JPH0296174A - 電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光体Info
- Publication number
- JPH0296174A JPH0296174A JP24753988A JP24753988A JPH0296174A JP H0296174 A JPH0296174 A JP H0296174A JP 24753988 A JP24753988 A JP 24753988A JP 24753988 A JP24753988 A JP 24753988A JP H0296174 A JPH0296174 A JP H0296174A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- resin
- formula
- formulas
- tables
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 203
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 203
- -1 cyclic acid anhydride Chemical class 0.000 claims abstract description 97
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 50
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 38
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 35
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 24
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 17
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims abstract description 13
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims abstract description 9
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims abstract 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 42
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 32
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 29
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 28
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 13
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 13
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 11
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 11
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 5
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 abstract description 4
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 abstract description 4
- 238000004321 preservation Methods 0.000 abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 62
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 description 28
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 26
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 22
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 16
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 13
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 12
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 11
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 11
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 10
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 8
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 8
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 7
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 7
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 7
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 239000011345 viscous material Substances 0.000 description 7
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 6
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 6
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical class CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 4
- LRFVTYWOQMYALW-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthine Chemical compound O=C1NC(=O)NC2=C1NC=N2 LRFVTYWOQMYALW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 4
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N Tert-Butylhydroquinone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1O BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 125000004188 dichlorophenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005999 2-bromoethyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 3
- ORNUPNRNNSVZTC-UHFFFAOYSA-N 2-vinylthiophene Chemical compound C=CC1=CC=CS1 ORNUPNRNNSVZTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 125000004799 bromophenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 125000004803 chlorobenzyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- 238000012690 ionic polymerization Methods 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000006178 methyl benzyl group Chemical group 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyldodecan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN(C)C YWFWDNVOPHGWMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000012552 review Methods 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 3
- OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylimidazole Chemical compound C=CN1C=CN=C1 OSSNTDFYBPYIEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=CC1=CC=CC=C1 CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJCCNRRUTSLHLJ-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1,4-dioxane Chemical compound C=CC1COCCO1 WJCCNRRUTSLHLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004924 2-naphthylethyl group Chemical group C1=C(C=CC2=CC=CC=C12)CC* 0.000 description 2
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 2
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 2
- BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N aluminium(i) oxide Chemical compound [Al]O[Al] BYFGZMCJNACEKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229950005228 bromoform Drugs 0.000 description 2
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 2
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N chloroform Substances ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001701 chloroform Drugs 0.000 description 2
- OOCCDEMITAIZTP-UHFFFAOYSA-N cinnamyl alcohol Chemical compound OCC=CC1=CC=CC=C1 OOCCDEMITAIZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 125000004802 cyanophenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 2
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N methacrylic anhydride Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(=O)C(C)=C DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- SYUYXOYNRMMOGW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-3-phenylprop-2-en-1-amine Chemical compound CN(C)CC=CC1=CC=CC=C1 SYUYXOYNRMMOGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMEKUKDWAIXWSL-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-7-nitro-9h-fluoren-2-amine Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2C3=CC=C(N(C)C)C=C3CC2=C1 DMEKUKDWAIXWSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000002889 tridecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940075420 xanthine Drugs 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 2
- DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N β‐Mercaptoethanol Chemical compound OCCS DGVVWUTYPXICAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWMPPVPFLSZGCY-VOTSOKGWSA-N (2E)-oct-2-enoic acid Chemical compound CCCCC\C=C\C(O)=O CWMPPVPFLSZGCY-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2,2,4-trimethylpentyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)COC(=O)C(C)=C JHPBZFOKBAGZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMYXKHZCEYROAL-UHFFFAOYSA-N (4-chloro-2,3,5,6-tetrafluorophenyl)methanol Chemical compound OCC1=C(F)C(F)=C(Cl)C(F)=C1F HMYXKHZCEYROAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDYRHGGXBLRFHS-SNAWJCMRSA-N (e)-4-methylhex-2-enoic acid Chemical compound CCC(C)\C=C\C(O)=O QDYRHGGXBLRFHS-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003067 (meth)acrylic acid ester copolymer Polymers 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- VDFVNEFVBPFDSB-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxane Chemical group C1COCOC1 VDFVNEFVBPFDSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical group C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical group C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLBAYUMRQUHISI-UHFFFAOYSA-N 1,8-naphthyridine Chemical group N1=CC=CC2=CC=CN=C21 FLBAYUMRQUHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical group C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006023 1-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 1-vinylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=C)=CC=CC2=C1 IGGDKDTUCAWDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUQABTLQDXJZFK-UHFFFAOYSA-N 10-hydroxydecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCCCCCO ZUQABTLQDXJZFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSAXWMSAVVOOHO-UHFFFAOYSA-N 2,2-dioxo-1,5-dihydroimidazo[4,5-c][1,2,6]thiadiazin-4-one Chemical compound O=C1NS(=O)(=O)NC2=C1NC=N2 BSAXWMSAVVOOHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWMPPVPFLSZGCY-UHFFFAOYSA-N 2-Octenoic Acid Natural products CCCCCC=CC(O)=O CWMPPVPFLSZGCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTZRYAAOQPNAKU-UHFFFAOYSA-N 2-[(1-carboxy-3-cyanobutyl)diazenyl]-4-cyanopentanoic acid Chemical compound N#CC(C)CC(C(O)=O)N=NC(C(O)=O)CC(C)C#N PTZRYAAOQPNAKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTOFYLAWDLQMBZ-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-3-thiophen-2-ylpropanoate Chemical compound OC(=O)C(N)CC1=CC=CS1 WTOFYLAWDLQMBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- XRCRJFOGPCJKPF-UHFFFAOYSA-N 2-butylbenzene-1,4-diol Chemical compound CCCCC1=CC(O)=CC=C1O XRCRJFOGPCJKPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKBHSBATGOQADJ-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1,3-dioxolane Chemical compound C=CC1OCCO1 KKBHSBATGOQADJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDCUKFVNOWJNBU-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-1,3-thiazole Chemical compound C=CC1=NC=CS1 JDCUKFVNOWJNBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQBSIHIZDSHADD-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound C=CC1=NCCO1 BQBSIHIZDSHADD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMSBGXAJJLPWKV-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzenesulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C=C VMSBGXAJJLPWKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzoic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1C=C XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQBUHYQVKJQAOB-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylfuran Chemical compound C=CC1=CC=CO1 QQBUHYQVKJQAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIXWTBLGKIRXOP-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyloxolane Chemical compound C=CC1CCCO1 XIXWTBLGKIRXOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZHNODDFDJBMAS-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethenylbenzene Chemical compound CCOC=CC1=CC=CC=C1 FZHNODDFDJBMAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006040 2-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006020 2-methyl-1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- HZSXHHJVJAXMIX-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enamide;2-phenylethenol Chemical compound CC(=C)C(N)=O.OC=CC1=CC=CC=C1 HZSXHHJVJAXMIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 description 1
