JPH0651541A - 電子写真感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電子写真特性及び撮像性の改良された、特に
液体現像剤を用いての高精細な画像の再現性、低出力の
レーザー光を用いたスキャニング露光方式による撮像性
の優れた、電子写真感光体を提供する。 【構成】 結着樹脂として、極性基含有の重合体成分を
含有するＡブロック及び式（Ｉ）の重合体成分を含有す
るＢブロックから成るＡＢ型ブロック共重合体をグラフ
ト部に有する低分子量のグラフト型共重合体である樹脂
〔Ａ〕と、式（II）の繰り返し単位の重合体成分を含有
し且つ片末端に極性基を結合して成る高分子鎖を有機分
子中に少なくとも３個結合して成る高分子量のスター型
共重合体の樹脂〔Ｂ〕とをそれぞれ少なくとも１種含有
する電子写真感光体。〔式（Ｉ）中、ａ¹ 、ａ² は水
素、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基、Ｖ¹ は二
価の基、Ｒ³ は炭化水素基を示し、式（II）中、Ｒ⁴ は
炭化水素基、ｂ¹、ｂ² は水素、ハロゲン原子、シアノ
基、炭化水素基を示す。〕 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
詳しくは電子写真特性（以下、静電特性ともいう）及び
耐湿性に優れた電子写真感光体に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真感光体は、所定の特性を得るた
め、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応じ
て、種々の構成をとる。電子写真感光体の代表的なもの
として、支持体上に光導電層が形成されている感光体及
び表面に絶縁層を備えた感光体があり、広く用いられて
いる。

【０００３】支持体と少なくとも１つの光導電層から構
成される感光体は、最も一般的な電子写真プロセスによ
る、即ち帯電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転
写による画像形成に用いられる。更には、ダイレクト製
版用のオフセット平版印刷用原版として電子写真感光体
を用いる方法が広く実用されている。特に近年、ダイレ
クト電子写真平版は数百枚から数千枚程度の印刷枚数で
高画質の印刷物を印刷する方式として重要となってきて
いる。こうした状況の中で、電子写真感光体の光導電層
を形成するために使用する結着樹脂は、それ自体の成膜
性および光導電体粒子の結着樹脂への分散能力が優れる
とともに、形成された記録体層の基材に対する接着性が
良好であり、しかも記録体層の光導電層は帯電能力に優
れ、暗減衰が小さく、光減衰が大きく、前露光疲労が少
なく、且つ、撮影時の湿度の変化によってこれら特性を
安定に保持していることが必要である等の各種の静電特
性および優れた撮像性を具備する必要がある。

【０００４】更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用
原版の研究が鋭意行なわれており、電子写真感光体とし
ての静電特性と印刷原版としての印刷特性を両立させた
光導電層用の結着樹脂が必要である。無機光導電材料、
分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光導電
層において、結着樹脂の化学構造によって、平滑性のみ
ならず静電特性が大きく影響を受けることが判ってき
た。特に静電特性において、暗電荷保持率（Ｄ．Ｒ．
Ｒ．）や光感度が大きく左右される。

【０００５】これに対し、酸性基を含有する比較的低分
子量（１０³ 〜１０⁴ 程度）の樹脂を結着樹脂として用
いる事で、平滑性及び静電特性を良化する技術が種々検
討されている。例えば、特開昭６３−２１７３５４号に
は酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダムに存在す
る樹脂、同６４−７０７６１号には重合体主鎖の片末端
に酸性基を結合して成る樹脂、特開平２−６７５６３
号、同２−２３６５６１号、同２−２３８４５８号、同
２−２３６５６２号及び同２−２４７６５６号等には酸
性基をグラフト型共重合体の主鎖末端に結合して成る樹
脂又は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト部に含有
する樹脂、同３−１８１９４８号には酸性基をブロック
で含有するＡＢ型ブロック共重合体等がそれぞれ記載さ
れている。これらは、該低分子量の樹脂が、光導電体粒
子の分散を充分に行ない光導電体粒子同志の凝集を抑制
する効果を有すること及び光導電体粒子と分光増感色素
との吸着を疎外しないで該無機光導電体粒子の化学量論
的な欠陥に充分に吸着するとともに光導電体粒子の表面
をゆるやかに且つ充分に被覆していることによると推定
される。

【０００６】更に、これらの低分子量の樹脂のみでは不
充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめるために、
中〜高分子量の他の樹脂を併用する技術が種々検討され
ている。例えば、特開平２−６８５６１号にはポリマー
間に架橋構造を形成する熱硬化性樹脂、特開平２−６８
５６２号には一部が架橋構造を有する樹脂、特開平２−
６９７５９号には酸性基をグラフト型共重合体の主鎖末
端に結合して成る樹脂が記載されている。また、特定の
中〜高分子量の樹脂を用いることで、環境が著しく変動
した場合においても比較的安定した性能を維持する技術
が検討され、例えば同３−２９９５４号、同３−７７９
５４号、同３−９２８６１号及び同３−５３２５７号に
は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト部の末端に結
合する樹脂又は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト
部に含有する樹脂が記載されている。更に、同３−２０
６４６４号及び同３−２２３７６２号によれば、酸性基
含有のＡブロックと酸性基非含有のＢブロックから成る
ＡＢブロック型共重合体をグラフト部に含有するグラフ
ト型共重合体を用いる事で、環境の変化や半導体レ−ザ
−光を用いたスキャニング露光方式を用いた場合におい
ても比較的高い性能を維持することが明らかになった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の酸性基を含有する種々の低分子量の樹脂、更にこれら
の樹脂に種々の中〜高分子量の樹脂を組み合わせて用い
ても、環境が高温・高湿から低温・低湿まで著しく変動
した場合における安定した性能の維持においてはいまだ
不充分であることが判った。半導体レーザー光を用いた
スキャンニング露光方式では、従来の可視光による全面
同時露光方式に比べ、露光時間が長くなり、また露光強
度にも制約があることから、静電特性、特に暗電荷保持
性、光感度に対して、より高い性能が要求される。

【０００８】特に、電子写真式平版印刷用原版におい
て、半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
を採用した場合，従来の感光体で実際に試験してみる
と、上記の静電特性が十分に満足できるものでなく、特
にＥ_1/2 とＥ_1/10との差が大きく複写画像の階調が軟調
となり、更には露光後の残留電位を小さくするのが困難
となり、複写画像のカブリが顕著となってしまい、又、
オフセット平版印刷用原版として印刷しても、印刷物に
印刷原稿の貼り込み跡が出てしまう等の問題が現れた。

【０００９】更に、近年、線画及び網点から成る画像の
複写画像のみならず、連続階調から成る高精細な画像を
液体現像剤を用いて忠実に再現する技術の実現が望まれ
ているが、前記公知の技術はこれらの要望まで十分に満
足できるものではなかった。従来公知の技術において
は、低分子量の樹脂と併用する中〜高分子量の樹脂によ
って、上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が
低下することがあり、実際に前記した様なこれら公知の
樹脂の組合せで用いた光導電層を有する電子写真感光体
は、前述の様な高精細な画像（特に連続階調画像）の忠
実な複写画像の再現性あるいは、低出力のレーザー光を
用いたスキャンニング露光方式による撮像性に対して、
問題を生じ得ることが明らかになった。

【００１０】本発明は、以上の様な従来公知の電子写真
感光体の有する課題を改良するものである。本発明の目
的は、複写画像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高
湿の如く変動した場合でも、常に安定して良好な静電特
性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真感光体
を提供することである。

【００１１】本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ
環境依存性の小さいＣＰＣ電子写真感光体を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効な電子写真感光体を
提供することである。本発明の更なる目的は、電子写真
式平版印刷原版として、静電特性（特に暗電荷保持性及
び光感度）に優れ、原画（特に高精細な連続階調画像）
に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面
一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、
また耐刷性の優れた平版印刷原版を提供することであ
る。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的は無機光導電材
料、分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光
導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
が、下記樹脂〔Ａ〕の少なくとも１種及び下記樹脂
〔Ｂ〕の少なくとも１種を各々含有して成ることを特徴
とする電子写真感光体。

【００１３】樹脂〔Ａ〕 １×１０³ 〜２×１０⁴ の重量平均分子量を有し、−Ｐ
Ｏ₃ Ｈ₂ 基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ₃ Ｈ基、フェノール
性ＯＨ基、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）Ｒ¹ 〔Ｒ¹ は炭化水素
基又は−ＯＲ² （Ｒ² は炭化水素基を表す）を表す〕及
び環状酸無水物含有基から選択される少なくとも１種の
極性基を有する重合体成分を少なくとも１種含有するＡ
ブロックと、下記一般式（Ｉ）で示される重合体成分を
少なくとも含有するＢブロックとから構成されるＡＢブ
ロック共重合体のＢブロックの重合体主鎖の末端に重合
性二重結合基を結合して成る一官能性マクロモノマー
（Ｍ）を少なくとも１種共重合成分として含有するグラ
フト型共重合体。

【００１４】

【化５】

【００１５】〔式（Ｉ）中、ａ¹ 及びａ² は各々水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表す。Ｖ
¹ は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−（ＣＨ₂ ） _aＯＣＯ
−、−（ＣＨ₂ ） _aＣＯＯ−（ａは１〜３の整数を表
す。）、−Ｏ−、−ＳＯ₂ −、−ＣＯ−、−ＣＯＮ（Ｚ
¹ ）−、−ＳＯ₂ Ｎ（Ｚ¹ ）−、−ＣＯＮＨＣＯＯ−、
−ＣＯＮＨＣＯＮＨ−又は−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表す（ここで
Ｚ¹ は水素原子又は炭化水素基を表わす）。Ｒ³ は、炭
化水素基を表わす。但しＶ¹ が−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表わす場
合、Ｒ³ は水素原子又は炭化水素基を表わす。〕

【００１６】樹脂〔Ｂ〕 ２×１０⁴ 〜１×１０⁶ の重量平均分子量を有し、下記
一般式（II）で示される繰り返し単位を重合体成分とし
て少なくとも３０重量％以上含有する高分子鎖が、有機
分子中に少なくとも３個結合して成るスター型共重合体
で、且つ該各高分子鎖の有機分子に結合した反対側の主
鎖の末端に、−ＰＯ₃ Ｈ₂ 基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ₃
Ｈ基、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）Ｒ¹ 〔Ｒ¹ は前記と同一の
内容を表す〕及び環状酸無水物含有基から選ばれた基を
少なくとも１種結合して成る樹脂。

【００１７】

【化６】

【００１８】〔式（II）中、ｂ¹ 及びｂ² はそれぞれ水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を示
す。Ｒ⁴ は炭化水素基を表す。〕

【００１９】即ち、本発明の結着樹脂は、特定の極性基
含有成分を含有するＡブロックと一般式（Ｉ）で示され
る重合体成分を含有するＢブロックとのＡＢブロック共
重合体のＢブロック側の末端に重合性二重結合基を結合
して成る一官能性マクロモノマー（Ｍ）を共重合成分と
して含有する低分子量のグラフト型共重合体（樹脂
〔Ａ〕）と、上記一般式（II）で示される重合体成分を
少なくとも含有し、且つ高分子鎖の片末端に上記特定の
極性基を結合して成る高分子鎖を有機分子中に少なくと
も３個結合して成る高分子量のスター型共重合体（樹脂
〔Ｂ〕）とから少なくとも構成される。

【００２０】種々検討の結果、前述の如く、低分子量の
酸性基含有樹脂を中〜高分子量の樹脂と併用する公知の
技術においては、併用する中〜高分子量の樹脂により、
上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が低下し
てしまうことのあることが判った。そして、これらの中
〜高分子量樹脂が、該光導電層中で、光導電体粒子、分
光増感色素及び低分子量の樹脂同志の相互作用を更に適
切にさせることも、予想以上に重要な原因であることが
明らかになってきた。

【００２１】かかる検討を重ねた結果、極性基を有する
低分子量の樹脂〔Ａ〕と併用すべき中〜高分子量の樹脂
として、本発明に従う極性基を片末端に結合して成る高
分子鎖を少なくとも３個有機分子中に有するスター型共
重合体を用いることにより、前記課題が有効に解決され
ることが見出されたものである。この事は、本発明の結
着樹脂〔Ａ〕及び〔Ｂ〕の相乗効果により、光導電体粒
子が充分に分散され且つ凝縮しない状態で存在し、更に
分光増感色素が光導電体粒子表面に充分に吸着されてい
ること及び光導電体表面の余分な活性サイトを結着樹脂
が充分に吸着してトラップを補償していること等による
ものと推定される。

【００２２】即ち、特定の極性基を含有する低分子量の
グラフト型共重合体の樹脂〔Ａ〕は、光導電体粒子に充
分吸着して該粒子を均一に分散し、その高分子鎖が非常
に短いことにより凝集を抑制すること、又、分光増感色
素の吸着疎外を起こさないこと等の重要な作用を有す
る。又、本発明の特定の極性基を片末端に結合して成る
高分子鎖を含むスター型共重合体を用いる事で、静電特
性（特に暗電荷保持性及び光感度）及び撮像性（特に連
続階調画像の再現性）が向上し、且つ光導電層の機械的
強度が充分に保持された。

【００２３】これは、詳細は不明であるが、この樹脂の
重合体成分ブロックがスター型に規制された事による高
分子鎖間の絡み合い効果の向上とともに、更に高分子鎖
の末端に極性基を結合している事から、光導電体粒子と
適切に相互作用することによると考えられる。更には本
発明において、樹脂〔Ｂ〕として、有機分子に結合する
高分子鎖が上記一般式（II）で示される繰り返し単位を
重合体成分として少なくとも含有するＡブロックと上記
特定の極性基のうちから選択される少なくとも１種の極
性基を有する重合体成分を少なくとも１種含有するＢブ
ロックとから構成されるＡＢ型ブロックで構成される樹
脂であることが好ましい（以降、この樹脂を特に樹脂
〔Ｂ’〕と称する。）。これは、この樹脂〔Ｂ’〕の高
分子鎖の片末端の極性基及びこれに隣接するＢブロック
の部分が光導電体粒子と樹脂〔Ａ〕よりも弱く相互作用
しつつ、且つ分光増感色素が光導電体粒子と充分に吸着
できる環境を形成すること、及びＡブロックの部分の高
分子鎖間の絡み合い効果等によるものと考えられる。

