JPS62198445A - 滑りシ−ト - Google Patents
滑りシ−トInfo
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- JPS62198445A JPS62198445A JP3973986A JP3973986A JPS62198445A JP S62198445 A JPS62198445 A JP S62198445A JP 3973986 A JP3973986 A JP 3973986A JP 3973986 A JP3973986 A JP 3973986A JP S62198445 A JPS62198445 A JP S62198445A
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分骨〉
本発明は、加工性及び滑り安定性に優れたカセットテー
プ用透明滑りシートに関する。
プ用透明滑りシートに関する。
〈従来の技術と発明が解決しようとする問題点〉録音テ
ープ等の磁気記録テープは、テープの走行を潤滑、低ト
ルク化させるため、カセットケースの両側面に滑りシー
トを組込んでいる。
ープ等の磁気記録テープは、テープの走行を潤滑、低ト
ルク化させるため、カセットケースの両側面に滑りシー
トを組込んでいる。
近年、この滑りシートとしては内部のテープ走行が透視
できるように透明性のフィルムが利用されており、この
ベースフィルムとしては機械的強度、1寸法安定性、透
明性あるいは種々の加工性に優れるポリエステルフィル
ムが広汎に利用されている。通常、このポリエステルフ
ィルムは、滑りシートとしての充分な滑り性を付与させ
る為に1表面にシリコン樹脂等の易滑性樹脂がコート加
工されており、又、滑りシートについては凸凹の付与等
の成形加工が施こされ。
できるように透明性のフィルムが利用されており、この
ベースフィルムとしては機械的強度、1寸法安定性、透
明性あるいは種々の加工性に優れるポリエステルフィル
ムが広汎に利用されている。通常、このポリエステルフ
ィルムは、滑りシートとしての充分な滑り性を付与させ
る為に1表面にシリコン樹脂等の易滑性樹脂がコート加
工されており、又、滑りシートについては凸凹の付与等
の成形加工が施こされ。
テープの走行特性(低トルク安定走行性)の改善が工夫
されている。
されている。
この様にポリエステルフィルム
工がなされるが,一連の刀ロエ段階,すなわちフィルム
へのコート加工.スリット加工,熱成型あるいはツレス
打抜加工等において,常に加工適性の良好なフィルムが
要求されると共に,最終的なカセットチーブ走行時の滑
り安定化付与の良好な滑りン−1・が望まれている。
へのコート加工.スリット加工,熱成型あるいはツレス
打抜加工等において,常に加工適性の良好なフィルムが
要求されると共に,最終的なカセットチーブ走行時の滑
り安定化付与の良好な滑りン−1・が望まれている。
然しなから,卓越した特性を有するポリエステルフィル
ムといえども,滑り性付与のためのシリコン樹脂のコー
ト刀ロエに際しては、シリコン樹脂の充分な熱硬化、架
橋を行うためにコーター乾燥炉でフィルムに充分な熱を
与えようとすると、フィルムに熱シワ、クルミ等の変形
が生じ、フィルムの平面性を悪化させる。このことは次
の加工工程に悪影響を及ぼすと共に所定形状の滑りシー
トを得る事が困難・となり、出来た滑りシートの特性を
悪化させる。当然としてコート時の加熱が低いとシリコ
ン樹脂の硬化不足を生じ、シリコンの摩損脱落、あるい
はベトッキ、ブロッキングを生じ、滑りシートの特性と
して良好な滑り性が得られない。
ムといえども,滑り性付与のためのシリコン樹脂のコー
ト刀ロエに際しては、シリコン樹脂の充分な熱硬化、架
橋を行うためにコーター乾燥炉でフィルムに充分な熱を
与えようとすると、フィルムに熱シワ、クルミ等の変形
が生じ、フィルムの平面性を悪化させる。このことは次
の加工工程に悪影響を及ぼすと共に所定形状の滑りシー
トを得る事が困難・となり、出来た滑りシートの特性を
悪化させる。当然としてコート時の加熱が低いとシリコ
ン樹脂の硬化不足を生じ、シリコンの摩損脱落、あるい
はベトッキ、ブロッキングを生じ、滑りシートの特性と
して良好な滑り性が得られない。
又、ポリエステルフィルムは高度の透明性を有するが、
高温で熱加工を行うと光面にオリゴマーが析出し、フィ
ルムの透明感を失投させる。
高温で熱加工を行うと光面にオリゴマーが析出し、フィ
ルムの透明感を失投させる。
従って、シリコン樹脂の如き高温度下での破化処理を必
要とするコート加工については高度の配慮が必要であり
不都合点も多い。
要とするコート加工については高度の配慮が必要であり
不都合点も多い。
ポリエチレンナフタレートフィルムは、ポリエステルフ
ィルムよりも、更に高度の耐熱特性を有し、高温加工に
より好適であるのみならず。
ィルムよりも、更に高度の耐熱特性を有し、高温加工に
より好適であるのみならず。
オリゴマーの発生も少く、父、適切に調整されたフィル
ムを用いる事、により、ポリエステルフィルムでは得ら
れ゛なかった高度の寸法安定性。
ムを用いる事、により、ポリエステルフィルムでは得ら
れ゛なかった高度の寸法安定性。
形状安定性が得られる。
しかしながら適切にl!整されたポリエチレンナフタレ
ートフィルムのカセット滑りシートへの利用はほとんど
