JPH07268115A - ガスバリア性積層フィルム - Google Patents
ガスバリア性積層フィルムInfo
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- JPH07268115A JPH07268115A JP6064187A JP6418794A JPH07268115A JP H07268115 A JPH07268115 A JP H07268115A JP 6064187 A JP6064187 A JP 6064187A JP 6418794 A JP6418794 A JP 6418794A JP H07268115 A JPH07268115 A JP H07268115A
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- layer
- coating
- film
- laminated film
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Abstract
(57)【要約】
【目的】可撓性を有するとともに酸素、水蒸気などに対
するガスバリア性に優れ、耐熱性、耐湿性、耐水性を有
し、かつ製造が容易なガスバリア性積層フィルムを提供
する。 【構成】高分子樹脂組成物からなる基材２上に、無機化
合物からなる蒸着層３を第１層とし、１種以上の金属ア
ルコキシド或いはその加水分解物と、分子中に少なくと
も２個以上のイソシアネート基を有するイソシアネート
化合物との混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布
し、加熱乾燥してなる被膜層４を第２層として積層する
ことにより、高いガスバリア性を示し、かつ耐水性、耐
湿性を有するとともにある程度の変形に耐える可撓性を
示す。
するガスバリア性に優れ、耐熱性、耐湿性、耐水性を有
し、かつ製造が容易なガスバリア性積層フィルムを提供
する。 【構成】高分子樹脂組成物からなる基材２上に、無機化
合物からなる蒸着層３を第１層とし、１種以上の金属ア
ルコキシド或いはその加水分解物と、分子中に少なくと
も２個以上のイソシアネート基を有するイソシアネート
化合物との混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布
し、加熱乾燥してなる被膜層４を第２層として積層する
ことにより、高いガスバリア性を示し、かつ耐水性、耐
湿性を有するとともにある程度の変形に耐える可撓性を
示す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、食品、医薬品等の包装
分野に用いられるガスバリア性積層フィルムに関する。
分野に用いられるガスバリア性積層フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、食品、医薬品等の包装に用いられ
る包装材料は、内容物の変質、とくに食品においては蛋
白質や油脂等の酸化、変質を抑制し、さらに味、鮮度を
保持するために、また無菌状態での取扱いが必要とされ
る医薬品においては有効成分の変質を抑制し、効能を維
持するために、包装材料を透過する酸素、水蒸気、その
他内容物を変質させる気体による影響を防止する必要が
あり、これら気体（ガス）を遮断するガスバリア性を備
えることが求められている。
る包装材料は、内容物の変質、とくに食品においては蛋
白質や油脂等の酸化、変質を抑制し、さらに味、鮮度を
保持するために、また無菌状態での取扱いが必要とされ
る医薬品においては有効成分の変質を抑制し、効能を維
持するために、包装材料を透過する酸素、水蒸気、その
他内容物を変質させる気体による影響を防止する必要が
あり、これら気体（ガス）を遮断するガスバリア性を備
えることが求められている。
【０００３】そのため、従来からポリビニルアルコール
（以下、ＰＶＡとする）、エチレンビニルアルコール共
重合体（ＥＶＯＨ）、或いはポリ塩化ビニリデン樹脂
（以下、ＰＶＤＣとする）など一般にガスバリア性が比
較的高いと言われる高分子樹脂組成物をラミネート又は
コーティングによりガスバリア性積層フィルムとして包
装材料に用いた包装フィルムが一般的に使用されてき
た。また、適当な高分子樹脂組成物（単独では、高いガ
スバリア性を有していない樹脂であっても）にＡｌなど
の金属又は金属化合物を蒸着した金属蒸着フィルムや最
近では一酸化珪素（ＳｉＯ）などの珪素酸化物（ＳｉＯ
X ）薄膜、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）薄膜を透明性を
有する高分子材料からなる基材上に蒸着などの形成手段
により形成された蒸着フィルムが開発されており、これ
らは高分子樹脂組成物からなるガスバリア材より優れた
ガスバリア特性を有しており、高湿度下での劣化も少な
く、包装材料に用いた包装フィルムが一般的に使用され
