WO1999053483A1

WO1999053483A1 - Couche de polyamide aromatique pour support d'enregistrement magnetique haute densite

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Publication number: WO1999053483A1
Application number: PCT/JP1999/001958
Authority: WO
Inventors: Makoto Handa; Mitsumasa Ono; Takeo Asai
Original assignee: Teijin Limited
Priority date: 1998-04-13
Filing date: 1999-04-13
Publication date: 1999-10-21
Also published as: WO1999053483A9; EP1003156A4; TW534866B; KR20010013755A; US6344257B1; EP1003156A1

Description

明細書高密度磁気記録媒体用芳香族ポリァ . 技術分野

本発明は高密度磁気記録媒体のベースフィルムとして好適な芳香族ポリアミドフィルムに関する。さらに詳しくは、強度、易滑性、巻取り性などのハンドリング性、耐削れ性に優れ、さらに高密度磁気記録媒体として用いられたとき、電磁変換特性、耐ドロップアウト特性、耐出力低下、走行耐久性に優れた、芳香族ポリアミドフィルムに関する。

従来技術

近年、磁気記録媒体の高密度化の進歩はめざましく、例えば、強磁性金属薄膜を真空蒸着ゃスパッ夕リング等の物理沈着法またはメッキ法により非磁性支持体上に形成せしめた金属薄膜型磁気記録媒体、またメタル粉や酸化鉄粉等の針状磁性粉体を 2 m以下に塗布した薄層塗布型磁気記録媒体の開発実用化が進められている。前者としては、 Coの蒸着テープ（特開昭 54— 147010号公報)、 Co-C r合金からなる垂直磁気記録媒体（特開昭 52— 134706号公報）が知られ、また後者としては、極薄層塗布型磁気記録媒体による高密度磁気記録 (電子通信学会技術報告 MR 94-78 (1995-02))等が知られている。従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布してなる磁気記録媒体）は記録密度が低く、記録波長も長いめに、磁性層の厚みが 2 m程度以上と厚いのに対して、真空蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティング等の薄膜形成手段によって形成される強磁性金属薄膜は厚みが 0. 2 以下と非常に薄く、また極薄層塗布型の場合も、非磁性下地層を設けるものの、 0. 13 imの厚みのものが提案され、非常に薄くなつている。

それに伴い、非磁性支持体（ベースフィルム）についても同様の薄膜化が求められ、該厚みにおける十分な強度、磁気記録ヘッドに対する適度な接触状態を与える剛性などが要求される。その点、芳香族ポリアミドフィルムは、高ヤング率に起因する薄膜での強度、剛性などに優れているために高密度磁気記録媒体用ベ一スフイルムとしての使用が近年盛んである。

一方、上記の高密度磁気記録媒体においては、ベースフィルムの表面状態が磁性層の表面性に大きな影響を及ぼし、特に金属薄膜型の磁気記録媒体の場合には、非磁性支持体の表面状態がそのまま磁性層（磁気記録層）表面の凹凸として発現し、それが記録 ·再生信号の雑音の原因となる。従って、非磁性支持体の表面はできるだけ平坦であることが望ましい。

他方、非磁性支持体（ベ一スフイルム）の製膜、製膜工程での搬送、巻取り、巻き出しといったハンドリングの観点からは、フィルム表面が平坦すぎると、フイルムフィルム相互の滑り性が悪化しプロッキング現象が発生し、ロールに巻いたときの形状（ロールフォーメイシヨン）が悪化し、製品歩留りの低下、ひいては製品の製造コストの上昇をきたす。従って、製造コストという観点では非磁性支持体（ベースフィルム）の表面はできるだけ粗いことが望ましい。

さらに金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、実際に使用される時の重大な問題点として、金属薄膜面の走行性がある。磁性体粉末を有機高分子バインダー中に混入させてベ一スフイルムに塗布してなる塗布型磁気記録媒体の場合には、該バインダ一中に潤滑剤を分散させて磁性層面の走行性を向上させることができるが、金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、このような対策をとることができず、走行性を安定して保つのは非常に難しく、特に高温高湿下の走行性が劣るなどの欠点を有している。

そこで、優れた品質の高密度磁気記録媒体を製造するには、上記二律背反する性質を同時に満足させることが必要とされる。

このための具体的方法として、 ①フィルム表面に特定の塗剤を塗布し、不達続被膜を形成させる方法（特公平 3 - 8 0 4 1 0号公報、特開昭 6 0 - 1 8 0 8 3 9号公報、特開昭 6 0 - 1 8 0 8 3 8号公報、特開昭 6 0— 1 8 0 8 3 7号公報、特開昭 5 6— 1 6 9 3 7号公報および特開昭 5 8— 6 8 2 2 3号公報参照）、 ②フィルム表面に微細凹凸を有する連続被膜を塗布形成する方法（特開平 5— 1 9 4 7 7 2号公報および特開平 5— 2 1 0 8 3 3号公報参照）、 ③共押し出し法等の技術にょリ表裏異面化する方法（特開平 2— 2 1 4 6 5 7号公報および特公平 7— 8 0 2 8 2号公報参照)、④①または②と③の組み合わせによる方法（特開平 3— 7 3 4 0 9号公報参照）が提案されている。

上記①， ②， ④の不連続被膜や微細凹凸を有する連続被膜を塗布形成する方法においては、フィルムフイルム間の滑り、ブロッキングといった課題は解決できているが、被膜中に微細な不活性粒子を均一分散させることが難しく凝集粒子による粗大突起を生じやすい。この原因から電磁変換特性が悪ィヒするなど磁気テープとしての品質が安定しないという問題があった。また凝集粒子は単分散粒子と比較して製膜工程で用いられる種々のガイドロールとの接触によって削り取られやすく、ベースフィルム上に付着堆積して突起となり、磁気テ一プとしたときにドロップアウトの原因となる問題もある。

一方無機粒子は硬度が高く、変形しにくいため磁気へッドのクリーニング性に優れており、また種々のサイズの微粒子の製造が容易であるものの、ポリマーとの親和性に乏しく粒子の脱落を生じやすい傾向が見られる。他方、有機粒子はポリマーとの親和性は優れるものの、硬度が無機粒子に比べ低く、粒子全体に熱や機械的摩擦による変形等が加わるため、テープの電磁変換特性がテープの走行を繰り返すことにより劣ィ匕していくという問題があった。

さらに、使用する機器（ハードウェア）の小型化による高密度実装ィヒに伴いテープに対する熱的負荷はますます高まりつつある。特に高密度磁気記録媒体では磁気記録トツラクのピッチが 1 O ^ m前後と非常に狭いため、熱履歴によるべ —スフィルムの寸法変化はトラックのずれにつながり、電磁変換特性の低下を引き起こすという問題がある。

発明の開示

本発明の目的は、製膜工程での削れ性、巻取り性に優れそして蒸着金属薄膜型磁気記録媒体として用いられた場合には電磁変換特性、ド口ップアゥト特性、出力低下、走行耐久性に優れた芳香族ポリアミドフィルムを提供することにある。本発明の他の目的は、ドロップァゥトの原因物となる凝集粒子の生成を防止しそして蒸着金属薄膜型磁気記録媒体のベースフィルムに用いたときにも電磁変換特性に優れ、ドロップアウトの極めて少ない、大容量の磁気記録媒体の製造が可能な高密度磁気記録媒体用積層フィルムを提供することにある。

本発明のさらに他の目的は、高密度磁気記録媒体用ベースフィルムとして特に有用な表面平坦性と優れた搬送性を兼備し、カレンダ一工程における突起の突上げ防止と易巻取り性という相反した特性を同時に満足しうる易搬送性薄膜フィルムを提供することにある。

本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明から明らかになろう。

本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第 1に、

(A) 実質的に不活性微粒子を含有しない芳香族ポリアミドからなりそしてフィルム面上の直交する 2方向のヤング率の和が少なくとも 2， 0 0 0 k g /mm²である二軸配向芳香族ポリアミドベースフィルムおよび (B) 平均粒径が 5〜 1 0 0 nmの不活性微粒子およびバインダー樹脂からなりそして上記ベースフィルムの少なくとも一方のフィルム面上にある被膜層、ここで該不活性微粒子の平均粒径（d _B : nm) と該被膜層の厚さ（t _B： nm) とは下記式 ( 1 )

0 . 0 5≤ t _B/d _B≤0. 8 …… ( 1 )

を満足しかつ該被膜層は被膜層表面上に 1 X 1 0 ⁶〜 1 X 1 0 ⁸個/ mm 2の密度で表面突起を有する、

からなる、高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム

(以下、本発明の第 1芳香族ポリアミドフィルムということがある）によって達成される。

また、本発明の上記目的および利点は、第 2に

(A) 実質的に不活性微粒子を含有しない芳香族ポリアミドからなりそしてフィルム面上の直交する 2方向のヤング率の和が少なくとも 2， 0 0 0 k g

/mm²である二軸配向芳香族ポリアミドべ一スフイルムおよび (B) 不活性微粒子、界面活性剤およびバインダー樹脂からなりそして上記べ一スフイルムの少なくとも一方のフィルム面上にある被膜層、ここで該界面活性剤は H L B値が 10〜 14の第 1界面活性剤と H L B値が 16 〜18. 5の第 2界面活性剤からなり、第 1界面活性剤と第 2界面活性剤との平均 HLB値は 15〜18であり、そして第 1界面活性剤および第 2界面活性剤それぞれの含有量は、被膜層中に、固形分換算で、 0. 1〜15重量％および 10〜40重量％である、

(以下、本発明の第 2芳香族ポリアミドフィルムということがある）によって達成される。

さらに、本発明の上記目的および利点は、第 3に

(A) (A1) 実質的に不活性微粒子を含有しない芳香族ポリアミドからなりそしてフィルム面上の直交する 2方向のヤング率の和が少なくとも 2， 000 k gZmm²である二軸配向芳香族ポリアミドフィルムおよび

平均粒径 1〜 300 nmの不活性微粒子 0.01〜 45重量％とバインダー樹脂からなりそして上記ポリアミドフィルムの片面上にある第 1被膜層からなる積層ベースフィルム、または、

(A2) 下記式 (2)

M¹ (OH) _x

ここで、 M¹は周期律表 I a族の金属元素または周期律表 Π a族の金属元素でありそして Xは 1または 2である、で表わされる化合物または下記式（3)

M¹ (C0₃) y

ここで M¹の定義は上記に同じでありそして yは 1 Z 2または 1である、

で表わされる化合物からなりそして平均粒径 5〜1, 50 Onm の内部不活性微粒子を含有する芳香族ポリアミドからなりそしてフィルム面上の直交する 2方向のヤング率の和が少なくとも 2， 0 0 0 k g Zmm ²である二軸配向芳香族ポリアミドベースフィルム、並びに

(B) 平均粒径の異なる 2種の不活性微粒子およびバインダ一樹脂からなりそして上記積層ベースフィルム（A 1 ) の被膜層の存在しないフィルム面上に存在するか、または上記二軸配向芳香族ポリアミドベースフィルム（A

2 ) の片面上に存在する第 2被膜層、ここで上記 2種の不活性微粒子は平均粒径 1 0 0〜 1， 0 0 0 nmの第 1不活性微粒子と平均粒径 5〜 1 0 0 nmの第 2不活性微粒子からなり、第 1不活性微粒子の平均粒径対第 2不活性微粒子の平均粒径の比は 1 . 2以上であり、第 1不活性微粒子および第 2不活性微粒子それぞれの含有量は、第 2被膜層中に、固形分換算で、 0 . 0 1〜4 0重量％および 1〜7 0重量％でありかつ両含有量の合計は 7 5重量％以下であり、そして該第 2被膜層の厚みは 1 n m以上第 2不活性微粒子の平均粒径以下である、

からなる、高密度磁気記録媒体用かつ易搬送性芳香族ポリアミドフィルム

(以下、積層べ一スフイルム（A 1 ) を用いたものを本発明の第 3芳香族ポリアミドフィルム、二軸配向芳香族ポリアミドべ一スフイルム（A 2 ) を用いたものを本発明の第 4芳香族ポリアミドフィルムということがある）によって達成される。

図面の簡単な説明

図 1はフィルムの耐削れ性を測定する装置の概略図である。

発明の詳細な説明

本発明の第 1芳香族ポリアミドフィルムについて最初に説明する。

本発明における芳香族ポリアミドとしては、その主鎖が芳香核およびアミド結合基を主たる構成成分とするものであればよい。その中でも、その主鎖を形成する芳香核のうち、芳香核上の主鎖形成置換基がパラ配向性であるものが 5 0〜9 9 . 5 %を占めるものが、強度を要求される磁気記録媒体用途の場合には好ましレ^ 5 0 %未満では強度が不足しがちであり、 9 9 . 5 %を越えると延伸が困難となる。ここで、主鎖形成置換基としては、アミド基などの高分子主鎖に含まれる原子または原子団、例えば、 — C (=〇） -NH-, -0-, — CH₂— , - C (CH₃) ₂—，一 S〇₂— , — S—，該芳香核に直接結合した他の芳香核などを挙げることができる。また、パラ配向性とは、例えば芳香核がフエ二レン基の場合は 1， 4—置換，ナフチレン基の場合は 1, 4一置換， 2, 6—置換などの状態にあることを示す。上記の中でも特に、芳香族ポリアミドが、一般式一 (- C (=〇） -Ar !-C (=0) -NH-Ar ₂-NH-) _k— (_C (=0) 一 A r 3-C (=〇） -NH-Ar 4-Yi-Ar 5-NH-) ,- (— C (=〇）一 Ar ₆-NH-) _m— （一 C (=〇） -Ar ₇-Y₂-Ar ₈-NH-) _n— ここで k， 1, m, nは◦および正の整数、 Ar^ Ar ₂, Ar₃， Ar₄, Ar ₅, Ar ₆, Ar₇, A r ₈は一般式— C ₆H_PR₄— _p_， — C₆H_PR₄__P— C₆H_PR₄_ _p— , または— C₁₀H_qR₆__q—で表わされる芳香核（ここで pは 0〜4の整数、 Qは 0〜6の整数、 Rはハロゲン基、ニトロ基、シァノ基、炭素数 1〜4のアルキル基、炭素数 1〜 3のアルコキシ基、トリアルキルシリル基から選ばれる原子または原子団）から選ばれるものであり、同じでも異なっていてもよい、 Y_1; Υ₂は〇， CH₂, C (CH₃) ₂， S〇₂， S, C〇から 1種選ばれる原子または原子団であり、同じでも異なっていてもよい）で示される高分子^ ί匕合物であるのが好ましい。その中でも、酸成分としてテレフタル酸，ァミン成分として ρ—フェニレンジァミンおよび 3, 4' —ジアミノジフエ二ルェ一テルを用いてなる高^化合物であることがさらに好ましい。

また、本発明における芳香族ポリアミドには、フィルムの物性を損なわない程度に、脂肪族または脂環族のポリアミド形成性化合物を共重合していても構わなレ^ さらに、アミド形成性の官能基を 3以上有する化合物が共重合されていてもよい。また滑剤、酸化防止剤、その他の添加剤等や他のポリマーがブレンドされていてもよい。

本発明における芳香族ポリアミドベースフィルムは、面積倍率にして好ましくは 5. 0倍以上、より好ましくは 6. 0-10. 0倍に延伸された二軸配向フィルムである。延伸倍率が小さい場合、高強度が得られないため好ましくない。この二軸延伸によって、芳香族ポリアミドベースフィルムの長手方向と幅方向のャング率の和が 2， OO OkgZmm²以上、好ましくは 2， 200 k g/mm² 以上とされる。ヤング率の長手方向と幅方向との和が 2 , 000 k gZmm²未満の場合には、記録へッドとの接触状態が不適当なものとなるため電磁変換特性が、悪化し、また数 ^ mオーダーの薄いベ一スフィルムで十分な強度を有し得ないので好ましくない。長手方向、幅方向のそれぞれのヤング率は 600 kg/m m²以上が好ましく、さらに好ましくは 800 kg/mm²以上、特に好ましくは 1， 000 k gZmm²以上である。また、それぞれの方向のヤング率の上限は 3， 500 k gZmm²である。

本芳香族ポリアミドべ一スフイルムの表面には、平均粒径（d_B) が 5〜10 Onmである不活性粒子（b) およびバインダー樹脂からなる被膜層 Bを設けることが必要である。

本発明における被膜層 Bに含有される不活性粒子 bの平均粒径 d _Bは 5〜 10 Onm、好ましくは 10〜50 nmである。さらに粒度分布が均一であるものが好ましい。平均粒径が 5 nmを下まわると滑り性、耐削れ性が悪化し、ロール状に巻取った場合はプロッキング現象が発生する。一方平均粒径が 100 nmを超えると、粒子の脱落が発生し、耐削れ性が悪化する。また、磁気ヘッドとのスぺ —シングが大きくなり高密度の磁気記録媒体として供することが困難となる。被膜層 Bの層厚み t_B (nm) と不活性粒子 bの平均粒径 d_Bの比（t_B/d_B) は、 0. 05〜0. 8、好ましくは 0. 08〜0. 6、さらに好ましくは 0. 1 〜0. 5である。この比（t_B/d_B) が 0. 8を超えると、不活性粒子 bの突起形成作用が減少し、磁気記録媒体としたときの走行耐久性が不足する。一方、 0. 05より小さくなると、製膜工程における種々のガイドロールとの接触によつて積層フィルム表面の粒子が削りとられて走行耐久性が不足したり、削り取られた粒子がフィルム上に付着堆積してド口ップアゥトの増加を引き起こしたりする。

