JPH03206464A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性及び
耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。
耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。
特にCPC感光体として性能の優れたものに関する。
電子写真感光体は、所定の特性を得るため、あるいは適
用される電子写真プロセスの11類に応して、種々の構
戒をとる。
用される電子写真プロセスの11類に応して、種々の構
戒をとる。
電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光導
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。
支持体と少なくとも1つの光導電層から構威される感光
体は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯電
、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画像
形或に用いられる。
体は、最も一般的な電子写真プロセスによる、即ち帯電
、画像露光及び現像、更に必要に応じて転写による画像
形或に用いられる。
更には、ダイレクト製版用のオフセット原版として電子
写真感光体を用いる方法が広く実用されている.特に近
年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数千枚程度の
印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要と
なってきている.電子写真感光体の光導電層を形威する
ために使用する結着樹脂は、それ自体の或膜性および光
導電性粉体の結着樹脂への分散能力が優れるとともに、
形威された記録体層の基材に対する接着性が良好であり
、しかも記録体層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰
が小さく、光減衰が大きく、前露光疲労が少なく、且つ
、撮影時の湿度の変化によってこれら特性を安定に保持
していることが必要である等の各種の静電特性および優
れた撮像性を具備する必要がある。
写真感光体を用いる方法が広く実用されている.特に近
年、ダイレクト電子写真平版は数百枚から数千枚程度の
印刷枚数で高画質の印刷物を印刷する方式として重要と
なってきている.電子写真感光体の光導電層を形威する
ために使用する結着樹脂は、それ自体の或膜性および光
導電性粉体の結着樹脂への分散能力が優れるとともに、
形威された記録体層の基材に対する接着性が良好であり
、しかも記録体層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰
が小さく、光減衰が大きく、前露光疲労が少なく、且つ
、撮影時の湿度の変化によってこれら特性を安定に保持
していることが必要である等の各種の静電特性および優
れた撮像性を具備する必要がある。
更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究が
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂が必要である。
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂が必要である。
しかしながら従来公知の結着樹脂には、特に弔電性、暗
電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導電層の平滑性
等に多くの問題があった。
電荷保持性、光感度の如き静電特性、光導電層の平滑性
等に多くの問題があった。
これらの問題を解決するために、結着樹脂として、酸性
基を重合体の側鎖にランダムに含有する重量平均分子量
103〜l04の樹脂を用いる技術及び酸性基を重合体
主鎖の末端に含有する重量平均分子量103〜5X10
’の樹脂を用いる技術が特開昭63−217354号及
び特開昭64−70761号にそれぞれ開示されており
、これにより光導電層の平滑性及び静電特性が良好とな
り、しかも地汚れのない画質が得られることが記載され
ている. また、結着樹脂として、酸性基を共重合体の側鎖に含有
し、又は重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び/又は
光硬化性官能基を含有する重合戒分を含有する樹脂を用
いる技術が特開平1−100554号、特願昭63−3
9690号に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し又は重
合体主鎖の末端に結合する樹脂を架橋剤と併用する技術
が特開平1−102573号、特願昭63−39691
号にそれぞれ開示され、更に該低分子量体(重量平均分
子量103〜l04)を高分子量(重量平均分子量10
4以上)の樹脂と組合セて用いる技術が特開昭64−5
64号、同63−220149号、同63−22014
0号、特願昭62−273547号、特開平11166
43号及び特開平1−169455号に、かかる低分子
量体を熱及び/又は光硬化性樹脂と組合せて用いる技術
が特開平1〜211766号及び特願昭63−2656
1号にそれぞれ開示されている.これらの技術により、
側鎖又は末端に酸性基を含有する樹脂を用いたことによ
る上記特性を阻害せずにさらに光導電層の膜強度を充分
ならしめ、機械的強度が増大されることが記載されてい
る。
基を重合体の側鎖にランダムに含有する重量平均分子量
103〜l04の樹脂を用いる技術及び酸性基を重合体
主鎖の末端に含有する重量平均分子量103〜5X10
’の樹脂を用いる技術が特開昭63−217354号及
び特開昭64−70761号にそれぞれ開示されており
、これにより光導電層の平滑性及び静電特性が良好とな
り、しかも地汚れのない画質が得られることが記載され
ている. また、結着樹脂として、酸性基を共重合体の側鎖に含有
し、又は重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び/又は
光硬化性官能基を含有する重合戒分を含有する樹脂を用
いる技術が特開平1−100554号、特願昭63−3
9690号に、酸性基を共重合体の側鎖に含有し又は重
合体主鎖の末端に結合する樹脂を架橋剤と併用する技術
が特開平1−102573号、特願昭63−39691
号にそれぞれ開示され、更に該低分子量体(重量平均分
子量103〜l04)を高分子量(重量平均分子量10
4以上)の樹脂と組合セて用いる技術が特開昭64−5
64号、同63−220149号、同63−22014
0号、特願昭62−273547号、特開平11166
43号及び特開平1−169455号に、かかる低分子
量体を熱及び/又は光硬化性樹脂と組合せて用いる技術
が特開平1〜211766号及び特願昭63−2656
1号にそれぞれ開示されている.これらの技術により、
側鎖又は末端に酸性基を含有する樹脂を用いたことによ
る上記特性を阻害せずにさらに光導電層の膜強度を充分
ならしめ、機械的強度が増大されることが記載されてい
る。
(発明が解決しようとする課題)
通常、電子写真感光体の静電特性を評価するものとして
、表面電位が1/2又は1/10に減衰するまでの時間
に対応する露光量からそれぞれ求められるE/t及びE
171。の値があり、この両者の値は実際の撮像性にお
いて原画の再現性に対応するものとして重要である。即
ち、このE+ztとEl/。の値が小さく、かつ差が小
さい程、ボケのない鮮明な複写画像を再現できる。さら
に、E171。の値が小さい程これを満足するのが一般
的である。
、表面電位が1/2又は1/10に減衰するまでの時間
に対応する露光量からそれぞれ求められるE/t及びE
171。の値があり、この両者の値は実際の撮像性にお
いて原画の再現性に対応するものとして重要である。即
ち、このE+ztとEl/。の値が小さく、かつ差が小
さい程、ボケのない鮮明な複写画像を再現できる。さら
に、E171。の値が小さい程これを満足するのが一般
的である。
これに加えて、撮像時に問題となるのは、露光後の露光
部(即ち非画像部)の電位の残留の程度であり、この残
留電位が大きいと撮像時に複写画倣の非画像部の地力ブ
リとなって現われる。
部(即ち非画像部)の電位の残留の程度であり、この残
留電位が大きいと撮像時に複写画倣の非画像部の地力ブ
リとなって現われる。
これに対応する静電特性としてEl/IIIの値が重要
であり、これが小さい程、優良な撮像性を示すことにな
る. 特に近年の半導体レーザー光スキャニング露光方式では
、該レーザー光の出力に制約があることから、従来の帯
電性(V+o) 、暗減衰保持率([1.R.R. )
、E +z+eの評価に加えて、E,7.。。の値が
重要なこととなってきた。
であり、これが小さい程、優良な撮像性を示すことにな
る. 特に近年の半導体レーザー光スキャニング露光方式では
、該レーザー光の出力に制約があることから、従来の帯
電性(V+o) 、暗減衰保持率([1.R.R. )
、E +z+eの評価に加えて、E,7.。。の値が
重要なこととなってきた。
しかしながら、上記の公知技術のように、低分子量の酸
性基含有樹脂に高分子量の樹脂あるいは熱及び/又は光
硬化性樹脂等を組合せて用いた場合には、上記のv1。
性基含有樹脂に高分子量の樹脂あるいは熱及び/又は光
硬化性樹脂等を組合せて用いた場合には、上記のv1。
、D.}l.R.及びE,71。につぃては実際上満足
できるレベルに到達できるが、環境が変動したり、低出
力のレーザー光を使用したりする場合に、得られるEl
/Il1。の値が十分に満足できる領域になく、複写画
像の地力ブリの発生を引き起こすという問題のあること
が判明した.本発明は、以上の様な従来の電子写真感光
体の有する課題を改良するものである。
できるレベルに到達できるが、環境が変動したり、低出
力のレーザー光を使用したりする場合に、得られるEl
/Il1。の値が十分に満足できる領域になく、複写画
像の地力ブリの発生を引き起こすという問題のあること
が判明した.本発明は、以上の様な従来の電子写真感光
体の有する課題を改良するものである。
本発明の目的は、複写画像形成時の環境が低温低湿ある
いは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真
感光体を提供することである. 本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存性の
小さいCPC電子写真感光体を提供することである. 本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用いたスキャ
ニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供すること
である。
いは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真
感光体を提供することである. 本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存性の
小さいCPC電子写真感光体を提供することである. 本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用いたスキャ
ニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供すること
である。
本発明の他の目的は、電子写真式平版印刷原版として、
印刷物に地汚れの発生が見られず、且つ貼り込み跡が生
じない平版印刷原版を提供することである。
印刷物に地汚れの発生が見られず、且つ貼り込み跡が生
じない平版印刷原版を提供することである。
(課題を解決するための手段)
上記目的は、無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含
有する光導電層を有する電子写真感光体において、該結
着樹脂が、下記で表わされる結着樹脂〔A〕の少なくと
も1種及び結着樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有する
事を特徴とする電子写真感光体にまり達威されることが
見出された。
有する光導電層を有する電子写真感光体において、該結
着樹脂が、下記で表わされる結着樹脂〔A〕の少なくと
も1種及び結着樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有する
事を特徴とする電子写真感光体にまり達威されることが
見出された。
結着樹脂〔A〕 :
txto3〜2×104の重量平均分子量を有し、下記
一般式(1)で示される共重合成分を30重量%以上並
びに一POsHt基、−SO.H基、−COOH基、0 11 0H基、−P−R基{Rは炭化水素基又は−OR’基(
R’0H は炭化水素基を示す)を示す}及び環状酸無水物含有基
から選択される少なくとも1種の酸性基を含有する共重
合戒分を0.5〜20重量%含有する樹脂. 一般式(1) a− a怠 +CIl − C}− COO−Rl 〔式(1)中、a,、a,は各々、水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす.R+は炭化水
素基を表わす.〕 結着樹脂〔B〕 : P0311t基、−COOH基、−S0311基、フェ
ノール性■ R (R’は炭化水素基)を示す}及び環状酸無水物含有基
から選択される少なくとも1つの酸性基を含有する重合
体戒分を少なくとも1種含有するAブロックと、下記一
般式(n)で示される重合体成分を少なくとも含有する
Bブロックとから構戒されるA−Bブロック共重合体の
Bブロックの重合体主鎖の末端に重合性二重結合基を結
合して成る重量平均分子量1×103〜2XLO’の一
官能性マクロモノマー(M)を少なくとも1種共重合或
分として含有して威る重量平均分子1i3XlO’〜1
×103のグラフト型共重合体。
一般式(1)で示される共重合成分を30重量%以上並
びに一POsHt基、−SO.H基、−COOH基、0 11 0H基、−P−R基{Rは炭化水素基又は−OR’基(
R’0H は炭化水素基を示す)を示す}及び環状酸無水物含有基
から選択される少なくとも1種の酸性基を含有する共重
合戒分を0.5〜20重量%含有する樹脂. 一般式(1) a− a怠 +CIl − C}− COO−Rl 〔式(1)中、a,、a,は各々、水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす.R+は炭化水
素基を表わす.〕 結着樹脂〔B〕 : P0311t基、−COOH基、−S0311基、フェ
ノール性■ R (R’は炭化水素基)を示す}及び環状酸無水物含有基
から選択される少なくとも1つの酸性基を含有する重合
体戒分を少なくとも1種含有するAブロックと、下記一
般式(n)で示される重合体成分を少なくとも含有する
Bブロックとから構戒されるA−Bブロック共重合体の
Bブロックの重合体主鎖の末端に重合性二重結合基を結
合して成る重量平均分子量1×103〜2XLO’の一
官能性マクロモノマー(M)を少なくとも1種共重合或
分として含有して威る重量平均分子1i3XlO’〜1
×103のグラフト型共重合体。
一般式(n)
b, b.
−{−CH − C}−
X+ R!t
〔式(I[)中、b1及びbtは各々水素原子、ハロゲ
ン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす.X一よC0
〇一 (l1 −SO. ?co− 、+CH山〒oco−、牙CHt>■coo
l2は1〜3の整数を表わす> 、−0−Rtt
!?t* CO−、−CON−−So■N−、−CONIICOO
−水素原子又は炭化水素基を表わす). ?表わす場合、R■は水素原子又は炭化水素基を表わす
.〕 即ち、本発明に供される結着樹脂は、特定の繰り返し単
位の重合体戒分と酸性基(以下本明細書中では特にこと
わらない限り酸性基の語の中に環状無水物含有基も含む
ものとする)含有の共重合戒分とを含有する低分子量の
樹脂〔A〕と、上記特定の酸性基含有成分を含有するA
ブロックと上記の式(II)で示される重合体戒分を含
有するBブロックとのAB型共重合体のBブロックの重
合体主鎖末端に重合性二重結合基を結合して威る一官能
性マクロモノマー(M)を共重合戒分として少なくとも
l種含有するグラフト型共重合体から戒る高分子量の樹
脂〔B〕とから少なくとも構威される。
ン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす.X一よC0
〇一 (l1 −SO. ?co− 、+CH山〒oco−、牙CHt>■coo
l2は1〜3の整数を表わす> 、−0−Rtt
!?t* CO−、−CON−−So■N−、−CONIICOO
−水素原子又は炭化水素基を表わす). ?表わす場合、R■は水素原子又は炭化水素基を表わす
.〕 即ち、本発明に供される結着樹脂は、特定の繰り返し単
位の重合体戒分と酸性基(以下本明細書中では特にこと
わらない限り酸性基の語の中に環状無水物含有基も含む
ものとする)含有の共重合戒分とを含有する低分子量の
樹脂〔A〕と、上記特定の酸性基含有成分を含有するA
ブロックと上記の式(II)で示される重合体戒分を含
有するBブロックとのAB型共重合体のBブロックの重
合体主鎖末端に重合性二重結合基を結合して威る一官能
性マクロモノマー(M)を共重合戒分として少なくとも
l種含有するグラフト型共重合体から戒る高分子量の樹
脂〔B〕とから少なくとも構威される。
更には、低分子量の樹脂〔A〕としては、下記一般式(
I a)及び一般式(I b)で示される、2位に、及
び/又は2位と6位に特定の置換基を有するベンゼン環
又は無置換のナフタレン環を含有する、特定の置換基を
もつメタクリレート成分と酸性基或分とを含有する樹脂
〔A〕 (以降この低分子量体をとくに樹脂(A″)と
称する)であることが好ましい。
I a)及び一般式(I b)で示される、2位に、及
び/又は2位と6位に特定の置換基を有するベンゼン環
又は無置換のナフタレン環を含有する、特定の置換基を
もつメタクリレート成分と酸性基或分とを含有する樹脂
〔A〕 (以降この低分子量体をとくに樹脂(A″)と
称する)であることが好ましい。
一般式(Ia)
CH.
