JP2001093135A - 高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ドロップアウトの原因物となる凝集粒子の生
成を防止し、蒸着金属薄膜型磁気記録媒体のベースフィ
ルムに用いた時にも電磁変換特性に優れ、ドロップアウ
トの極めて少ない、大容量の磁気記録媒体の製造が可能
な高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルムを提
供する。 【解決手段】 内部に実質的に不活性粒子を含有しない
芳香族ポリアミドからなる面積倍率にして５．０倍以上
延伸された二軸延伸フィルムであって，長手方向と幅方
向のヤング率の和が２０００ｋｇ／ｍｍ²以上であるフ
ィルムＡの少なくとも片面に，被膜層Ｂが形成されてお
り、該被膜層Ｂはバインダー樹脂、フイラー及び界面活
性剤を含有し、該界面活性剤がＨＬＢ値１０〜１４の界
面活性剤ＸとＨＬＢ値１６〜１８.５の界面活性剤Ｙを
含み、かつこれらのトータルＨＬＢ値が１５〜１８であ
り、そして塗液の固形分に対して界面活性剤Ｘの量が
０．１〜１５重量％、界面活性剤Ｙの量が１０〜４０重
量％であることを特徴とする高密度磁気記録媒体用芳香
族ポリアミドフイルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体に供し
得る芳香族ポリアミドフィルムに関する。更に詳しく
は、電磁変換特性、ドロップアウト特性に優れた高密度
磁気記録媒体用基材として用いることに適した芳香族ポ
リアミドを基材とする積層フィルムに係わる。

【０００２】

【従来の技術】近年，磁気記録媒体の高密度化の進歩は
めざましく，例えば，強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパ
ツタリング等の物理沈着法またはメッキ法により非磁性
支持体上に形成せしめた金属薄膜型磁気記録媒体，また
メタル粉や酸化鉄粉等の針状磁性粉体を２μｍ以下に塗
布した薄層塗布型磁気記録媒体の開発実用化が進められ
ている。前者の例としては，例えば，Ｃｏの蒸着テープ
（特開昭５４−１４７０１０号公報），Ｃｏ−Ｃｒ合金
からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２−１３４７０６
号公報）が知られ，また後者の例としては，例えば，極
薄層塗布型磁気記録媒体による高密度磁気記録（電子通
信学会技術報告ＭＲ９４−７８（１９９５−０２））等
が知られている。従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末
を有機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に
塗布してなる磁気記録媒体）は記録密度が低く，記録波
長も長いために，磁性層の厚みが２μｍ程度以上と厚い
のに対して，真空蒸着，スパッタリングまたはイオンプ
レーテイング等の薄膜形成手段によって形成される強磁
性金属薄膜は厚みが０．２μｍ以下と非常に薄く，また
極薄層塗布型の場合も，非磁性下地層を設けるものの，
０.１３μｍの厚みのものが提案され，非常に薄くなっ
ている。

【０００３】それに伴い，非磁性支持体（ベースフィル
ム）についても同様の薄膜化が求められ，該厚みにおけ
る充分な強度，磁気記録ヘッドに対する適度な接触状態
を与える剛性，などが要求される。その点，芳香族ポリ
アミドフィルムは，高ヤング率に起因する薄膜での強
度，剛性，などに優れ，高密度磁気記録媒体用ベースフ
ィルムとしての使用が近年盛んである。

【０００４】一方，上記の高密度磁気記録媒体において
は，ベースフィルムの表面状態が磁性層の表面性に大き
な影響を及ぼし，特に金属薄膜型の磁気記録媒体の場合
には，非磁性支持体の表面状態がそのまま磁性層（磁気
記録層）表面の凹凸として発現し，それが記録・再生信
号の雑音の原因となる。従って，非磁性支持体の表面は
できるだけ平担であることが望ましい。

【０００５】一方，非磁性支持体（ベースフィルム）の
製膜，製膜工程での搬送，巻取り，巻き出しといったハ
ンドリングの観点からは，フィルム表面が平担すぎる
と，フィルム−フィルム相互の滑り性が悪化し，ブロッ
キング現象が発生し，ロールに巻いたときの形状（ロー
ルフォ一メイション）が悪化し，製品歩留りの低下，ひ
いては製品の製造コストの上昇をきたす。従って，製造
コストという観点では非磁性支持体（ベースフィルム）
の表面はできるだけ粗いことが望ましい。

【０００６】このように、非磁性支持体の表面は、電磁
変換特性の観点からは平担であることが要求され、ハン
ドリング性、フイルムコストの観点からは粗いことが要
求される。

【０００７】そこで、優れた品質の高密度磁気記録媒体
を製造するには、上記二律背反する性質を同時に満足さ
せることが必要とされる。

【０００８】この為の具体的な方策として、特公平５−
２１０８３３号公報、特開平５−２８７１０１号公報な
どでは、粒子を含有しないポリエステルの片面に、微細
な粒子を含有する塗膜層を設けることを提供している。
しかし、この方法は、塗液中にて微細粒子が凝集しやす
く、これがドロップアウトの原因物になるという問題を
かかえている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ドロ
ツプアウトの原因物となる凝集粒子の生成を防止し、蒸
着金属薄膜型磁気記録媒体のベースフイルムに用いたと
きにも電磁変換特性に優れ、ドロツプアウトの極めて少
ない、大容量の磁気記録媒体の製造が可能な高密度磁気
記録媒体用積層フイルムを提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、かかる目的を
達成するために、以下の構成をとる。

