WO2002024605A1 - Procede pour renforcer une ceramique et produit ceramique - Google Patents

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WO2002024605A1
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ceramic
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ceramics
heat treatment
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Hiroyasu Saka
Syoji Uchimura
Hideki Morimitsu
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Sintokogio, Ltd.
Sinto V-Cerax, Ltd.
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    • C04B41/91After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics involving the removal of part of the materials of the treated articles, e.g. etching

Definitions

  • the present invention relates to a method for overcoming "brittleness", which is the greatest disadvantage of ceramics, and in particular, to a method for significantly improving fracture toughness. More specifically, the present invention relates to heat engine parts such as gas turbines and automobiles, element parts for mechanical structures such as panels and gears, and furthermore to simple parts such as silicon wafers, yttrium aluminum garnets (YAG) and sapphires. To significantly improve the mechanical properties of sensors, actuators, and micromachine parts using crystalline materials and polycrystalline materials such as barium titanate and lead zirconate titanate (PZT) to provide reliability.
  • PZT barium titanate and lead zirconate titanate
  • the present invention relates to a method useful for the above and a ceramics product produced by using the method.
  • ceramic members are brittle and hard materials. Its fracture toughness is smaller than that of metal, and is 1/10 to 1 2 of metal. Therefore, the mechanical reliability is extremely poor in practical use compared to metals.
  • Ceramic sintered bodies usually have surface defects due to various causes (such as micro cracks during molding and uneven shrinkage during firing) that occur during the manufacturing process. This surface defect may be the starting point of destruction, and it is desirable that it does not exist.
  • This surface defect may be the starting point of destruction, and it is desirable that it does not exist.
  • it is difficult to form a sintered body without surface defects, and it is also very difficult to find these fine defects by nondestructive inspection. Therefore, in order to improve the mechanical reliability of ceramic products, a method for removing surface defects of a sintered body has been employed.
  • volume shrinkage during firing is unavoidable due to its manufacturing method, and it is difficult to produce a sintered body having excellent dimensional accuracy.
  • Grinding has been used to remove surface defects of the sintered body and improve dimensional accuracy. C
  • fine cracks may occur during machining such as grinding.
  • the method of mechanically removing surface defects after sintering has a problem that the processing cost is large.
  • oxide-based sintered bodies such as alumina and zirconia do not have sufficient healing effects because almost no oxide film is formed.
  • the present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and an object of the present invention is to improve the properties and reliability of a product, and in particular, to a method for improving the toughness of ceramics, which dramatically improves fracture toughness, and An object of the present invention is to provide a ceramic product manufactured by such a method.
  • the method for toughening and modifying the ceramic of the present invention is as follows.
  • C) removing a part of the surface modification layer having dislocation cells of the ceramic sintered body that has been subjected to the heat treatment in step b), a method for modifying the toughness of ceramics, are within the scope of the present invention.
  • a method for modifying the toughness of ceramics, comprising a step of removing a part of the modified layer is within the scope of the present invention.
  • the shot blast can plastically deform the crystal structure of the ceramic surface to impart residual stress. Furthermore, by heat-treating the sintered body at a temperature equal to or lower than the sintering temperature, ceramics in the vicinity of the microcracks can be recrystallized, and dislocation cells can be formed at the crystal grain boundaries, and the recrystallized structure can be obtained. Has been found to be finer, and the fracture toughness has been significantly improved. Then, they found that if the plastically deformed microstructure was cured by heat treatment, the reliability of the ceramic product in practical use could be significantly improved.
  • the sintered body is a substrate, a chip, a thin plate, a foil, or a flat plate, it is preferable to apply a residual stress by performing a shot blast treatment on both surfaces of the sintered body.
  • the temperature of the heat treatment is a crack healing temperature.
  • the crack healing temperature means that atoms near the microcracks diffuse and at least a part of the microcracks are burned off and healed, and the dislocations introduced near the microcracks become stabilized rearrangements. More specifically, it means to cause polygonization and form sub-grain boundaries.
  • ceramics products manufactured by the method for modifying toughness of ceramics according to any of (1) to (5) above. Is within the scope of the present invention. In such a product, one of the properties of fracture toughness, wear resistance, fatigue strength, thermal shock resistance, and thermal fatigue resistance is improved as compared with the untreated ceramics sintered body.
  • Products are within the scope of the present invention.
  • a method for modifying the toughness of ceramics and ceramic products (including parts and members) manufactured by this method are also within the scope of the present invention. Detailed description of the invention ''
  • the material of the ceramics used in the present invention silicon nitride, silicon carbide, alumina ceramics, and silicon wafers, titanium aluminum gamut, gallium arsenide, silicon germanium, sapphire, single crystal alumina, etc.
  • polycrystalline materials such as crystallite, barium titanate, lead zirconate titanate (PZT), and aluminum nitride.
  • the ceramic products (including parts and members) of the present invention include mechanical structural element parts such as springs, blades, gears, and bearings, engine engines for automobiles, and heat engines such as blades for gas turbines. Parts, semiconductor elements using single-crystal or polycrystalline materials, sensor elements, piezoelectric elements, micromachine parts, semiconductor substrates, electronic substrates, etc.
  • Step a is a shot blast treatment of the ceramic sintered body.
  • the amount of plastic deformation due to shot blasting is related to the shot blast conditions, especially the projection energy such as hardness, particle size, and collision velocity of the shot material, and greatly depends on the kinetic energy of the shot material at the time of collision.
  • the strength and fracture toughness of the ceramic sintered body can be controlled by the method of the present invention Larger orientation than when no treatment is applied Up.
  • the fracture toughness is improved, a synergistic effect is exhibited in which the thermal shock resistance, thermal fatigue resistance, and wear resistance are significantly improved.
  • the main steps in the manufacturing process of the ceramic product according to the present invention are raw material adjustment, molding, degreasing, sintering (machining), shot blasting, heat treatment, polishing, and ⁇ products.
  • the mechanical processing is arbitrarily performed.
  • the conditions for the shot blast treatment are such that a stress equal to or greater than the stress used is applied under the same load condition as that of the product, and a residual compressive stress is generated in the surface layer.
  • heat treatment promotes crack healing, and in particular, improves fatigue strength.
  • the target product is a thin-walled element or substrate
  • the plastic deformation is excessive depending on the blasting conditions and the residual stress is hardly applied.
  • the crack healing temperature that is, the temperature at which recrystallization starts (for example, the temperature at which the sintering temperature and the solidification start temperature are 1 to 2 or more) Specifically, the range of 100 ° C. to 160 ° C. is suitable.
  • Heat treatment shall be performed in air, vacuum, or inert gas. Particularly when performed in the atmosphere, the effect of improving strength is large.
  • the material surface layer When heat treatment is performed after the shot-plast treatment, the material surface layer is plastically deformed to form a dislocation cell structure, and a surface layer made of fine crystals is formed by static recrystallization. It is thought that such re-formation of the surface layer improves fracture toughness and strength, and further improves mechanical properties such as fatigue strength and wear resistance, thermal shock resistance properties, and thermal fatigue resistance properties.
  • the dislocation cells are formed primarily by plastic deformation and secondarily by heat treatment.
  • the polishing treatment is performed to remove a part of the surface modified layer because dents and bumps and an oxide film are generated on the surface by the blast treatment and the heat treatment.
  • the thickness of the surface modified layer on which the dislocation cells are formed is several tens of meters to several hundreds of micrometers. Therefore, there is an optimum value for the removal thickness of the rough surface layer, oxide film, and the like. This is because if all of the surface-modified layer is removed, will the toughening effect be eliminated? It is.
