JPH07241962A - 磁気記録媒体用積層フィルム - Google Patents

磁気記録媒体用積層フィルム

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JPH07241962A
JPH07241962A JP3244694A JP3244694A JPH07241962A JP H07241962 A JPH07241962 A JP H07241962A JP 3244694 A JP3244694 A JP 3244694A JP 3244694 A JP3244694 A JP 3244694A JP H07241962 A JPH07241962 A JP H07241962A
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film
particles
magnetic recording
recording medium
laminated film
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JP3244694A
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Kazushi Tamada
一志 玉田
Jun Hirata
純 平田
Yuji Okamura
右治 岡村
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Toray Industries Inc
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Toray Industries Inc
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 無欠点性、平滑性、耐削れ性、耐久走行性に
優れた、積層フィルムを提供すること、加えて、磁気テ
ープ用途などに好適な積層フィルムを提供すること。 【構成】 熱可塑性樹脂を主体とする基層フィルムの少
なくとも片面に、平均粒径が0.13μm以下である内
部よりも外部の方が軟質な粒子を含有する皮膜層を設け
たことを特徴とする磁気記録媒体用積層フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体用積層フ
ィルムに関する。詳しくは無欠点性、易滑性、平滑性、
耐削れ性、耐久走行性に優れた積層フィルムに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気記録層として強磁性金属薄膜
を真空蒸着やスパッタリング等の物理沈着法またはメッ
キ法により非磁性支持体上に形成せしめた強磁性金属薄
膜磁気記録体が実用化されている。例えば、Coの蒸着
テープ(特開昭54−147010号公報)、Co−C
r合金からなる垂直磁化膜(特開昭52−134706
号公報)等が開示されている。
【0003】従来の塗布型磁気記録媒体(磁性粉末を有
機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体に塗布し
てなる磁気記録媒体)は、磁性層の厚みが2μm程度以
上と厚いのに対して、蒸着、スパッタまたはイオンプレ
ーティング等の薄膜形成手段によって形成される金属薄
膜は、厚みが0.2μm以下と非常に薄い。このため、
金属薄膜型の磁気記録媒体においては、非磁性支持体の
表面状態がそのまま磁気記録層表面の凸凹として発現
し、それが雑音の原因になる。このため、できるだけ表
面状態が平滑であることが望ましい。一方ベースフィル
ムの製膜・巻取り・巻出しといったハンドリングの観点
から、フィルム表面が平滑であると、フィルム−フィル
ム相互の滑り性が悪く、ブロッキング現象が発生し、製
品にはなり得ず、ベースフィルム表面が粗であることが
要求される。このように、電磁変換特性という観点から
は非磁性支持体の表面が平滑であることが要求され、ハ
ンドリング性の観点からは粗であることが要求される。
そこで、その両者の二律背反する性質を同時に満足する
ことが必要とされる。
【0004】このための具体的方法として、フィルム表
面に特定の塗剤を塗布し、不連続皮膜構造を形成させる
方法(特公平3−80410、特開昭60−18083
9、特開昭60−180838、特開昭60−1808
37、特開昭56−16937、特開昭58−6822
3等)等が提案されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
定の塗剤を用いた不連続皮膜形成法においては、フィル
ム表面に塗剤を欠点なく均質に塗布することが困難であ
