WO2000065579A1

WO2000065579A1 - Procede et dispositif de transfert magnetique

Info

Publication number: WO2000065579A1
Application number: PCT/JP2000/002679
Authority: WO
Inventors: Hideyuki Hashi; Taizo Hamada; Toshio Makabe; Kiyokazu Toma; Tatsuaki Ishida; Yasuaki Ban; Keizo Miyata
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Priority date: 1999-04-26
Filing date: 2000-04-25
Publication date: 2000-11-02
Also published as: US20040040458A1; US6665133B1; KR20010053219A; CN100358012C; MY125225A; US6994029B2; CN1167052C; CN1492400A; CN1302431A; KR100378758B1

Description

明細書磁気転写方法および磁気転写装置技術分野

本発明は、ハードディスク装置やフロッピ一ディスク装置に用いられる磁気デイスクの製造過程の中で磁気転写記録を行う磁気転写方法および磁気転写装置に関する。

現在、代表的な磁気ディスク装置であるハードディスクドライブは、すでに面記録密度が 1 G b i t Z s q i nを超える装置が商品化され、数年後には 1 0 G b i t / s q i nの実用化が議論されるほどの急激な技術進歩が認められる。このような高記録密度を可能とした技術的背景には、線記録密度の向上もさることながら、わず力数 /i mのトラック幅の信号を S N良く再生できる磁気抵抗素子型へッドによるところが大である。

また、高記録密度に伴い磁気記録媒体に対する浮動磁気スライダの浮上量の低減化も要求されてきており、浮上中も何らかの要因でディスク /'スライダの接触が発生する可能性が増大している。このような状況下において、記録媒体にはより平滑性が要求されてきている。

ここで、へッドが狭トラックを正確に走査するためにはへッドのトラッキングサーボ技術が重要な役割を果たしている。このようなトラッキングサーボ技術を用いた現在のハードディスクドライブでは、ディスクの一周中、一定の角度間隔でトラッキング用のサーボ信^³ァドレス情報信号、再生ク口ック信号等が記録されている。ドライブ装置は、ヘッドから一定時間間隔で再生されるこれらの信号によりへッドの位置を検出し修正して、へッドが正確にトラック上を走査することを可能にしている。上述した、サ一ボ信号やアドレス情報信号、再生クロック信号等はヘッドが正確にトラック上を走査するための基準信号となるものであるから、その書き込み (以下、フォーマテイングと記す）には高い位置決め精度が必要である。現在のハードディスクドライブでは、光干渉を利用した高精度位置検出装置を組み込んだ専用のサーボ装置（以下サーボライタ）を用いて記録ヘッドを位置決めしてフォーマティングが行われている。

しかしながら、上記サーボライタによるフォーマティングには以下の課題が存在する。

第 1に、へッドを高精度に位置決めしながら多数のトラックにわたって信号を書き込むには多くの時間がかかる。生産性を上げるには多くのサーボライタを同時に稼働させなければならなレ、。

第 2に、多くのサ一ボライタの導入、維持管理には多額のコストがかかる。これらの課題はトラック密度が向上し、トラック数が多くなるほど深刻である。そこで、フォーマテイングをサーボライタではなく、予め全てのサーボ情報が書き込まれたマスタディスクと呼ばれるディスクとフォーマテイングすべき磁気ディスクを重ね合わせ外部から転写用のエネルギーを与えることによりマスタデイスクの情報を磁気デイスクに一括転写する方式が提案されている。

その一例として、特開平 1 0— 4 0 5 4 4号公報に示された磁気転写装置が挙け^られる。

同公報には、基体の表面に、情報信号に対するパターン形状で強磁性材料からなる磁性部を形成して磁気転写用マスタディスクとし、この磁気転写用マスタデイスクの表面を、強磁性薄膜あるいは強磁性粉塗布層が形成されたシート状もしくはディスク状磁気記録媒体の表面に接触させ、所定の磁界をかけることにより、磁気転写用マスタディスクに形成した情報信号に対応するパターン形状の磁化パターンを磁気記録媒体に記録する方法が開示されている。し力し、ディスクが回転しているときのへッドとディスク表面のクリアランスは通常 3 O n m程度であり、従ってディスク表面の凹凸は最大でも 2 O n m程度に押さえる必要がある。磁気記録媒体上にそれ以上の突起が存在すれば、データ記録再生時に、磁気へッドと磁気記録媒体とが接触することになる。かかる場合、接触した瞬間に磁気へッドと磁気ディスクの間隔が大となり信号の記録再生性能が低下し、また磁気ヘッドが磁気ディスクと物理的に接触することにより、磁気へッドの寿命低下の原因となっていた。

つまり、上記特開平 1 0— 4 0 5 4 4号公報に開示された磁気転写装置では、フォ一マティングがー瞬にして可能な反面、磁気転写用マスタディスクと磁気デイスクが全面にわたり接触するため、このようなヘッド、ディスク間クリアランスでも実使用に耐え得るためには厳重な表面管理が必要となる。

さらに、近年磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等のディスク状記録媒体は、小型化、薄型化、高容量化等の高性能化が進んでいるが、それに伴って上述のように高密度記録媒体への要求が高まっている。そのような要求を満たすためには、高精度で高い信頼性を有するディスク状記録媒体が必要となり、平坦性や平滑性に優れ、情報を記録する際に微細なゴミなどの付着がないディスク状記録媒体を製造することが急務となっている。

これに対し、上記従来の磁気転写装置においては、いくら厳重な管理をしても微少な異物の混入を回避することは困難であり、マスタディスクとフォーマティングすべき磁気ディスクとを重ね合わせた瞬間に、かかる異物によってマスタデイスクあるいは磁気ディスクの表面に微少な異常突起が生じていた。通常、マスタディスクの材質はシリコンであり、磁気ディスクがそれよりも硬度の低い材質、例えばアルミニウムのような場合は、マスタディスク上の異物による凸部が磁気ディスク側の窪みとして形状転写され、逆に磁気ディスクが硬度の高い材質、例えばガラスのような場合は、磁気ディスク上に存在する異物によつ' スク側に欠陥が生じていた。かかる場合はその後に磁気転写される磁気ディスクには全てその欠陥が反映され、高品質な磁気ディスクを効率良く安定に製造するのが困難であった。

そこで、本発明は、かかる微少突起の大きさを問題のないレベルにまで低減し、記録再生時にエラ一の発生しない、高品質なディスクを製造すべく、正確な磁気転写を行う磁気転写装置を実現することを目的とする。発明の開示

本発明の磁気転写方法は、磁性膜が形成された磁気転写用マスタディスクを、強磁性層が形成された磁気ディスクの表面に密着させ、外部磁界を用いて磁気転写用マスタディスクの磁性膜パターンを磁気デイスク表面に磁気転写する製造方法であって、まずダミーのディスクを用レ、て磁気転写用マスタディスクを圧着させる際に、磁気転写用マスタディスクと磁気ディスク間の気体を吸引、圧送を繰り返した後に正規の磁気ディスクを装着して磁気転写記録するものである。力かる方法をとることにより、磁気転写時の磁気転写用マスタディスク表面を異物、バリのなレ、滑らかな状態に常に保つことができ、磁気転写される磁気ディスクについては、問題となる微少突起が殆ど発生せず、高品質な磁気ディスクを製造することができる。