【００２４】このことにより、公知の併用された中〜高
分子量の樹脂に比べて静電特性がより良化する。この作
用は、近赤外〜赤外光の分光増感用色素として特に有効
なポリメチン色素あるいはフタロシアニン系顔料で特に
顕著な効果を示した。一方、光導電体粒子として光導電
性酸化亜鉛（以降、単に酸化亜鉛ともいう）粒子を用い
た本発明の電子写真感光体を従来公知のダイレクト刷版
として用いた場合には優れた撮像性とともに著しく良好
な保水性を示す。

【００２５】即ち、電子写真プロセスを経て複写画像を
形成した本発明の感光体を、従来公知の不感脂化処理液
により非画像部を化学処理により不感脂化して、印刷用
原版とし、これをオフセット印刷により印刷した時に優
れた印刷用原版としての性能を示すものである。本発明
の感光体を不感脂化処理すると、非画像部の親水化が充
分になされ、保水性が向上することから印刷枚数が飛躍
的に向上した。これは、上記した酸化亜鉛粒子が均一に
分散されていること及び酸化亜鉛粒子表面に存在する結
着樹脂の存在状態が適切で不感脂化処理液との不感脂化
反応が疎外されず迅速に且つ効果的に進行することによ
るものと考えられる。

【００２６】以下に、本発明の結着樹脂について詳しく
説明する。まず、本発明の樹脂〔Ａ〕について説明す
る。樹脂〔Ａ〕の重量平均分子量は１×１０³ 〜２×１
０⁴ 、好ましくは３×１０³ 〜１×１０⁴ であり、樹脂
〔Ａ〕のガラス転移点は好ましくは−４０℃〜１１０
℃、より好ましくは−２０℃〜９０℃である。

【００２７】樹脂〔Ａ〕の分子量が１×１０³ より小さ
くなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度を保てず、
一方分子量が２×１０⁴ より大きくなると本発明の樹脂
であっても、特に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感
光体において、高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下
での電子写真特性（特に初期電位、暗電荷保持率及び光
感度）の変動が多少大きくなり、安定した複写画像が得
られるという本発明の効果が薄れてしまう。

【００２８】本発明のグラフト型共重合体である樹脂
〔Ａ〕において、マクロモノマー（Ｍ）と他の単量体
（例えば後記する一般式（II）の単量体）の存在割合
は、１〜６０／９９〜４０（重量比）であり、好ましく
は５〜４０／９５〜６０（重量比）である。

【００２９】結着樹脂〔Ａ〕におけるマクロモノマー含
有量が１重量％より少ないと電子写真特性（特に暗電荷
保持率、光感度）が低下し、又環境条件での電子写真特
性の変動が特に近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合
わせにおいて大きくなる。これはグラフト部となるマク
ロモノマーが微かとなることで結果として従来のホモポ
リマーあるいはランダム共重合体と殆んど同じ組成にな
ってしまうことによると考えられる。一方マクロモノマ
ーの含有量が６０重量％を越えると、他の共重合成分に
相当する単量体と本発明に従うマクロモノマーとの共重
合性が充分でなくなり、結着樹脂として用いても充分な
電子写真特性が得られなくなってしまう。

【００３０】本発明の樹脂〔Ａ〕における、マクロモノ
マー（Ｍ）中に含有される極性基含有成分の存在量は、
樹脂〔Ａ〕１００重量部中に１〜２０重量部であること
が好ましく、より好ましくは３〜１５重量部である。即
ち、上記樹脂〔Ａ〕中での極性基の存在割合は、マクロ
モノマー（Ｍ）中でのＡブロックの組成比及び樹脂
〔Ａ〕でのマクロモノマー（Ｍ）の共重合比によって、
好ましい比率に調整することができるものである。

【００３１】樹脂〔Ａ〕における極性基含有成分量が１
重量％より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度
を得ることができない。一方、該極性基含有成分量が２
０重量％よりも多いと、いかに低分子量体といえども光
導電体粒子の分散性が低下し、更にオフセット平版印刷
用原版として用いるときに地汚れが増大する。

【００３２】本発明のグラフト型共重合体に供される一
官能性マクロモノマー（Ｍ）について更に具体的に説明
する。本発明の樹脂〔Ａ〕における該マクロモノマー
（Ｍ）中の共重合体成分は、上記の如く、Ａブロックと
Ｂブロックとから構成されるが、このＡブロック／Ｂブ
ロックの存在割合は、好ましくは１〜７０／９９〜３０
（重量比）であり、より好ましくは３〜５０／９７〜５
０（重量比）である。

【００３３】マクロモノマー（Ｍ）のＡブロックを構成
する成分中に含有される極性基としては、−ＰＯ₃ Ｈ₂
基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ₃ Ｈ基、フェノール性ＯＨ
基、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ¹ ｛Ｒ¹ は炭化水素基又は−
ＯＲ² （Ｒ² は炭化水素基）基を示す｝基及び／又は環
状酸無水物含有基が挙げられ、好ましくは、−ＣＯＯＨ
基、−ＳＯ₃ Ｈ基、フェノール性ＯＨ基又は−Ｐ（＝
Ｏ)(ＯＨ）Ｒ¹ 基である。

【００３４】ここで、−Ｐ（＝Ｏ)(ＯＨ）Ｒ¹ は、下記
化７で表わされる基を示し、Ｒ¹ は炭化水素基または−
ＯＲ² （Ｒ² は炭化水素基を表わす）基を表わし、Ｒ¹
及びＲ² は好ましくは炭素数１〜２２の脂肪族基（例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシ
ル基、２−クロロエチル基、２−メトキシエチル基、３
−エトキシプロピル基、アリル基、クロトニル基、ブテ
ニル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル
基、３−フェニルプロピル基、メチルベンジル基、クロ
ロベンジル基、フロロベンジル基、メトキシベンジル基
等）又は置換されてもよいアリール基（例えば、フェニ
ル基、トリル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル
基、クロロフェニル基、フロロフェニル基、ブロモフェ
ニル基、クロロ−メチル−フェニル基、ジクロロフェニ
ル基、メトキシフェニル基、シアノフェニル基、アセト
アミドフェニル基、アセチルフェニル基、ブトキシフェ
ニル基等）等を表わす。

【００３５】

【化７】

【００３６】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も１つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸無水物の例としては、コハク酸無水物環、グルタコ
ン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シクロペンタン−
１，２−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキサン−１，
２−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセン−１，２−
ジカルボン酸無水物環、２，３−ビシクロ〔２．２．
２〕オクタンジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これ
らの環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン原
子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等のア
ルキル基等が置換されていてもよい。

【００３７】又、芳香族ジカルボン酸無水物の例として
は、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水
物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−
ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、例
えば、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基（アルコキシ基としては、例えば、メトキシ
基、エトキシ基等）等が置換されていてもよい。

【００３８】フェノ−ル性ＯＨ基の例としては、ヒドロ
キシフェノ−ル又はヒドロキシフェニル基を置換基とし
て含有するメタクリル酸エステルもしくはアミド類を例
として挙げる事ができる。

【００３９】以上の如き「特定の極性基を含有する重合
体成分」は、例えば、本発明のマクロモノマー（Ｍ）の
他のブロック成分を構成する重合体成分、即ち一般式
（Ｉ）で示されるメタクリレート成分等に相当するビニ
ル系化合物と共重合する、該極性基を含有するビニル系
化合物であればいずれでも用いることができる。

【００４０】例えば、高分子学会編「高分子データ・ハ
ンドブック〔基礎編〕」培風館（１９８６刊) 等に記載
されている。具体的には、アクリル酸、α及び／又はβ
置換アクリル酸（例えばα−アセトキシ体、α−アセト
キシメチル体、α−（２−アミノ）メチル体、α−クロ
ロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシ
リル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、
α−クロロ−β−メトキシ体、α，β−ジクロロ体
等）、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステ
ル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、２−アルケ
ニルカルボン酸類（例えば２−ペンテン酸、２−メチル
−２−ヘキセン酸、２−オクテン酸、４−メチル−２−
ヘキセン酸、４−エチル−２−オクテン酸等）、マレイ
ン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド
類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホ
ン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボ
ン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体、及
びこれらのカルボン酸又はスルホン酸のエステル誘導
体、アミド誘導体の置換基中に該極性基を含有する化合
物が挙げられる。

【００４１】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、ｄ¹ はＨ又はＣＨ₃ を示し、ｄ² は
Ｈ、ＣＨ₃ 又はＣＨ₂ ＣＯＯＣＨ₃ を示し、Ｒ⁷ は炭素
数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ⁸ は炭素数１〜６のア
ルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示し、ｆは１〜
３の整数を示し、ｇは２〜１１の整数を示し、ｈは１〜
１１の整数を示し、ｉは２〜４の整数を示し、ｊは２〜
１０の整数を示す。

【００４２】

【化８】

【００４３】

【化９】

【００４４】

【化１０】

【００４５】

【化１１】

【００４６】

【化１２】

【００４７】

【化１３】

【００４８】上記の如き極性基含有成分はＡブロック中
に２種以上含有されていてもよく、これら２種以上の極
性基含有成分はＡブロック中においてランダム共重合又
はブロック共重合のいずれで含有されていてもよい。更
に、極性基含有成分とともに、極性基を含有しない成分
｛例えば後述式（Ｉ）で示される成分｝をＡブロック中
に含有していてもよいが、極性基含有成分はＡブロック
中において３０〜１００重量％存在することが好まし
い。

【００４９】次に上記マクロモノマーにおいて、Ｂブロ
ックを構成する成分、即ち一般式（Ｉ）で表わされる繰
り返し単位について説明する。一般式（Ｉ）にて、Ｖ¹
は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−（ＣＨ₂ ） _aＯＣＯ−、
−（ＣＨ₂ ） _aＣＯＯ−（ａは１〜３の整数を表わ
す）、−Ｏ−、−ＳＯ₂ −、−ＣＯ−、−ＣＯＮ
（Ｚ¹ ）−、−ＳＯ₂ Ｎ（Ｚ¹ ）−、−ＣＯＮＨＣＯＯ
−、−ＣＯＮＨＣＯＮＨ−又は−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表わす。
ここで、Ｚ¹ は水素原子のほか、好ましい炭化水素基と
しては、炭素数１〜２２の置換されてもよいアルキル基
( 例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、２−ク
ロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−シアノエチル
基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−メトキシエ
チル基、３−ブロモプロピル基等）、炭素数４〜18の置
換されてもよいアルケニル基（例えば、２−メチル−１
−プロペニル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、
３−メチル−２−ペンテニル基、１−ペンテニル基、１
−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、４−メチル−２−
ヘキセニル基等）、炭素数７〜１２の置換されてもよい
アラルキル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、３
−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチ
ルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メ
チルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル
基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等）、
炭素数５〜８の置換されてもよい脂環式基（例えば、シ
クロヘキシル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シ
クロペンチルエチル基等）又は炭素数６〜１２の置換さ
れてもよい芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル
基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチ
ルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル
基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキ
シフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニ
ル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノ
フェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシ
カルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロ
ピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基
等）があげられる。

【００５０】Ｒ³ は炭化水素基を表わし、好ましくは上
記Ｚ¹ で好ましい炭化水素基として挙げたものと同様の
ものである。Ｖ¹ が−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表わす場合、Ｒ³ は
上記炭化水素の他水素原子を表わし、更にベンゼン環は
置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲン原子
（例えば塩素原子、臭素原子等）、アルキル基（例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロロメ
チル基、メトキシメチル基等）、アルコキシ基（例えば
メトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基
等）等が挙げられる。

【００５１】ａ¹ 及びａ² は、互いに同じでも異なって
いてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子（例え
ば、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、炭素数１〜４
のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等）、−ＣＯＯＺ³ 又は炭化水素を介した
ＣＯＯＺ³ （Ｚ³ は水素原子又は炭素数１〜１８のアル
キル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基または
アリール基を表わし、これらは置換されていてもよく、
具体的には、上記Ｚ¹ について説明したものと同様の内
容を表わす）を表わす。上記炭化水素を介したＣＯＯＺ
³ 基における炭化水素としては、メチレン基、エチレン
基、プロピレン基等が挙げられる。

【００５２】更に好ましくは、一般式（Ｉ）において、
Ｖ¹ は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ ＯＣＯ−、−
ＣＨ₂ ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＳＯ₂ ＮＨ
−又は−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表わし、ａ¹ 及びａ² は互いに同
じでも異なってもよく、水素原子、メチル基、−ＣＯＯ
Ｚ³ 又は−ＣＨ₂ ＣＯＯＺ³ ｛Ｚ³ はより好ましくは水
素原子又は炭素数１〜６のアルキル基（例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等）
を表わす｝を表わす。更により好ましくは、ａ¹及びａ
² においていずれか一方が水素原子を表わす。

【００５３】更には該Ｂブロック中に式（Ｉ）の単量体
以外の重合体成分が含有されていてもよく、式（Ｉ）に
示される重合体成分とともに共重合しうる他の繰り返し
単位に相当する単量体として、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、複素環ビニル類（例えばビニルピリジ
ン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリドン、ビニルチ
オフェン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニ
ルオキサジン等）等が挙げられる。これら他の単量体は
Ｂブロックの全重合体成分１００重量部中２０重量部を
越えない範囲で用いられる。又、該Ｂブロック中には、
該Ａブロックの構成成分である極性基を含有する重合体
成分を含有しない事が好ましい。Ｂブロックにおいて２
種以上の共重合成分が存在する場合には、これら２種以
上の共重合成分はＢブロックにおいてランダム共重合又
はブロック共重合のいずれで含有されていてもよいが、
合成の簡便さよりランダムに含有されることが好まし
い。

