CN113013010A - 波纹管结构、调整垂直度的方法及其等离子体处理装置 - Google Patents

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Abstract

波纹管结构、调整垂直度的方法及其等离子体处理装置。本发明涉及一种波纹管结构及其调整波纹管轴的垂直度的方法。波纹管结构包括波纹管轴、波纹管本体及调整块。波纹管本体套设波纹管轴。调整块可调整套设位置地套设波纹管轴，用于改变波纹管轴的垂直度。本发明通过调整块套设并调整波纹管轴，以达到使波纹管轴具有更好的垂直度的功效。

Description

波纹管结构、调整垂直度的方法及其等离子体处理装置
技术领域
本发明涉及半导体领域的装置，特别涉及一种波纹管结构及其调整波纹管轴的垂直度的方法。
背景技术
一般来说，波纹管主要是应用在等离子体处理装置中的真空腔体内部，波纹管中设有波纹管轴，而波纹管轴与波纹管本体的相对位置有时相较于标准位置会具有误差；然，现有的波纹管结构并不具有可调整波纹管轴的功能，是以无法对波纹管轴进行调整。
发明内容
本发明的目的在于提供一种波纹管结构及其调整波纹管轴的垂直度的方法，用以解决前述背景技术中所面临的问题。
为了达到上述目的，本发明的第一技术方案是提供一种波纹管结构包括波纹管轴、波纹管本体及调整块。波纹管本体套设波纹管轴。调整块可调整套设位置地套设波纹管轴，用于改变波纹管轴的垂直度。
可选地，调整块设置在波纹管本体中且和波纹管本体的相对位置可调。
可选地，调整块与波纹管本体之间具有弹性体，若干个锁固元件分别穿过调整块的周缘并可调整松紧地锁固在波纹管本体对应弹性体的一面上。
可选地，调整块对应波纹管轴的一侧形成凸部。
可选地，波纹管本体对应弹性体的面下凹形成凹部，调整块及弹性体位于凹部中。
可选地，波纹管本体包括一容纳调整块和波纹管轴穿过的通道，调整块可沿通道上下移动。
可选地，调整块具有供波纹管轴穿过的锥形通孔，锥形通孔对应波纹管轴呈锥状的一端，调整块沿波纹管本体的通道移动使得调整块的锥形通孔与波纹管轴的呈锥状的一端匹配，用于调整波纹管轴的垂直度。
可选地，波纹管本体套设且不接触波纹管轴。
为了达到上述目的，本发明的第二技术方案是提供一种调整波纹管轴的垂直度的方法，其包括下列步骤：将一波纹管本体套设于波纹管轴外侧；将一调整块套设于波纹管轴外侧；调整块位于波纹管本体和波纹管轴之间或位于波纹管本体上方；改变调整块与波纹管本体之间的相对位置，使得调整块与波纹管轴互相抵靠，以改变波纹管轴的垂直度。
可选地，调整波纹管轴的垂直度的方法还包括下列步骤：在调整块与波纹管本体之间设置弹性体；将若干个锁固元件分别穿过调整块和弹性体；调节至少一个锁固元件，通过改变锁固元件对应位置的弹性体的厚度，改变调整块和波纹管本体之间的相对位置，实现调整块对波纹管轴垂直度的调整。
可选地，调整波纹管轴的垂直度的方法还包括下列步骤：设置波纹管本体包括一容纳调整块上下移动的通道；设置调整块容纳波纹管轴的锥形通孔和波纹管轴靠近调整块且呈锥形的一端具有一相互匹配的锥度；当调整块沿波纹管本体的通道向下移动时，调整块的锥形通孔和波纹管轴的呈锥形的一端的相互配合，实现对波纹管轴垂直度的调节。
为了达到上述目的，本发明的第三技术方案是提供一种等离子体处理装置，包括一真空反应腔；真空反应腔包括第一技术方案中提供的波纹管结构，波纹管结构用于实现真空环境和大气环境的隔离。
与现有技术相比，本发明中通过调整块套设并调整波纹管轴，以达到使波纹管轴具有更好的垂直度的功效。
附图说明
图1是本发明的波纹管结构的第一实施例的调整前的示意图；
图2是本发明的波纹管结构的第一实施例的调整后的示意图；
图3是本发明的波纹管结构的第二实施例的调整前的示意图；
图4是本发明的波纹管结构的第二实施例的调整后的示意图；
图5是本发明的调整波纹管轴的垂直度的方法的流程图。
具体实施方式
为利了解本发明的特征、内容与优点及其所能达成的功效，兹将本发明配合附图，并以实施方式的表达形式详细说明如下，而其中所使用的附图，其主旨仅为示意及辅助说明书之用，未必为本发明实施后的真实比例与精准配置，故不应就所附的附图式的比例与配置关系解读、局限本发明于实际实施上的权利范围。
请参阅图1至图4；图1是本发明的波纹管结构的第一实施例的调整前的示意图；图2是本发明的波纹管结构的第一实施例的调整后的示意图；图3是本发明的波纹管结构的第二实施例的调整前的示意图；图4是本发明的波纹管结构的第二实施例的调整后的示意图。
实施例1：
如图1和图2所示，本发明提供了一种波纹管结构100，包括了波纹管轴110、波纹管本体120及调整块130。
上述所提到的波纹管本体120用以套设波纹管轴110；而，调整块130则是可调整套设位置地套设波纹管轴110，用于改变波纹管轴110的垂直度。
其中，波纹管结构100的调整块130与波纹管本体120之间具有弹性体140，若干个锁固元件150分别穿过调整块130的周缘并可调整松紧地锁固在波纹管本体120对应弹性体140的一面上。
其中，调整块130对应波纹管轴110的一侧形成凸部131。
