JP3350077B2 - フロッピーディスク - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はフロッピーディスクに関
するものであり、更に詳しくは寸法安定性、平面性に優
れた二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルムから
なる高密度記録のフロッピーディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、フロッピーディスクドライブ装置
のトラッキングミスを防止する点から、基材フィルムと
して温度膨張率及び湿度膨張率の比較的小さいポリエチ
レンテレフタレート二軸配向フィルムが用いられてい
る。

【０００３】しかしながら、このような基板フィルムか
らなるフロッピーディスクでも高温高湿下で使用する
と、ディスクの寸法変化から磁気ヘッドと記録トラック
のずれが起こり、トラッキングミスが発生する。さらに
甚だしい場合にはディスクにカールあるいは反りを生
じ、磁気記録ヘッドと均一なコンタクトを保つことが出
来ず、保磁力や再生出力の低下を生じたり、ディスクに
著しい摩耗を生じる場合もある。また、このようなディ
スクに永久歪が生ずる場合に限らず、環境変化によるデ
ィスクの可逆的な寸法変化が起こった場合でも、フロッ
ピーディスクの面上に記録されたトラックと磁気ヘッド
とのズレを生じ、トラッキングミスが発生する。例え
ば、４０〜５０℃程度の高温及び／又は約８０％ＲＨ程
度の高湿で使用すると、トラッキングミスが発生する。
特に低温（１０℃程度）ないし低湿（２０％ＲＨ程度）
の条件下で記録したフロッピーディスクは、常温（２５
℃程度）及び通常の湿度（６０％ＲＨ程度）雰囲気のも
とで再生するとトラッキングミスが発生するという欠点
があった。このトラッキングミスによって、出力エンベ
ロープの低下が起こり、Ｓ／Ｎ比が悪くなるという問題
があった。さらに、磁気記録の高密度化により、磁気バ
インダー層の薄膜化や磁気金属薄膜の使用によって磁性
層の薄膜化が進み、基板フィルムの表面性や平面性、厚
み斑がフロッピーディスクの品質に影響するようになっ
てきており、これらが適正でないと、磁気バインダーの
塗布加工や蒸着加工時に、磁性層の斑が発生したり、磁
気抜けが発生し、再生時に出力低下がみられる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
欠点を解消するため研究を重ねた結果、二軸配向ポリエ
チレンテレフタレートフィルムよりなる基材フィルムの
熱収縮率及び温度膨張係数と湿度膨張係数を特定範囲に
調整することによりトラッキングミスを回避するととも
に、基材フィルムの表面性、厚み斑等を改良することに
より高密度記録化をはかったフロッピーディスクを提供
することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、かかる目的を
達成するために、次の構成からなる。

【０００６】二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを非磁性基板とし、該基板の両面に磁性層を設けて
なるフロッピーディスクであって、該フィルムはその表
面に形成された突起の高さ［ｈ（単位ｎｍ）］の数が下
記（１）式で示される範囲にあり、平均屈折率ｎA が下
記（２）式を満足し、フィルム面内のあらゆる方向にお
ける６０℃・８０％ＲＨの雰囲気中で７２時間無荷重で
熱処理したときの熱収縮率が０．２％以下であり、フィ
ルム面内のあらゆる方向における温度膨張係数が（７〜
２５）×１０^-6／℃の範囲内にあり、かつ湿度膨張係数
が０〜１６×１０^-6／％ＲＨの範囲内にあり、フィルム
のたるみが１５ｍｍ以下であり、そしてフィルムの厚み
斑が３％以下であることを特徴とするフロッピーディス
ク。

【０００７】

【数２】

【０００８】本発明においてフィルムを構成するポリエ
チレンテレフタレートは、共重合されてないポリエチレ
ンテレフタレートホモポリマーのみならず、繰り返し単
位の数の８５％以上がエチレンテレフタレート単位から
なり、残りが他の成分からなる共重合ポリエチレンテレ
フタレートや、ポリエチレンテレフタレートが８５重量
％以上（好ましくは９０重量％以上）を占め、他の重合
体が１５重量％以下（好ましくは１０重量％以下）であ
るようなポリマー・ブレンドを含むものである。ブレン
ドできる他の重合体としては、ポリアミド、ポリオレフ
ィン、他種ポリエステル等を例示できる。また前記ポリ
エチレンテレフタレートは、必要に応じて、滑剤、艶消
剤、着色剤、安定剤を、酸化防止剤などを含有するもの
であってもよい。

