WO1993020553A1 - Biaxially oriented base film and floppy disk for high-density magnetic recording made therefrom - Google Patents

Biaxially oriented base film and floppy disk for high-density magnetic recording made therefrom Download PDF

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Takao Chuujou
Ieyasu Kobayashi
Hisashi Hamano
Masami Etchu
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Description

明 細 書
二軸配向ベースフィ ルムおよびそれを用いた
高密度磁気記録用フロッ ビーディ スク 本発明は高密度磁気記録フロッビーディスク用二軸配向べ一スフ ィルムおよびそれを用いた高密度磁気記録用フロッビ一ディスクに 関する。 さらに詳しく は、 寸法安定性、 平面性に優れた二軸配向ポ リエチレン一 2 , 6—ナフ夕 レンジカルボキシレー トベースフィ ノレム およびそれを用いた高密度磁気記録用フロッ ビーディ スクに関する。 背景技術
従来、 フロッビーディスク ドライブ装置に用いる磁気記録媒体で は、 トラッキングミスの防止の点から、 基材フィ ルムとして温度膨 張率および湿度膨張率の比較的小さいポリエチレンテレフタレート 二軸配向フィルムが用いられている。 しかしながら、 このような基 板フィルムからなるフロッビーディスクでも高温高湿下で使用する と磁気記録媒体の寸法変化から磁気へッ ドと記録トラックのずれが 起こり、 トラッキングミスが発生する。 さらに甚だしい場合には記 録媒体がカールあるいは反りを生じ、 磁気記録へッ ドと均一なコン タク トを保つことができず、 保磁力や再生出力の低下を生じたり、 記録媒体に著しい摩耗を生じる場合もある。 また、 このような記録 媒体に永久歪が生ずる場合に限らず、 環境変化によって記録媒体に 可逆的な寸法変化が起こった場合でも、 記録媒体の面上に記録され たトラックと磁気へッ ドとのズレを生じ、 トラッキングミスが発生 する。 例えば 4 0〜5 0で程度の高温およびノまたは約 8 0 % R H 程度の高湿下で使用すると、 トラッキングミスが発生する。 特に低 温 ( 1 0 °C程度) ないし低湿 ( 2 0 % R H程度) の条件下で記録し たフロッピーディスクは常温 ( 2 5 °C程度) および通常の湿度 (6 0 % R H程度) 雰囲気のもとで再生すると、 トラッキングミスが発 生するという欠点があった。 このトラッキングミスによって、 出力
エンベロープの低下が起こり、 S Z N比が悪くなるという問題があ
つた。 さらに、 磁気記録の高密度化により磁気バインダー層の薄膜
化や磁気金属薄膜の使用により磁性層の薄膜化が進み、 基板フィル
ムの表面性や平面性、 厚み斑が磁気記録媒体の品質に影響するよう になってきており、 これらが適性でないと、 磁気バインダーの塗布
加工や蒸着加工時に、 磁気層の斑が発生したり、 磁気抜けが発生し、 再生時に出力低下がみられる。
さらに、 最近開発された 4メガバイ ト (M B ) 以上の高記録容量、 高密度記録のフロッビーディスクドライブでは、 磁性層の保磁力を
高めると共に磁気記録媒体の回転数も高回転となるため、 ドライブ
内が摩擦熱で高温雰囲気となり、 また磁気記録媒体の振動も大きく なる。 このため、 従来のフロッピーディスク用磁気記録媒体に比べ
高温での寸法安定性と腰の強さが要求される。 ところが二軸配向ポ リエチレンテレフタレートフィルムを基板とした場合、 耐熱性が悪
いため高温による寸法変化により磁気記録媒体の面上に記録された トラックと磁気へ、ソドのズレを生じ、 トラッキングミスが発生する c また、 回転数の増大と共にフロッピーディスクがプラッターリング を起こし、 磁気ヘッ ドとの一定条件における接触が保てず、 記録ミ スゃ再生ミスを生じる問題があつた。 発明の開示
本発明の目的は、 高密度磁気記録フロッピーディスク用二軸配向 ベースフィルムを提供することにある。
本発明の他の目的は、 高速回転においても磁気へッ ドと一定条件
における接触を保持することができ、 従って記録ミスや再生ミスを 防止できる高密度磁気記録フ口、J、 ビーディスク用二軸配向べ一スフ V イルムを提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、 高速回転においても磁気へッドと一 定条件における接触を可能とする、 フィルム面のパイブレーシヨ ン を抑えた、 そして優れた粘弾性を備えた、 ポリエチレン一2 , 6—ナ フタレンジカルボキシレー 卜からなる上記二軸配向ベースフィ ルム を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、 温湿度変化による トラッキングミス がなく、 磁気へッ ドと磁気記録媒体の接触を適正条件に保持しうる 高容量、 高密度記録のフロツビ一ディスク用二軸配向ベースフィル ムを提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、 本 明の二軸配向べ一スフイルムを 使用した高密度磁気記録用フロッビーディスクを提供することにあ 本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明から明らかとな ろう。
