WO1998014328A1 - Film de decollage - Google Patents

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WO1998014328A1
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Hiroyuki Sumi
Toshiya Koyama
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Definitions

  • the present invention relates to a release film in which a biaxially oriented film formed from polyethylene 1,6-naphthene dicarboxylate is used as a base film. More specifically, the present invention relates to a carrier film used for forming a resin sheet or a ceramic sheet and giving a high-precision surface property to the surface of a molded product.
  • the release film which is required to have excellent releasability, has a small amount of impurities in the release layer, and suppresses migration of impurities in the base film to the surface of the release layer.
  • the present invention relates to a release film (or a protective film) for a member required to prevent volatilization of an easily volatile component such as a patch contained therein. Background technology
  • a release film is typically used in which a cured silicone resin layer is formed on the film surface, and is used in various fields, for example, a carrier film and an adhesive layer in the production of molded products. It is used in a wide range of fields, such as protective films for medical supplies and patches. In each field, there is a demand for a release film having more excellent properties such as releasability, dimensional stability, migration of impurities, and gas permeability.
  • release films in several fields and their required properties will be described.
  • a release film is used as a carrier film for forming a resin sheet, a resin coating, or a ceramic sheet.
  • the resin sheet is formed by applying (casting) a resin solution made of, for example, vinyl chloride onto a carrier film, removing the solvent by heating, and peeling and separating the carrier film. It is used for applications.
  • the release film is also used in the case of laminating and molding using a pre-preda in the manufacture of a printed wiring board. That is, for example, a solution of a thermosetting resin such as phenolic resin or epoxy resin is applied or impregnated directly onto a release film or onto a glass cloth or paper laminated on the release film. The release film is then used when preparing the prepreg by heating and removing the solution and peeling and separating the release film.
  • a thermosetting resin such as phenolic resin or epoxy resin
  • the resin film is produced, for example, by applying a coating solution in which a resin serving as an adhesive is dissolved in a solvent to the surface of the carrier film, and then heating to remove the solvent.
  • the ceramic sheet is prepared, for example, by applying a slurry obtained by dispersing a ceramic powder and a binder agent in a solvent to the surface of the carrier film, removing the solvent by heating, and then peeling off the carrier film. Obtained as molded products.
  • a slurry obtained by dispersing a ceramic powder and a binder agent in a solvent to the surface of the carrier film, removing the solvent by heating, and then peeling off the carrier film. Obtained as molded products.
  • the surface peeled off from the carrier film is often used for applications requiring high-precision surface characteristics.
  • the surface roughness of the base film used for the coating greatly affects the surface roughness of the resin sheet, ceramic sheet and the like.
  • PET films especially biaxially oriented polyethylene terephthalate (hereinafter sometimes abbreviated as PET) films
  • PET films are used as the base film of these carrier films, but PET films are often wound.
  • the surface is roughened by adding a filler etc. for the purpose of improving the ease of removal. Therefore, filler is added Of resin sheets and ceramic sheets molded with a carrier film using a PET film as a base film, the surface is roughened, and when laminating the sheets with each other, voids are likely to enter the lamination interface. May occur.
  • the release film is coated with a resin solution or ceramic slurry and then heated to remove the solvent. The heating temperature is the glass transition temperature (T g) of the base film used for the release film.
  • T g glass transition temperature
  • Release films are also used in other fields, where a high degree of releasability is required and where the migration of impurities into the release layer is problematic.
  • this field includes the use of a protective film (release film) for an adhesive used in a back grinding process and a dicing process in the production of a silicon wafer. That is, in the back grinding and dicing processes in the production of silicone wafers, an adhesive film having various adhesive layers laminated thereon is used for fixing one wafer.
  • the surface on which the circuit is printed is fixed with an adhesive layer, and the adhesive layer is peeled off after polishing the back surface. For this reason, if a small amount of adhesive is peeled off or impurities are transferred from the adhesive protective film, problems such as defective printed circuits occur, and the yield of semiconductor chips is reduced.
  • the silicon wafers are finely cut while being fixed to the adhesive layer, and the adhesive is removed one by one after the adhesive strength of the adhesive is reduced by UV irradiation or the like.
  • the removed wafer is subjected to the next bonding process and It is transferred to the molding process and used.
  • the pressure-sensitive adhesive film is usually stored with the surface of the pressure-sensitive adhesive layer protected by a release film, and the release film is peeled off and used in the above-mentioned dicing step.
  • a release film in which a cured silicone release layer is provided on a polyester film or the like has been conventionally used.
  • a release film has a disadvantage that impurities (oligomers and metal compounds used as polymerization catalysts) in the polyester film migrate in the silicone release layer and easily deposit on the surface of the release layer.
  • the impurities deposited on the surface of the release layer are transferred to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive film, and further transferred to the silicone wafer in the back grinding and dicing steps during the production of the above-mentioned silicone wafer.
  • This causes a reduction in product yield in the molding process.
  • the presence of impurities (uncured silicone monomers or oligomers) in the cured silicone resin that constitutes the release layer of the release film also causes a reduction in yield.
  • release films are used in other fields for medical applications.
  • a release film is used as a protective film to protect the adhesive layer of a patch and maintain the efficacy of a medicinal component.
  • a patch having a knitted microporous hollow fiber as a component thereof is known.
  • W087 / 00004 Publication, WO087 / 04343 Publication, W0909 No. 0 No. 97484 is known.
  • a patch in which the knitted fabric and an ultrathin polyester film are laminated is known (Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-81664).
  • a first object of the present invention is to provide a release film having excellent surface properties and being stable to heat (that is, having a small dimensional change rate).
  • a second object of the present invention is to provide a release film having excellent releasability and in which impurities in the base film do not migrate to the surface of the release layer.
  • a third object of the present invention is to provide a release film having excellent gas barrier properties.
  • Another object of the present invention is to provide a release film that can be commonly used in various fields.
  • an object of the present invention is to provide a release film comprising a polyester film (A) and a cured silicone resin layer (B) provided on at least one surface thereof.
  • the film (A) is a biaxially oriented film formed of polyethylene-2,6-naphthylene dicarboxylate, and its surface center line average roughness (Ra) (2)
  • the release film (C) is characterized in that the dimensional change under a stress of 150 gf Zmm 2 at 120 ° C is 0.2% or less. Is achieved by
  • a biaxially oriented film formed of polyethylene-1,6-naphthalenedicarboxylate is used as the base film in the release film of the present invention.
  • the polyethylene-2,6-naphthylene dicarboxylate (hereinafter sometimes abbreviated as PEN) constituting this film is a polyester containing ethylene-2,6-naphthylene dicarboxylate as a main repeating unit.
  • Such a PEN polymer may be a copolymer obtained by copolymerizing a small amount of a copolymer component (10 mol% or less, particularly 5 mol% or less) as long as the thermal deformation resistance of the release film is not impaired.
  • a copolymer component 10 mol% or less, particularly 5 mol% or less
  • Such copolymerization components include, for example, terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, naphthalene-1,2,7-dicarboxylic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid, 4,4′-diphenyletherdicarboxylic acid, etc.
  • Aromatic dicarboxylic acids aliphatic dicarboxylic acids such as oxalic acid and adipic acid; oxycarboxylic acids such as p-hydroxybenzoic acid and p-hydroxybenzoic acid; and diethylene glycol, 1,3-propylene glycol, and 1,4- Glycols such as tetramethylene glycol, 1,6-hexamethylene glycol, and neopentyldaricol are preferred.
  • the PEN polymer is copolymerized with a compound having three or more functional groups, such as glycerin, pen erythritol, trimellitic acid, and pyromellitic acid, within a range that does not substantially impair the properties and film-forming properties of PEN. May be.
  • a compound having three or more functional groups such as glycerin, pen erythritol, trimellitic acid, and pyromellitic acid
  • some or all of the terminal hydroxyl groups and / or carboxyl groups are blocked with a monofunctional compound such as benzoic acid or methoxypolyalkylene glycol. It may be something.
  • the PEN polymer used in the present invention preferably has an intrinsic viscosity of 0.5 or more, particularly 0.6 to 1.0.
  • the PEN polymer is a homopolymer containing only ethylene-2,6-naphthalene dicarboxylate units as repeating units, and thus has poor mechanical properties such as Young's modulus and thermal properties such as heat deformation resistance. It is preferable because an excellent base film can be obtained.
  • Such a PEN polymer can be produced by a known method. For example, it can be produced by polycondensing naphthene-1,2-dicarboxylic acid or an ester-forming derivative thereof with ethylene glycol or an ester-forming derivative thereof in the presence of a catalyst. .
  • a PEN copolymer it can be produced by adding the copolymerization component to the above-mentioned polymerization component and subjecting it to polycondensation.Furthermore, the polyester containing the copolymerization component and the PEN homopolymer are melted. It can also be produced by mixing and performing an ester exchange reaction.
  • the average particle size of the PEN polymer is 0.01 to 20 m, preferably 0.05 to 5 // m, and particularly preferably 0.1 to improve the winding property of the film. It is preferable to contain up to 3 m of inert fine particles.
  • the content of the inert fine particles is from 0.001 to 20% by weight, preferably from 0.005 to 5% by weight, particularly preferably from 0.01 to 3% by weight.
  • the preferred range of the average particle size and the content of the inert fine particles is determined by the shape of the particles, the particle size distribution and the specification of the target film.
  • the inert fine particles may be either inorganic fine particles or organic fine particles. Specific examples of such fine particles include inorganic fine particles such as silica, alumina, kaolin, calcium carbonate, titanium oxide, barium sulfate, carbon black, and the like.
  • Organic fine particles such as a crosslinked acrylic resin, a crosslinked polystyrene resin, a melamine resin, and a crosslinked silicone resin can be preferably exemplified.
  • PEN polymer has a rigid molecular chain and higher film stiffness than PET polymer, so that sufficient winding property can be obtained even if the content of such fine particles is smaller than that of PET polymer.
  • the inert fine particles contained therein are particularly preferably fine silica particles typified by spherical fine silica particles and porous fine silica particles. Next, these preferable silica fine particles will be described.
  • the spherical silica fine particles have a particle size ratio (major axis / minor axis) of 1.0 to 1.2, and an average particle size of 0.01 to 5 ⁇ ⁇ .
  • the average particle diameter is preferably at least 0.1 m, more preferably at least 0.3 m. Further, if the average particle size is too large, there is a problem that foreign matters are generated and the skin becomes chewy. In this respect, the average particle size is preferably 3 m or less, more preferably 2 m or less.
  • the method for producing the spherical silica fine particles is not particularly limited as long as the above conditions are satisfied.
  • spherical silica fine particles form monodisperse spheres of hydrosilicide [S i (OH) 4 ] from the hydrolysis of ethyl ethyl orthosilicate [S i (OC 2 H 5 ) 4 ] according to the following reaction formula. It can be produced by dehydrating monodisperse spheres to grow the following silica bond three-dimensionally (Journal of the Chemical Society of Japan, '81, No. 9, p. 1503). Silica bond
  • porous silica fine particles are aggregated particles.
  • the average particle size of the primary particles constituting the porous silica fine particles is desirably in the range of 0.01 to 0.1 m. If the average particle size of the primary particles is less than 0.1 l ⁇ m, ultrafine particles are generated by pulverization in the slurry stage, which is not preferable since aggregates are generated. On the other hand, when the average particle size of the primary particles exceeds 0.1 / xm, the porosity of the particles is lost, and as a result, the affinity with the PEN polymer is lost, and the formation of voids is facilitated. Absent. When a poid is emitted, the transparency of the film deteriorates, and the value of the product is impaired.
