JPH05323629A - 電子写真感光体 - Google Patents

電子写真感光体

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Publication number
JPH05323629A
JPH05323629A JP15727892A JP15727892A JPH05323629A JP H05323629 A JPH05323629 A JP H05323629A JP 15727892 A JP15727892 A JP 15727892A JP 15727892 A JP15727892 A JP 15727892A JP H05323629 A JPH05323629 A JP H05323629A
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JP
Japan
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group
resin
block
polymer
hydrocarbon group
Prior art date
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Application number
JP15727892A
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English (en)
Inventor
Eiichi Kato
栄一 加藤
Kazuo Ishii
一夫 石井
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 静電特性及び撮像性の改良された、特に液体
現像剤を用いての高精細な画像の再現性、低出力のレー
ザー光を用いたスキャニング露光方式による撮像性の優
れた、電子写真感光体を提供する。 【構成】 結着樹脂として、極性基含有の重合体成分を
含有するAブロック及び式(I)の重合体成分を含有す
るBブロックから成るAB型ブロック共重合体をグラフ
ト部に有する低分子量のグラフト型共重合体である樹脂
〔A〕と、極性基含有の重合体成分を含有するAブロッ
ク及び式(II)の繰り返し単位の重合体成分を含有する
Bブロックからなる高分子量のABブロック共重合体で
あり、且つAブロックのBブロックの反対側の末端に極
性基が結合してなる樹脂〔B〕とをそれぞれ少なくとも
1種含有する電子写真感光体。 〔式(I)中、a1 、a2 は水素、ハロゲン、シアノ基
又は炭化水素基、V1は二価の基、R3 は炭化水素
基。〕 〔式(II)中、b1 、b2 は水素、ハロゲン、シアノ基
又は炭化水素基、R4は炭化水素基。〕 【化1】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関し、
詳しくは静電特性及び耐湿性に優れた電子写真感光体に
関する。
【0002】
【従来の技術】電子写真感光体は、所定の特性を得るた
め、あるいは適用される電子写真プロセスの種類に応じ
て、種々の構成をとる。電子写真感光体の代表的なもの
として、支持体上に光導電層が形成されている感光体及
び表面に絶縁層を備えた感光体があり、広く用いられて
いる。
【0003】支持体と少なくとも1つの光導電層から構
成される感光体は、最も一般的な電子写真プロセスによ
る、即ち帯電、画像露光及び現像、更に必要に応じて転
写による画像形成に用いられる。更には、ダイレクト製
版用のオフセット原版として電子写真感光体を用いる方
法が広く実用されている。特に近年、ダイレクト電子写
真平版は数百枚から数千枚程度の印刷枚数で高画質の印
刷物を印刷する方式として重要となってきている。こう
した状況の中で、電子写真感光体の光導電層を形成する
ために使用する結着樹脂は、それ自体の成膜性および光
導電性粉体の結着樹脂への分散能力が優れるとともに、
形成された記録体層の基材に対する接着性が良好であ
り、しかも記録体層の光導電層は帯電能力に優れ、暗減
衰が小さく、光減衰が大きく、前露光疲労が少なく、且
つ、撮影時の湿度の変化によってこれら特性を安定に保
持していることが必要である等の各種の静電特性および
優れた撮像性を具備する必要がある。
【0004】更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用
原版の研究が鋭意行なわれており、電子写真感光体とし
ての静電特性と印刷原版としての印刷特性を両立させた
光導電層用の結着樹脂が必要である。無機光導電材料、
分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光導電
層において、結着樹脂の化学構造によって、平滑性のみ
ならず静電特性が大きく影響を受けることが判ってき
た。特に静電特性において、暗中電荷保持率(D.R.
R.)や光感度が大きく左右される。
【0005】これに対し、酸性基を含有する比較的低分
子量(103 〜104 程度)の樹脂を結着樹脂として用
いる事で、平滑性及び静電特性を良化する技術が種々検
討されている。例えば、特開昭63−217354号に
は酸性基含有重合成分が重合体主鎖にランダムに存在す
る樹脂、同64−70761号には重合体主鎖の片末端
に酸性基を結合して成る樹脂、特開平2−67563
号、同2−236561号、同2−238458号、同
2−236562号及び同2−247656号等には酸
性基をグラフト型共重合体の主鎖末端に結合して成る樹
脂又は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト部に含有
する樹脂、同3−181948号には酸性基をブロック
で含有するAB型ブロック共重合体等がそれぞれ記載さ
れている。これらは、該低分子量の樹脂が、光導電体の
分散を充分に行ない光導電体同志の凝集を抑制する効果
を有すること及び光導電体と分光増感色素との吸着を疎
外しないで該無機光導電体の化学量論的な欠陥に充分に
吸着するとともに光導電体の表面をゆるやかに且つ充分
に被覆していることによると推定される。
【0006】更に、これらの低分子量の樹脂のみでは不
充分な光導電層の機械的強度を充分ならしめるために、
中〜高分子量の他の樹脂を併用する技術が種々検討され
ている。例えば、特開平2−68561号にはポリマー
間に架橋構造を形成する熱硬化性樹脂、特開平2−68
562号には一部が架橋構造を有する樹脂、特開平2−
69759号には酸性基をグラフト型共重合体の主鎖末
端に結合して成る樹脂が記載されている。また、特定の
中〜高分子量の樹脂を用いることで、環境が著しく変動
した場合においても比較的安定した性能を維持する技術
が検討され、例えば同3−29954号、同3−779
54号、同3−92861号及び同3−53257号に
は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト部の末端に結
合する樹脂又は酸性基をグラフト型共重合体のグラフト
部に含有する樹脂が記載されている。更に、同3−20
6464号及び同3−223762号によれば、中〜高
分子量樹脂として、酸性基含有のAブロックと酸性基非
含有のBブロックから成るABブロック型共重合体をグ
ラフト部に含有するグラフト型共重合体を用いる事で、
環境の変化や半導体レ−ザ−光を用いたスキャニング露
光方式を用いた場合においても比較的高い性能を維持す
ることが明らかになった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の酸性基を含有する種々の低分子量の樹脂、更にこれら
の樹脂に種々の中〜高分子量の樹脂を組み合わせて用い
ても、環境が高温・高湿から低温・低湿まで著しく変動
した場合における安定した性能の維持においてはいまだ
不充分であることが判った。半導体レーザー光を用いた
スキャンニング露光方式では、従来の可視光による全面
同時露光方式に比べ、露光時間が長くなり、また露光強
度にも制約があることから、静電特性、特に暗電荷保持
特性、光感度に対して、より高い性能が要求される。
【0008】特に、電子写真式平版印刷用原版におい
て、半導体レーザー光を用いたスキャンニング露光方式
を採用した場合,従来の感光体で実際に試験してみる
と、上記の静電特性が十分に満足できるものでなく、特
にE1/2 とE1/10との差が大きく複写画像の階調が軟調
となり、更には露光後の残留電位を小さくするのが困難
となり、複写画像のカブリが顕著となってしまい、又、
オフセットマスターとして印刷しても、印刷物に印刷原
稿の貼り込み跡が出てしまう等の問題が現れた。
【0009】更に、近年、線画及び網点から成る画像の
複写画像のみならず、連続階調から成る高精細な画像を
液体現像剤を用いて忠実に再現する技術の実現が望まれ
ているが、前記公知の技術はこれらの要望まで十分に満
足できるものではなかった。従来公知の技術において
は、低分子量の樹脂と併用する中〜高分子量の樹脂によ
って、上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が
低下することがあり、実際に前記した様なこれら公知の
樹脂の組合せで用いた光導電層を有する電子写真感光体
は、前述の様な高精細な画像(特に連続階調画像)の忠
実な複写画像の再現性あるいは、低出力のレーザー光を
用いたスキャンニング露光方式による撮像性に対して、
問題を生じ得ることが明らかになった。
【0010】本発明は、以上の様な従来公知の電子写真
感光体の有する課題を改良するものである。本発明の目
的は、複写画像形成時の環境が低温低湿あるいは高温高
湿の如く変動した場合でも、常に安定して良好な静電特
性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真感光体
を提供することである。
【0011】本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ
環境依存性の小さいCPC電子写真感光体を提供するこ
とである。本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用
いたスキャンニング露光方式に有効な電子写真感光体を
提供することである。本発明の更なる目的は、電子写真
式平版印刷原版として、静電特性(特に暗電荷保持性及
び光感度)に優れ、原画(特に高精細な連続階調画像)
に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面
一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、
また耐刷性の優れた平版印刷原版を提供することであ
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的は無機光導電
体、分光増感色素及び結着樹脂を少なくとも含有する光
導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹脂
が、下記樹脂〔A〕少なくとも1種及び下記樹脂〔B〕
の少なくとも1種を各々含有して成る事を特徴とする電
子写真感光体により達成されることが見出された。
【0013】樹脂〔A〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、−P
3 2 基、−COOH基、−SO3 H基、フェノール
性OH基、−P(=O)(OH)R1 〔R1 は炭化水素
基又は−OR2 (R2 は炭化水素基を表す)を表す〕及
び環状酸無水物含有基から選択される少なくとも1種の
極性基を含有する重合体成分を少なくとも1種含有する
Aブロックと、下記一般式(I)で示される重合体成分
を少なくとも含有するBブロックとから構成されるAB
ブロック共重合体のBブロックの重合体主鎖の末端に重
合性二重結合基を結合して成る一官能性マクロモノマー
