TWI827891B - 波紋管結構、調整垂直度的方法及其電漿處理裝置 - Google Patents
波紋管結構、調整垂直度的方法及其電漿處理裝置 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI827891B TWI827891B TW109139178A TW109139178A TWI827891B TW I827891 B TWI827891 B TW I827891B TW 109139178 A TW109139178 A TW 109139178A TW 109139178 A TW109139178 A TW 109139178A TW I827891 B TWI827891 B TW I827891B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- bellows
- adjustment block
- shaft
- verticality
- adjustment
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 title claims description 5
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32798—Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32431—Constructional details of the reactor
- H01J37/32798—Further details of plasma apparatus not provided for in groups H01J37/3244 - H01J37/32788; special provisions for cleaning or maintenance of the apparatus
- H01J37/32807—Construction (includes replacing parts of the apparatus)
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Diaphragms And Bellows (AREA)
Abstract
本發明涉及一種波紋管結構及其調整波紋管軸的垂直度的方法。波紋管結構包括波紋管軸、波紋管本體及調整塊。波紋管本體套設波紋管軸。調整塊可調整套設位置地套設於波紋管軸，用於改變波紋管軸相對於波紋管本體徑向的垂直度。本發明透過調整塊套設並調整波紋管軸，以達到使波紋管軸具有更好的垂直度的功效。
Description
本發明涉及一種半導體裝置的技術領域，特別涉及一種波紋管結構及調整波紋管軸相對於波紋管本體徑向的垂直度的方法。
一般來說，波紋管主要是應用在電漿處理裝置中的真空腔體內部，波紋管中設有波紋管軸，而波紋管軸與波紋管本體的相對位置有時相較於標準位置會具有誤差。然而，現有的波紋管結構並不具有可調整波紋管軸的功能，而無法對波紋管軸進行調整。
本發明的目的在於提供一種波紋管結構及其調整波紋管軸的垂直度的方法，用以解決前述先前技術中所面臨的問題。
為了達到上述目的，本發明的第一技術方案是提供一種波紋管結構包括波紋管軸、波紋管本體及調整塊。波紋管本體套設於波紋管軸。調整塊可調整套設位置地套設於波紋管軸，用於改變波紋管軸相對於波紋管本體徑向的垂直度。
較佳地，調整塊設置在波紋管本體中且和波紋管本體的相對位置可調。
較佳地，調整塊與波紋管本體之間具有彈性體，複數個鎖固元件分別穿過調整塊的周緣並可調整鬆緊地鎖固在波紋管本體對應彈性體的一面上。
較佳地，調整塊對應波紋管軸的一側形成凸部。
較佳地，波紋管本體對應彈性體的面下凹而形成凹部，調整塊及彈性體位於凹部中。
較佳地，波紋管本體包括容納調整塊和波紋管軸穿過的一通道，調整塊可沿通道上下移動。
較佳地，調整塊具有供波紋管軸穿過的錐形通孔，錐形通孔對應波紋管軸呈錐狀的一端，調整塊沿波紋管本體的通道移動使得調整塊的錐形通孔與波紋管軸的呈錐狀的一端匹配，用於調整波紋管軸相對於波紋管本體徑向的垂直度。
較佳地，波紋管本體套設且不接觸波紋管軸。
為了達到上述目的，本發明的第二技術方案是提供一種調整波紋管軸的垂直度的方法，其包括下列步驟：將波紋管本體套設於波紋管軸外側；將調整塊套設於波紋管軸外側；調整塊位於波紋管本體和波紋管軸之間或位於波紋管本體上方；改變調整塊與波紋管本體之間的相對位置，使得調整塊與波紋管軸互相抵靠，以改變波紋管軸相對於波紋管本體徑向的垂直度。
