JPH1134260A

JPH1134260A - 二軸配向積層全芳香族ポリアミドフィルムおよび磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH1134260A
Application number: JP12483098A
Authority: JP
Inventors: Makoto Iida; 真飯田
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1997-05-20
Filing date: 1998-05-07
Publication date: 1999-02-09

Abstract

(57)【要約】【課題】べースフィルムの厚みが薄くても、巻取り
性、易滑性、ハンドリング性に優れ、電磁変換特性、ド
ロップアウト、磁性層の走行耐久性に優れた高密度磁気
記録媒体のベースフィルムとして有用な全芳香族ポリア
ミド積層フィルムを提供する。【解決の手段】全芳香族ポリアミド層Ａと、全芳香族
ポリアミド層Ａの片面上に積層された全芳香族ポリアミ
ド層Ｂからなる二軸配向積層フィルムであって、全芳香
族ポリアミド層Ｂと接触していない全芳香族ポリアミド
層Ａの表面は、平均高さが２〜８５ｎｍおよび平均幅が
２０〜５００μｍの突起を４〜２５００個／ｍｍ²の密
度で有し、そして全芳香族ポリアミド層Ｂは、不活性微
粒子Ｂを含有し、そして全芳香族ポリアミド層Ａと接触
していない全芳香族ポリアミド層Ｂの表面は、全芳香族
ポリアミド層Ｂと接触していない全芳香族ポリアミド層
Ａの表面よりも粗い、ことを特徴とする二軸配向積層全
芳香族ポリアミドフィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は二軸配向積層全芳香
族ポリアミドフィルムおよびそれをベースフィルムとす
る磁気記録媒体に関する。さらに詳しくは、巻取り性、
易滑性およびハンドリング性に優れ、電磁変換特性、ド
ロップアウト、走行性および耐久性の優れた磁気記録媒
体用ベースフィルムとして有用な二軸配向積層全芳香族
ポリアミドフィルムおよび磁気記録媒体に関する。

【０００２】近年、磁気記録の高密度化の進歩はめざま
しく、例えば、強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパッタリ
ング等の物理沈着法又はメッキ法により非磁性支持体上
に形成せしめた強磁性金属薄膜磁気記録媒体、メタル粉
や酸化鉄粉等の針状磁性粉体を２μm以下に塗布した薄
層塗布型磁気記録媒体の開発実用化が進んでいる。

【０００３】

【従来の技術】前者の例としては、例えば、Ｃｏの蒸着
テープ（特開昭５４―１４７０１０号公報参照）、Ｃｏ
―Ｃｒ合金からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２―１
３４７０６号公報参照）が開示され、また後者の例とし
ては、例えば、極薄層塗布型媒体による高密度磁気記録
（電子通信学会技術報告ＭＲ９４―７８（１９９５―０
２）参照）が知られている。

【０００４】従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有
機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布
してなる磁気記録媒体）は、記録密度が低く、記録波長
も長い為に、磁性層の厚みが２μm程度以上と厚いのに
対して、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーテ
ィング等の薄膜形成手段によって形成される金属薄膜
は、厚みが０．２μm以下と非常に簿く、また極薄層塗
布型媒体の場合も、非磁性下地屑を設けるものの０．１
３μmの厚みの塗布型磁性体層が提案されておリ、非常
に薄くなっている。

【０００５】この為、上記の高密度磁気記録媒体におい
ては、非磁性支持体の表面状態が磁気記録層の表面性に
大きな影響を及ぼし、特に、金属薄膜型の磁気記録媒体
の場合には、非磁性支持体の表面状態がそのまま磁気記
録層表面の凹凸として発現し、それが記録・再生信号の
雑音の原因となる。従って、非磁性支持体の表面は出来
るだけ平滑であることが望ましい。

【０００６】一方、非磁性支持体（ベースフィルム）の
製膜、製膜工程での搬送、傷付き、巻取り、巻出しとい
ったハンドリングの観点からは、フィルム表面が平滑過
ぎると、フィルム―フィルム相互の滑り性が悪化し、ブ
ッキング現象が発生し、ロールに巻いたときの形状（ロ
ールフォーメーション）が悪化し、製品歩留まりの低
下、ひいては、製品の製造コストの上昇を来す。従っ
て、製造コストという観点では非磁性支持体（べースフ
ィルム）の表面は、出来るだけ粗いことが望ましい。

【０００７】この様に、非磁性支持体の表面は、電磁変
換特性という観点からは平滑であることが要求され、ハ
ンドリング性、フィルムコストの観点からは、粗いこと
が要求される。

【０００８】更に、蒸着金属薄膜型磁気記録媒体の場合
には、実際に使用されるときの重大な問題点として、金
属薄膜面の走行性不足がある。磁性体粉末を有機高分子
バインダー中に混入させてベースフィルムに塗布してな
る塗布型磁気記録媒体の場合には、該バインダー中に潤
滑剤を分散させて磁性面の走行性を向上させることが出
来るが、金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、この様な
対策をとることが出来ず、走行性を安定して保つのは非
常に難しく、特に高温高湿条件下の走行性が劣るなどの
欠点を有している。

【０００９】そこで、優れた品質の高密度記録媒体用ベ
ースフィルムを安価に供給する為には、上記二律背反す
る性質を同時に満足することが必要とされる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】この為の具体的方法と
して、フィルム表面に特定の塗剤を塗布し、不連続皮
膜を形成させる方法（特公平３―８０４１０号公報、特
開昭６０―１８０８３９号公報、特開昭６０―１８０８
３８号公報、特開昭６０―１８０８３７号公報、特開昭
５６―１６９３７号公報および特開昭５８―６８２２３
号公報参照）、微細な凸凹を有する連続皮膜を形成す
る方法（特開平５―１９４７７２号公報および特開平５
―２１０８３３号公報参照）、共押し出し等の技術に
より表裏異面化する方法（特開平２―２１４６５７号公
報および特公平７―８０２８２号公報参照）、前記の
＋又は＋の組み合わせによる方法（特開平３―
７３４０９号公報参照）が提案されている。

【００１１】しかしながら、不連続皮膜や微細な凸凹を
有する連続皮膜を形成する方法に於いては、フィルム―
フィルム間の滑り、ブロッキングといった課題は解決で
きているが、べ一スフィルムの製膜、製膜工程での搬
送、傷付き、巻取り、巻出しといったハンドリング点で
は不十分であり、製品歩留まり、製品コストの観点で高
密度大容量磁気記録媒体用ベースフィルムヘの適用には
問題がある。また、従来の共押し出し技術あるいは、共
押出し技術と不連続皮膜あるいは連続皮膜の組み合わせ
技術に於いても、同様の問題を抱えている。更に、金属
薄膜型磁気記録媒体の場合は高温高湿条件下の走行性の
問題を抱えたままである。

【００１２】さらに、金属薄膜型磁気記録媒体の場合に
は、上記したように、金属薄面の走行性を安定して保つ
のは非常に難しく、特に高温高湿条件下の走行性が劣る
などの欠点を有している。さらに、この場合には、繰り
返し使用時の出力低下が塗布型磁気記録媒体と比べて大
きいという欠点も存在する。

【００１３】さらに最近では、体積記録密度の向上を目
的として、磁気記録媒体用として用いられるベースフィ
ルムの一層の薄膜化が要求されてきている。ベース厚み
を薄くすればする程、上記の問題はよリ一層顕著にな
り、さらにベースフィルムのステイフネスが小さくなる
ために磁気へッドとの密着が悪くなり、電磁変換特性が
悪化するという新たな問題が発生する。