(M)を少なくとも1種共重合成分として含有するグラ
フト型共重合体。
【0014】
【化5】
【0015】〔式(I)中、a1 及びa2 は各々水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表す。V
1 は−COO−、−OCO−、−(CH2 aOCO
−、−(CH2 aCOO−(aは1〜3の整数を表
す。)、−O−、−SO2 −、−CO−、−CON(Z
1 )−、−SO2 N(Z1 )−、−CONHCOO−、
−CONHCONH−又は−C6 4 −を表す(ここで
1 は水素原子又は炭化水素基を表わす)。R3 は、炭
化水素基を表わす。但しV1 が−C6 4 −を表わす場
合、R3 は水素原子又は炭化水素基を表わす。〕 樹脂〔B〕 2×104 〜1×106 の重量平均分子量を有し、−P
3 2 基、−COOH基、−SO3 H基、−P(=
O)(OH)R1 〔R1 は前記と同一の内容を表す〕及
び環状酸無水物含有基から選択される少なくとも1種の
極性基を含有する重合体成分を少なくとも1種含有する
Aブロックと下記一般式(II)で示される重合体成分を
少なくとも含有するBブロックとから構成されるABブ
ロック共重合体から成り、且つAブロックにおいて、B
ブロックと結合する反対側の重合体主鎖の末端に上記特
定の極性基のうちから選択される少なくとも1種の極性
基を結合してなる樹脂。
【0016】
【化6】
【0017】〔式(II)中、b1 及びb2 はそれぞれ水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を示
す。R4 は炭化水素基を表す。〕
【0018】即ち、本発明の結着樹脂は、特定の極性基
含有成分を含有するAブロックと一般式(I)で示され
る重合体成分を含有するBブロックとのABブロック共
重合体のBブロック側の末端に重合性二重結合基を結合
して成る一官能性マクロモノマー(M)を共重合成分と
して含有する低分子量のグラフト型共重合体(樹脂
〔A〕)と、上記特定の極性基含有成分を含有するAブ
ロックと上記一般式(II)で示される重合体成分を含有
するBブロックとのABブロック共重合体でAブロック
において、Bブロックと結合する反対側の重合体主鎖の
末端に、上記特定の極性基を結合して成る中〜高分子量
体の樹脂〔B〕とから少なくとも構成される。
【0019】種々検討の結果、前述の如く、公知の低分
子量の極性基含有樹脂を中〜高分子量の樹脂と併用する
公知の技術においては、併用する中〜高分子量の樹脂に
より、上記低分子量の樹脂で高性能化された静電特性が
低下してしまうことのあることが判った。そして、これ
らの中〜高分子量樹脂が、該光導電層中で、光導電体、
分光増感色素及び低分子量の樹脂同志の相互作用に更に
適切に相互作用させることも、予想以上に重要な原因で
あることが明らかになってきた。
【0020】かかる検討を重ねた結果、極性基を含有す
る低分子量の樹脂〔A〕と併用すべき中〜高分子量の樹
脂として、本発明に従う極性基を重合体主鎖の片末端及
びAブロック中に含有し、該Aブロックと極性基非含有
のBブロックとを有するABブロック共重合体を用いる
ことにより、前記課題が有効に解決されることが見出さ
れたものである。
【0021】この事は、本発明の結着樹脂〔A〕及び
〔B〕の相乗効果により、光導電体粒子が充分に分散さ
れ且つ凝縮しない状態で存在し、更に分光増感色素が光
導電体粒子表面に充分に吸着されていること及び光導電
体表面の余分な活性サイトを結着樹脂が充分に吸着して
トラップを補償していること等によるものと推定され
る。
【0022】即ち、特定の極性基を含有する低分子量体
の樹脂〔A〕は、光導電体粒子に充分吸着して該粒子を
均一に分散し、その高分子鎖が非常に短いことにより凝
集を抑制すること、又、分光増感色素の吸着疎外を起こ
さないこと等の重要な作用を有する。又、本発明の特定
の極性基を重合体主鎖の片末端及びAブロック中に含有
し、且つ、それを含まないBブロックとで構成された中
〜高分子量のABブロック共重合体を用いることで、静
電特性が向上し且つ光導電層の機械的強度が充分に保持
された。これは、この樹脂〔B〕の主鎖片末端に結合さ
れている特定の極性基が選択的に光導電体粒子に吸着
し、且つAブロックの部分が極性の状態を有し且つ光導
電体粒子の表面及びその近傍に存在することから、分光
増感色素、更には化学増感剤等の光導電体粒子への吸着
を容易にする状態が形成されたことによると推定され
る。
【0023】即ち、樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の末端に結
合した極性基及びAブロックとの相互効果で、光導電体
粒子の活性サイトを充分にトラップして、静電特性の安
定化を図るとともに、各種増感剤の光導電体表面への吸
着を疎外しない状態を形成することで高性能なレベルで
静電特性を維持できる様になったと考えられる。更に
は、樹脂〔B〕中の特定の極性基を含有しないBブロッ
クの部分が高分子鎖間でお互いに充分な絡み合い効果を
生じ、その結果、光導電層の機械的強度を向上したもの
と推定される。
【0024】この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用
色素として特に有効なポリメチン色素あるいはフタロシ
アニン系顔料で特に顕著な効果を示した。一方、光導電
体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の電子写真感
光体を従来公知のダイレクト刷版として用いた場合には
優れた撮像性とともに著しく良好な保水性を示す。
【0025】即ち、電子写真感プロセスを経て複写画像
を形成した本発明の感光体を、従来公知の不感脂化処理
液により非画像部を化学処理により不感脂化して、印刷
用原版とし、これをオフセット印刷により印刷した時に
優れた印刷用原版としての性能を示すものである。本発
明の感光体を不感脂化処理すると、非画像部の親水化が
充分になされ、保水性が向上することから印刷枚数が飛
躍的に向上した。これは、上記した酸化亜鉛粒子が均一
に分散されていること及び酸化亜鉛粒子表面に存在する
結着樹脂の存在状態が適切で不感脂化処理液との不感脂
化反応が疎外されず迅速に且つ効果的に進行することに
よるものと考えられる。
【0026】以下に、本発明の結着樹脂について詳しく
説明する。まず、本発明の樹脂〔A〕について説明す
る。樹脂〔A〕の重量平均分子量は1×103 〜2×1
4 、好ましくは3×103 〜1×104 であり、樹脂
〔A〕のガラス転移点は好ましくは−40℃〜110
℃、より好ましくは−20℃〜90℃である。
【0027】樹脂〔A〕の分子量が1×103 より小さ
くなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度を保てず、
一方分子量が2×104 より大きくなると本発明の樹脂
であっても、特に近赤外〜赤外分光増感色素を用いた感
光体において、高温・高湿、低温・低湿の苛酷な条件下
での電子写真特性(特に初期電位、暗減衰保持率及び光
感度)の変動が多少大きくなり、安定した複写画像が得
られるという本発明の効果が薄れてしまう。
【0028】本発明のグラフト型共重合体〔A〕におい
て、マクロモノマー(M)と他の単量体(例えば後記樹
脂[B]で示した式(II)の単量体)の存在割合は、1
〜60/99〜40(重量比)であり、好ましくは5〜
40/95〜60(重量比)である。
【0029】結着樹脂〔A〕におけるマクロモノマー含
有量が1.0重量%より少ないと電子写真特性(特に暗
減衰率、光感度)が低下し、又環境条件での電子写真特
性の変動が特に近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合
わせにおいて大きくなる。これはグラフト部となるマク
ロモノマーが微かとなることで結果として従来のホモポ
リマーあるいはランダム共重合体と殆んど同じ組成にな
ってしまうことによると考えられる。一方マクロモノマ
ーの含有量が60重量%を越えると、他の共重合成分に
相当する単量体と本発明に従うマクロモノマーとの共重
合性が充分でなくなり、結着樹脂として用いても充分な
電子写真特性が得られなくなってしまう。
【0030】本発明の樹脂〔A〕における、マクロモノ
マー(M)中に含有される極性基含有成分の存在量は、
樹脂〔A〕100重量部中に1〜20重量部であること
が好ましく、より好ましくは3〜15重量部である。即
ち、上記樹脂〔A〕中での極性基の存在割合は、マクロ
モノマー(M)中でのAブロックの組成比及び樹脂
〔A〕でのマクロモノマー(M)の共重合比によって、
好ましい比率に調整することができるものである。
【0031】樹脂〔A〕における極性基含有量が1重量
%より少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得
ることができない。一方、該極性基含有量が20重量%
よりも多いと、いかに低分子量体といえども分散性が低
下し、更にオフセットマスターとして用いるときに地汚
れが増大する。
【0032】本発明のグラフト型共重合体に供される一
官能性マクロモノマー(M)について更に具体的に説明
する。本発明の樹脂〔A〕における該マクロモノマー
(M)中の共重合体成分は、上記の如く、Aブロックと
Bブロックとから構成されるが、このAブロック/Bブ
ロックの存在割合は、好ましくは1〜70/99〜30
(重量比)であり、より好ましくは3〜50/97〜5
0(重量比)である。
【0033】マクロモノマー(M)のAブロックを構成
する成分中に含有される極性基としては、−PO3 2
基、−COOH基、−SO3 H基、フェノール性OH
基、−P(=O)(OH)R1 {R1 は炭化水素基又は−
OR2 (R2 は炭化水素基)基を示す}基及び/又は環
状酸無水物含有基が挙げられ、好ましくは、−COOH
基、−SO3 H基、フェノール性OH基又は−P(=
O)(OH)R1 基である。
【0034】ここで、−P(=O)(OH)R1 は、下記
化7で表わされる基を示し、R1 は炭化水素基または−
OR2 (R2 は炭化水素基を表わす)基を表わし、R1
及びR2 は好ましくは炭素数1〜22の脂肪族基(例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシ
ル基、2−クロロエチル基、2−メトキシエチル基、3
−エトキシプロピル基、アリル基、クロトニル基、ブテ
ニル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネチル
基、3−フェニルプロピル基、メチルベンジル基、クロ
ロベンジル基、フロロベンジル基、メトキシベンジル基
等)又は置換されてもよいアリール基(例えば、フェニ
ル基、トリル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル
基、クロロフェニル基、フロロフェニル基、ブロモフェ
ニル基、クロロ−メチル−フェニル基、ジクロロフェニ
ル基、メトキシフェニル基、シアノフェニル基、アセト
アミドフェニル基、アセチルフェニル基、ブトキシフェ
ニル基等)等を表わす。
【0035】
【化7】
【0036】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も1つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。 脂肪族ジカル
ボン酸無水物の例としては、コハク酸無水物環、グルタ
コン酸無水物環、マレイン酸無水物環、シクロペンタン
−1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキサン−
1,2−ジカルボン酸無水物環、シクロヘキセン−1,
2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシクロ〔2.