本発明によれば、 本発明の上記目的および利点は、 第 1に、 ( a ) ボリエチレン一 2 , 6—ナフタレンジカルボキシレー トカ、ら実 質的になり、
(b) フィルム表面の突起の高さ (h、 単位 nm) と個数が下記式 ( 1 ) 、 ( 2 ) および ( 3 )
1≤ h < 50 2 , 000〜 20 , 000個 Zmm2
... (1)
50≤h< 100 0〜2 ,000個 Zmm2
… (2)
100≤ h 0〜30 (^Zmm2
… (3) を満足し、
(c) 面配向係数 (N S) と平均屈折率 (Ή) が下記式 (4) およ び (5)
N S≥ 1.607 n- 2.434 ... (4) 1 .66 5≤ n≤ 1.675 ... (5)
を満足し、
(d) フィルム面内のある方向における、 周波数 1 1 OH z、 温度
6 0°Cでの粘弾性係数 (tan5) が 0.08以下であり、
(e) フィルム面内のある方向における、 6 0。C、 8 0%RHの雰 囲気中、 無荷重、 7 2時間熱処理時の熱収縮率が 0.05 %以 下であり、 そして 105で、 無荷重、 0.5時間熱処理時の 熱収縮率が 0.3 %以下である、
ことを特徴とする高密度磁気記録フロ ' yビーディスク用二軸配向べ 一スフイルムによって達成される。
本発明の二軸配向ベースフィルムを構成するポリエチレン一 2 , 6 —ナフタレンジカルボキシレートは、 ナフタレンジカルボン酸を主 たる酸成分とする。 従って、 少量の他のジカルボン酸成分を含有し てもよい。 またエチレングリコールを主たるグリコール成分とする。 従って、 少量の他のダリコール成分を含有してもよい。 ナフタレン ジカルボン酸以外のジカルボン酸成分としては、 例えばテレフタル 酸、 イソフタル酸、 ジフエニルスルホンジカルボン酸、 ベンゾフエ ノンジカルボン酸などの芳香族ジカルボン酸; コハク酸、 アジビン 酸、 セバシン酸、 ドデカンジカルボン酸などの脂肪族ジカルボン酸、 へキサヒ ドロテレフタル酸、 1, 3—ァダマンタンジカルボン酸など の脂環族ジカルボン酸をあげることができる。 またエチレングリコ ール以外のグリコール成分としては、 例えば 1 , 3—プロパンジォー ル、 1 , 4一ブタンジオール、 1 , 6—へキサンジオール、 ネオペン チルグリコール、 1 , 4—シクロへキサンジメタノール、 p—キシリ レングリコールなどをあげることができる。 また、 ポリマー中に安 定剤、 着色剤などの添加剤を配合することもできる。 このようなポ リエチレン一 2 , 6—ナフタレンジカルボキシレートは通常溶融重合 法によって公知の方法で製造される。 この際、 触媒などの添加剤は 必要に応じて任意に使用することができる。 ポリエチレン一 2 , 6—ナフタ レンジカルボキシレー 卜の固有粘度 は 0.45〜 0.90の範囲にあることが好ま しい。
本発明の二軸配向ベースフィ ルムは、 基本的には公知の、 あるい は従来から蓄積された製膜方法で製造できる。 例えば乾燥ポリェチ レン一 2 , 6—ナフタレンジカルボキシレー トを溶融押出し、 キャス ティ ングドラム上で急冷して未延伸フィルムを得、 さらに該未延伸 フィルムを逐次または同時二軸延伸し、 熱固定する方法で製造する ことができる。
本発明の二軸配向ベースフィ ルムの厚さは、 好ましくは 25〜7 5 zm、 さらに好ましくは 25〜 62 mの範囲にある。 もっとも、 この厚さの範囲に限定されるものではない。
本発明の二軸配向ベースフィ ルムの表面に形成された突起高さと 突起数は特定の範囲にある。 それによつて、 磁気記録用フロッ ピー ディスクとしたときに ドロップァゥ トの発生がなく、 電磁変換特性 に優れ、 またベースフィルムの取扱い性が良好となることが明らか になった。 本発明では二軸配向ベースフィルムの表面に形成された 突起の高さ (h、 単位 nm) と個数は、 下記式 (1) 、 (2) およ び (3)
1≤ h < 50 2 , 000〜 20 , 000個/ mm2
… (1)
50≤ h< 100 0〜2 ,000個/ mm2
... (2)
1 00≤ h 0〜300個ノ mm2
… (3)
を満足する。 好ましく は、 下記式 (1) -1、 (2) -1および (3)
1≤ h < 50 3 , 000〜 1 8 , 000個 Zmm2
… (1) -1 -&-
50≤h< 100 0〜200個/ mm2
… (2) - 1
100≤ h 0〜: L O O個 Zmm2
… (3) -1
を満足する。 さらに好ましくは、 下記式 (1) -2、 (2) -2およ び (3) -2
h < 50 3,000〜8,00ひ個 Zmm 2
… (1) -2
50≤h< 100 0〜: L 0 O /mm2
(2) -2
00≤ 0 00個/ mm2
(3) -2
を満足する。 特に好ましくは、 下記式 (1) -3、 (2) -3および (3) -3
1≤ h < 50 4 , 000〜 8 , 000個 Zmm2
… (1) -3
50≤h< 100 0〜50個 Zmm2
… (2) - 3
100≤ h 0~50個 Zmm2
… (3) -3
を満足する。