不活性粒子 bは、被膜層 Bの表面突起が 1 X 10⁶〜 1 X 10⁸個/ mm²の密度となる量で該被膜層 B中に含有される。この表面突起密度が 1 X 10⁶個 Zm m²未満では磁気記録媒体としたときの走行耐久性が不足する。他方、 1 X 10 ⁸個 Zmm²を超えると電磁変換特性に悪影響を及ぼす。より好ましい表面突起密度は 2 X 1 0⁶〜5 X 1 0⁷個 mm²、さらに好ましくは 3. 0 X 1 0⁶〜3. 0 X 1 0⁷個/ mm²である。

本発明の第 1芳香族ポリアミドフィルムは、 200°Cで 120分間熱処理したとき、その前後での被膜層 Bの表面粗さが下記式（4) および（5)：

0≤ (ARa_B-ARa_B ^H) /ARa_B<0. 4 …… （4)

0. KARa_B ^H<7 …… （5)

ここで、 ARa_Bは熱処理前の被膜層 B表面について原子間力顕微鏡で測定した中心面平均粗さ（nm) でありそして ARa_B ^Hは熱処理後の被膜層 B表面について原子間力顕微鏡で測定した中心面平均粗さ（nm) である、を同時に満足することが、耐久性、電磁変換特性の点から好ましい。また、被膜層 B表面の付着異物数が 100個/ 100 cm²以下であることが、ドロップァゥ卜の防止や加工工程の適正ィ匕のため好ましい。

本発明における被膜層 Bに含有される不活性粒子 bとして、内部より外部の方が軟質な粒子（以下、コアシェル粒子と呼ぶ）を用いることが好ましい。コアシェル粒子とは、内外部のそれぞれが性質の異なる物質で構成される多層構造の粒子をいう。この場合多層とは 2層以上のことをいい、性質が径方向に連続的に変化するものであってもよい。この粒子の外部（以下、シェル部と呼ぶ）はフィルム上に塗布後フィルム基部と反応し、または熱処理を行うことにより反応、溶融、軟化もしくは変形してフィルム基部に固着する機能を有し、内部（以下、コァ部と呼ぶ）はシェル部と共にフィルムに適度の滑り性および磁気へッドとの最適なスペーシングを与える、いわゆる粒子としての機能を担うと推測される。上記シェル部、コア部それぞれの機能分担の観点から、シェル部にはフィルム基部との親和性に優れ、かつ乾燥処理温度での適切な物理的、化学的、熱的特性を備えることが要求される。コア部には機械的摩擦等によって変形せず、シェル部もしくは基層フィルムに対し相対的に大なる硬度を有することが求められる。このコアシェル粒子 bのコア部の材質としては、例えばポリスチレン、ポリスチレンージビニルベンゼン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテトラフルォロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等の如き有機質、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カオリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長石、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリゥムの如き無機質が用いられる。

シェル部の材質としては一般に熱可塑性樹脂が好ましく、特にァクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂等が好ましい。さらにはフィルム基部との親和性を高めるため、その分子中に任意の割合でフィルム基部との反応性もしくは親和性を有する官能基、具体的にはカルボキシル基、水酸基、グリシジル基、アミド基、ェポキシ基、イソシァネート基等を導入したものがよい。これらの官能基は単独、場合によっては 2種以上併用してもよい。またシェル部のガラス転移温度（以下 T g とする）は好ましくは 8 0 °C以下、さらに好ましくは 2 0 以下である。 T g が 8 0 °Cを超えるとコアシェル粒子のフィルム上からの脱落が目立つようになる。このような組成のポリマ一をシェル部に使用することにより優れた耐削れ性を発現させることができる。

本発明におけるコアシヱル粒子の体積形状係数（f ) は 0 . 1〜π/ 6、さらには 0 . 4〜兀 6であることが好ましい。ここで粒子の体積形状係数（f ) は下記式 ( 6 ) ：

f =V/R ³ …… （6 )

ここで、 fは体積形状係数であり、 Vは粒子の体積 m³) であり、そして Rは粒子の平均粒径 m) である、

で定義される。この係数（f ) が 6の形状は球（真球）である。そしてこの係数（f ) が 0 . 4〜π/ 6の形状は実質的に球（真球）、ラグビーポールのような楕円球を含むことになる。体積形状係数（f ) が 0 . 1未満の粒子、例えば薄片状粒子では十分な走行耐久性を得るのが難しい。

コアシェル粒子 bは、例えばコア部の粒子が存在する系で、シェル部の重合性単量体を乳化重合せしめ、コア部の粒子表面を被覆する方法で製造することができる。しかし粒子の製造方法によって限定されるものではない。被膜層 Bの層厚み t_B (nm)とコアシェル粒子 bのコア部の粒径 d_cBの比（ t _B/d_cB) は、 0. 05〜0. 8、好ましくは 0. 08〜0. 6、さらに好ましくは 0. 1〜0. 5である。この比（t_B/d_cB) が 0. 8を超えると、コアシェル粒子 bの突起形成作用が減少し、磁気記録媒体としたときの走行耐久性が不足する。一方、 0. 05より小さくなると、製膜工程における種々のガイドロールとの接触によつて積層フィルム表面の粒子が削りとられて走行耐久性が不足したり、肖 Uり取られた粒子がフィルム上に付着堆積してド口ップアゥトの増加を引き起こしたりする。

コアシェル粒子 bのマクロ凝集物による高さ 0. 5； m以上の突起密度は、 50個 Zcm²以下である。好ましくは 40個/ cm²以下、さらに好ましくは 30個 Zcm²以下である。この突起密度が 50個 Zcm²を超えると磁気テープとした時にドロップアウトの原因物となるために好ましくない。

本発明における被膜層 Bを構成するバインダ一樹脂は、本発明の効果を損なわないものであれば、その種類、組成において制限されるものではない。物性制御、工程制御の利便性、作業環境、外部環境保全の観点から、水性樹脂を用いることが好ましい。

7性樹脂としては、 7溶性有機樹脂および水分散有機樹脂が好ましい。例えばアクリル樹、ポリエステル樹脂、アクリル一ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、フエノール樹脂、エポキシ樹脂、ァミノ樹脂、ポリウレタン樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル—酢酸ビニル共重合体等の水溶性のもの、およびこれらの樹脂水不溶性のものの水分散体を挙げることができる。これら水性樹脂は単一重合体でも共重合体でもよく、また混合物でもよい。

本発明における被膜層 Bは芳香族ポリアミドベースフィルム Aの少なくとも片面に、不活性微粒子およびバインダー樹脂を含む塗液を、好ましくは水性塗液として塗布し、乾燥することで形成することができる。この塗液の固形分濃度は好ましくは 0. 2〜10重量％、さらに好ましくは 0. 5〜 5重量％、特に好ましくは 0. 7〜3重量％である。そしてこの塗液、好ましくは水性塗液には本発明の効果を損わない範囲であれば所望により他の成分、例えば界面活性剤、安定剤、分散剤、 UV吸収剤、増粘剤等を添加することができる。

塗布は塗布膜を過度に加熱せぬよう、後述する延伸、熱処理後の芳香族ポリアミドフィルムに施すことが好ましい。塗布後に塗膜を乾燥する条件は 1 0 0〜3 0 0 °Cの乾燥炉中を 1秒〜 3 0分間で通過させることが好ましい。塗布方法としては特に限定されないが、例えばロールコート法、ダイコート法等が好ましく例示できる。

上記芳香族ポリアミドを製造する方法としては、公知の方法、例えば界面重合、溶液重合等を用いることができる。特に溶液重合法が好ましい。重合溶媒としては例えばジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド、 N—メチルピロリドン、 N—メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、へキサメチルホスホリルトリアミド、テトラメチル尿素、 1 , 3—ジメチル— 2—イミダゾリジノン等から選ばれた少なくとも一種を主成分として用いることができる。このときポリマ一の溶解性を改善する目的で重合の前、途中、終了時に塩化カルシウム、塩化リチゥム等の無機塩を適当量添加してもよい。また、酸成分とァミン成分とは実質的に等モルで反応するが、重合度の制御等の目的でいずれかの成分を過剰に用いることもできる。さらに末端封鎖剤として少量の単官能性の酸成分、ァミン成分を使用してもよい。また、反応によって生成する塩化水素を捕捉するために重合系に脂肪族や芳香族のァミン、第 4級アンモニゥム塩を添加することもできる。反応の終了後、必要に応じて塩基性の無機化合物、例えば水酸ィ匕ナトリウム、水酸化カルシウム、酸ィ匕カルシウムを添加し、中和反応を行う。

このような芳香族ポリアミドの製法については、例えば、特公昭 5 2— 3 9 7 1 9号公報、特公昭 5 3— 3 2 8 3 8号公報などに詳しく記載されており、これらの公知の知見を採用することができる。

本発明の芳香族ポリアミドフィルムが優れた機械的性質を持っためには、ポリマーの対数粘度（濃硫酸中、 3 0 で測定した値から求める）は 0 . 5 g / d 1以上が好ましく、 1 . O gZ d 1以上がさらに好ましい。

このようにして得られる芳香族ポリアミドは、アルコール、水などの溶媒の中に投入し、再沈、分離させることにより得ることができる。これを再び溶媒に溶解させてフィルムの成形に用いることができるが、好ましくは重合反応によって得た溶液をそのまま、もしくは重合後に適宜濃度を調整して用いる。このとき濃度の調整は濃縮もしくは他の溶媒での希釈により行うことができる。かかる溶媒としては、重合溶媒として例示したものと同様なものを使用でき、重合に使用した溶媒と必ずしも同一である必要はない。

上記のように調製された製膜原液は、いわゆる溶液製膜法によりフィルム化に付される。溶液製膜法には乾湿式法、乾式法、湿式法などがあり、これらの方法のいずれも採用可能であるが、乾湿式法、乾式法が表面性のよいフィルムを得るには好ましい。

湿式法で製膜する場合には、該原液を口金から直接製膜用浴中に押し出すか、または一旦ドラム等の支持体上に押し出し、支持体ごと湿式浴中に導入する方法を用いるのが好ましい。この浴は一般に水系媒体からなるものであり、水の他に有機溶媒や無機塩等を含有していてもよい。湿式浴を通すことでフィルム中に含有された塩類、有機溶媒等の抽出を行うことができる。これら湿式浴全体を通過する時間はフィルムの厚みにもよるが、 1 0秒〜 3 0分間であることが好ましい。さらにフィルムの長手方向に延伸を行う。次いで乾燥、横延伸、熱処理を行うが、これらの処理は一般に 1 0 0〜5 0 0でで、合計で 1秒〜 3 0分間である。

乾湿式法で製膜する場合は該原液を口金からドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出して薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜が自己保持性をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜 3 0 0 、 6 0分間以内の範囲である。乾式工程を終えたフィルムは支持体から剥離されて湿式工程に導入し、' 上記の湿式法と同様に脱塩、脱溶媒などを行い、さらに延伸、乾燥、熱処理を行つてフィルムとする。

乾式法のプロセスを採用した場合には、ドラム、あるいはエンドレスベルトなどの上で乾燥し、自己保持性をもったフィルムを、これら支から剥離し、さらに残存溶媒を除去するための乾燥や、延伸、熱処理を行うが、これらの処理は

1 0 0〜5 0 0でで 1秒〜 3 0分間である。通常 0 . 1〜2 0 m、より好ましくは 0 . 5〜1 0 mのフィルム厚を持つものとして得られる。本発明の第 1芳香族ポリアミドフィルムは、必要に応じて、被膜層 Bと反対側のフィルム Aの表面に、例えば不活性粒子を含有した易滑性被膜層 Cを設けたり、また不活性粒子を含有した芳香族ポリアミドフィルム A ' を公知の方法を用いて積層させてもよい。

本発明の第 1芳香族ポリアミドフィルムは、 B層の表面に、真空蒸着、スパッ夕リング、イオンプレーティング等の方法により、鉄、コバルト、クロムまたはこれらを主成分とする合金もしくは酸化物よりなる強磁性金属薄膜層を形成し、またその表面に、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン（D L C) 等の保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑剤層を順次設け、さらに B層の反対側の表面または被膜層 Cの表面に公知のバックコ一ト層を設けることにより、特に短波長領域の出力、 S ZN、 CZN等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすることができる。この蒸着型電磁記録媒体は、アナログ信号記録用 H i 8、ディジタル信号記録用デイジタルビデオカセットレコーダ一（D V C)、デ一夕 8ミリ、 D D S I V用テ —プ媒体として極めて有用である。

本発明の第 1芳香族ポリアミドフィルムは、また B層の表面に、鉄または鉄を主成分とする針状微細磁性粉、あるいは酸化鉄または酸化クロム等の針状微細磁性粉、またはバリウムフェライト等の板状微細磁性粉を塩化ビニール、塩化ビニール ·酢酸ビニール共重体などのバインダ一に均一分散させ、磁性層厚みが 1 m以下、好ましくは 0 . 1〜 1 mとなるように塗布し、さらに B層の反対側の表面または被膜層 Cの表面に公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、 S /N、 CZN等の電磁変換特性に優れ、ドロップアゥト、エラ一レートの少ない高密度記録用メタル塗布型磁気記録媒体とすることができる。また、必要に応じて B層の上に、該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダ一中に分散、塗設することもできる。このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用 8ミリビデオ、 H i 8、 /3カム S P、 W— VH S、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー（D V C)、データ 8ミリ、 D DS I V、ディジタル) 3カム、 D2、 D 3、 SX等用テープ媒体、ディジタル信号記録用デ一タストリーマー用 Q 1 C等の高密度酸化物塗布型磁気記録媒体として極めて有用である。

上記の W— V H Sはアナ口グの H D T V信号記録用 VTRであり、また DVC はディジタルの HDTV信号記録用として適用可能なものであり、本発明の積層フィルムはこれら H D T V対応 V T R用磁気記録媒体に極めて有用なベースフィルムということができる。

次に、本発明の第 2芳香族ポリアミドフィルムについて説明する。第 1芳香族ポリアミドフィルムにおける芳香族ポリアミドについての記載はそのままこの第 2芳香族ポリアミドフィルムに対し適用されると理解される。

次に被膜層 Bについて説明する。

本発明の第 2芳香族ポリアミドフィルムは、上記芳香族ポリアミドベースフィルム Aの一方の表面にバインダー榭脂、不活性微粒子および HLB値の違う 2種の界面活性剤からなる被膜層 Bを有する。この 2種の界面活性剤は HLB値 10 〜14の第 1界面活性剤と HLB値 16〜： I 8. 5の第 2界面活性剤からなる。そしてこれらの 2つの界面活性剤の平均 HLB値は 15〜18である。

ここでのバインダー樹脂としては、水性ポリエステル樹脂、水性アクリル樹脂、水性ポリゥレ夕ン樹脂およびこれらを組合せたものよりなる群から選ばれる少なくとも 1種類のポリマ一が好ましく用いられる。これのうち特に水性ポリエステル樹脂が好ましい。

水性ポリエステル樹脂としては、酸成分が例えばイソフタル酸、フタル酸、 1, 4ーシクロへキサンジカルボン酸、 2, 6 _ナフタレンジカルボン酸、 4， 4' —ジフエニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、 5 _N aスルホイソフタル酸、 2—Kスルホテレフタル酸、トリメリット酸、トリメシン酸、トリメリット酸モノカリウム塩、 P—ヒドロキシ安息香酸等の多価カルボン酸よりなり、グリコール成分が例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、 1, 4—ブタンジォ一ル、 1， 6—へキサンジオール、 1, 4—シクロへキサンジメタノール、 p—キシリレングリコール、ジメチロールプロパン酸、ビスフエノール Aのエチレンォキシド付加物等の多価ヒドロキシ化合物より主としてなるポリエステル樹脂、ポリエステル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフトポリマーまたはブロックコポリマ一、あるいは 2種のポリマーがミクロな粒子内で特定の物理的構成（I P N、コァシェル）を形成したアクリル変性ポリエステル樹脂等を挙げることができる。本発明でバインダー樹脂としては、 7 に溶解、乳化、微分散するタイプのものを好ましく用いることができるが、水に乳化、微分散するタイプのものが好ましい。またこれらは親水性を付与するため分子内に例えばスルホン酸塩基、力ルポン酸塩基、ポリエーテル単位等が導入されていてもよい。

前記不活性微粒子の種類は特に限定されないが、塗液中で沈降しにくい、比較的低比重のものが好ましい。例えば、耐熱性ポリマー（例えば、架橋シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン、メラミン ·ホルムアルデヒド榭脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香族ポリエステル等）からなる粒子、二酸化ケイ素（シリカ）、炭酸カルシウム等が好ましく挙げられる。これらの中でも、特に好ましくは、架橋シリコーン榭脂粒子、シリカ、コアシェル型有機粒子（コア：架橋ポリスチレン、シェル：ポリメチルメタクリレートなど）が挙げられる。

これら不活性微粒子は平均粒径が 1 0〜5 0 nmのものが好ましい。この使用量は、被膜層 Bの表面に不活性微粒子による表面突起の密度が 2 X 1 0 ⁶〜2 X 1 0 ⁷個 Zmm²となる量であることが好ましい。この突起密度によってより一層の走行耐久性の向上を発現できる。この不活性微粒子の平均粒径は、より好しくは1 5〜4 5 11111、さらに好ましくは 1 8〜4 0 n mである。また表面突起の密度は、より好ましくは 2 . 5 X 1 0 ⁶〜1 . 8ズ 1 0 ⁷個/111111²、さらに好ましくは3 1 0 ⁶〜1 . 5 X 1 0 ⁷個 mm²である。

