WO2001020663A1

WO2001020663A1 - Dispositif de traitement par le vide

Info

Publication number: WO2001020663A1
Application number: PCT/JP2000/006219
Authority: WO
Inventors: Hiroki Oka
Original assignee: Tokyo Electron Limited
Priority date: 1999-09-13
Filing date: 2000-09-12
Publication date: 2001-03-22
Also published as: US6932885B1; JP4574926B2

Description

明細室真空処理装置技術分野

本発明は，真空処理装置に関する。

背景技術

従来，半導体装置や L C D基板などの製造工程においては，いわゆるクラスタ装置化されたマルチチャンバ型処理装置が使用されている。一般的なマルチチャンバ型処理装置は，真空搬送室と，真空搬送室の周囲に配される複数の真空処理室と，真空カセッ卜室とを備えている。かかる構成により，真空カセット室内のカセットに収容された被処理体は，真空搬送室内の搬送アームによって各真空処理室内に順次搬送され，エッチング処理等の各種処理が連続的に施される。また，上記処理装置では，真空搬送室内が減圧雰囲気に維持されている。このため，上記処理装置では，カセットを大気側から真空カセッ卜室内に一旦搬入し，真空カセット室内を真空搬送室内と略同一の圧力まで減圧した後に，カセッ卜と真空搬送室内との間で被処理体の受け渡しを行っている。ここで，上記処理装置に採用される一般的な真空カセッ卜室 1 0 の構造を，図 4を参照しながら説明する。図示のように，真空カセット室 1 0内において，カセット 1 2を載置するカセット載置台 1 6は駆動軸 1 4により支承され，不図示の駆動機構により，昇降および回動自在に構成されている。かかる構成により，載置台 1 6上のカセット 1 2の向きを適宜変更したり，カセット 1 2内に多段に配された被処理体 2 4を上下動して，不図示の搬送アームへの受け渡し位置に合わせて，高さ調整したりすることが可能である。上記昇降軸 1 4を駆動する駆動機構は，真空カセット室 1 0の外部に配置されている。従って，駆動軸 1 4は，真空カセッ卜室 1 0 を囲う真空容器 1 8に形成された貫通口 1 9を貫通し，駆動機構と載置台 1 6とを接続している。駆動軸 1 4と貫通口 1 9内壁との間には，駆動軸 1 4の上下動および回動動作を妨げないように，若干の隙間が形成されるが，その隙間には Oリング 2 0が配される。弾性部材から成る Oリング 2 0は，駆動軸 1 4と貫通口 1 9の内壁に密着するように配置され，駆動軸 1 4の上下動および回動動作を妨げずに，駆動軸 1 4と貫通口 1 9内壁との間を密閉可能である。かかる構成によリ，真空カセット室 1 0内外に延伸する駆動軸 1 4を設けても，真空カセット室 1 0の気密性を維持できる。また，駆動軸 1 4と Oリング 2 0との接触面には，潤滑剤 2 2が塗布され，駆動軸 1 4と Oリング 2 0との摩擦力の軽減が図られていた。しかしながら，駆動軸 1 4の真空カセット室 1 0内への露出面が多いと，例えば，駆動軸 1 4の表面に塗布された潤滑剤 2 2が被処理体 2 4の汚染源になるという問題があった。また，真空カセット室 1 0内の真空引きにより，潤滑材 2 2の消費も促進され，駆動軸 2 2と Oリング 2 0との間の摩擦力が増加してしまうという問題もあった。本発明は，従来の技術が有する上記問題点に鑑みて成されたものであり，本発明の目的は，上記問題点およびその他の問題点を解決することが可能な，新規かつ改良された真空処理装置を提供することである。

