WO2004042814A1 - 電子部品実装用フィルムキャリアテープ - Google Patents

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WO2004042814A1
WO2004042814A1 PCT/JP2003/012972 JP0312972W WO2004042814A1 WO 2004042814 A1 WO2004042814 A1 WO 2004042814A1 JP 0312972 W JP0312972 W JP 0312972W WO 2004042814 A1 WO2004042814 A1 WO 2004042814A1
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Shuichi Kawasaki
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Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.
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Definitions

  • the present invention relates to a film carrier for mounting electronic components, which has reduced warpage deformation. More specifically, the present invention relates to a film carrier, such as a COF (Chip On Film), a CSP (Chip Size Package), or a BGA (Ball Grid Array), whose size is almost the same as an electronic component to be mounted, and has a long length.
  • a film carrier tape for mounting electronic components in which two or more film carriers are arranged side by side in the width direction of a tape made of an insulating film, wherein the warpage of each film carrier is significantly reduced.
  • the present invention relates to a mounting film carrier tape. Background art
  • Film carrier tape for mounting electronic components is used to mount electronic components such as integrated circuits on electronic devices.
  • a wiring pattern made of a conductive metal is formed on the surface of a long insulating film.
  • many electronic component mounting film carrier tapes use this wiring pattern. It is manufactured by forming a solder resist layer on the surface of the device, leaving the terminal portion.
  • a thermosetting resin such as an epoxy resin is used as a resin for forming a solder resist layer.
  • the curable resin has the property that it shrinks slightly when it is cured by heating, and the curing shrinkage of the thermosetting resin that forms such a solder resist layer causes the film carrier tape for mounting electronic components. Is warped in the width and longitudinal directions.
  • Such a warping deformation in the width direction and the longitudinal direction of the long film carrier tape is caused by, for example, a method in which a film carrier is passed between a number of rolls under heating, and a film in a direction opposite to the warping deformation that occurs. This can be corrected by heating the carrier tape while warping it (while giving it reverse warpage).
  • Such a warping method is particularly effective as a method for warping a film carrier tape in which one wiring pattern is formed in the width direction of a tape made of an insulating film.
  • the electronic component to be mounted such as COF (Chip On Film), CSP (Chip Size Package) or BGA (Boll Grid Array) and the film carrier have almost the same area.
  • Film carriers are increasingly being used. Since such a film carrier occupies a small area, it can be manufactured by arranging a plurality of (for example, two or four) tapes made of an insulating film in the width direction.
  • CSP, COF, BGA, etc. since a solder resist layer is formed on each film carrier, each film carrier on which the solder resist layer is formed is warped and a plurality of film carriers in the width direction are formed.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application No. 2001-249499 Disclosure of the Invention
  • the present invention provides an electronic component mounting film carrier tape in which a plurality of film carriers are formed in a width direction of the tape and in which the warpage of each film carrier is reduced in the electronic component mounting film carrier tape.
  • the purpose is.
  • the film carrier tape for mounting an electronic component of the present invention is a film carrier tape for mounting an electronic component in which a large number of wiring patterns made of a conductive metal are formed on the surface of a long insulating film.
  • Each of the wiring patterns is independently covered with a solder resist layer except for the connection terminal portion, and the solder resist layer formed on the surface of each wiring pattern is divided into a plurality of pieces and Z or It is characterized by being divided.
  • a large number of wiring patterns made of a conductive metal are formed on the surface of a long insulating film, and the wiring pattern is formed of the long insulating film.
  • each of the wiring patterns is independently covered with a solder resist layer, and the solder resist layer formed on each of the wiring pattern surfaces is divided into a plurality of parts. It is characterized by being Z or fractionated.
  • the solder resist is divided and applied, and since the stress due to the hardening shrinkage in each of the divided solder resist layers is small, the deformation in the film carrier is suppressed. Can be made smaller.
  • FIG. 1 is a plan view showing an example of a film carrier tape for mounting electronic components of the present invention.
  • FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA ′ in FIG.
  • FIG. 3 is an explanatory diagram for extracting and explaining one film carrier forming the film carrier tape for mounting electronic components of the present invention.
  • FIG. 4 is a diagram showing a method for measuring the warpage of a film carrier according to the present invention.
  • FIG. 5 is a diagram showing an example of a film carrier tape for mounting electronic components in which a solder resist layer is formed on 20% or more of a wiring pattern excluding a terminal portion.
  • FIG. 6 is a diagram showing an example of a cross section of a partition portion of the solder resist layer.
  • FIG. 1 is a plan view showing an example of a film carrier tape for mounting electronic components according to the present invention
  • FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA ′ in FIG.
  • the film carrier 10 for mounting electronic components of the present invention is composed of a long insulating film 11 and a large number of film carriers 12 Be formed.
  • This long insulating film 11 has the chemical resistance not to be affected by such chemicals and the heat resistance so that it is not deteriorated by the caloric heat at the time of bonding due to the contact with acids and the like during etching. ing.
  • the material for forming the insulating film 11 include polyester, polyamide, and polyimide. Particularly, in the present invention, it is preferable to use a film made of polyimide. Such a polyimide has excellent heat resistance and excellent chemical resistance as compared with other resins.
  • this polyimide resin examples include a wholly aromatic polyimide synthesized from pyromellitic dianhydride and aromatic diamine, and a biphenyl skeleton synthesized from biphenyltetracarboxylic dianhydride and aromatic diamine. And a wholly aromatic polyimide.
  • a wholly aromatic polyimide having a biphenyl skeleton eg, trade name: Upilex S, manufactured by Ube Industries, Ltd.
  • a wholly aromatic polyimide having a biphenyl skeleton has a lower water absorption than other wholly aromatic polyimides.
  • the insulating film having a thickness of 75 ⁇ m or less has a low self-shape retention force and is easily deformed.
  • the thickness (average thickness) of the film is 75 m or less, preferably in the range of 50 to 12.5 im, a useful film is produced when manufacturing a thin film carrier using an insulating film. ,.
  • a large number of sprocket horns 14 are formed at the edge in the width direction of such a long insulating film 11 in order to carry the insulating film 11 and perform positioning.
  • the insulating film 11 may further include a positioning hole, a device hole, a solder ball hole for arranging a solder ball to be an external terminal, a slit for securing connection with an electronic component, and the like. . They are, It can be formed by a punching step or a punching step using laser light.
  • the wiring pattern 15 is formed on the insulating film on which the necessary through-holes have been formed as described above.
