JPH09248879A - 積層フイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 巻取り性、易滑性、ハンドリング性に優れ、
かつ電磁変換特性、ドロップアウト、磁性層面の走行耐
久性に優れた磁気記録媒体のベースフイルムとして有用
な積層フイルムを提供する。 【解決手段】 熱可塑性樹脂層Ａの一方の表面に不活性
粒子Ｂを含有する熱可塑性樹脂層Ｂが積層され、そして
該熱可塑性樹脂層Ａのもう一方の表面に被覆層Ｃが塗設
されている積層フイルムであって、熱可塑性樹脂層Ｂの
層厚みｔ_B （ｎｍ）と不活性粒子Ｂの中で最も大きい粒
子の平均粒径ｄ_B （μｍ）及びその含有量Ｃ_B （重量
％）とが下記式（１）を満足し、かつ被覆層Ｃの、原子
間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて測定した中心面十点平均粗さ
Ｒｚ（ｎｍ）と中心面平均粗さＲａ（ｎｍ）とが下記式
（２）を満足することを特徴とする積層フイルム。 ０．１≦（ｄ_B ）³ ×Ｃ_B ×ｔ_B ≦１０ ……（１） ８≦Ｒｚ／Ｒａ≦４０ ……（２）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は積層フイルムに関
し、更に詳しくは巻取り性、易滑性、ハンドリング性等
に優れ、かつ電磁変換特性、ドロップアウト、磁性層面
の走行耐久性に優れた磁気記録媒体のベースフイルムと
して有用な積層フイルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録媒体の高密度化の進歩は
めざましく、例えば、強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパ
ッタリング等の物理沈着法又はメッキ法により非磁性支
持体上に形成せしめた金属薄膜型磁気記録媒体、またメ
タル粉や酸化鉄粉等の針状磁性粉体を２μｍ以下に塗布
した薄層塗布型磁気記録媒体の開発実用化が進められて
いる。前者の例としては、例えば、Ｃｏの蒸着テープ
（特開昭５４―１４７０１０号公報）、Ｃｏ―Ｃｒ合金
からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２―１３４７０６
号公報）が知られ、また後者の例としては、例えば、極
薄層塗布型磁気記録媒体による高密度磁気記録（電子通
信学会技術報告ＭＲ９４―７８（１９９５―０２））等
が知られている。

【０００３】従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有
機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布
してなる磁気記録媒体）は記録密度が低く、記録波長も
長い為に、磁性層の厚みが２μｍ程度以上と厚いのに対
して、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティ
ング等の薄膜形成手段によって形成される強磁性金属薄
膜は厚みが０．２μｍ以下と非常に薄く、また極薄層塗
布型の場合も、非磁性下地層を設けるものの、０．１３
μｍの厚みのものが提案され、非常に薄くなっている。

【０００４】この為、上記の高密度磁気記録媒体におい
ては、非磁性支持体（ベースフイルム）の表面状態が磁
性層の表面性に大きな影響を及ぼし、特に金属薄膜型の
磁気記録媒体の場合には、非磁性支持体の表面状態がそ
のまま磁性層（磁気記録層）表面の凹凸として発現し、
それが記録・再生信号の雑音の原因となる。従って、非
磁性支持体の表面はできるだけ平滑であることが望まし
い。

【０００５】一方、非磁性支持体（ベースフイルム）の
製膜、加工工程での搬送、傷付き、巻取り、巻出しとい
ったハンドリングの観点からは、フイルム表面が平滑過
ぎると、フイルム―フイルム相互の滑り性が悪化し、ブ
ッキング現象が発生し、ロールに巻いたときの形状（ロ
ールフォーメーション）が悪化し、製品歩留りの低下、
ひいては製品の製造コストの上昇を来す。従って、製造
コストという観点では非磁性支持体（ベースフイルム）
の表面は出来るだけ粗いことが望ましい。

【０００６】このように、非磁性支持体の表面は、電磁
変換特性の観点からは平滑であることが要求され、ハン
ドリング性、フイルムコストの観点からは粗いことが要
求される。

【０００７】さらに金属薄膜型磁気記録媒体の場合に
は、実際に使用される時の重大な問題点として、金属薄
膜面の走行性がある。磁性体粉末を有機高分子バンダー
中に混入させてベースフイルムに塗布してなる塗布型磁
気記録媒体の場合には、該バインダー中に潤滑剤を分散
させて磁性層面の走行性を向上させることが出来るが、
金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、この様な対策をと
ることができず、走行性を安定して保つのは非常に難し
く、特に高温高湿条件下の走行性が劣るなどの欠点を有
している。さらにこの場合には、繰り返し使用時の出力
値下が塗布型磁気記録媒体と比べて大きいという欠点も
存在する。

【０００８】そこで、優れた品質の高密度磁気記録媒体
を製造するには、上記二律背反する性質を同時に満足さ
せることが必要とされる。

【０００９】この為の具体的方法として、フイルム表
面に特定の塗剤を塗布し、不連続皮膜を形成させる方法
（特公平３―８０４１０号、特開昭６０―１８０８３９
号、特開昭６０―１８０８３８号、特開昭６０―１８０
８３７号、特開昭５６―１６９３７号、特開昭５８―６
８２２３号等）、フイルム表面に微細凹凸を有する連
続皮膜を塗布形成する方法（特開平５―１９４７７２
号、特開平５―２１０８３３号）、共押出し法等の技
術により表裏異面化する方法（特開平２―２１４６５７
号、特公平７―８０２８２号）、又はととの組合
せによる方法（特開平３―７３４０９号）等が提案され
ている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
不連続皮膜や微細凹凸を有する連続皮膜を塗布形成する
方法においては、フイルム―フイルム間の滑り、ブロッ
キングといった課題は解決できているが、一方ベースフ
イルムの製膜工程で各種ガイドロールとの接触によって
該皮膜が削り取られ、ベースフイルム上に付着堆積して
突起となり、磁気テープとしたときにドロップアウトの
原因物となるという新たな問題が発生してしまう。