【０００９】このようなポリエチレンテレフタレート
は、通常溶融重合による公知の方法で製造される。この
際、触媒等の添加剤を、必要に応じて、任意に使用する
ことができる。

【００１０】本発明の二軸配向フィルムは、基本的に従
来から蓄積された公知の製膜方法で製造できる。例えば
乾燥ポリエチレンテレフタレートを溶融押出し、キャス
ティングドラム上で冷却して未延伸フィルムを得、さら
に該未延伸フィルムを逐次または同時二軸延伸し、熱固
定する方法で製造することが出来る。

【００１１】前記二軸配向フィルムの厚さは、通常２５
〜１２５μｍ、好ましくは５０〜１００μｍ程度の範囲
から選ばれる。もっとも、この厚さの範囲に限定される
ものではない。

【００１２】本発明においては、前記二軸配向フィルム
の表面に形成された突起高さと突起の数は特定の範囲に
あることが、フロッピーディスクとしたときドロップア
ウトの発生がなく、電磁変換特性に優れ、またフィルム
の取扱い性が良好となることが明らかになった。従っ
て、本発明のフィルムはその表面に形成された突起の高
さ［ｈ（単位ｎｍ）］の数が、下記（１）式

【００１３】

【数３】 で示される範囲にあることが必要である。好ましくは下
記（１―２）式

【００１４】

【数４】 で示される範囲にあり、さらに好ましくは下記（１―
３）式

【００１５】

【数５】 で示される範囲にあり、特に好ましくは下記（１―４）
式

【００１６】

【数６】

【００１７】の範囲にある。突起物の突起高さ［ｈ（単
位ｎｍ）］が１≦ｈ＜５０である個数が１００００個／
ｍｍ² を越えるときは、フロッピーディスクとする時の
カレンダー処理時にロールによるフィルムの削れを生ず
る。突起物の突起高さが５０≦ｈ＜１００である個数が
２０００個／ｍｍ² を越えるときは、フロッピーディス
クとしたのちの電磁変換特性が低下する。突起物の突起
高さが１００≦ｈである個数が３００個／ｍｍ² を越え
るときは、電磁変換特性が低下するとともに、ドロップ
アウトが発生しやすくなり、また高密度記録材としたと
きのスペーシングロスが大きくなり、出力が不十分とな
る。突起物の突起高さが１≦ｈ＜５０である個数が２０
００個／ｍｍ² より少ないと、基材フィルムの滑り性が
劣り、取扱いが極めて困難となる。ここで突起高さがｈ
＜１である突起物の個数は特に限定されない。

【００１８】かかる表面特性をフィルムに付与するに
は、例えば、ポリエチレンテレフタレート中に数種類の
粒度分布の異なる不活性固体粒子を含有させることが好
ましい。不活性固体粒子としては、好ましくは（１）二
酸化ケイ素（水和物、ケイソウ土、ケイ砂、石英等を含
む）；（２）アルミナ；（３）ＳｉＯ₂ 分を３０重量％
以上含有するケイ酸塩（例えば非晶質あるいは結晶質の
粘土鉱物、アルミノシリケート（焼成物や水和物を含
む）、温石綿、ジルコン、フライアッシュ等）；（４）
Ｍｇ、Ｚｎ、Ｚｒ、及びＴｉの酸化物；（５）Ｃａ、及
びＢａの硫化物；（６）Ｌｉ、Ｎａ、及びＣａのリン酸
塩（１水素塩や２水素塩を含む）；（７）Ｌｉ、Ｎａ、
及びＫの安息香酸塩；（８）Ｃａ、Ｂａ、Ｚｎ、及びＭ
ｎのテレフタル酸塩；（９）Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｚｎ、
Ｃｄ、Ｐｂ、Ｓｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、及びＮｉのチタ
ン酸塩；（１０）Ｂａ、及びＰｂのクロム酸塩；（１
１）炭素（例えばカーボンブラツク、グラファイト
等）；（１２）ガラス（例えばガラス粉、ガラスビーズ
等）；（１３）Ｃａ、及びＭｇの炭酸塩；（１４）ホタ
ル石及び（１５）ＺｎＳが例示される。更に好ましく
は、二酸化ケイ素、無水ケイ酸、含水ケイ酸、酸化アル
ミニウム、ケイ酸アルミニウム（焼成物、水和物等を含
む）、燐酸１リチウム、燐酸３リチウム、燐酸ナトリウ
ム、燐酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、安息
香酸リチウム、これらの化合物の複塩（水和物を含
む）、ガラス粉、粘土（カオリン、ベントナイト、白土
等を含む）、タルク、ケイソウ土、炭酸カルシウム等が
例示される。