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- SYIUWAVTBADRJG-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran-2,6(3H)-dione Chemical group O=C1CC=CC(=O)O1 SYIUWAVTBADRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXFHZSFZCQPLPW-UHFFFAOYSA-N 3-ethenyl-2h-oxazine Chemical compound C=CC1=CC=CON1 KXFHZSFZCQPLPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCO GNSFRPWPOGYVLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 3-mercaptopropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCS DKIDEFUBRARXTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006050 3-methyl-2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-azobis(4-cyanopentanoic acid) Chemical compound OC(=O)CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CCC(O)=O)C#N VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMMBJOWWRLZEMI-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical group C1CCCC2=C1C(=O)OC2=O HMMBJOWWRLZEMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDYRHGGXBLRFHS-UHFFFAOYSA-N 4-Methyl-2-hexenoic acid Natural products CCC(C)C=CC(O)=O QDYRHGGXBLRFHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRUKRHLZDVJJSX-UHFFFAOYSA-N 4-cyanopentanoic acid Chemical compound N#CC(C)CCC(O)=O XRUKRHLZDVJJSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCO YKXAYLPDMSGWEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPIINMAYDTYYSQ-UHFFFAOYSA-N 5-ethenyl-1h-pyrazole Chemical compound C=CC=1C=CNN=1 YPIINMAYDTYYSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFOFBPRPOAWWPA-UHFFFAOYSA-N 6-hydroxyhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCO XFOFBPRPOAWWPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical group N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- SRBFZHDQGSBBOR-IOVATXLUSA-N D-xylopyranose Chemical group O[C@@H]1COC(O)[C@H](O)[C@H]1O SRBFZHDQGSBBOR-IOVATXLUSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical group C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical group C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000220317 Rosa Species 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 229920006322 acrylamide copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- YIYBQIKDCADOSF-UHFFFAOYSA-N alpha-Butylen-alpha-carbonsaeure Natural products CCC=CC(O)=O YIYBQIKDCADOSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFVLVVWMAFSXCK-VMPITWQZSA-N alpha-cyano-4-hydroxycinnamic acid Chemical group OC(=O)C(\C#N)=C\C1=CC=C(O)C=C1 AFVLVVWMAFSXCK-VMPITWQZSA-N 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoselenazole Chemical group C1=CC=C2C(N=C[se]3)=C3C=CC2=C1 AMTXUWGBSGZXCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical group C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical group C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDVDAZFXGGNIDQ-UHFFFAOYSA-N benzo[e][2]benzofuran-1,3-dione Chemical group C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(=O)OC2=O IDVDAZFXGGNIDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 125000006278 bromobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- YFRNYWVKHCQRPE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enoic acid Chemical compound C=CC=C.OC(=O)C=C YFRNYWVKHCQRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000011 cadmium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- GKDXQAKPHKQZSC-UHFFFAOYSA-L cadmium(2+);carbonate Chemical compound [Cd+2].[O-]C([O-])=O GKDXQAKPHKQZSC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- UFULAYFCSOUIOV-UHFFFAOYSA-N cysteamine Chemical compound NCCS UFULAYFCSOUIOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000003963 dichloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 125000006182 dimethyl benzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000532 dioxanyl group Chemical group 0.000 description 1
- CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N diphenylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 CZZYITDELCSZES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229910001651 emery Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000004175 fluorobenzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001207 fluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- MCQOWYALZVKMAR-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyridine-5,7-dione Chemical group C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 MCQOWYALZVKMAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylbenzene Chemical compound CCCCC=CC1=CC=CC=C1 KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-UHFFFAOYSA-N hexahydrophthalic anhydride Chemical group C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21 MUTGBJKUEZFXGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002632 imidazolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 125000003453 indazolyl group Chemical group N1N=C(C2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000003387 indolinyl group Chemical group N1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000003406 indolizinyl group Chemical group C=1(C=CN2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- QHDRKFYEGYYIIK-UHFFFAOYSA-N isovaleronitrile Chemical compound CC(C)CC#N QHDRKFYEGYYIIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000000686 lactone group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052981 lead sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940056932 lead sulfide Drugs 0.000 description 1
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical group O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 229960003151 mercaptamine Drugs 0.000 description 1
- 229920003146 methacrylic ester copolymer Polymers 0.000 description 1
- VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N methacryloyl chloride Chemical compound CC(=C)C(Cl)=O VHRYZQNGTZXDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- PPMXDDJEXJDFMT-UHFFFAOYSA-N n,n-diethyl-3-phenylprop-2-en-1-amine Chemical compound CCN(CC)CC=CC1=CC=CC=C1 PPMXDDJEXJDFMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCCNC(=O)C=C UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICWPRFNZEBFLPT-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyphenyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NC1=CC=CC=C1O ICWPRFNZEBFLPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HANMNPOZQGCXFP-UHFFFAOYSA-N n-methyl-n-(3-phenylprop-2-enyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCN(C)CC=CC1=CC=CC=C1 HANMNPOZQGCXFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004989 p-phenylenediamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N phenanthridine Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=NC2=C1 RDOWQLZANAYVLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001791 phenazinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C12)* 0.000 description 1
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical group C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N phthalic anhydride Chemical group C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 238000010094 polymer processing Methods 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 125000003072 pyrazolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002755 pyrazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical group O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001422 pyrrolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- BRHQMPOFCRGJCM-UHFFFAOYSA-N sbb007645 Chemical group C1CC2C3C(=O)OC(=O)C3C1CC2 BRHQMPOFCRGJCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001909 styrene-acrylic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005346 substituted cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N succinic anhydride Chemical group O=C1CCC(=O)O1 RINCXYDBBGOEEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- FIDKFEIEZJGDBE-UHFFFAOYSA-N thieno[2,3-c]furan-4,6-dione Chemical group S1C=CC2=C1C(=O)OC2=O FIDKFEIEZJGDBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIYBQIKDCADOSF-ONEGZZNKSA-N trans-pent-2-enoic acid Chemical compound CC\C=C\C(O)=O YIYBQIKDCADOSF-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N vinylphosphonic acid Chemical class OP(O)(=O)C=C ZTWTYVWXUKTLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013585 weight reducing agent Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0592—Macromolecular compounds characterised by their structure or by their chemical properties, e.g. block polymers, reticulated polymers, molecular weight, acidity
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0528—Macromolecular bonding materials
- G03G5/0589—Macromolecular compounds characterised by specific side-chain substituents or end groups
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性及び
耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。
耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。
特にCPC感光体として性能の優れたものに関する。
(従来の技術)
電子写真感光体は、所定の特性を得るため、あるいは適
用される電子写真プロセスの種類に応じて、種々の構成
をとる。
用される電子写真プロセスの種類に応じて、種々の構成
をとる。
電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光導
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。
支持体と少なくとも1つの光導電層から構成される感光
体は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯電
、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画像
形成に用いられる。
体は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯電
、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画像
形成に用いられる。
更には、ダイレクト製版用のオフセット原版トして電子
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。特に近
年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数十枚程度の
印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要と
なってきている。
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。特に近
年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数十枚程度の
印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要と
なってきている。
電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結
合剤は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結合剤
中への分散能力が優れるとともに、形成された記録体層
の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層の
光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰が
大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮像時の湿度の変
化によってこれら特性を安定に保持していることが必要
である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備す
る必要がある。
合剤は、それ自体の成膜性および光導電性粉体の結合剤
中への分散能力が優れるとともに、形成された記録体層
の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層の
光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰が
大きく、前露光疲労が少なく、且つ、撮像時の湿度の変
化によってこれら特性を安定に保持していることが必要
である等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備す
る必要がある。
古くから公知の樹脂として、例えばシリコーン樹脂(特
公昭34−6670号)、スチレン−ブタジェン樹脂(
特公昭354960号)、アルキッド樹脂、マレイン酸
樹脂、ポリアミド(特公昭35−11219号)、酢酸
ビニル樹脂(特公昭41−2425号)、酢酸ビニル共
重合体(特公昭41−2426号)、アクリル樹脂(特
公昭35−11216号)、アクリル酸エステル共重合
体(例えば特公昭35−11219号、特公昭36−8
510号、特公昭41−13946号等)等が知られて
いる。
公昭34−6670号)、スチレン−ブタジェン樹脂(
特公昭354960号)、アルキッド樹脂、マレイン酸
樹脂、ポリアミド(特公昭35−11219号)、酢酸
ビニル樹脂(特公昭41−2425号)、酢酸ビニル共
重合体(特公昭41−2426号)、アクリル樹脂(特
公昭35−11216号)、アクリル酸エステル共重合
体(例えば特公昭35−11219号、特公昭36−8
510号、特公昭41−13946号等)等が知られて
いる。
しかし、これらの樹脂を用いた電子写真感光材料におい
ては、1)光導電性粉体との親和性が不足し、塗工液の
分散性が不良となる。2)光導電層の帯電性が低い、3
)複写画像の画像部(特に網点再現性・解像力)の品質
が悪い、4)複写画像作成時の環境(例えば高温高温、
低温低湿等)にその画質が影響されやすい、等のいずれ
かの問題があった。
ては、1)光導電性粉体との親和性が不足し、塗工液の
分散性が不良となる。2)光導電層の帯電性が低い、3
)複写画像の画像部(特に網点再現性・解像力)の品質
が悪い、4)複写画像作成時の環境(例えば高温高温、
低温低湿等)にその画質が影響されやすい、等のいずれ
かの問題があった。
光導電層の静電特性の改良方法として種々の方法が提案
されており、その1つの方法として、例えば、芳香族環
又はフラン環にカルボキシル基又はニトロ基を含有する
化合物、あるいはジカルボン酸の無水物を更に組合せて
、光導電層に共存させる方法が特公昭42−6878号
及び特公昭45−3073号に開示されている。しかし
、これらの方法によって改良された感光材料でもその静
電特性は充分でなく、特に光減衰特性の優れたものは得
られていない。そこでこの感光材料の感度不足を改良す
るために、光導電層中に増感色素を多量に加える方法が
従来とられてきたが、このような方法によって作製され
た感光材料は、白色度が著しく劣化し、記録体としての
品質低下を生じ、場合によっては感光材料の暗減衰の劣
化を起こし、充分な複写画像が得られなくなってしまう
という問題を有していた。
されており、その1つの方法として、例えば、芳香族環
又はフラン環にカルボキシル基又はニトロ基を含有する
化合物、あるいはジカルボン酸の無水物を更に組合せて
、光導電層に共存させる方法が特公昭42−6878号
及び特公昭45−3073号に開示されている。しかし
、これらの方法によって改良された感光材料でもその静
電特性は充分でなく、特に光減衰特性の優れたものは得
られていない。そこでこの感光材料の感度不足を改良す
るために、光導電層中に増感色素を多量に加える方法が
従来とられてきたが、このような方法によって作製され
た感光材料は、白色度が著しく劣化し、記録体としての
品質低下を生じ、場合によっては感光材料の暗減衰の劣
化を起こし、充分な複写画像が得られなくなってしまう
という問題を有していた。
一方、光導電層に用いる結着樹脂として樹脂の平均分子
量を調節して用いる方法が特開昭6010254号に開
示されている。即ち、酸価4〜5oのアクリル樹脂で平
均分子量が103〜10’の分布の成分のものと104
〜2X105の分布の成分のものを併用することにより
、静電特性(特にrpc感光体としての繰り返し再現性
)、耐湿性等を改良する技術が記載されている。
量を調節して用いる方法が特開昭6010254号に開
示されている。即ち、酸価4〜5oのアクリル樹脂で平
均分子量が103〜10’の分布の成分のものと104
〜2X105の分布の成分のものを併用することにより
、静電特性(特にrpc感光体としての繰り返し再現性
)、耐湿性等を改良する技術が記載されている。
更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究が
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂として、例えば、特公昭50−31OH号では
、フマル酸存在下で(メタ)アクリレート系モノマーと
他のモノマーと共重合させた、Mwl、8〜10×10
4 テTglo 〜80’C(7)樹脂と、(メタ)ア
クリレート系モノマーとフマル酸以外の他のモノマーと
から成る共重合体とを併用したもの、又特開昭53−5
4027号では、カルボン酸基をエステル結合から少な
くとも原子数7個離れて有する置換基をもつ(メタ)ア
クリル酸エステルを含む三元共重合体を用いるもの、又
特開昭5420735号・特開昭57−202544号
では、アクリル酸及びヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レートを含む4元又は5元共重合体を用いるもの、又特
開昭5B−68046号では、炭素数6〜12のアルキ
ル基を置換基とする(メタ)アクリル酸エステル及びカ
ルボン酸含有のビニルモノマーを含む3元共重合体を用
いるもの等が光導電層の不感脂化性の向上に効果がある
と記載されている。
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂として、例えば、特公昭50−31OH号では
、フマル酸存在下で(メタ)アクリレート系モノマーと
他のモノマーと共重合させた、Mwl、8〜10×10
4 テTglo 〜80’C(7)樹脂と、(メタ)ア
クリレート系モノマーとフマル酸以外の他のモノマーと
から成る共重合体とを併用したもの、又特開昭53−5
4027号では、カルボン酸基をエステル結合から少な
くとも原子数7個離れて有する置換基をもつ(メタ)ア
クリル酸エステルを含む三元共重合体を用いるもの、又
特開昭5420735号・特開昭57−202544号
では、アクリル酸及びヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レートを含む4元又は5元共重合体を用いるもの、又特
開昭5B−68046号では、炭素数6〜12のアルキ
ル基を置換基とする(メタ)アクリル酸エステル及びカ