始めている。
（以下、ＰＶＡとする）、エチレンビニルアルコール共
重合体（ＥＶＯＨ）、或いはポリ塩化ビニリデン樹脂
（以下、ＰＶＤＣとする）など一般にガスバリア性が比
較的高いと言われる高分子樹脂組成物をラミネート又は
コーティングによりガスバリア性積層フィルムとして包
装材料に用いた包装フィルムが一般的に使用されてき
た。また、適当な高分子樹脂組成物（単独では、高いガ
スバリア性を有していない樹脂であっても）にＡｌなど
の金属又は金属化合物を蒸着した金属蒸着フィルムや最
近では一酸化珪素（ＳｉＯ）などの珪素酸化物（ＳｉＯ
X ）薄膜、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）薄膜を透明性を
有する高分子材料からなる基材上に蒸着などの形成手段
により形成された蒸着フィルムが開発されており、これ
らは高分子樹脂組成物からなるガスバリア材より優れた
ガスバリア特性を有しており、高湿度下での劣化も少な
く、包装材料に用いた包装フィルムが一般的に使用され
始めている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のＰＶ
Ａ、ＥＶＯＨ系の高分子樹脂組成物を用いてなるガスバ
リア性積層フィルムは、温度依存性及び湿度依存性が大
きいため、高温又は高湿下においてガスバリア性の低下
が見られ、とくに水蒸気バリア性がなく、包装の用途に
よっては煮沸処理やレトルト処理を行うとガスバリア性
が著しく低下することがある。またＰＶＤＣ系の高分子
樹脂組成物を用いてなるガスバリア性積層フィルムは、
湿度依存性は小さいが、酸素バリア性を１ｃｍ3 ／ｍ2
・ｄａｙ・ａｔｍ以下とする高ガスバリア材（ハイガス
バリア材）を実現することは、困難であるという問題が
ある。また被膜中に塩素を多量に含むため、焼却処理や
リサイクリングなど廃棄物処理の面で問題がある。
Ａ、ＥＶＯＨ系の高分子樹脂組成物を用いてなるガスバ
リア性積層フィルムは、温度依存性及び湿度依存性が大
きいため、高温又は高湿下においてガスバリア性の低下
が見られ、とくに水蒸気バリア性がなく、包装の用途に
よっては煮沸処理やレトルト処理を行うとガスバリア性
が著しく低下することがある。またＰＶＤＣ系の高分子
樹脂組成物を用いてなるガスバリア性積層フィルムは、
湿度依存性は小さいが、酸素バリア性を１ｃｍ3 ／ｍ2
・ｄａｙ・ａｔｍ以下とする高ガスバリア材（ハイガス
バリア材）を実現することは、困難であるという問題が
ある。また被膜中に塩素を多量に含むため、焼却処理や
リサイクリングなど廃棄物処理の面で問題がある。
【０００５】さらに上述の金属又は金属化合物を蒸着し
た金属蒸着フィルムや一酸化珪素（ＳｉＯ）などの珪素
酸化物薄膜、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）薄膜を蒸着し
た蒸着フィルムは、樹脂フィルムと蒸着金属であるよう
に明らかに両者の機械的性質、化学的性質、熱的性質な
どの物性が非常に異なっていることから、ガスバリア層
に用いられる無機化合物の薄膜が可撓性に欠け、揉みや
折り曲げに弱く、また基材との密着性が悪いため、取り
扱いに注意を要し、とくに印刷、ラミネート、製袋など
包装材料の後加工の際に、クラックを発生しガスバリア
性が著しく低下する問題がある。また、形成方法に真空
蒸着法、スパッタリング法、プラズマ化学気相成長法な
どの真空プロセスを用いて形成するため、装置が高価で
あり、また形成工程において局部的に高温となり、基材
に損傷を生じたり、低分子量部或いは可塑剤などの添加
剤部などの分解、脱ガスなどを起因とする無機薄膜中に
欠陥、ピンホール等を発生することがあり、高いガスバ
リア性を達成できないこと、コスト的に高価となるとい
う問題を有している。
た金属蒸着フィルムや一酸化珪素（ＳｉＯ）などの珪素
酸化物薄膜、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）薄膜を蒸着し
た蒸着フィルムは、樹脂フィルムと蒸着金属であるよう
に明らかに両者の機械的性質、化学的性質、熱的性質な
どの物性が非常に異なっていることから、ガスバリア層
に用いられる無機化合物の薄膜が可撓性に欠け、揉みや
折り曲げに弱く、また基材との密着性が悪いため、取り
扱いに注意を要し、とくに印刷、ラミネート、製袋など
包装材料の後加工の際に、クラックを発生しガスバリア
性が著しく低下する問題がある。また、形成方法に真空
蒸着法、スパッタリング法、プラズマ化学気相成長法な
どの真空プロセスを用いて形成するため、装置が高価で
あり、また形成工程において局部的に高温となり、基材
に損傷を生じたり、低分子量部或いは可塑剤などの添加
剤部などの分解、脱ガスなどを起因とする無機薄膜中に
欠陥、ピンホール等を発生することがあり、高いガスバ
リア性を達成できないこと、コスト的に高価となるとい
う問題を有している。
【０００６】そこで、上記問題に対して、特開昭６２−