【００１１】また従来の共押出し技術或いは、共押出し
技術と不連続皮膜或いは連続皮膜の組合わせ技術におい
ても、同様の問題を抱えている上に、粗い面の突起が平
坦な面に転写して、平坦なはずの面を粗くしてしまうと
いう問題を生起させてしまう。この現象は、高い巻き圧
力で巻かれたフイルムロールの内層側で特に顕著とな
る。その結果として、同一のベースフイルムロールを用
いて同処方で磁気テープを製造した場合でもロール表層
の部分を使用したテープと、ロール芯層を使用したテー
プでは、電磁変換特性に大きな違いができることとなっ
てしまう。

【００１２】さらに、蒸着金属薄膜型磁気記録媒体の場
合は、走行耐久性の問題を抱えたままである。

【００１３】本発明の目的、かかる従来技術の欠点を解
消し、製膜工程での削れ性、巻取り性に優れ、ベースフ
イルムロールの表層部分と芯層部分で品質に差がなく、
蒸着金属薄膜型磁気記録媒体として用いられた場合には
走行耐久性に優れた、積層フイルムを提供することにあ
る。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、かかる目的を
達成するために、以下の構成をとる。

【００１５】熱可塑性樹脂層Ａの一方の表面に不活性粒
子Ｂを含有する熱可塑性樹脂層Ｂが積層され、そして該
熱可塑性樹脂層Ａのもう一方の表面に被覆層Ｃが塗設さ
れている積層フイルムであって、熱可塑性樹脂層Ｂの層
厚みｔ_B （ｎｍ）と不活性粒子Ｂの中で最も大きい粒子
の平均粒径ｄ_B （μｍ）及びその含有量Ｃ_B （重量％）
とが下記式（１）を満足し、かつ被覆層Ｃの、原子間力
顕微鏡（ＡＦＭ）にて測定した中心面十点平均粗さＲｚ
（ｎｍ）と中心面平均粗さＲａ（ｎｍ）とが下記式
（２）を満足することを特徴とする積層フイルム。

【００１６】

【数５】 ０．１≦（ｄ_B ）³ ×Ｃ_B ×ｔ_B ≦１０ ……（１）

【００１７】

【数６】 ８≦Ｒｚ／Ｒａ≦４０ ……（２） 本発明における熱可塑性樹脂としては、ポリエステル系
樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエー
テル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニル系樹
脂、ポリオレフィン系樹脂等を例示することができる。
これらのうちポリステル系樹脂、さらには芳香族ポリエ
ステルが好ましい。

【００１８】この芳香族ポリエステルとしては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、
ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ―１，４―シ
クロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート等を好まし
くは例示することができる。これらのうち、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレン
ジカルボキシレートが好ましい。

【００１９】これらポリエステルは、ホモポリエステル
であっても、コポリエステルであっても良い。コポリエ
ステルの場合、例えばポリエチレンテレフタレート及び
ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート
の共重合成分としては、例えばジエチレングリコール、
プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘ
キサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポ
リエチレングリコール、１，４―シクロヘキサンジメタ
ノール、ｐ―キシレングリコール等の他のジオール成
分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル
酸、テレフタル酸（但し、ポリエチレン―２，６―ナフ
タレンジカルボキシレートの場合）、２，６―ナフタレ
ンジカルボン酸（但し、ポリエチレンテレフタレートの
場合）、５―ナトリウムスルホイソフタル酸等の他のジ
カルボン酸成分、ｐ―オキシエトキシ安息香酸等のオキ
シカルボン酸成分等が挙げられる。これら共重合成分の
量は２０モル％以下、更には１０モル％以下であること
が好ましい。

【００２０】さらに、トリメリット酸、ピロメリット酸
等の３官能以上の多官能化合物を共重合させることもで
きる。この場合ポリマーが実質的に線状である量、例え
ば２モル％以下共重合させるのがよい。

【００２１】上記ポリエステルは、それ自体公知であ
り、かつそれ自体公知の方法で製造することができる。

【００２２】本発明において、積層フイルムは熱可塑性
樹脂層Ａと熱可塑性樹脂層Ｂとを有するが、層Ａと層Ｂ
の熱可塑性樹脂は同じでも違っていてもよい。このうち
同じ樹脂であることが好ましい。特に層Ａと層Ｂがポリ
エチレンテレフタレート又はポリエチレン―２，６―ナ
フタレンジカルボキシレートからなるのが好ましい。こ
れらポリエステルとしては、ｏ―クロロフェノール中の
溶液として３５℃で測定して求めた固有粘度が約０．４
〜０．９のものが好ましい。

【００２３】本発明において積層フイルムは熱可塑性樹
脂層Ａの一方の表面に１種以上の不活性粒子Ｂを含有す
る熱可塑性樹脂層Ｂが積層され、該層Ａのもう一方の表
面に特定の表面特性を有する被覆層Ｃが塗設されてい
る。この不活性粒子Ｂを含有する熱可塑性樹脂層Ｂが積
層されていないと、ベースフイルムが極めて平坦になっ
てしまう為にフイルムの製膜工程での搬送傷付き、巻取
り、巻出しといったハンドリング性の悪化を来たし、ま
たフイルム―フイルム相互の滑り性の悪化によりブロッ
キング現象が発生し、ロールに巻いたときの形状（ロー
ルフォーメーション）が悪化し、生産性の悪化、製品歩
留りの低下、ひいては、製品の製造コストの上昇をきた
す。

【００２４】前記熱可塑性樹脂層Ｂは、不活性粒子Ｂの
うち最も大きい粒子の平均粒径ｄ_B（μｍ）及びこれの
含有量Ｃ_B （重量％）と層厚みｔ_B （ｎｍ）とが下記式
（１）、好ましくは下記式（１−１）を満足する。

【００２５】

【数７】 ０．１≦（ｄ_B ）³ ×Ｃ_B ×ｔ_B ≦１０ ……（１）

【００２６】

【数８】 ０．２≦（ｄ_B ）³ ×Ｃ_B ×ｔ_B ≦８ ……（１−１） さらに好ましくは、下記式（１−２）を満足する。

【００２７】

【数９】 ０．３≦（ｄ_B ）³ ×Ｃ_B ×ｔ_B ≦５ ……（１−２） この値（（ｄ_B ）³ ×Ｃ_B ×ｔ_B ）が０．１未満では、
熱可塑性樹脂層Ｂの表面が平坦となりすぎる為に、たと
え被覆層Ｃが存在していてもフイルム―フイルムの滑り
性が悪くなってしまい、製品を巻取る際フイルム同士が
ブロッキングしてこぶ状突起を形成し易くなり、結果的
に収率の低下を招く。一方、この値が１０を超えると、
巻取り性は良好となるが、平坦な面への突起の転写が極
めて起り易くなり、特に１００００ｍ〜２００００ｍの
長尺ロールを巻取った場合、圧力のより高いロールの芯
層付近と、ロール表層付近では、フイルムの表面性に著
しい差が出来てしまう。