  • the wiring pattern 15 is formed, for example, by disposing a conductive metal foil on the surface of the insulating film 11 described above, applying a photosensitive resin on the surface of the conductive metal foil, Exposure and development can be performed on the resin layer using a desired pattern to form a pattern made of a photosensitive resin, and this pattern can be used as a masking material to selectively etch a conductive metal foil.
  • the conductive metal used here include aluminum foil and copper foil.
  • a metal foil having a thickness of usually 3 to 35 m, preferably 9 to 25 ⁇ can be used.
  • a core of a conductive metal may be provided on the surface of the insulating film, and the conductive metal may be deposited on the core.
  • the conductive metal foil used in the present invention it is preferable to use a copper foil.
  • a copper foil As the conductive metal foil used in the present invention, it is preferable to use a copper foil.
  • an electrolytic copper foil and a rolled copper foil have a certain force in consideration of etching characteristics, operability, etc. Then, it is preferable to use electrolytic copper foil.
  • a plurality of film carriers 12 formed by the wiring pattern formed of the conductive metal are formed in the width direction of the tape made of the insulating film.
  • FIG. 1 shows an embodiment in which two film carriers 12 coexist in the width direction of the tape.
  • an insulating film 11 having an effective width of 35 mm can be formed by arranging two film carriers each having a side of, for example, 14 mm in the width direction, and an insulating film 11 having an effective width of 7 O mm includes: Film carrier with 14mm on one side Can be formed side by side in the width direction.
  • the surface of the insulating film 11 on which the wiring pattern 15 is formed is provided with electronic components.
  • a solder resist ink is applied to the surface of the formed wiring pattern, leaving a terminal portion 16 to secure the connection, to form a solder resist layer 20.
  • the resin forming the solder resist layer 20 to be applied here is usually a coating liquid in which a thermosetting resin is dissolved or dispersed in an organic solvent. After applying such a solder resist ink, heating is performed. Thus, a solder resist layer 20 is formed.
  • the solder resist ink is cured to form the solder resist layer 20, the resin forming the solder resist layer slightly shrinks in hardness. Warp deformation occurs with the solder resist layer 20 inside.
  • the cause of the warpage is the difference in the expansion coefficients of materials such as insulating films and conductive metals, and the curing shrinkage of the solder resist as described above.
  • the resulting internal stress is constantly higher than the self-shape retention of an insulating film or the like, the stress inherent in the solder resist layer is surfaced as a warped deformation of the film carrier.
  • the formation area of the solder resist layer 20 is large, the internal stress in the large-area solder resist layer 20 is likely to be connected to each other to become a large internal stress. However, even in the solder resist layer 20 in which such a large internal stress is generated, when viewed partially, the internal stress is not so large.
  • the solder resist layer 20 is conventionally formed by being integrally applied and formed as a whole, and the solder resist layer 20 is divided or divided into several parts, and is formed by application.
  • the stress in the divided solder resist layer 20 is reduced as much as possible, and the self-form of the insulating film 11 in the partitioned solder resist layer 20 is reduced to a level that does not antagonize the supporting force. This is because warpage is minimized.
  • the solder resist layer 20 is divided into A section 20 a, B section 20 b, C section 20 c, and D section. It is divided into a plurality of sections as in section 20d, and solder resist ink is applied and formed.
  • the resin forming the solder resist layer 20 is a curable resin.
  • an epoxy resin, a urethane-modified epoxy resin, a phenol resin, a precursor of a polyimide resin, and the like are preferably used.
  • Such a thermosetting resin is dissolved or dispersed in a solvent, and is usually 10 to 4 OPa-s, preferably 20 to 4 so that it can be applied by a squeegee using a screen mask. The viscosity is adjusted within the range of ⁇ 30 Pa's.
  • the area where the solder resist layer 20 is to be formed Area 0a, Section B 20b, Section C 20c, and Section D 2 Od are combined. Conventionally, these areas were integrated with a solder resist. However, when the solder resist is applied over a wide area and hardened as described above, when the resin is cured, the resin shrinks and cures, and the individual film carrier 12 has a solder-resist layer 20 as shown in FIG. Warpage with the inside facing.
  • the solder resist is divided into a plurality of regions where the solder resist is to be applied, and the solder resist is applied. That is, in FIGS. 1 and 3, the area to which the solder resist is to be applied is the area combining the A section 20a, the B section 20b, the C section 2Oc, and the D section 2Od. In the example shown in Fig. 1 and Fig. 3, this area is divided into four parts, each part is made independent of the adjacent part, and a solder resist is applied and cured to form a solder resist layer 20 divided into four parts. ing.
  • the vertical and horizontal size of the film carrier is less than 5 mm, warping deformation that causes a problem often does not occur.
  • the vertical and horizontal size of the film carrier is 5 mm or more. It is preferable to form the solder resist separately in the film carrier. By dividing the solder resist layer in this manner, stress due to the shrinkage of the solder resist is generated in each section, but the stress is small, and the stress is formed on the insulating film and on the insulating film. By antagonizing the stress inherent in the wiring pattern, deformation in the film carrier can be minimized.
  • Such a solder resist layer 20 is divided into 2 to 16 parts depending on the size of the film carrier, the insulating film, the solder resist, and the physical properties of other materials. It is particularly preferable to divide it into 2 to 8 parts. By dividing the solder resist layer 20 in this manner, the contraction stress due to the curing of the solder resist in each section is reduced, and the deformation of the entire film carrier is also reduced. Note that the size of the solder resist after division is not necessarily smaller than 5 mm because the physical properties of the insulating film, solder resist, etc. are intricately entangled.
  • each section for dividing and / or dividing the sono-resist resist layer 20. It is preferable to divide the area to be applied as evenly as possible. By equalizing the stress generated in each section, the deformation of the entire film carrier is smaller. In other words, it is preferable that the area of each section is equal and the form of each section is substantially the same.
  • the length of one side of each section of the divided solder resist is set to about 2 to 1 Omm, preferably about 2.5 to 7.5 mm. desirable.
  • the film carrier formed by dividing and / or dividing the solder resist layer is not limited to BGA or the like as described above with the CSP. It can also be applied to general TAB tapes.
  • FIG. 5 (a) shows an example in which a solder resist layer is formed by dividing the wiring pattern 15 formed on the surface of the insulating film 11 having the depth holes into 12 pieces.