【００１９】ポリエチレンテレフタレートに不活性な固
体粒子を添加する場合の添加時期は、ポリエチレンテレ
フタレートの重合前でもよく、重合反応中でもよく、ま
た重合終了後ペレタイズする時に押出機中で混練させて
もよく、さらにシート状に溶融押出するのが分散性の点
から好ましい。しかしながら、前記表面特性を有するフ
ィルムを得る手段としては、ポリエチレンテレフタレー
トに不活性な固体粒子を添加する方法だけに限定され
ず、重合時にリン成分若しくは必要なその他の添加物を
加えて粒子源を生成させフィルム中に存在せしめる方
法、更には、重合時にリン成分を加えて重合したもの
と、不活性固体粒子を加えて重合を行ったものとの両者
をブレンドする方法なども好ましく用いられている。

【００２０】本発明における二軸配向ポリエチレンテレ
フタレートフィルムは、その平均屈折率ｎA が下記の
（２）式

【００２１】

【数７】 １．６０３≦ｎA ≦１．６０５ ……（２）

【００２２】で示される範囲にあることが必要である。
ここで、平均屈折率ｎA とは、下記（Ａ）式で求められ
る。

【００２３】

【数８】

【００２４】上記式（Ａ）におけるｎｘは二軸配向フィ
ルムの機械方向の屈折率を示し、ｎｙは機械方向と直交
する方向の屈折率を示し、ｎｚは厚み方向の屈折率を示
す。上記（２）式の範囲を満足するものがベースフィル
ムの厚み斑が良好であり、フロッピーディスクとしたと
きの腰の強さが適正なため磁気ヘッドの追従性が良好
で、ヘッド振動も少なく、出力の安定したフロッピーデ
ィスクを得ることができる。平均屈折率ｎA ＞１．６０
５の場合、フロッピーディスクとしたときの腰が強く、
磁気ヘッドへの押し圧が強いため、磁気ヘッドを曲げて
しまって出力低下を起こし、好ましくない。平均屈折率
ｎA ＜１．６０３の場合、フロッピーディスクとしたと
きの腰が弱く、磁気ヘッドへの当たりが弱いため、磁気
ヘッドの追従性が悪く、ヘッド振動も多く出力変動も大
きい。また、ベースフィルムの厚み斑が悪いため、磁気
記録媒体としたときの磁性層の斑や磁気抜けが発生し、
再生時に出力変動がみられ、またスペーシングロスが大
きくなって出力が不十分となり、好ましくない。

【００２５】前記（２）式を満足する平均屈折率をフィ
ルムに付与するには、延伸条件及び熱固定温度を適宜選
択することが好ましい。具体的には、延伸方法は公知の
方法でよく、延伸温度は通常８０〜１４０℃であり、延
伸倍率は縦方向に３．０〜５．０倍、好ましくは３．５
〜４．３倍、横方向に３．０〜５．０倍、好ましくは
３．５〜４．５倍を選択する。得られた二軸延伸フィル
ムを１５０〜２６０℃、好ましくは１８０〜２５０℃で
１〜１００秒熱固定する。これら延伸条件及び熱固定温
度を適宜選択することによって、平均屈折率ｎA が
（２）式で示される範囲のフィルムが得られる。しか
し、本発明による二軸配向フィルムは、このような方法
で得られたもののみには限られない。延伸方法としては
一般的なロールやステンターを用いて縦横同時に延伸す
る方法や縦横方向また縦横方向に各々逐次に延伸する方
法、また縦横方向に２段以上延伸する方法を用いてもよ
い。