【００１１】即ち、内部に実質的に不活性粒子を含有し
ない芳香族ポリアミドからなる面積倍率にして５．０倍
以上延伸された二軸延伸フィルムであって，長手方向と
幅方向のヤング率の和が２０００ｋｇ／ｍｍ²以上であ
るフィルムＡの少なくとも片面に，被膜層Ｂが形成され
ており、該被膜層Ｂはバインダー樹脂、フイラー及び界
面活性剤を含有し、該界面活性剤がＨＬＢ値１０〜１４
の界面活性剤ＸとＨＬＢ値１６〜１８.５の界面活性剤
Ｙを含み、かつこれらのトータルＨＬＢ値が１５〜１８
であり、そして塗液の固形分に対して界面活性剤Ｘの量
が０．１〜１５重量％、界面活性剤Ｙの量が１０〜４０
重量％であることを特徴とする高密度磁気記録媒体用芳
香族ポリアミドフイルムを提供する。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明における芳香族ポリアミド
としては，その主鎖が芳香核およびアミド結合基を主た
る構成成分とするものであればよいが，その中でも，そ
の主鎖を形成する芳香核のうち，芳香核上の主鎖形成置
換基がパラ配向性であるものが５０〜９９．５％である
ものが，強度を要求される磁気記録媒体用途の場合には
好ましい。５０％未満では強度が不足し，９９．５％を
越えると延伸が困難となるため好ましくない。ここで，
主鎖形成置換基とは，アミド基などの高分子主鎖に含ま
れる原子または原子団，例としては，-Ｃ(=Ｏ)-ＮＨ-，
-Ｏ-，-ＣＨ₂-，-Ｃ(ＣＨ₃)₂-，-ＳＯ₂-，-Ｓ-，該芳香
核に直接結合した他の芳香核，などのことを示す。ま
た，パラ配向性とは，例えば芳香核がフェニレン基の場
合は１，４−置換，ナフチレン基の場合は１，４−置
換，２，６−置換，などの状態にあることを示す。上記
の中でも特に，芳香族ポリアミドが，一般式 -(-Ｃ(=
Ｏ)-Ａｒ₁-Ｃ(=Ｏ)-ＮＨ-Ａｒ₂-ＮＨ-)_k-(-Ｃ(=Ｏ)-Ａ
ｒ₃-Ｃ(=Ｏ)-ＮＨ-Ａｒ₄-Ｙ₁-Ａｒ₅-ＮＨ-)_l-(-Ｃ(=Ｏ)
-Ａｒ₆-ＮＨ-)_m-(-Ｃ(=Ｏ)-Ａｒ₇-Ｙ₂-Ａｒ₈-ＮＨ-)_n-
(ここでｋ，ｌ，ｍ，ｎは０および正の整数，Ａｒ₁，Ａ
ｒ₂，Ａｒ₃，Ａｒ₄，Ａｒ₅，Ａｒ₆，Ａｒ₇，Ａｒ₈は一
般式 -Ｃ₆Ｈ_pＲ_4-p-, -Ｃ₆Ｈ_pＲ_4-p-Ｃ₆Ｈ_pＲ_4-p-, ま
たは-Ｃ₁₀Ｈ_qＲ_6-q- で表わされる芳香核 (ここでｐは
０〜４の整数，ｑは０〜６の整数，Ｒはハロゲン基,ニ
トロ基,シアノ基,炭素数１〜４のアルキル基,炭素数１
〜３のアルコキシ基,トリアルキルシリル基から選ばれ
る原子または原子団) から選ばれるものであり，同じで
も異なっていてもよい，Ｙ₁，Ｙ₂はＯ，ＣＨ₂，Ｃ(ＣＨ
₃)₂，ＳＯ₂，Ｓ，ＣＯから1種選ばれる原子または原子
団であり,同じでも異なっていてもよい) で示される高
分子化合物であるものが好ましく，さらにその中でも，
酸成分としてテレフタル酸，アミン成分としてｐ−フェ
ニレンジアミンおよび３，４’−ジアミノジフェニルエ
ーテルを用いてなる高分子化合物であることが好まし
い。

【００１３】また，本発明における芳香族ポリアミドに
は，フィルムの物性を損なわない程度に，また脂肪族ま
たは脂環族のポリアミド形成性化合物を共重合していて
も構わない，更にアミド形成性の官能基を３以上有する
化合物が共重合されていてもよく，また滑剤，酸化防止
剤，その他の添加剤等や他のポリマーがブレンドされて
いてもよい。

【００１４】本発明における芳香族ポリアミドフィルム
は，面積倍率にして５．０倍以上，好ましくは６．０〜
１０．０倍に延伸された二軸延伸フィルムである。延伸
倍率が小さい場合，高強度が得られないため好ましくな
い。延伸方法は公知の方法でよいが，溶液製膜法によっ
て選られた膜の延伸で，縦方向と横方向に同時に延伸し
てもよく，また縦方向次いで横方向に逐次延伸してもよ
い。この二軸延伸によって，芳香族ポリアミドフィルム
の長手方向と巾方向のヤング率の和が２０００ｋｇ／ｍ
ｍ²以上，好ましくは２２００ｋｇ／ｍｍ²以上とされ
る。製造上の上限としては４０００ｋｇ／ｍｍ²であ
る。ヤング率の長手方向と巾方向との和が２０００ｋｇ
／ｍｍ²未満の場合には，記録ヘッドとの接触状態が不
適当なものとなるため電磁変換特性が悪化し，また数μ
mオーダーの薄いベースフィルムで十分な強度を有し得
ないので好ましくない。長手方向，幅方向のそれぞれの
ヤング率は６００ｋｇ／ｍｍ²以上が好ましく，さらに
好ましくは８００ｋｇ／ｍｍ²以上，特に好ましくは１
０００ｋｇ／ｍｍ²以上である。