另一方面，波纹管本体120对应弹性体140的面可下凹形成凹部121，调整块130及弹性体140设置在凹部121中。然，上述仅为举例，并不以此为限。此外，波纹管本体120套设且不接触波纹管轴110。
调节至少一个锁固元件150，通过改变锁固元件150对应位置的弹性体140的厚度，使得与被调节的锁固元件150位于同一直径，且位于波纹管轴上另一侧的调整块向被调节的锁固元件150方向倾斜，进而使得该处调整块的凸部131推动波纹管轴向向被调节的锁固元件150方向倾斜，最终实现波纹管轴的垂直度调节。通过改变调整块130和波纹管本体120之间的相对位置，实现调整块130对波纹管轴110垂直度的调整。
本发明还提供了一种调整波纹管轴110的垂直度的方法，该方法是基于上述提供的波纹管结构100。请参阅图5，其为本发明的调整波纹管轴110的垂直度的方法的流程图。本发明的调整波纹管轴110的垂直度的方法，其包括下列步骤：
步骤S11：将一波纹管本体120套设于波纹管轴110外侧。
步骤S12：将一调整块130套设于波纹管轴110外侧。
步骤S13：调整块130位于波纹管本体120上方。
步骤S14：改变调整块130与波纹管本体120之间的相对位置，使得调整块130与波纹管轴110互相抵靠，以改变波纹管轴110的垂直度。
其中，改变调整块130与波纹管本体120之间的相对位置还包括以下步骤：
步骤S14.1：在调整块130与波纹管本体120之间设置弹性体140。
步骤S14.2：将若干个锁固元件150分别穿过调整块130和弹性体140。
步骤S14.3：调节至少一个锁固元件150，通过改变锁固元件150对应位置的弹性体140的厚度，改变调整块130和波纹管本体120之间的相对位置，实现调整块130对波纹管轴110垂直度的调整。
值得一提的是，本发明还提供了一种等离子体处理装置，包括一真空反应腔；真空反应腔包括上述提供的波纹管结构100，波纹管结构100用于实现真空环境和大气环境的隔离。波纹管结构100主要应用在等离子体处理装置中的真空腔体内部，例如真空腔体内部的上下运动部件上，常用的部件有纵切阀后面的挡板组件等；然，波纹管结构可应用于很多部件，故在此并不限定。
实施例2：
如图3及图4所示，本发明提供了一种波纹管结构200，包括了波纹管轴210、波纹管本体220及调整块230。
上述所提到的波纹管本体220用以套设波纹管轴210；而，调整块230则是可调整套设位置地套设波纹管轴210，用于改变波纹管轴210的垂直度。
其中，调整块230设置在波纹管本体220中且和波纹管本体220的相对位置可调。波纹管结构200的波纹管本体220包括一容纳调整块230和波纹管轴210穿过的通道222，调整块230可沿通道222上下移动。
其中，调整块230具有供波纹管轴210穿过的锥形通孔232，锥形通孔232对应波纹管轴210呈锥状的一端，调整块230沿波纹管本体220的通道222移动使得调整块230的锥形通孔232与波纹管轴210的呈锥状的一端匹配，用于调整波纹管轴210的垂直度。
另一方面，波纹管本体220套设且不接触波纹管轴210。
本发明还提供了一种调整波纹管轴210的垂直度的方法，该方法是基于上述提供的波纹管结构200。请参阅图5，其为本发明的调整波纹管轴210的垂直度的方法的流程图。本发明的调整波纹管轴210的垂直度的方法，其包括下列步骤：
步骤S21：将一波纹管本体220套设于波纹管轴210外侧。
步骤S22：将一调整块230套设于波纹管轴210外侧。
步骤S23：调整块230位于波纹管本体220和波纹管轴210之间。
步骤S24：改变调整块230与波纹管本体220之间的相对位置，使得调整块230与波纹管轴210互相抵靠，以改变波纹管轴210的垂直度。
其中，改变调整块230与波纹管本体220之间的相对位置还包括以下步骤：
步骤S24.1：设置波纹管本体220包括一容纳调整块230上下移动的通道222。
步骤S24.2：设置调整块230容纳波纹管轴210的锥形通孔232和波纹管轴210靠近调整块230且呈锥形的一端具有一相互匹配的锥度。
步骤S24.3：当调整块230沿波纹管本体220的通道222向下移动时，调整块230的锥形通孔232和波纹管轴210的呈锥形的一端的相互配合，实现对波纹管轴210垂直度的调节。
值得一提的是，本发明还提供了一种等离子体处理装置，包括一真空反应腔；真空反应腔包括上述提供的波纹管结构200，波纹管结构200用于实现真空环境和大气环境的隔离。波纹管结构200主要应用在等离子体处理装置中的真空腔体内部，例如真空腔体内部的上下运动部件上，常用的部件有纵切阀后面的挡板组件等；然，波纹管结构可应用于很多部件，故在此并不限定。
与现有技术相比，本发明中通过调整块套设并调整波纹管轴，以达到使波纹管轴具有更好的垂直度的功效。
尽管本发明的内容已经通过上述优选实施例作了详细介绍，但应当认识到上述的描述不应被认为是对本发明的限制。在本领域技术人员阅读了上述内容后，对于本发明的多种修改和替代都将是显而易见的。因此，本发明的保护范围应由所附的权利要求来限定。