本発明における界面活性剤は、前述したように、 H L B値の異なる 2種の界面活性剤、すなわち H L B値 1 0〜 1 4の第 1界面活性剤と H L B値 1 6〜： L 8 . 5の第 2界面活性剤からなり、平均 H L B値が 1 5〜1 8である。 1種類の界面活性剤だけでは、ドロップアウトの原因となる、凝集粒子に由来する突起の発生を抑制しつつ、ハジキによる塗布抜けや泡すじ等の塗布上の問題点を解消することができない。

前記界面活性剤のうち、第 1界面活性剤の HLB値は 10. 5〜13. 5、さらに 11. 0〜13. 0であることが好ましい。第 2界面活性剤の HLB値は 1 6. 5〜18. 3、さらに 17. 0〜： L 8. 0であることが好ましい。そしてこれら界面活性剤を組合せての HLB値（平均 HLB値）は 15. 5〜17. 5、さらに 16〜： L 7. 5であることが好ましい。

前記第 1および第 2界面活性剤としてはノニオン系界面活性剤が好ましく、特にアルキルアルコール、アルキルフエニルアルコール、高級脂肪酸等に（ポリ）エチレンオキサイドを付加、結合させたものが好ましい。

第 1界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルフエ二ルェ一テル系化合物として日本油脂製のノニオン NS— 208. 5 (HLB 12. 6) NS- 206 (HLB 10. 9)、 HS— 208 (HLB 12. 6)、 HS— 21 0 (HLB 13. 6)、三洋化成製のォク夕ポール 60 (HLB 11. 3)、ォク夕ポール 80 (HLB 12. 4)、ォクタポール 95 (HLB 13. 3)、ォクタポール 100 (HLB 13. 6)、ドデカポール 90 (HLB 12. 0)、ドデカポール 120 (HLB 13. 4)、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系化合物として日本油脂製のノニオン P— 210 (HLB 12. 9)、三洋化成製のノ二ポールソフト SS— 50 (HLB 10. 5)、 SS— 70 (HLB 12. 8)、 SS— 90 (HLB 13. 2)、 DO- 70 (HLB 12. 3)、 DO— 90 (H LB 13. 4)、高級脂肪酸のポリオキシエチレンエステル系化合物として日本油脂製のノニオン L— 4 (HLB 13. 1)、 S— 4 (HLB 11. 6)、 S— 6 (HLB 13. 6) 等を挙げることができる。

また、第 2界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルフエニルエーテル系化合物として日本油脂製のノニオン NS— 230 (HLB 17. 2)、 NS- 240 (HLB 17. 8)、 HS— 220 (HLB 16. 2)、 HS— 24 0 (HLB 17. 9)、三洋化成製のノニポール 200 (HLB 16. 0)、ノニポール 400 (HLB 17. 8)、ノニポール 500 (HLB 18. 2)、ォクタポール 400 (HLB 17. 9)、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系化合物として日本油脂製のノニオン E— 230 (HLB 16. 6)、 K— 220 (H LB 16. 2)、 K-230 (HLB 17. 3)、高級脂肪酸のポリオキシェチレンエステル系化合物として日本油脂製のノニオン S— 15. 4 (HLB 16. 7)、 S— 40 (HLB 18 · 2) 等を挙げることができる。

さらに第 1界面活性剤は、塗液固形分当り、好ましくは 0. 1〜15重量％、より好ましくは 0. 65〜10重量％、特に好ましくは 0. 85〜5重量％の量で用いられる。第 2界面活性剤は、塗液固形分当り、好ましくは 10〜 40重量％、より好ましくは 12〜36重量％、特に好ましくは 15〜30重量％の量で用いられる。

第 1界面活性剤の HLB値が 10未満であるかまたはその量が 15重量％ (塗膜 B層全固形分当り）を超える場合には、塗液を塗布する際に発泡しやすくなり、筋状の塗布欠陥が出来てしまう。一方、 HLB値が 14を超えるかまたはその使用量が 0. 5重量％ (塗膜 B層全固形分当リ）未満では、塗液の表面張力を下げる作用が小さくなるために塗液を塗布する際、塗布抜けが発生してしまう。

また第 2界面活性剤の HLB値が 16未満であるかまたはその使用量が 10重量％ (塗膜 B層全固形分当り）未満では、ドロップアウトの原因となりうる突起の発生を抑えることができず、一方 HLB値が 18. 5を超えると塗布抜けが発生し、また使用量が 40重量％ (塗膜 B層全固形分当り）を超えると発泡による筋状の塗布欠陥が発生する。

さらに、界面活性剤の平均 HLB値が 15未満ではドロップアウトの原因となる突起が発生し、一方 18を超えると塗布抜けが発生する。

本発明における被膜層 Bは芳香族ポリアミドベースフィルム Aの少なくとも片面に、不活性微粒子界面活性剤およびバインダー樹脂を含む塗液、好ましくは水溶性塗液として塗布し乾燥することで形成することができる。この塗液の固形分濃度は好ましくは 0. 2〜10重量％、さらに好ましくは 0. 5〜5重量％、特に好ましくは 0. 7〜 3重量％である。そしてこの塗液、好ましくは水溶性塗液には本発明の効果を損わない範囲であれば所望により他の成分、例えば界面活性剤、安定剤、分散剤、 UV吸収剤、増粘剤等を添加することができる。

塗布は塗布膜を過度に加熱せぬよう、後述する延伸および熱処理後の芳香族ポリアミドフィルムに施すことが好ましい。塗布後に塗膜を乾燥する条件は 3 0〜 3 0 0 °Cの乾燥炉中を 1秒〜 3 0分間で通過させることが好ましい。また、塗布方法としては特に限定されないが、例えばロールコート法、ダイコート法等が好ましく例示できる。

本発明の第 2芳香族ポリアミドフィルムは、被膜層 Bの表面に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法により、鉄、コバルト、クロムまたはこれらを主成分とする合金もしくは酸化物よりなる強磁性金属薄膜層を形成し、またその表面に、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン (D L C) 等の保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、さらに被膜層 Bの表面に公知のバックコート層を設けることにより、特に短波長領域の出力、 S /N、 CZN等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラ一レートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすることが出来る。この蒸着型磁気記録媒体はアナログ信号記録用 H i 8、ディジ夕ル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダ一（D V C)、デ一夕 8ミリ、 D D S I V用テープ媒体として極めて有用である。

次に、本発明の第 3芳香族ポリアミドフィルムについて説明する。第 3芳香族ポリアミドフィルムは積層ベースフィルム（A 1 ) と第 2被膜層（B) からなる。積層べ一スフイルム（A 1 ) は二軸配向芳香族ポリアミドフィルムとその片面上にある第 1被膜層からなる。この第 1被膜層が第 3芳香族ポリアミドフィルムの易搬送性を達成する。

第 1芳香族ポリアミドフィルムにおける芳香族ポリアミドについての記載はそのままこの第 3芳香族ポリアミドフィルムに対し適用されると理解される。芳香族ポリアミドが実質的に不活性微粒子を含まないことについては特に前述していないので、ここに記述する。

本発明において、不活性微粒子が実質的に含まれないようにするための手段としては、例えば、芳香族ポリアミドの製造法における中和剤添加工程において、上記粒径がゼロになるよう中和剤の添加量を調整する方法、粒径を微細化する方法、反応系の P Hを酸性サイドに調整する方法、あるいは反応時間を十分に取る方法を挙げることができる。不活性微粒子の粒径を微細化する手段についても、特に限定されないが、例えば溶媒に該粒子を分散した後、サンドグラインダーなどの装置を用いて細粉化し、その分散液を濾過して粗大粒子を除去する方法を行うことができる。不活性微粒子が、フィルム中に含有されていないと、良好な電磁変換特性のためのフィルム平坦性が得られ、後述する粒子含有塗布層によって、良好な走行性が得られるため金属薄膜型磁気記録媒体などのように、平坦性と、耐久性のための適度な粗さとの両立を要求される用途の場合に好ましい。

次に、芳香族ポリアミドフィルムの片面上に、搬送性を確保する目的で、薄い第 1被膜層を設け、そしてその反対側表面に第 2被膜層を設ける。被膜層の塗布は塗布膜を過度に加熱せぬよう延伸、熱処理後の芳香族ポリアミドフィルムに施すことが好ましい。塗布後に塗膜を乾燥するが、乾燥条件は 3 O ：〜 2 3 0 °C の乾燥炉中を 1秒〜 1 0秒で通過させることが好ましい。塗布方法としては特に限定されないが、例えばロールコート法、ダイコート法等が好ましく例示できる。塗布順序は限定されないが、相前後してほぼ同時に塗布し、両面を同時に乾燥することが好ましい。

上述の第 1被膜層または第 2被膜層を設けない場合、実質的に粒子を含有しないために表面が極めて平坦な芳香族ポリアミドフィルムが製膜工程中および加工工程中のガイドロール等に直接接触するようになり、芳香族ポリアミドフィルムの滑り性が極めて悪いことに起因して、シヮ、切断等のトラブルが発生する。また、エア抜け性、フィルム同士の滑り性が悪ィ匕するために巻姿の良好なフィルムロールが得られにくくなる。さらにフィルムをロール状に巻き取った後、ブロッキング現象を引き起こしやすくなつてしまう。

また、第 1被膜および第 2被膜の両方を設けない場合には、フィルムの滑り性が悪くなりすぎ、製膜工程中でロール状に巻き取ることさえ不可能となる。第 1被膜層に含有される不活性微粒子 Xの平均粒径（d x) は l〜3 0 0 nm であり、好ましくは 5〜2 5 0 nm、特に好ましくは 1 0〜 2 0 0 nmである。不活性微粒子 Xの平均粒径 d Xが 1 nm未満では滑り性付与の効果が得られず、一方 3 0 0 n mを超えると磁気テープとしたとき電磁変換特性の悪化をもたらす。

第 1被膜層中の不活性微粒子 Xの含有量は 0 . 0 1〜4 5重量％でぁり、さらに好ましくは 1〜4 0重量％、特に好ましくは 2 ~ 3 5重量％である。不活性微粒子 Xの含有量が 0 . 0 1重量％未満では形成する突起の密度が小さすぎるため滑り性が改善されず、一方 4 5重量％を超えると塗膜から脱落する不活性微粒子が多くなり工程を汚してしまう。

第 1被膜層中に含有される不活性微粒子 Xの種類は特に限定されないが、塗液中で沈降しにくい、比較的低比重のものが好ましい。例えば、耐熱性ポリマー（例えば、架橋シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン、メラミン - ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香族ポリエステル等）からなる粒子、二酸化ケイ素（シリカ）、炭酸カルシウム等が好ましく挙げられる。

また，不活性微粒子 Xとして，内部より外部の方が軟質な粒子である、コアシエル粒子が好ましく用いられる。コアシェル粒子としては、第 1芳香族ポリアミドフィルムに関して記載したコアシェル粒子がここでも用いられる。

不活性微粒子 Xの形状は特に限定されないが、球状もしくは球状に近いものの方が効率的な突起を形成する点で有利である。また不活性微粒子 Xは粒径分布が狭いことが好ましく、例えば相対標準偏差が 0 . 5以下、さらに 0 . 3以下、特に 0 . 2以下であることが好ましい。この粒径分布の相対標準偏差が 0 . 5より大きいと、形成される表面の粗さが大きくなるために電磁変換特性に悪影響を及ぼし、また、製造工程中でロールと接触する際に脱落しやすくなり、磁気テープとしたときにドロップアウトの原因となる。

本発明における第 1被膜層では、不活性微粒子 Xを固着させるのにバインダー樹脂が用いられる。このバインダ一樹脂としては例えば水性ポリエステル樹脂、水性ァクリル樹脂、水性ポリゥレ夕ン樹脂等が好ましく挙げられるが、特に水性ポリエステル樹脂が好ましい。バインダ一樹脂および水性ポリエステル樹脂についてここに記載のない事項は第 2芳香族ポリアミドフィルムに関して記載した事項が適用されると理解される。

本発明において第 1被膜層の厚み（t_A) は dxZl O O (nm) 以上かつ d X (nm) 未満、好ましくは dxZ50 (nm) 以上かつ dx (nm) 未満、さらに好ましくは dxZ30 (nm) 以上かつ dx (nm) 未満である。 t _Λが d xZl O O (nm) 未満であると、第 1被膜層中の不活性微粒子を塗膜中に保持することが困難となり、結果として不活性微粒子の脱落を起こしてしまう。また、含有量を増加させないで被膜の厚みのみを dxZl 00 (nm) 未満にすると、不活性微粒子の間の距離が大きくなりすぎるために、滑り性、耐ブロッキング性が悪化する。一方この厚みが dx (nm) 以上であると、不活性微粒子 Xによる滑り性向上効果が十分に発揮されない。さらに厚みが厚すぎるほど含有される (厚み方向の）粒子数が増えるためカレンダー工程での突上げ現象が起こりやすくなる。

本発明において、芳香族ポリアミドフィルムのもう一方の表面には、平均粒径の異なる 2種の不活性微粒子 Υ, Zを含有する第 2被膜層を設ける。第 2被膜層に含有される 2種の不活性微粒子のうち、大きい平均粒径をもつ不活性微粒子 Y の平均粒径 dyは 100〜1, 000 nm、好ましくは 105〜 800 nm、特に好ましくは 110〜500 nmであり、小さい平均粒径をもつ不活性微粒子 Z の平均粒径 d zは 5〜100 nm、好ましくは 10〜 95 nm、特に好ましくは 15〜90nmである。またこれら平均粒径の比（dyZdz) が 1. 2以上、好ましくは 1. 3以上，特に好ましくは 1. 4以上である。この比の上限は特に限定しないが、不活性微粒子 Yと不活性微粒子 Zの粒径範囲および被膜厚みから 100以下とするのが好ましい。

不活性微粒子 Yの平均粒径 dyが 10 Onm未満では、フィルムをロール状に巻取る際に巻き込まれるエア一を排除可能な空間を、フィルム同士の間に形成することができないため、フィルムが横ずれを起こしたり、しわが入ったりするという問題が生じる。一方、不活性微粒子 Yの平均粒径 dyが 1, 00 Onmを超えると、第 2被膜層から脱落しやすくなつてしまい、製膜工程中あるいは加工ェ程中で接触するロールを汚してしまうという問題が生じる。また、カレンダーェ程での突上げ現象も起こりやすくなる。

また、不活性微粒子 Zの平均粒径 d zが 5 nm未満であると、フィルム同士の滑り性を改良することができないために、フィルムをロール状に巻取る際に巻姿が悪化しかつ耐ブロッキング性も悪化させる。一方、不活性微粒子 Zの平均粒径 d z力 1 0 0 nmを超える場合も、フィルムロールの巻姿が悪化しかつ耐ブロッキング性も悪化する。そして、平均粒径の比（d y/ d z ) が 1 . 2未満であると第 2被膜層に形成される突起の高さが均一に近くなるため、十分なエア抜け性を確保することができなくなる。

第 2被膜層中の不活性微粒子 Yの含有量は 0 . 0 1〜4 0重量％、好ましくは 0 . 0 5〜3 5重量％、特に好ましくは 0 . 1〜3 0重量％でぁる。不活性微粒子 Zの含有量は 1〜7 0重量％、好ましくは 5〜6 0重量％、特に好ましくは 7 〜5 0重量％である。そして不活性微粒子 Yと不活性微粒子 Zの第 2被膜層中の総含有量は 7 5重量％以下、好ましくは 6 5重量％以下、特に好ましくは 6 0重量％以下である。また総含有量の下限は好ましくは 1重量％、さらに好ましくは 3重量％、特に好ましくは 5重量％である。

不活性微粒子 Yの含有量が 0 . 0 1重量％未満では突起の密度が小さすぎるために、フィルム同士が密着し、巻込みエアーの排除がなされず、一方 4 0重量％を超えると被膜から脱落する粒子が多くなり工程を汚してしまう。また不活性微粒子 Zの含有量が 1重量％未満であるとフィルム同士の滑り性が悪化するためにフィルムロールの巻姿が悪化し、一方 7 0重量％を超えると被膜から不活性微子が脱落しゃすくなってしまう。また不活性微粒子 Yと不活性微粒子 Zの総含有量が 7 5重量％を超えると、ノンダ一樹脂の割合が少なくなりすぎ、不活性微粒子の脱落が極めて起こりやすくなる。

第 2被膜層に含有される 2種の不活性微粒子 Υ, Zの種類は特に限定されないが、塗液中で沈降しにくい、比較的低比重のものが好ましい。例えば、耐熱性ポリマ一（例えば、架橋シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン、メラミン、ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香族ポリエステル等）力^なる粒子、二酸化ケイ素 (シリカ）、炭酸カルシウム等が挙げられる。不活性微粒子 Yと不活性微粒子 Z の種類は同じでも異なってもよい。

前記 2種の不活性微粒子 Y、 Ζの形状は特に限定されないが、球状もしくは球状に近いものの方が効率的な突起を形成する点から有利である。また、かかる不活性微粒子はそれぞれ粒径分布が狭いことが好ましく、例えば相対標準偏差が 0 . 5以下、さらに 0 . 3以下、特に 0 . 2以下であることが好ましい。この粒径分布の相対標準偏差が 0 . 5より大きいと、製造工程中でパスロールと接触した際、不活性微粒子が脱落しやすくなり、脱落した削れ粉が磁気テープとしたときにドロップアウトの原因となる。

本発明における第 2被膜層では、前述した 2種の不活性微粒子を固着させるのにバインダー樹脂が用いられる。このバインダー樹脂としては、第 1被膜層のバインダー樹脂と同じものを好ましく用いることができる。