突起高さ (h、 nm) が 1≤ h< 50である突起物の個数が 20 , 000個 Zmm2を越えるものは、 磁気記録媒体とするときの力レン ダー処理時にロールによる突起の削れを生じ、 またフロッビーディ スクとして使用する時、 削れによるドロップアウ トが発生する。 突 起高さが 50≤ h< 100である突起物の個数が 2 , 000個 Zmm
2を越えるものは、 磁気記録媒体としたときの電磁変換特性が低下す る。 また、 1 00≤hである突起物の個数が 300個/ mm2を越え るものは、 電磁変換特性が低下し、 ドロッブアウ トが発生するとと もに、 スペーシングロスが大きくなり、 出力が不十分となる。 1≤ h < 50である突起物の個数が 2 ,000個 Zmm2より少ないと、 ベースフィルムの滑り性が劣り、 極端な場合プロッキング現象が起 き、 皺が発生するなど取扱いが極めて困難となる。 また、 磁気記録 媒体としたときの耐摩耗性に劣り、 同一トラックについて 1 ,000 万回の耐久テス トに合格できない。 ここで突起高さが h< 1である 突起物の個数は特に限定されない。
前記式 (1)、 (2) および (3) を満足する表面特性の二軸配 向ベースフィルムを得るには、 例えばポリエチレン一 2 , 6—ナフタ レンジカルボキシレー トに単独、 あるいは数種類の粒度分布の異な る不活性な固体微粒子を添加することが好ましい。 不活性固体微粒 子としては、 好ましく は (1) 二酸化ケイ素 (水和物、 ゲイ砂、 石 英などを含む) ; (2) アルミナ ; (3) S i 02分を 30重量%以 上含有するゲイ酸塩 (例えば非晶質あるいは結晶質の粘土鉱物、 ァ ルミ ノシリゲー ト (焼成物や水和物を含む) 、 温石綿、 ジルコン、 フライアッシュなど) ; (4) Mg、 Z n、 ∑ 1"ぉょび1^の酸化 物; (5) C aおよび B aの硫酸塩 ; (6) L i、 N aおよび C a のリ ン酸塩 (1水素塩や 2水素塩を含む) ; (7) L i、 N aおよ び Kの安息香酸塩 ; (8) C a、 B a、 Z nおよび Mnのテレフタ ル酸塩; (9 ) M g、 C a、 B a、 Z n、 C d、 P b、 S r、 Mn、 F e、 C oおよび N iのチタン酸塩 ; (10) B aおよび P bのク ロム酸塩; ( 11 ) 炭素 (例えばカーボンブラック、 グラフアイ ト など) ; (12) ガラス (例えばガラス粉、 ガラスビーズなど) ; (13) C aおよび Mgの炭酸塩; (14) ホタル石および (15) Zn Sが例示される。 さらに好ましくは、 二酸化ケイ素、 無水ゲイ 酸、 含水ゲイ酸、 酸化アルミニウム、 ゲイ酸アルミニウム (焼成物、 水和物などを含む) 、 燐酸 1リチウム、 燐酸 3リチウム、 燐酸ナト リ ウム、 燐酸カルシウム、 硫酸バリ ウム、 酸化チタン、 安息香酸リ チウム、 これらの化合物の複塩 (水和物を含む) 、 ガラス粉、 粘土 -&-
(カオリン、 ベントナイ ト、 白土などを含む)、 タソレク、 炭酸カル シゥムなどが例示される。 特に好ましくは、 二酸化ケイ素、 酸化チ タン、 炭酸カルシウムが挙げられる。
ポリエチレン一 2 , 6—ナフタレンジカルボキシレー 卜への不活性 な固体微粒子の添加は、 ポリエチレン一 2 ,6—ナフタレンジカルボ キシレー トの重合前、 重合反応中、 また重合終了後ペレタイズする 時に押出機中で、 さらにシート状に溶融押出する際に押出機中で、 実施することができる。 これらのうちでは、 重合前に添加するのが 分散性の点から好ましい。 本発明の二軸配向ベースフィルムのフィ ルム表面特性を得る手段はポリエチレン一 2 , 6—ナフタレンジカル ボキシレートに不活性な固体徵粒子を添加する上記方法だけに限定 されない。 例えば重合時にリン成分もしくは必要なその他の添加剤 を加えて重合系内で微粒子を生成させフィルム中に存在せしめる方 法がある。 また、 重合時にリン成分を加えて重合して得られたポリ マーと重合中不活性固体微粒子を加えて得られたポリマーとをブレ ンドする方法なども好ましく用いられる。
本発明の二軸配向ポリエチレン一 2 , 6—ナフタレンジカルボキシ レートベースフィルムは、 さらに、 面配向係数 (N S) と平均屈折 率 (n) が下記式 (4) および (5)
N S≥ 1.60 Ί η - 2.434 ... (4)
1.665≤ή≤ 1 .6 75 ... (5) を潢足する。
面配向係数 (N S) とは下記式 (Α) で定義され、 平均屈折率 (五) とは下記式 (Β) で定義される。
N S =n^2 n sr - n2 … (A) η χ -1- n y + n
n = (B)
3
また、 nxは二軸配向ベースフィルムの機械方向の屈折率を表わし、 nyは機械方向と直交する方向の屈折率を表わし、 nzはフィルム厚 み方向の屈折率を表わす。
本発明において、 N Sと nとの好ましい関係は、 下記式 (4) -1
N S 607 η— 2.430 -. (4) - で表わされる。
本発明の二軸配向ベースフィ ルムは、 また、 フィルム面内にある 任意の方向における、 周波数 1 10 Η ζ、 温度 6 Ot)での粘弾性係 数 (tanS) が 0.08以下であり、 好ましく は 0.06以下である。 上記式 (4) (好ま しく は (4) -1)、 式 (5) を満足し且つ上 記粘弾性係数を有することにより、 本発明の二軸配向ベースフィル ムは、 フロッ ピーディスクとしたときの腰の強さが適当なため磁気 へッ ドへの追従性が良好で、 へッ ド振動も少なく出力の安定した磁 気記録媒体を与えることができる。 また、 温度膨張係数および湿度 膨張係数が低く、 バラツキも少なく、 トラッキングミスのない良好 な磁気記録用フロ ッ ピーディ スクを与える。 換言すれば、 上記式