2.2〕オクタンジカルボン酸無水物環等が挙げられ、
これらの環は、例えば塩素原子、臭素原子等のハロゲン
原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基等の
アルキル基等が置換されていてもよい。
【0037】又、芳香族ジカルボン酸無水物の例として
は、フタル酸無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水
物環、ピリジン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−
ジカルボン酸無水物環等が挙げられ、これらの環は、例
えば、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、
ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカル
ボニル基(アルコキシ基としては、例えば、メトキシ
基、エトキシ基等)等が置換されていてもよい。
【0038】フェノ−ル性OH基の例としては、ヒドロ
キシフェノ−ル又はヒドロキシフェニル基を置換基とし
て含有するメタクリル酸エステルもしくはアミド類を例
として挙げる事ができる。
【0039】以上の如き「特定の極性基を含有する重合
体成分」は、例えば、本発明のマクロモノマー(M)の
他のブロック成分を構成する重合体成分、即ち一般式
(I)で示されるメタクリレート成分等の相当するビニ
ル系化合物と共重合する、該極性基を含有するビニル系
化合物であればいずれでも用いることができる。
【0040】例えば、高分子学会編「高分子データ・ハ
ンドブック〔基礎編〕」培風館(1986刊) 等に記載
されている。具体的には、アクリル酸、α及び/又はβ
置換アクリル酸(例えばα−アセトキシ体、α−アセト
キシメチル体、α−(2−アミノ)メチル体、α−クロ
ロ体、α−ブロモ体、α−フロロ体、α−トリブチルシ
リル体、α−シアノ体、β−クロロ体、β−ブロモ体、
α−クロロ−β−メトキシ体、α,β−ジクロロ体
等)、メタクリル酸、イタコン酸、イタコン酸半エステ
ル類、イタコン酸半アミド類、クロトン酸、2−アルケ
ニルカルボン酸類(例えば2−ペンテン酸、2−メチル
−2−ヘキセン酸、2−オクテン酸、4−メチル−2−
ヘキセン酸、4−エチル−2−オクテン酸等)、マレイ
ン酸、マレイン酸半エステル類、マレイン酸半アミド
類、ビニルベンゼンカルボン酸、ビニルベンゼンスルホ
ン酸、ビニルスルホン酸、ビニルホスホン酸、ジカルボ
ン酸類のビニル基又はアリル基の半エステル誘導体、及
びこれらのカルボン酸又はスルホン酸のエステル誘導
体、アミド誘導体の置換基中に該極性基を含有する化合
物が挙げられる。
【0041】以下に極性基含有の共重合成分について例
示する。ここで、b1 はH又はCH3 を示し、b2
H、CH3 又はCH2 COOCH3 を示し、R7 は炭素
数1〜4のアルキル基を示し、R8 は炭素数1〜6のア
ルキル基、ベンジル基又はフェニル基を示し、fは1〜
3の整数を示し、gは2〜11の整数を示し、hは1〜
11の整数を示し、iは2〜4の整数を示し、jは2〜
10の整数を示す。
【0042】
【化8】
【0043】
【化9】
【0044】
【化10】
【0045】
【化11】
【0046】
【化12】
【0047】
【化13】
【0048】上記の如き極性基含有成分はAブロック中
に2種以上含有されていてもよく、これら2種以上の極
性基含有成分はAブロック中においてランダム共重合又
はブロック共重合のいずれで含有されていてもよい。更
に、極性基含有成分とともに、極性基を含有しない成分
{例えば後述式(I)で示される成分}をAブロック中
に含有していてもよいが、極性基含有成分はAブロック
中において30〜100重量%存在することが好まし
い。
【0049】次に上記マクロモノマーにおいて、Bブロ
ックを構成する成分、即ち一般式(I)で表わされる繰
り返し単位について説明する。一般式(I)にて、V1
は−COO−、−OCO−、−(CH2 aOCO−、
−(CH2 aCOO−(aは1〜3の整数を表わ
す)、−O−、−SO2 −、−CO−、−CON
(Z1 )−、−SO2 N(Z1 )−、−CONHCOO
−、−CONHCONH−又は−C6 4 −を表わす。
ここで、Z1 は水素原子のほか、好ましい炭化水素基と
しては、炭素数1〜22の置換されてもよいアルキル基
( 例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−ク
ロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル
基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエ
チル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置
換されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1
−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、
3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1
−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−
ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよい
アラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3
−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチ
ルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メ
チルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル
基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、
炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シ
クロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シ
クロペンチルエチル基等)又は炭素数6〜12の置換さ
れてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチ
ルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル
基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキ
シフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニ
ル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノ
フェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシ
カルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロ
ピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基
等)があげられる。
【0050】R3 は炭化水素基を表わし、好ましくは上
記Z1 で好ましい炭化水素基として挙げたものと同様の
ものである。V1 が−C6 4 −を表わす場合、R3
上記炭化水素の他水素原子を表わし、更にベンゼン環は
置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲン原子
(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロロメ
チル基、メトキシメチル基等)、アルコキシ基(例えば
メトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基
等)等が挙げられる。
【0051】a1 及びa2 は、互いに同じでも異なって
いてもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例え
ば、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4
のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基等)、−COOZ3 又は炭化水素を介した
COOZ3 (Z3 は水素原子又は炭素数1〜18のアル
キル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基または
アリール基を表わし、これらは置換されていてもよく、
具体的には、上記Z1 について説明したものと同様の内
容を表わす)を表わす。上記炭化水素を介したCOOZ
3 基における炭化水素としては、メチレン基、エチレン
基、プロピレン基等が挙げられる。
【0052】更に好ましくは、一般式(I)において、
1 は−COO−、−OCO−、−CH2 OCO−、−
CH2 COO−、−O−、−CONH−、−SO2 NH
−又は−C6 4 −を表わし、a1 及びa2 は互いに同
じでも異なってもよく、水素原子、メチル基、−COO
3 又は−CH2 COOZ3 {Z3 はより好ましくは水
素原子又は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等)
を表わす}を表わす。更により好ましくは、a1及びa
2 においていずれか一方が水素原子を表わす。
【0053】更には該Bブロック中に式(I)の単量体
以外の重合体成分が含有されていてもよく、式(I)に
示される重合体成分とともに共重合しうる他の繰り返し
単位に相当する単量体として、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル、複素環ビニル類(例えばビニルピリジ
ン、ビニルイミダゾール、ビニルピロリドン、ビニルチ
オフェン、ビニルピラゾール、ビニルジオキサン、ビニ
ルオキサジン等)等が挙げられる。これら他の単量体は
Bブロックの全重合体成分100重量部中20重量部を
越えない範囲で用いられる。又、該Bブロック中には、
該Aブロックの構成成分である極性基を含有する重合体
成分を含有しない事が好ましい。Bブロックにおいて2
種以上の共重合成分が存在する場合には、これら2種以
上の共重合成分はBブロックにおいてランダム共重合又
はブロック共重合のいずれで含有されていてもよいが、
合成の簡便さよりランダムに含有されることが好まし
い。
【0054】次に本発明のマクロモノマー(M)におい
て上記した極性基を含有する成分から成るAブロックと
一般式(I)で示される重合体成分を含有することから
成るBブロックをA−B型で連結し且つAブロックと連
結するBブロックの他の末端に連結される重合性二重結
合基について説明する。
【0055】具体的には下記一般式(III)で示される重
合性二重結合基が例として挙げられる。
【0056】
【化14】
【0057】〔式(III)中、V2 は式(I)中のV1
同一の内容を表わす。c1 及びc2 は互いに同一でも異
なってもよく、式(I)中のa1 及びa2 と同一の内容
を表わす。〕 即ち、一般式(III)で示される重合性二重結合基とし
て、より具体的には、CH2 =CH−COO−、CH2
=C(CH3 ) OCOO−、CH(CH3 ) =CHCO
O−、CH2 =C(CH2 COOCH3 )COO−、C
2 =C(CH2COOH)COO−、CH2 =CHC
ONH−、CH2 =C(CH3 ) CONH−、CH(C
3 ) =CHCONH−、CH2 =CHOCO−、CH
2 =CHCH2 OCO−、CH2 =CH−O−、CH2
=C(COOH)CH2 COO−、CH2 =C(COO
CH3 )CH2 COO−、CH2 =CH−C6 4 −、
CH2 =CH(CH2 ) 2 COO−、CH2 =CH−C
O−、CH2 =CH(CH22 OCO−等が挙げられ
る。
【0058】本発明に供されるマクロモノマー(M)は
上述の如きBブロックの片末端に、一般式(III)で示さ
れる如き重合性二重結合基が、直接結合するか、あるい
は、任意の連結基で結合された化学構造を有するもので
ある。連結する基としては、炭素−炭素結合(一重結合
あるいは二重結合)、炭素−ヘテロ原子結合(ヘテロ原
子としては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、
ケイ素原子等)、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団
の任意の組合せで構成されるものである。即ち、具体的
には、単なる結合または、−C(Z4 )(Z4 ) −〔Z
4 は同じでも異なってもよく、水素原子、ハロゲン原子
(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、シア
ノ基、ヒドロキシル基、アルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基等)等を示す〕、−(CH=C
H)−、−C6 10−、−C6 4− 、−O−、−S
−、−CO−、−N(Z5 )−、−COO−、−C(=
S)−、−SO2 −、−CON(Z5 )−、−SO2
(Z5 )− 、−NHCOO−、−NHCONH−、−
C(Z5 )(Z5 )−〔Z5 はそれぞれ水素原子、前記
式(I)におけるR3 と同様の内容を表わす炭化水素基
等を示す〕等の原子団から選ばれた単独の連結基もしく
は任意の組合せで構成された連結基を表わす。
【0059】マクロモノマー(M)の重量平均分子量が
2×104 を超えると、他のモノマー(例えば後述の式
(II)に相当するモノマー)との共重合性が低下するた
め好ましくない。他方、重量平均分子量が小さすぎる
と、感光層の電子写真特性の向上効果が小さくなるた
め、1×103 以上であることが好ましい。
【0060】本発明のマクロモノマー(M)は、従来公
知の合成方法よって製造することができる。例えば、該
特定の極性基を含有する重合体成分に相当する単量体に
おいて、極性基を予め保護した官能基としておき、有機
金属化合物(例えばアルキルリチウム類、リチウムジイ
ソプルアミド、アルキルマグネシウムハライド類等)あ
るいはヨウ化水素、ヨウ素系等によるイオン重合反応
で、ポルフィリン金属錯体を触媒とする光重合反応、あ
るいはグループ移動重合反応等の公知のいわゆるリビン
グ重合反応でABブロック共重合体を合成した後、この
リビングポリマーの末端に種々の試薬を反応させて重合
性二重結合基を導入する。この後、極性基を保護した官
能基を加水分解反応、加水素分解反応、酸化分解反応あ
るいは、光分解反応等によって、脱保護反応を行ない、
極性基を形成させる方法が挙げられる。その1つの例を
下記の反応スキーム(1)に示した。
【0061】
【化15】
【0062】例えば、P.Lutz, P.Masson etal, Polym.B
ull.、12、79(1984) B.C.Anderson、G.D.Andrews eta
l、Macromolecules、14、1601(1981) K.Hatada、K.Ut
e.etal、Polym.J.17、977(1985),18,1037(1986) 、右手
浩一、畑田耕一、高分子加工、36、366(1987) 東村敏
延、沢本光男、高分子論文集、46、189 (1989) M.Kuro
ki、T.Aida、T.Am.Chem.Soc. 109、4737(1987)、相田卓
三、井上祥平、有機合成化学、43、300(1985) D.Y.Sog
ah、W.R.Hertler etal、Macromolecules、20、1473(198
7)等に記載の合成方法に従って容易にリビングポリマー
を合成することができる。又、該リビングポリマーの末
端に重合性二重結合基を導入する方法としては、従来公
知のマクロモノマー法の合成法に従って容易に本発明の
マクロモノマーとすることができる。
【0063】具体的には、P.Dreyfuss & R.P.Quirk、En
cycl、Polym.Sci.Eng.、、51(1987)、P.F.Rempp 、E.