CH3
〔式(Ia)および(I b)中、A1及びAtは互い
に独立に各々水素原子、炭素数1〜IOの炭化水素基、
塩素原子、臭素原子、−COD+又は一GOODt (
D+及びD2は各々炭素数1〜10の炭化水素基を示す
)を表わす.但し、A1と^2が共に水素原子を表わす
ことはない。
に独立に各々水素原子、炭素数1〜IOの炭化水素基、
塩素原子、臭素原子、−COD+又は一GOODt (
D+及びD2は各々炭素数1〜10の炭化水素基を示す
)を表わす.但し、A1と^2が共に水素原子を表わす
ことはない。
B1及びB2は各々−000−とベンゼン環を結合する
、単結合又は連結原子数l〜4個の連結基を表わす.〕 更に、高分子量の樹脂〔B〕としては、上記のマクロモ
ノマー(M)のうちの少なくとも1種を含み、且つ下記
一般式(III)で表わされる重合体或分を含有して戒
るグラフト型共重合体であることが好ましい. 一般式(Ill) Xt Rgz ?式(III)中、b3、b4、κ8及びR0は式(I
I)のb,、bffi,xl及びR■とそれぞれ同様の
内容を表わす。〕 本発明では、特定の共重合成分を含有する低分子量の酸
性基含有樹脂〔A〕は、樹脂中に含有される酸性基が無
機光導電体の化学N論的な欠陥に吸着し、且つ低分子量
であることから、光導電体の表面の被覆性を向上させる
ことで光導電体のトラップを補償すると共に湿度特性を
飛躍的に向上させる一方、光導電体の分散が充分に行な
われ、凝集を抑制する。そして樹脂〔B〕は、樹脂〔A
〕を用いたことによる電子写真特性の高性能を全く阻害
せずに、樹脂〔A〕のみでは不充分な光導電層の機械的
強度を充分ならしめるとともに前記の如き環境が変動し
たり、低出力のレーザー光を用いたりした場合でも十分
に良好な撮像性を得ることができることが判った。
、単結合又は連結原子数l〜4個の連結基を表わす.〕 更に、高分子量の樹脂〔B〕としては、上記のマクロモ
ノマー(M)のうちの少なくとも1種を含み、且つ下記
一般式(III)で表わされる重合体或分を含有して戒
るグラフト型共重合体であることが好ましい. 一般式(Ill) Xt Rgz ?式(III)中、b3、b4、κ8及びR0は式(I
I)のb,、bffi,xl及びR■とそれぞれ同様の
内容を表わす。〕 本発明では、特定の共重合成分を含有する低分子量の酸
性基含有樹脂〔A〕は、樹脂中に含有される酸性基が無
機光導電体の化学N論的な欠陥に吸着し、且つ低分子量
であることから、光導電体の表面の被覆性を向上させる
ことで光導電体のトラップを補償すると共に湿度特性を
飛躍的に向上させる一方、光導電体の分散が充分に行な
われ、凝集を抑制する。そして樹脂〔B〕は、樹脂〔A
〕を用いたことによる電子写真特性の高性能を全く阻害
せずに、樹脂〔A〕のみでは不充分な光導電層の機械的
強度を充分ならしめるとともに前記の如き環境が変動し
たり、低出力のレーザー光を用いたりした場合でも十分
に良好な撮像性を得ることができることが判った。
本発明によれば、無機光導電体の結着樹脂として、樹脂
〔A〕と樹脂〔B〕を各々樹脂の重量平均分子量並びに
樹脂中の酸性基の含有量及び結合位置を特定化すること
で、無機光導電体と樹脂との相互作用の強さを適度に変
えることができたことによると推定される.即ち、相互
作用のより強い柑脂〔A〕が選択的に無機光導電体に適
切に吸着し、一方で樹脂〔A〕に比べて相互作用の弱い
樹脂〔B〕においては、樹脂中の重合体の主鎖に対して
特定の位置に結合した酸性基が電子写真特性を疎外しな
い程度に無機光導電体とゆるやかに相互作用し、且つ樹
脂〔B〕間においては長い分子鎖長及びグラフト部鎖長
の分子鎖同志が相互作用をすることで、上記した如く電
子写真特性及び膜の機械的強度をともに著しく向上させ
ることができたと推定される. また、樹脂〔A′〕を用いると樹脂〔A〕の場合よりも
、より一層電子写真特性(特にV+o, D.R.R
, El/Il1)の向上が達戒できる。
〔A〕と樹脂〔B〕を各々樹脂の重量平均分子量並びに
樹脂中の酸性基の含有量及び結合位置を特定化すること
で、無機光導電体と樹脂との相互作用の強さを適度に変
えることができたことによると推定される.即ち、相互
作用のより強い柑脂〔A〕が選択的に無機光導電体に適
切に吸着し、一方で樹脂〔A〕に比べて相互作用の弱い
樹脂〔B〕においては、樹脂中の重合体の主鎖に対して
特定の位置に結合した酸性基が電子写真特性を疎外しな
い程度に無機光導電体とゆるやかに相互作用し、且つ樹
脂〔B〕間においては長い分子鎖長及びグラフト部鎖長
の分子鎖同志が相互作用をすることで、上記した如く電
子写真特性及び膜の機械的強度をともに著しく向上させ
ることができたと推定される. また、樹脂〔A′〕を用いると樹脂〔A〕の場合よりも
、より一層電子写真特性(特にV+o, D.R.R
, El/Il1)の向上が達戒できる。
この事の理由は不明であるが、1つの理由として、メタ
クリレートのエステル成分である、オルト位に置換基を
有する平面性のベンゼン環、又はナフタレン環の効果に
より、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらボリマー分子鎖の
配列が適切に行なわれることによるものと考えられる. また、本発明では、光導電体表面の平滑性が滑らかとな
る。電子写真式平版印刷原版として光導電層表面の平滑
性の粗い感光体を用いると、光導電体である無機粒子と
結着樹脂の分散状態が適切でなく、凝集物が存在する状
態で光導電層が形成されるため、不感脂化処理液による
不感脂化処理をしても非画像部の親水化が均一に充分に
行なわれず、印刷時に印刷インキの付着を引き起こし、
結果として印刷物の非画像部の地汚れを生じてしまう. 本発明の樹脂を用いた場合に無機光導電体と結着樹脂の
吸着・被覆の相互作用が適切に行なわれ、且つ光導電層
の膜強度が保持されるものである。
クリレートのエステル成分である、オルト位に置換基を
有する平面性のベンゼン環、又はナフタレン環の効果に
より、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらボリマー分子鎖の
配列が適切に行なわれることによるものと考えられる. また、本発明では、光導電体表面の平滑性が滑らかとな
る。電子写真式平版印刷原版として光導電層表面の平滑
性の粗い感光体を用いると、光導電体である無機粒子と
結着樹脂の分散状態が適切でなく、凝集物が存在する状
態で光導電層が形成されるため、不感脂化処理液による
不感脂化処理をしても非画像部の親水化が均一に充分に
行なわれず、印刷時に印刷インキの付着を引き起こし、
結果として印刷物の非画像部の地汚れを生じてしまう. 本発明の樹脂を用いた場合に無機光導電体と結着樹脂の
吸着・被覆の相互作用が適切に行なわれ、且つ光導電層
の膜強度が保持されるものである。
樹脂(A〕において、重量平均分子量は1×103〜2
×104、好ましくは3X10”〜IX10’、式(1
)の繰り返し単位に相当する共重合或分の存在割合は3
0重量%以上、好ましくは50〜97重量%、酸性基を
含有する共重合成分の存在割合は0.5〜20重量%、
好ましくは1〜IO重量%である。
×104、好ましくは3X10”〜IX10’、式(1
)の繰り返し単位に相当する共重合或分の存在割合は3
0重量%以上、好ましくは50〜97重量%、酸性基を
含有する共重合成分の存在割合は0.5〜20重量%、
好ましくは1〜IO重量%である。
樹脂〔A′]における、式(Ia)及び/又は(I b
)の繰り返し単位に相当するメタクリレートの共重合或
分の存在割合は、30fE量%以上、好ましくは50〜
97重量%、酸性基を含有する共重合成分の存在割合は
0.5〜20重量%、好ましくは1〜10重量%である
. 樹脂〔A〕のガラス転移点は好ましくは−20゜C〜1
10゜C、より好ましくは−10゜C〜90゜Cである
.樹脂〔B〕において重量平均分子量3X10’〜1×
10″、好ましくは5X10’〜5X10’である.A
−B型ブロック共重合体戒分からなる一官能性マクロモ
ノマーの重合体中における存在割合は、好ましくは、1
〜40重置%で、より好ましくは5〜50重量%である
.更に、一般式(III)で示される重合体戒分の存在
割合は、好ましくは60〜99重量%で、より好ましく
は50〜95重量%である.樹脂〔B〕のガラス転移点
は、好ましくはO″C〜110゜C1より好ましくは、
20゜C〜90゜Cである.結着樹脂〔A〕の分子量が
txio3より小さくなると、皮膜形威能が低下し充分
な膜強度が保てず、一方分子量が2×104より大きく
なると本発明の樹脂であっても近赤外〜赤外光分光増感
色素を用いた感光体において高温・高温、低温・低湿の
過酷な条件下での電子写真特性(暗減衰保持率及び光感
度El/l。)の変動が多少大きくなり、安定した複写
画像が得られるという本発明の効果が薄れてしまう。
)の繰り返し単位に相当するメタクリレートの共重合或
分の存在割合は、30fE量%以上、好ましくは50〜
97重量%、酸性基を含有する共重合成分の存在割合は
0.5〜20重量%、好ましくは1〜10重量%である
. 樹脂〔A〕のガラス転移点は好ましくは−20゜C〜1
10゜C、より好ましくは−10゜C〜90゜Cである
.樹脂〔B〕において重量平均分子量3X10’〜1×
10″、好ましくは5X10’〜5X10’である.A
−B型ブロック共重合体戒分からなる一官能性マクロモ
ノマーの重合体中における存在割合は、好ましくは、1
〜40重置%で、より好ましくは5〜50重量%である
.更に、一般式(III)で示される重合体戒分の存在
割合は、好ましくは60〜99重量%で、より好ましく
は50〜95重量%である.樹脂〔B〕のガラス転移点
は、好ましくはO″C〜110゜C1より好ましくは、
20゜C〜90゜Cである.結着樹脂〔A〕の分子量が
txio3より小さくなると、皮膜形威能が低下し充分
な膜強度が保てず、一方分子量が2×104より大きく
なると本発明の樹脂であっても近赤外〜赤外光分光増感
色素を用いた感光体において高温・高温、低温・低湿の
過酷な条件下での電子写真特性(暗減衰保持率及び光感
度El/l。)の変動が多少大きくなり、安定した複写
画像が得られるという本発明の効果が薄れてしまう。
結着樹脂〔A〕における酸性基含有量が0.5重量%よ
り少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得るこ
とができない.一方該酸性基含有量が20重量%よりも
多いと、いかに低分子量体といえども分散性が低下し、
膜平滑度及び電子写真特性の高温特性が低下し、更にオ
フセントマスターとして用いるときに地汚れが増大する
。
り少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得るこ
とができない.一方該酸性基含有量が20重量%よりも
多いと、いかに低分子量体といえども分散性が低下し、
膜平滑度及び電子写真特性の高温特性が低下し、更にオ
フセントマスターとして用いるときに地汚れが増大する
。
又、結着樹脂〔B〕の分子量が3X10’より小さくな
ると、膜強度が充分に保てず、一方分子量がIXIO”
より大きくなると、分散性が低下し膜平滑度が劣下し、
複写画像の画質(特に、細線・文字の再現性が悪くなる
)が悪化し、更にオフセットマスターとして用いる時に
地汚れが著しくなってしまう。
ると、膜強度が充分に保てず、一方分子量がIXIO”
より大きくなると、分散性が低下し膜平滑度が劣下し、
複写画像の画質(特に、細線・文字の再現性が悪くなる
)が悪化し、更にオフセットマスターとして用いる時に
地汚れが著しくなってしまう。
又結着樹脂〔B〕におけるマクロモノマー含有量が1重
量%より少ないと電子写真特性(特に暗減衰率、光感度
)が低下し、又環境条件での電子写真特性の変動が特に
近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合わせにおいて、
大きくなる.これはグラフト部となるマクロモノマーが
微かとなることで結果として従来のホモボリマーあるい
はランダム共重合体と殆んど同しm或になってしまうこ
とによると考えられる。
量%より少ないと電子写真特性(特に暗減衰率、光感度
)が低下し、又環境条件での電子写真特性の変動が特に
近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合わせにおいて、
大きくなる.これはグラフト部となるマクロモノマーが
微かとなることで結果として従来のホモボリマーあるい
はランダム共重合体と殆んど同しm或になってしまうこ
とによると考えられる。
−4マクロモノマーの含有量が40重量%を越えると、
他の共重合戊分に相当する単量体と本発明に従うマクロ
モノマーとの共重合性が充分でなくなり、結着樹脂とし
て用いても充分な電子写真特性が得られなくなってしま
う。
他の共重合戊分に相当する単量体と本発明に従うマクロ
モノマーとの共重合性が充分でなくなり、結着樹脂とし
て用いても充分な電子写真特性が得られなくなってしま
う。
次に本発明に供される結着樹脂〔A〕及び結着樹脂〔B
〕の詳細について説明する. 本発明の樹脂〔A〕は、式(1)で示される繰り返し単
位及び酸性基を含有する繰り返し単位をランダムに共重
合或分として含有する.各繰り返し単位は、樹脂〔A〕
中にそれぞれ2種以上含有されていてもよい. 一般式(1)において、a,、むは、水素原子、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子)、シアノ基又は炭
化水素基、好ましくは炭素数l〜4のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基等) 、
−coo−p.又は炭化水素を介したCOORz(Rt
は、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基、アルケ
ニル基、アラルキル基、脂環式基またはアリール基を表
わし、これらはW換されていてもよく、具体的には下記
R1で説明するものと同様の内容を表わす。)を表わす
。R1は、好ましくは炭素数1〜l8の置換されていて
もよいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロビ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基
、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シ
アノエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシ
エチル基、2−エトキシエチル基、3−ヒドロキシプロ
ビル基等)、炭素数2〜18の置換されていてもよいア
ルヶニル基(例えばビニル基、アリル基、イソブロペニ
ル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オク
テニル基等)、炭素数7〜12の置換されていてもよい
アラルキル基(例えばベンジル基、フエネチル基、ナフ
チルメチル基、2−ナフチルエチル基、メトキシベンジ
ル基、エトキシベンジル基、メチルベンジル基等)、炭
素数5〜8の置換されていてもよいシクロアルキル基(
例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへ
ブチル基等)、置換されていてもよいアリール基(例え
ばフェニル基、トリル基、キシル基、メシチル基、ナフ
チル基、メトキシフエニル基、エトキシフェニル基、フ
ロロフェニル基、ジフロロフェニル基、プロモフエニル
基、クロロフエニル基、ジクロロフェニル基、ヨードフ
ェニル基、メトキシカルボニルフエニル基、エトキシカ
ルボニルフェニル基、シアノフェニル基、ニトロフエニ
ル基等)等が挙げられる. 更に、好ましくは一般式(
1)の繰り返し単位に相当する共重合体成分は、−a式
([ a)及び/又は(I b)で示される特定のアリ
ール基を含有するメタクリレート成分で表わされる(樹 脂(A’))。
〕の詳細について説明する. 本発明の樹脂〔A〕は、式(1)で示される繰り返し単
位及び酸性基を含有する繰り返し単位をランダムに共重
合或分として含有する.各繰り返し単位は、樹脂〔A〕
中にそれぞれ2種以上含有されていてもよい. 一般式(1)において、a,、むは、水素原子、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子)、シアノ基又は炭
化水素基、好ましくは炭素数l〜4のアルキル基(例え
ばメチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基等) 、
−coo−p.又は炭化水素を介したCOORz(Rt
は、水素原子又は炭素数1〜18のアルキル基、アルケ
ニル基、アラルキル基、脂環式基またはアリール基を表
わし、これらはW換されていてもよく、具体的には下記
R1で説明するものと同様の内容を表わす。)を表わす
。R1は、好ましくは炭素数1〜l8の置換されていて
もよいアルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロビ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基
、デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シ
アノエチル基、2−ヒドロキシエチル基、2−メトキシ
エチル基、2−エトキシエチル基、3−ヒドロキシプロ
ビル基等)、炭素数2〜18の置換されていてもよいア
ルヶニル基(例えばビニル基、アリル基、イソブロペニ
ル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オク
テニル基等)、炭素数7〜12の置換されていてもよい
アラルキル基(例えばベンジル基、フエネチル基、ナフ
チルメチル基、2−ナフチルエチル基、メトキシベンジ
ル基、エトキシベンジル基、メチルベンジル基等)、炭
素数5〜8の置換されていてもよいシクロアルキル基(
例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロへ
ブチル基等)、置換されていてもよいアリール基(例え
ばフェニル基、トリル基、キシル基、メシチル基、ナフ
チル基、メトキシフエニル基、エトキシフェニル基、フ
ロロフェニル基、ジフロロフェニル基、プロモフエニル
基、クロロフエニル基、ジクロロフェニル基、ヨードフ
ェニル基、メトキシカルボニルフエニル基、エトキシカ
ルボニルフェニル基、シアノフェニル基、ニトロフエニ
ル基等)等が挙げられる. 更に、好ましくは一般式(
1)の繰り返し単位に相当する共重合体成分は、−a式
([ a)及び/又は(I b)で示される特定のアリ
ール基を含有するメタクリレート成分で表わされる(樹 脂(A’))。
一般式(I a)
CHI
一般式(I b)
CH3
式(Ia)において、好ましいA1及びA2として、そ
れぞれ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに、好
ましい炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル基(
例えばメチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基等)
、炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基、フ
エネチル基、3−フエニルプロビル基、クロロベンジル
基、ジクロロベンジル基、プロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、メトキシベンジル基、クロローメチルーベン
ジル基等)及びアリール基(例えばフェニル基、トリル
基、キシリル基、プロモフェニル基、メトキシフェニル
基、クロロフェニル基、ジクロロフエニル基等)、並び
に−COD .及び−GOODt (好ましいD1及
びD2としては上記好ましい炭化水素基として記載した
ものを挙げることができる)を挙げることができる.但
し、八,、A.がともに水素原子を表わすことはない。
れぞれ、水素原子、塩素原子及び臭素原子のほかに、好
ましい炭化水素基として、炭素数1〜4のアルキル基(
例えばメチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基等)
、炭素数7〜9のアラルキル基(例えばベンジル基、フ
エネチル基、3−フエニルプロビル基、クロロベンジル
基、ジクロロベンジル基、プロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、メトキシベンジル基、クロローメチルーベン
ジル基等)及びアリール基(例えばフェニル基、トリル
基、キシリル基、プロモフェニル基、メトキシフェニル
基、クロロフェニル基、ジクロロフエニル基等)、並び
に−COD .及び−GOODt (好ましいD1及
びD2としては上記好ましい炭化水素基として記載した
ものを挙げることができる)を挙げることができる.但
し、八,、A.がともに水素原子を表わすことはない。
式(Ia)において、B1は−COO一とベンゼン環を
結合する単結合又は−{CJh直一(n+は1〜3の整
数を表わす) 、−co.oco−、一CHtCIIx
OCO→CllxO珍「(nxは1または2の整数を表
わす)、CIbCIltO− 、等の如き連結原子数1
〜4個の連結基を表わす。
結合する単結合又は−{CJh直一(n+は1〜3の整
数を表わす) 、−co.oco−、一CHtCIIx
OCO→CllxO珍「(nxは1または2の整数を表
わす)、CIbCIltO− 、等の如き連結原子数1
〜4個の連結基を表わす。
式(Ib)におけるB2はB1と同一の内容を表わす.
