電子写真感光材料Cを作製した。
s C0OH〔重量組成比〕 Mw:6,500 Tg 40°C比較例C 結着樹脂として上記樹脂(R−LL6g及び上記樹脂C
B−1)34g(固形分量として)用いる以外は実施例
1と同様の操作で電子写真感光材料Cを作製した。
比較例り
結着樹脂として下記構造の樹脂(R−21のみを40g
用いる以外は実施例1と同様の操作で電子写真感光材料
りを製造した。
用いる以外は実施例1と同様の操作で電子写真感光材料
りを製造した。
樹脂[R−2]
CHl
これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、膜強度、
静電特性、撮像性及び環境条件を30°C180%RH
とした時の静電特性撮像体を調べた。
静電特性、撮像性及び環境条件を30°C180%RH
とした時の静電特性撮像体を調べた。
更に、これらの感光材料をオフセットマスター用原版と
して用いた時の光導電性の不惑脂化性(不感脂化処理後
の光導電層の水との接触角で表わす)及び印刷性(地汚
れ、耐剛性等)を調べた。
して用いた時の光導電性の不惑脂化性(不感脂化処理後
の光導電層の水との接触角で表わす)及び印刷性(地汚
れ、耐剛性等)を調べた。
以上の結果をまとめて、表−11に示す。
表−1!
表−11に示した評価項目の実施の態様は以下の通りで
ある。
ある。
注1)光導電層の平滑性:
得られた感光材料は、ベック平滑度試験機(熊谷理工■
製)を用い、空気容量iceの条件にて、その平滑度(
sec/cc)を測定した。
製)を用い、空気容量iceの条件にて、その平滑度(
sec/cc)を測定した。
注2)光導電層の機械的強度:
得られた感光材料表面をヘイトン−14型表面性試験材
(新来化学■製)を用いて荷重50g/dのものでエメ
リー紙(#1000)で1000回繰り返し探り摩耗粉
を取り除き感光層の重量減少から残膜率(%)を求め機
械的強度とした。
(新来化学■製)を用いて荷重50g/dのものでエメ
リー紙(#1000)で1000回繰り返し探り摩耗粉
を取り除き感光層の重量減少から残膜率(%)を求め機
械的強度とした。
注3)静電特性:
温度20°C165%RHの暗室中で、各感光材料にペ
ーパーアナライザー(川口電機■製ペーパーアナライザ
ー5P−428型)を用いて−6に■で20秒間コロナ
放電をさせた後、10秒間放置し、この時の表面電位■
1oを測定した。次いでそのまま暗中で90秒間静置し
た後の電位■、。。
ーパーアナライザー(川口電機■製ペーパーアナライザ
ー5P−428型)を用いて−6に■で20秒間コロナ
放電をさせた後、10秒間放置し、この時の表面電位■
1oを測定した。次いでそのまま暗中で90秒間静置し
た後の電位■、。。
を測定し、90秒間暗減衰させた後の電位の保持性、即
ち、暗減衰保持率(DRR(%)を(V9゜/ v r
。)xlOO(%)で求めた。
ち、暗減衰保持率(DRR(%)を(V9゜/ v r
。)xlOO(%)で求めた。
又コロナ放電により光導電層表面を一400■に帯電さ
せた後、波長780 nmの単色光で照射し、表面電位
(V+。)が1/10に減衰するまでの時間を求め、こ
れから露光NF2ハ。(erg /(III)を算出す
る。
せた後、波長780 nmの単色光で照射し、表面電位
(V+。)が1/10に減衰するまでの時間を求め、こ
れから露光NF2ハ。(erg /(III)を算出す
る。
注4)撮像性:
各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した。
次に一5kVで帯電し、光源として2.8mW出力のガ
リウムーアルミニウムーヒ素半導体レーザー(発振波長
750 nm)を用いて、感光材料表面上で、64 e
rg/cJの照射量下、ピッチ25μm及びスキャニン
グ速度300 m/secのスピード露光後、液体現像
剤として、ELP−T(富士写真フィルム■製)を用い
て現像し、定着することで得られた複写画像(カブリ、
画像の画質)を目視評価した。
リウムーアルミニウムーヒ素半導体レーザー(発振波長
750 nm)を用いて、感光材料表面上で、64 e
rg/cJの照射量下、ピッチ25μm及びスキャニン
グ速度300 m/secのスピード露光後、液体現像
剤として、ELP−T(富士写真フィルム■製)を用い
て現像し、定着することで得られた複写画像(カブリ、
画像の画質)を目視評価した。
撮像時の環境条件は20°C65%RHと30°C80
%RHで実施した。
%RHで実施した。
注5)水との接触角:
各感光材料を不感脂化処理液ELP−EX (富士写真
フィルム■製)を用いて、エツチングプロセッサーに1
回通して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留
水2μ!の水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニ
オメータ−で測定する。
フィルム■製)を用いて、エツチングプロセッサーに1
回通して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留
水2μ!の水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニ
オメータ−で測定する。
注6)耐剛性
各感光材料を上記注4)と同条件で製版してトナー画像
を形成し、上記注5)と同条件で不感脂化処理し、これ
をオフセットマスターとして、オフセット印刷機(桜井
製作所■製オリバー52型)にかけ、印刷物の非画像部