バインダ一樹脂の種類は第 1被膜層と第 2被膜層で同じでもよいし、異なっていてもよい。

本発明において第 2被膜層の厚み（t _B) は 4 ( nm) 以上 d z ( nm) 未満である。この厚みが 4 (nm) 未満であると第 2被膜層中の不活性微粒子 Yを塗膜中に保持することが困難となり、結果として不活性微粒子の脱落を引き起こしてしまう。また、不活性微粒子 Yと不活性微粒子 Zの含有量は一定で、第 2被膜層の厚みのみを薄くした場合には、不活性微粒子間の距離が大きくなりすぎるために滑り性、エア抜け性、耐ブロッキング性が低下する。一方、第 2被膜層の厚みが第 2被膜層中の不活性微粒子 Zの平均粒径 d z以上であると、不活性微粒子 Zの添加による滑り性および耐ブロッキング特性向上の効果が十分発揮されない。さらに、第 2被膜層の厚みが厚ければ厚い程、含有させる（厚み方向の）不活性微粒子の数が増えるためカレンダ一工程で突出し現象が起こりやすくなり、結果として磁気テ一プとしたときの電磁変換特性が劣る。

本発明における第 1被膜層は芳香族ポリアミドフィルムの一つの表面に前述した不活性微粒子 Xおよびバインダ一樹脂を含む塗液、好ましくは水性塗液を塗布し乾燥することで形成し、また第 2被膜層は該フィルムのもう一方の表面に、前述した不活性微粒子 Υ、 Ζおよびバインダー樹脂を含む塗液、好ましくは水性塗液を塗布し乾燥することで形成するが、それぞれの塗液の固形分濃度は 1〜； L 0 重量％、さらに 1 . 5〜8重量％、特に 2〜 6重量％であることが好ましい。そしてこれら塗液（好ましくは水性塗液）には、所望により、他の成分例えば、界面活性剤、安定剤、分散剤、 UV吸収剤、増粘剤等を添加することができる。かくして得られる本発明の第 3芳香族ポリアミドフィルムは、第 1被膜層面と第 2被膜層面の間の摩擦係数が 0 . 6以下で、かつエア抜け指数が 6， 0 0 0 秒以下、特に 5， 0 0 0秒以下であることが好ましい。これにより第 3芳香族ポリアミドフィルムをロール状に巻き取るとき、より巻姿の良好なフィルムロールが得られる。

本発明の易搬送性である第 3芳香族ポリアミドフィルムは、製膜工程および加工工程での搬送性に優れ、表面が極めて平坦でありながら巻取り性にも優れ、かつ、過酷な加工条件例えば力レンダー条件においても走行面側粒子が反対面へ突出すことがなく磁気用途をはじめ他用途でも極めて有用であり、特に蒸着型高密度磁気記録媒体用べ一スフィルムとして好適である。この蒸着型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用 H i 8、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダ（D V C)、デ一夕 8ミリ、 D D S I V用テープ媒体として極めて有用である。

最後に、本発明の第 4芳香族ポリアミドフィルムについて説明する。第 4芳香族ポリアミドフィルムは内部不活性微粒子を含有する芳香族ポリアミドベースフィルム（A 2 ) と第 2被膜層（B) からなる。

本発明における芳香族ポリアミドベースフィルムには、フィルム内での平均粒径が 5〜1， 5 0 0 nm、好ましくは 1 0〜1， 3 0 0 nm、さらに好ましくは 3 0〜： L， 0 0 0 nmである内部不活性微粒子を含有する。

不活性微粒子は、

下記式（2 )

M¹ (OH) _x ここで、 M ¹は周期律表 I a族の金属元素または周期律表 Π a族の金属元素でありそして Xは 1または 2である、で表わされる化合物または下記式（3 )

M ¹ (C 0₃) y

ここで M ¹の定義は上記に同じでありそして yは 1 / 2 または 1である、

で表わされる化合物からなる。

この内部不活性微粒子は、芳香族ポリアミド重合工程中の中和剤の残りとして得られるものであり、重合工程の段階において系内に十分分散しているために、削れの原因となりうる粒子の凝集の心配がない。フィルム内での平均粒径が 5 n m未満の場合は粒子による表面突起形成の効果が小さく、十分な易滑性、巻取り性などのハンドリング性が得られないため好ましくない。また、平均粒径が 1， 5 0 O n mを越えると、延伸によって形成されるボイドが大きくなりすぎるため、耐削れ性に劣る場合があるので好ましくない。なお、該無機粒子は、中和剤として添加される際の平均粒径が 1 0〜 3， 0 0 0 nm、好ましくは 3 0〜1 , 5 0 O nmである。この平均粒径が 1 0 nm未満の場合は粒子による表面突起形成の効果が小さく、十分な易滑性、巻取り性などのハンドリング性が得られないため好ましくない。また、平均粒径が 3 , 0 0 O nmを越えると、中和反応後の残渣粒径も大きくなり、延伸によって形成されるボイドが大きくなりすぎるため、耐削れ性に劣る場合があるので好ましくない。

上記内部不活性微粒子は、好ましくは、芳香族ポリアミドを酸クロライド法で製造しそして副生した塩化水素を中和するために使用した化学量論的量を超える量の上記式（2 ) または（3 ) の化合物に由来する。

本発明において、フィルム内での無機粒子の平均粒径が前述の範囲を満足させる手段は、特に限定されるものではないが、例えば、中和剤添加工程において、反応系の p Hが上記平均粒径を与える適当なものになるよう中和剤の添加量と粒径を調整するなどの方法が好ましく挙げられる。

該無機粒子の粒径を調整する手段についても、特に限定されないが、例えば、溶媒に該粒子を分散した後、サンドグラインダ一などの装置を用いて細粉化し、その分散液を濾過して粗大粒子を除去する方法が好ましく挙げられる。

この上記無機粒子が、フィルムの表面の突起密度が 1 X 1 0 ²〜 1 X 1 0 ⁸偭ノ mm ²となるように含有されていると、磁気記録媒体などのように良好な電磁変換特性のための平坦性と良好な走行性、耐久性、のための適度な粗さとの両立を要求される用途の場合に好ましい。

上記芳香族ポリアミドを製造する方法としては、公知の界面重合、溶液重合などの方法を用いることができ、特に溶液重合による方法が好ましい。重合溶媒としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド、 N—メチルピロリドン、 N -メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、へキサメチルホスホリルトリアミド、テトラメチル尿素、 1 , 3—ジメチルー 2—イミダゾリジノンなどから選ばれた少なくとも一種を主成分として用いることができる。この時ポリマーの溶解性を改善する目的で、重合の前、途中、終了時に、塩化カルシウム、塩化リチウムなどの無機塩を適当量添加してもよい。また、酸成分とァミン成分とは実質的に等モルで反応させるが、重合度の制御などの目的でいずれかの成分を過剰に用いることもできる。さらに末端封止剤として少量の単官能性の酸成分、ァミン成分を使用してもよい。また、反応によって生成する塩化水素を捕捉するために重合系に脂肪族や芳香族のァミン、第 4級アンモニゥム塩を添加することもできる。さらに、本発明の効果を阻害しない範囲で、紫外線吸収剤、染料、離型剤、その他の剤が添加されていてもよい。反応の終了後、上述の、平均粒径が

1 0 - 3 , 0 0 0 nm、好ましくは 3 0〜： L， 5 0 0 nmの、上記式（2 ) または（3 ) で示される無機粒子を添加し、中和反応を行う。

なお、芳香族ポリアミドについてここに記載のない事項については第 1芳香族ポリアミドについて記載の事項が適用されると理解される。

また本発明における芳香族ポリアミドべ一スフイルムの表面には、片面上に第 2被膜層が設けられる。塗布は塗布膜を過度に加熱せぬよう延伸、熱処理後の芳香族ポリアミドフィルムに施し、塗布後に塗膜を乾燥するのが好ましい。乾燥条件は 3 0 °C〜 2 3 0 °Cの乾燥炉中を 1秒〜 1 0秒間で通過させることが好ましい。塗布方法としては特に限定されないが、例えばロールコート法、ダイコート法等が好ましく例示できる。

第 2被膜層についての、第 3芳香族ポリアミドフィルムに関する記載は、第 4芳香族ポリアミドフィルムについてそのまま適用されると理解される。

本発明の易搬送性である第 4芳香族ポリアミドフィルムは、製膜工程および加ェ工程での搬送性に優れ、表面が極めて平坦でありながら巻取り性にも優れ、かつ、過酷な加工条件例えばカレンダ一条件においても走行面側粒子が反対面へ突出すことがなく磁気用途をはじめ他用途でも極めて有用であり、特に塗布型高密度磁気記録媒体用ベースフィルムとして好適である。

実施例

以下、本発明を実施例により具体的に説明する。なお、実施例 1〜7および比較例:！〜 9において用いた測定法は次のとおりである。

(1) 粒子の平均粒径 I (平均粒径： 0. 0 以上）

島津製作所製、 CP— 50型セントリフユ一ダルパーティクルサイズァナライサー (Cen t r i f uga l Pa r t i c l e S i z e An a 1 y z e r) を用いて測定する。得られる遠心沈降曲線をもとに算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、 50重量％に相当する粒径「等価球直径」を読み取り、この値を平均粒径とする（「粒度測定技術」日刊工業新聞社発行、 1975年、頁 242〜247参照)。

(2) 粒子の平均粒径 I I (平均粒径： 0. 0 未満）

小突起を形成する平均粒径 0. 0 未満の粒子は、光散乱法を用いて測定する。すなわち、 N i c om I n s t rumen t s I nc. 社製の N I COMP MODEL 270 SUBM I CRON PART I CLE S I ZERにより求められる全粒子の 50重量％の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。

(3) 体積形状係数（f)

走査型電子顕微鏡により用いたサイズに応じた倍率にて各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置ルーゼックス 500 (日本レギユレ一夕一製）を用い、 '粒子の平均粒径および粒子の体積を算出し、次式（6) により算出する。

f =V/R³ …… （6)

(式中、 fは体積形状係数であり、 Vは粒子の体積（ im³) であり、そして R は粒子の平均粒径（Aim) を表す）

(4) 突起密度

フィルム表面の突起密度の測定は走査型電子顕微鏡により行う。すなわち、フイルムの B層の表面写真を倍率 5， 000倍にてランダムに 25枚撮影し、表面突起密度をカウントし、その平均値よリ lmm²当たりの突起数に換算し、この値を B層表面の突起密度とする。

(5) マクロ凝集物による突起の高さと密度

被膜層 Bの表面に真空蒸着法により傾斜角 45度の角度から 0. 2 mの厚みになるようにアルミニウム薄膜を形成し、透過顕微鏡にて倍率 400倍で 1 c m²を走査観察し、突起の影による非蒸着部の最大長さ（突起高さに相当）が 0. 2 mm以上の透過光の個数をカウントする。即ち、高さが 0. 2mm/400 = 0. 5 m以上の粗大なマクロ凝集物による突起密度をカウントする。

(6) 原子間力顕微鏡（AFM) 中心面平均粗さ（ARa)

D i g i t a l I n s t rumen t s社製，原子間力顕微鏡 N an o S c ope I I I AFMの Jスキャナ一を用いて，以下の条件で算出される A R a (中心面平均粗さ）を測定する。続いて該サンプルにギヤオーブン中 200°C X 120分間の熱処理を施し、同様に AR aを測定する。

探針：単結合シリコンセンサ一

走査モード：タツピングモ一ド

走査範囲： 5 ^mX 5 urn

画素数： 256 X 256デ一タボイント

スキャン速度： 2. 0Hz

測定環境：室温，大気中

(7) ヤング率

東洋ポールドウイン社製の引っ張り試験機テンシロンを用いて、温度 20°C、湿度 50%に調節された室内において、長さ 300mm、幅 12. 7 mmの試料フィルムを、 10%Z分のひずみ速度で引っ張り、弓 Iつ張り応力—ひずみ曲線の初めの直線部分を用いて次の式（7) によって計算する。

Ε=Δσ/Δ ε …… （7)

ここで， Εはヤング率 (kg/mm²) であり、 △ σは直線上の 2点間の元の平均断面積による応力差であり、そして△£は同じ 2点間のひずみ差である。

(8) 磁気テープの製造および特性評価

被膜層 Βの表面に、真空蒸着法によりコバルト 100 %の強磁性薄膜を 0. 2 mの厚みになるように 2層（各層厚約 0. 1 zm) 形成し、その表面にダイアモンドライク力一ボン（DLC) 膜、さらに含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、さらに B層とは反対側の芳香族ポリアミドフィルムの表面に公知方法でバックコート層を設ける。その後、 8mm幅にスリットし、市販の 8mmビデオカセットにローデイングする。次いで、以下の市販の機器を用いてテープの特性を測定する。

使用機器：

8 mmビデオテープレコーダ一：ソニー（株）製， EDV— 6000

C/N測定：シバック（株）製，ノイズメータ一

① C/N測定

記録波長 0. 5 izm (周波数約 7. 4MHz) の信号を記録し、その再生信号の 6. 4MHzと 7. 4MHzの値の比をそのテープの Cノ Nとし，巿販 8m mビデオ用蒸着テープの C/Nを 0 dBとし、相対値で表わす。

◎ : +2dB以上

〇：一 2〜十 2 d B未満

X ：— 4〜一 2 dB未満

XX ：— 4 dB未満

②走行耐久性

上記した蒸着テープに 4. 2MHzの映像信号を記録し、 25°C、 50 %R Hの条件下でテープ走行速度 4 lm/分、巻き戻し速度 4 lm/分の走行を 1回とし、合計 200回繰り返した後の出力変動を調べる。この出力変動から次の基準で判定する。

◎ ： 200回繰返し後の出力変動が O dB〜一 0. 3 dB以上

〇： 2 0 0回繰返し後の出力変動が — 0. 3 (18未満〜—0. 5 dB以上

Δ ： 2 0 0回繰返し後の出力変動が — 0. 5 dB未満^ ^一 0. 7 dB以上

X ： 200回繰返し後の出力変動が —0. 7 dB未満

実施例 1

パラフエ二レンジァミン 2 5モル％と 3, 4' —ジアミノジフエ二ルェ一テル 2 5モル％をァミン成分とし、テレフタル酸クロライド 5 0モル％を酸成分として NMP (N—メチルピロリドン）中で重合し、水酸化カルシウムで中和してポリマー溶液を得（対数粘度 3. 5)、これを製膜原液とした。

この原液を 1 00°Cの金属ベルト上に流延し、 1 0 0°Cで 2分間乾燥後、 1 2 0°C. 1 5 0°Cと段階的に温度を上げ、合計で 1 0分間乾燥させて自己保持性をもつ末延伸フィルムを得た。この末延伸フィルムを連続的にベルトから剥離して水槽中に導入し、脱溶媒と脱塩を行った。

得られた末延伸フィルムを低速、高速のロール間でフィルム温度 3 5 0 で長手方向に 2. 5倍延伸し、続いてテンターに供給して、 400°Cで幅方向に 3. 0倍延伸し、得られた二軸延伸フィルムを 400°Cで 1分間熱処理し、室温まで冷却後フィルム Aを得た。このフィルム Aに、アクリル変性ポリエステル樹脂からなるバインダ一の水溶液中に平均粒径 30 nmのポリメチルメタクリレ一トをジビニルベンゼンにて架橋した樹脂（架橋アクリル）からなる粒子を分散させた固形分濃度 1. 0重量％ (全固形分中の粒子含有量 2. 0重量％) の塗液を、塗液の状態で 1. 3 5 g/m²の塗布量でロールコータ一を用いて塗布後、徐々に加熱し，最高温度 2 1 0°Cで 3 0秒間乾燥して，層厚 0. 0 1 0 mの被膜層 Bを持つ最終厚み 3. 0 mの芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。この被膜層 Bを持つ芳香族ポリアミドベースフィルムを用いて、前記の方法にて強磁性金属薄膜蒸着磁気テープを得た。被膜層 Bを持つ芳香族ポリアミドベースフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 1に示す。

実施例 2 , 3

フィルム Aの延伸倍率を表 1に示すものに変更した以外は実施例 1と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 1に示す。

実施例 4〜 9

被膜層 B中の粒子種類および/または全固形分中の粒子含有量を表 1に示すものに変更した以外は実施例 1と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 1に示す。

表 1

(被膜層 B用）塗液

r UA / o, 一 Jcr ¾ί

延伸倍率ハ'インダ、平均粒径粒子量

DAPE"比率 (タテ +ョコ）子種""

(d _B) 固形分

2.5X3.0

実施例 1 25/25モル％ 2500kg/mra² Acr-Pes Ifアクリル 30nm 2. Owt% 1. O t¾

=7.5

2.0X3.25

実施例 2 25/25モル％ 2350kg/mm² Acr-Pes ¾1 アクリル 30nm 2. Owt¾ 1. Owt¾

=6.5

2.8X2.8

実施例 3 25/25モル％ 2600kg/mm² Acr-Pes ^アクリル 30nm 2. Owt¾ 1. Owt¾

=7.8

2.5X3.0

実施例 4 25/25モル％ 2500kg/mm² Acr-Pes ¾l アクリル 60nm 16. Owt% 1. Owt¾

5

2.5X3.0 f接 /i il il,

実施例 5 25/25モル％ 2500kg/mm² AC Γ r 6S 力l

fi¾アクリル 15nm U. bwt¾ 1 1. U nw +t o¾ =7.5

2.5X3.0 コアシ Iル型

実施例 6 25/25モル％ 2500kg/匪² Acr-Pes 30nm 2. Owt¾ 1. Owt¾

=7.5 粒子（A)

2.5X3.0 コアシェル型

実施例 7 25/25モル％ 2500kg/mm² Acr-Pes 30nm 2. Owt% 1. Owt¾

=7.5 粒子（B)