【００２８】ここで、不活性粒子Ｂのうち最も大きい粒
子の平均粒径ｄ_B とは、不活性粒子Ｂが１種の単独粒子
からなるときには該単独粒子の平均粒径であり、また大
きさの違う２種以上の粒子からなるときには最も大きい
平均粒径を有する粒子の平均粒径である。

【００２９】この最も大きい粒子の平均粒径ｄ_B は０．
１〜１μｍ、さらには０．１５〜０．８μｍ、特に０．
２〜０．７μｍであることが好ましい。またこの平均粒
径ｄ_B を有する最も大きい粒子の含有量は、熱可塑性樹
脂層Ｂに対し、０．０００１〜１重量％、さらには０．
００１〜０．５重量％、特に０．００５〜０．１重量％
であることが好ましい。

【００３０】この平均粒径ｄ_B を有する不活性粒子とし
ては、例えば（１）粒状ポリマー粒子（例えば架橋シリ
コーン樹脂、架橋ポリスチレン、架橋アクリル樹脂、メ
ラミン―ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリ
エステル等からなる粒子）、（２）金属酸化物（例えば
三二酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素、
酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等）、
（３）金属の炭酸塩（例えば炭酸マグネシウム、炭酸カ
ルシウム等）、（４）金属の硫酸塩（例えば硫酸カルシ
ウム、硫酸バリウム等）、（５）炭素（例えばカーボン
ブラック、グラファイト、ダイアモンド等）、及び
（６）粘土鉱物（例えばカオリン、クレー、ベントナイ
ト等）が好ましく挙げられる。これらのうち特に、架橋
シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン粒子、メラミン
―ホルムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミドイミド樹脂粒
子、三二酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタ
ン、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、合成炭酸カルシ
ウム、硫酸バリウム、ダイアモンド及びカオリンが好ま
しく、とりわけ架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチ
レン粒子、アルミナ、二酸化チタン、二酸化ケイ素及び
合成炭酸カルシウムが好ましい。

【００３１】さらに、不活性粒子Ｂが２種以上の粒子か
らなる場合、上記の最も大きい粒子の平均粒径ｄ_B より
も小さい平均粒径の第２、第３の粒子として、例えばコ
ロイダルシリカ、α、γ、δ、θ等の結晶形態を有する
アルミナ等の微細粒子を好ましく用いることができる。
また平均粒径ｄ_B を有する不活性粒子として例示した粒
子種のうち平均粒径の小さい微細粒子も用いることがで
きる。

【００３２】この微細粒子の平均粒径は５〜４００ｎ
ｍ、更には１０〜３００ｎｍ、特に３０〜２５０ｎｍの
範囲にあり、かつ前記平均粒径ｄ_B よりも５０ｎｍ以
上、更には１００ｎｍ以上、特に１５０ｎｍ以上小さい
ことが好ましい。第２、第３の粒子（微細粒子）の含有
量は、熱可塑性樹脂層Ｂに対し、０．００５〜１重量
％、更には０．０１〜０．７重量％、特に０．０５〜
０．５重量％であることが好ましい。

【００３３】本発明における熱可塑性樹脂層Ｂの表面粗
さは、転写抑制の点から、非接触３次元粗さ計で測定す
る中心面平均粗さＷＲａ^B が０．５ｎｍ以上５ｎｍ未満
の範囲にあることが好ましい。さらにこのＷＲａ^B は被
覆層Ｃの中心面平均粗さＷＲａ^C より大きいことが好ま
しい。ＷＲａ^B は、さらに０．８ｎｍ以上４．５ｎｍ未
満、特に１．０ｎｍ以上４．０ｎｍ未満の範囲にあるこ
とが好ましい。

【００３４】本発明においては積層フイルムの一方の表
面が熱可塑性樹脂層Ｂで形成されているが、該層Ｂの特
性のみではフイルム―フイルム間の滑り性が不十分であ
り、特に高速での巻取り時にフイルム同士のブロッキン
グによるこぶ状突起を発生させ易い。そこで、前記積層
フイルムのもう一方の表面は特定の表面特性を有する被
覆層Ｃで形成されている。この被覆層Ｃはフイルム―フ
イルム間の滑り性をより一層向上すると共に、特に蒸着
金属薄膜型磁気記録媒体のベースフイルムとして用いた
ときに走行耐久性を向上する。

【００３５】本発明における被覆層Ｃは、原子間力顕微
鏡（ＡＦＭ）で測定する中心面十点平均粗さＲａ（ｎ
ｍ）と中心面平均粗さＲａ（ｎｍ）が下記式（２）、好
ましくは下記式（２−１）を満足する。

【００３６】

【数１０】 ８≦Ｒｚ／Ｒａ≦４０ ……（２）

【００３７】

【数１１】 １２≦Ｒｚ／Ｒａ≦３６ ……（２−１） さらに好ましくは、下記式（２−２）を満足する。

【００３８】

【数１２】 １２≦Ｒｚ／Ｒａ≦３２ ……（２−２） この値（Ｒｚ／Ｒａ）が８未満では、蒸着金属薄膜型磁
気記録媒体としたときの走行耐久性が劣り、一方この値
（Ｒｚ／Ｒａ）が４０を超えると、製膜工程中のガイド
ロール、ニップロール等との接触によって、削れ粉が発
生しやすくなり、これがベースフイルム上に付着、堆積
してドロップアウトの原因物となる。