なされていない。
ートフィルムのカセット滑りシートへの利用はほとんど
なされていない。
く問題点を屑決するための手段〉
上記実情に鑑みて、2軸配向ポリエチレンナフタレート
フイルムを検討の結果、フィルムの光面あらさおよび溶
融時の比抵抗がある特定範囲のポリエチレンナフタレー
トフィルムに熱硬化性易滑シリコン樹脂を所定厚さ塗布
加工したフィルムは、カセットテープ用透明滑りシート
として極めて良好なる特性を有することが確認された。
フイルムを検討の結果、フィルムの光面あらさおよび溶
融時の比抵抗がある特定範囲のポリエチレンナフタレー
トフィルムに熱硬化性易滑シリコン樹脂を所定厚さ塗布
加工したフィルムは、カセットテープ用透明滑りシート
として極めて良好なる特性を有することが確認された。
即ち1本発明の要旨は、フィルム表面の中心線平均粗さ
が0.00!l〜0.08μで、かつ、溶融時の比抵抗
が!tX/QIOΩ−二以下の二軸配回ポリエチレンナ
フタレートフィルムに、熱硬化性シリコン樹脂を0.0
/〜o、ri/ゴ塗布してなるカセットテープ用透明滑
りシートに存する。
が0.00!l〜0.08μで、かつ、溶融時の比抵抗
が!tX/QIOΩ−二以下の二軸配回ポリエチレンナ
フタレートフィルムに、熱硬化性シリコン樹脂を0.0
/〜o、ri/ゴ塗布してなるカセットテープ用透明滑
りシートに存する。
以下本発明を更に詳細に説明する。
本発明でいうポリエチレンナフタレートとはその構成単
位が実質的にエチレンーー、6−ナフタレート単位から
構成されているポリマーを指すが。
位が実質的にエチレンーー、6−ナフタレート単位から
構成されているポリマーを指すが。
少量例えばlOモル嘩以下好ましくは!モルチ以下の第
三成分によって変性されたエチレン−、?、 A−ナフ
タレートポリマーも含まれる。
三成分によって変性されたエチレン−、?、 A−ナフ
タレートポリマーも含まれる。
ポリエチレンナフタレートは一般にナフタレンーー、6
−ジカルボン酸又はその機能的誘導体例えばナフタレン
)、6〜ジカルボン酸ジメチルとエチレングリコールと
を触媒の存在下で、適当な反応条件の下に縮合せしめる
ことによって製造される。この場合第三成分として例え
ばアジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イノフタル酸、
テレフタル酸、ナフタレンーコ、クージカルボン酸等の
ジカルボン酸又はその低級アルキルエステル。
−ジカルボン酸又はその機能的誘導体例えばナフタレン
)、6〜ジカルボン酸ジメチルとエチレングリコールと
を触媒の存在下で、適当な反応条件の下に縮合せしめる
ことによって製造される。この場合第三成分として例え
ばアジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イノフタル酸、
テレフタル酸、ナフタレンーコ、クージカルボン酸等の
ジカルボン酸又はその低級アルキルエステル。
p−、t−キシ安息香酸の如きオキシカルボン酸又はそ
の低級アルキルエステル、あるいはプロピレングリコー
ル、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコー
ル、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレングリコ
ール等のコ価アルコール等を挙げることができる。
の低級アルキルエステル、あるいはプロピレングリコー
ル、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコー
ル、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレングリコ
ール等のコ価アルコール等を挙げることができる。
本発明で用いるポリエチレンナフタレートは重合度が低
すぎると機械的特性が低下するので。
すぎると機械的特性が低下するので。
その極限粘度はo、lIo以上好ましくはo、IIs〜
0.90のものが好ましい。
0.90のものが好ましい。
本発明においてはかかるポリエチレンナフタレートから
カセットテープ用滑りシート基材であるフィルムを得る
が、このためKは次のような方法を採用する。
カセットテープ用滑りシート基材であるフィルムを得る
が、このためKは次のような方法を採用する。
即ち1通常コ$0−32θ℃の範囲の温度でポリエチレ
ンナフタレートを(手出1幾よりソート状に押し出し、
rho℃以下の温度に冷却して実質的に無定形のシート
とし1次いで該シート状物を縦及び横方向に少くとも面
積倍率でψ倍になる程度まで延伸して二軸配向フィルム
を得。
ンナフタレートを(手出1幾よりソート状に押し出し、
rho℃以下の温度に冷却して実質的に無定形のシート
とし1次いで該シート状物を縦及び横方向に少くとも面
積倍率でψ倍になる程度まで延伸して二軸配向フィルム
を得。
更に該フィルムを120〜130℃の範囲の温度で熱処
理することにより得ることができる。
理することにより得ることができる。
本発明においては、かかるポリエチレンナフタレートフ
ィルムの溶融時の比抵抗は!r×1010Ω−ぼ以下で
なければならない。
ィルムの溶融時の比抵抗は!r×1010Ω−ぼ以下で
なければならない。
即ち1本発明者らの知見によれば、従来知られているポ
