JPH10151706A - 積層フイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 製膜、加工工程で耐削れ性、ハンドリング性
に優れ、しかも電磁変換特性、ドロップアウト特性、繰
返し走行性に優れた磁気記録媒体のベースとなり得る材
料（フイルム）の開発。 【解決手段】 滑剤を含まない熱可塑性樹脂層Ａの片面
に、平均粒径ｄ_B ５〜１００ｎｍのコアシェル型滑剤を
含む塗膜層（皮膜層）Ｂを形成させる。要すれば他の片
面にＣ層を形成せしめた３層構造の複合フイルムでもよ
い。この複合フイルムは８０℃から２０℃に変化せしめ
た際の縦、横方向の寸法変位の差が８×１０^-4％以下で
ある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体用積層
フイルムに関する。更に詳しくは、巻取性、易滑性、ハ
ンドリング性等に優れ、電磁変換特性、ドロップアウト
特性、磁性層の走行性及び耐久性に優れた高密度磁気記
録媒体用基材として用いるのに適した熱可塑性樹脂積層
フイルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録の高密度化の進歩はめざ
ましく、例えば強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパッタリ
ング等の物理沈着法又はメッキ法により非磁性支持体上
に形成せしめた強磁性金属薄膜磁気記録媒体、或はメタ
ル粉や酸化鉄粉等の針状磁性粉体を２μｍ以下に塗布し
た薄層塗布型磁気記録媒体の開発実用化が進んでいる。

【０００３】前者の例としては、例えば、Ｃｏの蒸着テ
ープ（特開昭５４―１４７０１０号公報）、Ｃｏ―Ｃｒ
合金からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２―１３４７
０６号公報）が開示されている。また後者の例として
は、例えば極薄層塗布型媒体による高密度磁気記録（電
子通信学会技術報告ＭＲ９４―７８（１９９５―０
２））等が開示されている。

【０００４】従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有
機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布
してなる磁気記録媒体）は、記録密度が低く、記録波長
も長い為に、磁性層の厚みが２μｍ程度以上と厚いのに
対して、真空蒸着、スパッタリング又はイオンプレーテ
ィング等の薄膜形成手段によって形成される金属薄膜
は、厚みが０．２μｍ以下と薄い。なお、極薄層塗布型
媒体の場合も、非磁性下地層も提案されているものの、
０．１３μｍの厚みと塗布型磁性体層が提案されており
非常に薄くなっている。

【０００５】この為、上記の高密度磁気記録媒体におい
ては、非磁性支持体の表面状態が磁気記録層の表面性に
大きな影響を及ぼし、特に金属薄膜型の磁気記録媒体の
場合には、非磁性支持体の表面状態がそのまま磁気記録
層表面の凹凸として発現し、それが再生信号の雑音の原
因となる。従って非磁性支持体の表面は出来るだけ平滑
であることが望ましい。

【０００６】一方、ベースフイルムの製膜、加工工程で
の搬送・傷付、巻取、巻出といったハンドリングの観点
からは、フイルム表面が平滑過ぎると、フイルム―フイ
ルム相互の滑り性が悪化し、ブロッキング現象が発生
し、ロールに巻いた時の形状（ロールフォーメーショ
ン）が悪化し、製品歩留の低下、ひいては製品の製造コ
ストの上昇をもたらす。従って製造コストの点では支持
体の表面はある程度粗いことが望ましい。

【０００７】この様に電磁変換特性という観点からは非
磁性支持体の表面は平滑であることが要求され、ハンド
リング性、フイルムコストの観点からは粗いことが要求
される。

【０００８】更に、蒸着金属薄膜型磁気記録媒体の場合
には、実際に使用される時の問題点として金属薄膜面の
走行性がある。磁性体粉末を有機高分子バンダー中に混
入させてベースフイルムに塗布してなる塗布型磁気記録
媒体の場合には、該バインダー中に潤滑剤を分散させて
磁性面の走行性を向上させることが出来るが、蒸着金属
薄膜型磁気記録媒体の場合にはこの様な対策がとれず、
走行性を安定して保つのは非常に難しく、特に高温高湿
条件下の走行性が劣るなどの欠点を有している。

【０００９】そこで、優れた品質の高密度記録媒体用ベ
ースフイルムを安価に供給する為には上記の相反する性
質を同時に満足することが必要とされる。

【００１０】この為の具体的方法として、フイルム表
面に特定の塗剤を塗布して不連続皮膜を形成させる方法
（特公平３―８０４１０号、特開昭６０―１８０８３９
号、特開昭６０―１８０８３８号、特開昭６０―１８０
８３７号、特開昭５６―１６９３７号、特開昭５８―６
８２２３号等）、連続皮膜を形成する方法（特開平５
―１９４７７２号、特開平５―２１０８３３号）、共
押出等の技術により表裏を異面化する方法（特開平２―
２１４６５７号、特公平７―８０２８２号）及びとし
ての＋又は＋の組み合わせによる方法（特開平
３―７３４０９号）が提案されている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、不連続
皮膜や連続皮膜を形成する従来の方法に於いては、フイ
ルム―フイルム間の滑り、ブロッキングといった課題は
解決できているものの、皮膜中に微細な不活性粒子を均
一分散させることが難しく凝集粒子による粗大突起を生
じやすい。これに起因して電磁変換特性が悪化するなど
磁気テープとしての品質が安定しないという問題があっ
た。また凝集粒子は単分散粒子と比較して製膜工程で用
いられる種々のガイドロールとの接触によって削り取ら
れやすく、ベースフイルム上に付着堆積して突起とな
り、磁気テープとしたときにドロップアウトの原因とな
る問題もある。

【００１２】一方無機粒子は硬度が高く、変形しにくい
ため磁気ヘッドのクリーニング性に優れており、また種
々のサイズの微粒子の製造が容易であるものの、ポリマ
ーとの親和性に乏しく粒子の脱落を生じやすい傾向が見
られる。他方有機粒子はポリマーとの親和性は優れるも
のの、硬度が無機粒子に比べ低く、粒子全体に熱や機械
的摩擦による変形等が加わるため、テープの電磁変換特
性がテープの走行を繰り返すことにより劣化していくと
いう問題があった。