  • the porous silica fine particles preferably have a pore volume in a range of 0.5 to 2.0 ml / g, preferably 0.6 to 1.8 ml / g.
  • the pore volume is less than 0.5 m 1 / g, the porosity of the particles is lost, and a void is easily generated, and the transparency and the light transmittance are lowered.
  • the pore volume is larger than 2.
  • Oml Zg it is easy to break up and agglomerate, and it is difficult to adjust the particle size.
  • the average particle diameter of the porous silica fine particles is preferably in the range of 0.1 to 5 m, preferably 0.3 to 3 zm.
  • the average particle size is less than 0.1 l ⁇ m, the film has insufficient slipperiness.
  • the average particle size exceeds 5 m, the surface of the film becomes too rough, and the roughness is reduced on the release film. This is undesirably transferred to the formed sheet, and the sheet surface becomes rough, which is not preferable, and the number of foreign substances in the film also increases.
  • the base film of the present invention contains inert fine particles.
  • additives such as a stabilizer, an ultraviolet absorber, a flame retardant, and an antistatic agent can be blended. It is also possible to blend other thermoplastic resins in small amounts (for example, less than 20% by weight, especially less than 10% by weight).
  • the timing of adding the inert fine particles or other additives is not particularly limited as long as it is a stage before the PEN polymer is formed, and may be, for example, a polymerization stage or a stage before the film formation.
  • the PEN film used in the present invention can be produced by a conventionally known method known per se. For example, after the PEN polymer is dried, it is melted in an extruder at a temperature of Tm ⁇ (Tm + 70) ° C (where Tm is the melting point of the PEN polymer), and it is discharged from a die (eg, T-die, I_die, etc.). Extruded on a rotating cooling drum and quenched at 40 to 90 ° C. to produce an unstretched film. Then, the unstretched film is heated at a temperature of (Tg ⁇ 10) to (Tg + 70) t (Tg: PEN polymer).
  • the thickness of the film is preferably 1 to 250 m, more preferably 5 to 100 m, and particularly preferably 25 to 75 m.
  • the above-described stretching ratios in the longitudinal direction and the transverse direction are substantially the same.
  • the PEN film (A) which is the base film in the release film (C) of the present invention has a smooth surface and a surface center line average roughness (Ra) of 50 nm or less.
  • the preferred average roughness (Ra) is 2 to 40 nm, particularly preferably 5 to 30 nm. If the value of Ra is smaller than the above range, the release film is rolled before processing. When the film is stored in a wound state, the films are likely to cause blocking, and the film becomes less slippery, so that wrinkles are likely to occur in the processing step.
  • Ra exceeds 50 nm
  • the surface of the molded product using the release film may become rough, or a gap may be formed between the molded product using the release film and the molded product.
  • the Ra on the surface of the PEN film (A) can be controlled within the above range by controlling the average particle size distribution, type, and amount of the inert fine particles.
  • a cured silicone resin layer (B) is provided as a release layer on at least one surface of the PEN film (A).
  • the cured silicone resin layer as the release layer can be formed by applying a coating liquid containing a curable silicone resin to the surface of the PEN film, followed by drying and curing.
  • a primer layer can be formed on the surface of the PEN film, and the coating liquid can be applied to the surface of the primer layer. This primer layer will be described later in detail.
  • any reaction system such as (1) condensation reaction system, (2) addition reaction system, and (3) ultraviolet or electron beam curing system can be used. . One or more of these can be used.
  • the silicone resin of the above (1) condensation reaction system has, for example, a terminal H group.
  • Examples of the addition-reaction-type silicone resin include those which form a three-dimensional structure by reacting polydimethylsiloxane having a vinyl group introduced into a terminal with hydrogensilane using a platinum catalyst.
  • UV-curable silicone resin for example, Using the same radical reaction as ordinary silicone rubber cross-linking, photo-curing by introducing an acrylic group, and decomposing the onium salt by ultraviolet rays to generate a strong acid, which cleaves the epoxy group to cross-link And those crosslinked by the addition reaction of a thiol to vinylsiloxane. Electron beams have higher energy than ultraviolet rays, and a radical crosslinking reaction occurs without using an initiator as in the case of ultraviolet curing.
  • curable silicone resin those having a degree of polymerization of about 500,000 to 200,000, preferably about 1,000 to 100,000 are preferable.
  • a cured silicone resin layer (B) is formed on the film surface using the resin described above.
  • a coating method a conventionally known method such as a bar coating method, a doctor blade method, a reverse roll coating method, or a gravure roll coating method can be used.
  • Drying and curing (thermal curing, ultraviolet curing, etc.) of the coating film should be performed so that the residual adhesion rate is 85% or more, preferably 95% or more. Drying and curing can be performed individually or simultaneously. When performing simultaneously, it is preferable to perform at 100 ° C or more.
  • the drying and curing conditions are preferably at 100 ° C. or more and 30 seconds or more. If the drying temperature is less than 100 ° C and the curing time is less than 30 seconds, the curing of the coating film is incomplete and the coating film is liable to fall off, which is not preferable.
  • the thickness of the cured silicone resin layer (B) is not particularly limited, but is preferably from 0.01 to 5 m, particularly preferably from 0.05 to 1. If the thickness is less than 0.01 m, the demolding performance deteriorates and satisfactory performance cannot be obtained. Conversely, if the thickness is more than 5 / m, it takes a long time to cure, which is not preferable because production disadvantages occur.
  • the release film of the present invention in which the cured silicone resin layer (B) is provided on at least one surface of the above-mentioned PEN film (A) is extremely small in deformation due to heating, and is therefore suitable for use under heating conditions. Release film. This deformation, according to the method described below, the dimensions deformation rate at 0.99 gf ZMM 2 under stress at 120
  • the dimensional deformation rate is obtained by measuring the dimensional change in the stress direction and the vertical direction under the stress and temperature conditions, and has an absolute value of 0.2% or less (that is, a change rate of -0.2% to (0.2%). Under suitable conditions, the release film of the present invention has a dimensional change of 0.12% or less, particularly preferably 0.07% or less.
  • the release film of the present invention has a very small dimensional change rate with respect to heat as described above, it is used as a carrier film in the molding of a resin sheet and a ceramic sheet. And can be used advantageously.
  • release films [I], [II] and [III] can be shown as preferred embodiments. These have suitable applications for their use due to their different forms.
  • the release film [I] is a release film that is formed from the PEN film (A) and the cured silicone resin layer (B) and has no primer layer (D) between them.
  • the release films [II] and [III] are release films having a primer layer (D) between the PEN film (A) and the cured silicone resin layer (B). II] and [III] basically differ in the type of primer layer (D).
  • the release films [I], [II] and [I I I] will be described below.
  • a release film (C) comprising a polyester film (A) and a cured silicone resin layer (B) provided on at least one surface thereof, wherein (1) the film (A) is polyethylene-2,6-naphthyl A biaxially oriented film formed from a range carboxylate, having a surface centerline average roughness (Ra) of 50 nm or less;
  • the film (A) contains 0.001 to 20% by weight of inorganic or organic inert fine particles having an average particle size of 0.01 to 20 im, and (3) the release film (C) 12.
  • This release film [I] basically comprises the above-mentioned PEN film (A) and a cured silicone resin layer (B) provided on at least one surface thereof. Therefore, the properties and manufacturing methods of the PEN film (A) and the cured silicone resin layer (B) in the release film [I] need not be particularly described here.
  • the PEN film (A) as a base film contains 100 foreign substances (coarse particles) having a size of 5 O ⁇ m or more and 100 or less Zm 2 , preferably It is desirable that the number be 30 m 2 or less, more preferably 10 m 2 or less. If the number of foreign substances having a size of 50 or more increases, many defects are generated on the surface of the resin sheet or the ceramic sheet formed using the release film [I], which is not desirable.
  • the release film [I] Since the release film [I] has excellent surface characteristics and a small dimensional change rate, it has characteristics extremely suitable as a carrier film for forming a resin sheet or a ceramic sheet.
  • a release film (C) comprising a polyester film (A) and a cured silicone resin layer (B) provided on at least one side thereof, wherein (1) the film (A) is polyethylene 1,2,6-naphthalene diene A biaxially oriented film formed from a carboxylate, having a surface center line average roughness (Ra) of 50 nm or less; (2) the release film (C) comprises the film (A) and A primer layer (D) having a Si ⁇ bond is provided between the cured silicone resin layer (B) and the primer layer (D) having an S i0 bond formed from a hydrolyzed condensate of an alkoxysilane. (3) The release film (C) has a dimensional stability under a stress of 150 gf / mm 2 in 12 O: of 0.2% or less. Film [1 1].
  • This release film [II] has a primer layer (D) having a SiO bond between the PEN film (A) and the cured silicone resin layer (B), and the primer layer (D) is It is characterized in that it is a layer formed from a hydrolysis-condensation product of alkoxysilane.
  • the primer layer (D) of the release film [II] is prepared by applying an organic solvent solution of alkoxysilane, particularly lower alkoxysilane, to the surface of the PEN film (A), for example, at a temperature of 120 to 210 ° C for 10 to 60 ° C. The coating can be carried out by heating for 2 seconds to dry and remove the solvent and crosslinking and curing.
  • the thickness of the primer layer (D) is suitably from 0.02 to 2 m. If the thickness is less than 0.02111, the effect of suppressing the migration of impurities in the PEN film (A) to the surface of the release layer is insufficient. If the thickness exceeds 2 m, the primer layer (D) is deposited. It is not preferable because the blocking resistance of the laminated PEN film (A) becomes poor.
  • the release film [II] is obtained by forming the cured silicone resin layer (B) on the surface of the primer layer (D) of the PEN film (A) thus obtained according to the method described above.
  • the release film [II] the presence of the primer layer (D) removes impurities (catalyst metal components and oligomers) in the PEN film.
  • the migration to the layer (cured silicone resin layer) is extremely suppressed, so that a release film having very few impurities in the release layer is obtained.
  • This release film [II] is advantageously used for the production of silicone oil 81, which is necessary for the control of the production process to prevent the incorporation of trace amounts of impurities. That is, it is extremely excellent as a release film (protective film) used in a pack grinding and dicing process in the production of a silicon wafer.
  • a release film (C) comprising a polyester film (A) and a cured silicone resin layer (B) provided on at least one surface thereof, wherein (1) the film (A) is polyethylene-1,2,6-naphthalene A biaxially oriented film formed from dicarboxylate, having a surface centerline average roughness (Ra) of 50 nm or less;
  • the release film (C) is provided with a primer layer (D) having a Si ⁇ bond between the film (A) and the cured silicone resin layer (B).
  • the primer layer (D) having a bond is an S i 0 X (X has a range of 1 ⁇ X ⁇ 2) layer formed by a vapor deposition method, and (3) the release film
  • (C) A release film [1 1 1], characterized in that the dimensional stability under a stress of 150 gf / mm 2 at 120 is 0.2% or less.
  • This release film [III] is provided with a primer layer (D) having a Si ⁇ ⁇ ⁇ bond between the PEN film (A) and the cured silicone resin layer (B), and the primer layer (D) is It has a feature in that it is a Si x layer (X has a range of 1 ⁇ X ⁇ 2) formed by a vapor deposition method.