Franta、Adu.、Polym.Sci.58, 1(1984)、V.Per-cec,Ap
pl.,Polym.Sci.、285, 95(1984)、 R.Asami、M.TakaR
i、Makvamol.Chem.Suppl.12、163(1985)、P.Rempp.eta
l、Makvamol.Chem.Suppl.、 3(1984)川上雄資、化学
工業、38,56(1987)、山下雄也、高分子、31、988(198
2) 、小林四郎、高分子、30、625(1981) 、東村敏延、
日本接着協会誌 18,536(1982)、伊藤浩一、高分子加
工、35、262(1986) 、東貴四郎、津田隆、機能材料、19
87 No.10,5 等の総説及びそれに引例の文献・特許等に
記載の方法に従って合成することができる。
【0064】又、本発明の特定の極性基を保護する保護
基及びその保護基の脱離(脱保護反応)については、従
来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。例
えば前記した引用文献にも種々記載されており、更に
は、岩倉義男、栗田恵輔、「反応性高分子」(株)講談
社刊(1977年)、T.W.Greene 「Protective Groups in
Organic Synthesis」、John Wiley & Sons(1981年) 、
J.F.W.McOmie, 「Protective Groups in Organic Che
mistry」 Plenum Press,(1973年) 等の総説に詳細に記
載されている方法を適宜選択して行なうことができる。
他のAB型ブロック共重合体の合成法としては、ジシ
オカーバメント化合物を開始剤とした光イニファーター
重合法によって合成することもできる。例えば、大津隆
行、高分子、37,248(1988) 、檜森俊一、大津隆一、Po
lym.Rep.Jap.37,3508 (1988)、特開昭64-111号、特開
昭64-26619号等に記載の合成方法に従って合成される。
これを上記したマクロモノマー合成法を利用して本発明
のマクロモノマーを得ることができる。
【0065】本発明のマクロモノマー(M)は、具体的
には、下記の化合物を例として挙げることができる。但
し、本発明の範囲は、これらに限定されるものではな
い。但し、下記化合物例において、p3 、p4 及びp5
はそれぞれ、−H、−CH3 又は−CH2 COOCH3
を示し、p6 は−H又は−CH3 を示し、R11は−Cp
2p+1(pは1〜18の整数) 、−(CH2 ) q 6
5 (qは1〜3の整数)、−C6 4 −Y1 (Y1 は−
H、−Cl、−Br 、−CH3 、−OCH3 又は−CO
CH3 を示す)又は−(CH2 r −C107 (rは0
又は1〜3の整数)を示し、R12は−Cs 2s+1(sは
1〜8の整数)又は−(CH2 q 6 5 を示し、Y
2 は−OH、−COOH、−SO3 H、−OP(=O)
(OH)2 又は−OP(=O)(OH)OCH3 を示し、
3 は−COOH、−SO3 H、−OP(=O)(OH)
2 又は−OP(=O)(OH)OCH3 を示し、tは2〜
12の整数を示し、uは2〜6の整数を示す。
【0066】
【化16】
【0067】
【化17】
【0068】
【化18】
【0069】
【化19】
【0070】更にこの樹脂〔A〕において、マクロモノ
マー(M)と共重合する成分として、前記一般式(II)
で示される単量体が好ましい。
【0071】式(II)において、b1 及びb2 は各々水
素原子、ハロゲン原子(例えば塩素原子、臭素原子)、
シアノ基又は炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基等)等を表す。
【0072】R4 は炭化水素基を表し、具体的にはアル
キル基、アラルキル基又は芳香族基を表し、好ましくは
ベンゼン環又はナフタレン環を含有する炭化水素基であ
るアラルキル基又は芳香族基である。
【0073】更に、R4 は好ましくは炭素数1〜18の
置換されていてもよい炭化水素基を表わす。重合体主鎖
中には、−PO3 2 基、−SO3 H基、−COOH
基、−OH基、−SH基及び−PO3 1 H基の極性基
を含有する共重合成分を含有しないものが好ましく、従
って、置換基としては樹脂〔A〕における上記該極性基
含有の重合体成分に含有される前記極性基以外の置換基
を挙げることができ、例えば、ハロゲン原子(例えばフ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、−OZ6 、−CO
OZ6 、−OCOZ6 (Z6 は炭素数1〜22のアルキ
ル基を表わし、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ド
デシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等である)
等の置換基が挙げられる。好ましい炭化水素基として
は、炭素数1〜18の置換されてもよいアルキル基(例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘ
プチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシ
ル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエ
チル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2
−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル
基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換
されてもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−
プロペニル基、2−ブテニル基、2−ぺンテニル基、3
−メチル−2−ぺンテニル基、1−ぺンテニル基、1−
ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘ
キセニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいア
ラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−
フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチル
エチル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチ
ルベンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル
基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、
炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シ
クロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シ
クロぺンチルエチル基等)又は炭素数6〜12の置換さ
れてもよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル
基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチ
ルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル
基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキ
シフェニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニ
ル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノ
フェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシ
カルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロ
ピオアミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基
等)等が挙げられる。
【0074】このような置換基R4 を有する成分である
一般式(II)の繰り返し単位において、より好ましくは
前記一般式(IIa)及び/又は一般式(IIb)で示され
る、2位に、及び/又は2位と6位に特定の置換基を有
するベンゼン環又は無置換のナフタレン環を含有する、
特定の置換基をもつメタクリレート成分であることが好
ましい(以降この低分子量体をとくに樹脂〔AA〕と称
する)。
【0075】
【化20】
【0076】
【化21】
【0077】〔式(IIa)及び(IIb)中、A1 及びA
2 は互いに独立に、それぞれ水素原子、炭素数1〜10
の炭化水素基、塩素原子、臭素原子、−COR5 又は−
COOR5 ( R5 は炭素数1〜10の炭化水素基を示
す)を表す。
【0078】B1 及びB2 はそれぞれ−COO−とベン
ゼン環を結合する、単結合又は連結原子数1〜4個の連
結基を表わす。〕 上記特定の樹脂〔AA〕を用いると樹脂〔A〕の場合よ
りもより一層電子写真特性(特にV10、D.R.R、E
1/10)の向上が達成できる。
【0079】この事の理由は不明であるが、1つの理由
として、メタクリレートのエステル成分である、オルト
位に置換基を有する平面性のベンゼン環又はナフタレン
環の効果により、膜中の酸化亜鉛界面でのこれらポリマ
ー分子鎖の配列が適切に行なわれることによるものと考
えられる。
【0080】式(IIa)において、好ましいA1 及びA
2 として、互いに独立に各々水素原子、塩素原子及び臭
素原子の外に、炭素数1〜10の炭化水素基として、好
ましくは炭素数1〜4のアルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、炭素数7〜9のアラ
ルキル基(例えばベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、クロロベンジル基、ジクロロベンジル
基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、メトキシベ
ンジル基、クロロメチルベンジル基)及びアリール基
(例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ブロモフ
ェニル基、メトキシフェニル基、クロロフェニル基、ジ
クロロフェニル基)、並びに−COR5 及び−COOR
5 ( 好ましいR5 としては上記の炭素数1〜10の好ま
しい炭化水素基として記載したものを挙げることができ
る)を挙げることができる。
【0081】式(IIa)及び(IIb)において、B1
びB2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する単結合
又は−(CH2 ) e −(eは1〜3の整数を表す)、−
CH2 OCO−、−CH2 CH2 OCO−、−(CH2
O) f −(fは1又は2の整数を表す)、−CH2 CH
2 O−等の如き連結原子数1〜4個の連結基であり、よ
り好ましくは単結合又は結合原子数1〜2個の連結基を
挙げることができる。
【0082】本発明の樹脂〔A〕で用いられる式(II
a)又は(IIb)で示される繰り返し単位の具体例を以
下に挙げる。しかし、本発明の範囲はこれに限定される
ものではない。
【0083】
【化22】
【0084】
【化23】
【0085】
【化24】
【0086】
【化25】
【0087】更には、本発明のグラフト型共重合体にお
いて上記マクロモノマー(M)と共重合する成分として
は、一般式(II)、(IIa)又は(IIb)以外の単量体
であってもよく、例えば一般式(II)で説明した以外の
置換基を含有するメタクリル酸エステル類、アクリル酸
エステル類、クロトン酸エステル類に加え、α−オレフ
ィン類、カルボン酸ビニル又はアリル酸エステル類(例
えばカルボン酸として、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉
草酸、安息香酸、ナフタレンカルボン酸等)、アクリロ
ニトリル、メタクリロニトリル、ビニルエーテル類、イ
タコン酸エステル類(例えばジメチルエステル、ジエチ
ルエステル等)、アクリルアミド類、メタクリルアミド
類、スチレン類(例えばスチレン、ビニルトルエン、ク
ロロスチレン、ヒドロキシスチレン、N,N−ジメチル
アミノメチルスチレン、メトキシカルボニルスチレン、
メタンスルホニルオキシスチレン、ビニルナフタレン
等)、ビニルスルホン含有化合物、ビニルケトン含有化
合物、複素環ビニル類(例えばビニルピロリドン、ビニ
ルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルチオフェン、
ビニルイミダゾリン、ビニルピラゾール、ビニルジオキ
サン、ビニルキノリン、ビニルテトラゾール、ビニルオ
キサジン等)等が挙げられる。好ましい例としては、炭
素数1〜3のアルカン酸ビニル又はアリルエステル類、
アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン及び
スチレン誘導体(例えばビニルトルエン、ブチルスチレ
ン、メトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチ
レン、ブロモスチレン、エトキシスチレン等)等が挙げ
られる。
【0088】本発明の結着樹脂は、前記マクロモノマー
(M)及び他の単量体(例えば一般式(II)で示される
単量体)のうちから各々少なくとも1種選ばれた化合物
を所望の割合で共重合させることによって製造すること
ができる。重合方法としては溶液重合、懸濁重合、沈殿
重合、乳化重合等の公知の方法を用いることにより製造
することができる。例えば溶液重合ではベンゼン、トル
エン等の溶媒中、単量体を所定の割合で添加し、アゾビ
ス系化合物、過酸化化合物、ラジカル重合開始剤によっ
て重合せしめ共重合体溶液を得ることができる。これを
乾燥または負溶剤に添加することにより所望の共重合体
を得ることができる。また、懸濁重合ではポリビニルア
ルコール、ポリビニルピロリドン等の分散剤の存在下、
単量体を懸濁させ、ラジカル重合開始剤の存在下で共重
合せしめ共重合体を得ることができる。
【0089】次に本発明の樹脂〔B〕について説明す
る。樹脂〔B〕はABブロック共重合体であり、且つ特
定の極性基を重合体主鎖のAブロックのBブロックと結
合する反対側の片末端に、直接もしくは連結基を介して
結合している事とAブロック中に重合体成分として含有
している事を特徴とするものである。
【0090】ABブロック共重合体樹脂〔B〕における
特定の極性基含有成分の重合体成分量は、共重合体
〔B〕100重量部当り好ましくは0.1〜5重量部、
より好ましくは0.2〜3重量部の割合で含有される。
結着樹脂〔B〕における極性基含有量が0.1重量%よ
り少ないと、初期電位が低くて充分な画像濃度を得るこ
とができず、該極性基含有量が5重量%よりも多いと、
分散性が低下し、膜平滑度及び電子写真特性の高温高湿
が低下し、更にオフセットマスターとして用いるときに
地汚れが増大するため、好ましくない。
【0091】また、樹脂〔B〕において、全共重合体中
に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、前
記樹脂〔A〕中に含有される特定の極性基含有重合体成
分の総量に対し10重量%〜50重量%であることが好
ましい。樹脂〔B〕における該総量が樹脂〔A〕のそれ
の10重量%未満であると、電子写真特性(特に暗中電