リエチレンナフタレートフィルムの長期的なうねり、即
ち平面性は必ずしも元号でない。従ってシリコンコート
加工に用いるベースフィルムは基本的にこの特性の改善
されたものであることがフィルム歪み、平面性の点で好
ましい。この平面性を改良する手段としてはポリエチレ
ンテレフタレートの場合には溶融ポリマーから無定型シ
ートを得るに際し、該シートに静電荷を与え該シートを
静電的に回転冷却ドラムに強く押しつけるフi法、即ち
静電印加冷却法が有効であることが知られており、この
効果を元号に発揮するためには溶融ポリエチレンテレフ
タレートの比抵抗を減ずれば良いこともまた艮(知られ
ている。
リエチレンナフタレートフィルムの長期的なうねり、即
ち平面性は必ずしも元号でない。従ってシリコンコート
加工に用いるベースフィルムは基本的にこの特性の改善
されたものであることがフィルム歪み、平面性の点で好
ましい。この平面性を改良する手段としてはポリエチレ
ンテレフタレートの場合には溶融ポリマーから無定型シ
ートを得るに際し、該シートに静電荷を与え該シートを
静電的に回転冷却ドラムに強く押しつけるフi法、即ち
静電印加冷却法が有効であることが知られており、この
効果を元号に発揮するためには溶融ポリエチレンテレフ
タレートの比抵抗を減ずれば良いこともまた艮(知られ
ている。
しかしlがもこれまでポリエチレンナフタレート[つい
てはその有効性は具体的に確認されておらず、またその
好適な範囲についての言及もない。
てはその有効性は具体的に確認されておらず、またその
好適な範囲についての言及もない。
即ち1本発明においてはポリエチレンナフタレートフィ
ルムの溶融時の比抵抗はj X / OIOΩ−α以下
でなければならない。
ルムの溶融時の比抵抗はj X / OIOΩ−α以下
でなければならない。
この値が& X / o10Ω−αを越えるようになる
と、静電印加冷却法の効果が不充分でフィルムの平面性
はほとんど改良されない。
と、静電印加冷却法の効果が不充分でフィルムの平面性
はほとんど改良されない。
ポリエチレンナフタレートにおいてこの比抵抗を所望の
値に調節するためには次のよ5な方法を採用すれば良い
。
値に調節するためには次のよ5な方法を採用すれば良い
。
即ち、比抵抗を減するためにはポリエチレンナフタレー
トに金属成分を可溶化せしめれば良(、このためには例
えばエステル交換反応触媒として用いられた金属元素あ
るいは必要に応じエステル交換反応又はエステル化反応
後に添加した金属元素に対し比較的少量例えば百モル以
下のリン化合物を添加する手段が好ましく採用される。
トに金属成分を可溶化せしめれば良(、このためには例
えばエステル交換反応触媒として用いられた金属元素あ
るいは必要に応じエステル交換反応又はエステル化反応
後に添加した金属元素に対し比較的少量例えば百モル以
下のリン化合物を添加する手段が好ましく採用される。
本発明においてはこのように特定範囲の比抵抗を有する
ポリエチレンナフタレートを得るために、製膜に供する
ポリエチレンナフタレートの比抵抗を予め調節してお(
必要があるが、このようにして得られた2イルムは無定
型シート作成時静電印加冷却法が効果的に適用できるた
め二軸延伸フィルムの平面性に浸れる。
ポリエチレンナフタレートを得るために、製膜に供する
ポリエチレンナフタレートの比抵抗を予め調節してお(
必要があるが、このようにして得られた2イルムは無定
型シート作成時静電印加冷却法が効果的に適用できるた
め二軸延伸フィルムの平面性に浸れる。
次に本発明のポリエチレンナフタレートフィルムはその
表面の平均線中心粗さが0.008〜0.08μである
必要があり、更に好ましくは0.0−〜0.06μが望
ましい。
表面の平均線中心粗さが0.008〜0.08μである
必要があり、更に好ましくは0.0−〜0.06μが望
ましい。
このことは、フイ・ルムの取扱上の作業性、コート加工
時の刀a工巻取性のみならず、シリコン樹脂をコート加
工した滑りシートの滑り特性に太き(関連する。
時の刀a工巻取性のみならず、シリコン樹脂をコート加
工した滑りシートの滑り特性に太き(関連する。
R=の値が0.008μ未満になると、フィルムの作業
性、刀ロエ性のみならず、カセットテープ用滑りシート
の滑り特性が悪化する。
性、刀ロエ性のみならず、カセットテープ用滑りシート
の滑り特性が悪化する。
−万、Raの値が0.08μを越えると、滑りシートの
滑り特性が殊更改善される事がない反面、フィルムの透
明性が失損し、透明滑りシートとしての商品価値が低く
なる。
滑り特性が殊更改善される事がない反面、フィルムの透
明性が失損し、透明滑りシートとしての商品価値が低く
なる。
歯1本発明においてはフィルム厚みはコ5〜/コ3μ、
好ましくは3S〜クタμの範囲から選定される。
好ましくは3S〜クタμの範囲から選定される。
このように本発明においてはフィルム表面の中心線平均
粗さをある特定の範囲にする必要があり、好ましくはフ
ィルム厚みとの関係で決る更に限定された範囲にあるこ
とが望ましいが。
粗さをある特定の範囲にする必要があり、好ましくはフ
ィルム厚みとの関係で決る更に限定された範囲にあるこ
とが望ましいが。
かかる表面粗さを得るためには矢のような方法を採ると
良い。
良い。
即ち、一般的には製膜に供するポリエチレンナフタレー
トに微細な不活性化合物を配合する方法が好ましく採用