【００１３】更に、使用する機器（ハードウエア）の小
型化による高密度実装化に伴いテープに対する熱的負荷
はますます高まりつつある。特に高密度磁気記録媒体で
は磁気記録トラックのピッチが１０μｍ前後と非常に狭
いため、熱履歴によるベースフイルムの寸法変化はトラ
ックのずれにつながり、電磁変換特性の低下を引き起こ
すという問題がある。

【００１４】本発明の目的は、上述の従来技術の欠点を
解消し、製膜工程での削れ性、巻取性に優れ、蒸着金属
薄膜型磁気記録媒体として用いられた場合に、電磁変換
特性、ドロップアウト特性、出力低下、走行耐久性に優
れた積層フイルムを提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明は、実質的に不活
性粒子を含有しない熱可塑性樹脂層Ａの少なくとも片面
に、平均粒径ｄ_B が５〜１００ｎｍ、体積形状係数が
０．１〜π／６である不活性粒子Ｂを含む水溶性樹脂か
らなる皮膜層Ｂを有する積層フイルムであって、環境温
度を８０℃から２０℃に変化させた際のフイルム長手方
向の寸法変位Ｌ_M（％）及び幅方向の寸法変位Ｌ
_T （％）が下記式（１）を満たすことを特徴とする積層
フイルムである。 │Ｌ_T −Ｌ_M │≦８．０×１０^-4 ……（１） 本発明における熱可塑性樹脂には、ポリエステル系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリエーテ
ル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニル系樹
脂、ポリオレフィン系樹脂等を例示することができる。
これらのうちポリステル系樹脂、殊に芳香族ポリエステ
ルが好ましい。

【００１６】この芳香族ポリエステルとしては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、
ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ―１，４―シ
クロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン―２，６―ナフタレンジカルボキシレート等を好まし
くは例示することができる。これらのうち、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン―２，６―ナフタレン
ジカルボキシレートが特に好ましい。

【００１７】上記ポリエステルはホモポリエステルであ
ってもコポリエステルであってもよい。コポリエステル
の場合、ポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン
―２，６―ナフタレンジカルボキシレートの共重合成分
としては、例えばジエチレングリコール、プロピレング
リコール、ネオペンチルグリコール、ポリオキシエチレ
ングリコール、ｐ―キシレングリコール、１，４―シク
ロヘキサンジメタノール等のジオール成分、アジピン
酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸（但しポリエチレン―２，６―ナフタレンジカルボキ
シレートの場合）、２，６―ナフタレンジカルボン酸
（但しポリエチレンテレフタレートの場合）、５―ナト
リウムスルホイソフタル酸等の他のジカルボン酸成分、
ｐ―オキシエトキシ安息香酸等のオキシカルボン酸成分
等があげられる。尚、共重合成分の量は２０モル％以
下、更には１０モル％以下とするのが好ましい。

【００１８】更に、トリメリット酸、ピロメリット酸等
の３官能以上の多官能化合物を共重合させることもでき
る。この場合ポリマーが実質的に線状である量、例えば
２モル％以下共重合させることができる。

【００１９】本発明において、熱可塑性樹脂層Ａは粒子
を実質的に含有しないことが必要である。ここで粒子を
実質的に含有しないとは、フイルム表面に突起を形成す
るような外部添加粒子や内部析出粒子は含有しないが、
例えばポリエステルの重合に必要な触媒によって生じる
ことのある、滑剤作用を実質的に奏さない極々少量の粒
子は含有しても差支えないことを意味する。例えば表面
突起を形成するような粒子は除き、酸化防止剤、熱安定
剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤等の他の添加剤を必要に
応じて含有することができる。

【００２０】本発明における積層フイルムは、環境温度
を８０℃から２０℃に変化させた際のフイルム長手方向
の寸法変位Ｌ_M （％）及び幅方向の寸法変位Ｌ_T （％）
の関係が下記式（１）を満たすことが必要である。 │Ｌ_T −Ｌ_M │≦８．０×１０^-4 ……（１） │Ｌ_T −Ｌ_M │≦８．０×１０^-4を超えると磁気テープ
としたときに高温下での磁気記録トラックのずれが生
じ、電磁変換特性の低下を惹起こす。

【００２１】本発明における皮膜層Ｂを構成する水溶性
樹脂とは、水溶性有機樹脂及び水分散有機樹脂のことを
言い、水溶性のアルキッド樹脂、フェノール樹脂、エポ
キシ樹脂、アミノ樹脂、ポリウレタン樹脂、酢酸ビニル
樹脂、塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体等を例示するこ
とができる。熱可塑性樹脂層Ａに対する密着性、突起保
持性、易滑性などの点から、水溶性のアクリル樹脂、ポ
リエステル樹脂、アクリル―ポリエステル樹脂が好まし
い。これら水溶性樹脂は単一重合体でも共重合体でもよ
く、また混合物でも差支えない。

【００２２】前記水溶性アクリル樹脂は、例えばアクリ
ル酸エステル（アルコール残基としては、メチル基、エ
チル基、ｎ―プロピル基、イソプロピル基、ｎ―ブチル
基、イソブチル基、ｔ―ブチル基、２―エチルヘキシル
基、シクロヘキシル基、フェニル基、ベンジル基、フェ
ニルエチル基等を例示できる）；メタクリル酸エステル
（アルコール残基は上記と同じ）；２―ヒドロキシエチ
ルアクリレート、２―ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、２―ヒドロキシプロピルアクリレート、２―ヒドロ
キシプロピルメタクリレート等の如きヒドロキシ含有モ
ノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ―メチ
ルメタクリルアミド、Ｎ―メチルアクリルアミド、Ｎ―
メチロールアクリルアミド、Ｎ―メチロールメタクリル
アミド、Ｎ，Ｎ―ジメチロールアクリルアミド、Ｎ―メ
トキシメチルアクリルアミド、Ｎ―メトキシメチルメタ
クリルアミド、Ｎ―フェニルアクリルアミド等の如きア
ミド基含有モノマー；Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノエチルア
クリレート、Ｎ，Ｎ―ジエチルアミノエチルメタクリレ
ート等の如きアミノ基含有モノマー；グリシジルアクリ
レート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジル
エーテル等の如きエポキシ基含有モノマー；スチレンス
ルホン酸、ビニルスルホン酸、及びこれらの塩（例えば
ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩等）等の如
きスルホン酸基又はその塩を含有するモノマー；クロト
ン酸、イタコン酸、アクリル酸、マレイン酸、フマール
酸、及びそれらの塩（例えばナトリウム塩、カリウム
塩、アンモニウム塩等）等の如きカルボキシル基又はそ
の塩を含有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコ
ン酸等の無水物を含有するモノマー；その他ビニルイソ
シアネート、アリルイソシアネート、スチレン、ビニル
メチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリス
アルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、
アルキルフマール酸モノエステル、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル、アルキルイタコン酸モノエステ
ル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル、塩化ビニル等の単量
体の組合せからつくられたものであるが、アクリル酸誘
導体、メタクリル酸誘導体の如き（メタ）アクリル単量
体の成分が５０モル％以上含まれているものが好まし
く、特にメタクリル酸メチルの成分を含有しているもの
が好ましい。