本発明の樹脂〔A′〕で用いられる式(Ia)または(
I b)で示される繰り返し単位に相当する共重合成分
の具体例を以下に挙げる.しかし、本発明の範囲はこれ
らに限定されるものではない.また、以下の各例におい
て、T1及びTtは各々CI,を示し、 aは1〜4の整数を示し、 bは0又はl 〜3の整数を示し、 Cは1〜3の整数を示す. ■) CH. l 2) CH, 3) CI1. 4) 5) 1 6) 7) CH, CH, C}lユ CH. i−8) Cll3 l 9) CH, i −10) Cll. i −11) Clh i −12) CI. 1 13) CH, i −14) CH. i −15) CH, {C}I, −C}− 1 16) C11, →CHz C}− i −17) CI3 18) CI3 19) CH, 1 20) CI+, また、本発明の樹脂〔A〕における酸性基を含有する共
重合戒分において、好ましい酸性基とし0 R 環状酸無水物含有基を挙げることができる.0 1 R (R’は炭化水素基を表わす)を表わし、R及びR′は
好ましくは炭素数l〜22の脂肪族基(例えば、メチル
基、エチル基、プロビル基、ブチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、2
−クロロエチル基、2−メトキシエチル基、3−エトキ
シプロビル基、アリル基、クロトニル基、プテニル基、
シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、3−フ
エニルプロピルl、メチルヘンジル基、クロロベンジル
基、フロロベンジル基、メトキシベンジル基等)、又は
置換されてもよいアリール基(例えば、フェニル基、ト
リル基、エチルフェニル基、プロビルフエニル基、クロ
ロフェニル基、フロロフエニル基、プロモフエニル基、
クロローメチルーフェニル基、ジクロロフェニル基、メ
トキシフエニル基、シアノフェニル基、アセトアミドフ
ェニル基、アセチルフエニル基、ブトキシフェニル基等
)等を表わす。
I b)で示される繰り返し単位に相当する共重合成分
の具体例を以下に挙げる.しかし、本発明の範囲はこれ
らに限定されるものではない.また、以下の各例におい
て、T1及びTtは各々CI,を示し、 aは1〜4の整数を示し、 bは0又はl 〜3の整数を示し、 Cは1〜3の整数を示す. ■) CH. l 2) CH, 3) CI1. 4) 5) 1 6) 7) CH, CH, C}lユ CH. i−8) Cll3 l 9) CH, i −10) Cll. i −11) Clh i −12) CI. 1 13) CH, i −14) CH. i −15) CH, {C}I, −C}− 1 16) C11, →CHz C}− i −17) CI3 18) CI3 19) CH, 1 20) CI+, また、本発明の樹脂〔A〕における酸性基を含有する共
重合戒分において、好ましい酸性基とし0 R 環状酸無水物含有基を挙げることができる.0 1 R (R’は炭化水素基を表わす)を表わし、R及びR′は
好ましくは炭素数l〜22の脂肪族基(例えば、メチル
基、エチル基、プロビル基、ブチル基、ヘキシル基、オ
クチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、2
−クロロエチル基、2−メトキシエチル基、3−エトキ
シプロビル基、アリル基、クロトニル基、プテニル基、
シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル基、3−フ
エニルプロピルl、メチルヘンジル基、クロロベンジル
基、フロロベンジル基、メトキシベンジル基等)、又は
置換されてもよいアリール基(例えば、フェニル基、ト
リル基、エチルフェニル基、プロビルフエニル基、クロ
ロフェニル基、フロロフエニル基、プロモフエニル基、
クロローメチルーフェニル基、ジクロロフェニル基、メ
トキシフエニル基、シアノフェニル基、アセトアミドフ
ェニル基、アセチルフエニル基、ブトキシフェニル基等
)等を表わす。
また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環状
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。
脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無水
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロペンクン−1 2−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−1 2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキ
セン−1.2−ジヵルボン酸無水物環、2.3−ビシク
ロ(2. 2.2〕オクタンジカルボン酸無水物環等
が挙げられ、これらの環は、例えば塩素原子、臭素原子
等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘ
キシル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シ
クロペンクン−1 2−ジカルボン酸無水物環、シクロ
ヘキサン−1 2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキ
セン−1.2−ジヵルボン酸無水物環、2.3−ビシク
ロ(2. 2.2〕オクタンジカルボン酸無水物環等
が挙げられ、これらの環は、例えば塩素原子、臭素原子
等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘ
キシル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸
無水物環、ナフタレンージヵルボン酸無水物環、ピリジ
ンージカルボン酸無水物環、チオフェンージカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロビル基、プチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基
、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基(アル
コキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等
)等が置換されていてもよい。
無水物環、ナフタレンージヵルボン酸無水物環、ピリジ
ンージカルボン酸無水物環、チオフェンージカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロビル基、プチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基
、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基(アル
コキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等
)等が置換されていてもよい。
OH基としては、ビニル基又はアリル基含有のアルコー
ル1!(4Mえばアリルアルコール、メタクリル酸エス
テル、アクリルアミド等のエステル置換基、N一置換基
中に、−OH基を含有する化合物等)、ヒドロキシフェ
ノール又はヒドロキシフェニル基を置換基として含有す
るメタクリル酸エステルもしくはアミド類を挙げること
ができる。
ル1!(4Mえばアリルアルコール、メタクリル酸エス
テル、アクリルアミド等のエステル置換基、N一置換基
中に、−OH基を含有する化合物等)、ヒドロキシフェ
ノール又はヒドロキシフェニル基を置換基として含有す
るメタクリル酸エステルもしくはアミド類を挙げること
ができる。
本発明の酸性基を含有する共重合成分は、例えば一般式
(I)(一般式(1a)、(I b)も含む)で示され
る繰り返し単位に相当する単量体と共重合し得る該酸性
基を含有するビニル系化合物であればいずれでもよく、
例えば、高分子学会編「高分子データ・ハンドブンク〔
基rM編〕」培風館(1986年)等に記載されている
。具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリ
ル酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル
体、α−(2−アξノ)メチル体、α−クロロ体、αブ
ロモ体、α−フロロ体、α一トリブチルシリル体、α−
シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロー
β−メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)、メタクリル
酸、イタコン酸、イクコン酸半エステル類、イタコン酸
半ア旦ド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類
(例えば2ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、
2オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4エチル
−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エス
テル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルポ
ン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、
ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリ
ル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又は
スルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基中
に該酸性基を含有する化合物等が挙げられる。
(I)(一般式(1a)、(I b)も含む)で示され
る繰り返し単位に相当する単量体と共重合し得る該酸性
基を含有するビニル系化合物であればいずれでもよく、
例えば、高分子学会編「高分子データ・ハンドブンク〔
基rM編〕」培風館(1986年)等に記載されている
。具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリ
ル酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセトキシメチル
体、α−(2−アξノ)メチル体、α−クロロ体、αブ
ロモ体、α−フロロ体、α一トリブチルシリル体、α−
シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、α−クロロー
β−メトキシ体、α,β−ジクロロ体等)、メタクリル
酸、イタコン酸、イクコン酸半エステル類、イタコン酸
半ア旦ド類、クロトン酸、2−アルケニルカルボン酸類
(例えば2ペンテン酸、2−メチル−2−ヘキセン酸、
2オクテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4エチル
−2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エス
テル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルポ
ン酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、
ビニルホスホン酸、ジカルボン酸類のビニル基又はアリ
ル基の半エステル誘導体、及びこれらのカルボン酸又は
スルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体の置換基中
に該酸性基を含有する化合物等が挙げられる。
酸性基含有の共重合成分について例示する。ここで、P
,は■又はCH.を示し、P!はH, Cl+.又はC
thCOOCLを示し、Rltは炭素数l〜4のアルキ
ル基を示し、Rl+は炭素数1〜6のアルキル基、ヘン
ジル基又はフエニル基を示し、Cは1〜3の整数を示し
、dは2〜11の整数を示し、eはl〜l1の整数を示
し、rは2〜4の整数を示し、gは2〜10の整数を示
す。
,は■又はCH.を示し、P!はH, Cl+.又はC
thCOOCLを示し、Rltは炭素数l〜4のアルキ
ル基を示し、Rl+は炭素数1〜6のアルキル基、ヘン
ジル基又はフエニル基を示し、Cは1〜3の整数を示し
、dは2〜11の整数を示し、eはl〜l1の整数を示
し、rは2〜4の整数を示し、gは2〜10の整数を示
す。
■)
P1
1
→C}I! −c}−
COOI+
COOH
ii − 3 )
P,
I
→CH!−C)−
COO(CHz)acOO+1
4)
P
→CH!
C}−
?ONH(CI+■).COOl1
ii − 5 )
P1
P.
−+:CH − C}−
Coo (CH 2) zOcO (C}I !) c
COOI+6) PI P2 −{CH Cト COO(CHI)2ococ}l=co−coall7
) P1 Pz ii − 8 ) P, P2 9) P, P2 −{CH Cト COO(C}lz) rsO:+ll 10) ?Cll■一C1{)− C11, CONHCHzCOC SO3H C113 15) P, P. →Cl+ ?}− 0 11 Coo(CIl■)r−O P 011 0H 0H ii −18) P, P. CIl.COOH 19) COOH ?Cl1■ C)− Cll !COOR I z COOtl COOH ii −21) P. ii −22) P1 ii −23) →C1{2 CH}− S01+1 ii −24) ?+CIl■−CI}− I CIbCOOH ii −25) P2 ii −26) PI Pz →CH − C}− CONH(CHz) isO3H υ ii −28) →CH CH}− ii −31) P, ii −35) PI Pt O 0 ii −36) P1 Pz CONH(Cllz)ao P ’k(Is 0■ ii −39) →Cll −CH}− COOH COOH ii −42) →CH −CI+}− coot+ COOCH3 ii −43) p1 →CH CH}− CON(CHzCHzCOOll) tii −44) p →CH.−c}− COO (CH zカ一CON (CH zcH zc
OOH) zii −45) p1 ii −46) III ii −47) p1 ii −48) ii −49) ii −50) ii −51) ii −52) CH3 0 更に、結着樹脂〔A〕では、上記一般式(1)で示され
る共重合成分(一般式(1a)又は(I b)で示され
るものも含む)および酸性基を含有する共重合成分に加
えて、更に、熱及び/又は光硬化性官能基を含有する共
重合或分を1〜20重量%含有することが、より大きな
機械的強度を得る上で好ましい. 「熱及び/又は光硬化性官能基」とは、熱及び光のうち
の少なくともいずれかにより樹脂の硬化反応を行なう官
能基をいう. 光硬化性官能基として具体的には、乾英夫、永松元太郎
、「感光性高分子J(講談社、■977年刊)、角田隆
弘、「新感光性樹脂』(印刷学会出版部、1981年刊
) 、G.E.Green and B.P.Stra
k, J.Macro.Sci. Reas. Mac
ro Chew., C2H2)+ 187 〜273
(1981〜82)、C.G.Rattey+ rP
hotopolysiriza−tion of Su
rface CootingsJ(A.I1i1ey
TnterSciencePub. 1982年刊)、
等の総説に引例された光硬化性樹脂として従来公知の感
光性樹脂等に用いられる官能基が用いられる. また本発明における「熱硬化性官能基」は、前記の酸性
基以外の官能基であって、例えば、遠藤剛、「熱硬化性
高分子の精密化J (C.M.C■、1986年刊)、
原崎勇次「最新バインダー技術便覧」第■−1章(総合
技術センター、1985年刊)、大津隆行「アクリル樹
脂の合成・設計と新用途開発」(中部経営開発センター
出版部、1985年刊)、大森英三「機能性アクリル系
樹脂」 (テクノシステム、1985年刊)等の総説に
引例の官能基を用いることができる。
COOI+6) PI P2 −{CH Cト COO(CHI)2ococ}l=co−coall7
) P1 Pz ii − 8 ) P, P2 9) P, P2 −{CH Cト COO(C}lz) rsO:+ll 10) ?Cll■一C1{)− C11, CONHCHzCOC SO3H C113 15) P, P. →Cl+ ?}− 0 11 Coo(CIl■)r−O P 011 0H 0H ii −18) P, P. CIl.COOH 19) COOH ?Cl1■ C)− Cll !COOR I z COOtl COOH ii −21) P. ii −22) P1 ii −23) →C1{2 CH}− S01+1 ii −24) ?+CIl■−CI}− I CIbCOOH ii −25) P2 ii −26) PI Pz →CH − C}− CONH(CHz) isO3H υ ii −28) →CH CH}− ii −31) P, ii −35) PI Pt O 0 ii −36) P1 Pz CONH(Cllz)ao P ’k(Is 0■ ii −39) →Cll −CH}− COOH COOH ii −42) →CH −CI+}− coot+ COOCH3 ii −43) p1 →CH CH}− CON(CHzCHzCOOll) tii −44) p →CH.−c}− COO (CH zカ一CON (CH zcH zc
OOH) zii −45) p1 ii −46) III ii −47) p1 ii −48) ii −49) ii −50) ii −51) ii −52) CH3 0 更に、結着樹脂〔A〕では、上記一般式(1)で示され
る共重合成分(一般式(1a)又は(I b)で示され
るものも含む)および酸性基を含有する共重合成分に加
えて、更に、熱及び/又は光硬化性官能基を含有する共
重合或分を1〜20重量%含有することが、より大きな
機械的強度を得る上で好ましい. 「熱及び/又は光硬化性官能基」とは、熱及び光のうち
の少なくともいずれかにより樹脂の硬化反応を行なう官
能基をいう. 光硬化性官能基として具体的には、乾英夫、永松元太郎
、「感光性高分子J(講談社、■977年刊)、角田隆
弘、「新感光性樹脂』(印刷学会出版部、1981年刊
) 、G.E.Green and B.P.Stra
k, J.Macro.Sci. Reas. Mac
ro Chew., C2H2)+ 187 〜273
(1981〜82)、C.G.Rattey+ rP
hotopolysiriza−tion of Su
rface CootingsJ(A.I1i1ey
TnterSciencePub. 1982年刊)、
等の総説に引例された光硬化性樹脂として従来公知の感
光性樹脂等に用いられる官能基が用いられる. また本発明における「熱硬化性官能基」は、前記の酸性
基以外の官能基であって、例えば、遠藤剛、「熱硬化性
高分子の精密化J (C.M.C■、1986年刊)、
原崎勇次「最新バインダー技術便覧」第■−1章(総合
技術センター、1985年刊)、大津隆行「アクリル樹
脂の合成・設計と新用途開発」(中部経営開発センター
出版部、1985年刊)、大森英三「機能性アクリル系
樹脂」 (テクノシステム、1985年刊)等の総説に
引例の官能基を用いることができる。
例えば−OH基、一311基、−NH2基、−NHR3
基(Riは炭化水素基を表わし、例えば炭素数1−10
の置換されてもよいアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロビル基、プチル基、ヘキシル基、オクチル基
、デシル基、2−クロロエチル基、2メトキシエチル基
、2−シアノエチル基等)、炭素数4〜8の置換されて
もよいシクロアルキル基(例えばシクロヘブチル基、シ
クロヘキシル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよ
いアラルキル基(例えばベンジル基、フエネチル基、3
−フエニルプロピル基、クロロベンジル基、メチルベン
ジル基、メトキシベンジル基等)、置換されてもよいア
リール基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、
クロロフェニル基、プロモフェニル基、メトキシフェニ
ル基、ナフチル基等〉等が挙CONHCHzORa
(R4は水素原子又は炭素数l〜8のアルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基、プロビル基、プチル基、ヘキ
シル基、オクチル基等)11 を表わす) 、−N=C=O基及び一C=CI1基(a
s、a4は、各々水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素
原子、臭素原子等)又は炭素数1〜4のアルキル基(例
えばメチル基、エチル基等)を表わす}等を挙げること
ができる.又該重合性二重結合基として、0 11 具体的にはCH!−CH− 、CII*=CII−CH
x− 、CHt=CH−C−0CI1. C11, 0 CHz=Cll−CHz− 、NHCO− 、CH
z=CH−SowCut・CH−CO−、CHt=CH
−0− 、Cllt−CH−S一等を挙げることができ
る. 本発明において、結着樹脂に該硬化性官能基の群から選
択される官能基を少なくともl種含有させる方法として
、重合体に高分子反応で導入する方法、又は該官能基を
1種又はそれ以上含有するl種又はそれ以上の単量体と
前記した一般式(1)(一般式(Ia)又は(1b)も
含む)の繰り返し単位に相当する単量体及び「酸性基含
有の共重合体成分Jに相当する単量体と共重合反応する
方法等により得られる. 高分子反応は、従来公知の低分子合成反応の方法をその
まま用いることができ、例えば、日本化学会編、「新実
験化学講座14巻、有機化合物の合或と反応(1)〜〔
V〕」、(丸善株式会社刊)、岩倉義男、栗田恵輔「反
応性高分子j等の総説引例の公知文献等に詳細に記載さ
れている.一方、該「光及び/又は熱硬化反応を行なう
官能基」を含有する単量体の例としては、例えば一般式
(1)の繰り返し単位に相当する単量体と共重合し得る
、該官能性を含有するビニル系化合物を挙げることがで
きる.具体的には、前記した「酸性基含有の化合物」と
同様の化合物の置換基中に該官能基を含有するもの等が
挙げられる。
基(Riは炭化水素基を表わし、例えば炭素数1−10