【００３９】前記被覆層Ｃは、不活性粒子を含有してい
なくとも良いが、平均粒径１０〜５０ｎｍの不活性粒子
Ｃを表面微細突起の頻度が２００万〜２０００万個／ｍ
ｍ²となる量含有していると、走行耐久性がより向上す
るので好ましい。この不活性粒子Ｃの平均粒径は、より
好ましくは１５〜４５ｎｍ、さらに好ましくは１８〜４
２ｎｍである。また、この微細突起の頻度は、より好ま
しくは２５０万〜１８００万個／ｍｍ² 、さらに好まし
くは３００万〜１５００万個／ｍｍ² である。この微細
突起は、好ましくは高さが不活性粒子Ｃの平均粒径の３
０％以上２００％未満、更に好ましくは４０〜１８０
％、特に好ましくは５０〜１６０％の突起である。

【００４０】不活性粒子Ｃの種類は特に限定されない
が、塗液中で沈降しにくい、比較的低比重のものが好ま
しい。例えば、耐熱性ポリマー（例えば、架橋シリコー
ン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン、メラミ
ン・ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポ
リアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香族ポリ
エステル等）からなる粒子、二酸化ケイ素（シリカ）、
炭酸カルシウム等が好ましく挙げられる。これらの中で
も、特に好ましくは、架橋シリコーン樹脂、シリカ、コ
アシェル型有機粒子（コア：架橋ポリスチレン、シエ
ル：ポリメチルメタクリレートなど）が挙げられる。

【００４１】本発明における被覆層Ｃでは、不活性粒子
Ｃを固着させるのにバインダー樹脂を用いるが、このバ
インダー樹脂としては、例えば水性ポリエステル樹脂、
水性アクリル樹脂、水性ポリウレタン樹脂等が好ましく
挙げられ、特に水性ポリエステル樹脂が好ましい。

【００４２】この水性ポリエステル樹脂としては、酸成
分が例えばイソフタル酸、フタル酸、１，４―シクロヘ
キサンジカルボン酸、２，６―ナフタレンジカルボン
酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、
セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５―Ｎ
ａスルホイソフタル酸、２―Ｋスルホテレフタル酸、ト
リメリット酸、トリメシン酸、トリメリット酸モノカリ
ウム塩、Ｐ―ヒドロキシ安息香酸等の多価カルボン酸よ
りなり、グリコール成分が例えばエチレングリコール、
ジエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４
―ブタンジオール、１，６―ヘキサンジオール、１，４
―シクロヘキサンジメタノール、Ｐ―キシリレングリコ
ール、ジメチロールプロパン酸、ビスフェノールＡのエ
チレンオキシド付加物等の多価ヒドロキシ化合物より主
としてなるポリエステル樹脂が好ましく例示でき、また
ポリエステル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフ
トポリマー又はブロックコポリマー、あるいは２種のポ
リマーがミクロな粒子内で特定の物理的構成（ＩＰＮ、
コアシエル）を形成したアクリル変性ポリエステル樹脂
であってもよい。この水性ポリエステル樹脂としては、
水に溶解、乳化、微分散するタイプを自由に用いること
ができ、またこれらは親水性を付与するため分子内に例
えばスルホン酸塩基、カルボン酸塩基、ポリエーテル単
位等が導入されていてもよい。

【００４３】本発明における熱可塑性樹脂層Ａは、不活
性粒子を含有していなくても良いが、平均粒径が好まし
くは４０〜４００ｎｍ、さらに好ましくは５０〜２００
ｎｍ、特に好ましくは６０〜１２０ｎｍであり、かつ体
積形状係数（ｆ）が０．１〜π／６の不活性粒子Ａを、
被覆層Ｃの表面に好ましくは０．５万〜５万個／ｍ
ｍ² 、さらに好ましくは０．７５万〜４万個／ｍｍ² 、
特に好ましくは１万〜３万個／ｍｍ² の頻度で突起を形
成する量含有することが好ましい。この突起を形成して
いる不活性粒子Ａは凝集率が２０％未満であることが好
ましい。またこの凝集率は０％より大きいことが好まし
い。この表面突起の形成によって、本発明の効果がより
一層顕著となる。

【００４４】ここで、上記体積形状係数は下記式（３）
で定義される。

【００４５】

【数１３】ｆ＝Ｖ／Ｒ³ ……（３） ここで、ｆは体積形状係数、Ｖは粒子の体積（μ
ｍ³ ）、Ｒは粒子の平均粒径（μｍ）である。

【００４６】この体積形状係数（ｆ）がπ／６である形
状は球（真球）である。それ故、体積形状係数（ｆ）が
０．４〜π／６のものは実質的に球ないし真球、ラグビ
ーボールのような楕円球を含むものであり、これらが特
に好ましい。

【００４７】本発明において積層フイルムの全厚みは、
通常２．５〜２０μｍ、好ましくは３．０〜１０μｍ、
更に好ましくは４．０〜１０μｍである。熱可塑性樹脂
層Ｂの層厚みは、積層フイルムの全厚みの１／２以下、
さらに１／３以下、特に１／４以下であることが好まし
い。また被覆層Ｃの層厚みは１〜１００ｎｍ、さらに２
〜５０ｎｍ、特に３〜１０ｎｍ、就中３〜８ｎｍである
ことが好ましい。

【００４８】本発明の積層フイルムは、従来から知られ
ている或いは当業界に蓄積されている方法で製造するこ
とができる。そのうち、熱可塑性樹脂層Ａと熱可塑性樹
脂層Ｂとの積層構造は共押出し法により製造するのが好
ましく、そして被覆層Ｃの積層は塗布法により行なうの
が好ましい。

【００４９】例えば、二軸配向ポリエステルフイルムで
説明すると、押出し口金内又は口金以前（一般に前者は
マルチマニホールド方式、後者はフィードブロック方式
と呼ぶ）で、前述のポリエステルＡと不活性粒子Ｂを含
有するポリエステルＢを溶融状態にて積層複合し、前述
の好適な厚み比の積層構造と成し、次いで口金より融点
Ｔｍ℃〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフイルム状に共押出
した後、４０〜９０℃の冷却ロールで急冷固化し未延伸
積層フイルムを得る。しかる後に、該未延伸積層フイル
ムを常法に従って一軸方向（縦方向又は横方向）に（Ｔ
ｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｇ：該
ポリエステルのガラス転移温度）で２．５〜８．０倍の
倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸し、
次いで前記方向とは直角方向にＴｇ〜（Ｔｇ＋７０）℃
温度で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜
７．５倍の倍率で延伸する。更に必要に応じて縦方向及
び／又は横方向に再度延伸しても良い。即ち、２段、３
段、４段、或いは多段の延伸を行うと良い。全延伸倍率
は、面積延伸倍率として通常９倍以上、好ましくは１２
〜３５倍、更に好ましくは１５〜３０倍である。更に引
き続いて、二軸配向フイルムを（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ
−１０）℃の温度、例えば１８０〜２５０℃で熱固定結
晶化することによって優れた寸法安定性が付与される。
なお、熱固定時間は１〜６０秒が好ましい。