  • the thickness of the removal layer is such that the surface that has been roughened by the blast treatment is flattened, that is, preferably several tens / m to several hundred m, and more preferably about 50 m to about 20 m.
  • Fracture toughness means resistance to crack elongation, and physical quantities such as fracture toughness (K 1 C), hardness, and Young's modulus can be used as the index. It is preferable to use the hardness that can be measured most easily as the index. '
  • a material of the blast material used for the shot blast treatment in the step a for example, mullite, SiC, carbide, alumina, zirconia, glass, and the like are given.
  • the shape of the blast material it is preferable that the shape is as spherical as possible so as not to damage the processed material.
  • the shot material is selected and used according to the material and hardness of the ceramic sintered body. Shot blast, air blast, and liquid honing can all be used to cause the shot material to collide with the sintered body surface. In the air blast treatment, air or an inert gas is used as a medium, and in the liquid honing treatment, water is usually used as a medium.
  • the conditions of the shot blasting process depend on the hardness of the shot material, the particle size, the collision velocity, etc., and greatly depend on the kinetic energy of the particles at the time of collision.
  • the kinetic energy of the particles is converted into the plastic deformation, elastic deformation, and fracture energy of the workpiece or the particles, and the frictional energy between the workpiece and the particles.
  • a preferable shot blasting treatment is that the unevenness of the surface layer, that is, the surface roughness is small, and the thickness of the plastic deformation layer (residual stress layer) can be increased, but these conditions are selected under appropriate conditions for each material. There is a need to.
  • the toughness of ceramics which is simpler and more economical than that of the conventional method can be realized. That is, the ceramics sintered body is plastically deformed by shot blast to give a residual stress to the surface structure of the sintered body, further subjected to a heat treatment, and flattened the surface on which the microcracks are recrystallized.
  • the toughening of the ceramics can be achieved by the polishing process.
  • the present invention is suitable for improving the toughness of a ceramic component used as a functional material such as a thin film substrate and a sensor.
  • the ceramics near the microcracks can be recrystallized by the heat treatment, thereby reducing the microcracks in the surface structure. it can. Thereby, the crack is cured and the sintered body is strengthened.
  • the dents and projections and the oxide layer are polished on the modified surface having the dislocation cells formed in steps a and b, so that the mechanical properties of the ceramic product are improved. Is improved.
  • the ceramic sintered body of the present invention is shot blasted at room temperature and then heat-treated, the crystal structure on the surface of the ceramic sintered body is plastically deformed, and after the residual stress is applied. Since the heat treatment causes recrystallization of the ceramics near the microcracks, dislocation cells are formed at the crystal grain boundaries, the crystals are refined, and the fracture toughness is significantly improved. By removing a part of the surface modified layer after the heat treatment, the mechanical strength is remarkably improved.
  • the test material was machined to a size of 3 mm X 4 mm X 40 mm according to the JIS standard to produce a bending test piece.
  • the bending test was performed according to JIS-R-161 (three-point bending test).
  • the fracture toughness value was determined by measuring the crack length of the Vickers indenter by changing the indentation load condition with a Vickers hardness tester. That is, it was determined by performing a fracture toughness test (IF method) according to JIS-R-1607.
  • the optimum value was selected according to the type of the material, and was set to l kgf, 2 kgf, 5 kgf, or 1 O kgf.
  • the load holding time was 20 seconds.
  • the heat treatment temperature was 1200 ° C. to 1400 ° C.
  • the holding time was 1 hour
  • the atmospheric conditions were air or vacuum
  • the heating rate was 10 ° C./min.
  • oxidation of silicon nitride proceeds when heated to more than 1 000 ° C in the atmosphere, Below, oxidation is at a level that does not affect material properties. If problems occur, heat treatment may be performed in nitrogen gas or inert gas.
  • the specimen surface was sequentially polished with # 600, # 1 000, and # 3 000 diamond polishing paper and mirror-polished to a surface roughness of 0.2 S or less.
  • the test was performed as an evaluation test piece.
  • the amount of plastic deformation was measured by measuring the maximum amount of deformation of the test specimen that became convex using a laser microscope.
  • Specimen No. 1 Alumina ceramic material (alumina purity: 9 2%)
  • Specimen No. 2 Alumina ceramic material (alumina purity: 99.5%)
  • Specimen No. 3 Alumina ceramic material (alumina purity: 9%) 9. 9 9%)
  • Test material No. 4 Silicon nitride ceramic material (Carbon nitride (Refceram SN1 manufactured by Fine Ceramics Center Co., Ltd. SN1: Sintering aid (Ce + Mg0))
  • Test material N 0.5 Silicon nitride (Shinto V CELLAX: Sintering aid (Y203 + A1203))
  • Test material No. 6 Aluminum nitride material (Sintering aid (Y203) type)
  • test material No. 2 alumina 99.5%
  • test material No. 5 silicon nitride
  • test pieces size: width 5 mm x length 80 mm x thickness 0.3 mm.
  • the amount of plastic deformation and the fracture toughness after heat treatment were compared between the case where only one surface of the 5 thigh X80 thigh was blasted from the direction perpendicular to the surface (thickness direction) and the case where both surfaces were blasted.
  • the results are shown in Table 1.
  • the shot blasting conditions were as follows: mullite particles (CeraBears 60, # 1700: manufactured by Naigai Ceramics Co., Ltd.) and carbide particles (ST-160, manufactured by Shinichi Bray Yuichi) in the atmosphere and in the air.
  • test materials No. 1 to 6 Six types of test materials No. 1 to 6 were evaluated.
  • the specimen was machined to a size of 3 mm x 4 mm x 40 mm in accordance with the JIS standard to produce a bending test specimen (4 mm x 40 mm surface in the direction of the specimen thickness (3 mm)). Only one side was subjected to shot blasting, heat treated in the air, and further polished to obtain an evaluation sample.
  • Example No. 7 Effect of confection Silicon wafers (sample No. 7) and single crystal alumina (sample N 0. 8) was used.
  • the specimen size was 10 mm X 10 mm.xl. 'Omm. Only one side of 1 mm x 100 m in the thickness direction was shot blasted.
  • the silicon wafer was heat-treated in a vacuum furnace, the single-crystal alumina was heat-treated in the air, and the fracture toughness of the polished specimen was measured. The results are shown in Table 3.
  • the strength of the sample subjected to the blast treatment and the heat treatment is lower than that of the sample not subjected to any treatment (untreated).
  • the strength was restored.
  • the shot material bites into the surface of the sintered body, and dent scratches are observed. These dents greatly affect the bending strength, and the strength has been greatly improved by polishing.
  • the bite of the shot material may be removed by projecting a fine shot material before the heat treatment.
  • Example 5 The toughness of the h3 ⁇ 4r ⁇ effect on the ledge direction The value of the polishing removal allowance
  • JIS bending test pieces were prepared using the test materials No. 5 and No. 2. These The test piece was subjected to a plast treatment using zirconia beads having an average particle diameter of 50, and then subjected to ⁇ 300. Heat treatment was performed for 1 hour at C. The surface roughness of the treated surface before and after the blast treatment and the bending strength with and without the polishing treatment were measured. Table 6 shows the results.