ルボン酸含有のビニルモノマーを含む3元共重合体を用
いるもの等が光導電層の不感脂化性の向上に効果がある
と記載されている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら、上記した静電特性・耐湿特性に効果があ
るとされる樹脂であっても、現実に評価してみると特に
帯電性、暗電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導電
層の平滑性等に問題があり、実用上満足できるものでは
なかった。
るとされる樹脂であっても、現実に評価してみると特に
帯電性、暗電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導電
層の平滑性等に問題があり、実用上満足できるものでは
なかった。
又、電子写真式平版印刷用原版として開発されたとする
結着樹脂においても、現実に評価してみると前記の静電
特性、印刷物の地汚れ、更には耐湿特性等に問題があっ
た。
結着樹脂においても、現実に評価してみると前記の静電
特性、印刷物の地汚れ、更には耐湿特性等に問題があっ
た。
本発明は、以上の様な従来の電子写真感光体の有する課
題を改良するものである。
題を改良するものである。
本発明の目的は、静電特性(特に暗電荷保持性及び光感
度)が向上し、原画に対し忠実な複写画像を再現する高
画質の電子写真感光体を提供することである。
度)が向上し、原画に対し忠実な複写画像を再現する高
画質の電子写真感光体を提供することである。
本発明の他の目的は、複写画像形成時の環境が低温低湿
あるいは高温高湿の如く変動した場合でも、鮮明で良質
な画像を有する電子写真感光体を提供することである。
あるいは高温高湿の如く変動した場合でも、鮮明で良質
な画像を有する電子写真感光体を提供することである。
本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存性の
小さいcpc電子写真感光体を提供することである。
小さいcpc電子写真感光体を提供することである。
本発明の他の目的は、電子写真式平版印刷原版として地
汚れの発生を全く生しさせない印刷物を与える平版印刷
版を提供することである。
汚れの発生を全く生しさせない印刷物を与える平版印刷
版を提供することである。
本発明の他の目的は併用し得る増感色素の種類による影
響をうけにくい電子写真感光体を提供することにある。
響をうけにくい電子写真感光体を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
前記の課題は、無機光導電材料及び結着樹脂を少なくと
も含有する光導電層を存する電子写真感光体において、
該結着樹脂が下記樹脂〔A)の少なくとも1種及び下記
樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有することを特徴とす
る電子写真感光体により解決されることが見出された。
も含有する光導電層を存する電子写真感光体において、
該結着樹脂が下記樹脂〔A)の少なくとも1種及び下記
樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有することを特徴とす
る電子写真感光体により解決されることが見出された。
樹脂〔A)
1×103〜2×104の重量平均分子量を有し、下記
一般式(Ila)及び(IIb) で示される重合体
成分のうちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の一
方の末端にのみ下記一般式(1)で示される重合性二重
結合基を結合して成る重量平均分子量2×104以下の
一官能性マクロ七ツマー(M)と下記一般式(1)で示
されるモノマーとから少なくとも成る共重合体であり、
且つ該共重合体主鎖の片末端にのみ−PO,I+□基、
−30311基、−COO)l基、H OR’基(R”は炭化水素基を表わす)を表わす)基の
酸性基並びに環状酸無水動台を基から選ばれる少なくと
も1つの置換基を結合して成る樹脂。
一般式(Ila)及び(IIb) で示される重合体
成分のうちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の一
方の末端にのみ下記一般式(1)で示される重合性二重
結合基を結合して成る重量平均分子量2×104以下の
一官能性マクロ七ツマー(M)と下記一般式(1)で示
されるモノマーとから少なくとも成る共重合体であり、
且つ該共重合体主鎖の片末端にのみ−PO,I+□基、
−30311基、−COO)l基、H OR’基(R”は炭化水素基を表わす)を表わす)基の
酸性基並びに環状酸無水動台を基から選ばれる少なくと
も1つの置換基を結合して成る樹脂。
一般式(1) a、 C2
II
Cl1=C
■
式(1)中、■は−coo−,−oco−、−CJI2
0COCLCO0、OSo□ −−C0 (R,は水素原子又は炭化水素基を表わす)。
0COCLCO0、OSo□ −−C0 (R,は水素原子又は炭化水素基を表わす)。
al+ atは、互いに同じでも異なってもよく、各々
水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−C
oo−Z又は炭化水素を介した一Coo−Z (Zは
水素原子又は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表
わす。
水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−C
oo−Z又は炭化水素を介した一Coo−Z (Zは
水素原子又は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表
わす。
一般式(Ila) b、 b2
−←C11−C→−
Xo−ロ。
一般式([Ib) b、 b2
一←CH−C←
式(II a)又は(IIb)中、Xoは式(1)中の
■と同一の内容を表わす。0゜は、炭素数1〜18の脂
肪族基又は炭素数6〜12の芳香族基を表わす。
■と同一の内容を表わす。0゜は、炭素数1〜18の脂
肪族基又は炭素数6〜12の芳香族基を表わす。
bl+ b2は、互いに同じでも、異なってもよく、式
(1)中のal+ 82と同一の内容を表わす。
(1)中のal+ 82と同一の内容を表わす。
Yは水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基又はC00
Z’ (Z’はアルキル基、アラルキル基又はアリール
基を示す)を表わす。
Z’ (Z’はアルキル基、アラルキル基又はアリール
基を示す)を表わす。
一般式(■)c1c2
II
CH冨C
−Q
式(III)中、×1は、式(Ila)中のxoと同一
の内容を表わし、Qlは式(Il’a)中の0゜と同一
の内容を表わす。CI+ C2は互いに同じでも異なっ
てもよく、式(1)中のal+ agと同一の内容を表
わす。
の内容を表わし、Qlは式(Il’a)中の0゜と同一
の内容を表わす。CI+ C2は互いに同じでも異なっ
てもよく、式(1)中のal+ agと同一の内容を表
わす。
樹脂(B)
5×104〜6×104の重量平均分子量及び120°
C以下のガラス転移点を有する樹脂。
C以下のガラス転移点を有する樹脂。
即ち、本発明に供される結着樹脂は、−官能性マクロマ
−(M)と一般式(III)で示される単量体とを少な
くとも含有するクシ型共重合体で、且つ重合体主鎖の片
末端にのみ特定の酸性基及び/又は環状酸無水物含有基
(以下特にことわらない限り、酸性基の語の中に環状酸
無水物含有基も含まれるものとする)を結合して成る低
分子量の樹脂〔A〕と、ガラス転移点120°C以下の
高分子量の樹脂(B)とから少なくとも構成される。
−(M)と一般式(III)で示される単量体とを少な
くとも含有するクシ型共重合体で、且つ重合体主鎖の片
末端にのみ特定の酸性基及び/又は環状酸無水物含有基
(以下特にことわらない限り、酸性基の語の中に環状酸
無水物含有基も含まれるものとする)を結合して成る低
分子量の樹脂〔A〕と、ガラス転移点120°C以下の
高分子量の樹脂(B)とから少なくとも構成される。
樹脂(B)は、上記物性を有する樹脂であればいずれで
もよく、特に特定の官能基を含有する必要はないが、樹
脂〔B〕の好ましい態様として、重合体中の繰り返し単
位としてOH基及び塩基性基から選択される少なくとも
1つの官能基を含有する成分を0.5〜20重量%含有
する樹脂あるいは重合体の繰り返し単位として樹脂〔A
)に含まれる酸性基のpkaより大きいpkaを有する
少なくとも1つの酸性基を含有する成分を、樹脂〔A)
に含まれる酸性基含有量の1〜80重量%の割合で含有
する樹脂を挙げることができる。
もよく、特に特定の官能基を含有する必要はないが、樹
脂〔B〕の好ましい態様として、重合体中の繰り返し単
位としてOH基及び塩基性基から選択される少なくとも
1つの官能基を含有する成分を0.5〜20重量%含有
する樹脂あるいは重合体の繰り返し単位として樹脂〔A
)に含まれる酸性基のpkaより大きいpkaを有する
少なくとも1つの酸性基を含有する成分を、樹脂〔A)
に含まれる酸性基含有量の1〜80重量%の割合で含有
する樹脂を挙げることができる。
本発明において、特定の酸性基が重合体主鎖の末端にの
み結合したクシ型共重合体である樹脂〔A)は、樹脂中
の特定の位置に結合された酸性基が無機光導電体の化学
量論的な欠陥に吸着し、且つクシ型共重合体の低分子量
体であることから、光導電体の表面の被覆性を向上させ
ることで光導電体のトラップを補償すると共に湿度特性
を飛躍的に向上させる一方、光導電体の分散が十分に行
なわれ、凝集を抑制することが判った。更に、樹脂(B
)は、樹脂〔A)を用いたことによる電子写真特性の高
性能を全く阻害せずに、樹脂〔A)のみでは不充分な光
導電層の機械的強度を充分ならしめることが見出された
。
み結合したクシ型共重合体である樹脂〔A)は、樹脂中
の特定の位置に結合された酸性基が無機光導電体の化学
量論的な欠陥に吸着し、且つクシ型共重合体の低分子量
体であることから、光導電体の表面の被覆性を向上させ
ることで光導電体のトラップを補償すると共に湿度特性
を飛躍的に向上させる一方、光導電体の分散が十分に行
なわれ、凝集を抑制することが判った。更に、樹脂(B
)は、樹脂〔A)を用いたことによる電子写真特性の高
性能を全く阻害せずに、樹脂〔A)のみでは不充分な光
導電層の機械的強度を充分ならしめることが見出された
。
また、本発明では、光導電体表面の平滑性が滑らかとな
る。電子写真式平版印刷原版として光導電層表面の平滑
性の粗い感光体を用いると、光導電体である無機粒子と
結着樹脂の分散状態が適切でなく、凝集物が存在する状
態で光導電層が形成されるため、不感脂化処理液による
不感脂化処理をしても非画像部の親水化が均一に充分に
行なわれず、印刷時に印刷インキの付着を引き起こし、
結果として印刷物の非画像部の地汚れを生じてしまう。
る。電子写真式平版印刷原版として光導電層表面の平滑
性の粗い感光体を用いると、光導電体である無機粒子と
結着樹脂の分散状態が適切でなく、凝集物が存在する状
態で光導電層が形成されるため、不感脂化処理液による
不感脂化処理をしても非画像部の親水化が均一に充分に
行なわれず、印刷時に印刷インキの付着を引き起こし、
結果として印刷物の非画像部の地汚れを生じてしまう。
本発明の電子写真感光体は、電子写真式平版印刷用原版
として用いた場合でも光導電体層表面の平滑性が良好で
あり、且つ、光導電体である無機粒子が結着剤中で充分
に分散しているため、不感脂化処理液による不感脂化処
理をすると、非画像部の親水化が均一に充分行なわれ印
刷時の印刷インキの非画像部への付着が抑えられ1万枚
といった多数枚の印刷物を印刷しても地汚れを生しない
ものである。
として用いた場合でも光導電体層表面の平滑性が良好で
あり、且つ、光導電体である無機粒子が結着剤中で充分
に分散しているため、不感脂化処理液による不感脂化処
理をすると、非画像部の親水化が均一に充分行なわれ印
刷時の印刷インキの非画像部への付着が抑えられ1万枚
といった多数枚の印刷物を印刷しても地汚れを生しない
ものである。
更に、本発明における低分子量体の樹脂〔A〕のみを結
着樹脂として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充
分に吸着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平
滑性及び静電特性において良好で、しかも地汚れのない
画質が得られ得るが、その膜強度がいまだ充分ではなく
、耐久性において満足すべき結果が得られない。
着樹脂として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充
分に吸着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平
滑性及び静電特性において良好で、しかも地汚れのない
画質が得られ得るが、その膜強度がいまだ充分ではなく
、耐久性において満足すべき結果が得られない。
本発明の樹脂を用いた場合に無機光導電体と結着樹脂の
吸着・被覆の相互作用が適切に行なわれ、且つ光導電層
の膜強度が保持されるものである。
吸着・被覆の相互作用が適切に行なわれ、且つ光導電層
の膜強度が保持されるものである。
樹脂〔A)において、重量平均分子量はlXl0”〜2
×104、好ましくは3×104〜I XIO’ 、酸
性基の重合体中における存在割合は0.5〜15重量%
、好ましくは1〜10重量%である。また、樹脂〔A)
のガラス転移点は好ましくは一10°C〜100°C1
より好ましくは一5°C〜80°Cである。
×104、好ましくは3×104〜I XIO’ 、酸
性基の重合体中における存在割合は0.5〜15重量%
、好ましくは1〜10重量%である。また、樹脂〔A)
のガラス転移点は好ましくは一10°C〜100°C1
より好ましくは一5°C〜80°Cである。
樹脂〔A〕の分子量が1×103より小さくなると、皮
膜形成能が低下し十分な膜強度が保てない。
膜形成能が低下し十分な膜強度が保てない。
一方分子量が2×104より大きくなると電子写真特性
(特に初期電位、暗減衰保持率)が劣化するため好まし
くない。特にかかる高分子量体の場合に酸性基含有量が
3%を越えるとかかる電子写真特性の劣化が著しく、オ
フセットマスターとして用いたときに地汚れが顕著とな
る。
(特に初期電位、暗減衰保持率)が劣化するため好まし
くない。特にかかる高分子量体の場合に酸性基含有量が
3%を越えるとかかる電子写真特性の劣化が著しく、オ
フセットマスターとして用いたときに地汚れが顕著とな
る。
樹脂[A)における酸性基含有量が0.5重量%より少
ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得ることが
できない。一方該酸性基含有量が15重量%より多いと
、分散性が低下し、膜平滑度及び電子写真特性の高温特
性が低下し、更にオフセットマスターとして用いるとき
に地汚れが増大する。
ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得ることが
できない。一方該酸性基含有量が15重量%より多いと
、分散性が低下し、膜平滑度及び電子写真特性の高温特
性が低下し、更にオフセットマスターとして用いるとき
に地汚れが増大する。
本発明の樹脂〔A)は、−官能性マクロマ−(M)と一
般式(I[)で示される単量体とを少なくとも含有する
クシ型共重合体で、且つ重合体主鎖の片末端にのみ特定
の極性基を結合して成る事を特徴とする。
般式(I[)で示される単量体とを少なくとも含有する
クシ型共重合体で、且つ重合体主鎖の片末端にのみ特定
の極性基を結合して成る事を特徴とする。
本発明の樹脂〔A)に用いられる一官能性マクロモノマ
ー(M)は、一般式(1)で示される重合性二重結合基
を、一般式(Ila)及び(It b)で示される重合
体成分のうちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の
一方の末端にのみ結合して成る、重量平均分子量2×1
04以下のものである。
ー(M)は、一般式(1)で示される重合性二重結合基
を、一般式(Ila)及び(It b)で示される重合
体成分のうちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の
一方の末端にのみ結合して成る、重量平均分子量2×1
04以下のものである。
一般式(1)、(I[a)及び(IIb)において、a
。
。
a2+ vl l)I+ bz+χ。、0゜及び0に含
まれる炭化水素基は各々示された炭素数(未置換の炭化
水素基としての)を有するが、これら炭化水素基は置換
基を有していてもよい。
まれる炭化水素基は各々示された炭素数(未置換の炭化
水素基としての)を有するが、これら炭化水素基は置換
基を有していてもよい。
マクロ七ツマ−CM)について説明する。
一般式(1)において、■は、−coo −0COCH
20COCtl□coo−−。
20COCtl□coo−−。
R+ R+
SO□−−CO−−COII−−5O□N−又はほか、
好ましい炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換さ
れてもよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オク
チル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オク
タデシル基、2クロロエチル基、2−ブロモエチル基、
2−シアノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基
、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、
炭素数4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例え
ば、2−メチル−1−プロペニル基、2ブテニル基、2
−ペンテニル基、3−メチル−2ペンテニル基、1−ペ
ンテニル基、■−へキセニル基、2−へキセニル基、4
−メチル−2−へキセニル基、等)、炭素数7〜12の
置換されてもよいアラルキル基 (例えば、ベンジル基
、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメ
チル基、2−ナフチルエチル基、クロロヘンシル基、ブ
ロモヘンシル基、メチルヘンシル基、エチルベンジル基
、メトキシベンジル基、ジメチルペンシル基、ジメトキ
シベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂
環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシ
ルエチル基、2−シクロベンチルエチル基、等)、又は
、炭素数6〜12の置換されてもよい芳香族基(例えば
、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プ
ロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニ
ル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エト
キシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフ
ェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブ
ロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル
基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニ
ルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセト
アミドフェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドブシ
ロイルアミドフェニル基等)があげられる。
好ましい炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換さ
れてもよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オク
チル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オク
タデシル基、2クロロエチル基、2−ブロモエチル基、
2−シアノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基
、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、
炭素数4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例え
ば、2−メチル−1−プロペニル基、2ブテニル基、2
−ペンテニル基、3−メチル−2ペンテニル基、1−ペ
ンテニル基、■−へキセニル基、2−へキセニル基、4
−メチル−2−へキセニル基、等)、炭素数7〜12の
置換されてもよいアラルキル基 (例えば、ベンジル基
、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメ
チル基、2−ナフチルエチル基、クロロヘンシル基、ブ
ロモヘンシル基、メチルヘンシル基、エチルベンジル基
、メトキシベンジル基、ジメチルペンシル基、ジメトキ
シベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂
環式基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシ
ルエチル基、2−シクロベンチルエチル基、等)、又は
、炭素数6〜12の置換されてもよい芳香族基(例えば
、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プ
ロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニ
ル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エト
キシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフ
ェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブ
ロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル
基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニ
ルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセト
アミドフェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドブシ
ロイルアミドフェニル基等)があげられる。
置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲン原子
(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロロメ
チル基、メトキシメチル基等)、アルコキシ基(例えば
メトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基
等)等が挙げられる。
(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロロメ
チル基、メトキシメチル基等)、アルコキシ基(例えば
メトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基
等)等が挙げられる。
a、及びa2は、互いに同じでも異なっていてもよく、
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等) 、−coo−z又は炭化水素を介したCOO,Z
(Zは、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基、
アルケニル基、アラルキル基、脂環式基またはアリール
基を表わし、これらは置換されていてもよく、具体的に
は、上記R1について説明したものと同様の内容を表わ
す)を表わす。
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等) 、−coo−z又は炭化水素を介したCOO,Z
(Zは、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基、
アルケニル基、アラルキル基、脂環式基またはアリール
基を表わし、これらは置換されていてもよく、具体的に
は、上記R1について説明したものと同様の内容を表わ
す)を表わす。
上記炭化水素を介した一Coo−Z基における炭化水素
としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が
挙げられる。
としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が
挙げられる。
更に好ましくは、一般式(1)において、VはCOO−
−−OCO−−CH20CO−−CH2COOわし、a
l+ a=は互いに同じでも異なってもよく、水素原子
、メチル基1.−cooz又は−CH20OOZ (
Zは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基等)を表わす)を表わす。更により好ましくは、al
+ a2においていずれか一方が水素原子を表わす。
−−OCO−−CH20CO−−CH2COOわし、a
l+ a=は互いに同じでも異なってもよく、水素原子
、メチル基1.−cooz又は−CH20OOZ (
Zは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル
基等)を表わす)を表わす。更により好ましくは、al
+ a2においていずれか一方が水素原子を表わす。
即ち、−服代四)で表わされる重合性二重結合基として
、具体的には、 CH2C00CI+3 CH2COO)l C)12=c C)1.=c CH20COI−CONH− O=C−O O=C−O 等が挙げられる。
、具体的には、 CH2C00CI+3 CH2COO)l C)12=c C)1.=c CH20COI−CONH− O=C−O O=C−O 等が挙げられる。
一般式(na )又は(Illl)において、xoは式
(+)中の■と同一の内容を表わす。Illl b2は
互いに同じでも異なってもよく、式(1)中のal+
azと同一の内容を表わす。
(+)中の■と同一の内容を表わす。Illl b2は