荷保持率、光感度)の低下が著しく、膜の強度も低下す
る。また、50重量%を超えると、分散の均一化が不充
分となり、電子写真特性が低下し、オフセット原版とし
ては保水性が低下する。
【0092】共重合体〔B〕の重量平均分子量は2×1
4 〜1×106 、好ましくは4×104 〜5×105
である。
【0093】樹脂〔B〕の分子量が2×104 より小さ
くなると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、
また分子量が1×106 より大きくなると本発明の樹脂
〔B〕の効果が少なくなり、従来公知の樹脂と同程度の
電子特性になってしまう。該樹脂〔B〕のガラス転移点
は、−10℃〜100℃の範囲のものが好ましいが、よ
り好ましくは0℃〜90℃である。
【0094】本発明の樹脂〔B〕中に含有される特定の
極性基の具体的な例は、前記した樹脂〔A〕中に含有さ
れる特定の極性基と同様の内容のものが挙げられる。樹
脂〔B〕において、該極性基が重合体主鎖の片末端に結
合する場合には、該極性基は重合体主鎖の片末端に直接
結合してもよいし、連結基を介して結合してもよい。か
かる連結基としては、いずれの結合する基でもよいが、
具体的には、前記した樹脂〔A〕のところで記載したも
のが挙げられる。
【0095】本発明のABブロック共重合体(樹脂
〔B〕)のAブロックを構成する特定の極性基を含有す
る重合成分の具体例としては、前記した樹脂〔A〕の特
定の極性基を含有する重合体成分と同様のものを挙げる
ことができる。
【0096】上記の如き特定の極性基を含有する重合体
成分は該Aブロック中に2種以上含有されていてもよ
く、その場合における該2種以上の極性基含有成分は該
Aブロック中においてランダム共重合又はブロック共重
合のいずれの態様で含有されていてもよい。また、上記
極性基含有の重合体成分以外の重合体成分をAブロック
中に含有していてもよく、かかる重合体成分としては好
ましくは下記一般式(IV)の繰り返し単位に相当する重
合体成分が挙げられる。
【0097】
【化26】
【0098】〔式(IV)中、X1 は−COO−、−OC
O−、−(CH2 v −OCO−、−(CH2 v −C
OO−(vは1〜3の整数を表わす)、−O−、−SO
2 −、−CO−、−CON(Q2 )−、−SO2 N(Q
2 )−、−CONHCOO−、−CONHCONH−又
は−C6 4 −を表わす(ここでQ2 は水素原子又は炭
化水素基を表わす)。Q1 は炭化水素基を表わす。m1
及びm2 は、互いに同じでも異なってもよく、前記式
(I)中のa1 、a2 とそれぞれ同一の内容を表わ
す。〕
【0099】ここで、Q2 は水素原子のほか、好ましい
炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換されてもよ
いアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シ
アノエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−
メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素数
4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、2
−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−ぺ
ンテニル基、3−メチル−2−ぺンテニル基、1−ぺン
テニル基、1−ヘキセニル基、2−ヘキセニル基、4−
メチル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換
されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェ
ネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル
基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモ
ベンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メ
トキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベ
ンジル基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式
基(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエ
チル基、2−シクロぺンチルエチル基等)、又は炭素数
6〜12の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニ
ル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフ
ェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ド
デシルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェ
ニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフェニル
基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフ
ェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メ
トキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボキシフェ
ニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミド
フェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドデシロイル
アミドフェニル基等)が挙げられる。
【0100】X1 が−C6 4 −を表わす場合、ベンゼ
ン環は置換基を有してもよい。置換基としては、ハロゲ
ン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
クロロメチル基、メトキシメチル基等)、アルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブ
トキシ基等)等が挙げられる。
【0101】Q1 は、炭化水素基を表わし、好ましい炭
化水素基としては、炭素数1〜22の置換されてもよい
アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、2−クロロエチ
ル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−
メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、
3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換され
てもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロ
ペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メ
チル−2−ぺンテニル基、1−ぺンテニル基、1−ヘキ
セニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセ
ニル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラル
キル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数
5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘ
キシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロぺ
ンチルエチル基等)、炭素数6〜12の置換されてもよ
い芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、トリル
基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル
基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メトキ
シフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェニル
基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、ジク
ロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニル
基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボニ
ルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオアミ
ドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が挙
げられる。
【0102】更に好ましくは、一般式(IV)において、
1 は−COO−、−OCO−、−CH2 OCO−、−
CH2 COO−、−O−、−CONH−、−SO2 NH
−又は−C6 4 −を表わす。更には、式(IV)に示さ
れる重合体成分とともに該Aブロック中に含有され得る
重合体成分として、該式(IV)の重合体成分と共重合し
うる他の繰り返し単位に相当する単量体、例えばアクリ
ロニトリル、メタクリロニトリル、複素環ビニル類(例
えばビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピロ
リドン、ビニルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニル
ジオキサン、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。こ
れら他の単量体はAブロックの全重合体成分100重量
部中20重量部を超えない範囲で用いられる。
【0103】次にABブロック共重合体〔B〕におい
て、Bブロック成分を構成する重合成分について詳しく
説明する。Bブロック成分は、少なくとも前記一般式
(II)で示される繰り返し単位で示される重合体成分を
含有し、該式(II)で示される成分は好ましくBブロッ
ク成分中、30〜100重量%、より好ましくは50〜
100重量%含有される。
【0104】一般式(II)の成分の具体的内容について
は、樹脂〔A〕で説明したと同様のものに準じる。他に
含有され得る重合体成分としては、前記Aブロックで含
有され得る一般式(IV)で示される成分又はその他の成
分として記載したものと同様のものが挙げられる。但
し、Bブロックにおいては、Aブロックで含有される特
定の極性基含有成分を含有しないことを特徴とする。
【0105】本発明のABブロック共重合体〔B〕は、
従来公知の重合反応法によって製造することができる。
具体的には、該特定の極性基を含有する重合体成分に相
当する単量体において該極性基を予め保護した官能基と
しておき、有機金属化合物(例えばアルキルリチウム
類、リチウムジイソプロピルアミド、アルキルマグネシ
ウムハライド類等)もしくはヨウ化水素/ヨウ素系等に
よるイオン重合反応、ポルフィリン金属錯体を触媒とす
る光重合反応又はグループ移動重合反応等の公知のいわ
ゆるリビング重合反応でABブロック共重合体を重合反
応した後、停止反応時に特定の極性基を直接導入する
か、あるいは該極性基を結合できる官能基を導入した後
極性基を化学結合させる、その後、重合体成分中の極性
基を保護した官能基を加水分解反応、加水素分解反応、
酸化分解反応又は光分解反応等によって脱保護反応を行
ない、極性基を形成させる方法が挙げられる。その1つ
の例を下記の反応スキーム(2)に示した。
【0106】
【化27】
【0107】これらは、例えば、P.Lutz、P.M
asson etal、Polym.Bull.
.,79(1984)、B.C.Anderson、
G.D.Andrews etal、Macromol
ecules、14、1601(1981)、K.Ha
tada、K.Ute.etal、Polym.J.
、977(1985)、18、1037(198
6)、右手浩一、畑田耕一、高分子加工、36、366
(1987)、東村敏延、沢本光男、高分子論文集、
、189(1989)、M.Kuroki、T.Ai
da、J.Am.Chem.Soc.109、4737
(1987)、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、
、300(1985)、D.Y.Sogah、W.
R.Hertleretal.Macromolecu
les、20、1473(1987)等に記載の合成方
法に従って容易に合成することができる。
【0108】更に、ABブロック共重合体〔B〕は、極
性基を保護しないままの単量体を用い、且つ特定の極性
基を置換基として含むジシオカーバメント基を含有する
化合物及び/又はザンテート基を含有する化合物を開始
剤として、光照射下に重合反応を行なって合成すること
もできる。例えば、大津隆行、高分子、37,248
(1988)、檜森俊一、大津隆一、Polym.Re
p.Jap.37.3508(1988)、特開昭64
−111号、特開昭64−26619号、東信行等、P
olymer Preprints、Japan、
、(6)、1511(1987)、M.Niwa、
N.Higashi、etal、J.Macromo
l.Sci.Chem.A24(5)、567(198
7)等に記載の合成方法に従って合成することができ
る。
【0109】又、本発明の特定の極性基の保護基による
保護及びその保護基の脱離(脱保護反応)については、
従来公知の知見を利用して容易に行なうことができる。
例えば前記引用文献にも種々記載されており、更には、
樹脂〔A〕のマクロモノマーの合成法のところで記載し
た総説に詳細に記載されている方法を適宜選択して行な
うことができる。
【0110】一方、本発明の樹脂〔B〕は、Bブロック
の方がAブロックよりも高分子鎖が長い方が好ましい。
本発明の光導電層に供される結着樹脂として、本発明の
樹脂〔A〕及び樹脂〔B〕以外に前記した無機光導電体
用の公知の樹脂を併用することもできる。但し、これら
の他の樹脂の使用割合は、全結着樹脂100重量部中3
0重量%を越えない範囲が好ましい。この割合を越える
と、本発明の効果は著しく低下してしまう。
【0111】併用可能な他の樹脂としては例えば、代表
的なものは塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン
−ブタジェン共重合体、スチレン−メタクリレート共重
合体、メタクリレート共重合体、アクリレート共重合
体、酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、アル
キド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエ
ステル樹脂、ポリエステル樹脂等である。
【0112】具体的には、柴田隆治・石綿次郎「高分
子」第17巻、第278頁(1968年)、宮本晴視・
武井英彦「イメージング」1973(No.8)第9
頁、中村孝一編「絶縁材料用バインダーの実際技術」第
10章、C.H.C.出版(1985年刊)、D.D.
Tatt、S.C.Heidecker、Tappi、
49(No.10)、439(1966)、E.S.B
altazzi、R.G.Blanclotte et
al、Photo.Sci.Eng.16(No.