2.5X3.0

実施例 8 25/25モル％ 2500kg/mm² Acr-Pes シリカ 45nm 2. Owt¾ 1. Owt¾

=7.5

2.5X3.0

実施例 9 25/25モル％ 2500kg/mm² Acr-Pes シリカ 15nm 2. Owt¾ 1. Owt¾

=7.5

表 1 (続き）

被膜層中二、面平均粗さ（AFM) テープ特性乾燥前 n'J 乾燥後被突起密度 ARa_D-ARa_n ^H

H C/N 走行耐久性膜厚（t_B) t _B/d ARa_B ARa_B

ARa_B

1.3X10⁷

実施例 1 1.35g/m² lOnm 0.33 2.2nm 1.6nm 0.27

ケ /mm² ◎ 〇

1.3X10⁷

実施例 2 1.35g/m² lOnm 0.33 2. lnm 1.6nm 0.24 〇ケ /mm² ◎

実施例 3 1.35g/m² lOnm 0.33 2.4nm 1.7nm 0.29 ◎ 〇

1.0X10⁷

実施例 4 1.35g/m² lOnm 0.17 3.9nm 3. Onm 0.23 〇

ケ /mm² ◎

1.7X10⁷

実施例 5 1.35g/m² lOnm 0.67 1.2nm 1. Onm 0.16

ケ /匪² ◎ 〇実施例 6 1.35g/m² lOnm 0.33 2.2nm 1.4nm 0.36

寸 ◎ 〇

1.4X10⁷

実施例 7 1.35 /m² lOnm 0.33 0.8nm 0.64

ケ / \。關 s ² ◎ Δ

3.7Χ 10⁶

実施例 8 1.35g/m² lOnm 0.22 3.7nm 3.5nm 0.05 〇

ケ /mm² ◎

8.5X10⁷

実施例 9 1.35g/m² lOnm 0.67 1.3nm 1. nm 0.08

ケ /mm² ◎ ◎

実施例 1 0〜 1 3

被膜層 B用の塗液固形分濃度または塗布量を表 2に示すものに変更した以外は実施例 1と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 2に示す。

実施例 1 4， 1 5

被膜層 B中のバインダ一樹脂を表 2に示すものに変更した以外は実施例 1と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 2に示す。

実施例 1 6 , 1 7

フィルム Aの芳香族ポリアミドのアミン成分の共重合組成を表 2に示すものに変更した以外は実施例 1と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 2に示す。

表 2

(被膜層 B用）塗液

PDA /3, 4 '- ヤノク

延伸倍率 ,ヽ 'インタ' - *" 平均粒径粒子量

DAPE"比率 (タ Ϊ+ョコ）粒ナ種固形分濃度

(d_B) 固形分

2.5X3.0

実施例 1 0 25/25モル％ 2500kg/mm² Acr-Pes ¾i アクリル 30nm 2.0wt¾ 2.0 t¾

=7.5

2.5X3.0

実施例 1 1 25/25モル％ 2500kg/mm^z Acr-Pes 架橋アクリル 30nm 2.0wt¾ 0.5wt¾

=7.5

2.5X3.0

実施例 1 2 25/25モル％ 2500kg/mm² Acr-Pes 架橋)⁷クリル 30nm 2.0wt¾ 1.0wt¾

=7.5

2.5X3.0

実施例 1 3 25/25モル％ 2500kg/mm^z Acr-Pes アクリル 30nm 2.0wt¾ 1.0wt¾

=7.5

2.5X3.0

実施例 1 4 25/25モル％ 2500kg/mm² Pes 架橋アクリル 30nra 2.0wt% 1.0wt%

=7.5

2.5X3.0

実施例 1 5 25/25モル％ 2500kg/mm^z Pur 架橋アクリル 30nm 2.0 t¾ 1.0wt%

=7.5

37.5/12.5 2.5X3.0

実施例 1 6 2800kg/mm² Acr-Pes 架橋 7クリル 30nm 2.0wt¾ 1.0wt¾ モル％ =7.5

12.5/37.5 2.5X3.0

実施例 1 7 2300kg/龍² Acr-Pes 架橋アクリル 30nm 2.0wt% 1.0wt¾ モル％ =7.5

表 2 (続き）

比較例 1

重合工程において中和反応完了後、前もって NMPに分散させておいた平均粒径 4 3 0 nmのシリカを重合系に添加して製膜原液とした以外は、実施例 1と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフイルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 3に示す。このフィルムはフィルム内部の粒子に起因する大突起、特に粒子凝集物に起因する粗大突起により表面の適度な平滑性が損なわれており，電磁変換特性に劣るものであつた。

比較例 2

乾燥した未延伸フィルムを延伸しない以外は、実施例 1と同様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 3に示す。延伸されていないこのフィルムは、ヤング率が低いものであつたため電磁変換特性に劣るものであつた。

比較例 3

被膜層 Bの塗工を行わない以外は、実施例 1と同様にして芳香族ポリアミドべ一スフイルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁4金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 3に示す。微小突起の存在しないこのフィルムは、走行耐久性に劣るものであった。

比較例 4

被膜層 B中に粒子を含有させない以外は、実施例 1と同様にして芳香族ポリアミドベ一スフイルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁 '性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 3に示す。微小突起の存在しないこのフィルムは、走行耐久性に劣るものであった。

比較例 5〜9

被膜層 B中の粒子種類およびまたは全固形分中の粒子含有量および Zまたは塗液固形分濃度および/または塗布量を表 3に示すものに変更した以外は実施例 1と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 3に示す。粒径および/または突起密度が本発明の範囲外であるこのフィルムは，電磁変換特性または走行耐久性に劣るものであった

表 3

注）比較例 1はフィルム中に 43 Οηπι^φシリカ粒を含む

表 3 (続き）

中心面平均粗さ（AFM) テープ特性乾燥前乾燥後被突起密度

t _B/d_B ARa_B ARa_B ^H CZN 走行耐久性膜厚 (t_B)

1.4X10⁷

比較例 1 1.35g/m^ lOnm 0.33 17. Onm 16.5nm 0.03 X X

ケ /mm² ◎

1.3X10⁷

比較例 2 1.3 g/m² lOnm 0.33 2. Onm 1.5nm 0.25 X X 〇ケ /mm²

比較例 3 - 0.6nm 0.6nm 0 〇 X 比較例 4 1.35g/m² lOnm 一 0.5nm 0.4腹 0.20 ◎ X

7.5X10⁵

比較例 5 1.35g/m lOnm 0.08 5.7nm 4.4ηπι 0.23 X X ケ /mm²

6.5X10⁵

比較例 6 1.35g/m² lOnm 0.33 1.9nm 1.4nm 0.26 〇 X ケ /mm²

5.2X10⁸

比較例 7 1.35g/m² lOnm 0.40 3.6nm 3. Onm 0. 17 X

ケ /mm² 〇

1.6X10⁶

比較例 8 0.675g/m² lnm 0.03 4. Onm 3.5nm 0.13 X X ケ /mm²

7.0X10⁶

比較例 9 2.7g/m² lOOnm 3.33 1. Onm 0.7nm 0.30 〇 X ケ /隱 2

なお、表 1〜3中の略号の意味は次のとおりである。

P PDA*： p—フエ二レンジァミン

3， 4' -DAPE * * ： 3, 4' —ジアミノジフエニルエーテル

* * * ： Ac r— P e s→ァクリル変性ポリエステル（高松油脂（株）製， I

N- 170-6)

P e s→ポリエステル（互応化学（株）製， R Z 530 )

Pu r→ポリウレタン（東洋ポリマー（株）製，メルシー 545) * * * * ：架橋アクリル—ポリメチルメタクリレート—ジビエルベンゼン架橋体

コアシェル型粒子（A) —コア部（全径 Zコア径 =1. 25) =ポリスチレンージビニルベンゼン架橋体、

シェル部 =ポリメチルメタクリレ一トコアシェル型粒子（B) →コア部（全径 Zコア径 =10) =ポリスチレン—ジビニルベンゼン架橋体、

シェル部 =ポリメチルメタクリレートシリカ→コロイダルシリカ

実施例 1〜17から明らかなとおり、本発明によれば、ベースフィルムの厚みが薄くても、十分な強度、剛性を有し、特に、電磁変換特性、ドロップアウト、磁性層の走行耐久性に優れた高密度磁気記録媒体のベースフィルムとして有用な芳香族ポリアミドフィルムを提供することができる。

以下に記載する実施例 18〜 32および比較例 10〜： L 8において用いた測定法は次のとおりである。

(9) 粒子の平均粒径 I (平均粒径： 0. 06 111以上）

前記（1) に同じ。

(10) 粒子の平均粒径 I I (平均粒径： 0. 06 /zm未満）

前記（2) に同じ。

(1 1) HLB値

①界面活性剤個々の H L B値下記式（8) より求める。

HLB=20 XMn/M …… (8)

ここで、 Mは界面活性剤の分子量であり、そして Mnは親水基部分の分子量である。

②平均 HLB値

下記式（9) より求める。

平均 HLB値 =HLB (X) XP (X) +HLB (Y) XP (Y) …… (9) ここで、 HLB (X)；第 1界面活性剤 Xの HLB値

P (X) ；第 1界面活性剤 Xの平均界面活性剤量に対する重量分率

HLB (Y)；第 2界面活性剤 Yの HLB値

P (Y) ；第 2界面活性剤 Yの平均界面活性剤量に対する重量分率

である。

(12) 被膜層 B表面の不活性微粒子による突起密度

フィルム表面の突起密度の測定は走査型電子顕微鏡により行う。即ち、積層フイルムの被膜層 Bの表面写真を倍率 35, 000倍にてランダムに 25枚撮影し、表面突起密度をカウントし、その平均値よリ 1mm²当たりの突起数に換算し、この値を被膜層 B表面の不活性微粒子による突起密度とする。

(13) ヤング率

前記（7) に同じ。

(14) 塗布抜け、塗布筋

被膜層 Bを下にして下記組成の染色液（温度 50°C) に 10分間浸潰し、水洗した後、目視で観察し、楕円状〜球状に染色されていない領域があるものを塗布抜け、長手方向に筋があるものを塗布筋として、それぞれ存在しないものを〇、存在するものを Xとして判定する。

(15) 磁気テープの製造および特性評価

磁気テープの製造および使用機器は前記 (8) に同じ。

① CZN測定

記録波長 0. 5 im (周波数約 7. 4MHz) の信号を記録し、その再生信号の 6. 4MHzと 7. 4MHzの値の比をそのテープの CZNとし、市販 8m mビデオ用蒸着テープの CZNを 0 dBとし、下記の基準で判定する。

判定基準

◎ 巿販 8 mmテ一プ対比 + 5 d B以上

〇 " + 1 dB以上〜 + 5 dB未満

X " +l dB未満

②ドロップアウト

シバソク（株）製ドロップアウトカウンタ一を使用して、 3 s e c. /1 0 dB以上のドロップアウトを 10分間測定し、 1分当りの個数に換算する。下記の基準で判定する。

判定基準

〇ドロップアウト 10 (ケノ分）以下

X ドロップアウト 11 (ケ Z分）以上

③走行耐久性

上記した蒸着テープに 4. 2MHzの映像信号を記録し、 25°C、 50 %RH の条件下でテープ走行速度 4 lm/分、巻き戻し速度 41：11ノ分の走行を1回とし、合計 200回繰り返した後の出力変動を調べる。この出力変動から次の基準で判定する。

判定基準

◎ 200回繰り返し後の出力変動が —0. 3(18以上〜0 18

〇 200回繰り返し後の出力変動が —0. 6018以上〜—0. 3 d

•3未^！

X 200回繰り返し後の出力変動が —0. 6dB未満

実施例 18

パラフエ二レンジァミン 25モル％と 3, 4—ジァミノジフエ二ルェ一テル.2 5モル％をァミン成分とし、テレフタル酸クロライド 50モル％を酸成分として NMP (N—メチルピロリドン）中で重合し、 τΚ酸化カルシウムで中和してポリマ一溶液（対数粘度 3. 5) を得て、これを製膜原液とした。

この原液を 100°Cの金属ベルト上に流延し、 100 で 2分間乾燥後、 1 20°C、 150°Cと段階的に温度を上げ、合計で 10分間乾燥させて自己保持性をもつ末延伸フィルムを得た。この末延伸フィルムを連続的にベルトから剥離して水槽中に導入し、脱溶媒と脱塩を行った。得られた末延伸フィルムを低速、高速のロール間でフィルム温度 350°Cで 2. 5倍に延伸し、続いてステンターに供給して、 400°Cで 3. 0倍に延伸し、得られた二軸延伸フィルムを 400°Cで 1分間熱処理し、室温まで冷却後、フィルム Aを得た。該フィルム Aに後述の被膜層 Bの組成となる水溶性塗液を塗布後、徐々に加熱し、最高温度 200°Cで 4秒間乾燥して、最終厚み 4. 0 n mである芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着磁気テープの特性を表 4に示す。

被膜層 B；

バインダー：アクリル変性ポリエステル（高松油脂製 IN— 170— 6)。

不活性微粒子：ポリメチルメタクリレート—ジビニルベンゼン架橋体（日本触媒化学工業製ェポスター ME) 平均粒径 30nm。

界面活性剤 X：ポリオキシエチレンアルキルフエニルエーテル（日本油脂製 NS - 208. 5) 2重量％、 HLB 12. 6。

界面活性剤 Y：ポリオキシエチレンアルキルフエニルエーテル（日本油脂製 NS -230) 28重量％、 HLB 17. 2。

平均 HLB : 16. 9。

実施例 19, 20

フィルム Aの延伸倍率を表 4に示すものに変更した以外は実施例 18と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 4に示す。

実施例 21, 22

第 1界面活性剤 Xおよび/または第 2界面活性剤 Yの種類およびまたは含有量を表 4に示すものに変更した以外は実施例 18と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 4に示す。表 4

表 4 (続き）

(被膜層 B用）塗液テープ特性

*****

平均突起 ffi度塗布抜け .筋

界面活性剤 HLB 含有量 C/N D/O 走行耐久性

HLB

Y

実施例 Q Λ Λ 1.3X10⁷

18 17 * l o. y 〇リりケ /mm²

1.3X10⁷

実施例 19 S AA2 17.2 28wt¾ 16.9 〇〇〇ケ /mm² ◎

1.3X10⁷

実施例 20 S AA2 17.2 28wt¾ 16.9 〇〇〇ケ /國 2 ◎

1.3X10⁷

実施例 21 S AA2 17.2 12wt¾ 15. 1 〇

ケ /画² ◎ 〇〇

1.3X10⁷

実施例 22 SAA2 17.2 38wt¾ 17.1 〇

ケ /匪² ◎ 〇〇

実施例 2 3〜 2 8

被膜層 B中の粒子種類を表 5に示すものに変更および Zまたは全固形分中の粒子含有量を変更し被膜層 Bの突起密度を表 5に示すものに変更した以外は実施例 1 8と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 5 に示す。

実施例 2 9 , 3 0

被膜層 B中のバインダー樹脂を表 5に示すものに変更し、それに伴い表 5に示す界面活性剤組成の変更を行った以外は実施例 1 8と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 5に示す。

実施例 3 1， 3 2

フィルム Aの芳香族ポリアミドのァミン成分の共重合組成を表 5に示すものに変更した以外は実施例 1 8と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 5に示す。

表 5

(被膜層 B用）塗液

PDAV3 4'- ヤング率

延伸倍率平均粒径

DAPE"比率 (タテ +ョコ）ハ'インタ' -蒱 *" ¾r子種 **** H T R 含有量

(d_B)

X

2.5 X 3.0

実施例 2 3 25/25モル％ 2500kg/mm² Acr-Pes 架橋アクリル 60腹 S AA 1 12.6 2wt¾

=7.5

2.5X3.0

実施例 24 25/25モル％ 2500kg/關 ² Acr-Pes 架橋アクリル 15nra SAA 1 12.6 2wt¾

=7.5

2.5X3.0 コアシェル型

実施例 2 5 25/25モル％ 2500kg/mm² Acr-Pes 30nm S AA 1 12.6 2wt¾

=7.5 粒子 (A)

2.5X3.0 コアシェル ¾!ί

実施例 26 25/25モル％ 2500kg/mm² Acr-Pes 30nm SAA 1 12.6 2wt¾

=7.5 粒子 (B)