発明の開示

上記課題を解決するために，本発明の第 1 の観点によれば，真空処理室内に配される被駆動体と，真空処理室外に配される駆動手段と，被駆動体と駆動手段とを連結して駆動手段の駆動力を被駆動体に伝達する駆動軸とを備えた真空処理装置において，真空処理室内において駆動軸に固定された第 1環状体と，第 1環状体に対して回動自在に支承される第 2環状体と，駆動軸の周囲を気密に封止するように第 2環状体と真空処理室の内壁とを接続し駆動軸の昇降に応じて伸縮自在なべローズと，を備えたことを特徴とする，真空処理装置が提供される。なお本発明にかかる第 1環状体は，機能的に言えば，駆動軸と一体的に回転および昇降動作可能であり，前記第 2環状体を回転自在に支承できればよく，形状や寸法はさまざまなものを採用することが可能である。例えば，ここでは環状体という表現を用いているが，必ずしも駆動軸の周囲を環状に完全に囲っている必要はなく，複数のブロックから構成することも可能であり，あるいは，スリーブ形状等に構成することも可能である。同様に，第 2環状体も，機能的に言えば，第 1環状体（駆動軸）と一体的に昇降動作はするが，回転動作は行わないように構成され，さらに，ベローズの一端を取り付け可能に構成されていればよく，形状や寸法はさまざまなものを採用することが可能である。例えば，ここでは環状体という表現を用いているが，必ずしも駆動軸の周囲を環状に完全に囲っている必要はなく，複数のブロックから構成することも可能であり，あるいは，スリーブ形状等に構成することも可能である。かかる構成によれば，前記駆動軸の回転動作時には，第 1環状体と第 2環状体とを相対回転させることにより，ベローズのよじれ等を効果的に防止でき，前記駆動軸の伸縮動作時には，第 1環状体と第 2環状体とを一体的に動作させることによリ，ベロ一ズを円滑に伸縮動作させることが可能である。また，ベローズにより駆動軸の駆動部分の大部分を封止することが可能なので，駆動軸部分からの汚染物質の真空容器内への漏出を最小限に抑え，歩留まりを向上させることができる。また，駆動軸の表面に潤滑材を塗布した場合であっても，その塗布面の真空容器内への露出面を最小限に抑えることが可能であり，潤滑材による汚染も最小限に抑えることが可能である。上記真空処理装置において，例えば，第 1環状体の周囲に形成された溝に第 2環状体の凸部を嵌合させるように，第 1環状体と第 2 環状体とをォスメス嵌合するように構成すれば，第 2環状体の回動動作を許容する構造を簡単に構成することができる。第 2環状体が，駆動軸の動作を許容する第 1 シール部材，例えば Oリングなどを介して駆動軸を気密に囲むように構成することで，シール構造を 2重にして，ベロ一ズにより囲まれる空間の機密性を増すことができる。駆動軸も，駆動軸の動作を許容する第 2シール部材，例えば Oリングなどを介して真空処理室の内壁を気密に貫通していることが好ましい。本発明は，駆動軸を介して被駆動体を回動および Zまたは昇降させることが可能な駆動手段を備えた真空処理装置に対して好適に適用可能であり，本発明によれば，回転および Zまたは昇降動作に対しても良好な機密性を保持できる。さらに，本発明にかかる真空処理装置には，ベローズにより気密に封止された空間の圧力を調整する圧力調整手段を設けることが好ましく，かかる圧力調整手段により，ベローズにより気密により封止された空間と真空処理室内の圧力を略同一に保持すれば，ベローズに封止された空間から真空処理室内に汚染物質が漏出することを防止することができるとともに，ベローズ自体のねじれ等の損傷を防止することができる。上記課題を解決するために，本発明の第 2の観点によれば，真空処理室内に配される被駆動体と，真空処理室外に配される駆動手段と，被駆動体と駆動手段とを連結して駆動手段の駆動力を被駆動体に伝達する駆動軸とを備えた真空処理装置において，真空処理室の壁体に形成される開口に対して回動自在に支承され駆動軸が貫通する回転体と，駆動軸の周囲を気密に封止するように被駆動体と回転体とを接続し駆動軸の昇降に応じて伸縮自在なべローズと，を備えたことを特徴とする，真空処理装置が提供される。かかる構成によれば，前記駆動軸の回転動作時には，回転体を真空処理室の壁体の開口に対して相対回転させることにより，ベローズのよじれ等を効果的に防止でき，前記駆動軸の伸縮動作時には，回転体に対して駆動軸を相対移動させることによリ，ベローズを円滑に伸縮動作させることが可能である。また，ベローズにより駆動軸の全体を封止することが可能なので，駆動軸部分からの汚染物質の真空容器内への漏出を最小限に抑え，歩留まりを向上させることができる。また，駆動軸の表面に潤滑材を塗布した場合であっても，その塗布面の真空容器内への露出面がないので，潤滑材による汚染も最小限に抑えることが可能である。上記真空処理装置において，回転体は，回転体の動作を許容する第 1 シール部材を介して開口に対して気密に支承されていることが好ましい。また，例えば回転体の周囲に形成される溝に対して開口部の凸部が嵌合するように，回転体と開口とをォスメス嵌合するように構成すれば，開口に対して回転体を回動させる構造を簡単に構成することができる。また，回転体は，駆動軸の動作を許容する第 2シール部材を介して駆動軸を気密に囲むように配されることが好ましい。また駆動軸に対してオフセットした位置に，回転体を貫通するとともに被駆動体の回動動作に応じて回動しながら回転体を支承する補助軸を設ければ，回転動作時にベローズにかかる負荷が軽減され，ベローズの屈曲等の損傷を防止することができる。補助軸は，補助軸の動作を許容する第 3シール部材を介して回転体を気密に貫通していることが好ましく，かかる構成によれば，駆動軸が昇降動作する際にも，補助軸が動作の妨げにならない。第 2の観点にかかる発明も，駆動軸を介して被駆動体を回動および Zまたは昇降させることが可能な駆動手段を備えた真空処理装置に対して好適に適用可能であり，本発明によれば，回転およびまたは昇降動作に対しても良好な機密性を保持できる。さらに，本発明にかかる真空処理装置には，ベローズにより気密に封止された空間の圧力を調整する圧力調整手段を設けることが好ましく，かかる圧力調整手段により，ベローズにより気密により封止された空間と真空処理室内の圧力を略同一に保持すれば，ベロ一ズに封止された空間から真空処理室内に汚染物質が漏出することを防止することができるとともに，ベローズ自体のねじれ等の損傷を防止することができる。