【００１５】次に被膜層Ｂについて説明する。

【００１６】本発明の積層フイルムは，上記芳香族ポリ
アミド層Ａの一方の表面にバインダー樹脂、フイラー及
びＨＬＢ値の違う２種の界面活性剤を含有する被膜形成
性塗液を塗布することによって被膜層Ｂを設けている。
この２種の界面活性剤はＨＬＢ値１０〜１４のものとＨ
ＬＢ値１６〜１８．５のものからなり、かつトータルＨ
ＬＢ値が１５〜１８のものである。

【００１７】ここでのバインダー樹脂としては，例えば
水性ポリエステル樹脂，水性アクリル樹脂，水性ポリウ
レタン樹脂等から選ばれる１種類以上のポリマー，また
はこれらを組合せたもの等が好ましく挙げられ，特に水
性ポリエステル樹脂が好ましい。

【００１８】この水性ポリエステル樹脂としては、酸成
分が例えばイソフタル酸、フタル酸、１，４−シクロヘ
キサンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン
酸、４，４'−ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、
セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５-Ｎ
ａスルホイソフタル酸、２−Ｋスルホテレフタル酸、ト
リメリツト酸、トリメシン酸、トリメリット酸モノカリ
ウム塩、ｐ−ヒドロキシ安息香酸等の多価カルボン酸よ
りなり、グリコール成分が例えばエチレングリコール、
ジエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４
−ブタンジオール、１，６−へキサンジオール、１，４
−シクロヘキサンジメタノール、ｐ-キシリレングリコ
ール、ジメチロールプロパン酸、ビスフエノールＡのエ
チレンオキシド付加物等の多価ヒドロキシ化合物より主
としてなるポリエステル樹脂が好ましく例示でき、また
ポリエステル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフ
トポリマーまたはブロツクコポリマー、あるいは２種の
ポリマーがミクロな粒子内で特定の物理的構成（ＩＰ
Ｎ、コアシェル）を形成したアクリル変性ポリエステル
樹脂であってもよい。

【００１９】本発明でバインダー樹脂としては、水に溶
解、乳化、微分散するタイプのものを自由に用いること
ができるが、水に乳化、微分散するタイプのものが好ま
しい。またこれらは親水性を付与するため分子内に例え
ばスルホン酸塩基、カルボン酸塩基、ポリエ一テル単位
等が導入されていてもよい。

【００２０】前記フイラーの種類は特に限定されない
が、塗液中で沈降しにくい、比較的低比重のものが好ま
しい。例えば、耐熱性ポリマー（例えば、架橋シリコー
ン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン、メラミ
ン・ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポ
リアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香族ポリ
工ステル等）からなる粒子、二酸化ケイ素（シリカ）、
炭酸カルシウム等が好ましく挙げられる。これらの中で
も、特に好ましくは、架橋シリコーン樹脂粒子、シリ
カ、コアシェル型有機粒子（コア：架橋ポリスチレン、
シェル：ポリメチルメタクリレートなど）が挙げられ
る。

【００２１】これらフィラーは平均粒径が１０〜５０ｎ
ｍのものが好ましい。この使用量は、被膜層Ｂの表面に
フイラーによる表面突起の頻度が２×１０⁶〜２×１０⁷
個／ｍｍ²となる量であることが好ましい。この突起頻
度によってより一層の走行耐久性の向上が発現する。こ
のフイラーの平均粒径は、より好ましくは１５〜４５ｎ
ｍ、さらに好ましくは１８〜４０ｎｍである。また表面
突起の頻度は、より好ましくは２．５×１０⁶〜１．８
×１０⁷個／ｍｍ²、さらに好ましくは３×１０⁶〜１．
５×１０⁷個／ｍｍ²である。

【００２２】本発明における界面活性剤は、前述したよ
うに、ＨＬＢ値の異なる２種の界面活性剤、すなわちＨ
ＬＢ値１０〜１４の界面性剤ＸとＨＬＢ値１６〜１８．
５の界面活性剤Ｙからなり、トータルＨＬＢ値が１５〜
１８の界面活性剤である。１種類の界面活性剤だけで
は、ドロップアウト因となる、凝集粒子に由来する突起
の発生を抑制しつつ、ハジキによる塗布ヌケや泡すじ等
の塗布上の問題点を解消することができない。

【００２３】前記界面活性剤のうち、界面活性剤ＸのＨ
ＬＢ値は１０．５〜１３．５、さらに１１．０〜１３．
０であることが好ましい。界面活性剤ＹのＨＬＢ値は１
６．５〜１８．３、さらに１７．０〜１８．０であるこ
とが好ましい。そしてこれら界面活性剤を組合せてのＨ
ＬＢ値（トータルＨＬＢ値）は１５．５〜１７．５、さ
らに１６〜１７．５であることが好ましい。

【００２４】前記界面活性剤としてはノニオン系界面活
性剤が好ましく、特にアルキルアルコール、アルキルフ
ェニルアルコール、高級脂肪酸等に（ポリ）エチレンオ
キサイドを付加、結合させたものが好ましい。