【００２６】本発明における二軸配向ポリエチレンテレ
フタレートフィルムは、その面内のあらゆる方向におけ
る６０℃・８０％ＲＨの雰囲気中で７２時間無荷重で熱
処理したときの熱収縮率が０．２％以下であることが必
要である。好ましくは０．１５％以下、さらに好ましく
は０．１％以下である。フィルムの熱収縮率が０．２％
をこえると、フロッピーディスクを高温高湿下に置いた
場合、磁気ヘッドと記録トラックのずれが起こり、トラ
ッキングミスが発生し、ディスクがカールあるいは反り
を生じ、磁気記録ヘッドと均一なコンタクトを保つこと
が出来ず、保磁力や再生出力の低下を生じたり、ディス
クに著しい摩耗を生じる。

【００２７】６０℃・８０％ＲＨ、７２時間の熱収縮率
を下げる手段としては、延伸後の熱処理温度を上げるこ
とが一般的である。熱処理は１５０〜２３０℃程度であ
る。熱処理中はフィルムの平坦性が保てる範囲で収縮さ
せてもよい。ただし、熱処理温度をあまり上げすぎると
機械的特性が悪化する結果となり、また磁気記録媒体加
工工程中でのすりキズ発生が多くなり、その削れ粉がデ
ィスクの磁性面に付着して、ドロップアウトの原因とな
る。この熱収縮率を下げる別の手段として、速度差を持
った２つのロール間にフィルムを通し、ポリエチレンテ
レフタレートのガラス転移温度（Ｔｇ）以上の温度をか
けて弛緩処理する方法が挙げられる。更に別の手段とし
て、エージング処理を施す方法が挙げられる。エージン
グ処理は４０〜７０℃程度でフィルムロールのまま、理
想的にはディスクに近いスリットされたフィルム（シー
ト）のまま、長時間（１０〜２００時間）低緊張下で処
理するとよい。これらの熱処理やエージング処理の条件
はフィルムの低温寸法安定性を比較しながら選択すると
よい。しかしながら、６０℃・８０％ＲＨ、７２時間の
熱収縮率を下げる手段として、これら方法に限定される
ものではない。

【００２８】本発明における二軸配向ポリエチレンテレ
フタレートフィルムは、その面内のあらゆる方向におけ
る温度緊張係数が（７〜２５）×１０^-6／℃の範囲内に
あり、かつ湿度膨張係数が０〜１６×１０^-6／％ＲＨの
範囲内にあることが必要である。かかる温度及び湿度膨
張係数は延伸条件及び熱固定温度を適宜選択することに
よって達成される。具体的には、前記した延伸、熱固定
温度を採用するとよい。その際、ボーイングを抑制する
手段を採用するのが好ましい。このようにして温度・湿
度膨張係数の面内異方性を小さくすることにより、トラ
ックずれをさらに小さく抑えることが出来、広い温度・
湿度範囲での使用が可能となる。このフィルムにより記
録密度が高密度化されたフロッピーディスクが得られ
る。

【００２９】本発明における二軸配向ポリエチレンテレ
フタレートフィルムは、フィルムたるみが１５ｍｍ以下
である必要があり、好ましくは１０ｍｍ以下である。フ
ィルムのたるみが１５ｍｍを越えるときは、磁気バイン
ダーの塗布加工時や蒸着加工時に磁性層の斑が発生した
り、磁気抜けが発生し、再生時に出力低下がみられる。
フィルムたるみを小さくする手段としては、例えば延
伸、熱処理後の二軸配向フィルムをガラス転移点近くの
温度で、冷却する方法が挙げられる。このときの冷却温
度はフィルムのたるみを比較しながら調整するとよい。

【００３０】本発明における二軸配向ポリエチレンテレ
フタレートフィルムは、上述したフィルム特性ととも
に、フィルム厚み斑が３％以下である必要があり、好ま
しくは２％以下、さらに好ましくは１％以下である。フ
ィルムの厚み斑が３％を越えると、磁気記録層の高密度
薄膜化にともない、磁気バインダーの塗布加工時や蒸着
加工時に磁性層の斑が発生したり、磁気抜けが発生し、
再生時に出力変動がみられ、またスペーシングロスが大
きくなり、出力が不十分となる。厚み斑を小さくする手
段としてはダイスのリップ間隔の調整または該リップ温
度の調整、縦及び横延伸倍率・延伸温度の調整などが挙
げられるが、これらの手段に限定されるわけではなく、
縦及び横方向厚み斑のパターンを見ながら調整するとよ
い。