また、本発明の磁気転写方法は、磁気ディスク表面の欠陥を検出する欠陥検出手段をさらに備え、この欠陥検出手段により磁気ディスク表面に所定数以上の欠陥が検出された場合には、磁気転写用マスタディスクをダミーディスクと密着 z 離間させる操作を所定回数繰り返した後、ダミーディスクを磁気転写前の磁気デイスクに交換し、磁気転写用マスタディスクと密着させ、磁気転写記録を行うことで、定期的に磁気転写用マスタディスクの汚れや異物を除去するというメンテナンスを行うことが出来、長期間にわたって高品質な磁気ディスクを磁気転写する事のできる磁気転写方法を提供できる。

さらに、本発明においては、磁気転写用マスタディスク上で、ダミーディスクと密着 Z離間させる領域が、磁気転写時における磁気転写用マスタディスクから磁気ディスクへの磁気転写領域を完全に含むものとする。これにより、磁気ディスクの外周側エッジ部にもサーボ信号が正確に転写され、高品質な磁気ディスクを製造することができる。

また、本発明の磁気転写方法は、ダミーマスタディスクを磁気ディスクと密着ノ離間させる操作を所定回数繰り返した後、ダミーマスタディスクを磁気転写用マスタディスクに交換し、磁気ディスクと密着させて磁気転写を行うことにより、磁気ディスク上の異物を除去することができ、極めて滑らかな表面性および高信頼性を確保しつつ、正確な磁気転写を行うことができる。

さらに、本発明の磁気転写装置は、磁性膜が少なくとも片面に形成された磁気転写用マスタディスクを磁気ディスクに密着させ、外部磁界を印加することによつて前記磁気デイスクに前記磁気転写用マスタディスクの磁性膜パターンを磁気転写する磁気転写装置であって、転写すべき所定の情報が書き込まれた前記磁気転写用マスタディスクと、ガイド部材に摺動可能に位置決めさ、前記磁気転写用マスタディスクを保持する保持部と、通気孔が設けられ、前記磁気ディスクあるいはダミ一ディスクを支持する支持台と、前記支持台に設けられた前記通気孔に気体を給するための給気部と、前記通気孔から気体を排出するための排気部と、磁気転写するための磁界を印加するマグネットとからなる構成される。この構成により、磁気転写時の磁気転写用マスタディスク表面を異物、バリのない滑らかな状態に常に保つことができ、磁気転写される磁気ディスクには、微少突起が殆ど発生せず、高品質な磁気ディスクを製造することができる。図面の簡単な説明図 1は本発明の第 1の実施形態の工程を示すフローチヤ一ト、図 2は本発明の第 1の実施形態における磁気転写装置の断面図、

図 3は図 2の磁気転写装置において磁気転写用マスタディスクとダミーディスクとが密着したときの状態を示す磁気転写装置の断面図、

図 4は本発明の第 1の実施形態における磁気転写用マスタディスクの磁気デイスクとの接触面を示す図、

図 5は本発明の第 1の実施形態における磁気転写用マスタディスクのボス形状の 1例を示す図、

図 6は本発明の第 1の実施形態の磁気転写装置における気体の吸引、圧送時の空間 Sの気圧の時間経過を説明する図、

図 7は磁気ディスクを一方向に磁化した状態を示す斜視図、

図 8は磁気デイスクの所定の領域に、マスタディスクの磁性部のパタ一ン形状に対応した情報信号が記録された状態を示す図、

図 9はマスタディスクに形成したパターン形状に対応した情報信号を磁気デイスクに転写記録する手順を示す図、

図 1 0は本発明の第 1の実施形態における磁気転写装置で磁気転写を行った磁気ディスク表面を、異物検査装置を用いて測定したデータを示す図、

図 1 1は従来の磁気転写装置で磁気転写を行った磁気ディスク表面を、異物検査装置を用いて測定したデータを示す図、

図 1 2は磁気ディスク表面の欠陥数と吸引/圧送の回数の関係を示す図、図 1 3 Aは磁気転写用マスタ上に形成されたトラックパターンのエッジ部にできた初期状態のバリを示す図、

図 1 3 Bは吸引/圧送を繰り返した後の状態のバリを示す図、

図 1 3 Cは磁気転写用マスタ上に形成された初期状態の突起部を示す図、図 1 3 Dは吸引 Z圧送を繰り返した後の状態の突起部を示す図、図 1 4は本発明の第 1の実施形態における磁気転写用マスタの信号領域の一例を示す模式図、

図 1 5は本発明の第 1の実施形態における磁気転写用マスタの信号領域の一部拡大模式図、

図 1 6は本発明の第 1の実施形態における磁気転写用マスタの信号領域の一部断面模式図、

図 1 7は本発明の第 2の実施形態の磁気転写方法における工程を示すフローチャート、

図 1 8はダミーディスク上の潤滑剤の有無、磁気転写用マスタディスク上の異物、欠陥数と、吸引/圧送の関係を示した図、

図 1 9 Aは潤滑剤を塗布したダミーディスクを用いて磁気転写後の磁気ディスクに記録した信号の再生エンベロープを示す図、

図 1 9 Bは潤滑剤を塗布しないダミーディスクを用いて磁気転写後の磁気デイスクに記録した信号の再生エンベロープを示す図、

図 2 O Aは本発明の第 3の実施形態における磁気転写用マスタディスクをダミ一ディスクより大きくしたときの吸引 Z圧送時の関係を模式的に示した図、図 2 0 Bは本発明の第 3の実施形態における磁気ディスクの取り付け位置がダミーディスクよりずれたときの吸引 Z圧送時の関係を模式的に示した図図 2 1は本発明の第 3の実施形態における大きい磁気転写用マスタディスクに対するダミ一ディスクの密着位置の一例を示す図、

図 2 2は本発明の第 4の実施形態の磁気転写装置における工程を示すフローチャート、

図 2 3は本発明の第 4の実施形態における吸弓 I、圧送の工程を施した状態での磁気転写用マスタディスクの表面を示す図、

図 2 4は本発明の第 4の実施形態における吸引、圧送の工程を施していない状態での磁気転写用マスタディスクの表面を示す図。発明を実施するための最良の形態

以下に、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。

本発明は、磁気転写用マスタディスクの磁性膜が形成された表面をダミ一ディスクに密着させることにより磁気転写用マスタディスクを清浄化した後、磁気デイスクに磁気転写用マスタディスクを重ね合わせて磁気転写記録を行う磁気転写方法および磁気転写装置である。

本発明の各実施形態では、磁気転写用マスタディスクの磁性膜パターンを正規の磁気ディスクの表面に磁気転写する磁気転写方法および磁気転写装置について説明する。第 1の実施形態