図面の簡単な説明

図 1 は，本発明を適用可能な真空カセット室を備えた処理装置を示す概略的な断面図である。図 2は，図 1 に示す真空カセッ卜室のシール機構および載置台の駆動機構を表す概略的な断面図である。図 3は，本発明を適用可能な他の真空カセット室のシール機構を示す概略的な断面図である。図 4は，従来の真空カセッ卜室のシール機構を示す概略的な断面図である。

発明を実施するための最良の形態以下に，添付図面を参照しながら本発明にかかる真空処理装置を，マルチチャンバ型処理装置に適用した好適な実施の形態について，詳細に説明する。

(第 1 の実施の形態） ( 1 ) 処理装置の全体構成まず，図 1 を参照しながら，処理装置 1 00の構成について概略する。真空搬送室 1 02の周囲には，本発明を適用可能な第 1 および第 2真空カセット室 1 04, 1 06と，第 1 〜第 4真空処理室 1 08， 1 1 0， 1 1 2， 1 1 4が配置されている。第 1 および第 2 真空カセット室 1 04， 1 06と，第 1 〜第 4真空処理室 1 08， 1 1 0， 1 1 2， 1 1 4は，それぞれ開閉自在に密閉可能な第 1〜第 6ゲー卜バルブ G 1〜G 6を介して真空搬送室 1 02に接続されている。第 1 および第 2真空カセット室 1 04， 1 06の大気側開口部は，第 1 および第 2 ドアバルブ D 1， D 2により開閉自在に密閉されている。真空搬送室 1 02内には，被処理体，例えば半導体ウェハ（以下，「ウェハ」と称する。） Wを搬送する搬送アーム 1 1 6が配置されている。真空搬送室 1 02内には，ウェハ Wを位置合わせするオリエンタ 1 1 8が配置されている。 (2) 第 1 および第 2真空カセッ卜室の構成次に，図 1 および図 2を参照しながら，本実施の形態にかかる真空処理装置である第 1 および第 2真空カセット室 1 04， 1 06の構成について説明する。なお，第 1 および第 2真空カセット室 1 0 4は，それぞれ略同一に構成されているので，第 1真空カセット室 1 04を例に挙げて説明する。図 1 および図 2に示すように，第 1 真空カセット室 1 04内には，本実施の形態にかかる被駆動体であるカセット載置台（以下，単に載置台という。） 1 2 2が配置されている。載置台 1 2 2には，複数枚，例えば 2 5枚のウェハ Wを収納可能なカセット 1 20を載置することができる。図 2に示すように，載置台 1 22は，駆動軸 1 24の一端が接続され，回動および上下動可能に構成されている。駆動軸 1 24は，第 1真空カセット室 1 04の底部 1 04 cに形成されている貫通口 1 04 aを貫通して，第 1真空カセット室 1 04外部に延伸している。駆動軸 1 24と貫通口 1 04 aとの間には，例えば，シール部材としての Oリング 1 2 5や軸受けなどを介装することができる。 Oリング 1 2 5は，摩擦係数が低い弾性材料，例えばゴムや樹脂などから構成され，駆動軸 1 24の回転および/または昇降動作を許容しながらも，駆動軸 1 24と貫通口 1 04 a内壁に気密に密着している。駆動軸 1 24の Oリング 1 2 5との接触面には，潤滑剤 1 2 7が塗布されており，駆動軸 1 24と貫通口 1 04 a内壁との摩擦力を軽減し，駆動軸 1 24の回動および上下動動作を円滑に行わせ，ひいては，後述のベローズ内空間 1 58内の気密性を保持するように機能している。駆動軸 1 24の第 1真空カセッ卜室 1 04外部側他端には，駆動機構 1 26が配置されている。駆動機構 1 26は，駆動軸 1 24を回転駆動するための第 1 モータ M 1 2 8と駆動軸 1 24を昇降駆動するための第 2モータ M 1 38を備えている。昇降駆動用の第 2モータ M 1 38は，第 1真空カセット室 1 04 の支柱 1 04 bに取り付けられており，回転軸 1 40を回転させることが可能である。回転軸 1 40はねじ軸構造を有し，支持台 1 3 6のねじ溝が切られたナツ卜構造を有する貫通孔 1 36 aに螺合されている。