  • the wiring pattern shown in FIG. 5A is an example, and the wiring pattern Is not limited.
  • FIG. 5A is an example, and the wiring pattern Is not limited.
  • FIG. 5 (b) shows an example in which the solder resist layer 20 is divided into two, and in FIG. 5 (b), a wiring pattern is formed on the surface of the insulating film 11.
  • the wiring pattern is omitted in FIG. 5 (b).
  • the distance (W) between the sections divided as described above should be set appropriately so that the stress generated inside the adjacent sections is not transmitted.
  • Power that can be usually 20! ⁇ 5 O mm, preferably 20 ⁇ ! Set a value within the range of ⁇ 3 mm.
  • the thickness (ho) of the solder resist layer divided or fractionated as described above is the same as the thickness of the conventional solder resist layer, and the average thickness after curing is on the upper surface of the wiring pattern. Usually in the range of 3 to 50 m, preferably 5 to 40 ⁇ m.
  • the solder resist layer 20 is divided or divided as shown in FIG. Force having a portion where a simple solder resist layer is not formed as long as the internal stress generated in each section does not have to be transmitted to the adjacent section.
  • the solder resist layer 20 partitioned as shown in FIG. At least partially connected to and separated from adjacent solder resist layer sections. Good.
  • the thickness of the solder resist layer between the compartments (h is 1/2 or less of the normal thickness (ho) of the solder resist layer, and hi may be 0.
  • solder resist layer 20 In order to form the partitioned solder resist layer 20, it is sufficient to form a mask on a conventional screen so as to correspond to the partition and apply a resin.
  • a solder resist In the case of an adhesive solder resist that has recently been adopted, a solder resist may be applied by forming a gap. Further, in the case of a solder resist using a photosensitive resin, after applying the resin, exposure and development may be performed so that the solder resist layer is divided and Z or separated. Further, the solder resist layer fractionated so that at least a part of the sections is connected can be formed by adjusting the line width of a screen mask used when applying the solder resist coating solution. .
  • the surface of the terminal portion (lead, bonding pad, etc.) 16 exposed from the solder resist layer 20 is plated.
  • the plating process includes tin plating, nickel plating, nickel-gold multilayer plating, nickele-palladium-gold multilayer plating, solder plating, tin-bismuth plating, and the like.
  • the above-mentioned plating layer is formed on the surface of the wiring pattern between the divided solder resist layers.
  • This plating process may be performed before forming the solder resist layer.
  • the electronic component mounting film carrier tape of the present invention manufactured as described above can be used by a usual method.
  • an electronic component (not shown) is arranged on the divided solder resist layer using an adhesive or the like, and an electrical connection is made between the bump electrode formed on the electronic component and the connection terminal 16.
  • the electrical connection By forming the electrical connection, the electronic component can be mounted.
  • a conductive metal wire such as a gold wire can be used.
  • the electronic component to be mounted and the carrier tape have substantially the same occupied area, but the present invention applies to such a film carrier tape. It is not limited.
  • connection terminals 16 formed on the electronic component mounting film carrier tape of the present invention are connected to the solder balls via the wiring patterns 15.
  • the deformation of the film carrier tape of the present invention for mounting electronic components is measured as follows. As shown in Fig. 4 (a), one film carrier in the manufactured film carrier tape is used as a reference point with the portion where the sprocket hole is formed of the film carrier tape moved using a sprocket hole. Measure the height of the measurement point with respect to the reference point of measurement points 1 to 4 shown in Fig. 3. Considering that the film carrier tape is deformed as shown in Fig.
  • the larger of the values of (1), (1) (3) or (1)-(3) is the warpage deformation in the present invention.
  • the warpage deformation of the film carrier is 50% or less of the warpage deformation of the film carrier having the solder resist layer which is not divided or divided.
  • the solder carrier is formed by dividing or dividing the resist layer, thereby reducing the warpage of the film carrier and providing a highly reliable electronic component mounting. A film carrier tape is obtained.
  • the solder resist layer is divided or divided into a plurality of parts, the stress caused by shrinkage when the solder resist ink is cured is dispersed. Therefore, in the film carrier tape for mounting electronic components of the present invention, the warpage of the film carrier due to the curing shrinkage of the solder resist layer is significantly reduced, and the mounting precision of the electronic components is reliably improved.
  • the film carrier tape for mounting electronic components of the present invention has a particularly high yield of “I”, which is particularly useful as CSP, COF, BGA, and the like.
  • Example 1 the film carrier tape for mounting electronic components of the present invention will be described with reference to examples, in comparison with the case where a solder resist is formed on the entire wiring pattern other than the connection terminals, where warpage is likely to occur.
  • the present invention is not limited by these.
  • Solder pole holes for placing sprocket holes and solder balls were punched in polyimide film (product name: Upilex S, manufactured by Ube Industries, Ltd.) with an average thickness of 50 ⁇ and a width of 48 mm. . As shown in Fig. 1, this polyimide film has two rows of film carriers with a side of 17 mm. A solder ball hole was drilled to make it possible.
  • polyimide film product name: Upilex S, manufactured by Ube Industries, Ltd.
  • an electrolytic copper foil having an average thickness of 25 ⁇ was adhered to the polyimide film, a photosensitive resin was applied on the electrolytic copper foil, and exposed and developed. Using the pattern formed of the photosensitive resin developed in this manner as a masking material, a copper wiring pattern was formed by selectively etching electrolytic copper foil.
  • solder resist layer (average thickness after curing: 10 im).
  • solder resist layer formed here is harmed four times as shown in Fig. 1, and the solder resist layer has a width of 200 ⁇ between each section. There is a part (compartment part) where is not applied.
  • connection terminals not covered by the solder resist layer and the partition portions of the solder resist layer are nickel-plated, then gold-plated, and then the entire film carrier tape is formed in a usual manner. Therefore, warping was performed.
  • the film carrier tape for electronic component mounting obtained was selected at random in six consecutive rows of 12 film carriers formed near the center in the length direction of the film carrier tape, and these film carriers were connected to each other. Warpage deformation was measured.
  • Table 1 shows the results.
  • the upper and lower columns in Table 1 are used to distinguish between the upper film carrier and the lower film carrier when the film carrier tape is placed as shown in Fig. 1. This is irrelevant to the direction of the tape in the manufacturing process of the film carrier tape for mounting electronic components of this effort.
  • a film carrier tape for mounting electronic components was manufactured in the same manner as in Example 1, except that the solder resist layer was not divided.