【００５４】次に本発明のマクロモノマー（Ｍ）におい
て上記した極性基を含有する成分から成るＡブロックと
一般式（Ｉ）で示される重合体成分を含有することから
成るＢブロックをＡ−Ｂ型で連結し且つＡブロックと連
結するＢブロックの他の末端に連結される重合性二重結
合基について説明する。

【００５５】具体的には下記一般式（III)で示される重
合性二重結合基が例として挙げられる。

【００５６】

【化１４】

【００５７】〔式（III)中、Ｖ² は式（Ｉ）中のＶ¹ と
同一の内容を表わす。ｃ¹ 及びｃ² は互いに同一でも異
なってもよく、式（Ｉ）中のａ¹ 及びａ² と同一の内容
を表わす。〕即ち、一般式（III)で示される重合性二重
結合基として、より具体的には、ＣＨ₂ ＝ＣＨ−ＣＯＯ
−、ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃ ) ＯＣＯＯ−、ＣＨ（ＣＨ₃ )
＝ＣＨＣＯＯ−、ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₂ ＣＯＯＣＨ₃ ）Ｃ
ＯＯ−、ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₂ＣＯＯＨ）ＣＯＯ−、ＣＨ
₂ ＝ＣＨＣＯＮＨ−、ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＨ₃ ) ＣＯＮＨ
−、ＣＨ（ＣＨ₃ ) ＝ＣＨＣＯＮＨ−、ＣＨ₂ ＝ＣＨＯ
ＣＯ−、ＣＨ₂ ＝ＣＨＣＨ₂ ＯＣＯ−、ＣＨ₂ ＝ＣＨ−
Ｏ−、ＣＨ₂ ＝Ｃ（ＣＯＯＨ）ＣＨ₂ ＣＯＯ−、ＣＨ₂
＝Ｃ（ＣＯＯＣＨ₃ ）ＣＨ₂ ＣＯＯ−、ＣＨ₂ ＝ＣＨ−
Ｃ₆ Ｈ₄ −、ＣＨ₂ ＝ＣＨ（ＣＨ₂ ) ₂ ＣＯＯ−、ＣＨ
₂ ＝ＣＨ−ＣＯ−、ＣＨ₂ ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₂ ＯＣＯ−
等が挙げられる。

【００５８】本発明に供されるマクロモノマー（Ｍ）は
上述の如きＢブロックの片末端に、一般式（III)で示さ
れる如き重合性二重結合基が、直接結合するか、あるい
は、任意の連結基で結合された化学構造を有するもので
ある。連結する基としては、炭素−炭素結合（一重結合
あるいは二重結合）、炭素−ヘテロ原子結合（ヘテロ原
子としては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、
ケイ素原子等）、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団
の任意の組合せで構成されるものである。即ち、具体的
には、単なる結合または、−Ｃ（Ｚ⁴ ）（Ｚ⁴ ) −〔Ｚ
⁴ は同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子
（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シア
ノ基、ヒドロキシル基、アルキル基（例えばメチル基、
エチル基、プロピル基等）等を示す〕、−（ＣＨ＝Ｃ
Ｈ）−、−Ｃ₆ Ｈ₁₀−、−Ｃ₆ Ｈ₄− 、−Ｏ−、−Ｓ
−、−ＣＯ−、−Ｎ（Ｚ⁵ ）−、−ＣＯＯ−、−Ｃ（＝
Ｓ）−、−ＳＯ₂ −、−ＣＯＮ（Ｚ⁵ ）−、−ＳＯ₂ Ｎ
（Ｚ⁵ ）− 、−ＮＨＣＯＯ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−
Ｃ（Ｚ⁵ ）（Ｚ⁵ ）−〔Ｚ⁵ はそれぞれ水素原子、前記
式（Ｉ）におけるＲ³ と同様の内容を表わす炭化水素基
等を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結基もしく
は任意の組合せで構成された連結基を表わす。

【００５９】マクロモノマー（Ｍ）の重量平均分子量が
２×１０⁴ を超えると、他のモノマー（例えば後述の式
（II）に相当するモノマー）との共重合性が低下するた
め好ましくない。他方、重量平均分子量が小さすぎる
と、感光層の電子写真特性の向上効果が小さくなるた
め、１×１０³ 以上であることが好ましい。

【００６０】本発明のマクロモノマー（Ｍ）は、従来公
知の合成方法によって製造することができる。例えば、
該特定の極性基を含有する重合体成分に相当する単量体
において、極性基を予め保護した官能基としておき、有
機金属化合物（例えばアルキルリチウム類、リチウムジ
イソプルアミド、アルキルマグネシウムハライド類等）
あるいはヨウ化水素、ヨウ素系等によるイオン重合反応
で、ポルフィリン金属錯体を触媒とする光重合反応、あ
るいはグループ移動重合反応等の公知のいわゆるリビン
グ重合反応でＡＢブロック共重合体を合成した後、この
リビングポリマーの末端に種々の試薬を反応させて重合
性二重結合基を導入する。この後、極性基を保護した官
能基を加水分解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あ
るいは、光分解反応等によって、脱保護反応を行ない、
極性基を形成させる方法が挙げられる。その１つの例を
下記の反応スキーム（１）に示した。

【００６１】

【化１５】

【００６２】例えば、P.Lutz, P.Masson etal, Polym.B
ull.、12、79(1984) B.C.Anderson、G.D.Andrews eta
l、Macromolecules、14、1601(1981) K.Hatada、K.Ut
e.etal、Polym.J.17、977(1985),18,1037(1986) 、右手
浩一、畑田耕一、高分子加工、36、366(1987) 東村敏
延、沢本光男、高分子論文集、46、189 (1989) M.Kuro
ki、T.Aida、T.Am.Chem.Soc. 109、4737(1987)、相田卓
三、井上祥平、有機合成化学、43、300(1985) D.Y.Sog
ah、W.R.Hertler etal、Macromolecules、20、1473(198
7)等に記載の合成方法に従って容易にリビングポリマー
を合成することができる。又、該リビングポリマーの末
端に重合性二重結合基を導入する方法としては、従来公
知のマクロモノマーの合成法に従って容易に本発明のマ
クロモノマーとすることができる。

【００６３】具体的には、P.Dreyfuss & R.P.Quirk、En
cycl、Polym.Sci.Eng.、７、51(1987)、P.F.Rempp 、E.
Franta、Adu.、Polym.Sci.58, 1(1984）、V.Per-cec,Ap
pl.,Polym.Sci.、285, 95(1984）、 R.Asami、M.TakaR
i、Makvamol.Chem.Suppl.12、163(1985）、P.Rempp.eta
l、Makvamol.Chem.Suppl.８、 3(1984)川上雄資、化学
工業、38，56(1987)、山下雄也、高分子、31、988(198
2) 、小林四郎、高分子、30、625(1981) 、東村敏延、
日本接着協会誌 18,536(1982)、伊藤浩一、高分子加
工、35、262(1986) 、東貴四郎、津田隆、機能材料、19
87 No.10,5 等の総説及びそれに引例の文献・特許等に
記載の方法に従って合成することができる。

【００６４】又、本発明の特定の極性基を保護する保護
基及びその保護基の脱離（脱保護反応）については、従
来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。例
えば前記した引用文献にも種々記載されており、更に
は、岩倉義男、栗田恵輔、「反応性高分子」（株）講談
社刊（1977年）、T.W.Greene 「Protective Groups in
Organic Synthesis」、John Wiley & Sons(1981年) 、
J.F.W.McOmie, 「Protective Groups in Organic Che
mistry」 Plenum Press,(1973年) 等の総説に詳細に記
載されている方法を適宜選択して行なうことができる。
他のＡＢ型ブロック共重合体の合成法としては、ジシオ
カーバメント化合物を開始剤とした光イニファーター重
合法によって合成することもできる。例えば、大津隆
行、高分子、37，248(1988) 、檜森俊一、大津隆一、Po
lym.Rep.Jap.37，3508 (1988)、特開昭64-111号、特開
昭64-26619号等に記載の合成方法に従って合成される。
これを上記したマクロモノマー合成法を利用して本発明
のマクロモノマーを得ることができる。

【００６５】本発明のマクロモノマー（Ｍ）は、具体的
には、下記の化合物を例として挙げることができる。但
し、本発明の範囲は、これらに限定されるものではな
い。但し、下記化合物例において、ｐ³ 、ｐ⁴ 及びｐ⁵
はそれぞれ、−Ｈ、−ＣＨ₃ 又は−ＣＨ₂ ＣＯＯＣＨ₃
を示し、ｐ⁶ は−Ｈ又は−ＣＨ₃ を示し、Ｒ¹¹は−Ｃ_p
Ｈ_2p+1（ｐは１〜１８の整数) 、−（ＣＨ₂ ) _q Ｃ₆ Ｈ
₅ （ｑは１〜３の整数）、−Ｃ₆ Ｈ₄ −Ｙ¹ （Ｙ¹ は−
Ｈ、−Ｃｌ、−Ｂ_r 、−ＣＨ₃ 、−ＯＣＨ₃ 又は−ＣＯ
ＣＨ₃ を示す）又は−（ＣＨ₂ ）_r −Ｃ₁₀Ｈ₇ （ｒは０
又は１〜３の整数）を示し、Ｒ¹²は−Ｃ_s Ｈ_2s+1（ｓは
１〜８の整数）又は−（ＣＨ₂ ）_q Ｃ₆ Ｈ₅ を示し、Ｙ
² は−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ₃ Ｈ、−ＯＰ（＝Ｏ)
(ＯＨ）₂ 又は−ＯＰ（＝Ｏ)(ＯＨ）ＯＣＨ₃ を示し、
Ｙ³ は−ＣＯＯＨ、−ＳＯ₃ Ｈ、−ＯＰ（＝Ｏ)(ＯＨ）
₂ 又は−ＯＰ（＝Ｏ)(ＯＨ）ＯＣＨ₃ を示し、ｔは２〜
12の整数を示し、ｕは２〜６の整数を示す。

【００６６】

【化１６】

【００６７】

【化１７】

【００６８】

【化１８】

【００６９】

【化１９】

【００７０】更にこの樹脂〔Ａ〕において、マクロモノ
マー（Ｍ）と共重合する成分として、前記一般式（II）
で示される単量体が好ましい。

【００７１】式（II）において、ｂ¹ 及びｂ² は各々水
素原子、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子）、
シアノ基又は炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等）等を表す。

【００７２】Ｒ⁴ は炭化水素基を表し、具体的にはアル
キル基、アラルキル基又は芳香族基を表し、好ましくは
ベンゼン環又はナフタレン環を含有する炭化水素基であ
るアラルキル基又は芳香族基である。

【００７３】更に、Ｒ⁴ は好ましくは炭素数１〜１８の
置換されていてもよい炭化水素基を表わす。重合体主鎖
中には、−ＰＯ₃ Ｈ₂ 基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ₃ Ｈ
基、フェノール性ＯＨ基、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）Ｒ
¹ 〔Ｒ¹ は炭化水素基又は−ＯＲ²（Ｒ² は炭化水素基
を表す）を表す〕及び環状酸無水物含有基等の極性基を
含有する共重合成分を含有しないものが好ましく、従っ
て、置換基としては前記極性基以外の置換基を挙げるこ
とができ、例えば、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、
塩素原子、臭素原子等）、−ＯＺ⁶ 、−ＣＯＯＺ⁶ 、−
ＯＣＯＺ⁶ （Ｚ⁶ は炭素数１〜２２のアルキル基を表わ
し、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、
ヘキサデシル基、オクタデシル基等である）等の置換基
が挙げられる。好ましい炭化水素基としては、炭素数１
〜１８の置換されてもよいアルキル基（例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘ
キシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサ
デシル基、オクタデシル基、２−クロロエチル基、２−
ブロモエチル基、２−シアノエチル基、２−メトキシカ
ルボニルエチル基、２−メトキシエチル基、３−ブロモ
プロピル基等）、炭素数４〜１８の置換されてもよいア
ルケニル基（例えば、２−メチル−１−プロペニル基、
２−ブテニル基、２−ぺンテニル基、３−メチル−２−
ぺンテニル基、１−ぺンテニル基、１−ヘキセニル基、
２−ヘキセニル基、４−メチル−２−ヘキセニル基
等）、炭素数７〜１２の置換されてもよいアラルキル基
（例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプ
ロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチルエチル基、
クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベンジル
基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメチル
ベンジル基、ジメトキシベンジル基等）、炭素数５〜８
の置換されてもよい脂環式基（例えば、シクロヘキシル
基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シクロぺンチル
エチル基等）又は炭素数６〜１２の置換されてもよい芳
香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル基、
キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、
オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキシフ
ェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル基、
デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジクロロ
フェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル基、ア
セチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エ
トキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニルフェ
ニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミドフェ
ニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等）等が挙げら
れる。

【００７４】このような置換基Ｒ⁴ を有する成分である
一般式（II）の繰り返し単位において、より好ましくは
下記一般式（IIａ）及び／又は一般式（IIｂ）で示され
る、２位に、及び／又は２位と６位に特定の置換基を有
するベンゼン環又は無置換のナフタレン環を含有する、
特定の置換基をもつメタクリレート成分であることが好
ましい（以降この低分子量体をとくに樹脂〔ＡＡ〕と称
する）。