の置換されてもよいアルキル基(例えばメチル基、エチ
ル基、プロビル基、プチル基、ヘキシル基、オクチル基
、デシル基、2−クロロエチル基、2メトキシエチル基
、2−シアノエチル基等)、炭素数4〜8の置換されて
もよいシクロアルキル基(例えばシクロヘブチル基、シ
クロヘキシル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよ
いアラルキル基(例えばベンジル基、フエネチル基、3
−フエニルプロピル基、クロロベンジル基、メチルベン
ジル基、メトキシベンジル基等)、置換されてもよいア
リール基(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、
クロロフェニル基、プロモフェニル基、メトキシフェニ
ル基、ナフチル基等〉等が挙CONHCHzORa
(R4は水素原子又は炭素数l〜8のアルキル基(例え
ば、メチル基、エチル基、プロビル基、プチル基、ヘキ
シル基、オクチル基等)11 を表わす) 、−N=C=O基及び一C=CI1基(a
s、a4は、各々水素原子、ハロゲン原子(例えば塩素
原子、臭素原子等)又は炭素数1〜4のアルキル基(例
えばメチル基、エチル基等)を表わす}等を挙げること
ができる.又該重合性二重結合基として、0 11 具体的にはCH!−CH− 、CII*=CII−CH
x− 、CHt=CH−C−0CI1. C11, 0 CHz=Cll−CHz− 、NHCO− 、CH
z=CH−SowCut・CH−CO−、CHt=CH
−0− 、Cllt−CH−S一等を挙げることができ
る. 本発明において、結着樹脂に該硬化性官能基の群から選
択される官能基を少なくともl種含有させる方法として
、重合体に高分子反応で導入する方法、又は該官能基を
1種又はそれ以上含有するl種又はそれ以上の単量体と
前記した一般式(1)(一般式(Ia)又は(1b)も
含む)の繰り返し単位に相当する単量体及び「酸性基含
有の共重合体成分Jに相当する単量体と共重合反応する
方法等により得られる. 高分子反応は、従来公知の低分子合成反応の方法をその
まま用いることができ、例えば、日本化学会編、「新実
験化学講座14巻、有機化合物の合或と反応(1)〜〔
V〕」、(丸善株式会社刊)、岩倉義男、栗田恵輔「反
応性高分子j等の総説引例の公知文献等に詳細に記載さ
れている.一方、該「光及び/又は熱硬化反応を行なう
官能基」を含有する単量体の例としては、例えば一般式
(1)の繰り返し単位に相当する単量体と共重合し得る
、該官能性を含有するビニル系化合物を挙げることがで
きる.具体的には、前記した「酸性基含有の化合物」と
同様の化合物の置換基中に該官能基を含有するもの等が
挙げられる。
「熱/光硬化性官能基』含有の繰り返し単位について例
示する.ここで、R,, 、a,b,eは前記と同様の
内容を示し、P,およびP,は各々I1又はC11,を
示し、Rl4 は一CH=CI.又は−CIItCH=
(JlzC11, を示し、Lsは−CII=CHt , −C=CHz又
は−CH=CHCIIzC貼 ?示し、Rいは−CH=CHt ,−CHzGH=CH
x、−C=CH■又はOH又はNil. を示し、 hは1〜1lの整数を示し、 iは1−10の整数を示す. ji − 1 ) P, →cut −C}− COOCR=C}Ig iii − 2 ) P, →CH. −C}− COOCIIzCH=CHg 3) P, ncHz C}− Coo(CHz)a−Coo−Rz iii − 4 ) P1 乏 −{CH!−C}− C00(CI1g).OCO(Cllt)h−Coo−
R+<5) P1 P3 COO(Cllz)。OCO−R+s 0H in − 8 ) P竃 →Cllt −C}− CONII(CLLOCO−Ls iii − 9 ) P1 →CH.−C}− COO (CHthCIl−Ctlg−0−CO−Rt
&0−Co−Rl& ji −10) P3 −+cut −C}− CONH (CH z) −COOCH zcIlcl
l z00C− R + sI 011 iii −11) P1 P, →CH C}− COO(CH!).CHCHア \/ Z iii −12) P, P3 iii −13) P, P3 −{CI+ C}− CONHCHzOH ij −14) P+ P3 →Cll−C}− CONHCHiOR 市−15) PL P3 0 iii −18) PL P3 →CH−C}− Coo(CHz)a T3 iii −19) −{CIl −C}l}− ノ\/c′S 0 0 0 m 20) P1 更に、本発明の樹脂〔A〕は、前記した一般式(1)の
単量体(一般式(I a)及び(I b)も含む)及び
該酸性基を含有した単量体とともに、これら以外の他の
単量体を共重合戒分として含有してもよい.例えば、一
般式(1)で説明した以外の置換基を含有するメタクリ
ル酸エステル類、アクリル酸エステル類、クロトン酸エ
ステル類に加え、α−オレフィン類、カルボン酸ビニル
又はアリルエステル類(例えばカルボン酸として、酢酸
プロピオン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナフタレンカ
ルボン酸等)、アクリロニトリル、メタクリロニトリル
、ビニルエーテル類、イタコン酸エステル類(例えばジ
メチルエステル、ジエチルエステル等)、アクリルアミ
ド類、メタクリルアミド類、スチレン類(例えばスチレ
ン、ビニルトルエン、クロロスチレン、ヒドロキシスチ
レン、N,N−ジメチルアミノメチルスチレン、メトキ
シカルボニルスチレン、メタンスルホニルオキシスチレ
ン、ビニルナフタレン等)、ビニルスルホン含有化合物
、ビニルケトン含有化合物、複素環ビニル類(例えばビ
ニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール
、ビニルチオフエン、ビニルイミダゾリン、ビニルピラ
ゾール、ビニルジオキサン、ビニルキノリン、ビニルテ
トラゾール、ビニルオキサジン等)等が挙げられる.こ
れら樹脂〔A〕の共重合体に含有され得る他の共重合成
分は20重量%を超えないことが好ましい 次に樹脂〔B〕の好ましい態様について以下説明する. 本発明の樹脂〔B〕に供される一官能性マクロモノマー
(M)について更に具体的に説明する.マクロモノマー
(M)のA−ブロックを横戒する成分中に含有される酸
性基としては、−POsL基、−COOH基、 soso 基、 フェノール性 011 基又は 0 11 −P−011基{Rは炭化水素基又は一〇R″基(R’
は炭R 化水素基)を示す}が挙げられ、好ましくは−COOH
基、−SO!H基、フェノール性011基、又は0 11 P − O I+基である。
示する.ここで、R,, 、a,b,eは前記と同様の
内容を示し、P,およびP,は各々I1又はC11,を
示し、Rl4 は一CH=CI.又は−CIItCH=
(JlzC11, を示し、Lsは−CII=CHt , −C=CHz又
は−CH=CHCIIzC貼 ?示し、Rいは−CH=CHt ,−CHzGH=CH
x、−C=CH■又はOH又はNil. を示し、 hは1〜1lの整数を示し、 iは1−10の整数を示す. ji − 1 ) P, →cut −C}− COOCR=C}Ig iii − 2 ) P, →CH. −C}− COOCIIzCH=CHg 3) P, ncHz C}− Coo(CHz)a−Coo−Rz iii − 4 ) P1 乏 −{CH!−C}− C00(CI1g).OCO(Cllt)h−Coo−
R+<5) P1 P3 COO(Cllz)。OCO−R+s 0H in − 8 ) P竃 →Cllt −C}− CONII(CLLOCO−Ls iii − 9 ) P1 →CH.−C}− COO (CHthCIl−Ctlg−0−CO−Rt
&0−Co−Rl& ji −10) P3 −+cut −C}− CONH (CH z) −COOCH zcIlcl
l z00C− R + sI 011 iii −11) P1 P, →CH C}− COO(CH!).CHCHア \/ Z iii −12) P, P3 iii −13) P, P3 −{CI+ C}− CONHCHzOH ij −14) P+ P3 →Cll−C}− CONHCHiOR 市−15) PL P3 0 iii −18) PL P3 →CH−C}− Coo(CHz)a T3 iii −19) −{CIl −C}l}− ノ\/c′S 0 0 0 m 20) P1 更に、本発明の樹脂〔A〕は、前記した一般式(1)の
単量体(一般式(I a)及び(I b)も含む)及び
該酸性基を含有した単量体とともに、これら以外の他の
単量体を共重合戒分として含有してもよい.例えば、一
般式(1)で説明した以外の置換基を含有するメタクリ
ル酸エステル類、アクリル酸エステル類、クロトン酸エ
ステル類に加え、α−オレフィン類、カルボン酸ビニル
又はアリルエステル類(例えばカルボン酸として、酢酸
プロピオン酸、酪酸、吉草酸、安息香酸、ナフタレンカ
ルボン酸等)、アクリロニトリル、メタクリロニトリル
、ビニルエーテル類、イタコン酸エステル類(例えばジ
メチルエステル、ジエチルエステル等)、アクリルアミ
ド類、メタクリルアミド類、スチレン類(例えばスチレ
ン、ビニルトルエン、クロロスチレン、ヒドロキシスチ
レン、N,N−ジメチルアミノメチルスチレン、メトキ
シカルボニルスチレン、メタンスルホニルオキシスチレ
ン、ビニルナフタレン等)、ビニルスルホン含有化合物
、ビニルケトン含有化合物、複素環ビニル類(例えばビ
ニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール
、ビニルチオフエン、ビニルイミダゾリン、ビニルピラ
ゾール、ビニルジオキサン、ビニルキノリン、ビニルテ
トラゾール、ビニルオキサジン等)等が挙げられる.こ
れら樹脂〔A〕の共重合体に含有され得る他の共重合成
分は20重量%を超えないことが好ましい 次に樹脂〔B〕の好ましい態様について以下説明する. 本発明の樹脂〔B〕に供される一官能性マクロモノマー
(M)について更に具体的に説明する.マクロモノマー
(M)のA−ブロックを横戒する成分中に含有される酸
性基としては、−POsL基、−COOH基、 soso 基、 フェノール性 011 基又は 0 11 −P−011基{Rは炭化水素基又は一〇R″基(R’
は炭R 化水素基)を示す}が挙げられ、好ましくは−COOH
基、−SO!H基、フェノール性011基、又は0 11 P − O I+基である。
R
0
II
P−0}1基の場合、具体的には樹脂〔A〕においR
て説明したと同様の内容を表わす.
更に上記特定の酸性基を含有する重合戒分の具体例とし
ては、前記樹脂〔A〕のものと同様のものが挙げられる
. 上記の如き特定の酸性基を含有する重合戒分は該ブロッ
ク中に2種以上含有されていてもよく、その場合におけ
る該2種以上の酸性基含有成分は該ブロック中において
ランダム共重合又はブロック共重合のいずれの態様で含
有されていてもよい.また、該酸性基を含有しない成分
がAブロック中に含まれていてもよく、該戒分の例とし
ては後述の一般式(II)で示される戒分等があげられ
る.かかる酸性基非含有成分の含有量はAブロック中好
ましくはO〜50重量%、より好ましくはO〜20重量
%であり、最も好ましくは、かかる酸性基非含有戒分は
Aブロック中に含まれない。
ては、前記樹脂〔A〕のものと同様のものが挙げられる
. 上記の如き特定の酸性基を含有する重合戒分は該ブロッ
ク中に2種以上含有されていてもよく、その場合におけ
る該2種以上の酸性基含有成分は該ブロック中において
ランダム共重合又はブロック共重合のいずれの態様で含
有されていてもよい.また、該酸性基を含有しない成分
がAブロック中に含まれていてもよく、該戒分の例とし
ては後述の一般式(II)で示される戒分等があげられ
る.かかる酸性基非含有成分の含有量はAブロック中好
ましくはO〜50重量%、より好ましくはO〜20重量
%であり、最も好ましくは、かかる酸性基非含有戒分は
Aブロック中に含まれない。
次にグラフト型共重合体の一官能性マクロモノマーにお
いて、Bブロック或分を構戒する重合成分について詳し
く説明する. 本発明では、B−ブロックを構成する成分として、少な
くとも前記一般式(II)で表わされる繰り返し単位が
含まれる. 一般式(II) ニおイテ、X,は−coo− −o
co→CHx←OCO−、(CH !鳴COO− (f
fi+ 、lxは1〜見鵞 3の整数を表わす)、−o− −so.− −co
一、ここで、R0は水素原子のほか、好ましい炭化水素
基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、プロビル基、ブチ
ル基、ヘブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デジル基
、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−
クロロエチル基、2プロモエチル基、2−シアノエチル
基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエ
チル基、3−プロモプロピル基等)、炭素数4〜18の
置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−
1−ブロペニル基、2−ブテニル基、2ペンテニル基、
3−メチル−2−ペンテニル基、l−ベンテニル基、1
−へキセニル基、2−へキセニル基、4−メチル−2−
へキセニル基、等)、炭素数7〜l2の置換されてもよ
いアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、
3−フェニルブロビル基、ナフチルメチル基、2−ナフ
チルエチル基、クロロベンジル基、プロモベンジル基、
メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシペンジ
ル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)
、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、
シクロヘキシル基、2シクロヘキシルエチル基、2−シ
クロペンチルエチル基等)又は炭素数6〜12の置換さ
れてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基
、トリル基、キシリル基、プロビルフェニル基、プチル
フェニル基、オクチルフエニル基、ドデシルフエニル基
、メトキシフエニル基、エトキシフェニル基、プトキシ
フェニル基、デシルオキシフエニル基、クロロフエニル
基、ジクロ口フェニル基、プロモフェニル基、シアノフ
ェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフ
ェニル基、エトキシ力ルポニルフェニル基、ブトキシ力
ルポニルフェニル基、アセトア珈ドフエニル基、プロピ
オアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等
)があげられる. R.は炭化水素基を表わし、その好ましい具体例はll
txについて説明したものと同様の内容を示場合、Il
t+ は水素原子又は炭化水素基を表わす。
いて、Bブロック或分を構戒する重合成分について詳し
く説明する. 本発明では、B−ブロックを構成する成分として、少な
くとも前記一般式(II)で表わされる繰り返し単位が
含まれる. 一般式(II) ニおイテ、X,は−coo− −o
co→CHx←OCO−、(CH !鳴COO− (f
fi+ 、lxは1〜見鵞 3の整数を表わす)、−o− −so.− −co
一、ここで、R0は水素原子のほか、好ましい炭化水素
基としては、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えば、メチル基、エチル基、プロビル基、ブチ
ル基、ヘブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デジル基
、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−
クロロエチル基、2プロモエチル基、2−シアノエチル
基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエ
チル基、3−プロモプロピル基等)、炭素数4〜18の
置換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−
1−ブロペニル基、2−ブテニル基、2ペンテニル基、
3−メチル−2−ペンテニル基、l−ベンテニル基、1
−へキセニル基、2−へキセニル基、4−メチル−2−
へキセニル基、等)、炭素数7〜l2の置換されてもよ
いアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、
3−フェニルブロビル基、ナフチルメチル基、2−ナフ
チルエチル基、クロロベンジル基、プロモベンジル基、
メチルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシペンジ
ル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)
、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、
シクロヘキシル基、2シクロヘキシルエチル基、2−シ
クロペンチルエチル基等)又は炭素数6〜12の置換さ
れてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基
、トリル基、キシリル基、プロビルフェニル基、プチル
フェニル基、オクチルフエニル基、ドデシルフエニル基
、メトキシフエニル基、エトキシフェニル基、プトキシ
フェニル基、デシルオキシフエニル基、クロロフエニル
基、ジクロ口フェニル基、プロモフェニル基、シアノフ
ェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフ
ェニル基、エトキシ力ルポニルフェニル基、ブトキシ力
ルポニルフェニル基、アセトア珈ドフエニル基、プロピ
オアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等
)があげられる. R.は炭化水素基を表わし、その好ましい具体例はll
txについて説明したものと同様の内容を示場合、Il
t+ は水素原子又は炭化水素基を表わす。
?有してもよい.置換基としては、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロビル基、ブチル基、クロロメチル基
、メトキシメチル基等)、アルコキシ基(例えばメトキ
シ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等
が挙げられる。
ば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロビル基、ブチル基、クロロメチル基
、メトキシメチル基等)、アルコキシ基(例えばメトキ
シ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等
が挙げられる。
b1及びb!は、互いに同じでも異なっていてもよく、
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基等
) 、−Coo−R■又は炭化水素を介した−COO4
zs (Rtaは、水素原子又は炭素数1〜1Bのアル
キル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基または
アリール基を表わし、これらは置換されていてもよく、
具体的には、上記RZ3について説明したものと同様の
内容を表わす)を表わす. 上記炭化水素を介したーCoo−Rxsにおける炭化水
素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等
が挙げられる. 更に好ましくは、一般式(I[)において、x1はCO
O− −OCO− −C}l!OCO−、−CI.
COO−、一〇互いに同じでも異なってもよく、水素原
子、メチル基、−COOR*n又は−CHgCOORz
a、{R,4は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基
、ヘキシル基等)を表わす}を表わす.更により好まし
くは、l)Is b,においていずれか一方が水素原子
を表わす. 前記の特定の酸性基を含有する重合成分から或るAブロ
ックとは別に構成されるBブロックにおいて、前記式(
n)で示される繰り返し単位は2種以上含有されていて
もよく、更にこれら以外の他の重合戒分を含有していて
もよい。酸性基を含有しないBブロックにおいて2種以
上の重合或分が含有される場合には、該共重合成分は該
Bブロック中においてランダム共重合又はブロック共重
合のいずれのn様で含有されていてもよいが、ランダム
に含有されることが好ましい. 前記した式(n)で示される繰り返し単位から選ばれた
重合戒分とともに他のブロック中に含有され得る他の重
合戒分は、これらと共重合する成分であればいずれでも
よい. 該B−ブロック中に含有される重合体戒分として、式(
It)に示される重合体成分とともに共重合しうる他の
繰り返し単位に相当する単量体として、例えばアクリロ
ニトリル、メタクリ口ニトリル、複素環ビニル類(例え
ばビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリ
ドン、ビニルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニルジ
オキサン、ビニルオキサジン等)等が挙げられる.これ
ら他の単量体はB−ブロックの全重合体成分10帽1部
中20重量部を越えない範囲で用いられる.又、該Bブ
ロック中には、!fA−ブロックの構威成分である極性
基を含有する重合体成分を含有しない事が好ましい。
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基等
) 、−Coo−R■又は炭化水素を介した−COO4
zs (Rtaは、水素原子又は炭素数1〜1Bのアル
キル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基または
アリール基を表わし、これらは置換されていてもよく、
具体的には、上記RZ3について説明したものと同様の
内容を表わす)を表わす. 上記炭化水素を介したーCoo−Rxsにおける炭化水
素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等
が挙げられる. 更に好ましくは、一般式(I[)において、x1はCO
O− −OCO− −C}l!OCO−、−CI.
