JP3529662B2 - 基盤クリーニング装置 - Google Patents
基盤クリーニング装置Info
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/86—Re-recording, i.e. transcribing information from one magnetisable record carrier on to one or more similar or dissimilar record carriers
- G11B5/865—Re-recording, i.e. transcribing information from one magnetisable record carrier on to one or more similar or dissimilar record carriers by contact "printing"
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスク装
置やフロッピーディスク装置に用いられる磁気ディスク
媒体に、情報信号を磁気転写するためのマスターディス
クを洗浄するクリーニング装置に関する。
置やフロッピーディスク装置に用いられる磁気ディスク
媒体に、情報信号を磁気転写するためのマスターディス
クを洗浄するクリーニング装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】代表的な磁気ディスク装置であるハード
ディスク装置においては、面記録密度が１Ｇｂｉｔ／平
方インチを越えるものが商品化されている。また、数年
後には１０Ｇｂｉｔ／平方インチのものの実用化が予定
されるなど高記録密度に対する技術が急速に進歩してい
る。このような高記録密度を可能とした技術的背景に
は、線記録密度の向上もさることながら、わずか数μｍ
幅の狭いトラックに記録された信号を高いＳＮ比で再生
できる磁気抵抗素子型磁気ヘッドの採用に依るところが
大きい。
ディスク装置においては、面記録密度が１Ｇｂｉｔ／平
方インチを越えるものが商品化されている。また、数年
後には１０Ｇｂｉｔ／平方インチのものの実用化が予定
されるなど高記録密度に対する技術が急速に進歩してい
る。このような高記録密度を可能とした技術的背景に
は、線記録密度の向上もさることながら、わずか数μｍ
幅の狭いトラックに記録された信号を高いＳＮ比で再生
できる磁気抵抗素子型磁気ヘッドの採用に依るところが
大きい。
【０００３】磁気ヘッドがこのような幅の狭いトラック
を正確にトレースするためには、磁気ヘッドのトラッキ
ングサーボ技術が重要な役割を果たしている。このよう
なトラッキングサーボ技術の１例としては、トラックの
位置を示す位置情報信号があらかじめ記録されている磁
気ディスクを使用するものがある。、この磁気ディスク
のトラックには、一定の中心角の間隔でトラッキング用
のサーボ信号やアドレス情報信号、再生クロック信号等
の位置情報信号が記録されている。磁気ディスクドライ
ブ装置では、磁気ヘッドから一定の時間間隔で再生され
るこれらの位置情報信号により、トラックに対する磁気
ヘッドの位置を検出して修正し、磁気ヘッドが正確にト
ラック上を走行するように制御している。
を正確にトレースするためには、磁気ヘッドのトラッキ
ングサーボ技術が重要な役割を果たしている。このよう
なトラッキングサーボ技術の１例としては、トラックの
位置を示す位置情報信号があらかじめ記録されている磁
気ディスクを使用するものがある。、この磁気ディスク
のトラックには、一定の中心角の間隔でトラッキング用
のサーボ信号やアドレス情報信号、再生クロック信号等
の位置情報信号が記録されている。磁気ディスクドライ
ブ装置では、磁気ヘッドから一定の時間間隔で再生され
るこれらの位置情報信号により、トラックに対する磁気
ヘッドの位置を検出して修正し、磁気ヘッドが正確にト
ラック上を走行するように制御している。
【０００４】前記のサーボ信号、アドレス情報信号、再
生クロック信号等の位置情報信号は、磁気ヘッドが正確
にトラック上を走行するための基準信号である。従っ
て、磁気ディスクへの位置情報信号の書き込み（以下、
フォーマティングという）には高い位置決め精度が必要
である。現在のハードディスク装置では、光干渉を利用
した高精度位置検出装置を組み込んだ専用のサーボ装置
（以下サーボライタという）を用いて記録磁気ヘッドを
正確に位置決めし、フォーマティングを行っている。
生クロック信号等の位置情報信号は、磁気ヘッドが正確
にトラック上を走行するための基準信号である。従っ
て、磁気ディスクへの位置情報信号の書き込み（以下、
フォーマティングという）には高い位置決め精度が必要
である。現在のハードディスク装置では、光干渉を利用
した高精度位置検出装置を組み込んだ専用のサーボ装置
（以下サーボライタという）を用いて記録磁気ヘッドを
正確に位置決めし、フォーマティングを行っている。
【０００５】上記のサーボライタによるフォーマティン
グは以下に挙げる問題を有している。第１の問題とし