5)、354(1972)、グエン・チャン・ケー、清
水 勇、井上英一、電子写真学会誌18(No.2)、
28(1980)、特公昭50−31011号、特開昭
53−54027号、同54−20735号、同57−
202544号、同58−68046号各号公報等に開
示の樹脂が挙げられる。
【0113】本発明の光導電層において用いられる結着
樹脂の総量は、無機光導電体100重量部に対して、1
0重量部〜100重量部であることが好ましく、より好
ましくは15重量部〜50重量部である。
【0114】本発明の樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使用割
合は、樹脂〔A〕/樹脂〔B〕の重量比で0.05〜
0.6/0.95〜0.40であることが好ましく、よ
り好ましくは0.10〜0.40/0.90〜0.60
である。結着樹脂の総量比が10重量部以下となると、
光導電層の膜強度が維持できなくなる。又100重量部
以上になると、静電特性が低下し、実際の撮像性におい
ても複写画像の悪化を生じてしまう。
【0115】又、本発明の樹脂〔A〕と樹脂〔B〕の使
用割合において樹脂〔A〕の重量比が0.05以下にな
ると、静電特性向上の効果が薄れてしまう。一方0.6
以上になると光導電層の膜強度が充分維持できなくなる
場合(特に電子写真式平版印刷用原版として)が生じ
る。
【0116】本発明に使用する無機光導電材料として
は、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウ
ム、炭酸カドミウム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウ
ム、セレン化テルル、硫化鉛等が挙げられる。本発明に
使用する分光増感色素としては、必要に応じて各種の色
素を単独又は併用して用いる。例えば、宮本晴視、武井
英彦、イメージング1973(No.8)第12頁、
C.J.Young等、RCA Review 15
469(1054)、清田航平等、電気通信学会論文誌
J63C(No.2)、97(1980)、原崎勇
次等、工業科学雑誌66 78及び188(196
3)、谷忠昭、日本写真学会誌35、208(197
2)等の総説引例のカーボニウム系色素、ジフェニルメ
タン色素、トリフェニルメタン色素、キサンテン系色
素、フタレイン系色素、ポリメチン色素(例えば、オキ
ソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、ロダ
シアニン色素、スチリル色素等)、フタロシアニン色素
(金属を含有してもよい)等が挙げられる。
【0117】更に具体的には、カーボニウム系色素、ト
リフェニルメタン色素、キサンテン系色素、フタレイン
系色素を中心に用いたものとしては、特公昭51−45
2号、特開昭50−90334号、同50−11422
7号、同53−39130号、同53−82353号、
米国特許第3,052,540号、同4,054,45
0号、特開昭57−16456号等に記載のものが挙げ
られる。
【0118】オキソノール色素、メロシアニン色素、シ
アニン色素、ロダシアニン色素等のポリメチン色素とし
ては、F.M.Harmmer 「The Cyani
neDyes and Related Compou
nd」等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的
には、米国特許第3,047,384号、同第3,11
0,591号、同第3,121,008号、同第3,1
25,447号、同第3,128,179号、同第3,
132,942号、同第3,622,317号、英国特
許第1,226,892号、同第1,309,274
号、同第1,405,898号、特公昭48−7814
号、同55−18892号等に記載の色素が挙げられ
る。
【0119】更に700nm以上の長波長の近赤外〜赤
外光域を分光増感するポリメチン色素として、特開昭4
7−840号、同47−44180号、特公昭51−4
1061号、特開昭49−5034号、同49−451
22号、同57−46245号、同56−35141
号、同57−157254号、同61−26044号、
同61−27551号、米国特許第3,619,154
号、同第4,175,956号、「Research
Disclosure」1982年、216、第117
〜118頁等に記載のものが挙げられる。本発明の感光
体は種々の増感色素を併用させても、その性能が増感色
素により変動しにくい点において優れている。更には、
必要に応じて、化学増感剤等の従来知られている電子写
真感光層用各種添加剤を併用することもできる。例え
ば、前記した総説:イメージング1973(No.8)
第12頁等の総説引例の電子受容性化合物(例えば、ハ
ロゲン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水物有機カル
ボン酸等)、小門宏等、「最近の光導電材料と感光体の
開発・実用化」第4章〜第6章・日本科学情報(株)出
版部(1986年)の総説引例のポリアリールアルカン
化合物、ヒンダートフェノール化合物、p −フェニレン
ジアミン化合物等が挙げられる。
【0120】これら各種添加剤の添加量は、特に限定的
ではないが、通常光導電体100重量部に対して0.0
001〜2.0重量部である。光導電層の厚さは1〜1
00μ、特に10〜50μが好適である。また、電荷発
生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発生層として光
導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さは0.01〜
1μ、特に0.05〜0.5μが好適である。
【0121】感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の
改善等を主目的として絶縁層を付設させる場合もある。
この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。後者の場合、絶縁層の厚さは、5
〜70μ、特には、10〜50μに設定される。
【0122】積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリ
ビニルカルバゾール、オキサゾール系色素、ピラゾリン
系色素、トリフェニルメタン系色素などがある。電荷輸
送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜30μが
好適である。絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる
樹脂としては、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポ
リエステル樹脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、
塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酸ビ共重合体
樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタ
ン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹
脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂及び効果性樹脂が適宜
用いられる。
【0123】本発明による光導電層は、従来公知の支持
体上に設けることができる。一般に云って電子写真感光
層の支持体は、導電性であることが好ましく、導電性支
持体としては、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プ
ラスチックシート等の基本に低抵抗性物質を含浸させる
などして導電処理したもの、基本の裏面(感光層を設け
る面と反対面)に導電性を付与し、更にはカール防止を
図る等の目的で少なくとも1層以上をコートしたもの、
前記支持体の表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支
持体の表面層に必要に応じて少なくとも1相以上のプレ
コート層が設けられたもの、Al等を蒸着した基体導電
化プラスチックを紙にラミネートしたもの等が使用でき
る。
【0124】具体的に、導電性基体あるいは導電化材料
の例としては、坂本幸男、電子写真、14(No.
1)、P2〜11(1975)、森賀弘之、「入門特殊
紙の化学」高分子刊行会(1975)、M.F.Hoo
ver,J.Macromol.Sci.Chem.A
−4(6)、第1327〜第1417頁(1970)等
に記載されているもの等を用いる。
【0125】本発明の電子写真感光体は、従来公知のあ
らゆる電子写真プロセスを利用した用途において利用す
ることができる。即ち、本発明の感光体はPPC方式お
よびCPC方式のいずれの記録方式にも利用でき、又、
現像剤として乾式現像剤あるいは液体現像剤のいずれの
組合せにも用いることができる。
【0126】特に、高精細なオリジナルの忠実な複写画
像形成が可能なことから、液体現像剤との組合せで利用
すると、本発明の効果がより発揮される。又カラー現像
剤との組合せとすることで、黒白複写画像のみならず、
カラー複写画像にも応用することができる(例えば、滝
沢九郎、「写真工業」33、34(1975年)、安西
正保、「電子通信学会技術研究報告77、17(197
7年)等に記載の方法)。
【0127】更に近年の電子写真プロセスを利用した他
の用途への利用のシステムにおいても有効である。例え
ば光導電体として光導電性酸化亜鉛を用いた本発明の感
光体は、オフセット平版印刷用原版として、又無公害で
白色度の良好な光導電性酸化亜鉛あるいは光導電性酸化
チタンを用いた感光体は、オフセット印刷プロセスで用
いられる版下用記載材料あるいはカラープループ等に用
いることができる。
【0128】
〔マクロモノマ−の合成〕
マクロモノマー(M)の合成例1:(M−1) トリフェニルメチルメタクリレート30g及びトルエン
100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−20
℃に冷却した。1,1−ジフェニルブチルリチウム1.
0gを加え10時間反応した。
【0129】更にこの混合溶液に、エチルメタクリレー
ト70g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流下
に充分に脱気した後、添加し、更に10時間反応した。
この混合物を0℃にした後炭酸ガスを毎分60mlの流
量で30分間通気し、重合反応を停止させた。
【0130】得られた反応液を攪拌下に、温度25℃と
し、2−ヒドロキシエチルメタクリレート6gを加え、
更に、ジシクロヘキシルカルボジイミド12g、4−
N,N−ジメチルアミノピリジン1.0g及び塩化メチ
レン20gの混合溶液を30分間で滴下し、そのまま3
時間攪拌した。
【0131】析出した不溶物を濾別後、この混合溶液
に、30%塩化水素エタノール溶液10mlを加え1時
間攪拌した。次に、減圧下に反応混合物を全体量が半分
になるまで溶媒を留去した後、石油エーテル1リットル
中に再沈した。沈殿物を補集し、減圧乾燥して得られた
重合体は、Mw6.5×103 で収量56gであった。
【0132】
【化28】
【0133】マクロモノマー(M)の合成例2:(M−
2) ベンジルメタクリレート5g、(テトラフェニルポルフ
ィナート)アルミニウムメチル0.1g及び塩化メチレ
ン60gの混合溶液を窒素気流下に温度30℃とした。
これに300W−キセノンランプ光をガラスフィルター
を通して25cmの距離から光照射し、12時間反応し
た。この混合物に更にブチルメタクリレート45gを加
え、同様に8時間光照射した後、この反応混合物に4−
ブロモメチルスチレン10gを加え、30分間攪拌し反
応を停止させた。次にこの反応混合物にPd−Cを加
え、温度25℃で1時間接触還元反応を行なった。
【0134】不溶物を濾別した後石油エーテル500m
l中に再沈し、沈殿物を補集し乾燥した。得られた重合
体は収量33gでMw7×103 であった。
【0135】
【化29】
【0136】マクロモノマー(M)の合成例3:(M−
3) 4−ビニルフェニルオキシトリメチルシラン20g及び
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に、充分に脱
気し、0℃に冷却した。1,1−ジフェニル−3−メチ
ルペンチルリチウム2gを加え、6時間攪拌した。更に
この混合物に2−クロロ−6−メチルフェニルメタクリ
レート80g及びトルエン100gの混合溶液を窒素気
流下に充分脱気した後、添加して8時間反応した。この
反応混合物に充分に攪拌しながらエチレンオキサイドを