回転軸 1 40と貫通孔 1 3 6 aは，いわゆるボールねじ構造を構成し，回転軸 1 40の回転に応じて，支持台 1 36を昇降させることが可能である。支持台 1 3 6には，駆動軸 1 24が回動自在に支持されており，支持台 1 3 6の昇降動作に応じて，駆動軸 1 24を昇降させることが可能である。支持台 1 3 6による駆動軸 1 24の支持構造についてさらに詳細に説明する。駆動軸 1 24の下方には，周囲に溝 1 42 aが切られた環状体 1 42が固定されている。また，張出部 1 3 6 bに形成された開口部 1 36 cの内面には上記溝 1 4 2 aに対応する凸部 1 3 6 dが形成されている。そして，この環状体 1 42の溝 1 42 a部分に，開口部 1 36 c内面の凸部 1 3 6 dを嵌め合わせることにより，駆動軸 1 24を回動自在に支持することが可能である。溝 1 4 2 aと凸部 1 36 dとの間には，駆動軸 1 24の回動を円滑にせしめるために，軸受 1 44が介装されている。なお，開口部 1 36 c と環状体 1 42とはォスメス嵌合されていればよく，いずれの部材にォス部（凸部）またはメス部（溝部）を形成するかについては，設計変更事項である。以上のように，本実施の形態によれば，ポールねじ構造のナット部分と駆動軸 1 24の支持構造とを一体化することにより，駆動軸 1 24の昇降動作の垂直精度を高めることが可能である。さらに，本実施の形態にかかる構造によれば，支持台 1 36には，駆動軸 1 2 を回転駆動するための第 1 モータ M 1 28が取り付けられている。この第 1 モータ M 1 2 8は，第 1 プーリ 1 3 0と，回転ベル卜 1 3 2と，第 2プーリ 1 34を介して駆動軸 1 24に接続されている。かかる構造により，第 1 モータ M 1 2 8により駆動軸 1 24を回転させ，さらには，駆動軸 1 2 4に支持された載置台 1 22およびカセット 1 20を回転させることが可能である。その際に，駆動軸 1 2 4は，支持台 1 3 6の張出部 1 3 6 bにより回動自在に支持されているので，安定して精度よく回転可能である。駆動軸 1 2 4の第 1真空カセット室 1 0 4内の延伸部分は，後述のシール機構（密閉手段） 1 4 6により，気密に囲われている。なお，シール機構 1 4 6の構成については，以下で詳述する。

( 3 ) 処理装置の動作次に，図 1 を参照しながら，処理装置 1 0 0の動作について説明する。なお，第 1真空カセット室 1 0 4との間でのウェハ Wの受け渡しを例に挙げて説明する。まず，第 1 ドアバルブ D 1 を開放し，第 1真空カセット室 1 0 4内の載置台 1 2 2上にウェハ Wを収納したカセット 1 2 0を載置する。第 1 ドアバルブ D 1 を閉じた後，第 1真空カセット室 1 0 4内を真空引きし，真空搬送室 1 0 2と略同一の圧力に維持する。同時に，載置台 1 2 2を介してカセット 1 2 0を適宜回転および上下動させて，カセット 1 2 0をゥ Iハ Wの受け渡し方向に配置する。その後，ゲートバルブ G 1 を開放する。次いで，カセット 1 2 0を搬送アーム 1 1 6の搬送位置に合わせて上下動させながら，カセット 1 2 0内のウェハ Wを，搬送アーム 1 1 6により，第 1 〜第 4真空処理室 1 0 8， 1 1 0， 1 1 2， 1 1 4内に順次搬送し，エッチング処理や成膜処理などの各種処理を行う。処理済みのゥ： ϋハ Wは，再びカセット 1 2 0内に搬入する。全てのゥ Iハ Wがカセット 1 2 0内に戻された後，ゲー卜バルブ G 1 を閉じる。その後，上記搬入時とは逆に，載置台 1 2 2を介してカセット 1 2 0を，処理装置 1 0 0外部への搬出方向に回転させる。同時に，第 1真空カセット室 1 0 4内に，例えば不活性ガスを導入して，第 1真空カセット室 1 04内の圧力を略大気圧まで昇圧させる。そして，ドアバルブ D 1 を開放し，カセット 1 20を外部に搬出する。