て、記録磁気ヘッドを各トラックに高精度で位置決めし
ながら多数のトラックに信号を書き込むには多くの時間
を要する。従って、フォーマティングの生産量を上げる
には多くのサーボライタを同時に稼働させなければなら
ない。第２の問題として、多くのサーボライタを稼働さ
せる場合、その導入、維持管理に多額のコストがかか
る。これらの問題はトラック密度が向上し磁気ディスク
のトラック数が多くなるほど重大になる。そこで、予め
全てのサーボ情報が書き込まれた磁気ディスク（以下マ
スターディスクという）を用意する。このマスターディ
スクとフォーマティングすべき磁気ディスク（以下スレ
ーブディスクという）とを重ね合わせ、外部から磁気転
写用の磁気エネルギーを与えて、マスターディスクの情
報をスレーブディスクに一括して磁気転写する方式が採
用されつつある。この磁気転写方式においては、マスタ
ーディスクとスレーブディスクとを隙間なく密着させる
ことが重要である。
グは以下に挙げる問題を有している。第１の問題とし
て、記録磁気ヘッドを各トラックに高精度で位置決めし
ながら多数のトラックに信号を書き込むには多くの時間
を要する。従って、フォーマティングの生産量を上げる
には多くのサーボライタを同時に稼働させなければなら
ない。第２の問題として、多くのサーボライタを稼働さ
せる場合、その導入、維持管理に多額のコストがかか
る。これらの問題はトラック密度が向上し磁気ディスク
のトラック数が多くなるほど重大になる。そこで、予め
全てのサーボ情報が書き込まれた磁気ディスク（以下マ
スターディスクという）を用意する。このマスターディ
スクとフォーマティングすべき磁気ディスク（以下スレ
ーブディスクという）とを重ね合わせ、外部から磁気転
写用の磁気エネルギーを与えて、マスターディスクの情
報をスレーブディスクに一括して磁気転写する方式が採
用されつつある。この磁気転写方式においては、マスタ
ーディスクとスレーブディスクとを隙間なく密着させる
ことが重要である。
【０００６】前記磁気転写の従来技術として特開平１０
−２６９５６６号公報に開示されたものがある。この従
来例のマスターディスクであるマスター情報担体２１を
図９に示す。図９において、マスター情報担体２１とな
るガラス基板２５の表面には、位置情報信号に対応した
微細な凹凸形状部が形成され、多数の円弧状の凸部領域
２２が設けられている。凸部領域２２の表面にはコバル
ト等の強磁性材の薄膜が設けられている。凸部領域２２
の配列はマスター情報担体２１の有する情報に対応して
いる。隣り合う２個の凸部領域２２の間の溝部２８は凸
部領域２２より凹んでいる。溝部２８には、ガラス基板
２５を貫通する多数の孔２３が設けられている。このマ
スター情報担体２１の磁化情報をスレーブディスクであ
る被転写磁気記録媒体（図示省略）に転写するときは、
マスター情報担体２１と被転写磁気記録媒体とを重ね合
わせ、周囲を密閉して両者間の空気を前記の孔２３を経
て排出する。その結果、被転写磁気記録媒体に前記マス
ター情報担体２１の凸部領域２２の表面が密着する。
−２６９５６６号公報に開示されたものがある。この従
来例のマスターディスクであるマスター情報担体２１を
図９に示す。図９において、マスター情報担体２１とな
るガラス基板２５の表面には、位置情報信号に対応した
微細な凹凸形状部が形成され、多数の円弧状の凸部領域
２２が設けられている。凸部領域２２の表面にはコバル
ト等の強磁性材の薄膜が設けられている。凸部領域２２
の配列はマスター情報担体２１の有する情報に対応して
いる。隣り合う２個の凸部領域２２の間の溝部２８は凸
部領域２２より凹んでいる。溝部２８には、ガラス基板
２５を貫通する多数の孔２３が設けられている。このマ
スター情報担体２１の磁化情報をスレーブディスクであ
る被転写磁気記録媒体（図示省略）に転写するときは、
マスター情報担体２１と被転写磁気記録媒体とを重ね合
わせ、周囲を密閉して両者間の空気を前記の孔２３を経
て排出する。その結果、被転写磁気記録媒体に前記マス
ター情報担体２１の凸部領域２２の表面が密着する。
【０００７】この状態で、被転写磁気記録媒体に所定の
強さの磁界を与えることにより、マスター情報担体２１
の磁化情報が被転写磁気記録媒体に転写される。転写に
おいては、被転写磁気記録媒体の表面とマスター情報担
体２１の凸部領域２２の凸部表面とが密着する必要があ
る。塵等が付着して両者が完全に密着していない場合
は、磁化情報が正しく転写されず転写不良を生じる。凹
凸形状部の凹部と凸部との段差は約０．５μｍであるの
で、微細な塵等の付着が前記転写不良の原因となる。マ
スター情報担体２１に付着している塵等を除去するため
には洗浄する必要がある。図１０は、従来の基盤クリー
ニング装置２６を用いてマスター情報担体２１を洗浄し
ている状態を示す斜視図である。図１１は、従来の基盤
クリーニング装置の平面図である。図１０において、マ
スター情報担体であるマスターディスク２７に接触して
塵等を除去するクリーナパッド８を外周部に取り付けた
クリーナディスク７は、クリーナ回転モータ９により矢
印Ｂで示す方向に回転している。マスターディスク２７