COO−、一〇互いに同じでも異なってもよく、水素原
子、メチル基、−COOR*n又は−CHgCOORz
a、{R,4は、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル
基(例えばメチル基、エチル基、プロビル基、ブチル基
、ヘキシル基等)を表わす}を表わす.更により好まし
くは、l)Is b,においていずれか一方が水素原子
を表わす. 前記の特定の酸性基を含有する重合成分から或るAブロ
ックとは別に構成されるBブロックにおいて、前記式(
n)で示される繰り返し単位は2種以上含有されていて
もよく、更にこれら以外の他の重合戒分を含有していて
もよい。酸性基を含有しないBブロックにおいて2種以
上の重合或分が含有される場合には、該共重合成分は該
Bブロック中においてランダム共重合又はブロック共重
合のいずれのn様で含有されていてもよいが、ランダム
に含有されることが好ましい. 前記した式(n)で示される繰り返し単位から選ばれた
重合戒分とともに他のブロック中に含有され得る他の重
合戒分は、これらと共重合する成分であればいずれでも
よい. 該B−ブロック中に含有される重合体戒分として、式(
It)に示される重合体成分とともに共重合しうる他の
繰り返し単位に相当する単量体として、例えばアクリロ
ニトリル、メタクリ口ニトリル、複素環ビニル類(例え
ばビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリ
ドン、ビニルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニルジ
オキサン、ビニルオキサジン等)等が挙げられる.これ
ら他の単量体はB−ブロックの全重合体成分10帽1部
中20重量部を越えない範囲で用いられる.又、該Bブ
ロック中には、!fA−ブロックの構威成分である極性
基を含有する重合体成分を含有しない事が好ましい。
次に本発明のマクロモノマー(M)において、上記した
極性基を含有する戒分から或るA−ブロックと一般式(
U)で示される重合体戒分から戒るB−ブロックをA−
B型で連結し且つA−ブロックと連結するB−ブロック
の他の末端に連結される重合性二重結合基について説明
する.具体的には下記一般式(rV)で示される重合性
二重結合基が挙げられる。
極性基を含有する戒分から或るA−ブロックと一般式(
U)で示される重合体戒分から戒るB−ブロックをA−
B型で連結し且つA−ブロックと連結するB−ブロック
の他の末端に連結される重合性二重結合基について説明
する.具体的には下記一般式(rV)で示される重合性
二重結合基が挙げられる。
一般式(rV)
X,
式(TV)中、X,は式(II)中の×1と同一の内容
を表わす. bs,biは、お互いに異なってもよく、式(II)中
のb1、biと同一の内容を表わす.即ち、−111u
式(IV)で示される重合性二重結合0 O=C−O CIIzCOO}l CHff C}lt=c CIh=CH−CONH−、CIIt=C−CONH0
・C−0 0 11 CHt・CH→Cll!ho−C一等が挙げられる。
を表わす. bs,biは、お互いに異なってもよく、式(II)中
のb1、biと同一の内容を表わす.即ち、−111u
式(IV)で示される重合性二重結合0 O=C−O CIIzCOO}l CHff C}lt=c CIh=CH−CONH−、CIIt=C−CONH0
・C−0 0 11 CHt・CH→Cll!ho−C一等が挙げられる。
本発明において供されるマクロモノマー(M)は上述の
如きB−ブロックの片末端に、−a式(IV)で示され
る重合性二重結合基が、直接結合するか、あるいは、任
意の連結基で結合された化学構造を有するものである.
連結する基としては、炭素一炭素結合(一重結合あるい
は二重結合)、炭素一へテロ原子結合(ヘテロ原子とし
ては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素
原子等)、ヘテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意
の組合せで構威されるものである。
如きB−ブロックの片末端に、−a式(IV)で示され
る重合性二重結合基が、直接結合するか、あるいは、任
意の連結基で結合された化学構造を有するものである.
連結する基としては、炭素一炭素結合(一重結合あるい
は二重結合)、炭素一へテロ原子結合(ヘテロ原子とし
ては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素
原子等)、ヘテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意
の組合せで構威されるものである。
Rts
即ち具体的には単なる結合または、→c}−(RzsR
t& R0は水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基、
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロビル基等
)等を示す〕、→Cll・CH}−、0 S 11 COO− −C− −SotCON−、−s
otN−、 NIICOO−、 11tt R27 NICONI+−、 記式(n) ?tl Si− (Rzy 、Rzsは各々水素原子、前Rzl
l におけるR■と同様の内容を表わす炭 化水素基等を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結
基もしくは任意の組合せで構威された連結基を表わす. マクロモノマー(M)の重量平均分子量が2×10’を
超えると、他の単量体との共重合性が低下するため好ま
しくない。他方、重量平均分子量が小さすぎると、感光
層の電子写真特性の向上効果が小さくなるため、IXI
O3以上であることが好ましい。
t& R0は水素原子、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基、
アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロビル基等
)等を示す〕、→Cll・CH}−、0 S 11 COO− −C− −SotCON−、−s
otN−、 NIICOO−、 11tt R27 NICONI+−、 記式(n) ?tl Si− (Rzy 、Rzsは各々水素原子、前Rzl
l におけるR■と同様の内容を表わす炭 化水素基等を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結
基もしくは任意の組合せで構威された連結基を表わす. マクロモノマー(M)の重量平均分子量が2×10’を
超えると、他の単量体との共重合性が低下するため好ま
しくない。他方、重量平均分子量が小さすぎると、感光
層の電子写真特性の向上効果が小さくなるため、IXI
O3以上であることが好ましい。
本発明のマクロモノマー(M)は、従来公知の合或方法
によって製造することができる.例えば、該特定の酸性
基を含有する重合体成分に相当する単量体において、酸
性基を予め保護した官能基としておき、有機金属化合物
(例えばアルキルリチウム類、リチウムジイソプルアミ
ド類、アルキルマグネシウムハライド類等)あるいはヨ
ウ化水素/ヨウ素系等によるイオン重合反応、ボルフイ
リン金属錯体を触媒とする光重合反応、あるいはグルー
プ移動重合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応で
A−Bブロック共重合体を合成した後、このリビングボ
リマーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合
基を導入する. この後、酸性基を保護した官能基を加水分解反応、加水
素分解反応、酸化分解反応あるいは光分解反応等によっ
て脱保護反応を行ない、酸性基を形成させる方法が挙げ
られる。その1つの例を下記の反応スキーム(1)に示
した。
によって製造することができる.例えば、該特定の酸性
基を含有する重合体成分に相当する単量体において、酸
性基を予め保護した官能基としておき、有機金属化合物
(例えばアルキルリチウム類、リチウムジイソプルアミ
ド類、アルキルマグネシウムハライド類等)あるいはヨ
ウ化水素/ヨウ素系等によるイオン重合反応、ボルフイ
リン金属錯体を触媒とする光重合反応、あるいはグルー
プ移動重合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応で
A−Bブロック共重合体を合成した後、このリビングボ
リマーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結合
基を導入する. この後、酸性基を保護した官能基を加水分解反応、加水
素分解反応、酸化分解反応あるいは光分解反応等によっ
て脱保護反応を行ない、酸性基を形成させる方法が挙げ
られる。その1つの例を下記の反応スキーム(1)に示
した。
例えば、P.Lutz+ P.Masson et a
l, Polym. BulL,坐+ 79 (198
4)+ B.C.Anderson+ G.[l.
Andrews etal, Macromolec
ules, 14. 1601(1981), K
.Hatada,K.Ute, et al, Pol
ys. J. 17, 977 (1985),
18.1037 (1986). 右手浩一、畑田耕
一、高分子加工、並, 366 (1987).東村敏
延、沢本光男、高分子論文集、46, 189 (19
89), M.κuroki+ T.Aida, J.
Am,Chem.Sic+ユJ0, 4737(198
7),相田卓三、井上祥平、有機合戒化学、43, 3
00(1985), D.Y.Sogoh.11.R.
llertler eL al, Macro+tol
ecules+ 20+ 1473(1987)等に記
載の合或方法に従って容易にリビングポリマーを合戒す
ることができる.又、該リビングボリマーの末端に重合
性二重結合基を導入する方法としては、従来公知のマク
ロモノマー法の合成法に従って容易に本発明のマクロモ
ノマーとすることができる. 具体的には、P.Dreyfuss & R.P.Qu
irk+ Encycl.Poplym. Sci.
Eng..二し, 551 (1987),
P.F.Rempp,E.Franta, Adu.
. Polym. Sct. 58+ 1 (1984
)+ V.Percec, Appl., Polys
. Sci., 2fJiL95(1984)+ R.
Asami. M.TakaRt. Makvam
ol. Chew. Suppl. 12+16
3 (1985), P.Rempp. et al
, Makvaa+ol. Chew.Suppl.
8 . 3 (1984),川上雄資、化学工業、父
56 (1987), 山下雄也、高分子、虹, 9
88 (1982),小林四郎、高分子、皿, 625
(1981)、東村敏延、日本接着協会誌 18,
536 (1982)、伊藤浩一、高分子加工、国.
262 (1986)、東貴四郎、津田隆、機能材料、
u鮭NalQ, 5等の総説及びそれに引例の文献・特
許等に記載の方法に従って合威することができる. 又、本発明の特定の酸性基を保護する保護基及びその保
ill基の脱M(脱保護反応)については、従来公知の
知見を利用して容易に行なうことができる.例えば、前
記した引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉
義男、栗田恵輔、「反応性高分子」■講談社刊(197
7年) .. T.W.Grsene+rProtec
tiva Groups in Organic Sy
nthesis」+John Wiley & Son
s (1981年), J.FJ.McO+*te+’
Protective Groups in Orga
nic OrganicChemistryJ, Pl
enus Press+ (1973年)等の総説に詳
細に記載されている方法を適宜選択して行なうことがで
きる. 他のA−B型ブロック共重合体〔A〕の合戒法としては
、ジシオカーバメント化合物を開始剤とした光イニファ
ーター重合法によって合威することもできる.例えば、
大津隆行、高分子、37, 248(1988) ,檜
森俊一、大津隆一、Polym. Rep.Jap.虹
. 3508 (1988年)、特開昭64−111号
、特開昭6426619号等に記載の合成方法に従って
合成され.これを上記したマクロモノマー合戒法を利用
して本発明のマクロモノマーを得ることができる.本発
明のマクロモノマー(M)は、具体的には、下記の化合
物を例として挙げることができる。但し、本発明の範囲
は、これらに限定されるものではない. 以下の各例において、Q1、Q!及びQ,は各々−■、
CH.又は−CHzCOOCHsを示し、Q,はー■又
はーCHffを示し、R.は−CmHts++ ( n
は1〜18の整数を示す)、nclIthc*lIs
( mは1〜3の整数を示す)、は1〜3の整数を示す
) を示し、Rst はCqHffi*+1 (qは1〜8の整数を示す)又は (CHt)acJsを 示し、Y1は COOH SO,t+ 0 U P−011又は 0H は2〜6の整数を示す。
l, Polym. BulL,坐+ 79 (198
4)+ B.C.Anderson+ G.[l.
Andrews etal, Macromolec
ules, 14. 1601(1981), K
.Hatada,K.Ute, et al, Pol
ys. J. 17, 977 (1985),
18.1037 (1986). 右手浩一、畑田耕
一、高分子加工、並, 366 (1987).東村敏
延、沢本光男、高分子論文集、46, 189 (19
89), M.κuroki+ T.Aida, J.
Am,Chem.Sic+ユJ0, 4737(198
7),相田卓三、井上祥平、有機合戒化学、43, 3
00(1985), D.Y.Sogoh.11.R.
llertler eL al, Macro+tol
ecules+ 20+ 1473(1987)等に記
載の合或方法に従って容易にリビングポリマーを合戒す
ることができる.又、該リビングボリマーの末端に重合
性二重結合基を導入する方法としては、従来公知のマク
ロモノマー法の合成法に従って容易に本発明のマクロモ
ノマーとすることができる. 具体的には、P.Dreyfuss & R.P.Qu
irk+ Encycl.Poplym. Sci.
Eng..二し, 551 (1987),
P.F.Rempp,E.Franta, Adu.
. Polym. Sct. 58+ 1 (1984
)+ V.Percec, Appl., Polys
. Sci., 2fJiL95(1984)+ R.
Asami. M.TakaRt. Makvam
ol. Chew. Suppl. 12+16
3 (1985), P.Rempp. et al
, Makvaa+ol. Chew.Suppl.
8 . 3 (1984),川上雄資、化学工業、父
56 (1987), 山下雄也、高分子、虹, 9
88 (1982),小林四郎、高分子、皿, 625
(1981)、東村敏延、日本接着協会誌 18,
536 (1982)、伊藤浩一、高分子加工、国.
262 (1986)、東貴四郎、津田隆、機能材料、
u鮭NalQ, 5等の総説及びそれに引例の文献・特
許等に記載の方法に従って合威することができる. 又、本発明の特定の酸性基を保護する保護基及びその保
ill基の脱M(脱保護反応)については、従来公知の
知見を利用して容易に行なうことができる.例えば、前
記した引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉
義男、栗田恵輔、「反応性高分子」■講談社刊(197
7年) .. T.W.Grsene+rProtec
tiva Groups in Organic Sy
nthesis」+John Wiley & Son
s (1981年), J.FJ.McO+*te+’
Protective Groups in Orga
nic OrganicChemistryJ, Pl
enus Press+ (1973年)等の総説に詳
細に記載されている方法を適宜選択して行なうことがで
きる. 他のA−B型ブロック共重合体〔A〕の合戒法としては
、ジシオカーバメント化合物を開始剤とした光イニファ
ーター重合法によって合威することもできる.例えば、
大津隆行、高分子、37, 248(1988) ,檜
森俊一、大津隆一、Polym. Rep.Jap.虹
. 3508 (1988年)、特開昭64−111号
、特開昭6426619号等に記載の合成方法に従って
合成され.これを上記したマクロモノマー合戒法を利用
して本発明のマクロモノマーを得ることができる.本発
明のマクロモノマー(M)は、具体的には、下記の化合
物を例として挙げることができる。但し、本発明の範囲
は、これらに限定されるものではない. 以下の各例において、Q1、Q!及びQ,は各々−■、
CH.又は−CHzCOOCHsを示し、Q,はー■又
はーCHffを示し、R.は−CmHts++ ( n
は1〜18の整数を示す)、nclIthc*lIs
( mは1〜3の整数を示す)、は1〜3の整数を示す
) を示し、Rst はCqHffi*+1 (qは1〜8の整数を示す)又は (CHt)acJsを 示し、Y1は COOH SO,t+ 0 U P−011又は 0H は2〜6の整数を示す。
(H
1)
Q−
ct+z=c
(ト2〉
Q,
(?I−3)
Q4
Q冨
Q,
COOR31
(;OIJI1
(M−4)
Q1
(ト5)
Q−
(ト6)
q,
h
(M−7)
Q4
(ト8)
Q.
(ト9)
Q4
し■コ
GOORs+
C}I.COOll
(M−10)
Q
(M
11)
Q4
(M
12)
じUUH!+
COO(CHz}y−Yg
(M
13)
(M
14)
(M
15)
(M−16)
?記したマクロモノマー(M)と共重合する単量体は一
般式(III)で示されるものが好ましい.式(III
)において、b,、b4、Xt及びIltzは式(II
)中のb1、b,、x1及びR■とそれぞれ同一の内容
を表わす。特に好ましくはb,は水素原子を表わし、b
.はメチルを表わし、x2はーC00−を表わす。
般式(III)で示されるものが好ましい.式(III
)において、b,、b4、Xt及びIltzは式(II
)中のb1、b,、x1及びR■とそれぞれ同一の内容
を表わす。特に好ましくはb,は水素原子を表わし、b
.はメチルを表わし、x2はーC00−を表わす。
本発明の樹脂〔B〕において、Aブロック/Bブロック
比は1〜30/99〜’70(重量比)であることが好
ましく、また樹脂〔B〕中における酸性基含有或分の存
在量は、0.1〜20重量%、特に0.5〜IO重量%
であることが好ましい。また、マクロ七ノマー(M)を
繰り返し単位とする共重合成分と、一般式(I[I)で
示される単量体を繰り返し単位とする共重合成分の組戒
比は、好ましくは1〜?0/99〜40(重量組戒比)
、より好ましくは5〜50/95〜50(重量組成比)
である。
比は1〜30/99〜’70(重量比)であることが好
ましく、また樹脂〔B〕中における酸性基含有或分の存
在量は、0.1〜20重量%、特に0.5〜IO重量%
であることが好ましい。また、マクロ七ノマー(M)を
繰り返し単位とする共重合成分と、一般式(I[I)で
示される単量体を繰り返し単位とする共重合成分の組戒
比は、好ましくは1〜?0/99〜40(重量組戒比)
、より好ましくは5〜50/95〜50(重量組成比)
である。
又、重合体主鎖中には、一P0311■基、−SO3H
基、C00H基、一〇11基、−Sll基及び−PO3
11H基の極性基を含有する共重合戒分を含有しないも
のが好ましい。
基、C00H基、一〇11基、−Sll基及び−PO3
11H基の極性基を含有する共重合戒分を含有しないも
のが好ましい。
本発明の結着樹脂〔A〕及び〔B〕は、それぞれ相当す
る一官能性重合性化合物を所望の割合で共重合させるこ
とによって製造することができる。
る一官能性重合性化合物を所望の割合で共重合させるこ
とによって製造することができる。
重合方法としては溶液重合、懸濁重合、沈澱重合、乳化
重合等の公知の方法を用いることにより製造することが
できる。例えば溶液重合ではベンゼン、トルエン等の溶
媒中、単量体を所定の割合で添加し、アゾビス系化合物
、過酸化化合物、ラジカル重合開始剤によって重合せし
め共重合体溶液を得ることができる。これを乾燥または
貧溶剤に添加することにより所望の共重合体を得ること
ができる。また、勉濁重合ではポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン等の分散剤の存在下、単量体を懇
濁させ、ラジカル重合開始剤の存在下で共重合せしめ共
重合体を得ることができる。
重合等の公知の方法を用いることにより製造することが
できる。例えば溶液重合ではベンゼン、トルエン等の溶
媒中、単量体を所定の割合で添加し、アゾビス系化合物
、過酸化化合物、ラジカル重合開始剤によって重合せし
め共重合体溶液を得ることができる。これを乾燥または
貧溶剤に添加することにより所望の共重合体を得ること
ができる。また、勉濁重合ではポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン等の分散剤の存在下、単量体を懇
濁させ、ラジカル重合開始剤の存在下で共重合せしめ共
重合体を得ることができる。
更には、本発明の結着樹脂において、好ましい態様であ
る、低分子量体である樹脂〔A〕及び高分子量体である
樹脂〔B〕の合戒は、従来公知の如く、開始剤の種I!