Claims (12)

1.一种波纹管结构，其特征在于，包括：
波纹管轴；
波纹管本体，套设所述波纹管轴；以及
调整块，可调整套设位置地套设所述波纹管轴，用于改变所述波纹管轴的垂直度。
2.如权利要求1所述的波纹管结构，其特征在于，所述调整块设置在所述波纹管本体中且和所述波纹管本体的相对位置可调。
3.如权利要求1所述的波纹管结构，其特征在于，所述调整块与所述波纹管本体之间具有弹性体，若干个锁固元件分别穿过所述调整块的周缘并可调整松紧地锁固在所述波纹管本体对应所述弹性体的一面上。
4.如权利要求3所述的波纹管结构，其特征在于，所述调整块对应所述波纹管轴的一侧形成凸部。
5.如权利要求3所述的波纹管结构，其特征在于，所述波纹管本体对应所述弹性体的所述面下凹形成凹部，所述调整块及所述弹性体位于所述凹部中。
6.如权利要求1所述的波纹管结构，其特征在于，所述波纹管本体包括一容纳所述调整块和所述波纹管轴穿过的通道，所述调整块可沿所述通道上下移动。
7.如权利要求6述的波纹管结构，其特征在于，所述调整块具有供所述波纹管轴穿过的锥形通孔，所述锥形通孔对应所述波纹管轴呈锥状的一端，所述调整块沿所述波纹管本体的通道移动使得所述调整块的锥形通孔与所述波纹管轴的呈锥状的一端匹配，用于调整所述波纹管轴的垂直度。
8.如权利要求7所述的波纹管结构，其特征在于，所述波纹管本体套设且不接触所述波纹管轴。
9.一种调整波纹管轴的垂直度的方法，其特征在于，包括下列步骤：
将一波纹管本体套设于所述波纹管轴外侧；
将一调整块套设于所述波纹管轴外侧；
所述调整块位于所述波纹管本体和所述波纹管轴之间或位于所述波纹管本体上方；以及
改变所述调整块与所述波纹管本体之间的相对位置，使得所述调整块与所述波纹管轴互相抵靠，以改变所述波纹管轴的垂直度。
10.如权利要求9所述的调整波纹管轴的垂直度的方法，其特征在于，还包括下列步骤：
在所述调整块与所述波纹管本体之间设置弹性体；将若干个锁固元件分别穿过所述调整块和所述弹性体；以及
调节至少一个所述锁固元件，通过改变锁固元件对应位置的所述弹性体的厚度，改变所述调整块和所述波纹管本体之间的相对位置，实现所述调整块对所述波纹管轴垂直度的调整。
11.如权利要求9所述的调整波纹管轴的垂直度的方法，其特征在于，还包括下列步骤：
设置所述波纹管本体包括一容纳所述调整块上下移动的通道；
设置所述调整块容纳所述波纹管轴的锥形通孔和所述波纹管轴靠近所述调整块且呈锥形的一端具有一相互匹配的锥度；以及
当所述调整块沿所述波纹管本体的通道向下移动时，所述调整块的所述锥形通孔和所述波纹管轴的呈锥形的一端的相互配合，实现对所述波纹管轴垂直度的调节。
12.一种等离子体处理装置，包括一真空反应腔，其特征在于：所述真空反应腔包括一如权利要求1-8任一项所述的波纹管结构，所述波纹管结构用于实现真空环境和大气环境的隔离。
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