互いに同じでも異なってもよく、式(1)中のal+
azと同一の内容を表わす。
Ω。は、炭素数1〜18の脂肪族基又は炭素数6〜12
の芳香族基を表わす。
の芳香族基を表わす。
具体的には、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2
−ヒドロキシルエチル基、2−メトキシエチル基、2−
エトキシエチル基、2−シアノエチル基、3−クロロプ
ロピル基、2−(トリメトキシシリル)エチル基、2−
テトラヒドロフリル基、2−チエニルエチル基、2−N
、N−ジメチルアミノエチル基、2−N、Nジエチルア
ミノエチル基、等)、炭素数5〜8のシクロアルキル基
(例えばシクロヘプチル基、シクロヘキシル基、シクロ
オクチル基、等)、炭素数7〜12の置換されてもよい
アラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3
−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチ
ルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、ジ
クロロヘンシル基、メチルベンジル基、クロロメチル−
ベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル
基、メトキシベンジル基、等)等の脂肪族基が挙げられ
る。
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2
−ヒドロキシルエチル基、2−メトキシエチル基、2−
エトキシエチル基、2−シアノエチル基、3−クロロプ
ロピル基、2−(トリメトキシシリル)エチル基、2−
テトラヒドロフリル基、2−チエニルエチル基、2−N
、N−ジメチルアミノエチル基、2−N、Nジエチルア
ミノエチル基、等)、炭素数5〜8のシクロアルキル基
(例えばシクロヘプチル基、シクロヘキシル基、シクロ
オクチル基、等)、炭素数7〜12の置換されてもよい
アラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3
−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチ
ルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、ジ
クロロヘンシル基、メチルベンジル基、クロロメチル−
ベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル
基、メトキシベンジル基、等)等の脂肪族基が挙げられ
る。
更に炭素数6〜12の置換されてもよいアリール基(例
えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフェ
ニル基、ブロモフェニル基、ジクロロフェニル基、クロ
ロ−メチル−フェニル基、メトキシフェニル基、メトキ
シカルボニルフェニル基、ナフチル基、クロロナフチル
基等)等の芳香族基が挙げられる。
えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、クロロフェ
ニル基、ブロモフェニル基、ジクロロフェニル基、クロ
ロ−メチル−フェニル基、メトキシフェニル基、メトキ
シカルボニルフェニル基、ナフチル基、クロロナフチル
基等)等の芳香族基が挙げられる。
式(Ila)において、好ましくは×。は−COOOC
OCH2COOCH20CO0 表わす。
OCH2COOCH20CO0 表わす。
b、、b2の好ましい例は、前記したal+82 と同
様の内容を表わす。
様の内容を表わす。
一般式(IIb)において、Qは−CN、−CONH,
又ン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルコキシ
基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、
ブトキシ基等)又は−COOZ’ (Z’は好ましくは
炭素数1〜8のアルキル基、炭素数7〜12のアラルキ
ル基、又はアリール基を表わす)表わす。
又ン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルコキシ
基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、
ブトキシ基等)又は−COOZ’ (Z’は好ましくは
炭素数1〜8のアルキル基、炭素数7〜12のアラルキ
ル基、又はアリール基を表わす)表わす。
マクロモノマー(M)は、式(Ila)及び/又は(I
t b)で示される重合体成分を2種以上含有していて
もよい。又、Qoが脂肪族基の場合、炭素数6〜12の
脂肪族基は、マクロモノマー(M)中の全重合体成分中
の20重量%を越えない範囲で用いる事が好ましい。
t b)で示される重合体成分を2種以上含有していて
もよい。又、Qoが脂肪族基の場合、炭素数6〜12の
脂肪族基は、マクロモノマー(M)中の全重合体成分中
の20重量%を越えない範囲で用いる事が好ましい。
更には、一般式(Ila)におけるXoが−COO−で
ある場合には、マクロモノマー(M)中の全重合体成分
中、式(Ila)で示される重合体成分が少なくとも3
0重量%以上含有されることが好ましい。又マクロモノ
マー(M)において、式(Ila)及び/又は(IIb
)で示される重合体成分とともに共重合しうる他の繰り
返し単位に相当する単量体として、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、アクリルアミド類、メタクリルア
ミド類、スチレン及びその誘導体(例えばビニルトルエ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヒドロキシメチルスチレン、N、N−ジメチルアミ
ノメチルスチレン等)、複素環ビニル類(例えばビニル
ピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリドン、ビ
ニルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサン
、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。
ある場合には、マクロモノマー(M)中の全重合体成分
中、式(Ila)で示される重合体成分が少なくとも3
0重量%以上含有されることが好ましい。又マクロモノ
マー(M)において、式(Ila)及び/又は(IIb
)で示される重合体成分とともに共重合しうる他の繰り
返し単位に相当する単量体として、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、アクリルアミド類、メタクリルア
ミド類、スチレン及びその誘導体(例えばビニルトルエ
ン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレ
ン、ヒドロキシメチルスチレン、N、N−ジメチルアミ
ノメチルスチレン等)、複素環ビニル類(例えばビニル
ピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリドン、ビ
ニルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサン
、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。
本発明において供されるマクロモノマーは、上述の如き
、一般式(I[a)及び/又は(I[b)で示される繰
返し単位から成る重合体主鎖の一方の末端にのみ、一般
式(1)で示される重合性二重結合基が、直接結合する
か、あるいは、任意の連結基で結合された化学構造を有
するものである。式(1)成分と式(II a)又は(
It b)成分を連結する共重合としては、炭素−炭素
結合(−重結合あるいは二重結合)、炭素−へテロ原子
結合(ヘテロ原子としては例えば、酸素原子、イオウ原
子、窒素原子、ケイ素原子等)、ヘテロ原子−へテロ原
子結合の原子団の任意の組合せで構成されるものである
。
、一般式(I[a)及び/又は(I[b)で示される繰
返し単位から成る重合体主鎖の一方の末端にのみ、一般
式(1)で示される重合性二重結合基が、直接結合する
か、あるいは、任意の連結基で結合された化学構造を有
するものである。式(1)成分と式(II a)又は(
It b)成分を連結する共重合としては、炭素−炭素
結合(−重結合あるいは二重結合)、炭素−へテロ原子
結合(ヘテロ原子としては例えば、酸素原子、イオウ原
子、窒素原子、ケイ素原子等)、ヘテロ原子−へテロ原
子結合の原子団の任意の組合せで構成されるものである
。
本発明のマクロモノマー(1’l)のうち好ましいもの
は下記式(IVa)又は(IVb)で示される如きもの
である。
は下記式(IVa)又は(IVb)で示される如きもの
である。
式(lVa) a、 az
Cl+=Cb+ bz
V−W+C−C升
HXo Q。
式(■b) at am
CII=Cb、 b。
V−弱+C−C升
H口
式(IV)中、a++az+b++bz+Xo+口o、
Q、Vは、各々、式(I)、式(II a)、弐(■b
)において説明したものと同一の内容を表わす。
Q、Vは、各々、式(I)、式(II a)、弐(■b
)において説明したものと同一の内容を表わす。
Wは、単なる結合または、−(−C−)−(To、R2
は水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子等)、シアン基、ヒドロキシル基、アル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基等)等
を示す〕、 SO□N−−−NHCOO に4 (na)におけるQoと同様の内容を表わす炭化水素基
等を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結基もしく
は任意の組合せで構成された連結基を表わす。
は水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子等)、シアン基、ヒドロキシル基、アル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基等)等
を示す〕、 SO□N−−−NHCOO に4 (na)におけるQoと同様の内容を表わす炭化水素基
等を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結基もしく
は任意の組合せで構成された連結基を表わす。
マクロモノマー(M)の重量平均分子量が2xlO’を
超えると、モノマー(^)との共重合性が低下するため
好ましくない。他方、重量平均分子量が小さすぎると、
感光層の電子写真特性の向上効果が小さくなるため、l
Xl0’以上であることが好ましい。
超えると、モノマー(^)との共重合性が低下するため
好ましくない。他方、重量平均分子量が小さすぎると、
感光層の電子写真特性の向上効果が小さくなるため、l
Xl0’以上であることが好ましい。
本発明のマクロモノマー01)は、従来公知の合成方法
によって製造することができる。例えば、アニオン重合
あるいはカチオン重合によって得られるリビングポリマ
ーの末端に種々の試薬を反応させて、マクロマーとする
イオン重合法による方法、分子中に、カルボキシル基、
ヒドロキシル基、アミノ基等の反応性基を含有した重合
開始剤及び/又は連鎖移動剤を用いて、ラジカル重合し
て得られる末端反応性基結合のオリゴマーと種々の試薬
を反応させて、マクロマーにするラジカル重合法による
方法、重付加あるいは重縮合反応により得られたオリゴ
マーに上記ラジカル重合方法と同様にして、重合性二重
結合基を導入する重付カ0縮合法による方法等が挙げら
れる。
によって製造することができる。例えば、アニオン重合
あるいはカチオン重合によって得られるリビングポリマ
ーの末端に種々の試薬を反応させて、マクロマーとする
イオン重合法による方法、分子中に、カルボキシル基、
ヒドロキシル基、アミノ基等の反応性基を含有した重合
開始剤及び/又は連鎖移動剤を用いて、ラジカル重合し
て得られる末端反応性基結合のオリゴマーと種々の試薬
を反応させて、マクロマーにするラジカル重合法による
方法、重付加あるいは重縮合反応により得られたオリゴ
マーに上記ラジカル重合方法と同様にして、重合性二重
結合基を導入する重付カ0縮合法による方法等が挙げら
れる。
具体的には、P、Dreyfuss & R,P、Qu
irk+ Encycl。
irk+ Encycl。
Polym、Sci、Eng、、 1.55H1987
)、 P、F、RemppE、Franta、^du、
、 Polym、Sci、5B、 H1984)、 V
、Per−cec、Appl、、Polym、Sci、
、 285 95(1984)、 R,^samiM、
TakaRi、 Makvamol、Chem、5up
P1.ll+ 163(1985)+P、Rempp、
etal、 Makvamol、Chem、5upp
1..13.3(1984)用上雄資、化学工業、刹、
、56(1987)、山下雄也、高分子、31.98
8(1982)、 小林四部、高分子、毅625(1
981) 、東村敏延、日本接着協会誌 ■。
)、 P、F、RemppE、Franta、^du、
、 Polym、Sci、5B、 H1984)、 V
、Per−cec、Appl、、Polym、Sci、
、 285 95(1984)、 R,^samiM、
TakaRi、 Makvamol、Chem、5up
P1.ll+ 163(1985)+P、Rempp、
etal、 Makvamol、Chem、5upp
1..13.3(1984)用上雄資、化学工業、刹、
、56(1987)、山下雄也、高分子、31.98
8(1982)、 小林四部、高分子、毅625(1
981) 、東村敏延、日本接着協会誌 ■。
536(1982) 、伊藤浩−1高分子加工、甚、2
62(1986)、乗置四部、津田隆、機能材料、19
87No、10.5等の総説及びそれに引例の文献・特
許等に記載の方法に従って合成することができる。
62(1986)、乗置四部、津田隆、機能材料、19
87No、10.5等の総説及びそれに引例の文献・特
許等に記載の方法に従って合成することができる。
本発明のマクロモノマー(M)は、具体的には、下記の
化合物を例として挙げることができる。但し、本発明の
範囲は、これらに限定されるものではない。
化合物を例として挙げることができる。但し、本発明の
範囲は、これらに限定されるものではない。
C00CH2C+CH2−C→−
CH=CI+
C00CHzCH!−5+CHz−C+■
OOR
(5) CIl□−C
−C11112□1
(n−1〜18の整数)
H3
C00CR。
CbH5゜
N
×
(Y:
C1l。
CI
Br) +
N
R:
C,、H2n、l (n=1〜18の整数)CLC6H
s、−C6H5 θη R: Cl1H2□1 (n−1〜18の整数) θ8) −CIlHz11.+ (n=1〜18の整数)CHg
CJs。
s、−C6H5 θη R: Cl1H2□1 (n−1〜18の整数) θ8) −CIlHz11.+ (n=1〜18の整数)CHg
CJs。
^00R
−CHzCbHs。
C,l15
OOR
LC6Hs
C6l%
0OR
a■
CI(3
R:
CnHzn++
(n・1〜18の整数)
前記したマクロモノマー(M)と共重合する単量体は一
般式(I[l)で示される。弐(Ill)において、C
I+C2は互いに同じでも異なってもよく、式(1)の
al+82と同一の内容を表わす。xlは式(Ila)
中のX。と、Q、は式(tl a)中のQ。と各々同一
の内容を表わす。
般式(I[l)で示される。弐(Ill)において、C
I+C2は互いに同じでも異なってもよく、式(1)の
al+82と同一の内容を表わす。xlは式(Ila)
中のX。と、Q、は式(tl a)中のQ。と各々同一
の内容を表わす。
本発明の樹脂において、マクロマー(M)を繰り返し単
位とする共重合成分と、−a式(III)で示される単
量体を繰り返し単位とする共重合成分の組成比は、好ま
しくは1〜90/99〜10(重量組成比)、より好ま
しくは5〜60/95〜40重量組成比である。
位とする共重合成分と、−a式(III)で示される単
量体を繰り返し単位とする共重合成分の組成比は、好ま
しくは1〜90/99〜10(重量組成比)、より好ま
しくは5〜60/95〜40重量組成比である。
又、重合体主鎖中には、−PO311□基、−5osu
基、C0OH基、−OR基、−5H基及び−POffi
RH基の極性基を含有する共重合成分を含有しないもの
が好ましい。
基、C0OH基、−OR基、−5H基及び−POffi
RH基の極性基を含有する共重合成分を含有しないもの
が好ましい。
更に、本発明の樹脂は、一般式(I[l)で示される繰
り返し単位を少なくとも1種及びマクロモノマーで示さ
れる繰返し単位を少なくとも1種含有する重合体主鎖の
片末端にのみ、−PO311□基、30311基、−C
OOH基、−OR基、−3it基及び−PO!RH基並
びに環状酸無水物含有基から選ばれる少なくとも一種の
酸性基を結合して成る重合体である。
り返し単位を少なくとも1種及びマクロモノマーで示さ
れる繰返し単位を少なくとも1種含有する重合体主鎖の
片末端にのみ、−PO311□基、30311基、−C
OOH基、−OR基、−3it基及び−PO!RH基並
びに環状酸無水物含有基から選ばれる少なくとも一種の
酸性基を結合して成る重合体である。
ここで、酸性基は重合体主鎖の一方の末端に直接結合す
るか、あるいは任意の連結基を介して結合した化学構造
を有する。
るか、あるいは任意の連結基を介して結合した化学構造
を有する。
結合基としては炭素−炭素結合(−重結合あるいは二重
結合)、炭素−へテロ原子結合(ペテロ原子としては例
えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子等
)、ペテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意の組合
わせで構成されるも■ ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子等)、シアノ基、ヒドロキシル基、アルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基等)等を示す〕、 R4 5O8−1−COII−−3O,N−、−1111CO
ORa Ra 前記一般式(Ila)で示される0゜と同様の意味を有
する炭化水素基等を示す〕等の原子団から選ばれた単独
の連結基又は任意の組合わせで構成された連結基等が挙
げられる。
結合)、炭素−へテロ原子結合(ペテロ原子としては例
えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子等
)、ペテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意の組合
わせで構成されるも■ ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子等)、シアノ基、ヒドロキシル基、アルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基等)等を示す〕、 R4 5O8−1−COII−−3O,N−、−1111CO
ORa Ra 前記一般式(Ila)で示される0゜と同様の意味を有
する炭化水素基等を示す〕等の原子団から選ばれた単独
の連結基又は任意の組合わせで構成された連結基等が挙
げられる。
OH
基又はOR’(R″は炭化水素基を表わす)を表わし、
R及びR゛は好ましくは炭素数1〜22の脂llh族基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オ
クタデシル基、2−クロロエチル基、2−メトキシエチ
ル基、3−エトキシプロピル基、アリル基、クロトニル
基、ブテニル基ぐシクロヘキシル基、ベンジル基、フェ
ネチル基、3フエニルプロピル基、メチルベンジル基、
クロロベンジル基、フロロベンジル基、メトキシベンジ
ル基等)、又は置換されてもよい了り−ル基(例えば、
フェニル基、トリル基、エチルフェニル基、プロピルフ
ェニル基、クロロフェニル基、フロロフェニル基、ブロ
モフェニル基、クロロ−メチル−フェニル基、ジクロロ
フェニル基、メトキシフェニル基、シアノフェニル基、
アセトアミドフェニル基、アセチルフェニル基、ブトキ
シフェニル基等)等を表わす。
R及びR゛は好ましくは炭素数1〜22の脂llh族基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オ
クタデシル基、2−クロロエチル基、2−メトキシエチ
ル基、3−エトキシプロピル基、アリル基、クロトニル
基、ブテニル基ぐシクロヘキシル基、ベンジル基、フェ
ネチル基、3フエニルプロピル基、メチルベンジル基、
クロロベンジル基、フロロベンジル基、メトキシベンジ
ル基等)、又は置換されてもよい了り−ル基(例えば、
フェニル基、トリル基、エチルフェニル基、プロピルフ
ェニル基、クロロフェニル基、フロロフェニル基、ブロ
モフェニル基、クロロ−メチル−フェニル基、ジクロロ
フェニル基、メトキシフェニル基、シアノフェニル基、
アセトアミドフェニル基、アセチルフェニル基、ブトキ
シフェニル基等)等を表わす。
また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環状
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。
脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無水
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロペンクン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2.3−ビシク
ロ(2,2,2)オクタンジカルホン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環には、例えば塩素原子、臭素原子等
のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキ
シル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロペンクン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキ
セン−1,2−ジカルボン酸無水物環、2.3−ビシク
ロ(2,2,2)オクタンジカルホン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環には、例えば塩素原子、臭素原子等
のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキ
シル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸
無水物環、ナフタレンジカルボン酸無水物環、ピリジン
−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン酸無
水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原子
、臭素原子等のハロゲン基、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基、シ
アノ基、ニトロ基、アルコキシルカルボニル基(アルコ
キシ基としては、例えば、メトキシ等、エトキシ基等)
等が置換されていてもよい。
無水物環、ナフタレンジカルボン酸無水物環、ピリジン
−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン酸無
水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原子
、臭素原子等のハロゲン基、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基、シ
アノ基、ニトロ基、アルコキシルカルボニル基(アルコ
キシ基としては、例えば、メトキシ等、エトキシ基等)
等が置換されていてもよい。
重合体主鎖の片末端にのみ特定の酸性基を結合して成る
本発明の樹脂は、従来公知のアニオン重合あるいはカチ
オン重合によって得られるリビングポリマーの末端に種
々の試薬を反応させる方法(イオン重合法による方法)
、分子中に特定の酸性基を含有した重合開始剤及び/又
は連鎖移動剤を用いてラジカル重合させる方法(ラジカ
ル重合法による方法)、あるいは以上の如きイオン重合
法もしくはラジカル重合法によって得られた末端に反応
性基含有の重合体を高分子反応によって本発明の特定の
酸性基に変換する方法等の合成法によって容易に製造す
ることができる。
本発明の樹脂は、従来公知のアニオン重合あるいはカチ
オン重合によって得られるリビングポリマーの末端に種
々の試薬を反応させる方法(イオン重合法による方法)
、分子中に特定の酸性基を含有した重合開始剤及び/又
は連鎖移動剤を用いてラジカル重合させる方法(ラジカ
ル重合法による方法)、あるいは以上の如きイオン重合
法もしくはラジカル重合法によって得られた末端に反応
性基含有の重合体を高分子反応によって本発明の特定の
酸性基に変換する方法等の合成法によって容易に製造す
ることができる。
具体的には、P、Dreyfuss、 R,P、Qui
rk+Encycl。
rk+Encycl。
Polym、Sci、Eng、 7.55N1987)
、中條善樹、山下雄也「染料と薬品」、刈、 232
(1985) 、上田明、永井進「科学と工業J 60
.57(1986)等の総説及びそれに引用の文献等に
記載の方法によって製造することができる。
、中條善樹、山下雄也「染料と薬品」、刈、 232
(1985) 、上田明、永井進「科学と工業J 60
.57(1986)等の総説及びそれに引用の文献等に
記載の方法によって製造することができる。
本発明の樹脂〔A)は、前記したマクロモノマー(M)
及び一般式(III)のモノマーとともに、これら以外
の他の単量体を共重合成分として含有してもよい。
及び一般式(III)のモノマーとともに、これら以外
の他の単量体を共重合成分として含有してもよい。
例えば、マクロモノマー(M)で前記した「酸性基を含
有するビニル系化合物J、α−オレフィン類、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタ
クリルアミド、スチレン、ビニル基含有ナフタレン化合
物(例えばビニルナフタレン、1−イソベロベニルナフ
タリン等)、ビニル基含有複素環化合物(例えばビニル
ピリジン、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、ビニ
ルテトラヒドロフラン、ビニル−1,3−ジオキソラン