【００５０】上記の方法において、前述の不活性粒子Ｃ
及びバインダー樹脂を含む塗液、好ましくは水性塗液を
塗布する。塗布は最終延伸処理を施す以前のポリエステ
ルＡの表面に行ない、塗布後にはフイルムを少なくとも
一軸方向に延伸するのが好ましい。この延伸の前乃至途
中で塗膜は乾燥される。その中で、塗布は未延伸積層フ
イルム又は縦（一軸）延伸積層フイルム、特に縦（一
軸）延伸積層フイルムに行なうのが好ましい。塗布方法
としては特に限定されないが、例えばロールコート法、
ダイコート法等が挙げられる。

【００５１】上記塗液、特に水性塗液の固形分濃度は
０．２〜８重量％、さらに０．３〜６重量％、特に０．
５〜４重量％であることが好ましい。そして塗液（好ま
しくは水性塗液）には、所望により、他の成分例えば、
界面活性剤、安定剤、分散剤、ＵＶ吸収剤、増粘剤等を
添加することができる。

【００５２】上述の例は、熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂが共に
ポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート
又はポリエチレンテレフタレートの場合に好適である
が、層Ａのみ或いは層Ｂのみがポリエチレン―２，６―
ナフタレンジカルボキシレート又はポリエチレンテレフ
タレートの場合にも同様である。

【００５３】なお、積層フイルムの製造に際し、熱可塑
性樹脂に、所望により上述の不活性粒子以外の添加剤例
えば安定剤、着色剤、溶融ポリマーの固有抵抗調整剤等
を添加含有させることができる。

【００５４】本発明において、磁気記録媒体としてのヘ
ッドタッチ、走行耐久性を初めとする各種性能を向上さ
せ、同時に薄膜化を達成するには、積層フイルムのヤン
グ率を縦方向、横方向でそれぞれ４５０ｋｇ／ｍｍ² 以
上、６００ｋｇ／ｍｍ² 以上、更には４８０ｋｇ／ｍｍ
² 以上、６８０ｋｇ／ｍｍ² 以上、特に５５０ｋｇ／ｍ
ｍ² 以上、８００ｋｇ／ｍｍ² 以上、就中５５０ｋｇ／
ｍｍ² 以上、１０００ｋｇ／ｍｍ² 以上とするのが好ま
しい。また、ポリエチレンテレフタレート層の結晶化度
は３０〜５０％、ポリエチレン―２，６―ナフタレンジ
カルボキシレート層の結晶化度は２８〜３８％であるこ
とが望ましい。いずれも下限を下回ると、熱収縮率が大
きくなるし、一方上限を上回るとフイルムの耐磨耗性が
悪化し、ロールやガイドピン表面と摺動した場合に白粉
が生じやすくなる。

【００５５】本発明の積層フイルムは、被覆層Ｃの表面
に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング
等の方法により、鉄、コバルト、クロム又はこれらを主
成分とする合金もしくは酸化物より成る強磁性金属薄膜
層を形成し、またその表面に、目的、用途、必要に応じ
てダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層、
含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に熱可塑性
樹脂層Ｂ側の表面に公知のバックコート層を設けること
により、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電
磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少
ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすることが出来
る。この蒸着型電磁記録媒体は、アナログ信号記録用Ｈ
ｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセット
レコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV用テー
プ媒体として極めて有用である。

【００５６】本発明の積層フイルムは、また、被覆層Ｃ
の表面に、鉄又は鉄を主成分とする針状微細磁性粉をポ
リ塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体
等のバインダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以
下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更
に熱可塑性樹脂層Ｂ側の表面に公知の方法でバックコー
ト層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ
／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウ
ト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗布型磁
気記録媒体とすることが出来る。また、必要に応じて層
Ａの上に、該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な
酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の
有機バインダー中に分散し、塗設することもできる。こ
のメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用８
ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ―ＶＨＳ、ディジ
タル信号記録用ディジタルビデオカセットコーダー（Ｄ
ＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV、ディジタルβカム、
Ｄ２、Ｄ３、ＳＸ等用テープ媒体として極めて有用であ
る。

【００５７】本発明の積層フイルムは、また、被覆層Ｃ
の表面に、酸化鉄又は酸化クロム等の針状微細磁性粉、
又はバリウムフェライト等の板状微細磁性粉をポリ塩化
ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバ
インダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ま
しくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更に熱可塑
性樹脂層Ｂ側の表面に公知の方法でバックコート層を設
けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ
／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラー
レートの少ない高密度記録用塗布型磁気記録媒体とする
ことが出来る。また、必要に応じて層Ａの上に、該メタ
ル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子等
を含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中
に分散し、塗設することも出来る。この酸化物塗布型磁
気記録媒体は、ディジタル信号記録用データストリーマ
ー用ＱＩＣ等の高密度酸化物塗布型磁気記録媒体として
有用である。

【００５８】上述のＷ―ＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信
号記録用ＶＴＲであり、またＤＶＣはディジタルのＨＤ
ＴＶ信号記録用として適用可能なものであり、本発明の
フイルムはこれらＨＤＴＶ対応ＶＴＲ用磁気記録媒体に
極めて有用なベースフイルムと言うことができる。

【００５９】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。尚、本発明において用いた測定法は次の通りであ
る。

【００６０】（１）固有粘度 オルソクロロフェノール溶媒中３５℃で測定した値から
求める。

【００６１】（２）粒子の平均粒径Ｉ（平均粒径：０．
０６μｍ以上） 島津製作所製ＣＰ―５０型セントリフューグル パーテ
ィクル サイズ アナライザー（Centrifugal Particle
Size Analyzer）を用いて測定する。得られる遠心沈降
曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算
曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球
直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とする（Book
「粒度測定技術」日刊工業新聞発行、１９７５年、頁２
４２〜２４７参照）。