  • the amount of warpage of the film carrier can be reduced to half or less on average by dividing the solder resist layer into four.

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Abstract

 本発明の電子備品実装用フィルムキャリアテープは、長尺の絶縁フィルムの表面に導電性金属からなる多数の配線パターンが形成されてなる電子部品実装用フィルムキャリアテープにおいて、該それぞれの配線パターンが、接続端子部分を除いて、それぞれ独立に、ソルダーレジスト層により被覆されており、かつそれぞれの配線パターン表面に形成されたソルダーレジスト層が、複数個に分割されていることを特徴としており、本発明によれば、CSP、COF、BGAのような幅方向に多数取りされる電子部品実装用フィルムキャリアテープにおいてそれぞれのフィルムキャリアに生ずる反り変形を低減することができる。

Description

糸田 » 電子部品実装用フィルムキヤリァテープ 技術分野
本発明は、 反り変形の低減された電子部品実装用フィルムキヤリァテ一プに 関する。 さらに詳しくは本発明は、 COF (Chip On Film)、 CSP (Chip Size Package)、BGA(Ball Grid Array)のようにフィルムキヤリァのサイズが実装す る電子部品と概略同一であり、 かつ長尺の絶縁フィルムからなるテープの幅方 向に 2つ以上のフィルムキヤリァが並んで製造される電子部品実装用フィルム キヤリァテープであって、 それぞれのフィルムキヤリァにおいて反り変形が著 しく低減された電子部品実装用フィルムキヤリァテープに関する。 背景技術
集積回路などの電子部品を電子機器に搭載するために電子部品実装用フィル ムキヤリァテープが使用されている。 この電子部品実装用フィルムキヤリアテ ープは、 長尺の絶縁フィルムの表面に導電性金属からなる配線パターンを形成 し、 このうち多くの電子部品実装用フィルムキヤリァテープは、 この配線パタ ーンの表面に、 端子部分を残して、 ソルダーレジスト層を形成することにより 製造されている。 このような電子部品実装用フィルムキャリアテープにおいて ソルダーレジスト層を形成する樹脂としては、 エポキシ樹脂などの熱硬化性樹 脂が使用されている。
ソルダーレジスト層を形成しない電子部品実装用フィルムキヤリァテープに おいては大きな反り変形は見られないが、 ソルダーレジスト層を形成する熱硬 化性樹脂は、 加熱して硬化させる際にわずかに硬化収縮するという特性を有し ており、 このようなソルダーレジスト層を形成する熱硬化性樹脂の硬化収縮に 電子部品実装用フィルムキヤリァテープには幅方向、 長手方向に反り変形が生 ずる。
このような長尺のフィルムキャリアテープの幅方向、 長手方向に生じた反り 変形は、 たとえば加熱下に多数のロール間をフィルムキヤリァを通過させる方 法、発生したそり変形とは逆方向にフィルムキヤリァテープを反らせながら(逆 反りを与えながら) 加熱する方法などにより、 是正することができる。 このよ うな反り取り方法は、 絶縁フィルムからなるテープの幅方向に 1つの配線パタ ーンが形成されたフィルムキヤリァテープの反り取り方法として特に有効であ る。
ところで最近の電子部品の実装技術においては、 COF (Chip On Film)、 CSP (Chip Size Package) あるいは BGA(Boll Grid Array)などのように実装する 電子部品とフィルムキャリアとが略同一の面積であるフィルムキャリアが使用 されることが多くなつてきている。 このようなフィルムキャリアは、 占有面積 が小さいために、 絶縁フィルムからなるテープの幅方向に複数個 (例えば 2個 あるいは 4個) 並べて製造することができる。 このような CSP、 COF、 BGA などでは、 それぞれのフィルムキャリアにソルダーレジスト層が形成されるた め、 ソルダーレジスト層が形成されたそれぞれのフィルムキャリアが反ってお り幅方向に複数のフィルムキヤリァが形成されたテープに逆反りをかけたとし ても、 幅方向に隣接するフィルムキャリアの境界部分でテープが曲がってしま レ、、 湾曲変形したフィルムキヤリァ部分にそれぞれ有効に逆反りをかけること ができない。 このため CSP、 BGAのようにテープの幅方向に複数のフィルム キャリアを形成する電子部品実装用フィルムキヤリァテープでは、 それぞれの フィルムキヤリァに生じた反り変形を是正する有効な反り取り方法が存在しな いのが実情である。
特許文献 1 特願 2001-249499号明細書 発明の開示
本発明は、 テープの幅方向に複数のフィルムキャリアが形成された電子部品 実装用フィルムキヤリァテープにおけるそれぞれのフィルムキャリアの反り変 形を低減した電子部品実装用フィルムキヤリァテープを提供することを目的と している。
本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、 長尺の絶縁フィルムの 表面に導電性金属からなる多数の配線パタ一ンが形成されてなる電子部品実装 用フィルムキヤリァテープにおいて、
該それぞれの配線パターンが、 接続端子部分を除いて、 それぞれ独立に、 ソ ルダーレジスト層により被覆されており、 かつそれぞれの配線パターン表面に 形成されたソルダーレジスト層が、 複数個に分割および Zまたは分面されてい ることを特徴としている。
また、 本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、 長尺の絶縁フィ ルムの表面に導電性金属からなる多数の配線パタ一ンが形成され、 かつ該配線 パターンが該長尺の絶縁フィルムの幅方向に少なくとも 2個併設されてなる電 子部品実装用フィルムキャリアテープにおいて、
該それぞれの配線パターンが、 接続端子部分を除いて、 それぞれ独立に、 ソ ルダーレジスト層により被覆されており、 カゝっそれぞれの配線パターン表面に 形成されたソルダーレジスト層が、 複数個に分割および Zまたは分画されてい ることを特徴としている。 本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープでは、 ソルダ一レジストを 分割して塗布しており、 分割されたそれぞれのソルダーレジスト層における硬 化収縮による応力が小さいために、 そのフィルムキャリアにおける変形を小さ くすることができる。 図面の簡単な説明
図 1は、 本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープの一例を示す平面 図である。
図 2は、 図 1における A-A'断面図である。