【００２３】水溶性アクリル樹脂は分子内の官能基で自
己架橋することができるし、メラミン樹脂やエポキシ化
合物等の架橋剤を用いて架橋することもできる。

【００２４】本発明に供する水溶性ポリエステル樹脂を
構成する酸成分としては、例えばテレフタル酸、イソフ
タル酸、フタル酸、１，４―シクロヘキサンジカルボン
酸、２，６―ナフタレンジカルボン酸、４，４′―ジフ
ェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカ
ンジカルボン酸、コハク酸、５―ナトリウムスルホイソ
フタル酸、２―カリウムスルホテレフタル酸、トリメリ
ット酸、トリメシン酸、無水トリメリット酸、無水フタ
ル酸、ｐ―ヒドロキシ安息香酸、トリメリット酸モノカ
リウム塩等の多価カルボン酸を例示することができる。
また、ヒドロキシ化合物成分としては、例えばエチレン
グリコール、プロピレングリコール、１，３―プロパン
ジオール、１，４―ブタンジオール、１，６―ヘキサン
ジオール、ネオペンチルグリコール、１，４―シクロヘ
キサンジメタノール、ｐ―キシリレングリコール、ビス
フェノールＡのエチレンオキシド付加物、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、ポリエチレンオキ
シドグリコール、ポリテトラメチレンオキシドグリコー
ル、ジメチロールプロピオン酸、グリセリン、トリメチ
ロールプロパン、ジメチロールエチルスルホン酸ナトリ
ウム、ジメチロールプロパン酸カリウム等の多価ヒドロ
キシ化合物を例示することができる。これらの化合物か
ら常法によってポリエステル樹脂をつくることができ
る。水性塗料をつくる点からは、５―ナトリウムスルホ
イソフタル酸成分又はカルボン酸塩基を含有する水性ポ
リエステル樹脂を用いるのが好ましい。かかるポエステ
ル樹脂は分子内に官能基を有する自己架橋型とすること
ができるし、メラミン樹脂、エポキシ樹脂のような硬化
剤を用いて架橋することもできる。

【００２５】本発明では、水溶性アクリル―ポリエステ
ル樹脂はアクリル変性ポリエステル樹脂とポリエステル
変性アクリル樹脂とを包含する意味で用いており、アク
リル樹脂成分とポリエステル樹脂成分とが互いに結合し
たものであって、例えばグラフトタイプ、ブロックタイ
プ等を包含する。アクリル―ポリエステル樹脂は、例え
ばポリエステル樹脂の両端にラジカル開始剤を付加して
アクリル単量体の重合を行わせたり、ポリエステル樹脂
の側鎖にラジカル開始剤を付加してアクリル単量体の重
合を行わせたり、あるいはアクリル樹脂の側鎖に水酸基
を付け、末端にイソシアネート基やカルボキシル基を有
するポリエステルと反応させて櫛形ポリマーとする等に
よって製造することができる。

【００２６】本発明に供する内部より外部の方が軟質な
粒子（以下、シェルコア粒子と呼ぶ）Ｂとは、内外部の
それぞれが性質の異なる物質で構成される多層構造の粒
子をいう。この場合多層とは２層以上のことをいい、性
質が径方向に連続的に変化するものであってもよい。こ
の粒子の外部（以下、シェル部と呼ぶ）はフイルム上に
塗布後フイルム基部と反応し、または熱処理を行うこと
により反応、溶融、軟化もしくは変形してフイルム基部
に固着する機能を有し、内部（以下、コア部と呼ぶ）は
シェル部と共にフイルムに適度の滑り性及び磁気ヘッド
との最適なスペーシングを与える、いわゆる粒子として
の機能を担うと推測される。上記シェル部、コア部それ
ぞれの機能分担の観点から、シェル部にはフイルム基部
との親和性に優れ、かつ製膜熱処理温度での適切な物理
的、化学的、熱的特性を備えることが要求され、コア部
には機械的摩擦等によって変形せず、シェル部もしくは
基層フイルムに対し相対的に大なる硬度を有することが
求められる。

【００２７】このシェルコア粒子Ｂのコア部の材質とし
ては、ポリスチレン、ポリスチレン―ジビニルベンゼ
ン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート
共重合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテ
トラフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、
ポリアクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等の如き
有機質、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カオリン、
タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長石、二硫化
モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウム等の如き
無機質のいずれを用いてもよい。

【００２８】シェル部の材質については一般に熱可塑性
樹脂が好ましく、特にアクリル系樹脂、ポリエステル系
樹脂等が好ましく、さらにはフイルム基部との親和性を
高めるため、その分子中に任意の割合でフイルム基部と
の反応性もしくは親和性を有する官能基、具体的にはカ
ルボキシル基、水酸基、グリシジル基、アミド基、エポ
キシ基、イソシアネート基等を導入したものがよい。こ
れらの官能基は単独、場合によっては２種以上併用して
もよい。またシェル部のガラス転移温度（以下Ｔｇとす
る）は好ましくは８０℃以下、さらに好ましくは２０℃
以下がよい。Ｔｇが８０℃を超えるとシェルコア粒子の
フイルム上からの脱落が目立つようになる。このような
組成のポリマーをシェル部に使用することにより優れた
耐削れ性を発現させることができる。