される。かかる方法の中の一つにポリエチレンナフタレ
ート製造時に反応系内に溶存している金属化合物1例え
ばエステル交換反応後系内に溶存している金属化合物に
リン化合物等を作用させては細な粒子を析出させる方法
、いわゆる析出粒子法がある。この方法は簡便で工業的
に容易に採用し得るが、同時にボIJ−2−の溶融時の
比抵抗が変化するため。
トに微細な不活性化合物を配合する方法が好ましく採用
される。かかる方法の中の一つにポリエチレンナフタレ
ート製造時に反応系内に溶存している金属化合物1例え
ばエステル交換反応後系内に溶存している金属化合物に
リン化合物等を作用させては細な粒子を析出させる方法
、いわゆる析出粒子法がある。この方法は簡便で工業的
に容易に採用し得るが、同時にボIJ−2−の溶融時の
比抵抗が変化するため。
本発明においてはフィルム表面の適度な表面粗さと両立
させることがかなり困難であり、また析出粒子量には限
りがあるため今一つのいわゆる添加粒子法が好ましく用
いられる。
させることがかなり困難であり、また析出粒子量には限
りがあるため今一つのいわゆる添加粒子法が好ましく用
いられる。
添加粒子法とは、ポリエチレンナフタレート製造工程か
ら製膜前の押出工程のいずれかの工程でポリエチレンナ
フタレートに不活性な微細粒子を配合せしめる方法であ
り、この不活性微粒子としては例えば、カオリン、タル
ク、炭醗マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム
。
ら製膜前の押出工程のいずれかの工程でポリエチレンナ
フタレートに不活性な微細粒子を配合せしめる方法であ
り、この不活性微粒子としては例えば、カオリン、タル
ク、炭醗マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム
。
硫酸カルシウム、硫酸バリウム、リン醸リチウム、リン
醸カルシウム、リン酸マグネシウム。
醸カルシウム、リン酸マグネシウム。
酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化チタン等から選ば
れた7種以上の金属化合物を挙げることができる。
れた7種以上の金属化合物を挙げることができる。
この不活性化合物の形状は球状、塊状あるいは偏平状の
いずれであっても良く、またその硬度、比重等について
も特に制限はない。該不活性化合物の平均粒径は通常等
価球直径で0. /〜lOμ、好ましくは0.3〜3μ
の範囲から選ばれる。またそのフィルムに対する配合量
は。
いずれであっても良く、またその硬度、比重等について
も特に制限はない。該不活性化合物の平均粒径は通常等
価球直径で0. /〜lOμ、好ましくは0.3〜3μ
の範囲から選ばれる。またそのフィルムに対する配合量
は。
o、ooh〜O,S重量部が望ましく、更に好ましくは
Q、07〜0.7重量部である。
Q、07〜0.7重量部である。
歯、この配合量は平均粒径とも関連し、2μを越える粒
子の場合は、透明感の点で小粒径のものより少い万が望
ましい。
子の場合は、透明感の点で小粒径のものより少い万が望
ましい。
ベースフィルムとしてのポリエチレンナフタレートフィ
ルムに関しては、上記の如く、その表面あらさを適正化
する必要があるが、この事によるフィルムの滑り性は、
滑り性強化層としての易滑シリコン樹脂層の淳さについ
ても適性化する事が望ましい。熱硬化性易滑シリコン樹
脂層としては0,07〜0−19Ar?、好ましくは0
.0/〜o、 39/yj被着させる事が望ましく。
ルムに関しては、上記の如く、その表面あらさを適正化
する必要があるが、この事によるフィルムの滑り性は、
滑り性強化層としての易滑シリコン樹脂層の淳さについ
ても適性化する事が望ましい。熱硬化性易滑シリコン樹
脂層としては0,07〜0−19Ar?、好ましくは0
.0/〜o、 39/yj被着させる事が望ましく。
o、 0 / i//7FL″未満では、滑り層として
の効果が薄く、又、テープの連続走行の際に起るシリコ
ン層の繰返し摩損により連続便用耐用性に乏しい。
の効果が薄く、又、テープの連続走行の際に起るシリコ
ン層の繰返し摩損により連続便用耐用性に乏しい。
又、フィルムの中心線平均あらさ値より低い場合につい
てはテープ走行時の潤滑性付与効果も乏しい。この為、
シリコン樹脂層の厚さはフィルムの平均あらさ値に対し
て、常にあらさ値以上の厚さである事が望ましい。
てはテープ走行時の潤滑性付与効果も乏しい。この為、
シリコン樹脂層の厚さはフィルムの平均あらさ値に対し
て、常にあらさ値以上の厚さである事が望ましい。
一万、o、zi/Id以上を被着させる事は原反の表面
突起を過度に埋める結果となり、表面が平坦化になりす
ぎ、−魂のベトッキ性状が出現して滑り特性として好ま
しくない。又、過度の塗布厚付与については、シリコン
樹脂の硬化架橋の為の力Ω熱が過度に必要となり、フィ
ルムのコート加工上好ましくない。
突起を過度に埋める結果となり、表面が平坦化になりす
ぎ、−魂のベトッキ性状が出現して滑り特性として好ま
しくない。又、過度の塗布厚付与については、シリコン
樹脂の硬化架橋の為の力Ω熱が過度に必要となり、フィ
ルムのコート加工上好ましくない。
ここに用いられる易滑シリコン樹脂としては。
オルガツクミロシランからオルガノクロロシラノールを
経て、この縮合によりシリコン樹脂フェノとして製造さ