【００７５】

【化２０】

【００７６】

【化２１】

【００７７】〔式（IIａ）及び（IIｂ）中、Ａ¹ 及びＡ
² は互いに独立に、それぞれ水素原子、炭素数１〜１０
の炭化水素基、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素
原子）、シアノ基、−ＣＯＲ⁵ 又は−ＣＯＯＲ⁵ ( Ｒ⁵
は炭素数１〜１０の炭化水素基を示す）を表す。Ｂ¹ 及
びＢ² はそれぞれ−ＣＯＯ−とベンゼン環を結合する、
単結合又は連結原子数１〜４個の連結基を表わす。〕上
記特定の樹脂〔ＡＡ〕を用いると樹脂〔Ａ〕の場合より
もより一層電子写真特性（特にＶ₁₀，Ｄ．Ｒ．Ｒ．，Ｅ
_1/10）の向上が達成できる。

【００７８】この事の理由は不明であるが、１つの理由
として、メタクリレートのエステル成分である、オルト
位に置換基を有する平面性のベンゼン環又はナフタレン
環の効果により、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマ
ー分子鎖の配列が適切に行なわれることによるものと考
えられる。

【００７９】式（IIａ）において、好ましいＡ¹ 及びＡ
² として、互いに独立に各々水素原子、塩素原子及び臭
素原子の外に、炭素数１〜１０の炭化水素基として、好
ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、炭素数７〜９のアラ
ルキル基（例えばベンジル基、フェネチル基、３−フェ
ニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル
基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベ
ンジル基、クロロメチルベンジル基）及びアリール基
（例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモフ
ェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基）、並びに−ＣＯＲ⁵ 及び−ＣＯＯＲ
⁵ ( 好ましいＲ⁵ としては上記の炭素数１〜１０の好ま
しい炭化水素基として記載したものを挙げることができ
る）を挙げることができる。

【００８０】式（IIａ）及び（IIｂ）において、Ｂ¹ 及
びＢ² は各々−ＣＯＯ−とベンゼン環を結合する単結合
又は−（ＣＨ₂ ) _e −（ｅは１〜３の整数を表す）、−
ＣＨ₂ ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ ＣＨ₂ ＯＣＯ−、−（ＣＨ₂
Ｏ) _k −（ｋは１又は２の整数を表す）、−ＣＨ₂ ＣＨ
₂ Ｏ−等の如き連結原子数１〜４個の連結基であり、よ
り好ましくは単結合又は結合原子数１〜２個の連結基を
挙げることができる。

【００８１】本発明の樹脂〔Ａ〕で用いられる式（II
ａ）又は（IIｂ）で示される繰り返し単位の具体例を以
下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに限定される
ものではない。

【００８２】

【化２２】

【００８３】

【化２３】

【００８４】

【化２４】

【００８５】

【化２５】

【００８６】更には、本発明のグラフト型共重合体にお
いて上記マクロモノマー（Ｍ）と共重合する成分として
は、一般式（II）、（IIａ）又は（IIｂ）以外の単量体
であってもよく、例えば一般式（II）で説明した以外の
置換基を含有するメタクリル酸エステル類、アクリル酸
エステル類、クロトン酸エステル類に加え、α−オレフ
ィン類、カルボン酸ビニル又はアリル酸エステル類（例
えばカルボン酸として、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉
草酸、安息香酸、ナフタレンカルボン酸等）、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、ビニルエーテル類、イ
タコン酸エステル類（例えばジメチルエステル、ジエチ
ルエステル等）、アクリルアミド類、メタクリルアミド
類、スチレン類（例えばスチレン、ビニルトルエン、ク
ロロスチレン、ヒドロキシスチレン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノメチルスチレン、メトキシカルボニルスチレン、
メタンスルホニルオキシスチレン、ビニルナフタレン
等）、ビニルスルホン含有化合物、ビニルケトン含有化
合物、複素環ビニル類（例えばビニルピロリドン、ビニ
ルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルチオフェン、
ビニルイミダゾリン、ビニルピラゾール、ビニルジオキ
サン、ビニルキノリン、ビニルテトラゾール、ビニルオ
キサジン等）等が挙げられる。好ましい例としては、炭
素数１〜３のアルカン酸ビニル又はアリルエステル類、
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン及び
スチレン誘導体（例えばビニルトルエン、ブチルスチレ
ン、メトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチ
レン、ブロモスチレン、エトキシスチレン等）等が挙げ
られる。

【００８７】本発明の結着樹脂は、前記マクロモノマー
（Ｍ）及び他の単量体（例えば一般式（II）で示される
単量体）のうちから各々少なくとも１種選ばれた化合物
を所望の割合で共重合させることによって製造すること
ができる。重合方法としては溶液重合、懸濁重合、沈殿
重合、乳化重合等の公知の方法を用いることにより製造
することができる。例えば溶液重合ではベンゼン、トル
エン等の溶媒中、単量体を所定の割合で添加し、アゾビ
ス系化合物、過酸化化合物、ラジカル重合開始剤によっ
て重合せしめ共重合体溶液を得ることができる。これを
乾燥または貧溶剤に添加することにより所望の共重合体
を得ることができる。また、懸濁重合ではポリビニルア
ルコール、ポリビニルピロリドン等の分散剤の存在下、
単量体を懸濁させ、ラジカル重合開始剤の存在下で共重
合せしめ共重合体を得ることができる。

【００８８】次に本発明の樹脂〔Ｂ〕について説明す
る。樹脂〔Ｂ〕は、前記一般式（II）で示される重合体
成分を少なくとも３０重量％以上含有する高分子鎖が、
有機分子中に少なくとも３個結合して成るスター型共重
合体であり且つ該各高分子鎖の有機分子に結合した反対
側の主鎖の末端に、−ＰＯ₃ Ｈ₂ 基、−ＣＯＯＨ基、−
ＳＯ₃ Ｈ基、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）Ｒ¹ （Ｒ¹ は前記と
同一の内容を表す）から選ばれた少なくとも１種の極性
基を結合して成るスター型共重合体である。

【００８９】更に好ましくは、樹脂〔Ｂ〕のスターを構
成する高分子鎖が、一般式（II）で示される重合体成分
を３０重量％以上含有するＡブロックと、上記特定の極
性基から選択される少なくとも一種の極性基を有する重
合体成分を少なくとも一種含有するＢブロックとから構
成されるＡＢ型ブロック高分子鎖でＢブロックのＡブロ
ックと結合する反対側の末端に上記特定の極性基を結合
してなる高分子鎖から成るものである（樹脂
〔Ｂ’〕）。

【００９０】即ち、該重合体を模式的に示すと下記化２
６の如くなる。

【００９１】

【化２６】

【００９２】〔ここで、Ｘは有機分子を表し、〔Ａ〕は
Ａブロックを、〔Ｂ〕はＢブロックを表し、〔Ａ〕−
〔Ｂ〕は高分子鎖を表す。−Ｗは、特定の極性基を表わ
す。〕また、かかる樹脂〔Ｂ〕のスターを構成する高分
子鎖は、有機分子中に含まれる上限は多くても１５個、
通常１０個程度である。

【００９３】樹脂〔Ｂ〕の重量平均分子量は２×１０⁴
〜１×１０⁶ 、好ましくは３×１０⁴ 〜５×１０⁵ であ
る。樹脂〔Ｂ〕の分子量が２×１０⁴ より小さくなる
と、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、また分
子量が１×１０⁶ より大きくなると本発明の樹脂〔Ｂ〕
の効果が少なくなり、従来公知の樹脂と同程度の電子特
性になってしまう。

【００９４】該樹脂〔Ｂ〕のガラス転移点は、−１０℃
〜１００℃の範囲のものが好ましいが、より好ましくは
０℃〜９０℃である。本発明のスター型共重合体（樹脂
〔Ｂ〕）の高分子鎖を構成する各成分は以下の特徴を有
する。

【００９５】高分子鎖に少なくとも含有される前記一般
式（II）で示される繰り返し単位で示される重合体成分
は、好ましくは３０〜１００重量％、より好ましくは５
０〜１００重量％含有される。又、樹脂〔Ｂ’〕の高分
子鎖のＡブロックにおいても、上記重合体成分の存在量
は、Ａブロックの全重合体成分中の好ましくは３０〜１
００重量％、より好ましくは５０〜１００重量％であ
る。

【００９６】また、樹脂〔Ｂ’〕のＡブロックにおいて
は、Ｂブロックで含有される特定の極性基含有成分を含
有しないことを特徴する。

【００９７】一般式（II）の成分の具体的内容について
は、樹脂〔Ａ〕で説明したものと同様のものに準じる。
更に他の含有され得る重合体成分としては、例えば下記
一般式（IV）で示される成分が挙げられる。

【００９８】

【化２７】

【００９９】〔式(IV)中、Ｘ¹ は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ
−、−（ＣＨ₂ ）_v −ＯＣＯ−、−（ＣＨ₂ ）_v −ＣＯ
Ｏ−（ｖは１〜３の整数を表す）、−Ｏ−、−ＳＯ
₂ −、−ＣＯ−、−ＣＯＮ（Ｑ² ）−、−ＳＯ₂ Ｎ（Ｑ
² ）−、−ＣＯＮＨＣＯＯ−、−ＣＯＮＨＣＯＮＨ−又
は−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表す（ここでＱ² は水素原子又は炭化
水素基を表す）。Ｑ¹ は炭化水素基を表す。ｍ¹ 及びｍ
² は、互いに同じでも異なってもよく、前記一般式
（Ｉ）中のａ¹ 、ａ² とそれぞれ同一の内容を表す。〕

【０１００】ここで、Ｑ² は水素原子のほか、好ましい
炭化水素基としては、炭素数１〜１８の置換されてもよ
いアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２−シ
アノエチル基、２−メトキシカルボニルエチル基、２−
メトキシエチル基、３−ブロモプロピル基等）、炭素数
４〜１８の置換されてもよいアルケニル基（例えば、２
−メチル−１−プロペニル基、２−ブテニル基、２−ぺ
ンテニル基、３−メチル−２−ぺンテニル基、１−ぺン
テニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、４−
メチル−２−ヘキセニル基等）、炭素数７〜１２の置換
されてもよいアラルキル基（例えば、ベンジル基、フェ
ネチル基、３−フェニルプロピル基、ナフチルメチル
基、２−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモ
ベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メ
トキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベ
ンジル基等）、炭素数５〜８の置換されてもよい脂環式
基（例えば、シクロヘキシル基、２−シクロヘキシルエ
チル基、２−シクロぺンチルエチル基等）又は炭素数６
〜１２の置換されてもよい芳香族基（例えば、フェニル
基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェ
ニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデ
シルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニ
ル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル基、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニ
ル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキ
シカルボニルフェニル基、エトキシカルボキシフェニル
基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェ
ニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミ
ドフェニル基等）が挙げられる。

【０１０１】Ｘ¹ が−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子（例えば塩素原子、臭素原子等）、アルキル基
（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
クロロメチル基、メトキシメチル基等）、アルコキシ基
（例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブ
トキシ基等）等が挙げられる。

【０１０２】Ｑ¹ は、炭化水素基を表わし、好ましい炭
化水素基としては、炭素数１〜２２の置換されてもよい
アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、２−クロロエチ
ル基、２−ブロモエチル基、２−シアノエチル基、２−
メトキシカルボニルエチル基、２−メトキシエチル基、
３−ブロモプロピル基等）、炭素数４〜１８の置換され
てもよいアルケニル基（例えば、２−メチル−１−プロ
ペニル基、２−ブテニル基、２−ペンテニル基、３−メ
チル−２−ぺンテニル基、１−ぺンテニル基、１−ヘキ
セニル基、２−ヘキセニル基、４−メチル−２−ヘキセ
ニル基等）、炭素数７〜１２の置換されてもよいアラル
キル基（例えば、ベンジル基、フェネチル基、３−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、２−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等）、炭素数
５〜８の置換されてもよい脂環式基（例えば、シクロヘ
キシル基、２−シクロヘキシルエチル基、２−シクロぺ
ンチルエチル基等）、炭素数６〜１２の置換されてもよ
い芳香族基（例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル
基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル
基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル
基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジク
ロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル
基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニ
ルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミ
ドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等）が挙
げられる。

【０１０３】更に好ましくは、一般式（IV）において、
Ｘ¹ は−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ₂ ＯＣＯ−、−
ＣＨ₂ ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、−ＳＯ₂ ＮＨ
−又は−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表す。

【０１０４】更には、一般式（IV）に示される重合体成
分とともに含有され得る重合体成分として、該一般式
（IV）の重合体成分と共重合しうる他の繰り返し単位に
相当する単量体、例えばアクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル、複素環ビニル類（例えばビニルピリジン、ビ
ニルイミダゾール、ビニルピロリドン、ビニルチオフェ
ン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニルオキ
サジン等）等が挙げられる。これら他の単量体は高分子
鎖中の全重合体成分１００重量部中２０重量部を超えな
い範囲で用いられる。

【０１０５】また、本発明の樹脂〔Ｂ〕における、高分
子鎖末端に結合する極性基の含有量は樹脂〔Ｂ〕中０．
０１〜１５重量％、好ましくは０．０５〜８重量％であ
る。該極性基含有量が０．０１重量％よりも少ないと初
期電位が低くて充分な画像濃度を得ることができない。
一方、該極性基含有量が１５重量％よりも多いと、光導
電体粒子の分散性が低下し、高温高湿での膜平滑度及び
電子写真特性が低下し、更にオフセット平版印刷用原版
として用いるときに地汚れが増大するため、好ましくな
い。