図 1〜図 6を用いて本発明の第 1の実施形態における磁気転写方法および磁気転写装置について説明する。

図 1は、本実施形態の磁気転写方法を示すフローチャートである。図 1におレ、て、まず、正規の磁気ディスク（以下、磁気ディスク）については、例えば C o 等からなる強磁性薄膜をスパッタリング法等の公知の方法によって、磁性層としてディスク表面に形成しておく。

—方、ダミーディスクを磁気転写装置（以下、装置）に装着し、磁気転写用マスタディスク（以下、マスタディスク）をダミーディスクに近接させた後、吸引 Z圧送を繰り返した後に、磁気ディスクに交換し、磁気転写を行う。なお、マスタディスクは事前に装置装着済みであるものとする。

次に、図 1の磁気転写工程について、図 2〜図 5を用いて詳細に説明する。図 2は本実施形態における磁気転写装置の断面図であり、マスミ一ディスクが離間しているときの状態を示す。図 3はマスタディスク 2とダミ —ディスク 1が密着しているときの状態を示す。図 4はマスタディスク 2における磁気ディスクとの接触面 3を示した図であり、溝 4はマスタディスク 2の中心力放射状に広がっている。本実施形態では、溝の深さは 5 程度に設定している。

図 2において、ダミーディスク 1は吸引 Z圧送の工程の後、磁気ディスクに交換される。ダミーディスク材質はアルミニウムを使用した。マスタディスク 2の材質はアルミニウムよりも硬度の高い好ましくはシリコンを使用した。マスタデイスク 2上のダミーディスク 1との接触面 3にはマスタディスク 2の中心から放射状に広がった溝 4 (図 4参照）が設けられてある。図 2におけるマスタデイスク 2は、この溝を通る図 4の破断線 2— 2における断面を示す。

マスタディスク 2の中心部にボス 5が固着され、ダミーディスク 1の内周孔に隙間を有して嵌合している。支持台 6は、ダミーディスク 1を支持しており、中心部には空気を流すための通気孔 7が設けてある。通路 8はマスタディスク 2とダミーディスク 1の間の気体を排出、圧送するためのものである。気体は気体排出口 9および気体の排出を制御する排気弁 1 1をへて、気体排出口 9に接続された吸引ポンプ 1 0により排気される。また、給気ポンプ 1 2は通路 8に気体を圧送し、給気弁 1 3は気体の給気を制御する。ここで、給気ポンプ 1 2には、 0 . 0 1 μ mのエアーフィルタが設けられており、 0 . 0 1 μ m以上の異物が通路 8 に圧送されないように構成されている。

マスタディスク 2を保持するための保持アーム 1 4が、マスタディスク 2を保持している。保持方法としては、接着等の方法もあるが、図 2のように、保持ァ —ム 1 4に設けられた貫通孔 1 9から気体を吸引することによってマスタデイスク 2を吸着してもよい。

保持アーム 1 4はさらにガイド部材 1 6により上部のボス部を介して垂直方向に摺動自在に位置決めされている。

ただし、マスタディスク 2の位置決め方法は保持アーム 1 4によるものに限つたものではなく、例えばボス 5の外周を、磁気ディスク（ここではダミ一ディスク 1 )の內周孔に嵌合させることによつても行うことができる。かかる場合には、ボス 5の形状は図 5のように構成され、マスタディスク 2とダミーディスク 1の間の気体は、ボス 5の外周部に設けられた切り欠き部 5 1を通って排出、圧送される。

次に、図 2〜図 4を用いて吸引/圧送の工程について詳細に説明する。

まず、図 2を参照して圧送による離間の工程について説明する。排気弁 1 1を閉じて給気弁 1 3を開放した状態で給気ポンプ 1 2を動作させることによって、気体を通路 8に流し込む。すると通気孔 7には図 2の矢印 Aで示したように上方向に空気が圧送される。このことにより、通気孔 7に圧送された空気は、ボス 5 を上方向に押し上げ、さらに矢印 Bに示すように、空気は溝 4に圧送される。溝 4に圧送された空気は溝 4を通ってマスタディスク 2の中心から外周へ向かって放射状に広がる。そして、さらに溝 4からマスタディスク 2とダミーディスク 1 との隙間を通って大気へと抜ける。この空気の流れにより、マスタディスク 2やダミーディスク 1の表面に付着していた微細な異物は気体とともに外部へと排出されることになる。

図 6は吸引工程から圧送工程へ変化したときの時間経過と、マスタディスク 2 とダミーディスク 1とで挟まれた空間（以下、空間 Sと称す）の気圧との関係を示す。図 6で時間経過が 3秒のあたりから空間 Sの気圧が 3 0 k P aから瞬間的に上昇し、その後約 1秒間は大気圧以上の 1 3 0 k P aほどの気圧を保持している期間が、図 2に示したマスタディスク 2と磁気ディスク 1が離間している状態に相当する。

このとき、ダミ一ディスク 1とマスタディスク 2との間の隙間はできる限り小さく設定する方が好ましい。本実施例では約 0 . 5 mmに設定している。このことによって、ダミーディスク 1とマスタディスク 2との間の気体の流れは速くなるため、両者の間に存在する微細な異物を確実に外部へと排出することができる。本実施形態では、ダミーディスク 1とマスタディスク 2が密着した状態からマスタディスク 2が保持アーム 1 4と一体的に 0 . 5 mm上昇した時点で保持ァーム 1 4の上面がガイド部材 1 6の下面と当接することによって、ダミーディスク 1とマスタディスク 2間の距離は制御される。

次に、吸引による密着の工程にっレ、て図 3を用いて説明する。

給気ポンプ 1 2を停止させ、給気弁 1 3を閉じる。すると、マスタディスク 2 を保持した保持アーム i 4が自重で下方向に移動し、ボス 5がダミーディスク 1 の内周孔と嵌合した状態でマスタディスク 2はダミーディスク 1上に載置される。その後、排気弁 1 1を開き、排気ポンプ 1 0を作動させる。すると、図 3の矢印 Cに示したように通気孔 7の気体が下方向に排出されるため、溝 4内部、すなわち空間 Sの気体もダミーディスク 1の内周孔とボス 5との隙間を通って排出されることになる。

ここで、溝 4は図 4に示したごとく、マスタディスク 2の最外周まで抜けている形状ではないため、最外周の厚肉部分ではマスタディスク 2とダミーディスク 1とは全周にわたり密着した状態となっており、空間 Sは密閉された状態となつており、その圧力は大気圧よりも低くなる。従って、ダミーディスク 1は大気圧 1 5によりマスタディスク 2に押しつけられることとなる（図 3 )。

その結果、ダミ一ディスク 1上に存在する異物はダミーディスク 1とマスタデイスク 2との間に挟まれることになる。ここで、ダミーディスク 1とマスタディスク 2との硬度を比較すれば、ダミーディスクの方が硬度が低レ、ため、両者間に挟まれた異物はマスタディスク 2の表面を傷つけることなく、ダミーディスク 1 側にめり込む、あるいは欠陥を生じさせることとなる。また、マスタディスク 2 上に存在する微少な異常突起については、ダミーディスク 1と密着することにより平坦ィ匕されることとなる。