【００２５】界面活性剤Ｘとしては、ポリオキシエチレ
ンアルキルフェニルエ一テル系化合物として日本油脂製
のノニオンＮＳ−２０８．５（ＨＬＢ１２．６）ＮＳ−
２０６（ＨＬＢ１０．９）、ＨＳ−２０８（ＨＬＢ１
２．６）、ＨＳ−２１０（ＨＬＢ１３．６）、三洋化成
製のオクタポール６０（ＨＬＢ１１．３）、オクタポー
ル８０（ＨＬＢ１２．４）、オクタポール９５（ＨＬＢ
１３．３）、オクタポール１００（ＨＬＢ１３．６）、
ドデカポール９０（ＨＬＢ１２．０）、ドデカポール１
２０（ＨＬＢ１３.４）、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル系化合物として日本油脂製のノニオンＰ−２１
０（ＨＬＢ１２．９）、三洋化成製のノニポールソフト
ＳＳ−５０（ＨＬＢ１０．５）、ＳＳ−７０（ＨＬＢ１
２.８）、ＳＳ−９０（ＨＬＢ１３.２）、ＤＯ−７０
（ＨＬＢ１２．３）、ＤＯ−９０（ＨＬＢ１３．４）、
高級脂肪酸のポリオキシエチレンエステル系化合物とし
て日本油脂製のノニオンＬ−４（ＨＬＢ１３．１）、Ｓ
−４（ＨＬＢ１１.６）、Ｓ−６（ＨＬＢ１３.６）等を
例示することができる。2また、界面活性剤Ｙとして
は、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル系化
合物として日本油脂製のノニオンＮＳ−２３０（ＨＬＢ
１７．２）、ＮＳ−２４０（ＨＬＢ１７．８）、ＨＳ−
２２０（ＨＬＢ１６．２）、ＨＳ−２４０（ＨＬＢ１
７.９）、三洋化成製のノニポール２００（ＨＬＢ１６.
０）、ノニポール４００（ＨＬＢ１７．８）、ノニポー
ル５００（ＨＬＢ１８．２）、オクタポール４００（Ｈ
ＬＢ１７．９）、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
系化合物として日本油脂製のノニオンＥ−２３０（ＨＬ
Ｂ１６．６）、Ｋ−２２０（ＨＬＢ１６．２）、Ｋ−２
３０（ＨＬＢ１７．３）、高級脂肪酸のポリオキシエチ
レンエステル系化合物として日本油脂製のノニオンＳ−
１５．４（ＨＬＢ１６．７）、Ｓ−４０（ＨＬＢ１８・
２）等を例示することができる。

【００２６】さらに前記界面活性剤Ｘは、塗液固形分当
り、０．１〜１５重量％、好ましくは０．６５〜１０重
量％、特に好ましくは０．８５〜５重量％の量を用い
る。前記界面活性剤Ｙは、塗液固形分当り、１０〜４０
重量％、好ましくは１２〜３６重量％、特に好ましくは
１５〜３０重量％の量を用いる。

【００２７】界面活性剤ＸのＨＬＢ値は１０未満または
その量が１５重量％（塗膜Ｂ層全固形分当り）を超える
場合には、塗液を塗布する際に発泡しやすくなり、筋状
の塗布欠陥が出来てしまう。一方、ＨＬＢ値が１４を超
え、または使用量が０．５重量％（塗膜Ｂ層全固形分当
リ）未満では、塗液の表面張力を下げる作用が小さくな
るために塗液を塗布する際、塗布抜けが発生してしま
う。

【００２８】また界面活性剤ＹのＨＬＢ値が１６未満ま
たは使用量が１０重量％（塗膜Ｂ層全固形分当り）未満
では、ドロップアウト因となりうる突起の発生を抑える
ことができず、一方ＨＬＢ値が１８．５を超えると塗布
抜けが発生し、また使用量が４０重量％（塗膜Ｂ層全固
形分当り）を超えると発泡による筋状の塗布欠陥が発生
する。

【００２９】さらに、界面活性剤のトータルＨＬＢ値が
１５未満ではドロップアウトの原因となる突起が発生
し、一方１８を超えると塗布抜けが発生する。

【００３０】本発明における被膜層Ｂは芳香族ポリアミ
ド樹脂層Ａの少なくとも片面に，不活性粒子及び水溶性
樹脂を含む塗液，好ましくは水溶性塗液として塗布，乾
燥することで形成する。この塗液の固形分濃度は０.２
〜１０重量％，さらには０．５〜５重量％，特に０.７
〜３重量％であることが好ましい。そしてこの塗液，好
ましくは水溶性塗液には本発明の効果を損わない範囲で
あれば所望により他の成分，例えば界面活性剤，安定
剤，分散剤，ＵＶ吸収剤，増粘剤等を添加することがで
きる。

【００３１】塗布は塗布膜を過度に加熱せぬよう，後述
する延伸及び熱処理後の芳香族ポリアミドフィルムに施
すことが好ましい。塗布後に塗膜を乾燥する条件は３０
〜３００℃の乾燥炉中を１秒〜３０分間で通過させるこ
とが好ましい。また、塗布方法としては特に限定されな
いが，例えばロールコート法，ダイコート法等が好まし
く例示できる。