は基盤回転ステージ２４により矢印Ａで示す方向に回転
している。
強さの磁界を与えることにより、マスター情報担体２１
の磁化情報が被転写磁気記録媒体に転写される。転写に
おいては、被転写磁気記録媒体の表面とマスター情報担
体２１の凸部領域２２の凸部表面とが密着する必要があ
る。塵等が付着して両者が完全に密着していない場合
は、磁化情報が正しく転写されず転写不良を生じる。凹
凸形状部の凹部と凸部との段差は約０．５μｍであるの
で、微細な塵等の付着が前記転写不良の原因となる。マ
スター情報担体２１に付着している塵等を除去するため
には洗浄する必要がある。図１０は、従来の基盤クリー
ニング装置２６を用いてマスター情報担体２１を洗浄し
ている状態を示す斜視図である。図１１は、従来の基盤
クリーニング装置の平面図である。図１０において、マ
スター情報担体であるマスターディスク２７に接触して
塵等を除去するクリーナパッド８を外周部に取り付けた
クリーナディスク７は、クリーナ回転モータ９により矢
印Ｂで示す方向に回転している。マスターディスク２７
は基盤回転ステージ２４により矢印Ａで示す方向に回転
している。
【０００８】クリーナ回転モータ９により回転している
クリーナパッド８をマスターディスク２７に押し当て、
マスターディスク２７に付着している塵等をこすり取
る。マスターディスク２７を基盤回転ステージ２４によ
り回転させることにより、マスターディスク２７の全面
にクリーナパッド８が接触するので、マスターディスク
１の全面の塵等が除去される。
クリーナパッド８をマスターディスク２７に押し当て、
マスターディスク２７に付着している塵等をこすり取
る。マスターディスク２７を基盤回転ステージ２４によ
り回転させることにより、マスターディスク２７の全面
にクリーナパッド８が接触するので、マスターディスク
１の全面の塵等が除去される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従来の基盤クリーニン
グ装置においては、図１１に示すように、クリーナパッ
ド８の回転する方向Ｂとマスターディスク２７に設けら
れた領域２２の円弧とが一致しておらず、クリーナパッ
ド８が凸部領域２２を横切って回転する。そのため、溝
部２８にクリーニングパッド８によってこすり取られた
塵等が溜まり、塵等が完全に除去できないという問題が
あった。
グ装置においては、図１１に示すように、クリーナパッ
ド８の回転する方向Ｂとマスターディスク２７に設けら
れた領域２２の円弧とが一致しておらず、クリーナパッ
ド８が凸部領域２２を横切って回転する。そのため、溝
部２８にクリーニングパッド８によってこすり取られた
塵等が溜まり、塵等が完全に除去できないという問題が
あった。
【００１０】本発明は、溝部内にたまっている塵等を完
全に除去できる基盤クリーニング装置を提供することを
目的とする。
全に除去できる基盤クリーニング装置を提供することを
目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の基盤クリーニン
グ装置は、円形の基盤の表面に円形の中心から外周に向
かって円弧状に形成された凸部の曲率半径と実質的に等
しい半径を有する円盤状のクリーニング部材、前記クリ
ーニング部材を回転させるクリーニング部材回転手段、
及び前記基盤を前記中心を回転軸として回転させる基盤
回転手段を備え、前記クリーニング部材の回転軸を前記
基盤の回転軸に対して一定のねじれの関係となるよう傾
斜させ、かつ前記クリーニング部材の回転中心が前記基
盤の表面に形成された前記凸部の円弧の中心に位置する
ようにして、前記クリーニング部材の外周の一部を前記
基盤に近接あるいは接触させて回転させることを特徴と
する。
グ装置は、円形の基盤の表面に円形の中心から外周に向
かって円弧状に形成された凸部の曲率半径と実質的に等
しい半径を有する円盤状のクリーニング部材、前記クリ
ーニング部材を回転させるクリーニング部材回転手段、
及び前記基盤を前記中心を回転軸として回転させる基盤
回転手段を備え、前記クリーニング部材の回転軸を前記
基盤の回転軸に対して一定のねじれの関係となるよう傾
斜させ、かつ前記クリーニング部材の回転中心が前記基
盤の表面に形成された前記凸部の円弧の中心に位置する
ようにして、前記クリーニング部材の外周の一部を前記
基盤に近接あるいは接触させて回転させることを特徴と
する。
【００１２】この基盤クリーニング装置によれば、基盤
の表面に形成された凸部に沿ってクリーニング部材が基
盤に近接あるいは接触して回転するので、凸部の表面や
溝部内の塵等が効果的に除去される。上記構成の基盤ク
リーニング装置において、クリーニング部材の回転速度
を、基盤の回転速度より大きくするのが望ましい。ま
た、クリーニング部材の傾斜した回転軸の傾き方向を基
盤の中心へ向かう方向を基準として所定の角度範囲内
（β１〜β２）で周期的に変化させるのが望ましい。こ
れにより、クリーニング部材が基盤の表面に形成された
凸部に忠実に沿って回転するので、凸部の表面や溝内の
塵等を完全に除去できる。さらに、基盤の中央部分が窪