、ビニルイミダゾール、ビニルチアゾール、ビニルオキ
サゾリン等)等の化合物が挙げられる。
有するビニル系化合物J、α−オレフィン類、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタ
クリルアミド、スチレン、ビニル基含有ナフタレン化合
物(例えばビニルナフタレン、1−イソベロベニルナフ
タリン等)、ビニル基含有複素環化合物(例えばビニル
ピリジン、ビニルピロリドン、ビニルチオフェン、ビニ
ルテトラヒドロフラン、ビニル−1,3−ジオキソラン
、ビニルイミダゾール、ビニルチアゾール、ビニルオキ
サゾリン等)等の化合物が挙げられる。
一方、樹脂(B)は、5×104〜6×104の重量平
均分子量を有し、かつ120°C以下のガラス転移点を
もつ樹脂である。樹脂(B)の好ましい重量平均分子量
は8×104〜4×105、及び好ましいガラス転移点
は10°C〜90’Cである。
均分子量を有し、かつ120°C以下のガラス転移点を
もつ樹脂である。樹脂(B)の好ましい重量平均分子量
は8×104〜4×105、及び好ましいガラス転移点
は10°C〜90’Cである。
樹脂〔B〕は、上記の物性を有していれば、従来電子写
真用結着樹脂として用いられているもののいずれを用い
てもよく、単独あるいは組合せて使用することもできる
。例えば、宮原晴視、武井秀彦 イメージング 197
B No、8. ’J〜12、栗田隆治、石渡次部、高
分子、17.278〜284 (1968)等の総説引
用の材料が挙げられる。
真用結着樹脂として用いられているもののいずれを用い
てもよく、単独あるいは組合せて使用することもできる
。例えば、宮原晴視、武井秀彦 イメージング 197
B No、8. ’J〜12、栗田隆治、石渡次部、高
分子、17.278〜284 (1968)等の総説引
用の材料が挙げられる。
具体的には、オレフィン重合体及び共重合体、塩化ビニ
ル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、アルカン酸ビニ
ル重合体及び共重合体、アルカン酸アリル重合体及び共
重合体、スチレン及びその誘導体、重合体及び共重合体
、ブタジェン−スチレン共重合体、イソプレン−スチレ
ン共重合体、ブタジエンー不飽和カルボン酸エステル共
重合体、アクリロニトリル共重合体、メタクリルアミド
共重合体、アルキルビニルエーテル共重合体、アクリル
酸エステル重合体及び共重合体、メタクリル酸エステル
重合体及び共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共
重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、イ
タコン酸ジエステル重合体及び共重合体、無水マレイン
酸共重合体、アクリルアミド共重合体、メタクリルアミ
ド共重合体、水酸基変性シリコン樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ケトン樹脂、アミド樹脂、水酸基及びカルボキ
シル基変性ポリエステル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビ
ニルアセクール樹脂、環化ゴム−メタアクリル酸エステ
ル共重合体、環化ゴム−アクリル酸エステル共重合体、
窒素原子を含有しない複素環を含有する共重合体(複素
環として例えば、フラン環、テトラヒドロフラン環、チ
オフェン環、ジオキサン環、ジオキソラン環、ラクトン
環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、1.3−ジ
オキサン環等)エポキシ樹脂等が挙げられる。
ル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、アルカン酸ビニ
ル重合体及び共重合体、アルカン酸アリル重合体及び共
重合体、スチレン及びその誘導体、重合体及び共重合体
、ブタジェン−スチレン共重合体、イソプレン−スチレ
ン共重合体、ブタジエンー不飽和カルボン酸エステル共
重合体、アクリロニトリル共重合体、メタクリルアミド
共重合体、アルキルビニルエーテル共重合体、アクリル
酸エステル重合体及び共重合体、メタクリル酸エステル
重合体及び共重合体、スチレン−アクリル酸エステル共
重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、イ
タコン酸ジエステル重合体及び共重合体、無水マレイン
酸共重合体、アクリルアミド共重合体、メタクリルアミ
ド共重合体、水酸基変性シリコン樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ケトン樹脂、アミド樹脂、水酸基及びカルボキ
シル基変性ポリエステル樹脂、ブチラール樹脂、ポリビ
ニルアセクール樹脂、環化ゴム−メタアクリル酸エステ
ル共重合体、環化ゴム−アクリル酸エステル共重合体、
窒素原子を含有しない複素環を含有する共重合体(複素
環として例えば、フラン環、テトラヒドロフラン環、チ
オフェン環、ジオキサン環、ジオキソラン環、ラクトン
環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、1.3−ジ
オキサン環等)エポキシ樹脂等が挙げられる。
更に具体的には、下記一般式(V)で示される(メタ)
アクリル酸エステル単量体を共重合体成分として、且つ
その総量が30重量%以上含有する(メタ)アクリル系
共重合体あるいは重合体が挙げられる。
アクリル酸エステル単量体を共重合体成分として、且つ
その総量が30重量%以上含有する(メタ)アクリル系
共重合体あるいは重合体が挙げられる。
一般式(V)
CH,=C
0O−Rs
一般式(V)において、Tは、水素原子、ハロゲン原子
(例えばクロロ原子、ブロモ原子)、シアノ基又は炭素
数1〜4のアルキル基を表わす。
(例えばクロロ原子、ブロモ原子)、シアノ基又は炭素
数1〜4のアルキル基を表わす。
R6は、炭素数1〜1日の置換されていてもよいアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、2−メト
キシエチル基、2−エトキシエチル基等)、炭素数2〜
18の置換されていてもよいアルケニル基(例えばビニ
ル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキ
セニル基、ヘプテニル基、オクテニル基等)、炭素数7
〜12の置換されていてもよいアラルキル基(例えばベ
ンジル基、フェネチル基、メトキシベンジル基、エトキ
シベンジル基、メチルベンジル基等)、炭素数5〜8の
置換されていてもよいシクロアルキル基(例えばシクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等)
、アリール基(例えばフェニル基、トリル基、キシル基
、メシチル基、ナフチル基、メトキシフェニル基、エト
キシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル
基等)を表わす。
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、2−メト
キシエチル基、2−エトキシエチル基等)、炭素数2〜
18の置換されていてもよいアルケニル基(例えばビニ
ル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキ
セニル基、ヘプテニル基、オクテニル基等)、炭素数7
〜12の置換されていてもよいアラルキル基(例えばベ
ンジル基、フェネチル基、メトキシベンジル基、エトキ
シベンジル基、メチルベンジル基等)、炭素数5〜8の
置換されていてもよいシクロアルキル基(例えばシクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等)
、アリール基(例えばフェニル基、トリル基、キシル基
、メシチル基、ナフチル基、メトキシフェニル基、エト
キシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル
基等)を表わす。
更には、上記(メタ)アクリル酸エステルと共重合する
成分としては、一般式(V)以外の単量体であってもよ
く、例えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビニル又は
アリルエステル類、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メタクリ
ルアミド類、スチレン類、複素環ビニル類〔例えば窒素
原子以外の非金属原子(酸素原子、イオウ原子等)を1
〜3個含有する5員〜7員環の複素環であり、具体的な
化合物として、ビニルチオフェン、ビニル−ジオキサン
、ビニル−フラン等]等が挙げられる。好ましい例とし
ては、例えば、炭素数1〜3のアルカン酸ビニル又はア
リルエステル類、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、スチレン及びスチレン誘導体(例えばビニルトルエ
ン、ブチルスチレン、メトキシスチレン、クロロスチレ
ン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、エトキシスチ
レン等)等が挙げられる。
成分としては、一般式(V)以外の単量体であってもよ
く、例えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビニル又は
アリルエステル類、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メタクリ
ルアミド類、スチレン類、複素環ビニル類〔例えば窒素
原子以外の非金属原子(酸素原子、イオウ原子等)を1
〜3個含有する5員〜7員環の複素環であり、具体的な
化合物として、ビニルチオフェン、ビニル−ジオキサン
、ビニル−フラン等]等が挙げられる。好ましい例とし
ては、例えば、炭素数1〜3のアルカン酸ビニル又はア
リルエステル類、アクリロニトリル、メタクリロニトリ
ル、スチレン及びスチレン誘導体(例えばビニルトルエ
ン、ブチルスチレン、メトキシスチレン、クロロスチレ
ン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、エトキシスチ
レン等)等が挙げられる。
樹脂〔B〕の好ましい態様として、重合体中の繰り返し
単位としてOH基及び塩基性基から選択される少なくと
も1つの官能基を含有する成分を0.5〜20重量%含
有する樹脂(以下特に樹脂(C)と称することもある)
を挙げることができる。
単位としてOH基及び塩基性基から選択される少なくと
も1つの官能基を含有する成分を0.5〜20重量%含
有する樹脂(以下特に樹脂(C)と称することもある)
を挙げることができる。
樹脂(C)において、−OH基及び/又は塩基性基を含
有する共重合成分の割合は、樹脂(C)中の0,5〜2
0重量%であるが、より好ましくは1〜10重量%であ
る。樹脂CC)の重量平均分子量は5×104〜6X1
05であるが、好ましくは8×104〜4×104であ
る。樹脂〔C]のガラス転移点は好ましくはO′C〜1
20°Cの範囲、より好ましくは10°C〜90℃であ
る。
有する共重合成分の割合は、樹脂(C)中の0,5〜2
0重量%であるが、より好ましくは1〜10重量%であ
る。樹脂CC)の重量平均分子量は5×104〜6X1
05であるが、好ましくは8×104〜4×104であ
る。樹脂〔C]のガラス転移点は好ましくはO′C〜1
20°Cの範囲、より好ましくは10°C〜90℃であ
る。
本発明においては、樹脂〔C]中の一0■基成分あるい
は塩基性基成分は光導電体粒子界面及び樹脂[A]と弱
い相互作用を有し、光導電体分散物の分散物を安定化す
るとともに、皮膜形成後の膜強度をより向上させる効果
を有するものと考えられる。しかし、これらの成分の樹
脂(C)中での割合が20重量%を越えてしまうと水分
の影響を受ける様になり、光導電層の耐湿性が低下して
しまう。
は塩基性基成分は光導電体粒子界面及び樹脂[A]と弱
い相互作用を有し、光導電体分散物の分散物を安定化す
るとともに、皮膜形成後の膜強度をより向上させる効果
を有するものと考えられる。しかし、これらの成分の樹
脂(C)中での割合が20重量%を越えてしまうと水分
の影響を受ける様になり、光導電層の耐湿性が低下して
しまう。
樹脂〔C〕は、前記した物性を有していれば、樹脂〔B
〕で記載した如き従来公知の樹脂が使用可能である。
〕で記載した如き従来公知の樹脂が使用可能である。
更に具体的には、前述の一般式(V)で示される単量体
を共重合体成分としてその総量で30重量%以上含有す
る(メタ)アクリル系共重合体を樹脂(C)の例として
挙げることができる。一般式(V)の好ましい具体例と
しては前記内容と同様のものを挙げることができる。
を共重合体成分としてその総量で30重量%以上含有す
る(メタ)アクリル系共重合体を樹脂(C)の例として
挙げることができる。一般式(V)の好ましい具体例と
しては前記内容と同様のものを挙げることができる。
樹脂〔C]中に含有されるr−OH基及び/又は塩基性
基を含有する共重合成分」は、前記の一般式(V)と共
重合し得る該官能基を含有したビニル系化合物であれば
いずれでも用いることができる。該塩基性基としては、
例えば下記一般式(Vl)で示されるアミノ基及び窒素
原子含有の複素環基を挙げることができる。
基を含有する共重合成分」は、前記の一般式(V)と共
重合し得る該官能基を含有したビニル系化合物であれば
いずれでも用いることができる。該塩基性基としては、
例えば下記一般式(Vl)で示されるアミノ基及び窒素
原子含有の複素環基を挙げることができる。
一般式(Vl)
式(Vl)中、R6及びR7は、各々同じでも異なって
もよく、水素原子、置換されてもよいアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシ
ル基、オクタデシル基、2クロロエチル基、2−ブロム
エチル1.2−10ロエチル基、2−ヒドロキシエチル
基、2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基、3−
エトキシプロピル基等)、置換されてもよいアルケニル
基(例えばアリル基、イソプロペニル基、4ブチニル基
等)、置換されてもよいアラルキル基(例えば、ヘンシ
ル基、フェネチル基、クロロベンジル基、メチルヘンシ
ル基、メトキシベンジル基、ヒドロキシヘンシル基等)
、脂環式基(例えばシクロペンチル基、シクロへキシル
基等)、アリール基(例えば、フェニル基、トリル基、
キシリル基、メシチル基、ブチルフェニル基、メトキシ
フェニル基、クロロフェニル基等)等を表わす。
もよく、水素原子、置換されてもよいアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、テトラデシ
ル基、オクタデシル基、2クロロエチル基、2−ブロム
エチル1.2−10ロエチル基、2−ヒドロキシエチル
基、2−シアノエチル基、2−メトキシエチル基、3−
エトキシプロピル基等)、置換されてもよいアルケニル
基(例えばアリル基、イソプロペニル基、4ブチニル基
等)、置換されてもよいアラルキル基(例えば、ヘンシ
ル基、フェネチル基、クロロベンジル基、メチルヘンシ
ル基、メトキシベンジル基、ヒドロキシヘンシル基等)
、脂環式基(例えばシクロペンチル基、シクロへキシル
基等)、アリール基(例えば、フェニル基、トリル基、
キシリル基、メシチル基、ブチルフェニル基、メトキシ
フェニル基、クロロフェニル基等)等を表わす。
更にR6とR7は、ヘテロ原子を介してもよい炭化水素
基で連結していてもよい。
基で連結していてもよい。
更に窒素原子含有の複素環としては、窒素原子を1〜3
個含有する5員環ないし7員環から成る複素環が挙げら
れ、又これらの複素環は、更にヘンゼン環、ナフタレン
環等で縮合環を形成したものでもよい。更にこれらの環
は置換基を含有していてもよい。具体的には、例えばピ
ロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環
、ピペラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インド
リジン環、インドール環、211−ピロール環、311
インドール環、インダゾール環、プリン環、モノリン環
、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キ
ノキサジン環、アクリジン環、フエナントリジン環、フ
ェナジン環、ピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリジ
ン環、イミダシリン環、ピラゾリジン環、ピラゾリン環
、ピペリジン環、ピペラジン環、キナクリジン環、イン
ドリン環、3.3−ジメチルインドレニン環、3,3−
ジメチルナフトインドレニン環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、オキサゾール環、
ヘンジオキサゾール環、ナフトオキサゾール環、セレナ
ゾール環、ヘンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール
環、オキサゾリン環、イソオキサゾ−ル環、ベンゾオキ
サゾール環、モルホリン環、ピロリドン環、トリアゾー
ル環、ヘンシトリアゾール環、トリアジン環等が挙げら
れる。
個含有する5員環ないし7員環から成る複素環が挙げら
れ、又これらの複素環は、更にヘンゼン環、ナフタレン
環等で縮合環を形成したものでもよい。更にこれらの環
は置換基を含有していてもよい。具体的には、例えばピ
ロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環
、ピペラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、インド
リジン環、インドール環、211−ピロール環、311
インドール環、インダゾール環、プリン環、モノリン環
、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キ
ノキサジン環、アクリジン環、フエナントリジン環、フ
ェナジン環、ピロリジン環、ピロリン環、イミダゾリジ
ン環、イミダシリン環、ピラゾリジン環、ピラゾリン環
、ピペリジン環、ピペラジン環、キナクリジン環、イン
ドリン環、3.3−ジメチルインドレニン環、3,3−
ジメチルナフトインドレニン環、チアゾール環、ベンゾ
チアゾール環、ナフトチアゾール環、オキサゾール環、
ヘンジオキサゾール環、ナフトオキサゾール環、セレナ
ゾール環、ヘンゾセレナゾール環、ナフトセレナゾール
環、オキサゾリン環、イソオキサゾ−ル環、ベンゾオキ
サゾール環、モルホリン環、ピロリドン環、トリアゾー
ル環、ヘンシトリアゾール環、トリアジン環等が挙げら
れる。
これらのOH基及び/又は塩基性基は、例えば高分子学
会線[高分子データ・ハンドブック〔基礎編〕培風館(
1986年)等に記載されている如き、ビニル基含有の
カルボン酸又はスルホン酸から誘導されるエステル誘導
体又はアミド誘導体の置換基中に含有させることにより
、所望の単量体が得られる。例えば2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート、3−ヒドロキシ−2−クロロメタクリレート、4
ヒドロキシブチルメタクリレート、6−ヒドロキシへキ
シルメタクリレート、10−ヒドロキシデシルメタクリ
レート、N−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド
、N−(3−ヒドロキシプロピル)メタクリアミド、N
−(α、α−ジヒドロキシメチル)エチルメタクリアミ
ド、1l−(4ヒドロキシブチル)メタクリアミド、N
、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−(N
、N−ジエチルアミノエチル)メタクリレ−1・、l(
N、Nジメチルプロピル)メタクリレート、2−(N、
Nジメチルエチル)メタクリルアミドヒドロキシスチレ
ン、ヒドロキシメチルスチレン、N、N−ジメチルアミ
ノメチルスチレン、N、N−ジエチルアミノメチルスチ
レン、N−ブチル−N−メチルアミノメチルスチレン、
N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド等各種の
単量体が挙げられる。窒素原子含有の複素環を有するビ
ニル化合物としては、例えば前記した「高分子データ・
ハンドブック〔基礎編〕」第175〜181頁、D 、
A 、 Toma I i arReactive
Heteracyclic Monomers ch
ap 1 of″Functional Monome
rs Vol、2”、 Marcel DeRRerI
nc、N、Y、(1974)+L、S、Lu5R4n、
rBasicMonomers」chap 3
of Functional Monomers
Vol 2”、MarcelDeRRer I
nc、NJ、(1974)等に記載された化合物が挙げ
られる。
会線[高分子データ・ハンドブック〔基礎編〕培風館(
1986年)等に記載されている如き、ビニル基含有の
カルボン酸又はスルホン酸から誘導されるエステル誘導
体又はアミド誘導体の置換基中に含有させることにより
、所望の単量体が得られる。例えば2−ヒドロキシエチ
ルメタクリレート、3−ヒドロキシプロピルメタクリレ
ート、3−ヒドロキシ−2−クロロメタクリレート、4
ヒドロキシブチルメタクリレート、6−ヒドロキシへキ
シルメタクリレート、10−ヒドロキシデシルメタクリ
レート、N−(2−ヒドロキシエチル)アクリルアミド
、N−(3−ヒドロキシプロピル)メタクリアミド、N
−(α、α−ジヒドロキシメチル)エチルメタクリアミ
ド、1l−(4ヒドロキシブチル)メタクリアミド、N
、N−ジメチルアミノエチルメタクリレート、2−(N
、N−ジエチルアミノエチル)メタクリレ−1・、l(
N、Nジメチルプロピル)メタクリレート、2−(N、
Nジメチルエチル)メタクリルアミドヒドロキシスチレ
ン、ヒドロキシメチルスチレン、N、N−ジメチルアミ
ノメチルスチレン、N、N−ジエチルアミノメチルスチ
レン、N−ブチル−N−メチルアミノメチルスチレン、
N−(ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド等各種の
単量体が挙げられる。窒素原子含有の複素環を有するビ
ニル化合物としては、例えば前記した「高分子データ・
ハンドブック〔基礎編〕」第175〜181頁、D 、
A 、 Toma I i arReactive
Heteracyclic Monomers ch
ap 1 of″Functional Monome
rs Vol、2”、 Marcel DeRRerI
nc、N、Y、(1974)+L、S、Lu5R4n、
rBasicMonomers」chap 3
of Functional Monomers
Vol 2”、MarcelDeRRer I
nc、NJ、(1974)等に記載された化合物が挙げ
られる。
更に、樹脂〔C〕は、以上述べたOH基及び/又は塩基
性基を含有する単量体とともにこれら以外の他の単量体
を共重合成分として含有してもよい。
性基を含有する単量体とともにこれら以外の他の単量体
を共重合成分として含有してもよい。
例えば、樹脂〔B〕で他の共重合成分として含有し得る
として記載したと同様の単量体を具体例として挙げるこ
とができる。
として記載したと同様の単量体を具体例として挙げるこ
とができる。
単に樹脂〔B〕の好ましい態様として重合体中の繰り返
し単位として樹脂〔A)に含まれる酸性基のpkaより
大きいpkaを有する酸性基から選択される少なくとも
1つの酸性基を含有する成分を、樹脂[A]に含まれる
酸性基含有量の1〜80重量%、より好ましくは5〜5
0重量%の割合で含有する樹脂(以下特に樹脂(D)と
称することもある)を挙げることができる。
し単位として樹脂〔A)に含まれる酸性基のpkaより
大きいpkaを有する酸性基から選択される少なくとも
1つの酸性基を含有する成分を、樹脂[A]に含まれる
酸性基含有量の1〜80重量%、より好ましくは5〜5
0重量%の割合で含有する樹脂(以下特に樹脂(D)と
称することもある)を挙げることができる。
樹脂CD)は、樹脂CA)に比べ、光導電体粒子に対し
て、非常に弱い相互作用を示し、緩やかに被覆する機能
をもち、樹脂〔A)の機能を何ら疎外することなく、樹
脂〔A)のみでは不充分な光導電層の機械的強度を充分
にならしめるものである。
て、非常に弱い相互作用を示し、緩やかに被覆する機能
をもち、樹脂〔A)の機能を何ら疎外することなく、樹
脂〔A)のみでは不充分な光導電層の機械的強度を充分
にならしめるものである。
更に、樹脂〔D〕中の側鎖の酸性基含有量が5重量%を
越えると、樹脂CD)の先導体粒子への吸着が生じ、光
導電体の分散が破壊され、凝集物あるいは沈澱物が生成
してしまい、塗膜ができない状態になってしまうかある
いはたとえ塗膜ができたとしても得られた光導電体の静
電特性は著しく低下してしまったり、感光体表面の平滑
度が粗くなり機械的摩耗に対する強度が悪化してしまう
ため好ましくない。
越えると、樹脂CD)の先導体粒子への吸着が生じ、光
導電体の分散が破壊され、凝集物あるいは沈澱物が生成
してしまい、塗膜ができない状態になってしまうかある
いはたとえ塗膜ができたとしても得られた光導電体の静
電特性は著しく低下してしまったり、感光体表面の平滑
度が粗くなり機械的摩耗に対する強度が悪化してしまう
ため好ましくない。
樹脂(D)の重量平均分子量は5 X 10’〜6×1
04であるが、好ましくは8 X 10’〜4 X 1
05である。
04であるが、好ましくは8 X 10’〜4 X 1
05である。
樹脂CD)のガラス転移点は好ましくは0°C〜120
’Cの範囲、より好ましくは10°C〜90°Cである
。
’Cの範囲、より好ましくは10°C〜90°Cである
。
樹脂CD)の重合体に含有される酸性基は樹脂CD)中
に0.05〜5重量%、より好ましくは0.1〜3重量
%の割合で含有されることが好ましい。
に0.05〜5重量%、より好ましくは0.1〜3重量
%の割合で含有されることが好ましい。
特に好ましくは下記表−への組合せである。
表−A
0H
素基又はOR8゛基を示し、R8及びR11+ は具体
的には、それぞれ前記Rと同様の内容を表わす。
的には、それぞれ前記Rと同様の内容を表わす。
樹脂〔D〕は、前記した物性を存していれば従来公知の
樹脂のいずれでもよく、例えば樹脂〔B〕にて記載した
従来公知の樹脂を用いることができる。
樹脂のいずれでもよく、例えば樹脂〔B〕にて記載した
従来公知の樹脂を用いることができる。
更に具体的には、前述の一般式(V)で示される単量体
を共重合体成分としてその総量で30重量%以上含有す
る(メタ)アクリル系共重合体を樹脂(D)の例として
挙げることができる。一般式(V)の好ましい具体例と
しては前記内容と同様のものを挙げることができる。