２９５９３１号公報に記載されるように、基材に金属ア
ルコキシドの被膜を形成してなるガスバリア材が提案さ
れている。このガスバリア材は、ある程度の可撓性を有
するとともに、液相コーティング法による製造ができる
ため、コスト的にも安価とすることができる。
２９５９３１号公報に記載されるように、基材に金属ア
ルコキシドの被膜を形成してなるガスバリア材が提案さ
れている。このガスバリア材は、ある程度の可撓性を有
するとともに、液相コーティング法による製造ができる
ため、コスト的にも安価とすることができる。
【０００７】しかしながら、上記ガスバリア材は、基材
単体の場合に比べて、ガスバリア性が向上すると言える
が、絶対的なガスバリア性を有するとは言えないもので
あった。
単体の場合に比べて、ガスバリア性が向上すると言える
が、絶対的なガスバリア性を有するとは言えないもので
あった。
【０００８】そこで、本発明は、可撓性を有するととも
に酸素、水蒸気などに対するガスバリア性に優れ、耐熱
性、耐湿性、耐水性を有し、かつ製造が容易なガスバリ
ア性積層フィルムを提供することを目的とする。
に酸素、水蒸気などに対するガスバリア性に優れ、耐熱
性、耐湿性、耐水性を有し、かつ製造が容易なガスバリ
ア性積層フィルムを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
高分子樹脂組成物からなる基材上に、無機化合物からな
る蒸着層を第１層とし、１種以上の金属アルコキシド或
いはその加水分解物と、分子中に少なくとも２個以上の
イソシアネート基を有するイソシアネート化合物との混
合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布し、加熱乾燥
してなる被膜層を第２層として積層してなることを特徴
とするガスバリア性積層フィルムである。
高分子樹脂組成物からなる基材上に、無機化合物からな
る蒸着層を第１層とし、１種以上の金属アルコキシド或
いはその加水分解物と、分子中に少なくとも２個以上の
イソシアネート基を有するイソシアネート化合物との混
合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布し、加熱乾燥
してなる被膜層を第２層として積層してなることを特徴
とするガスバリア性積層フィルムである。
【００１０】請求項２に記載の発明は、請求項１記載の
発明に基づき、コーティング剤に塩化錫を含むことを特
徴とするである。
発明に基づき、コーティング剤に塩化錫を含むことを特
徴とするである。
【００１１】請求項３に記載の発明は、請求項３記載の
発明に基づき、コーティング剤にメラミン或いはメラミ
ン樹脂を含むことを特徴とするである。
発明に基づき、コーティング剤にメラミン或いはメラミ
ン樹脂を含むことを特徴とするである。
【００１２】請求項４に記載の発明は、請求項３記載の
発明に基づき、コーティング剤にホルムアルデヒドを含
むことを特徴とするである。
発明に基づき、コーティング剤にホルムアルデヒドを含
むことを特徴とするである。
【００１３】
【作用】本発明によれば、高分子樹脂組成物からなる基
材上に、無機化合物からなる蒸着層を第１層とし、１種
以上の金属アルコキシド或いはその加水分解物と、分子
中に少なくとも２個以上のイソシアネート基を有するイ
ソシアネート化合物との混合溶液を主剤とするコーティ
ング剤を塗布し、加熱乾燥してなる被膜を第２層として
積層することにより、第２層が第１層の無機化合物から
なる蒸着層に生じるピンホール、クラック、粒界などの
欠陥或いは微細孔を充填、補強することで、緻密構造が
形成され、高いガスバリア性を示し、かつ耐水性、耐湿
性を有するとともにある程度の変形に耐えられる可撓性
を有する。
材上に、無機化合物からなる蒸着層を第１層とし、１種
以上の金属アルコキシド或いはその加水分解物と、分子
中に少なくとも２個以上のイソシアネート基を有するイ
ソシアネート化合物との混合溶液を主剤とするコーティ
ング剤を塗布し、加熱乾燥してなる被膜を第２層として
積層することにより、第２層が第１層の無機化合物から
なる蒸着層に生じるピンホール、クラック、粒界などの
欠陥或いは微細孔を充填、補強することで、緻密構造が
形成され、高いガスバリア性を示し、かつ耐水性、耐湿
性を有するとともにある程度の変形に耐えられる可撓性
を有する。
【００１４】
【実施例】本発明の一実施例を詳細に説明する。図１は
本発明のガスバリア性積層フィルムの構成を説明する概
略図である。
本発明のガスバリア性積層フィルムの構成を説明する概
略図である。
【００１５】図１において、１はガスバリア性積層フィ
ルムあり、基材２、第１層である無機蒸着層３、第２層
である被膜層４である。基材２は、シート状またはフィ
ルム状のものであって、ポリオレフィン（ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等）、ポリエステル（ポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート等）、ポリアミド（ネイロン−６、