【０１０６】また、樹脂〔Ｂ〕において、全共重合体中
に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、前
記樹脂〔Ａ〕中に含有される特定の極性基含有重合体成
分の総量に対し５重量％〜５０重量％であることが好ま
しい。樹脂〔Ｂ〕における該総量が樹脂〔Ａ〕のそれの
５重量％未満であると、電子写真特性（特に暗電荷保持
率及び光感度）の低下が著しく、膜の強度も低下する。
また、５０重量％を超えると、光導電体粒子の分散の均
一化が不充分となり、電子写真特性が低下し、オフセッ
ト平版印刷用原版としては保水性が低下する。

【０１０７】本発明の樹脂〔Ｂ〕における、高分子鎖の
主鎖の末端に結合する特定の極性基としては、前記樹脂
〔Ａ〕で説明したと同様の内容の極性基が具体的な例と
して挙げられる。また、該特定の極性基は、該高分子鎖
の主鎖に、直接結合してもよいし、任意の連結基を介し
て結合してもよい。

【０１０８】連結する基としては、例えば炭素−炭素結
合（一重結合あるいは二重結合）、炭素−ヘテロ原子結
合（ヘテロ原子としては例えば、酸素原子、イオウ原
子、窒素原子、ケイ素原子等）、ヘテロ原子−ヘテロ原
子結合の原子団の任意の組合せで構成されるものであ
る。即ち、具体的には、単なる結合または−Ｃ（Ｚ¹ ）
（Ｚ¹ ）−〔Ｚ¹ は同じでも異なってもよく、水素原
子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子等）、シアノ基、ヒドロキシル基、アルキル基
（例えばメチル基、エチル基、プロピル基等）等を示
す〕、−（ＣＨ＝ＣＨ）−、−Ｃ₆ Ｈ₁₀−、−Ｃ₆ Ｈ₄
−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｎ（Ｚ⁷ ）−、−Ｃ
ＯＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−Ｓｉ（Ｚ⁷ ）₂ −、−ＳＯ
₂ −、−ＣＯＮ（Ｚ⁷ ）−、−ＳＯ₂ Ｎ（Ｚ⁷ ）−、−
ＮＨＣＯＯ−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−Ｃ（Ｚ⁷ ）
（Ｚ⁷ ）−〔Ｚ⁷ はそれぞれ水素原子、前記一般式
（Ｉ）におけるＲ³ と同様の内容を表わす炭化水素基等
を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結基もしくは
任意の組合せで構成された連結基を表わす。

【０１０９】次にＡＢブロック・スター型共重合体であ
る樹脂〔Ｂ’〕がＡＢ型ブロックの高分子鎖を構成する
Ｂブロック成分について詳しく説明する。Ｂブロックを
構成する特定の極性基を含有する共重合体成分の具体例
としては、前記した樹脂〔Ａ〕の特定の極性基を含有す
る重合体成分と同様のものに準じる。

【０１１０】上記の如き特定の極性基を含有する共重合
体成分は該Ｂブロック中に２種以上含有されていてもよ
く、その場合における該２種以上の極性基含有成分は該
Ｂブロック中においてランダム共重合又はブロック共重
合のいずれの態様で含有されていてもよい。

【０１１１】また、上記極性基含有の共重合体成分以外
の重合体成分をＢブロック中に含有していてもよく、か
かる重合体成分としては好ましくは前記一般式（II）及
び（IV）の繰り返し単位に相当する重合体成分、更には
その他の成分として記載したものと同様のものが挙げら
れる。樹脂〔Ｂ’〕における特定の極性基含有成分の含
有量は、樹脂〔Ｂ’〕の全重合成分１００重量部当り好
ましくは０．０５〜１５重量部、より好ましくは０．１
〜５重量部の割合で含有される。

【０１１２】結着樹脂〔Ｂ’〕における極性基含有成分
の含有量が０．０５重量％より少ないと、初期電位が低
くて充分な画像濃度を得ることができず、該極性基含有
成分の含有量が１５重量％よりも多いと、光導電体粒子
の分散性が低下し、高温高湿における膜平滑度及び電子
写真特性が低下し、更にオフセット平版印刷用原版とし
て用いるときに地汚れが増大するため、好ましくない。

【０１１３】本発明の樹脂〔Ｂ’〕においてＡＢブロッ
クで構成される高分子鎖のＢブロック中に含有される特
定の極性基の種類と高分子鎖の末端に結合する極性基の
種類は、同じでも異なってもよい。また、本発明の樹脂
〔Ｂ’〕において、共重合成分として含有される極性基
と、高分子鎖の片末端に結合された極性基の存在割合
は、本発明の光導電層を構成する他の結着樹脂、分光増
感色素、化学増感剤あるいはそれ以外の添加剤の種類・
量によって異なり、その割合は任意に調節することが好
ましい。重要なことは、両者の極性基の総量が０．０５
〜１５重量％の範囲の内で使用されることである。

【０１１４】本発明の樹脂〔Ｂ’〕において重要なこと
は、樹脂〔Ｂ’〕全成分量１００重量部における、該特
定の極性基含有置換成分の存在割合が、上記のように
０．０５〜１５重量％の範囲内であることであり、更に
該樹脂〔Ｂ’〕において、樹脂〔Ｂ’〕の高分子鎖成分
中と高分子鎖末端の両者に存在する場合は、上記存在割
合の範囲内で任意に分割されるものである。好ましく
は、高分子鎖成分中の存在割合は、末端成分中のそれを
１．０とすると０．１〜１．０の比である。

【０１１５】一方樹脂〔Ｂ’〕においてＡブロックとＢ
ブロックの全重合体成分の重量比は、全重合体１００重
量部中、Ａブロックの存在割合は、好ましくは５０〜９
５重量％、より好ましくは、６０〜９０重量％である。
又、該ブロック高分子鎖においてＡブロックの方がＢブ
ロックより重量平均分子量が大きい事が好ましい。

【０１１６】一方、本発明に従う、高分子鎖を少なくと
も３本以上結合して成る有機分子としては、該分子の分
子量が１０００以下のものであれば特に限定されるもの
ではない。例をあげれば、化２８等の３価の炭化水素残
基が挙げられる。

【０１１７】

【化２８】

【０１１８】（ここで、ｒ¹ 〜ｒ⁴ は水素原子又は炭化
水素基を表す。但しｒ¹ 及びｒ² 又はｒ³ 及びｒ⁴ のう
ち少なくとも１つは高分子鎖に連結する。）これらの有
機残基は単独又はこれらの任意の組み合わせの構成から
なり、組み合わせの場合は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（ｒ
⁵ ）−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮ（ｒ⁵ ）−、−ＳＯ
₂ −、−ＳＯ₂ Ｎ（ｒ⁵ ）−（ここでｒ⁵ はそれぞれ水
素原子又は炭化水素基を表す），−ＮＨＣＯＯ−、−Ｎ
ＨＣＯＮＨ−，酸素原子、イオウ原子、窒素原子等のヘ
テロ原子含有の複素環基（例えば、チオフェン環、ピリ
ジン環、ピラン環、イミダゾ−ル環、ベンゾイミダゾ−
ル環、フラン環、ピペリジン環、ピラジン環、ピロ−ル
環、ピペラジン環等）等の結合単位の組み合わせを含ん
でいてもよい。

【０１１９】他の該高分子鎖を結合する有機分子として
は、下記化２９と上記結合単位との組み合わせから構成
されるものが挙げられる。しかしながら、本発明に従う
有機分子の具体例としては、これらに限定されるもので
はない。

【０１２０】

【化２９】

【０１２１】本発明のスター型共重合体樹脂〔Ｂ〕は、
従来公知の重合反応法によって製造することができる。
具体的には、該特定の極性基を含有する重合体成分に相
当する単量体において該極性基を予め保護した官能基と
しておき、有機金属化合物（例えばアルキルリチウム
類、リチウムジイソプロピルアミド、アルキルマグネシ
ウムハライド類等）もしくはヨウ化水素／ヨウ素系等に
よるイオン重合反応、ポルフィリン金属錯体を触媒とす
る光重合反応又はグループ移動重合反応等の公知のいわ
ゆるリビング重合反応でＡＢブロック共重合体を重合反
応した後、停止反応時に、特定の極性基を直接導入する
かあるいは、該極性基を結合できる官能基を導入した後
極性基を化学結合させる。その後、重合体成分中の極性
基を保護した官能基を加水分解反応、加水素分解反応、
酸化分解反応又は光分解反応等によって脱保護反応を行
ない、極性基を形成させる方法が挙げられる。

【０１２２】これらは、例えば、前記樹脂〔Ａ〕のマク
ロモノマー合成のところのリビングポリマー合成の文献
等に記載の合成方法に従って容易に合成することができ
る。

【０１２３】更に、ＡＢブロック共重合体は、極性基を
保護しないままの単量体を用い、ジシオカーバメント基
を含有する化合物及び／又はザンテート基を含有する化
合物を開始剤として、光照射下に重合反応を行なって合
成することもできる。例えば、大津隆行、高分子、３
７，２４８（１９８８）、檜森俊一、大津隆一、Ｐｏｌ
ｙｍ．Ｒｅｐ．Ｊａｐ．３７．３５０８（１９８８）、
特開昭６４−１１１号、特開昭６４−２６６１９号、東
信行等、Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ、Ｊａｐ
ａｎ、３６、（６）、１５１１（１９８７）、Ｍ．Ｎｉ
ｗａ、Ｎ．Ｈｉｇａｓｈｉ、ｅｔａｌ、Ｊ．Ｍａｃｒｏ
ｍｏｌ．Ｓｃｉ．Ｃｈｅｍ．Ａ２４（５）、５６７（１
９８７）等に記載の合成方法に従って合成することがで
きる。

【０１２４】又、本発明の特定の極性基の保護基による
保護及びその保護基の脱離（脱保護反応）については、
従来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。
例えば前記引用文献にも種々記載されており、更には、
岩倉義男、栗田恵輔、「反応性高分子」（株）講談社刊
（１９７７年）、Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ、「Ｐｒｏｔｅ
ｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓ
ｙｎｔｈｅｓｉｓ」，Ｊｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏ
ｎｓ（１９８１年）、Ｊ．Ｆ．Ｗ．ＭｃＯｍｉｅ、「Ｐ
ｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎ
ｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅｓ
ｓ、（１９７３年）等の総説に詳細に記載されている方
法を適宜選択して行なうことができる。

【０１２５】本発明の光導電層に供される結着樹脂とし
て、本発明の樹脂〔Ａ〕及び樹脂〔Ｂ〕以外に前記した
無機光導電体用の公知の樹脂を併用することもできる。
但し、これらの他の樹脂の使用割合は、全結着樹脂１０
０重量部中３０重量部を越えない範囲が好ましい。この
割合を越えると、本発明の効果は著しく低下してしま
う。

【０１２６】併用可能な他の樹脂としては例えば、代表
的なものは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン
−ブタジエン共重合体、スチレン−メタクリレート共重
合体、メタクリレート共重合体、アクリレート共重合
体、酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエ
ステル樹脂、ポリエステル樹脂等である。

【０１２７】具体的には、柴田隆治・石綿次郎「高分
子」第１７巻、第２７８頁（１９６８年）、宮本晴視・
武井英彦「イメージング」１９７３（Ｎｏ．８）第９
頁、中村孝一編「絶縁材料用バインダーの実際技術」第
１０章、Ｃ．Ｈ．Ｃ．出版（１９８５年刊）、Ｄ．Ｄ．
Ｔａｔｔ、Ｓ．Ｃ．Ｈｅｉｄｅｃｋｅｒ、Ｔａｐｐｉ、
４９（Ｎｏ．１０）、４３９（１９６６）、Ｅ．Ｓ．Ｂ
ａｌｔａｚｚｉ、Ｒ．Ｇ．Ｂｌａｎｃｌｏｔｔｅ ｅｔ
ａｌ、Ｐｈｏｔｏ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．１６（Ｎｏ．
５）、３５４（１９７２）、グエン・チャン・ケー、清
水 勇、井上英一、電子写真学会誌１８（Ｎｏ．２）、
２８（１９８０）、特公昭５０−３１０１１号、特開昭
５３−５４０２７号、同５４−２０７３５号、同５７−
２０２５４４号、同５８−６８０４６号各号公報等に開
示の樹脂が挙げられる。

【０１２８】本発明の光導電層において用いられる結着
樹脂の総量は、無機光導電体１００重量部に対して、１
０重量部〜１００重量部であることが好ましく、より好
ましくは１５重量部〜５０重量部である。

【０１２９】本発明の樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の使用割
合は、樹脂〔Ａ〕／樹脂〔Ｂ〕の重量比で０．０５〜
０．８／０．９５〜０．２０であることが好ましく、よ
り好ましくは０．１０〜０．５０／０．９０〜０．５０
である。

【０１３０】結着樹脂の総量比が１０重量部以下となる
と、光導電層の膜強度が維持できなくなる。又１００重
量部以上になると、静電特性が低下し、実際の撮像性に
おいても複写画像の悪化を生じてしまう。

【０１３１】又、本発明の樹脂〔Ａ〕と樹脂〔Ｂ〕の使
用割合において樹脂〔Ａ〕の重量比が０．０５以下にな
ると、静電特性向上の効果が薄れてしまう。一方０．８
以上になると光導電層の膜強度が充分維持できなくなる
場合（特に電子写真式平版印刷用原版として）が生じ
る。

【０１３２】本発明に使用する無機光導電材料として
は、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウ
ム、炭酸カドミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウ
ム、セレン化テルル、硫化鉛等が挙げられる。

【０１３３】本発明に使用する分光増感色素としては、
必要に応じて各種の色素を単独又は併用して用いる。例
えば、宮本晴視、武井英彦、イメージング１９７３（Ｎ
ｏ．８）第１２頁、Ｃ．Ｊ．Ｙｏｕｎｇ等、ＲＣＡ Ｒ
ｅｖｉｅｗ １５、４６９（１０５４）、清田航平等、
電気通信学会論文誌Ｊ６３ −Ｃ（Ｎｏ．２）、９７
（１９８０）、原崎勇次等、工業科学雑誌６６ ７８及
び１８８（１９６３）、谷忠昭、日本写真学会誌３５、
２０８（１９７２）等の総説引例のカーボニウム系色
素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、
キサンテン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素
（例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シア
ニン色素、ロダシアニン色素、スチリル色素等）、フタ
ロシアニン色素（金属を含有してもよい）等が挙げられ
る。