【００３１】本発明における磁性層としては、γ―Ｆｅ
₂ Ｏ₃ ，Ｃｏ含有γ―Ｆｅ₂ Ｏ₃ ，微細針状鉄分、バリ
ウムフェライト粉末等公知の強磁性体を塗設せしめたも
のであってもよく、また、Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｒ，Ｆｅ，ま
たはこれらの合金を真空蒸着、スパッタ、イオンプレー
ティング、Ｃ．Ｖ．Ｄ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｕ
ｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）、または無電解メッキなど
の方法を用いることによって形成せしめたものであって
もよい。

【００３２】本発明のフロッピーディスクは、基板フィ
ルムが上述した特定の特性を有しているためドロップア
ウトの発生がなく、電磁変換特性に優れ、取扱い性も良
好であり、そして磁気ヘッドとディスクが均一なコンタ
クトを保つことが出来るため、出力変動もなく、また熱
収縮率及び温度・湿度膨張係数が適正範囲にあることか
ら温湿度変化によるトラッキングミスがなく、さらに基
板フィルムのたるみ及び厚み斑が良好なため均一な磁性
層が得られ、高密度記録の磁気記録媒体として有用であ
る。

【００３３】

【実施例】以下、実施例に掲げて本発明を更に説明す
る。なお、本発明における種々の物性値及び特性は以下
の如くして測定したものであり、かつ定義される。

【００３４】（１）表面突起数 ＷＹＫＯ社製非接触三次元粗さ計（ＴＯＰＯ―３Ｄ）を
用いて測定倍率４０倍、測定面積２４２μｍ×２３９μ
ｍ（０．０５８ｍｍ² ）の条件にて測定を行う。突起解
析により、フィルム表面平均粗さからの表面突起の高さ
と突起個数のヒストグラム図を得、該ヒストグラム図か
ら特定の突起高さ範囲毎の個数を読み取り、同一フィル
ム表面上５回測定した突起数を積算し、単位面積（１ｍ
ｍ² ）あたりの突起数に換算する。

【００３５】（２）屈折率 神崎製紙（株）製分子配向計ＭＯＡ―２００１Ａを用い
て配向度を測定し、同時にナトリウムＤ線（５８９ｎ
ｍ）を光源としたアッベ屈折計を用いて屈折率を測定
し、配向度と屈折率の相関グラフを作成し、値の大きい
屈折率は該相関グラフより求めた。

【００３６】（３）熱収縮率 ６０℃・８０％ＲＨに設定された恒温恒湿槽の中にあら
かじめ正確な長さを測定した長さ約３０ｃｍ、幅１ｃｍ
のフィルムを無荷重で入れ、７２時間熱処理し、その後
恒温恒湿槽よりサンプルを取り出し、室温に戻してから
その寸法の変化を読みとった。熱処理前の長さ（Ｌ₀ ）
と熱処理による寸法変化量（ΔＬ）より、次式で熱収縮
率を求める。

【００３７】

【数９】

【００３８】（４）温度膨脹係数 真空理工社製熱機械分析装置ＴＭ―３０００を恒温恒湿
槽内に置き測定を行う。このときの原サンプル寸法は、
長さ１５ｍｍ、幅５ｍｍである。測定サンプルは予め所
定の条件（例えば８０℃・１２０分）で熱処理を施し、
このサンプルを試験機に取り付け温度２０℃・湿度６０
％ＲＨ（相対湿度）と温度４０℃・湿度６０％における
寸法変化を読み取ることによって、温度膨脹係数を測定
する。

【００３９】（５）湿度膨脹係数 温度膨脹係数を求める場合と同様に真空理工社製熱機械
分析装置ＴＭ―３００を用い、温度４０℃・湿度９０％
ＲＨ（相対湿度）の条件で予め処理を施したサンプルを
試験機に取り付け、温度２０℃・湿度３０％ＲＨと温度
２０℃・湿度７０％ＲＨの間における寸法変化を読みと
ることによって、湿度膨脹係数を求める。