ナイロン−６６等）、ポリ塩化ビニル、ポリイミドな
ど、或いはこれら高分子の共重合体など通常包装材料と
して用いられるものが使用できる。基材は用途に応じて
上記材料から適宜選択される。
ルムあり、基材２、第１層である無機蒸着層３、第２層
である被膜層４である。基材２は、シート状またはフィ
ルム状のものであって、ポリオレフィン（ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等）、ポリエステル（ポリエチレン
テレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート等）、ポリアミド（ネイロン−６、
ナイロン−６６等）、ポリ塩化ビニル、ポリイミドな
ど、或いはこれら高分子の共重合体など通常包装材料と
して用いられるものが使用できる。基材は用途に応じて
上記材料から適宜選択される。
【００１６】この基材２に用いられる高分子樹脂材料
に、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、
着色剤など公知の添加剤を加えることができ、必要に応
じて適宜添加される。
に、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、
着色剤など公知の添加剤を加えることができ、必要に応
じて適宜添加される。
【００１７】さらに基材２の表面をコロナ処理、アンカ
ーコート処理等の表面改質を行い、被膜の密着性を向上
させることも可能である。
ーコート処理等の表面改質を行い、被膜の密着性を向上
させることも可能である。
【００１８】第１層である無機蒸着層３は、珪素、アル
ミニウム、チタン、ジルコニウム、錫などの酸化物、窒
化物、弗化物の単体、或いはそれらの複合物からなり、
真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマ気相成長法
（ＣＶＤ法）などの真空プロセスにより形成される。
ミニウム、チタン、ジルコニウム、錫などの酸化物、窒
化物、弗化物の単体、或いはそれらの複合物からなり、
真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマ気相成長法
（ＣＶＤ法）などの真空プロセスにより形成される。
【００１９】無機蒸着層３の膜厚は、用途や第２層の膜
厚によって異なるが、数十Åから５０００Åの範囲が望
ましいが、５０Å以下では薄膜の連続性に問題があり、
また３０００Åを越えるとクラックが発生しやすく、可
撓性が低下するため、好ましくは５０〜３０００Åであ
る。
厚によって異なるが、数十Åから５０００Åの範囲が望
ましいが、５０Å以下では薄膜の連続性に問題があり、
また３０００Åを越えるとクラックが発生しやすく、可
撓性が低下するため、好ましくは５０〜３０００Åであ
る。
【００２０】第２層である被膜層４は、１種以上の金属
アルコキシド或いはその加水分解物と、分子中に少なく
とも２個以上のイソシアネート基を有するイソシアネー
ト化合物との混合溶液を主剤とするコーティング剤を基
材２上の無機薄膜層３にコーティング、加熱乾燥し、形
成したものである。コーティング剤に含まれる各成分に
ついて以下に詳述する。
アルコキシド或いはその加水分解物と、分子中に少なく
とも２個以上のイソシアネート基を有するイソシアネー
ト化合物との混合溶液を主剤とするコーティング剤を基
材２上の無機薄膜層３にコーティング、加熱乾燥し、形
成したものである。コーティング剤に含まれる各成分に
ついて以下に詳述する。
【００２１】本発明でコーティング剤に用いられる分子
中に少なくとも２個以上のイソシアネート基（ＮＣＯ
基）を有するイソシアネート化合物は、例えばトリレン
ジイソシアネート（ＴＤＩ）、トリフェニルメタントリ
イソシアネート（ＴＴＩ）、イソホロンジイソシアネー
ト（ＩＰＤＩ）、テトラメチルキシレンジイソシアネー
ト（ＴＭＸＤＩ）等のモノマー類とこれらの重合体及び
誘導体などがある。
中に少なくとも２個以上のイソシアネート基（ＮＣＯ
基）を有するイソシアネート化合物は、例えばトリレン
ジイソシアネート（ＴＤＩ）、トリフェニルメタントリ
イソシアネート（ＴＴＩ）、イソホロンジイソシアネー
ト（ＩＰＤＩ）、テトラメチルキシレンジイソシアネー
ト（ＴＭＸＤＩ）等のモノマー類とこれらの重合体及び
誘導体などがある。
【００２２】また金属アルコキシドは、テトラエトキシ
シラン〔Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 〕、トリイソプロポキシ
アルミニウム〔Ａｌ（Ｏ−２’−Ｃ3 Ｈ7 ）3 〕などの
一般式、 Ｍ（ＯＲ）n （Ｍ：Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｉ、Ｚｒ等の金属, Ｒ：ＣＨ3 、