【００１４】それ故、本発明の目的は、かかる従来技術
の欠点を解消し、製膜工程での搬送性、対傷付き性、巻
取り性に優れた二軸配向積層全芳香族ポリアミドフィル
ムを提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の他の目的は、上
記の如き優れた特性を示すと同時に、例えば金属薄膜型
磁気記録媒体用として用いた場合にも、高温高湿条件下
で走行性に優れた、安価な高密度磁気記録媒体を提供す
ることにある。

【００１６】本発明のさらに他の目的および利点は以下
の説明から明らかになろう。本発明によれば、本発明の
上記目的および利点は、全芳香族ポリアミド層Ａと、全
芳香族ポリアミド層Ａの片面上に積層された全芳香族ポ
リアミド層Ｂからなる二軸配向積層全芳香族ポリアミド
フィルムであって、全芳香族ポリアミド層Ｂと接触して
いない全芳香族ポリアミド層Ａの表面は、平均高さが２
〜８５ｎｍおよび平均幅が２０〜５００μｍの突起を４
〜２５００個／ｍｍ²の密度で有し、そして全芳香族ポ
リアミド層Ｂは不活性微粒子Ｂを含有しそして全芳香族
ポリアミド層Ａと接触していない全芳香族ポリアミド層
Ｂの表面は全芳香族ポリアミド層Ｂと接触していない全
芳香族ポリアミド層Ａの表面よりも粗いことを特徴とす
る二軸配向積層フィルムによって達成される。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明の二軸配向積層フィルム
（以下積層フィルムあるいは積層全芳香族ポリアミドフ
ィルムということがある）は、上記のとおり、全芳香族
ポリアミド層Ａ（以下樹脂層Ａということがある）と全
芳香族ポリアミド層Ｂ（以下樹脂層Ｂということがあ
る）からなる。樹脂層Ａの片面上に樹脂層Ｂが積層され
ている。樹脂層Ａと樹脂層Ｂを構成する全芳香族ポリア
ミドは同一であっても異なっていてもよい。

【００１８】全芳香族ポリアミドとしては、下記式（―ＨＮ―Ａｒ₁―ＮＨＣＯ―Ａｒ₂―ＣＯ―）（ここで、Ａｒ₁は芳香族ジアミンから２ケの―ＮＨ₂基
を除去した芳香族残基であり、そしてＡｒ₂は芳香族ジ
カルボン酸から２ケの―ＣＯＯＨ基を除去した芳香族残
基である）で表わされる繰返し単位を少なくとも７０モ
ル％含むポリマーが好ましい。

【００１９】Ａｒ₁およびＡｒ₂の芳香族残基としては、
例えば

【００２０】

【化１】

【００２１】およびこれらのベンゼン環の環上の水素の
一部がハロゲン（特に塩素）、ニトロ基、Ｃ₁〜Ｃ₃のア
ルキル基（特にメチル基）、Ｃ₁〜Ｃ₃のアルコキシ基な
どの置換基で置換されているものを好ましいものとして
挙げることができる。

【００２２】上記式中、Ｘは―Ｏ―、―ＣＨ₂―、―Ｓ
Ｏ₂―、―Ｓ―、―ＣＯ―などの二価の原子または基で
ある。

【００２３】全芳香族ポリアミドは、芳香族ジアミンに
由来する基Ａｒ₁を１種または２種以上で含有すること
ができ、また芳香族ジカルボン酸に由来する基Ａｒ₂を
１種または２種以上で含有することができる。

【００２４】上記の如き芳香族残基を持つ芳香族ジアミ
ンおよび芳香族ジカルボン酸はそれ自体よく知られてい
る。

【００２５】全芳香族ポリアミドとしては、芳香族ジア
ミンに由来する芳香族残基Ａｒ₁が少なくとも２種から
なるものが好ましく、とりわけ、Ａｒ₁が

【００２６】

【化２】

【００２７】からなり、そしてＡｒ₂が

【００２８】

【化３】

【００２９】からなるものが特に好ましい。

【００３０】本発明の積層フィルムを薄い磁気テープ用
のベースフィルムとして用いるときには、機械特性、お
よび温度や湿度の如き環境変化に対する寸法安定性を確
保するため、上記の如き例示にあるように、Ａｒ₁およ
びＡｒ₂がパラ体またはその塩素置換体であるのが好ま
しい。

【００３１】本発明における全芳香族ポリアミドは、上
記式（Ａ）で表わされる繰返し単位を、全繰返し単位に
対し、少なくとも８０モル％で含有するのがより好まし
く、少なくとも９０モル％で含有するのがさらに好まし
い。

【００３２】全芳香族ポリアミドを製造する方法として
は、界面重合、溶液重合等を用いることができ、特に溶
液重合法が好ましい。重合溶媒としてはジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ―メチルピロリド
ン、Ｎ―メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシ
ド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、テトラメチル尿
素、１，３―ジメチル―２―イミダゾリジノン等から選
ばれた少なくとも一種を主成分として用いることができ
る。このときポリマーの溶解性を改善する目的で重合の
前、途中、終了時に塩化カルシウム、塩化リチウム等の
無機塩を適当量添加してもよい。また、酸成分とアミン
成分とは実質的に等モルで反応させるが、重合度の制御
等の目的でいずれかの成分を過剰に用いることもでき
る。さらに末端封鎖剤として少量の単官能性の酸成分、
アミン成分を使用してもよい。また、反応によって生成
する塩化水素を捕捉するために重合系に脂肪族や芳香族
のアミンあるいは第４級アンモニウム塩を添加すること
もできる。反応の終了後、必要に応じて塩基性の無機化
合物、例えば水酸化リチウム、水酸化カルシウム、水酸
化マグネシウム、炭酸リチウム、炭酸カルシウム、炭酸
マグネシウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウムなど
を添加し、中和反応を行う。

【００３３】このような全芳香族ポリアミドの製法につ
いては、例えば、特公昭５２―３９７１９号公報、特公
昭５３―３２８３８号公報などに詳しく記載されてい
る。

【００３４】本発明の全芳香族ポリアミドフィルムが優
れた機械的性質を持つためには、製膜前のポリマーの対
数粘度（重合後の芳香族ポリアミドを含むポリマー原液
をアルコール、水などの溶媒の中に投入し、再沈、分離
されたポリマーを濃硫酸中、３０℃で測定した値から求
める）は１．５以上が好ましく、２以上がさらに好まし
い。

【００３５】このようにして得られる全芳香族ポリアミ
ドは、アルコール、水などの溶媒の中に投入し、再沈、
分離させることにより得ることができ、これを再び溶媒
に溶解し、フィルムの成形に用いることができるが、好
ましくは重合反応によって得た溶液をそのまま、もしく
は重合後に適宜濃度を調整して用いることができる。こ
のとき濃度の調整は濃縮もしくは他の溶媒での希釈によ
り行うことができる。かかる溶媒としては、重合溶媒と
して例示したものと同様なものを使用できる。

【００３６】樹脂層Ｂ中および所望により樹脂層Ａ中に
は不活性微粒子が存在する必要があるが、全芳香族ポリ
アミドに粒子を添加する方法としては次の様なものがあ
る。

【００３７】まず、上記の不活性微粒子を、前もって１
０ポイズ以下好ましくは１ポイズ以下の有機溶媒あるい
は全芳香族ポリアミドの希薄低粘度ポリマー溶液中に、
分散させておく。不活性微粒子をそのまま製膜用のポリ
マー溶液に添加すると、大きな凝集体が多数形成される
ので好ましくない。溶媒としては製膜に使用するものが
好ましいが、製膜性に特に悪影響を与えなければ他の溶
媒を使用してもかまわない。また、これら不活性微粒子
の分散液中に少量の分散助剤や水が入っていてもかまわ
ない。なお、分散液中に水の量が多すぎると、分散液中
の微粒子の分散が悪くなる。