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Description

明 細 書 セラミックスの強靭化改質方法及びセラミックス製品 枝術分野
本発明は、 セラミックスの最大の欠点である 「脆さ」 を克服する方法、 特に、 破壊靱性を大幅に向上させる方法に関する。 より詳しくは、 本発明 は、 ガスタービン、 自動車などの熱機関部品、 パネ、 歯車など機械構造用 要素部品、 さらには、 シリコンウェハ、 イッ トリウムアルミニウムガ一ネ ヅ ト(YAG)、 サフアイャなどの単結晶素材や、 チタン酸バリウム、 チタン 酸ジルコン酸鉛(PZT)などの多結晶素材を用いたセンサー、 ァクチユエ一 夕素子、マイクロマシン部品の機械的特性を大幅に向上させ、信頼性を付 与するために有用な方法及び当該方法を用いて製造されるセラミヅクス 製品に関する。
閱連 術の ¾?, ¾
一般に、 セラミック部材 (製品) は脆くて硬い材料である。 その破壊靱 性は金属に比べ小さく、金属の 1 / 1 0乃至 1ノ 2の大きさである。その ため、 実用上では機械的信頼性が金属に比べ極めて劣つている。
セラミックス部材 (製品) の機械的信頼性が極めて低い要因として、 そ の表面の欠陥の存在が挙げられる。そのような表面欠陥は、機械的特性に 大きく影響を及ぼすことが知られている。セラミックス焼結体は、製造ェ 程中に発生す.る種々の原因 (成形 '乾燥時のマイクロクラック、焼成時の 収縮むら.など)により表面欠陥を内在しているのが通常である。 この表面 欠陥は破壊起点となる場合もあり、存在しないことが望ましい。 しかし表 面欠陥が生じないように焼結体を形成することは現時点では困難であり、 この微細な欠陥を非破壊検査によって見つけることも非常に困難である。 そこで、従来より、セラミックス製品の機械的信頼性を向上させるため、 焼結体の表面欠陥を除去する方法が採用されてきた。即ち、 セラミックス 焼結体の製造に際しては、その製法上、焼成時に体積の収縮が避けられず、 よって、 寸法精度に優れた焼結体を作製することが難しいため、焼成後の 焼結体を研削加工して焼結体の表面欠陥を除去し、寸法精度を高めてきた c しかしながら、研削等の機械加工時には微細なクラックが生じることがあ る。更に、 焼結後に機械的に表面欠陥を除去する方法は、 加工コストが大 きいという問題もあった。
他の方法として、 再度焼成して、 即ち、 高温熱処理を行って表面欠陥を 治癒させる方法が知られている。 この方法は、酸化膜が形成されやすい非 酸化物系焼結体に対しては効果的であるが、 アルミナ、 ジルコニァなどの 酸化物系焼結体では、酸化膜がほとんど形成されないために十分な治癒効 果が得られていない。
さらに、 表面欠陥治癒のため、焼結体をその破壊靱性が増大する温度に 加熱した状態で砥粒を用いてブラスト加工する方法がある。この方法では、 表面は治癒され得るが、結晶微構造を改質する効果は発現されない。また、 この方法は、高温でブラスト加工しなければならないため、 操作性に難か しさがあり、 コストが高くなる欠点があった。
一方、原料組成の改良により破壊靱性を向上させる試みもなされている < 即ち、 最適な焼結助剤を選定し、 その添加量を精密制御する方法、 種結晶 を添加して結晶微構造を制御する方法が提案されている。 しかし、破壊靱 性値として金属レベル( 1 5以上)の値を示すセラミヅクス焼結体は見出 されていない。
発明の概要
本発明は、 上記した従来技術の問題点に鑑みなされたものであり、 その 目的は、製品の特性および信頼性の向上、特に破壊靱性を飛躍的に向上さ せるセラミックスの強靭化改質方法及びそのような方法によって製造さ れたセラミヅクス製品を提供することにある。
上に示す目的を達成するために、本発明のセラミックスの強靱化改質方 法は、 .
( 1 ) セラミックス焼結体に、 ショッ トブラスト処理により残留応力を 付与する工程と、該セラミックス焼結体を再結晶させるための熱処理をす る工程と、これらの工程により生じた転移セルを有する表面改質層の一部 を除去する工程と、を具備することを特徴とするセラミックスの強靭化改 質方法、 である。
また、 a )セラミックス焼結体にショットブラスト処理を施して残留応 力を付与する工程と、 b )工程 aによる処理を受けたセラミックス焼結体 を熱処理して微小亀裂近傍のセラミックスを再結晶させる工程と、 c )ェ 程 bによる熱処理を受けたセラミックス焼結体の転位セルを有する表面 改質層の一部を除去する工程と、を含むことを特徴とするセラミヅクスの 強靱化改質方法、 は本発明の範囲内である。
更に、 a ) セラミヅクス焼結体に、 ショヅトプラスト処理を施して残留 応力を付与するか又は塑性変形により転位などの格子欠陥を導入するェ 程と、 b )工程 aによる処理を受けたセラミヅクス焼結体を熱処理して微 小亀裂近傍のセラミックスを再結晶させ亜粒界を形成する工程と、 c )ェ 程 bによる熱処理を受けたセラミックス焼結体の転位セルを有する表面 改質層の一部を除去する工程と、を含むことを特徴とするセラミックスの 強靱化改質方法、 は本発明の範囲内である。
本発明者らは、ショッ トブラストによりセラミックス表面の結晶組織を 塑性変形させ、 残留応力を付与させることができることを見出した。 さら に、焼結体を焼結温度以下の温度で熱処理することにより、 微小亀裂近傍 のセラミックスを再結晶させることができ、その結晶粒界には転位セルを 形成させることができ、再結晶組織が微細化して破壊靱性が格段に向上す ることを見出した。そして、 塑性変形させた組織を熱処理により亀裂治癒 させれば、セラミック製品の実用上での信頼性を格段に向上させることが 出来ることを見いだした。
( 2 )前記焼結体がショッ トブラスト処理により塑性変形し過ぎる場合 には、 ブラスト面の反対側もブラスト処理することにより、 残留応力を付 与することが容易となる。即ち、請求項 4は、本発明の範囲内である。 尚、 ブラス ト処理方法は、 一度に両面をブラストしても良く、 順次片面づっシ ョヅ トブラス トしてもよい。 また、 焼結体又は製品の一部のみに、 塑性変 形し過ぎる部分がある場合には、その部分だけ両面ブラスト処理を行えば よい。
( 3 ) 前記焼結体が、 基板、 チップ、 薄板、 箔、 又は平板である場合に は、該焼結体の両面にショッ トブラス ト処理をして残留応力を付与するこ とが好ましい。
( 4 ) 上記 ( 1 ) 乃至 ( 3 ) のいずれかに記載の方法であって、 前記熱 処理をする温度が亀裂治癒温度であることを特徴とするセラミックスの 強靱化改質方法は、 本発明の範囲内である。 ここで、 亀裂治癒温度とは、 微小亀裂の近傍の原子が拡散して微小亀裂の少なく とも一部が焼失して 治癒されるとともに、微小亀裂の近傍に導入された転位が安定化再配列に より、 ポリゴニゼ一シヨンを起こし、 亜粒界を形成することをいう。
( 5 ) 上記 ( 1 ) 乃至 (4 ) のいずれかに記載のセラミックスの強靱化 改質方法であって、 前記表面改質層の一部を除去する工程が、 ショッ トブ ラスト処理及び熱処理により改質され、転位セルを生じた部分を外表面か ら、 (数〃 m〜数百/ m)研磨処理することを特徴とするセラミックスの 強靱化改質方法は、 本発明の範囲内である。 尚、 研磨処理方法としては、 バレル研磨、 バフ研磨、 ホーニング、 ポリツシングなどが挙げられるが、 研磨できればその方法は問わない。製品の種類等に応じて研磨方法を選択 する。