Ｃ2 Ｈ5 等のアルキル基）で表せるものであり、予め水
（触媒としての塩酸などを添加）を加え、加水分解させ
た溶液としても用いられる。
シラン〔Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 〕、トリイソプロポキシ
アルミニウム〔Ａｌ（Ｏ−２’−Ｃ3 Ｈ7 ）3 〕などの
一般式、 Ｍ（ＯＲ）n （Ｍ：Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｉ、Ｚｒ等の金属, Ｒ：ＣＨ3 、
Ｃ2 Ｈ5 等のアルキル基）で表せるものであり、予め水
（触媒としての塩酸などを添加）を加え、加水分解させ
た溶液としても用いられる。
【００２３】さらにコーティング剤に加えられる塩化錫
は、塩化第一錫（ＳｎＣｌ2 ）、塩化第二錫（ＳｎＣｌ
4 ）、或いはそれらの混合物であってもよく、無水物で
も水和物でも用いることができる。
は、塩化第一錫（ＳｎＣｌ2 ）、塩化第二錫（ＳｎＣｌ
4 ）、或いはそれらの混合物であってもよく、無水物で
も水和物でも用いることができる。
【００２４】さらにコーティング剤にはメラミン、メラ
ミン樹脂が加えられる。詳しくはメラミン単体、或いは
メラミンとホルムアルデヒドを反応させて得られるメチ
ロールメラミン、ジメチロールメラミンなどの付加体、
さらにこれらの重縮合体であるメラミン樹脂である。
ミン樹脂が加えられる。詳しくはメラミン単体、或いは
メラミンとホルムアルデヒドを反応させて得られるメチ
ロールメラミン、ジメチロールメラミンなどの付加体、
さらにこれらの重縮合体であるメラミン樹脂である。
【００２５】上述した各成分を単独またはいくつかを組
み合わせてコーティング剤に加えることができ、さらに
コーティング剤のバリア性を損なわない範囲で、分散
剤、安定化剤、粘度調整剤、着色剤など公知の添加剤を
加えることができる。
み合わせてコーティング剤に加えることができ、さらに
コーティング剤のバリア性を損なわない範囲で、分散
剤、安定化剤、粘度調整剤、着色剤など公知の添加剤を
加えることができる。
【００２６】コーティング剤の塗布方法には、通常用い
られる、ディッピング法、ロールコーティング法、スク
リーン印刷法、スプレー法など従来公知の手段が用いら
れる。被膜の厚さはコーティング剤の種類によって異な
るが、乾燥後の厚さが約０．０１〜１００μｍの範囲で
あればよいが、５０μｍ以上では、膜にクラックが生じ
やすくなるため、０．０１〜５０μｍとすることが望ま
しい。
られる、ディッピング法、ロールコーティング法、スク
リーン印刷法、スプレー法など従来公知の手段が用いら
れる。被膜の厚さはコーティング剤の種類によって異な
るが、乾燥後の厚さが約０．０１〜１００μｍの範囲で
あればよいが、５０μｍ以上では、膜にクラックが生じ
やすくなるため、０．０１〜５０μｍとすることが望ま
しい。
【００２７】さらに本発明のガスバリア性積層フィルム
上には、必要に応じてヒートシール可能な熱可塑性樹脂
層、印刷層を被膜層上または基材２上に積層することが
でき、また複数の樹脂を接着層を介して積層することも
可能である。
上には、必要に応じてヒートシール可能な熱可塑性樹脂
層、印刷層を被膜層上または基材２上に積層することが
でき、また複数の樹脂を接着層を介して積層することも
可能である。
【００２８】本発明のガスバリア性積層フィルムを具体
的な実施例を挙げて説明する。
的な実施例を挙げて説明する。
【００２９】〔実施例１〕厚さ１２μｍのポリエチレン
テレフタレート（以下、ＰＥＴとする）を基材とし、そ
の上面にＳｉＯ（酸化珪素）を蒸着源とし、電子線加熱
方式による真空蒸着法により、膜厚４００Åの薄膜層を
形成し、さらに下記組成を組み合わせ、所定の割合に混
合してなるコーティング剤をバーコーターにより塗布し
乾燥機で１２０℃、１分間乾燥させ、膜厚約０．３μｍ
の被膜を形成しガスバリア性積層フィルムを得た。
テレフタレート（以下、ＰＥＴとする）を基材とし、そ
の上面にＳｉＯ（酸化珪素）を蒸着源とし、電子線加熱
方式による真空蒸着法により、膜厚４００Åの薄膜層を
形成し、さらに下記組成を組み合わせ、所定の割合に混
合してなるコーティング剤をバーコーターにより塗布し
乾燥機で１２０℃、１分間乾燥させ、膜厚約０．３μｍ
の被膜を形成しガスバリア性積層フィルムを得た。
【００３０】（コーティング剤の成分） （Ａ）テトラエトキシシラン〔Ｓｉ（ＯＣ2 Ｈ5 ）4 ：
以下、ＴＥＯＳとする〕１０．４ｇに塩酸（０．１Ｎ）
４．５ｇを加え、３０分間攪拌し加水分解させた固形分
３ｗｔ％（ＳｉＯ2 換算）に酢酸エチルで希釈した加水
分解溶液。 （Ｂ）テトラブトキシジルコニウム〔Ｚｒ（ＯＣ
4 Ｈ9 ）〕の固形分３ｗｔ％（ＺｒＯ2 換算）の酢酸エ
チル溶液。 （Ｃ）イソホロンジイソシアネート（ＩＤＰＩ）の３ｗ
ｔ％酢酸エチル溶液。 （Ｄ）テトラメチルキシレンジイソシアネート（ＴＭＸ