【００６２】（３）粒子の平均粒径II（平均粒径：０．
０６μｍ未満） 小突起を形成する平均粒径０．０６μｍ未満の粒子は、
光散乱法を用いて測定する。即ち、Ｎｉｃｏｍｐ Ｉｎ
ｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．社製のＮＩＣＯＭＰ Ｍ
ＯＤＥＬ ２７０ ＳＵＢＭＩＣＲＯＮ ＰＡＲＴＩＣ
ＬＥ ＳＩＺＥＲ により求められる全粒子の５０重量
％の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。

【００６３】（４）体積形状係数ｆ 走査型電子顕微鏡により用いたサイズに応じた倍率にて
各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置ルーゼックス
５００（日本レギュレーター製）を用い、投影面最大径
及び粒子の体積を算出し、次式により算出する。

【００６４】

【数１４】ｆ＝Ｖ／Ｄ³ 式中、ｆは体積形状係数、Ｖは粒子の体積（μｍ³ ）、
Ｄは投影面の最大径（μｍ）を表す。

【００６５】（５）フイルムの表面突起頻度 フイルム表面の突起頻度の測定は走査型電子顕微鏡によ
り行う。即ち、積層フイルムの表面写真を倍率５０００
倍又は１００００倍にてランダムに２５枚撮影し、表面
突起頻度をカウントし、その平均値より１ｍｍ² 当たり
の突起数に換算し、この値をフイルムの表面突起頻度と
する。

【００６６】（６）層厚み １）熱可塑性樹脂層Ａ、Ｂの厚み及び全体の厚み フイルムの全体の厚みはマイクロメーターにてランダム
に１０点測定し、その平均値を用いる。層Ａ、Ｂの厚み
は、薄い側の層厚みを以下に述べる方法にて測定し、ま
た厚い側の層厚みは全体の厚みより被覆層及び薄い側の
層厚みに引き算して求める。即ち、二次イオン質量分析
装置（ＳＩＭＳ）を用いて、被覆層を除いた表層から深
さ５０００ｎｍの範囲のフイルム中の粒子の内最も高濃
度の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃
度比（Ｍ⁺ ／Ｃ⁺ ）を粒子濃度とし、表面から深さ５０
００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面とい
う界面の為に粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれ
て粒子濃度は高くなる。本発明の場合、粒子濃度は一旦
安定値１になった後、上昇或いは減少して安定値２にな
る場合と、単調に減少する場合とがある。この分布曲線
をもとに、前者の場合は、（安定値１＋安定値２）／２
の粒子濃度を与える深さをもって、また後者の場合は粒
子濃度が安定値１の１／２になる深さ（この深さは安定
値１を与える深さよりも深い）をもって、当該層の層厚
みとした。

【００６７】測定条件は以下の通りである。

【００６８】測定装置 二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）；ＰＥＲＫＩＮ
ＥＬＭＥＲ社製 ６３００ 測定条件 一次イオン種 ：Ｏ₂ ＋ 一次イオン加速電圧：１２ＫＶ 一次イオン電流：２００ｎＡ ラスター領域 ：４００μｍ□ 分析領域 ：ゲート３０％ 測定真空度 ：６．０×１０^-9Ｔｏｒｒ Ｅ―ＧＵＮＮ ：０．５ＫＶ―３．０Ａ 尚、表層から５０００ｎｍの範囲に最も多く含有する粒
子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子の場合はＳＩ
ＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングしなが
らＦＴ―ＩＲ（フーリエトランスフォーム赤外分光
法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線高電子分光法）等で
上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚を求める。

【００６９】２）被覆層Ｃの厚み フイルムの小片をエポキシ樹脂にて固定成形し、ミクロ
トームにて約６００オングストロームの厚みの超薄切片
（フイルムの流れ方向に平行に切断する）を作成する。
この試料を透過型電子顕微鏡（日立製作所製：Ｈ―８０
０型）にて観察し、被覆層Ｃの境界面を捜して被覆の層
の厚みを求める。

【００７０】（７）中心面平均粗さ ＷＲａ ＷＹＫＯ社製非接触３次元粗さ計（ＴＯＰＯ―３Ｄ）を
用いて測定倍率４０倍、測定面積２４２μｍ×２３９μ
ｍ（０．０５８ｍｍ² ）の条件にて測定を行ない、同粗
さ系内臓ソフトによる表面解析より、ＷＲａは以下の式
により計算されアウトプットされた値を用いる。

【００７１】

【数１５】

【００７２】また、Ｚ_jkは測定方向（２４２μｍ）、そ
れと直行する方向（２３９μｍ）をそれぞれＭ分割、Ｎ
分割したときの各方向のｊ番目、ｋ番目の位置に於ける
３次元粗さチャート上の高さである。

【００７３】（８）ヤング率 東洋ボールドウィン社製の引っ張り試験機テンシロンを
用いて、温度２０℃、湿度５０％に調節された室内に於
いて、長さ３００ｍｍ、幅１２．７ｍｍの試料フイルム
を、１０％／分のひずみ速度で引っ張り、引っ張り応力
―ひずみ曲線の初めの直線部分を用いて次ぎの式によっ
て計算する。

【００７４】

【数１６】Ｅ＝Δσ／Δε ここで、Ｅはヤング率（ｋｇ／ｍｍ² ）、Δσは直線上
の２点間の元の平均断面積による応力差、Δεは同じ２
点間のひずみ差である。

【００７５】（９）耐削れ性 図１に示した装置を用いて下記のように測定する。図１
中、１は巻出しリール、２はテンションコントローラ
ー、３，５，６，８はフリーローラー、４はテンション
検出機、７はブレード（米国ＧＫＩ製工業用カミソリ試
験機用ブレード）、９はガイドローラー、１０は巻取り
リールをそれぞれ示す。

【００７６】１／２インチ幅にスリットしたサンプルフ
イルムをブレード刃先に６度の角度であたるようにして
張力１００ｇ、走行速度１００ｍ／分で１００ｍ走行さ
せ、ブレード刃先に付着する削れ粉量で削れ性を評価す
る。