れるもの等があげられ、シロキサン結合を基本骨格とし
て、S1原子にアノvキル基、フェニル基などの有機基
を有するものがあげられる。これらはフェノの形態で販
売されて?す、これをトルエン、メチルエチルケトン等
の浴剤で希釈し、?fr定の触媒を添加してフィルムに
塗布加工後、乾燥炉内で溶剤を乾燥揮散、かつ硬化架橋
させフィルム上に塗膜を形成せしめる。硬化形態として
縮重合型、付刀口重合型等に分類されるが、縮重合型と
しては金属有機酸塩、付加重合型は白金系触媒等を用い
て硬化架橋される。特に易滑性シリコン樹脂としては、
信越化学工業株式会社製シリコン樹脂KS−772、K
F3−77ケ、 KS−776(商品名)あるいはダウ
コーニング株式会社製シリコン樹脂シロテックスJコC
,シロテックス33A。
経て、この縮合によりシリコン樹脂フェノとして製造さ
れるもの等があげられ、シロキサン結合を基本骨格とし
て、S1原子にアノvキル基、フェニル基などの有機基
を有するものがあげられる。これらはフェノの形態で販
売されて?す、これをトルエン、メチルエチルケトン等
の浴剤で希釈し、?fr定の触媒を添加してフィルムに
塗布加工後、乾燥炉内で溶剤を乾燥揮散、かつ硬化架橋
させフィルム上に塗膜を形成せしめる。硬化形態として
縮重合型、付刀口重合型等に分類されるが、縮重合型と
しては金属有機酸塩、付加重合型は白金系触媒等を用い
て硬化架橋される。特に易滑性シリコン樹脂としては、
信越化学工業株式会社製シリコン樹脂KS−772、K
F3−77ケ、 KS−776(商品名)あるいはダウ
コーニング株式会社製シリコン樹脂シロテックスJコC
,シロテックス33A。
FSXF’uJO7,IFSXIF−2A!II(商品
名)などが挙げられる。
名)などが挙げられる。
これらのシリコン樹脂の硬化架橋に際しては、塗膜厚に
もよるが、好ましくは0O−11/rrl被着せしめ、
かつ、光分な架橋化を行うにはiro℃JO秒以上、あ
るいは170℃ 20秒以上の加熱処理が望ましい。
もよるが、好ましくは0O−11/rrl被着せしめ、
かつ、光分な架橋化を行うにはiro℃JO秒以上、あ
るいは170℃ 20秒以上の加熱処理が望ましい。
ポリエステルフィルムとしてのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの場合は、かかる刀n熱処理を行うと、フ
ィルムの繰頁はシワ状、あるいはフィルム端部の波打ち
フリル状歪みを招き。
ートフィルムの場合は、かかる刀n熱処理を行うと、フ
ィルムの繰頁はシワ状、あるいはフィルム端部の波打ち
フリル状歪みを招き。
極めて平面性が悪くなる。
一万、ポリエチレンナフタレートフィルムの場合は、か
かる平面性悪化の程度が軽減する。
かる平面性悪化の程度が軽減する。
〈実施例〉
以下本発明を実施例により更に詳細に説明するが1本発
明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定される
ものではない。
明はその要旨を越えない限り以下の実施例に限定される
ものではない。
なお諸物件の測定法は次の方法によった。
(1)中心線平均粗さRa(μ):小板研究所社製表面
粗さ測定器(5tJRIF 0ORDIRMODIIt
L 8l−jF)によって次のようにして求めた。即ち
フィルム断面曲線からその中心線の方向に基準長さb(
2,rim)の部分を抜き取り、この抜き取り部分の中
心線をX軸、縦倍率の方向をY軸として粗さ曲線Y=f
(x)で表わした時、矢の式で与えられた値をμ(ミク
ロン)で表わす。但し、vi針の先端半径は5μ、荷重
はJOr#9とし、カットオフ値はgoμである。Ra
は縦方向に!点、横方向に3点の計70点の平均値を求
めた。
粗さ測定器(5tJRIF 0ORDIRMODIIt
L 8l−jF)によって次のようにして求めた。即ち
フィルム断面曲線からその中心線の方向に基準長さb(
2,rim)の部分を抜き取り、この抜き取り部分の中
心線をX軸、縦倍率の方向をY軸として粗さ曲線Y=f
(x)で表わした時、矢の式で与えられた値をμ(ミク
ロン)で表わす。但し、vi針の先端半径は5μ、荷重
はJOr#9とし、カットオフ値はgoμである。Ra
は縦方向に!点、横方向に3点の計70点の平均値を求
めた。
Ra =L f、 l f (X) l dX(2)溶
融時の比抵抗:ブリテイツシジアーナルオブアプライド
フイジツクス(Br1t、 J、 API)l。
融時の比抵抗:ブリテイツシジアーナルオブアプライド
フイジツクス(Br1t、 J、 API)l。
Ph7日、)第17巻、第1/’Iデ〜1islI頁(
/qA4年)に記載しである方法。但しこの場合ポリマ
ーの溶融温度は293℃とし直流/、000vを印力0
した直後の値を溶融時の比抵抗とする。
/qA4年)に記載しである方法。但しこの場合ポリマ
ーの溶融温度は293℃とし直流/、000vを印力0
した直後の値を溶融時の比抵抗とする。
(3) フィルムの厚みむら:フイルムの縦方向10
00m毎のIQケ所の各々について、横方向ioα毎に
io点1合計lθ0点のフィルム厚みを測定する。
00m毎のIQケ所の各々について、横方向ioα毎に
io点1合計lθ0点のフィルム厚みを測定する。
フィルム厚みの測定は安立電子製マイクロメーターを用
いて行ない、該当する箇所の周辺のフィルムを10枚重