【００２９】シェルコア粒子Ｂの下記式で定義される体
積形状係数（ｆ）は０．１〜π／６である。 ｆ＝Ｖ／ｄ_B ³ ここで、Ｖはシェルコア粒子の体積を、ｄ_B は粒子の平
均粒径を表す。

【００３０】この体積形状係数ｆは０．３〜π／６が好
ましく、更に０．４〜π／６の実質的に球あるいはラグ
ビーボール状の楕円球が好ましい。ｆが０．１より小さ
いと、例えば薄片状粒子では薄膜磁性層の磁気特性の劣
化を来たす。

【００３１】シェルコア粒子Ｂの平均粒径は５〜１００
ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍである。更に粒度分布
が均一であるものが好ましい。平均粒径が５ｎｍを下ま
わると滑り性、耐削れ性が悪化し、ロール状に巻取った
場合はブロッキング現象が発生する。一方平均粒径が１
００ｎｍを超えると、粒子の脱落が発生し、耐削れ性が
悪化する。また、磁気ヘッドとのスペーシングが大きく
なり高密度の磁気記録媒体として供することが困難とな
る。

【００３２】シェルコア粒子Ｂの皮膜層Ｂ中での凝集率
（実施例の測定項目（６）において後述するように）は
１０％以下が好ましく、より好ましくは５％以下であ
る。この凝集率が１０％を超えると、粒子凝集体の異常
突起としての性質が顕著となり、また粒子の脱落も発生
しやすくなり、磁気テープとしての性能に悪影響を及ぼ
し易くなる。

【００３３】シェルコア粒子Ｂは、皮膜層Ｂの表面突起
頻度が１×１０⁶ 〜１×１０⁸ 個／ｍｍ² となる量を呈
するように皮膜層Ｂ中に含有される。この表面突起頻度
が１×１０⁶ 個／ｍｍ² 未満では磁気記録媒体としたと
きの走行耐久性が不足する。他方、１×１０⁸ 個／ｍｍ
² を超えると電磁変換特性に悪影響を及ぼす。より好ま
しい表面突起頻度は２×１０⁶ 〜５×１０⁷ 個／ｍ
ｍ² 、更に好ましくは３．０×１０⁶ 〜３．０×１０⁷
個／ｍｍ² である。

【００３４】皮膜層Ｂの層厚みｔ_B （ｎｍ）とシェルコ
ア粒子Ｂのコア部の粒径ｄ_B の比（ｄ_B ／ｄ_B ）は、
０．０５〜０．８、好ましくは０．０８〜０．６、更に
好ましくは０．１〜０．５である。この比（ｄ_B ／
ｄ_B ）が０．８を超えると、シェルコア粒子Ｂの突起形
成作用が減少し、磁気記録媒体としたときの走行耐久性
が不足する。一方、０．０５より小さくなると、製膜工
程におけるガイドロールとの接触によって積層フイルム
表面の粒子が削りとられて走行耐久性が不足したり、削
り取られた粒子がフイルム上に付着堆積してドロップア
ウトの増加を惹起こしたりする。

【００３５】シェルコア粒子Ｂは、例えばコア部の粒子
が存在する系で、シェル部の重合性単量体を乳化重合せ
しめ、コア部の粒子表面を被覆する方法で製造すること
ができるが、粒子の製造方法によって限定されるもので
はない。

【００３６】本発明における皮膜層Ｂは熱可塑性樹脂層
Ａの少なくとも片面に、前述したシェルコア粒子及び水
溶性樹脂を含む塗液、好ましくは水溶性塗液として塗
布、乾燥することで形成する。この塗液の固形分濃度は
０．２〜１０重量％、さらには０．５〜５重量％、特に
０．７〜３重量％であることが好ましい。そしてこの塗
液、好ましくは水溶性塗液には本発明の効果を損わない
範囲であれば所望により他の成分、例えば界面活性剤、
安定剤、分散剤、ＵＶ吸収剤、増粘剤等を添加すること
ができる。

【００３７】塗布は最終延伸を施す以前の熱可塑性樹脂
フイルムに施し、塗布後にフイルムを少なくとも一軸方
向に延伸することが好ましい。この延伸の前乃至途中で
塗膜は乾燥される。その中で塗布は未延伸熱可塑性樹脂
フイルム又は縦（一軸）延伸熱可塑性樹脂フイルムに行
うことが好ましい。塗布方法としては特に限定されない
が、例えばロールコート法、ダイコート法等が好ましく
例示できる。

【００３８】皮膜層Ｂの表面の、原子間力顕微鏡（ＡＦ
Ｍ）による表面粗さＡＲａ_B （ｎｍ）は、０．３〜５．
０ｎｍ、さらに好ましくは０．５〜４．０ｎｍ、特に好
ましくは０．７〜２．５ｎｍである。また１０点平均粗
さＡＲｚ_B （ｎｍ）は、１０〜１００ｎｍ、さらに１５
〜７０ｎｍ、特に好ましくは２０〜４０ｎｍである。一
方、ＡＲｚ_B が５．０ｎｍを超える場合、あるいはＡＲ
ｚ_B が１００ｎｍを超える場合には、特に金属薄膜型磁
気記録媒体としたときに電磁変換特性が悪化する。他
方、ＡＲｚ_B が０．３ｎｍ未満の場合、あるいはＡＲｚ
_B が１０ｎｍ未満の場合は、滑り性が極度に悪化して走
行耐久性が不足したり、磁気ヘッドに貼り付いてテープ
鳴きを生じたりして実用に供することができなくなり易
い。

【００３９】本発明ではフイルムの巻取り性を付与する
ために、熱可塑性樹脂層Ａの、皮膜層Ｂとは接しない面
に不活性粒子Ｃを含有する皮膜層Ｃを設けることが好ま
しい。

