JPH10184929A - 直線運動機構 - Google Patents
直線運動機構Info
- Publication number
- JPH10184929A JPH10184929A JP8356127A JP35612796A JPH10184929A JP H10184929 A JPH10184929 A JP H10184929A JP 8356127 A JP8356127 A JP 8356127A JP 35612796 A JP35612796 A JP 35612796A JP H10184929 A JPH10184929 A JP H10184929A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bellows
- linear motion
- shaft
- vacuum chamber
- lip seal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 溶接ベローズを設計寿命まで使用することが
できる直線運動機構を提供する。 【解決手段】 ベローズ内の直線運動シャフトとベロー
ズフランジ間の空間をリップシールにより密閉し、か
つ、直線運動シャフトに、前記シールの前後を連通する
貫通孔を配設したことを特徴とする直線運動機構。
できる直線運動機構を提供する。 【解決手段】 ベローズ内の直線運動シャフトとベロー
ズフランジ間の空間をリップシールにより密閉し、か
つ、直線運動シャフトに、前記シールの前後を連通する
貫通孔を配設したことを特徴とする直線運動機構。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は直線運動機構に関す
る。更に詳細には、本発明はベローズフランジを使用す
る直線運動機構に関する。
る。更に詳細には、本発明はベローズフランジを使用す
る直線運動機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】平行平板型のプラズマＣＶＤ装置では、
成膜処理において上部電極とサセプタとの間隔を調整す
るために、サセプタを昇降可能に構成することが行われ
る。図２は、このような目的に使用される直線運動機構
の一例の部分概要断面図である。
成膜処理において上部電極とサセプタとの間隔を調整す
るために、サセプタを昇降可能に構成することが行われ
る。図２は、このような目的に使用される直線運動機構
の一例の部分概要断面図である。
【０００３】図２において、符号１００は、例えば、プ
ラズマＣＶＤ装置などの真空チャンバ１００の底板１０
２を示す。底板の適当な箇所に開口部１０４が設けら
れ、この開口部１０４を通して直線運動シャフト１０６
が真空チャンバ１００内に挿入される。図示されていな
いが、直線運動シャフト１０６の上端にはサセプタなど
が取り付けられる。そして、この真空チャンバ１００内
への直線運動の導入機構には図示されているような溶接
ベローズ１０８が多用される。シャフト１０６の昇降に
応じてベローズ１０８が伸縮する。ベローズ１０８は真
空を破らないように、そのフランジ１１０の一端は底板
１０２に固着され、他端はシャフト１０６の張出部上面
に固着される。従って、ベローズの内部は真空チャンバ
１００と連通し、チャンバと同じ真空状態が維持され
る。
ラズマＣＶＤ装置などの真空チャンバ１００の底板１０
２を示す。底板の適当な箇所に開口部１０４が設けら
れ、この開口部１０４を通して直線運動シャフト１０６
が真空チャンバ１００内に挿入される。図示されていな
いが、直線運動シャフト１０６の上端にはサセプタなど
が取り付けられる。そして、この真空チャンバ１００内
への直線運動の導入機構には図示されているような溶接
ベローズ１０８が多用される。シャフト１０６の昇降に
応じてベローズ１０８が伸縮する。ベローズ１０８は真
空を破らないように、そのフランジ１１０の一端は底板
１０２に固着され、他端はシャフト１０６の張出部上面
に固着される。従って、ベローズの内部は真空チャンバ
１００と連通し、チャンバと同じ真空状態が維持され
る。
【０００４】ところで、プラズマＣＶＤ装置などの真空
チャンバ１００内は成膜処理の進行につれて、チャンバ
の内壁面にフレーク１１２などが付着してくる。このた
め、適当なインターバルでチャンバ内部をクリーニング
することが行われている。しかし、チャンバの内壁面を
完全にフレークレスの状態にするのは困難であり、多少
のフレーク残滓がチャンバ内を浮遊し、挙げ句には、こ
のベローズ内部に落下し、ベローズの内壁面に付着する
ことがある。
チャンバ１００内は成膜処理の進行につれて、チャンバ
の内壁面にフレーク１１２などが付着してくる。このた
め、適当なインターバルでチャンバ内部をクリーニング
することが行われている。しかし、チャンバの内壁面を
完全にフレークレスの状態にするのは困難であり、多少
のフレーク残滓がチャンバ内を浮遊し、挙げ句には、こ