較佳地，調整波紋管軸的垂直度的方法進一步包括下列步驟：在調整塊與波紋管本體之間設置彈性體；將複數個鎖固元件分別穿過調整塊和彈性體；調節至少一個鎖固元件，透過改變鎖固元件對應位置的彈性體的厚度，以改變調整塊和波紋管本體之間的相對位置，進而實現調整塊對波紋管軸相對於波紋管本體徑向的垂直度的調整。
較佳地，調整波紋管軸的垂直度的方法進一步包括下列步驟：設置波紋管本體包括容納調整塊上下移動的一通道；設置調整塊用於容納波紋管軸的錐形通孔和波紋管軸靠近調整塊且呈錐形的一端具有相互匹配的錐度；當調整塊沿波紋管本體的通道向下移動時，調整塊的錐形通孔和波紋管軸的呈錐形的一端的相互配合，以實現對波紋管軸相對於波紋管本體徑向的垂直度的調節。
為了達到上述目的，本發明的第三技術方案是提供一種電漿處理裝置，包括真空反應腔；真空反應腔包括第一技術方案中提供的波紋管結構，波紋管結構用於實現真空環境和大氣環境的隔離。
與先前技術相比，本發明透過調整塊套設並調整波紋管軸，以達到使波紋管軸相對於波紋管本體徑向的垂直度具有更好的垂直度的功效。
100,200:波紋管結構
110,210:波紋管軸
120,220:波紋管本體
121:凹部
130,230:調整塊
131:凸部
140:彈性體
150:鎖固元件
222:通道
232:錐形通孔
S1,S2,S3,S4:步驟
圖1是本發明的波紋管結構的第一實施例的調整前的示意圖；圖2是本發明的波紋管結構的第一實施例的調整後的示意圖；圖3是本發明的波紋管結構的第二實施例的調整前的示意圖；圖4是本發明的波紋管結構的第二實施例的調整後的示意圖；圖5是本發明的調整波紋管軸的垂直度的方法的流程圖。
為利瞭解本發明的特徵、內容與優點及其所能達成的功效，茲將本發明配合附圖，並以實施方式的表達形式詳細說明如下，而其中所使用的附圖，其主旨僅為示意及輔助說明書之用，未必為本發明實施後的真實比例與精
準配置，故不應就所附圖式的比例與配置關係以解讀或局限本發明於實際實施上的權利範圍。
請參閱圖1至圖4，圖1是本發明的波紋管結構的第一實施例的調整前的示意圖；圖2是本發明的波紋管結構的第一實施例的調整後的示意圖；圖3是本發明的波紋管結構的第二實施例的調整前的示意圖；以及圖4是本發明的波紋管結構的第二實施例的調整後的示意圖。
實施例1：
如圖1和圖2所示，本發明提供了一種波紋管結構100，包括了波紋管軸110、波紋管本體120及調整塊130。
上述所提到的波紋管本體120用以套設波紋管軸110。並且，調整塊130則是可調整套設位置地套設於波紋管軸110，用於改變波紋管軸110相對於波紋管本體120徑向的垂直度。
其中，波紋管結構100的調整塊130與波紋管本體120之間具有彈性體140，複數個鎖固元件150分別穿過調整塊130的周緣並可調整鬆緊地鎖固在波紋管本體120對應彈性體140的一面上。
其中，調整塊130對應波紋管軸110的一側形成凸部131。
另一方面，波紋管本體120對應彈性體140的一面可下凹以形成凹部121，調整塊130及彈性體140設置在凹部121中。然而，上述僅為舉例，並不以此為限。此外，波紋管本體120套設且不接觸波紋管軸110。
調節至少一個鎖固元件150，透過改變位於鎖固元件150對應位置的彈性體140的厚度，使其與被調節的鎖固元件150位於同一直徑，且位於波紋管軸110上另一側的調整塊130向被調節的鎖固元件150方向傾斜，進而使得此處調整塊的凸部131推動波紋管軸110，使波紋管軸110向被調節的鎖固元件150方向傾斜，最終實現波紋管軸110相對於波紋管本體120徑向的垂直度調節。透過
改變調整塊130和波紋管本體120之間的相對位置，實現調整塊130對波紋管軸110相對於波紋管本體120徑向的垂直度的調整。
本發明進一步提供了一種調整波紋管軸110的垂直度的方法，此方法是基於上述提供的波紋管結構100。請參閱圖5，其為本發明的調整波紋管軸110的垂直度的方法的流程圖。本發明的調整波紋管軸110的垂直度的方法，其包括下列步驟：
步驟S1：將波紋管本體120套設於波紋管軸110外側。
步驟S2：將調整塊130套設於波紋管軸110外側。
步驟S3：調整塊130位於波紋管本體120上方。
步驟S4：改變調整塊130與波紋管本體120之間的相對位置，使得調整塊130與波紋管軸110互相抵靠，以改變波紋管軸110相對於波紋管本體120徑向的垂直度。
其中，改變調整塊130與波紋管本體120之間的相對位置進一步包括以下步驟：
第一步：在調整塊130與波紋管本體120之間設置彈性體140。
第二步：將複數個鎖固元件150分別穿過調整塊130和彈性體140。
第三步：調節至少一個鎖固元件150，透過改變位於鎖固元件150對應位置的彈性體140的厚度，以改變調整塊130和波紋管本體120之間的相對位置，進而實現調整塊130對波紋管軸110相對於波紋管本體120徑向的垂直度的調整。