【００４０】皮膜層Ｃは塗布層として形成してもよく、
また後述する共押出法により形成してもよい。皮膜層Ｃ
が塗布層である場合は、含有する不活性粒子Ｃは単独粒
子又は大きさの異なる２種以上の粒子からなる。２種以
上の粒子の場合の最も大きい粒子の平均粒径は、２０〜
２００ｎｍ、好ましくは３０〜１００ｎｍである。皮膜
層Ｃ中の不活性粒子Ｃの含有量は３〜５０重量％、好ま
しくは５〜３０重量％である。粒子Ｃの平均粒径が２０
ｎｍ未満、あるいは含有量が３重量％未満であると、フ
イルムの巻取り性、製膜工程での搬送性等の点で満足で
きず、またブロッキングを起こし易くなる。一方、平均
粒径が２００ｎｍを超える場合には粒子が塗膜から脱落
しやすくなる。また皮膜層Ｃ中の不活性粒子Ｃの含有量
が５０重量％を超える場合には皮膜層Ｃ自体の強度が低
下して削れ易くなる。

【００４１】皮膜層Ｃに含有する不活性粒子Ｃとして
は、ポリスチレン、ポリスチレン―ジビニルベンゼン、
ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート共重
合体、メチルメタクリレート共重合架橋体、ポリテトラ
フルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリ
アクリロニトリル、ベンゾグアナミン樹脂等の如き有機
質からなる粒子、シリカ、アルミナ、二酸化チタン、カ
オリン、タルク、グラファイト、炭酸カルシウム、長
石、二硫化モリブデン、カーボンブラック、硫酸バリウ
ム等の如き無機質からなる粒子のいずれを用いてもよ
い。また皮膜層Ｂに用いるシェルコアの粒子であっても
よい。

【００４２】前記粒子Ｃを含有して、塗布層を形成する
樹脂としては、皮膜層Ｂの形成に用いた水溶性樹脂と同
じ樹脂を例示することができる。またこれらに更にセル
ロース系樹脂を含有させてもよい。

【００４３】皮膜層Ｃが共押出法により形成される場合
は、含有する不活性粒子Ｃが単独粒子又は大きさの異な
る２種以上の粒子からなる。単独粒子及び２種以上の粒
子の最も大きい粒子の平均粒径は１００〜１０００ｎ
ｍ、好ましくは１００〜５００ｎｍである。皮膜層Ｃ中
の不活性粒子Ｃの含有量は０．００１〜５．０重量％、
好ましくは０．００５〜１．０重量％である。平均粒径
が１００ｎｍ未満、あるいは含有量が０．００１重量％
未満であると、フイルムの巻取り性、製膜工程での搬送
性等が満足できず、またブロッキングを起こし易くな
る。平均粒径が１０００ｎｍを超える場合、あるいは含
有量が５重量％を超える場合には皮膜層Ｂ側の面への突
き上げ効果が著しくなり、電磁変換特性の悪化が起こ
る。

【００４４】不活性粒子Ｃの種類としては皮膜層Ｃを塗
布層とした場合に用いた粒子と同じ粒子を例示できる。

【００４５】本発明の積層フイルムは、従来から知られ
ている方法で製造することができる。

【００４６】例えば、二軸配向ポリエステルフイルムで
説明すると、塗布法の場合まず、前記熱可塑性樹脂Ａを
口金より融点Ｔｍ℃〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度でフイル
ム状に押出した後、４０〜９０℃で急冷固化し未延伸フ
イルムを得る。しかる後に、該未延伸フイルムを常法に
従って一軸方向（縦方向又は横方向）に（Ｔｇ−１０）
〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｇ：ポリエステル
のガラス転移温度）において２．５〜８．０倍の倍率、
好ましくは３．０〜７．５倍の倍率、で延伸し、次いで
皮膜層Ｂ、Ｃを形成する塗液をフイルム両面にそれぞれ
塗布し、その後に前記方向とは直角方向にＴｇ〜（Ｔｇ
＋７０）℃の温度において２．５〜８．０倍の倍率、好
ましくは３．０〜７．５倍の倍率、で延伸する。更に必
要に応じて縦方向及び／又は横方向に再度延伸してもよ
い。即ち、２段、３段、４段、或いは多段の延伸を行う
とよい。全延伸倍率は、面積延伸倍率として通常９倍以
上、好ましくは１２〜３５倍、更に好ましくは１５〜３
２倍である。更に引き続いて、二軸配向フイルムを（Ｔ
ｇ＋７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば１８０〜
２５０℃で熱固定結晶化することによって優れた寸法安
定性が付与される。なお、熱固定時間は１〜６０秒間が
好ましい。

【００４７】共押出法の場合、層Ａ、層Ｃ用の２種の熱
可塑性樹脂を押出口金内又は口金以前（一般に前者はマ
ルチマニホールド方式、後者はフィードブロック方式と
呼ぶ）で溶融状態にて積層複合し、好適な厚み比となし
て共押出をして２層積層の未延伸フイルムとし、更に一
軸延伸後に皮膜層Ｂを形成する塗液を塗布する以外は前
記塗布法と同様に行う。この方法により層間密着性に優
れた二軸配向積層ポリエステルフイルムが得られる。

【００４８】なお、積層フイルムの製造に際し、熱可塑
性樹脂に、所望により添加剤例えば安定剤、着色剤、溶
融ポリマーの固有抵抗調整剤（制電剤）等を添加含有さ
せることができる。

【００４９】本発明の積層フイルムは、皮膜層Ｂの表面
に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング
等の方法により、鉄、コバルト、クロム又はこれらを主
成分とする合金もしくは酸化物より成る強磁性金属薄膜
層を形成し、またその表面に、目的、用途、必要に応じ
てダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）等の保護層、
含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に熱可塑性
樹脂層Ａ又は皮膜層Ｃの表面に公知のバックコート層を
設けることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ
／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラー
レートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とする
ことが出来る。この蒸着型電磁記録媒体は、アナログ信
号記録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデ
オカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤ
ＳIV用テープ媒体として極めて有用である。

【００５０】本発明の積層フイルムは、また、皮膜層Ｂ
の表面に、鉄又は鉄を主成分とする針状微細磁性粉をポ
リ塩化ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体
等のバインダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以
下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更
に熱可塑性樹脂層Ａ又は皮膜層Ｃの表面に公知の方法で
バックコート層を設けることにより、特に短波長領域で
の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロ
ップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル
塗布型磁気記録媒体とすることが出来る。また、必要に
応じて皮膜層Ｂの上に、メタル粉含有磁性層の下地層と
して微細な酸化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性
層と同様の有機バインダー中に分散、塗設することもで
きる。このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号
記録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ―ＶＨ
Ｓ、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットコ
ーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV、ディジタ
ルβカム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸ等用テープ媒体として極め
て有用である。