【００３２】上記芳香族ポリアミドを製造する方法とし
ては，界面重合，溶液重合等を用いることができ，特に
溶液重合法が好ましい。重合溶媒としてはジメチルホル
ムアミド，ジメチルアセトアミド，Ｎ−メチルピロリド
ン，Ｎ−メチルカプロラクタム，ジメチルスルホキシ
ド，ヘキサメチルホスホリルトリアミド，テトラメチル
尿素，１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等から
選ばれた少なくとも一種を主成分として用いることがで
きる。このときポリマーの溶解性を改善する目的で重合
の前，途中，終了時に塩化カルシウム，塩化リチウム等
の無機塩を適当量添加してもよい。また，酸成分とアミ
ン成分とは実質的に等モルで反応させるが，重合度の制
御等の目的でいずれかの成分を過剰に用いることもでき
る。さらに末端封鎖剤として少量の単官能性の酸成分，
アミン成分を使用してもよい。また，反応によって生成
する塩化水素を捕捉するために重合系に脂肪族や芳香族
のアミン，第４級アンモニウム塩を添加することもでき
る。反応の終了後，必要に応じて塩基性の無機化合物，
例えば水酸化ナトリウム，水酸化カルシウム，酸化カル
シウムを添加し，中和反応を行う。

【００３３】このような芳香族ポリアミドの製法につい
ては，例えば，特公昭５２−３９７１９号公報，特公昭
５３−３２８３８号公報などに詳しく記載されている。

【００３４】本発明の芳香族ポリアミドフィルムが優れ
た機械的性質を持つためには，ポリマーの対数粘度(濃
硫酸中，３０℃で測定した値から求める)は０．５ｇ／
ｄｌ以上が好ましく，１ｇ／ｄｌ以上が更に好ましい。

【００３５】このようにして得られる芳香族ポリアミド
は，アルコール，水などの溶媒の中に投入し，再沈，分
離させることにより得ることができ，これを再び溶媒に
溶解させてフィルムの成形に用いることができるが，好
ましくは重合反応によって得た溶液をそのまま，もしく
は重合後に適宜濃度を調整して用いることができる。こ
のとき濃度の調整は濃縮もしくは他の溶媒での希釈によ
り行うことができる。かかる溶媒としては，重合溶媒と
して例示したものと同様なものを使用できる。

【００３６】上記のように調製された製膜原液は，いわ
ゆる溶液製膜法によりフィルム化が行われる。溶液製膜
法には乾湿式法，乾式法，湿式法などがあるが，乾湿式
法，乾式法が表面性のよいフィルムを得るには好まし
い。

【００３７】湿式法で製膜する場合には，該原液を口金
から直接製膜用浴中に押し出すか，または一且ドラム等
の支持体上に押し出し，支持体ごと湿式浴中に導入する
方法を用いるのが好ましい。この浴は一般に水系媒体か
らなるものであり，水の他に有機溶媒や無機塩等を含有
していてもよい。湿式浴を通すことでフィルム中に含有
された塩類，有機溶媒等の抽出を行うことができる。こ
れら湿式浴全体を通過する時間はフィルムの厚みにもよ
るが，１０秒〜３０分間であることが好ましい。さらに
フィルムの長手方向に延伸を行う。次いで乾燥，横延
伸，熱処理を行うが，これらの処理は一般に１００〜５
００℃で，合計で１秒〜３０分間である。

【００３８】乾湿式法で製膜する場合は該原液を口金か
らドラム，エンドレスベルト等の支持体上に押し出して
薄膜とし，次いでかかる薄膜層から溶媒を飛散させ薄膜
が自己保持性をもつまで乾燥する。乾燥条件は室温〜３
００℃，６０分以内の範囲である。乾式工程を終えたフ
ィルムは支持体から剥離されて湿式工程に導入し，上記
の湿式法と同様に脱塩，脱溶媒などを行い，さらに延
伸，乾燥，熱処理を行ってフィルムとする。

【００３９】乾式法のプロセスを採用した場合には，ド
ラム，あるいはエンドレスベルトなどの上で乾燥し，自
己保持性をもったフィルムを，これら支持体から剥離
し，さらに残存溶媒を除去するための乾燥や，延伸，熱
処理を行うが，これらの処理は１００〜５００℃で１秒
〜３０分間である。

【００４０】本発明の芳香族ポリアミドフィルムは，必
要に応じて，被膜層Ｂと反対側のフィルムＡの表面に，
例えば不活性粒子を含有した易滑性被膜層Ｃを設けた
り,また不活性粒子を含有した芳香族ポリアミドフィル
ムＡ’を周知の方法を用いて積層させてもよい。

【００４１】本発明の芳香族ポリアミドフィルムは、被
膜層Ｂの表面に、真空蒸着、スパツタリング、イオンプ
レーティング等の方法により、鉄、コバルト、クロム又
はこれらを主成分とする合金もしくは酸化物より成る強
磁性金属薄膜層を形成し、またその表面に、目的、用
途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬ
Ｃ）等の保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設
け、更に被膜層Ｂの表面に公知のバックコート層を設け
ることにより、特に短波長領域の出力、Ｓ／Ｎ，Ｃ／Ｎ
等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレー
トの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体とすること
が出来る。この蒸着型磁気記録媒体はアナログ信号記録
用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセ
ットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳIV用
テープ媒体として極めて有用である。

【００４２】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。なお、本発明において用いた測定法は次のとおりで
ある。

【００４３】（１）粒子の平均粒径Ｉ （平均粒径：
０．０６μｍ以上） 島津製作所製、ＣＰ−５０型セントリフューグル パー
テイクル サイズ アナライザー（Ｃｅｎｔｒｉｆｕｇ
ａｌ Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ｓｉｚｅ Ａｎａｌｙｚｅ
ｒ）を用いて測定する。得られる遠心沈降曲線を基に算
出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、５
０重量％に相当する粒径「等価球直径」を読み取り、こ
の値を平均粒径とする（「粒度測定技術」日刊工業新聞
社発行、１９７５年、頁２４２〜２４７参照）。