り、特にメタリングバー方式やリバース方式等でインラ
イン塗布を行う場合、フィルム製膜速度を上げるとすじ
状の塗布むら欠点が顕著となり、金属薄膜磁気記録用と
して充分な表面無欠点性を達成することができなかっ
た。
【0006】また、塗剤中に分散させる微粒子は凝集体
を形成している場合が多く、このため該粒子を単分散的
に均一にフィルム上に固定することが著しく困難であ
り、該凝集体に基ずく粗大突起により電磁変換特性が悪
化するなど磁気テープとしての品質が安定しないという
問題があった。
【0007】また一般に無機粒子は硬度が高く変形しに
くいため磁気ヘッドクリーニング性に優れており、また
種々サイズの微粒子が作成容易であるが、ポリマーとの
親和性に乏しく粒子の脱落を生じやすい傾向がみられる
一方で、有機粒子はポリマーとの親和性には優れるもの
の、硬度が無機粒子に比べ低く、粒子全体に熱や機械的
摩擦による変形等が加わるため、テープの電磁変換特性
が走行を繰り返す事により劣化してゆくという問題があ
った。
【0008】本発明の目的は、金属薄膜磁気記録用支持
体に好適な積層フィルムの製造において、表面無欠点性
を損なうこと無く種々皮膜層を高速に形成せしめ、かつ
その皮膜層中の微粒子が均一に分散した金属薄膜磁気記
録媒体用に好適な積層フィルムを提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は熱可塑性樹脂を
主体とする基層フィルムの少なくとも片面に、平均粒径
が0.003〜0.13μmである内部よりも外部の方
が軟質な粒子を含有する皮膜層を設けたことを特徴とす
る積層フィルムをその骨子とするものである。本発明に
おける熱可塑性樹脂とは線状、分枝状あるいは網状の高
分子からなる、芳香族ポリアミド系樹脂、ポリエステル
イミド、ポリイミド等のポリイミド系樹脂、ポリエステ
ル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリビニル系樹脂等を
いうが、好ましくはポリエステル系樹脂が好適である。
ここでいうポリエステル系樹脂とは線状ポリエステルを
主体とするものであればどのようなものでもよい。たと
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−
2,6−ナフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレ
ート、ポリ−1,4−シクロヘキシレンジメチレンテレ
フタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカル
ボキシレート、ポリエチレン−p−オキシベンゾエート
などがその代表例である。
【0010】また上記のポリエステルは、ホモポリエス
テルであっても、コポリエステルであってもよい。コポ
リエステルの場合、共重合する成分としては、例えば、
ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペ
ンチルグリコール、ポリエチレングリコール、p−キシ
リレングリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノー
ルなどのジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、フタ
ル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン
酸、5−ナトリウムスルホイソフタル酸などのジカルボ
ン酸成分、トリメリット酸、ピロメリット酸などの多官
能ジカルボン酸成分、p−オキシエトキシ安息香酸など
が挙げられる。なお、共重合の場合、共重合する成分は
20モル%以下とするのが好ましい。
【0011】さらに、上記のポリエステルは、他にポリ
エステルと非反応性のスルホン酸のアルカリ金属塩誘導
体、該ポリエステルに実質的に不溶なポリアルキレング
リコールなどの少なくとも一つを5重量%を越えない程
度に混合してもよい。また、そのフィルム中に延伸した
際に、フィルム表面突起の原因となる微細粒子、すなわ
ち、触媒残査あるいは着色防止剤等がポリエステルのモ
ノマーあるいはオリゴマーと反応して生成したいわゆる
内在粒子あるいは外部から加えられた不活性粒子等が含
まれていてもよい。
【0012】本発明における内部よりも外部の方が軟質
な粒子(以下シェルコア粒子と呼ぶ)とは、内外部のそ
れぞれが性質の異なるポリマーで構成される多層構造の
ポリマー微粒子をいう。この場合多層とは2層以上のこ
とをいい、性質が径方向に連続的に変化するものであっ
ても良い。外部(以下シェル部と呼ぶ)はフィルム上に