ねて測定し/枚当りに換算する。
いて行ない、該当する箇所の周辺のフィルムを10枚重
ねて測定し/枚当りに換算する。
すべての測定値のうち最大値をXmax 、最小値をX
m1n 、相加平均値をXとするときX maJCI
X m in 1 をフィルムの厚みむらとするが、
この値は小さいほど好ましい。
m1n 、相加平均値をXとするときX maJCI
X m in 1 をフィルムの厚みむらとするが、
この値は小さいほど好ましい。
(4)作業性:製膜工程における巻き取り作業性及びそ
の後の工程通過性を総合し、矢の三ランクに分けた。
の後の工程通過性を総合し、矢の三ランクに分けた。
A スムースに巻き取ることができ、その後の工程通過
性も良好である。
性も良好である。
B はぼ問題なく巻き取ることができ、その後の工程通
過性も概ね良好であるが。
過性も概ね良好であるが。
八に比ベスムースサK 劣ル。
C巻き取り工程でシワが入ったり、端面が不揃いになっ
たりすることがある。また工程通過性が不良でしばしば
ラインがストラグしたりすることがある。
たりすることがある。また工程通過性が不良でしばしば
ラインがストラグしたりすることがある。
(5)平面性及び加工性:シリコン樹脂のコート刀ロエ
について、乾燥炉通過時のフィルム断面積当りのテンシ
ョンJOOjj/d、/ 40℃。
について、乾燥炉通過時のフィルム断面積当りのテンシ
ョンJOOjj/d、/ 40℃。
30秒間の加熱条件で実施した時の巻取フィルムの歪み
性を評価し1次の3ランクに分けた。
性を評価し1次の3ランクに分けた。
A:フィルムの端部の波打ち、あるいは定盤上にフィル
ムを置いた時にフィルム 表面凸凹が少ない。又、その后のフィ ルムスリット加工工程での巻き蛇行等 が良好である。
ムを置いた時にフィルム 表面凸凹が少ない。又、その后のフィ ルムスリット加工工程での巻き蛇行等 が良好である。
B:概ね良好であるが、Aに比べてその后のフィルムス
リット加工工程でのスム ースさが劣る。
リット加工工程でのスム ースさが劣る。
C:フィルムの歪みが大きく、又1巻取時の蛇行あるい
はスリン)7111工工程等でのトラブルが多い。
はスリン)7111工工程等でのトラブルが多い。
(6) フィルム透明性:J工5K−A7/44法に
従ってフィルムの曇価を測定する。
従ってフィルムの曇価を測定する。
曇価の程度−より1次の3ランクに分けた。
A:曇価が8%以下で曇り性が少く、透明透明感が比較
的良好。
的良好。
C:曇価が70%を越え、曇り性が大きく。
透明感が悪い。
(7)滑りwe:市販のカセットテープについて。
内蔵の滑りシートを取りはずし、所定形状に滑りシート
を成形、カットした種々の滑りシートを適用して、磁気
テープをカセットデツキで往復走行させた時の走行状態
をチェックする。
を成形、カットした種々の滑りシートを適用して、磁気
テープをカセットデツキで往復走行させた時の走行状態
をチェックする。
A:走行トルクの初期値(1cm)を相対的にioとし
た場合、200回走行后と して13を越えない。
た場合、200回走行后と して13を越えない。
B:走行トルク相対値が初期は/!以下であるが100
回走行後は20を越える。
回走行後は20を越える。
C:走行トルクが初期相対値として一〇を越え、走行が
極めて不安定。
極めて不安定。
(製造例/)
(ポリエチレンナフタレートの製造)
ナフタレンーコ、6−ジカルボン酸ジメチルloo部、
エチレングリコ−A/60部及び酢酸カルシウム−水塩
0.7部を反応器にとりエステル交換反応を行なった。
エチレングリコ−A/60部及び酢酸カルシウム−水塩
0.7部を反応器にとりエステル交換反応を行なった。
即ち反応開始温度を180℃とし、メタノールの留出と
共に徐々に反応温度を上昇せしめダ時間後230℃に達
せしめ実質的にエステル交換反応な絡了せしめた。
共に徐々に反応温度を上昇せしめダ時間後230℃に達
せしめ実質的にエステル交換反応な絡了せしめた。
次いでリンno、oII部を添加した後、平均粒径/、
jμの無定形シリカo、oti部及び二酸化アンチモン
o、oti部を添加し常法により重縮合反応を行なった
。即ち温度を余々に高めると共に圧力を常圧より徐々に
減じ、一時間後温度は290℃、圧力はO,JmmHg
とした。
jμの無定形シリカo、oti部及び二酸化アンチモン
o、oti部を添加し常法により重縮合反応を行なった
。即ち温度を余々に高めると共に圧力を常圧より徐々に
減じ、一時間後温度は290℃、圧力はO,JmmHg
とした。
反応開始後弘時間を経た時点で反応を停止し、窒素加圧
下ポリエチレンナフタレートを吐出せしめた。
下ポリエチレンナフタレートを吐出せしめた。
得られたポリエチレンナフタレートの極限粘度は0.&
J、溶融溶融比抵抗はE×10”Ω−αであり、その一
部をとって顕微鏡上粒子の分散状態を観察したところ、
添加したカオリンが極めて均一に分散していることが確
認された。
J、溶融溶融比抵抗はE×10”Ω−αであり、その一
部をとって顕微鏡上粒子の分散状態を観察したところ、
添加したカオリンが極めて均一に分散していることが確
認された。
(ポリエチレンナフタレートフィルムの装造)次に得ら
れたポリエステルをaqs℃で押出様よりシート状に押
出し静電印加冷却法を用いて無定形シートとした。この
時の静電印加の条件は次の通りである。即ち、プラス電