図 3は、 本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープを形成するひとつ のフィルムキャリアを抜き出して説明する説明図である。
図 4は、 本発明におレ、てフィルムキャリアの反り変形を測定する方法を示す 図である。
図 5は、 端子部を除く配線パターンの 2 0 %以上にソルダーレジスト層が形 成された電子部品実装用フィルムキヤリァテープの例を示す図である。
図 6は、 ソルダーレジスト層の区画部の断面の例を示す図である。 発明を実施するための最良の形態
次に本努明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープについて図面を参照し ながら具体的に説明する。
図 1は、 本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープの一例を示す平面 図であり、 図 2は、 図 1における A— A'断面図である。
図 1および図 2に示すように、 本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテ —プ 1 0は、 長尺の絶縁フィルム 1 1の表面に多数のフィルムキャリア 1 2力 S 形成されてなる。
この長尺の絶縁フィルム 1 1は、 エッチングする際に酸などと接触すること 力 ら、 こうした薬品に侵されない耐薬品性およびボンディングする際のカロ熱に よっても変質しないような耐熱性を有している。 この絶縁フィルム 1 1を形成 する素材の例としては、 ポリエステル、 ポリアミ ドおよびポリイミドなどを挙 げることができる。 特に本発明では、 ポリイミドからなるフィルムを用いるこ とが好ましい。 このようなポリイミドは、 他の樹脂と比較して、 卓越した耐熱 性を有すると共に、 耐薬品性にも優れている。
. このポリイミド樹脂の例としては、 ピロメリット酸 2無水物と芳香族ジアミ ンとから合成される全芳香族ポリイミド、 ビフエニルテトラカルボン酸 2無水 物と芳香族ジァミンとから合成されるビフェニル骨格を有する全芳香族ポリィ ミドを挙げることができる。 特に本発明ではビフエニル骨格を有する全芳香族 ポリイミド (例;商品名 :ユーピレックス S、 宇部興産 (株) 製) が好ましく 使用される。 ビフエニル骨格を有する全芳香族ポリイミドは、 他の全芳香族ポ リイミドよりも吸水率が低 1/、。 本発明で使用可能な絶縁フィルムの厚さに特に 制限はな 、が、 厚さが 7 5 μ m以下の絶縁フィルムは自己形態保持力が低くな り、 変形が生じやすいので、 本発明は絶縁フィルムの厚さ (平均厚さ) が 7 5 m以下、 好ましくは 5 0〜 1 2 . 5 i mの範囲内にある絶縁フィルムを用い た薄型のフィルムキャリアを製造する際に有用†生が高レ、。
このような長尺の絶縁フィルム 1 1の幅方向の縁部には、 この絶縁フィルム 1 1を搬送し、 また位置決めを行うためにスプロケットホーノレ 1 4が多数形成 されている。 また、 この絶縁フィルム 1 1には、 さらに位置決めホール、 デバ イスホール、 外部端子となるハンダボールを配置するハンダボール穴、 電子部 品との接続を確保するためのスリットなどが形成されていてもよい。これらは、 パンチング工程、 レーザー光を用いた穿孔工程により形成することができる。 このようにして必要な透穴を形成した絶縁フィルムに、 配線パターン 1 5を 形成する。 この配線パターン 1 5は、 たとえば、 上記のような絶縁フィルム 1 1の表面に導電性金属箔を配置し、 この導電性金属箔の表面に感光性樹脂を塗 布し、 こうして形成された感光性樹脂層に所望のパターンを用いて露光現像し て感光性樹脂からなるパターンを形成し、 このパターンをマスキング材として 使用して導電性金属箔を選択的にェツチングすることにより形成することがで きる。 ここで使用する導電性金属の例としては、 アルミニウム箔および銅箔を 挙げることができる。このような導電性金属箔としては、通常は 3〜 3 5 m, 好ましくは 9〜 2 5 μ πιの範囲内にある金属箔を使用することができる。また、 導電性金属の核を絶縁フィルム表面に設けて、 その核に導電性金属を析出させ てもよい。
本発明で使用される導電性金属箔としては銅箔を使用することが好ましく、 ここで使用可能な銅箔には、電解銅箔と圧延銅箔とがある力 エッチング特性、 操作性などを考慮すると電解銅箔を使用することが好ましレ、。
本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープにぉレ、て、 上記導電性金属 から形成された配線パターンによって形成されるフィルムキヤリア 1 2は絶縁 フィルムからなるテープの幅方向に複数個形成されており、 図 1には、 フィル ムキヤリア 1 2がテープの幅方向に 2個併存された態様が示されている。
本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープにおいては、 上記のような フィルムキヤリア 1 2は、 テープの幅方向に、 それぞれ独立して複数形成され ている。たとえば、有効幅 3 5 mmの絶縁フィルム 1 1には 1辺が例えば 14mm のフィルムキャリアを 2個幅方向に並べて形成することができ、 また、 有効幅 7 O mmの絶縁フィルム 1 1には、 1辺がたとえば 14mmのフィルムキヤリ了 を 4個幅方向に並べて形成することができる。
電子部品実装用フィルムキヤリァテープ 1 0に形成されてレ、るフィルムキヤ リァが CSPあるいは BGAの場合には、絶縁フィルム 1 1の配線パターン 1 5 が形成されている面には、電子部品との接続を確保する端子部分 1 6を残して、 形成された配線パターンの表面にソルダーレジストインクを塗布してソルダー レジスト層 2 0を形成をする。 ここで塗布するソルダーレジスト層 2 0を形成 する樹脂は、 通常は熱硬ィ匕性樹脂を有機溶媒に溶解もしくは分散させた塗布液 であり、 このようなソルダーレジストインクを塗布した後、 加熱することによ りソルダーレジスト層 2 0を形成する。 そして、 このソルダーレジストインク が硬化してソルダーレジスト層 2 0を形成する際にはソルダーレジスト層を形 成する樹脂は僅力に硬ィヒ収縮するため、 このソルダーレジストインクが塗布さ れた部分にはソルダーレジスト層 2 0を内側にして反り変形が生ずる。
なお、 ソルダーレジスト層の形成が不要なタイプの電子部品実装用フィルム キヤリアテープもある。
このようにテープの幅方向にフィルムキャリア 1 2が複数並んで形成されて いる場合、 このテープに逆反りをかけてもフィルムキャリア 1 2の間でテープ が折れ曲がるだけで、 反り変形が生じているフィルムキャリア 1 2の部分には ほとんど逆反りがかからない。 したがって、 個々のフィルムキャリア 1 2につ いてみると、 ほとんど反り変形は是正されない。