【０１３４】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン
系色素を中心に用いたものとしては、特公昭５１−４５
２号、特開昭５０−９０３３４号、同５０−１１４２２
７号、同５３−３９１３０号、同５３−８２３５３号、
米国特許第３，０５２，５４０号、同４，０５４，４５
０号、特開昭５７−１６４５６号等に記載のものが挙げ
られる。

【０１３５】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、Ｆ．Ｍ．Ｈａｒｍｍｅｒ 「Ｔｈｅ Ｃｙａｎｉ
ｎｅＤｙｅｓ ａｎｄ Ｒｅｌａｔｅｄ Ｃｏｍｐｏｕ
ｎｄ」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的
には、米国特許第３，０４７，３８４号、同３，１１
０，５９１号、同３，１２１，００８号、同３，１２
５，４４７号、同３，１２８，１７９号、同３，１３
２，９４２号、同３，６２２，３１７号、英国特許第
１，２２６，８９２号、同１，３０９，２７４号、同
１，４０５，８９８号、特公昭４８−７８１４号、同５
５−１８８９２号等に記載の色素が挙げられる。

【０１３６】更に７００ｎｍ以上の長波長の近赤外〜赤
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭４
７−８４０号、同４７−４４１８０号、特公昭５１−４
１０６１号、特開昭４９−５０３４号、同４９−４５１
２２号、同５７−４６２４５号、同５６−３５１４１
号、同５７−１５７２５４号、同６１−２６０４４号、
同６１−２７５５１号、米国特許第３，６１９，１５４
号、同４，１７５，９５６号、「Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄ
ｉｓｃｌｏｓｕｒｅ」１９８２年、２１６、第１１７〜
１１８頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光体
は種々の増感色素を併用させても、その性能が増感色素
により変動しにくい点において優れている。更には、必
要に応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写真
感光層用各種添加剤を併用することもできる。例えば、
前記した総説：イメージング１９７３（Ｎｏ．８）第１
２頁等の総説引例の電子受容性化合物（例えば、ハロゲ
ン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物有機カルボン
酸等）、小門宏等、「最近の光導電材料と感光体の開発
・実用化」第４章〜第６章・日本科学情報（株）出版部
（１９８６年）の総説引例のポリアリールアルカン化合
物、ヒンダートフェノール化合物、ｐ−フェニレンジア
ミン化合物等が挙げられる。

【０１３７】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体１００重量部に対して０．０
００１〜２．０重量部である。光導電層の厚さは１〜１
００μｍ、特に１０〜５０μｍが好適である。

【０１３８】また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感
光体の電荷発生層として光導電層を使用する場合は電荷
発生層の厚さは０．０１〜１μｍ、特に０．０５〜０．
５μｍが好適である。

【０１３９】感光体の保護および耐久性、暗電荷保持性
の改善等を主目的として絶縁層を付設させる場合もあ
る。この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特
定の電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層
は比較的厚く設定される。

【０１４０】後者の場合、絶縁層の厚さは、５〜７０μ
ｍ、特には、１０〜５０μｍに設定される。積層型感光
体の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバゾール、オ
キサゾール系色素、ピラゾリン系色素、トリフェニルメ
タン系色素などがある。電荷輸送層の厚さとしては５〜
４０μｍ、特には１０〜３０μｍが好適である。

【０１４１】絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる
樹脂としては、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポ
リエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリオレフィン
樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹
脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及び硬
化性樹脂が適宜用いられる。

【０１４２】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基本に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基本の裏面（感光層を設け
る面と反対面）に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも１層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも１層以上のプレ
コート層が設けられたもの、Ａｌ等を蒸着した基体導電
化プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用でき
る。

【０１４３】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例としては、坂本幸男、電子写真、１４（Ｎｏ．
１）、Ｐ２〜１１（１９７５）、森賀弘之、「入門特殊
紙の化学」高分子刊行会（１９７５）、Ｍ．Ｆ．Ｈｏｏ
ｖｅｒ，Ｊ．Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｃｉ．Ｃｈｅｍ．Ａ
−４（６）、第１３２７〜第１４１７頁（１９７０）等
に記載されているもの等を用いる。

【０１４４】本発明の電子写真感光体は、従来公知のあ
らゆる電子写真プロセスを利用した用途において利用す
ることができる。即ち、本発明の感光体はＰＰＣ方式お
よびＣＰＣ方式のいずれの記録方式にも利用でき、又、
現像剤として乾式現像剤あるいは液体現像剤のいずれの
組合せにも用いることができる。

【０１４５】特に、高精細なオリジナルの忠実な複写画
像形成が可能なことから、液体現像剤との組合せで利用
すると、本発明の効果がより発揮される。又カラー現像
剤との組合せとすることで、黒白複写画像のみならず、
カラー複写画像にも応用することができる（例えば、滝
沢九郎、「写真工業」３３、３４（１９７５年）、安西
正保、「電子通信学会技術研究報告」７７、１７（１９
７７年）等に記載の方法）。

【０１４６】更に近年の電子写真プロセスを利用した他
の用途への利用のシステムにおいても有効である。例え
ば光導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の感
光体は、オフセット平版印刷用原版として、又無公害で
白色度の良好な光導電性酸化亜鉛あるいは光導電性酸化
チタンを用いた感光体は、オフセット印刷プロセスで用
いられる版下用記載材料あるいはカラープループ等に用
いることができる。

【０１４７】

〔マクロモノマ−の合成〕

マクロモノマー（Ｍ）の合成例１：（Ｍ−１） トリフェニルメチルメタクリレート３０ｇ及びトルエン
１００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−２０
℃に冷却した。１，１−ジフェニルブチルリチウム１．
０ｇを加え１０時間反応した。

【０１４８】更にこの混合溶液に、エチルメタクリレー
ト７０ｇ及びトルエン１００ｇの混合溶液を窒素気流下
に充分に脱気した後、添加し、更に１０時間反応した。
この混合物を０℃にした後炭酸ガスを毎分６０ｍｌの流
量で３０分間通気し、重合反応を停止させた。

【０１４９】得られた反応液を攪拌下に、温度２５℃と
し、２−ヒドロキシエチルメタクリレート６ｇを加え、
更に、ジシクロヘキシルカルボジイミド１２ｇ、４−
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン１．０ｇ及び塩化メチ
レン２０ｇの混合溶液を３０分間で滴下し、そのまま３
時間攪拌した。

【０１５０】析出した不溶物を濾別後、この混合溶液
に、３０％塩化水素エタノール溶液１０ｍｌを加え１時
間攪拌した。次に、減圧下に反応混合物を全体量が半分
になるまで溶媒を留去した後、石油エーテル１リットル
中に再沈した。沈殿物を補集し、減圧乾燥して得られた
重合体は、Ｍｗ６．５×１０³ で収量５６ｇであった。

【０１５１】

【化３０】

【０１５２】マクロモノマー（Ｍ）の合成例２：（Ｍ−
２） ベンジルメタクリレート５ｇ、（テトラフェニルポルフ
ィナート）アルミニウムメチル０．１ｇ及び塩化メチレ
ン６０ｇの混合溶液を窒素気流下に温度３０℃とした。
これに３００Ｗ−キセノンランプ光をガラスフィルター
を通して２５ｃｍの距離から光照射し、１２時間反応し
た。この混合物に更にブチルメタクリレート４５ｇを加
え、同様に８時間光照射した後、この反応混合物に４−
ブロモメチルスチレン１０ｇを加え、３０分間攪拌し反
応を停止させた。次にこの反応混合物にＰｄ−Ｃを加
え、温度２５℃で１時間接触還元反応を行なった。

【０１５３】不溶物を濾別した後石油エーテル５００ｍ
ｌ中に再沈し、沈殿物を補集し乾燥した。得られた重合
体は収量３３ｇでＭｗ７×１０³ であった。

【０１５４】

【化３１】

【０１５５】マクロモノマー（Ｍ）の合成例３：（Ｍ−
３） ４−ビニルフェニルオキシトリメチルシラン２０ｇ及び
トルエン１００ｇの混合溶液を窒素気流下に、充分に脱
気し、０℃に冷却した。１，１−ジフェニル−３−メチ
ルペンチルリチウム２ｇを加え、６時間攪拌した。更に
この混合物に２−クロロ−６−メチルフェニルメタクリ
レート８０ｇ及びトルエン１００ｇの混合溶液を窒素気
流下に充分脱気した後、添加して８時間反応した。この
反応混合物に充分に攪拌しながらエチレンオキサイドを
毎分３０ｍｌの流量で３０分間通気した後、温度１５℃
に冷却しメタクリル酸クロライド１２ｇを３０分間で滴
下し、更にそのまま３時間攪拌した。

【０１５６】次にこの反応混合物に３０％塩化水素エタ
ノール溶液１０ｇを加え、２５℃で１時間攪拌した後、
石油エーテル１リットル中に再沈し、補集した沈殿物を
ジエチルエーテル３００mlで２回洗浄し乾燥した。得ら
れた重合体は、収量５５ｇでＭｗ７．８×１０³ であっ
た。

【０１５７】

【化３２】

【０１５８】マクロモノマー（Ｍ）の合成例４：（Ｍ−
４） トリフェニルメチルメタクリレート４０ｇ及びトルエン
１００ｇの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−２
０℃に冷却した。

【０１５９】sec-ブチルリチウム２ｇを加え１０時間反
応した。次に、この混合溶液に、スチレン６０ｇ及びト
ルエン１００ｇの混合溶液を充分に窒素気流下で脱気し
た後添加し１２時間反応した。この混合物を０℃にした
後、ベンジルブロマイド１１ｇを加え１時間反応し、温
度２５℃で更に２時間反応させた。この反応混合物に３
０％塩化水素含有エタノール溶液１０ｇを加え、２時間
攪拌した。不溶物を濾別後、ｎ−ヘキサン１リットル中
に再沈し、沈殿物を補集して減圧乾燥した。得られた重
合体の収量は５８ｇでＭｗ４．５×１０³ であった。

【０１６０】

【化３３】

【０１６１】マクロモノマー（Ｍ）の合成例５：（Ｍ−
５） フェニルメタクリレート７０ｇ、ベンジル−Ｎ−ヒドロ
キシルエチル−Ｎ−エチルジチオカーバメート４．８ｇ
の混合物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度６０℃に
加温した。これに４００Ｗの高圧水銀灯で１０ｃｍの距
離からガラスフィルターを通して、１０時間光照射し光
重合した。これにアクリル酸３０ｇ及びメチルエチルケ
トン１８０ｇを加えた後、窒素置換し再び１０時間光照
射した。得られた反応混合物に、２−イソシアナートエ
チルメタクリレート１２ｇを、温度３０℃で１時間で滴
下し、更に２時間攪拌した。

【０１６２】得られた反応物をヘキサン１．５リットル
に再沈、補集し乾燥した。得られた重合体は、６８ｇで
Ｍｗ６．０×１０³ であった。

【０１６３】

【化３４】

【０１６４】〔樹脂〔Ａ〕の合成〕 樹脂〔Ａ〕の合成例１：〔Ａ−１〕 エチルメタクリレート８０ｇ、マクロモノマー（Ｍ−
１）２０ｇ及びトルエン１５０ｇの混合溶液を窒素気流
下に温度９５℃に加温した。２，２’−アゾビス（イソ
ブチロニトリル）（Ａ．Ｉ．Ｂ．Ｎ．）６ｇを加え３時
間反応し、更に２時間毎にＡ．Ｉ．Ｂ．Ｎ．２ｇを加え
反応した。

【０１６５】得られた共重合体のＭｗは９×１０³ であ
った。

【０１６６】

【化３５】

【０１６７】樹脂〔Ａ〕の合成例２：〔Ａ−２〕 ２−クロロフェニルメタクリレート７０ｇ、マクロモノ
マー（Ｍ−２）３０ｇ、ｎ−ドデシルメルカプタン２ｇ
及びトルエン１００ｇの混合溶液を窒素気流下に温度８
０℃に加温した。２，２’−アゾビス（イソバレロニト
リル）（Ａ．Ｉ．Ｖ．Ｎ．）３ｇを加え３時間反応し、
更にＡ．Ｉ．Ｖ．Ｎ．１ｇを加え２時間反応した。次に
Ａ．Ｉ．Ｖ．Ｎ．１ｇを加え温度９０℃に加温して３時
間反応した。得られた共重合体のＭｗは７．６×１０³
であった。

【０１６８】

【化３６】

【０１６９】樹脂〔Ａ〕の合成例３〜１８：〔Ａ−３〕
〜〔Ａ−１８〕 樹脂〔Ａ〕の合成例１と同様の重合条件で、エチルメタ
クリレートを他の単量体に代えて下記表−Ａの共重合体
を合成した。得られた各重合体のＭｗは５×１０³ 〜９
×１０³ であった。

【０１７０】

【表１】

【０１７１】

【表２】

【０１７２】

【表３】

【０１７３】樹脂〔Ａ〕の合成例１９〜３５：〔Ａ−１
９〕〜〔Ａ−３５〕 樹脂〔Ａ〕の合成例２において、マクロモノマー（Ｍ−
２）の代わりに他のマクロモノマー（Ｍ）を用いた他
は、合成例２と同様の重合条件で下記表−Ｂの共重合体
を合成した。得られた各重合体のＭｗは２×１０³ 〜１
×１０⁴ であった。