塗布後フィルム基部と反応し、または熱処理を行うこと
により反応、溶融、軟化もしくは変形しフィルム基部に
固着する機能を有し、内部(以下コア部と呼ぶ)はシェ
ル部と共にフィルムに適度のすべり性及び磁気ヘッドと
の最適なスペーシングを与える、いわゆる粒子としての
機能を担うと考えられる。上記シェル、コア部それぞれ
の機能分担の観点から、シェル部にはフィルム基部との
親和性に優れ、かつ製膜熱処理温度での適切な物理的、
化学的、熱的特性を持つことが要求され、コア部には機
械的摩擦等によって変形せず、シェル部もしくは基層フ
ィルムに対し相対的に大なる硬度を持つことが求められ
る。
【0013】かかる機能を実現するためのポリマー組成
としてシェル部については熱可塑性樹脂が一般に好まし
く、特にアクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂等が好ま
しい。コア部については上記熱可塑性樹脂の他に尿素樹
脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ウレタン樹脂等
の熱硬化性樹脂が使用しうるが、特にジビニルベンゼン
系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂、あるい
は強度を高めるためそれら樹脂の同種または異種同士の
共重合体が望ましい。もちろんシェル部、コア部共に、
上記の機能を有するならば特にこれらに限定される訳で
はない。
【0014】さらにシェル部についてはフィルム基部と
の親和性を高めるため、その分子中に任意の割合でフィ
ルム基部との反応性もしくは親和性を有する官能基、具
体的にはカルボキシル基、水酸基、グリシジル基、アミ
ド基、エポキシ基、イソシアネート基等を導入しても良
い。これらの官能基は単独、場合によっては二種以上併
用しても良い。またシェル部のガラス転移温度(以下T
gとする)は好ましくは80℃以下、さらに好ましくは
20℃以下が良い。Tgが80℃を越えるとシェルコア
粒子のフィルム上からの脱落が目立つようになる。かか
る上記組成のポリマーをシェル部に使用する事により優
れた耐削れ性を発現させることができる。
【0015】シェルコア粒子が2層で構成される場合、
そのシェル/コア重量比は自由に選択しうるが、好まし
くは1000/1〜1/10、さらに好ましくは10/
1〜1/3が望まれる。シェル/コア重量比が1000
/1より大きくなると多層構造を持たない有機粒子とし
ての性質をより強く帯びるようになり、熱や機械的摩擦
による変形が大きくなり、また凝集率も悪化する傾向に
ある。また1/10より小さくなると無機粒子的な性質
が強くなり、フィルムとの固着性低下、該粒子の脱落等
が増加する傾向になる。いずれの場合もフィルムの加工
性、磁気テープの性能に悪影響を及ぼし易い。
【0016】シェルコア粒子の形状としては、球形、楕
円形、長方体型、立方体型等いずれであってもよいが、
特に球形粒子が適当である。その場合、シェルコア粒子
のコア部の直径/シェルコア粒子の直径の比は、好まし
くは1/10〜1/1.03、さらに好ましくは1/
2.5〜1/1.1が好適である。該比が1/10を超
える場合、1/1.1を下回る場合はそれぞれ有機粒子
的、無機粒子的な性質を帯びるようになり、前述のよう
にいずれの場合もフィルムの加工性、磁気テープの性能
に悪影響を及ぼし易くなる。
【0017】シェルコア粒子の平均粒径は0.003μ
m〜0.13μm、好ましくは0.005μm〜0.0
5μmの範囲にある。更に粒度分布が均一であるものが
好ましい。平均粒径が0.003μmを下まわるとすべ
り性、耐削れ性が悪化し、ロール状に巻取った場合はブ
ロッキング現象が発生する。また平均粒径が0.13μ
mを超えると粒子の脱落が発生し、耐削れ性が悪化す
る。また、磁気ヘッドとのスペーシングが大きくなり高
密度の磁気記録媒体として供することが困難となる。
【0018】該シェルコア粒子の皮膜層中での凝集率は
5%以下が好ましく、より好ましくは2%以下である。
凝集率が5%を超えると、該粒子凝集体の異常突起とし
ての性質が顕著となり、また粒子の脱落も発生しやすく
なり、磁気テープとしての性能に悪影響を及ぼし易くな
る。
【0019】更に該シェルコア粒子に起因する表面突起
が単位面積当たりに占める個数は、50万個/mm2
上が好ましく、さらに好ましくは250万個/mm2
上である。該個数が50万個/mm2 以上であると強磁
性薄膜を形成させた場合形成面での易滑性が十分とな
り、また、電磁変換特性がより良好となる。
【0020】シェルコア粒子の製法としては、通常の乳
化重合を用いて容易に製造しうるが、特に乳化重合に限