2.5X3.0

実施例 27 25/25モル％ 2500kg/mm² Acr-Pes シリカ 45nm SAA 1 12.6 2wt¾

=7.5

2.5X3.0

実施例 28 25/25モル％ 2500kg/mm² Acr-Pes シリカ 15nm SAA 1 12.6 2wt%

=7.5

2.5 X 3.0

実施例 29 25/25モル％ 2500kg /画² Pes 架橋アクリル 30nm SAA 1 12.6 4wt¾

=7.5

2.5X3.0

実施例 30 25/25モル％ 2500kg/mm² Pur 架橋アクリル 30nm SAA 1 12.6 2wt¾

=7.5

37.5/12.5 2.5X3.0

実施例 3 1 2800kg/國 ² Acr-Pes 架橋アクリル 30nm SAA 1 12.6 2wt¾ モル％ =7.5

12.5/37.5 2.5X3.0

実施例 3 2 2300kg/mra² Acr-Pes 架橋アクリル 30nm SAA 1 12.6 2wt¾ モル％ =7.5

表 5 (続き）

(被膜層 B用）塗液テープ特性

合右畺平均突起密度塗布抜け ·筋

し/ LJ / K 击而 c HLB

Y

1.0X10⁷

実施例 23 S ΑΑ2 17.2 28wt% 16.9 〇〇〇

ケ /mm² ◎

1.7X10⁷

実施例 24 SAA2 17.2 28wt¾ 16.9 〇

ケ /画² ◎ 〇〇

1.4X10⁷

実施例 2 5 SAA2 17.2 28wt¾ 16.9 〇

ケ /腦 ² ◎ 〇〇

1.4X10⁷

実施例 26 S AA2 17.2 28wt¾ 16.9 〇

/讓 ² ◎ 〇 Δ

3.7X10⁶

実施例 27 SAA2 17.2 28wt¾ 16.9 〇〇

ケ /mm' 〇 ◎

8.5X10⁷

実施例 28 S AA2 17.2 28wt¾ 16.9 〇

ケ /腿' ◎ 〇 ◎

1.3X10⁷

実施例 29 SAA3 17.8 21wt¾ 17.0 〇

ケ /臓' ◎ 〇〇

1.3X10⁷

実施例 30 S AA2 17.2 28wt¾ 16.9 〇

ケ ◎ 〇〇

1.3X10⁷

実施例 3 1 S AA2 17.2 28wt¾ 16.9 〇

ケ /固² ◎ 〇〇

1.3X10⁷

実施例 32 S AA2 17.2 28wt¾ 16.9 〇〇

ケ /mm² 〇〇

比較例 1 0

重合工程において中和反応完了後、前もって NM Pに分散させておいた平均粒径 1 6 0 nmのシリカを重合系に添加して製膜原液とした以外は、実施例 1 8と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 6に示す。このフイルムはフィルム内部の粒子に起因する大突起、特に粒子凝集物に起因する粗大突起により表面の適度な平滑性が損なわれており、電磁変換特性に劣るものであつた。

比較例 1 1

乾燥した未延伸フィルムを延伸しない以外は、実施例 1 8と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 6に示す。延伸されていないこのフイルムは、ヤング率が低いものであったため電磁変換特性に劣るものであった。

比較例 1 2

被膜層 Bの塗工を行わない以外は、実施例 1 8と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 6に示す。微小突起の存在しないこのフィルムは、走行耐久性に劣るものであった。

比較例 1 3

被膜層 B中に粒子を含有させない以外は、実施例 1 8と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 6に示す。微小突起の存在しないこのフイルムは、走行耐久性に劣るものであった。

比較例 1 4〜1 8

第 1界面活性剤 Xおよび/または第 2界面活性剤 Yの種類およびまたは含有量を表 6に示すものに変更した以外は実施例 1 8と同様にして芳香族ポリアミドベースフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表 6に示す。界面活性剤の HL B値および/または含有量が本発明の範囲を満足しないこれらのフィルムは、塗布抜け ·筋などの塗工欠陥が生じたり、ドロップアゥ卜などのテープ特性上の欠陥が生じる。

表 6

(被膜層 B用）塗液

PDAV3, 4'- ヤング率 *****

延伸借率平均粒径

DAPE"比率 (タテ +ョコ）ハ'イング -種" * 粒子種"" 界面活性剤 HLB 含有量

(d_B)

X

2.5 X 3.0

比較例 1 0 25/25モル％ 2500kg/隨 ² Acr - Pes クリル ounm A A 1 2wt¾

=7.5

1.0X1.0

比較例 1 1 25/25モル％ 1200kg/讓 ² Acr - Pes ^/クリル oUnm A A 1 \l.6 2wt¾

=1.0

2.5X3.0

比較例 1 2 25/25モル％ 2500kg/讓 ²

=7.5

2.5X3.0

比較例 1 3 25/25モル％ 2500kg/塵² Acr-res A A 1 1厶 o 2wt¾

=7.5

2.5X3.0

比較例 14 25/25モル％ 2500kg/ A t*一 T)

腿² 木 ^1 ソリル ou πιη o Λ 1 1 . o I wt¾ =7.5

2.5 X 3.0

比較例 1 5 25/25モル％ 2500kg/匪² Acr - Pes 架橋アクリル 30nm S AA 1 12.6 20wt¾

=7.5

2.5X3.0

比較例 1 6 25/25モル％ 2500kg/讓 ² Acr - Pes 架橋アクリル 30nm S AA 1 12.6 2wt%

=7.5

2.5X3.0

比較例 1 7 25/25モル％ 2500kg/醒 ² Acr-Pes 架橋アクリル 30nm SAA 1 12.6 10wt¾

=7.5

2.5 X 3.0

比較例 1 8 25/25モル％ 2500kg/匪² Acr - Pes 架橋アクリル 30ηηι S AA 1 12.6 2wt¾

=7.5

注）比較例 10はフィルム中に 16 Οηπι^φシリカ粒子を含む

表 6 (続き)

なお、表 4〜表 6中の略号の意味は次のとおりである。

* ： P PDA→p—フエ二レンジァミン

* * ： 3, 4' _DAPE→3, 4' —ジアミノジフエニルエーテル

* * * ： A c r— P e s→ァクリル変性ポリエステル（高松油脂（株）製， I

N- 170-6)

Pe s→ポリエステル（互応化学（株）製， RZ 530)

Pu r→ポリウレタン（東洋ポリマ一（株）製，メルシー 545)

* * * * ：架橋アクリル→ポリメチルメタクリレートージビニルベンゼン架橋体

コアシェル型粒子（A) —コア部（全径 Zコア径 =1. 25) ：ポリスチレン—ジビニルベンゼン架橋体

シェル部：ポリメチルメタクリレートコアシェル型粒子（B) —コア部（全径 /コア径 =10)：ポリスチレン一ジビニルベンゼン架橋体

シェル部：ポリメチルメタクリレートシリカ→コロイダルシリカ

* * * ** ： S AA 1→ポリオキシエチレンアルキルフエニルエーテル（日本油脂（株）製， NS 208. 5)

S A A 2→ポリオキシェチレンアルキルフエニルエーテル（日本油脂（株）製， NS 230)

S A A 3→ポリォキシェチレンアルキルフエニルエーテル（日本油脂（株）製， NS 240)

S A A 4→ポリォキシェチレンアルキルフエ二ルェ一テル（日本油脂（株）製， NS 270)。

表 4、表 5および表 6から明らかなように、本発明によるフィルムは、優れた電磁変換特性を示すと共に、走行耐久性に優れ、ドロップアウトの原因となる微細突起が極めて少ないばかりでなく、塗布抜けや塗布筋といった欠陥がなく、巻き取り性も優れている。一方、本発明の要件を満たさないものは、これらの特性を同時に満足できない。

実施例 18〜32から明らかなとおり、本発明によれば、被膜層 Bの表面にドロップアウトの原因となる突起を有さず、電磁変換特性、走行性に優れた磁気記録媒体の製造に有用な高密度磁気記録媒体用積層フィルムを提供することができる。

以下に記載する実施例 33〜46および比較例 19〜 29において用いた測定法は以下のとおりである。

(16) ポリマー溶液の pH

ポリマ一溶液 5 gを採取し、 300mlの水に加え、 2分間撹拌した後に該水溶液の pHを測定した。

(17) 対数粘度

重合後の芳香族ポリアミドを含むポリマー原液をアルコール、水などの溶媒の中に投入し、再沈、分離されたポリマーを濃硫酸中、 30でで測定した値から求めた。

(18) 面積倍率

フィルムの縦延伸倍率と横延伸倍率を乗じて求めた。

(19) ヤング率

前記（7) に同じ。

(20) 粒子の平均粒径（DP)

前記（1) に同じ。

(21) 層厚み

フィルムの小片をエポキシ樹脂にて固定成形し、ミクロト一ムにて約 6 Onm の厚みの超薄切片（フィルムの流れ方向に平行に切断する）を作成する。この試料を透過型電子顕微鏡（日立製作所製： H— 800型）にて観察し、各層の境界面を探して各層の層厚みを求める。

(22) フィルムの表面粗さ（中心線平均粗さ： Ra)

中心線平均粗さ（Ra)は J 1 S-B 601に準じて測定する。本発明では（株）小坂研究所の触針式表面粗さ計（SURF CORDER SE— 30C) を用い、次の条件で測定して求める

(a) 触針先端半径 2 μ,πι

(b) 測定圧力 3 Omg

(c) カツトオフ 0 · 08 mm

(d) 測定長 8. Omm

(e) データーのまとめ方：同一試料について 6回繰り返し測定し、最も大きい値を 1つ除き、残り 5つのデ一夕を用いて平均値としての中心線平均粗さ（Ra) を求める。

(23) フィルムフィルム摩擦係数

A層面と B層面を重ね合せた 2枚のフィルムの下側に固定したガラスを置き、重ね合せたフィルムの下側（ガラス板と接しているフィルム'）のフィルムを定速ロールにて引取り（約 l O cmZ分）、上側のフィルムの一端（下側フィルムの引取り方向と逆端）に検出機を固定してフィルムノフィルム間の弓 I張力（F) を検出する。なお、その時に用いる上側のフィルムの上に載せてあるスレッドは下側面積が 50 cm² (8 Ommx 62. 5mm) であり、フィルムに接する面は硬度 80° のネオプレンゴムであり、その重さ（W) は 1. 2 kgとする。フイルム Zフィルム摩擦係数は下記式（10) で算出される。

フィルムフィルム摩擦係数 =F (g) /W (g) …… （10)

(24) エア抜け指数

8 cmx 5 cmのフィルム片を 20枚重ね、うち下 19枚には中央に 1辺 2 mmの三角形の穴をあけておく。東洋精機製ベック平滑度試験機（デジベック)' を用いてこのサンプルの 2mmHg、空気抜け時間（単位：秒）を 5回測定し、平均値をエア抜け指数とする。

(25) 巻姿

フィルムを 70 cm幅で 9， 00 Omロール状に 100本巻取った時に、次の欠点がないものを良品としてカウントし、下記の判定をする。

欠点 1 ：ロール端面がずれている。

欠点 2 ：ロール表面に突起（ブッ）が 3個以上存在する。欠点 3 ：ロールに縦シヮが発生している。

判定 ◎:良品が 90本以上

〇：良品が 80〜89本

X：良品が 79本以下

(26) 耐ブロッキング性

2枚のフィルムの塗膜（A層）側表面と塗膜（B層）側表面を重ね合せ、これに 50 kgZcm²の圧力を 60°CX 80%RHの雰囲気下 17時間かけた後、剥離し、その剥離力（g/5 cm幅）で評価する。

なお、評価は剥離力から下記の基準で行う。

判定〇： 10 (gZ5 cm幅）未満

△ : 10 (g/5 cm幅）以上〜 15 (g/5 cm幅）未満

X： 15 (g/5 cm幅）以上〜破れ

(27) 耐削れ性

(a) カレンダ一削れ

3段のミニスーパ一カレンダ一（ナイロンロール Xスチールロール）を使用して評価した。処理温度 80°C、線圧 200 kg/ cmで、該フィルムを速度 50mZ分で 2, 000m走行させた。カレンダーのナイロンロールに付着する汚れにより、次の基準により判定する。

判定 ◎ ナイロンロールの汚れ全くなし

〇ナイロンロールの汚れわずかに汚れる

X ナイロンロールの汚れ非常に汚れる

(b) ピン削れ

図 1に示した装置を用いて下記のようにして測定する。

図 1中、 1は巻出しリール、 2はテンションコントローラ、 3、 5、 6、 8、 9および 11はフリーローラ、 4はテンション検出機（入口）、 7はステンレス鋼 SUS 304製の固定棒（外径 5mm(|)、表面粗さ R a ： 20 nm)、 10はテンション検出機（出口）、 12はガイドローラ、 13は巻取りリールをそれぞれ示す。温度 20°C、湿度 60%の環境で、幅 1Z2インチに裁断したフィルムの塗膜（A層および B層）を 7の固定棒に θ= (90/180) πラジアン（90° ) で接触させて、 2m/分の速度で 100m走行させ（入口テンションは 40 g— 定とする）、次の基準により判定する。

判定 ◎：ピンに削れ粉がついていない

〇：ピンに削れ粉がわずかに付着

X：ピンに削れ粉が多量に付着

(28) カレンダ一突上げ

前記の（27) の（a) カレンダ一削れ性の評価で用いたのと同じ装置、同じ条件にてカレンダー処理を施した該フィルムの塗膜（A層）側表面について、前記（22) フィルムの表面粗さ（中心線平均粗さ： Ra) に記載したと同様の方法で表面粗さ R aを測定する。

カレンダ一未処理品の R a，処理品の R a ^cから、下記式（11)

1 &変化率= (1^&。— 1 &) / 1^& …… （11)

にて R a変化率を算出し、次の基準により判定する。

判定 ◎ : 1 &変化率≤0

〇： 0く Ra変化率≤+0. 2

X： +0. 2<Ra変化率

(29) 磁気テープの製造および特性評価

(a) 塗布型磁気テープの製造（実施例 33〜 39および比較例 19〜 29 ) 該芳香族ポリアミドフィルムの塗膜（A層）の表面に、下記調製の磁性塗料を塗布厚 1. 2 mとなるように塗布し、次いで 2, 500ガウスの直流磁場中で配向処理を行い、 120°Cで加熱乾燥後、スーパ一カレンダー処理（線圧 300 k g/cm, 温度 90°C) を行い、巻取った。この巻取った口一ルを 5 5 のオーブン中に 3日間放置した。

磁性塗料の調製：下記に示す組成をポールミルに入れ、 16時間混練、分散した後、イソシァネート化合物（バイエル製、デスモジュール L) 5重量部を加え、 1時間高速剪断分散して磁性塗料とした。塗料の組成：

針状 Fe粒子 100重量部塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体（積水化学製、エスレック 7

A) 15重量部熱可塑性ポリウレタン樹脂

酸化クロム

力一ボンブラック

レチシン

脂肪酸エステル 1重量部トルエン 30重量部メチルェチルケトン 50重量部シクロへキサノン 70重量部さらに、磁気記録層の反対側のフィルム表面（塗膜（B層）表面）に、下記組成の塗液をバックコート層として厚さ 0. 8 imに塗布し、乾燥した後裁断し、磁気テープを得た。

バックコート層組成：

カーボンブラック 100重量部熱可塑性ポリウレタン樹脂 60重量部イソシァネート化合物（日本ポリウレタン工業製、コロネ

ート L)

シリコーンオイル 0.

メチルェチルケトン 250重量部トルエン 50重量部次いで、以下の市販の機器を用いてテープの特性を測定する。

使用機器： 8 mmビデオテープレコーダー：ソニー（株）製 EDV— 6000

Cノ N測定：シバソク（株）製ノイズメーター

① CZN測定

記録波長 0. 5 m (周波数約 7. 4 MHz) の信号を記録し、その再生信号の 6. 4MHzと 7. 4MHzの値の比をそのテープの CZNとし、巿販 8mm ビデオ用テープの CZNを 0 dBとし、相対値で表し、次の基準で判定する。判定〇 0 dB以上

△ — 3 dB以上〜 0 dB未満

X -3d B未満

②ドロップアウト（DZO) 測定ドロップアウトカウンターを用いて、 15 s e c. /18 (18にて1分間当たりの個数を測定し、次の基準で判定する。

判定〇： 0〜19個/分

Δ： 20〜49個 Z分

X： 50個以上分

(b) 金属薄膜型磁気テープの製造（実施例 40〜46)

該芳香族ポリアミドフィルムの塗膜（B層）側表面に前記（a) と同組成の塗液をバックコート層として厚さ 0. 8 mに塗布し、乾燥した。

次いで、塗膜（A層）の表面に、真空蒸着法により、コバルト 100%の強磁性薄膜を 0. 02 imの厚みになるように 2層（各層厚約 0. O l m) 形成し、その表面にダイアモンドライクカーボン（DLC) 膜、さらに含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設ける。その後、 8 mm幅にスリットし、市販の 8 mmビデォカセッ卜にローディングする。

次いで，前記（a) と同様の方法にて、 ① CZN測定（基準としては、市販 8 mmビデオ用蒸着テープを用い、 CZNを O dBとする）、 ②ドロップアウト測定を行い、さらに、下記③走行耐久性の測定を行う。

③走行耐久性

40X, 80%RHで、テープの走行速度 85 cmZ分で記録再生を 500 回繰り返した後の C ZNを測定し、初期値からのずれを次の基準で判定する。判定 ◎ :初期値に対して +0. O dB以上

〇：初期値に対して — 1. 0 8以上〜+0. O dB未満

X：初期値に対して —1. O dB未満

実施例 33

パラフエ二レンジァミン 25モル％と、 3， 4' —ジアミノジフエニルエーテル 25モル％をァミン成分とし、テレフタル酸クロライド 50モル％を酸成分として NMP (N -メチルピロリドン）中で重合した。一方、平均粒径 8, 0 00 nmの水酸化カルシウム（井上石灰製）を、ホモジナイザーで NMP中に分散し、サンドグラインダーで平均粒径 1, 500 nmとなるように細粉化した後、フィルタ一（日本ポール製、 HDC I I、目開き 20 ; m) で濾過して、平均粒径 800 nmの水酸化カルシウムの NMPスラリーを作成した。このスラリーを上記の重合物に、 pHが 3. 8となるように添加して、製膜原液とした。この製膜原液の対数粘度は 3. 5であった。

得られた製膜原液を 100°Cに加熱し、 100°Cの口金から、 100°Cの金属ベルト上に流延し、 100 で 2分乾燥後、 120°C、 150°C, 180 °C と段階的に温度を上げ、合計で 5分間乾燥させて自己保持性を持つ未延伸フィルムを得た。この未延伸フィルムを連続的にベルトから剥離して水槽中に導入し、脱溶媒と脱塩とを行い、その後、 18 O :で 3分間乾燥した。