【００４０】（６）トラッキングずれテスト（温度変
化）トラッキングずれテストとしては次のような方法を
用いる。磁性層を塗布し、カレンダーロールを施して外
径２０ｃｍで内径３．８ｃｍのディスク状に打ち抜いた
フロッピーディスクを記録再生装置により記録再生を行
う。シートレコーダーは３６０ｒｐｍで回転し、磁気ヘ
ッドの位置はディスクの中心より８ｃｍとする。トラッ
クの幅は３００μｍ、ヘッドの材質はフェライトを使用
する。フロッピーには１ＭＨZ の信号を温度１５℃・湿
度６０％ＲＨ（相対湿度）の雰囲気で記録し、そのとき
の最大出力と磁気シートの出力エンベロープを測定す
る。次に雰囲気温度を４０℃、湿度６０％ＲＨになるよ
うに維持して、その温度における最大出力と出力エンベ
ロープを調べ、温度１５℃・湿度６０％ＲＨの時の出力
エンベロープと温度４０℃、湿度６０％ＲＨの時の出力
エンベロープを比較して、トラッキングの状態を判定す
る。この差が小さいほど、優れたトラッキング特性を有
している。この差が３ｄＢ以上になると、トラッキング
が悪く、評価としては×であり、３ｄＢ以内のものは○
として評価する。

【００４１】（７）トラッキングずれテスト（湿度変
化）前項温度膨脹係数と同様にして温度２５℃・湿度２
０％ＲＨ（相対湿度）の雰囲気で記録し、更に雰囲気温
度を４０℃、湿度７０％ＲＨに保持し、温度２５℃・湿
度２０％ＲＨの時の出力エンベロープと温度４０℃、湿
度６０％ＲＨの時の出力エンベロープを比較する。前項
と同様にトラッキングの良好性を評価する。評価方法は
前項温度膨脹係数と同様である。

【００４２】（８）厚み斑 アンリツ社製連続フィルム厚み測定装置（電子マイクロ
メーター）を使用してフィルム縦方向及び横方向に各々
５０ｍｍ巾、３ｍ長サンプリングしたフィルムの厚みパ
ターンをレコーダに記録する。得られた３ｍ長さの厚み
パターンの最高の山（最大値）と最深の谷（最低値）か
ら標高差を読み取り、次式により厚み斑（％）を算出す
る。

【００４３】

【数１０】

【００４４】（９）たるみ １ｍｍ巾にロール巻きにしたフィルムを速度３ｍ／ｍｉ
ｎ、張力２ｋｇで１００ｍｍの間隔で設置した２本の平
行したフリーロール上を走行させ、２本のロール間の中
央位置でフィルム端部のたるみ長さ（ｍｍ）をスケール
で読み取る。

【００４５】（１０）平均信号振幅 ＪＩＳ Ｃ ６２９１に準じて測定。初期の値と同一ト
ラックについて１０００万回パスの耐久テスト後の値を
求め、測定値に対して合格、不合格を判定する。

【００４６】

【実施例１】平均粒径０．６５μｍのシリカ粒子を０．
３重量％含有した固有粘度０．６５ｄｌ／ｇ（オルソク
ロロフェノールを溶媒として用い、２５℃で測定した
値）のポリエチレンテレフタレートを１６０℃で乾燥し
た後、２８０℃で溶融押出し、４０℃に保持したキャス
ティングドラム上で急冷固化せしめて約１０００μｍの
厚みの未延伸フィルムを得た。

【００４７】この未延伸フィルムを速度差をもった２つ
のロール間で９０℃の温度で縦方向に３．７倍延伸し、
さらにテンターによって横方向に３．８倍延伸し、続い
て２３０℃で３０秒熱処理した後、９０℃で１５秒間冷
却し、まきとった。このようにして厚み７５μｍの二軸
配向ポリエチレンテレフタレートフィルムを得た。

【００４８】続いて、この二軸配向フィルムに、下記組
成の磁性塗料を５μｍの厚さに塗布した。

【００４９】（磁性塗料） γ―Ｆｅ₂ Ｏ₃ ２００重量部 塩化ビニール―酢酸ビニール共重合樹脂 （ＵＣＣ製ＶＡＧＨ） ３０重量部 ポリウレタン（日本ポリウレタン工業製ＰＰ―８８） ２０重量部 イソシアネート化合物（日本ポリウレタン 工業製コロネートＨＬ） ４０重量部 カーボン（平均サイズ０．５μφ） ２０重量部 ジメチルシクロキサン ２重量部 トルエン ７０重量部 メチルエチルケトン ７０重量部 シクロヘキサノン ７０重量部

【００５０】上記塗料を充分に混合撹拌し、前記二軸配
向ポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布してか
ら、カレンダーロール処理を施した。この後、外径２０
ｃｍで内径３．８ｃｍに切り抜き、フロッピーディスク
を得た。

【００５１】得られたフィルム及びフロッピーディスク
の特性を表１に示す。この表から明らかなように、表面
突起高さの分布が適性範囲にあるため、ベースフィルム
の取扱い性が良好で、ドロップアウトの発生もない。ま
た磁気ヘッドの追従性も良好でトラッキングミスも改善
され、高温高湿雰囲気において磁気ディスクの記録再生
等の使用が可能であることが分かる。更にベースフィル
ムのたるみと厚み斑が良好なため磁性層の斑がなく、出
力の安定したフロッピーディスクを得ることが出来る。

【００５２】

【実施例２】実施例１における不活性固体粒子の代わり
に、平均粒径０．２μｍのアルミナ粒子を０．２重量
％、平均粒径０．５μｍの炭酸カルシウム粒子を０．０
５重量％添加した以外は実施例１と同様にして未延伸フ
ィルムを得、該未延伸フィルムを速度差をもった２つの
ロール間で９０℃の温度で縦方向に３．５倍延伸し、さ
らにテンターによって横方向に３．７倍延伸し、その後
２２０℃で３０秒間熱処理をし、続いて実施例１と同様
に該フィルムを冷却した。この様にして厚み７５μｍの
フィルムを得、実施例１と同様にして磁性塗料を塗布し
てフロッピーディスクを得た。

【００５３】この結果を表１に示す。実施例１と同様、
良好な結果が得られた。

【００５４】

【実施例３】実施例１における不活性固体粒子の代わり
に、平均粒径０．３μｍのシリカ粒子を０．２重量％添
加した以外は実施例１と同様にして未延伸フィルムを
得、該未延伸フィルムを実施例２と同様に縦横方向に延
伸し、熱固定処理をし、該フィルムを冷却した。さらに
１００℃に加熱されたオーブンにより浮遊熱処理を実施
し、これにより０．３％弛緩処理した。この様にして厚
み７５μｍのフィルムを得、実施例１と同様にして磁性
塗料を塗布し、フロッピーディスクを得た。

【００５５】この結果を表１に示す。特に６０℃の熱収
縮率が低く寸法安定性に優れており、その他品質も実施
例１と同様、良好な結果が得られた。

【００５６】

【比較例１】実施例１における不活性粒子の代わりに平
均粒径１．０μｍのカオリン粒子を０．２５重量％添加
した以外は実施例１と同様にして未延伸フィルムを得、
該未延伸フィルムを実施例２と同様に縦及び横方向に延
伸した後、１８０℃で熱固定処理をし、該フィルムを９
０℃で１５秒間冷却し、巻取った。この様にして厚み７
５μｍのフィルムを得、実施例１と同様にして磁性塗料
を塗布し、フロッピーディスクを得た。

【００５７】この結果を表１に示す。ベースフィルム表
面に５０ｎｍ以上の高い突起が散在するため電磁変換特
性に劣り平均信号振幅も不合格となっている。また、ベ
ースフィルムの平均屈折率が低いため磁気ヘッドの追従
性が悪いため、出力変動が大きく、磁気ディスクとして
好ましくない。

【００５８】

【比較例２】実施例１における不活性粒子の代わりに平
均粒径０．３μｍのシリカ粒子を０．３重量％、平均粒
径１．２μｍの炭酸カルシウム粒子を０．０５重量％添
加した以外は実施例１と同様にして未延伸フィルムを
得、該未延伸フィルムを実施例２と同様に縦及び横方向
に延伸した後、２４０℃で熱固定処理をし、該フィルム
を１１０℃で１５秒間冷却し、巻取った。この様にして
厚み７５μｍのフィルムを得、実施例１と同様にして磁
性塗料を塗布し、フロッピーディスクを得た。

【００５９】この結果を表１に示す。ベースフィルム表
面に１００ｎｍ以上の高い突起が散在するため電磁変換
特性が低下し、ドロップアウトの発生も多く平均信号振
幅も不合格となっている。また、ベースフィルムの平均
屈折率が高いため磁気ヘッドへの押し圧が強いため磁気
ヘッドを曲げてしまい、出力低下を起こしている。また
温度及び湿度膨脹係数が高く高温高湿下での寸法安定性
が悪く、トラックキングミスが発生する。また、フィル
ムのためみ厚み斑が悪いため、磁気抜けが起こり出力変
動がみられ、磁気ディスクとして好ましくない。