ＤＩ）３ｗｔ％酢酸エチル溶液。 （Ｅ）塩化第一錫（無水物）の３ｗｔ％の酢酸エチル溶
液。 （Ｆ）メラミンの３ｗｔ％の酢酸エチル溶液。 （Ｇ）ホルマリン３ｗｔ％水溶液
以下、ＴＥＯＳとする〕１０．４ｇに塩酸（０．１Ｎ）
４．５ｇを加え、３０分間攪拌し加水分解させた固形分
３ｗｔ％（ＳｉＯ2 換算）に酢酸エチルで希釈した加水
分解溶液。 （Ｂ）テトラブトキシジルコニウム〔Ｚｒ（ＯＣ
4 Ｈ9 ）〕の固形分３ｗｔ％（ＺｒＯ2 換算）の酢酸エ
チル溶液。 （Ｃ）イソホロンジイソシアネート（ＩＤＰＩ）の３ｗ
ｔ％酢酸エチル溶液。 （Ｄ）テトラメチルキシレンジイソシアネート（ＴＭＸ
ＤＩ）３ｗｔ％酢酸エチル溶液。 （Ｅ）塩化第一錫（無水物）の３ｗｔ％の酢酸エチル溶
液。 （Ｆ）メラミンの３ｗｔ％の酢酸エチル溶液。 （Ｇ）ホルマリン３ｗｔ％水溶液
【００３１】 （コーティング剤の組成） 実施例 Ｎｏ．１ （Ａ）／（Ｃ） 配合比（ｗｔ％）６０／４０ 実施例 Ｎｏ．２ （Ａ）／（Ｄ） 配合比（ｗｔ％）７０／３０ 実施例 Ｎｏ．３ （Ａ）／（Ｄ）／（Ｅ）配合比（ｗｔ％）７０／３０／２ 実施例 Ｎｏ．４ （Ａ）／（Ｄ）／（Ｆ）配合比（ｗｔ％）７０／３０／２ 実施例 Ｎｏ．５ （Ａ）／（Ｄ）／（Ｇ）配合比（ｗｔ％）７０／３０／１ 実施例 Ｎｏ．６ （Ｂ）／（Ｄ） 配合比（ｗｔ％）７０／３０ 比較例 Ｎｏ．１ コーティング無し 配合比（ｗｔ％）
【００３２】得られたガスバリア性積層フィルムのガス
バリア性を酸素透過度及び水蒸気透過度の測定により評
価した。酸素バリア性を２５℃−１００％ＲＨ雰囲気下
で酸素透過度測定装置（モダンコントロール社製 ＭＯ
ＣＯＮ ＯＸＴＲＡＮ １０／４０Ａ）を用いて測定
し、水蒸気バリア性を４０℃−９０ＲＨ雰囲気下で水蒸
気透過度測定装置（モダンコントロール社製 ＰＥＲＭ
ＡＴＲＡＮ Ｗ６）を用いて測定し、その結果を表１に
示す。なお比較例としてコーティングなしの蒸着膜のみ
のフィルムも作製し同様に測定評価した。
バリア性を酸素透過度及び水蒸気透過度の測定により評
価した。酸素バリア性を２５℃−１００％ＲＨ雰囲気下
で酸素透過度測定装置（モダンコントロール社製 ＭＯ
ＣＯＮ ＯＸＴＲＡＮ １０／４０Ａ）を用いて測定
し、水蒸気バリア性を４０℃−９０ＲＨ雰囲気下で水蒸
気透過度測定装置（モダンコントロール社製 ＰＥＲＭ
ＡＴＲＡＮ Ｗ６）を用いて測定し、その結果を表１に
示す。なお比較例としてコーティングなしの蒸着膜のみ
のフィルムも作製し同様に測定評価した。
【００３３】
【表１】
【００３４】これらから蒸着フィルムにコーティング剤
を塗布したもの実施例（Ｎｏ．１〜６）は酸素バリア性
及び水蒸気バリア性はともに、コーティング無しの比較
例Ｎｏ．１に比べ高く、高ガスバリア性を示した。
を塗布したもの実施例（Ｎｏ．１〜６）は酸素バリア性
及び水蒸気バリア性はともに、コーティング無しの比較
例Ｎｏ．１に比べ高く、高ガスバリア性を示した。
【００３５】〔実施例２〕実施例１のＮｏ．２、Ｎｏ．
４の積層フィルムのコーティング面を接着面としてポリ
オール−イソシアネート系接着剤にて未延伸ポリプロピ
レン（ＣＰＰ、３０μｍ）フィルムと接着しラミネート
フィルムを作製しガスバリア性積層フィルムを得た。同
様に酸素透過度及び水蒸気透過度の測定と接着強度の測
定を行い評価した。接着強度の測定は、１５ｍｍ幅、Ｔ
字剥離、３００ｍｍ／ｍｉｎの条件で行った。その結果
を表２に示す。なお比較例Ｎｏ．２として、蒸着膜を施
されていないＰＥＴフィルムにコーティングし膜厚０．
３μｍの被膜を形成した積層フィルムについても同様に
測定評価した。
４の積層フィルムのコーティング面を接着面としてポリ
オール−イソシアネート系接着剤にて未延伸ポリプロピ
レン（ＣＰＰ、３０μｍ）フィルムと接着しラミネート
フィルムを作製しガスバリア性積層フィルムを得た。同
様に酸素透過度及び水蒸気透過度の測定と接着強度の測
定を行い評価した。接着強度の測定は、１５ｍｍ幅、Ｔ
字剥離、３００ｍｍ／ｍｉｎの条件で行った。その結果
を表２に示す。なお比較例Ｎｏ．２として、蒸着膜を施
されていないＰＥＴフィルムにコーティングし膜厚０．
３μｍの被膜を形成した積層フィルムについても同様に
測定評価した。
【００３６】
【表２】
【００３７】〔実施例３〕実施例２のＮｏ．８、Ｎｏ．
９、比較例Ｎｏ．２の蒸着膜にコーティングにより被膜
を施し、さらにＣＰＰをラミネートした積層フィルムを
引張試験機を用いて所定伸率引張り試験を行った後、酸
素透過度、水蒸気透過度の測定及び可撓性の評価を行っ
た。その結果を表３に示す。
９、比較例Ｎｏ．２の蒸着膜にコーティングにより被膜
を施し、さらにＣＰＰをラミネートした積層フィルムを
引張試験機を用いて所定伸率引張り試験を行った後、酸
素透過度、水蒸気透過度の測定及び可撓性の評価を行っ
た。その結果を表３に示す。
【００３８】
【表３】
【００３９】比較例（Ｎｏ．３）の蒸着膜のみのフィル
ムは数％の伸びで引っ張りによる変形に耐えられず膜に
クラックを生じ、ガスバリア性が著しく低下したが、本