【００７７】この評価は製膜工程中のガイドロール、ニ
ップロール等での削れ粉発生とよく対応している。

【００７８】 ◎：ブレード刃先に付着する削れ粉付着幅が０．２ｍｍ
未満 ○：ブレード刃先に付着する削れ粉付着幅が０．２ｍｍ
以上で１．０ｍｍ未満 ×：ブレード刃先に付着する削れ粉付着幅が１．０ｍｍ
以上

【００７９】（１０）巻き取り性 スリット時の巻き取り条件を最適化後、幅６００ｍｍ×
長さ１５００ｍのサイズで、１０ロールスリットを行な
い、直後のロール表面のこぶ状突起（大きさ１ｍｍ以上
のもの）の発生状況を目視で観察し、以下の基準にて巻
き取り性を評価する。 判定基準 こぶ状突起個数（ロール全幅、全周当り） ◎ ０〜１０ケ ○ １１〜３０ケ × ３１〜１００ケ ×× １０１ケ以上

【００８０】（１１）原子間力顕微鏡によるＲｚ、Ｒａ
の測定 Digital Instruments 社製原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）Ｎ
ａｎｏ ＳｃｏｐｅIIを用いて、２μｍ×２μｍの面積
を２５６ライン×２５６ピクセの画素数で５回測定し、
算出されるＲｚ（中心面十点平均粗さ）、Ｒａ（中心面
平均粗さ）のそれぞれの平均値を測定値とする。

【００８１】（１２）磁気テープの製造及び特性評価 二軸配向積層フイルムの被覆層Ｃの表面に、真空蒸着法
により、コバルト１００％の強磁性薄膜を０．０２μｍ
の厚みになるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成
し、その表面にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）
膜、更に含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に
熱可塑性樹脂Ｂ側の表面に公知方法でバックコート層を
設ける。その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍ
ビデオカセットにローディングする。次いで、以下の市
販の機器を用いてテープの特性を測定する。

【００８２】 使用機器：８ｍｍビデオテープレコーダー ソニー
（株）製ＥＤＶ―６０００ Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイズメーター Ｃ／Ｎ測定 記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を
記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの
値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用
蒸着テープのＣ／Ｎを０ｄＢとし、下記の基準で判定す
る。

【００８３】

【００８４】 走行耐久性 前記した蒸着テープに４．２ＭＨｚの映像信号を記録
し、２５℃５０％ＲＨ条件下でテープ走行速度４１ｍ／
分、巻き戻し速度４１ｍ／分の走行を１回とし、合計２
００回くり返した後の出力変動を調べる。この出力変動
から次の基準で判定する。

【００８５】 ◎：２００回繰り返し後の出力変動が０ｄＢ〜−０．３
ｄＢ未満 ○：２００回繰り返し後の出力変動が−０．３ｄＢ〜−
０．６ｄＢ未満 ×：２００回繰り返し後の出力変動が−０．６ｄＢ以上

【００８６】［実施例１］ジメチルテレフタレートとエ
チレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マ
グネシウムを、重合触媒としてトリメリット酸チタン
を、安定剤として亜燐酸を、更に滑剤として表１に示す
不活性粒子を添加して常法により重合し、固有粘度０．
６０の層Ａ用、及び層Ｂ用のポリエチレンテフタレート
（ＰＥＴ）（それぞれ樹脂Ａ、樹脂Ｂ）を得た。

【００８７】この樹脂Ａ、樹脂Ｂをそれぞれ１７０℃で
３時間乾燥後、２台の押出し機に供給し、溶融温度２８
０〜３００℃にて溶融し、マルチマニホールド型共押出
しダイを用いて、樹脂層Ａの片面に樹脂層Ｂを積層さ
せ、急冷して厚さ８７μｍの未延伸積層フイルムを得
た。

【００８８】得られた未延伸フイルムを予熱し、更に低
速・高速のロール間でフイルム温度１００℃にて３．３
倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フイルムの層Ａ面側
に表２のバインダー樹脂及び粒子Ｃを含む水性塗液（全
固形分濃度１．０重量％、界面活性剤としてＨＬＢ値１
７．１のポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルを
全固形分中１８重量％含有）をキスコート法により塗布
し、続いてステンターに供給し、１１０℃にて横方向に
４．２倍に延伸した。得られた二軸延伸フイルムを２２
０℃の熱風で４秒間熱固定し、厚み６．３μｍの積層二
軸配向ポリエステルフイルムを得た。層Ａ、Ｂの厚みに
ついては、２台の押出し機の吐出量により調整した。こ
のフイルムのヤング率は縦方向５００ｋｇ／ｍｍ² 、横
方向７００ｋｇ／ｍｍ² であった。

【００８９】この積層二軸配向フイルムの表面特性、耐
削れ性、巻き取り性、このフイルムを用いた強磁性薄膜
蒸着磁気テープの特性を表３に示す。

【００９０】［実施例２、比較例１〜３］被覆層Ｃの粒
子、熱可塑性樹脂粒子層Ａ、Ｂに含有される粒子と層厚
みを表１、２に示すように変更する以外は実施例１と同
様の方法で、積層二軸配向ポリエステルフイルムを得
た。

【００９１】この様にして得られたフイルムの特性、及
びこれらのフイルムを用いた強磁性薄膜蒸着磁気テープ
の特性を表３に示す。

【００９２】［実施例３〜５、比較例４〜５］表１に示
す粒子を用い、かつジメチルテレフタレートの代わりに
２，６―ナフタレンジカルボン酸ジメチルを同モル量使
用した以外は実施例１と同様の方法で層Ａ、層Ｂ用のポ
リエチレン―２，６―ナフタレート（ＰＥＮ）（樹脂
Ａ、樹脂Ｂ）を得た。