【０１７４】

【表４】

【０１７５】

【表５】

【０１７６】

【表６】

【０１７７】

【表７】

【０１７８】〔樹脂〔Ｂ〕の合成〕 樹脂〔Ｂ〕の合成例：〔Ｂ−１〕 メチルメタクリレート７４ｇ及び下記構造の開始剤〔Ｉ
−１〕１２．４ｇの混合物を、窒素気流下に温度５０℃
に加温した。この溶液に４００Ｗの高圧水銀灯で１０ｃ
ｍの距離からガラスフィルターを通して５時間光照射し
光重合した。

【０１７９】この重合物に、テトラヒドロフラン１００
ｇを加えて溶解し、更にメチルアクリレート２５ｇ及び
アクリル酸１．０ｇを加えた後、窒素気流下に再び温度
５０℃に加温した。

【０１８０】

【化３７】

【０１８１】次に、上記と同様にして、光照射を１０時
間行なった後、得られた反応物をメタノール２リットル
中に再沈し、沈澱物を捕集し乾燥して、収量７８ｇで重
量平均分子量（Ｍｗ：Ｍｗはポリスチレン換算によるＧ
ＰＣ法による値）６×１０⁴の重合体を得た。

【０１８２】

【化３８】

【０１８３】樹脂〔Ｂ〕の合成例２：〔Ｂ−２〕 メチルメタクリレート５０．３ｇ、メチルアクリレート
２４．７ｇ、下記構造の開始剤〔Ｉ−２〕８．０ｇ及び
テトラヒドロフラン７５ｇの混合物を窒素気流下に温度
５０℃に加温した。この溶液に、合成例１と同条件で６
時間光照射し光重合した。

【０１８４】

【化３９】

【０１８５】この重合物に、メチルメタクリレート２３
ｇ、アクリロニトリル２．０ｇ及びテトラヒドロフラン
２５ｇの混合溶液を加えた後、窒素気流下に再び温度６
０℃に加温し、上記と同様にして、１２時間光照射し光
重合した。得られた反応物をメタノール１．５リットル
中に再沈し、沈澱物を捕集乾燥して、収量７５ｇでＭｗ
１．２×１０⁵ の重合体を得た。

【０１８６】

【化４０】

【０１８７】樹脂〔Ｂ〕の合成例３〜１０：〔Ｂ−３〕
〜〔Ｂ−１０〕 メチルメタクリレート６５ｇ及び下記表−Ｃの開始剤各
０．００８モルの混合物を、樹脂〔Ｂ〕の合成例１と同
様にして光重合反応を行なった。

【０１８８】次にこれにテトラヒドロフラン１００ｇを
加えて溶解し、更に、メチルアクリレート３２．２ｇ、
Ｎ−ビニルピロリドン２．０ｇ及びメタクリル酸０．８
ｇを加えた後、合成例１と同様に、光重合及び再沈を行
なった。得られた重合体のＭｗは８×１０⁴ 〜１．０×
１０⁵ の範囲であった。

【０１８９】

【表８】

【０１９０】

【表９】

【０１９１】

【表１０】

【０１９２】樹脂〔Ｂ〕の合成例１１〜１６：〔Ｂ−１
１〕〜〔Ｂ−１６〕 樹脂〔Ｂ〕の合成例１において、メチルメタクリレー
ト、メチルアクリレート及びアクリル酸の代わりに、下
記表−Ｄに記載の重合成分に相当する各単量体を用いた
他は、合成例１と同様の条件で操作して各重合体を得
た。得られた重合体のＭｗは５×１０⁴ 〜６×１０⁴ の
範囲であった。

【０１９３】

【表１１】

【０１９４】

【表１２】

【０１９５】樹脂〔Ｂ〕の合成例１７〜２３：〔Ｂ−１
７〕〜〔Ｂ−２３〕 メチルメタクリレート６３．６ｇ、メチルアクリレート
３１．４ｇ、２−ヒドロキシエチルメタクリレート５
ｇ、下記表−Ｅの開始剤を１×１０^-3モル及びテトラヒ
ドロフラン１００ｇの混合溶液を、合成例１と同様にし
て光照射を８時間行なった。得られた重合体をメタノー
ル１．５リットル中に再沈し、沈澱物を濾集・乾燥し
て、各重合体を７０〜８０ｇ得た。又、得られた重合体
のＭｗは、８×１０⁴ 〜１０×１０⁴ の範囲であった。

【０１９６】

【表１３】

【０１９７】

【表１４】

【０１９８】

【表１５】

【０１９９】樹脂〔Ｂ〕の合成例２４〜２８：〔Ｂ−２
４〕〜〔Ｂ−２８〕 下記表−Ｆの重合体成分に相当する単量体及び前記開始
剤〔Ｉ−２〕１５．４ｇの混合物を、窒素気流下温度４
０℃に加温し、以下の操作を合成例１と同様にして、５
時間光照射し光重合した。

【０２００】固形物を取り出し、テトラヒドロフラン１
００ｇに溶解した後、メチルアクリレート１９．５ｇ及
びアクリル酸０．５ｇを加え、更に窒素気流下温度５０
℃に加温し、上記と同様にして光照射して重合させた。
得られた反応物をメタノール１リットル中に再沈し、沈
澱物を捕集・乾燥した。各重合体の収量は６５〜７５ｇ
で、Ｍｗは９×１０⁴ 〜１．２×１０⁵ であった。

【０２０１】

【表１６】

【０２０２】樹脂〔Ｂ〕の合成例２９〜３５：〔Ｂ−２
９〕〜〔Ｂ−３５〕 メチルメタクリレート５７ｇ、メチルアクリレート２８
ｇ及び下記構造の開始剤〔Ｉ−１８〕１．３ｇの混合物
を、窒素気流下温度４０℃に加温後、以下の操作を合成
例１と同様にして、４時間光照射し光重合した。

【０２０３】

【化４１】

【０２０４】固形物を、テトラヒドロフラン１００ｇに
溶解した後、下記表−Ｇの重合成分に相当する各単量体
を加え、更に窒素気流下温度５０℃に加温し、上記と同
様にして光照射して重合させた。得られた反応物をメタ
ノール１リットル中に再沈し、沈澱物を捕集・乾燥し
た。各重合体の収量は７０〜８０ｇでＭｗは９×１０⁴
〜１．１×１０⁵ の範囲であった。

【０２０５】

【表１７】

【０２０６】

【表１８】

【０２０７】実施例１並びに比較例１〜３ 樹脂〔Ａ−２０〕４ｇ（固形分量として）、樹脂〔Ｂ−
１〕３６ｇ（固形分量として）、光導電性酸化亜鉛２０
０ｇ、下記構造のメチン色素〔Ｉ〕０．０１８ｇ、無水
フタル酸０．４５ｇ及びトルエン３００ｇの混合物をホ
モジナイザー（日本精機（株）製）中、回転数６×１０
³ ｒｐｍで１０分間分散して、感光層形成物を調製し、
これを導電処理した紙に、乾燥付着量が２５ｇ／ｍ² と
なる様に、ワイヤーバーで塗布し、１１０℃で１０秒間
乾燥し、ついで暗所で２０℃，６５％Ｒ．Ｈ．の条件下
で２４時間放置することにより、電子写真感光材料（以
下、感光材料ともいう）を作製した。

【０２０８】

【化４２】

【０２０９】比較例１：実施例１において、樹脂〔Ｂ−
１〕３６ｇの代わりに下記構造の樹脂〔Ｒ−１〕３６ｇ
を用いた他は、実施例１と同様に操作して電子写真感光
材料を作製した。

【０２１０】

【化４３】

【０２１１】比較例２：実施例１において、樹脂〔Ｂ−
１〕３６ｇの代わりに下記構造の樹脂〔Ｒ−２〕３６ｇ
とした他は、実施例１と同様に操作して電子写真感光材
料を作製した。

【０２１２】

【化４４】

【０２１３】比較例３：実施例１において、樹脂〔Ｂ−
１〕３６ｇの代わりに下記構造の樹脂〔Ｒ−３〕３６ｇ
とした他は、実施例１と同様に操作して電子写真感光材
料を作製した。

【０２１４】

【化４５】

【０２１５】これらの電子写真感光材料について、環境
条件（Ｉ）（２０℃，６５％Ｒ．Ｈ．）及び（II）（３
０℃，８０％Ｒ．Ｈ．）とした時の静電特性及び撮像性
を調べた。以上の結果を表−Ｈに示す。

【０２１６】

【表１９】

【０２１７】表−Ｈに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注１）静電特性：温度２０℃，６５％Ｒ．Ｈ．の暗室中
で、各感光材料にペーパーアナライザー（川口電機
（株）製ペーパーアナライザーＳＰ−４２８型）を用い
て−６ｋＶで２０秒間コロナ放電させた後、１０秒間放
置し、この時の表面電位Ｖ₁₀を測定した。次いでそのま
ま暗中で９０秒間静置させた後の電位Ｖ₁₀₀ を測定し、
９０秒間暗減衰させた後の電位の保持性、即ち、暗電荷
保持率〔Ｄ．Ｒ．Ｒ．（％）〕を（Ｖ₁₀₀ ／Ｖ₁₀）×１
００（％）で求めた。

【０２１８】又コロナ放電により光導電層表面を−４０
０Ｖに帯電させた後、該光導電層表面をガリウム−アル
ミニウム−ヒ素半導体レーザー（発振波長７８０ｎｍ）
光で照射し、表面電位（Ｖ₁₀）が１／１０に減衰するま
での時間を求め、これから露光量Ｅ_1/10（ｅｒｇ／ｃｍ
² ）を算出する。又、同様に表面電位（Ｖ₁₀）が１／１
００に減衰するまでの時間を求め、これから露光量Ｅ
_1/100 （ｅｒｇ／ｃｍ²）を算出する。測定時の環境条
件は、（Ｉ）（２０℃，６５％Ｒ．Ｈ．）と（II）（３
０℃，８０％Ｒ．Ｈ．）で行なった。

【０２１９】注２）撮像性：各感光材料を以下の環境条
件で１昼夜放置した後、各感光材料を−６ｋＶで帯電
し、光源として２．８ｍＷ出力のガリウム−アルミニウ
ム−ヒ素半導体レーザー（発振波長７８０ｎｍ）光を用
いて、感光材料表面上で６４ｅｒｇ／ｃｍ² の照射量
下、ピッチ２５μｍ及びスキャニング速度３００ｍ／ｓ
ｅｃのスピード露光後液体現像剤として、ＥＬＰ−Ｔ
（富士写真フイルム（株）製）を用いて現像し、イソパ
ラフィンアイソパーＧ（エッソ化学（株）製）溶媒のリ
ンス液で洗浄後定着することで得られた複写画像（カブ
リ、画像の画質）を目視評価した。撮像時の環境条件は
（Ｉ）（２０℃，６５％Ｒ．Ｈ．）と（II）（３０℃，
８０％Ｒ．Ｈ．）で実施した。

【０２２０】表−Ｈに示す様に、本発明の感光材料は、
静電特性が良好で、実際の複写画像も地カブリがなく複
写画質も鮮明であった。一方、比較例１〜３は、光感度
（Ｅ_1/10及びＥ_1/100 ）の低下が生じ、実際の複写画像
でも細線・文字等のカスレや、リンス処理した後でも微
かな地カブリが除去されずに残存してしまった。又、静
電特性とは一致しないが、複写原稿の連続階調部分の中
間濃度でのムラの発生が生じてしまった。

【０２２１】本発明の感光体と比較例の感光体とではＥ
_1/100 値が大きく異なる。Ｅ_1/100値は、実際の撮像性
において、露光後、非画像部（既に露光された部位）に
どれだけの電位が残っているかを示すものであり、この
値が小さい程現像後の非画像部の地汚れが生じなくなる
事を示す。

【０２２２】具体的には−１０Ｖ以下の残留電位
（Ｖ_R ）にすることが必要となり、即ち実際にはＶ_R −
１０Ｖ以下とするために、どれだけ露光量が必要となる
かということで、半導体レーザー光によるスキャンニン
グ露光方式では、小さい露光量でＶ_R を−１０Ｖ以下に
することは、複写機の光学系の設計上（装置のコスト、
光学系光路の精度等）非常に重要なことである。

【０２２３】以上の事より、本発明の樹脂を用いた場合
にのみ静電特性及び撮像性を満足する電子写真感光体が
得られ、特に半導体レーザー光スキャニング露光方式の
感光体システムに優位になることが明らかとなった。 実施例２ 樹脂〔Ａ−３５〕６ｇ（固形分量として）、樹脂〔Ｂ−
２〕３４ｇ（固形分量として）、光導電性酸化亜鉛２０
０ｇ、下記構造のメチン色素（II）０．０２０ｇ、Ｎ−
ヒドロキシマレインイミド０．２０ｇ及びトルエン３０
０ｇの混合物を、実施例１と同様に操作して、電子写真
感光材料を作製した。

【０２２４】

【化４６】

【０２２５】この感光材料の皮膜性（表面の平滑度）お
よび環境条件を（Ｉ）（２０℃，６５％Ｒ．Ｈ．）（I
I）（３０℃，８０％Ｒ．Ｈ．）とした時の、静電特性
と撮像性を調べた。更に、電子写真式平版印刷用原版と
して用いた時の印刷性を調べた。 以上の結果を表−Ｉ
に示す。