図 6で空間 Sの気圧が 3 0 k P aほどの期間が上記密着状態に相当する。

ただし、溝 4の形は必ずしも上記形状に限られるものではなく、溝 4がマスタディスク 2の外周まで抜けている形状の場合は、マスタディスク 2およびダミーディスク 1の外周を密閉できるような部材を設ければよい。

次に、再度図 2に示した離間工程を実施する。すなわち、排気弁 1 1を閉じ、給気弁 1 3を開き、給気ポンプ 1 2を作動させる。すると、矢印 A， Bに示すように気体が圧送され、マスタディスク 2は気体が圧送する力によって保持アーム 1 4と一体的に移動し、保持アーム 1 4の上面がガイド部材 1 6と当接した所で止まる。このとき、矢印 Bに示したように、気体は溝 4を通してマスタディスク 2の中心から外周側へ放射状に圧送された状態を保っている。そのことによって、ダミーディスク 1の表面に存在していた異物は、給気ポンプ 1 2から圧送された気体とともに外部へ排出されることとなる。

上記吸引、圧送を所定回数繰り返した後、ダミ一ディスク 1を正規の磁気ディスクと交換し、磁気ディスクに対して上記した吸引の工程を行い、磁気ディスクが磁気転写用マスタディスク 2と密着した状態で、図 3に示すように磁界印加の工程を施す。

すなわち、図 3に示すようにマグネット 1 7を矢印 D方向に移動させ、マスタディスク 2に接近させ、その距離が 1 mm程度になったときに矢印 D方向への移動を停止する。次に磁気ディスクの円周方向、すなわち、矢印 Eの向きにマグネット 1 7を 1回転以上回転させることにより、転写に必要な磁界を印加する。ここで、マスタディスク 2に形成したパターン形状に対応した情報信号を磁気ディスク 1 0 0に転写記録する手順について、図 7〜図 9を用いてさらに詳しく説明する。 W

13 まず、マグネット 1 7をマスタディスク 2に近づけた状態で、マスタディスク 2の中心軸を回転軸としてマスタディスク 2と TOにマグネット 1 7を回転させることにより、図 7の矢印で示すように磁気ディスク 1 0 0を予め一方向に磁ィ匕する（初期磁化)。

次に、上述したように、磁気ディスク 1 0 0にマスタディスク 2を位置決めして重ね合わせた状態で、マスタディスク 2と磁気ディスク 1 0 0とを均一に密着させ、その後マグネット 1 7を図 3矢印 Eと反対の向きへ回転させる。すなわち初期磁ィヒとは逆方向に磁界を印加することにより、マスタディスク 2の磁性部 2 6が磁化され、そしてマスタディスク 2に重ね合わせた磁気ディスク 1 0 0のマスタディスク 2の磁性部 2 6に対応する所定の領域 1 1 6に、図 8に示すように磁性部 2 6にマスタディスク 2のパターン形状に対応した情報信号が記録される。なお、図 8に示す矢印は、この時磁気ディスク 1に転写記録される磁化パターンの磁界の方向を示している。

図 9はその磁化処理時の様子を示しており、マスタディスク 2を磁気ディスク 1に密着させた状態で、磁気転写用マスタディスク 2に外部から磁界を印加して磁性部 2 6を磁化することによって、磁気ディスク 1 0 0の強磁 1生層 1 cに情報信号を記録することができる。すなわち、非磁性のシリコン基体 2 bに所定の情報信号に対応する配列パターン形状で強磁性薄膜からなる磁性部 2 6を形成して構成したマスタディスク 2を用いることにより、その情報信号に対応した磁化パターンとして磁気ディスク 1 0 0に磁気的に転写記録することができる。

なお、マスタディスク 2のパターンを磁気ディスク 1に転写記録する際の方法として、上述のようにマスタディスク 2を磁気ディスク 1 0 0に接触させた状態で外部磁界を印加する方法以外に、マスタディスク 2の磁个生部 2 6を予め磁ィ匕させておき、その状態でマスタディスク 2を磁気ディスク 1に密着するように接触させる方法であっても情報信号を記録することができる。ここで、完成した磁気ディスクの表面状態を異物検査装置等の測定結果として示すのが図 1 0および図 1 1であり、図 1 1は、従来の転写方法、すなわち、ダミ一ディスクを使わず前述の吸引/圧送動作を施さない状態で転写した磁気ディスク表面の状態を示す。表 2は、従来の転写方法による欠陥深さと欠陥個数との関係を示す。

図 1 1、表 2より、磁気ディスク表面には深さが 4 0 n m以上の欠陥が 2 4個存在しており、特に外周部に多く存在しているのがわかる。

これに対して、図 1 0は、ダミーディスクを用いて上記吸引 Z圧送動作を 1 0 万回行った後に正規の磁気ディスクに交換して磁気転写を行つた磁気ディスク表面の状態を示す図である。表 1は、この場合の欠陥深さと欠陥個数との関係を示す。表 1より、磁気ディスク表面に存在する 4 0 n m以上の欠陥は 2個であること力 Sわ力る。

これらの図より、ダミーディスクを用いて吸引/圧送の動作を繰り返すことによって、マスタディスク 2の表面が平滑化され、従来はマスタディスク 2上の異常突起により存在していた磁気ディスク上の欠陥が激減することがわかる。ここで、吸引 Z圧送の動作回数と欠陥深さ 4 0 n m以上の欠陥個数との関係をグラフ化したものが図 1 2であり、図 1 0より、吸引 Z圧送の動作回数を増加させる程、ディフエクト数が減少することがわかる。

また、マスタディスク 2の表面の初期状態および上記吸引/圧送を繰り返した後の状態を示したのが図 1 3 A〜 1 3 Dである。

マスタディスク 2上に形成されたトラックパターン 2 1のエッジ部にできた図 1 3 Aに示すような初期状態のバリ 2 2力図 1 3 Bに示すように 1 0万回の吸引 Z圧送により滑らかになっているのがわかる。

また、初期に存在していた図 1 3 Cのような突起部 2 3が図 1 3 Dに示すように 1 0万回の吸引 Z圧送により平滑化され、突出量が最大であった突起部先端 2 4を除いてほぼ消失しているのがわかる。

以上のように本実施形態によれば、磁気転写の工程の前にダミーディスクを用いて吸引/圧送の動作を行うことにより、マスタディスク 2の表面に存在する異物を取り除くとともに異常突起を平坦化するため、極めて平滑な表面性を有する高品質な磁気ディスクを製造することが可能となり、正確な磁気転写を行うことができる。

なお、ダミーディスクについては、表面汚れや表面の異物の数が所定以上になれば、新しいダミーディスクに交換するものとする。

また、本実施形態に示したように、ダミーディスク表面の硬度はマスタデイスク表面の硬度よりも低い方が好ましい。これは、もしダミーディスク表面の硬度がマスタディスク表面の硬度よりも高いとすると、マスタディスク表面の硬度よりも高くダミーディスク表面の硬度よりも低い異物がマスタディスク 2とダミーディスク 1の間に存在していた場合、ダミーディスク表面の硬度は異物の硬度よりも高いため、ダミーディスク表面にくぼみが生じなレ、、すなわちダミーデイスク側に異物が付着しないことになる。従って、異物はマスタディスク 2側に付着したままとなり、その後ダミーディスク 1とマスタディスク 2とが密着したときに、異物の硬度はダミーディスク 1表面の硬度よりも高いため、ダミーディスク 1の表面にくぼみが発生し、欠陥の原因となる。