定される訳ではない。乳化重合法の例をあげると、まず
コア部分を形成するモノマー、乳化剤、重合開始剤およ
び水の系で第一段階の乳化重合を行い、重合が実質的に
終了した段階で、シェル部を形成するモノマーと重合開
始剤を添加し第二段階の乳化重合を行う。シェルコア粒
子を2層以上の多層構造とするため、必要に応じてモノ
マー組成を変えて第三段階の乳化重合、あるいはそれ以
上の重合を行っても良い。
【0021】本発明における皮膜層は後述する共押出に
より形成してもよく、塗液を塗布・乾燥し塗布層として
形成してもよい。
【0022】皮膜層を塗布層として形成する場合、積層
フィルムの少なくとも片面(後に金属薄膜が形成され磁
気記録がなされる面;以下A面とする)に塗布される塗
剤は、粒子形態、粒子の分散状態などを損なわないため
に、シェルコア粒子、界面活性剤および水のみから構成
されることが望ましいが、本発明の効果を損なわない範
囲であれば密着性、走行耐久性をより良化せしめる目的
で水溶性樹脂、シランカップリング剤を含有させてもよ
い。
【0023】本発明でいう界面活性剤としては、例えば
アルキルサルフェート、エトキシサルフェート、ジアル
キルスルホコハク酸ナトリウム、アルキルベンゼンスル
ホン酸ナトリウム等が挙げられるが、特にアルキルベン
ゼンスルホン酸ナトリウムが望ましい。該界面活性剤は
主に塗液中のシェルコア粒子の分散状態を良好にし、ま
た積層フィルムに対する濡れ性等を改良するものであ
り、該目的を達成するためにシェルコア粒子の固形分重
量に対し任意の割合で添加されるが、経済性、作業性等
の観点から該機能を損なわない範囲で含有量はより少量
が望ましく、好ましくはシェルコア粒子の固形分重量に
対し2000%以下、より好ましくは500%以下であ
る。
【0024】本発明でいう水とは特に限定されないが、
好ましくは細菌類を極力取り除き、イオン交換器を通し
て各種金属イオン、ハロゲンイオン等を取り除いた清浄
水、純水がよい。
【0025】本発明でいう水溶性樹脂としては、分子内
に極性の高いグループと、疎水性のグループとが組合わ
さったものが好ましい。極性グループとして、水酸基、
酸基、エーテル、エステル基、エポキシ、スルホン酸
基、ウレタン結合等、疎水性部分として脂肪族鎖、芳香
族鎖等を含むものが良く、ポリエステルエーテル共重合
体、水溶性ポリエステル共重合体、ポリエチレングリコ
ール・スルホン酸アルカリ金属塩を含むポリエステル共
重合体等が使用できる。ジカルボン酸およびグリコール
からなるポリエステル共重合体において、5−ナトリウ
ムスルホイソフタル酸塩およびジエチレングリコールを
成分にもつものが、特に好ましい。含有量はシェルコア
粒子固形分に対して1000%以下、好ましくは500
%以下がよい。含有量が1000%をこえると表面粗度
の上昇、粒子凝集が発生し易くなる。
【0026】本発明でいうシランカップリング剤とは、
その分子中に2個以上の異なった反応基をもつ有機ケイ
素単量体であり、反応基の一つはメトキシ基、エトキシ
基、シラノール基などであり、もう一つの反応基はビニ
ル基、エポキシ基、メタアクリル基、アミノ基、メルカ
プト基などである。反応基はシリコーン側鎖基、末端基
と結合するものを選ぶが、ビニルトリクロルシラン、ビ
ニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシ
エトキシ)シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミ
ノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン
等が使用できる。含有量はシェルコア粒子固形分重量に
対して好ましくは50%以下、より好ましくは20%以
下である。含有量が50%をこえると表面粗度の上昇、
粒子凝集が発生し易くなる。
【0027】本発明におけるシェルコア粒子を使用する
事によって、フィルム上での粒子凝集率が従来の無機、
有機微粒子を使用した場合に比べ格段に向上するわけだ
が、その理由として、従来塗液組成との違いに基ずく
塗液粘度の低下による該微粒子の分散性の向上、従来
塗液組成との違いの基ずく塗液pHの変化による該微粒
子の分散性の向上、シェルコア粒子表面の物理化学的
性質基ずくもの、などが考えられる。
【0028】また、A面に塗布した塗液を、さらに走行
性改善のためにA面の反対面(以下B面とする。)に塗
布し塗膜を形成させても良い。これら塗膜は所望のフィ
ルム表面形態を発現させるためのみならず、A面、B面
からのポリエステルオリゴマ析出による粗大突起形成の
防止に有効である。特にA面には所望の電磁変換特性を
維持するために有効である。