( 6 ) また、 上記 ( 1 ) 乃至 ( 5 ) のいずれかに記載のセラミックスの 強靱化改質方法により製造されたセラミヅクス製品 (部品及び部材も含 む) は、 本発明の範囲内である。 そのような製品では、 未処理のセラミヅ クス焼結体と比べて、 破壊靱性、 耐摩耗性、 疲労強度、 耐熱衝撃性、 耐熱 疲労性のいずれかの性質が向上されている。
( 7 ) 更に、 a ) セラミヅクス焼結体に、 平均粒子径が 1 0 0 z m以下 の微細粒子からなる投射材を用いて、ショッ トブラスト処理を施して残留 応力を付与する工程と、 b )工程 aによる処理を受けたセラミックス焼結 体を熱処理して微小亀裂近傍のセラミックスを再結晶させる工程と、を含 むことを特徴とするセラミックスの強靱化改質方法、及びこの方法により 製造されたセラミックス製品 (部品及び部材も含む)、 は本発明の範囲内 である。
また、 a ) セラミックス焼結体に、 平均粒子径が 1 0 0〃m以下の微細 粒子からなる投射材を用いて、ショッ トプラスト処理を施して残留応力を 付与するか又は塑性変形により転位などの格子欠陥を導入する工程と、 b )工程 aによる処理を受けたセラミックス焼結体を熱処理して微小亀裂 近傍のセラミックスを再結晶させ亜粒界を形成する工程と、を含むことを 特徴とするセラミックスの強靱化改質方法、及びこの方法により製造され たセラミックス製品 (部品及び部材も含む) も本発明の範囲内である。 発明の詳細な説明 '
ここで、本発明において使用するセラミックスの材質として、窒化珪素、 炭化珪素、 アルミナセラミックス、 及びシリコンウェハ、 ィヅトリウムァ ルミ二ゥムガ一ネヅ ト、 ガリゥム砒素、 シリコンゲルマニウム、 サフアイ ャ、 単結晶アルミナなどの単結晶素 、 更に、 チタン酸バリウム、 チタン 酸ジルコン酸鉛 (P Z T ) 、 窒化アルミニウムなどの多結晶素材がある。 また、 本発明のセラミックス製品 (部品及び部材も含む) としては、 ばね 類、 刃物類、 歯車類、 軸受け類などの機械構造用要素部品、 自動車のェン ジンバルブ、 ガスタービンのブレードなどの熱機関部品、 さらに、 単結晶 素材又は多結晶素材を用いた半導体素子、 センサ一素子、 圧電素子、 マイ クロマシン部品、 半導体基板、 電子基板などがある。 本発明は、 特に、 セ ンサ一、 半導体基板などの薄肉な部品の機械的特性の向上に有効である。 工程 aは、 セラミックス焼結体のショヅ トブラスト処理である。 ショッ トブラスト処理による塑性変形量は、 ショットブラスト条件、 特に投射材 の硬さ、 粒径、 衝突速度などの投射エネルギーに関連し、 投射材の衝突時 の運動エネルギーに大きく依存する。
さらに、 工程 bの熱処理の条件、工程 cの製品表面の表面改質層の除去 の条件、 例えば、 研磨処理条件を適切に選べば、 セラミックス焼結体の強 度、破壊靱性が本発明方法による処理が施されない場合と比べて大きく向 上する。破壊靱性が向上すると、 派生的に耐熱衝撃性、 耐熱疲労性、 耐摩 耗性などが大幅に改善されるシナジー効果が発現される。
以下に、 本発明の好適な実施形態について説明する。
本発明にかかるセラミックス製品の製造工程の主な工程は、原料調整 成形 加工 脱脂 焼結 (機械加工 ) ショッ トブラスト処理 熱処理 研磨処理→製品である。 ここで機械加ェは任意に実施する。
ショッ トブラスト処理条件は、製品の使用状態と同じ負荷状態で、使用 される応力と同等以上の応力を与え、表面層に残留圧縮応力を発現させる 条件が選定される。ショットブラストにより残留圧縮応力が付与された領 域は、 熱処理により亀裂治癒が助長され、 特に疲労強度が向上される。 尚、対象製品が薄肉品の素子や基板類の場合、 ブラスト処理条件によつ ては塑性変形し過.ぎて、残留応力が付与されにくいものがある。そのよう な場合には、 ブラスト処理条件の最適化は勿論重要であるが、 簡便な方法 として、両面をブラスト処理することにより、効果的な残留応力付与が可 能となる。即ち、焼結体がショットプラストにより塑性変形し過ぎる場合 には、 ブラスト面とその反対側もブラスト処理することにより、残留応力 を付与しやすい。
熱処理の際の温度条件としては、材料によつて適正な条件が異なるもの の、亀裂治癒温度、すなわち、再結晶が開始する温度(例えば、焼結温度、 凝固開始温度の 1ノ2以上の温度) で、 具体的には 1 0 0 0 °C〜 1 6 0 0 °Cの範囲が適している。熱処理は、 大気中、 真空中または不活性ガス中 で行うものとする。 特に大気中で行うと、 強度向上効果が大きい。
ショッ トプラスト処理した後、熱処理を行うと、材料表面層が塑性変形 して転位セル構造を形成し、静的再結晶により微細化した結晶からなる表 面層が形成される。 このような表面層の再形成により、破壊靱性及び強度 の向上、 ひいては疲労強度、 耐摩耗などの機械的特性や耐熱衝撃特性、 耐 熱疲労特性などが向上されるものと考える。尚、転位セルは 1次的には塑 性変形により、 2次的には熱処理により形成される。
また、 ショッ トブラストおよび熱処理による効果は、焼結体表面からの 深さ方向で数十 mから数百 mまでしか認められないが、本発明を厚さ が数百 z mの薄膜基板へ適用すると、 大きな効果が期待できる。
研磨処理は、ブラスト処理及び熱処理により表面に打痕凹凸傷や酸化膜 が生成されるため、 その表面改質層の一部を除去するために行われる。転 位セルが形成された表面改質層の厚みは、 数十 mから数百〃 mである。 したがって、 粗面層、 酸化膜などの除去厚さには最適値がある。 これは、 表面改質した層をすベて除去すれば、強靱化の効果は解消されてしまうか らである。除去層厚さは、 ブラス ト処理により凸凹になった表面を平坦化 する程度、 即ち、 数十/ m乃至数百〃 mが好ましく、 より好ましくは約 5 〃m乃至約 2 0 mである。但し、 投射材として 1 0 0 m以下の微細粒 子を用いた場合は、 打痕凹凸傷のない処理表面が得られる。 更に、 その後 の熱処理において酸化膜の生成が影響しない材質、或いは酸化膜が生成し ない条件であれば、研磨処理工程を省いても強靭化改質された焼結体が得 られる。
破壊靱性とは割れの伸長に対する抵抗を意味し、破壊靱性値(K 1 C )、 硬度、 ヤング率などの物理量をその指標として用いることができる。最も 簡単に測定できる硬度をその指標として用いるのが好ましい。 '
なお、 工程 aのショヅ トブラス ト処理に用いる投射材の材質としては、 例えばムライ ト、 S i C、 超硬、 アルミナ、 ジルコニァ、 ガラスなどがあ る。投射材の形状としては、 できる'だけ球状であることが処理物を傷つけ ないため好ましい。 投射材は、 セラミックス焼結体の材質、 硬さに応じて 選択して用いられる。 また投射材を焼結体表面に衝突させるには、 ショッ トブラスト、 エアブラス ト、 液体ホ一ニングのいずれも利用できる。 エアブラス ト処理では、 空気又は不活性ガスが媒体として用いられ、 液 体ホ一ニング処理では、 通常水が媒体として用いられる。
ショッ トブラス ト処理の条件は、 投射材の硬さ、 粒径、 衝突速度などに 依存し、粒子の衝突時の運動エネルギーに大きく依存する。粒子の持つ運 動エネルギーは、 被処理品或いは、 粒子の塑性変形、 弾性変形、 破壊エネ ルギ一、 また、 被処理品と粒子の摩擦エネルギー等へ変換される。 いずれ のブラス ト処理法においても被処理品に与えられる運動エネルギーが最 大になるように条件を設定する必要がある。そのために、 被処理品に対し 粒子を垂直投射することが重要である。 また、 好ましいショッ トブラス ト 処理は、 表面層の凹凸、 つまり表面粗さが小さく、 塑性変形層 (残留応力 層) の厚さを深くできることであるが、 これらは、 材料毎に適切な条件を 選定する必要がある。