得られた未延伸フィルムを低速、高速のロール間でフィルム温度 350 で 2. 5倍に延伸し、続いてステンターに供給して、 400°Cで 3. 0倍に延伸し、得られた二軸延伸フィルムを 400°Cで 1分間熱処理し、 35°Cまで冷却し、 A層を、続いて反対面に B層を塗布し、最終厚み 4. O^mの芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルム中に中和剤残渣と見られる粒子は見いだせなかった。

A、 B層；表 7に示す塗膜組成を含む水性塗液（いずれもバインダー樹脂として下記組成の共重合ポリエステルの水分散体を使用し、かつ HLB値 12. 6のポリオキシエチレンノニルフエニルエーテルを 5重量％含有。全固形分濃度 4重量％) をキスコート法により塗布した。

共重合ポリエステルの組成：

酸成分

2, 6—ナフ夕レンジカルボン酸 50モル％

イソフ夕ル酸 45モル％

5—ナトリウムスルホイソフタル酸 5モル％

グリコール成分

エチレングリコール 70モル％

ビスフエノール Aのプロピレンオキサイド付加物 30モル％

この共重合ポリエステル樹脂のガラス転移温度は 95 °Cであった。塗膜の構成、フィルムおよび磁気テープ特性を表 7に示す。

実施例 3 4

実施例 3 3において、中和剤として前もって NM Pに分散させておいた水酸化リチウムを用いた。それ以外は実施例 3 3と同様にした。得られたフィルム中に中和剤残渣と考えられる粒子は見いだせなかった。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 7に示す。

実施例 3 5〜 3 9

実施例 3 3において、塗膜構成を表 7に示すものとした以外は、実施例 3 3 と同様とした。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 7に示す。

表 7 (続き)

* :実施例 34では中和剤として L i OHを使用、その他の実施例では C a (OH) ₂を使用

表 7

比較例 1 9

実施例 3 3において、製膜時の延伸条件を 1 . 1 X 1 . 2倍とした。それ以外は実施例 3 3と同様にした。得られたフィルム中に中和剤残渣と考えられる粒子は見いだせなかった。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 8に示す。ヤング率が不足しており、電磁変換特性に劣っている。

比較例 2 0 , 2 1

実施例 3 3において、 A層のみ塗布、または B層のみ塗布した。それ以外は実施例 3 3と同様にした。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 8に示す。いずれかの面に表面突起がないと易滑性が不足し、巻取り性ゃ耐ブロッキング性に劣っている。

比較例 2 2， 2 3

実施例 3 3において、 B層塗膜中の粒子組成を表 8のとおりとした。それ以外は実施例 3 3と同様にした。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 8に示す。巻取り性が不良であり、耐ブロッキング性にも劣っている。

比較例 2 4

実施例 3 3において、 B層塗膜厚みを表 8のとおりとした。それ以外は実施例 3 3と同様にした。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 8に示す。巻取り性が不良であり、耐ブロッキング性にも劣っている。

比較例 2 5

実施例 3 3において、 B層塗膜中の不活性微粒子 Yを表 8に示す粒径のものとした。それ以外は実施例 3 3と同様にした。得られたフィルムおよび磁気テ一プの特性を表 8に示す。加工中に粒子の脱落が発生し、それに起因するドロップアウトが多発している。表 8

表 8 (続き)

比較例 1 9 比較例 2 0 比較例 2 1 比較例 2 2 比較例 2 3 比較例 2 4 比較例 2 5 塗膜 B層厚み（nm) 25 25 0 25 25 120 25

B層表面粗さ（nm) 5. 3 5. 3 0. 8 5. 3 5. 3 0. 9 20 フィルム/フィルム

0. 41 0. 93 I 0. 50 0. 71 >1 0. 25 摩擦係数

エア抜け性（秒） 2700 7300 14000 8100 9400 14000 700

〇 X X X X X 〇耐ブロッキング性〇 X X X X X 〇

A層削れ性 (ピン) 〇〇〇〇〇〇〇

B層削れ性 (カレンダ -) 〇〇〇〇〇〇 X カレンダ -突上げ ◎ 〇 ◎ ◎ ◎ 〇 X

C/N X 〇〇〇〇〇 Δ ドロップァゥト〇〇〇〇〇〇 X

比較例 2 6

実施例 3 3において、 B層塗膜中の不活性微粒子 Zを表 9に示す粒径のものとした。それ以外は実施例 3 3と同様にした。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 9に示す。巻取り性が不良であり、耐ブロッキング性にも劣っている。

比較例 2 7

実施例 3 3において、 A層塗膜中の不活性微粒子 Xを表 9に示す粒径のものとした以外は実施例 3 3と同様にした。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 9に示す。電磁変換特性が不良である。

比較例 2 8

実施例 3 3において、重合工程において中和反応完了後，前もって NM Pに分散させておいた平均粒径 4 3 0 nmのシリカを重合系に添加して製膜原液とし、被膜層の塗工を両面とも行わなかった以外は，実施例 3 3に準じて芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 9に示す。電磁変換特性が不十分である。

比較例 2 9

実施例 3 3で用いた製膜原液（フィルム C 1層側）と比較例 2 8で用いた製膜原液（フィルム C 2層側）を、両方の粘度が 1 0 0でで 1 0 0 0ボイズとなるよう調整し、口金内で、最終フィルムで C 1層は 3 . 0 m, 〇2層は1 . 0 mとなるように 2層に積層し、 C 2層側を金属ベルト側にして流延してフイルムを製膜し、被膜層の塗工を両面とも行わなかった以外は、実施例 3 3と同様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 9に示す。磁性層塗布後のカレンダー工程にて C 2層側粒子の突上げが生じ C 1層側表面の平坦性が損なわれるため、電磁変換特性が不十分である。なお、磁気テープ特性評価に際し、 C 1層側表面に磁性層を、 C 2層側表面にバックコート層を設けた。表 9

* 1 ：ベース内に粒径 4 3 0 n mシリカ粒子を含む。

* 2 ：共押出べ一ス（磁性層側には粒子なし、バックコート側には粒径 4 3 0 nmシリカ粒子を含む）実施例 40〜 46

塗膜 A層の組成について、バインダ一樹脂としてァクリル変性ポリエステル樹脂 (高松油脂製 IN— 170— 6) を用い、かつ HLB値 12. 6のポリオキシェチレンノニルフエニルエーテルを塗膜固形分中 1重量％、 HLB値 17. 2のポリォキシェチレンノニルフエニルエーテルを塗膜固形分中 26重量％含有させ、不活性微粒子 Xの内容を表 10に示すものとした以外は、それぞれ実施例 33〜 39と同様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 10に示す。実施例 40〜46のフィルムは、走行耐久性に優れ、金属薄膜型磁気テープとしても優れた特性を示す。

表 10

実施例 40 実施例 41* 実施例 42 実施例 43 実施例 44 実施例 45 実施例 46 延伸倍率 2.5X3.0 2.5X3.0 2.5X3.0 2.5X3.0 2.5X3.0 2.5X3.0 2.5X3.0 ヤング率 (タテ +ョコ) 2500kg/匪² 2500kg/腿² 2500kg/讓 ² 2500kg /謹² 2500kg/匪² 2500kg/讓 ² 2500kg/mm² 不活性微粒子 X材質アクリルアクリルシリカシリコーンアクリル架橋ホ°リスチレンシリコーン不活性微粒子 X

30 30 1UU 5 30 平均粒径 (nm)

不活性微粒子 X

6 6 5 20 6 15 10 含有量 (W ）

塗膜 A層厚み（nm) 10 10 25 10 5 10 10

A層表面粗さ（nm) 1.7 1.7 1.8 1.7 1.7 1.8 1.8 不活性微粒子 Y材質シリカシリカシリカ架橋ホ。リスチレン架橋ホ。リスチレンシリコーンシリカ不活性微粒子 Y

220 220 120 330 240 110 220 平均粒径 (nm)

不活性微粒子 Z材質シリカシリカシリコーンシリカアクリルシリカシリカ不活性微粒子 Z

80 80 50 60 25 70 80 平均粒径 (nm)

粒径比 dy/dz 2.8 2.8 2.4 5.5 9.6 1.6 2.8 不活性微粒子 Y

5 5 10 1 2 15 5 含有量 (wt%)

不活性微粒子 1

25 25 20 30 25 25 25 含有量 (W )

表 10 (続き）

* :実施例 41では中和剤として L i OHを使用、その他の実施例では C a (OH) ₂を使用

実施例 33〜46から明らかなとおり、本発明によれば、表面が平坦でありながら搬送性に優れ、力巻取り性、電磁変換特性の良好な、易搬送性磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムを提供することができる。

以下に記載する実施例 47〜 58および比較例 30〜40において用いた測定法は以下のとおりである。

(30) ポリマー溶液の pH

前記（16) に同じ。

(31) 対数粘度

前記（17) に同じ。

(32) 面積倍率

前記（18) に同じ。

(33) ヤング率

前記（7) に同じ。

(34) 粒子の平均粒径（DP)

前記（1) に同じ。

(35) 層厚み

前記（21) に同じ。

(36) フィルムの表面粗さ（中心線平均粗さ： Ra)

前記（22) に同じ。

(37) 巻姿

前記（25) に同じ。

(38) 耐削れ性

前記（27) に同じ。

(39) カレンダー突上げ

Raの変化率の求め方は前記（28) に同じ。判断基準は次のとおりである。判定 < : Ra変化率が +0. 2以下

〇： R a変化率が + 0. 2を超え + 1. 0以下

X： R a変化率が + 1. 0を超える (40) 磁気テープの製造および特性評価

該芳香族ポリアミドフィルムの塗膜（B層）の表面に、前記（29) (a) に記載したのと同じ磁性塗料を塗布厚 1. 2 mとなるように塗布し、次いで 2， 500ガウスの直流磁場中で配向処理を行い、 120°Cで加熱乾燥後、スーパ一カレンダー処理（線圧300 8 ：111、温度 90°C) を行い、巻取った。この巻取った口一ルを 55 °Cのオーブン中に 3日間放置した。

さらに、磁気記録層の反対側のフィルム表面（塗膜（A層）表面）に、（29) (a) に記載したと同じ組成の塗液をバックコート層として厚さ 0. 8 mに塗布し、乾燥した後裁断し、磁気テープを得た。

テープ特性測定に用いる使用機器、 CZN測定およびドロップァゥト測定は前記（29) (a) に同じ。

実施例 47

パラフエ二レンジァミン 25モル％と、 3, 4 ' ージアミノジフエ二ルェ一テル 25モル％をアミン成分とし、テレフタル酸ジクロライド 50モル％を酸成分として NMP (N—メチルピロリドン）中で重合した。一方、平均粒径 8， 0 00 nmの水酸化カルシウム（井上石灰製）を、ホモジナイザーで NMP中に分散し、サンドグラインダーで平均粒径 2， 30 Onmとなるように細粉ィ匕した後、フィルター（日本ポール製、 HDC I I ；目開き 50 m) で濾過して、平均粒径 1， 500 nmの水酸化カルシウムの NMPスラリーを作成した。このスラリーを上記の重合物に、テレフ夕ル酸ジクロライド 50モル％に対し水酸ィ匕カルシゥムが 50. 3モル％となるように添加し、製膜原液とした。この製膜原液の pHは 4. 7であった。また、このポリマ一の対数粘度は 3. 5であった。

得られた製膜原液を 100°Cに加熱し、 100°Cの口金から、 100°Cの金属ベルト上に流延し、 100°Cで 2分間乾燥後、 120°C、 150°Cと段階的に温度を上げ、合計で 10分間乾燥させて自己保持性を持つ未延伸フィルムを得た。この未延伸フィルムを連続的にベルトから剥離して水槽中に導入し、脱溶媒と脱塩とを行い、その後、 150でで 15分間乾燥した。

得られた未延伸フィルムを低速、高速のロール間でフィルム温度 350°Cで 2 . 5倍に延伸し、続いてステンターに供給して、 4 0 0 °Cで 3 . 0倍に延伸し、得られた二軸延伸フィルムを 4 0 0 °Cで 1分間熱処理し、 3 5でまで冷却し、 A層を、続いて反対面に B層を塗布し、最終厚み 4. 0 x mの芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルム中での中和剤残渣の平均粒径は 3 0 0 nmであった。

A、 B層；表 1 1に示す塗膜組成を含む水性塗液（いずれもバインダー樹脂として下記の共重合ポリエステルの水分散体を使用し、かつ H L B値 1 2 . 6のポリオキシエチレンノニルフエ二ルェ一テルを 5重量％含有。全固形分濃度 4重量％) をキスコート法により塗布した。

共重合ポリエステルの組成：

酸成分

2 , 6—ナフタレンジカルボン酸 5 0モル％

イソフタル酸 4 5モル％

5—ナトリウムスルホイソフタル酸 5モル％

グリコール成分

エチレングリコール 7 0モル％

ビスフエノール Aのプロピレンォキサイド付加物 3 0モル％この共重合ポリエステル樹脂のガラス転移温度は 9 5 °Cであった。

得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 1 1に示す。

実施例 4 8

B層の塗布を省略した以外は実施例 4 7と同様にした。得られたフィルムおよぴ気テープの特性を表 1 1に示す。

実施例 4 9

実施例 4 7と同じ中和剤の水酸化カルシウムを、サンドグラインダ一で平均粒径 4， 8 0 0 nmとなるように細粉化した後、そのまま NMPスラリーを作成した。このスラリーを上記の重合物に，テレフタル酸ジクロライド 5 0モル％に対し水酸化カルシウムが 5 0 . 0 6モル％となるように添加し、製膜原液（ァ）とした（p Hは 5 . 2、ポリマ一の対数粘度は 3 . 5であった)。一方、実施例 47と同じ中和剤の水酸化カルシウムを、サンドグラインダーで平均粒径 2， 000 nmとなるように細粉化した後、フィルタ一（日本ポール製、 HDC I I ；目開き 20 im) で濾過して、平均粒径 600 nmの水酸化カルシゥムの NMPスラリーを作成した。このスラリーを上記の重合物に、テレフ夕ル酸ジクロライド 50モル％に対し水酸化カルシウムが 51. 5モル％となるように添加し、製膜原液（ィ）とした（pHは 4. 8、ポリマ一の対数粘度は 3. 5であった）。

さらに製膜原液（ァ）と（ィ）を同量混合して、最終的な製膜原液とした。それ以外は、実施例 48と同様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。

得られたフィルム中での中和剤残渣の粒径分布は 500 nmおよび 180 nm に極大を持つものであった。その他のフィルム物性および特性について、表 1 1 に示す。

実施例 50

実施例 47と同じ中和剤の水酸化カルシウムを、サンドグラインダーで平均粒径 2， 00 Onmとなるように細粉化した後、フィルター（日本ポール製、 HD C I I ；目開き 20 nm) で濾過して、平均粒径 600 nmの水酸化カルシゥムの NMPスラリーを作成した。このスラリーを上記の重合物に、テレフタル酸ジクロライド 50モル％に対し水酸化カルシウムが 50. 4モル％となるように添加し、製膜原液とした（pHは 4. 8、ポリマーの対数粘度は 3. 5であった）以外は、実施例 48と同様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。

得られたフィルム中での中和剤残渣の平均粒径は 120 nmであった。その他のフィルム物性および特性について、表 11に示す。

実施例 51〜 58

表 1 1に示す塗膜構成とした以外は実施例 47と同様にした。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を実施例 51〜 53については表 1 1に、実施例 5 4〜 58については表 12示す。実施例 47 実施例 48 実施例 49 実施例 50 実施例 51 実施例 52 実施例 53 中和剤種類 Ca(OH)₂ Ca(0H)₂ Ca(0H)₂ Ca(0H)₂

a) 6000

添加 Bijfci径（nm) 1500 1500 600 loUU 1500 1500 b) 700

a) 500

フィルム内粒径 (nm) 300 300 120 300 300 300 b) 180

延伸倍率 2.5 X 3.0 2.5X3.0 2.5X3.0 2.5X3.0 2.5 X3.0 2.5X3.0 2.5 X 3.0 ヤング率 (タテ +ョコ） 2500kg/腿² 2500kg/mm² 2500kg /画² 2500kg/画² 2500kg/mm² 2500kg/mm² 2500kg/mm² 不活性微粒子 X材質シリカシリカシリカシリカシリカ架橋ホ°リスチレン架橋ホ°リスチレン不活性微粒子 X

220 220 220 220 120 330 240 平均粒径 (nm)

不活性微粒子 Y材質シリカシリカシリカシリカシリコーンシリカアクリル不活性微粒子 Y

80 80 80 80 50 60 25 平均粒径 (nm)

粒径比 dx/dy 2.8 2.8 2.8 2.8 2.4 5.5 9.6 不活性微粒子 X

5 5 5 o 5 10 1 2 含有量 (wt%)

不活性微粒子 Y

25 25 25 25 20 30 25 含有量 (wt%)

塗膜 A層厚み (nm) 25 25 25 25 20 40 15 o

表 1 1 (続き）

表 12

実施例 54 実施例 55 実施例 56 実施例 57 実施例 58

中和剤種類 Ca(OH)₂ Ca(OH)₂ Ca(OH)₂ Ca(OH)₂

添加前粒径 (nm) 1500 1500 1500 1500 1500

フィルム内粒径 (nm) 300 300 300 300 300

延伸倍率 2.5X3.0 2.5 X 3.0 2.5X3.0 2.5X3.0 2.5X3.0

ヤング率 (タテ +ョコ） 2500kg/腿² 2500kg/匪² 2500kg/腿² 2500kg/廳 ² 2500kg /龍²

不活性微粒子 X材質シリカシリカ架橋ホ°リスチレン架橋ホ。リスチレンシリコーン

不活性微粒子 X

110 120 330 240 110

平均粒径 (Ml)