【0029】高温高湿下での走行性をさらに向上させる
ために基層フィルム中に平均粒径3nm以上の微細粒子
を103 〜105 個/mm2 存在させてもよい。3nm
未満の微粒子では、蒸着薄膜面の走行性が向上しない。
また、平均粒径150nmを越えると電磁変換特性のう
ち特にS/N比が悪化する。また、103 個/mm2
下の存在密度では、走行性向上は認められず、105
/mm2 を越えると、該磁性面の電磁変換特性のうち、
特にS/N比が悪化する。
【0030】また上記基層フィルム中に存在せしめる微
粒子は、走行性・耐久性改善のために、要求に合わせて
存在させてよい。共押出した場合には、A面側,B面側
どちらか一方もしくは両方の側のポリエステル層に存在
させて良い。
【0031】以上の皮膜層を形成させた後のA面の表面
粗さは1nm〜5nmが好ましい。さらに好ましくは、
1.2nm〜4nmである。5nmを越えると、電磁変
換特性が悪化し、金属薄膜型磁気記録媒体用として不適
当になり易い。また1nmを下回ると滑り性が極度に悪
化し、磁気ヘッドに張り付いたり、テープ鳴きを生じた
りし実用に供することができなくなり易い。
【0032】またB面についても、以上の皮膜層を形成
させた後の表面粗さは、好ましくは10〜30nm、さ
らに好ましくは12〜20nmである。B面の表面粗さ
が30nmを超えると強磁性金属薄膜を蒸着により形成
する際、蒸着キャンとの密着性不良により熱負けを発生
し金属薄膜を形成させることが困難となり易い。また1
0nmを下回るとフィルムを巻取る際のハンドリング性
が悪化し、生産効率が低下し易い。
【0033】次に本発明における基層フィルム及び皮膜
層の形成方法について述べる。基層フィルムは通常上記
熱可塑性樹脂を公知の方法により溶融押出し、キャステ
ィングドラム上で冷却固化して未延伸フィルムシートを
得、一軸延伸し、必要ならば所望の塗液を塗布・乾燥
し、その後に一軸延伸方向と直交する方向に延伸配向
し、そして熱固定することによって得られる。溶融押出
は単一種の熱可塑性樹脂を用いて行い、単層の基層フィ
ルムとしてもよく、異種の熱可塑性樹脂を用いて矩形の
フィードブロック(以後ピノールと呼ぶ)により共押出
をして、二層もしくは三層以上の基層フィルムとしても
よい。二軸延伸は例えば逐次二軸延伸法、同時二軸延伸
法で行うことができるが、所望するならば熱固定前にさ
らに縦あるいは横方向あるいは縦と横方向に再度延伸さ
せ機械的強度を高めた、いわゆる強力化タイプとするこ
ともできる。
【0034】皮膜層の形成方法については共押出により
形成してもよく、塗液を塗布・乾燥し塗布層として形成
しても良い。共押出による場合はシェルコア粒子を所望
量含有せしめたポリマーを前述のピノールを用いて共押
出し皮膜層を形成せしめる。塗布による場合は前述の通
り1軸方向への延伸を終えた段階で所望の塗液を基層フ
ィルム上に塗布する。塗布方法としては、ドクターブレ
ード方式、グラビア方式、リバースロール方式、メタリ
ングバー方式のいずれであってもよい。
【0035】製膜速度については、皮膜層を塗布層とし
て形成する場合、生産性、経済性等の観点から、望まし
くは60m/分以上、さらに望ましくは90m/分以上
である。本発明における塗液を使用した場合、製膜速度
を90m/分以上としても特に塗布スジ等の表面欠点を
生じること無く製膜が可能となる。皮膜層を共押出層と
して形成する場合は、さらに増速が可能となり、望まし
くは180m/分、さらに望ましくは250m/分であ
る。
【0036】本積層フィルムは磁気記録媒体のベースと
してオーディオ、ビデオ、コンピュータの外部記憶装置
(フロッピーディスク、磁気テープ)等、多方面に使用
が可能であるが、好ましくは上記用途の中でも高密度記
録が要求される分野、特にデジタルビデオに代表される
高密度薄膜型ビデオテープに使用すると優れた結果を得
ることができ好適である。
【0037】
【測定法】
(1) 表面粗さ(2乗平均粗さ) Digital Instruments 社製の原子間力顕微鏡NanoScope
II AFM Dヘッドを使用し以下の条件で2乗平均粗
さ(平面をフィッティングしたときの標準偏差、単位n
m)を測定した。
【0038】探針(tip) SiNカンチレバー一体型
針"Nano Probes" 走査モード 力一定モード(トポグラフィックモー
ド) 走査範囲 5μm×5μm 走査速度 0.69Hz 測定環境 室温、大気中 (2) 走行耐久性(△μk) フィルムを幅1/2インチのテープ状にスリットしたも
のをテープ走行性試験機SFT−700型((株)横浜
システム研究所製)を使用し、20℃、60%RH雰囲
気下で走行させ、初期の摩擦係数μk1 と50回繰り返