  • the releasing film primer in [III] further (D) is, S i O x on the surface of the PEN film (A) (X has the same range as defined above) provided by connexion a layer of a vapor phase growth method.
  • Preferred examples of the vapor phase growth method include the following methods (a) to (c).
  • a vacuum evaporation method using Si ⁇ as an evaporation source is preferable in terms of cost.
  • the formation of the Si x layer may be carried out by a single method or by a combination of two or more methods.
  • the thickness of the Si x layer is desirably in the range of 0.04 to 0.1 m, and more desirably in the range of 0.05 to 0.08 m. If the thickness is less than 0.04 m, satisfactory gas barrier properties cannot be obtained. Conversely, if the thickness exceeds 0.1 m, the rigidity of the SiO x layer increases and the release film [III] is bent. In this case, it is not preferable because it is easy to peel off from the PEN film layer (A).
  • a release film [III] is obtained by forming a cured silicone resin layer (B) on the surface of the primer layer (D) of the PEN film (A) thus obtained according to the method described above.
  • the release film [III] is provided with the primer layer (D) formed by the vapor phase growth method, it has extremely excellent gas barrier properties. Therefore, this release film [III] is most suitable as a release film (protective film) in fields that require this excellent gas barrier property. For example, it can be used as a protective film for the adhesive layer of a patch containing a volatile drug component. Becomes possible.
  • a primer layer (D) having a SiO bond is provided between the PEN film (A) and the cured silicone resin layer (B).
  • This primer layer (D) is a silane coupling It may be formed by agent treatment.
  • the silane coupling agent those represented by the general formula Y—Si—X 3 are more preferable.
  • Y represents a functional group represented by, for example, an amino group, an epoxy group, a vinyl group, a methacryl group, a mercapto group
  • X represents a hydrolyzable functional group represented by an alkoxy group.
  • the thickness of one layer of the primer by the silane coupling agent is preferably in the range of 0.01 to 5 tm, particularly preferably in the range of 0.02 to 2 m.
  • the thickness of the primer layer is within the above range, the adhesion between the base film and the release layer becomes good, and the base film provided with the adhesive layer is difficult to block, so that there is a problem in handling the release film.
  • the advantage is that it is difficult to generate.
  • the release film of the present invention can be used in the manufacture of printed wiring boards in the fields of electronic computers, communication devices, measuring instruments, medical equipment, and the like, in addition to the various uses described above.
  • laminated multilayer printed wiring boards have been used in accordance with the recent miniaturization of circuits. Release film can be advantageously used.
  • the intrinsic viscosity of the PEN polymer was measured at a temperature of 35 after dissolving the phenol in 0-cloth.
  • a strip-shaped film cut out at least 3 Omm and 4 mm in width in the measurement direction is mounted on a jig of TM A (thermal stress / strain measuring device, TMAZS S120C manufactured by Seiko Denshi Kogyo Co., Ltd.) so that the distance between the chucks is 10 mm. and, a 150 gf / mm 2 stress applied to the film, and heated at a heating rate of 5 minutes from room temperature, 120: the Kino dimensional change has reached the determined by the stress direction and the vertical direction, by the following formula It was calculated and found.
  • Dimensional change rate (absolute value) Distance between I dimensional change notchs 1 X 100
  • a polyester adhesive tape (Nitto Denko Co., Ltd., 31 B) is adhered to the surface of the release layer of the release film, pressed with a pressure roller at a pressure of 5 kgZcm2, and left at 70 for 20 hours. Then, the adhesive tape is peeled off from the release film, and the metal element on the release surface of the adhesive tape is analyzed by an ESCA apparatus using MgKa (1254 eV) as an excitation source. The metal elements that were transferred to were determined. In the measurement of the metal element by ESCA, a metal element having a peak of 500 cout or more was determined as a metal element detected.
  • the release layer surface of the release film was sputtered with Au, and the surface of this sputtered film was observed with a scanning electron microscope at a magnification of 2000 times on 10 surfaces having a 10-square area. Also, the absence of oligomer crystals (hexagonal columnar crystals) was regarded as the absence of oligomer on the release layer surface of the release film.
  • Example 1 From the evaluation of the state of sticking between the films when film is pulled out from the release film roll, the state of coating defects, the state of surface defects, the flatness of the film, the foreign matter such as air bubbles, the state of evening light, etc. The ratio of the number of release film rolls that did not become a product to the total number of release film openings was determined as the defect rate.
  • a PEN polymer with an intrinsic viscosity of 0.62 is melted by an extruder, extruded from a die onto a rotating cooling drum maintained at 4, and then quenched by bringing the molten polymer into close contact with the rotating cooling drum using electrostatic adhesion. Then, an unstretched film was obtained. Next, this unstretched film is stretched 3.7 times in the machine direction and 3.8 times in the transverse direction, and heat-set at 240 to form a biaxially oriented PEN film with a thickness of 50 m. Obtained.
  • the coating solution shown below is applied to one surface of this biaxially oriented PEN film at a coating amount of 6 gZm 2 (wet), and heated and dried at 140 ° C for 1 minute to cure the release layer thickness.
  • the coating liquid was prepared by dissolving an addition-reaction-type curable silicone composed of polydimethylsiloxane having a vinyl group and dimethylhydrogensilane in a mixed solvent of methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and toluene.
  • the resin was mixed with the curable silicone in such an amount as to give a solid content ratio of 10% by weight, a solution having a total solid content of 2% was prepared, and a platinum catalyst was added to this solution.
  • the polymer After drying the polymer at 170 for 6 hours, it was fed to an extruder, melted at a melting temperature of 290 to 31 O :, passed through a slit die with an opening of 1.5 mm, and finished with a surface finish of 0.3 S The mixture was extruded on a rotating drum at a surface temperature of 50 to obtain an unstretched film.
  • the unstretched film thus obtained is stretched 3.6 times in the longitudinal direction at 140, then stretched 3.7 times in the horizontal direction at 150, and heat-set at 240 to obtain a thickness.
  • a 50 m biaxially oriented PEN film was obtained.
  • the coating liquid was prepared by dissolving an addition-reaction-type curable silicone composed of polydimethylsiloxane having a vinyl group and dimethylhydrogensilane in a mixed solvent of methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and toluene, and further adding silicone resin.
  • this biaxially oriented PET film Apply the coating solution shown below at a coating amount of 6 g Zm 2 (wet), and heat and dry for 1 minute at a temperature of 14 O to set the thickness of the release layer.
  • the coating liquid was prepared by dissolving an addition-curable silicone composed of polydimethylsiloxane having a vinyl group and dimethylhydrogensilane in a mixed solvent of methylethylketone, methylisobutylketone, and toluene.
  • a solution having a solid concentration of 2% was prepared by adding a platinum catalyst to this solution. Table 2 shows the characteristics of this release film.
  • Polyethylene-26-naphthalate with an intrinsic viscosity of 0.62 polymerized using an antimony compound and a manganese compound as a catalyst is melted in an extruder, and the film-like molten polymer is melted at about 40 ° C from a die.
  • the film-shaped molten polymer was rapidly cooled while being in close contact with a cooling drum using an electrostatic adhesion method to obtain an unstretched film.
  • the unstretched film was stretched 3.7 times in the machine direction, then 3.8 times in the transverse direction, and heat-set at 240 ° C.
  • a biaxially oriented film having a thickness of 50 m was obtained.
  • An isopropyl alcohol solution of Si (OC 2 H 5 ) 4 (Colcoat P, manufactured by Colcoat Co., Ltd.) was coated on the film by a gravure coating method, dried and cured at 140 for 30 seconds, and then 0.5 m
  • a silicone resin coating solution having the following composition is applied to the surface of the biaxially stretched film on which the anchor coat layer is applied, with a coating amount of 8 gZm 2 (wet), and dried at 130: 30 seconds. After curing, a release film having a release layer thickness of 0.24 m was obtained. Table 3 shows the performance of this release film.
  • Curable silicone resin (KS 847H; Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 100 parts by weight Catalyst (CAT PL-50T; Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
  • Example 6 dimethyl terephthalate and ethylene glycol were used instead of polyethylene-2,6-naphthalate, and polyethylene terephthalate polymerized using an antimony compound and a manganese compound as catalysts (25 t o-chlorophenol) A release film was obtained in the same manner as in Example 6, except that the intrinsic viscosity measured in one unit: 0.65) was used. Table 3 shows the performance of this release film.
  • a release film was obtained in the same manner as in Example 6, except that the catalyst in the silicone resin solution was changed to 0.5 part by weight. Table 3 shows the performance of this release film. Table 3
  • Example 2 To form the S i O x layer on one surface of the biaxially oriented PEN film having a thickness of 50 Aim obtained in Example 2, was deposited S i O by high-frequency induction heating method. It was 7 Onm when the layer thickness was measured using a quartz oscillator. Further, the temperature was maintained for 23 to 24 hours to stabilize the formed SiO x layer.