(4) 、 (5) および上記粘弾性係数を同時に満足しない場合には、 フロッピーディスクがプラッターリ ングを起こし、 磁気へッ ドとの 一定条件における接触が保てず、 記録ミスや再生ミスを生じる。 ま た、 温度膨張係数および湿度膨張係数が高くなり、 そのバラツキも 大きくなる。 さらに、 たるみ不良のため磁性層の斑や磁気抜けが発 生し、 再生時に出力変動が発生する。
特に、 ϊϊが 1.675を超える場合、 フロッ ピーディスクとしたと き腰が弱いため、 フラッターリ ングを起こし、 磁気ヘッ ドとの一定 条件における接触が保てず、 記録ミスや再生ミスを生じる。 また、 ベースフィルムの厚み斑も悪いため、 磁気記録媒体としたときの磁 性層の斑や磁気抜けも発生する。 一方、 ήが 1.665より小さい場 合、 温度膨張係数および湿度膨張係数の面内パラツキが大きく、 ま た熱収縮率が高いため、 トラッキングミスが発生し易い。
上記式 (4)、 (5) および上記粘弾性係数を同時に満足する本 発明の二軸配向ベースフィルムを得るには、 延伸条件および熱固定 温度を適宜選択する。 具体的には延伸方法は公知の方法でよい。 延 伸温度は通常 80〜140でであり、 延伸倍率は縱方向に 2.5〜5 0倍、 好ましくは 2.8〜 4.8倍、 さらに好ましくは 3.0〜 4.0 倍、 横方向に 2.5〜 5.0倍、 好ましくは 2.8〜 4.3倍、 さらに 好ましくは 3.0〜4.0倍を選択する。 得られた二軸配向フィルム を 180〜260°C、 好ましくは 180〜 250でで 1〜; L 00秒 熱固定する。 これら延伸条件および熱固定温度を適宜選択すること によって目的とするフィ ルムが得られる。 しかし、 本発明の二軸配 向ベースフィルムの製造法は、 このような方法に限られない。 延伸 は一般的な口一ルゃステンターを用いて縦横同時に行つてもよく、 また縦 ·横方向または横,縦方向に逐次行ってもよい。
本発明の二軸配向ベースフィルムは、 さらにその面内の任意のあ る方向において 60°C · 80%RHの雰囲気中で 72時間無荷重で 熱処理したときの熱収縮率が 0.05 %以下であることが必要である。 好ましくは 0.03%以下、 さらに好ましくは 0.02%以下である。 フィルムのこの熱収縮率が 0.05%を越えると、 高密度磁気記録媒 体として、 高温高湿下で放置された場合、 磁気ヘッ ドと記録トラッ クのずれが起こり、 トラッキングミスが発生したり、 記録媒体が力 —ルあるいは反りを生じ、 磁気記録へッ ドと均一なコンタク トを保 つことができず、 保磁力や再生出力の低下を生じたり、 磁気記録媒 体に著しい摩耗を生じる。 60で、 80%RH、 72時間の熱収縮 率を 0.05 %以下とすることは、 延伸後においてフィルムに熱処理 を施すことにより達成できる。 熱処理温度は 15 Θ〜 240 C程度 である。 熱処理中はフィルムに加える張力を極力低くすることが好 ましく、 フィ ルムの平坦性が保てる範囲で収縮させてもよい。 ただ し、 熱処理温度をあまり上げ過ぎると、 機械的特性が悪化する結果 となり、 また磁気テープ加工工程でのすりキズ発生が多く なり、 そ の削れ粉が磁気テープの磁性面に付着して、 ドロップァゥ 卜の原因 となる。 また熱処理温度を上げ過ぎることにより温度膨張係数およ び湿度膨張係数が高くなり過ぎ好ま しくない。 該熱収縮率を下げる 別の手段としては、 速度差を持った 2つのロール間にフィルムを通 し、 ポリエチレン一 2 , 6—ナフタレンジカルボキシレー トのガラス 転移温度 (T g ) 以上の温度をかけて弛緩処理をすることがあげら れる。 さらに別の手段として、 エージング処理を施すことをあげる こともできる。 エージング処理は 4 0〜 7 0。C程度でフィルムロー ルのまま、 理想的にはディスクに近いスリ ッ トされたフィルム (シ ート) のまま、 長時間 (1 0〜 2 0 0時間) 低緊張下で処理するこ とにより行なわれる。 これらの熱処理やエージング処理の条件はフ ィルムの低温寸法安定性を比較しながら選択するとよい。
本発明の二軸配向ベースフィルムは、 さらに、 その面内の任意の ある方向において 1 0 5 °Cで 3 0分間無荷重下で熱処理したときの 熱収縮率が 0 . 3 %以下である必要がある。 好ましくは 0 . 2 %以下、 さらに好ましくは 0 . 1 %以下である。 この熱収縮率が 0 . 3 %を越 えると、 高温雰囲気でフロッピーディスグドライブを使用するとき、 特に 4 M B以上の高密度、 高容量のフロッビーディスク ドライブで 磁気記録媒体を使用するとき、 ドライブ内の高温雰囲気で磁気記録 媒体の寸法変化が起こり、 磁気記録媒体の面上に記録されたトラッ クと磁気へッ ドとのズレで、 トラッキングミスが発生する。 さらに 甚だしい場合には記録媒体がカールあるいは反りを生じ、 磁気記録 へッ ドと均一なコンタク トを保つことができないため保磁力や再生 出力の低下を生じる。 1 0 5 、 3 0分の熱収縮率を下げる手段と して、 通常、 上記フィルム延伸後の熱処理温度範囲内で熱処理温度 条件を適宜選択する方法が用いられるが、 特にこの方法に限定され るものではない。