逆に、本実施形態のようにダミーディスク表面の硬度をダミーディスク表面の硬度よりも小さくすることによって、ダミーディスク 1とマスタディスク 2とが密着したときに、上述した理由によってダミーディスクにくぼみを発生させることを確実に防止することができる。

また、本実施形態では、ダミーディスクの材質をアルミニウムとしたが、これに限定されるものではなく、例えばアルミニウムの表面にめっき層を形成させたディスクをダミーディスクとして使用してもよい。めっき層としては、 C o— R e— P、 C o—N i—P、 C o— N i—R e— Pのような強磁性の磁気特性を有したものが好ましい。ダミーディスクの表面に磁気特性を有しためっき層を形成させることによって、以下に示す効果が得られる。すなわち、マスタディスクデイスク 2の表面上に存在する磁性膜に異常突起が存在していた場合、ダミーディスク 1との密着 Z離間の繰り返し動作によって磁十生膜は剥がれることになるが、ダミーディスク 1の表面に磁気特 I¹生を有しためっき層が形成されているために、磁性膜は確実にダミ一ディスク側に付着することになる。

また、本実施形態では、バーニッシユエ程を実施していないが、例えばテープ、ヘッド、パフ研磨剤等を使用してのバーニッシユエ程を実施した後に、磁気ディスク表面上に残存している研磨粉あるいは研削粉を、上記した吸引 Z圧送の工程を施すことにより除去することもできる。この場合には、図 6における、圧送時の圧力はそのままで、吸引時の圧力を高めに、例えば 6 0 k P a程度に設定することで、除去効果をより高めることができる。

ここで、図 4に示したマスタディスク 2について詳細に説明する。

図 1 4は磁気転写用マスタディスク 2の一例の平面を模式的に示す。図 1 4に示すように、マスタディスク 2の一主面、すなわち磁気ディスク 1の強磁性薄膜表面に接触する側の接触面 3には、略放射状に信号領域 2 aが形成されている。図 4および図 1 4は模式的に示した図であり、実際には、図 1 4における信号領域 2 aは図 4における溝 4を除レ、た接触面 3上に構成されているものである。図 1 4の点線で囲んだ部分 Aの拡大図を、図 1 5に模式的に示す。図 1 5に示すように、信 "^1域 2 aには、磁気ディスクに記録されるディジタル情報信号、例えばプリフォーマット記録に対応する位置に、上記情報信号に対応したパターン形状で強磁性薄膜からなる磁性部によるマスタディスク一情報パタ一ンが形成されている。図 1 5において、ハッチングを施した部分が強磁性薄膜によって構成された磁性部である。この図 1 5に示すマスタディスク一情報パターンは、デイスク周方向 3 4に対して、クロック信号 3 1、トラッキング用サーボ信号 3 2、了ドレス情報信号 3 3等の各々の領域をトラック長さ方向に順次配列したものである。データ信^ S域 3 5も示す。なお、図 1 5に示すマスタディスク一情報パターンは一例であり、磁気記録媒体に記録されるディジタル情報信号に応じて、マスタディスク一情報パタ一ンの構成や配置等を適宜決定することとなる。

例えば、ハードディスクドライブのように、ハードディスクの磁'性膜に、まずリファレンス信号を記録し、そのリファレンス信号に基づきトラッキング用サーボ信号などのプリフォーマツト記録を行う場合には、本発明によるマスタデイスクを用いてハードディスクの磁性膜に、予めプリフォーマツト記録に用いるリファレンス信号のみを転写記録し、そしてそのハードディスクをドライブの筐体内に組み込み、トラッキング用サ一ボ信号などのプリフォーマット記録は、ハードディスクドライブの磁気へッドを使用して行うようにしてもよレ、。

図 1 4、図 1 5に示した領域の一部断面を図 1 6に示す。

図 1 6に示すように、マスタディスク 2は、 S i基板、ガラス基板、プラスチック基板などの非磁性材料からなる円盤状の基体 4 1の一主面、すなわち磁気デイスク 1の表面が接触する側の接触面 3に、情報信号に対応する複数の微細な配列パターン形状で凹部 4 2を形成し、その基体 4 1の凹部 4 2に磁性部である強磁性薄膜 4 3を埋め込む形態で形成することにより構成されている。ここで、強磁性薄膜 4 3としては、硬質磁性材料、質磁性材料、軟質磁性材料を問わず、多くの種類の磁性材料を用いることができ、磁気記録媒体にディジタル情報信号を転写記録できるものであればよい。例えば、 F e、 C o、 F e — C o合金などを用いることができる。なお、マスタディスク一情報が記録される磁気記録媒体の種類によらずに十分な記録磁界を発生させるためには、磁性材料の飽和磁束密度が大きいほどよレ、。特に、 2 0 0 0ェルステツドを超える高保磁力の磁気ディスクや磁性層の厚みの大きいフレキシブルディスクに対しては、飽和磁束密度が 0 . 8テスラ以下になると十分な記録を行うことができなレ、場合があるので、一般的には、 0 . 8テスラ以上、好ましくは 1 . 0テスラ以上の飽和磁束密度を有する磁性材料が用いられる。

また、強磁性薄膜 4 3の厚さは、ビット長や磁気記録媒体の飽和磁化や磁性層の膜厚による力例えばビット長約 1 ; m、磁気記録媒体の飽和磁化約 5 0 0 e m u Z c c、磁気記録媒体の磁性層の厚さが約 2 0 n mの場合では、 5 0 n m〜 5 0 0 n m程度あればよレヽ。

ここで、このような記録方法において、良好な記録信号品質を得るためには、マスタディスクに設けた強磁性薄膜としての軟質磁性薄膜もしくは半硬質磁性薄膜の配列パターン形状に基づき、プリフォーマツト記録時にはこれを励磁して一様に磁化することが望ましく、またマスタディスクを用いた信号記録に先立って、ハ一ドディスクなどの磁気記録媒体を一様に直流消去しておくことが望ましレ、。次に、力かるマスタディスクを製造する方法について説明する。

すなわち、本発明の記録方法に用いるマスタディスクは、 S i基板の表面に、レジスト膜を成膜し、フォトリソグラフィ法のようなレーザビームまたは電子ビ —ムを用いたリソグラフィ技術によってレジスト膜を露光、現像してパターニングした後、ドライエッチング等によってエッチングして、情報信号に対応した微細な凹凸形状を形成し、その後 C o等からなる強磁性薄膜をスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、 C V D法、めっき法等により成膜した後、いわゆるリフトオフ法によってレジスト膜を除去することにより、凹部に強磁性薄膜が埋め込まれた形態でかつ情報信号に対応した磁性部を備えたマスタデイスクを得ることができる。