  • Example 7 Except that the thickness of the S I_ ⁇ x layer 1 2 0 nm in Example 7 was prepared the mold releasing film in the same way. Table 4 shows the properties of this release film. Table 4

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Description

明 細 書 離形フィルム 技術分野
本発明は、 ポリエチレン一 2, 6—ナフ夕レンジカルポキシレートより形成さ れた 2軸配向フィルムをべ一スフィルムとした離形フィルムに関する。 さらに詳 しく説明すると本発明は、 樹脂シートまたはセラミックスシートなどの成形に使 用され、 成形品の表面に高精度の表面性を与えるキヤリヤーフィルムに関し、 ま た本発明は、 シリコンウェハーの製造などにおいて要求される、 剥離性に優れ、 離形層中の不純物が少なくかつべ一スフイルム中の不純物が離形層表面に移行す るのを抑制した離形フィルムに関し、 さらに易揮発性薬剤成分を含有する貼付薬 の如き易揮発成分の揮散を防止することが要求される部材のための離形フィルム (または保護フィルム) に関する。 背景の技術
従来離形フィルムは、 フィルム表面上に硬化シリコーン樹脂層を形成させたも のが代表的に使用され、 種々の分野で利用されており、 例えば成形品製造におけ るキヤリャ一フィルム、 粘着剤層の保護フィルムおよび貼付薬の保護フィルムな どの広い分野で利用されている。 そしてそれぞれの分野で、 剥離性、 寸法安定性、 不純物の移行性やガス透過性などの特性が一層優れた離形フィルムが要求されて いる。
次に、 いくつかの分野における離形フィルム並びにその要求特性について説明 する。 成形品の製造分野において離形フィルムは、 樹脂シート、 樹脂被膜あるいはセ ラミックスシート等を成形する際のキヤリャ一フィルムとして用いられる。
樹脂シートは、 例えば塩化ビニル等からなる樹脂溶液をキヤリャ一フィルム上 に塗工 (流延) した後、 溶媒を加熱除去し、 キヤリャ一フィルムを剥離分離する ことにより成形され、 マ一キングシート等の用途に供される。
また、 離形フィルムは、 プリント配線基板の製造において、 プリプレダを用い て積層成形する場合にも使用される。 すなわち、 例えば、 フエノール樹脂ゃェポ キシ樹脂などの熱硬化性樹脂の溶液を、 離形フィルム上に直接、 あるいは離形フ イルム上に積層したガラス布または紙の上に、 塗布あるいは含浸させて、 次いで 溶液を加熱除去して、 そして離形フィルムを剥離 '分離することによりプリプレ グを製作する場合に離形フィルムが使用される。
樹脂被膜は、 例えば粘着剤となる樹脂を溶媒に溶解した塗液をキヤリヤーフィ ルムの表面に塗布した後、 加熱して溶媒を除去することにより製造される。
セラミックスシートは、 例えばセラミックス粉体とバインダ一剤等を溶媒に分 散させたスラリ一をキヤリャ一フィルムの表面に塗工した後、 溶媒を加熱除去し、 次いでキヤリャ一フィルムを剥離除去することにより成形品として得られる。 一般的に、 樹脂シートやセラミックスシート等の表面のうち、 キヤリャ一フィ ルムから剥離された面の方が高精度な表面特性を要求される用途に使用されるこ とが多いため、 キヤリャ一フィルムに用いられるべ一スフイルムの表面粗さが、 樹脂シートゃセラミックスシ一ト等の表面粗さを大きく左右する。
これらのキヤリャ一フィルムのべ一スフイルムとしては、 各種のフィルム、 特 に 2軸配向ポリエチレンテレフタレート (以下 P E Tと略することがある) フィ ルムが使用されているが、 P E Tフィルムはほとんどの場合、 巻き取り性向上の 目的のためフイラ一等を添加し表面を粗面化している。 従って、 フィラーが添加 された P E Tフィルムをベースフィルムとしたキヤリヤーフィルムで成形された 樹脂シートやセラミックスシート等は、 表面が粗面化され、 シート類を相互に積 層する場合、 積層界面に空隙が入りやすいという問題が発生することがある。 一方、 離形フィルムは樹脂溶液やセラミツクススラリ一を塗工した後、 溶媒除 去のため加熱処理されるが、 この加熱温度は、 離形フィルムに用いられるベース フィルムのガラス転移温度 (T g ) 付近かそれ以上であることが多く、 このため 離形フィルムに寸法変化ゃシヮ等の熱変形が生じて、 成形された樹脂シート類の 厚みムラや平面性が悪化し品質が低下する問題がある。 特に、 樹脂シート類の生 産性を向上させるため、 加熱処理時間を短縮し加熱温度を高くすると、 前述の問 題がより顕在化することが懸念される。
また離形フィルムは別の分野として、 高度な剥離性が要求されかつ離形層中へ の不純物の移行性が問題となる分野にも利用されている。 例えば、 この分野とし てシリコーンウェハ一製造におけるバックグラインド工程およびダイシング工程 で使用する粘着剤の保護フィルム (離形フィルム) の使用を挙げることができる。 すなわち、 シリコーンウェハー製造の際のバックグラインド及びダイシングェ 程等では、 種々の粘着剤層を積層した粘着フィルムがウェハ一の固定用に使用さ れる。
特に、 バックグラインド工程では回路を印刷する面を粘着剤層にて固定し、 そ の背面を研磨後この粘着剤層を剥離する。 そのため、 わずかな粘着剤の剥離残り や粘着剤保護フィルムからの不純物転写が起こると印刷回路不良等の問題が発生 し半導体チップの歩留まりが低下する。
また、 ダイシング工程では、 シリコーンウェハーは粘着剤層に固定された状態 で細かくカツティングされ、 U V照射等により粘着剤の粘着力が低減された後、 一個ずつ取り出される。 取り出されたウェハーは、 次のボンディング工程および、 モールディング工程に移送され、 使用される。 そして、 上記の粘着フィルムは通 常、 粘着剤層の表面を離形フィルムにより保護された状態で保管され、 前述のダ イシング工程で、 離形フィルムを剥離除去して使用される。
近年、 モールディング工程で用いるシリコーンウェハ一のサイズは極めて小さ くなつているが、 ウェハ一表面に不純物がわずかでも存在すると、 その部分を起 点とした接着不良による割れ等が発生し、 製品の歩留まりが低下するという問題 が生じている。
一方、 上記の粘着剤層保護フィルムには、 例えばポリエステルフィルムの上に 硬化シリコーン離形層を設けた離形フィルム等が従来から用いられている。 とこ ろが、 かかる離形フィルムは、 ポリエステルフィルム中の不純物 (オリゴマーや 重合触媒として用いた金属化合物) がシリコーン離形層中を移行し離形層表面に 堆積しやすい欠点を有する。 そして、 この離形層表面に堆積した不純物が、 粘着 フィルムの粘着剤層表面に転写され、 更に上記シリコーンウェハー製造の際バッ クグラインド及びダイシング工程でシリコーンゥェハーに再転写されることによ りモ一ルディング工程での製品の歩留まりを低下させる原因となっている。 また、 離形フィルムの離形層を構成する硬化シリコ一ン樹脂中の不純物 (未硬化のシリ コーンモノマーやオリゴマー) が存在すると、 やはり歩留まりを低下させる原因 となる。
さらに離形フィルムは、 他の分野として医療用にも使用されている。 例えば貼 付薬の粘着剤層を保護しかつ薬効成分の効力を維持するために離形フィルムが保 護フィルムとして使用されている。 このような医療分野において従来から、 皮膚 かぶれを起こしにくく、 患部に臨床有効量の薬剤を供給する貼付薬として、 例え ば微多孔中空繊維の編物をその構成要素として有する貼付薬が知られている (W 0 0 8 7 / 0 0 0 4 6号公報、 WO 0 8 7 / 0 4 3 4 3号公報、 W〇 0 9 0ノ 0 9 7 8 4号公報) 。 また、 該編物と極薄のポリエステルフィルムとを積層させた 貼付薬も知られている (特開平 3— 8 1 6 0 4 4号公報) 。
これらの貼付薬の薬効成分を含んだ粘着剤層の保護層としては、 紙を基材とし た離形紙が広く用いられていた。 しかしながら、 紙は多孔質であるため貼付薬の 薬効成分が徐々に浸出したり揮散するため、 薬効の有効期限が短くなるという欠 点があった。 これを改良するため、 紙よりもガスバリア一性の高いポリエチレン テレフ夕レート (P E T) フィルムを保護層の基材に用いることも行われている が、 薬効をさらに長期間保持させるためにガスバリアー性のより優れた離形フィ ルムが要望されている。 発明が解決しょうとする課題
そこで本発明の第 1の目的は、 表面特性に優れかつ熱に対して安定な (つまり 寸法変化率の小さい) 離形フィルムを提供することにある。
本発明の第 2の目的は、 剥離性に優れしかもべ一スフイルム中の不純物が離形 層表面に移行しない離形フィルムを提供することにある。
本発明の第 3の目的は、 ガスバリアー性に優れた離形フィルムを提供すること にある。
本発明の他の目的は、 種々の分野で共通して使用可能な離形フィルムを提供す ることにある。
本発明のさらに他の目的は以下の説明から一層明らかとなるであろう。 課題を解決するための手段
本発明によれば、 前記本発明の目的は、 ポリエステルフィルム (A) およびそ の少なくとも片面に設けた硬化シリコーン樹脂層 (B ) よりなる離形フィルム (C) であって、 (1) 該フィルム (A) はポリエチレン— 2, 6—ナフ夕レン ジカルボキシレートより形成された 2軸配向フィルムであってその表面中心線平 均粗さ (Ra) が 50 nm以下であり、 かつ (2) 該離形フィルム (C) は、 1 20°Cにおける 150 g f Zmm2応力下での寸法変化率が 0.2 %以下である ことを特徴とする離形フィルムにより達成される。
以下、 本発明の離形フィルムについてさらに詳細に説明する。
本発明の離形フィルムにおけるべ一スフイルムとしては、 ポリエチレン一 2, 6—ナフタレンジカルボキシレートより形成された 2軸配向フィルムを用いる。 このフィルムを構成するポリエチレン— 2, 6—ナフ夕レンジカルボキシレート (以下 PENと略することがある) とは、 エチレン— 2, 6—ナフ夕レンジカル ポキシレートを主たる繰り返し単位とするポリエステルである。
かかる P E Nポリマーは、 離形フィルムの耐熱変形性を損なわない範囲で共重 合成分を少量 (10モル%以下、 特に 5モル%以下) 共重合したものでもよい。 かかる共重合成分としては、 例えばテレフタル酸、 イソフタル酸、 フ夕ル酸、 ナフタレン一 2, 7—ジカルボン酸、 4, 4' —ジフエニルジカルボン酸、 4, 4' —ジフエニルエーテルジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸類; シユウ酸、 アジピン酸等の脂肪族ジカルボン酸類; P—ォキシ安息香酸、 p—才キシェトキ シ安息香酸等のォキシカルボン酸類;およびジエチレングリコール、 1, 3—プ ロピレングリコール、 1, 4—テトラメチレングリコール、 1, 6—へキサメチ レングリコ一ル、 ネオペンチルダリコール等のグリコール類を好ましく挙げるこ とができる。