(温度により半減期が異なる)、開始剤の量、重合開始
温度あるいは連鎖移動剤の併用等の方法により容易に調
節することができる. 本発明の光導電層の結着樹脂として、本発明の結着樹脂
とともに、従来、電子写真用結着樹脂として用いられて
いるものを組合せて使用することもできる.例えば、宮
原晴視、武井秀彦、「イメージングJ 1978 階
8 9〜12、栗田隆治、石渡次郎、「高分子J 、1
7, 278〜284 (1968)等の総説引用の材
料が挙げられる。
る、低分子量体である樹脂〔A〕及び高分子量体である
樹脂〔B〕の合戒は、従来公知の如く、開始剤の種I!
(温度により半減期が異なる)、開始剤の量、重合開始
温度あるいは連鎖移動剤の併用等の方法により容易に調
節することができる. 本発明の光導電層の結着樹脂として、本発明の結着樹脂
とともに、従来、電子写真用結着樹脂として用いられて
いるものを組合せて使用することもできる.例えば、宮
原晴視、武井秀彦、「イメージングJ 1978 階
8 9〜12、栗田隆治、石渡次郎、「高分子J 、1
7, 278〜284 (1968)等の総説引用の材
料が挙げられる。
具体的には、オレフィン重合体及び共重合体、塩化ビニ
ル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、アルカン酸ビニ
ル重合体及び共重合体、アルカン酸アリル重合体及び共
重合体、スチレン及びその誘導体、重合体及び共重合体
、プタジエンースチレン共重合体、イソプレンースチレ
ン共重合体、ブタジエンー不飽和カルボン酸エステル共
重合体、アクリロニトリル共重合体、メタクリロニトリ
ル共重合体、アルキルビニルエーテル共重合体、アクリ
ル酸エステル重合体及び共重合体、メタクリル酸エステ
ル重合体及び共重合体、スチレンーアクリル酸エステル
共重合体、スチレンーメタクリル酸エステル共重合体、
イタコン酸ジエステル重合体及び共重合体、無水マレイ
ン酸共重合体、アクリルアミド共重合体、メタクリルア
ミド共重合体、水酸基変性シリコン樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ケトン樹脂、アミド樹脂、水酸基及びカルボ
キシル基変性ポリエステル樹脂、ブチラール樹脂、ポリ
ビニルアセクール樹脂、環化ゴムーメタアクリル酸エス
テル共重合体、環化ゴムーアクリル酸エステル共重合体
、窒素原子を含有しない複素環を含有する共重合体(複
素環として例えば、フラン環、テトラヒド口フラン環、
チオフエン環、ジオキサン環、ジオキソラン環、ラクト
ン環、ペンゾフラン環、ペンゾチオフエン環、1.3−
ジオキセクン環等)、エボキシ樹脂等が挙げられる。
ル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、アルカン酸ビニ
ル重合体及び共重合体、アルカン酸アリル重合体及び共
重合体、スチレン及びその誘導体、重合体及び共重合体
、プタジエンースチレン共重合体、イソプレンースチレ
ン共重合体、ブタジエンー不飽和カルボン酸エステル共
重合体、アクリロニトリル共重合体、メタクリロニトリ
ル共重合体、アルキルビニルエーテル共重合体、アクリ
ル酸エステル重合体及び共重合体、メタクリル酸エステ
ル重合体及び共重合体、スチレンーアクリル酸エステル
共重合体、スチレンーメタクリル酸エステル共重合体、
イタコン酸ジエステル重合体及び共重合体、無水マレイ
ン酸共重合体、アクリルアミド共重合体、メタクリルア
ミド共重合体、水酸基変性シリコン樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ケトン樹脂、アミド樹脂、水酸基及びカルボ
キシル基変性ポリエステル樹脂、ブチラール樹脂、ポリ
ビニルアセクール樹脂、環化ゴムーメタアクリル酸エス
テル共重合体、環化ゴムーアクリル酸エステル共重合体
、窒素原子を含有しない複素環を含有する共重合体(複
素環として例えば、フラン環、テトラヒド口フラン環、
チオフエン環、ジオキサン環、ジオキソラン環、ラクト
ン環、ペンゾフラン環、ペンゾチオフエン環、1.3−
ジオキセクン環等)、エボキシ樹脂等が挙げられる。
しかし、これらの樹脂は、全結着樹脂量の30重量%を
越えない範囲で用いる事が好ましい。
越えない範囲で用いる事が好ましい。
樹脂〔A〕及び〔B〕の使用する割合は特に制限はない
が、樹脂〔A〕/ 〔B〕比5〜50/95〜50、特
に10〜40/90〜60(重量比)であることが好ま
しい。
が、樹脂〔A〕/ 〔B〕比5〜50/95〜50、特
に10〜40/90〜60(重量比)であることが好ま
しい。
本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜鉛、
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドξウム、炭酸カドξウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛、等が挙・げられる.無機光導電材料に対し
て用いる結着樹脂の総量は、光導電体100重量部に対
して、結着樹脂を10〜100重量部なる割合、好まし
くは15〜50重量部なる割合で使用する。
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドξウム、炭酸カドξウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛、等が挙・げられる.無機光導電材料に対し
て用いる結着樹脂の総量は、光導電体100重量部に対
して、結着樹脂を10〜100重量部なる割合、好まし
くは15〜50重量部なる割合で使用する。
本発明では、必要に応して各種の色素を分光増感剤とし
て併用することができる.例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージングu(NILB)第12頁、C.J.Yo
ung等、17(:/l lleviewユi 469
(1954),清田航平等、電気通信学会論文誌4
( N[L2 ) ,97 (1980) 、原崎勇次
等、工業化学雑誌皿78及び188 (1963)、谷
忠昭、日本写真学会誌出、208(1972) 、等の
総説引例のカーボニウム系色素、ジフェニルメタン色素
、トリフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレ
イン系色素、ボリメチン色素(例えば、オキソノール色
素、メロシアニン色素、シアニン色素、ログシアニン色
素、スチリル色素等)、フタ口シアニン色素(金属含有
してもよい)等が挙げられる。
て併用することができる.例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージングu(NILB)第12頁、C.J.Yo
ung等、17(:/l lleviewユi 469
(1954),清田航平等、電気通信学会論文誌4
( N[L2 ) ,97 (1980) 、原崎勇次
等、工業化学雑誌皿78及び188 (1963)、谷
忠昭、日本写真学会誌出、208(1972) 、等の
総説引例のカーボニウム系色素、ジフェニルメタン色素
、トリフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレ
イン系色素、ボリメチン色素(例えば、オキソノール色
素、メロシアニン色素、シアニン色素、ログシアニン色
素、スチリル色素等)、フタ口シアニン色素(金属含有
してもよい)等が挙げられる。
更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフヱニルメ
タン色素、キサンテン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51452号、特開昭5
0−90334号、特開昭50〜114227号、特開
昭53−39130号、特開昭53−82353号、米
国特許第3.052,540号、米国特許第4,054
,450号、特開昭57−16456号等に記載のもの
が挙げられる。
タン色素、キサンテン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51452号、特開昭5
0−90334号、特開昭50〜114227号、特開
昭53−39130号、特開昭53−82353号、米
国特許第3.052,540号、米国特許第4,054
,450号、特開昭57−16456号等に記載のもの
が挙げられる。
オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F.M
.Harmmar r↑he Cyanine Dye
s andRelated Compounds J等
に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には、米
国特許第3,047.384号、米国特許第3,110
.591号、米国特許第3,121 , 008号、米
国特許第3,125,447号、米国特許第3, 12
8, IT!}号、米国特許第3. 132, 942
号、米国特許第3,622,317号、英国特許第1.
226.892号、英国特許第1.309.274号、
英国特許第1.405,898号、特公昭48−781
4号、特公昭55−18892号等に記載の色素が挙げ
られる. 更に、700r++w以上の長波長の近赤外〜赤外光域
を分光増感するボリメチン色素として、特開昭47−8
40号、特開昭47−44180号、特公昭51−41
061号、特開昭49−5034号、特開昭49−45
122号、特開昭57−46245号、特開昭56−3
5141号、特開昭57−157254号、特開昭61
−26044号、特開昭61−27551号、米国特許
第3,619, 154号、米国特許第4,175,9
56号、’Research DisclosureJ
1982年、216、第117 〜11B頁等に記載
のものが挙げられる。本発明の感光体は種々の増感色素
を併用させても、その性能が増感色素により変動しにく
い点において優れている。更には、必要に応じて、化学
増感剤等の従来知られている電子写真感光層用各種添加
剤を併用することもできる.例えば、前記した総説:イ
メージング1973 (811B )第12頁等の総説
引例の電子受容性化合物(例えば、ハロゲン、ペンゾキ
ノン、クロラニル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小
門宏等、「最近の光導電材料と感光体の開発・実用化」
第4章〜第6章:日本科学情報■出版部(1986年)
の総説引例のポリアリールアルカン化合物、ヒンダート
フェノール化合物、p−フエニレンジア兆ン化合物等が
挙げられる。
ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F.M
.Harmmar r↑he Cyanine Dye
s andRelated Compounds J等
に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には、米
国特許第3,047.384号、米国特許第3,110
.591号、米国特許第3,121 , 008号、米
国特許第3,125,447号、米国特許第3, 12
8, IT!}号、米国特許第3. 132, 942
号、米国特許第3,622,317号、英国特許第1.
226.892号、英国特許第1.309.274号、
英国特許第1.405,898号、特公昭48−781
4号、特公昭55−18892号等に記載の色素が挙げ
られる. 更に、700r++w以上の長波長の近赤外〜赤外光域
を分光増感するボリメチン色素として、特開昭47−8
40号、特開昭47−44180号、特公昭51−41
061号、特開昭49−5034号、特開昭49−45
122号、特開昭57−46245号、特開昭56−3
5141号、特開昭57−157254号、特開昭61
−26044号、特開昭61−27551号、米国特許
第3,619, 154号、米国特許第4,175,9
56号、’Research DisclosureJ
1982年、216、第117 〜11B頁等に記載
のものが挙げられる。本発明の感光体は種々の増感色素
を併用させても、その性能が増感色素により変動しにく
い点において優れている。更には、必要に応じて、化学
増感剤等の従来知られている電子写真感光層用各種添加
剤を併用することもできる.例えば、前記した総説:イ
メージング1973 (811B )第12頁等の総説
引例の電子受容性化合物(例えば、ハロゲン、ペンゾキ
ノン、クロラニル、酸無水物、有機カルボン酸等)、小
門宏等、「最近の光導電材料と感光体の開発・実用化」
第4章〜第6章:日本科学情報■出版部(1986年)
の総説引例のポリアリールアルカン化合物、ヒンダート
フェノール化合物、p−フエニレンジア兆ン化合物等が
挙げられる。
これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではないが、
通常光導電体100重量部に対して0.0001〜2.
0重量部である. 光導電層の厚さは1〜lOO μ、特には10〜50μ
が好適である。
通常光導電体100重量部に対して0.0001〜2.
0重量部である. 光導電層の厚さは1〜lOO μ、特には10〜50μ
が好適である。
また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特には0,05〜0.5μが好適で
ある. 感光体の保iおよび耐久性、暗減衰特性の改善等を主目
的として絶縁層を付設させる場合もある.この時は絶t
JA層は比較的薄く設定され、感光体を特定の電子写真
プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比較的厚く
設定される. 後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、1
0〜50μに設定される。
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特には0,05〜0.5μが好適で
ある. 感光体の保iおよび耐久性、暗減衰特性の改善等を主目
的として絶縁層を付設させる場合もある.この時は絶t
JA層は比較的薄く設定され、感光体を特定の電子写真
プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比較的厚く
設定される. 後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、1
0〜50μに設定される。
積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバ
ゾール、オキサゾール系色素、ビラプリン系色素、トリ
フエニルメタン系色素などがある.電荷輸送層の厚さと
しては5〜40μ、特にはlO〜30μが好適である. 絶縁層あるいは電荷輸送層の形或に用いる樹脂としては
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ酢ビ共重合体樹脂、ポリアク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、エポキ
シ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及
び硬化性樹脂が適宜用いられる。
ゾール、オキサゾール系色素、ビラプリン系色素、トリ
フエニルメタン系色素などがある.電荷輸送層の厚さと
しては5〜40μ、特にはlO〜30μが好適である. 絶縁層あるいは電荷輸送層の形或に用いる樹脂としては
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビ酢ビ共重合体樹脂、ポリアク
リル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、エポキ
シ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及
び硬化性樹脂が適宜用いられる。
本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる.一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
一ト等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくともl層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくともl層以上のプレコート層が設
けられたもの、M等を蒸着した基体導電化プラスチック
を紙にラ稟ネートしたもの等が使用できる。
ことができる.一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
一ト等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくともl層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応じて少なくともl層以上のプレコート層が設
けられたもの、M等を蒸着した基体導電化プラスチック
を紙にラ稟ネートしたもの等が使用できる。
具体的に、導電性基体あるいはRT;.化材料の例とし
て、坂本幸男、「電子写真J 、14 (kl )、p
2〜11 (1975) 、森賀弘之、「入門特殊紙の
化学」高分子刊行会(1975), M.F.Hoov
er, J.Macro*ol. Sci. Chew
. A−4 (6)、第1327〜第1417頁(19
70)等に記載されているもの等を用いる。
て、坂本幸男、「電子写真J 、14 (kl )、p
2〜11 (1975) 、森賀弘之、「入門特殊紙の
化学」高分子刊行会(1975), M.F.Hoov
er, J.Macro*ol. Sci. Chew
. A−4 (6)、第1327〜第1417頁(19
70)等に記載されているもの等を用いる。
(実施例)
以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容がこ
れらに限定されるものではない。
れらに限定されるものではない。
本発明の樹脂〔A〕の合威例1:(A−1)ペンジルメ
タクリレート95g、アクリル酸5g及びトルエン20
0gの混合溶液を窒素気流下90゜Cの温度に加温した
後、2.2′−アゾビスイソブチロニトリル(略称^.
I.B.N) 6.0gを加え4時間反応させた.更に
、^.I.B.N. 2 gを加え2時間反応させた.
得られた共重合体(A−1)の重量平均分子量(略称
)は8500であった.本発明の樹脂〔A〕の合成例2
〜28: (A−2)〜(A−28) 樹脂〔A〕の合戒例1の重合条件と同様に操作して下記
表一lの各樹脂〔A〕を合成した。
タクリレート95g、アクリル酸5g及びトルエン20
0gの混合溶液を窒素気流下90゜Cの温度に加温した
後、2.2′−アゾビスイソブチロニトリル(略称^.
I.B.N) 6.0gを加え4時間反応させた.更に
、^.I.B.N. 2 gを加え2時間反応させた.