むように湾曲させて基盤を固定する基盤設置面を基盤回
転手段に設けるのが望ましい。この場合も、クリーニン
グ部材が基盤の表面に形成された凸部に忠実に沿って回
転するので、凸部の表面や溝内の塵等を完全に除去でき
る。さらに、クリーニング部材の回転によって前記クリ
ーニング部材が基盤に接近する位置に洗浄液の噴出口を
設け、基盤から離間する位置に洗浄液の排出口を設ける
のが好ましい。これにより、常に新しい洗浄液がクリー
ニング部材に供給されると共に、塵などを除去した洗浄
液は排出されるので、クリーニング部材に塵などが付着
しない。
の表面に形成された凸部に沿ってクリーニング部材が基
盤に近接あるいは接触して回転するので、凸部の表面や
溝部内の塵等が効果的に除去される。上記構成の基盤ク
リーニング装置において、クリーニング部材の回転速度
を、基盤の回転速度より大きくするのが望ましい。ま
た、クリーニング部材の傾斜した回転軸の傾き方向を基
盤の中心へ向かう方向を基準として所定の角度範囲内
（β１〜β２）で周期的に変化させるのが望ましい。こ
れにより、クリーニング部材が基盤の表面に形成された
凸部に忠実に沿って回転するので、凸部の表面や溝内の
塵等を完全に除去できる。さらに、基盤の中央部分が窪
むように湾曲させて基盤を固定する基盤設置面を基盤回
転手段に設けるのが望ましい。この場合も、クリーニン
グ部材が基盤の表面に形成された凸部に忠実に沿って回
転するので、凸部の表面や溝内の塵等を完全に除去でき
る。さらに、クリーニング部材の回転によって前記クリ
ーニング部材が基盤に接近する位置に洗浄液の噴出口を
設け、基盤から離間する位置に洗浄液の排出口を設ける
のが好ましい。これにより、常に新しい洗浄液がクリー
ニング部材に供給されると共に、塵などを除去した洗浄
液は排出されるので、クリーニング部材に塵などが付着
しない。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の基盤クリーニング
装置の好適な実施例について、図１ないし図８を参照し
ながら説明する。ただし、従来例と同一部分には同一参
照符号を付して説明する。 《実施例１》本発明の実施例１の基盤クリーニング装置
についてマスターディスク１の洗浄を例として図１〜図
６を参照しつつ説明する。以下、本発明で云う基盤は、
磁気記録用、光磁気記録用等のフォーマットされたディ
スクを作るためのマスターディスク、光ディスク自体等
の、表面に凹凸形状部が形成された円盤状のものとす
る。図１は、実施例１の基盤クリーニング装置の要部構
成を示す斜視図である。図２は、実施例１の基盤クリー
ニング装置の図１の座標のＹ軸方向から見た側面図であ
る。図３は、実施例１の基盤クリーニング装置のクリー
ナディスクの配置を図１の座標のＸ軸方向から見た縦断
面図である。図４は、マスターディスク１の凹凸形状部
の形成状態を示す平面図である。
装置の好適な実施例について、図１ないし図８を参照し
ながら説明する。ただし、従来例と同一部分には同一参
照符号を付して説明する。 《実施例１》本発明の実施例１の基盤クリーニング装置
についてマスターディスク１の洗浄を例として図１〜図
６を参照しつつ説明する。以下、本発明で云う基盤は、
磁気記録用、光磁気記録用等のフォーマットされたディ
スクを作るためのマスターディスク、光ディスク自体等
の、表面に凹凸形状部が形成された円盤状のものとす
る。図１は、実施例１の基盤クリーニング装置の要部構
成を示す斜視図である。図２は、実施例１の基盤クリー
ニング装置の図１の座標のＹ軸方向から見た側面図であ
る。図３は、実施例１の基盤クリーニング装置のクリー
ナディスクの配置を図１の座標のＸ軸方向から見た縦断
面図である。図４は、マスターディスク１の凹凸形状部
の形成状態を示す平面図である。
【００１４】図１において、中心から外周に向かって円
弧状に凸部２を設けたマスターディスク１は、その中心
孔３に基盤回転ステージ４のガイドブッシュ１７が挿入
されて矢印Ａの方向に回転している。スポンジ等の軟ら
かいクリーナパッド８を外周部に取り付けたクリーナデ
ィスク７は、マスターディスク１の中心の回転軸に対し
て所定の角度傾斜した回転軸を有するクリーナディスク
回転モータ９により矢印Ｂの方向に回転している。図２
に示すように、円盤状のクリーナパッド８は、その傾き
方向のにおける縁部がマスターディスク１に接触しなが
ら回転している。
弧状に凸部２を設けたマスターディスク１は、その中心
孔３に基盤回転ステージ４のガイドブッシュ１７が挿入
されて矢印Ａの方向に回転している。スポンジ等の軟ら
かいクリーナパッド８を外周部に取り付けたクリーナデ
ィスク７は、マスターディスク１の中心の回転軸に対し
て所定の角度傾斜した回転軸を有するクリーナディスク
回転モータ９により矢印Ｂの方向に回転している。図２
に示すように、円盤状のクリーナパッド８は、その傾き
方向のにおける縁部がマスターディスク１に接触しなが
ら回転している。
【００１５】図３に示すように、クリーナディスク７の
回転軸１０は、基盤回転ステージ４の回転軸６に対して
所定の微少角度α（具体的数値範囲を入れて下さい）だ