のベローズ内部に落下し、ベローズの内壁面に付着する
ことがある。
【０００５】図示されているような溶接ベローズの寿命
は伸縮に伴う金属疲労による計算寿命により設計される
が、現実にはフレークなどの異物混入などによる破損リ
ークが発生することが多く、設計寿命まで使用できない
ことが多い。
は伸縮に伴う金属疲労による計算寿命により設計される
が、現実にはフレークなどの異物混入などによる破損リ
ークが発生することが多く、設計寿命まで使用できない
ことが多い。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、溶接ベローズを設計寿命まで使用することができる
直線運動機構を提供することである。
は、溶接ベローズを設計寿命まで使用することができる
直線運動機構を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記課題は、ベローズ内
の直線運動シャフトとベローズフランジ間の空間をリッ
プシールにより密閉し、かつ、直線運動シャフトに、前
記シールの前後を連通する貫通孔を配設することにより
解決される。
の直線運動シャフトとベローズフランジ間の空間をリッ
プシールにより密閉し、かつ、直線運動シャフトに、前
記シールの前後を連通する貫通孔を配設することにより
解決される。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１は本発明の直線運動機構の一
例の部分概要断面図である。本発明の直線運動機構１で
は、ベローズの上端フランジ１１０とシャフト１０６と
の間にリップシール３が間挿されている。このリップシ
ール３の存在により、真空チャンバ１００内を浮遊して
いるフレーク１１２などの異物がベローズ内に侵入する
ことが防止される。リップシール３の形成素材は特に限
定されないが、シャフト１０６の進退運動に伴う摺動に
より磨耗粉などが生じない素材から形成することが好ま
しい。例えば、テフロンなどの素材からリップシールを
形成することが好ましい。
例の部分概要断面図である。本発明の直線運動機構１で
は、ベローズの上端フランジ１１０とシャフト１０６と
の間にリップシール３が間挿されている。このリップシ
ール３の存在により、真空チャンバ１００内を浮遊して
いるフレーク１１２などの異物がベローズ内に侵入する
ことが防止される。リップシール３の形成素材は特に限
定されないが、シャフト１０６の進退運動に伴う摺動に
より磨耗粉などが生じない素材から形成することが好ま
しい。例えば、テフロンなどの素材からリップシールを
形成することが好ましい。
【０００９】リップシール３を使用すると、ベローズ１
０８の内部空間と真空チャンバ１００の間に圧力差が商
事、シャフト１０６の進退運動の際に、リップシール３
の気密不足による真空チャンバ１００の圧力変動が生じ
る恐れがある。このため、シャフト１０６の進退運動に
よるベローズ内部空間の圧力変化を発生させないため、
シャフト１０６内に貫通孔５を配設する。貫通孔５はシ
ャフト１０６が最も下降した状態において、真空チャン
バ１００内に向かって開口する開口端７と、ベローズ内
部空間に向かって開口する開口端９を有する。真空チャ
ンバ１００内に向かって開口する開口端７は、真空チャ
ンバ１００内において最も異物混入の可能性の低い方向
を選択して開設することが好ましい。貫通孔５の直径は
特に限定されない。シャフトの進退運動により生じるベ
ローズ空間内の圧力変化を速やかに解消させるのに必要
十分な直径であればよい。開口端７の開口直径が大きす
ぎるとフレーク１１２が貫通孔５内に侵入する可能性が
あり好ましくない。
０８の内部空間と真空チャンバ１００の間に圧力差が商
事、シャフト１０６の進退運動の際に、リップシール３
の気密不足による真空チャンバ１００の圧力変動が生じ
る恐れがある。このため、シャフト１０６の進退運動に
よるベローズ内部空間の圧力変化を発生させないため、
シャフト１０６内に貫通孔５を配設する。貫通孔５はシ
ャフト１０６が最も下降した状態において、真空チャン
バ１００内に向かって開口する開口端７と、ベローズ内
部空間に向かって開口する開口端９を有する。真空チャ
ンバ１００内に向かって開口する開口端７は、真空チャ
ンバ１００内において最も異物混入の可能性の低い方向
を選択して開設することが好ましい。貫通孔５の直径は
特に限定されない。シャフトの進退運動により生じるベ
ローズ空間内の圧力変化を速やかに解消させるのに必要
十分な直径であればよい。開口端７の開口直径が大きす
ぎるとフレーク１１２が貫通孔５内に侵入する可能性が
あり好ましくない。
【００１０】貫通孔５の開口端７又は９の一方又はリッ
プシールとベローズフランジ間に焼結フィルタなどを組
み込むと更に異物混入防止効果が上がる。
プシールとベローズフランジ間に焼結フィルタなどを組
み込むと更に異物混入防止効果が上がる。
【００１１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ベローズ内の直線運動シャフトとベローズフランジ間の