を共重合体成分としてその総量で30重量%以上含有す
る(メタ)アクリル系共重合体を樹脂(D)の例として
挙げることができる。一般式(V)の好ましい具体例と
しては前記内容と同様のものを挙げることができる。
本発明に供される樹脂(D)における特定の「酸性基を
含有する共重合体成分」は、例えば前記の一般式(V)
と共重合し得る酸性基を含有するビニル系化合物であれ
ばいずれでも用いることができる。例えば、高分子デー
タ「高分子データ・ハンドブック〔基礎編〕」培風館(
1986刊)等に記載されている。具体的には、アクリ
ル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸(例えばα−アセ
トキシ体、α−アセトキシメチル体、α−(2−アミノ
メチル体、α−クロロ体、α−ブロモ体、αフロロ体、
α−トリブチルシリル体、α−シアノ体、β−クロロ体
、β−ブロモ体、α−クロロβ−メトキシ体、α、β−
ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン
酸半エステル類、イタコン酸半アミド頻、クロトン酸、
2−アルケニルカルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、
2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メ
チル−2−ヘキセン酸、4−エチル−2オクテン酸等)
、マレイン酸、マレイン酸半エステル類、?レイン酸半
アミド頻、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼン
スルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジ
カルボン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導
体、及びこれらのカルボン酸又はスルホン酸のエステル
誘導体、アミド誘導体の置換基中に該酸性基を含有する
化合物が挙げられる。
含有する共重合体成分」は、例えば前記の一般式(V)
と共重合し得る酸性基を含有するビニル系化合物であれ
ばいずれでも用いることができる。例えば、高分子デー
タ「高分子データ・ハンドブック〔基礎編〕」培風館(
1986刊)等に記載されている。具体的には、アクリ
ル酸、α及び/又はβ置換アクリル酸(例えばα−アセ
トキシ体、α−アセトキシメチル体、α−(2−アミノ
メチル体、α−クロロ体、α−ブロモ体、αフロロ体、
α−トリブチルシリル体、α−シアノ体、β−クロロ体
、β−ブロモ体、α−クロロβ−メトキシ体、α、β−
ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン
酸半エステル類、イタコン酸半アミド頻、クロトン酸、
2−アルケニルカルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、
2−メチル−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メ
チル−2−ヘキセン酸、4−エチル−2オクテン酸等)
、マレイン酸、マレイン酸半エステル類、?レイン酸半
アミド頻、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼン
スルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジ
カルボン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導
体、及びこれらのカルボン酸又はスルホン酸のエステル
誘導体、アミド誘導体の置換基中に該酸性基を含有する
化合物が挙げられる。
更に、本発明の樹脂〔D〕はそれぞれ、前記した一般式
(V)の単量体及び酸性基を含有する単量体とともに、
これら以外の他の単量体を共重合成分として含有しても
よい。例えば、樹脂(B)で他の共重合成分として含有
し得るとして記載したと同様の単量体を具体例として挙
げることかできる。
(V)の単量体及び酸性基を含有する単量体とともに、
これら以外の他の単量体を共重合成分として含有しても
よい。例えば、樹脂(B)で他の共重合成分として含有
し得るとして記載したと同様の単量体を具体例として挙
げることかできる。
本発明では、上記樹脂〔B〕 (樹脂〔C]及び(D)
も含む)のうちの2種以上を併用して樹脂〔A)と組み
合わせて用いてもよい。また樹脂〔A)及び(B)以外
の他の樹脂を併用させることもできる。それらの樹脂と
しては、例えば、アルキッド樹脂、ポリブチラール樹脂
、ポリオレフィン類、エチレン−酢ビ共重合体、スチレ
ン樹脂、スチレン−ブタジェン樹脂、アクリレートブタ
ジェン樹脂、アルカン酸ビニル樹脂等が挙げられる。
も含む)のうちの2種以上を併用して樹脂〔A)と組み
合わせて用いてもよい。また樹脂〔A)及び(B)以外
の他の樹脂を併用させることもできる。それらの樹脂と
しては、例えば、アルキッド樹脂、ポリブチラール樹脂
、ポリオレフィン類、エチレン−酢ビ共重合体、スチレ
ン樹脂、スチレン−ブタジェン樹脂、アクリレートブタ
ジェン樹脂、アルカン酸ビニル樹脂等が挙げられる。
上記他の樹脂は、本発明の樹脂を用いた全結着樹脂量の
30%(重量比)を越えると本発明の効果(特に静電特
性の向上)が失われる。
30%(重量比)を越えると本発明の効果(特に静電特
性の向上)が失われる。
本発明に用いる樹脂〔A)と樹脂〔B〕の使用量の割合
は、使用する無機光導電材料の種類、粒径、表面状態に
よって異なるが、一般に樹脂〔A)と樹脂〔B〕の用い
る割合は5〜80対95〜20(重量比)であり、好ま
しくは10〜50対90〜50(重量比)である。
は、使用する無機光導電材料の種類、粒径、表面状態に
よって異なるが、一般に樹脂〔A)と樹脂〔B〕の用い
る割合は5〜80対95〜20(重量比)であり、好ま
しくは10〜50対90〜50(重量比)である。
樹脂〔A)と樹脂〔B〕の重量平均分子量の比は、好ま
しくは1.2以上、より好ましくは2.0以上である。
しくは1.2以上、より好ましくは2.0以上である。
本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜鉛、
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛、等が挙げられる。
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛、等が挙げられる。
無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光導
電体100重量部に対して、結着樹脂を10〜100重
量部なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で
使用する。
電体100重量部に対して、結着樹脂を10〜100重
量部なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で
使用する。
本発明では、必要に応じて各種の色素を分光増感剤とし
て併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング■υ(No、8)第12頁、C,J、Y
oung等、RCA Reviei+ 15 469(
1954)、清田航平等、電気通信学会論文誌ユ」L以
肢J)、 97(1980)、原崎勇次等、工業化学雑
誌667B及び188(1963)、谷忠昭、日本写真
学会誌共、20B(1972)、等の総説引例のカーポ
ニウム系色素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメ
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素、ポリ
メチン色素(例えば、オキソノール色素、メロシアニン
色素、シアニン色素、ログシアニン色素、スチリル色素
等)、フタロシアニン色素(金属含有してもよい)等が
挙げられる。
て併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング■υ(No、8)第12頁、C,J、Y
oung等、RCA Reviei+ 15 469(
1954)、清田航平等、電気通信学会論文誌ユ」L以
肢J)、 97(1980)、原崎勇次等、工業化学雑
誌667B及び188(1963)、谷忠昭、日本写真
学会誌共、20B(1972)、等の総説引例のカーポ
ニウム系色素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメ
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素、ポリ
メチン色素(例えば、オキソノール色素、メロシアニン
色素、シアニン色素、ログシアニン色素、スチリル色素
等)、フタロシアニン色素(金属含有してもよい)等が
挙げられる。
更に具体的には、カーポニウム系色素、トリフェニルメ
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51452号、特開昭5
0−90334号、特開昭50−114227号、特開
昭53−39130号、特開昭53−82353号、米
国特許第3,052,540号、米国特許第4,054
,450号、特開昭57−16456号等に記載のもの
が挙げられる。
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51452号、特開昭5
0−90334号、特開昭50−114227号、特開
昭53−39130号、特開昭53−82353号、米
国特許第3,052,540号、米国特許第4,054
,450号、特開昭57−16456号等に記載のもの
が挙げられる。
オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ログシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、M
、IIarmmer rThe Cyanine D
yes andRelated Compounds
J等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には
、米国特許第3,047,384号、米国特許第3,1
10,591号、米国特許第3,121,008号、米
国特許第3,125,447号、米国特許第3.128
.179号、米国特許第3,132,942号、米国特
許第3,622,317号、英国特許筒1.226,8
92号、英国特許筒1,309,274号、英国特許筒
1.405,898号、特公昭4B−7814号、特公
昭5548892号等に記載の色素が挙げられる。
ログシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、M
、IIarmmer rThe Cyanine D
yes andRelated Compounds
J等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には
、米国特許第3,047,384号、米国特許第3,1
10,591号、米国特許第3,121,008号、米
国特許第3,125,447号、米国特許第3.128
.179号、米国特許第3,132,942号、米国特
許第3,622,317号、英国特許筒1.226,8
92号、英国特許筒1,309,274号、英国特許筒
1.405,898号、特公昭4B−7814号、特公
昭5548892号等に記載の色素が挙げられる。
更に700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分光
増感するポリメチン色素として、特開昭47840号、
特開昭47−44180号、特公昭51−41061号
、特開昭49−5034号、特開昭49−45122号
、特開昭5746245号、特開昭56−35141号
、特開昭57−157254号、特開昭61−2604
4号、特開昭61−27551号、米国特許第3,61
9,154号、米国特許第4,175,956号、rR
esearch Disclosure J 19B2
年、216、第117〜118頁等に記載のものが挙げ
られる。本発明の感光体は種々の増感色素を併用させて
も、その性能が増感色素により変動しにくい点において
優れている。更には、必要に応じて、化学増感剤等の従
来知られている電子写真感光層用各種添加剤を併用する
こともできる。例えば、前記した総説:イメージング1
973(No、8)第12頁等の総説引例の電子受容性
化合物(例えば、ハロゲン、ベンゾキノン、クロラニル
、酸無水物、を機カルボン酸等)、小門宏等、「最近の
光導電材料と感光体の開発・実用化」第4章〜第6章:
日本科学情報■出版部(1986年)の総説引例のポリ
アリールアルカン化合物、ヒンタートフェノール化合物
、P−フェニレンジアミン化合物等が挙げられる。
増感するポリメチン色素として、特開昭47840号、
特開昭47−44180号、特公昭51−41061号
、特開昭49−5034号、特開昭49−45122号
、特開昭5746245号、特開昭56−35141号
、特開昭57−157254号、特開昭61−2604
4号、特開昭61−27551号、米国特許第3,61
9,154号、米国特許第4,175,956号、rR
esearch Disclosure J 19B2
年、216、第117〜118頁等に記載のものが挙げ
られる。本発明の感光体は種々の増感色素を併用させて
も、その性能が増感色素により変動しにくい点において
優れている。更には、必要に応じて、化学増感剤等の従
来知られている電子写真感光層用各種添加剤を併用する
こともできる。例えば、前記した総説:イメージング1
973(No、8)第12頁等の総説引例の電子受容性
化合物(例えば、ハロゲン、ベンゾキノン、クロラニル
、酸無水物、を機カルボン酸等)、小門宏等、「最近の
光導電材料と感光体の開発・実用化」第4章〜第6章:
日本科学情報■出版部(1986年)の総説引例のポリ
アリールアルカン化合物、ヒンタートフェノール化合物
、P−フェニレンジアミン化合物等が挙げられる。
これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではないが、
通常光導電体100重量部に対して0.0001〜2.
0重量部である。
通常光導電体100重量部に対して0.0001〜2.
0重量部である。
光導電層の厚さは1〜100μ、特に10〜50μが好
適である。
適である。
また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特に0.05〜0.5 μが好適で
ある。
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特に0.05〜0.5 μが好適で
ある。
感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主目
的として絶縁層を付設さセる場合もある。
的として絶縁層を付設さセる場合もある。
この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。
後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、1
0〜50μに設定される。
0〜50μに設定される。
積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバ
ゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。
ゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。
電荷輸送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜3
0μが好適である。
0μが好適である。
絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ酸ビ共重合体樹脂、ポリアク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹
脂の熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜用いられる。
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ酸ビ共重合体樹脂、ポリアク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹
脂の熱可塑性樹脂及び硬化性樹脂が適宜用いられる。
本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、At等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、At等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。
具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男、電子写真、14(No、1)、P2〜11(
1975)、森賀弘之、「入門特殊紙の化学」高分子刊
行会(1975)、M、F、l1oover、 J、M
acromol、Sci、ChemA−4(6)、第1
327〜第1417頁(1970)等に記載されている
もの等を用いる。
坂本幸男、電子写真、14(No、1)、P2〜11(
1975)、森賀弘之、「入門特殊紙の化学」高分子刊
行会(1975)、M、F、l1oover、 J、M
acromol、Sci、ChemA−4(6)、第1
327〜第1417頁(1970)等に記載されている
もの等を用いる。
(実施例)
以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容がこ
れらに限定されるものではない。
れらに限定されるものではない。
マクロモノマーの 1:M−1
メチルメタクリレ一ト95g、チオグリコール酸5g及
びトルエン200gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しな
がら、温度75°Cに加温した。4,4゛−アゾビス(
4−シアノ吉草酸)(略称A、C,V、)1.0gを加
え、8時間反応した。次にこの反応溶液にグリシジルメ
タクリレート8g、N、N−ジメチルドデシルアミン1
.0g及びも−ブチルハイドロキノン0.5gを加え、
温度100°Cにて、12時間攪拌した。
びトルエン200gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しな
がら、温度75°Cに加温した。4,4゛−アゾビス(
4−シアノ吉草酸)(略称A、C,V、)1.0gを加
え、8時間反応した。次にこの反応溶液にグリシジルメ
タクリレート8g、N、N−ジメチルドデシルアミン1
.0g及びも−ブチルハイドロキノン0.5gを加え、
温度100°Cにて、12時間攪拌した。
冷却後この反応溶液をメタノール21中に再沈し、白色
粉末を82g得た。重合体の重量平均分子量は8.30
0であった。
粉末を82g得た。重合体の重量平均分子量は8.30
0であった。
マクロモノマーの 2:M−2
メチルメタクリレ−1−95g、チオグリコール酸5g
及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下攪拌しな
がら、温度70°Cに加温した。2,2°−アゾビス(
イソブチルニトリル)(略称A、1.B、N、)1.5
gを加え、8時間反応した。次にこの反応溶液に、グリ
シジルメタクリレート7.5g、、N、N−ジメチルド
デシルアミン1.0g及びt−ブチルハイドロキノン0
.8gを加え、温度100°Cにて、12時間攪拌した
。
及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下攪拌しな
がら、温度70°Cに加温した。2,2°−アゾビス(
イソブチルニトリル)(略称A、1.B、N、)1.5
gを加え、8時間反応した。次にこの反応溶液に、グリ
シジルメタクリレート7.5g、、N、N−ジメチルド
デシルアミン1.0g及びt−ブチルハイドロキノン0
.8gを加え、温度100°Cにて、12時間攪拌した
。
冷却後、この反応溶液をメタノール21中に再沈し、無
色透明の粘稠物85gを得た。重合体の重量平均分子量
は3,500であった。
色透明の粘稠物85gを得た。重合体の重量平均分子量
は3,500であった。
マクロモノマーの 3:M−3
ブチルメタクリレ一ト94g、2−メルカプトエタノー
ル6g、トルエン200gの混合溶液を窒素気流下温度
70°Cに加温した。^、T、B、N、 1.2gを加
え、8時間反応した。
ル6g、トルエン200gの混合溶液を窒素気流下温度
70°Cに加温した。^、T、B、N、 1.2gを加
え、8時間反応した。
次にこの反応溶液を水浴中で冷却して温度20°Cとし
、トリエチルアミン10.2gを加え、メタクリル酸ク
ロライド14.5 gを温度25°C以下で攪拌下して
滴下した。滴下後そのまま1時間更に攪拌した。
、トリエチルアミン10.2gを加え、メタクリル酸ク
ロライド14.5 gを温度25°C以下で攪拌下して
滴下した。滴下後そのまま1時間更に攪拌した。
その後、t−ブチルハイドロキノン0.5gを加え温度
60°Cに加温し、4時間攪拌した。冷却後、メタノー
ル2j2中に再沈し、無色透明な粘稠物79gを得た。
60°Cに加温し、4時間攪拌した。冷却後、メタノー
ル2j2中に再沈し、無色透明な粘稠物79gを得た。
重量平均分子量は6,000であった。
マクロモ マーの 47M−4
工チルメタクリレート95g及びl・ルエン200gの
混合溶液を窒素気流下に温度70°Cに加温した。
混合溶液を窒素気流下に温度70°Cに加温した。
2.2°−アゾビス(シアノヘプタツール)5gを加え
、8時間反応した。
、8時間反応した。
冷却後、この反応液を水浴中で温度20°Cとし、トリ
エチルアミン1.0g及びメタクリル酸無水物21gを
加え1時間撹拌した後、温度60°Cで6時間攪拌した
。
エチルアミン1.0g及びメタクリル酸無水物21gを
加え1時間撹拌した後、温度60°Cで6時間攪拌した
。
得られた反応物を冷却した後メタノール2p、中に再沈
し、無色透明な粘稠物75gを得た。重量平均分子量は
8.500であった。
し、無色透明な粘稠物75gを得た。重量平均分子量は
8.500であった。
マクロモノマーの 5:M−5
ベンジルメタクリレ一ト93g、3−メルカプトプロピ
オン酸7g1 トルエン170g及びインプロパツール
30gの混合物を窒素気流下に温度70゛Cに力■温し
、均一?8液とした。A、1.B、N、 2.0gを加
え、8時間反応した。冷却後、メタノール2!中に再沈
し、減圧下に温度50″Cに加熱して、溶媒を留去した
。得られた粘稠物をトルエン200gに熔解し、この混
合溶液にグリシジルメタクリレート16g、N、N−ジ
メチルドデシルメタクリレート1.0g及びtブチルハ
イドロキノン1.0gを加え温度110°Cで10時間
攪拌した。この反応溶液を再びメタノール21中に再沈
した。得られた淡黄色の粘稠物の重量平均分子量は5,
200であった。
オン酸7g1 トルエン170g及びインプロパツール
30gの混合物を窒素気流下に温度70゛Cに力■温し
、均一?8液とした。A、1.B、N、 2.0gを加
え、8時間反応した。冷却後、メタノール2!中に再沈
し、減圧下に温度50″Cに加熱して、溶媒を留去した
。得られた粘稠物をトルエン200gに熔解し、この混
合溶液にグリシジルメタクリレート16g、N、N−ジ
メチルドデシルメタクリレート1.0g及びtブチルハ
イドロキノン1.0gを加え温度110°Cで10時間
攪拌した。この反応溶液を再びメタノール21中に再沈
した。得られた淡黄色の粘稠物の重量平均分子量は5,
200であった。
マクロモノマーの 6:M−6
プロビルメククリレー)95g、チオグリコール酸5g
及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下攪拌しな
がら温度75°Cに加温した。A、]、B、N1.5g
を加え8時間反応した。次に反応溶液にグリシジルメタ
クリレ−日3g、 N、N−ジメチルドデシルアミン1
.0g及びt−ブチルハイドロキノン1.0gを加え、
温度110 ’Cにて10時間撹拌した。冷却後、この
反応溶液をメタノール2P中に再沈し、白色粉末を86
g得た。重量平均分子量は3,600であった。
及びトルエン200gの混合溶液を窒素気流下攪拌しな
がら温度75°Cに加温した。A、]、B、N1.5g
を加え8時間反応した。次に反応溶液にグリシジルメタ
クリレ−日3g、 N、N−ジメチルドデシルアミン1
.0g及びt−ブチルハイドロキノン1.0gを加え、
温度110 ’Cにて10時間撹拌した。冷却後、この
反応溶液をメタノール2P中に再沈し、白色粉末を86
g得た。重量平均分子量は3,600であった。
マクロモノマーの7′告1ユ±M−7
メチルメタクリレート40g1エチルメタクリレ)54
g、2−メルカプトエチルアミン6g1 トルエン15
0g及びテトラヒドロフラン50gの混合物を窒素気流
下攪拌しながら温度75°Cに加温した。
g、2−メルカプトエチルアミン6g1 トルエン15
0g及びテトラヒドロフラン50gの混合物を窒素気流
下攪拌しながら温度75°Cに加温した。
A、1.B、N、 2.0gを加え8時間反応した。次
にこの反応溶液を水浴中温度20°Cとし、これにメタ
クリル酸無水物23gを温度が25°Cを越えない様に
して滴下し、その後そのまま更に1時間攪拌した。22
′−メチレンビス−(6−t−ブチル−p−クレゾール
) 0.5gを加え、温度40°Cで3時間攪拌した。
にこの反応溶液を水浴中温度20°Cとし、これにメタ
クリル酸無水物23gを温度が25°Cを越えない様に
して滴下し、その後そのまま更に1時間攪拌した。22
′−メチレンビス−(6−t−ブチル−p−クレゾール
) 0.5gを加え、温度40°Cで3時間攪拌した。
冷却後、この溶液をメタノール21に再沈し、粘稠物8
3gを得た。重量平均分子量は3,400であった。
3gを得た。重量平均分子量は3,400であった。
マクロモノマーの ’L 8:M−8
メチルメタクリレ一ト95g及びトルエン150g及び
エタノール50gの混合溶液を窒素気流下に温度75°
Cに加温した。A、C,V、 5 gを加え、8時間反
応した。次に、グリシジルアクリレート15g、N。
エタノール50gの混合溶液を窒素気流下に温度75°
Cに加温した。A、C,V、 5 gを加え、8時間反
応した。次に、グリシジルアクリレート15g、N。
N−ジメチルドデシルアミン1.0g及び2,2°−メ
チレンビス−(6−t−ブチル−p−クレゾール)1.