し走行させた時の摩擦係数μk50を下記の式より求めた
(フィルム幅は1/2インチとした)。 μk=(2/π)ln(T2 /T1 ) △μk=μk50−μk1 ここで、T1 は入側張力(50g)、T2 は出側張力で
ある。ガイド径は6mmφであり、ガイド材質はSUS
27(表面粗度0.2S)、巻き付け角は90゜、走行
速度は3.3cm/秒である。この測定によって得られ
た△μkが0.04未満の場合は(○)、0.04以上
0.06以下の場合は(△)、0.06を越える場合は
(×)と判定した。
【0039】(3) 耐削れ性 フィルムを25〜30cm長さ、幅1/2インチにサン
プリングし、レザー刃をA面に対し90゜の角度、深さ
0.5mmの条件であてがい、荷重500g/0.5イ
ンチ、速度6.7cm/secで走行させたときに、レ
ザー刃に付着した削れ粉の深さ方向の幅を顕微鏡写真撮
影(×160倍)して求めた。削れ粉の深さ方向の幅が
3mμ以下を(○)、3mμ〜5mμを(△)、5mμ
以上を(×)とした。削れ粉の深さ方向の幅が小さいほ
ど削れ性に優れている。
【0040】(4) 粒子突起の個数、凝集率 SEM(電界放射型走査電子顕微鏡、日立製S−800
型)を使用して、積層フィルムの表面を倍率3万倍、角
度0゜で5枚写真撮影して、粒状突起の数をカウント
し、その平均値を面積換算により個/mm2 当たりの突
起個数として算出した。また凝集率は同じSEM写真を
用いて下記式にて算出した。
【0041】凝集率(%)=(2個以上の粒子が凝集し
た凝集塊の総数)/(1個以上の粒子塊の総数)×10
0 (5) 電磁変換特性 フィルムのA面側に電子ビーム蒸着法にてCo−Ni強
磁性金属薄膜(Ni20重量%、膜厚1500オングス
トローム)を微量の酸素存在下に形成させる。酸素濃度
は強磁性金属薄膜の酸素含有量が金属に対する原子数比
で5%となるように調整する。該蒸着フィルムの蒸着面
にトリクロロトリフルオロエタンの分散したパーフルオ
ロアルキルエーテル金属塩を固形分で約30mg/m2
塗布し、さらにB面側にアルキルリン酸エステルを含む
ポリイソシアネート、ポリウレタンおよびニトロセルロ
ースからなる混合物を乾燥後の厚さが0.8μmになる
よう塗布してバックコート層を形成した後、8mm幅に
スリットして磁気テープを得た。このテープ50m長さ
をSONY製家庭用VTR(EV−S900)を用いて
シバソク製のテレビ試験波形発生器(TG7/U70
6)により100%クロマ信号を記録し、その再生信号
からシバソク製カラービデオノイズ測定器(925D/
1)でクロマS/Nを測定した。
【0042】(6) 平均粒径 TEM(透過型電子顕微鏡、日立製H−800型)を使
用して、フィルムに含有される個々の粒子の中心位置で
切断した超薄切片を観察し、計測された直径の平均を平
均粒径とする。通常そのままで粒子形態を特定できる
が、観察しにくい場合はRuO4 やOsO4 等で染色す
る。シェルコア粒子の測定においてシェル部の変形が生
じている場合は、観察されるシェルコア粒子の断面部分
について、コア部中心を中心とする内接円をその直径と
し平均粒径を算出する。粒子形状が球形以外の場合も、
前記方式に準じて平均粒径の算出を行う。
【0043】
【実施例】
実施例1 平均粒径180nmのポリスチレン粒子を2重量%含有
するポリエチレンテレフタレートのペレットと、実質的
に不活性粒子を含有しないポリエチレンテレフタレート
のペレットを所定割合で混合した。B面側のポリエステ
ル層を構成するこれらの混合ペレットBを180℃で3
時間減圧乾燥した後(5Torr)、押出機1に供給し
た。一方、A面側のポリエステル層を構成する実質的に
不活性粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートの
ペレットAを140℃で5時間減圧乾燥(5Torr)
した後170℃で3時間減圧乾燥(5Torr)し押出
機2に供給した。これらペレットをそれぞれ280℃に
溶融した後、ピノールを用いて溶融状態で2層に積層し
(A/B)、口金スリットからシート状に押出し、静電
印加キャスト法を用いて表面温度30℃のキャスティン
グドラムに、速度30m/分で巻き付けて冷却固化し、
2層構造の未延伸フィルムを作った。この未延伸フィル
ムを長手方向に3.0倍延伸した。この延伸はシリコン
ロールの周速差を利用して、2段階で行った。この1軸
延伸フィルムのA面に下記組成よりなるシェルコア粒子
水分散体をメタリングバーコーターを用いて塗布量が
0.0028g/m2 (延伸乾燥後)になるよう塗布
し、ステンタを用いて加熱乾燥し、幅方向に3.6倍延
伸した。このフィルムを定長下で熱処理し、総厚さ6.