したがって、 上記のようなテープの幅方向に複数のフィルムキヤリア 1 2を 並べて形成する場合には、 それぞれのフィルムキヤリア 1 2自体に反り変形が 発生しないようにするのが効率的である。
反り変形が生ずる原因は、 絶縁フィルム、 導電性金属などの材料の膨張係数 の差や、 前述のようにソルダーレジストの硬化収縮であり、 この硬化収縮によ り生ずる内部応力が絶縁フィルムなどの自己形態保持性よりも恒常的に高くな つたときに、 ソルダーレジスト層に内在する応力がフィルムキャリアの反り変 形として表在化するのである。 そして、 ソルダーレジスト層 2 0の形成面積が 大きくなると、 大面積のソルダーレジスト層 2 0中における内部応力が相互に 連帯して大きな内部応力となりやすい。 しかしながら、 このような大きな内部 応力が発生しているソルダーレジスト層 2 0においても、 部分的にみると、 そ の内部応力はそれほど大きレ、ものではなレ、。
そこで、 本発明では従来一体に塗布されて形成されて全体が一体化してレ、た ソルダーレジスト層 2 0をいくつかに分割あるいは分画して塗布形成し、 それ ぞれの分割あるいは分画された区画における応力のできるだけ小さくし、 この 区画されたソルダーレジスト層 2 0の部分にある絶縁フィルム 1 1の自己形態 支持力と拮抗する程度以下に抑えて区画されたソルダーレジスト層 2 0形成部 における反り変形を最小限に抑えてレ、るのである。
すなわち、 本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープ 1 0では、 図 1 〜 3に示すようにソルダーレジスト層 2 0を、 A区画 2 0 a、 B区画 2 0 b、 C 区画 2 0 c、 D区画 2 0 dのように複数の区画に分割して、 ソルダーレジストイ ンクを塗布して、 形成する。
本発明においてソルダーレジスト層 2 0を形成する樹脂は、 硬化性樹脂であ り、 例えば、 エポキシ樹脂、 ウレタン変性エポキシ樹脂、 フエノール樹脂、 ポ リイミド樹脂前駆体などの f½5化性樹脂が好ましく使用される。 このような熱 硬ィ匕性樹脂は、 溶媒中に溶解もしくは分散されており、 スクリーンマスクを用 いてスキージ一による塗布が可能なように、通常は 1 0〜4 OPa-s,好ましく は 2 0〜3 0 Pa's の範囲内の粘度に調整されている。
図 1〜 3においては、 ソルダーレジスト層 2 0を形成する領域は、 A区画 2 0 a、 B区画 2 0 b、 C区画 2 0 c、 D区画 2 O dを併せた領域であるが、 従来は これらの領域を一体としてソルダーレジストを塗布していた。 しかしながら、 このように広範囲にソルダーレジストを塗布し、 硬ィ匕させると、 樹脂が硬化す る際に硬化収縮し、 個々のフィルムキャリア 1 2に、 図 4に示すようにソルダ 一レジスト層 2 0を内側にした反り変形が生ずる。
本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープでは、 上記のようなソルダ 一レジストを塗布すべき領域を複数に分割して、ソルダーレジストを塗布する。 すなわち、 図 1および 3において、 ソルダ一レジストを塗布すべき領域は、 A 区画 2 0 a、 B区画 2 0b、 C区画 2 O cおよび D区画 2 O dを併せた領域であ るが、 図 1および図 3に示す例では、 この領域を 4分割してそれぞれの区画を 隣接する区画から独立させてソルダーレジストを塗布し、 硬化させて 4区画に 分割されたソルダーレジスト層 2 0を形成している。 なお、 フィルムキヤリァ の縦、 横サイズが 5 mm未満の場合には問題となる程のそり変形は生じない場 合が多いので、 本発明はフィルムキャリアの縦 ·横サイズが 5 mm以上である フィルムキャリアにおいてソルダーレジストを分割形成することが好ましレヽ。 このようにソルダーレジスト層を分割することにより、 それぞれの区画内に はソルダーレジス卜の硬ィ匕収縮による応力は発生するが、 その応力は小さく、 絶縁フィルムおよびその上に形成されてレ、る配線パターンなどに内在する応力 と拮抗させることにより、 そのフィルムキャリア内における変形を最小限に留 めることができる。
このような効果は、 幅方向に 1個のフィルムキャリア 1 2が形成されている 場合であっても同様に奏される。
このようなソルダーレジスト層 2 0はフィルムキャリアのサイズ、 絶縁フィ ルム、 ソルダーレジスト、 その他の材料の物性値にもよるが、 2〜: 1 6分割す ることが好ましく、 さらに 2〜8分割することが特に好ましい。 このようにソ ルダーレジスト層 2 0を分割することにより、 それぞれの区画におけるソルダ 一レジストの硬化による収縮応力が小さくなり、 フィルムキヤリァ全体の変形 も小さくなる。 なお、 分割後のソルダーレジストのサイズは、 絶縁フィルム、 ソルダーレジストなどの物性値が複雑に絡み合つているので、 1辺のサイズを 必ずしも 5 mm未満にする必要はなレ、。
本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープ 1 0においてはソノレダーレ ジスト層 2 0を分割および/または分画する各区画の形状おょぴ相対的な大き さに特に制限はないが、 ソルダーレジストが塗布される領域をできるだけ均等 に分割できるようにすることが好ましい。 それぞれの区画に生ずる応力を均一 化することにより、フィルムキャリア全体の変形がより小さくなる。すなわち、 それぞれの区画の面積を均等にすること共に、 それぞれの区画の形態は略同一 とすることが好ましレ、。本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープでは、 区画されたソルダーレジストの各区画の一辺の長さを 2〜1 O mm程度、 好ま しくは 2. 5〜7. 5 mm程度にすることが望ましい。