值得一提的是，本發明進一步提供了一種電漿處理裝置，包括真空反應腔。真空反應腔包括上述提供的波紋管結構100，波紋管結構100用於實現真空環境和大氣環境的隔離。波紋管結構100主要應用在電漿處理裝置中的真
空腔體內部，例如真空腔體內部的上下運動部件上，常用的部件有縱切閥後面的擋板組件等。然而，波紋管結構可應用於很多部件中，故在此並不限定。
實施例2：
如圖3及圖4所示，本發明提供了一種波紋管結構200，包括了波紋管軸210、波紋管本體220及調整塊230。
上述所提到的波紋管本體220用以套設波紋管軸210。並且，調整塊230則是可調整套設位置地套設波紋管軸210，用於改變波紋管軸210相對於波紋管本體220徑向的垂直度。
其中，調整塊230設置在波紋管本體220中且和波紋管本體220的相對位置可調。波紋管結構200的波紋管本體220包括容納調整塊230和波紋管軸210穿過的一通道222，調整塊230可沿通道222上下移動。
其中，調整塊230具有供波紋管軸210穿過的錐形通孔232，錐形通孔232對應於波紋管軸210呈錐狀的一端，調整塊230沿波紋管本體220的通道222移動使得調整塊230的錐形通孔232與波紋管軸210的呈錐狀的一端匹配，用於調整波紋管軸210相對於波紋管本體220徑向的垂直度。
另一方面，波紋管本體220套設且不接觸波紋管軸210。
本發明進一步提供了一種調整波紋管軸210的垂直度的方法，此方法是基於上述提供的波紋管結構200。請參閱圖5，其為本發明的調整波紋管軸210的垂直度的方法的流程圖。本發明的調整波紋管軸210的垂直度的方法，其包括下列步驟：
步驟S1：將波紋管本體220套設於波紋管軸210外側。
步驟S2：將調整塊230套設於波紋管軸210外側。
步驟S3：調整塊230位於波紋管本體220和波紋管軸210之間。
步驟S4：改變調整塊230與波紋管本體220之間的相對位置，使得調整塊230與波紋管軸210互相抵靠，以改變波紋管軸210相對於波紋管本體220徑向的垂直度。
其中，改變調整塊230與波紋管本體220之間的相對位置進一步包括以下步驟：
第一步：設置波紋管本體220包括容納調整塊230上下移動的一通道222。
第二步：設置調整塊230用於容納波紋管軸210的錐形通孔232和波紋管軸210靠近調整塊230且呈錐形的一端具有相互匹配的錐度。
第三步：當調整塊230沿波紋管本體220的通道222向下移動時，調整塊230的錐形通孔232和波紋管軸210的呈錐形的一端的相互配合，以實現對波紋管軸210相對於波紋管本體220徑向的垂直度的調節。
值得一提的是，本發明進一步提供了一種電漿處理裝置，包括真空反應腔。真空反應腔包括上述提供的波紋管結構200，波紋管結構200用於實現真空環境和大氣環境的隔離。波紋管結構200主要應用在電漿處理裝置中的真空腔體內部，例如真空腔體內部的上下運動部件上，常用的部件有縱切閥後面的擋板組件等。然而，波紋管結構可應用於很多部件，故在此並不限定。
與先前技術相比，本發明中透過調整塊套設於波紋管軸並用於調整波紋管軸，以達到使波紋管軸相對於波紋管本體徑向的垂直度具有更好的垂直度的功效。
儘管本發明的內容已經透過上述較佳實施例作了詳細說明，但應當認識到上述的說明不應被認為是對本發明的限制。在本領域具有通常知識者
閱讀了上述內容後，對於本發明的多種修改和替代都將是顯而易見的。因此，本發明的保護範圍應由所附的申請專利範圍來限定。
100:波紋管結構
110:波紋管軸
120:波紋管本體
121:凹部
130:調整塊
131:凸部
140:彈性體
150:鎖固元件
Claims (7)
- 一種波紋管結構，包括：一波紋管軸；一波紋管本體，套設於該波紋管軸；以及一調整塊，可調整套設位置地套設於該波紋管軸，用於改變該波紋管軸相對於該波紋管本體徑向的垂直度；該調整塊和該波紋管本體的相對位置係為可調整的；其中該調整塊與該波紋管本體之間具有一彈性體，複數個鎖固元件分別穿過該調整塊的周緣並可調整鬆緊地鎖固在該波紋管本體對應該彈性體的一面上；其中，透過改變位於該鎖固元件對應位置的該彈性體的厚度，以改變該波紋管軸相對於該波紋管本體徑向的垂直度；或者，其中該波紋管本體包括容納該調整塊並供該波紋管軸穿過的一通道，該調整塊沿該通道上下移動；其中該調整塊具有供該波紋管軸穿過的一錐形通孔，該錐形通孔對應該波紋管軸呈錐狀的一端，該調整塊沿該波紋管本體的該通道移動使得該調整塊的該錐形通孔與該波紋管軸的呈錐狀的該端匹配，用於調整該波紋管軸相對於該波紋管本體徑向的垂直度。
- 如請求項1所述之波紋管結構，其中該調整塊設置在該波紋管本體中。
- 如請求項1所述之波紋管結構，當該調整塊與該波紋管本體之間具有該彈性體，複數個鎖固元件分別穿過該調整塊的周緣並可調整鬆緊地鎖固在該波紋管本體對應該彈性體的該面上時，其中該調整塊對應該波紋管軸的一側形成一凸部。