得られた共重合体(A−1)の重量平均分子量(略称
)は8500であった.本発明の樹脂〔A〕の合成例2
〜28: (A−2)〜(A−28) 樹脂〔A〕の合戒例1の重合条件と同様に操作して下記
表一lの各樹脂〔A〕を合成した。
本発明の樹脂〔A〕の合成例29:(A−29)2,6
−ジクロロフェニルメタクリレート95g,アクリル酸
5g,n−ドデシルメルカブタン2g及びトルエン20
0gの混合溶液を窒素気流下80゜Cの温度に加温した
後、^.I.B.N. 2 gを加え、4時間反応し、
次に^.I.B.N. 0.5gを加え2時間、更に^
.I.B.N. 0.5gを加え3時間反応した.冷却
後、メタノール/水(9/1)の混合溶液2l中に再沈
し、沈澱物をデカンテーションで捕集し、減圧乾燥した
.得られたワックス状の共重合体の収量は78gでんは
6.3 X 103であった.マクロモノマー(M)の
合戒例:(M−1)トリフェニルメチルメタクリレ一目
Og及びトルエン100 gの混合溶液を窒素気流下に
充分に脱気し−20℃に冷却した。
−ジクロロフェニルメタクリレート95g,アクリル酸
5g,n−ドデシルメルカブタン2g及びトルエン20
0gの混合溶液を窒素気流下80゜Cの温度に加温した
後、^.I.B.N. 2 gを加え、4時間反応し、
次に^.I.B.N. 0.5gを加え2時間、更に^
.I.B.N. 0.5gを加え3時間反応した.冷却
後、メタノール/水(9/1)の混合溶液2l中に再沈
し、沈澱物をデカンテーションで捕集し、減圧乾燥した
.得られたワックス状の共重合体の収量は78gでんは
6.3 X 103であった.マクロモノマー(M)の
合戒例:(M−1)トリフェニルメチルメタクリレ一目
Og及びトルエン100 gの混合溶液を窒素気流下に
充分に脱気し−20℃に冷却した。
1.1−ジフェニルブチルリチウム0.02gを加え1
0時間反応した. 更にこの混合溶液に、エチルメタクリレート90g及び
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
した後添加し、更にlO時間反応した.この混合物を0
゜Cにした後、炭酸ガスを60a!!/+winの流量
で30分間通気し、重合反応を停止させた.得られた反
応液を、攪拌下に、温度25゛Cとし、2−ヒドロキシ
エチルメタクリレート6gを加え、更に、ジシクロへキ
シルカルボジイξド10g、4N,N−ジメチルアミノ
ピリジン0.2g及び塩化メチレン30gの混合溶液を
30分間で滴下し、そのまま3時間撹拌した. 析出した不溶物を濾別後、この混合溶液に30重量%塩
化水素・エタノール溶液10JI!を加え1時間攪拌し
た。次に減圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで
溶媒を留去した後、石油エーテルll中に再沈した。
0時間反応した. 更にこの混合溶液に、エチルメタクリレート90g及び
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
した後添加し、更にlO時間反応した.この混合物を0
゜Cにした後、炭酸ガスを60a!!/+winの流量
で30分間通気し、重合反応を停止させた.得られた反
応液を、攪拌下に、温度25゛Cとし、2−ヒドロキシ
エチルメタクリレート6gを加え、更に、ジシクロへキ
シルカルボジイξド10g、4N,N−ジメチルアミノ
ピリジン0.2g及び塩化メチレン30gの混合溶液を
30分間で滴下し、そのまま3時間撹拌した. 析出した不溶物を濾別後、この混合溶液に30重量%塩
化水素・エタノール溶液10JI!を加え1時間攪拌し
た。次に減圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで
溶媒を留去した後、石油エーテルll中に再沈した。
沈澱物を捕集し、減圧乾燥して得られた重合体は、ん6
.5X10’で収量56gであった。
.5X10’で収量56gであった。
(M− 1 )
CL
1;(1(](;.HS COOHマクロモノ
マー(M)の合戒例21M−2)ペンジルメタクリレー
ト5g、(テトラフェニルボルフィナート)アルミニウ
ムメチル0.01 g及び塩化メチレン60gの混合溶
液を窒素気流下に温度30゜Cとした.これに300W
−キセノンランプ光をガラスフィルターを通して25c
mの距離から光照射し、12時間反応した.この混合物
に更にプチルメタクリレー}45gを加え、同様に8時
間光照射した後、この反応混合物に4−ブロモメチルス
チレン5gを加え30分間攪拌し反応を停止させた。
マー(M)の合戒例21M−2)ペンジルメタクリレー
ト5g、(テトラフェニルボルフィナート)アルミニウ
ムメチル0.01 g及び塩化メチレン60gの混合溶
液を窒素気流下に温度30゜Cとした.これに300W
−キセノンランプ光をガラスフィルターを通して25c
mの距離から光照射し、12時間反応した.この混合物
に更にプチルメタクリレー}45gを加え、同様に8時
間光照射した後、この反応混合物に4−ブロモメチルス
チレン5gを加え30分間攪拌し反応を停止させた。
次にこの反応混合物にPd−Cを加え、温度25゜Cで
1時間接触還元反応を行なった. 不溶物を濾別した後、石油エーテル500ll!l!中
に再沈し、沈S物をlil集し乾燥した.得られた重合
体は収量33gで〜7X103であった。
1時間接触還元反応を行なった. 不溶物を濾別した後、石油エーテル500ll!l!中
に再沈し、沈S物をlil集し乾燥した.得られた重合
体は収量33gで〜7X103であった。
(M−2)
6υυし4H? COOH
マクロモノマー(M)の合戒例3: (M−3)4−ビ
ニルフエニルオキシトリメチルシラン20g及びトルエ
ン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、0
゜Cに冷却した,1.1−ジフェニル−3−メチルペン
チルリチウム0.1gを加え、6時間攪拌した。更にこ
の混合物に2−クロロー6−メチルフェニルメタクリレ
ート80g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流
下に充分脱気した後添加して8時間反応した.この反応
混合物に充分に撹拌しながらエチレンオキサイドを30
−/分の流量で30分間通気した後、温度l5゜Cに冷
却しメタクリル酸クロライド8gを30分間で滴下し、
更にそのまま3時間攪拌した. 次にこの反応混合物に30重量%塩化水素エタノール溶
液10dを加え、25゜Cで1時間攪拌した後、石油エ
ーテルif中に再沈し、捕集した沈澱物をジエチルエー
テル300dで2回洗浄し乾燥した.得られた重合体は
、収155gで& 7.8X10’であった. (M 3) CH. マクロモノマー(M)の合威例4: (M−4)トリフ
ェニルメチルアクリレート15g及びトルエン100g
の混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−20゜Cに冷
却した。
ニルフエニルオキシトリメチルシラン20g及びトルエ
ン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、0
゜Cに冷却した,1.1−ジフェニル−3−メチルペン
チルリチウム0.1gを加え、6時間攪拌した。更にこ
の混合物に2−クロロー6−メチルフェニルメタクリレ
ート80g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流
下に充分脱気した後添加して8時間反応した.この反応
混合物に充分に撹拌しながらエチレンオキサイドを30
−/分の流量で30分間通気した後、温度l5゜Cに冷
却しメタクリル酸クロライド8gを30分間で滴下し、
更にそのまま3時間攪拌した. 次にこの反応混合物に30重量%塩化水素エタノール溶
液10dを加え、25゜Cで1時間攪拌した後、石油エ
ーテルif中に再沈し、捕集した沈澱物をジエチルエー
テル300dで2回洗浄し乾燥した.得られた重合体は
、収155gで& 7.8X10’であった. (M 3) CH. マクロモノマー(M)の合威例4: (M−4)トリフ
ェニルメチルアクリレート15g及びトルエン100g
の混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−20゜Cに冷
却した。
sec−ブチルリチウム0.1gを加え、10時間反応
した. 次に、この混合溶液にスチレン85g及びトルエン10
0gの混合溶液を充分に窒素気流下で脱気した後添加し
、12時間反応した.この混合物を0℃にした後、ベン
ジルブロマイド8gを加え1時間反応し、温度25℃で
更に2時間反応させた.この反応混合物に30%塩化水
素含有エタノール溶液10dを加え、2時間撹拌した。
した. 次に、この混合溶液にスチレン85g及びトルエン10
0gの混合溶液を充分に窒素気流下で脱気した後添加し
、12時間反応した.この混合物を0℃にした後、ベン
ジルブロマイド8gを加え1時間反応し、温度25℃で
更に2時間反応させた.この反応混合物に30%塩化水
素含有エタノール溶液10dを加え、2時間撹拌した。
不溶物を濾別後、n−へキサンlN中に再沈し、沈澱物
を捕集して減圧乾燥した.得られた重合体の収量は58
gで、PI114.5X103であった。
を捕集して減圧乾燥した.得られた重合体の収量は58
gで、PI114.5X103であった。
(M−4)
マクロモノマー(M)の合戒例5: (M−5)フェニ
ルメタクリレート80g、ベンジルーN一ヒドロキシル
エチルーN=エチルジチオカーバメート4.8gの混合
物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度60℃に加温し
た. これに400Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラ
スフィルターを通してlO時間光照射し光重合した。
ルメタクリレート80g、ベンジルーN一ヒドロキシル
エチルーN=エチルジチオカーバメート4.8gの混合
物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度60℃に加温し
た. これに400Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラ
スフィルターを通してlO時間光照射し光重合した。
これにアクリル酸20g及びメチルエチルケトン180
gを加えた後、窒素置換し再び10時間光照射した. 得られた反応混合物に、2−イソシアナートエチルメタ
クリレート6gを温度30゜Cで1時間で滴下し、さら
に2時間撹拌した. 次に得られた反応物をヘキサン1.5 1に再沈し、捕
集し乾燥した.得られた重合体は、68gでん6.O
XIO3であった. (M−5) 樹脂〔B〕のを戒例1 : (B−1)エチルメタク
リレート80g,マクロモノマー(M−1)20g、ト
ルエン150gの混合溶液を窒素気流下に温度85゜C
に加温した。1.1−アゾビス(シロクヘキサン−1一
カルボニトリル) (ABCC)0.8gを加え5時間
反応し、更にA.B.C.C 0.5gを加え5時間
反応した. 得られた共重合体のんは1.O X 10Sであった。
gを加えた後、窒素置換し再び10時間光照射した. 得られた反応混合物に、2−イソシアナートエチルメタ
クリレート6gを温度30゜Cで1時間で滴下し、さら
に2時間撹拌した. 次に得られた反応物をヘキサン1.5 1に再沈し、捕
集し乾燥した.得られた重合体は、68gでん6.O
XIO3であった. (M−5) 樹脂〔B〕のを戒例1 : (B−1)エチルメタク
リレート80g,マクロモノマー(M−1)20g、ト
ルエン150gの混合溶液を窒素気流下に温度85゜C
に加温した。1.1−アゾビス(シロクヘキサン−1一
カルボニトリル) (ABCC)0.8gを加え5時間
反応し、更にA.B.C.C 0.5gを加え5時間
反応した. 得られた共重合体のんは1.O X 10Sであった。
(B−1)
CH, CIlff
樹脂〔B〕の合成例2:(B−2)
プチルメタクリレート70g1マクロモノマー(M−1
)30g, トルエン150gの混合溶液を窒素気流
下に温度70゜Cに加温した。
)30g, トルエン150gの混合溶液を窒素気流
下に温度70゜Cに加温した。
A,r.n.N. 0.5gを加え6時間反応し、更に
4時間毎にA.I.B.N. 0.3gを加え8時間反
応した。
4時間毎にA.I.B.N. 0.3gを加え8時間反
応した。
得られた共重合体のんは8.5 X to’であった。
CB−2)
9〕
樹脂〔B〕の合戒例2と同様の重合条件で、下記表−2
の共重合体を合威した. 得られた重合体のFlwは、 各々7X10’〜9X104 であった. 樹脂〔B〕の合戒例10〜20: (B−10)〜〔B
20〕 樹脂〔B〕の合威例lと同様の重合条件で、下記表−3
の共重合体を合威した。得られた重合体のんば、各々9
X10’〜2×104であった.実施例1及び比較例A
〜B 樹脂(A−736g(固形分量として)、樹脂CB−1
)34g(固形分量として)、下記構造のシアニン色素
(1)0.018g,サリチル酸0. 15 g及びト
ルエン300gの混合物をボールミル中で3時間分散し
て、感光層形戒物を調製し、これを導電処理した紙に、
乾燥付着量が20g/ rdとなる様に、ワイヤーバー
で塗布し、110℃で30秒間乾燥し、ついで暗所で2
0゜C65%RHの条件下で24時間放置することによ
り、電子写真感光材料を作製した.シアニン色素〔1〕 比較例A: 実施例1において、結着樹脂として用いた樹脂CB−1
)34gの代わりに、ポリ(エチルメタクリレート)
(Fill 2.4 XIO’ i樹脂(R−1
)134gを用いる以外は、実施例lと同様の操作で、
電子写真感光材料を作製した。
の共重合体を合威した. 得られた重合体のFlwは、 各々7X10’〜9X104 であった. 樹脂〔B〕の合戒例10〜20: (B−10)〜〔B
20〕 樹脂〔B〕の合威例lと同様の重合条件で、下記表−3
の共重合体を合威した。得られた重合体のんば、各々9
X10’〜2×104であった.実施例1及び比較例A
〜B 樹脂(A−736g(固形分量として)、樹脂CB−1
)34g(固形分量として)、下記構造のシアニン色素
(1)0.018g,サリチル酸0. 15 g及びト
ルエン300gの混合物をボールミル中で3時間分散し
て、感光層形戒物を調製し、これを導電処理した紙に、
乾燥付着量が20g/ rdとなる様に、ワイヤーバー
で塗布し、110℃で30秒間乾燥し、ついで暗所で2
0゜C65%RHの条件下で24時間放置することによ
り、電子写真感光材料を作製した.シアニン色素〔1〕 比較例A: 実施例1において、結着樹脂として用いた樹脂CB−1
)34gの代わりに、ポリ(エチルメタクリレート)
(Fill 2.4 XIO’ i樹脂(R−1
)134gを用いる以外は、実施例lと同様の操作で、
電子写真感光材料を作製した。
比較例B:
実施例lにおいて、用いた結着樹脂(B−1)34gの
代わりに、〔(エチルメタクリレート/メタアクリル酸
)共重合体(99.5/0.5)重量比〕{〜9 XI
O’ ;樹脂(R−23134gを用いる以外は実施例
1と同様の操作で、電子写真感光材料を作製した. これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特性
、撮像性及び環境条件を30゜C、80%Rllとした
時の撮像性を調べた。更に、これらの感光材料をオフセ
ットマスター用原版として用いた時の光導電性の不感脂
化性(不感脂化処理後の光導電層の水との接触角で表わ
す)及び印刷性(地汚れ、耐剛性等)を調べた。
代わりに、〔(エチルメタクリレート/メタアクリル酸
)共重合体(99.5/0.5)重量比〕{〜9 XI
O’ ;樹脂(R−23134gを用いる以外は実施例
1と同様の操作で、電子写真感光材料を作製した. これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、静電特性
、撮像性及び環境条件を30゜C、80%Rllとした
時の撮像性を調べた。更に、これらの感光材料をオフセ
ットマスター用原版として用いた時の光導電性の不感脂
化性(不感脂化処理後の光導電層の水との接触角で表わ
す)及び印刷性(地汚れ、耐剛性等)を調べた。
以上の結果をまとめて、表−4に示す。
表
4
表−4に示した評価項目の実施の態様は以下の通りであ
る. 注1)光導電層の平滑性: 得られた感光材料は、ベック平滑度試験機(熊谷理工■
製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
see/cc)を測定した.注2)光導電層の機械的強
度: 得られた感光材料面をヘイドンー14型表面性試験材(
新東化学■製)を用いて荷重60g/c+1のものでエ
メリー紙(11000)でl000回繰り返し探り摩耗
粉を取り除き感光層の重量減少から残膜率(%)を求め
機械的強度とした. 注3)静電特性: 温度20″C、65%Rllの暗室中で、各感光材料に
ペーパーアナライザー(川口電機■製ペーパーアナライ
ザーSP−428型)を用いテ− 6 kVテ20秒間
コロナ放電させた後、IO秒間放置し、この時の表面電
位v1.を測定した.次いでそのまま暗中で180秒間
静置させた後の電位V.。を測定し、180秒間賄減衰
させた後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率(DRR
(X)を(V+to/V+o) XIOO(%)で求め
た.又コロナ放電により光導電層表面を−500Vに帯
電させた後、波長785nmの単色光で照射し、表面電
位(ν.。)がl/10に減衰するまでの時間を求め、
これから露光量E+z+o(erg/Cj)を算出する
。
る. 注1)光導電層の平滑性: 得られた感光材料は、ベック平滑度試験機(熊谷理工■
製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
see/cc)を測定した.注2)光導電層の機械的強
度: 得られた感光材料面をヘイドンー14型表面性試験材(
新東化学■製)を用いて荷重60g/c+1のものでエ
メリー紙(11000)でl000回繰り返し探り摩耗
粉を取り除き感光層の重量減少から残膜率(%)を求め
機械的強度とした. 注3)静電特性: 温度20″C、65%Rllの暗室中で、各感光材料に
ペーパーアナライザー(川口電機■製ペーパーアナライ
ザーSP−428型)を用いテ− 6 kVテ20秒間
コロナ放電させた後、IO秒間放置し、この時の表面電
位v1.を測定した.次いでそのまま暗中で180秒間
静置させた後の電位V.。を測定し、180秒間賄減衰
させた後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率(DRR
(X)を(V+to/V+o) XIOO(%)で求め
た.又コロナ放電により光導電層表面を−500Vに帯
電させた後、波長785nmの単色光で照射し、表面電
位(ν.。)がl/10に減衰するまでの時間を求め、
これから露光量E+z+o(erg/Cj)を算出する
。
更にE1/1。測定と同様にコロナ放電により−500
vに帯電させた後、波長785nmの単色光で照射し、
表面電位(LJが1 /100に減衰するまでの時間を
求め、これから露光量E17,。。(erg/ cd)
を算出する。
vに帯電させた後、波長785nmの単色光で照射し、
表面電位(LJが1 /100に減衰するまでの時間を
求め、これから露光量E17,。。(erg/ cd)
を算出する。
注4)撮像性:
各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した.次に−
5kVで帯電し、光源として2.8一出力のガリウムー
アルξニウムーヒ素、半導体レーザー(発振波長780
nm )を用いて、感光材料表面上で50erg/c−
の照射量下、ビッチ25lm及びスキャニング速度33
0w/secのスピード露光後液体現像剤として、EL
P−T (富士写真フイルム■製)を用いて現像し、
定着することで得られた複写画像(カブリ、画像の画質
)を目視評価した. 撮像時の環境条件は20゜C65%R11と30℃80
%Rl1で実施した. 注5)水との接触角: 各感光材料を不感脂化処理液EPL−EX (富士写真
フイルム■製)を蒸留水で2倍に希釈した溶液を用いて
、エッチングプロセッサーに1回通して光導電層面を不
感脂化処理した後、これに蒸留水2μlの水滴を乗せ、
形威された水との接触角をゴニオメーターで測定する。
5kVで帯電し、光源として2.8一出力のガリウムー
アルξニウムーヒ素、半導体レーザー(発振波長780
nm )を用いて、感光材料表面上で50erg/c−
の照射量下、ビッチ25lm及びスキャニング速度33
0w/secのスピード露光後液体現像剤として、EL
P−T (富士写真フイルム■製)を用いて現像し、
定着することで得られた複写画像(カブリ、画像の画質
)を目視評価した. 撮像時の環境条件は20゜C65%R11と30℃80
%Rl1で実施した. 注5)水との接触角: 各感光材料を不感脂化処理液EPL−EX (富士写真
フイルム■製)を蒸留水で2倍に希釈した溶液を用いて
、エッチングプロセッサーに1回通して光導電層面を不
感脂化処理した後、これに蒸留水2μlの水滴を乗せ、
形威された水との接触角をゴニオメーターで測定する。
注6)耐刷性:
各感光材料を、上記注4)と同条件で、製版して、トナ
ー画像を形成し、上記注5)と同条件で不感脂化処理し
、これをオフセットマスターとして、オフセット印刷機
(桜井製作所■オリバー52型)にかけ、印刷物の非画
像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで印刷
できる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐剛性が良好な
ことを表わす). 表−4に示す樺に、本発明の感光材料は、光導電層の平
滑性膜の強度及び静電特性が良好で、実際の複写画像も
地力ブリがなく複写画質も鮮明であった.このことは光
導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表面を被
覆していることによるものと推定される.同様の理由で
、オフセットマスター原版として用いた場合でも不感脂
化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非画像部