なお、マスタディスクの表面に凹凸形状を形成する方法は上述の方法に限定されるものではなく、例えば、レーザ、電子ビームまたはイオンビームを用いて微細な凹凸形状を直接形成したり、機械加工によつて微細な凹凸形状を直接形成してもよい。

なを本実施形態では吸気のために給気ポンプを用いる例を説明したが、窒素ガス等を高圧ボンベから供給してもよレ、。第 2の実施形態

次に、図 1 7を用いて本発明の第 2の実施形態における磁気転写方法について説明する。

図 1 7に、本実施形態の工程のフローチャートを示す。各工程に関しては第 1 の実施形態と同様であり、異なる点は、正規の磁気デイスクに磁気転写した後に磁気転写用マスタディスクの表面 &gを測定し、その結果をフィードバックする ' 点である。

すなわち、図 1 7において、磁気ディスクに磁気転写を行った後、マスタディスクに存在する異物を後方散乱光検出法を用いた異物検査装置等を用いて測定する。ここで、異物が観察されなければ、新たな磁気ディスクを装着し、磁気転写を継続する。

し力し、磁気転写を繰り返すうちにマスタディスク表面における異物の数が増大し、ある一定以上の値になれば前述したようにへッドクラッシュの問題があるため、異物の数が所定の値、本実施例の場合は 3個以上となったときには、ダミ —ディスクを装着し、吸引 Z圧送の動作を繰り返す。このことにより、表面性の悪化したマスタディスク 2に対して、吸引/圧送の工程を施すことにより表面性を改善することができ、平滑な表面性を有する磁気ディスクを改めて製造することができる。

つまり、本実施形態は磁気転写工程の中でマスタディスク 2の表面性に対して定期的にメンテナンスを行うことにより、平滑な表面性を有する磁気ディスクを継続して生産できるようにしたものである。

なお、マスタディスク 2の異物検査については、必ずしも磁気ディスク 1枚を磁気転写する毎に行う必要はなく、所定枚数の磁気転写を行う毎に行ったり、あるレ、は磁気転写を何回ほど行った後にマスタディスクの異物数が所定値以上になる、というデータを逐次記憶させ、その回数よりも少ない回数の磁気転写工程を行う毎にマスタディスク表面 a¾の測定を行わせてもよレ、。

また、マスタディスクの異物検査の測定には一定時間を要するため、必ずしも異物検査の測定を行わなくとも、所定枚数の磁気ディスクを磁気転写する毎にダミーディスクを装着してマスタディスクのメンテナンスを行えば同様の結果が得られる。

また、磁気転写後の検査をディスクによって行レ、、磁気転写後のディスクの異物が所定の値以上であれば、マスタディスク 2に対して吸引/圧送の工程を施す方法を採っても同様の効果が得れられる。

このことはダミーディスク 1についても同様で、マスタディスク 2とダミーデイスク 1との吸引 Z圧送の際に、ダミーディスク 1表面を測定することによっても、マスタディスク 2上の異物を検出することができる。

すなわち、アルミニウム製のダミーディスク 1はシリコン製のマスタディスク 2よりも硬度が低いため、マスタディスクノダミ一ディスク間に異物が存在すれば、吸引時にその異物がダミーディスク 1側にめり込むこととなり、ダミーディスク 1表面には窪みが発生することとなる。

従って、所定回数の吸引/圧送の度にダミーディスク 1表面の微細な窪みを検出し、力かる窪みが検出されなくなった時点でダミーディスク 1を磁気ディスクと交換し、磁気転写を行えば、異物のない滑らかな表面状態のマスタディスクで、高品質な磁気デイスクを製造することができる。

ここで、ダミーディスク表面の異物に対する吸着性に着目すれば、吸着性が高い方が望ましい。

つまり、吸着性が低いと、マスタディスクとダミーディスク間に異物が存在した場合には、異物はダミ一ディスク表面に付着しないため、マスタディスク側に付着することがある。また、ダミーディスク表面は異物のない滑らかな状態のため、ダミーディスク表面の状態から異物の有無を判断する場合は、誤った判断をしてしまう可能性がある。

—方、吸着 14が高いと、マスタディスクとダミーディスク間の異物はダミーデイスク側に付着するため、マスタディスク上の異物を効率的に除去でき、かつ、ダミーディスク表面の状態からでも異物の有無を正確に判断することができる。以上のことより、ダミーディスクとしては、マスタディスクよりも硬度が低いことに加え、異物に対する吸着性が高い方が好ましい。つまり、潤滑剤は塗布されてレ、なレ、状態のものが好ましレ、。

ここで、ダミーディスクとして潤滑剤を塗布したものを使用した場合と、潤滑剤の塗布されていないものを使用した場合について、マスタディスク上の異物、欠陥数と、吸引 Z圧送の関係を示したのが図 1 8である。

図 1 8で丸印はダミーディスクに潤滑剤を塗布していないもの（試料 D ) を示し、正方形のドットは表面に潤滑剤を塗布したダミーディスク（試料 E ) を示す。図 1 2からわかるように、試料 Dと試料 Eを比較すれば、マスタディスク上の異物、欠陥数は、初期段階においては同一であるが、試料 Dについてはマスタデイスクとダミーディスクの密着、離間を数回繰り返すことにより、効率的にマスタディスク一ディスク上のパーティクルが除去でき、ほぼ 0とすることができるのに対し、試料 Eを用いた場合は密着、離間 1 0 0回以後は殆ど、異物、欠陥の数は減少していないのがわかる。

さらに、図 1 9 A、 1 9 Bには、磁気転写後の磁気ディスクに信号を記録した後、その信号を再生したときの信号のエンベロープを模式的に示す。

図 1 9 Aは、潤滑剤を塗布したダミーディスクを用いてマスタディスクとの吸引/圧送を 1 0 0 0回繰り返した後、マスタディスクから磁気転写した磁気ディスクのエンベロープ、図 1 9 Bは、潤滑剤のないダミーディスクを用いてマスタディスクとの吸引/圧送を 1 0 0 0回繰り返した後、マスタディスクから磁気転写した磁気デイスクのェンベロ一プを示す。

図 1 9 Aを見れば、エンベロープの中央部に信号出力の低下している部分 5 0 が認められるのに対して、図 1 9 Bにはかかる信号の低下部は認められない。これは、図 1 9 Aに関して、磁気ディスクの表面上の欠陥は認められなくとも、マスタディスクに異物が残つているために、マスタディスクからの磁気転写時にスぺ一シングロスが発生し、信号が正常に記録されていないものであると考えられる。

これに対して、図 1 9 Bについては、マスタディスクに対して、潤滑剤のないダミーディスクで吸引 Z圧送処理を施しているために、マスタディスク上の異物が完全に取り除かれ、磁気ディスクへの磁気転写が正常に行われたため、スぺ一シンダロスが発生していないと考えられる。第 3の実施形態