発明の効菓
本発明 ( 1 ) によれば、 従来法と比較して、 簡便で経済性に優れたセラ ミヅクスの高靱化が実現される。即ち、 セラミヅクス焼結体にショッ トブ ラストにより塑性変形を起こさせて、焼結体の表面組織に残留応力を付与 する工程と、 さらに熱処理する工程、 及び微小亀裂が再結晶した表面を平 坦化するために研磨処理する工程により、セラミックスの強靱化を実現で ぎる。
本発明 ( 2 ) によれば、 両面からショッ トブラストすることにより、 セ ラミックス焼結体の変形を修正すると共に、焼結体に適切な残留応力を付 与できる。
本発明 ( 3) にあるように、 本発明は、 薄膜基板、 センサーなどの機能 素材として用いられるセラミックス部品の靭性向上に好的である。
' 本発明 (4) によれば、 熱処理が亀裂治癒温度で行われるので、 当該熱 処理により微小亀裂近傍のセラミックスを再結晶させることができ、それ により表面組織中の微小亀裂を低減させることができる。 これにより、亀 裂が治癒されて焼結体は強靭化される。
本発明 ( 5 ) によれば、 工程 a及び bによって形成された転位セルを有 する改質された表面のうち、 打痕凹凸傷や酸化層が研磨処理されるので、 セラミックス製品の機械的性質が向上する。
また、 本発明の (7) によれば、 ショ ヅ トプラスト処理の投射材として 微細粒子、好ましくは 1 00 im以下の平均粒径を有する粒子を用いた場 合は、 打痕凹凸傷のな 表面を得ることができ、 この場合は、 表面改質層 の除去が不要となる。
以上から明らかなように、本発明のセラミックス焼結体を常温でショッ トブラストした後、熱処理するプロセスによれば、 セラミックス焼結体の 表面の結晶組織を塑性変形させて残留応力を付与した後の熱処理によつ て微小亀裂近傍のセラミックスの再結晶化が生じるので、結晶粒界に転位 セルが形成され、結晶が微細化して破壊靱性が格段に向上する。熱処理後、 表面改質層の一部を除去することにより、 機械的強度が格段に向上する。 実施例
評価方法
まず、 実施例の評価方法について具体的に説明する。
供試材を J I S規格に従い 3mm X 4mm X 40 mmのサイズに機械加 ェし、 曲げ試験片を作製した.。曲げ試験は J I S -R- 1 60 1に従って 実施した ( 3点曲げ試験) 。 また、 破壊靱性値は、 ビッカース硬度計で、 押し込み荷重条件を変え、ビッカース圧子の亀裂長さを計測することによ つて求めた。即ち、 J I S— R— 1 607に従い、破壊靱性試験( I F法) を実施して求めた。
押し込み荷重条件は素材の種類により最適値を選び、 l kgf、 2 kg f、 5 kgf、 又は 1 O kgf とした。荷重保持時間は 20秒とレた。熱 処理温度は 1 20 0 °C乃至 1400 °C、保持時間は 1時間、雰囲気条件は 大気又は真空、 昇温速度は 1 0°C/分の条件とした。 なお、 窒化ケィ素は 大気中で 1 000°C以上に加熱されると酸化が進行するが、 1 300°C以 下であれば酸化は材料特性に影響のないレベルである。 もし、 問題が発生 する場合には、 窒素ガスまたは不活性ガス中で加熱処理しても良い。 尚、 破壊靱性の評価は、 試験片表面を # 600、 # 1 000、 及び # 3 000 のダイヤ研磨紙で順次、研磨処理して表面粗さ 0. 2 S以下に鏡面研磨し たものを、 評価試験片として用いて行った。塑性変形量は、 レーザー顕微 鏡により凸状になった試験片の最大変形量を計測した。
供試材
以下の供試材を、 各実施例において使用した。
供試材 No . 1 : アルミナセラミックス材 (アルミナ純度 9 2 %) 供試材 No . 2 :アルミナセラミックス材 (アルミナ純度 9 9. 5 %) 供試材 No . 3 :アルミナセラミックス材 (アルミナ純度 9 9. 9 9 %) 供試材 No . 4 :窒化珪素セラミック材 (窒化ケィ素 (ファインセラミツ クスセンタ一製リフアセラム SN1:焼結助剤(Ce+Mg0)系)
供試材 N 0. 5:窒化ケィ.素(新東 Vセラックス製:焼結助剤(Y203+A1203) 系)
供試材 No . 6 :窒化アルミニウム材 (焼結助剤 (Y203) 系)
供試材 No . 7 :シリコンウェハ
供試材 No . 8 :単結晶アルミナ · 卖施例 1 :ショッ トブラス ト^ L理条伴 強靱化効果について
供試材 No. 2 (アルミナ 9 9. 5 %) と供試材 N o. 5 (窒化ケィ素) について、 試験片 (サイズ:幅 5 mmx長さ 80 mmx厚さ 0.3 mm) を 準備し、 5腿 X80腿の面一方のみを、 その表面に垂直の方向 (厚み方向) からブラスト処理した場合と両面にブラスト処理した場合について塑性 変形量と熱処理した後の破壊靱性値を比較した。 その結果を表 1に示す。 ショットブラストの処理条件として、大気雰囲気中、投射材としてムライ ト粒子 (セラビーズ 60、 # 1 70 0 :内外セラミックス (株) 製) と超 硬粒子 (S T— 1 6 0、 新東ブレー夕一製) の 2種類を選んだ。 ムライ ト 粒子の場合は、 噴射圧力 : 1. 0 k g/ cm2及び噴射ノズル径: ら Φの 条件下、 加圧式ショッ トブラスト機 (新東ブレー夕一 (株) 製) を用いて 処理した。 一方、 超硬粒子の場合は、 噴射圧力 : 2 kg/cm2, 噴射ノ ズル径: 8 øの条件下、重力式ショヅ トブラスト機(新東ブレー夕一(株) 製) を用いて処理した。 噴射加工時間は 30秒乃至 90秒間である。熱処 理は、 大気中 1 300°Cで 1時間行った。 表 1 . ショ ヅ トブラス ト処理条件の破壊靭性向上効果の比較結果
Figure imgf000010_0001
*1 熱処理温度 1 3 0 0 °C
表. 1の結果より、 素材及び投射材の材質により、 強靱化効果は大きく異 なることがわかる。 また、 ブラス ト処理条件により塑性変形量は大きく異 なり、 更に、 ブラス ト処理を両面より行った場合は強靱化効果が大きいこ とがわかる。片側のみをブラス トした場合は、 強靱化効果が少ないのに対 し、 両面ブラスト処理した場合は大きな強靱化効果があ'ると判断できる。 これは片面のみをブラス ト処理した場合は、塑性変形するため残留応力が 残りにくいのに対し、両面をブラスト処理した場合は残留応力が付与しや すいことに起因すると判断できる。 卖施例 2 :多結晶素材における材暂別の熱杌理条件 ¾壊靱件向 ト 奥に ついて
供試材 N o . 1乃至 6の 6種類を評価した。供試材を J I S規格に従い 3 mm X 4 mm X 4 0 mmのサイズに機械加工し、曲げ試験片を作製した ( 試験片の厚さ (3 mm) 方向に、 4 mm x 4 0 mmの面片面のみをショヅ トブラスト処理した。 その後大気中で熱処理し、 さらに研磨処理して評価 サンプルとした。 その結果を表 2に示す。
表 2 多結晶素材の材質別の破壊靭性向上効果
供試材 フフス ト処理条件 熱処理条件 破壊靭性 破壊靭性向
N 0 上カ果
-* 4— 4 i _i.