(4) シール機構の構成次に，図 2を参照しながら，本発明の中核を成すシール機構 1 4 6について，第 1真空カセット室 1 04を例に挙げて詳述する。上述したように，駆動軸 1 24の第 1真空カセッ卜室 1 04の延伸部分は，シール機構 1 46により覆われている。シール機構 1 46は，駆動軸 1 24に固定された第 1環状体 1 5 2と，この第 1環状体 1 52に対して回動自在に支承される第 2環状体 1 50と，駆動軸 1 24の昇降に応じて伸縮自在なべローズ 1 48とを備えている。ベローズ 1 48は，例えばステンレス製の気密な略蛇腹状部材から構成され，内径 40mm，外径 70 mmの寸法を有し，例えば直径 3 0 mmの駆動軸 1 24の第 1真空カセット室 1 04側周囲を気密に封止することが可能である。ベロ一ズ 1 48の両端は，それぞれ第 1真空カセット室 1 04の底部 1 04 cと，第 2環状体 1 50 に気密に接続されている。ベローズ 1 48の上部を支持する第 2環状体 1 50は，例えばァルミニゥム製の略環状部材から構成されている。第 2環状体 1 50 の略中央には貫通口 1 50 aが形成され，この貫通口 1 5 0 aに駆動軸 1 24が回動自在かつ気密に挿入されている。第 2環状体 1 5 0は，駆動軸 1 24の上部，すなわち駆動軸 1 24と載置台 1 2 2 との接続部近傍に配置されている。第 2環状体 1 50には，駆動軸 1 24の周囲を囲む張出部 1 50 bが形成されている。張出部 1 50 bの内壁には，駆動軸 1 2 4に固定される第 1環状体 1 52の周囲に形成される溝 1 52 aに対応する凸部 1 50 cが形成されている。そして，駆動軸 1 24に固定された第 1環状体 1 52の溝 1 52 aと第 2環状体 1 5 0の凸部 1 50 cとをォスメス嵌合させている。溝 1 5 2 aと凸部 1 50 cとの間には，駆動軸 1 2 4の回動を円滑にするための軸受 1 54が介装されている。なお，第 1環状体 1 52と第 2環状体 1 50とはォスメス嵌合されていればよく，いずれの部材にォス部（凸部）またはメス部（溝部）を形成するかについては，設計変更事項である。かかる構成により，駆動軸 1 24 (第 1環状体 1 52 ) の昇降動作時にはォス部（凸部）とメス部（溝部）とを嚙み合せてベローズ 1 48 (第 2環状体 1 50) も同時に昇降させ，駆動軸 1 24 (第 1環状体 1 52) の回転動作時にはメス部（溝部）内でォス部（凸部）を回転摺動させて，駆動軸 1 24 (第 1環状体 1 5 2) のみを回転させて，ベローズ 1 48 (第 2環状体 1 50) を回転させない構造が構築できる。このように，本実施の形態によれば，ベローズ 1 48が回転しないので，ベローズ 1 48がねじれて損傷することがない。また，第 2環状体 1 50の貫通口 1 50 a内壁と，駆動軸 1 24 との間には，本実施の形態にかかるシール部材である Oリング 1 5 6が配置されている。該 Oリング 1 56は，上述した Oリング 1 2 5と略同一に構成され，駆動軸 1 24と貫通口 1 50 aの内壁に気密に密着している。駆動軸 1 24の Oリング 1 56との接触面には，潤滑剤 1 5 7が塗布され，駆動軸 1 2 4の回転動作の円滑化が図られている。かかる構成により，ベローズ 1 4 8と第 2環状体 1 5 0と第 1 力セット室 1 0 4の底部 1 0 4 cで囲われた空間（以下，「ベロ一ズ内空間」という。） 1 5 8内と，第 1真空カセッ卜室 1 0 4内とを気密に分離することができる。このため，例えば，駆動軸 1 2 4の第 1環状体 1 5 2と第 2環状体 1 5 0との間に介装された軸受などから発生するコンタミネ一ションが外部に漏出するような事態を回避することができる。また，第 1真空カセット室 1 0 4内における潤滑剤 1 2 7が塗布された駆動軸 1 2 4の露出面も最小限に抑えることが可能なので，潤滑剤 1 2 7に起因する汚染も最小限に抑えることが可能である。本実施の形態にかかる第 1真空カセット室 1 0 4には，第 1真空カセット室 1 0 4内空間を真空引きして，圧力調整するための真空ポンプ 1 6 0がバルブ 1 6 2 aを介して接続されている。この真空ポンプ 1 6 0は，同時に，バルブ 1 6 2 bを介して，ベローズ内空間 1 5 8にも接続されておリ，ベローズ内空間 1 5 8の圧力調整を行うことも可能である。バルブ 1 6 2 a， 1 6 2 bを両方とも開いて真空引きすることにより，第 1真空カセット室 1 0 4内とベローズ内空間 1 5 8との圧力を略同一に調整することが可能となり，ベロ一ズ 1 4 8内外の圧力差によリベローズに負荷がかかり，ベローズにへこみ等の損傷が生じる事態を回避することが可能である。なお図示の例では，一台の真空ポンプを用いて，第 1真空カセット室 1 0 4内空間とベローズ内空間 1 5 8との圧力調整を行うように構成したが，各空間に対して，個別の真空ポンプなどの圧力調整手段を接続するように構成しても構わない。図示は省略している力，第 1真空カセット室 1 0 4内の圧力を略大気圧まで昇圧させるために，第 1真空カセット室 1 0 4内に不活性ガスを供給する手段とベロ一ズ内空間 1 5 8とに不活性ガスを導入する手段とが設けられている。それぞれの不活性ガス導入経路に設けられたバルブの開閉を制御することにより，第 1真空カセット室 1 0 4内とベローズ内空間 1 5 8との圧力を略同一に調整することが可能となる。また，ベロ一ズ内空間 1 5 8の真空引き方法，不活性ガスの供給方法に従って， Oリング 1 2 5， 1 5 6のいずれか一方または双方が第 1真空カセッ卜室 1 0 4内外を気密にシールするシール部材として機能する。例えば，バルブ 1 6 2 aと 1 6 2 b を同時に開いて真空引きする場合には， Oリング 1 2 5が第 1真空カセット室 1 0 4内外を気密にシールするシール部材として機能し， Oリング 1 5 6は潤滑剤 1 2 7やパーティクルが第 1真空カセット室 1 0 4内に侵入するのを防止するシール部材として機能する。第 1真空カセット室 1 0 4内とベローズ内空間 1 5 8とを個別に真空引きする場合には， Oリング 1 5 6が第 1真空カセット室 1 0 4内外を気密にシールするシール部材として，および潤滑剤 1 2 7ゃパ —ティクルが第 1真空カセット室 1 0 4内に侵入するのを防止するシール部材として機能する。