け傾斜している。図４に示すように、マスターディスク
１に設けられた情報記録領域である円弧状の凸部２は、
マスターディスク１の回転中心１３を中心として放射状
に配列されている。それぞれの円弧状の凸部２の円弧の
中心位置は、マスターディスク１の中心１３を中心とす
る半径ＲＣの円周１４（図中一点鎖線で示す）上に存在
しており、凸部２の円弧の曲率半径はＲＧである。ま
た、隣り合う凸部２の間には凹部である溝部１５が形成
されている。また、図３に示すクリーナディスク７の回
転中心１０と、クリーナパッド８とマスターディスク１
の接触点との距離ＲＬは、図４で示したマスターディス
ク１に設けた円弧状の凸部２の曲率半径ＲＧに概略一致
させている。さらに、クリーナディスク７の回転中心１
０と基盤回転ステージ４の回転中心６との距離ＲＭは、
図４で示したマスターディスク1の中心１３と円弧の中
心位置１４との距離ＲＣに概略一致させている。
回転軸１０は、基盤回転ステージ４の回転軸６に対して
所定の微少角度α（具体的数値範囲を入れて下さい）だ
け傾斜している。図４に示すように、マスターディスク
１に設けられた情報記録領域である円弧状の凸部２は、
マスターディスク１の回転中心１３を中心として放射状
に配列されている。それぞれの円弧状の凸部２の円弧の
中心位置は、マスターディスク１の中心１３を中心とす
る半径ＲＣの円周１４（図中一点鎖線で示す）上に存在
しており、凸部２の円弧の曲率半径はＲＧである。ま
た、隣り合う凸部２の間には凹部である溝部１５が形成
されている。また、図３に示すクリーナディスク７の回
転中心１０と、クリーナパッド８とマスターディスク１
の接触点との距離ＲＬは、図４で示したマスターディス
ク１に設けた円弧状の凸部２の曲率半径ＲＧに概略一致
させている。さらに、クリーナディスク７の回転中心１
０と基盤回転ステージ４の回転中心６との距離ＲＭは、
図４で示したマスターディスク1の中心１３と円弧の中
心位置１４との距離ＲＣに概略一致させている。
【００１６】クリーナパッド８の寸法と傾斜角度、及び
配置する位置を上述したように定めることにより、マス
ターディスク１に形成された円弧状の凸部２にそってク
リーニングが行えることを図５および図６を用いて説明
する。図５は、クリーナディスク７の傾斜した回転軸１
０の傾き方向を基盤の中心へ向かう方向からβ２だけ変
化させた時の、マスターディスク１とクリーナディスク
７との関係を示す平面図である。図６は、クリーナディ
スク７の傾斜した回転軸１０の傾き方向を基盤の中心へ
向かう方向からβ１だけ変化させた時の、マスターディ
スク１とクリーナディスク７の関係を示す平面図であ
る。ここで、クリーナデスク７の傾斜した回転軸１０の
傾き方向が基盤の中心へ向かう方向のときは、クリーナ
ディスク７とマスターディスク１とはＰ０で接触するも
のとする。
配置する位置を上述したように定めることにより、マス
ターディスク１に形成された円弧状の凸部２にそってク
リーニングが行えることを図５および図６を用いて説明
する。図５は、クリーナディスク７の傾斜した回転軸１
０の傾き方向を基盤の中心へ向かう方向からβ２だけ変
化させた時の、マスターディスク１とクリーナディスク
７との関係を示す平面図である。図６は、クリーナディ
スク７の傾斜した回転軸１０の傾き方向を基盤の中心へ
向かう方向からβ１だけ変化させた時の、マスターディ
スク１とクリーナディスク７の関係を示す平面図であ
る。ここで、クリーナデスク７の傾斜した回転軸１０の
傾き方向が基盤の中心へ向かう方向のときは、クリーナ
ディスク７とマスターディスク１とはＰ０で接触するも
のとする。
【００１７】もし、クリーナパッド８が剛性の高い材質
で構成されているならば、図５に示したように、クリー
ナディスク７の傾斜した回転軸１０の傾き方向を基盤回
転中心方向からβ２だけ変化させた場合、クリーナパッ
ド８とマスターディスク１とはマスターディスク１の外
周部の凸部２の一点Ｐ２でしか接触しない。同様に、図
６に示すように、クリーナディスク７の傾斜した回転軸
１０の傾き方向を基盤回転中心方向からβ２だけ変化さ
せた場合、クリーナパッド８とマスターディスク１とは
マスターディスク１の内周部の凸部２の一点Ｐ１でしか
接触しない。しかし、一般的にクリーナパッド８はスポ
ンジ等の軟らかい材料で構成される。したがって実際に
は、クリーナパッド８とマスターディスク１の接触は、
クリーナパッド８の変形により、それぞれ領域Ｄで示す
ような面接触となる。図５および図６からわかるよう
に、実施例１の基盤クリーニング装置によれば、凸部２
の円弧にそってクリーナパッド８が接触走行することが
わかる。そして、クリーナディスク７の傾きをβ１から
β２に周期的に変化させることによりマスターディスク
１の内周部から外周部までの凸部２の円弧に沿って洗浄
することができる。
で構成されているならば、図５に示したように、クリー
ナディスク７の傾斜した回転軸１０の傾き方向を基盤回
転中心方向からβ２だけ変化させた場合、クリーナパッ
ド８とマスターディスク１とはマスターディスク１の外
周部の凸部２の一点Ｐ２でしか接触しない。同様に、図