【００３８】分散の方法としては、上記溶媒あるいは希
薄ポリマー溶液中に不活性粒子、その他分散助剤などを
入れ、攪拌式分散器、ボールミル、サンドミル、超音波
分散器などで分散させる。特に超音波分散法が好まし
い。

【００３９】このように低粘度液中で分散された不活性
微粒子は上記ポリマー溶液中へ添加混合するが、重合前
の溶媒中へ添加もしくは重合に使用する溶媒全部に分散
されていてもよく、またポリマー溶液の調製工程中で添
加してもよい。さらには製膜時のキャスト直前で添加混
合してもよい。

【００４０】上記のように調製された製膜原液は、いわ
ゆる溶液製膜法によりフィルムとされる。溶液製膜法に
は乾湿式法、乾式法、湿式法などがあるが、乾湿式法、
乾式法が表面性のよいフィルムを得るには好ましい。

【００４１】本発明の積層フィルムにおいて、樹脂層Ｂ
の樹脂層Ａと接触していない表面（以下、樹脂層Ｂの暴
露面という）は、樹脂層Ａの樹脂層Ｂと接触していない
表面（以下、樹脂層Ａの暴露面という）よりも粗い。

【００４２】樹脂層Ａの暴露面は平均高さが２〜８５ｎ
ｍおよび平均幅が２０〜５００μｍの突起を４〜２５０
０個／ｍｍ²の密度で有する。このような突起は、全芳
香族ポリアミド基材中に含有せしめた不活性微粒子に直
接基因して生ずる突起と比較すると高さの割には幅が非
常に大きいなだらかな突起といえよう。

【００４３】突起の高さが２ｎｍ未満、あるいは平均幅
が５００μｍを越えると、製膜工程での搬送、フィルム
の傷付き、製品ロールの巻姿、フィルム―フィルム間の
ブロッキング現象、また金属薄膜型磁気記録媒体のベー
スフィルムとして用いられた場合の高湿条件下のテープ
の走行性が不十分である。

【００４４】一方、突起の高さが８５ｎｍを越えると、
電磁変換特性に支障をきたし、高密度磁気記録媒体のベ
ースフィルムとしては適さない。また突起の平均幅が２
０μｍ未満では突起の高さが２５ｎｍ以下の領域で、製
膜工程での搬送性、テープの走行性が不十分となる。

【００４５】この突起の平均高さは、好ましくは２〜５
０ｎｍ、より好ましくは２〜２５ｎｍである。また、こ
の突起の平均幅は、好ましくは２０〜３００μｍ、より
好ましくは２０〜２００μｍである。さらに、突起密度
は好ましくは９〜１，６００個／ｍｍ²、より好ましく
は１６〜９００個／ｍｍ²である。

【００４６】樹脂層Ａの暴露面に形成される突起は、そ
の形成方法によって何ら制約を受けるものではないが、
本発明においては、樹脂層Ａと接触する樹脂層Ｂが不活
性微粒子（以下、不活性微粒子Ｂという）を含有するの
で、二軸配向せしめる際に、この不活性微粒子Ｂが発揮
する樹脂層Ａの突上げ作用を利用して形成するのが有利
である。

【００４７】この突上げ作用を効率よく発現させるに
は、樹脂層Ａの厚みと不活性微粒子Ｂの平均粒径とが下
記式（１）

【００４８】

【数２】４≦ｔ_A／ｄ_B≦４０ ……（１）（ここで、ｔ_Aは樹脂層Ａの厚み（μm）であり、そして
ｄ_Bは不活性微粒子Ｂの平均粒径（μｍ）である）を満
足するのが好ましい。

【００４９】上記不活性微粒子Ｂは、標準偏差０．５以
下の粒度分布を持つ第１粒子であることができ、また平
均粒径が最も大きい粒子の第１粒子たる第１粒子と他の
粒子との組合せからなる第２粒子であることができる。
上記式（１）において、不活性微粒子Ｂが単一の第１粒
子のみからなるときには、ｄ_Bは第１粒子の平均粒径
（μｍ）であり、そして不活性微粒子Ｂが第２粒子から
なるときは平均粒子の最も大きい第１粒子の平均粒径
（μｍ）である。

【００５０】第２粒子における他の粒子は、それと組合
される第１粒子と異なる第１粒子以外の他の粒子である
ことができる。

【００５１】ｔ_A／ｄ_Bは、好ましくは４〜２５の範囲に
あり、より好ましくは４〜１６の範囲にあり、特に好ま
しくは４〜８の範囲にある。

【００５２】第１粒子の平均粒径または第２粒子中の最
も大きい平均粒径を示す第１粒子の平均粒径は、好まし
くは、０．２〜１μｍ、より好ましくは０．２〜０．８
μｍ、特に好ましくは０．２〜０．６μｍである。ま
た、第１粒子（第２粒子の一部として含有される場合も
含む）の含有量は、好ましくは０．００１〜５．０重量
％、より好ましくは０．００５〜１重量％、特に好まし
くは０．０１〜０．５重量％の範囲にある。

【００５３】前記幅の広い突起は、特に高密度磁気記録
媒体の表面上の波長（１．０μm未満）対比で非常に大
きい幅或は周期を有し、樹脂層Ａが含有していてもよい
不活性微粒子に基づく突起の高さと同等かそれより低い
為に、電磁変換特性に悪影響を与えること無く、樹脂層
Ａの微粒子による突起（存在する場合）と、大きい幅の
突起と、樹脂層Ｂの粗面の三者の相乗効果により、従来
の高密度磁気記録媒体のベースフィルムが抱えていた課
題を一挙に解決するものである。

【００５４】樹脂層Ａは、不活性微粒子を含有すること
ができる。含有するとき、不活性微粒子（以下、不活性
微粒子Ａという）は、平均粒径５〜５００ｎｍおよび体
積形状係数０．１〜π／６を有するのが好ましい。

【００５５】また、不活性微粒子Ａの平均粒径が５ｎｍ
未満では、添加による効果が得難く、一方、平均粒径が
５００ｎｍより大きいと、磁気記録媒体としての電磁変
換特性に支障をきたし、好ましくない。

【００５６】不活性微粒子Ａの平均粒径は好ましくは１
０〜２００ｎｍであり、さらに好ましくは３０〜１２０
ｎｍである。

【００５７】体積形状係数は下記式（２）

【００５８】

【数３】ｆ＝Ｖ／Ｒ³ ……（２）（ここで、ｆは体積形状係数、Ｖは粒子の体積（μ
ｍ³）、Ｒは粒子の平均粒径（μｍ）である）で表わさ
れる。体積形状係数ｆは好ましくは０．３〜π／６、更
に好ましくは０．４〜π／６である。なお、体積形状係
数ｆがπ／６である形状は球（真球）である。それ故、
体積形状係数ｆが０．４〜π／６のものは実質的に球な
いし真球、ラグビーボールのような楕円球を合むもので
あり、これらが特に好ましい。体積形状係数ｆが０．１
未満の粒子、例えば針状粒子では、充分な走行耐久性を
得るのが困難となる。

【００５９】不活性微粒子Ａは、それを含有する樹脂層
Ａの暴露面が突起を好ましくは０．１万〜１０００万個
／ｍｍ²の密度となる量で含有される。突起のより好ま
しい密度は０．７５万〜１００万個／ｍｍ²であり、特
に好ましい密度は１万〜１０万個／ｍｍ²である。

【００６０】この暴露面の突起密度が０．１万個／ｍｍ
²未満では、走行耐久性が悪くなり、一方、この突起密
度が１０００万個／ｍｍ²より大きいと、磁気記録媒体
の電磁変換特性が劣るようになり好ましくない。