(第 2の実施の形態）次に，図 3を参照しながら，本発明の第 2の実施の形態について説明する。なお，上述した処理装置 1 0 0と略同一の機能および構成を有する構成要素については，同一の符号を付することによリ，重複説明を省略する。本実施の形態は，シール機構 2 0 0を構成するべローズ 1 4 8が，駆動軸 1 2 4および載置台 1 2 2と連動して昇降動作するのみならず，回転動作もする点に特徴がある。以下，本実施の形態にかかるシール機構 2 0 0の構造について説明する。第 1真空カセッ卜室 1 0 4の底部 1 0 4 cには，開口 2 0 2が形成されている。この開口 2 0 2内には，回転体 2 0 4が回動自在にはめ込まれている。かかる構成により，回転体 2 0 4は，第 1真空カセット室 1 0 4の底部 1 0 4 cの一壁を成している。回転体 2 0 4の側部には，溝部 2 0 4 aが形成されている。この溝部 2 0 4 a は，開口 2 0 2の内壁に形成された凸部 2 0 2 aにォスメス嵌合することが可能である。さらに溝部 2 0 4 aと凸部 2 0 2 aとの間には，回転体 2 0 4の回転動作を円滑にするために，ベアリング 2 0 6が介装されている。かかる構成により，回転体 2 0 4は，上記底部 1 0 4 cに回動自在に支持される。なお，回転体 2 0 4と開口 2 0 2とはォスメス嵌合されればよく，いずれの部材にォス部（凸部）またはメス部（溝部）を形成するかについては設計変更事項である。回転体 2 0 4と開口 2 0 2との間には，本実施の形態にかかるシ一ル部材である Oリング 2 0 8が介装されている。かかる構成により，回転体 2 0 4の回動を妨げることなく，第 1真空カセット室 1 0 4内を気密に密閉することができる。また，回転体 2 0 4の Oリング 2 0 8との接触面，およびベアリング 2 0 6との接触面には，潤滑剤 2 1 0が塗布されている。このため，回耘体 2 0 4をスムーズに回動させることができる。ただし，回転体 2 0 4は，後述の如く上下動しないため，潤滑剤 2 1 0が第 1真空カセット室 1 0 4内に露出して汚染することはない。回転体 2 0 4の略中央には，貫通口 2 0 4 bが形成されている。貫通口 2 0 4 b内には，駆動軸 1 2 4が挿入されている。駆動軸 1 2 4は，第 1真空カセット室 1 0 4内の載置台 1 2 2と，外部の駆動機構 1 2 6とを接続している。貫通口 2 0 4 bの内壁と駆動軸 1 2 4との間には，本実施の形態にかかるシール部材である Oリング 1 2 5が介装されている。さらに，駆動軸 1 2 4の Oリング 1 2 5 との接触面には，潤滑剤 1 2 7が塗布されている。かかる構成によリ，駆動軸 1 2 4の回動および上下動を妨げることなく，後述のベローズ内空間 2 1 2内を気密に密閉することができる。載置台 1 2 2の駆動軸 1 2 4に対してオフセットした位置には補助棒 1 2 1が取り付けられている。この補助棒 1 2 1 は，回転体 2 0 4に形成された貫通口 2 0 4 cを貫通して，載置台 1 2 2の回転動作に応じて回動しながら回転体 2 0 4を支承することが可能である。貫通口 2 0 4 cの内壁と駆動軸 1 2 4との間には，本実施の形態にかかるシール部材である Oリング 1 2 9が介装されている。