本発明の二軸配向ベースフィルムは、 さらに、 その面内のあらゆ る方向において温度膨張係数の差が 8 X 10-6ノで以下であり、 ま た湿度膨張係数の差が 4 X 1 0-6Z%RH以下にあることが好まし い。 温度膨張係数および湿度膨張係数を調整する手段としては、 通 常、 延伸条件および熱固定温度を適宜選択する方法が用いられる。 延伸方法は公知の方法でよい。 延伸温度は通常 80〜140でであ り、 延伸倍率は縱方向に 2.5〜5.0倍、 好ましくは 2.8〜4.3 倍、 さらに好ましくは 3.0〜4.0倍、 横方向に 2.5〜5.0倍、 好ましくは 2.8〜 4.3倍、 さらに好ましくは 3.0〜 4.0倍であ る。 得られた二軸配向フィルムを 180〜260 、 好ましくは 1 80〜 240でで 1〜 100秒熱固定する。 かく して、 本発明の温 度 ·湿度膨脹によるトラックずれの小さい二軸配向ベースフィルム が得られる。 また、 温度 ·湿度膨張係数の面内異方性を小さくする ことにより、 トラックずれをさらに小さく抑えることができ、 広い 温度'湿度範囲での使用が可能となる。 この二軸配向ベースフィル ムにより記録密度が高密度化された磁気記録用フロッビーディスク が得られる。 該ベースフィルムはフィルムの延伸熱処理に際し、 ボ ーィングを抑制することにより達成できる。
本発明の二軸配向ベースフィルムは、 好ましくはフィルムのたる みが 15 mm以下であり、 より好ましくは 1 Omm以下である。 フ ィルムのたるみが 15 mmを越えるものは、 磁気バインダ一の塗布 加工時や蒸着加工時に、 磁性層の斑が発生したり、 磁気抜けが発生 したり、 再生時に出力低下がみられるようになる。 たるみを小さく する手段としては、 例えば延伸、 熱処理後の二軸配向フィルムをガ ラス転移点近くの温度で、 冷却する方法をあげることができる。 こ のときの冷却温度はフィルムのたるみを比較しながら調整するとよ い。
本発明の二軸配向ベースフィルムは、 好ましくはフィルムの厚み 斑が 4%以下である。 より好ましく は 3%以下、 特に好ま しく は 2 %以下である。 フィルムの厚さ斑が 4%を越えるものは、 磁気記録 層の高密度薄膜化にともない、 磁気バイ ンダ一の塗布加工時や蒸着 加工時に、 磁性層の斑が発生したり、 磁気抜けが発生したり、 再生 時に出力変動がみられることがある。 また厚み斑が大きいためスぺ 一シングロスが大きく なり出力が不十分となり易い。 厚み斑を小さ くする手段としては、 ダイスのリ ッブ間隔の調整または該リ ッブ温 度の調整、 縦および横延伸倍率 ·延伸温度の調整などが挙げられる。 縦および横方向の厚み斑のパターンを見ながら調整するのが好まし い。
本発明の二軸配向ベースフィルムはその両表面上に磁性層を形成 した高密度磁気記録用フロッビーディスクとして好適に用いられる。 例えばァー F e2Os、 C o含有ァー F e 203、 微細針状鉄粉ゃバ リウムフユライ ト粉末などの公知の強磁性粉体を塗設せしめること によって、 また例えば C o、 N i、 C r、 F eまたはこれらの合金 などの強磁性体を真空蒸着、 スパッタ、 イオンブレーティ ング、 C . V . D (Chemical Vapour Deposition)、 または無電解メツキなどの 方法によって形成することができる。 実施例
以下、 実施例を掲げて本発明をさらに説明する。
なお、 本発明における種々の物性値および特性は以下の如く して 測定したものであり、 かつ定義される。
(1) 表面突起数
WYKO社製非接触三次元粗さ計 (TOP O— 3 D) を用いて測 定倍率 40倍、 測定面積 242 mx 239 m (0.058mm2 ) の条件にて測定を行う。 突起解析によりフィルム表面平均粗さか らの表面突起の高さと突起個数のヒストグラム図を得、 該ヒス トグ ラム図から特定の突起高さ範囲毎の個数を読み取り、 同一フィルム 表面上 5回測定した突起数を積算し、 単位面積 (1mm2) あたりの 突起数に換算する。
(2) 屈折率
神崎製紙 (株) 製分子配向計 MO A— 2001 Aを用いて配向度 を測定し、 同時にナトリゥム D線 (589 nm) を光源として、 ァ ッべ屈折計を用いて屈折率を測定し、 配向度と屈折率の相関グラフ を作成し、 ァッべ屈折計で測定できない値の大きい屈折率は該相関 グラフより求める。
(3 ) 熱収縮率
60で · 8ひ%RHに設定された恒温恒湿槽の中に、 あらかじめ 正確な長きを測定した長さ約 30 em、 巾 l cmのサンブルフィル ムを無荷重で入れ、 72時間熱処理し、 その後恒温恒湿槽よりサン ブルを取り出し、 室温に戻してからその寸法の変化を読み取る。 熱 処理前の長さ (L0) と熱処理による寸法変化量 (ΔΙ より、 次式 で熱収縮率を求める。 熱収縮率 100 (%)
Figure imgf000016_0001
また、 105で、 30分の熱収縮率は上記恒温槽の設定温度を 1 05eCにし、 30分間熱処理する以外は、 上記 60での熱収縮率測 定と同様にして熱収縮率を求める。
(4) 温度膨張係数