【００５１】本発明の積層フイルムは、また、皮膜層Ｂ
の表面に、酸化鉄又は酸化クロム等の針状微細磁性粉、
又はバリウムフェライト等の板状微細磁性粉をポリ塩化
ビニール、塩化ビニール・酢酸ビニール共重合体等のバ
インダーに均一分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ま
しくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、更に熱可塑
性樹脂層Ａ又は皮膜層Ｃの上に公知の方法でバックコー
ト層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ
／Ｎ，Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウ
ト、エラーレートの少ない高密度記録用塗布型磁気記録
媒体とすることが出来る。また、必要に応じて皮膜層Ｂ
の上に、該メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸
化チタン粒子等を含有する非磁性層を磁性層と同様の有
機バインダー中に分散、塗設することも出来る。この酸
化物塗布型磁気記録媒体は、ディジタル信号記録用デー
タストリーマー用ＱＩＣ等の高密度酸化物塗布型磁気記
録媒体として有用である。

【００５２】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に具体的に説
明する。尚、本発明において用いた測定法は次の通りで
ある。

【００５３】（１）粒子の平均粒径（平均粒径：０．０
６μｍ以上） 島津製作所製ＣＰ―５０型セントリフューグル パーテ
ィクル サイズ アナライザー（Centrifugal Particle
Size Analyzer）を用いて測定する。得られる遠心沈降
曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算
曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球
直径」を読み取り、この値を上記平均粒径とする（Book
「粒度測定技術」日刊工業新聞発行、１９７５年、２４
２頁〜２４７頁参照）。

【００５４】（２）超微細粒子の平均粒径（平均粒径：
０．０６μｍ未満） 小突起を形成する平均粒径０．０６μｍ未満の粒子は、
光散乱法を用いて測定する。即ち、ニコム・インスツル
メンツ・インコーポレイテッド（ＮｉｃｏｍｐＩｎｓｔ
ｒｕｍｅｎｔｓ Ｉｎｃ．）社製のＮＩＣＯＭＰ ＭＯ
ＤＥＬ ２７０ ＳＵＢＭＩＣＲＯＮ ＰＡＲＴＩＣＬ
Ｅ ＳＩＺＥＲ により求められる全粒子の５０重量％
の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。

【００５５】（３）体積形状係数ｆ 走査型電子顕微鏡により用いたサイズに応じた倍率にて
各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置ルーゼックス
５００（日本レギュレーター製）を用い、投影面最大径
及び粒子の体積を算出し、次式により算出する。 ｆ＝Ｖ／ｄ³ 式中、ｆは体積形状係数、Ｖは粒子の体積（μｍ³ ）、
ｄは投影面の最大径（μｍ）を表す。

【００５６】（４）層厚 フイルムの全厚はマイクロメーターにてランダムに１０
点測定し、その平均値を用いる。層厚は、薄い側の層厚
を以下に述べる方法にて測定し、また厚い側の層厚は全
厚より薄い側の層厚に引き算して求める。即ち、二次イ
オン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層から深さ
５０００ｎｍの範囲のフイルム中の粒子の内最も高濃度
の粒子に起因する元素とポリエステルの炭素元素の濃度
比（Ｍ⁺／Ｃ⁺ ）を粒子濃度とし、表面から深さ５００
０ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では当然粒子濃
度は低く、表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くな
る。本発明の場合、粒子濃度は一旦安定値１になった
後、上昇或いは減少して安定値２になる場合と、単調に
減少する場合とがある。この分布曲線をもとに、前者の
場合は（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与える
深さをもって、また後者の場合は粒子濃度が安定値１の
１／２になる深さ（この深さは安定値１を与える深さよ
りも深い）をもって、当該層の層厚とする。

【００５７】二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）：Ｐ
ＥＲＫＩＮ ＥＬＭＥＲ社製 ６３００の測定条件は下
記の通りである。 一次イオン種 ：Ｏ２＋ 一次イオン加速電圧：１２ＫＶ 一次イオン電流：２００ｍＡ ラスター領域 ：４００μｍ□ 分析領域 ：ゲート３０％ 測定真空度 ：６．０×１０^-9Ｔｏｒｒ Ｅ―ＧＵＮＮ ：０．５ＫＶ―３．０Ａ 尚、表層から５０００ｎｍの範囲に最も多く含有する粒
子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子の場合はＳＩ
ＭＳでは測定が難しいので、表面からエッチングしなが
らＦＴ―ＩＲ（フーリエトランスフォーム赤外分光
法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線高電子分光法）等で
上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚を求める。

【００５８】以上は共押出層の場合に有効な測定法であ
って、塗布層の場合はフイルムの小片をエポキシ樹脂に
て固定成形し、ミクロトームにて約６０ｎｍの厚みの超
薄切片（フイルムの流れ方向に平行に切断する）を作成
し、この試料を透過型電子顕微鏡（日立製作所製Ｈ―８
００型）にて観察し、層の境界面より層厚みを求める。

【００５９】（５）ＡＦＭ表面粗さＡＲａ及びＡＲｚ Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製の原子間
力顕微鏡Ｎａｎｏ ＳｃｏｐｅIII ＡＦＭのＪスキャナ
ーを使用し、以下の条件で算出されるＡＲａ（２乗平均
粗さ）及びＡＲｚ（１０点平均粗さ）を下記の条件で測
定する。 探針；単結合シリコンセンサー 走査モード：タッピングモード 走査範囲：２μｍ×２μｍ 画素数：２５６×２５６データポイント スキャン速度：２．０Ｈｚ 測定環境：室温、大気中

【００６０】（６）粒子突起の個数及び凝集率 ＳＥＭ（走査電子顕微鏡、日本電子製Ｔ―３００型）を
使用して、積層フイルムの表面を倍率３万倍、角度０°
で２０枚写真撮影して、粒状突起の数をカウントし、そ
の平均値を面積換算により個／ｍｍ² 当たりの突起個数
として算出する。また凝集率は同じＳＥＭ写真を用いて
下記式にて算出する。 凝集率（％）＝［（２個以上の粒子が凝集した凝集塊の
総数）／（１個以上の粒子塊の総数）］×１００