本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープにおいて、 ソルダーレジス ト層を分割およびンまたは分画して形成するフィルムキヤリァは、 上述のよう な CSPあるレ、は BGAなどに限定されるものではなく一般的な TABテープに も適用できる。 例えば、 図 5 (a)および (b ) に示すように、 形成された配線パ ターン (端子部分を除く) の 3 0 %以上の領域にソルダーレジスト層を形成す る電子部品実装用フィルムキャリアテープに適用することができる。 図 5 (a) にはデパイスホールのある絶縁フィルム 1 1の表面に形成された配線パターン 1 5にソルダーレジスト層を 1 2分割して形成した例が示されている。 なお、 図 5 (a)に記載された配線パターンは一例であり、本発明における配線パターン を限定するものではない。 また、 図 5 (b)には、 ソルダーレジスト層 2 0を二分 割した例が示されており、 図 5 (b)において、 絶縁フィルム 1 1の表面には配,線 パターンが形成されている図 5 (b)では配線パターンは省略されている。例えば、 図 5 (a),(b)に示すように、 接続端子部分を除く配線パターン領域の 3 0 %以上 にソルダーレジスト層を形成する電子部品実装用フィルムキヤリァテープにお いて有用である。
また、図 6 (a),(b)に示すように、上記のように分割された区画の間の距離 (W) は、 隣接する区画内部に発生する応力が伝達されないように適宜設定すること ができる力 通常は 2 0 !〜 5 O mm、 好ましくは 2 0 μ π!〜 3 mmの範囲 内の値に設定する。 上記のように区画間の距離を設定することにより、 各区画 内部の応力が隣接する区画に伝達することがなく、 また各区画間にある配線パ ターンの保護にも特に問題は発生しない。 また、 それぞれの区画は、 その形状 が近似するように形成することが望ましい。区画の形状が近似することにより、 それぞれの区画にぉレ、て発生する内部応力を均一化するために、 フィルムキヤ リァ全体の変形が小さくなる。
上記のように分割あるいは分画されたソルダーレジスト層の厚さ (h o) は、 従来のソルダーレジスト層の厚さと同様であり、 硬化後の平均厚さは配線パタ ーンの上面にぉレ、て通常は 3〜 5 0 m、 好ましくは 5〜4 0 μ mの範囲内に ある。 また、 本宪明の電子部品実装用フィルムキャリアテープにおいて、 ソル ダーレジスト層 2 0は、 図 6(a)に示すように分割あるいは分画されており、 隣 接する区画との間に上記のようなソルダーレジスト層が形成されていない部分 を有する力 それぞれの区画に生じた内部応力が隣接する区画に伝達しなけれ ばよく、例えば図 6 (b)に示すように区画されたソルダーレジスト層 2 0が少な くとも一部で隣接するソルダーレジスト層の区画と連結され分画されていても よい。 この場合、 区画と区画との間のソルダーレジスト層の厚さ (h は、 ソ ルダーレジスト層の通常の厚さ (h o) の 1/2以下であり、 h iは 0であっても よい。
こうした区画されたソルダーレジスト層 2 0を形成には、 従来のスクリーン に区画に対応するようにマスキングを形成して樹脂を塗布すればよい。 また、 近時採用され始めている貼着タイプのソルダーレジストの場合には、 間隙を形 成してソルダーレジストを貼着すればよい。 さらに、 感光性樹脂を用いたソル ダーレジストの場合には、 樹脂を塗布した後、 ソルダーレジスト層が分割およ び Zまたは分画されるように露光 ·現像すればよい。 また、 区画間の少なくと も一部が連結されるように分画されたソルダーレジスト層はソルダーレジスト 塗布液を塗布する際に用いるスクリーンマスクの線幅を調整することにより形 成することができる。
上記のようにしてソルダーレジスト層を形成した後、 ソルダーレジスト層 2 0から露出した端子部分 (リード、 ボンディングパット、 その他) 1 6の表面 をメツキ処理する。 メツキ処理には、 錫メツキ、 ニッケルメツキ、 ニッケル- 金の多層メツキ、 ニッケノレ-パラジウム-金の多層メツキ、 ハンダメツキ、 錫-ビ スマスメツキなどがある。 なお、 分割されたソルダーレジスト層の間にある配 線パターンの表面には上記のメッキ層が形成されている。
なお、このメツキ処理は、ソルダーレジスト層を形成する前に行ってもよい。 上記のようにして製造された本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテー プは通常の方法により使用することができる。 例えば、 分割して形成されたソ ルダーレジスト層上に接着剤などを用いて電子部品 (図示なし) を配置し、 こ の電子部品に形成されたバンプ電極と接続端子 1 6との間に電気的接続を形成 することにより、 電子部品を実装することができる。 この電気的接続の形成に は、 例えば金線のような導電性金属線などを用いることができる。 なお、 本発 明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープにおいて、 実装する電子部品とキ ャリァテープとは略同等の占有面積を有しているが、 本発明はこのようなフィ ^^ムキャリアテープに限定されるものではない。
本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープに形成されている接続端子 1 6は、 配線パターン 1 5を介してハンダボールと接続している。
上記のように本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープは、 ソルダー レジスト層が分割あるいは分画されているので、 ソルダーレジストの硬化の際 の硬化収縮に起因するフィルムキャリアの反り変形を低減することができる。 本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープにおけるフィルムキヤリ了 の変形は、 次のようにして測定する。 図 4 (a)に示すように、 スプロケットホー ルを用いて移動させるフィルムキヤリァテープのスプロケットホールが形成さ れている部分を基準点として、 製造されたフィルムキヤリァテープにおける、 一つのフィルムキヤリァについて図 3に示す測定ボイント①〜⑤の基準点に対 する高さを測定する。 このような得られた値からこのフィルムキャリアテープ が図 4に示されているように変形していることを考慮して、 計算により測定し ようとするフィルムキャリア (ユニット) の①' (⑤,)、 ②' (④, )の値を求め る。 ①' =⑤' =((D+⑤)ノ2を求め、 同様に②, =④' = (② +④) Z 2を求め る。
そして、 本発明におけるユニット反りは、 ①, 一③または②' ー③の値のう ち大きいほうが本発明における反り変形である。
上記のようにしてソルダーレジスト層を分割あるいは分画することにより、 フィルムキャリアの反り変形は、 分割あるいは分画されてレ、ないソルダーレジ スト層を有するフィルムキャリアの反り変形の 5 0 %以下になる。 上記のように本発明の電子部品実装用フィルムキヤリァテープでは、 ソルダ 一レジスト層を分割あるいは分画して形成することにより、 フィルムキャリア の反り変形が低減され、 信頼性の高い電子部品実装用フィルムキヤリァテープ が得られる。 産業上の利用可能性