さらに，駆動軸 1 2 4の Oリング 1 2 9との接触面には，潤滑剤 1 3 1が塗布されている。かかる構成により，駆動軸 1 2 4の回動および上下動を妨げることなく，後述のベローズ内空間 2 1 2内を気密に密閉することができる。駆動軸 1 2 4は，本実施の形態にかかるベローズ 1 4 8により周囲を囲われている。ベローズ 1 4 8の両端は，それぞれ載置台 1 2 2と回転体 2 0 4に気密に接続されている。かかる構成により，回転体 2 0 4とべローズ 1 4 8と載置台 1 2 2により囲われたベローズ内空間 2 1 2内は，第 1真空カセット室 1 0 4内から気密に隔離される。また，ベローズ内空間 2 1 2と第 1真空カセット室 1 0 4 内空間は，真空ポンプ 1 6 0により略同一の圧力に圧力調整することが可能である。なお，その他の構成は，上述した処理装置 1 0 0 と同一であるので詳細説明は省略する。本実施の形態は，以上のように構成されており，駆動機構 1 2 6 を作動させて，駆動軸 1 2 4を回動させると，載置台 1 2 2が回転し，その回転に応じて，補助棒 1 2 1 の作用により回転体 2 0 4も同時に回動し，それに連動してベローズ 1 4 8を回動させることができる。また，駆動機構 1 2 6を作動させて，駆動軸 1 2 4を昇降させると，載置台 1 2 2，ベローズ 1 4 8，補助棒 1 2 1 もその昇降動作に伴って昇降動作する。このように，本実施の形態によれば，載置台 1 2 2とべローズ 1 4 8とを一体的に回転および昇降動作させるので，ベローズ 1 4 8 を載置台 1 2 2に接続することが可能となり，第 1真空カセット室 1 0 4内に延伸する駆動軸 1 2 4の周囲全体を気密に囲うことができる。その結果，駆動軸 1 2 4の動作に起因するコンタミネ一ションが外部の第 1真空カセット室 1 0 4内に漏出することが防止できる。また，駆動軸 1 2 4に塗布される潤滑剤 1 2 7， 1 3 1の第 1 真空カセット室 1 0 4内に対する影響も防止できる。第 1の実施の形態と同様に，ベローズ内空間 2 1 2の真空引き方法，不活性ガスの供給方法に従って， Oリング 2 0 8， 1 2 5 ( 1 2 9 ) のいずれか一方または双方が第 1真空カセット室 1 0 4内外を気密にシールするシール部材として機能する。また，駆動軸 1 2 4にポールスプライン機構を使用して，回転体 2 0 4を駆動軸 1 2 4と一体的に回転させる場合には，補助棒 1 2 1 は不要となる。なお，この場合には，ボールスプライン機構を真空シールするためのシール機構が設けられる。以上，本発明の好適な実施の形態について，添付図面を参照しながら説明したが，本発明はかかる構成に限定されるものではない。特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇において，当業者であれば，各種の変更例および修正例に想到し得るものであり，それら変更例および修正例についても本発明の技術的範囲に属するものと了解される。例えば，上記実施の形態において，シール機構を真空カセット室の載置台の駆動機構に適用する構成を例に挙げて説明したが，本発明はかかる構成に限定されない。本発明は，例えば真空搬送室内に配された被処理体の位置合わせ装置（オリエンタ）の載置台を駆動する駆動機構にも適用することができる。