不活性微粒子 Y材質シリカシリコーンシリカアクリルシリカ

不活性微粒子 Y

70 50 60 25 70

平均粒径 (Ml) 00

o 粒径比 dx/dy 1.6 2.4 5.5 9.6 1.6

不活性微粒子 X

15 10 1 2 15

含有量 (wt¾)

不活性微粒子 Y

25 20 30 25 25

含有量 (_w ）

30 20 40 15 30

表 1 2 (続き）

実施例 5 4 実施例 5 5 実施例 5 6 実施例 5 7 実施例 5 8

不活性微粒子 z材質架橋ホ。リスチレン — 一 ― ―

不活性微粒子 z

35

平均粒径 (nm)

不活性微粒子 z

15

含有量 (W ）

塗膜 B層厚み (nm) 10

◎ 〇〇〇〇

A層削れ性（ピン） ◎ ◎ 〇〇 ◎

カレンダ -突上げ ◎ ◎ 〇 ◎ ◎

C/N 〇〇〇〇〇

ドロップァゥト〇〇〇〇〇 00

比較例 3 0

製膜時の延伸条件を 1 · 1 X 1 . 2倍とした以外は実施例 4 8と同様にした。得られたフィルムおよび ¾気テープの特性を表 1 3に示す。表 1 3から明らかなようにヤング率が不足しており、電磁変換特性に劣り、走行安定性が不十分であつた。

比較例 3 1

Α層の塗布を省略した以外は実施例 4 8と同様にした。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 1 3に示す。滑り性やエア抜け性が適当でなく、巻取り性に劣るものであった。

比較例 3 2

製膜原液の p Hを 3 . 8に調整した以外は実施例 4 8と同様にした。得られたフィルム中に中和剤残渣と考えられる粒子は見いだせなかった。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 1 3に示す。滑り性やエア抜け性が適当でなく、巻取り性に劣るものであつた。

比較例 3 3

製膜原液の p Hを 4. 7に調整し、また、水酸ィ匕カルシウムの細分ィ匕は行わずに添加した以外は実施例 4 8と同様にした。得られたフィルム中での中和剤残渣の平均粒径は 2， 2 5 0 nmであった。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 1 3に示す。表面性が適当でないため電磁変換特性に劣り、フィルム中粒子に起因するボイドのため耐削れ性が不十分であった。

比較例 3 4

A層の厚みを 2 0 0 nmとした以外は実施例 4 8と同様にした。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 1 3に示す。巻取り性に劣るものであった。

比較例 3 5 , 3 6

A層塗膜中の粒子組成を表 1 3のとおりとした以外は実施例 4 8と同様にした。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 1 3に示す。塗膜中の粒子組成が範囲外であるため滑り性やエア抜け性が適当でなく、巻取り性に劣るものでめった。表 13

比較例 30 比較例 31 比較例 32 比較例 33 比較例 34 比較例 35 比較例 36 中和剤種類 Ca(OH)₂ Ca(0H)₂ Ca (OH) ₂ Ca(0H)₂ Ca(0H)₂ 添加前粒径 (nm) 1500 1500 1500 8000 1500 1500 1500 フィルム内粒径 (nm) 300 300 消失 2250 300 300 300 延伸倍率 1.1X1.2 2.5X3.0 2.5X3.0 2.5X3.0 2.5X3.0 2.5 X 3.0 2.5X3.0 ヤング率 (タテ +ョコ） 1500kg/mm² 2500kg /匪² 2500kg/mm² 2500kg/mm² 2500kg/min² 2500kg /翻² 2500kg/誦 ² 不活性微粒子 X材質シリカシリカシリカシリカシリカ

不活性微粒子 X

220 220 220 220 220 - 平均粒径 (Ml)

不活性微粒子 Y材質シリカシリカシリカシリカ一シリカ不活性微粒子 Y

80 o 80 80 80 80 平均粒径 (nm)

粒径比 dx/dy 2.8 2.8 2.8 2.8

不活性微粒子 X

5 0 5 5 5 5 0 含有量 (_wt%)

不活性微粒子 Y

25 0 25 25 25 0 25 含有量 (wt%)

塗膜 A層厚み（nm) 25 0 25 25 200 25 25

。

o

表 1 3 (続き）

比較例 3 0 比較例 3 1 比較例 3 2 比較例 3 3 比較例 3 4 比較例 3 5 比較例 3 6 不活性微粒子 Z材質 ― ― - ― 一不活性微粒子 Z

平均粒径 (nm)

不活性微粒子 Z

含有量 (wt%)

塗膜 B層厚み（nm)

〇 X X 〇 X X X

A層削れ性 (ピン) 〇〇〇 X 〇〇〇カレンダ -突上げ ◎ ◎ ◎ 〇〇 ◎ ◎

C/N X 〇〇 X 〇〇〇ドロップアウト〇〇〇 X 〇〇〇

比較例 3 7

A層塗膜中の粒子組成を表 1 4のとおりとした以外は実施例 4 8と同様にした。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 1 4に示す。巻取り性、耐削れ性に劣り、ドロップアウト数が多かった。

比較例 3 8

A層塗膜中の粒子組成を表 1 4のとおりとした以外は実施例 4 8と同様にした。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 1 4に示す。塗膜中の粒子組成が範囲外であるため粒子が脱落しやすく、耐削れ性に劣り、それに起因するドロップアウトが多発し、電磁変換特性も不十分なものであった。

比較例 3 9

比較例 3 2において、重合工程において中和反応完了後，前もって NM Pに分散させておいた平均粒径 4 3 0 nmのシリカを重合系に添加して製膜原液とし、 A層の塗工を行わなかった以外は，比較例 3 2と同様にして芳香族ポリアミドフイルムを得た。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 1 4に示す。粒子の凝集が起こり粗大粒子が発生するため適度な表面性が損なわれ、電磁変換特性が不十分であった。また、凝集粒子はポイドに起因する耐削れ性の悪化を引き起こし、ドロップアウトが多発していた。

比較例 4 0

比較例 3 2で用いた製膜原液（フィルム C 1層側）と比較例 3 9で用いた製膜原液（フィルム C 2層側）を、両方の粘度が 1 0 0 で 1， 0 0 0ボイズとなるよう調整し、口金内で、最終フィルムで C 1層は 3 . 0 rn, 2層は1 . 0 z mとなるように 2層に積層し、 C 2層側を金属ベルト側にして流延してフイルムを製膜し、 A層の塗工を行わなかった以外は、実施例 4 8と同様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルムおよび磁気テープの特性を表 1 4に示す。磁性層塗布後のカレンダー工程にて C 2層側粒子の突上げが生じ、 C 1層側表面の平坦性が損なわれ、電磁変換特性が不十分であった。なお、磁気テ一プ特性評価に際し、 C 1層側表面に磁性層を、 C 2層側表面にバックコート層を設けた。表 1 4

*ベース内に粒径 4 3 0 nmシリカ粒子添加 * *共押出ベース磁性層側→粒子なし

バックコ一ト側→シリ力粒子添加表 1 1〜表 1 4から明らかなように、本発明によるフィルムは、磁気テープとしたときにドロップアウトが少なく、優れた電磁変換特性を示すと共に、ベースフィルムの搬送性、巻取り性に優れていること、一方、本発明の要件を満たさないものは、これらの特性を同時に満足することが出来ないことが分かる。

実施例 4 7〜5 8から明らかなとおり、本発明によれば、表面が平坦でありながら搬送性に優れ、かつ巻取り性、電磁変換特性の良好な、高密度磁気記録媒体用ベースフィルム等に適した、易搬送性芳香族ポリアミドフィルムを提供することができる。

Claims

請求の範囲

1. (A) 実質的に不活性微粒子を含有しない芳香族ポリアミドからなりそしてフィルム面上の直交する 2方向のヤング率の和が少なくとも 2, 00 0 kgZmm²である二軸配向芳香族ポリアミドベースフィルムおよび

(B) 平均粒径が 5〜100 nmの不活性微粒子およびバインダー樹脂からなりそして上記ベースフィルムの少なくとも一方のフィルム面上にある被膜層、ここで該不活性微粒子の平均粒径（d_B: nm) と該被膜層の厚さ（t_B： nm) とは下記式 (1)

0. 05≤ t_B/d_B≤0. 8 …… (1)

を満足しかつ該被膜層は被膜層表面上に 1 X 10⁶〜 1 X 10⁸個/ mm ²の密度で表面突起を有する、

からなる、高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。

2. 200でで 120分間熱処理したときその前後での被膜層 Bの表面粗さが下記式（4) および（5)：

0≤ (ARa_B-ARa_B ^H) /ARa_B<0. 4 …… （4)

0. KARa_B ^H<7 …… （5)

ここで、 AR a_Bは熱処理前の被膜層 B表面について原子間力顕微鏡で測定した中心面平均粗さ（nm) でありそして ARa_B ^Hは熱処理後の被膜層 B表面について原子間力顕微鏡で測定した中心面平均粗さ（nm) である、

を同時に満足し、かつ付着異物数が 100個 /100 cm²以下である請求項 1 に記載の高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。

3. 被膜層 B中に含有される不活性微粒子が、体積形状係数が 0. 1〜； r/ 6でありかつ内部より外部が柔軟なコァシェル型構造からなるものであり、コア部の粒径 d_cB (nm)、平均粒径 d_B (nm) および t_B (nm) との間に下記関係：

1. 0 l≤d_B/d_cB≤3. 0

0. 05≤ t _B/d_cB≤0. 8

を同時に満足し、かつ粒子 bのマクロ凝集物による高さが 0. 5 m以上の突起密度が 50個/ cm²以下である請求項 1に記載の高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。

4. 被膜層 Bを形成するバインダ一樹脂が水性樹脂からなる請求項 1〜 3のいずれかに記載の高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。

5. 上記芳香族ポリアミドの主鎖を形成する芳香核のうち、芳香核上の主鎖形成置換基がパラ配向性であるものが 50〜99. 5%を占める請求項 1〜4のいずれかに記載の高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。

6. 芳香族ポリアミドが、酸成分としてテレフタル酸、ァミン成分として p -フエ二レンジァミンおよび 3, 4' —ジアミノジフエ二ルェ一テルを用いてなる高分子化合物である請求項 1〜 ⁵のいずれかに記載の高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。

7. (A) 実質的に不活性微粒子を含有しない芳香族ポリアミドからなりそしてフィルム面上の直交する 2方向のヤング率の和が少なくとも 2, 00 0 k g /mm ²である二軸配向芳香族ポリアミドベースフィルムおよび

(B) 不活性微粒子、界面活性剤およびバインダー樹脂からなりそして上記ベースフィルムの少なくとも一方のフィルム面上にある被膜層、ここで該界面活性剤は HL B値が 10〜 14の第 1界面活性剤と HL B値が 16〜： L 8. 5の第 2界面活性剤からなり、第 1界面活性剤と第 2 界面活性剤との平均 H L B値は 15〜 18であり、そして第 1界面活性剤および第 2界面活性剤それぞれの含有量は、被膜層中に、固形分換算で、 0 . 1〜1 5重量％および 1 0〜4 0重量％である、からなる、高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。

8. 芳香族ポリアミドが、酸成分としてテレフタル酸、ァミン成分として p— フエ二レンジァミンおよび 3， 4 ' ージアミノジフエ二ルェ一テルを用いてなる高分子化合物である請求項 7に記載の高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。

9. 被膜層 Bを形成するバインダー樹脂が水性ポリエステル樹脂、水性ァクリル樹脂、水性ポリウレタン樹脂およびこれらの組合せよりなる群から選ばれる請求項 1または 2に記載の高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。

1 0 · 被膜層 B中の不活性微粒子が平均粒径 1 0〜 5 0 n mの耐熱性ポリマー粒子である請求項 1〜 3のいずれかに記載の高密度磁気記録媒体用芳香族ポリァミドフィルム。

1 1 . 被膜層 B表面の不活性微粒子による突起密度が 2 X 1 0 ⁶〜 2 X 1 0 ⁷ 個 Zmm²である請求項 1〜4のいずれかに記載の高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。

1 2. (A) (A 1 ) 実質的に不活性微粒子を含有しない芳香族ポリアミドからなりそしてフィルム面上の直交する 2方向のヤング率の和が少なくとも 2， 0 0 0 k g/mm²である二軸配向芳香族ポリアミドフィルムおよび

平均粒径 1〜3 0 0 nmの不活性微粒子 0. 0 1〜4 5 重量％とバインダー樹脂からなりそして上記ポリアミドフィルムの片面上にある第 1被膜層からなる積層べ一スフィルム、または、

(A2) 下記式 (2)

M¹ (OH) _x

ここで、 M¹は周期律表 I a族の金属元素または周期律表 H a族の金属元素でありそして Xは 1または 2である、で表わされる化合物または下記式 (3)

M¹ (C0₃) y

ここで M¹の定義は上記に同じでありそして yは 1 2 または 1である、

で表わされる化合物からなりそして平均粒径 5〜1， 500 nm の内部不活性微粒子を含有する芳香族ポリアミドからなりそしてフィルム面上の直交する 2方向のヤング率の和が少なくとも 2 , 000 kgZmm²である二軸配向芳香族ポリアミドベースフィルム、並びに

(B) 平均粒子の異なる 2種の不活性微粒子およびバインダー樹脂からなりそして上記積層べ一スフイルム（A1) の被膜層の存在しなぃフィルム面上に存在するか、または上記二軸配向芳香族ポリァミドベースフィルム（A2) の片面上に存在する第 2被膜層、ここで上記 2種の不活性微粒子は平均粒径 100〜1， O O Onm の第 1不活性微粒子と平均粒径 5〜： L 00 nmの第 2不活性微粒子からなり、第 1不活性微粒子の平均粒径対第 2不活性微粒子の平均粒径の比は 1. 2以上であり、第 1不活性微粒子および第 2 不活性微粒子それぞれの含有量は、第 2被膜層中に、固形分換算で、 0. 01〜40重量％および 1〜70重量％でありかつ両含有量の合計は 75重量％以下であり、そして該第 2被膜層の厚みは 1 nm以上第 2不活性微粒子の平均粒径以下である、

からなる、高密度磁気記録媒体用かつ易搬送性芳香族ポリアミドフィルム。

13. 芳香族ポリアミドの主鎖を形成する芳香核のうち、芳香核上の主鎖形成置換基がパラ配向性であるものが 50〜99. 5%を占める請求項 12に記載の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。

14. 芳香族ポリアミドが、酸成分としてテレフタル酸、ァミン成分として p -フエ二レンジァミンおよひ 3， 4' —ジアミノジフエニルエーテルを用いてなる高分子化合物である請求項 12に記載の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフイルム。

15. 第 2被膜層が含有する 2種の不活性微粒子の平均粒径の比（ d y / d z ) が 1. 3以上である請求項 1〜 3のいずれかに記載の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。

16. 積層ベースフィルム（A1) と第 2被膜層との摩擦係数が 0. 6未満でありかつエア抜け指数が 6， 000秒以下である請求項 1〜4のいずれかに記載の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。

17. 二軸配向芳香族ポリアミドベースフィルム（A2) と第 2被膜層（B) からなりそしてベースフィルム（A2) の第 2被膜層 (B) が存在する表面と反対側の表面上に、平均粒径が：！〜 300 nmの不活性微粒子を 0. 01〜 50重量％含有する塗膜をさらに有する請求項 12に記載の磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。

18. 二軸配向芳香族ポリアミドベースフィルムの上記内部不活性微粒子が、芳香族ポリアミドを酸クロライド法で製造しそして副生した塩化水素を中和するために使用した化学量論的量を超える量の上記式 (2) または（3) の化合物に由来する、請求項 12に記載の芳香族ポリアミドフィルム。

19. 上記第 2被膜層の厚みは 4 n m以上第 2不活性微粒子の平均粒径以下である請求項 12に記載の芳香族ポリアミドフィルム。

20. 上記第 1被膜層の厚みは、第 1被膜層が含有する不活性微粒子の平均粒径の 1ノ 100以上該平均粒径未満である請求項 12に記載の芳香族ポリアミドフィルム。

21. 請求項 1, 7または 12の芳香族ポリアミドフィルムを、高密度磁気記録媒体のベースフィルムとして使用すること。

22. 請求項 1または 7の芳香族ポリアミドフィルムおよび該芳香族ポリアミドフィルムの被膜層 Bの上に設けられた金属薄膜型磁性層からなる高密度磁気記録媒体。

23. 請求項 1または 7の芳香族ポリアミドフィルムおよび該芳香族ポリアミドフィルムの被膜層 Bの上に設けられた重層塗布型磁性層からなる高密度磁気記録媒体。

24. 積層ベースフィルム（A1) と第 2被膜層（B) とからなる請求項 12 の芳香族ポリアミドフィルムおよび

積層べ一スフイルム（A1) の第 1被膜層の上に設けられた金属薄膜型磁性層がらなる高密度磁気記録媒体。

25. 積層べ一スフイルム（A1) と第 2被膜層（B) とからなる請求項 12 の芳香族ポリアミドフィルムおよび

積層べ一スフイルム（A2) の第 1被膜層の上に設けられた重層塗布型磁性層からなる高密度磁気記録媒体。

26. 積層ベースフィルム（A2) と第 2被膜層（B) とからなる請求項 12 の芳香族ポリアミドフィルムおよび

積層べ一スフイルム（A2) の第 2被膜層が存在する面とは反対側の表面上に設けられた金属薄膜型磁性層からなる高密度磁気記録媒体。

27. 積層ベースフィルム（A2) と第 2被膜層 (B) とからなる請求項 12 の芳香族ポリアミドフィルムおよび

積層ベースフィルム（A2) の第 2被膜層が存在する面とは反対側の表面上に設けられた重層塗布型磁性層からなる高密度磁気記録媒体。