投射材、 投射時間 処 理 温 度 Kェ C (MPa- (無処理と
(。C) の効果比)
1 無処理 無処理 2. 46 1. 00 無処理 1 300 3. 6 5 1. 1 8 セフ じース、 3 0 1 300 4. 5 5 1. 8 b セフヒース、 6 0秒 1 300 3. 34 1. 3 6 超硬、' 5 0秒 1 300 4. 00 .1. 64 超硬、 D 0秒 1 00 4. 6 3 1. 88
2 無処理 無処理 3. 02 1. 00 無処理 1 300 3. 34 1· . 1 1 セフヒース、 3 0秒 1 3 00 3. 1 9 . 1. 0 6 セフヒース、 6 0 ¾> 1 300 4. 5 5 1. 6 1 超硬、 6 0秒 1 300 5 - 45 1. 8 0 超硬、 6 0秒 1400 5. 6 5 1. 87
3 無処理 無処理 3. 02 1. 00 無処理 1 200 3. 1 9 1. 0 6 セフヒース、 6 0 1 200 4. 34 1. 44
4 無処理 無処理 5. 93 1. 00 無処理 1 200 9. 67 1. 6 3 無処理 1 300 6. 6 9 1. 1 3 セラビーズ、 3 0秒 1 300 9. 5 1 1. 6 0 セラビーズ、 6 0 1 200 9. 14 1. 54 セラビーズ、 9 0 ¾) 1 300 1 5. 1 6 2. 5 6 超硬、 6 0秒 1 300 1 0. 6 5 1. 8 0
5 無処理 無処理 6. 49 1. 0 0
hn
無処理 1 200 o . 1 5 1. Δ 0 無処理 1 300 6. 02 0. 9 3 セラビーズ、 3 0秒 1 2 00 7. 62 1. 1 7 超硬、 6 0秒 1 300 8. 08 1. 24 超硬、 6 0秒 1 400 1 0. 54 1. 6 2
6 無処理 無処理 2. 16 1. 00 セラビーズ、 6 0秒 1 200 2. 84 1. 3 2 超硬、 60秒 1300 2. 93 1. 36 超硬、 60秒 1400 3. 67 1. 80 熱処理温度 1 200 °C以上では、破壊靱性が未処理の焼結体に比べ格段 に大きくなっていることが認められる。特に窒化ケィ素(供試材 N 0. 4) の場合には、 破壊靱性 (K1C) が 15 MP a · mt/2 (セラビーズ、 60 秒、 1300°Cのとき) となり、 未処理のものに比べ、 2. 6倍となって いることが認められる。 この破壊靭性値は、 錡鉄レベルに相当し、 セラミ ヅクスでは従来発現できなかった値である。 実施例 3 :単結晶素材における熱杌珲条件と破壊靱件向卜.効菓について 単結晶素材である、 シリコンウェハ (供試材 No. 7)及び単結晶アル ミナ (供試材 N 0. 8) を用いた。 供試材サイズは 10 mm X 10 mm.x l .' Ommとした。厚さ方向に 1 Ommx 100 mの面片面のみをショッ トブラス.ト処理した。 シリコンウェハは真空炉で、 単結晶アルミナは大気 中で熱処理し、 その後研磨処理した試験片の破壤靱性値を測定した。その 結果を表 3に示す。
表 3 . 単結晶素材の破壊靭性向上効果
Figure imgf000014_0001
1 2 0 0 °C以上の熱処理により、 破壊靱性は未処理の焼結体に比べ、 格段 に大きくなつていることが認められる。 実施例 4 :研磨虮珲による強度向 h効果について
熱処理後に試験片を研磨処理していないサンプルと研磨処理したサン プルとの曲げ強度を比較した。 その結果を表 4に示す。
表 4 . ブラス ト、 熱処理後の研磨処理による強度向上効果
Figure imgf000015_0001
表 4より、 ブラス ト処理及び熱処理が施されたサンプルは、 何れの処理 も施されていない (無処理) サンプルより強度が低下しているが、 前記サ ンプルに研磨処理を施すと強度が回復している。ここで、研磨処理前には、 投射材が焼結体表面へ食い込み、 打痕傷が観察される。 この打痕傷が曲げ 強度に大きく影響しており、研磨処理することにより強度は大幅に改善さ れてい.る。 尚、 投射材の食い込みは、 熱処理前に微細投射材の投射により 除去しても良い。 卖施例 5 :強靭ィ h ¾r暂効罢の渫さ方向 研磨除去代の 値について
ショッ トブラス ト処理し、 その後熱処理を行うと、 焼結体の表面には衷 面改質層が形成されている。 この表面改質層を研磨することにより、 曲げ 強度は増大するが、研磨による除去代が大きいと処理効果は消滅すること になる。そこで、 研磨による除去代を変えた試料について破壊靭性値を測 定し、研磨深さと強靭化改質効果との関係を調べた。 その結果を表 5に示' す。
表' 5. 強靭化改質効果の深さ方向の効果
Figure imgf000017_0001
研磨除去代がある程度以上大きくなると、破壊靭性値が変化せず、 むし ろ、 無処理の値と同一になった。 この結果より、 研磨除去代の最適値があ ることが判断できる。例えば、 表 5の処理条件の場合、 供試材 No . 5で は、 5 mから 2 0 の除去が好適である。また、供試材 N o . 2では、 5 mから 2 0 mの除去が好適である。 荬施例 6 :埒射材 して微細^孑》用い 撝合の効 について
供試材 N o . 5及び 2を用い、 J I S曲げ試験片を作製した。 れらの 試験片に対し、平均粒子径 5 0 のジルコニァビーズを用いてプラスト 処理を行い、 その後 Ί 3 0 0。Cで 1時間熱処理を施した。 ブラスト処理前 後での処理面の表面粗さ及び、研磨処理あり、 なしでの曲げ強度の測定を 行った。 その結果を表 6に示す。
表 6. 微細粒径投射材の効果 (表面改質層の研磨による除去工程の省略)
供 試 ブラスト処理 熱処理条件 表面粗さ R max: urn 研磨除去代 曲げ強度 曲げ強度向上効 材 N 条件
0 投射材、 投射 処 理 温 度 フフス ト削 ブラス ト後 ( m) MP a (無処理に対す 時間 ( C) る 5虽度比)
5 無処理 無処理 0. 2 0 87 1 1. 00
ジルコ二アビ 窒素ガス中 0. 20 0. 2 2 0 8 8 9 1. 02
—ス、 6 0秒 1300
ジルコ二アビ 窒素ガス中 0. 2 0 0. 2 5 8 9 3 .1. 0 3
—ス、 6 0秒 1 300
ジルコ二アビ 窒素ガス中 0. 2 0 0. 23 10 887 1. 0 2
―ス、 b (J秒1 1 d U し
2 無処理 無処理 0. 2 0 40 6 1. 00
ジルコ二アビ 1 300 0. 20 0. 2 5 0 43 5 1. 07 ーズ、 6 0秒
ジルコ二アビ 1 300 0. 2 0 0. 24 5 4 1 1. 0 9 ーズ、 6 0秒
ジルコ二アビ 1 300 0. 2 0 0. 2 5 1 0 43 9 1. 08 ーズ、 6 0秒
W
微細粒径の投射材を用いることにより、ショッ トブラスト前後の表面粗 さに大差は見出されず、打痕凹凸傷のない表面が得られていることが分か る。 また、 曲げ強度測定結果より、 このようなショッ トブラスト条件の場 合、 研磨処理なしで強度が向上し、 研磨処理工程を省略することが可能で ある.ことが分かる。表 6中に記載されてはいないが、 破壊靭性値 K I Cに ついても、 研磨処理のあり、 なしにより、 差は認められず、 無処理品に比 ベ向上していた。

Claims

. 請求の範两
1 . セラミックス焼結体に、 ショッ 卜ブラス ト処理により残留応力を付 与する工程と、該セラミックス焼結体を再結晶させるための熱処理をする 工程と、これらの工程により生じた転移セルを有する表面改質層の一部を 除去する工程と、を具備することを特徴とするセラミックスの強靭化改質 方法。
2 . a ).セラミックス焼結体にショヅ トブラス ト処理を施して残留応力 を付与する工程と、 b )工程 aによる処理を受けたセラミックス焼結体を 熱処理して微小亀裂近傍のセラミックスを再結晶させる工程と、 c )工程 bによる熱処理を受けたセラミックス焼結体の転位セルを有する表面改 質層の一部を除去する工程と、を含むことを特徴とするセラミックスの強 靱化改質方法。
3 . a ) セラミヅクス焼結体に、 ショッ トブラス ト処理を施して残留応 力を付与するか又は塑性変形により転位などの格子欠陥を導入する工程 と、 b )工程 aによる処理を受けたセラミヅクス焼結体を熱処理して微小 亀裂近傍のセラミックスを再結晶させ亜粒界を形成する工程と、 c )工程 bによる熱処理を受けたセラミックス焼結体の転位セルを有する表面改 質層の一部を除去する工程と、を含むことを特徴とするセラミックスの強 靱化改質方法。