【００６１】また、樹脂層Ａは不活性微粒子、特に平均
粒径が５ｎｍよりも大きい外部添加不活性微粒子を実質
的に含有しないことがしばしば望ましい。樹脂層Ａの暴
露面上に磁性層が設けられて、磁気記録媒体を形成する
が、樹脂層Ａが不活性微粒子Ａを含有するときには走行
耐久性を向上させるのに有利であり、他方樹脂層Ａが不
活性微粒子を含有しない場合には、電磁変換特性を向上
させるのに有利である。

【００６２】樹脂層Ａのための不活性微粒子Ａとして
は、例えば（１）耐熱性ポリマー粒子（例えば、架橋シ
リコーン樹脂、架橋ポリスチレン、架橋アクリル樹脂、
メラミン―ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリ
エステル等からなる粒子）、（２）金属酸化物（例え
ば、三二酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ
素、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム
等）、（３）金属の炭酸塩（例えば、炭酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウム等）、（４）金属の硫酸塩（例えば
硫酸カルシウム、硫酸バリウム等）、（５）炭素（例え
ば、カーボンブラック、グラファイト、ダイアモンド
等）、（６）粘土鉱物（例えば、カオリン、クレー、ベ
ントナイト等）、（７）金属の水酸化物（例えば、水酸
化カルシウム等）が好ましく挙げられる。これらのう
ち、特に、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン
粒子、メラミン―ホルムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミ
ドイミド樹脂粒子、三二酸化アルミニウム（アルミ
ナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウ
ム、合成炭酸カルシウム、水酸化カルシウム、硫酸バリ
ウム、ダイアモンドおよびカオリンが好ましく、とりわ
け、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン粒子、
アルミナ、二酸化チタン、二酸化ケイ素、水酸化カルシ
ウムおよび合成炭酸カルシウムが好ましい。

【００６３】また、前記樹脂層Ｂのための不活性微粒子
Ｂとしては、例えば架橋シリコーン樹脂、架橋ポリスチ
レン、架橋スチレン―ジビニルベンゼン共重合体、ポリ
メチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重合
体、架橋メチルメタクリレート共重合体、ポリテトラフ
ルオロエチレン、ボリビニリデンフルオライド、ポリア
クリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等の如き耐熱性
有機高分子からなる微粒子、シリカ、アルミナ、二酸化
チタン、カオリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシ
ウム、長石、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫
酸バリウム等の如き無機化合物からなる微粒子のいずれ
を用いてもよい。

【００６４】特に不活性微粒子Ｂのために、不活性微粒
子Ｂが第２粒子からなる場合の他の粒子として、平均粒
径が０．００１〜０．２μｍの上記微粒子の他に、例え
ばコロイダルシリカ、α、γ、σ、θ等の結晶形態を持
つアルミナを好ましく用いられる。

【００６５】本発明の積層フィルムにおいて、樹脂層Ａ
の暴露面は好ましくは１０ｎｍ以下、より好ましくは５
ｎｍ以下、さらに好ましくは２ｎｍ以下、就中１ｎｍ以
下の中心面平均粗さ^AＷＲａを有する。

【００６６】また、樹脂層Ｂの暴露面は好ましくは２ｎ
ｍ以上１５ｎｍ未満の中心面平均粗さ^BＷＲａを有す
る。

【００６７】^BＷＲａは３〜１０ｎｍがより好ましく、
３〜７ｎｍが特に好ましい。

【００６８】さらに、^BＷＲａは、^AＷＲａよりも好まし
くは１ｎｍ以上、より好ましくは１．５ｎｍ以上大きい
のが有利である。

【００６９】^BＷＲａが１５ｎｍよりも大きいときに
は、樹脂層Ａの暴露面における幅の広い突起が前記高さ
と幅を持つことが困難となり、また^BＷＲａが２ｎｍ未
満では搬送性等のハンドリング性、テープの走行性等の
点で不十分であり、好ましくない。

【００７０】さらに、^BＷＲａが^AＷＲａよりも小さい場
合には、樹脂層Ｂの平坦性の故にベースフイルムの製膜
工程での搬送、傷付き、巻取り、巻出しといったハンド
リング性の悪化をきたし、またフィルム―フィルム相互
の滑り性の悪化によりブロッキング現象が発生し、ロー
ルに巻いたときの形状（ロールフォーメーション）が悪
化し、生産性の悪化、製品歩留りの低下、ひいては製品
の製造コストの上昇をきたすので好ましくない。

【００７１】本発明において、全芳香族ポリアミドは、
上記のとおり、いわゆる溶液製膜法によりフィルムとさ
れる。以下、溶液製膜法として、乾湿式法、乾式法およ
び湿式法に分けて記述する。

【００７２】湿式法で製膜する場合には、製膜用原液を
口金から直接製膜用浴中に押し出すか、または一旦ドラ
ム等の支持体上に押し出し、支持体ごと湿式浴中に導入
する方法を用いるのが好ましい。この浴は一般に水系媒
体からなるものであり、水の他に有機溶媒や無機塩等を
含有していてもよい。湿式浴を通すことでフィルム中に
含有された塩類、有機溶媒等の抽出を行うことができ
る。これら湿式浴全体を通過する時間はフィルムの厚み
にもよるが、１０秒〜３０分間であることが好ましい。
さらにフィルムの長手方向に延伸を行う。次いで乾燥、
横延伸、熱処理を行うが、これらの処理は一般に１００
〜５００℃で、合計で１秒〜３０分間である。

【００７３】乾湿式法で製膜する場合は製膜用原液を口
金からドラム、エンドレスベルト等の支持体上に押し出
して薄膜とし、次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ
薄膜が自己保持性をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温
〜３００℃、６０分以内の範囲である。乾式工程を終え
たフィルムは支持体から剥離されて湿式工程に導入し、
上記の湿式法と同様に脱塩、脱溶媒などを行い、さらに
延伸、乾燥、熱処理を行ってフィルムとする。

【００７４】乾式法のプロセスを採用した場合には、ド
ラム、あるいはエンドレスベルトなどの上で乾燥して自
己保持性をもったフィルムとし、これを支持体から剥離
し、さらに残存溶媒を除去するための乾燥や、延伸、熱
処理を行う。これらの処理は１００〜５００℃でｌ秒〜
３０分間である。

【００７５】以上のようにフィルムはその製膜工程中で
延伸を行うが、延伸倍率は面倍率で０．８〜１０．０
（面倍率とは延伸後のフィルム面積を延伸前のフィルム
の面積で除した値で定義する。１以下はリラックスを意
味する）の範囲内にあることが好ましく、より好ましく
は１．１〜９．０である。

【００７６】本発明の積層フィルムを形成するには、樹
脂層Ａ側に相当する製模原液、樹脂層Ｂ側に相当する製
膜原液の２種類を、公知の方法で、例えば特開昭５６―
１６２６１７号公報記載のように、合流管で積層した
り、口金内で積層して形成することができる。流延は樹
脂層Ｂを支持体面側になるようにした方が、樹脂層Ａの
表面を平滑に維持できる点で好ましい。また、いずれか
一方の製膜原液で一旦自己保持性を有するフィルムを形
成しておき、その上にもう一方の製膜原液を流延して脱
溶媒を行い、積層フィルムとすることもできる。特に合
流管や、口金内で積層する場合は、原液の粘度が１００
〜１００００ポイズになるように調節することが好まし
い。１００ポイズ未満では原液が口金から出る前に２液
が混合しやすくなり、薄物フィルムの場合はごくわずか
な混合でも樹脂層Ａの表面が粗れてくる。逆に１０００
０ポイズを超えると２液の混合は起こりにくくなるが、
メルトフラクチャーが発生しフィルム表面が粗れやすく
なり好ましくない。