- 如請求項1所述之波紋管結構，其中該波紋管本體對應該彈性體的該面下凹形成一凹部，該調整塊及該彈性體位於該凹部中。
- 如請求項1所述之波紋管結構，其中該波紋管本體套設且不接觸該波紋管軸。
- 一種調整波紋管軸的垂直度的方法，包括下列步驟：將一波紋管本體套設於該波紋管軸外側；將一調整塊套設於該波紋管軸外側；該調整塊位於該波紋管本體和該波紋管軸之間或位於該波紋管本體上方；以及改變該調整塊與該波紋管本體之間的相對位置，使得該調整塊與該波紋管軸互相抵靠，以改變該波紋管軸相對於該波紋管本體徑向的垂直度；其中，在該調整塊位於該波紋管本體上方時，在該調整塊與該波紋管本體之間設置一彈性體；將複數個鎖固元件分別穿過該調整塊和該波紋管本體；以及調節至少一個該鎖固元件，透過改變該鎖固元件對應位置的該彈性體的厚度，以改變該調整塊和該波紋管本體之間的相對位置，實現該調整塊對該波紋管軸相對於該波紋管本體徑向的垂直度的調整；其中，在該調整塊位於該波紋管本體和該波紋管軸之間時，設置該波紋管本體包括容納該調整塊上下移動的一通道；以及設置該調整塊用於容納該波紋管軸的一錐形通孔和該波紋管軸靠近該調整塊且呈錐形的一端具有相互匹配的錐度；以及當該調整塊沿該波紋管本體的該通道向下移動時，該調整 塊的該錐形通孔和該波紋管軸的呈錐形的一端的相互配合，以實現對該波紋管軸相對於該波紋管本體徑向的垂直度的調節。
- 一種電漿處理裝置，包括一真空反應腔，其中該真空反應腔包括如請求項1至請求項5中的任意一項所述之波紋管結構，該波紋管結構用於實現真空環境和大氣環境之間的隔離。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201911327071.1A CN113013010B (zh) | 2019-12-20 | 2019-12-20 | 波纹管结构、调整垂直度的方法及其等离子体处理装置 |
| CN201911327071.1 | 2019-12-20 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW202139247A TW202139247A (zh) | 2021-10-16 |
| TWI827891B true TWI827891B (zh) | 2024-01-01 |
Family
ID=76382057
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW109139178A TWI827891B (zh) | 2019-12-20 | 2020-11-10 | 波紋管結構、調整垂直度的方法及其電漿處理裝置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN113013010B (zh) |
| TW (1) | TWI827891B (zh) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW391045B (en) * | 1996-05-20 | 2000-05-21 | Applied Materials Inc | Co-axial motorized wafer lift |
| WO2001020663A1 (fr) * | 1999-09-13 | 2001-03-22 | Tokyo Electron Limited | Dispositif de traitement par le vide |
| US20100108564A1 (en) * | 2003-05-15 | 2010-05-06 | Tdk Corporation | Clean device with clean box-opening/closing device |
| CN102148176A (zh) * | 2010-02-09 | 2011-08-10 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 升降装置及具有该装置的半导体器件加工设备 |
| TW201142980A (en) * | 2010-05-28 | 2011-12-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Position retention device |
| TW201709393A (zh) * | 2015-06-05 | 2017-03-01 | 應用材料股份有限公司 | 基座定位及旋轉設備及使用方法 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2815599B2 (ja) * | 1989-02-14 | 1998-10-27 | 臼井国際産業株式会社 | 細径蛇腹管の製造方法とその装置 |