また、 PENポリマーにはグリセリン、 ペン夕エリスリトール、 トリメリット 酸、 ピロメリット酸等のような三官能基以上を持つ化合物を、 実質的に PENの 特性およびフィルム形成性を損なわない範囲内で共重合してもよい。 さらに、 PENポリマーは、 その耐加水分解性を向上させるために例えば安息 香酸、 メトキシポリアルキレングリコール等の一官能性化合物によって末端の水 酸基及び/又はカルボキシル基の一部又は全部を封鎖したものであってもよい。 本発明に用いる PENポリマーは、 固有粘度が 0. 5以上、 特に 0. 6〜1. 0のものが好適である。 殊に PENポリマ一はエチレン— 2, 6—ナフタレンジ カルボキシレ一ト単位のみを繰り返し単位とするホモポリマーであることが、 ャ ング率等の機械的特性や耐熱変形性等の熱的特性に優れたべ一スフイルムが得ら れるため好ましい。
かかる PENポリマーは公知の方法で製造することができる。 例えば、 ナフ夕 レン一 2, 6—ジカルボン酸又はそのエステル形成性誘導体と、 エチレングリコ ール又はそのエステル形成性誘導体とを、 触媒の存在下で重縮合させることによ つて製造することができる。 また、 PEN共重合体の場合は、 前述の重合成分に 共重合成分を加えて重縮合させることによって製造することができ、 さらに、 共 重合成分を含むポリエステルと P E Nのホモポリマ一とを溶融状態で混合しエス テル交換反応を行なわせることによって製造することもできる。
なお、 PENポリマ一には、 フィルムの巻取り性を良好なものとするため、 平 均粒径が 0. 01〜20 m、 好ましくは 0. 05〜5 //m、 特に好ましくは 0. 1〜 3 mの不活性微粒子を含有させることが好ましい。
不活性微粒子の含有量は、 0. 001〜20重量%、 好ましくは 0. 005〜 5重量%、 特に好ましくは 0. 01〜3重量%である。 不活性微粒子の平均粒径 および含有量は、 粒子の形状、 粒径分布および目的とするフィルムの特定により その好適範囲が決定される。 不活性微粒子は、 無機微粒子または有機微粒子のい ずれでもよい。 かかる微粒子の具体例として、 シリカ、 アルミナ、 カオリン、 炭 酸カルシウム、 酸化チタン、 硫酸バリウム、 力一ボンブラック等の無機微粒子、 架橋アクリル樹脂、 架橋ポリスチレン樹脂、 メラミン樹脂、 架橋シリコーン樹脂 等の有機微粒子を好ましく挙げることができる。 P E Nポリマ一は P E Tポリマ —に比べてその分子鎖が剛直でフィルムのスティフネスが高いため、 かかる微粒 子の含有量が PETポリマーより少なくても十分な巻取り性を得ることができる。 本発明の離形フィルムのべ一スフイルムとして、 その中に含有される不活性微 粒子としては、 とりわけ球状シリカ微粒子および多孔質シリ力微粒子に代表され るシリカ微粒子が好ましい。 これら好ましいシリカ微粒子について次に説明する。 球状シリカ微粒子としては、 その粒径比 (長径/短径) が 1. 0〜1. 2であ り、 その平均粒径は 0. 01〜5 ^ηιである。 フィルムの表面中心線平均粗さ (R a) を前記範囲とするためには、 平均粒径は 0. 1 m以上が好ましく、 0. 3 m以上がより好ましい。 また、 平均粒径が大きくなりすぎると、 異物が発生 しゃすくなる弊害があり、 この点から、 平均粒径は 3 m以下が好ましく、 2 m以下がより好ましい。 球状シリカ微粒子は、 上述の条件を満たせば、 その製法、 その他に何ら限定されるものではない。 例えば、 球状シリカ微粒子は、 下記反応 式に従ってオルトケィ酸ェチル [S i (OC2H5) 4] の加水分解から含水シリ 力 [S i (OH) 4] 単分散球をつくり、 さらにこの含水シリカ単分散球を脱水 化処理して下記シリカ結合を三次元的に成長させることで製造できる (日本化学 会誌、 '81, No. 9, P. 1503) 。 シリカ結合
≡S i一 O一 S i≡ 反応式
S i (〇C2H5) 4+ 4H20 →S i (OH) 4+ 4 C2H5OH
≡S i -OH+HO- S i≡
→≡S i— 0_ S i≡ + H20 一方、 多孔質シリカ微粒子とは、 凝集粒子である。
この多孔質シリカ微粒子を構成する一次粒子の平均粒径は 0. 01〜0. 1 mの範囲にあることが望ましい。 一次粒子の平均粒径が 0. O l ^m未満ではス ラリー段階で解砕により極微細粒子が生成し、 これが凝集体を生成して好ましく ない。 一方、 一次粒子の平均粒径が 0. 1 /xmを越えると、 粒子の多孔質性が失 われ、 その結果、 PENポリマーとの親和性が失われ、 ポイドが生成しやすくな るため、 好ましくない。 ポイドが発するとフィルムの透明性が悪くなり、 商品価 値が損なわれる。
更に、 前記多孔質シリカ微粒子は、 細孔容積が 0. 5〜2. 0m l /g、 好ま しくは 0. 6〜1. 8m 1 /gの範囲にあることが好ましい。 この細孔容積が 0. 5m 1 /g未満では粒子の多孔質性が失われ、 ポイドが発生し易くなり、 透明性、 光線透過性が低下するので不適当である。 一方、 細孔容積が 2. Om l Zgより 大きいと解碎、 凝集が起こりやすく、 粒径の調整を行うことが困難である。
前期多孔質シリカ微粒子の平均粒径は 0. 1〜5 m、 好ましくは 0. 3〜3 zmの範囲にあることが好ましい。 この平均粒径が 0. l ^m未満ではフィルム の滑り性が不十分であり、 一方平均粒径が 5 mを超えるとフィルムの表面が粗 くなりすぎ、 その粗さが離形フィルム上に成形されたシートに転写され、 シート 面が粗くなり好ましくなく、 またフィルム内の異物の数も増加することになり、 望ましくない。
前記したように本発明のベースフィルム中には不活性微粒子を含有させること ができるが、 前記微粒子以外にも、 安定剤、 紫外線吸収剤、 難燃剤、 帯電防止剤 等の添加剤を配合することができる。 また他の熱可塑性樹脂を少量 (例えば 20 重量%以下、 特に 10重量%以下) ブレンドすることもできる。
不活性微粒子または他の添加剤の添加時期は、 PENポリマーを製膜するまで の段階であれば特に制限はなく、 例えば重合段階でもよく、 また製膜前の段階で もよい。
本発明に使用される PENフィルムは、 従来から知られているそれ自体公知の 方法で製造することができる。 例えば、 PENポリマーを乾燥後、 Tm〜 (Tm + 70) °Cの温度 (但し、 Tm: PENポリマーの融点) で押出機にて溶融し、 ダイ (例えば T—ダイ、 I _ダイ等) から回転冷却ドラム上に押出し、 40〜9 0°Cで急冷して未延伸フィルムを製造し、 ついで該未延伸フィルムを (Tg— 1 0) 〜 (Tg+ 70) tの温度 (Tg : PENポリマーのガラス転移温度) で縦 方向に 2. 5〜8. 0倍の倍率で延伸し、 横方向 2. 5〜8. 0倍の倍率で延伸 し、 必要に応じて 180〜250°Cの温度で 1〜60秒間熱固定することにより 製造できる。 フィルムの厚みは 1〜250 mが好ましく、 5〜100 mがよ り好ましく、 25〜 75 mが特に好ましい。
また、 PENフィルムの等方性を良好なものとするために、 前述の縦方向及び 横方向の延伸倍率をほぼ同じ程度にすることが好ましい。 離形フィルムの 1 1 0°C付近での耐熱変形性をさらに向上させるため、 2軸延伸後熱固定したフィル ムを 120〜 150°Cの温度で弛緩状態で熱処理するのが好ましい。
本発明の離形フィルム (C) におけるベースフィルムである PENフィルム (A) は、 その表面が平滑でありその表面中心線平均粗さ (Ra) が 50 nm以 下である。 好ましい平均粗さ (Ra) は 2〜40 nmであり、 特に 5〜30 nm が好ましい。 R aの値が前記範囲よりも小さいと、 加工前に離形フィルムをロー ル卷きの状態で保管している場合にフィルム同志がブロッキングを起こし易くな り、 またフィルムが滑りにくくなるため加工処理工程においてしわが発生し易く なる。
一方 R aが 50 nmを超えると離形フィルムを使用した成形品の表面が粗くな つたり、 離形フィルムを使用した成形品との間に空隙が生じる恐れがある。
PENフィルム (A) の表面の R aは、 不活性微粒子の平均粒径分布、 種類お よび添加量などをコントロールして前記範囲とすることができる。
本発明の離形フィルムは、 前記 PENフィルム (A) の少なくとも片面に離形 層として硬化シリコーン樹脂層 (B) が設けられている。 この離形層としての硬 化シリコ一ン樹脂層は P E Nフィルムの表面に硬化性シリコーン樹脂を含む塗液 を塗布し、 乾燥、 硬化させることにより形成できる。
その際、 硬化性シリコーン樹脂を含む塗液を塗布する前に、 PENフィルムの 表面に、 プライマ一層を形成させ、 そのプライマー層の表面に前記塗液を塗布す ることができる。 このプライマ一層については後に詳しく説明する。
硬化性シリコーン樹脂としては、 例えば (1) 縮合反応系のもの、 (2) 付加 反応系のもの、 および (3) 紫外線もしくは電子線硬化系のもの等いずれの反応 系のものも用いることができる。 これらは一種以上用いることができる。
各種シリコーンの硬化反応は、 次のように示すことができる。 (1) 縮合反応
〜S i— OH + HO-S i > 〜S i— O— S i— + H20
〜S i— OH + H— S i— > 〜S i— O— S i— + H2
〜S i— OH + AO— S i— ^ 〜S i—0— S i— + AOH (ここで Aは低級アルキル基を示す)
(2) 付加反応 〜S i - CH = CH2 + H - S i - > 〜S i— CH2CH2— S i -
(3) 紫外線もしくは電子線硬化反応 h V
〜S i— CH=CH2 + H3C— S i— CH3 >
開始剤
〜S i -CH2CH2CH2-S i一 CH3
〜S i— CH=CH2 + H-S i - ^ 〜 S i— CH2 CH2— S i— 開始剤 上記 (1) 縮合反応系のシリコーン樹脂としては、 例えば、 末端一〇H基をも つポリメチルシロキサンと末端に一 H基をもつポリジメチルシロキサン (ハイド ロジェンシラン) を有機錫触媒 (例えば有機錫ァシレート触媒) を用いて縮合反 応させ、 3次元架橋構造をつくるものが挙げられる。
(2) 付加反応系のシリコーン樹脂としては、 例えば末端にビニル基を導入し たポリジメチルシロキサンとハイドロジェンシランを白金触媒を用いて反応させ、 3次元構造をつくるものが挙げられる。
(3) 紫外線硬化系のシリコーン樹脂としては、 例えば最も基本的なタイプと して通常のシリコーンゴム架橋と同じラジカル反応を利用するもの、 アクリル基 を導入して光硬化させるもの、 紫外線でォニゥム塩を分解させて強酸を発生させ、 これでエポキシ基を開裂させて架橋させるもの、 ビニルシロキサンへのチォ一ル の付加反応で架橋するもの等が挙げられる。 電子線は紫外線よりもエネルギーが 強く、 紫外線硬化の場合のように開始剤を用いずともラジカルによる架橋反応が 起こる。
硬化性シリコーン樹脂としては、 その重合度が約 50〜20万、 好ましくは約 1, 000〜 1 0万のものが好ましい。 これらの具体例としては信越化学工業 (株) 製の KS— 7 18、 一 774、 一 775、 — 7 78、 一 779 H、 — 83 0、 — 835、 — 837、 一 838、 — 839、 -841, 一 843、 —847、 一 847H、 X— 62— 241 8、 一 2422、 一 2 125、 一 2492、 一 2 494、 —470、 一 2366、 一 630、 X— 92— 140、 一 1 28、 KS — 723Α · Β、 - 705 F, 一 708Α、 - 883, — 709、 一 7 1 9 ;東 芝シリコーン (株) の TPR— 670 1、 — 6702、 — 6703、 — 3704、 — 6705、 — 6722、 一 6721、 一 6700、 XSR— 7029、 YSR