空間をリップシールにより密閉するので、真空チャンバ
内の異物がベローズ空間内に侵入することがない。その
結果、ベローズ空間内への異物混入などによるベローズ
の破損リークが効果的に防止され、ベローズを設計寿命
まで使用することができる。
ベローズ内の直線運動シャフトとベローズフランジ間の
空間をリップシールにより密閉するので、真空チャンバ
内の異物がベローズ空間内に侵入することがない。その
結果、ベローズ空間内への異物混入などによるベローズ
の破損リークが効果的に防止され、ベローズを設計寿命
まで使用することができる。
【図１】本発明の直線運動機構の一例の部分概要断面図
である。
である。
【図２】従来の直線運動機構の一例の部分概要断面図で
ある。
ある。
１ 本発明の直線運動機構 ３ リップシール ５ 貫通孔 ７ 上部開口端 ９ 下部開口端 １００ 真空チャンバ １０２ 真空チャンバ底板 １０４ 開口部 １０６ 直線運動シャフト １０８ ベローズ １１０ ベローズフランジ １１２ 異物
Claims (2)
- 【請求項１】 ベローズ内の直線運動シャフトとベロー
ズフランジ間の空間をリップシールにより密閉し、か
つ、直線運動シャフトに、前記シールの前後を連通する
貫通孔を配設したことを特徴とする直線運動機構。 - 【請求項２】 プラズマＣＶＤ装置で使用される請求項
１の直線運動機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8356127A JPH10184929A (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | 直線運動機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8356127A JPH10184929A (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | 直線運動機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10184929A true JPH10184929A (ja) | 1998-07-14 |
Family
ID=18447474
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8356127A Pending JPH10184929A (ja) | 1996-12-25 | 1996-12-25 | 直線運動機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10184929A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101053413B1 (ko) | 2008-10-02 | 2011-08-01 | 주식회사 포스코 | 로의 신축 연결부 차폐장치 |
| CN113013010A (zh) * | 2019-12-20 | 2021-06-22 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 波纹管结构、调整垂直度的方法及其等离子体处理装置 |
| US11725279B2 (en) | 2017-02-08 | 2023-08-15 | Picosun Oy | Deposition or cleaning apparatus with movable structure |
-
1996
- 1996-12-25 JP JP8356127A patent/JPH10184929A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101053413B1 (ko) | 2008-10-02 | 2011-08-01 | 주식회사 포스코 | 로의 신축 연결부 차폐장치 |
| US11725279B2 (en) | 2017-02-08 | 2023-08-15 | Picosun Oy | Deposition or cleaning apparatus with movable structure |
| CN113013010A (zh) * | 2019-12-20 | 2021-06-22 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 波纹管结构、调整垂直度的方法及其等离子体处理装置 |
| CN113013010B (zh) * | 2019-12-20 | 2023-09-29 | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 | 波纹管结构、调整垂直度的方法及其等离子体处理装置 |
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