真空理工社製熱機械分析装置 TM— 3000を恒温恒湿槽内に置 き測定を行う。 フィルムの任意の箇所を起点として円周方向に角度 30度づっ計 12力所サンプリングを行う。 このときの原サンブル 寸法は、 長さ 15mm、 巾 5 mmである。 測定サンブルは予め所定 の条件 (例えば 80。C ' 120分) で熱処理を施し、 このサンブル を試験機に取り付け、 温度 20で ·湿度 60%RH (相対湿度) と 温度 40で ·湿度 60 %における寸法変化を読み取ることによって、 温度膨張係数を測定し、 1 2力所のサンブルの最大値と最小値の差 求める。
(5) 湿度膨張係数
温度膨張係数を求める場合と同様に真空理工社製熱機械分析装置 TM— 3000を用い、 フィルムの任意の箇所を起点として円周方 向に角度 30度づっ計 1 2力所温度膨張係数の測定と同一サイズで サンプリ ングを行う。 温度 4 CTC ·湿度 90%RH (相対湿度) の 条件で予め処理を施したサンブルを試験機に取り付け、 温度 20°C •湿度 30%RHと温度 20eC ·湿度 70%RHの間における寸法 変化を読み取ることによって、 湿度膨張係数を測定し、 1 2力所の サンブルの最大値と最小値の差を求める。
(6) トラッキングずれテス ト (温度変化)
トラッキングずれテス トとしては次のような方法を用いる。 磁性 層を塗布し、 カレンダーロールを施して外径 20 cmで内径 3.8 c mのディスク状に打ち抜いたフロッ ビーディスクを記録再生装置に より記録再生を行う。 シー トレコーダ一は 600 r pmで回転し、 磁気へッ ドの位置はディスクの中心より 8 c mとする。 トラックの 幅は 300 m、 へッ ドの材質はフエライ トを使用する。 フロッピ —には 1 MH zの信号を温度 1 5°C ·湿度 60%RH (相対湿度) の雰囲気で記録し、 そのときの最大出力と磁気シー トの出力ェンべ ローブを測定する。 次に雰囲気温度を 40eC、 湿度 60%RHにな るように維持して、 その温度における最大出力と出力エンベロープ を調べ、 温度 15°C ·湿度 60%RHの時の出力エンベロープと温 度 40°C ·湿度 60%RHの時の出力エンベロープを比較して、 ト ラッキングの状態を判定する。 この差が小さいほど、 優れたトラッ キング特性を有している。 この差が 3 d B以上になると、 トラツキ ングが悪く、 評価としては Xであり、 3 d B以内のものは〇として 評価する。
(7) トラッキングずれテス ト (湿度変化) 前項トラッキングずれテストと同様にして温度 25で ·湿度 20 %RH (相対湿度) の雰囲気で記録し、 さらに雰囲気温度を 25で •湿度 70%RHに保持し、 温度 25°C ·湿度 20%RHの時の出 力エンベロープと温度 25 °C ·湿度 60 %R Hの時の出力ェンベロ ーブを比較する。 前項と同様にトラッキングの良好性を評価する。
(8) 厚み斑
アンリッ社製連続フィルム厚み測定装置 (電子マイクロメータ一) を使用してフィルム縱方向および横方向に各々 50mm巾、 3m長 にサンブリングしたフィルムの厚みパターンをレコーダーに記録す る。 得られた 3m長さの厚みパターンの最高の山 (最大値) と最深 の谷 (最低値) から標高差を読み取り、 次式により厚み斑 (%) を 算出する。 厚み斑 =フィ ル r (平均 )x l 0 0 (%)
( 9 ) たるみ
lm巾にロール巻きにしたフィル厶を速度 3mZm i n、 張力 2 k gで 1 ,000 mmの間隔で設置した 2本の平行したフリーロール 上を走行させ、 2本のロール間の中央位置でフィルム端部のたるみ 長さ (mm) をスケールで読み取る。
(10) 平均信号振幅
J I S C 6291に準じて測定。 初期の値と同一トラックに ついて 1000万回パスの耐久テスト後の値を求め、 規定値に対し て合格、 不合格を判定する。
(11) tang
T0Y0 BALDWIN CO., LTD. 製動的粘弾性測定機 RHEOVIBRON DDV-I I - C を用い、 下記条件にてフィルムの tanSを測定する。
(測定条件) 周波数 : 110H z
昇温速度 : 1で m i n サンブル巾 : 5 mm
チャ ック : 40 mm
実施例 1
平均粒径 0.5 mの炭酸カルシウム微粒子を 0.3重量%含有し てなる固有粘度 0.62 d 1 Zg (オルソクロロフヱノールを溶媒と して用い、 2 5°Cで測定した値) のポリエチレン一 2 , 6—ナフタレ ンジカルボキシレート (ホモポリマー) のべレッ トを 1 7 0 °Cで 4 時間乾燥した。 該ポリエチレン一 2 , 6—ナフタレンジカルボキシレ —トを 3 00eCで溶融押出し、 6 0°Cに保持したキャスティ ングド ラム上で急冷固化せしめて厚み約 1 00 0 mの未延伸フィルムを 得た。 該未延伸フィルムを縱方向に 1 3 0°Cで 3.6倍、 引続いて横 方向に 1 35でで 3.8倍、 逐次二軸延伸を施し、 続いて 2 3 0 で 30秒間熱処理をした後、 1 00でで 1 5秒間冷却し、 巻取った。 このようにして厚み 7 5 μ mの二軸配向ポリエチレン一 2 , 6—ナフ 夕レンジカルボキシレートフィルムを得た。
続いて、 この二軸配向フィルムの両面に下記組成の磁性塗料を 1 //mの厚さに塗布した。
(磁性塗布液)
7— F e 203 2 00重量部 塩化ビニ一ルー酢酸ビニール共重合樹脂 30重量部
(U C C製 V AG H)
ポリウレタン 20重量部
(日本ポリウ レタン工業製 P P— 8 8)
ィソシァネー ト化合物 40重量部
(日本ポリウレタン工業製コロネ一ト H L)
カーボン (平均サイズ 0.5 2 0重量部 ジメチルシクロキサン 2重量部