次に、図 2 O A〜図 2 1を用いて本発明の第 3の実施形態における磁気転写方法について説明する。

第 1、第 2の実施形態と本実施形態が異なる点は、磁気転写用マスタディスクとダミーディスクとの吸引 Z圧送時のマスタディスク上の密着領域が、正規な磁気ディスクに磁気転写を行う際の磁気転写領域を完全に含んでいる点である。図 2 0 A、 2 O Bは、マスタディスク 2とダミーディスク 1との吸引 Z圧送時の関係を模式的に示した図である。図 2 O Aにおいて、マスタディスク 2とダミ —ディスク 1との吸引 Z圧送により、領域 A内の異物は取り除かれる。

次に、ダミーディスク 1を磁気ディスク 1 0 0に交換した後、磁気転写を行つた場合、ダミーディスク 1と磁気ディスク 1 0 0が同じ大きさの場合、磁気ディスク 1 0 0の取り付け' 置のずれにより、図 2 0 Βに示すように、磁気ディスク 1 0 0のエッジが異物と当接する場合がある。

かかる場合においては、異物の近傍において、磁気ディスク 1 0 0とマスタデイスク 2の密着度が低下してスペーシングロスとなり、磁気ディスク 1 0 0に転写されるサーボ信号の出力が低下する。

その結果、読み取りエラ一を発生し、磁気ディスク 1 0 0の回転に乱れを生じることとなる。

そこで、本実施形態においては、ダミーディスク 1として、磁気ディスク 1 0 0よりもサイズの大きなものを使用することで図 2 O Aでの領域 Lを広くし、磁気ディスク 1 0 0とダミーディスク 1の取り付け位置にずれが生じても、磁気デイスク 1 0 0全面にわたり正常な磁気転写を行うことができ、サーボ信号出力低下を招くことなく、高品質な磁気ディスク 1 0 0を製造することができる。なお、通常、ダミーディスク 1としては、磁気ディスク 1 0◦の製造工程の途中段階のものを使用することが多く、サイズが等しいため、上記効果を得るために、ダミーディスク 1とマスタディスク 2の吸引 Z圧送時には、ダミーディスク 1を偏芯させてもよい。すなわち、図 2 1に示すように、吸引 Z圧送の度に、マスタディスク 2に対して、ダミーディスク 1の密着位置を X， Y， Z · · 'のように順次ずらしていけば、磁気ディスク 1 0 0を完全に含む領域について、吸引圧送を行うことができる。第 4の実施形態

次に、図 2 2〜図 2 4を用いて本発明の第 4の実施形態における磁気転写方法について説明する。

本実施形態が、第 1〜第 3の実施形態と異なる点は、磁気ディスクの材質として、シリコンよりも硬度の高いガラスを用いており、シリコン製の磁気転写用マスタディスク 2よりも硬度が高い点、および、ダミーマスタディスクを使用する点である。

さらに、図 2 2に、本実施形態の工程のフローチャートを示す。各工程に関しては、第 1の実施形態と同様である。

図 2 2において、まず、シリコンでできたダミーマスタディスクを装置に装着し、磁性層を形成した正規の磁気ディスクを装置に装着する。

次に、ダミーマスタディスクと磁気ディスクとの間で、第 1の実施形態と同様に吸引 Ζ圧送の工程を繰り返した後、ダミーマスタディスクを正規マスタディスクと交換し、磁気転写を行う。

このとき、磁気ディスク材質はシリコンよりも硬度の高いガラスであるため、ダミーマスタディスクと磁気ディスクとの密着時には、間にはさまった異物によりダミーマスタディスク側には欠陥が生じても、磁気デイスク側には欠陥が生じることがない。一方、磁気ディスク表面に存在する微細な異物はダミーマスタデイスクにより除去される。

図 2 3および 2 4に、本実施形態における磁気ディスク表面の観察結果を示す。図 2 4は吸引 Ζ圧送を行う前の初期状態における磁気ディスクの表面状態を示す。表 4は、この場合の欠.陥深さと欠陥個数との関係を示す。表 4より、深さ 3 O n m以上の欠陥が 6個存在し、さらに小さな欠陥は無数にディスク上に存在していることカわ力る。表 3

図 2 3はダミーマスタディスクにより 1回の吸引/圧送を行った後に、マスタディスクで磁気転写を行った磁気ディスクの表面状態を示す。表 3は、この場合の欠陥深さと欠陥個数との関係を示す。表 3より、深さ 3 0 n m以上の欠陥は発見されず、さらに小さな欠陥も殆どなく、極めて滑らかな表面性を有することがわかる。

本実施形態においては、磁気ディスク材質として、磁気転写用マスタディスク材質よりも硬度の高い材質を用いているため、磁気ディスク表面には、マスタデイスク表面の凹凸形状が転写されるのではなく、磁気ディスク表面に存在してレ、る微少突起、あるいは微少な異物が、ダミーマスタディスクの密着および吸引 Z 圧送の工程により取り除かれるものと考えられる。

以上のように、本実施形態における磁気転写装置では、磁気ディスクよりも硬度の低いダミーマスタディスクを用いて、まず吸引/圧送の工程を行うことにより磁気ディスク上の異物を取り除き、磁気ディスクの表面を平滑化した後に磁気転写用マスタディスクで磁気デイスクに対して磁気転写の工程を行うことにより、異物や異常突起のほとんどなレ、磁気ディスクに対して磁気転写を施すことが可能となり、表面性の極めて良好な高品質な磁気ディスクを製造することができる。産業上の利用の可能性

以上のように、本発明によれば、磁気転写用マスタディスクの磁性膜パターンをディスク表面に磁気転写する製造方法にぉレ、て、正規の磁気デイスクに転写するに先だつてダミーディスクと磁気転写用マスタディスク間で吸引、圧送を繰り返すことにより、磁気転写用マスタディスクの表面を清浄化し、バリなく滑らかに保つことができ、高品質な磁気ディスクを製造することができる。

さらに、本発明によれば、磁気転写後に磁気転写用マスタディスク表面を測定することにより、磁気転写用マスタディスクの表面上に異物を検知したときにはダミーディスクを装着し、ダミーディスクと磁気転写用マスタディスク間の吸引、圧送を繰り返すことにより磁気転写用マスタディスクの表面上に付着した異物を確実に取り除くことができ、耐久性のある磁気転写装置および高品質な磁気ディスクを実現できる。

また、本発明によれば、磁気ディスク材質として磁気転写用マスタディスク材質よりも硬度の高いものを用いることにより、ダミーマスタディスクと正規の磁気ディスク間での吸引、圧送を繰り返すことによって、磁気ディスク上に存在する微少な異物を除去することができ、表面性の極めて滑らかな、高品質な磁気デイスクを製造することができる。

Claims

請求の範囲

1 . 磁性膜を所定の情報信号に対応する配列パターン形状になるように形成してなる磁気転写用マスタディスクを磁気ディスクの表面に重ね合わせるとともに、前記磁気転写用マスタディスクの磁性膜を磁ィヒすることにより、前記磁気転写用マスタディスクの情報信号の配列パタ一ンを情報信号の磁化パターンとして前記磁気ディスクに磁気転写記録する磁気転写方法であって、