６に示すように、クリーナディスク７の傾斜した回転軸
１０の傾き方向を基盤回転中心方向からβ２だけ変化さ
せた場合、クリーナパッド８とマスターディスク１とは
マスターディスク１の内周部の凸部２の一点Ｐ１でしか
接触しない。しかし、一般的にクリーナパッド８はスポ
ンジ等の軟らかい材料で構成される。したがって実際に
は、クリーナパッド８とマスターディスク１の接触は、
クリーナパッド８の変形により、それぞれ領域Ｄで示す
ような面接触となる。図５および図６からわかるよう
に、実施例１の基盤クリーニング装置によれば、凸部２
の円弧にそってクリーナパッド８が接触走行することが
わかる。そして、クリーナディスク７の傾きをβ１から
β２に周期的に変化させることによりマスターディスク
１の内周部から外周部までの凸部２の円弧に沿って洗浄
することができる。
【００１８】さらに、マスターディスク１をクリーナデ
ィスク７より遅く回転させることによりマスターディス
ク１の全面をクリーニングできる。以上説明したよう
に、本実施例１によれば、マスターディスク１に形成さ
れた円弧状の凸部２に沿ってクリーナパッド８が接触す
るので、凸部２間の溝部１５の底面の塵等も効率よく除
去できるだけでなく、溝部１５に除去された塵等が溜ま
ることもない。
ィスク７より遅く回転させることによりマスターディス
ク１の全面をクリーニングできる。以上説明したよう
に、本実施例１によれば、マスターディスク１に形成さ
れた円弧状の凸部２に沿ってクリーナパッド８が接触す
るので、凸部２間の溝部１５の底面の塵等も効率よく除
去できるだけでなく、溝部１５に除去された塵等が溜ま
ることもない。
【００１９】《実施例２》本発明の実施例２の基盤クリ
ーニング装置について図７を参照しつつ説明する。図７
は、実施例２の基盤クリーニング装置の基盤回転ステー
ジの縦断面図である。実施例２の基盤クリーニング装置
は実施例１の基盤回転ステージの構成のみが異なるもの
である。従って、実施例１と同一部分には同一参照符号
を付して説明は省略する。図７に示すように、実施例２
の基盤クリーニング装置の基盤回転ステージ４には、マ
スターディスク１を、その中央部が窪むように湾曲して
基盤回転ステージ４に固定する基盤設置面を形成した基
盤設置板５を有している。マスターディスク１をこの基
盤設置板５に密着させることによって、凹面状に湾曲さ
せて固定する。これにより、傾いたクリーニングパッド
８とマスターディスク１との接触長さを凸部２の円弧の
長さと同じ程度にすることができる。従って、クリーナ
ディスク７の傾き角度を一定にしても、マスターディス
ク１の外周から内周までにわたってクリーニングパッド
を凸部２に接触させることができ、傾き方向を変化させ
る実施例１と同様にクリーニングできる。実施例２の基
盤クリーニング装置によれば、クリーナディスク７の傾
き方向を周期的に変化させる必要がないので、装置の小
型化、低コスト化が計られる。
ーニング装置について図７を参照しつつ説明する。図７
は、実施例２の基盤クリーニング装置の基盤回転ステー
ジの縦断面図である。実施例２の基盤クリーニング装置
は実施例１の基盤回転ステージの構成のみが異なるもの
である。従って、実施例１と同一部分には同一参照符号
を付して説明は省略する。図７に示すように、実施例２
の基盤クリーニング装置の基盤回転ステージ４には、マ
スターディスク１を、その中央部が窪むように湾曲して
基盤回転ステージ４に固定する基盤設置面を形成した基
盤設置板５を有している。マスターディスク１をこの基
盤設置板５に密着させることによって、凹面状に湾曲さ
せて固定する。これにより、傾いたクリーニングパッド
８とマスターディスク１との接触長さを凸部２の円弧の
長さと同じ程度にすることができる。従って、クリーナ
ディスク７の傾き角度を一定にしても、マスターディス
ク１の外周から内周までにわたってクリーニングパッド
を凸部２に接触させることができ、傾き方向を変化させ
る実施例１と同様にクリーニングできる。実施例２の基
盤クリーニング装置によれば、クリーナディスク７の傾
き方向を周期的に変化させる必要がないので、装置の小
型化、低コスト化が計られる。
【００２０】《実施例３》本発明の実施例３の基盤クリ
ーニング装置について、図８を参照しつつ説明する。図
８は、実施例３の基盤クリーニング装置の要部縦断面図
である。実施例３の基盤クリーニング装置は実施例１の
基盤クリーニング装置に洗浄液の供給および排出手段を
設けた点のみが異なるものである。従って、実施例１と
同一部分には同一参照符号を付して説明を省略する。図
８に示すように、実施例３の基盤クリーニング装置は、
クリーニングに使用する洗浄液１６の洗浄液吐出口１１
と、洗浄液１６を吸引して排出するための洗浄液排出口
１２とを有している。 洗浄液吐出口１１は、クリーナ
ディスク７の回転によってクリーナパッド８がマスター
ディスク１に接近する位置の近傍に配置されている。一
方、洗浄液排出口１２は、クリーナディスク７の回転に
よってクリーナパッド８がマスターディスク１から離間
する位置である基盤回転ステージ４の回転中心６近傍に
配置される。
ーニング装置について、図８を参照しつつ説明する。図
８は、実施例３の基盤クリーニング装置の要部縦断面図
である。実施例３の基盤クリーニング装置は実施例１の
基盤クリーニング装置に洗浄液の供給および排出手段を
設けた点のみが異なるものである。従って、実施例１と
同一部分には同一参照符号を付して説明を省略する。図
８に示すように、実施例３の基盤クリーニング装置は、
クリーニングに使用する洗浄液１６の洗浄液吐出口１１
と、洗浄液１６を吸引して排出するための洗浄液排出口
１２とを有している。 洗浄液吐出口１１は、クリーナ
ディスク７の回転によってクリーナパッド８がマスター
ディスク１に接近する位置の近傍に配置されている。一
方、洗浄液排出口１２は、クリーナディスク７の回転に
よってクリーナパッド８がマスターディスク１から離間
する位置である基盤回転ステージ４の回転中心６近傍に
配置される。
【００２１】このように配置することにより、洗浄液１
６は洗浄液吐出口１１から出るとすぐにクリーナパッド
８の縁部の経路に沿って流れ、クリーナパッド８がマス
ターディスク１から離間する位置で、洗浄を完了した洗
浄液１６が洗浄液排出口１２から外部に排出される。従
って、塵等を含んだ洗浄を完了した洗浄液１６が再びマ
スターディスク１の表面を流れることを防止できる。本
実施例３の基盤クリーニング装置によれば、洗浄液１６
は、マスターディスク１の凸部２及び溝部１５に沿って
一方向に流れ、除去した塵等が混入した洗浄液は外部に
排出されるため、マスターディスク１に再付着する割合
がきわめて低い。その結果、マスターディスク１のクリ
ーニング効果がきわめて高くなる。
６は洗浄液吐出口１１から出るとすぐにクリーナパッド
８の縁部の経路に沿って流れ、クリーナパッド８がマス
ターディスク１から離間する位置で、洗浄を完了した洗
浄液１６が洗浄液排出口１２から外部に排出される。従
って、塵等を含んだ洗浄を完了した洗浄液１６が再びマ
スターディスク１の表面を流れることを防止できる。本
実施例３の基盤クリーニング装置によれば、洗浄液１６
は、マスターディスク１の凸部２及び溝部１５に沿って
一方向に流れ、除去した塵等が混入した洗浄液は外部に
排出されるため、マスターディスク１に再付着する割合
がきわめて低い。その結果、マスターディスク１のクリ
ーニング効果がきわめて高くなる。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の基盤クリ
ーニング装置によれば、放射状に配置された円弧状の凸
部の形成されたマスターディスクの塵等を効果的に除去
できる。従って、磁気転写によってマスターディスクか
ら被転写磁気記録媒体に転写される位置情報信号の品質
がきわめて高くできるという効果が得られる。
ーニング装置によれば、放射状に配置された円弧状の凸
部の形成されたマスターディスクの塵等を効果的に除去
できる。従って、磁気転写によってマスターディスクか
ら被転写磁気記録媒体に転写される位置情報信号の品質
がきわめて高くできるという効果が得られる。
【図１】本発明の実施例１の基盤クリーニング装置の要
部斜視図である。
部斜視図である。
【図２】図１の基盤クリーニング装置のＹ軸方向から見
た側面図である。
た側面図である。
【図３】図１の基盤クリーニング装置のＸ軸方向から見
た縦断面図である。
た縦断面図である。
【図４】マスターディスクの平面図である。
【図５】本発明の実施例１における基盤クリーニング装
置のクリーナディスク７の傾斜した回転軸１０の傾き方
向がβ２だけ基盤の中心へ向かう方向から変化した時の
動作を説明する平面図である。
置のクリーナディスク７の傾斜した回転軸１０の傾き方
向がβ２だけ基盤の中心へ向かう方向から変化した時の
動作を説明する平面図である。
【図６】本発明の実施例１における基盤クリーニング装
置のクリーナディスクの傾斜した回転軸の傾き方向がβ
１だけ基盤の中心へ向かう方向から変化した時の動作を
説明する平面図である。
置のクリーナディスクの傾斜した回転軸の傾き方向がβ
１だけ基盤の中心へ向かう方向から変化した時の動作を
説明する平面図である。
【図７】本発明の実施例２の基盤クリーニング装置の基
盤回転ステージの要部断面図である。
盤回転ステージの要部断面図である。
【図８】本発明の実施例３の基盤クリーニング装置の要
部断面図である。
部断面図である。
【図９】マスターディスクの凸部の配置を説明する平面
図である。
図である。
【図１０】従来の基盤クリーニング装置の要部斜視図で
ある。
ある。
【図１１】従来の基盤クリーニング装置の動作を説明す
る平面図である。
る平面図である。
１ マスターディスク
２ 凸部
３ 中心孔
４ 基盤回転ステージ
５ 基盤設置板
６ 基盤ステージ回転軸
７ クリーナディスク
８ クリーナパッド
９ クリーナ回転モータ
１０ クリーナディスク回転軸
１１ 洗浄液吐出口
１２ 洗浄液排出口
１３ マスターディスク回転中心
１４ 円弧の中心位置
１５ 溝部
１６ 洗浄液
１７ センタリングボス
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G11B 23/50
G11B 5/84
Claims (7)
- 【請求項１】 円形の基盤の表面に円形の中心から外周
に向かって円弧状に形成された凸部の曲率半径と実質的
に等しい半径を有する円盤状のクリーニング部材、 前記クリーニング部材を回転させるクリーニング部材回
転手段、及び前記基盤を前記中心を回転軸として回転さ
せる基盤回転手段を備え、 前記クリーニング部材の回転軸を前記基盤の回転軸に対
して一定のねじれの関係となるよう傾斜させ、かつ前記
クリーニング部材の回転中心を前記基盤の表面に形成さ
れた前記凸部の円弧の中心に実質的に位置させて、前記
クリーニング部材の外周の一部を前記基盤に近接あるい
は接触させて回転させることを特徴とする基盤クリーニ
ング装置。 - 【請求項２】 前記基盤は、磁気ディスクへ位置情報信
号を磁気転写するためのマスターディスクであることを
特徴とする請求項１記載の基盤クリーニング装置。 - 【請求項３】 前記クリーニング部材の回転速度を、前
記基盤の回転速度より大きくしたことを特徴とする請求
項１記載の基盤クリーニング装置。 - 【請求項４】 前記クリーニング部材の傾斜した回転軸
の傾き方向を基盤の中心へ向う方向を基準として所定の
角度範囲（β1〜β2)内で周期的に変化させることを特
徴とする請求項１または３記載の基盤クリーニング装
置。 - 【請求項５】 前記基盤の中央部分が窪むように湾曲さ
せて、基盤を固定する基盤設置面を前記基盤回転手段に
設けたことを特徴とする請求項１または３記載の基盤ク
リーニング装置。 - 【請求項６】 前記クリーニング部材の回転によって前
記クリーニング部材が前記基盤に接近する位置の近傍に
洗浄液の吐出口を設けたことを特徴とする請求項１、
３、４または５記載の基盤クリーニング装置。 - 【請求項７】 前記クリーニング部材の回転によって前
記クリーニング部材が前記基盤から離間する位置の近傍
に洗浄液の排出口を設けたことを特徴とする請求項６記
載の基盤クリーニング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08975599A JP3529662B2 (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 基盤クリーニング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08975599A JP3529662B2 (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 基盤クリーニング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000285637A JP2000285637A (ja) | 2000-10-13 |
| JP3529662B2 true JP3529662B2 (ja) | 2004-05-24 |
Family
ID=13979557
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08975599A Expired - Fee Related JP3529662B2 (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 基盤クリーニング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3529662B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100378758B1 (ko) * | 1999-04-26 | 2003-04-07 | 마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤 | 자기 전사 방법 및 자기 전사 장치 |
| JP4024464B2 (ja) * | 2000-09-12 | 2007-12-19 | 富士フイルム株式会社 | 磁気転写装置 |
| JP3953765B2 (ja) | 2001-04-16 | 2007-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 磁気転写装置 |
| CN1240058C (zh) * | 2001-05-18 | 2006-02-01 | 富士胶片株式会社 | 主载体的清洁方法 |
| CN1224050C (zh) | 2001-06-20 | 2005-10-19 | 松下电器产业株式会社 | 磁传输载体的清洁方法及假载体 |
-
1999
- 1999-03-30 JP JP08975599A patent/JP3529662B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2000285637A (ja) | 2000-10-13 |
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