毎分30mlの流量で30分間通気した後、温度15℃
に冷却しメタクリル酸クロライド12gを30分間で滴
下し、更にそのまま3時間攪拌した。
【0137】次にこの反応混合物に30%塩化水素エタ
ノール溶液10gを加え、25℃で1時間攪拌した後、
石油エーテル1リットル中に再沈し、補集した沈殿物を
ジエチルエーテル300mlで2回洗浄し乾燥した。得ら
れた重合体は、収量55gでMw7.8×103 であっ
た。
【0138】
【化30】
【0139】マクロモノマー(M)の合成例4:(M−
4) トリフェニルメチルメタクリレート40g及びトルエン
100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し、−2
0℃に冷却した。
【0140】sec-ブチルリチウム2gを加え10時間反
応した。次に、この混合溶液に、スチレン60g及びト
ルエン100gの混合溶液を充分に窒素気流下で脱気し
た後添加し12時間反応した。この混合物を0℃にした
後、ベンジルブロマイド11gを加え1時間反応し、温
度25℃で更に2時間反応させた。この反応混合物に3
0%塩水素含有エタノール溶液10gを加え、2時間攪
拌した。不溶物を濾別後、n−ヘキサン1リットル中に
再沈し、沈殿物を補集して減圧乾燥した。得られた重合
体の収量は58gでMw4.5×103 であった。
【0141】
【化31】
【0142】マクロモノマー(M)の合成例5:(M−
5) フェニルメタクリレート70g、ベンジル−N−ヒドロ
キシルエチル−N−エチルジチオカーバメート4.8g
の混合物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度60℃に
加温した。これに400Wの高圧水銀灯で10cmの距
離からガラスフィルターを通して、10時間光照射し光
重合した。これにアクリル酸30g及びメチルエチルケ
トン180gを加えた後、窒素置換し再び10時間光照
射した。得られた反応混合物に、2−イソシアナートエ
チルメタクリレート12gを、温度30℃で1時間で滴
下し、更に2時間攪拌した。
【0143】得られた反応物をヘキサン1.5リットル
に再沈、補集し乾燥した。得られた重合体は、68gで
Mw6.0×103 であった。
【0144】
【化32】
【0145】〔樹脂〔A〕の合成〕 樹脂〔A〕の合成例1:〔A−1〕 エチルメタクリレート80g、マクロモノマー(M−
1)120g及びトルエン150gの混合溶液を窒素気
流下に温度95℃に加温した。2,2’−アゾビス(イ
ソブチロニトリル)(A.I.B.N.)6gを加え3
時間反応し、更に2時間毎にA.I.B.N.2gを加
え反応した。
【0146】得られた共重合体のMwは9×103 であ
った。
【0147】
【化33】
【0148】樹脂〔A〕の合成例2:〔A−2〕 2−クロロフェニルメタクリレート70g、マクロモノ
マー(M−2)30g、n−ドデシルメルカプタン2g
及びトルエン100gの混合溶液を窒素気流下に温度8
0℃に加温した。2,2’−アゾビス(イソバレロニト
リル)(A.I.V.N.)3gを加え3時間反応し、
更にA.I.V.N.1gを加え2時間反応した。次に
A.I.V.N.1gを加え温度90℃に加温して3時
間反応した。得られた共重合体のMwは7.6×103
であった。
【0149】
【化34】
【0150】樹脂〔A〕の合成例3〜18:〔A−3〕
〜「A−18〕 樹脂〔A〕の合成例1と同様の重合条件で、エチルメタ
クリレートを他の単量体に代えて下記表−Aの共重合体
を合成した。得られた各重合体のMwは5×103 〜9
×103 であった。
【0151】
【表1】
【0152】
【表2】
【0153】
【表3】
【0154】樹脂〔A〕の合成例19〜35:〔A−1
9〕〜〔A−35〕 樹脂〔A〕の合成例2において、マクロモノマー(M−
2)の代わりに他のマクロモノマー(M)を用いた他
は、合成例2と同様の重合条件で下記表−Bの共重合体
を合成した。得られた各重合体のMwは2×103 〜1
×104 であった。
【0155】
【表4】
【0156】
【表5】
【0157】
【表6】
【0158】
【表7】
【0159】〔樹脂(B)の合成〕 樹脂〔B〕の合成例1:〔B−1〕 メチルアクリレート42.5g、アクリル酸2.5g、
2−カルボキシエチルN,N−ジエチルジチオカーバメ
ート:〔I−1〕7.6g及びテトラヒドロフラン50
gの混合物を、窒素気流下に容器に密閉し、温度50℃
に加温した。これに、400Wの高圧水銀灯で10cm
の距離からガラスフィルターを通して、8時間光照射し
光重合した。
【0160】この反応物を石油エーテル500ミリリッ
トル中に再沈し、沈殿物を捕集・乾燥した。得られた重
合体は収量41gでMw1.0×104 であった。更
に、上記重合体(高分子開始剤となる)10g、メチル
メタクリレート65g、メチルアクリレート25g及び
テトラヒドロフラン100gの混合物を、窒素気流下に
温度50℃とした。これに上記と同条件で光照射し、1
0時間光重合した。得られた混合物をメタノール1リッ
トル中に再沈し、沈殿物を捕集・乾燥した。得られたブ
ロック重合体は収量85gでMw8.5×104 であっ
た。
【0161】
【化35】
【0162】樹脂〔B−2〕の合成例2:〔B−2〕 メチルメタクリレート67g、メチルアクリレート33
g、ベンジルN−エチル−N−(2−カルボキシルエチ
ルジチオカーバメート:〔I−2〕2.2g及びテトラ
ヒドロフラン100gの混合溶液を窒素気流下温度50
℃とした。これに合成例1と同様の光照射条件で8時間
光重合した。反応混合物を、メタノール1リットル中に
再沈し、沈殿物を捕集・乾燥して、Mw8×104 の重
合体を収量85gで得た。上記重合体85g、メチルメ
タクリレート14g、メタクリル酸1g及びテトラヒド
ロフラン150gの混合物を窒素気流下に温度50℃と
した。これを、合成例1と同様の光照射条件下で16時
間光重合した。反応物をメタノール1リットル中に再沈
し、沈殿物を捕集・乾燥して、Mw9.5×104のブ
ロック共重合体を収量83gで得た。
【0163】
【化36】
【0164】樹脂〔B〕の合成例3:〔B−3〕 エチルメタクリレート80g及びトルエン200gの混
合溶液を窒素気流下に充分に脱気し−20℃に冷却し
た。次いで1,1−ジフェニル−3−メチルペンチルリ
チウム2.0gを加え、12時間攪拌した。更にこの混
合物にメチルメタクリレート19g及び4−ビニルフェ
ニルカルボニルオキシトリメチルシラン1.5gを加え
12時間反応した後、二酸化炭素気流下に2時間そのま
ま反応し、更に温度0℃で2時間反応した。
【0165】この反応混合物に、30%塩酸10gを含
有したメタノール溶液1リットルを30分間で攪拌下に
滴下し、そのまま1時間攪拌した。析出した粉末を濾別
し、更にメタノールで洗浄し、乾燥した。収量75gで
Mw6.5×104 のブロック共重合体を得た。
【0166】
【化37】
【0167】樹脂〔B〕の合成例4〜13:〔B−4〕
〜〔B−13〕 樹脂〔B〕の合成例2と同様の反応方法で、下記表−C
に示す樹脂〔B〕を合成した。得られた各重合体のMw
は7×104 〜9×104 の範囲であった。
【0168】
【表8】
【0169】
【表9】
【0170】
【表10】
【0171】樹脂〔B〕の合成例14〜20:〔B−1
4〕〜〔B−20〕 樹脂〔B−1〕の合成例において、開始剤〔I−1〕
7.6gの代わりに、下記表−Dの各開始剤4.2×1
-3モルを用いた他は、合成例1と同様にして、各ブロ
ック共重合体を合成した。各共重合体のMwは8×10
4 〜10×104 の範囲であった。
【0172】
【表11】
【0173】樹脂〔B〕の合成例21〜30:〔B−2
1〕〜〔B−30〕 下記表−Eに相当する各重合体を合成例〔B−2〕の方
法と同様に光重合反応で重合した。
【0174】
【表12】
【0175】
【表13】
【0176】実施例1及び比較例1〜3 (実施例1)樹脂〔A−21〕6g(固形分量とし
て)、下記構造の樹脂〔B−1〕34g(固形分量とし
て)、光導電性酸化亜鉛200g、下記構造のメチン色
素〔I〕0.017g、無水フタル酸0.18g及びト
ルエン300gの混合物を、ホモジナイザー(日本精機
(株)製)中で6×103 r.p.m.の回転数で6分
間分散した。この感光層形成用分散物を導電処理した紙
に乾燥付着量が25g/m2 となるようにワイヤーバー
で塗布し、100℃で30秒間乾燥した。ついで暗所で
20℃、65%RHの条件下で24時間放置することに
より、電子写真感光材料を作製した。
【0177】
【化38】
【0178】比較例1:実施例1において、樹脂〔B−
1〕34gの代わりに下記構造の樹脂〔R−1〕34g
を用いた他は、実施例1と同様に操作して電子写真感光
材料を作製した。
【0179】
【化39】
【0180】比較例2:実施例1において、樹脂〔B−
1〕34gの代わりに下記構造の樹脂〔R−2〕34g
とした他は、実施例1と同様に操作して電子写真感光材
料を作製した。
【0181】
【化40】
【0182】比較例3:実施例1において、樹脂〔B−
1〕34gの代わりに下記構造の樹脂〔R−3〕34g
とした他は、実施例1と同様に操作して電子写真感光材
料を作製した。
【0183】
【化41】
【0184】これらの感光材料については、静電特性、
撮像性及び環境条件(20℃、65%RH)及び(30
℃、80%RH)とした時の撮像性を調べた。以上の結
果を表−Fに示す。
【0185】
【表14】
【0186】表−Fに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注1)光導電層の強度:得られた感光材料表面をヘイド
ン−14型表面性試験材(新東化学(株)製)をもちい
て荷重50g/cm2 のものでエメリー紙(#100
0)で1000回繰り返し探り磨耗粉を取り除き感光層
の重量減少から残膜率(%)を求め機械的強度とした。 注2)静電特性:温度20℃、65%RHの暗室中で、
各感光材料にペーパーアナライザー(川口電機(株)製
ペーパーアナライザーSP−428型)を用いて−6k
Vで20秒間コロナ放電させた後、10秒間放置し、こ
の時の表面電位V10を測定した。次いでそのまま暗中で
90秒間静置させた後の電位V100 を測定し、90秒間
暗減衰させた後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率
〔DRR(%)〕を(V100/V10)×100(%)で
求めた。
【0187】又コロナ放電により光導電層表面を−40
0Vに帯電させた後、該光導電層表面をガリウム−アル
ミニウム−ヒ素半導体レーザー(発振波長780nm)
光で照射し、表面電位(V10)が1/10に減衰するま
での時間を求め、これから露光量E1/10(erg/cm
2 )を算出する。又、同様の表面電位(V10)が1/1
00に減衰するまでの時間を求め、これから露光量E
1/100 (erg/cm2)を算出する。測定時の環境条
件は、20℃、65%RH(I)と30℃、80%RH
(II)で行なった。 注3)撮像性:各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放
置した後、各感光材料を−6kVで帯電し、光源として
2.8mW出力のガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体
レーザー(発振波長780nm)を用いて、感光材料表
面上で64erg/cm2 の照射量下、ピッチ25μm
及びスキャニング速度300m/secのスピード露光
後液体現像剤として、ELP−T(富士写真フイルム
(株)製)を用いて現像し、イソパラフィンアイソパー
G(エッソ化学(株)製)溶媒のリンス液で洗浄後定着
することが得られた複写画像(カブリ、画像の画質)を
目視評価した。
【0188】撮像時の環境条件は20℃65%RH
(I)と30℃80%RH(II)で実施した。表−Fに
示す様に、本発明の感光材料は、静電特性が良好で、実
際の複写画像も地カブリがなく複写画質も鮮明であっ
た。一方、比較例1、2及び3は、光感度(E1/10及び
1/100 )の低下が生じ、実際の複写画像でも微かな細
線・文字等のカスレや、リンス処理した後でも地カブリ
が除去されずに残存してしまった。又、静電特性とは一
致しないが、複写原稿の連続階調部分の中間濃度でのム
ラの発生が生じてしまった。
【0189】本発明の感光体と比較例の感光体とではE
1/100 値が大きく異なる。E1/100値は、実際の撮像性
において、露光後、非画像部(既に露光された部位)に
どれだけの電位が残っているかを示すものであり、この
値が小さい程現像後の非画像部の地汚れが生じなくなる
事を示す。具体的には−10V以下の残留電位にするこ
とが必要となり、即ち実際にはVR −10V以下とする
ために、どれだけ露光量が必要となるかということで、
半導体レーザー光によるスキャニング露光方式では、小