【００６０】

【比較例３】実施例１における不活性固体粒子の代わり
に、平均粒径０．０５μｍのシリカ粒子を０．０５重量
％添加した以外は実施例１と同様にして未延伸フィルム
を得、該未延伸フィルムを速度差をもった２つのロール
間で９０℃の温度で縦方向に３．２倍延伸し、さらにテ
ンターによって横方向に３．５倍延伸し、その後２４０
℃で３０秒間熱処理をし、続いて該フィルムを１１０℃
で１５秒間冷却した。この様にして厚み７５μｍのフィ
ルムを得、実施例１と同様にして磁性塗料を塗布しフロ
ッピーディスクを得た。

【００６１】この結果を表１に示す。このフィルムベー
スは表面が著しく平滑なためベースフィルムの取扱い性
が悪く、磁気ディスクとして平均信号振幅試験を行った
当初は合格レベルを維持するものの表面の耐久性が低
く、表面が粗れてきて、１０００万回パスに達しないう
ちに不良化（電磁変換特性の急激な低下）する。さらに
平均屈折率が低く、温度、湿度膨脹係数やたるみ、厚み
斑が不良のため高温高湿時のトラッキングミスや再生時
の出力変動がみられ、磁気ディスクとして好ましくな
い。

【００６２】

【比較例４】実施例１における不活性粒子の代わりに平
均粒径０．１μｍのシリカ粒子を０．１重量％、平均粒
径０．５μｍのシリカ粒子を０．０３重量％添加した以
外は実施例１と同様にして未延伸フィルムを得、該未延
伸フィルムを速度差をもった２つのロール間で９０℃の
温度で縦方向に３．６倍延伸し、さらにテンターによっ
て横方向に４．２倍延伸し、その後２３０℃で３０秒間
熱処理をし、続いて該フィルムを９０℃で１５秒間冷却
した。この様にして厚み７５μｍのフィルムを得、実施
例１と同様にして磁性塗料を塗布しフロッピーディスク
を得た。

【００６３】この結果を表１に示す。ベースフィルムの
平均屈折率が高く、面内異方性も高いため、温度及び湿
度膨脹係数のバラツキが大きく出力低下や高温高湿時の
トラッキングミスの発生が起こり、磁気ディスクとして
好ましくない。

【００６４】

【表１】

【００６５】

【発明の結果】本発明によれば、ベースフィルムの取扱
い作業性が良好で、磁気ヘッドの追従性が良好で出力が
安定しており、高温高湿下でのトラッキングミスの発生
がなく、磁性層が均一なため、特に高密度記録媒体とし
て有用なフロッピーディスクを提供することができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ Ｇ１１Ｂ 5/82 Ｇ１１Ｂ 5/82 Ｂ２９Ｋ 67:00 Ｂ２９Ｋ 67:00 (72)発明者 中條 隆雄 神奈川県相模原市小山３丁目37番19号 帝人株式会社 相模原研究センター内 (72)発明者 越中 正己 神奈川県相模原市小山３丁目37番19号 帝人株式会社 相模原研究センター内 (56)参考文献 特開 平３−137814（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−270531（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−154924（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−122022（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−32423（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−247913（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−115235（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−165413（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−308723（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 二軸配向ポリエチレンテレフタレートフ
   ィルムを非磁性基板とし、該基板の両面に磁性層を設け
   てなるフロッピーディスクであって、該フィルムはその
   表面に形成された突起の高さ［ｈ（単位ｎｍ）］の数が
   下記（１）式で示される範囲にあり、平均屈折率ｎA が
   下記（２）式を満足し、フィルム面内のあらゆる方向に
   おける６０℃・８０％ＲＨの雰囲気中で７２時間無荷重
   で熱処理したときの熱収縮率が０．２％以下であり、フ
   ィルム面内のあらゆる方向における温度膨張係数が（７
   〜２５）×１０^-6／℃の範囲内にあり、かつ湿度膨張係
   数が０〜１６×１０^-6／％ＲＨの範囲内にあり、フィル
   ムのたるみが１５ｍｍ以下であり、そしてフィルムの厚
   み斑が３％以下であることを特徴とするフロッピーディ
   スク。 【数１】