の水との接触角が10度以下と小さく、充分に親水化さ
れていることが判る。実際に診察して印刷物の地汚れを
観察しても地汚れは全く認められなかった. 又比較例A及び比較例Bは、常温・常温の条件の静電特
性でv1。、D.R.R.、E,7.。はほぼ満足する
値が得られた。しかし、El/l。。を見ると、本発明
の感光材料に比べ倍以上の大きな値となってしまった。
ー画像を形成し、上記注5)と同条件で不感脂化処理し
、これをオフセットマスターとして、オフセット印刷機
(桜井製作所■オリバー52型)にかけ、印刷物の非画
像部の地汚れ及び画像部の画質に問題が生じないで印刷
できる枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐剛性が良好な
ことを表わす). 表−4に示す樺に、本発明の感光材料は、光導電層の平
滑性膜の強度及び静電特性が良好で、実際の複写画像も
地力ブリがなく複写画質も鮮明であった.このことは光
導電体と結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表面を被
覆していることによるものと推定される.同様の理由で
、オフセットマスター原版として用いた場合でも不感脂
化処理液による不感脂化処理が充分に進行し、非画像部
の水との接触角が10度以下と小さく、充分に親水化さ
れていることが判る。実際に診察して印刷物の地汚れを
観察しても地汚れは全く認められなかった. 又比較例A及び比較例Bは、常温・常温の条件の静電特
性でv1。、D.R.R.、E,7.。はほぼ満足する
値が得られた。しかし、El/l。。を見ると、本発明
の感光材料に比べ倍以上の大きな値となってしまった。
更に高温・高湿の条件では、E,71。。値は更に低下
が大きくなった.El/I。。値は、実際の撮像性にお
いて、露光後、非画像部(既に露光された部位)にどれ
だけの電位が残っているかを示すものであり、この値が
小さい程現像後の非画像部の地汚れが生じなくなる事を
示す. 具体的には−10V以下の残留電位にすることが必要と
なり、即ち実際にはV++ IOV以下とするために
、どれだけ露光量が必要となるかということで、半導体
レーザー光によるスキャンニング露光方式では、小さい
露光量でv3を−10V以下にすることは、複写機の光
学系の設計上(装置のコスト、光学系光路の精度等)非
常に重要なことである. 以上の事より、露光照射量を少し少なくした装置で実際
に撮像すると、比較例A及び比較例Bの感光材料は、画
像部に細線等のカスレ部分又非画像部に地力ブリが発生
してしまった.又、オフセットマスター原版として用い
た場合でも、本発明の感光材料が1万枚以上印刷できる
印刷条件で、比較例Aは4000枚、比較例Bは800
0枚止まりであった. 以上のことより、本発明の樹脂を用いた場合にのみ静電
特性及び印刷適性を満足する電子写真感光体が得られる
. 実施例2〜l7 実施例1において、樹脂(A−7)及び樹脂CB−1)
に代えて、下記表−5の各樹脂〔A〕各樹脂〔B〕に代
えた他は、実施例1と同様に操作して、各電子写真感光
体を作製した.表−5 静電特性は、 (30゜C、80%R11)条件下での澗淀値又、オフ
セットマスター原版として用いて、実施例1と同様にし
て印刷した所、いずれも1万枚以上印刷することができ
た。
が大きくなった.El/I。。値は、実際の撮像性にお
いて、露光後、非画像部(既に露光された部位)にどれ
だけの電位が残っているかを示すものであり、この値が
小さい程現像後の非画像部の地汚れが生じなくなる事を
示す. 具体的には−10V以下の残留電位にすることが必要と
なり、即ち実際にはV++ IOV以下とするために
、どれだけ露光量が必要となるかということで、半導体
レーザー光によるスキャンニング露光方式では、小さい
露光量でv3を−10V以下にすることは、複写機の光
学系の設計上(装置のコスト、光学系光路の精度等)非
常に重要なことである. 以上の事より、露光照射量を少し少なくした装置で実際
に撮像すると、比較例A及び比較例Bの感光材料は、画
像部に細線等のカスレ部分又非画像部に地力ブリが発生
してしまった.又、オフセットマスター原版として用い
た場合でも、本発明の感光材料が1万枚以上印刷できる
印刷条件で、比較例Aは4000枚、比較例Bは800
0枚止まりであった. 以上のことより、本発明の樹脂を用いた場合にのみ静電
特性及び印刷適性を満足する電子写真感光体が得られる
. 実施例2〜l7 実施例1において、樹脂(A−7)及び樹脂CB−1)
に代えて、下記表−5の各樹脂〔A〕各樹脂〔B〕に代
えた他は、実施例1と同様に操作して、各電子写真感光
体を作製した.表−5 静電特性は、 (30゜C、80%R11)条件下での澗淀値又、オフ
セットマスター原版として用いて、実施例1と同様にし
て印刷した所、いずれも1万枚以上印刷することができ
た。
以上から、本発明の各感光材料は光導電層の平滑性、膜
強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好なも
のであった. さらに、樹脂〔A′〕を用いることにより静電特性がさ
らに向上することが判った. 実施例18〜17 実施例1において結着樹脂として下記表−6の樹脂〔A
〕7.6g及び樹脂〔B〕34gに代え、又、シアニン
色素( 1 ) 0.02gの代わりに下記構造の色素
( ■) 0.019gに代えた他は、実施例1と同
様の条件で電子写真感光材料を作製した。
強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好なも
のであった. さらに、樹脂〔A′〕を用いることにより静電特性がさ
らに向上することが判った. 実施例18〜17 実施例1において結着樹脂として下記表−6の樹脂〔A
〕7.6g及び樹脂〔B〕34gに代え、又、シアニン
色素( 1 ) 0.02gの代わりに下記構造の色素
( ■) 0.019gに代えた他は、実施例1と同
様の条件で電子写真感光材料を作製した。
色素〔■〕
(Cut)ashs’
表
6
本発明の感光材料は、いずれもWt性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30゜
C−80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの
発生のない、鮮明な画像を与えた。
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30゜
C−80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの
発生のない、鮮明な画像を与えた。
更に、これをオフセットマスターの原版として用いて印
刷した所、地力プリのない鮮明な画質の印刷物を1万枚
以上印刷できた. 実施例28及び29並びに比較例C 樹脂(A−2)(実施例28)又は樹脂(A−10)(
実施例29)のいずれか6.5g、樹脂(B−2)33
.5 g ,酸化亜鉛200g、ウラニン0.02g、
ローズベンガル0.04 g、ブロムフェノールプルー
0.03g、無水フタル酸0.20g及びトルエン30
0gの混合物をボールミル中で3時間分散して感光層形
戒物を調整し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が
20g/ ITfとなる様にワイヤーバーで塗布し、1
10℃で1分間乾燥した.次いで暗所で20℃、65%
RHの条件下で24時間放置することにより各電子写真
感光体を作製した。
刷した所、地力プリのない鮮明な画質の印刷物を1万枚
以上印刷できた. 実施例28及び29並びに比較例C 樹脂(A−2)(実施例28)又は樹脂(A−10)(
実施例29)のいずれか6.5g、樹脂(B−2)33
.5 g ,酸化亜鉛200g、ウラニン0.02g、
ローズベンガル0.04 g、ブロムフェノールプルー
0.03g、無水フタル酸0.20g及びトルエン30
0gの混合物をボールミル中で3時間分散して感光層形
戒物を調整し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が
20g/ ITfとなる様にワイヤーバーで塗布し、1
10℃で1分間乾燥した.次いで暗所で20℃、65%
RHの条件下で24時間放置することにより各電子写真
感光体を作製した。
比較例C
実施例28において、樹脂(B − 2 ) 33.5
gの代わりに、前記樹脂(R − 2 ) 33.5g
を用いた他は、実施例28と同様にして、感光材料を作
製した.実施例1と同様に、各感光材料の各特性を調べ
た。その結果を下記表−7にまとめた。
gの代わりに、前記樹脂(R − 2 ) 33.5g
を用いた他は、実施例28と同様にして、感光材料を作
製した.実施例1と同様に、各感光材料の各特性を調べ
た。その結果を下記表−7にまとめた。
表−7
上記の測定において、静電特性及び撮像性については下
記の操作に従った他は、実施例lと同様の操作で行なっ
た. 注7)静電特性のEl/Ill及びE1/1。。の測定
方法コロナ放電により光導T!1層表面を−400■に
帯電させた後、該光導電層表面を照度2.0ルックスの
可視光で照射し、表面電位(V.。)がl/10又はE
171。。に減衰するまでの時間を求め、これから露光
量E17,。又はE17,。。(ルックス・秒)を算出
する。
記の操作に従った他は、実施例lと同様の操作で行なっ
た. 注7)静電特性のEl/Ill及びE1/1。。の測定
方法コロナ放電により光導T!1層表面を−400■に
帯電させた後、該光導電層表面を照度2.0ルックスの
可視光で照射し、表面電位(V.。)がl/10又はE
171。。に減衰するまでの時間を求め、これから露光
量E17,。又はE17,。。(ルックス・秒)を算出
する。
注8)撮像性
各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、全自
動製版機[!PL−404V (富士写真フイルム■製
)でEPL−Tをトナーとして用いて製版して得られた
複写画像(カブリ、画像の画’f[)を目視評価した.
撮像時の環境条件は、20゜C65%RH(1)と30
゜C80%RH(II)で実施した.但し、複写用の原
稿(即ち、版下原稿)には、ほかの原稿を切り抜いて、
貼り込みを行なって作威したものを用いた.各感光材料
において、光導電層の平滑性及び強度において、その差
は認められなかった.しかし、静電特性において、比較
例Cは、特に光感度B1/,。。の値が大きく、これは
高温、高温になるとより一層助長され、劣化してしまっ
た。本発明の感光材料の静電特性は良好であり、更に、
特定の置換基を有する樹脂〔A〕を用いた実施例29は
、非常に良好であり、特にE,7,。。の値が小さくな
った。
動製版機[!PL−404V (富士写真フイルム■製
)でEPL−Tをトナーとして用いて製版して得られた
複写画像(カブリ、画像の画’f[)を目視評価した.
撮像時の環境条件は、20゜C65%RH(1)と30
゜C80%RH(II)で実施した.但し、複写用の原
稿(即ち、版下原稿)には、ほかの原稿を切り抜いて、
貼り込みを行なって作威したものを用いた.各感光材料
において、光導電層の平滑性及び強度において、その差
は認められなかった.しかし、静電特性において、比較
例Cは、特に光感度B1/,。。の値が大きく、これは
高温、高温になるとより一層助長され、劣化してしまっ
た。本発明の感光材料の静電特性は良好であり、更に、
特定の置換基を有する樹脂〔A〕を用いた実施例29は
、非常に良好であり、特にE,7,。。の値が小さくな
った。
実際の撮像性を調べて見ると、比較例Cは、複写画像と
して原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ部分の枠(即ち
、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとして認められた.
しかし、本発明のものは、いずれも、地汚れのない、鮮
明な画像のものが得られた。
して原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ部分の枠(即ち
、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとして認められた.
しかし、本発明のものは、いずれも、地汚れのない、鮮
明な画像のものが得られた。
更に、これらをオフセット印刷用原版として不感脂化処
理して印刷した所、本発明のものはいずれも地汚れのな
い鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた.しかし、比較
例Cは、上記の貼り込み跡が、不感脂化処理でも除去さ
れず、刷り出しの印刷物から発生してしまった. 以上のことより、本発明の感光材料のみが、良好な特性
を与えることができた. 実施例30〜41 実施例28において、樹脂(A−2)6.5g及び樹脂
(B − 2 ) 33.5gの代わりに、下記表−8
の樹脂〔A〕6.5g及び樹脂〔B〕33.5gを用い
た他は、実施例28と同様にして各感光材料を作製した
。
理して印刷した所、本発明のものはいずれも地汚れのな
い鮮明な画質の印刷物が1万枚得られた.しかし、比較
例Cは、上記の貼り込み跡が、不感脂化処理でも除去さ
れず、刷り出しの印刷物から発生してしまった. 以上のことより、本発明の感光材料のみが、良好な特性
を与えることができた. 実施例30〜41 実施例28において、樹脂(A−2)6.5g及び樹脂
(B − 2 ) 33.5gの代わりに、下記表−8
の樹脂〔A〕6.5g及び樹脂〔B〕33.5gを用い
た他は、実施例28と同様にして各感光材料を作製した
。
表−8
表−8
(続き)
本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電荷保持率、光
感度に優れ、実際の複写画像も高温高温(30℃、80
%RH)の過酷な条件においても地力ブリの発生や細線
飛びの発生等のない鮮明な画像を与えた。
感度に優れ、実際の複写画像も高温高温(30℃、80
%RH)の過酷な条件においても地力ブリの発生や細線
飛びの発生等のない鮮明な画像を与えた。
更にオフセットマスター原版として印刷した所、1万枚
印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物が得
られた. (発明の効果) 本発明によれば、過酷な条件下においても優れた静電特
性と機械的強度を有する電子写真感光体を得ることがで
きる。また、本発明の感光体は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効である.
印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画質の印刷物が得
られた. (発明の効果) 本発明によれば、過酷な条件下においても優れた静電特
性と機械的強度を有する電子写真感光体を得ることがで
きる。また、本発明の感光体は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効である.
Claims (3)
- (1)無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含有する
光導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
が、下記で表わされる結着樹脂〔A〕の少なくとも1種
及び結着樹脂〔B〕の少なくとも1種を含有する事を特
徴とする電子写真感光体。 結着樹脂〔A〕: 1×10^3〜2×10^4の重量平均分子量を有し、
下記一般式( I )で示される共重合成分を30重量%
以上並びに−PO_3H_2基、−SO_3H基、−C
OOH基、−OH基、▲数式、化学式、表等があります
▼基{Rは炭化水素基又は−OR’基(R’は炭化水素
基を示す)を示す}及び環状酸無水物含有基から選択さ
れる少なくとも1種の酸性基を含有する共重合成分を0
.5〜20重量%含有する樹脂。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式( I )中、a_1及びa_2は各々水素原子、ハ
ロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。R_1
は炭化水素基を表わす。〕 結着樹脂〔B〕: −PO_3H_2基、−COOH基、−SO_3H基、
フェノール性OH基、▲数式、化学式、表等があります
▼基{Rは炭化水素基又は−OR’基(R’は炭化水素
基)を示す}及び環状酸無水物含有基から選択される少
なくとも1つの酸性基を含有する重合体成分を少なくと
も1種含有するAブロックと、下記一般式(II)で示さ
れる重合体成分を少なくとも含有するBブロックとから
構成されるA−Bブロック共重合体のBブロックの重合
体主鎖の末端に重合性二重結合基を結合して成る重量平
均分子量1×10^3〜2×10^4の一官能性マクロ
モノマー(M)を少なくとも1種共重合成分として含有
して成る重量平均分子量3×10^4〜1×10^6の
グラフト型共重合体。 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式(II)中、b_1及びb_2は各々水素原子、ハロ
ゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。X_1は
−COO−、−OCO−、▲数式、化学式、表等があり
ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼ (l_1、l_2は1〜3の整数を表わす)、−O−、
−SO_2−、−CO−、▲数式、化学式、表等があり
ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼、−CON
HCOO−、−CONHCONH−又は▲数式、化学式
、表等があります▼を表わす(ここでR_2_3は水素
原子又は炭化水素基を表わす)。 R_2_1は炭化水素基を表わす。但しX_1が▲数式
、化学式、表等があります▼を表わす場合、R_2_1
は水素原子又は炭化水素基を表わす。〕 - (2)該樹脂〔A〕において、一般式( I )で示され
る共重合成分として、下記一般式( I a)及び( I b
)で示される、アリール基含有のメタクリレート成分の
うちの少なくとも1つを含有することを特徴とする請求
項(1)記載の電子写真感光体。 一般式( I a) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式( I b) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式( I a)および( I b)中、A_1及びA_2は
互いに独立に各々水素原子、炭素数1〜10の炭化水素
基、塩素原子、臭素原子、−COD_1又は−COOD
_2(D_1及びD_2は各々炭素数1〜10の炭化水
素基を示す)を表わす。但し、A_1とA_2が共に水
素原子を表わすことはない。 B_1及びB_2は各々−COO−とベンゼン環を結合
する、単結合又は連結原子数1〜4個の連結基を表わす
。〕 - (3)該樹脂〔B〕において、該マクロモノマー(A)
とともに共重合体を構成する一官能性単量体として、下
記一般式(III)で表わされる単量体を少なくとも1種
含有する事を特徴とする請求項(1)及び(2)のいず
れかに記載の電子写真感光体。 一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式(III)中、b_3、b_4、X_2及びR_2_
2は式(II)におけるb_1、b_2、X_1及びR_
2_1とそれぞれ同様の内容を表わす。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP92690A JP2684433B2 (ja) | 1990-01-09 | 1990-01-09 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP92690A JP2684433B2 (ja) | 1990-01-09 | 1990-01-09 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03206464A true JPH03206464A (ja) | 1991-09-09 |
JP2684433B2 JP2684433B2 (ja) | 1997-12-03 |
Family
ID=11487298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP92690A Expired - Fee Related JP2684433B2 (ja) | 1990-01-09 | 1990-01-09 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2684433B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992020015A1 (en) | 1991-05-02 | 1992-11-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor |
JP2006039532A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-02-09 | Canon Inc | 電子写真現像剤用キャリア |
-
1990
- 1990-01-09 JP JP92690A patent/JP2684433B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1992020015A1 (en) | 1991-05-02 | 1992-11-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor |
JP2006039532A (ja) * | 2004-06-25 | 2006-02-09 | Canon Inc | 電子写真現像剤用キャリア |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2684433B2 (ja) | 1997-12-03 |
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