- 3022, YR- 3286 ;ダウコ一ニング (株) 製の DK— Q 3— 202、
— 203、 一 204、 一 2 1 0、 - 240, 一 3003、 一 205、 一 3057、 SFXF-2560 ;東レシリコーン (株) 製の SD— 7226、 — 7320、 — 7229、 ΒΥ24— 900、 — 1 7 1、 — 3 1 2、 一 374、 S RX- 37 5、 S YL-OFF 23 SRX— 244、 SEX— 290 ; アイ · シ一 'ァ ィ .ジャパン (株) 製の S I LCOLEASE425等を挙げることができる。 また、 特開昭 47 - 34447号公報、 特公昭 52— 409 1 8号公報等に記載 のシリコーン樹脂も用いることができる。
前記樹脂を用いて硬化シリコーン樹脂層 (B) をフィルム表面に形成させる場 合、 コーティングの方法としてはバーコ一ト法、 ドクタ一ブレード法、 リバース ロールコ一ト法またはグラビアロールコート法等のそれ自体従来から知られてい る方法が利用できる。
塗膜の乾燥及び硬化 (熱硬化、 紫外線硬化等) は、 残留接着率が 85%以上好 ましくは 95%以上となるよう実施する必要がある。 乾燥及び硬化はそれぞれ個 別又は同時に行うことができる。 同時に行うときには 100°C以上で行うことが 好ましい。 乾燥及び硬化の条件としては 100°C以上で 30秒以上が好ましい。 乾燥温度が 100°C未満及び硬化時間が 30秒未満では塗膜の硬化が不完全であ り、 塗膜が脱落しやすくなるため好ましくない。
硬化シリコーン樹脂層 (B) の厚みは、 特に限定されないが、 0. 01〜5 ^ mが好ましく、 0. 05〜 1 の範囲が特に好ましい。 厚みが 0. 01 m未 満では、 離形性能が低下し満足すべき性能が得られないし、 逆に 5 / mを超える とキュアリングに時間がかかり生産上不都合を生じるため好ましくない。
前記した PENフィルム (A) の少なくとも片面に硬化シリコーン樹脂層 (B) を設けた本発明の離形フィルムは、 加熱に対して変形が極めて小さく、 そ のため加熱条件下での使用に適した離形フィルムである。 この変形は、 後述する 方法に従って、 120 における 150 g f Zmm2応力下での寸法変形率
(%) で示される。 この寸法変形率は、 前記応力および温度条件下において、 寸 法の変化を応力方向およびその垂直方向で測定し、 その絶対値が 0. 2%以下 (つまり、 変化率が— 0. 2%〜十 0. 2%) である。 好適条件では本発明の離 形フィルムは、 0. 12%以下、 特に好ましくは 0. 07%以下の寸法変化率を 有している。
本発明の離形フィルムは、 前記のように熱に対する寸法変化率が極めて小さい ので、 榭脂シ一トゃセラミックスシートの成形におけるキヤリャ一フィルムとし て有利に利用することができる。
本発明においては、 好ましい実施形態として、 下記の離形フィルム [ I] 、 [I I] および [I I I] を示すことができる。 これらはそれぞれの形態の相異 によって、 使用に適した用途を有している。 簡単にその相異を説明すると、 離形 フィルム [I] は、 PENフィルム (A) および硬化シリコーン樹脂層 (B) か ら形成され、 その間にプライマ一層 (D) を有しない離形フィルムである。 離形 フィルム [I I] および [ I I I] は、 共に PENフィルム (A) と硬化シリコ ーン樹脂層 (B) との間にプライマ一層 (D) を有する離形フィルムであるが、 離形フィルム [I I] および [I I I] は基本的にプライマー層 (D) のタイプ が相異している。 以下離形フィルム [I] 、 [II]および [I I I] についてそれ ぞれ説明する。
離形フィルム [I] ;
ポリエステルフィルム (A) およびその少なくとも片面に設けた硬化シリコ一 ン樹脂層 (B) よりなる離形フィルム (C) であって、 (1) 該フィルム (A) はポリエチレン— 2, 6—ナフ夕レンジカルボキシレートより形成された 2軸配 向フィルムであって、 その表面中心線平均粗さ (Ra) が 50 nm以下であり、
(2) 該フィルム (A) は、 平均粒径が 0. 01〜20 imの無機または有機の 不活性微粒子を 0. 001〜20重量%含有しかつ (3) 該離形フィルム (C) は、 12 (TCにおける 150 g f /mm2応力下での寸法安定率が 0. 2%以下 であることを特徴とする離形フィルム [I] 。
この離形フィルム [I] は、 基本的には前記した PENフィルム (A) および その少なくとも片面に設けられた硬化シリコーン樹脂層 (B) より構成される。 従ってこの離形フィルム [I] における PENフィルム (A) および硬化シリコ —ン樹脂層 (B) のそれぞれの性状および製法は、 ここでは特に説明を要しない この離形フィルム [I] において、 ベ一スフイルムとしての P ENフィルム (A) は、 その中に含まれる大きさ 5 O^m以上の異物 (粗大粒子) 数が 100 個 Zm2以下、 好ましくは 30個ノ m2以下、 さらに好ましくは 10個 m2以下 であるのが望ましい。 大きさが 50 以上の異物数が多くなると、 離形フィル ム [ I] を使用して成形された樹脂シ一トやセラミックスシートの表面に欠陥が 多く発生するので望ましくない。
この離形フィルム [I] は、 表面特性が優れかつ寸法変化率が小さいので樹脂 シートやセラミックスシートの成形におけるキヤリャ一フィルムとして、 極めて 適した特性を有している。
離形フィルム [I I] ;
ポリエステルフィルム (A) およびその少なくとも片面に設けた硬化シリコ一 ン樹脂層 (B) よりなる離形フィルム (C) であって、 (1) 該フィルム (A) はポリエチレン一 2, 6—ナフタレンジカルボキシレートより形成された 2軸配 向フィルムであって、 その表面中心線平均粗さ (Ra) が 50 nm以下であり、 (2) 該離形フィルム (C) は、 該フィルム (A) および該硬化シリコーン樹脂 層 (B) との間に、 S i〇結合を有するプライマ一層 (D) が設けられ、 その S i 0結合を有するプライマ一層 (D) はアルコキシシランの加水分解縮合物より 形成された層であり、 かつ (3) 該離形フィルム (C) は 12 O :における 15 0 g f /mm2応力下での寸法安定率が 0. 2%以下であることを特徴とする離 形フィルム [1 1] 。
この離形フィルム [I I] は、 PENフィルム (A) および硬化シリコーン樹 脂層 (B) との間に、 S i O結合を有するプライマー層 (D) が設けられ、 その プライマ一層 (D) はアルコキシシランの加水分解縮合物より形成された層であ る点に特徴を有している。 この離形フィルム [I I] におけるプライマ一層 (D) は、 PENフィルム (A) の表面にアルコキシシラン、 特に低級アルコキシシランの有機溶媒溶液を 塗布し、 例えば 120〜210°Cの温度で 10〜60秒間加熱して溶媒を乾燥除 去すると共に架橋硬化させることにより塗設することができる。
アルコキシシランの代表的化合物としてテトラエトキシシラン [S i (OC2 H5) 4] を使用する場合について説明すると、 そのエタノール溶液を、 PEN フィルム (A) の表面に塗布すると、 エタノール溶媒が蒸発するにつれて、 空気 中の水分と S i (OC2H5) 4化合物が接触することにより下式に従い反応が進 み、 化合物 Aが生成する。
H20
Si(0C2H5)4 ^ Si(0H)4 (A) + 4C2H50IU この化合物 Aが加熱乾燥の際にシラノール基の脱水縮合反応を起こし、 均一な プライマー層を形成する。
このプライマ一層 (D) の肉厚は、 0. 02〜2 mが適当である。 この肉厚 が 0. 02 111未満であると、 PENフィルム (A) 中の不純物が離形層表面に 移行するのを抑制する効果が不足し、 2 mを越えるとプライマー層 (D) を積 層した PENフィルム (A) の耐ブロッキング性が不良となるので好ましくない。 かくして得られた PENフィルム (A) のプライマー層 (D) の表面に、 前記 した方法に従って硬化シリコーン樹脂層 (B) を形成させることによって離形フ イルム [I I] が得られる。
この離形フィルム [I I] は、 前記プライマ一層 (D) が設けられていること によって、 PENフィルム中の不純物 (触媒金属成分やオリゴマーなど) が離形 層 (硬化シリコーン樹脂層) に移行が極めて抑制され、 従って離形層中の不純物 が極めて少ない離形フィルムとなる。 この離形フィルム [I I] は微量の不純物 の混入の防止が製造工程の管理に必要な、 シリコ一ンゥェ八一の製造に有利に利 用される。 すなわち、 、 シリコーンウェハ一製造におけるパックグラインドおよ びダイシング工程で使用する離形フィルム (保護フィルム) として極めて優れて いる。
離形フィルム [I I I] ;
ポリエステルフィルム (A) およびその少なくとも片面に設けた硬化シリコ一 ン榭脂層 (B) よりなる離形フィルム (C) であって、 (1) 該フィルム (A) はポリエチレン一 2, 6—ナフタレンジカルポキシレートより形成された 2軸配 向フィルムであって、 その表面中心線平均粗さ (Ra) が 50 nm以下であり、
(2) 該離形フィルム (C) は、 該フィルム (A) および該硬化シリコーン樹脂 層 (B) との間に、 S i〇結合を有するプライマー層 (D) が設けられ、 その S i〇結合を有するプライマー層 (D) は、 気相成長法によって形成された S i 0 X (Xは 1≤X≤2の範囲を有する) 層であり、 かつ (3) 該離形フィルム
(C) は、 120でにおける 150 g f /mm2応力下での寸法安定率が 0. 2%以下であることを特徴とする離形フィルム [1 1 1] 。
この離形フィルム [I I I] は、 PENフィルム (A) および硬化シリコーン 樹脂層 (B) との間に、 S i〇結合を有するプライマ一層 (D) が設けられ、 そ のプライマ一層 (D) は、 気相成長法によって形成された S i〇x (Xは 1≤X ≤ 2の範囲を有する) 層である点に特徵を有している。
この離形フィルム [I I I] におけるプライマ一層 (D) は、 PENフィルム (A) の表面に S i Ox (Xは前記と同じ範囲を有する) の層を気相成長法によ つて設ける。 好ましい気相成長法の例としては次の (a) 〜 (c) の方法が挙げられる。
(a) S i Oを蒸着源とした真空蒸着法
(b) S i〇2基板をターゲットに用いたスパッ夕一法
(c) オルガノシロキサンを出発原料としたプラズマ CVD法
これらの中、 S i〇を蒸着源とした真空蒸着法がコスト面で好ましい。
また、 S i〇x層の形成は、 単独の方法で実施してもよいし、 2種以上の方法 を併用して実施してもよい。
かかる S i〇x層の厚さは 0. 04〜0. 1 mの範囲であることが望ましレ^ また、 0. 05〜0. 08 mの範囲であることがより好ましい。 厚さが 0. 0 4 m未満であると満足なガスバリア一性が得られず、 逆に 0. 1 mを超える と S i Ox層の剛性が増し、 離形フィルム [I I I] を屈曲した際、 PENフィ ルム層 (A) から剥離し易くなるので好ましくない。