【００４４】（２）粒子の平均粒径II（平均粒径：０．
０６μｍ未満） 小突起を形成する平均粒径０．０６μｍ未満の粒子は、
光散乱法を用いて測定する。すなわち、Ｎｉｃｏｍ ｌ
ｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ ｌｎｃ．社製のＮｌＣＯＭＰ
ＭＯＤＥＬ ２７０ ＳＵＢＭｌＣＲＯＮ ＰＡＲＴｌ
ＣＬＥ ＳｌＺＥＲにより求められる全粒子の５０重量
％の点にある粒子の「等価球直径」をもって表示する。

【００４５】（３）ＨＬＢ値 界面活性剤個々のＨＬＢ値 下記式（１）より求める。

【００４６】

【数１】 ＨＬＢ＝２０×Ｍｎ／Ｍ （１） ここで、Ｍ：界面活性剤の分子量、 Ｍｎ：親水基部分
の分子量 である。

【００４７】トータルＨＬＢ値 下記式（２）より求める。

【００４８】

【数２】 トータルＨＬＢ値＝ＨＬＢ（Ｘ）×Ｐ（Ｘ）＋ＨＬＢ（Ｙ）×Ｐ（Ｙ） （２） ここで、ＨＬＢ（Ｘ）；界面活性剤ＸのＨＬＢ値 Ｐ（Ｘ）；界面活性剤Ｘのトータル界面活性剤量に対す
る重量分率 ＨＬＢ（Ｙ）；界面活性剤ＹのＨＬＢ値 Ｐ（Ｙ）；界面活性剤Ｙのトータル界面活性剤量に対す
る重量分率 である。

【００４９】（４）被膜層Ｂ表面のフィラーによる突起
頻度 フイルム表面の突起衝度の測定は走査型電子顕微鏡によ
り行う。即ち、積層フィルムの被膜層Ｂの表面写真を倍
率３５０００倍にてランダムに２５枚撮影し、表面突起
頻度をカウントし、その平均値よリ１ｍｍ２当たりの突
起数に換算し、この値を被膜層Ｂ表面のフィラーによる
突起頻度とする。

【００５０】（５）ヤング率 東洋ボールドウイン社製の引っ張り試験機テンシロンを
用いて、温度２０℃、湿度５０％に調節された室内にお
いて、長さ３００ｍｍ、幅１２．７ｍｍの試料フィルム
を、１０％／分のひずみ速度で引っ張り、引っ張り応カ
−ひずみ曲線の初めの直線部分を用いて次の式（３）に
よって計算する。

【００５１】

【数３】 Ｅ＝△σ／△ε （３） ここで、Ｅはヤング率（ｋｇ／ｍｍ２）、△σは直線上
の２点間の元の平均断面積による応力差、△εは同じ２
点間のひずみ差である。

【００５２】（６）塗布抜け、塗布筋 被膜層Ｂを下にして下記組成の染色液（温度５０℃）に
１０分間浸漬し、水洗した後、目視で観察し、楕円状〜
球状に染色されていない領域があるものを塗布抜け、長
手方向に筋があるものを塗布筋として、それぞれ存在し
ないものを○、存在するものを×として判定する。

【００５３】（７）磁気テープの製造及び特性評価 二軸配向積層フイルムの被膜層Ｂの表面に、真空蒸着法
により、コバルト１００％の強磁性薄膜を０．０２μｍ
の厚みになるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成
し、その表面にダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）
膜、更に含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、更に
被膜層Ｂ側の表面に公知の方法でバツクコート層を設け
る。その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍビデ
オカセツトにローディングする。次いで、以下の市販の
機器を用いてテープの特性を測定する。

【００５４】使用機器：８ｍｍビデオテープレコーダー
（ソ二一（株）製ＥＤＶ-６０００） Ｃ／Ｎ測定：シバソク（株）製ノイズメーター Ｃ／Ｎ測定 記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を
記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの
値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用
蒸着テープのＣ／Ｎを０ｄＢとし、下記の基準で判定す
る。 判定 基準 ◎ 市販８ｍｍテープ対比 ＋５ｄＢ以上 ○ 〃 ＋１ｄＢ以上〜＋５ｄB未満 × 〃 ＋１ｄＢ未満 ドロップアウト シバソク（株）製ドロップアウトカウンターを使用し
て、３μｓｅｃ／１０ｄＢ以上のドロップアウトを１０
分間測定し、１分当りの個数に換算する。

【００５５】下記の基準で判定する。 判定 基準 ○ ドロップアウト１０（ケ／分）以下 × ドロップアウト１１（ケ／分）以上 走行耐久性 上記した蒸着テープに４．２ＭＨｚの映像信号を記録
し、２５℃、５０%ＲＨの条件下でテープ走行速度４１
ｍ／分、巻き戻し速度４１ｍ／分の走行を１回とし、合
計２００回繰り返した後の出力変動を調べる。この出力
変動から次の基準で判定する。 判定 基準 ◎ ２００回繰り返し後の出力変動が −０．３ｄＢ以上〜０ｄＢ ○ ２００回繰り返し後の出力変動が −０．６ｄＢ以上〜−０．３ｄＢ未満 × ２００回繰り返し後の出力変動が −０．６ｄＢ未満