【００７７】また、２液の粘度は同じことが好ましい
が、多少の粘度差があってもよく、低粘度側を基準にと
ると高粘度側の粘度は２００％以内なら問題ない。

【００７８】さらに乾式法、乾湿式法を採用する場合、
乾燥工程中で２液が混合することがある。支持体上へキ
ャストされた原液は加熱されると一旦粘度が低下し、そ
の後溶媒の蒸発に伴って再び粘度が上昇するが、粘度が
１０ポイズより下がると２液が混合しやすくなるので、
１０ポイズより粘度か下がらないよう乾燥条件を十分調
節する必要がある。例えば乾燥温度を少なくとも２段階
に分けて上げていく方法を用いるのが好ましい。

【００７９】以上のようにして本発明の積層全芳香族ポ
リアミドフィルムは製造できるが、さらに磁性層などを
付着させる前に前処理として、水分散性あるいは水溶性
ポリマーの水性塗液を塗布し、必要に応じて延伸し、乾
燥させることによって磁性層との接着性を向上させるこ
とも可能てある。また、水性塗液中には上記ポリマー以
外に帯電防止剤、界面活性剤、微細粒子等を目的に応じ
て添加してもよい。

【００８０】なお、積層フィルムの製造に際し、全芳香
族ポリアミドに、所望により上述の不活性粒子以外の添
加剤例えば安定剤、着色剤等を添加含有させることがで
きる。

【００８１】本発明の積層フィルムは、直交する２方
向、例えば長手方向と幅方向、のヤング率の和が２００
０ｋｇ／ｍｍ²以上であることが好ましい。この値が２
０００ｋｇ／ｍｍ²未満であると磁気ヘッドとの接触が
不安定となり易く、電磁変換特性が低下し易くなる。長
手方向と幅方向のヤング率の和はより好ましくは２２０
０ｋｇ／ｍｍ²以上、さらに好ましくは２４００ｋｇ／
ｍｍ²以上、特に好ましくは２５００ｋｇ／ｍｍ²以上で
ある。また上限は４５００ｋｇ／ｍｍ²である。長手方
向、幅方向のそれぞれのヤング率は６００ｋｇ／ｍｍ²
以上が好ましく、さらに好ましくは８００ｋｇ／ｍｍ²
以上、特に好ましくは１０００ｋｇ／ｍｍ²以上であ
る。また上限は３５００ｋｇ／ｍｍ²である。

【００８２】本発明において、積層フィルムの全厚み
は、通常１．０〜２０μm、好ましくは２．０〜１０μ
m、さらに好ましくは３．０〜１０μmである。樹脂層Ａと
樹脂層Ｂの層厚構造は、樹脂層Ａの表面にうねり状突起
が生じるように、樹脂層Ｂに添加する不活性微粒子Ｂの
平均粒径ｄ_bと樹脂層Ａの層厚ｔ_Aとから好適な厚みに設
定される。樹脂層Ａの厚さｔ_Aは０．３μm以上、より好
ましくは０．８μm以上であること、また、樹脂層Ｂの
厚さｔ_Bは不活性微粒子Ｂの上記平均粒径ｄ_bの１／２以
上（μｍ）であることが好ましい。

【００８３】本発明の積層フィルムは、樹脂層Ａの暴露
面上に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティ
ング等の方法により、鉄、コバルト、クロム又はこれら
を主成分とする合金もしくは酸化物より成る強磁性金属
薄膜層を形成し、またその表面に、目的、用途、必要に
応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護
層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、場合によ
り更に樹脂層Ｂの暴露面に公知のバックコート層を設け
ることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ
等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレー
トの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすること
が出来る。この蒸着型電磁記録媒体は、アナログ信号記
録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカ
セットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV
用テープ媒体として極めて有用である。

【００８４】すなわち、本発明によれば、第２に、本発
明の積層フィルムおよびその樹脂層Ａの暴露面上に積層
された磁気記録層からなる磁気記録媒体が同様に提供さ
れる。

【００８５】本発明の積層フィルムは、また、樹脂層Ａ
の暴露面に、鉄又は鉄を主成分とする針状微細磁性粉を
塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等
のバインダーに均一分散して磁性層厚みが１μm以下、
好ましくは０．１〜１μmとなるように塗布し、場合に
より更に樹脂層Ｂの暴露面に公知の方法でバックコート
層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／
Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、
エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗布型磁気記
録媒体とすることが出来る。また、必要に応じて樹脂層
Ａの上に、該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な
酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の
有機バインダー中に分散、塗設することもできる。

【００８６】このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナロ
グ信号記録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ―
ＶＨＳ、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセッ
トコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV、ディ
ジタルβカム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸ等用テープ媒体として
極めて有用である。

【００８７】本発明の積層フィルムは、また、樹脂層Ａ
の暴露面に、酸化鉄又は酸化クロム等の針状微細磁性
粉、又はバリウムフェライト等の板状微細磁性粉を塩化
ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバ
インダーに均一分散し、磁性層厚みが１μm以下、好ま
しくは０．１〜１μmとなるように塗布し、必要により
更に樹脂層Ｂ側の表面に公知の方法でバックコート層を
設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ，
Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラ
ーレートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とす
ることが出来る。また、必要に応じて樹脂層Ａの上に、
該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン
粒子等を合有する非磁性層を磁性層と同様の有機バイン
ダー中に分散、塗設することも出来る。この酸化物塗布
型磁気記録媒体は、ディジタル信号記録用データストリ
ーマー用ＱＩＣ等の高密度酸化物塗布型磁気記録媒体と
して有用である。

【００８８】上述のＷ―ＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信
号記録用ＶＴＲであり、またＤＶＣはディジタルのＨＤ
ＴＶ信号記録用として適用可能なものであり、本発明の
フィルムはこれらＨＤＴＶ対応ＶＴＲ用磁気記録媒体に
極めて有用なベースフィルムということができる。

【００８９】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。尚、本発明において用いた測定法は次の通りであ
る。

【００９０】（１）粒子の平均粒径Ｉ（平均粒径：０．
０６μm以上）島津製作所製ＣＰ―５０型セントリフューガルパーティ
クルサイズアナライザー（ＣｅｎｔｒｉｆｕｇａｌＰ
ａｒｔｃｌｅＳｉｚｅＡｎａｌｉｚｅｒ）を用いて
測定した。得られた遠心沈降曲線を基に算出した各粒径
の粒子とその存在量との積算曲線から、５０重量％に相
当する粒径「等価球直径」を読み取り、この値を上記平
均粒径とした（「Book粒度測定技術」日刊工業新聞社発
行、１９７５年、頁２４２〜２４７参照）。

【００９１】（２）粒子の平均粒径II（平均粒径：０．
０６μm未満）小突起を形成する平均粒径０．０６未満の粒子は、光散
乱法を用いて測定した。即ち、ＮｉｃｏｍｐＩｎｓｔ
ｒｕｍｅｎｔｓＩｎｃ．社製のＮＩＣＯＭＰＭＯＤＥ
Ｌ２７０ＳＵＢＭＩＣＲＯＮＰＡＲＴＩＣＬＥ
ＳＩＺＥＲにより求められた全粒子の５０重量％の点に
ある粒子の「等価球直径」をもって表示した。

【００９２】（３）体積形状係数ｆ走査型電子顕微鏡により用いたサイズに応じた倍率にて
各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置ルーゼックス
５００（日本レギュレーター製）を用い、粒子の平均粒
径及び粒子の体積を算出し、下記式（３）により算出し
た。