4 . ショッ トプラス ト処理を相対する両面に施す、 請求項 1から請求項 3のいずれか 1項に記載のセラミックスの強靱化改質方法。
5 . 前記焼結体が、 基板、 チップ、 薄板、 箔、 又は平板である、 請求項 1から請求項 4のい.ずれか 1項に記載のセラミックスの強靱化改質方法。
6 . 前記熱処理をする温度が亀裂治癒温度であることを特徴とする請求 項 1から請求項 5のいずれか 1 項に記載のセラミックスの強靱化改質方
7 . 工程 cが、 セラミックス焼結体の外表面から数〃 m乃至数百 を 研磨によって除去する工程である請求項 1から請求項 6¾)いずれか 1 項 に記載のセラミックスの強靱化改質方法。
8 . 請求項 1から請求項 7のいずれか 1 項に記載のセラミックスの強 靱化改質方法を用いて製造したセラミックス製品。
9 · 破壊靱性、 耐摩耗性、 疲労強度、 耐熱衝撃性、 耐熱疲労性のいずれ かの性質が未処理のセラミックス焼結体と比べて向上している請求項 8 のセラミ ックス製品。 ,
10. セラミックス焼結体に残留応力を付与する工程と、 加熱によりセラ ミックスを再結晶させてできた転位セルを有する表面改質層の一部を除 去する工程を経て製造されたことを特徴とするセラミックス製品。
11. · a )セラミックス焼結体.に、 平均粒子径が 1 0 0 m以下の微細粒 子からなる投射材を用いて、ショッ トブラス ト処理を施して残留応力を付 与する工程と、 b )工程 aによる処理を受けたセラミックス焼結体を熱処 理して微小亀裂近傍のセラミックスを再結晶させる工程と、を含むことを 特徴とするセラミックスの強靱化改質方法。
12. a )セラミックス焼結体に、 平均粒子径が 1 0 0 m以下の微細粒 子からなる投射材を用いて、ショッ トブラス ト処理を施して残留応力を付 与するか又は塑性変形により転位などの格子欠陥を導入する工程と、 b ) 工程 aによる処理を受けたセラミックス焼結体を熱処理して微小亀裂近 傍のセラミックスを再結晶させ亜粒界を形成する工程と、を含むことを特 徴とするセラミックスの強靱化改賓方法。
13. ショットブラス ト処理を相対する両面に施す、請求項 1 1又は請求 項 1 2のいずれか 1項に記載のセラミックスの強靱化改質方法。
14. 前記焼結体が、 基板、 チップ、 薄板、 箔、 又は平板である、 請求項 1 1から請求項 1 3のいずれか 1 項に記載のセラミックスの強靱化改質 方法。
15. 前記熱処理をする温度が亀裂治癒温度であることを特徴とする請 求項 1 1から請求項 1 4のいずれか 1 項に記載のセラミックスの強靱化 改質方法。
16. 請求項 1 1から請求項 1 5のいずれか 1項に記載のセラミックスの 強靭化改質方法を用いて製造したセラミックス製品。
17. 破壊靱性、 耐摩耗性、 疲労強度、 耐熱衝撃性、 耐熱疲労性のいずれ かの性質が未処理のセラミ ックス焼結体と比べて向上している請求項 1 6のセラミックス製品。
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US10/381,016 US6884386B2 (en) 2000-09-21 2001-09-20 Method of toughening and modifying ceramic and ceramic products
KR1020037004160A KR100789021B1 (ko) 2000-09-21 2001-09-20 세라믹스의 강인화 개질방법 및 세라믹스 제품
EP01967740A EP1329440A4 (en) 2000-09-21 2001-09-20 METHOD FOR THE IMPACT TIMING OF CERAMICS AND CERAMIC PRODUCT

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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002255643A (ja) * 2001-02-23 2002-09-11 Denso Corp 機能性セラミック材料の表面強靭化方法
WO2004035266A1 (ja) * 2002-10-15 2004-04-29 Japan Science And Technology Agency セラミックスの表面強靱化方法及びセラミックス製品
JP2004196633A (ja) * 2002-12-20 2004-07-15 Denki Kagaku Kogyo Kk セラミックスの改質方法
JP2005170713A (ja) * 2003-12-09 2005-06-30 Toshiba Corp 高強度セラミックスの製造方法
WO2005100283A1 (ja) * 2004-04-12 2005-10-27 Japan Science And Technology Agency 耐熱衝撃性表面改質方法をその部材
JP2007285432A (ja) * 2006-04-18 2007-11-01 Nsk Ltd 工作機械主軸用転がり軸受
US7320716B2 (en) * 2003-05-26 2008-01-22 Japan Science And Technology Agency Method for toughening surface of sintered material cutting tool and sintered material cutting tool having long life
JP2008024539A (ja) * 2006-07-19 2008-02-07 Nsk Ltd セラミックス製部品の製造方法、この方法で得られた転動体を有する転がり支持装置
JP2010042957A (ja) * 2008-08-12 2010-02-25 Yokohama National Univ セラミックス製品の製造方法、セラミックス製品
JP2013182960A (ja) * 2012-02-29 2013-09-12 Hitachi Metals Ltd 窒化珪素回路基板およびその製造方法
WO2019189600A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 住友大阪セメント株式会社 セラミックス基体およびサセプタ
JP2019179780A (ja) * 2018-03-30 2019-10-17 住友大阪セメント株式会社 静電チャック装置の製造方法
WO2022210518A1 (ja) * 2021-03-31 2022-10-06 デンカ株式会社 窒化アルミニウム焼結体、及びその製造方法、回路基板、並びに、積層基板

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004030863A1 (de) * 2004-06-25 2006-01-19 OCé PRINTING SYSTEMS GMBH Verfahren zur Behandlung der Oberfläche einer Toner transportierenden Walze bei einer elektrografischen Druck- oder Kopiereinrichtung
JP4936925B2 (ja) * 2006-03-03 2012-05-23 日本碍子株式会社 ブラスト処理方法
US8080323B2 (en) * 2007-06-28 2011-12-20 Kennametal Inc. Cutting insert with a wear-resistant coating scheme exhibiting wear indication and method of making the same
US20090004449A1 (en) * 2007-06-28 2009-01-01 Zhigang Ban Cutting insert with a wear-resistant coating scheme exhibiting wear indication and method of making the same