極として直径0. / Hのタングステン線を用い。
れたポリエステルをaqs℃で押出様よりシート状に押
出し静電印加冷却法を用いて無定形シートとした。この
時の静電印加の条件は次の通りである。即ち、プラス電
極として直径0. / Hのタングステン線を用い。
これを回転冷却ドラムの上面にシートの流れと直角方向
に張り、これに直流電圧約9KVを印加した。
に張り、これに直流電圧約9KVを印加した。
回転冷却ドラムの速度をJo @/分とし、得られた無
定形フィルムを縦方向にJ、!倍、横方向に7.7倍延
伸し厚さ!0μのフィルムを得たが、該二軸延伸フィル
ムの厚みむらは0015と小さく充分に満足し得るもの
であった。
定形フィルムを縦方向にJ、!倍、横方向に7.7倍延
伸し厚さ!0μのフィルムを得たが、該二軸延伸フィル
ムの厚みむらは0015と小さく充分に満足し得るもの
であった。
また該フィルムの中心線平均粗さは0.0−μで手触り
も良く工程通過性に富むものであった。このフィルムの
評価結果を表−7に示すO (製造例−、J) 製造例1においてエステル交換反応終了後添加するリン
酸及び無機化合物の条件を変える他は製造例1と同様に
してポリエチレンナフタレートを得た。
も良く工程通過性に富むものであった。このフィルムの
評価結果を表−7に示すO (製造例−、J) 製造例1においてエステル交換反応終了後添加するリン
酸及び無機化合物の条件を変える他は製造例1と同様に
してポリエチレンナフタレートを得た。
次いで該ポリエステルを用い製造例1と同様にして二軸
延伸フィルムを得、特性を評価した。
延伸フィルムを得、特性を評価した。
得られた結果を表−7に示す。
製造例コ、Jは製造例1と同様、溶融時の比抵抗及びフ
ィルムの中心線平均粗さが適正な範囲にある二軸配向ポ
リエチレンナフタレートフィルムの例であるが、この場
合もフィルムの取り扱い作業性に優れている。
ィルムの中心線平均粗さが適正な範囲にある二軸配向ポ
リエチレンナフタレートフィルムの例であるが、この場
合もフィルムの取り扱い作業性に優れている。
(比較製造列l)
リン酸の使用量を0.03部とし、無定形ンリカを添加
しない他は製造例1と同様にしてフィルムを製造した。
しない他は製造例1と同様にしてフィルムを製造した。
溶融時の比抵抗は適正な範囲にあるものの。
フィルムに適度な表面粗度を与える不活性微粒子が配合
されておらず、フィルムの中心線平均粗さが小さ過ぎる
ためフィルムの滑り性、7IO工作業性が著しく悪い。
されておらず、フィルムの中心線平均粗さが小さ過ぎる
ためフィルムの滑り性、7IO工作業性が著しく悪い。
(比較製造例2)
リン醒の量を0.2部とする以外は製造例1と同球にし
てフィルムを製造した。このフィルムは溶融時の比抵抗
が高過ぎるため静電印加冷却法が有効に適用できずフィ
ルムの厚みむらが悪化することを示している。
てフィルムを製造した。このフィルムは溶融時の比抵抗
が高過ぎるため静電印加冷却法が有効に適用できずフィ
ルムの厚みむらが悪化することを示している。
(比較製造例J)
表面粗度付与剤として平均粒径コ、りμのシリカをO5
を部添加した以外は製造例1と同様に製膜した。このフ
ィルムは中心線平均粗さが0、 /−μと大きくなり過
ぎ、その結果として曇価(曇り度)が実施例1〜3の約
3〜ダ優に較べて約440%と大きくなり、透明滑りシ
ート材料としては透明感の点で不適切なものとなってし
まう。
を部添加した以外は製造例1と同様に製膜した。このフ
ィルムは中心線平均粗さが0、 /−μと大きくなり過
ぎ、その結果として曇価(曇り度)が実施例1〜3の約
3〜ダ優に較べて約440%と大きくなり、透明滑りシ
ート材料としては透明感の点で不適切なものとなってし
まう。
(製造例4!−)
製造例1においてフィルム厚みをl−μ。
30μ、700μと変えて二軸延伸フィルムを得、その
中心線平均粗さを測定したところいずれも0.02μで
あった。しかしながら製造例1のSOμ厚みのフィルム
を含めたこれらのフィルムの取り扱い作業性には差異が
認められた。
中心線平均粗さを測定したところいずれも0.02μで
あった。しかしながら製造例1のSOμ厚みのフィルム
を含めたこれらのフィルムの取り扱い作業性には差異が
認められた。
即ち、goμ及び100μのフィルムの取り扱い作業性
は良好であるがlコμフィルムの場合はやや劣る。
は良好であるがlコμフィルムの場合はやや劣る。
(実施例1)
信越化堂工業■製付刀ロ重合型シリコンワニス100重
量部に硬化触媒PL−j(白金系触媒。
量部に硬化触媒PL−j(白金系触媒。
信越化学工業株社製)を1重量部添加したものをMKK
/)ルエン混合溶剤で希釈し、製造例/で得られたポリ
エチレンナフタレートタθμ浮フィルムに乾燥後塗布*
o、 2g〜に塗布した。
/)ルエン混合溶剤で希釈し、製造例/で得られたポリ
エチレンナフタレートタθμ浮フィルムに乾燥後塗布*
o、 2g〜に塗布した。
岡、この場合の乾燥硬化条件としては140℃にてII
o秒間加熱し塗膜を硬化せしめた。得らレタシリコンコ
ートポリエチレンナフタレートフイルムの特性を表−コ
に示す。伺、乾燥後シリコン塗布量は1次式に従って算
出した。
o秒間加熱し塗膜を硬化せしめた。得らレタシリコンコ
ートポリエチレンナフタレートフイルムの特性を表−コ
に示す。伺、乾燥後シリコン塗布量は1次式に従って算