【００６１】（７）フイルムの長手方向と幅方向の寸法
変位差 フイルム長手方向の寸法変位Ｌ_T （％） 真空理工社（株）製熱機械試験機ＴＡ―１５００を用い
て、１５ｃｍ長のフイルム２００Ｑ／ｍｍ² の荷重をか
け、２℃／分の速度でフイルム環境温度を２０℃→８０
℃→２０℃の順で変化させ、８０℃→２０℃の際の寸法
変位Ｌ_T （％）を測定する。

【００６２】フイルム幅方向の寸法変位Ｌ_M （％） 荷重を６０ｇ／ｍｍ² とする以外は上記と同じ方法で
寸法変位Ｌ_M （％）を測定する。

【００６３】下記式より寸法変位差（％）を計算す
る。 │Ｌ_T −Ｌ_M │

【００６４】（８）耐削れ性 フイルムを２５〜３０ｃｍ長さ、幅１／２インチにサン
プリングし、レザー刃を皮膜層Ｂの面に対し９０°の角
度、深さ０．５ｍｍの条件であてがい、荷重５００ｇ／
０．５インチ、速度６．７ｃｍ／ｓｅｃで走行させたと
きに、レザー刃に付着した削れ粉の深さ方向の幅を顕微
鏡写真撮影（×１６０倍）して求めた。削れ粉の深さ方
向の幅が３μｍ以下を（◎）、３〜５μｍを（○）、５
μｍ以上を（×）とする。削れ粉の深さ方向の幅が小さ
いほど削れ性に優れている。

【００６５】（９）巻き取り性 スリット時の巻取り条件を最適化後、幅５６０ｍｍ×長
さ９０００ｍのサイズで、１０ロールのスリットを行
い、１週間放置後の、フイルムシワの発生のないロール
本を良品として、以下の基準にて巻取り性の評価をす
る。 良品ロール本数 判定基準 ８本以上 ◎ ５〜７本 ○ ３〜４本 × ２本以下 ××

【００６６】（１０）磁気テープの製造及び特性評価 積層フイルムの皮膜層Ｂの表面に、真空蒸着法により、
コバルト１００％の強磁性薄膜を０．０２μｍの厚みに
なるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成し、その表
面にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜、更に含
フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に熱可塑性樹
脂Ａ又は皮膜層Ｃの表面に公知方法でバックコート層を
設ける。その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍ
ビデオカセットにローディングする。次いで、以下の市
販の機器を用いてテープの特性を測定する。 使用機器： ８ｍｍビデオテープレコーダー：ソニー（株）製ＥＤＶ
―６０００ Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイズメーター

【００６７】Ｃ／Ｎ測定 記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を
記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの
値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用
蒸着テープのＣ／ＮをＯｄＢとし、相対値で表す。 ◎ ：＋２ｄＢ以上 ○ ：−１〜＋２ｄＢ × ：−４〜−２ｄＢ ××：−４ｄＢ以下

【００６８】ドロップアウト（Ｄ／Ｏ）測定 ドロップアウトカウンターを用いて、１５μｓ／１８ｄ
Ｂにて１分間当たりの個数を測定する。 ◎ ：０〜１０個／分 ○ ：１０〜２０個／分 × ：２０〜５０個／分 ××：５０個／分以上

【００６９】走行耐久性 ４０℃、８０％ＲＨで、テープ、走行速度８５ｃｍ／分
で記録再生を５００回繰り返した後のＣ／Ｎを測定し、
初期値からのずれを次の基準で判定する。 ◎ ：初期値に対して＋０．０ｄＢ以上 ○ ：初期値に対して−１．０ｄＢ〜＋０．０ｄＢ × ：初期値に対して−１．０ｄＢ未満

【００７０】［実施例１］ジメチルテレフタレートとエ
チレングリコールとを、エステル交換触媒として酢酸マ
ンガンを、重合触媒として三酸化アンチモンを、安定剤
として亜燐酸を、添加して常法により重合し、実質的に
不活性粒子を含有しないポリエチレンテフタレート（Ｐ
ＥＴ）を得た。

【００７１】このポリエチレンテレフタレートを１７０
℃で３時間乾燥後、押出機に供給し、溶融温度２８０〜
３００℃にて溶融して、ダイよりシート状に押出し、急
冷して厚さ８２μｍの未延伸フイルムを得た。

【００７２】得られた未延伸フイルムを予熱し、更に低
速・高速のロール間でフイルム温度９５℃にて縦方向に
３．２倍に延伸し、急冷し、次いで縦延伸フイルムの一
方の面に表１、２の皮膜層Ｂの水溶性樹脂および粒子Ｂ
を含む水溶性塗液を、他の面に皮膜層Ｃの樹脂および粒
子Ｃを含む水溶性塗液を各々０．００５μｍ、０．０１
５μｍ（延伸乾燥後）の厚みになるよう塗布し、続いて
ステンターに供給し、１１０℃にて横方向に４．１倍に
延伸した。得られた二軸延伸フイルムを２２０℃の熱風
で４秒間熱固定し、厚み５．９μｍの積層二軸配向ポリ
エステルフイルムを得た。

【００７３】［実施例４、比較例３及び７］皮膜層Ｂと
皮膜層Ｃの樹脂及び粒子、熱可塑性樹脂層Ａの厚みを表
１、２のように変更する以外は実施例１と同様の方法で
積層二軸配向ポリエステルフイルムを得た。

【００７４】

【表１】

【００７５】

【表２】

【００７６】［比較例９］表１、２に示す熱可塑性樹脂
層Ａ、皮膜層Ｃ用のポリエチレンテレフタレートをそれ
ぞれ２台の押し出し機に供給して、マルチマニホールド
型共押し出しダイを用いて積層し、表１の皮膜層Ｂの樹
脂及び粒子を含む水性塗液を皮膜層Ｃ側の面と反対の面
に塗布する以外は実施例１と同様の方法で積層二軸配向
ポリエステルフイルムを得た。