2μmの二軸配向ポリエステルフィルムを90m/分の
速度で得た。これらのフィルムのA面(磁性面)にはシ
ェルコア粒子に基ずく表面突起が観察され、B面(走行
面)には含有させたポリスチレン粒子に基ずく表面突起
が多数存在した。本フィルムの特性を表1、表2にまと
めた。
【0044】シェルコア粒子 0.015重量% シェル部:アクリル系樹脂 コア部:ジビニルベンゼン系樹脂 (日本合成ゴム社製 S2469(F)−19 平均
粒径20nm) 実施例2 ポリスチレン粒子の代わりに平均粒径180nmのシリ
カ粒子を使用するほかは、実施例1と同様に製膜・塗布
を行い、さらに1軸延伸後のフィルムのB面に下記組成
より成るシェルコア粒子水分散体をエアーナイフかきお
とし方式にて塗布量が0.0071g/m2 (延伸乾燥
後)になるよう塗布し、二軸配向ポリエステルフィルム
を得た。
【0045】 シェルコア粒子 0.15重量%(固形
分) シェル部:アクリル系樹脂 コア部:ジビニルベンゼン系樹脂 (日本合成ゴム社製 S2469(F)−16 平均
粒径60nm) 実施例3 平均粒径50nmのシリカ粒子を0.05重量%含有す
るポリエチレンテレフタレートのペレットをA層に使用
するほかは、実施例1と同様に製膜・塗布を行い、二軸
配向ポリエステルフィルムを得た。
【0046】実施例4 A面側に塗布する塗液を下記組成としたほかは実施例1
と同様に製膜・塗布を行い、二軸配向ポリエステルフィ
ルムを得た。
【0047】 シェルコア粒子 0.09重量%(固形分) シェル部:アクリル系樹脂 コア部:ジビニルベンゼン系樹脂 (日本合成ゴム社製 S2469(F)−19 平均
粒径20nm) 界面活性剤 0.15重量%(固形分) (日本油脂社製 ニューレックスR) 実施例5 A面側に塗布する塗液を下記組成としたほかは実施例1
と同様に製膜・塗布を行い、二軸配向ポリエステルフィ
ルムを得た。
【0048】 シェルコア粒子 0.015重量%(固形
分) シェル部:アクリル系樹脂 コア部:ジビニルベンゼン系樹脂 (日本合成ゴム社製 S2469(F)−19 平均
粒径20nm) 界面活性剤 0.15重量%(固形分) (日本油脂社製 ニューレックスR) シランカップリング剤 0.01重量% (信越化学社製 KBM603) 水溶性ポリエステル樹脂 0.7重量%(固形分) 実施例6 平均粒径90nmのシリカ粒子を2重量%含有するポリ
エチレンテレフタレートのペレットと、実質的に不活性
粒子を含有しないポリエチレンテレフタレートのペレッ
トを所定割合で混合した。該ペレットを140℃で5時
間減圧乾燥(5Torr)した後170℃で3時間減圧
乾燥(5Torr)した後、押出機に供給し280℃に
溶融、口金スリットからシート状に押し出した。その他
は実施例1と同様に製膜・塗布を行い、二軸配向ポリエ
ステルフィルムを得た。
【0049】実施例7 平均粒径20nmのシェルコア粒子を所定量含有するポ
リエチレンテレフタレートのペレットをA層に使用する
他は実施例1と同様に製膜を行い(ただし塗布は行わな
い)、二軸配向ポリエステルフィルムを得た。
【0050】比較例1 A面に塗布する塗液が下記公知の組成を持つほかは、実
施例1と同様に90m/分で製膜を行い二軸配向ポリエ
ステルフィルムを得た。該フィルムは塗布スジ欠点が発
生し実用に供することができなかった。
【0051】 メチルセルロース 0.2重量% 水溶性ポリエステル樹脂 0.3重量% コロイダルシリカ 0.3重量% (平均粒径
20nm) 比較例2 製膜速度を60m/分としたほかは、比較例1と同様に
製膜を行い二軸配向ポリエステルフィルムを得た。該フ
ィルムは塗布スジ欠点は発生しなかったが、微粒子の凝
集体が多く発生し、電磁変換特性において実施例に劣っ
た。
【0052】比較例3 A面に塗布する塗液が下記公知の組成を持ち、製膜速度
を60m/分としたほかは、実施例3と同様に製膜を行