| JPH10184929A (ja) * | 1996-12-25 | 1998-07-14 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 直線運動機構 |
| US6123317A (en) * | 1999-08-09 | 2000-09-26 | Aeroquip Corporation | Coupling |
| DE102011084684B3 (de) * | 2011-10-18 | 2013-03-28 | Zf Friedrichshafen Ag | Faltenbalg-Belüftung bei einem Schwingungsdämpfer |
| DE202012103436U1 (de) * | 2012-09-10 | 2013-12-11 | Beulco Gmbh & Co. Kg | Spiralwellrohranschlussverbinder |
| DE112013006469A5 (de) * | 2013-01-21 | 2015-10-08 | Engineering Center Steyr Gmbh & Co. Kg | Luftfeder |
| CN105088173B (zh) * | 2014-04-17 | 2017-10-13 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 一种半导体设备 |
| CN104201045B (zh) * | 2014-07-30 | 2017-05-24 | 天津平高智能电气有限公司 | 一种波纹管及使用该波纹管的真空灭弧室 |
| PL3015752T3 (pl) * | 2014-11-03 | 2022-01-10 | Omega Flex, Inc. | Sposób łączenia rury falistej ze złączką |
| CN204747007U (zh) * | 2015-05-21 | 2015-11-11 | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 | 波纹管夹具、波纹管组件及波纹管清洗装置 |
| CN106548970B (zh) * | 2015-09-23 | 2019-10-11 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 升降装置及半导体加工设备 |
| CN106684028B (zh) * | 2015-11-10 | 2019-05-31 | 北京北方华创微电子装备有限公司 | 承载装置、反应腔室及半导体加工设备 |
| CN107681624B (zh) * | 2017-10-31 | 2020-05-08 | 富通集团（天津）超导技术应用有限公司 | 一种超导电缆波纹管的端件装置及其使用方法 |
| JP7024162B2 (ja) * | 2018-02-05 | 2022-02-24 | Smc株式会社 | 真空パッド |
| CN209447072U (zh) * | 2019-03-06 | 2019-09-27 | 国网江苏省电力有限公司靖江市供电分公司 | 一种控制室中使用的电脑显示器 |
| CN110565055B (zh) * | 2019-10-28 | 2024-05-03 | 北京泰科诺科技有限公司 | 一种离子镀膜用引弧装置及离子镀膜装置 |
-
2019
- 2019-12-20 CN CN201911327071.1A patent/CN113013010B/zh active Active
-
2020
- 2020-11-10 TW TW109139178A patent/TWI827891B/zh active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW391045B (en) * | 1996-05-20 | 2000-05-21 | Applied Materials Inc | Co-axial motorized wafer lift |
| WO2001020663A1 (fr) * | 1999-09-13 | 2001-03-22 | Tokyo Electron Limited | Dispositif de traitement par le vide |