0gを加え温度100°Cで15時間攪拌した。冷却後
、この反応液をメタノール2!中に再沈し、透明な粘稠
物83gを得た。重量平均分子量は4.800であった
。
チレンビス−(6−t−ブチル−p−クレゾール)1.
0gを加え温度100°Cで15時間攪拌した。冷却後
、この反応液をメタノール2!中に再沈し、透明な粘稠
物83gを得た。重量平均分子量は4.800であった
。
マクロモノマーの 9〜18:M−9〜M−18マ
クロモノマーの製造例3において、メククリル酸クロラ
イドの代わりに、表−1の酸ハライド化合物を用いた他
は、製造例3と同様に操作して、マクロモノマーM−9
〜M−18を製造した。各7クロモノマーの重量平均分
子量はほぼ6,000であった。
クロモノマーの製造例3において、メククリル酸クロラ
イドの代わりに、表−1の酸ハライド化合物を用いた他
は、製造例3と同様に操作して、マクロモノマーM−9
〜M−18を製造した。各7クロモノマーの重量平均分
子量はほぼ6,000であった。
マクロモノマーの 19〜27:M−19〜M−2
7マクロモノマーの製造例2において、メチルメタクリ
レートの代わりに、表−2の単量体を用いた他は、製造
例2と同様に操作してマクロモノマ−M−19〜M−2
7を製造した。
7マクロモノマーの製造例2において、メチルメタクリ
レートの代わりに、表−2の単量体を用いた他は、製造
例2と同様に操作してマクロモノマ−M−19〜M−2
7を製造した。
マクロモノマーの 28〜32:M−28〜M−3
2マクロモノマーの製造例2において、メチルメタクリ
レートの代わりに下表の単量体を用いた他は、製造例2
と同様に操作してマクロモノマーを各々製造した。
2マクロモノマーの製造例2において、メチルメタクリ
レートの代わりに下表の単量体を用いた他は、製造例2
と同様に操作してマクロモノマーを各々製造した。
表−3
体〔A)−1の重量平均分子量(Mw)は8.5 X
10’でガラス転移点は70°Cであった。
10’でガラス転移点は70°Cであった。
樹脂〔A)−1の組成式
%式%()
2)30g、及びトルエン150g及びイソプロパツー
ル50gの混合溶液を窒素気流下温度80°Cに加温し
た。次に4.4゛−アゾビス(4−シアノ吉草酸)6g
を加え、10時間反応させた。得られた共重合08
C00CIh樹脂[A)の
製造例2〜9:樹脂〔A〕−2〜9414脂〔A)の製
造例1において、マクロモノマー(M−2)の代わりに
、下表−4のマクロモノマーを用いた他は、製造例1と
同様に操作して、各樹脂〔A)を製造した。各樹脂のh
は8.0X103〜9X103でった。
ル50gの混合溶液を窒素気流下温度80°Cに加温し
た。次に4.4゛−アゾビス(4−シアノ吉草酸)6g
を加え、10時間反応させた。得られた共重合08
C00CIh樹脂[A)の
製造例2〜9:樹脂〔A〕−2〜9414脂〔A)の製
造例1において、マクロモノマー(M−2)の代わりに
、下表−4のマクロモノマーを用いた他は、製造例1と
同様に操作して、各樹脂〔A)を製造した。各樹脂のh
は8.0X103〜9X103でった。
樹脂〔A)の製造例1O:樹脂〔A)−10プロピルメ
タクリレート80g、マクロモノマー(M−1) 20
g、チオグリコール酸2.0g、トルエン100g及び
イソプロパツール50gの混合溶液を窒素気流下に温度
70°Cに加温した。2,2°−アゾビス(イソブチロ
ニトリル)(略称A、 1.B、N、)1.0 gを加
え4時間攪拌し、更G誦、1.B、N、 0.5gを加
え、4時間攪拌した。得られた重合体のhは6X103
で、ガラス転移点は45°Cであった。
タクリレート80g、マクロモノマー(M−1) 20
g、チオグリコール酸2.0g、トルエン100g及び
イソプロパツール50gの混合溶液を窒素気流下に温度
70°Cに加温した。2,2°−アゾビス(イソブチロ
ニトリル)(略称A、 1.B、N、)1.0 gを加
え4時間攪拌し、更G誦、1.B、N、 0.5gを加
え、4時間攪拌した。得られた重合体のhは6X103
で、ガラス転移点は45°Cであった。
樹脂〔A)−10の組成
樹脂〔A)の製造例11〜17:樹脂〔A)−11〜1
7樹脂〔A)の製造例10において、チオグリコル酸の
代わりに下記表の化合物を用いた他は、製造例10と同
様に操作して、重合体を製造した。
7樹脂〔A)の製造例10において、チオグリコル酸の
代わりに下記表の化合物を用いた他は、製造例10と同
様に操作して、重合体を製造した。
樹脂〔A)の製造例18〜24:樹脂〔A)−18〜2
4m脂〔A〕の製造例1において、4.4”−アゾビス
(4−シアノ吉草酸)の代わりに、下表のアゾビス系化
合物を用いた他は、製造例1と同様に操作して重合体を
各々製造した。
4m脂〔A〕の製造例1において、4.4”−アゾビス
(4−シアノ吉草酸)の代わりに、下表のアゾビス系化
合物を用いた他は、製造例1と同様に操作して重合体を
各々製造した。
樹脂[A]の製造例25:樹脂〔A)−25エチルメタ
クリレ−1−70g、マクロモノマー(M2)30g、
トルエン150g及びイソプロパツール50gの混合溶
液を窒素気流下、温度88°Cに加温した。次に、4.
4゛−アゾビス(4−シアノ吉草酸)6gを加え10時
間反応させた。得られた共重合体の重量平均分子量は4
.6 X 103で、ガラス転移点は63°であった(
樹脂〔A)−25の組成式は前記樹脂〔A)−1と同じ
)。
クリレ−1−70g、マクロモノマー(M2)30g、
トルエン150g及びイソプロパツール50gの混合溶
液を窒素気流下、温度88°Cに加温した。次に、4.
4゛−アゾビス(4−シアノ吉草酸)6gを加え10時
間反応させた。得られた共重合体の重量平均分子量は4
.6 X 103で、ガラス転移点は63°であった(
樹脂〔A)−25の組成式は前記樹脂〔A)−1と同じ
)。
樹脂〔A)の製造例26〜30:樹脂〔A)−26〜3
0下表の単量体75g、マクロモノマー(M−28)2
5g、トルエン150g及びエタノール50gの混合溶
液を窒素気流下、温度80°Cに加温した。次に、4,
4“アゾビス(4−シアノ吉草酸)5gを加え、10時
間反応させ、下表の重合体を得た。
0下表の単量体75g、マクロモノマー(M−28)2
5g、トルエン150g及びエタノール50gの混合溶
液を窒素気流下、温度80°Cに加温した。次に、4,
4“アゾビス(4−シアノ吉草酸)5gを加え、10時
間反応させ、下表の重合体を得た。
表−7
樹脂〔A〕の製造例31:樹脂〔A)ilエチルメタク
リレート60g1マクロモノマー:AN−6(東亜合成
化学■製:繰り返し単位部分:スチレン/アクリロニト
リル)40g、トルエン150g及びイソプロパツール
50gの混合溶液を温度80°Cに加温した。4,4゛
−アゾビス(4−シアノ吉草酸)4.0gを加え、8時
間反応した。得られた重合体のhは1.2×104でガ
ラス転移点は70°Cであった。
リレート60g1マクロモノマー:AN−6(東亜合成
化学■製:繰り返し単位部分:スチレン/アクリロニト
リル)40g、トルエン150g及びイソプロパツール
50gの混合溶液を温度80°Cに加温した。4,4゛
−アゾビス(4−シアノ吉草酸)4.0gを加え、8時
間反応した。得られた重合体のhは1.2×104でガ
ラス転移点は70°Cであった。
樹脂〔A)の製造例32〜41:樹脂〔^〕−32〜4
1樹脂〔A)の製造例31において、エチルメタクリレ
ート及びマクロモノマー: AN−6の代わりに、各々
、下記表−8の化合物に代えた他は、製造例31と同様
にして、各重合体を製造した。
1樹脂〔A)の製造例31において、エチルメタクリレ
ート及びマクロモノマー: AN−6の代わりに、各々
、下記表−8の化合物に代えた他は、製造例31と同様
にして、各重合体を製造した。
各重合体のhは9.0 X 103〜1.5 XIO’
であった。
であった。
実施例1〜3及び比較例A−D
実施例1゜
樹脂〔A〕の製造例1で製造した樹脂[Al2Oを6g
(固形分量として)、ポリ(エチルメタクリレート)
(Mw 3.6×104 :以下樹脂〔B〕■とい
う)34g、酸化亜鉛200g、下記構造のシアニン色
素〔Al 0.018g、無水フタル酸0.05g及び
トルエン300gの混合物をボールミル中で2時間分散
して、感光層形成物を調製し、これを導電処理した紙に
、乾燥付着量が22g/nfとなる様に、ワイヤーバー
で塗布し、110°Cで30秒間乾燥し、ついで暗所で
20°C65%RHの条件下で24時間放置することに
より、電子写真感光材料を作製した。
(固形分量として)、ポリ(エチルメタクリレート)
(Mw 3.6×104 :以下樹脂〔B〕■とい
う)34g、酸化亜鉛200g、下記構造のシアニン色
素〔Al 0.018g、無水フタル酸0.05g及び
トルエン300gの混合物をボールミル中で2時間分散
して、感光層形成物を調製し、これを導電処理した紙に
、乾燥付着量が22g/nfとなる様に、ワイヤーバー
で塗布し、110°Cで30秒間乾燥し、ついで暗所で
20°C65%RHの条件下で24時間放置することに
より、電子写真感光材料を作製した。
シアニン色素[A)
実施例2゜
実施例1において、樹脂(B)−1,34gの代わりに
、下記構造の樹脂(C>1を34g用いた他は、実施例
1と同様にして、電子写真感光材料を作製した。
、下記構造の樹脂(C>1を34g用いた他は、実施例
1と同様にして、電子写真感光材料を作製した。
樹脂(C)−1
CH3C)13
+C1l2−C−+−r2−(−CH2−C−+T−C
OOC211S C0IIII(C)12)
so1号Mw 1.0xlO5 実施例3 実施例1において、樹脂〔B〕−1の代わりに下記構造
の樹脂(D)−134gを用いた他は、実施例1と同様
に操作して、電子写真感光材料を作製した。
OOC211S C0IIII(C)12)
so1号Mw 1.0xlO5 実施例3 実施例1において、樹脂〔B〕−1の代わりに下記構造
の樹脂(D)−134gを用いた他は、実施例1と同様
に操作して、電子写真感光材料を作製した。
樹脂(D)−1
CH,C113
−(−cth C−h■]十CH2−C→■コC00
Cztls COCo oH1,l×104 比較例A。
Cztls COCo oH1,l×104 比較例A。
実施例1において結着樹脂として用いた樹脂〔A)−1
及び(Bllの代わりに、樹脂〔A)1のみを40g(
固形分量として)用いる以外は実施例1と同様の操作で
電子写真感光材料Aを製造した。
及び(Bllの代わりに、樹脂〔A)1のみを40g(
固形分量として)用いる以外は実施例1と同様の操作で
電子写真感光材料Aを製造した。
比較例B
結着樹脂として、下記樹脂[:R)=1のみを40g用
いる以外は実施例1と同様の操作で電子写真感光材料B
を製造した。
いる以外は実施例1と同様の操作で電子写真感光材料B
を製造した。
樹脂[R)−1
Mw 6,500、 Tg ’ 40°C比較例C
結着樹脂として、樹脂(R)−16g及び樹脂〔B〕−
134g(固形分量として)を用いる以外は、実施例1
と同様の操作で電子写真感光材料Cを作製した。
134g(固形分量として)を用いる以外は、実施例1
と同様の操作で電子写真感光材料Cを作製した。
比較例り
結着樹脂として、下記構造の樹脂(R)−2のみを40
g用いる以外は、実施例1と同様の操作で電子写真感光
材料りを製造した。
g用いる以外は、実施例1と同様の操作で電子写真感光
材料りを製造した。
樹脂(R)−2
π−45,000、Tg 46°に
れらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、膜強度、静
電特性、撮像性及び環境条件を30°C180%R)l
とした時の静電特性、撮像性を調べた。更に、これらの
感光材料をオフセットマスター用原版として用いた時の
光導電性の不感脂化性(不感脂化処理後の光導電層の水
との接触角で表わす)及び印刷性(地汚れ、耐剛性等)
を調べた。
電特性、撮像性及び環境条件を30°C180%R)l
とした時の静電特性、撮像性を調べた。更に、これらの
感光材料をオフセットマスター用原版として用いた時の
光導電性の不感脂化性(不感脂化処理後の光導電層の水
との接触角で表わす)及び印刷性(地汚れ、耐剛性等)
を調べた。
以上の結果をまとめて表−9に示す。
表−9に示した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る。
る。
注1)光導電層の平滑性:
得られた感光材料は、ヘック平滑度試験機(熊谷理工■
製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
sec/cc)を測定した。
製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
sec/cc)を測定した。
注2)光導電層の機械的強度;
得られた感光材料表面をヘイトン−14型表面性試験材
(新東化学■製)を用いて荷重50g/c+flのもの
でエメリー紙(+11000)で1000回繰り返し探
り摩耗粉を取り除き感光層の重量減少から残膜率(χ)
を求め機械的強度とした。
(新東化学■製)を用いて荷重50g/c+flのもの
でエメリー紙(+11000)で1000回繰り返し探
り摩耗粉を取り除き感光層の重量減少から残膜率(χ)
を求め機械的強度とした。
注3):静電特性:
温度20°C165%RHの暗室中で、各春光材料にペ
ーパーアナライザー(川口電機■製ペーパーアナライザ
ー5P−428型)を用いて一6kVで20秒間コロナ
放電をさせた後、10秒間放置し、この時の表面電位ν
、。を測定した。次いでそのまま暗中で90秒間静置し
た後の電位V100を測定し、90秒間暗減衰させた後
の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率(DRR(り)を
(V70/VIO) XIO似χ)で求めた。
ーパーアナライザー(川口電機■製ペーパーアナライザ
ー5P−428型)を用いて一6kVで20秒間コロナ
放電をさせた後、10秒間放置し、この時の表面電位ν
、。を測定した。次いでそのまま暗中で90秒間静置し
た後の電位V100を測定し、90秒間暗減衰させた後
の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率(DRR(り)を
(V70/VIO) XIO似χ)で求めた。
又、コロナ放電により光導電層表面を一400Vに帯電
させた後、波長780nmの単色光で照射し、表面電位
(V、。)がl/10に減衰するまでの時間を求め、こ
れから露光量E17.。(erg/cTfl)を算出す
る。
させた後、波長780nmの単色光で照射し、表面電位
(V、。)がl/10に減衰するまでの時間を求め、こ
れから露光量E17.。(erg/cTfl)を算出す
る。
注4)撮像性:
各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した。
次に一5KVで帯電し、光源として2.8mW出力のガ
リウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザー(発振波長
780nm)を用いて、感光材料表面上で、64erg
/caの照射量下、ピッチ25μm及びスキャニング
速度300m/secのスピードで露光後、液体現像剤
として、ELP−T(富士写真フィルム■製)を用いて
、現像し、定着することで得られた複写画像(カブリ、
画像の画質)を目視評価した。撮像時の環境条件は、2
0’C65%RHと30°C80%RHで実施した。
リウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザー(発振波長
780nm)を用いて、感光材料表面上で、64erg
/caの照射量下、ピッチ25μm及びスキャニング
速度300m/secのスピードで露光後、液体現像剤
として、ELP−T(富士写真フィルム■製)を用いて
、現像し、定着することで得られた複写画像(カブリ、
画像の画質)を目視評価した。撮像時の環境条件は、2
0’C65%RHと30°C80%RHで実施した。
注5) 水との接触角;
各感光材料を不感脂化処理液ELP−EX (富士写真
フィルム■製)を用いて、エツチングプロセッサーに1
回通して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留
水2μlの水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニ
オメータ−で測定する。
フィルム■製)を用いて、エツチングプロセッサーに1
回通して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留
水2μlの水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニ
オメータ−で測定する。
注6)耐剛性
各感光材料を、上記注4)と同条件で製版してI・ナー
画像を形成し、上記注5)と同条件で不感脂化処理し、
これをオフセットマスターとしてオフセット印刷機(桜
井製作所■製オリバー52型)にかけ印刷物の非画像部
の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで印刷でき
る枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐剛性が良好なこと
を表わす)。
画像を形成し、上記注5)と同条件で不感脂化処理し、
これをオフセットマスターとしてオフセット印刷機(桜
井製作所■製オリバー52型)にかけ印刷物の非画像部
の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで印刷でき
る枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐剛性が良好なこと
を表わす)。
表−9に示す様に従来公知の樹脂を用いた、比較例りの
みが、感光層の平滑度、静電特性が著しく悪かった。
みが、感光層の平滑度、静電特性が著しく悪かった。
比較例B及びCは、環境条件が高温高温(30°C18
0%RH)となった場合に、静電特性が変動して低下し
、特に90秒間のり、R,R,の悪化が著しくなった。
0%RH)となった場合に、静電特性が変動して低下し