かくして得られた PENフィルム (A) のプライマー層 (D) の表面に、 前記 した方法に従って硬化シリコーン榭脂層 (B) を形成させることによって離形フ イルム [ I I I ] が得られる。
この離形フィルム [I I I] は、 気相成長法によるプライマ一層 (D) が設け られていることによって、 極めてガスバリアー性が優れたものとなる。 従ってこ の離形フィルム [I I I] はこの優れたガスバリアー性を必要とする分野の離形 フィルム (保護フィルム) として最適である。 例えば易揮発性薬剤成分を含有す る貼付薬の粘着剤層の保護フィルムとして使用することができ、 長期間薬効が蒸 発や揮散せず、 薬効として有効な状態で長期に直って保護することが可能となる。 前記離形フィルム [I I] および [I I I] において、 PENフィルム (A) および硬化シリコーン樹脂層 (B) との間には、 S i O結合を有するプライマー 層 (D) が設けられているが、 このプライマ一層 (D) は、 シランカップリング 剤処理より形成されたものであってもよい。 このシランカツプリング剤としては 一般式 Y—S i—X3で表されるものがさらに好ましい。 ここで、 Yは例えばァ ミノ基、 エポキシ基、 ビニル基、 メタクリル基、 メルカプト基等で代表される官 能基、 Xはアルコキシ基で代表される加水分解性の官能基を表す。 このシラン力 ップリング剤によるプライマ一層の厚みは、 0. 01〜 5 tmの範囲が好ましく、 0. 02〜2 mの範囲が特に好ましい。 このプライマ一層の厚みが上記の範囲 であるとべ一スフィルムと離形層の密着性が良好となり、 かつ接着層を設けたベ —スフィルムがプロッキングしにくいため、 離形フィルムの取り扱いで問題が生 じにくい利点がある。
本発明の離形フィルムは、 前述した種々の用途の他に、 電子計算機、 通信機、 計測器、 医療機器などの分野におけるプリント配線基板の製造にも利用できる。 この分野のプリント配線基板は、 最近の回路の小型化に伴って、 積層した多層プ リント配線板が使用されているが、 この製造の際のプリプレダを積層するための 離形フィルムとして、 本発明の離形フィルムは有利に利用することができる。 実施例
以下、 実施例を掲げて本発明を更に説明する。 なお、 各特性値は下記の方法で 測定した。
(1) PENポリマーの固有粘度
PENポリマ一の固有粘度の測定は、 0—クロ口フエノール溶解後、 35 の 温度にて測定した。
(2) 表面中心線平均粗さ (Ra)
触針式表面粗さ計 (小坂研究所 (株) 製、 サ一フコーダ 30 C) を用いて針の 半径 2 ^m、 触針圧 3 Omgの条件でフィルム表面をスキャンし、 フィルム表面 の変位を測定し、 表面粗さ曲線を記録した。 この表面粗さ曲線から、 その中心線 方向に測定長さ (L) を抜き取り、 X軸をスキャン距離、 Y軸を表面変位ととし たときの表面粗さ曲線 (Y= f (x) ) から下記式で計算した。
Figure imgf000023_0001
(3)寸法変化率
測定方向に 3 Omm以上、 幅 4 mmで切り出した短冊状のフィルムを TM A (熱応力歪み測定装置、 セイコー電子工業株式会社製 TMAZS S 120C) の 治具にチャック間が 10mmになるように装着し、 フィルムに 150 g f /mm 2の応力を加え、 室温から 5 分の昇温速度で加熱し、 120 :に到達したと きの寸法変化を応力方向および垂直方向別に測定し、 下記式にて計算して求めた。 寸法変化率 (絶対値) = I寸法変化ノチヤック間距離 1 X 1 0 0
(4) 硬化シリコーン樹脂層 (離形層) 表面の金属元素の分析
離形フィルムの離形層表面にポリエステル粘着テープ (日東電工 (株) 製 二 ット一 31 B) を貼付し、 圧着ローラにて 5 k gZcm2の圧力で圧着し、 7 0でで 20時間放置した後、 粘着テープを離形フィルムから剥離し、 この粘着テ —プの剥離表面の金属元素を ESCA装置にて励起源を MgKa (1254 e V) として分析することにより、 離形フィルムから粘着テープに移行した金属元 素を求めた。 なお、 ESCAによる金属元素の測定で、 金属元素のピークが 50 0 c o u n t以上となるものを金属元素が検出されたものとした。
(5) オリゴマーの測定
離形フィルムをオーブン内で 18 Otにて 5分間加熱した後、 取り出し冷却後、 該離形フィルムの離形層面を A uでスパッ夕し、 このスパッ夕表面を走査型電子 顕微鏡にて 2000倍の倍率で 10 平方の面積の表面を 10箇所観察し、 い ずれの観察箇所にもオリゴマーの結晶 (6角柱状結晶) が認められないのを離形 フィルムの離形層表面にオリゴマーが存在しないものとした。
(6) 残留接着率
ポリエステル粘着テ一プ (ニット一 31 B) を J I S G4305に規定する 冷間圧延ステンレス板 (SUS 304) に貼り付けた後の剥離力を測定し、 基礎 接着力 (f 。) とした。 また、 前記ポリエステル粘着テープをサンプルフィルム の離形層塗設面に張り合わせ、 5 kgの圧着口一ラーで圧着し 30秒間放置した 後粘着テープを剥がした。 そして、 この剥がした粘着テープを上記のステンレス 板に貼り、 該貼合部の剥離力を測定し残留接着力 (f) とした。 得られた基礎接 着力 (f o) と残留接着力 (f) とから下記式を用いて残留接着率を求めた。 残留接着率 (%) = (f /f 0) X 100
(7) 剥離強度
離形フィルムの離形層面にポリエステル粘着テープ (ニット一 31 B) を貼り 合わせ、 5 kgの圧着ローラーで圧着し 20時間放置後、 離形層と粘着テープと の剥離力 (RiQ) を引張り試験機にて測定した。
(8) 酸素ガス透過速度
スイス Ly s s y社製ガス透過係数測定機により、 測定温度 25 で、 酸素ノ 二酸化炭素 =80/20の混合ガスのフィルムに対するガス透過量をガスクロマ トグラフィ一により測定した。
(9) 薬効成分の揮散性 離形フィルムの離形層側表面に、 薬効成分としてプロゲステロン 2重量%を含 有するアクリル系粘着剤を乾燥後の厚みが 1 5 となるよう塗布し 7 0で、 3 分間乾燥し薬効成分を含有する粘着剤層を設けた。 得られた粘着剤層の表面に同 じ離形フィルムを圧着した後、 3 7での通風条件に置いた。 7日間経過した後、 離形フィルムを剥離して薬効成分を含んだ粘着剤層が初期の状態と比べて変化し ているかどうか肉眼観察して下記の判定基準で判定した。
〇:変化なし
X :変化あり (粘着剤層の硬化、 薬効成分の揮散等)
( 1 0 ) 工程適性
離形フィルムを製造する際の、 タルミ、 平面性の悪さなどによる蛇行の発生、 また巻き取り時のニップロ一ル部でのシヮの入り易さなど、 滑り性、 平面性、 な どに基因するシヮ発生や、 塗布欠陥の発生等、 工程でのトラブルの発生頻度を総 合的に下記に従って評価した。
◎:工程トラブルはほとんど発生しない。
〇:工程トラブルは時折発生するが、 頻度が少ない。
△:工程トラブルが時折発生する。
X:工程トラブルの発生頻度が高い。
( 1 1 ) 製品不良率
製造された離形フィルムについて、 巻き上げた離形フィルムロールでのピンプ ル、 凹凸の発生状況。
離形フィルムロールより、 フィルムを引き出した際の、 フィルム同志の粘着の 発生状況、 塗布欠陥の状況、 表面欠陥の状況、 フィルムの平面性、 気泡などの異 物、 夕ルミの状況などの評価より、 製品とはならない離形フィルムロール数の、 全離形フィルム口一ル数に対する比率を不良率として求めた。 実施例 1
固有粘度が 0. 62の PENポリマーを押出機で溶融し、 ダイスから 4 に 維持してある回転冷却ドラム上に押出し、 静電密着法を用いて溶融ポリマーを回 転冷却ドラムに密着させて急冷し未延伸フィルムとした。 次いで、 この未延伸フ イルムを縦方向に 3. 7倍、 引き続き横方向に 3. 8倍延伸し、 さらに 240で にて熱固定を行なつて厚さ 50 ^ mの 2軸配向 P E Nフィルムを得た。
この 2軸配向 PENフィルムの片面に、 下記に示す塗液を 6 gZm 2 (we t) の塗布量で塗布し、 140°Cの温度で 1分間加熱乾燥及び硬化させて離形層 の厚さが 0. 15 ^ mの離形フィルムを作成した。 なお、 塗液は、 ビニル基を有 するポリジメチルシロキサンとジメチルハイドロジェンシランからなる付加反応 タイプの硬化型シリコーンをメチルエヂルケトン、 メチルイソプチルケトン及び トルエンの混合溶媒中に溶解させ、 さらにシリコーンレジンを前記硬化型シリコ —ンに対し固形分比で 10重量%となる量配合し、 全体の固形分濃度が 2%の溶 液とし、 この溶液に白金触媒を添加して作成した。 この離形フィルムの特性を表
1に示す。
Figure imgf000026_0001
表 1より明らかなように、 実施例に示した本発明の離形フィルムは、 表面粗さ が小さく、 また寸法変化率に優れるものである。 実施例 2〜 5および比較例 2〜 3
ナフ夕レン一 2, 6 _ジカルポン酸ジメチル及びエチレングリコールを、 酢酸 マンガンの存在下、 常法によりエステル交換反応せしめた後、 トリメチルホスフ ェ一トを添加した。 次いで、 三酸化アンチモン及び、 表 2記載の粒径を有する不 活性微粒子を表 1記載の量添加して、 常法により重縮合させて固有粘度が 0. 6 2のポリエチレン一 2, 6—ナフ夕レートポリマーを得た。 このポリマーを 1 7 0 において 6時間乾燥させた後、 押出機に供給し、 溶融温度 290〜3 1 O : で溶融し、 開度 1. 5 mmのスリット状ダイを通して、 表面仕上げ 0. 3 S、 表 面温度 50での回転ドラム上に押出し、 未延伸フィルムを得た。
こうして得られた未延伸フィルムを 140でで縦方向に 3. 6倍に延伸し、 次 いで 1 50でで横方向に 3. 7倍延伸し、 さらに 240でにて熱固定を行って厚 さ 50 mの 2軸配向 PENフィルムを得た。
この 2軸配向 PENフィルムの片面に、 下記に示す塗液を 6 gZm2 (we t) の塗布量で塗布し、 140での温度で 1分間加熱乾燥及び硬化させて離形層 の厚さが 0. 1 5 /mの離形フィルムを作成した。 なお、 塗液は、 ビニル基を有 するポリジメチルシロキサンとジメチルハイドロジェンシランからなる付加反応 タイプの硬化型シリコーンをメチルェチルケトン、 メチルイソブチルケトン及び トルェンの混合溶媒中に溶解させ、 さらにシリコーンレジンを前記硬化型シリコ ーンに対し固形分比で 10重量%となる量配合し、 全体の固形分濃度が 2%の溶 液とし、 この溶液に白金触媒を添加して作成した。 この離形フィルムの特性を表 2に示す。
比較例 1
常法により得た表 2に記載の不活性粒子を含有し、 固有粘度が 0. 62の?£ Tポリマ一を押出機で溶融し、 ダイスから 40 °Cに維持してある回転冷却ドラム 上に押出し、 静電密着法を用いて溶融ポリマーを回転冷却ドラムに密着させて急 冷いし未延伸フィルムとした。 次いで、 この未延伸フィルムを縦方向に 3 . 6倍、 引き続き横方向に 3 . 9倍延伸し、 さらに 2 2 0 にて熱固定を行って厚さ 5 0 t mの 2軸配向 P E Tフィルムを得た。
