JPS6282511A - 高密度磁気記録媒体 - Google Patents

高密度磁気記録媒体

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JPS6282511A
JPS6282511A JP22266085A JP22266085A JPS6282511A JP S6282511 A JPS6282511 A JP S6282511A JP 22266085 A JP22266085 A JP 22266085A JP 22266085 A JP22266085 A JP 22266085A JP S6282511 A JPS6282511 A JP S6282511A
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淳二 小林
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (1」  技術分舒 本発明はトラッキングミスな回避できる可撓性の磁気記
録ディスクに関する。更に詳1−(は、高いトラック密
度記録の可能な線記録密度の高い記録媒体、主としてフ
レキシブルディスクに関する。
(2)  従来技術 磁気ディスク記録再生装置自体に、温度変化を抑制する
機構やトランク検出の特別な回路(トラックサーボ等)
を設けることKよって、トラッキングミスな防止するこ
とが従来から知られている。もつとも、これらの手段で
は記録再生装置が複雑となるので汎用的ではない。実際
的には、基材フィルムや磁気材料は可能な限り、その熱
膨張係数がディスクドライブの熱膨張係数に近(、また
湿度膨張係数の小さい材料を選択することKよって7レ
キシグルな磁気ディスクをつ(す、トラッキングミスな
防止する手段が採られている。
しかしながら、この様なフレキシブルな磁気ディスクで
も高温(40〜50℃)及び/又は高湿(約804RH
)で使用すると、トラッキングミスが発生する。特に低
温(10℃程度)ないし低湿(20%RH程度)の条件
下で記録したフレキシブルな磁気ディスクは、高温(4
0〜50℃程度)及び高い湿度(60〜30%RI(程
度)雰囲気Q)もとで再生するとトラッキングミスが発
生するという欠点があった。また低温・高湿度で記録し
たフレキシグルな磁気ディスクを高温・低湿度で再生す
る場合にもトラッキングミスが発生するという欠点があ
った。このトラッキングミスによって、出力の低下が起
り、ドロップアウトが発生するという問題は↓だ未解決
である。
別に、線記録密度を高めるぺ(、磁性材料の改良f磁性
層を基板の上に均一かつ薄(塗設する改良が試みられて
いるが、トラック密度及び線密度を共に高めろことによ
り、磁気記録が高密度化されてなるフレキシブルディス
クは未だ知られ工いない。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、使用可能な雰囲気条件温度、湿度範囲
を拡大し、高温・高湿り条件でもトラックミスが発生t
−ない様に改良し、かつ、線記録密度の高いフレキシブ
ルな磁気記録媒体(ディスク)を提供することにある。
更K、フレキシブルディスクであつ℃、この様な温度・
湿度による寸法安定性の高い磁気記録媒体は、磁気記録
の高密度化、就中、トラック密度の向上を可能にするも
のであり、かようなディスクを提供することも本発明の
曲の目的である。
〔発明の構成〕
本発明は、フレキシブルな熱可塑性型&本かもなる非磁
性基板に磁性層を塗設し、かつ磁性層表面を平滑化処理
により平滑化せしめ℃なる磁気記録媒体において、非磁
性基板は、温度膨張係数が全周方向について最大と最小
の差が2X10−’/C以下でありかつ、湿度:   
  膨、係数力、8X10−・/ %RHJ:d T 
v Lヵ1.え周方向について最大と最小の差が1×1
0″′・/ %RH以下であり、更に表面粗さが0.0
12μm以下である2軸配向ポリエチレンナフタレンジ
カルボキシレートフイルムからなること並びに磁性層は
厚さが2μm以下であって、強し i     磁性本微粉末と高分子材料との組成物から
なることを特徴とする高密度磁気記録媒体である。
非磁性基板と【−て、フィルム中の高比重不活性微粒子
を除いた密度が1.355f/ctIl以下である2軸
配向ポリエチレンナフタレートフイルムを用いたもので
あることが好ま1−い。
更に、高分子バインダーとして、低透水性かつ低吸水性
のエポキシエステル系又はエポキシ/ポリアミド系成分
′fr:50%以上含有せ【、めた高分子バインダーな
用いた磁気記録高密度フレキシブルディスクであること
が好ましい。
本発明におけるポリエチレンナフタレンジカルボキシレ
ートとは、ポリエチレン2.6ナフタレンジカルポキシ
レートのホモポリマーまたはこの重合体を70重量%以
上含む共重合体、混合体をいい、本質的にポリエチレン
ナフタレンジカルボキシレート(以下PENと略記する
)の性質を失わないポリエステル組成物等も包含する。
本発明における2軸配向PENフイルムの温度膨張係数
と(、では、15〜25 (X 10−@/℃)の範囲
にあることが好ましい。磁気記録媒体であるフレキシブ
ルディスクの駆動装置は、金属として温度膨張係数の比
較的小さいアル5ニウム(温度膨張係数25(XIO−
・7℃))が主体で構成され上記温度膨張係数がこの範
囲外にあると設計がむすか(−い。湿度膨張係数と]、
′Cは8.0 (X 10−’ /条R)(’)以下が
必須であり、出来るだけ小ざ(・ことが好ま1.い。
PENフィルムを2軸配向する方法とl Cは公知の同
時2軸延伸法や逐次2軸延伸法によるものであってよく
、また延伸の段数が3以上のものであってよい。PEN
フィルムの熱固定方法としては、公知のステンターや加
熱ロールを用いる手段が利用できる。これ以外にもフィ
ルムの四方な把持I7て行なってもよいが、工業上ステ
ンター法が有利であり、また後述する表面粗さを保つた
めにも好ましい。
本発明におけるPENフィルム0表面粗さく測定法は後
述する)としては、0.012μm以下が必要であり、
好ましくはo、o o s〜o、o o sμmの範囲
である。P四フィルムの表面粗さが0.012μmを超
えると、保磁力を高めスペーシングロスを小さくするた
め、磁性層のり厚を2.0 pm以下にしようとすると
、均一な磁性層塗膜の形成が著(5く困難になる。
また、フィルム表面粗さが0.005μm以下であると
非磁性基材の取扱(p−ルに巻取ることJP塗膜工程で
フィルムをp−ル等で搬送す゛ること)が困難となる。
PΔフィルムの表面粗さを調整する方法としては、不活
性固体微粒子なポリマー中に含有せしめてもよく、また
不活性固体微粒子の分散した塗膜を形成させる等の他の
表面加工処理を施すことでもよ−1゜ 不活性固体微粒子としては、本発明においては、好まし
くは■二酸化ケイ素(水和物、ケイ藻土、ケイ砂、石美
郷を含む);■アルミナ:■5lo1分を30重量%以
上含有するケイ酸塩(例えば非晶質或は結晶質の粘土鉱
物、アルミノシリケート(焼成物や水和物を含む)、温
石扁、ジルコン、フライ7ツシユ等);0Mg 、Zn
 、Zr 、及びTi  の酸化物;■Ca、及びBa
  の硫酸塩;■Li 、Na 、及びCa  のリン
酸塩(1水素塩や2水素塩を含む);■Lt、Na及び
Kの安息香酸塩:■Ca 、Ba 、Zn 、及びMn
のテレフタル酸塩:0Mg 、Ca 、 Ba 、Zn
 、ca 。
Pb %Sr 、Mn 、Fe 、Qo  及びNl 
 のチタン酸塩:@Ba、及びpb  のクロム駿塩;
■炭素(例えばカーボンブランク、グラファイト等);
@ガラス(例えばガラス粉、ガラスピーズ等):@Ca
、及びMg  の炭酸塩;■ホタル石及び[相]ZnS
が例示される。更に好ましくは、無水ケイ酸、含水ケイ
酸、酸化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム(焼成物、
水和物等を含む)、燐酸1リチウム、燐酸3リチウム、
燐酸ナトリウム、燐酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化
チタン、安息香酸リチウム、これらの化合物の複塩(水
和物を含む)、ガラス粉、粘土(カオリン、ベントナイ
ト、白土等を含む)、タルク、ケイ凍土、炭酸カルシウ
ム等が例示される。%に好ましくは、二酸化ケイ素、酸
化チタン、炭酸カルシウムが挙げられる。これら不活性
固体微粒子はその平均粒径が0.05〜0.6 am 
、更には0.08〜0.4 ttmが好ましく、またそ
の添加量は0.01〜1.5重*4C吋ポリエステル)
、更には0.03〜1.0重量%(同)、特に0.05
〜0.61i量チ(同)であることが好ま〔、い。
本発明において、非磁性基板となるPEN フィルムは
温度膨張係数及び湿度膨張係数において著1−い異方性
を呈【−ないことが必要となる。ソt、て、2軸配向P
EN フィルムにあっては、実質的な等方性を備える条
件とし℃、フィルムの密度(高い比重を有する不活性固
体微粒子が分散しているポリマーにあってはこれら微粒
子を除外した値)が1.3551F/m以下であること
が望ましい。PENフィルムは2軸延伸俊熱固定すると
き、クリップ等に把持されたフィルムの両側端部がフィ
ルムの中央部分に先行2.て走行する傾向があり(ボー
イング現象と呼称される)、これに起因し℃異方性が起
き易いので、熱固定後のPENフィルムの結晶化(高密
度化)を抑制し℃異方性を最小限にとどめる処置か実用
的である。このようにボーイングを抑える観点からPE
N フィルムの密度を1.355f/l−d以下、好ま
しくは1.350り/eIi以下とすべきである。
このよ5Kしてポリエチレンテレフタレートでは事実上
困難であった温度膨張係数が、ディスクではそのあらゆ
る方向罠おいてPENフィルムでは最大と最小の差が2
.0 (XIO−7℃)以下となり、また湿度膨張係数
の同様の差は2.0 (x 1 □−善/’C)以下と
なる。
本発明における磁性層の厚さは2.0μm以下、好まし
くは1.5μm以下である。強磁性体微粉末としては、
例えば7” −FIIIIOII Co  含有のr 
−FetOa # Fes04+ Co  含有のFe
、o4+ Cr0HCo−Nl−P合金、 Go −N
i −Fe  合金# Co(r合金。
Co−Ni合金、バリウムフェライト等の強磁性体が例
示できる。
本発明で強磁性体微粉末と共に使用されろ高分子材料と
0℃は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂2反応型樹脂又は
これらの混合物が挙げられる。例えば、エポキシ/エス
テル系。
エポキシ/アミン系、エポキシ/ボリアSド系、ヒニル
系、フェノリック系、ウレタン系など、又はこれらの混
合物の重合体が挙げられる。
上記に例示した中でも低透水性がつ低吸水性のエポキシ
エステル系又はエポキシ/ボリアミド系成分を50チ以
上含んでいる単一体又は組成物が好ま(−い。
これら、低透水性かつ低吸水性の高分子材料を選択する
Kより磁性層を形成せしめると、プラスチックフィルム
を基板としたものではOK近づけることが、困難であっ
た磁気記録媒体の湿度膨張係数による変化を、短時間の
環境変化においては、実質上0にすることが出来る。
〔本発明の効果〕
本発明に於て、非磁性基板の温度膨張係数の差を2.0
(XIO−’/’C)以下かつ、湿度膨張係数がs、o
 (X 10−@/チRH”)以下でその差が1.0 
(x 10−・/5RH)以下にするこトニヨリ、温湿
度変化によるトラッキングミスな防止【1、更にトラッ
ク密度を上げた磁気記録媒体を得ることが出来る。
また、低透水性かつ低吸水性の高分子材料を磁性層の組
成に使用することにより湿度変化忙よる磁気記録媒体の
膨張又は収縮を実質上皆無にしたものとなる。
更に非磁性基板の表面粗さを0.012μm以下にする
ことにより、強磁性微粉末と高分子:     材料よ
りなる磁性層を2.0μm以下の薄い塗!IXK形成せ
しめ℃スペーシングロスがなく、保磁力及び再生出力の
高いものが得られるので、線密度の高い磁気記録媒体(
フレキシブルディスク)となる。
〔実施例〕
以下、実施例により本発明を説明する。
なお1本発明における特性値の測定方法は次の通りであ
る。
(II  温度膨張率 日本自動制御社製の定荷重伸び試験機 ITLZ型)を恒温恒湿槽内に置き測定を行う。測定サ
ンプルは予め所定の条件(例え″ば70℃30分)で熱
処理を施し、このサンプルを試験機に取付は温度20’
C・湿度60チRH(相対湿度)と温度40℃・湿度6
0%R)tとの間での寸法変化を読取ることによって温
度膨張率を測定する。このときの原サンプル長は、50
5m、サンプル巾は1/4インチである。測定時に加え
る加重は5f/1/4インチ巾轟りで一定とした。長い
サンプルが得られない場合は、真空理工社製熱機械分析
装置TM−3000を用い測定することもできる。温度
膨張率の最大値及び最小値の差をもとめる場合は、TM
−3000を用いろ。サンプルの寸法は長さ工5冑、巾
5■であって、温度10℃・湿度O%RHと温度40℃
・相対湿度Oチにおける寸法変化を読取ることによって
、温度膨張率の最大と最小との差を知ることができる。
両者の測定法によって得られた値は完全に一致するから
、いずれの測定法でもよい。
(2)  湿度膨張率 温度膨張率を求めろ場合と同様に日本自動制御社製の定
荷種伸び試験機を用い、温度40℃・相対湿度9o%の
条件で予め処理を施したサンプルを取付け、温度20℃
・相対湿度30チと20℃湿度70%RHO間における
寸法変化を読取ることによつ℃湿度膨張率を求める。サ
ンプルが長(とれない場合は温度膨張測定時と同様に真
空理工社製の熱機械分析装置を恒温便室機に置き、前記
条件のもとで測定を行なった。この場合もいずれの方法
によつ1得られる値も完全に一致する。
(3)  密度 ヘプタンと四塩化炭素の混合溶液を用い、密度勾配管法
で25℃において測定した。
単位はC?/cd〕である。但し酸化チタン等の高比重
の不活性微粒子を含むときは。
その組成を求め補正する。
(4)トラッキングずれテスト(a度変化)松下通信工
業■製の51/インチ用フロンピーディスクドライブJ
U−582(1,6MB用)を恒温恒湿槽に入れ、イン
タフェースを介(、て、東京エンジニアリング■製のド
ロップイン・ドロップアウトカウンター5K−444B
K接続りで、ミッシングパルスを測定[5た。
温度15℃湿度60%RHで安定後記録し、次いで温度
40℃・湿度60%RHの条件で3時間経過を−たのち
、再生17、出力50チ以下又は30%以下のミッシン
グパルス有無を測定した。
50%以下のミッシングパルスがない場合を良、30係
以下のミッシングパルスはないが50%以下のミッシン
グパルスかある場合を可、30%以下のミッシングパル
スがある場合を不可とした。
(5)トラッキングずれテスト(温度変化)(4)項と
同じ装置を用い、記録を温度25℃湿度20%RHで行
い、再生を温度25℃湿度704 RIIで行い、同様
の判定を行った。
(6)トラッキングずれテスト温湿度変化)+41 +
51項と同じ装置を用い、記録を温度15℃、湿度20
%RHと(7、再生を温度40℃、湿度70チRE(で
行い、同様の判定を行った。
(7)  レゾル−ジョン(分解能)テスト松下通信工
業■製の5レインチ用フpツビヘディスクドライブJU
−581(1,6M B用)をインターフェースを介し
て東京二ンジニアリング■製フロッピーディスク試験装
置5K−403CK測定し、最内層トラックのレゾル−
ジョン(2F再生出力値/IF再生出力値x1oo(%
))を測定した。
標準ディスクのレゾル−ジョンに対して、0.95以上
を良、0.90以上0.95未満を可、0.90未満を
不可とした。
(8)  フィルム表面粗さ JISB0601に準じて測定【−た。東京精密社製の
触針式表面粗さ計(SURFOOM 3B)を用いて、
針の半径2μm、荷重0.079の条件下にチャート(
フィルム表面粗さ曲線)をかかせた。フィルム表面粗さ
曲線力らその中心線の方向に測定長さしの部分を抜き携
り、この抜き取り部分の中心線をX軸とし、縦倍率の方
向Y軸とし℃、粗さ曲線をY = f (x)で表わ(
7たとき、次の式で与えられる(Ra:μm)をフィル
ム表面粗さとして定義する。
本発明では、基準長を0.25箇として8個測定し、値
の大きい方から3個除いた5個の平均値としCRJL 
 を表わ1.た。
実施例1.比較例1〜6 平均粒子径0.25μmの酸化チタンを0.3重tS含
有してなる極限粘度0,600PENホモポリマーのペ
レットを180℃で4時間乾燥した。
このポリマーを常法に従つ″CTffiダイにより溶融
押出しし、厚さ1080μmの未延伸フィルムを作成し
℃、縦方向に120℃で3.7倍、横方向に130℃で
3,9倍、逐次二軸延伸を施し、更に235℃で30秒
間熱固定を行い、表面粗さo、o o sμm、厚み7
5μmでかつ3ml[のフィルムを作成した。
このフィルムの幅方向のセンタ一部とセンターより0.