、特に90秒間のり、R,R,の悪化が著しくなった。
これによりスキャニング露光による実際の撮像性も複写
画像の低下が見られた。
画像の低下が見られた。
比較例Aは、比較例B及びCの様な環境条件の変化によ
る静電特性、撮像性の変化は殆んど見られず、更に常温
常温時の静電特性を比較例Bと比べても優れていた。こ
の事は低出力の半導体レーザー光によるスキャニング露
光方式では、極めて有効なものである。
る静電特性、撮像性の変化は殆んど見られず、更に常温
常温時の静電特性を比較例Bと比べても優れていた。こ
の事は低出力の半導体レーザー光によるスキャニング露
光方式では、極めて有効なものである。
本発明の各感光材料は、比較例Aと同等の静電特性及び
撮像性を有し、更に感光層の膜強度が著しく向上した。
撮像性を有し、更に感光層の膜強度が著しく向上した。
これらをオフセットマスター原版として用いた場合でも
、不感脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、
非画像部の水との接触角が15度以下と小さく充分に親
水化されている。
、不感脂化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、
非画像部の水との接触角が15度以下と小さく充分に親
水化されている。
実際に印刷して印刷物の地汚れを観察しても、全く認め
られなかった。これに対し、比較例Aの場合は、光導電
層の強度試験、及び耐刷試験を行なうと、膜強度が充分
でなく、耐久性に問題を生じた。
られなかった。これに対し、比較例Aの場合は、光導電
層の強度試験、及び耐刷試験を行なうと、膜強度が充分
でなく、耐久性に問題を生じた。
以上から、本発明の感光材料のみが光導電層の平滑性、
膜強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好な
ものであった。
膜強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好な
ものであった。
実施例4〜14
実施例1において、樹脂〔A)−16g及び樹脂〔B〕
−134gの代わりに下記表−10の樹脂〔A)を各々
6g、樹脂(B)を各々34g用い、更にシアニン色素
[A] 0.018gの代わりに、下記構造のシアニン
色素CB ) 0.018gを用いた他は実施例1と同
様に操作して各感光材料を作製した。
−134gの代わりに下記表−10の樹脂〔A)を各々
6g、樹脂(B)を各々34g用い、更にシアニン色素
[A] 0.018gの代わりに、下記構造のシアニン
色素CB ) 0.018gを用いた他は実施例1と同
様に操作して各感光材料を作製した。
シアニン色素〔B〕
実施例1と同様にして、各特性を測定した。
各感光材料とも、膜強度85%以上であり、又、耐刷枚
数も8000枚以上であった。
数も8000枚以上であった。
表−10に過酷な条件である(30°C180%RH)
下での静電特性の結果を併せて記した。
下での静電特性の結果を併せて記した。
以上の如く、本発明の感光材料は、いずれも非常に良好
な結果を示した。
な結果を示した。
実施例15〜23
実施例1において、樹脂〔A)−16g及び樹脂(B)
−134’gの代わりに下記表−11の樹脂〔A)を
各々6g、樹脂(C)又は(D)を各々34g用いた他
は、実施例1と同様にして、各感光材料を作製した。
−134’gの代わりに下記表−11の樹脂〔A)を
各々6g、樹脂(C)又は(D)を各々34g用いた他
は、実施例1と同様にして、各感光材料を作製した。
実施例1と同様にして各特性を測定した。各感光材料の
平滑性及び膜強度は実施例1の試料とほぼ同等の特性を
示した。
平滑性及び膜強度は実施例1の試料とほぼ同等の特性を
示した。
実施例24
樹脂〔A)の製造例1で製造した樹脂〔A)1を5g(
固形分量として)、実施例1で用いた樹脂〔B〕−1を
35g(固形分量として)、酸化亜鉛200g、ローズ
ヘンガル0.05g及びトルエン300gの混合物をボ
ールミル中で2時間分散して感光層形成物を調製し、こ
れを導電処理した紙に、乾燥付着量が22g/rrfと
なる様に、ワイヤーバーで塗布し、110’Cで1分間
乾燥し、ついで暗所で20°C65%RHの条件下で2
4時間放置することにより、電子写真感光材料を作製し
た。
固形分量として)、実施例1で用いた樹脂〔B〕−1を
35g(固形分量として)、酸化亜鉛200g、ローズ
ヘンガル0.05g及びトルエン300gの混合物をボ
ールミル中で2時間分散して感光層形成物を調製し、こ
れを導電処理した紙に、乾燥付着量が22g/rrfと
なる様に、ワイヤーバーで塗布し、110’Cで1分間
乾燥し、ついで暗所で20°C65%RHの条件下で2
4時間放置することにより、電子写真感光材料を作製し
た。
実施例1と同様にして、各特性を測定した。その結果は
下記の通りである。
下記の通りである。
平滑性 105 (sec/ cc )膜強度
90(%) 静電特性(30°C280%RH) 注) VH−565V、 D、R,R,83%、El/10
3.5(lux、5ec)撮像性 良好 水との接触角 11度 耐刷性 10,000枚でも汚れない。
90(%) 静電特性(30°C280%RH) 注) VH−565V、 D、R,R,83%、El/10
3.5(lux、5ec)撮像性 良好 水との接触角 11度 耐刷性 10,000枚でも汚れない。
本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実陥の複写画像も高温高湿の(30°C
80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの発生
のない鮮明な画像を得た。
光感度に優れ、実陥の複写画像も高温高湿の(30°C
80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの発生
のない鮮明な画像を得た。
又オフセット印刷用原版として用いても、鮮明で地汚れ
のない印刷物が1万枚を超えても得ることができた。
のない印刷物が1万枚を超えても得ることができた。
注)静電特性のE、7.。の測定方法
コロナ放電により光導電層表面を一400νに帯電させ
た後、該光導電層表面を照度2.0ルツクスの可視光で
照射し、表面電位(V、。)が1710に減衰するまで
の時間を求め、これから露光量E17.。(ルックス・
秒)を算出する。
た後、該光導電層表面を照度2.0ルツクスの可視光で
照射し、表面電位(V、。)が1710に減衰するまで
の時間を求め、これから露光量E17.。(ルックス・
秒)を算出する。
実施例25〜30
実施例24において、樹脂〔A)−1,5g及び樹脂〔
B〕−L 35gの代わりに下記表−12の樹脂〔A)
を各6g及び樹脂〔B〕〜(D)を各34g用いた他は
、実施例24と同様に操作して、各感光材料を作製した
。
B〕−L 35gの代わりに下記表−12の樹脂〔A)
を各6g及び樹脂〔B〕〜(D)を各34g用いた他は
、実施例24と同様に操作して、各感光材料を作製した
。
実施例24と同様にして各特性を測定した本発明の各感
光材料はいずれも光導電層の強度、静電特性いずれも良
好であり、実際の複写画像も高温高温(30°C180
%R11)下でさえ、地力ブリのない鮮明画質であった
。
光材料はいずれも光導電層の強度、静電特性いずれも良
好であり、実際の複写画像も高温高温(30°C180
%R11)下でさえ、地力ブリのない鮮明画質であった
。
11 〇−
Claims (3)
- (1)無機光導電材料及び結着樹脂を少なくとも含有す
る光導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹
脂が下記樹脂〔A〕の少なくとも1種及び下記樹脂〔B
〕の少なくとも1種を含有することを特徴とする電子写
真感光体。 樹脂〔A〕 1×10^3〜2×10^4の重量平均分子量を有し、
下記一般式(IIa)及び(IIb)で示される重合体成分
のうちの少なくとも1種を含有する重合体主鎖の一方の
末端にのみ下記一般式( I )で示される重合性二重結
合基を結合して成る重量平均分子量2×10^4以下の
一官能性マクロモノマー(M)と下記一般式(III)で
示されるモノマーとから少なくとも成る共重合体であり
、且つ該共重合体主鎖の片末端にのみ−PO_3H_2
基、−SO_3H基、−COOH基、−OH基、−SH
基及び▲数式、化学式、表等があります▼(Rは炭化水
素基又は−OR’基(R’は炭化水素基を表わす)を表
わす)基の酸性基並びに環状酸無水物含有基から選ばれ
る少なくとも1つの置換基を結合して成る樹脂。 一般式( I )▲数式、化学式、表等があります▼ 式( I )中、Vは−COO−、−OCO−、−CH_
2OCO−、−CH_2COO−、−O−、−SO_2
−、−CO−、▲数式、化学式、表等があります▼、▲
数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式、
表等があります▼を表わす (R_1は水素原子又は炭化水素基を表わす)。 a_1、a_2は、互いに同じでも異なってもよく、各
々水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−
COO−Z又は炭化水素を介した−COO−Z(Zは水
素原子又は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表わ
す。 一般式(IIa)▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(IIb)▲数式、化学式、表等があります▼ 式(IIa)又は(IIb)中、X_0は式( I )中のV
と同一の内容を表わす。Q_0は、炭素数1〜18の脂
肪族基又は炭素数6〜12の芳香族基を表わす。 b_1、b_2は、互いに同じでも、異なってもよく、
式( I )中のa_1、a_2と同一の内容を表わす。 Qは−CN、−CONH_2又は▲数式、化学式、表等
があります▼を表わし、Yは水素原子、ハロゲン原子、
アルコキシ基又は−COOZ’(Z’はアルキル基、ア
ラルキル基又はアリール基を示す)を表わす。 一般式(III)▲数式、化学式、表等があります▼ 式(III)中、X_1は、式(IIa)中のX_0と同一
の内容を表わし、Q_1は式(IIa)中のQ_0と同一
の内容を表わす。c_1、c_2は互いに同じでも異な
ってもよく、式( I )中のa_1、a_2と同一の内
容を表わす。 樹脂〔B〕 5×10^4〜6×10^5の重量平均分子量及び12
0℃以下のガラス転移点を有する樹脂。 - (2)樹脂〔B〕が、重合体中の繰り返し単位としてO
H基及び塩基性基から選択される少なくとも1つの官能
基を含有する成分を0.5〜20重量%含有する樹脂で
ある請求項(1)記載の電子写真感光体。 - (3)樹脂〔B〕が、重合体中の繰り返し単位として樹
脂〔A]に含まれる置換基のpkaより大きいpkaを
有する酸性基及び環状酸無水物含有基のうちの少なくと
も1つの置換基を含有する成分を、樹脂〔A〕に含まれ
る置換基含有量の1〜80重量%の割合で含有する樹脂
である請求項(1)記載の電子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24753988A JP2597164B2 (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24753988A JP2597164B2 (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0296174A true JPH0296174A (ja) | 1990-04-06 |
JP2597164B2 JP2597164B2 (ja) | 1997-04-02 |
Family
ID=17165002
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24753988A Expired - Fee Related JP2597164B2 (ja) | 1988-10-03 | 1988-10-03 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2597164B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5077166A (en) * | 1989-06-28 | 1991-12-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic light-sensitive material |
US5116710A (en) * | 1989-09-14 | 1992-05-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic light-sensitive material |
US5124221A (en) * | 1989-09-06 | 1992-06-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic inorganic light-sensitive material with particular binder |
-
1988
- 1988-10-03 JP JP24753988A patent/JP2597164B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5077166A (en) * | 1989-06-28 | 1991-12-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic light-sensitive material |
US5124221A (en) * | 1989-09-06 | 1992-06-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic inorganic light-sensitive material with particular binder |
US5116710A (en) * | 1989-09-14 | 1992-05-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic light-sensitive material |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2597164B2 (ja) | 1997-04-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2597160B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH01564A (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2592314B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2572272B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH0296174A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH02127651A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH0619147A (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2584286B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2520711B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2584285B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2692009B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2568906B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2670884B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JP2597161B2 (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH02247656A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH0264547A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH0392863A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH0268563A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH03206464A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH02272559A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH01280761A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH0377954A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH0293540A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH02135455A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPH0268561A (ja) | 電子写真感光体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |