CN1302431A - 磁转录方法及磁转录装置 - Google Patents

Abstract

一种磁转录方法及其使用的磁转录装置,该方法使形成有与规定信息信号对应的排列图案形状的磁性膜的磁转录用母盘(2)与磁盘表面叠合,并对磁转录用母盘(2)的磁性膜进行磁化,将磁转录用母盘(2)的信息信号的排列图案磁转录到磁盘上作为信息信号的磁化图案,其特征在于,具有:通过使磁转录用母盘(2)的形成有磁性膜的表面与暂设盘(1)贴紧/分离,来净化磁转录用母盘(2)的工序;净化工序之后,使磁转录用母盘(2)与磁盘叠合进行磁转录的工序。

Description

磁转录方法及磁转录装置

技术领域

本发明涉及在硬盘装置及软盘装置所使用的磁盘的制造过程中，进行磁转录记录的磁转录方法及磁转录装置。

目前，作为代表性磁盘装置的硬盘驱动器已有面记录密度超过1×10⁹比特/平方英寸的商品，甚至已在议论数年后10×10⁹比特/平方英寸的将实际应用，技术进步发展迅猛。

使这样的高记录密度成为可能的技术背景，虽然也有线记录密度提高的因素，但主要因素在于，依靠了能将宽度仅数μm磁道的信号信噪比良好地再现的磁阻元件型磁头。

随着高记录密度，也要求降低浮动磁滑块相对磁记录媒体的上浮量，增大了在上浮过程中因某种原因使盘片与滑块发生接触的可能性。在这样的状况下，对记录媒体要求有更好的光滑性。

此时，要使磁头正确扫描狭磁道，磁头的跟踪伺服技术起着重要的作用。使用这样的跟踪伺服技术的目前的硬盘驱动器在盘片一周中，以一定的角度间隔记录有跟踪用的伺服信号及地址信息信号、再现时钟信号等。驱动装置根据磁头以一定时间间隔再现的这些信号，检测磁头位置并加以修正，使磁头在磁道上正确扫描成为可能。

上述的伺服信号、地址信息信号、再现时钟信号等是使磁头在磁道上正确扫描用的基准信号，因此，其写入(以下称格式化)必须有高的定位精度。目前的硬盘驱动器使用组装有利用光干涉的高精度位置检测装置的专用伺服装置(以下称伺服记录器)进行记录磁头的定位后进行格式化。

但是，上述利用伺服记录器进行的格式化存在以下的问题。

第1，边对磁头进行高精度定位边对多个磁道写入信号要化很多时间。为了提高生产率必须使多个伺服记录器同时工作。

第2，引入多个伺服记录器，维护管理成本就增高。这些问题当磁道密度越高、磁道数越多时问题越严重。

因此有人提出了这样的方式：格式化不是使用伺服记录器，而是将预先写入有所有伺服信息的称为母盘的盘片与应格式化的磁盘重叠，从外部给予转录用的能量，以此将母盘信息一下子转录在磁盘上。

作为其一个例子，例如有日本发明专利公开1998年第40544号公报所公开的磁转录装置。

该公报公开了这样的方法：在基体表面以相对信息信号的图案形状形成由强磁性材料构成的磁性部来作为磁转录用母盘，使该磁转录用母盘的表面与形成有强磁性薄膜或强磁性粉涂层的的片状或盘状磁记录媒体的表面接触，并施加规定的磁场，以此将与形成在磁转录用母盘上的信息信号对应的图案形状的磁化图案记录在磁记录媒体上。

但是，盘片旋转时磁头与盘片表面的间隙一般为30nm左右，因此盘片表面的凹凸最大也必须控制在20nm左右。如果磁记录媒体上存在更大的凸起，则数据记录再现时，磁头与磁记录媒体就会接触。在这种情况下，接触的瞬间磁头与磁盘的间隔变大，信号的记录再现性能下降，并由于磁头与磁盘物理性接触，故会引起磁头寿命下降。

即，上述日本发明专利公开1998年第40544号公报所公开的磁转录装置，虽能在瞬间完成格式化，但其缺点是，因为磁转录用母盘与磁盘在整个面接触，为了以这样的磁头、盘片之间的间隙也能经得起实际使用，必须进行严格的表面管理。

还有，近年来，磁盘、光磁盘、光盘等盘状记录媒体正在进行小型化、薄型化、高容量化等的高性能化，随之如上所述，对高密度记录媒体的要求也增高。为了满足这样的要求，必须有高精度高可靠性的盘状记录媒体，制造平坦性、光滑性良好且记录信息时不会附着微小尘埃等的盘状记录媒体成为当务之急。

相对上述要求，上述现有的磁转录装置无论进行怎样严格的管理，也很难避免混入微小异物，在将母盘与要格式化的磁盘叠合的瞬间，由于这样的异物在母盘或磁盘表面会产生微小的异常凸起。一般母盘的材质为硅，磁盘是硬度比此低的材质例如铝，在这样的情况下，母盘上异物引起的凸部会被形状复制成磁盘侧的凹陷，相反，在磁盘为硬度高的材质、例如为玻璃时，由于磁盘上存在的异物，母盘侧会产生缺陷，在这种情况下，其缺陷会全部反映在然后进行磁转录的磁盘上，很难高效率稳定地制造高品质的磁盘。

本发明的目的在于，为了制造能将这样的微小凸起减小到不成问题的大小、记录再现时不会发生错误的高品质盘片，实现一种能进行正确的磁转录的磁转录装置。

发明的公开

本发明的磁转录方法，是一种将形成有磁性膜的磁转录用母盘贴紧在形成有强磁性层的磁盘表面，使用外界磁场将磁转录用母盘的磁性膜图案磁转录在磁盘表面上的制造方法，首先使用暂设的盘片使其压在磁转录用母盘上，此时对磁转录用母盘与磁盘间的气体反复进行抽吸、压送，然后安装正规的磁盘进行磁转录记录。通过采用这样的方法，可以使磁转录时的磁转录用母盘表面始终保持无异物及毛刺的光滑状态，能制造出几乎不会产生对进行了磁转录的磁盘来说会成为问题的微小凸起的、高品质的磁盘。

此外，本发明的磁转录方法可以提供这样的磁转录方法，还具有检测磁盘表面缺陷的缺陷检测手段，用该缺陷检测手段测出在磁盘表面有规定数以上的缺陷时，使磁转录用母盘与暂设盘的贴紧、分离的操作重复规定次数之后，将暂设盘更换成磁转录前的磁盘，并使其与磁转录用母盘贴紧，进行磁转录记录，以此可以定期进行除去磁转录用母盘的污垢及异物的维护保养，能长期进行高品质磁盘的磁转录。

还有，在本发明中，在磁转录用母盘上使与暂设盘贴紧、分离的区域完全包含进行磁转录时从磁转录用母盘向磁盘的磁转录区域。由此，磁盘的外周侧边缘部也能正确转录伺服信号，能制造高品质的磁盘。

此外，本发明的磁转录方法在使暂设母盘与磁盘贴紧、分离的操作重复规定次数之后，将暂设母盘更换成磁转录用母盘，使其与磁盘贴紧后进行磁转录，以此能除去磁盘上的异物，能在保证有极光滑的表面性和高可靠性的情况下，进行正确的磁转录。

还有，本发明的磁转录装置是一种使至少一个面上形成有磁性膜的磁转录用母盘贴紧在磁盘上并施加外界磁场，以此将所述磁转录用母盘的磁性膜图案磁转录到所述磁盘上的磁转录装置，包括：写入有应转录的规定信息的所述磁转录用母盘；可滑动地定位于导向构件、保持所述磁转录用母盘的保持部；设有通气孔、支承所述磁盘或暂设盘的支承台；向设于所述支承台的所述通气孔供给气体用的供气部；从所述通气孔排出气体用的排气部；以及，施加磁转录用的磁场的磁铁。由于该构成，可以使磁转录时的磁转录用母盘表面始终保持无异物和毛刺的光滑状态，而被磁转录的磁盘几乎不发生微小凸起，能制造高品质的磁盘。

附图的简单说明

图1为示出本发明第1实施形态的工序的流程图。

图2所示为本发明第1实施形态中的磁转录装置的剖视图。

图3为示出图2的磁转录装置中磁转录用母盘与暂设盘贴紧时状态的磁转录装置的剖视图。

图4为示出本发明第1实施形态中的磁转录用母盘的与磁盘的接触面的图。

图5为示出本发明第1实施形态中的磁转录用母盘的轮毂形状之一例的图。

图6为示出本发明第1实施形态的磁转录装置中的气体抽吸、压送时空间S的气压的时间经过说明图。

图7为示出将磁盘向一个方向磁化后的状态的立体图。

图8为示出在磁盘规定区域，记录有与母盘磁性部的图案形状对应的信息信号状态的图。

图9为示出将与母盘上形成的图案形状对应的信息信号转录到磁盘上的顺序的图。

图10所示为对用本发明第1实施形态中的磁转录装置进行磁转录之后的磁盘表面用异物检测装置进行测定所得数据的图。

图11所示为对用现有的磁转录装置进行磁转录之后的磁盘表面用异物检测装置进行测定所得数据的图。

图12为示出磁盘表面的缺陷数与抽吸/压送次数之关系的图。

图13A为示出磁转录用母盘上形成的磁道图案边缘部出现的初始状态的毛刺的图。

图13B为示出重复进行抽吸/压送之后状态的毛刺的图。

图13C为示出磁转录用母盘上形成的初始状态的凸起部的图。

图13D为示出重复进行抽吸/压送之后状态的凸起部的图。

图14为示出本发明第1实施形态中的磁转录用母盘的信号区域之一例的示意图。

图15为示出本发明第1实施形态中的磁转录用母盘的信号区域的局部放大示意图。

图16为示出本发明第1实施形态中的磁转录用母盘的信号区域的局部剖面示意图。

图17为示出本发明第2实施形态的磁转录方法的工序的流程图。

图18为示出暂设盘上润滑剂的有无与磁转录用母盘上的异物、缺陷数及抽吸/压送之关系的图。

图19A为示出在使用涂有润滑剂的暂设盘进行磁转录后的磁盘上记录的信号的再现包络线的图。

图19B为示出在使用未涂润滑剂的暂设盘进行磁转录后的磁盘上记录的信号的再现包络线的图。

图20A为示意性示出使本发明第3实施形态中的磁转录用母盘比暂设盘大时的抽吸/压送时之关系的图。

图20B为示意性示出本发明第3实施形态中的磁盘的安装位置偏离暂设盘时的抽吸/压送时之关系的图。

图21为示出暂设盘相对本发明第3实施形态中的较大磁转录用母盘贴紧位置之一例的图。

图22为示出本发明第4实施形态的磁转录装置中的工序的流程图。

图23为示出进行了本发明第4实施形态中抽吸、压送之工序状态下的磁转录用母盘表面的图。

图24为示出未进行本发明第4实施形态中的抽吸、压送之工序状态下的磁转录用母盘表面的图。

实施发明的最佳形态

以下参照附图对本发明的实施形态进行说明。

本发明是一种磁转录方法及磁转录装置，该方法及装置通过使磁转录用母盘的形成有磁性膜的表面贴紧暂设盘来净化磁转录用母盘之后，使磁转录用母盘叠合在磁盘上进行磁转录记录。

在本发明的各实施形态中，对将磁转录用母盘的磁性膜图案磁转录到正规磁盘表面的磁转录方法及磁转录装置进行说明。

第1实施形态

用图1-图6对本发明第1实施形态中的磁转录方法及磁转录装置进行说明。

图1为本实施形态的磁转录方法的流程图。在图1中，首先通过溅射法等公知的方法，对正规的磁盘(以下称磁盘)在盘片表面形成例如由Co等构成的强磁性薄膜作为磁性层。

另一方面，将暂设盘装在磁转录装置(以下称装置)上，使磁转录用母盘(以下称母盘)靠近暂设盘之后，重复进行抽吸/压送，然后更换成磁盘，进行磁转录。又，母盘是事前已安装在母盘上的。

接着使用图2-图5，详细说明图1的磁转录工序。

图2为本实施形态中的磁转录装置的剖视图，示出母盘与暂设盘相分离时的状态。图3示出母盘2与暂设盘1贴紧时的状态。图4为示出母盘2中的与磁盘的接触面3的图，槽4从母盘2的中心起放射状扩展。在本实施形态中，槽的深度设定为5μm左右。

在图2中，暂设盘1在进行抽吸/压送的工序之后，更换成磁盘。暂设盘的材质使用铝。母盘2的材质使用比铝硬的最好使用硅。在母盘2上的与暂设盘1的接触面3上，设有从母盘2中心呈放射状伸展的槽4(参照图4)。图2中的母盘2示出的是通过该槽的沿图4的虚线2-2的剖面。

在母盘2的中心部固定有中心块5，与暂设盘1的内周孔有间隙地嵌合。支承台6支承着暂设盘1，中心部设有流过空气用的通气孔7。通道8是对母盘2与暂设盘1之间的气体进行排出、压送用的。气体经过气体排出口9及控制气体排出的排气阀11，从与气体排出口9连接的抽吸泵10排出。此外，供气泵12向通道8压送气体，供气阀13控制气体的供气。在此，供气泵12设有0.01μm的空气过滤器，以使0.01μm以上的异物不被压送到通道8。

保持母盘2用的保持臂14保持着母盘2。作为保持方法，也有粘接等方法，但也可以如图2所示，通过从设于保持臂14的通孔19抽吸气体，将母盘2吸附。

保持臂14再通过导向构件16，经上部的中心块部，沿垂直方向可自由滑动地被定位。

但是，母盘2的定位方法并不限于依靠保持臂14的方法，例如通过使中心块5的外周与磁盘(在此是暂设盘1)的内周孔嵌合也可以进行。在这样的情况下，中心块5的形状如图5所示，母盘2与暂设盘1之间的气体通过设于中心块5外周部的缺口部51被排出、压送。

接着利用图2-图4，详细说明抽吸/压送工序。

首先参照图2，说明利用压送的分离的工序。关闭排气阀11，打开供气阀13，在该状态使供气泵12工作，使气体流入通道8。于是，在通气孔7内，如图2的箭头A所示，空气向上方压送。因此，被压送到通气孔7内的空气将中心块5向上推压，再如箭头B所示，空气被压送入槽4。被压送到槽4的空气通过槽4从母盘2的中心向外周放射状扩散。再从槽4通过母盘2与暂设盘1的间隙向大气排放。由于该空气的流动，附着在母盘2及暂设盘1表面的微小异物与气体一起被排出到外部。

图6示出了从抽吸工序向压送工序变化时的时间经过与夹在母盘2与暂设盘1之间空间(以下称空间S)的气压之关系。在图6中，从时间经过约3秒起空间S的气压从30kPa瞬间上升，之后约1秒钟保持超过大气压的130kPa程度的气压，该期间相当于图2所示的母盘2与磁盘1分离时的状态。

此时，暂设盘1与母盘2之间的间隙最好设定得尽量小。在本实施例中设定为约0.5mm。因此，暂设盘1与母盘2之间的气体流动加快，可以将存在于两者之间的微小异物可靠排出到外部。

在本实施形态中，当母盘2和保持臂14成一体地从暂设盘1与母盘2贴紧的状态上升了0.5mm时，由于保持臂14的上侧面与导向构件16的下侧面抵靠，故暂设盘1与母盘2间的距离得到控制。

以下使用图3说明利用抽吸而贴紧的工序。

使供气泵12停止，关闭供气阀13。于是，保持母盘2的保持臂14因自重而向下移动，母盘2以中心块5与暂设盘1的内周孔嵌合的状态放置在暂设盘1之上。然后，打开排气阀11，使排气泵10工作。于是，如图3的箭头C所示，通气孔7的气体向下方排出，因此槽4内部即空间S的气体也通过暂设盘1的内周孔与中心块5的间隙被排出。

在此，因为槽4如图4所示，并不是一直开设到母盘2最外周的形状，所以，在最外周的厚壁部分，母盘2与暂设盘1在整个圆周呈贴紧状态，空间S呈密闭状态，其压力比大气压低。因此，暂设盘1被大气压15压靠在母盘2上(图3)。

其结果是，暂设盘1上存在的异物被夹在暂设盘1与母盘2之间。若比较暂设盘1与母盘2的硬度，则暂设盘的硬度较低，故夹在两者间的异物不会损伤母盘2的表面，而是进入暂设盘1侧或使其产生缺陷。此外，母盘2上存在的微小异常凸起由于与暂设盘1贴紧而趋向平坦。

图6中空间S的气压为30kPa程度的期间相当于上述贴紧状态。

但槽4的形状并不限于上述形状，在槽4为开设至母盘2外周形状的情况下，只要设置能密封母盘2与暂设盘1的外周的构件就行。

下面再次实施图2所示的分离工序。即，关闭排气阀11，打开供气阀13，使供气泵12工作。于是，如箭头A、B所示气体被压送，母盘2由于气体压送的力而与保持臂14成一体移动，在保持臂14的上侧面与导向构件16抵靠处停止。此时如箭头B所示，气体通过槽4保持从母盘2的中心向外周侧放射状压送的状态。由于这样的情况，存在于暂设盘1表面的异物与从供气泵12压送来的气体一起被排出到外部。

上述抽吸、压送重复进行规定次数之后，将暂设盘1换成正规的磁盘，对磁盘进行上述的抽吸工序，在磁盘与磁转录用母盘2贴紧的状态下，如图3所示，进行施加磁场的工序。

即，如图3所示，使磁铁17向箭头D方向移动而靠近母盘2，当其距离约为1mm时停止向箭头D方向的移动。接着使磁铁17向磁盘的圆周方向即箭头E的方向旋转1周以上来施加转录必需的磁场。

使用图7-图9，对将与母盘2形成的图案形状对应的信息信号转录到磁盘100上的顺序作更详细的说明。

首先，在使磁铁17靠近母盘2的状态下，以母盘2的中心轴为旋转轴，使磁铁17与母盘2平行地旋转，如图7的箭头所示，预先向一个方向磁化磁盘100(初始磁化)。

接着如上所述，在将母盘2定位并叠合于磁盘100上的状态下，使母盘2与磁盘100均匀贴紧，然后使磁铁17向与图3的箭头E相反的方向旋转。即施加与初始磁化相反方向的磁场，于是母盘2的磁性部26被磁化，在与母盘2叠合的磁盘100的与母盘2的磁性部26对应的规定区域116，如图8所示，被记录与母盘2的磁性部26的图案形状对应的信息信号。又，图8所示的箭头表面此时转录在磁盘1上的磁化图案的磁场的方向。

图9示出该磁化处理时的情况，在使母盘2贴紧在磁盘1上的状态下，从外部向磁转录用母盘2施加磁场而使磁性部26磁化，能将信息信号记录在磁盘100的强磁性层1c上。即，通过使用在非磁性的硅基体2b上形成有由排列图案形状与规定的信息信号对应的强磁性薄膜构成的磁性部26的母盘2，作为与该信息信号对应的磁化图案，能磁转录记录在磁盘100上。

另外，作为将母盘2的图案转录到磁盘1时的方法，除了如上所述，在使母盘2与磁盘100接触的状态下施加外部磁场的方法之外，预先使母盘2的磁性部26磁化，在该状态使母盘2与磁盘1贴紧接触的方法，也能记录信息信号。

图10及图11示出了用异物检测装置等测定制成的磁盘表面状态的测定结果，图11所示为传统转录方法即未使用暂设盘未进行上述的抽吸/压送动作情况下转录的磁盘的表面状态。表2所示为使用传统转录方法的缺陷深度与缺陷个数的关系。

                           表1

缺陷深度	40nm以上	50nm以上	60nm以上
				缺陷个数	2	0	0

                           表2

缺陷深度	40nm以上	50nm以上	60nm以上
				缺陷个数	24	18	7

从图11及表2可知，磁盘表面深度为40nm以上的缺陷有24个，尤其是很多存在于外周部。

与此相对照，图10所示为在使用暂设盘进行上述抽吸/压送动作10万次之后，换上正规的磁盘进行了磁转录的磁盘的表面状态。表1示出了此时的缺陷深度与缺陷个数的关系。从表1可知，磁盘表面存在的40nm以上的缺陷为2个。

从这些图可知，通过使用暂设盘重复进行抽吸/压送动作，母盘2的表面趋向光滑，明显减少了如传统那样的因母盘2上的异常凸起而存在的磁盘上的缺陷。

图12将抽吸/压送的动作次数与缺陷深度40nm以上的缺陷个数之关系变成了图，从图10可知，越增加抽吸/压送的动作次数，缺陷1的数目越减少。

图13A-13D所示为母盘2表面的初始状态及经过上述反复抽吸/压送之后的状态。

可以知道，在形成于母盘2上的磁道图案21的边缘部出现的如图13A所示那样的初始状态的毛刺22，如图13B所示，通过10万次的抽吸/压送而变光滑。

此外可知，初期存在的如图13C那样的凸起部23如图13D所示，由于10万次的抽吸/压送而变光滑，除了凸起量最大的凸起部顶端24之外基本消失了。

如上所述，若采用本实施形态，通过在磁转录之前使用暂设盘进行抽吸/压送动作，除去母盘2表面存在的异物，并使异常凸起变平坦，因此可以制造有极光滑的表面性的高品质磁盘，可以进行正确的磁转录。

另外，若暂设盘的表面污垢或表面异物数达到规定数以上，就换成新的暂设盘。

此外，如本实施形态所示，暂设盘的表面硬度最好比母盘的表面硬度低。这是因为，如果暂设盘表面硬度比母盘的表面硬度高，则当母盘2与暂设盘1之间存在硬度比母盘的表面硬度高但比暂设盘的表面硬度低的异物时，因为暂设盘的表面硬度比异物的硬度高，故暂设盘表面不会产生凹陷，即，暂设盘侧不会附着异物。因此，异物附着在母盘2侧，在该状态，然后当暂设盘1与母盘2贴紧时，因为异物硬度比暂设盘1的表面硬度高，故在暂设盘1的表面产生凹陷，成为引起缺陷的原因。

相反，如果如本实施形态那样，使暂设盘的表面硬度比暂设盘的表面硬度要小，则当暂设盘1与母盘2贴紧时，由于上述原因，能可靠防止暂设盘产生凹陷。

此外，在本实施形态中，暂设盘的材质为铝，但并不受此限制，例如也可以将在铝表面形成有镀层的盘片用作暂设盘。作为镀层，最好是具有如Co-Re-P、Co-Ni-P、Co-Ni-Re-P那样强磁性的磁特性的材料。通过在暂设盘表面形成具有磁特性的镀层，能获得以下所示的效果。即，当母盘盘片2的表面上存在的磁性膜有异常凸起时，由于与暂设盘1反复进行贴紧/分离的动作，故磁性膜会剥离，但由于暂设盘1的表面形成有具有磁特性的镀层，故磁性膜可靠地附着在暂设盘侧。

此外，在本实施形态中，未实施抛光工序，但也可以例如在使用磁带、磁头、抛光剂等实施抛光工序之后，通过进行上述的抽吸/压送工序来除去磁盘表面上残存的抛光粉及车削粉末。在该情况下，压送时的压力保持原样，提高抽吸时的压力，例如设定为60kPa程度，能进一步提高除去效果。

现对图4所示的母盘2进行详细说明。

图14所示为磁转录用母盘2之一例的平面示意图。如图14所示，在母盘2的一主面即与磁盘1的强磁性薄膜表面接触侧的接触面3上，大致放射状地形成有信号区域2a。图4及图14是示意性图，实际上，图14中的信号区域2a形成在除了图4中的槽4之外的接触面3上。

图15为示意性示出图14的虚线所包围部分A的放大图。如图15所示，在信号区域2a，在与记录在磁盘上的数字信息信号，例如预先格式记录对应的位置，形成有形状与上述信息信号对应并由强磁性薄膜构成的磁性部形成的母盘信息图案。在图15中，加有剖面线的部分是由强磁性薄膜构成的磁性部。该图15所示的母盘信息图案相对盘片周向34，沿磁道长度方向依次有排列时钟信号31、跟踪用伺服信号32、地址信息信号33等各个区域。也示出了数据信号区域35。另外，图15所示母盘信息图案是一个例子，根据记录在磁记录媒体上的数字信息信号，适当决定母盘信息图案的构成及配置等。

例如，在如硬盘驱动器那样，在硬盘的磁性膜上首先记录基准信号，根据该基准信号进行跟踪用伺服信号等的预先格式记录时，也可以使用本发明的母盘，在硬盘的磁性膜上，预先仅转录预先格式记录用的基准信号，然后将该硬盘组装入驱动器的筐体内，跟踪用伺服信号等的预先格式记录使用硬盘驱动器的磁头进行。

图16所示为图14、图15所示区域的局部剖面。

如图16所示，母盘2是这样构成的，即，在由Si基板、玻璃基板、塑料基板等的非磁性材料构成的圆盘状基体41的一个主面，即接触磁盘1的表面侧的接触面3，以与信息信号对应的多个细微的排列图案形状，形成有凹部42，在该基体41的凹部42内，以埋入的形态形成有作为磁性部的强磁性薄膜43。

在此，作为强磁性薄膜43，可以使用多种磁性材料，无论是硬质磁性材料、半硬质磁性材料还是软质磁性材料，只要是能将数据信息信号转录到磁性记录媒体上的就行。例如可以使用Fe、Co、Fe-Co合金等。又，为了无论记录有母盘信息的磁性记录媒体的种类如何均能产生充分的记录磁场，磁性材料的饱和磁通密度越大越好。尤其是，对于超过2000奥斯特的高矫顽磁力的磁盘及磁性层厚度大的软盘来说，如果饱和磁通密度在0.8泰斯拉以下，有时就不能进行充分的记录，所以，一般使用具有0.8泰斯拉以上，最好使用具有1.0泰斯拉以上饱和磁通密度的磁性材料。

此外，强磁性薄膜43的厚度与比特长度、磁性记录媒体的饱和磁化及磁性层的膜厚有关，例如在比特长度约1μm、磁性记录媒体的饱和磁化约500emu/cc、磁性记录媒体的磁性层厚度约20nm的情况下，强磁性薄膜43的厚度可以为50nm-500nm。

此时，在这样的记录方法中，为了获得良好的记录信号质量，最好根据作为设于母盘的强磁性薄膜的软质磁性薄膜或半硬质磁性薄膜的排列图案形状，在进行预先格式记录时对此进行励磁，使其同样磁化，并最好在使用母盘进行信号记录之前，预先对硬盘等的磁性记录媒体进行直流消磁。

下面对制造这样的母盘的方法进行说明。

具体是，本发明的记录方法使用的母盘的制造方法如下：在Si基板表面形成抗蚀剂膜，通过如光刻蚀那样的使用激光束或电子束的刻蚀技术对抗蚀剂膜进行曝光、显影，形成图案之后，通过干腐蚀等进行腐蚀，形成与信息信号对应的细微的凹凸形状，然后用溅镀法、真空蒸镀法、离子镀敷法、CVD法、电镀法等形成由Co等构成的强磁性薄膜之后，利用所谓的剥离法除去抗蚀剂膜，这样就能获得具有在凹部埋入有强磁性薄膜形态的、且与信息信号对应的磁性部的母盘。

另外，在母盘表面形成凹凸形状的方法并不限于上述方法，例如也可以使用激光、电子束或离子束直接形成细微的凹凸形状，或用机械加工直接形成细微的凹凸形状。

另外在本实施形态中，对为了吸气使用供气泵的例子进行了说明，但也可以从高压储气瓶供给氮气等。

第2实施形态

下面使用图17对本发明的第2实施形态的磁转录方法进行说明。

图17所示为本实施形态工序的流程图。关于各工序与第1实施形态相同，不同之点在于，在对正规的磁盘进行磁转录之后，测定磁转录用母盘的表面粗糙度，并将反馈该结果。

即在图17中，在对磁盘进行磁转录之后，使用采用散射光检测法的异物检测装置等对母盘上存在的异物进行测定。此时如果未观察到异物，则装上新的磁盘，继续进行磁转录。

但是，在反复进行磁转录的过程中，母盘表面的异物数增多，达到某一定值以上时，如上所述会出现磁头撞坏的问题，所以，当异物数达到规定的值，在本实施例的情况下为3个以上时，装上暂设盘反复进行抽吸/压送的动作。由此，对于表面性恶化的母盘2，通过进行抽吸/压送的工序，能改善表面性，能重新制造出具有光滑的表面性的磁盘。

即，本实施形态在磁转录工序之中，通过对母盘2的表面性定期进行维护保养，就能持续生产具有光滑的表面性的磁盘。

另外，对母盘2的异物检查，未必要每进行一次磁盘的磁转录就进行一次，也可以每进行规定片数的磁转录进行一次，或者，逐次存储进行几次磁转录之后母盘异物数达到规定值以上这样的数据，每进行次数少于该次数的磁转录工序进行一次母盘表面粗糙度的测定。

此外，因为进行母盘的异物检查需要一定的时间，所以，如果不进行异物检查，而是每当对规定片数的磁盘进行磁转录之后，装上暂设盘进行母盘的维护保养，也能获得同样的结果。

此外，利用盘片进行磁转录之后的检查，如果磁转录之后的盘片的异物为规定值以上，采用对母盘2进行抽吸/压送工序的方法也能获得同样的效果。

这对于暂设盘1也一样，进行母盘2和暂设盘1的抽吸/压送时，通过测定暂设盘1表面，也能测出母盘2上的异物。

即，因为铝制的暂设盘1硬度比硅制的母盘2的低，所以如果母盘/暂设盘之间存在异物，则抽吸时，该异物会陷入暂设盘1侧，暂设盘1表面会产生凹陷。

因此，每进行规定次数的抽吸/压送之后，检测暂设盘1表面的细微凹陷，到检测不出这样的凹陷之时，将暂设盘1换成磁盘进行磁转录，则可以用无异物的表面状态光滑的母盘，制造高质量的磁盘。

此时，若着眼于暂设盘表面对异物的吸附性，则吸附性高的为理想。

即，如果吸附性低，则母盘与暂设盘之间存在异物时，异物不附着在暂设盘表面，故有时会附着于母盘侧。此外，因为暂设盘表面为无异物的光滑状态，故根据暂设盘表面的状态判断有无异物时，有可能作出错误的判断。

另一方面，若吸附性高，母盘与暂设盘之间的异物附着于暂设盘侧，故能有效除去母盘上的异物，且根据暂设盘表面的状态，也能正确判断有无异物。

由于以上情况，作为暂设盘，最好硬度比母盘低，并且对异物的吸附性要好。即，理想的是未涂布有润滑剂状态的。

对作为暂设盘使用涂布有润滑剂的场合及使用未涂布有润滑剂的场合，图18示出了母盘上的异物、缺陷数与抽吸/压送的关系。

在图18中，圆形符号表示暂设盘未涂布润滑剂的(试样D)，正方形的点表示表面涂布有润滑剂的暂设盘(试样E)。

从图12可知，若比较试样D与试样E，母盘上的异物和缺陷数在初始阶段是相同的，但是，试样D通过母盘与暂设盘的贴紧、分离的多次重复进行，能有效除去母盘-盘片上的微粒，能使其基本为0，而使用试样E时，贴紧、分离100次以后，异物和缺陷的数目几乎不减少。

还有，在图19A、19B中，示意性示出了在磁转录后的磁盘上记录信号之后，再现该信号时的信号的包络线。

图19A所示为使用涂有润滑剂的暂设盘，与母盘重复进行1000次的抽吸/压送之后，从母盘磁转录的磁盘的包络线，图19B所示为使用无润滑剂的暂设盘，与母盘进行1000次的重复抽吸/压送之后，从母盘磁转录的磁盘的包络线。

从图19A可以看到，包络线的中央部分在信号输出下降的部分50，而图19B中未出现这样的信号下降部分。

对此可以认为，关于图19A，虽然未看到磁盘表面上的缺陷，但因为母盘留有异物，故从母盘进行磁转录时，产生无信号损失，信号未被正常记录。

而关于图19B，可以认为，因为对母盘，用无润滑剂的暂设盘进行抽吸/压送处理，故母盘上的异物被完全除去，对磁盘的磁转录能正常进行，所以未发生无信号损失。

第3实施形态

下面使用图20A-图21，对本发明第3实施形态的磁转录方法进行说明。

本实施形态与第1、第2实施形态的不同点在于，磁转录用母盘与暂设盘进行抽吸/压送时的母盘上的贴紧区域完全包含对正规磁盘进行磁转录时的磁转录区域。

图20A、20B为示意性示出母盘2和暂设盘1进行抽吸/压送时关系的图。在图20A中，通过对母盘2和暂设盘1进行抽吸/压送，区域A内的异物被除去。

接着，将暂设盘1换成磁盘100之后，进行磁转录之时，当暂设盘1与磁盘100一样大小时，则由于磁盘100安装位置的偏移，如图20B所示，磁盘100的边缘有时会与异物抵靠。

在这样的情况下，在异物附近，磁盘100与母盘2的贴紧度下降，引起无信号损失，转录在磁盘100上的伺服信号的输出下降。

其结果是，发生读出错误，磁盘100的旋转发生混乱。

因此，在本实施形态中，作为暂设盘1，使用尺寸比磁盘100大的，以此扩大图20A中的区域L，即使磁盘100与暂设盘1的安装位置发生偏移，也能在磁盘100的整个面上进行正常的磁转录，不会导致伺服信号输出的下降，能制造高质量的磁盘100。

另外，一般作为暂设盘1，往往使用磁盘100制造工序中途的磁盘，尺寸是相等的，所以，为了获得上述效果，也可以在暂设盘1和母盘2进行抽吸/压送时，使暂设盘1偏心。即，如图21所示，每次进行抽吸/压送时，使暂设盘1相对母盘2的贴紧位置如X、Y、Z所示那样依次偏移，就能对完全包含磁盘100的区域进行抽吸/压送。

第4实施形态

下面使用图22-图24，对本发明的第4实施形态的磁转录方法进行说明。

本实施形态与第1-第3实施形态的不同之点在于，作为磁盘的材质，使用硬度比硅还高的玻璃，硬度比硅制的磁转录用母盘2还高，以及，使用暂设母盘。

还有，图22所示为本实施形态的工序的流程图。关于各工序是与第1实施形态相同的。

在图22中，首先，将用硅制成的暂设母盘安装在装置上，并将形成有磁性层的正规磁盘安装在装置上。

接着，与第1实施形态一样，在暂设母盘与磁盘之间反复进行抽吸/压送的工序之后，将暂设母盘换成正规母盘，进行磁转录。

此时，因为磁盘材质是比硅还硬度高的玻璃，所以当暂设母盘与磁盘贴紧时，即使因夹在其间的异物而在暂设母盘侧产生缺陷，磁盘侧也不会产生缺陷。另一方面，磁盘表面存在的细微异物因暂设母盘而被除去。

图23及图24所示为本实施形态的磁盘表面的观察结果。图24所示为进行抽吸/压送之前的初始状态下的磁盘表面状态。表4示出此时的缺陷深度与缺陷个数的关系。从表4可知，深度30nm以上的缺陷有6个，更小的缺陷则在盘片上存在无数个。

表3

缺陷的深度	20nm以上	30nm以上	40nm以上	50nm以上	60nm以上
						缺陷的个数	3	0	0	0	0

表3

缺陷的深度	20nm以上	30nm以上	40nm以上	50nm以上	60nm以上
						缺陷的个数	9	6	2	2	1

图23所示为用暂设母盘进行1次抽吸/压送之后，用母盘进行磁转录的磁盘的表面状态。表3示出此时的缺陷深度与缺陷个数的关系。从表3可知，深度30nm以上的缺陷未发现，也几乎无更小的缺陷，具有极光滑的表面性。

在本实施形态中，可以认为，因为作为磁盘材质，使用比磁转录用母盘的材质更硬度高的材质，所以，磁盘表面不会被复制上母盘表面的凹凸形状，磁盘表面存在的微小凸起或微小异物由于与暂设母盘的贴紧及抽吸/压送工序而被除去。

如上所述，本实施形态中的磁转录装置，使用比磁盘硬度低的暂设母盘，首先进行抽吸/压送工序来除去磁盘上的异物，使磁盘表面变光滑之后，用磁转录用母盘对磁盘进行磁转录的工序，从而能对几乎无异物及异常凸起的磁盘进行磁转录，能制造表面性极良好的高质量磁盘。

产业上利用的可能性

如上所述，若采用本发明，在将磁转录用母盘的磁性膜图案磁转录到盘片表面上的制造方法中，在转录到正规的磁盘上之前，先在暂设盘与磁转录用母盘之间反复进行抽吸、压送，来净化磁转录用母盘的表面，能保持无毛刺、光滑，能制造高质量的磁盘。

还有，若根据本发明，在磁转录后测定磁转录用母盘表面，当检测到磁转录用母盘表面上有异物时，装上暂设盘，对暂设盘与磁转录用母盘之间反复进行抽吸、压送，可以可靠除去附着在磁转录用母盘表面上的异物，能实现有耐久性的磁转录装置及高质量的磁盘。

此外，若根据本发明，作为磁盘材质，使用硬度比磁转录用母盘材质的硬度还高的材质，在暂设母盘与正规磁盘之间反复进行抽吸、压送，就能除去磁盘上存在的微小异物，能制造表面性极光滑的、高质量的磁盘。

Claims (22)

1.一种磁转录方法，通过将磁性膜形成为与规定的信息信号对应的排列图案形状的磁转录用母盘与磁盘表面叠合，并使所述磁转录用母盘的磁性膜磁化，将所述磁转录用母盘的信息信号的排列图案磁转录在所述磁盘上作为信息信号的磁化图案，其特征在于，具有：

通过使所述磁转录用母盘的形成有磁性膜的表面与暂设盘贴紧/分离，来净化所述磁转录用母盘的工序；

在所述净化工序之后，使所述磁转录用母盘与所述磁盘叠合进行磁转录的工序。

2.根据权利要求1所述磁转录方法，其特征在于，

还具有对所述磁盘进行磁转录之后检测所述磁盘缺陷的检测工序，

用所述检测工序测出在有缺陷时，进行使所述磁转录用母盘的形成有磁性膜的表面与暂设盘贴紧，以净化所述磁转录用母盘的工序；然后再次进行从所述磁转录用母盘向所述磁盘的磁转录。

3.根据权利要求1所述的磁转录方法，其特征在于，

每当对规定片数的所述磁盘进行磁转录之后，进行使所述磁转录用母盘的形成有磁性膜的表面与暂设盘贴紧/分离，以净化所述磁转录用母盘的工序。

4.根据权利要求1所述的磁转录方法，其特征在于，

具有使所述磁转录用母盘与所述暂设盘贴紧/分离的操作重复规定次数的工序；

在贴紧/分离的操作重复规定次数的工序之后，使所述磁盘与所述磁转录用母盘贴紧，进行磁转录。

5.根据权利要求1所述的磁转录方法，其特征在于，

还具有检测盘片表面缺陷的检测工序，

当根据所述检测工序测出所述磁盘或所述磁转录用母盘有规定数以上的缺陷时，在进行从所述磁转录用母盘向所述磁盘的磁转录之前，使所述磁转录用母盘与暂设盘的贴紧/分离的操作重复规定次数。

6.根据权利要求1所述的磁转录方法，其特征在于，

每当对规定片数的所述磁盘进行磁转录，均使所述磁转录用母盘与所述暂设盘贴紧/分离的操作重复规定次数。

7.根据权利要求1-6所述的磁转录方法，其特征在于，

贴紧/分离的操作通过抽吸所述磁转录用母盘与所述暂设盘之间的气体，或者使气体流入所述磁转录用母盘与所述暂设盘之间来进行。

8.根据权利要求1-6所述的磁转录方法，其特征在于，

所述磁转录用母盘的硬度比所述磁盘及所述暂设盘的硬度要高。

9.根据权利要求1-6所述的磁转录方法，其特征在于，

所述暂设盘的硬度比所述磁盘的硬度要低。

10.根据权利要求1-6所述的磁转录方法，其特征在于，

使所述磁转录用母盘与所述暂设盘贴紧的区域包含从所述磁转录用母盘向所述磁盘进行磁转录时的磁转录区域。

11.根据权利要求1-6所述的磁转录方法，其特征在于，

通过重复进行所述磁转录用母盘与未涂润滑剂的所述暂设盘的贴紧、分离，来净化所述磁转录用母盘。

12.根据权利要求1-6所述的磁转录方法，其特征在于，

所述暂设盘表面形成有电镀膜。

13.根据权利要求12所述的磁转录方法，其特征在于，

所述电镀层具有强磁性的磁特性。

14.一种磁转录方法，通过将磁性膜形成为与规定的信息信号对应的排列图案形状的磁转录用母盘与磁盘表面叠合，并使所述磁转录用母盘的磁性膜磁化，将所述磁转录用母盘的信息信号的排列图案磁转录在所述磁盘上作为信息信号的磁化图案，其特征在于，具有：

使所述暂设母盘与所述磁盘贴紧/分离的操作重复规定次数的工序；

在该工序之后，使所述磁转录用母盘与所述磁盘贴紧，进行磁转录的工序。

15.根据权利要求1或14所述的磁转录方法，其特征在于，

所述贴紧/分离的操作通过抽吸贴紧/分离对象的所述两盘片之间的气体，接着使气体流入来进行。

16.根据权利要求15所述的磁转录方法，其特征在于，

所述暂设母盘的硬度比所述磁盘的硬度要低。

17.一种磁转录装置，其使至少一个面上形成有磁性膜的磁转录用母盘与磁盘贴紧，并施加外部磁场，从而将所述磁转录用母盘的磁性膜图案磁转录到所述磁盘上，其特征在于，其构成包括：

写入有要转录的规定信息的所述磁转录用母盘；

可滑动地定位于导向构件、保持所述磁转录用母盘的保持部；

设有通气孔、支承所述磁盘或暂设盘的支承台；

向设于所述支承台的所述通气孔供给气体用的供气部；

从所述通气孔排出气体用的排气部；

施加磁转录用的磁场的磁铁。

18.根据权利要求17所述的磁转录装置，其特征在于，

所述保持部具有通孔，通过从所述通孔吸引气体，将所述磁转录用母盘保持在所述保持部。

19.根据权利要求17所述的磁转录装置，其特征在于，

所述磁转录用母盘具有设置成从中心部伸向外周部且未到达最外周的多条放射状槽。

20.根据权利要求17所述的磁转录装置，其特征在于，

所述磁盘或所述暂设盘具有内周孔，所述磁转录用母盘的中心部具有与所述内周孔嵌合的中心块。

21.根据权利要求20所述的磁转录装置，其特征在于，

所述中心块在外周部有至少一个缺口部。

22.根据权利要求17所述的磁转录装置，其特征在于，

利用所述排气部使所述磁转录用母盘与所述磁盘或所述暂设盘贴紧，利用所述供气部使所述磁转录用母盘与所述磁盘或所述暂设盘分离。

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