トルエン 7 0重量部 メチルェチルケトン 70重量部 シク口へキサノン 7 0重量部
上記塗料をボリエチレン一 2 . 6—ナフタレンジカルボキシレー トフ イルム上に塗布したのちに、 カレンダーロール処理を施した。 この 後、 外径 2 0 c mで内径 3 . 8 c mに切り抜き、 フロッ ピーディスク た o
得られたフィルムおよびフロツビ一ディスクの特性を表 1に示す。 この表から明らかなように表面突起高さの分布が適正範囲にあるた め、 ベースフィルムの取扱い性が良好で、 ドロップアウトの発生も ない。 また磁気へッ ドの追従性も良好でトラッキングミスも改善さ t 高温高湿雰囲気においても磁気ディスクの記録再生などが可能 であり、 使用中の寸法変化による記録、 再生ミスもない。 さらにべ 一スフィルムのたるみと厚み斑が良好なため磁性層の斑がなく、 出 力の安定した磁気記録媒体を得ることができた。
実施例 2
実施例 1における不活性固体微粒子の代わりに、 平均粒径 0 . 2 mのシリ力微粒子を 0 . 1重量%、 平均粒径 0 . 5 # mの炭酸カルシ ゥム微粒子を 0 . 3重量%添加した以外は実施例 1と同様にして未延 伸フィルムを得、 該未延伸フィルムを速度差をもった 2つのロール 間で 1 2 5 °Cの温度で縦方向に 4 . 2倍延伸し、 さらにテンターによ つて横方向に 4 . 2倍延伸し、 その後 2 1 5でで 3 0秒間熱処理をし、 続いて実施例 1と同様にフィルムを冷却した。 このようにして厚み 7 5 mの二軸配向フィルムを得、 実施例 1と同様にして磁性塗料 を塗布しフロッピーディスクを得た。 この結果を表 1に示す。 実施 例 1と同様、 良好な結果が得られた。
実施例 3
実施例 1における不活性固体微粒子の代わりに、 平均粒径 0 -ら β mの力オリン微粒子を 0 . 1 5重量%添加した以外は実施例 1と同様 にして未延伸フィルムを得、 該未延伸フィルムを実施例 2と同様に 縦横方向に延伸し、 熱固定処理をし、 該フィルムを冷却した。 さら に 100eCに加熱されたオーブンにより浮遊熱処理を実施し、 これ により 0.3%弛緩処理した。 このようにして厚み 75 //mの二軸配 向フィルムを得、 実施例 1と同様にして磁性塗料を塗布し、 フロッ ビーディスクを得た。 この結果を表 1に示す。 特に 60 C、 80% RHの熱収縮率が低く寸法安定性に優れており、 その他品質も実施 例 1と同様、 良好な結果が得られた。
実施例 4
実施例 1における不活性固体微粒子の代わりに、 平均粒径 0.25 / mの球状シリカ微粒子を 0 ,25重量%添加した以外は実施例 1と 同様にして未延伸フィ ルムを得、 厚み 75 mの二軸配向フィ ルム およびフロッ ピーディスクを得た。 この結果を表 1に示す。 平滑で 且つ実施例 1と同様フ口ツビ一ディスクとしての特性に優れた磁気 記録媒体を得ることができた。
比較例 1
平均粒径 0.3 mのシリ力微粒子を 0.2重量%含有した固有粘 度 0.65 d l ,g (オルソクロロフェノールを溶媒として用い、 2
5。Cで測定した値) のポリエチレンテレフタレー ト (PET) を 1
60°Cで乾燥した後、 280 Cで溶融押出し、 40でに保持したキ ヤスティ ングドラム上で急冷固化せしめて約 1000 mの厚みの 未延伸フィルムを得た。
この未延伸フィルムを速度差をもった 2つのロール間で 90。Cの 温度で縦方向に 3.5倍延伸し、 さらにテンターによって横方向に 3 6倍延伸し、 続いて 230°Cで 30秒間熱処理をした後、 90でで 15秒間冷却し、 巻取った。 このようにして厚み 75 mの二軸配 向ポリエチレンテレフタレートフィルムを得た。 続いて、 該ニ軸配 向フィルムに実施例 1と同様にして磁性塗料を塗布し、 フロッ ピー ディスクを得た。
この結果を表 1に示す。 PET素材のため熱収縮による寸法変化 が大きく、 特に高温高湿雰囲気でフロッ ビーディスクを使用した時、 磁気記録媒体の面上に記録されたトラックと磁気へッ ドとのズレを 生じ、 トラッキングミスが発生した。 また、 カールを起こしたため、 再生出力の低下を生じフロッピーディスクとして好ましくなかった。 比較例 2
実施例 1における不活性微粒子の代わりに平均粒径 0 . Ί fi の力 オリン微粒子を 0 . 4重量%添加した以外は実施例 1と同様にして未 延伸フィ ルムを得、 該未延伸フィルムを縱方向に 5 . 5倍延伸し、 さ らに横方向に 3 . 6倍延伸し、 その後 2 4 (TCで処理をし、 続いて実 施例 1と同様にフィルムを冷却し、 巻き取った。 このようにして得 られた厚み 7 5 i mの二軸配向ポリエチレン一 2 . 6—ナフタレンジ カルボキシレートフィルムを実施例 1と同様にして磁性塗料を塗布 し、 フロッピーディスクを得た。
この結果を表 1に示す。 ベースフィルム表面に 1 0 0 n m以上の 高い突起が散在するため電磁変換特性が低下し、 ドロップァゥ トの 発生も多く平均信号振幅も不合格となっている。 また温度および湿 度膨脹係数が高く高温高湿下での寸法安定性が大きく トラックキン グミスが発生した。 また、 フィルムのたるみ、 厚み斑が悪いため磁 気抜けが起こり出力変動が見られ、 さらに、 tan Sのバラツキが大き くフロッビーディスクのフラッターリングが若干みられ、 フロッピ —ディスとして好ましくなかった。
比較例 3