| US20100108564A1 (en) * | 2003-05-15 | 2010-05-06 | Tdk Corporation | Clean device with clean box-opening/closing device |
| CN102148176A (zh) * | 2010-02-09 | 2011-08-10 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 升降装置及具有该装置的半导体器件加工设备 |
| TW201142980A (en) * | 2010-05-28 | 2011-12-01 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Position retention device |
| TW201709393A (zh) * | 2015-06-05 | 2017-03-01 | 應用材料股份有限公司 | 基座定位及旋轉設備及使用方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN113013010B (zh) | 2023-09-29 |
| TW202139247A (zh) | 2021-10-16 |
| CN113013010A (zh) | 2021-06-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10288196B2 (en) | Telescopic waterproof tube structure | |
| US11313483B2 (en) | Valve core | |
| US7613292B2 (en) | Adjustable earpiece | |
| US9665137B2 (en) | Hard disk fastening apparatus and fastening member | |
| TWI673449B (zh) | 閘閥 | |
| TWI827891B (zh) | 波紋管結構、調整垂直度的方法及其電漿處理裝置 | |
| US20140251094A1 (en) | Air suction screw tightening apparatus | |
| US20150240850A1 (en) | Pipe holding device | |
| TW201922342A (zh) | 用於封閉ｃｖｄ反應器內殼之裝載開口的封閉元件 | |
| WO2021022911A1 (zh) | 角度调节装置、传感器组件和无人驾驶汽车 | |
| US8308405B2 (en) | Cutter holder | |
| CN107611069B (zh) | 机械手及半导体加工设备 | |
| US9885383B2 (en) | Rotational degree of freedom joint constraint | |
| US10276354B2 (en) | Segmented focus ring assembly | |
| JPH11337799A (ja) | レンズ鏡筒 | |
| US11150435B2 (en) | Lens apparatus | |
| WO2019161773A1 (zh) | 防错装置以及工具系统 | |
| US20200141433A1 (en) | Arrangement with an adjustment device for position adjustment of two parts connected with each other | |
| US11380571B2 (en) | Chuck assembly and method of securing electrostatic chuck | |
| TW200926333A (en) | Sealing between vacuum chambers | |
| US10182504B1 (en) | Rounded latching structure | |
| US11774017B2 (en) | Pipe connection structure and processing apparatus | |
| US4240689A (en) | Telescope reticle adjusting means | |
| TW202022245A (zh) | 緊固裝置及緊固裝置的製造方法 | |
| JP2018034240A (ja) | 入出力回路特性調整装置および入出力回路特性調整方法 |