PT2543653E (pt) * 2011-07-04 2014-07-25 Comadur Sa Método para o fabrico de uma cerâmica mate que não marca
KR20150051370A (ko) * 2013-11-04 2015-05-13 (주)제니스월드 용사 코팅막과의 접착력 향상을 위한 산화알루미늄 성형 세라믹 기재의 표면 처리방법
JP6840637B2 (ja) 2017-07-28 2021-03-10 株式会社不二製作所 硬脆性材料表面に対する微小ディンプルの形成方法
MX2022008240A (es) 2019-12-31 2022-10-07 Cold Jet Llc Método y aparato para chorro de rafaga.
CN113224008A (zh) * 2021-03-17 2021-08-06 江苏富乐德半导体科技有限公司 一种减少dcb产品皱皮疙瘩不良的方法
CN115536437B (zh) * 2022-01-18 2023-09-08 武汉位错科技有限公司 一种高温碾压加工方法及其加工装置和应用

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61168463A (ja) * 1985-01-23 1986-07-30 Hitachi Ltd セラミツク部品の表面加工法
JPH05200720A (ja) * 1992-01-27 1993-08-10 Toyota Motor Corp セラミック焼結体及びその表面加工方法
JPH05238853A (ja) * 1992-02-28 1993-09-17 Tokyo Electric Power Co Inc:The セラミックス基材の表面改質方法
JP2001181099A (ja) * 1999-12-21 2001-07-03 Japan Science & Technology Corp 脆性材の表面強靭化方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3044076B2 (ja) * 1991-03-04 2000-05-22 イーグル工業株式会社 SiC系摺動材の製造方法
JP3017822B2 (ja) * 1991-03-05 2000-03-13 イーグル工業株式会社 Si3 N4 系摺動材の製造方法
JPH0761614B2 (ja) * 1992-07-02 1995-07-05 東ソー株式会社 ジルコニア質投射材
US5795626A (en) * 1995-04-28 1998-08-18 Innovative Technology Inc. Coating or ablation applicator with a debris recovery attachment
US6296942B1 (en) * 1999-04-15 2001-10-02 General Electric Company Silicon based substrate with calcium aluminosilicate environmental/thermal barrier layer

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61168463A (ja) * 1985-01-23 1986-07-30 Hitachi Ltd セラミツク部品の表面加工法
JPH05200720A (ja) * 1992-01-27 1993-08-10 Toyota Motor Corp セラミック焼結体及びその表面加工方法
JPH05238853A (ja) * 1992-02-28 1993-09-17 Tokyo Electric Power Co Inc:The セラミックス基材の表面改質方法
JP2001181099A (ja) * 1999-12-21 2001-07-03 Japan Science & Technology Corp 脆性材の表面強靭化方法

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002255643A (ja) * 2001-02-23 2002-09-11 Denso Corp 機能性セラミック材料の表面強靭化方法
WO2004035266A1 (ja) * 2002-10-15 2004-04-29 Japan Science And Technology Agency セラミックスの表面強靱化方法及びセラミックス製品
JP2004136372A (ja) * 2002-10-15 2004-05-13 Japan Science & Technology Agency セラミックスの表面強靱化方法及びセラミックス製品
JP2004196633A (ja) * 2002-12-20 2004-07-15 Denki Kagaku Kogyo Kk セラミックスの改質方法
US7320716B2 (en) * 2003-05-26 2008-01-22 Japan Science And Technology Agency Method for toughening surface of sintered material cutting tool and sintered material cutting tool having long life
JP2005170713A (ja) * 2003-12-09 2005-06-30 Toshiba Corp 高強度セラミックスの製造方法
JPWO2005100283A1 (ja) * 2004-04-12 2008-05-22 独立行政法人科学技術振興機構 耐熱衝撃性表面改質方法とその部材
WO2005100283A1 (ja) * 2004-04-12 2005-10-27 Japan Science And Technology Agency 耐熱衝撃性表面改質方法をその部材
JP2007285432A (ja) * 2006-04-18 2007-11-01 Nsk Ltd 工作機械主軸用転がり軸受
JP2008024539A (ja) * 2006-07-19 2008-02-07 Nsk Ltd セラミックス製部品の製造方法、この方法で得られた転動体を有する転がり支持装置
JP2010042957A (ja) * 2008-08-12 2010-02-25 Yokohama National Univ セラミックス製品の製造方法、セラミックス製品
JP2013182960A (ja) * 2012-02-29 2013-09-12 Hitachi Metals Ltd 窒化珪素回路基板およびその製造方法
WO2019189600A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 住友大阪セメント株式会社 セラミックス基体およびサセプタ
JP2019179780A (ja) * 2018-03-30 2019-10-17 住友大阪セメント株式会社 静電チャック装置の製造方法
JPWO2019189600A1 (ja) * 2018-03-30 2021-01-07 住友大阪セメント株式会社 セラミックス基体およびサセプタ
US11551962B2 (en) 2018-03-30 2023-01-10 Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. Ceramic substrate and susceptor
WO2022210518A1 (ja) * 2021-03-31 2022-10-06 デンカ株式会社 窒化アルミニウム焼結体、及びその製造方法、回路基板、並びに、積層基板
JPWO2022210518A1 (ja) * 2021-03-31 2022-10-06
JP7429825B2 (ja) 2021-03-31 2024-02-08 デンカ株式会社 窒化アルミニウム焼結体、及びその製造方法、回路基板、並びに、積層基板

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Publication number Publication date
KR20030059150A (ko) 2003-07-07
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