【００７７】［実施例５及び６、比較例２、４、５及び
１０］表１、２に示す粒子を用い、かつジメチルテレフ
タレートの代わりに２，６―ナフタレンジカルボン酸ジ
メチルを同モル量使用した以外は実施例１と同様の方法
でポリエチレン―２，６―ナフタレート（ＰＥＮ）を得
た。

【００７８】このポリエチレン―２，６―ナフタレート
を１７０℃で６時間乾燥後、実施例１と同様にして、各
実施例、比較例を満たす未延伸フイルムを得た。

【００７９】得られた未延伸フイルムを予熱し、更に低
速・高速のロール間でフイルム温度１３５℃にて縦方向
に延伸し、急冷し、次いで表１、２に示す皮膜層Ｂ及び
皮膜層Ｃの水性塗液を実施例１と同様に塗布し、続いて
ステンターに供給し、１５５℃にて横方向に延伸した。
得られた二軸延伸フイルムを２００℃の熱風で４秒間熱
固定し、積層二軸配向ポリエステルフイルムを得た。

【００８０】尚、各例の縦×横の延伸倍率は、実施例
５、比較例５は４．５×４．６、実施例６は４．０×
５．１、比較例２、４は３．５×５．６、比較例１０は
５．５×３．０である。

【００８１】［実施例２及び３、比較例１、６及び８］
ポリエチレンテレフタレートの代りに、表１、２に示す
ようにポリエチレン―２，６―ナフタレートを用いる以
外は比較例９と同様の方法で積層二軸配向ポリエステル
フイルムを得た。

【００８２】尚、各例の縦×横の延伸倍率は、実施例
２、比較例８は４．０×５．１、実施例３、比較例６は
３．５×５．６、比較例１は３．０×６．５である。

【００８３】表２から明らかなように、本発明による積
層フイルムは製膜工程での削れ性、巻取り性に優れ、磁
気記録媒体として用いられる場合に電磁変換特性、ドロ
ップアウト特性、走行耐久性に極めて優れる。これに対
し、本発明の要件を満たさないものはこれらの特性を同
時に満足することはできない。

【００８４】［発明の利用性］本発明の積層フイルムは
全厚みが２．５〜２０μｍ程度であり、磁気記録媒体の
ベースに好適に用いられる。そして磁気記録媒体として
は金属薄膜型のものに有用である。また本発明の積層フ
イルム基材は磁性層の厚みが１μｍ以下の塗布型磁気記
録媒体にも供し得る他に、デジタル信号記録型磁気記録
媒体にも使うことができる。

【００８５】

【発明の効果】本発明によれば、製膜工程での耐削れ
性、巻取り性に優れ、しかも電磁変換特性、ドロップア
ウト特性、走行耐久性に優れた磁気記録媒体のベースフ
イルムとして有用な積層フイルムを提供することができ
る。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 不活性粒子を含有しない熱可塑性樹脂層
   Ａの少くとも片面に、平均粒径ｄ_B が５〜１００ｎｍで
   あり、体積形状係数が０．１〜０．５２４（π／６）で
   ある不活性粒子Ｂを含む水溶性樹脂からなる皮膜層Ｂを
   設けてなる積層フイルムであって、環境温度を８０℃か
   ら２０℃に変化させた際のフイルム長手方向の寸法変位
   Ｌ_M （％）及び幅方向の寸法変位Ｌ_T （％）が下記式
   （１）を満たすことを特徴とする積層フイルム。 │Ｌ_T −Ｌ_M │≦８．０×１０^-4 ……（１）
2. 【請求項２】 不活性粒子の平均粒径ｄ_B （ｎｍ）と皮
   膜層Ｂの層厚ｔ_B （ｎｍ）とに下記（２）式を満足しか
   つ該不活性粒子に基因する皮膜層Ｂの表面突起の頻度が
   １×１０⁶ 〜１×１０⁸ 個／ｍｍ² である積層フイル
   ム。 ０．０５≦ｔ_B ／ｄ_B ≦０．８ ……（２）
3. 【請求項３】 不活性粒子Ｂがその粒子の内部より外部
   が柔軟なコアシェル型構造の粒子である請求項２に記載
   の積層フイルム。
4. 【請求項４】 皮膜層Ｂを形成する水溶性樹脂がアクリ
   ル樹脂、ポリエステル樹脂及びアクリル―ポリエステル
   樹脂からなる群より選ばれる少くとも１種の樹脂である
   請求項１ないし３のいずれかに記載された積層フイル
   ム。
5. 【請求項５】 原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）にて測定した
   皮膜層Ｂの表面粗さＡＲａ_B （ｎｍ）及び１０点平均粗
   さＡＲｚ_B （ｎｍ）が下記式（３）及び（４）を同時に
   満たしてなる請求項１に記載の積層フイルム。 ０．３≦ＡＲａ_B ≦５．０ ……（３） １０≦ＡＲｚ_B ≦１００ ……（４）
6. 【請求項６】 熱可塑性樹脂層Ａの表面に皮膜層Ｂ、他
   の表面に不活性粒子を含有する皮膜層Ｃが形成されてな
   る積層フイルム。
7. 【請求項７】 皮膜層Ｃが塗布層からなり、該塗布層中
   の不活性粒子が単独粒子又は大きさの異なる２種類以上
   の粒子から構成されていて、単独粒子の平均粒径又は２
   種類以上の粒子のうち最も大きい粒子の平均粒径が２０
   〜２００ｎｍであり、しかも不活性粒子Ｃの含有量が１
   〜５０重量％である請求項６に記載の積層フイルム。
8. 【請求項８】 皮膜層Ｃが共押出層で構成されており、
   該共押出層中の不活性粒子が単独粒子又は大きさの異な
   る２種類以上の粒子からなり、単独粒子の平均粒径又は
   ２種類以上の粒子のうち最も大きい粒子の平均粒径が
   ０．１〜１μｍであり、しかも不活性粒子の含有量が
   ０．００１〜５．０重量％である請求項６に記載の積層
   フイルム。
9. 【請求項９】 磁気記録媒体のベースフイルムとして用
   い得る請求項１乃至８のいずれかに記載の積層フイル
   ム。