い二軸配向ポリエステルフィルムを得た。該フィルムは
実施例に比べ△μkにおいて劣った。
【0053】アクリル樹脂エマルジョン 0.4重量%
(平均粒径105nm) 比較例4 A面側に塗布する塗液を下記組成としたほかは実施例1
と同様に製膜・塗布を行い、二軸配向ポリエステルフィ
ルムを得た。該フィルムは実施例に比べ耐削れ性におい
て劣った。
【0054】 シェルコア粒子 0.9重量%(固形分) シェル部:アクリル系樹脂 コア部:ジビニルベンゼン系樹脂 (平均粒径
0.15μm) 界面活性剤 0.15重量%(固形分) (日本油脂社製 ニューレックスR)
【表1】
【表2】
【0055】
【発明の効果】本発明フィルムは、内部よりも外部の方
が軟質な粒子に基ずく表面突起を有するため、無欠点
性、平滑性、耐削れ性、耐久走行性に優れている。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 熱可塑性樹脂を主体とする基層フィルム
    の少なくとも片面に、平均粒径が0.003〜0.13
    μmである内部よりも外部の方が軟質な粒子を含有する
    皮膜層を設けたことを特徴とする磁気記録媒体用積層フ
    ィルム。
  2. 【請求項2】 前記皮膜層が塗布層であることを特徴と
    する請求項1に記載の磁気記録媒体用積層フィルム。
  3. 【請求項3】 前記粒子の平均粒径が0.005〜0.
    05μmである請求項1または2に記載の磁気記録媒体
    用積層フィルム。
  4. 【請求項4】 前記粒子に起因する表面突起が1mm2
    当たり50万個以上である請求項1、2または3に記載
    の磁気記録媒体用積層フィルム。
  5. 【請求項5】 前記皮膜層に界面活性剤を含有すること
    を特徴とする請求項1、2、3または4に記載の磁気記
    録媒体用積層フィルム。
  6. 【請求項6】 前記皮膜層中での前記粒子の凝集率が5
    %以下であることを特徴とする請求項1、2、3、4ま
    たは5に記載の磁気記録媒体用積層フィルム。
  7. 【請求項7】 前記皮膜層が共押出層で構成されている
    ことを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体用積層
    フィルム。
  8. 【請求項8】 前記粒子の平均粒径が0.005〜0.
    05μmである請求項7に記載の磁気記録媒体用積層フ
    ィルム。
  9. 【請求項9】 前記粒子に起因する表面突起が1mm2
    当たり50万個以上である請求項7または8に記載の磁
    気記録媒体用積層フィルム。
  10. 【請求項10】 前記皮膜層中での前記粒子の凝集率が
    5%以下であることを特徴とする請求項7、8、または
    9項に記載の磁気記録媒体用積層フィルム。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005012434A1 (ja) * 2003-07-30 2005-02-10 Sony Chemicals Corporation 剥離性組成物、熱転写記録媒体及び転写性保護フィルム

Cited By (2)

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WO2005012434A1 (ja) * 2003-07-30 2005-02-10 Sony Chemicals Corporation 剥離性組成物、熱転写記録媒体及び転写性保護フィルム
CN1324090C (zh) * 2003-07-30 2007-07-04 索尼化学株式会社 可剥离型组合物、热转印记录介质以及转印型保护膜

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