この 2軸配向 P E Tフィルムの片面に、 下記に示す塗液を 6 g Zm2 (w e t ) の塗布量で塗布し、 1 4 O の温度で 1分間加熱乾燥及び硬化させて離形層 の厚さが 0 . 1 5 mの離形フィルムを作成した。 なお、 塗液は、 ビニル基を有 するポリジメチルシロキサンとジメチルハイドロジェンシランからなる付加反応 夕ィプの硬化型シリコーンをメチルェチルケトン、 メチルイソブチルケトン及び トルエンの混合溶媒中に溶解させ、 全体の固形分濃度が 2 %の溶液とし、 この溶 液に白金触媒を添加して作成した。 この離形フィルムの特性を表 2に示す。
表 2
Figure imgf000029_0001
実施例 6
触媒としてアンチモン化合物及びマンガン化合物を使用して重合した固有粘度 が 0 . 6 2のポリエチレン— 2 6 —ナフタレートを押出機にて溶融し、 フィル ム状の溶融ポリマーをダイスから、 約 4 0 °Cに維持してある回転ドラム上に押出 し、 静電密着法を用いて該フィルム状の溶融ポリマーを冷却ドラムに密着させな がら急冷して未延伸フィルムを得た。 次いで、 該未延伸フィルムを縦方向に 3 . 7倍延伸し、 引き続き横方向に 3 . 8倍延伸し、 さらに 2 4 0 °Cにて熱固定を行 なって厚さ 50 mの 2軸配向フィルムを得た。 このフィルム上に S i (OC2 H5) 4のイソプロピルアルコール溶液 ( (株) コルコート社製コルコート P) をグラビアコート法により塗工し、 140で、 30秒で乾燥硬化させ、 0. 5 mの膜厚のアンカーコートを得た。
次に、 この 2軸延伸フィルムのアンカ一コート層塗設面に、 下記組成のシリコ ーン樹脂塗液を塗布量 8 gZm2 (we t) で塗布し、 130 :、 30秒の条件 で乾燥硬化処理して離形層の厚み 0. 24 mの離形フィルムを得た。 この離形 フィルムの性能を表 3に示す。
<シリコーン榭脂塗液の組成 >
硬化性シリコーン榭脂 (KS 847H;信越化学工業 (株) 製) 100重量部 触媒 (CAT PL-50T;信越化学工業 (株) 製)
希釈溶剤:メチルェチルケトン/キシレン Z
メチルイソフ チルケトン混合溶剤 898重量部 比較例 4
実施例 6でポリエチレン— 2, 6—ナフタレートの代わりに、 ジメチルテレフ 夕レートとエチレングリコールとを、 触媒としてアンチモン化合物及びマンガン 化合物を使用して重合したポリエチレンテレフ夕レート (25 tの o—クロロフ エノ一ル中で測定した固有粘度: 0. 65) を用いる以外は実施例 6と同じ方法 で離形フィルムを得た。 この離形フィルムの性能を表 3に示す。
比較例 5
ポリエチレン— 2, 6—ナフ夕レートフィルムの表面にアンカーコート層を塗 設する代わりに、 表面のぬれ指数が 50 dynZ cmとなるようにコロナ処理を 施し、 該コロナ処理面にシリコーン樹脂塗液を塗布する以外は実施例 6と同じ方 法で離形フィルムを得た。 この離形フィルムの性能を表 3に示す。 比較例 6
実施例 6において、 シリコーン樹脂溶液における触媒を 0. 5重量部にする以 外は実施例 6と同じ方法で離形フィルムを得た。 この離形フィルムの性能を表 3 に示す。 表 3
Figure imgf000031_0001
実施例 7
実施例 2で得られた厚さ 50 Aimの 2軸配向 PENフィルムの片面に S i Ox 層を形成させるために、 高周波誘導加熱法を用いて S i Oを蒸着した。 水晶振動 子により該層厚を測定したところ 7 Onmであった。 さらに、 23 、 24時間 維持し、 形成された S i Ox層の安定化を行った。
この S i〇χ層表面に、 ポリジメチルシロキサンとジメチルハイドロジェンシ ランの混合溶液に白金触媒を加えて付加反応させるタイプの硬化型シリコーン (信越シリコーン (株) 製 KS— 847 (Η) ) をメチルェチルケトン、 メチル イソプチルケトン及びトルエンの混合溶剤中に溶解させたシリコーン樹脂塗液を 塗布量 (we t) S gZm2で塗布し、 130°C、 30秒の条件で乾燥、 硬化処 理して塗膜厚み 0. 24 の離形フィルムを得た。 この離形フィルムの特性を 表 4に示す。 比較例 7
実施例 7において S i〇x層の厚みを 1 2 0 n mにした以外は同じ方法で離形 フィルムを作成した。 この離形フィルムの特性を表 4に示す。 表 4
Figure imgf000032_0001
(注)シリコーン樹脂塗液塗布時に蒸着層が削れ、 離形フィルムが得られなかった

Claims

請 求 の 範 囲
1. ポリエステルフィルム (A) およびその少なくとも片面に設けた硬化シリコ —ン樹脂層 (B) よりなる離形フィルム (C) であって、 (1) 該フィルム (A) はポリエチレン— 2, 6—ナフタレンジカルポキシレートより形成された 2軸配向フィルムであって、 その表面中心線平均粗さ (Ra) が 50nm以下で ありかつ (2) 該離形フィルム (C) は、 120 における 150 g f /mm2 応力下での寸法変化率が 0. 2%以下であることを特徴とする離形フィルム。
2. 残留接着率が 85%以上である請求項 1記載の離形フィルム。
3. 該フィルム (A) は 1〜250 mの厚みを有する請求項 1記載の離形フィ ルム。
4. 該シリコーン樹脂層 (B) は、 0. 01〜5 の厚みを有する請求項 1記 載の離形フィルム。
5. 該フィルム (A) は、 その表面中心線平均粗さ (Ra) が 10nm以下であ る請求項 1記載の離形フィルム。
6. 該フィルム (A) および該硬化シリコーン樹脂層 (B) との間に S i O結合 を有するプライマ一層 (D) を設けた請求項 1記載の離形フィルム。
7. 該プライマ一層 (D) は、 0. 04〜 2 zmの厚みを有する請求項 6記載の 離形フィルム。
8. 該プライマー層 (D) は、 アルコキシシランの加水分解縮合物より形成され た請求項 6記載の離形フィルム。
9. 該プライマー層 (D) は、 気相成長法により形成された厚みが 40〜100 mの S i Ox (Xは 1≤X≤2の範囲を有する) 層である請求項 6記載の離形 フィルム。
10. 該プライマー層 (D) は、 シランカップリング剤処理により形成された請 求項 6記載の離形フィルム。
11. 該フィルム (A) は、 不活性微粒子を 0. 001〜20重量%含有してい る請求項 1記載の離形フィルム。
12. 該不活性微粒子は、 平均粒径が 0. 01〜20/ mである請求項 1記載の 離形フィルム。
13. ポリエステルフィルム (A) およびその少なくとも片面に設けた硬化シリ コーン樹脂層 (B) よりなる離形フィルム (C) であって、 (1) 該フィルム (A) は、 ポリエチレン— 2, 6—ナフ夕レンジカルボキシレートより形成され た 2軸配向フィルムであって、 その表面中心線平均粗さ (Ra) が 50 nm以下 であり、 (2) 該フィルム (A) は、 平均粒径が 0. 01〜20 ^mの無機また は有機の不活性微粒子を 0. 001〜20重量%含有しかつ (3) 該離形フィル ム (C) は、 120 における 150 g f Zmm2応力下での寸法安定率が 0. 2%以下であることを特徴とする離形フィルム。
14. 該フィルム (A) は、 その中に含まれる大きさ 50 im以上の異物数が 1 00個 Zm2以下である請求項 13記載の離形フィルム。
15. 該フィルム (A) は、 1〜250 mの厚みを有する請求項 13記載の離 形フィルム。
16. 該硬化シリコーン樹脂層 (B) は、 0. 01〜5 の厚みを有する請求 項 13記載の離形フィルム。
17. ポリエステルフィルム (A) およびその少なくとも片面に設けた硬化シリ コーン樹脂層 (B) よりなる離形フィルム (C) であって、 (1) 該フィルム
(A) は、 ポリエチレン— 2, 6—ナフタレンジカルボキシレ一トより形成され た 2軸配向フィルムであって、 その表面中心線平均粗さ (Ra) が 50 nm以下 であり、 (2) 該離形フィルム (C) は、 該フィルム (A) および該硬化シリコ ーン樹脂層 (B) との間に、 S i O結合を有するプライマ一層 (D) が設けられ、 その S i O結合を有するプライマ一層 (D) はアルコキシシランの加水分解縮合 物より形成された層であり、 かつ (3) 該離形フィルム (C) は 120でにおけ る 150 g f /mm2応力下での寸法安定率が 0. 2 %以下であることを特徴と する離形フィルム。
18. 該硬化シリコーン樹脂層 (B) の表面における残留接着率が 85%以上で ある請求項 17記載の離形フィルム。
19. 該プライマー層 (D) は、 0. 02〜2 /zmの厚みを有する請求項 17記 載の離形フィルム。
20. 該プライマー層 (D) は、 テトラエトキシシランの加水分解縮合物より形 成された層である請求項 17記載の離形フィルム。
21. 該フィルム (A) は、 1〜250 mの厚みを有する請求項 17記載の離 形フィルム。
22. 該硬化シリコ一ン樹脂層 (B) は、 0. 01〜5 mの厚みを有する請求 項 17記載の離形フィルム。
23. ポリエステルフィルム (A) およびその少なくとも片面に設けた硬化シリ コーン樹脂層 (B) よりなる離形フィルム (C) であって、 (1) 該フィルム (A) は、 ポリエチレン一 2, 6—ナフタレンジカルボキシレートより形成され た 2軸配向フィルムであって、 その表面中心線平均粗さ (Ra) が 50 nm以下 であり、 (2) 該離形フィルム (C) は、 該フィルム (A) および該硬化シリコ —ン樹脂層 (B) との間に、 S i O結合を有するプライマ一層 (D) が設けられ、 その S i〇結合を有するプライマー層 (D) は、 気相成長法によって形成された S i Ox (Xは 1≤X≤2の範囲を有する) 層であり、 かつ (3) 該離形フィル ム (C) は、 120でにおける 150 g f Zmm2応力下での寸法安定率が 0. 2 %以下であることを特徴とする離形フィルム。
24. 該プライマー層は、 0. 02〜0. 1 xmの厚みを有する請求項 23記載 の離形フィルム。
25. 該気相成長法は、 真空蒸着法、 スパッター法またはプラズマ CVD法であ る請求項 23記載の離形フィルム。
26. 該フィルム (A) は、 1〜250 /mの厚みを有する請求項 23記載の離 形フィルム。
27. 該硬化シリコーン樹脂層 (B) は、 0. 01〜5 の厚みを有する請求 項 23記載の離形フィルム。
28. 該離形フィルム (C) は、 1 X 10 14c c · cm/ (cm2 · s e c · mmHg) 以下の酸素ガス透過透度を有する請求項 23記載の離形フィルム。
29. シリコーンウェハ一製造におけるバックグライドエ程またはダイシングェ 程に使用するための請求項 1または請求項 17記載の離形フィルム。
30. 易揮発性薬剤成分を含有する貼付薬に使用するための請求項 1または請求 項 23記載の離形フィルム。
31. 樹脂シートまたはセラミックスシートの成形におけるキヤリヤーフィルム として使用するための請求項 1または請求項 13記載の離形フィルム。
32. 請求項 1または請求項 17記載の離形フィルムの、 シリコーンウェハ一製 造のための離形フィルムの使用。
33. 請求項 1または請求項 23記載の離形フィルムの、 易揮発性薬剤成分を含 有する貼付薬のための使用。
34. 請求項 1または請求項 13記載の離形フィルムの樹脂シートまたはセラミ ックスシートの成形のための使用。
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