発明のガスバリア性積層フィルムは５％程度まではほと
んど劣化が認められず、その後の引っ張りによる変形に
よってもその劣化は少なく、比較例の蒸着膜単体の積層
フィルムに比べてかなりの可撓性を有している。
ムは数％の伸びで引っ張りによる変形に耐えられず膜に
クラックを生じ、ガスバリア性が著しく低下したが、本
発明のガスバリア性積層フィルムは５％程度まではほと
んど劣化が認められず、その後の引っ張りによる変形に
よってもその劣化は少なく、比較例の蒸着膜単体の積層
フィルムに比べてかなりの可撓性を有している。
【００４０】〔実施例４〕ＰＥＴフィルム（１２μｍ）
を基材として、その片面にそれぞれＡｌ2 Ｏ3 、ＳｎＯ
2 、ＭｇＯを蒸着源として電子線加熱方式により真空蒸
着法により、膜厚４００Åの薄膜層を形成し、さらにこ
の薄膜層上に実施例１のＮｏ．４のコーティング剤を用
いて、実施例１と同様に被膜を形成した実施例Ｎｏ．１
１、Ｎｏ．１２、Ｎｏ．１３について、酸素透過度及び
水蒸気透過度の測定評価を行った。なお比較例としてコ
ーティング無しのものを同様に測定評価した。 その結
果を表４に示す。
を基材として、その片面にそれぞれＡｌ2 Ｏ3 、ＳｎＯ
2 、ＭｇＯを蒸着源として電子線加熱方式により真空蒸
着法により、膜厚４００Åの薄膜層を形成し、さらにこ
の薄膜層上に実施例１のＮｏ．４のコーティング剤を用
いて、実施例１と同様に被膜を形成した実施例Ｎｏ．１
１、Ｎｏ．１２、Ｎｏ．１３について、酸素透過度及び
水蒸気透過度の測定評価を行った。なお比較例としてコ
ーティング無しのものを同様に測定評価した。 その結
果を表４に示す。
【００４１】
【表４】
【００４２】
【発明の効果】以上述べたように本発明のガスバリア性
積層フィルムは、高分子樹脂組成物からなる基材上に、
無機化合物からなる蒸着層を第１層とし、１種以上の金
属アルコキシド或いはその加水分解物と、分子中に少な
くとも２個以上のイソシアネート基を有するイソシアネ
ート化合物との混合溶液を主剤とするコーティング剤を
塗布し、加熱乾燥してなる被膜を第２層として積層して
なることにより、高いガスバリア性を有し、かつ可撓
性、耐水性、耐湿性に優れ、さらに他の樹脂と積層して
も、その強度は十分実用に耐えるものである。すなわち
高湿度雰囲気下においてもガスバリア性を損なうことな
く、食品や医薬品など内容物を劣化させることなく長期
保存を可能とするものである。また包装材料として印刷
やラミネート、製袋など後加工においてもガスバリア性
を損なうことがないとする効果を奏する。
積層フィルムは、高分子樹脂組成物からなる基材上に、
無機化合物からなる蒸着層を第１層とし、１種以上の金
属アルコキシド或いはその加水分解物と、分子中に少な
くとも２個以上のイソシアネート基を有するイソシアネ
ート化合物との混合溶液を主剤とするコーティング剤を
塗布し、加熱乾燥してなる被膜を第２層として積層して
なることにより、高いガスバリア性を有し、かつ可撓
性、耐水性、耐湿性に優れ、さらに他の樹脂と積層して
も、その強度は十分実用に耐えるものである。すなわち
高湿度雰囲気下においてもガスバリア性を損なうことな
く、食品や医薬品など内容物を劣化させることなく長期
保存を可能とするものである。また包装材料として印刷
やラミネート、製袋など後加工においてもガスバリア性
を損なうことがないとする効果を奏する。
【図１】本発明のガスバリア性積層フィルムの構成を説
明する概略断面図である。
明する概略断面図である。
１ ガスバリア性積層フィルム ２ 基材 ３ 無機蒸着層 ４ 被膜層
Claims (4)
- 【請求項１】高分子樹脂組成物からなる基材上に、無機
化合物からなる蒸着層を第１層とし、１種以上の金属ア
ルコキシド或いはその加水分解物と、分子中に少なくと
も２個以上のイソシアネート基を有するイソシアネート
化合物との混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布
し、加熱乾燥してなる被膜層を第２層として積層してな
ることを特徴とするガスバリア性積層フィルム。 - 【請求項２】前記コーティング剤に塩化錫を含むことを
特徴とする請求項１記載のガスバリア性積層フィルム。 - 【請求項３】前記コーティング剤にメラミン或いはメラ
ミン樹脂を含むことを特徴とする請求項１記載のガスバ
リア性積層フィルム。 - 【請求項４】前記コーティング剤にホルムアルデヒドを
含むことを特徴とする請求項１記載のガスバリア性積層
フィルム。
Priority Applications (9)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6064187A JPH07268115A (ja) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | ガスバリア性積層フィルム |