5m外れたミドル部及び1.0 m外れたエッチ部につ
いて、密度を測定したのち、温度膨張係数と湿度膨張係
数を30° 毎にθ〜150゜まで測定し、平均値及び
最大値と最小値の差を求めた。その結果な熱固定条件と
共に表−1に示す。
このようKして得られたフィルムのセンタ一部、ミドル
部及びエツジ部を250曙幅のフィルムにスリットし、
次に示す組成の磁性層を1.5μmの厚さに形成した。
(磁性塗布液) 7” −Fe1on           200重量
部塩化ビニール−酢酸ビニル共重合樹脂 (UCCaVAGH)    3031ftMポリウレ
タン(日本ポリウレタン工業裂PP−88)     
   20重量部インシアネート化合物(日本ポリウレ
タン工業製コロネートHL)    40重量部カーボ
ン(平均サイズ0.5 !JA、4) 20重量部ジメ
チルシロキサン       2重量部トルエン   
        70重量部メチルエチルケトン   
   7o重量部シクーヘキサノン       70
重量部上記塗料を充分忙混合攪拌し℃塗布処理に供した
。次いで磁性層表面にカレンダーロール処理を施!−た
つその後、51/インチのディスクに打ち抜いた。その
トラック外れテスト及びレゾル−ジョンの結果を実施例
−!、比較例−1゜2として表−1に示す。更に比較例
3として、実施例1のペレットのかわりに平均粒子径0
.4μmのカオリン’to、13重量%含有し℃なる極
限粘度0.60のPENのペレットを用いた。得うれた
フィルムの表面粗さはo、o i sμmであった。
そのセンタ一部の評価結果を比較例3と【−て、1  
 ”−”K 71W f ’1 1     次に実施例1.比較例1,2のペレットの
かわりに平均粒子径0.25μmの酸化チタンを0.3
重i%含有し℃なるポリエチレンテレフタレートを用い
溶融温度と延伸温度以外は同様にして、磁気記録フレキ
シブルディスクを作成し、同様の評価を行なった。この
センタ一部、ミドル部及びエツジ部の結果を比較例4.
5及び6として表−IK示す。
実施例2.3及び比較例7 実施例IKおい工、235℃で30秒間熱固定を施すか
わりに210℃で熱固定を行い、池の条件は同様に1.
て評価をした。その結果を実施例2,3及び比較例7と
して表2に示す。
実施例4.比較例8 実施例3の磁性塗布液についてKおい℃塩化ビニール・
酢酸ビニル共重合物とポリウレタンの組成比を換えた。
なお前者の透水性は0.2612/日/dで、20℃/
65%Rの平衡水分率1.32%であったが後者の透水
性は0.3999 /日/dで平衡水分率は2.34 
%であった。池は同様にし℃磁気記録ディスク作成L 
)ラッキングテストの温湿度変化の評価を行い、その結
果を実施例4及び比較例8と(−て表−3に示す。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)可撓性の非磁性基板に平滑な磁性層を塗設してな
    る磁気記録媒体において、非磁性基板はその面内のあら
    ゆる方向における温度膨張係数の最大値と最小値との差
    が2.0×10^−^6/℃以下であり、その面内のあ
    らゆる方向における湿度膨張係数の最大値が8×10^
    −^6/%RH以下でありしかも該最大値の温度膨張係
    数の最小値との差が1.0×10^−^6/%RH以下
    であり、かつ表面粗さが0.012μm以下であるポリ
    エチレンナフタレンジカルボキシレートの二軸配向フィ
    ルムからなること並びに磁性層は強磁性体微粉末と高分
    子材料との組成物であつて、かつその厚さが2.0μm
    以下であることを特徴とする高密度磁気記録媒体。
  2. (2)非磁性基板となるポリエチレンナフタレンジカル
    ボキシレートフィルムの密度が1.355g/cm^3
    以下であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    の高密度磁気記録媒体。
  3. (3)磁性層となる高分子材料が透水性及び吸水性の低
    いエポキシ−エステル系またはエポキシ−アミド系の成
    分を含む高分子であることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の高密度磁気記録媒体。
  4. (4)磁気記録媒体がディスク状である特許請求の範囲
    第1項乃至第3項のいずれか記載の高密度磁気記録媒体
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