【００９３】この樹脂Ａ、樹脂Ｂをそれぞれ１７０℃で
６時間乾燥後、実施例１と同様にして各層厚みを調整
し、各実施例、比較例を満たす未延伸積層フイルムを得
た。

【００９４】この様にして得られた未延伸フイルムを予
熱し、更に低速・高速のロール間でフイルム温度１３５
℃にて３．６倍に延伸し、急冷し、次いで表２に示す被
覆層Ｃの水性塗液を実施例１と同様に塗布し、続いてス
テンターに供給し、１５５℃にて横方向に６．０倍に延
伸した。得られた二軸延伸フイルムを２００℃の熱風で
４秒間熱固定し、厚み４．６μｍの積層二軸配向ポリエ
ステルフイルムを得た。これらのフイルムのヤング率は
縦方向５６０ｋｇ／ｍｍ² 、横方向１１００ｋｇ／ｍｍ
² であった。但し、比較例５は被覆層Ｃを塗設しなかっ
た。

【００９５】この積層二軸配向フイルムの表面特性、耐
削れ性、巻取り性、このフイルムを用いた強磁性薄膜蒸
着磁気テープの特性を表３に示す。

【００９６】

【表１】

【００９７】

【表２】

【００９８】

【表３】

【００９９】表３から明らかなように、本発明による積
層フイルムは、片面が非常に平坦で優れた電磁変換特性
を示すとともに、粗面の転写がない為に、ベースフイル
ムロールの表層と芯層を用いた場合の特性差がなく、か
つ、耐削れ性、巻取り性、走行耐久性に優れている。一
方、本発明の要件を満たさないものは、これらの特性を
同時に満足できていない。

【０１００】

【発明の効果】本発明によれば、巻取り性、易滑性、ハ
ンドリング性に優れ、かつ電磁変換特性、ドロップアウ
ト、磁性層の走行性、耐久性の優れた高密度磁気記録媒
体用として用いるのに有用な積層フイルムを提供するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】耐削れ性測定装置の概略図である。

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 熱可塑性樹脂層Ａの一方の表面に不活性
   粒子Ｂを含有する熱可塑性樹脂層Ｂが積層され、そして
   該熱可塑性樹脂層Ａのもう一方の表面に被覆層Ｃが塗設
   されている積層フイルムであって、熱可塑性樹脂層Ｂの
   層厚みｔ_B （ｎｍ）と不活性粒子Ｂの中で最も大きい粒
   子の平均粒径ｄ_B （μｍ）及びその含有量Ｃ_B （重量
   ％）とが下記式（１）を満足し、かつ被覆層Ｃの、原子
   間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて測定した中心面十点平均粗さ
   Ｒｚ（ｎｍ）と中心面平均粗さＲａ（ｎｍ）とが下記式
   （２）を満足することを特徴とする積層フイルム。 【数１】 ０．１≦（ｄ_B ）³ ×Ｃ_B ×ｔ_B ≦１０ ……（１） 【数２】 ８≦Ｒｚ／Ｒａ≦４０ ……（２）
2. 【請求項２】 熱可塑性樹脂層Ｂの層厚みｔ_B （ｎｍ）
   と不活性粒子Ｂの中で最も大きい粒子の平均粒径ｄ
   _B （μｍ）及びその含有量Ｃ_B （重量％）とが下記式
   （１−１）を満足する請求項１に記載の積層フイルム。 【数３】 ０．２≦（ｄ_B ）³ ×Ｃ_B ×ｔ_B ≦８ ……（１−１）
3. 【請求項３】 被覆層Ｃの、原子間力顕微鏡（ＡＦＧ）
   にて測定した中心面十点平均粗さＲｚ（ｎｍ）と中心面
   平均粗さＲａ（ｎｍ）とが、下記式（２−１）を満足す
   る請求項１に記載の積層フイルム。 【数４】 １２≦Ｒｚ／Ｒａ≦３６ ……（２−１）
4. 【請求項４】 熱可塑性樹脂層Ｂの中心面平均粗さＷＲ
   ａ^B が０．５ｎｍ以上５ｎｍ未満でありかつ被覆層Ｃの
   中心面平均粗さＷＲａ^C より大きい請求項１に記載の積
   層フイルム。
5. 【請求項５】 熱可塑性樹脂層Ｂが含有する不活性粒子
   Ｂのうち、最も大きい粒子の平均粒径ｄ_B が０．１〜１
   μｍであり、この含有量が０．０００１〜１重量％であ
   る請求項１又は２に記載の積層フイルム。
6. 【請求項６】 被覆層Ｃが、平均粒径１０〜５０ｎｍの
   不活性粒子Ｃを、層Ｃの表面に２００万〜２０００万個
   ／ｍｍ² の頻度で微細突起を形成する量含有する請求項
   １又は３に記載の積層フイルム。
7. 【請求項７】 熱可塑性樹脂層Ａが、平均粒径４０〜４
   ００ｎｍ、体積形状係数０．１〜π／６の不活性粒子Ａ
   を、被覆層Ｃの表面に０．５万〜５万個／ｍｍ² の頻度
   で突起を形成する量含有する請求項１に記載の積層フイ
   ルム。
8. 【請求項８】 不活性粒子Ａの粒子凝集率が２０％未満
   である請求項７に記載の積層フイルム。
9. 【請求項９】 熱可塑性樹脂層Ｂの厚みが積層フイルム
   の全厚みの１／２以下である請求項１又は２に記載の積
   層フイルム。
10. 【請求項１０】 積層フイルムの全厚みが２．５〜２０
    μｍである請求項１に記載の積層フイルム。
11. 【請求項１１】 層Ａ及び層Ｂの熱可塑性樹脂がそれぞ
    れ芳香族ポリエステルである請求項１に記載の積層フイ
    ルム。
12. 【請求項１２】 芳香族ポリエステルがポリエチレンテ
    レフタレート又はポリエチレン―２，６―ナフタレンジ
    カルボキシレートである請求項１１に記載の積層フイル
    ム。
13. 【請求項１３】 磁気記録媒体のベースフイルムである
    請求項１に記載の積層フイルム。
14. 【請求項１４】 磁気記録媒体が金属薄膜型磁気記録媒
    体である請求項１３に記載の積層フイルム。
15. 【請求項１５】 磁気記録媒体が磁性層の厚みが１μｍ
    以下の塗布型磁気記録媒体である請求項１３に記載の積
    層フイルム。
16. 【請求項１６】 磁気記録媒体がデイジタル信号記録型
    磁気記録媒体である請求項１３、１４又は１５に記載の
    積層フイルム。