【００９３】

【数４】ｆ＝Ｖ／Ｒ³ （３）（式中Ｖは粒子の体積（μm³）、Ｒは粒子の平均粒径
（μm）を表わす）

【００９４】（４）層厚フィルムの全厚はマイクロメーターにてランダムに１０
点測定し、その平均値で示した。層厚は、薄い側の層厚
を以下に述べる方法にて測定し、また厚い側の層厚は全
厚より薄い側の層厚を引き算して求めた。即ち、二次イ
オン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層から深さ
５０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最も高濃度
の粒子に起因する元素と全芳香族ポリアミドの炭素元素
の濃度比（Ｍ⁺／Ｃ⁺）を粒子濃度とし、表面から深さ５
０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行なった。表層では表
面という界面の為に粒子濃度は低く、表面から遠ざかる
につれて粒子濃度は高くなる。本発明の場合、粒子濃度
は一旦安定値１になった後、上昇あるいは減少して安定
値２になる場合と、単調に減少する場合とがある。この
分布曲線をもとに、前者の場合は、（安定値１十安定値
２）／２の粒子濃度を与える深さをもって、また後者の
場合は粒子濃度が安定値１の１／２になる深さ（この深
さは安定値１を与える深さより深い）をもって当該層の
層厚とした。測定条件は以下の通りである。

【００９５】測定装置二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）：Ｐｅｒｋｉｎ
Ｅｌｍｅｒ社製、６３００測定条件一次イオン種：Ｏ₂ ⁺ 一次イオン加速電圧：１２ＫＶ一次イオン電流：２００ｎＡラスター領域：４００μm□ 分析領域：ゲート３０％測定真空度：６．０×１０^-9ＴｏｒｒＥ―ＧＵＮＮ：０．５ＫＶ−３．０Ａ

【００９６】尚、表層から５０００ｎｍの範囲に最も多
く含有する粒子が架橋シリコーン樹脂以外の有機高分子
粒子の場合はＳＩＭＳでは測定が難しいので、表面から
エッチングしながらＦＴ―ＩＲ（フーリエトランスフォ
ーム赤外分光法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線高電子
分光法）等で上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚を
求めた。

【００９７】（５）フィルム表面の平均高さ２〜８５ｎ
ｍ、平均幅２０〜５００μmの突起ＷＹＫＯ社製非接触三次元粗さ計（ＴＯＰＯ―３Ｄ）を
用いて、この突起の大きさ、高さに応じ、測定倍率４０
倍、測定面積２３４μｍ×２４０μｍ（０．０５６ｍｍ
²）、または測定倍率１０倍、測定面積９５６μｍ×９
８０μｍ（０．９３７ｍｍ²）にて測定し、得られた三
次元チャートより、突起の高さ、平均幅を読み取った。
尚、測定はフィルムの長手方向に対し５〜１０度の方向
に切り出したサンプルにて行った。

【００９８】（６）非接触３次元中心面平均粗さ（ＷＲ
ａ）ＷＹＫＯ社製非接触三次元粗さ計（ＴＯＰＯ一３Ｄ）を
用いて、測定倍率４０倍、測定面積２４２μｍ×２３９
μｍ（０．０５８ｍｍ²）の条件にて測定を行い、同粗
さ計内蔵ソフトによる表面解析より、ＷＲａは下記式
（４）により計算されアウトプットされた値を用いた。

【００９９】

【数５】

【０１００】また、Ｚ_jkは測定方向（２４２μm）、そ
れと直行する方向（２３９μm）をそれぞれＭ分割、Ｎ
分割した時の各方向のｊ番目、ｋ番目の位置に於ける３
次元粗さチャート上の高さで定義される。

【０１０１】（７）ヤング率東洋ボールドウィン社製の引っ張り試験機テンシロンを
用いて、温度２０℃、湿度５０％に調節された室内に於
いて、長さ３００ｍｍ、幅１２．７ｍｍの試料フィルム
を、１０％／分のひずみ速度で引っ張り、引っ張り応力
―ひずみ曲線の初めの直線部分を用いて下記式（５）に
よって計算した。

【０１０２】

【数６】Ｅ＝Δσ／Δε ……（５）ここで、Ｅはヤング率（ｋｇ／ｍｍ²）、Δσは直線上
の２点間の元の平均断面積による応力差、Δεは同じ２
点間のひずみ差である。

【０１０３】（８）巻き取り性スリット時の巻き取り条件を最適化後、幅５６０ｍｍ×
長さ９０００ｍのサイズで、１０ロールのスリットを行
い、１週間放置後の、フィルムシワの発生状況より製品
化可能ロール本数より、以下の基準にて巻き取り性の評
価をおこなった。

【０１０４】（９）磁気テープの製造及び特性評価二軸配向積層フィルムの最外層のＡ層または皮膜層Ｃの
表面に、真空蒸着法により、コバルト１０％の強磁性薄
膜を０．２μｍの厚みになる様に２層（各層厚約０．１
μｍ）形成し、その表面にダイアモンドライクカーボン
（ＤＬＣ）膜、更に含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次
段け、更に樹脂層Ｂ側の表面に公知方法でバックコート
層を設けた。その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８
ｍｍビデオカセットにローディングした。次いで、以下
の市販の機器を用いてテープの特性を測定した。

【０１０５】使用機器：８ｍｍビデオテープレコーダ
ソニー（株）製ＥＤＶ―６０００Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイズメーターＣ／Ｎ測定記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を
記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの
値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用
蒸着テープのＣ／Ｎを０ｄＢとし、相対値で表わした。

【０１０６】走行耐久性上記した蒸着テープに４．２ＭＨｚの映像信号を記録
し、２５℃、５０％ＲＨ条件下でテープ走行速度４１ｍ
／分、巻き戻し速度４１ｍ／分の走行を１回とし、合計
２００回繰り返した後の出力変動を調べる。この出力変
動から次の基準で判定する。 ◎：２００回繰り返し後の出力変動が０ｄＢ〜−０．３
ｄＢ以上 ○：２００回繰り返し後の出力変動が−０．３ｄＢ未満
〜−０．６ｄＢ以上 ×：２００回繰り返し後の出力変動が−０．６ｄＢ未満

【０１０７】（１０）フィルムのすり傷スリット後の最終製品ロールよリフィルムをサンプリン
グし、平坦面側表面を光学顕微鏡１００倍にて観察し、
２０視野中のすり傷の個数をカウントした。判定基準は
以下の通りである。

【０１０８】（１１）突起頻度フィルム表面の突起頻度の測定は走査型電子顕微鏡によ
り行う。すなわち、積層フィルムの樹脂層Ａの表面写真
を倍率５０００倍にてランダムに２５枚撮影し、表面突
起頻度をカウントし、その平均値より１ｍｍ²当たりの
突起数に換算し、この値を樹脂層Ａ表面の突起頻度とす
る。

【０１０９】［実施例１］パラフェニレンジアミン２５
モル％と３，４′―ジアミノジフェニルエーテル２５モ
ル％をアミン成分とし、テレフタル酸クロライド５０モ
ル％を酸成分としてＮＭＰ（Ｎ―メチルピロリドン）中
で重合し、水酸化カルシウムで中和してポリマー溶液を
得た（対数粘度３．５）。これを２分割し、一方（樹脂
層Ａ用）には、前もってＮＭＰ中に分散させておいた平
均粒径５０ｎｍ、体積形状係数０．５の球状シリカ粒子
を添加した。他方（樹脂層Ｂ用）には、同様にして平均
粒径０．５μｍの球状シリカ粒子と平均粒径０．１μｍ
のθ―アルミナ粒子をそれぞれの濃度が０．０５重量
％、０．２重量％となるように添加した。更に両方のポ
リマー溶液を１００℃で１０００ポイズとなるように調
整して製膜原液とした。