の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで印刷でき
る枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐剛性が良好なこと
を表わす)。
を形成し、上記注5)と同条件で不感脂化処理し、これ
をオフセットマスターとして、オフセット印刷機(桜井
製作所■製オリバー52型)にかけ、印刷物の非画像部
の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで印刷でき
る枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐剛性が良好なこと
を表わす)。
表=11に示す様に従来公知の樹脂を用いた比較例りの
みが感光層の平滑度、静電特性が著しく悪かった。
みが感光層の平滑度、静電特性が著しく悪かった。
比較例B及びCは、環境条件が高温高温(30度、80
%RH)となった場合に、静電特性が変動じて低下し、
特に90秒間のり、 R,R,の悪化が著しくなった
。これによりスキャニング露光による実際の撮像性も複
写画像の低下が見られた。
%RH)となった場合に、静電特性が変動じて低下し、
特に90秒間のり、 R,R,の悪化が著しくなった
。これによりスキャニング露光による実際の撮像性も複
写画像の低下が見られた。
比較例Aは比較例B、 Cの様な環境条件の変化によ
る静電特性、撮像性の変化は殆んど見られず、更に常温
常温時の静電特性を比較例Bと比べても優れていた。こ
の事は低出力の半導体レーザー光によるスキャニング露
光方式では極めて有効なものである。
る静電特性、撮像性の変化は殆んど見られず、更に常温
常温時の静電特性を比較例Bと比べても優れていた。こ
の事は低出力の半導体レーザー光によるスキャニング露
光方式では極めて有効なものである。
本発明の感光材料は、比較例Aと同等の静電特性及び撮
像性を有し、更に感光層の膜強度が著しく向上した。
像性を有し、更に感光層の膜強度が著しく向上した。
これをオフセットマスター原版として用いた場合でも、
不感脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非
画像部の水との接触角が15度以下と小さく充分に親水
化されている。実際に印刷して印刷物の地汚れを観察し
ても、全く認められなかった。しかし、比較例Aの場合
は、光導電層の強度試験、及び耐刷試験を行なうと、膜
強度が充分でなく、耐久性に問題を生じた。
不感脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非
画像部の水との接触角が15度以下と小さく充分に親水
化されている。実際に印刷して印刷物の地汚れを観察し
ても、全く認められなかった。しかし、比較例Aの場合
は、光導電層の強度試験、及び耐刷試験を行なうと、膜
強度が充分でなく、耐久性に問題を生じた。
又、本発明の感光材料において、結着樹脂〔B〕中に極
性基を含有した実施例2の方が、実施例1に比べ膜強度
がオフセットマスター原版としての耐刷枚数において、
更に特性が向上した。
性基を含有した実施例2の方が、実施例1に比べ膜強度
がオフセットマスター原版としての耐刷枚数において、
更に特性が向上した。
以上から、本発明の感光材料は、光導電層の平滑性、膜
強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好なも
のであった。
強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好なも
のであった。
実施例3〜22
実施例1において樹脂(A−136g及び樹脂CB−1
)34gの代わりに下記表−12の樹脂(A)を各々6
g、樹脂〔B〕を各々34g用い、又、シアニン色素(
A)0.018gの代わりに、下記構造のシアニン色素
〔B〕0.018gを用いた他は、実施例1と同様に操
作して、各感光材料を作製した。
)34gの代わりに下記表−12の樹脂(A)を各々6
g、樹脂〔B〕を各々34g用い、又、シアニン色素(
A)0.018gの代わりに、下記構造のシアニン色素
〔B〕0.018gを用いた他は、実施例1と同様に操
作して、各感光材料を作製した。
シアニン色素〔B〕
表−12
(に Hz) s b O3
((lHz)<δす3に
実施例23〜36
実施例1において樹脂(A−1)6g及び樹脂(B−1
)34gの代わりに下記表−13の樹脂(A)を各々6
g、樹脂〔B〕を各々34g用い、又シアニン色素(A
)0.018gの代わりに、下記構造のメチン色素(C
)0.016gを用いた他は、実施例1と同様に操作し
て、各感光材料を作製した。
)34gの代わりに下記表−13の樹脂(A)を各々6
g、樹脂〔B〕を各々34g用い、又シアニン色素(A
)0.018gの代わりに、下記構造のメチン色素(C
)0.016gを用いた他は、実施例1と同様に操作し
て、各感光材料を作製した。
メチン色素(C)
表−13
実施例1と同様にして各特性を測定した。各感光材料の
平滑性及び膜強度は実施例1の試料とほぼ同等の特性を
示した。
平滑性及び膜強度は実施例1の試料とほぼ同等の特性を
示した。
本発明の各感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率
、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高温の(30°