【０２２６】

【表２０】

【０２２７】表−Ｉに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注３）表面層の平滑性：得られた感光材料は、ベック平
滑度試験機（熊谷理工（株）製）を用い、空気容量１ｃ
ｃの条件にて、その平滑度（ｓｅｃ／ｃｃ）を測定し
た。 注４）水との接触角：各感光材料を不感脂化処理液ＥＰ
Ｌ−ＥＸ（富士写真フイルム（株）製）を蒸留水で２倍
に稀釈した溶液を用いて、エッチングプロセッサーに１
回通して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留
水２μｌの水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニ
オメーターで測定する。 注５）耐刷性：前記注２）の撮像性と同条件にして、製
版して、トナー画像を形成し、上記注４）と同条件で不
感脂化処理し、これをオフセット平版印刷用原版とし
て、オフセット印刷機（桜井製作所（株）製オリバー５
２型）にかけ、印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の
画質に問題が生じないで印刷できる枚数を示す（印刷枚
数が多い程、耐刷性が良好なことを表わす。）表−Ｉに
示す様に、本発明の感光材料は、静電特性が良好で、実
際の複写画像も地カブリがなく複写画質も鮮明であっ
た。また、光導電層の平滑性膜の機械的強度を調べたと
ころ、良好であった。このことは光導電体粒子と結着樹
脂が充分に吸着し、且つ、粒子表面を被覆していること
によるものと推定される。同様の理由で、オフセット平
版印刷用原版として用いた場合でも不感脂化処理液によ
る不感脂化処理が充分に進行し、非画像部の水との接触
角が０度と小さく、充分に親水化されていることが判
る。実際に印刷して印刷物の地汚れを観察しても地汚れ
は全く認められず、鮮明な画質の印刷物が１万枚得られ
た。

【０２２８】以上のことは、本発明の樹脂〔Ａ〕と樹脂
〔Ｂ〕が適切に酸化亜鉛粒子と相互作用し、不感脂化処
理液による不感脂化反応が容易に且つ充分に進行し易い
状態を形成している事及び樹脂〔Ｂ〕の働きによる膜強
度の著しい向上を達成していることを示すものである。 実施例３〜２４ 実施例２において、樹脂〔Ａ−３５〕及び樹脂〔Ｂ−
２〕に代えて、下記表−Ｊの各樹脂〔Ａ〕及び各樹脂
〔Ｂ〕に代えた他は、実施例１と同様に操作して、各電
子写真感光材料を作製した。

【０２２９】実施例２と同様にして静電特性を測定し
た。

【０２３０】

【表２１】

【０２３１】又、これらの感光材料の実際の撮像性を調
べた所、細線・文字の再現性良好で中間調のムラの発生
もなく、地カブリの全くない鮮明な複写画像のものが得
られた。

【０２３２】又、オフセット平版印刷用原版として用い
て、実施例２と同様にして印刷した所、いずれも少なく
とも１万枚以上印刷することができた。以上から、本発
明の各感光材料は光導電層の平滑性、膜強度、静電特性
及び印刷性の全ての点において良好なものであった。

【０２３３】さらに、樹脂〔ＡＡ〕を用いることにより
静電特性がさらに向上することが判った。 実施例２５〜２８ 実施例１において用いた、メチン色素〔Ｉ〕の代わりに
下記表−Ｋの色素に代えた他は、実施例１と同様の条件
で電子写真感光材料を作製した。

【０２３４】

【表２２】

【０２３５】

【表２３】

【０２３６】本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗
電荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高
湿の（３０℃，８０％Ｒ．Ｈ．）の過酷な条件において
も、地カブリの発生のない、鮮明な画像を与えた。 実施例２９及び３０並びに比較例４ 樹脂〔Ａ−１〕（実施例２９）又は樹脂〔Ａ−３５〕
（実施例３０）のいずれか６ｇ、樹脂〔Ｂ−２５〕３４
ｇ、酸化亜鉛２００ｇ、ウラニン０．０２ｇ、下記構造
のメチン色素〔ＶII〕０．０３ｇ、下記構造のメチン色
素〔VIII〕０．０３ｇ、ｐ−ヒドロキシ安息香酸０．１
８ｇ及びトルエン３００ｇの混合物をホモジナイザー中
で回転数７×１０³ ｒｐｍで８分間分散して感光層形成
物を調整し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が２
５ｇ／ｍ² となる様にワイヤーバーで塗布し、１１０℃
で２０秒間乾燥した。次いで暗所で（２０℃，６５％
Ｒ．Ｈ．）の条件下で２４時間放置することにより各電
子写真感光材料を作製した。

【０２３７】

【化４７】

【０２３８】

【化４８】

【０２３９】比較例４ 実施例２９において、樹脂〔Ｂ−２５〕３４ｇの代わり
に、下記構造の樹脂〔Ｒ−４〕３４ｇを用いた他は、実
施例２９と同様にして、感光材料を作製した。

【０２４０】実施例１と同様に、各感光材料の特性を調
べた。その結果を下記表−Ｌにまとめた。

【０２４１】

【化４９】

【０２４２】

【表２４】

【０２４３】上記の測定において、静電特性及び撮像性
については下記の操作に従った他は、実施例１と同様の
操作で行なった。 注６）静電特性のＥ_1/10及びＥ_1/100 の測定方法 コロナ放電により光導電層表面を−４００Ｖに帯電させ
た後、該光導電層表面を照度２．０ルックスの可視光で
照射し、表面電位（Ｖ₁₀）が１／１０又は１／１００に
減衰するまでの時間を求め、これから露光量Ｅ_1/10又は
Ｅ_1/100 （ルックス・秒）を算出する。 注７）撮像性 各感光材料を以下の環境条件で１昼夜放置した後、全自
動製版機ＥＰＬ−４０４Ｖ（富士写真フイルム（株）
製）でＥＰＬ−Ｔをトナーとして用いて製版して得られ
た複写画像（カブリ、画像の画質）を目視評価した。撮
像時の環境条件は（Ｉ）（２０℃，６５％Ｒ．Ｈ．）と
（II）（３０℃，８０％Ｒ．Ｈ．）で実施した。但し、
複写用の原稿（即ち、版下原稿）には、ほかの原稿を切
り抜いて、貼り込みを行なって作成したものを用いた。

【０２４４】各感光材料において、光導電層の平滑性に
おいて、その差は認められなかった。しかし、静電特性
において、比較例４は、特に光感度Ｅ_1/100 の値が大き
く、これは高温、高湿になるとより一層助長され、劣化
してしまった。本発明の感光材料の静電特性は良好であ
り、更に、特定の置換基を有する樹脂〔ＡＡ〕を用いた
実施例３０は、非常に良好であり、特にＥ_1/100 の値が
小さくなった。

【０２４５】実際の撮像性を調べて見ると、比較例４
は、複写画像として原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ
部分の枠（即ち、貼り込み跡）が非画像部の地汚れとし
て認められた。しかし、本発明のものは、いずれも、地
汚れのない、鮮明な画像のものが得られた。

【０２４６】更に、これらをオフセット平版印刷用原版
として不感脂化処理して印刷した所、本発明のものはい
ずれも地汚れのない鮮明な画質の印刷物が１万枚得られ
た。しかし、比較例４は、上記の貼り込み跡が、不感脂
化処理でも除去されず、刷り出しの印刷物から発生して
しまった。

【０２４７】以上のことより、本発明の感光材料のみ
が、良好な特性を与えることができた。 実施例３１ 樹脂〔Ａ−２９〕５ｇ及び樹脂〔Ｂ−３０〕３５ｇ、酸
化亜鉛２００ｇ、ウラニン０．０２ｇ、ローズベンガル
０．０４ｇ、ブロムフェノールブルー０．０３ｇ、無水
フタル酸０．４０ｇ及びトルエン３００ｇの混合物を、
実施例２９と同様に以下操作して感光材料を作成した。

【０２４８】本発明の感光材料を、実施例２９と同様に
操作して各性能を調べた所、いずれも帯電性、暗電荷保
持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の
（３０℃，８０％Ｒ．Ｈ．）の過酷な条件においても、
地カブリの発生のない、鮮明な画像を与えた。

【０２４９】更に、これをオフセット平版印刷用原版と
して用いて印刷した所、１万枚の所でも鮮明な画質の印
刷物を得た。 実施例３２〜４３ 実施例３１において、樹脂〔Ａ−２９〕５ｇ及び樹脂
〔Ｂ−３０〕３５ｇの代わりに、下記表−Ｍの樹脂
〔Ａ〕６ｇ及び樹脂〔Ｂ〕３４ｇを用いた他は、実施例
３１と同様にして各感光材料を作製した。

【０２５０】

【表２５】

【０２５１】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿
（３０℃，８０％Ｒ．Ｈ．）の過酷な条件においても地
カブリの発生や細線飛びの発生等のない鮮明な画像を与
えた。

【０２５２】更にオフセット平版印刷用原版として印刷
した所、１万枚印刷しても地汚れの発生のない鮮明な画
質の印刷物が得られた。

【０２５３】

【発明の効果】本発明によれば、静電特性（とくに厳し
い条件下での静電特性）に優れた、鮮明で良質な画像を
有し、更に優れた機械的強度を有する電子写真感光体を
得ることができる。特に、半導体レーザー光を用いたス
キャニング露光方式に有効である。式（Ｉａ）又は（Ｉ
ｂ）で示される特定のメタクリレート成分を含有する繰
り返し単位を本発明の樹脂に用いることにより、更に静
電特性が向上する。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 無機光導電材料、分光増感色素及び結着
   樹脂を少なくとも含有する光導電層を有する電子写真感
   光体において、該結着樹脂が、下記樹脂〔Ａ〕の少なく
   とも１種及び下記樹脂〔Ｂ〕の少なくとも１種を各々含
   有して成ることを特徴とする電子写真感光体。 樹脂〔Ａ〕 １×１０³ 〜２×１０⁴ の重量平均分子量を有し、−Ｐ
   Ｏ₃ Ｈ₂ 基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ₃ Ｈ基、フェノール
   性ＯＨ基、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）Ｒ¹ 〔Ｒ¹ は炭化水素
   基又は−ＯＲ² （Ｒ² は炭化水素基を表す）を表す〕及
   び環状酸無水物含有基から選択される少なくとも１種の
   極性基を有する重合体成分を少なくとも１種含有するＡ
   ブロックと、下記一般式（Ｉ）で示される重合体成分を
   少なくとも含有するＢブロックとから構成されるＡＢブ
   ロック共重合体のＢブロックの重合体主鎖の末端に重合
   性二重結合基を結合して成る一官能性マクロモノマー
   （Ｍ）を少なくとも１種共重合成分として含有するグラ
   フト型共重合体。 【化１】 〔式（Ｉ）中、ａ¹ 及びａ² は各々水素原子、ハロゲン
   原子、シアノ基又は炭化水素基を表す。Ｖ¹ は−ＣＯＯ
   −、−ＯＣＯ−、−（ＣＨ₂ ） _aＯＣＯ−、−（Ｃ
   Ｈ₂ ） _aＣＯＯ−（ａは１〜３の整数を表す。）、−Ｏ
   −、−ＳＯ₂ −、−ＣＯ−、−ＣＯＮ（Ｚ¹ ）−、−Ｓ
   Ｏ₂ Ｎ（Ｚ¹ ）−、−ＣＯＮＨＣＯＯ−、−ＣＯＮＨＣ
   ＯＮＨ−又は−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表す（ここでＺ¹ は水素原
   子又は炭化水素基を表わす）。Ｒ³ は、炭化水素基を表
   わす。但しＶ¹ が−Ｃ₆ Ｈ₄ −を表わす場合、Ｒ³ は水
   素原子又は炭化水素基を表わす。〕 樹脂〔Ｂ〕 ２×１０⁴ 〜１×１０⁶ の重量平均分子量を有し、下記
   一般式（II）で示される繰り返し単位を重合体成分とし
   て少なくとも３０重量％以上含有する高分子鎖が、有機
   分子中に少なくとも３個結合して成るスター型共重合体
   で、且つ該各高分子鎖の有機分子に結合した反対側の主
   鎖の末端に、−ＰＯ₃ Ｈ₂ 基、−ＣＯＯＨ基、−ＳＯ₃
   Ｈ基、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）Ｒ¹ 〔Ｒ¹ は前記と同一の
   内容を表す〕及び環状酸無水物含有基から選ばれた基を
   少なくとも１種結合して成る樹脂。 【化２】 〔式（II）中、ｂ¹ 及びｂ² はそれぞれ水素原子、ハロ
   ゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を示す。Ｒ⁴ は炭化
   水素基を表す。〕
2. 【請求項２】 上記樹脂〔Ａ〕が、マクロモノマー
   （Ｍ）と共重合する共重合成分として下記一般式（II
   ａ）及び下記一般式（IIｂ）で示されるアリール基含有
   のメタクリレート成分のうちの少なくとも１つを含有す
   ることを特徴とする請求項１記載の電子写真感光体。 【化３】 【化４】 〔式（IIａ）及び（IIｂ）中、Ａ¹ 及びＡ² は互いに独
   立に各々水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、ハロ
   ゲン原子、シアノ基、−ＣＯＲ⁵ 又は−ＣＯＯＲ⁵ （Ｒ
   ⁵ は炭素数１〜１０の炭化水素基を表す）を表し、Ｂ¹
   及びＢ² は各々−ＣＯＯ−とベンゼン環を結合する単結
   合又は連結原子数１〜４個の連結基を表す。〕
3. 【請求項３】 上記樹脂〔Ｂ〕において、有機分子に結
   合する高分子鎖が、上記樹脂〔Ｂ〕における一般式（I
   I）で示される繰り返し単位を重合体成分として少なく
   とも含有するＡブロックと上記樹脂〔Ｂ〕で示される特
   定の極性基のうちから選択される少なくとも１種の極性
   基を有する重合体成分を少なくとも１種含有するＢブロ
   ックとから構成されるＡＢ型ブロックで構成され、且つ
   Ａブロックの片末端は有機分子に結合し、他の末端はＢ
   ブロックに結合する事を特徴とする請求項１又は２記載
   の電子写真感光体。
4. 【請求項４】 上記樹脂〔Ｂ〕において、全共重合体中
   に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、上
   記樹脂〔Ａ〕中に含有される特定の極性基含有重合体成
   分の総量に対し５重量％〜５０重量％であることを特徴
   とする請求項１〜３のいずれかに記載の電子写真感光
   体。