【０１１０】これらの原液を口金内で、最終フィルムで
樹脂層Ａは３．５μｍ、樹脂層Ｂは０．５μｍになるよ
うに２層に積層し、さらに１００℃の金属ベルト上に流
延し、１００℃で２分乾燥後、１２０℃、１５０℃と段
階的に温度を上げ、合計で１０分間乾燥させて自己保持
性をもつ末延伸フィルムを得た。なお、樹脂層Ｂをベル
ト側にして製膜した。この未延伸フィルムを連続的にベ
ルトから剥離して水槽中に導入し、脱溶媒と脱塩を行っ
た。

【０１１１】得られた末延伸フィルムを低速、高速のロ
ール間でフィルム温度２５０℃で２．７倍に延伸し、続
いてステンターに供給して、３５０℃で２．７倍に延伸
し、得られた二軸延伸フィルムを３８０℃でｌ分間熱処
理し、最終厚み４．０μｍのポリアミド積層フィルムを
得た。

【０１１２】得られた積層フィルムおよびこのフィルム
を用いた強磁性薄膜蒸着磁気テープの特性を表２に示
す。

【０１１３】［実施例２〜４および比較例１〜２］樹脂
層Ａおよび樹脂層Ｂに添加する粒子と厚み構成を表１に
示すように変更し、また、延伸倍率配分を変更する以外
は実施例１と同様にして積層全芳香族ポリアミドフィル
ムを得た。なお、延伸倍率は実施例２が長手方向２．１
倍、幅方向２．５倍、実施例３が長手方向３．０倍、幅
方向ｌ．７倍、実施例４が長手方向１．８倍、幅方向
２．９倍、比較例１が両方向とも２．ｌ倍、比較例２が
両方向とも２．５倍であった。

【０１１４】得られたフィルムおよびこれらのフィルム
を用いた強磁性薄膜蒸着磁気テープの特性を表２に示
す。

【０１１５】［実施例５］アミン成分の構成比率とＢ層
に添加する粒子を表ｌに示すように変更し、さらに延伸
倍率を長手方向２．０倍、幅方向２．７倍とする以外は
実施例ｌと同様にしてポリアミド積層フィルムを得た。
このフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸
着磁気テープの特性を表２に示す。

【０１１６】［比較例３］２，６―ナフタレンジカルボ
ン酸ジメチルとエチレングリコールとを、エステル交換
触媒として酢酸マンガンを、重合触媒として三酸化アン
チモンを、安定剤として亜燐酸を、さらに滑剤として表
１に示す不活性粒子を添加して常法により重合し、固有
粘度（オルソクロロフェノール、３５℃）０．６０のＡ
層用およびＢ層用のポリエチレンナフタレート（ＰＥ
Ｎ）を得た（それぞれ樹脂Ａ、樹脂Ｂ）。これらをそれ
ぞれ１７０℃で６時間乾燥後、２台の押出機に供給し、
溶融温度３１０℃にて溶融し、マルチマニホールド型共
押出しダイを用いて、樹脂層Ａの片面に樹脂層Ｂを積層
させ、急冷して厚さ１００μｍの未延伸積層フィルムを
得た。

【０１１７】得られた未延伸積層フィルムを予熱し、さ
らに低速、高速のロール間でフィルム温度１３０℃にて
５．０倍に延伸し、急冷し、続いてステンターに供給
し、１４０℃にて幅方向に５．０倍に延伸した。得られ
た二軸延伸積層フィルムを２１０℃の熱風で４秒間熱固
定し、厚み４．０μｍの二軸配向積層ポリエステルフィ
ルムを得た。各層の厚みについては、２台の押出機の吐
出量により調整した。

【０１１８】この積層フィルムおよびこれを用いた強磁
性薄膜蒸着磁気テープの特性を表２に示す。

【０１１９】

【表１】

【０１２０】

【表２】

【０１２１】［実施例６］パラフェニレンジアミン２５
モル％と３，４′―ジアミノジフェニルエーテル２５モ
ル％をアミン成分とし、テレフタル酸クロライト５０モ
ル％を酸成分としてＮＭＰ（Ｎ―メチルピロリドン）中
で重合し、水酸化カルシウムで中和してポリマー溶液を
得た（単数粘度３．５）。これを２分割し、一方（樹脂
層Ｂ用）には、前もってＮＭＰ中に分散させておいた平
均粒径０．４μｍの球状シリカ粒子を濃度が０．０５重
量％となるように添加した。さらに両方のポリマー溶液
を１００℃で１００ポイズとなるように調整して製膜原
液とした。

【０１２２】これらの原液を口金内で、最終フィルムで
樹脂層Ａは３．０μｍ、樹脂層Ｂは１．０μｍになるよ
うに２層に積層し、さらに１００℃の金属ベルト上に流
延し、１００℃で２分乾燥後、１２０℃、１５０℃と段
階的に温度を上げ、合計で１０分間乾燥させて自己保持
性をもつ未延伸フィルムを得た。なお、樹脂層Ｂをベル
ト側にして製膜した。この末延伸フィルムを連続的にベ
ルトから剥離して水槽中に導入し、脱溶媒と脱塩を行っ
た。

【０１２３】得られた未延伸フィルムを低速、高速のロ
ール間でフィルム温度２５０℃で２．０倍に延伸し、続
いてステンターに供給して、３５０℃で２．７倍に延伸
し、得られた二軸延伸フィルムを３８０℃で１分間熱処
理し、最終厚み４．０μｍのポリアミド積層フィルムを
得た。

【０１２４】得られた積層フィルムおよびこのフィルム
を用いた強磁性薄膜蒸着磁気テープの特性を表４に示
す。

【０１２５】［実施例７〜９および比較例４〜６］樹脂
層Ａ、樹脂層Ｂに添加する粒子と厚み構成を表３に示す
ように変更し、また、延伸倍率配分を変更する以外は実
施例６と同様にして二軸延伸積層フィルムを得た（比較
例６は単層フィルム）。なお、延伸倍率は実施例７と比
較例６が長手方向２．５倍、幅方向２．５倍、実施例８
が長手方向２．３倍、幅方向２．９倍、実施例９が長手
方向１．７倍、幅方向３．４倍、比較例４、５が長手方
向２．０倍、幅方向２．７倍であった。得られたフィル
ムおよびこれらのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着磁気
テープの特性を表４に示す。

【０１２６】［実施例１０］アミン成分の構成比率と樹
脂層Ｂに添加する粒子を表３に示すように変更し、さら
に延伸倍率を長手方向２．９倍、幅方向１．６倍とする
以外は実施例６と同様にしてポリアミド積層フィルムを
得た。このフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性
薄膜蒸着磁気テープの特性を表４に示す。

【０１２７】［比較例７］ジメチルテレフタレートとエ
チレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マ
ンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤
として亜燐酸を、さらに滑剤として表３に示す不活性粒
子を添加して常法により重合し、固有粘度（オルソクロ
ロフェノール、３５℃）０．６０の樹脂層Ａ用および樹
脂層Ｂ用のポリエチレンテレフタレート（PET、それぞ
れ樹脂Ａ、樹脂Ｂ）を得た。選られた樹脂Ａ、樹脂Ｂを
それぞれ１７０℃で３時間乾燥後、２台の押出機に供給
し、溶融温度３００℃にて溶融し、マルチマニホールド
型共押出しダイを用いて、樹脂層Ａの片面に樹脂層Ｂを
積層させ、急冷して厚さ５６μｍの未延伸積層フィルム
を得た。

【０１２８】得られた未延伸積層フィルムを予熱し、さ
らに低速、高速のロール間でフィルム温度８５℃にて
３．５倍に延伸し、急冷し、続いてステンターに供給
し、１０５℃にて幅方向に４．０倍に延伸した。得られ
た二軸延伸積層フィルムを２１０℃の熱風で４秒間熱固
定し、厚み４．０μｍの二軸配向積層ポリエステルフィ
ルムを得た。各層の厚みについては、２台の押出機の吐
出量により調整した。