さい露光量でVR を−10V以下にすることは、複写機
の光学系の設計上(装置のコスト、光学系光路の精度
等)非常に重要なことである。
【0190】以上のことより、本発明の樹脂を用いた場
合にのみ静電特性及び撮像性を満足する電子写真感光体
が得られ、特に半導体レーザー光スキャニング露光方式
の感光体システムに優位になることが明らかとなった。 実施例2 樹脂〔A−13〕6g(固形分量として)、樹脂〔B−
2〕34g(固形分量として)、光導電性酸化亜鉛20
0g、下記構造のメチン色素(II)0.020g、N−
ヒドロキシマレインイミド0.20g及びトルエン30
0gの混合物を、実施例1と同様に操作して、電子写真
感光材料を作製した。
【0191】
【化42】
【0192】この感光材料の皮膜性(表面の平滑度)、
静電特性、撮像性及び環境条件を30℃、80%RHと
した時の静電特性、撮像性を調べた。更に、電子写真式
平版印刷用原版として用いた時の印刷性を調べた。これ
らの結果を表−Gに示す。
【0193】
【表15】
【0194】表−Gに示した評価項目の実施の態様は以
下の通りである。 注4)表面層の平滑性:得られた感光材料は、ベック平
滑度試験機(熊谷理工(株)製)を用い、空気容量1c
cの条件にて、その平滑度(sec/cc)を測定し
た。 注5)水との接触角:各感光材料を不感脂化処理液EP
L−EX(富士写真フイルム(株)製)を蒸留水を2倍
に稀釈した溶液を用いて、エッチングプロセッサーに1
回通して光導電層面を不感脂化処理した後、これに蒸留
水2μlの水滴を乗せ、形成された水との接触角をゴニ
オメーターで測定する。 注6)耐刷性:前記注2)の撮像性と同条件にして、製
版して、トナー画像を形成し、上記注5)と同条件で不
感脂化処理し、これをオフセットマスターとして、オフ
セット印刷機(桜井製作所(株)製オリバー52型)に
かけ、印刷物の非画像部の地汚れ及び画像部の画質に問
題が生じないで印刷できる枚数を示す(印刷枚数が多い
程、耐刷性が良好なことを表わす。)表−Gに示す様
に、本発明の感光材料は、光導電層の平滑性膜の機械的
強度及び静電特性が良好で、実際の複写画像も地カブリ
がなく複写画質も鮮明であった。このことは光導電体と
結着樹脂が充分に吸着し、且つ、粒子表面を被覆してい
ることによるものと推定される。同様の理由で、オフセ
ットマスター原版として用いた場合でも不感脂化処理液
により不感脂化処理が充分に進行し、非画像部の水との
接触角が0°と小さく、充分に親水化されていることが
判る。実際に印刷して印刷物の地汚れを観察しても地汚
れは全く認められず、鮮明な画質の印刷物が1万枚得ら
れた。
【0195】以上のことは、本発明の樹脂〔A〕と樹脂
〔B〕が適切に酸化亜鉛粒子と相互作用し、不感脂化処
理液による不感脂化反応が容易に且つ充分に進行し易い
状態を形成している事及び樹脂〔B〕の働きによる膜強
度の著しい向上を達成していることを示すものである。 実施例3〜20 実施例2において、樹脂〔A−13〕及び樹脂〔B−
2〕に代えて、下記表−Hの各樹脂〔A〕及び各樹脂
〔B〕に代えた他は、実施例2と同様に操作して、各電
子写真感光体を作製した。
【0196】
【表16】
【0197】実施例2と同様にして静電特性を測定した
所、いずれも良好な結果を示した。又、これらの感光材
料の実際の操作性を調べた所、細線・文字の再現性良好
で中間調のムラの発生もなく、地カブリの全くない鮮明
な複写画像のものが得られ、又、オフセットマスター原
版として用いて、実施例2と同様にして印刷した所、い
ずれも少なくとも1万枚以上印刷することができた。
【0198】以上から、本発明の各感光材料は光導電層
の平滑性、膜強度、静電特性及び印刷性の全ての点にお
いて良好なものであった。 実施例21〜24 実施例1において用いた、メチン色素〔I〕の代わりに
下記表−Iの色素に代えた他は、実施例1と同様の条件
で電子写真感光材料を作製した。
【0199】
【表17】
【0200】本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗
電荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高
湿の(30℃、80%RH)の過酷な条件においても、
地カブリの発生のない、鮮明な画像を与えた。 実施例25及び26並びに比較例4 樹脂〔A−1〕(実施例25)又は樹脂〔A−20〕
(実施例26)のいずれか6.5g、樹脂〔B−30〕
33.5g、酸化亜鉛200g、ウラニン0.02g、
ローズベンガル0.035g、ブロムフェノールブルー
0.025g、p−ヒドロキシ安息香酸0.18g及び
トルエン300gの混合物をホモジナイザー中で回転数
6×103 r.p.m.で6分間分散して感光層形成物
を調整し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が25
g/m2 となる様にワイヤーバーで塗布し、110℃で
20秒間乾燥した。次いで暗所で20℃、65%RHの
条件下で24時間放置することにより各電子写真感光体
を作製した。 比較例4 実施例25において、樹脂〔B−30〕33.5gの代
わりに、比較用樹脂〔R−2〕33.5gを用いた他
は、実施例25と同様にして、感光材料を作製した。
【0201】実施例2と同様に、各感光材料の各特性を
調べた。その結果を下記表−Jにまとめた。
【0202】
【表18】
【0203】上記の測定において、静電特性及び撮像性
については下記の操作に従った他は、実施例1と同様の
操作で行なった。 注6)静電特性のE1/10及びE1/100 の測定方法 コロナ放電により光導電層表面を−400Vに帯電させ
た後、該光導電層表面を照度2.0ルックスの可視光で
照射し、表面電位(V10)が1/10又はE1/100 に減
衰するまでの時間を求め、これから露光量E1/10又はE
1/100 (ルックス・秒)を算出する。 注7)撮像性 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した後、全自
動製版機EPL−404V(富士写真フイルム(株)
製)でEPL−Tをトナーとして用いて製版して得られ
た複写画像(カブリ、画像の画質)を目視評価した。撮
像時の環境条件は、20℃65%RH(I)と30℃8
0%RH(II)で実施した。但し、複写用の原稿(即
ち、版下原稿)には、ほかの原稿を切り抜いて、貼り込
みを行なって作成したものを用いた。
【0204】各感光材料において、光導電層の平滑性、
強度及び静電特性において、大きな差は認められなかっ
た。しかし、本発明の感光材料の静電特性は良好であ
り、更に、特定の置換基を有する樹脂〔A〕を用いた実
施例26は、非常に良好であり、特にE1/100 の値が小
さくなった。
【0205】実際の撮像性を調べて見ると、比較例4
は、複写画像として原稿以外に、切り抜いて貼り込んだ
部分の枠(即ち、貼り込み跡)が非画像部の地汚れとし
て認められた。しかし、本発明のものは、いずれも、地
汚れのない、鮮明な画像のものが得られた。更に、これ
らをオフセット印刷用原版として不感脂化処理して印刷
した所、本発明のものはいずれも地汚れのない鮮明な画
質の印刷物が1万枚得られた。しかし、比較例4は、上
記の貼り込み跡が、不感脂化処理でも除去されず、刷り
出しの印刷物から発生してしまった。
【0206】以上のことより、本発明の感光材料のみ
が、良好な特性を与えることができた。 実施例27〜42 実施例25において、樹脂〔A−1〕6.5g及び樹脂
〔B−30〕33.5gの代わりに、下記表−Kの樹脂
〔A〕6.5g及び樹脂〔B〕33.5gを用いた他
は、実施例25と同様にして各感光材料を作製した。
【0207】
【表19】
【0208】本発明の感光材料はいずれも帯電性、暗電
荷保持率、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高湿
(30℃、80%RH)の過酷な条件においても地カブ
リの発生のない鮮明な画像を与えた。更にオフセットマ
スター原版として印刷した所、1万枚印刷しても地汚れ
の発生のない鮮明な画質の印刷物が得られた。
【0209】更に、特定のアリール基を置換基とするメ
タクリレートを含有する樹脂〔A〕の感光体はより良好
な性能を示した。
【0210】
【発明の効果】本発明によれば、静電特性(とくに厳し
い条件下での静電特性)に優れた、鮮明で良質な画像を
有し、更に優れた機械的強度を有する電子写真感光体を
得ることができる。特に、半導体レーザー光を用いたス
キャニング露光方式に有効である。式(Ia)又は(I
b)で示される特定のメタクリレート成分を含有する繰
り返し単位を本発明の樹脂に用いることにより、更に静
電特性が向上する。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 無機光導電材料、分光増感色素及び結着
    樹脂を少なくとも含有する光導電層を有する電子写真感
    光体において、該結着樹脂が、下記樹脂〔A〕の少なく
    とも1種及び下記樹脂〔B〕の少なくとも1種を各々含
    有して成ることを特徴とする電子写真感光体。 樹脂〔A〕 1×103 〜2×104 の重量平均分子量を有し、−P
    3 2 基、−COOH基、−SO3 H基、フェノール
    性OH基、−P(=O)(OH)R1 〔R1 は炭化水素
    基又は−OR2 (R2 は炭化水素基を表す)を表す〕及
    び環状酸無水物含有基から選択される少なくとも1種の
    極性基を含有する重合体成分を少なくとも1種含有する
    Aブロックと、下記一般式(I)で示される重合体成分
    を少なくとも含有するBブロックとから構成されるAB
    ブロック共重合体のBブロックの重合体主鎖の末端に重
    合性二重結合基を結合して成る一官能性マクロモノマー
    (M)を少なくとも1種共重合成分として含有するグラ
    フト型共重合体。 【化1】 〔式(I)中、a1 及びa2 は各々水素原子、ハロゲン
    原子、シアノ基又は炭化水素基を表す。V1 は−COO
    −、−OCO−、−(CH2 aOCO−、−(C
    2 aCOO−(aは1〜3の整数を表す。)、−O
    −、−SO2 −、−CO−、−CON(Z1 )−、−S
    2 N(Z1 )−、−CONHCOO−、−CONHC
    ONH−又は−C6 4 −を表す(ここでZ1 は水素原
    子又は炭化水素基を表わす)。R3 は、炭化水素基を表
    わす。但しV1 が−C6 4 −を表わす場合、R3 は水
    素原子又は炭化水素基を表わす。〕 樹脂〔B〕 2×104 〜1×106 の重量平均分子量を有し、−P
    3 2 基、−COOH基、−SO3 H基、−P(=
    O)(OH)R1 〔R1 は前記と同一の内容を表す〕及
    び環状酸無水物含有基から選択される少なくとも1種の
    極性基を含有する重合体成分を少なくとも1種含有する
    Aブロックと下記一般式(II)で示される重合体成分を
    少なくとも含有するBブロックとから構成されるABブ
    ロック共重合体から成り、且つAブロックにおいて、B
    ブロックと結合する反対側の重合体主鎖の末端に上記特
    定の極性基のうちから選択される少なくとも1種の極性
    基を結合してなる樹脂。 【化2】 〔式(II)中、b1 及びb2 はそれぞれ水素原子、ハロ
    ゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を示す。R4 は炭化
    水素基を表す。〕
  2. 【請求項2】 上記樹脂〔A〕が、マクロモノマー
    (M)と共重合する共重合成分として下記一般式(II
    a)及び下記一般式(IIb)で示されるアリール基含有
    のメタクリレート成分のうちの少なくとも1つを含有す
    ることを特徴とする請求項1記載の電子写真感光体。 【化3】 【化4】 〔式(IIa)及び(IIb)中、A1 及びA2 は互いに独
    立に各々水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、ハロ
    ゲン原子、シアノ基、−COR5 又は−COOR5 (R
    5 は炭素数1〜10の炭化水素基を表す)を表し、B1
    及びB2 は各々−COO−とベンゼン環を結合する単結
    合又は連結原子数1〜4個の連結基を表す。〕
  3. 【請求項3】 上記樹脂〔B〕において、全共重合体中
    に含有される特定の極性基含有重合体成分の総量が、上
    記樹脂〔A〕中に含有される特定の極性基含有重合体成
    分の総量に対し10重量%〜50重量%であることを特
    徴とする請求項1又は2記載の電子写真感光体。
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