【００５６】〔実施例１〕パラフェニレンジアミン２５
モル％と３，４−ジアミノジフェニルエーテル２５モル
％をアミン成分とし，テレフタル酸クロライド５０モル
％を酸成分としてＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）中で
重合し，水酸化カルシウムで中和してポリマー溶液（対
数粘度３．５）を得て，これを製膜原液とした。

【００５７】この原液を１００℃の金属ベルト上に流延
し，１００℃で２分間乾燥後，１２０℃，１５０℃と段
階的に温度を上げ，合計で１０分間乾燥させて自己保持
性をもつ末延伸フィルムを得た。この末延伸フィルムを
連続的にベルトから剥離して水槽中に導入し，脱溶媒と
脱塩を行った。

【００５８】得られた末延伸フィルムを低速，高速のロ
ール間でフィルム温度３５０℃で２．５倍に延伸し，続
いてステンターに供給して，４００℃で３．０倍に延伸
し，得られた二軸延伸フィルムを４００℃で１分間熱処
理し，室温まで冷却後，フィルムAを得た。該フィルムA
に後述の被膜層Ｂの組成となる水溶性塗液を塗布後、徐
々に加熱し、最高温度２００℃で４秒間乾燥して、最終
厚み４．０μｍである芳香族ポリアミドフィルムを得
た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強磁
性薄膜蒸着磁気テープの特性を表１に示す。

【００５９】被膜層Ｂ； バインダー：アクリル変性ポリエステル（高松油脂製Ｉ
Ｎ−１７０−６）。 フィラー：ポリメチルメタクリレート−ジビニルベンゼ
ン架橋体（日本触媒化学工業製エポスターＭＥ）平均粒
径３０ｎｍ。 界面活性剤Ｘ：ポリオキシエチレンアルキルフェニルエ
ーテル（日本油脂製ＮＳ−２０８．５）２重量％、ＨＬ
Ｂ１２．６。 界面活性剤Ｙ：ポリオキシエチレンアルキルフェニルエ
ーテル（日本油脂製ＮＳ−２３０）２８重量％、ＨＬＢ
１７．２。 トータルＨＬＢ：１６．９。

【００６０】〔実施例２〜３〕フィルムＡの延伸倍率を
表１に示すものに変更した以外は実施例１と同様にして
芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフィルムお
よびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テー
プの特性を表１に示す。

【００６１】〔実施例４〜５〕界面活性剤Ｘおよび／ま
たはＹの種類および／または含有量を表１に示すものに
変更した以外は実施例１と同様にして芳香族ポリアミド
フィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルム
を用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表１に
示す。

【００６２】〔実施例６〜１１〕被膜層Ｂ中の粒子種類
を表２に示すものに変更，および／または，全固形分中
の粒子含有量を変更し被膜層Ｂの突起頻度を表２に示す
ものに変更した以外は実施例１と同様にして芳香族ポリ
アミドフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフ
ィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を
表２に示す。

【００６３】〔実施例１２〜１３〕被膜層Ｂ中のバイン
ダー樹脂を表２に示すものに変更し，それに伴い表２に
示す界面活性剤組成の変更を行った以外は実施例１と同
様にして芳香族ポリアミドフィルムを得た。得られたフ
ィルムおよびこのフィルムを用いた強磁性金属薄膜蒸着
磁気テープの特性を表２に示す。

【００６４】〔実施例１４〜１５〕フィルムＡの芳香族
ポリアミドのアミン成分の共重合組成を表２に示すもの
に変更した以外は実施例１と同様にして芳香族ポリアミ
ドフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィル
ムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表２
に示す。

【００６５】〔比較例１〕重合工程において中和反応完
了後，前もってＮＭＰに分散させておいた平均粒径１６
０ｎｍのシリカを重合系に添加して製膜原液とした以外
は，実施例１と同様にして芳香族ポリアミドフィルムを
得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた強
磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表３に示す。この
フィルムはフィルム内部の粒子に起因する大突起，特に
粒子凝集物に起因する粗大突起により表面の適度な平滑
性が損なわれており，電磁変換特性に劣るものであっ
た。

【００６６】〔比較例２〕乾燥した未延伸フィルムを延
伸しない以外は，実施例１と同様にして芳香族ポリアミ
ドフィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィル
ムを用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表３
に示す。延伸されていないこのフィルムは，ヤング率が
低いものであったため電磁変換特性に劣るものであっ
た。

【００６７】〔比較例３〕被膜層Ｂの塗工を行わない以
外は，実施例１と同様にして芳香族ポリアミドフィルム
を得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを用いた
強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表３に示す。微
小突起の存在しないこのフィルムは，走行耐久性に劣る
ものであった。

【００６８】〔比較例４〕被膜層Ｂ中に粒子を含有させ
ない以外は，実施例１と同様にして芳香族ポリアミドフ
ィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルムを
用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表３に示
す。微小突起の存在しないこのフィルムは，走行耐久性
に劣るものであった。

【００６９】〔比較例５〜９〕界面活性剤Ｘおよび／ま
たはＹの種類および／または含有量を表３に示すものに
変更した以外は実施例１と同様にして芳香族ポリアミド
フィルムを得た。得られたフィルムおよびこのフィルム
を用いた強磁性金属薄膜蒸着磁気テープの特性を表３に
示す。界面活性剤のＨＬＢ値および／または含有量が本
発明の範囲を満足しないこれらのフィルムは，塗布抜け
・筋などの塗工欠陥が生じたり，ドロップアウトなどの
テープ特性上の欠陥が生じる。