【０１２９】この積層フィルムおよびこれを用いた強磁
性薄膜蒸着磁気テープの特性を表４に示す。

【０１３０】

【表３】

【０１３１】

【表４】

【０１３２】表２および表４から明らかなように、本発
明による積層フィルムは、フィルム厚みが非常に薄くて
も、高いヤング率と、電磁変換特性に悪影響を与えない
程度の、高さが低く幅の大きいうねり状突起を併せもつ
効果によって、得られる磁気テープが優れた電磁変換特
性を示すと同時に、走行性、耐すり傷性に優れ、さら
に、極めて優れたべースフィルムとしての巻取り性とを
兼ね備えていることが分かる。一方、従来の技術は、こ
れら４つの要件を同時に満足できていない。

【０１３３】

【発明の効果】本発明によれば、べースフィルムの厚み
が薄くても、巻取り性、易滑性、ハンドリング性に優
れ、特に、電磁変換特性、ドロップアウト、磁性層の走
行耐久性に優れた高密度磁気記録媒体のベースフィルム
とし有用な全芳香族ポリアミド積層フィルムを提供する
ことができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＢ２９Ｌ 9:00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】全芳香族ポリアミド層Ａと、全芳香族ポ
リアミド層Ａの片面上に積層された全芳香族ポリアミド
層Ｂからなる二軸配向積層フィルムであって、全芳香族
ポリアミド層Ｂと接触していない全芳香族ポリアミド層
Ａの表面は、平均高さが２〜８５ｎｍおよび平均幅が２
０〜５００μｍの突起を４〜２５００個／ｍｍ²の密度
で有し、そして全芳香族ポリアミド層Ｂは、不活性微粒
子Ｂを含有し、そして全芳香族ポリアミド層Ａと接触し
ていない全芳香族ポリアミド層Ｂの表面は、全芳香族ポ
リアミド層Ｂと接触していない全芳香族ポリアミド層Ａ
の表面よりも粗い、ことを特徴とする二軸配向積層全芳
香族ポリアミドフィルム。
【請求項２】全芳香族ポリアミド層Ａが平均粒径５〜
５００ｎｍおよび体積形状係数０．１〜π／６の不活性
微粒子Ａを含有する請求項１の二軸配向積層全芳香族ポ
リアミドフィルム。
【請求項３】全芳香族ポリアミド層Ａの表面が不活性
微粒子Ａに由来する突起を０．１万〜１０００万個／ｍ
ｍ²の密度で有する請求項１又は２の二軸配向積層全芳
香族ポリアミドフィルム。
【請求項４】全芳香族ポリアミド層Ａが平均粒径５ｎ
ｍを超える外部添加不活性微粒子を実質的に含有しない
請求項１の二軸配向積層全芳香族ポリアミドフィルム。
【請求項５】全芳香族ポリアミド層Ｂが含有する不活
性微粒子Ｂが（ｉ）相対標準差０．５以下の粒度分布を
持つ第１粒子または（ii）平均粒径が最も大きい粒子が
第１粒子である、第１粒子と他の粒子との組合せからな
る第２粒子、からなり、そして全芳香族ポリアミド層Ａ
の厚みと該不活性微粒子Ｂの平均粒径とが下記式
（１）：【数１】４≦ｔ_A／ｄ_B≦４０ ……（１）（ここで、ｔ_Aは全芳香族ポリアミド層Ａの厚み（μm）
であり、そしてｄ_Bは不活性微粒子Ｂが第１粒子のみか
らなるときは第１粒子の平均粒径（μｍ）であり、また
不活性微粒子Ｂが第２粒子からなるときはそれを構成す
る第１粒子の平均粒径（μｍ）である）の関係を満足す
る請求項１の二軸配向積層全芳香族ポリアミドフィル
ム。
【請求項６】第１粒子の平均粒径または第２粒子を構
成する第１粒子の平均粒径が０．２〜１μｍである請求
項5の二軸配向積層全芳香族ポリアミドフィルム。
【請求項７】第１粒子又は第２粒子の含有量が０．０
０１〜５．０重量％の範囲である請求項5または６の二
軸配向積層全芳香族ポリアミドフィルム。
【請求項８】全芳香族ポリアミド層Ａの全芳香族ポリ
アミド層Ｂと接触していない表面の中心面平均粗さ^AＷ
Ｒａが１０ｎｍ以下である請求項１の二軸配向積層全芳
香族ポリアミドフィルム。
【請求項９】全芳香族ポリアミド層Ｂの全芳香族ポリ
アミド層Ａと接触していない表面の中心面平均粗さ^BＷ
Ｒａが２ｎｍ以上１５ｎｍ未満である請求項１の二軸配
向積層全芳香族ポリアミドフィルム。
【請求項１０】全芳香族ポリアミド層Ａの厚みが少な
くとも０．３μｍであり、そして全芳香族ポリアミド層
Ｂの厚みが、それに含有される不活性微粒子Ｂの平均粒
径ｄ_B（ｄ_Bの定義は上記に同じ）の少なくとも１／２で
ある請求項１の二軸配向積層全芳香族ポリアミドフィル
ム。
【請求項１１】１〜２０μmの厚みを有する請求項１
の二軸配向積層全芳香族ポリアミドフィルム。
【請求項１２】全芳香族ポリアミド層Ａおよび全芳香
族ポリアミド層Ｂを構成する全芳香族ポリアミドが実質
的に同一である、請求項１の二軸配向積層全芳香族ポリ
アミドフィルム。
【請求項１３】全芳香族ポリアミドが下記式（―ＨＮ―Ａｒ₁―ＮＨＣＯ―Ａｒ₂―ＣＯ―）（ここで、Ａｒ₁は芳香族ジアミンから２ケの―ＮＨ₂基
を除去した芳香族残基であり、そしてＡｒ₂は芳香族ジ
カルボン酸から２ケの―ＣＯＯＨ基を除去した芳香族残
基である）で表わされる繰返し単位を少なくとも７０モ
ル％含むポリマーである、請求項１の二軸配向積層全芳
香族ポリアミドフィルム。
【請求項１４】全芳香族ポリアミドを構成する芳香族
ジアミンが少なくとも２種からなる請求項１３の二軸配
向積層全芳香族ポリアミドフィルム。
【請求項１５】全芳香族ポリアミドがテレフタル酸を
芳香族ジカルボン酸成分とし、ｐ―フェニレンジアミン
および３，４′―ジアミノジフェニルエーテルを芳香族
ジアミン成分とする請求項１の二軸配向積層全芳香族ポ
リアミドフィルム。
【請求項１６】全芳香族ポリアミドが溶液重合法によ
り得られたものである請求項１の二軸配向積層全芳香族
ポリアミドフィルム。
【請求項１７】フィルム面に、ヤング率の和が少なく
とも２，０００ｋｇ／ｍｍ²である直交する２方向が存
在する、請求項１の二軸配向積層全芳香族ポリアミドフ
ィルム。
【請求項１８】請求項１の二軸配向積層全芳香族ポリ
アミドフィルム、および全芳香族ポリアミド層Ａの全芳
香族ポリアミド層Ｂと接触していないその面上に積層さ
れた磁気記録層からなる磁気記録媒体。
【請求項１９】磁気記録層が金属薄膜層である請求項
１８の磁気記録媒体。
【請求項２０】磁気記録層の厚みが高々１μｍである
塗布型磁気記録層である請求項１８の磁気記録媒体。
【請求項２１】磁気記録層がデジタル信号記録型であ
る請求項１８の磁気記録媒体。
【請求項２２】磁気記録媒体用ベースフィルムとして
使用する請求項１の二軸配向積層全芳香族ポリアミドフ
ィルム。