産業上の利用の可能性

本発明は，真空処理室内に配される被駆動体と，前記真空処理室外に配される駆動手段と，前記被駆動体と前記駆動手段とを連結して前記駆動手段の駆動力を前記被駆動体に伝達する駆動軸とを備えた真空処理装置に適用することが可能であり，特に，半導体装置や L C D基板などの製造工程に適用可能である。

Claims

請求の範囲

( 1 ) 真空処理室内に配される被駆動体と，前記真空処理室外に配される駆動手段と，前記被駆動体と前記駆動手段とを連結して前記駆動手段の駆動力を前記被駆動体に伝達する駆動軸とを備えた真空処理装置において：前記真空処理室内において前記駆動軸に固定された第 1環状体と，前記第 1環状体に対して回動自在に支承される第 2環状体と，前記駆動軸の周囲を気密に封止するように前記第 2環状体と前記真空処理室の内壁とを接続し前記駆動軸の昇降に応じて伸縮自在なベローズと，を備えたことを特徴とする，真空処理装置。

( 2 ) 前記第 1環状体と前記第 2環状体はォスメス嵌合されていることを特徴とする，請求項 1 に記載の真空処理装置。

( 3 ) 前記第 2環状体は，前記駆動軸の動作を許容する第 1 シール部材を介して前記駆動軸を気密に囲むことを特徴とする，請求項 1 に記載の真空処理装置。

( 4 ) 前記駆動軸は，前記駆動軸の動作を許容する第 2シール部材を介して前記真空処理室の内壁を気密に貫通していることを特徴とする，請求項 1 に記載の真空処理装置。

( 5 ) さらに，前記べローズにより気密に封止された空間と前記真空処理室内の圧力を略同一に保持するように，前記べローズにより気密に封止された空間の圧力を調整する圧力調整手段を備えたことを特徴とする，請求項 1 に記載の真空処理装置。

( 6 ) 真空処理室内に配される被駆動体と，前記真空処理室外に配される駆動手段と，前記被駆動体と前記駆動手段とを連結して前記駆動手段の駆動力を前記被駆動体に伝達する駆動軸とを備えた真空処理装置において：前記真空処理室の壁体に形成される開口に対して回動自在に支承され前記駆動軸が貫通する回転体と，前記駆動軸の周囲を気密に封止するように前記被駆動体と前記回転体とを接続し前記駆動軸の昇降に応じて伸縮自在なべローズと，を備えたことを特徴とする，真空処理装置。

( 7 ) 前記回転体は，前記回転体の動作を許容する第 1 シール部材を介して前記開口に対して気密に支承されていることを特徴とする，請求項 6に記載の真空処理装置。

( 8 ) 前記回転体と前記開口はォスメス嵌合されていること特徴とする，請求項 6に記載の真空処理装置。 ( 9 ) 前記回転体は，前記駆動軸の動作を許容する第 2シール部材を介して前記駆動軸を気密に囲むことを特徴とする，請求項 6に記載の真空処理装置。

( 1 0 ) 前記駆動軸に対してオフセットした位置には，前記回転体を貫通するとともに前記被駆動体の回動動作に応じて回動しながら前記回転体を支承する補助軸が設けられることを特徴とする，請求項 6に記載の真空処理装置。 ( 1 1 ) 前記補助軸は，前記補助軸の動作を許容する第 3シール部材を介して前記回転体を気密に貫通していることを特徴とする，請求項 1 0に記載の真空処理装置。

( 1 2 ) さらに，前記べローズにより気密により封止された空間と前記真空処理室内の圧力を略同一に保持するように，前記べローズにより気密に封止された空間の圧力を調整する圧力調整手段を備えたことを特徴とする，請求項 6に記載の真空処理装置。