出した。
(実施例2)
製造例コのポリエチレンナフタレートフィルムに実施1
4J /と同様にしてシリコン樹脂を0.2g/ゴに塗
工し得られたフィルムの特性を表−一に示す。
4J /と同様にしてシリコン樹脂を0.2g/ゴに塗
工し得られたフィルムの特性を表−一に示す。
(比較例1)
比較製造Fl /のポリエチレンナフタレートフィルム
に実施例/と同様にしてシリコン樹脂を0、2 g/r
r?に塗工し、得られたフィルムの特注を表−コに示す
。
に実施例/と同様にしてシリコン樹脂を0、2 g/r
r?に塗工し、得られたフィルムの特注を表−コに示す
。
(比較例−)
製造例1のポリエチレンナフタレートフィルムに実施例
1と同様にしてシリコン樹脂を0.00−g/7.1に
詭工し、得られたフィルムの特性を表−一に示す。
1と同様にしてシリコン樹脂を0.00−g/7.1に
詭工し、得られたフィルムの特性を表−一に示す。
(比較例3)
比較製造例−のポリエチレンナフタレートフィルムに実
施例1と同様にしてシリコン樹脂を0、7 fil、d
に塗工し、得られたフィルムの特性を表−コに示す。
施例1と同様にしてシリコン樹脂を0、7 fil、d
に塗工し、得られたフィルムの特性を表−コに示す。
(比f例≠)
フィルムの中心線平均あらさ0.02μの!θμ厚−軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフイルムに実施例1と
同様にしてシリコン樹脂をo、igy侃に塗工し、得ら
れたフィルムの特性な我−コに示す。
延伸ポリエチレンテレフタレートフイルムに実施例1と
同様にしてシリコン樹脂をo、igy侃に塗工し、得ら
れたフィルムの特性な我−コに示す。
表 −二
表−一のごとく本発明の実施例1及びコで得られるシー
トは、比較例/−44のものに較べてカセット用滑りシ
ートとして適切なことが判る。
トは、比較例/−44のものに較べてカセット用滑りシ
ートとして適切なことが判る。
〈発明の効果〉
本発明のカセットテープ用透明滑りシートは。
透明性、耐熱性、7IO工性及び滑り安定性に優れる。
Claims (1)
- (1)フィルム表面の中心線平均粗さが0.008〜0
.08μで、かつ、溶融時の比抵抗が5×10^1^0
Ω−cm以下の2軸配向ポリエチレンナフタレートフィ
ルムに熱硬化型シリコン樹脂を0.01〜0.5g/m
^3塗布してなるカセットテープ用透明滑りシート
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3973986A JPS62198445A (ja) | 1986-02-25 | 1986-02-25 | 滑りシ−ト |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3973986A JPS62198445A (ja) | 1986-02-25 | 1986-02-25 | 滑りシ−ト |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62198445A true JPS62198445A (ja) | 1987-09-02 |
Family
ID=12561333
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3973986A Pending JPS62198445A (ja) | 1986-02-25 | 1986-02-25 | 滑りシ−ト |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62198445A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05170958A (ja) * | 1991-12-24 | 1993-07-09 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 熱可塑性プラスチックフィルム |
EP0882576A4 (en) * | 1996-10-03 | 2000-11-02 | Teijin Ltd | TAKE-OFF FILM |
JP2004122699A (ja) * | 2002-10-07 | 2004-04-22 | Toray Ind Inc | 離型フィルム |
-
1986
- 1986-02-25 JP JP3973986A patent/JPS62198445A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05170958A (ja) * | 1991-12-24 | 1993-07-09 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 熱可塑性プラスチックフィルム |
EP0882576A4 (en) * | 1996-10-03 | 2000-11-02 | Teijin Ltd | TAKE-OFF FILM |
JP2004122699A (ja) * | 2002-10-07 | 2004-04-22 | Toray Ind Inc | 離型フィルム |
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