C80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの発
生のない鮮明な画像を得た。
、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高温の(30°
C80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの発
生のない鮮明な画像を得た。
Claims (2)
- (1)無機光導電材料及び結着樹脂を少なくとも含有す
る光導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹
脂が下記樹脂〔A〕の少なくとも1種及び下記樹脂〔B
〕の少なくとも1種を含有することを特徴とする電子写
真感光体。 樹脂〔A〕 1×10^3〜2×10^4の重量平均分子量を有し、
下記式( I )又は式(II)で示される少なくとも1つ
の繰り返し単位を30重量%以上重合成分として含有す
る重合体であり、且つ重合体主鎖の片末端にのみ−PO
_3H_2基、−SO_3H基、−COOH基、▲数式
、化学式、表等があります▼基{Rは炭素数1〜10の
炭化水素基又は−OR′(R′は炭素数1〜10の炭化
水素基を示す)を示す}、−SH基及びフェノール性O
H基の酸性基並びに環状酸無水物含有基のうちの少なく
とも1つの置換基を結合して成る樹脂。 式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、X_1及びX_2は互いに独立に、それぞれ水
素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、塩素原子、臭素
原子、−COY_1又は−COOY_2(Y_1及びY
_2は各々炭素数1〜10の炭化水素基を示す)を表わ
す。但し、X_1とX_2がともに水素原子を表わすこ
とはない。 W_1及びW_2はそれぞれ−COO−とベンゼン環を
結合する、直接結合又は連結原子数1〜4個の連結基を
表わす。〕 樹脂〔B〕 下記一般式(IVa)及び(IVb)で示される重合体成分
のうちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の一方の
末端にのみ下記一般式(III)で示される重合性二重結
合基を結合して成る重量平均分子量2×10^4以下の
一官能性マクロモノマーと下記一般式(V)で示される
モノマーとから少なくとも成る共重合体である樹脂。 一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式(III)中、Vは−COO−、−OCO−、−CH
_2OCO−、−CH_2COO−、−O−、−SO_
2−、−CO−、−CONHCOO−、−CONHCO
NH−、−CONHSO_2−、▲数式、化学式、表等
があります▼、−SO_2N−又は▲数式、化学式、表
等があります▼を表わす(R_1は、水素原子又は炭化
水素基を表わす)。a_1、a_2は、互いに同じでも
、異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基
、炭化水素基、−COO−Z又は炭化水素を介した−C
OO−Z(Zは水素原子又は置換されてもよい炭化水素
基を示す)を表わす。〕一般式(IVa) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(IVb) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式(IVa)又は(IVb)中、X_0は、式(III)中
のVと同一の内容を表わす。 Q_0は、炭素数1〜18の脂肪族基又は炭素数6〜1
2の芳香族基を表わす。b_1、b_2は互いに同じで
も異なってもよく、式(III)中のa_1、a_2と同
一の内容を表わす。 Qは−CN、−CONH_2又は▲数式、化学式、表等
があります▼を表わし、ここでYは水素原子、ハロゲン
原子、炭化水素基、アルコキシ基又は−COOZ′(Z
′はアルキル基、アラルキル基又はアリール基を示す)
を表わす。〕 一般式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式(V)中、X_1は、式(IVa)中のX_0と同一
の内容を表わし、Q_1は、式(IVa)中のQ_0と同
一の内容を表わす。c_1、c_2は互いに同じでも異
なってもよく、式(III)中のa_1、a_2と同一の
内容を表わす。) - (2)樹脂〔B〕が、更に該共重合体主鎖の片末端にの
み−PO_3H_2基、−SO_3H基、−COOH基
、−OH基、−SH基及び▲数式、化学式、表等があり
ます▼基(R″は炭化水素基を表わす)から選ばれる少
なくとも1つの酸性基を結合して成る樹脂である請求項
(1)記載の電子写真感光体。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28897388A JP2592314B2 (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 電子写真感光体 |
EP89118889A EP0363928B1 (en) | 1988-10-12 | 1989-10-11 | Electrophotographic photoreceptor |
DE68927605T DE68927605T2 (de) | 1988-10-12 | 1989-10-11 | Elektrophotographischer Photorezeptor |