前記磁気転写用マスタディスクの磁性膜が形成された表面をダミーディスクに密着離間させることにより前記磁気転写用マスタディスクを清浄化する工程と、

前記清浄化工程の後に、前記磁気デイスクに前記磁気転写用マスタディスクを重ね合わせて磁気転写記録を行う工程と

を備えることを特徴とする磁気転写方法。

2 . 前記磁気ディスクに磁気転写記録した後に前記磁気ディスクの欠陥を検出する検査工程をさらに備え、

前記検査工程により欠陥が検出された場合には、前記磁気転写用マスタディスクの磁 '性膜が形成された表面をダミーディスクに密着させることにより前記磁気転写用マスタディスクを清浄化する工程を行った後に、前記磁気転写用マスタデイスクから前記磁気ディスクへの磁気転写記録を再び行うことを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の磁気転写方法。

3 . 所定枚数の前記磁気ディスクに対して磁気転写記録を行う毎に、前記磁気転写用マスタディスクの磁性膜が形成された表面をダミ一ディスクに密着ノ離間させることにより前記磁気転写用マスタディスクを清浄ィヒする工程を行うことを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の磁気転写方法。

4 . 前記磁気転写用マスタディスクを前記ダミ一ディスクと密着 Z離間させる操作を所定回数繰り返す工程を備え、

密着/離間させる操作を所定回数繰り返す工程の後に、前記磁気ディスクと前記磁気転写用マスタディスクを密着させ、磁気転写記録を行うことを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の磁気転写方法。

5 . ディスク表面の欠陥を検出する検査工程をさらに備え、

前記検査工程により前記磁気デイスクあるいは前記磁気転写用マスタディスクに所定数以上の欠陥が検出された場合には、前記磁気転写用マスタディスクから前記磁気ディスクへの磁気転写記録を行う前に、前記磁気転写用マスタディスクとダミーディスクとを密着/離間させる操作を所定回 »り返すことを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の磁気転写方法。

6 . 所定枚数の前記磁気ディスクに対して磁気転写記録を行う毎に、前記磁気転写用マスタディスクを前記ダミーディスクと密着/離間させる操作を所定回数繰り返すことを特徴とする請求の範囲第 1項に記載の磁気転写方法。

7 . 密着ノ離間の操作は、前記磁気転写用マスタディスクと前記ダミーディスク間の気体を吸弓 Iし、あるレ、は前記磁気転写用マスタディスクと前記ダミーディスク間に気体を流入させることにより行うことを特徴とする請求の範囲第 1項〜第 6項に記載の磁気転写方法。

8 . 前記磁気転写用マスタディスクの硬度は前記磁気デイスクおよび前記ダミ一ディスクの硬度よりも高いことを特徴とする請求の範囲第 1項〜第 6項に記載の磁気転写方法。

9 . 前記ダミ一ディスクの硬度は、前記磁気ディスクの硬度よりも低レ、ことを特徴とする請求の範囲第 1項〜第 6項に記載の磁気転写方法。

1 0 . 前記磁気転写用マスタディスクと前記ダミーディスクとを密着させる領域は、前記磁気転写用マスタディスクから前記磁気デイスクへ磁気転写記録する際の磁気転写領域を含むことを特徴とする請求の範囲第 1項〜第 6項に記載の磁気転写方法。

1 1 . 前記磁気転写用マスタディスクと潤滑剤の塗布されていない前記ダミーデイスクとの密着、離間を繰り返すことにより、前記磁気転写用マスタディスクを清浄化することを特徴とする請求の範囲第 1項〜第 6項に記載の磁気転写方法。

1 2 . 前記ダミーディスクの表面にめっき膜を形成したことを特 1教とする請求の範囲第 1項〜第 6項に記載の磁気転写方法。

1 3 . 前記めつき層は強磁性の磁気特性を有していることを特徴とする請求の範囲第 1 2項に記載の磁気転写方法。

1 4 . 磁性膜を所定の情報信号に対応する配列パターン形状になるように形成してなる磁気転写用マスタディスクを磁気ディスクの表面に重ね合わせるとともに、前記磁気転写用マスタディスクの磁性膜を磁化することにより、前記磁気転写用マスタディスクの情報信号の配列パターンを情報信号の磁化パターンとして前記磁気デイスクに磁気転写記録する磁気転写方法であって、

前記磁気デイスクにダミーマスタディスクを密着/離間させる操作を所定回 »り返す工程と、

この工程の後に、前記磁気転写用マスタディスクと前記磁気ディスクとを密着させ、磁気転写記録を行う工程と

を備えることを特徴とする磁気転写方法。

1 5 . 前記密着 Z離間の操作は、密着 Z離間対象の前記両ディスク間の気体を吸引し、次に気体を流入させることにより行うことを特徴とする請求の範囲第 1項または第 1 4項に記載の磁気転写方法。

1 6 . 前記ダミーマスタディスクの硬度は前記磁気ディスクの硬度よりも低いことを特徴とする請求の範囲第 1 5項に記載の磁気転写方法。

1 7 . 磁性膜が少なくとも片面に形成された磁気転写用マスタディスクを磁気デイスクに密着させ、外部磁界を印加することによつて前記磁気デイスクに前記磁気転写用マスタディスクの磁性膜パターンを磁気転写する磁気転写装置であって、転写すべき所定の情報が書き込まれた前記磁気転写用マスタディスクと、ガイド部材に摺動可能に位置決めされ、前記磁気転写用マスタディスクを保持する保持部と、

通気孔が設けられ、前記磁気デイスクあるいはダミーディスクを支持する支持台と、

tirf己支持台に設けられた前記通気孔に気体を供給するための給気部と、前記通気孔から気体を排出するための排気部と、

磁気転写するための磁界を印加するマグネットと、からなる構成を有することを特徴とする磁気転写装置。

1 8 .前記保持部は貫通孔を備え、前記貫通孔から気体を吸引することによって、前記保持部に前記磁気転写用マスタを保持することを特徴とする請求の範囲第 1 7項に記載の磁気転写装置。

1 9 . 前記磁気転写用マスタディスクは、中心部から外周部に向かい、かつ最外周に達しないように設けられた複数個の放射状の溝を有することを特徴とする請求の範囲第 1 7項に記載の磁気転写装置。

2 0 . 前記磁気ディスクまたは前記ダミーディスクの内周孔を備え、前記内周孔に嵌合するボスが前記磁気転写用マスタの中心部に備えられていることを特徴とする請求の範囲第 1 7項に記載の磁気転写装置。

2 1 . 前記ボス部は、外周部に少なくとも 1個の切り欠き部を有することを特徴とする請求の範囲第 2 0項に記載の磁気転写装置。

2 2 . 前記排気部により前記磁気転写用マスタディスクを前記磁気デイスクまたは前記ダミ一ディスクに密着させ、前記給気部により前記磁気転写用マスタディスクを前記磁気ディスクまたは前記ダミーディスクから離間させることを特徴とする請求項 1 7に記載の磁気転写装置。