実施例 1における不活性固体微粒子の代わりに、 平均粒径 0 . 1 μ mの力オリン微粒子を 0 . 0 4重量%添加した以外は実施例 1と同様 にして未延伸フィルムを得、 該未延伸フィルムを縱方向に 3 . 5倍延 伸し、 さらにテンターによって横方向に 3 . 6倍延伸し、 その後 2 5 0 °Cで 3 0秒間熱処理をし、 続いて該フィルムを 1 1 O eCで 1 5秒 間冷却した。 このようにして厚み 7 5 # mの二軸配向フィルムを得、 実施例 1と同様にして磁性塗料を塗布しフロッピーディスクを得た。
この結果を表 1に示す。 このフィ ルムベースは表面が著しく平滑 なため、 ベースフィルムの取扱い性が悪く、 磁気ディスクとして平 均信号振幅試験を行つた当初は合格レベルを維持するものの表面の 耐久性が低く、 表面が粗れてきて、 1 0 0 0万回パスに達しないう ちに不良化 (電磁変換特性の急激な低下) した。 さらに面配向係数 が低く、 温度、 湿度膨脹係数のバラツキが大きく、 たるみ、 厚み斑 も不良のため高温高湿時のトラッキングミスゃ再生時の出力低下、 変動が見られ、 フロッ ピーディスクとして好ましくない。
比較例 4
実施例 1における不活性固体微粒子の代わりに平均粒径 0 . 2 m のシリ力微粒子を 0 . 5重量%添加した以外は実施例 1 と同様にして 未延伸フィルムを得、 続いて縦方向に 3 . 0倍、 横方向に 3 . 0倍延 伸し、 その後 2 5 5でで 3 0秒間熱処理をし、 厚み 6 2 mの二軸 配向フィルムを得、 実施例 1と同様にして磁性塗料を塗布しフロッ ビーディスクを得た。
この結果を表 1に示す。 ベースフィルムの低突起の数が多いため 削れによるドロップァゥ トの発生が多く、 また tan Sが著しく高いた めフラッターリ ングを起こ し、 磁気へッ ドとの一定条件における接 触が保てず、 記録ミスや再生ミスを生じた。 さらに面内配向係数が 低いため、 比較例 4と同様、 出力低下や高温高湿時の トラッキング ミスの発生が起こり、 フロッピーディスクとして好ま しくなかった。
Figure imgf000024_0001

Claims

請 求 の 範 囲 (a) ポリエチレン一 2 ,6—ナフタレンジカルボキシレー トから 実質的になり、 (b) フィルム表面の突起の高さ (h、 単位 nm) と個数が下記 式 (1)、 (2) および (3) 1≤ h < 50 2 , 000〜 20 , 000個 Zmm2 … (1) 50≤ h< 100 0〜 2 , 000個 /mm2 ... (2) 100≤ h 0〜300個 Zmm2 … (3) を満足し、 (c) 面配向係数 (N S) と平均屈折率 ( ) が下記式 (4) お よび (5) N S≥ 1.607 n- 2.434 ... (4)
1.665≤n≤ 1.675 ... (5) を満足し、
(d) フィ ルム面内のある方向における、 周波数 1 10H z、 温 度 60°Cでの粘弾性係数 (tanS) が 0.08以下であり、
( e ) フィルム面内のある方向における、 60° (:、 80% RH の雰囲気中、 無荷重、 72時間熱処理時の熱収縮率が 0.0 5%以下であり、 そして 105°C、 無荷重、 0.5時間熱処 理時の熱収縮率が 0.3 %以下である、
ことを特徴とする高密度磁気記録フロッビーディスク用二軸配向 ベースフィ ルム。
2 - フィルム表面の突起の高さ (h、 単位 nm) と個数が下記式 (1) -1、 (2) -1および (3) -1
1≤ h < 50 3 , 000〜 18, 000個 Zmm2
… (1) - 1
50≤h<100 0〜200個 Zmm2
… (2) - 1
100≤ h 0〜: L O O個 Zmm2 を満足する請求項 1記載の二軸配向ベースフィルム。
3. 面配向係数 (NS) と平均屈折率 (Ή) が下記式 (4) -1
NS≥1.607 n-2.430 ... (4) -1 および上記式 (5) を満足する請求項 1記載の二軸配向べ一スフ ィソレム。
4. フィルム面内のある方向における粘弾性係数 (tanS) が 0.0 6以下である請求項 1記載の二軸配向ベースフィルム。
5. フィ ルム面内のある方向における、 60。C、 80%RHの雰囲 気中、 無荷重、 72時間熱処理時の熱収縮率が 0.02%以下であ る請求項 1記載の二軸配向ベースフィルム。
6. フィ ルム面内のある方向における、 105°C、 無荷重、 0.5時 間熱処理時の熱収縮率が 0.2 %以下である請求項 1記載の二軸配 向べ一スフィルム。
7. フィルム面内における、 温度膨張係数の最大値と最小値の差が 8 X 10- 6Z°C以下である請求項 1記載の二軸配向ベースフィル ム0
8. フィ ルム面内における、 湿度膨張係数の最大値と最小値の差が X 10- 5Z%RH以下である請求項 1記載の二軸配向べ一スフ ィ ルム β
9. フィルムのたるみが 15 mm以下である請求項 1記載の二軸配 向ベースフィルム。
0 . フィルムの厚みむらが 4 %以下である請求項 1記載の二軸配 向ベースフィルム。
1 . 請求項 1の二軸配向べ一スフィルムおよび該ベースフィルム の両表面上の磁気層からなることを特徴とする高密度磁気記録用 フロッ ビーディスク。
2 . 請求項 1の二軸配向ベースフィルムの高密度磁気記録用フロ ツ ビ一ディ スクへの使用。
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