【００７０】

【表１】

【００７１】

【表２】

【００７２】

【表３】

【００７３】*：PPDA→p-フェニレンジアミン **：3,4'-DAPE→3,4'-ジアミノジフェニルエーテル ***：Acr-Pes→アクリル変性ポリエステル(高松油脂
(株)製，IN-170-6) Pes→ポリエステル(互応化学(株)製，RZ530) Pur→ポリウレタン(東洋ポリマー(株)製，メルシー545) ****：架橋アクリル→ポリメチルメタクリレート−ジビ
ニルベンゼン架橋体 コアシェル型粒子(A)→ コア部(全径／コア径=1.25)：ポリスチレン−ジビニル
ベンゼン架橋体 シェル部：ポリメチルメタクリレート コアシェル型粒子(B)→ コア部(全径／コア径=10)：ポリスチレン−ジビニルベ
ンゼン架橋体 シェル部：ポリメチルメタクリレート シリカ→コロイダルシリカ *****：SAA1→ポリオキシエチレンアルキルフェニルエ
ーテル(日本油脂(株)製，NS208.5) SAA2→ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
(日本油脂(株)製，NS230) SAA3→ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
(日本油脂(株)製，NS240) SAA4→ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル
(日本油脂(株)製，NS270)。

【００７４】表１、表２、表３から明らかなように、本
発明によるフィルムは、優れた電磁変換特性を示すと共
に、走行耐久性に優れ、ドロツプアウトの原因となる微
細突起が極めて少ないばかりでなく、塗布抜けや塗布筋
といった欠陥がなく、巻き取り性も優れている。一方、
本発明の要件を満たさないものは、これらの特性を同時
に満足できない。

【００７５】

【発明の効果】本発明によれば、被膜層Ｂの表面にドロ
ップアウトの原因となる突起を有さず、電磁変換特性、
走行性に優れた磁気記録媒体の製造に有用な高密度磁気
記録媒体用積層フイルムを提供することができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浅井 武夫 神奈川県相模原市小山３丁目37番19号 帝 人株式会社相模原研究センター内 Ｆターム(参考） 4F100 AB01D AH01B AH01C AK01B AK01C AK25B AK25C AK41B AK41C AK47A AK51B AK51C AS00B AS00C BA02 BA03 BA04 BA06 BA10B BA10C BA10D CA18B CA18C EJ38A GB41 JA20B JA20C JB06B JB06C JG06D JJ03B JJ03C JK02A JM02D YY00A YY00B YY00C 5D006 BB01 CB01 CB03 CB05 CB07 CB08 EA01 FA00 FA09

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 内部に実質的に不活性粒子を含有しない
   芳香族ポリアミドからなる面積倍率にして５．０倍以上
   延伸された二軸延伸フィルムであって，長手方向と幅方
   向のヤング率の和が２０００ｋｇ／ｍｍ²以上であるフ
   ィルムＡの少なくとも片面に，被膜層Ｂが形成されてお
   り、該被膜層Ｂはバインダー樹脂、フイラー及び界面活
   性剤を含有し、該界面活性剤がＨＬＢ値１０〜１４の界
   面活性剤ＸとＨＬＢ値１６〜１８.５の界面活性剤Ｙを
   含み、かつこれらのトータルＨＬＢ値が１５〜１８であ
   り、そして被膜層Ｂ形成性塗液の固形分に対して界面活
   性剤Ｘの量が０．１〜１５重量％、界面活性剤Ｙの量が
   １０〜４０重量％であることを特徴とする高密度磁気記
   録媒体用芳香族ポリアミドフイルム。
2. 【請求項２】 芳香族ポリアミドが、酸成分としてテレ
   フタル酸、アミン成分としてｐ−フェニレンジアミンお
   よび３，４’−ジアミノジフェニルエーテルを用いてな
   る高分子化合物であることを特徴とする、請求項１に記
   載の高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフイルム。
3. 【請求項３】 被膜層Ｂを形成するバインダーが水性ポ
   リエステル樹脂、水性アクリル樹脂、水性ポリウレタン
   樹脂から選ばれる１種類以上のポリマー、またはこれら
   を組合せたものからなる請求項１、または２に記載の高
   密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフイルム。
4. 【請求項４】 被膜層Ｂ中のフイラーが平均粒径１０〜
   ５０ｎｍの耐熱性ポリマー粒子である請求項１、２、ま
   たは３に記載の高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミド
   フイルム。
5. 【請求項５】 被膜層Ｂ表面のフイラーによる突起頻度
   が２×１０⁶〜２×１０⁷個／ｍｍ²である請求項１、
   ２、３，または４に記載の高密度磁気記録媒体用芳香族
   ポリアミドフイルム。
6. 【請求項６】 被膜層Ｂの上に金属薄膜型磁性層を設け
   た金属薄膜型高密度磁気記録媒体用として用いられるこ
   とを特徴とする，請求項１，２，３，４，または５に記
   載の高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の高密度磁気記録媒体用
   芳香族ポリアミドフィルムを用いた金属薄膜型高密度磁
   気記録媒体。
8. 【請求項８】 被膜層Ｂの上に重層塗布型磁性層を設け
   た重層塗布型高密度磁気記録媒体用として用いられるこ
   とを特徴とする，請求項１，２，３，４，または５に記
   載の高密度磁気記録媒体用芳香族ポリアミドフィルム。
9. 【請求項９】 請求項８に記載の高密度磁気記録媒体用
   芳香族ポリアミドフィルムを用いた重層塗布型高密度磁
   気記録媒体。