US07/420,505 US5073467A (en) | 1988-10-12 | 1989-10-11 | Electrophotographic photoreceptor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28897388A JP2592314B2 (ja) | 1988-11-17 | 1988-11-17 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02135457A true JPH02135457A (ja) | 1990-05-24 |
JP2592314B2 JP2592314B2 (ja) | 1997-03-19 |
Family
ID=17737196
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28897388A Expired - Fee Related JP2592314B2 (ja) | 1988-10-12 | 1988-11-17 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2592314B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992018907A1 (en) * | 1991-04-15 | 1992-10-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor |
WO1992018906A1 (en) * | 1991-04-12 | 1992-10-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic lithographic printing plate |
WO1992020015A1 (en) * | 1991-05-02 | 1992-11-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor |
WO1993024864A1 (en) * | 1992-06-03 | 1993-12-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor |
US5382488A (en) * | 1991-09-19 | 1995-01-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic light-sensitive material |
US5558966A (en) * | 1991-07-30 | 1996-09-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic light-sensitive material |
-
1988
- 1988-11-17 JP JP28897388A patent/JP2592314B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992018906A1 (en) * | 1991-04-12 | 1992-10-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic lithographic printing plate |
WO1992018907A1 (en) * | 1991-04-15 | 1992-10-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor |
WO1992020015A1 (en) * | 1991-05-02 | 1992-11-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor |
US5558966A (en) * | 1991-07-30 | 1996-09-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic light-sensitive material |
US5382488A (en) * | 1991-09-19 | 1995-01-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic light-sensitive material |
WO2004081667A1 (ja) * | 1991-09-19 | 2004-09-23 | Eiichi Kato | 電子写真感光体 |
WO1993024864A1 (en) * | 1992-06-03 | 1993-12-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor |
US5459005A (en) * | 1992-06-03 | 1995-10-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic light-sensitive material |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2592314B2 (ja) | 1997-03-19 |
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