| EP98112455A EP0878495B1 (en) | 1993-09-30 | 1994-09-29 | Gas barrier laminated material |
| DE1994616228 DE69416228T2 (de) | 1993-09-30 | 1994-09-29 | Gasundurchläsiges Laminat |
| DE1994630927 DE69430927T2 (de) | 1993-09-30 | 1994-09-29 | Gasundurchlässiges Verbundmaterial |
| US08/314,802 US5589252A (en) | 1993-09-30 | 1994-09-29 | Gas barrier laminated material |
| EP94307120A EP0646611B1 (en) | 1993-09-30 | 1994-09-29 | Gas barrier laminated material |
| CA 2133399 CA2133399C (en) | 1993-09-30 | 1994-09-30 | Gas barrier laminated material |
| KR1019940024987A KR0172625B1 (ko) | 1993-09-30 | 1994-09-30 | 기체장벽 적층재 |
| US08/468,749 US5645923A (en) | 1993-09-30 | 1995-06-06 | Gas barrier laminated material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6064187A JPH07268115A (ja) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | ガスバリア性積層フィルム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07268115A true JPH07268115A (ja) | 1995-10-17 |
Family
ID=13250814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6064187A Pending JPH07268115A (ja) | 1993-09-30 | 1994-03-31 | ガスバリア性積層フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07268115A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998014328A1 (fr) * | 1996-10-03 | 1998-04-09 | Teijin Limited | Film de decollage |
| US7229703B2 (en) | 2003-03-31 | 2007-06-12 | Dai Nippon Printing Co. Ltd. | Gas barrier substrate |
| JP2019123212A (ja) * | 2018-01-19 | 2019-07-25 | 凸版印刷株式会社 | ガスバリア積層体 |
-
1994
- 1994-03-31 JP JP6064187A patent/JPH07268115A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998014328A1 (fr) * | 1996-10-03 | 1998-04-09 | Teijin Limited | Film de decollage |
| US6057041A (en) * | 1996-10-03 | 2000-05-02 | Teijin Limited | Polyester releasing film containing a silicone resin layer |
| US6333117B1 (en) | 1996-10-03 | 2001-12-25 | Teijin Limited | Releasing film comprising a polyester film and a cured silicone resin layer |
| US7229703B2 (en) | 2003-03-31 | 2007-06-12 | Dai Nippon Printing Co. Ltd. | Gas barrier substrate |
| JP2019123212A (ja) * | 2018-01-19 | 2019-07-25 | 凸版印刷株式会社 | ガスバリア積層体 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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