本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、 ソルダーレジスト層が 複数に分割あるいは分画されているために、 ソルダーレジストインクが硬化す る際の収縮に伴う応力が分散される。 このため本発明の電子部品実装用フィル ムキャリアテープでは、 ソルダーレジスト層の硬化収縮によるフィルムキヤリ ァの反り変形は著しく低減され、 電子部品の実装精度が確実に向上する。
特に本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープは、 CSP、 COF、 BGA などとして特に有用' I"生が高い。
実施例
次に本発明の電子部品実装用フィルムキャリアテープについて、 実施例を示 して、 反りの発生しやすい、 接続端子以外の配線パターン全面にソルダーレジ ストを形成する場合と比較しつつ、 説明するが、 本発明はこれらによって限定 されるものではない。 実施例 1
平均厚さ 5 0 μ ηι、 幅 4 8 mm のポリイミ ドフィルム (宇部興産 (株) 製、 商品名:ユーピレックス S) にスプロケットホールおよびハンダボールを配置 するためのハンダポール穴をパンチングにより穿設した。 このポリイミドフィ ルムには、 図 1に示すように、 一辺が 1 7mmのフィルムキャリアが二列形成 できるようにハンダボール穴を穿設した。
次いで、 このポリイミ ドフィルムに平均厚さ 2 5 μ πιの電解銅箔を貼着し、 この電解銅箔上に感光性樹脂を塗布し、露光'現像した。 こうして現像された感 光性樹脂からなるパターンをマスキング材として、 電解銅箔を選択的にエッチ ングすることにより銅からなる配線パタ一ンを形成した。
このようにして形成された配線パターンの表面にソルダーレジストインクを 塗布して加熱硬化させることによりソルダーレジスト層 (硬化後の平均厚さ : 1 0 i m) を形成した。 ここで形成されたソルダーレジスト層は、 スクリーン にマスクを形成することにより、 図 1に示すように、 4分害 ijされており、 各区 画の間には 2 0 0 μ πιの幅でソルダーレジストが塗布されていない部分 (区画 部分) が存在する。
こうして 4分割されたソルダーレジスト層を形成した後、 ソルダーレジスト 層により被覆されていない接続端子およびソルダーレジスト層の区画部をニッ ケルメツキ後、 金メツキ処理し、 さらにフィルムキヤリァテープ全体に常法に 従って反り取りを行った。
得られた電子部品実装用フィルムキヤリァテープ長さ方向の中心部分に近い 部分に形成されたフィルムキャリアを無作為に連続 6列 1 2個選択して、 これ らのフィルムキャリアにつレ、て反り変形を測定した。
結果を表 1に示す。 なお、 表 1において上段、 下段と記載したのは、 このフ イルムキヤリァテープを図 1に示すように配置した際に上側になるフィルムキ ャリアと下側になるフィルムキャリアとを区別するためのものであり、 本努明 の電子部品実装用フィルムキヤリァテープの製造工程におけるテープの向きと は無関係である。 表 1
Figure imgf000018_0001
比較例 1
実施例 1において、 ソルダーレジスト層を分割しなかった以外は同様にして 電子部品実装用フィルムキヤリァテープを製造した。
得られた電子部品実装用フィルムキヤリァテープについて、 実施例と同様に して無作為に連続 6列 1 2個のフィルムキャリアを選択して、 これらのフィル ムキャリアの反り変形を測定した。
結果を表 2に記載する。 表 2
Figure imgf000018_0002
上記表 1と表 2とを比較すると明らかなように、 ソルダーレジスト層を 4分 割する ςとにより、 フィルムキャリアの反り変形量を平均値で半分以下に低減 することができる。

Claims

言青求の範囲
1 . 長尺の絶縁フィルムの表面に導電性金属からなる多数の配線パター ンが形成されてなる電子部品実装用フィルムキヤリァテープにおいて、 該それぞれの配線パターンが、 接続端子部分を除いて、 それぞれ独立に、 ソ ノレダーレジスト層により被覆されており、 かつそれぞれの配線パターン表面に 形成されたソルダーレジスト層が、 複数個に分割および Zまたは分画されてい ることを特徴とする電子部品実装用フィルムキヤリァテープ。
2. 長尺の絶縁フィルムの表面に導電性金属からなる多数の配線パター ンが形成され、 かつ該配線パターンが該長尺の絶縁フィルムの幅方向に少なく とも 2個併設されてなる電子部品実装用フィルムキヤリァテープにおいて、 該それぞれの配線パターンが、 接続端子部分を除いて、 それぞれ独立に、 ソ ルダーレジスト層により被覆されており、 かつそれぞれの配線パターン表面に 形成されたソルダーレジスト層が、 複数個に分割および Zまたは分画されてい ることを特徴とする電子部品実装用フィルムキャリアテープ。
3 . 前記それぞれの配線パターン表面に、 ソルダーレジスト層が 2〜 1 6に分割および/または分画されて形成されていることを特徴とする請求項第 1項または第 2項記載の電子部品実装用フィルムキヤリァテープ。
4 . 上記一のフィルムキャリアにおいて、 分割あるいは分画されたソル ダーレジスト層と、 該分割あるいは分画されたソルダーレジスト層の区画に隣 接するソルダーレジスト層の区画との間隙が 2 0 μ ιη〜5 O mmの範囲内にあ ることを特徴とする請求項第 1項または第 2項記載の電子部品実装用フィルム ープ。
5 . 前記長尺の絶縁フィルムの厚さが 7 5 μ m以下であることを特徴と する請求項第 1項または第 2項記載の電子部品実装用フィルムキヤリァテープ。
6 . 前記 1個のフィルムキャリアの占有面積と該フィルムキャリアテー プに実装される電子部品との面積が略同一であることを特徴とする請求項第 1 項または第 2項記載の電子部品実装用フィルムキヤリァテープ。
7 . 前記フィルムキヤリァの電子部品を実装する配線パターンが形成さ れた絶縁フィルム表面側とは反対の絶縁フィルム面に、 該フィルムキヤリアの 外部と電気的に接触するための金属球が配置可能に形成されていることを特徴 とする請求項第 1項または第 2項記載の電子部品実装用フィルムキヤリァテー プ。
8. 前記配線パタ一ンの表面に塗設されたソルダーレジスト層の硬化後 の配線パターン上における区画部分以外の平均厚さが 3〜 5 0 μ mの範囲内に
'あることを特徴とする請求項第 1項または第 2項記載の電子部品実装用フィル ムキャリアテープ。
9. 前記ソノレダーレジスト層が、 接続端子部分を除レヽて配線パターン領 域部の 2 0 %以上に形成されていることを特徴とする請求項第 1項または第 2 項記載の電子部品実装用フィルムキヤリァテープ。
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