JPS6273420A - マイクロフロツピ−デイスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

〔産業上の利用分野〕 本発明はマイクロフロッピーディスクに関するものであ
り、制置の雰囲気での使用に酎えるべく改良されたマイ
クロフロッピーディスクに係る。 〔従来技術〕 近’４ｉ、バーンカルコ／ビューターやワード７’ロセ
ンサーの外部記憶装置と（７てフロッピーディスクドラ
イブ装置及び七〇ａ気記録媒体としてフロッピーティス
フを用いろことが一般化した。更に、これら装置なンス
デム化したり、携帯化するために）ｐツビーディスクの
小型化が試行されると共に使用できろ環境条件の範囲を
拡げる努力が為され℃きた。 これら磁気記録媒体の非磁性基板とＬ℃は、２軸配向ポ
リエチレンテレフタレート（以下ＰＥＴと略称する。）
フィルムが用いられている。小型化されるべきフロッピ
ーディスクとしＣは外径３．５イ／チの磁気記録媒体を
カー）　ＩＪノヂグースに収納したマイクロフロッピー
ディスクが、ゴミの付着がおこりにり＜、携行に便利で
あり、耐熱性・耐湿性等からみた使用環境を拡大できろ
効果があり、しかも従来から汎用され又いろ５Ｉ／４イ
／チフｐツビーデイスクと較べ℃記憶容量をはｙ同等に
設計出来、ソフトの互換性が保てる見込みがあることか
ら有望視されている。 しかしながら、フロッピーディスクを３．５インチ径に
小型化すると共に記憶答世な５７４インチフロンピーデ
ィスクと同等又はそれ以上に高めろためには、線密度及
びトランク密度を高めろ必安がある。七Ｌ−’Ｃ，この
線密度を高めるためには磁性層の保磁力を大きくするだ
けでなく、磁気記録媒体の回転数をも高める必費がある
。ところが、ＰＥＴフィルムを非磁性基板とした場合、
ヤング率が低（回転数の増大と共に）σツビーディスク
（磁気記録媒体）がフランターリ／グを起り、ｆｆｌ気
ヘッドとの一定条件における接触が保℃ず、記録ミスや
再生ミスを生じる問題があった。またトラック密度を高
めるためには、磁気記録媒体の温度膨張係数（以下αｔ
　と略称する。）をフロッピーディスクドライブ装置（
以下ＦＤＤと略称する）のαｔに合せ、更に面内のαｔ
の方向差を小さくする改良がなされ℃いる。もつとも、
高温使用に於い℃、これらαｔが改良されても熱収縮率
が大のため永久歪を生じ、記録ミスや再生ミスを生じろ
問題があった。 更に特開昭５９−１２７７３０号に厨て「異方性が少な
い」２軸配向ポリエチレ／ナフタレートフイルムを磁気
記録媒体の基板に用いることが提案され℃いるが、磁気
テープとして適応性があるものの、フロッピーディスク
として用いた場合には小型化への配慮がなく、ヤング率
が高すぎる結果、磁気ヘットとの接触による摩耗を磁性
層に生じたり、基板の熱収縮率が２．５〜３．５％と非
常に大きいため、熱変形が永久歪とな９やすく、マイク
ロフロッピーディスクとしての適応性が認められない問
題があった。 〔発明の目的〕 本発明の目的は上記間趙点を解消せしめ、マイクロフロ
ッピーディスクとしたとき、６０〜７０’Ｃの４Ｍ雰囲
気下でも使用に耐え、かつ記憶ｄ瀘の大きな小＃１磁気
記録媒体を提供しようとするものである。 〔発明の構成〕 本発明は面内のあらゆる方向に於℃、７０℃で１時間加
熱したときの熱収縮率が０．０５％以下であり、１５０
℃で１時間」熱したときの熱収縮率が０．１〜１１５％
の範囲にあり、かつ、ヤング率が６００〜７５０〜／ｉ
の範囲にある２軸配向ポリエチレンナフタレートフイル
ムを非磁性基板とし、該基板の一表面又は両表面に磁性
層？設けてなる磁気記録媒体であつ℃、その外径が９Ｕ
ＩＩＩｌ以下のマイクロフロッピーディスクである。 本発明におけるポリエチレンナフタレートとは、ポリエ
チレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートそのも
のまたはポリエチレ７−２．６−ナツタレンジカルボ千
シレート’＆７０ｊＥｊ１％以上含む電合体、共重合俸
及び混合体であつ℃、本質的にポリエチン７−２１６−
ナフグレンジカルポキシレートの性質を損わないポリエ
ステル組成物等を含むものである。 また、ポリエチレンナフタレート（以下ＰＥＮと略称す
る）フィルムの表面［さとし℃は、センターラインアベ
ンツジ法で測定されろ表面粗さく　Ｒａ　）が０．０１
２μｍ以下のものが好ましく、不活性固体粒子Ｙｉ’Ｅ
Ｎポリマー中に含有せしめ℃形成せしめてもよく、又、
他の表面加工処理により形成せしめてもよい。 不活性固体微粒子としては、本発明におい℃は、好まし
くは■二酸化ケイ累（水和物、ケイ礫土、グイ砂９石英
等を含む）；■アルミナ；■ＳｔＯ，分を３０］［ｊｔ
％以上含有するケイ酸塩（例えば非晶質或は結晶質の粘
土鉱物、アルミノシリケート（焼成物や水和ｖＰヲ含む
）、温石綿、ジル；／、フライアンシュ等）；■Ｎｇ、
Ｚｎ。 ２

【及びＴｉの酸化物；■Ｃａ及びＨａの硫酸塩；■Ｌ
　＋　ｒ　Ｎａ　＋及びＣａのリン酸塩（ｌ水素塩や２
水素塩を含む）：■Ｌｉ、Ｎａ及びＫの安息香酸塩；■
Ｃａ　ｖ　Ｂ　ａ　ｔ　ｌ　ｎ　ｒ及びＭｎのテレフタ
ル酸塩：０Ｍｇ。 Ｃａ、Ｈａ＋Ｚｎ＋Ｃａ＋Ｐｂ＋Ｓｒ＋Ｍｎ＋Ｆｅ、Ｃ
ｏ及びＮ１のチタン酸塩；◎Ｂａ及びｐｂのクロム酸塩
；■炭素（例えばカーボンブランク、グラファイト等）
；＠ガラス（例えはガラス粉、ガラスピーズ等）；９Ｃ
ａ及びＭｇの炙改塩；リホメル石及びＱＺｎＳが例示さ
れる。更に好ましく１工、無水ケイ酸。 含水ケイ酸、ａ化アルミニウム、ケイ酸アルミニウム（
焼成物、水和物等？含む）、燐酸１リチウム、燐ｌ！！
！３リチウム、燐鍍ナトリウム、燐酸カルシウム、硫酸
バリウム、酸化チタン、安息令酸リチウム、これらの化
合物の複塩（水相物を含む）、ガラス粉、粘土（カオリ
／、ベントナイト、白土等を含む）、メルク、ケイ礫土
。 炭醒カルシウム等が例示される。特に好ましくは、二酸
化ケイ素、酸化チタン、炭葭カルシウムが挙げられろ。 これら不活性固体微粒子はその平均粒径が０．０５〜０
．６　Ｊ！？！Ｌ　、更にはｏ、０８〜０．４μｍが好
ましく、またその添加蓋は０．０１〜１．５重量％（対
ボＩＪ　エステル）、更には０．０３〜１．０重量％（
同）、特に０．０５〜０．６１量％（同）であることが
好ましい。 フィルムの表面粗さく　Ｈａ　）が０．０１２μｍより
大きくなると、磁性面の表面は踊級品員のフロンビーデ
ィスクとし℃必要なｔ磁変換特性を維持することができ
ない為好ましくない。好ましい表面粗さく　Ｒａ　）は
０．０１０μｍ以下である。 本発明の非磁性基板となるＰＥＮフィルムの７０℃にお
いて１時間加熱したときの熱収縮率とし℃は、０．０５
％以下が必伐であり、特に０．０３％以下が好ましい。 上記熱収ｉａ″４が０．０５％を超えろと６０℃以上の
高温雰囲気で使用に耐えるマイクロナイスク磁気記録媒
体を構成することが出来ない。 更に、ＰＥＮフィルムの１５０℃においで１時間加熱し
たときの熱収縮率としては、０．１〜１．５％の範囲に
あ石ことが必要である。好ましくは０．５〜１．２％で
ある。 上記熱収ｊＩｌ率が１．５％を超えるとＰＥＮフィルム
に磁性層を塗布したり蒸着したりする過程でフィルムが
加工（走行）方向に収縮し℃しまいフィルム−異方性を
生じ、マイクロフｐツビーディスク磁気記録媒体として
真円の外径や内径ｔ゛形成ることが出来ないばかりでな
く、磁気記録媒体の面がカールしてしまい、ＦＤＤの回
転数を上げ線密度を上げることが困難になる。 また、上記熱収縮率が０．１％未満であるとＰＥＮフィ
ルムに磁性層を蒸着し一す、スパッタリングする過程で
該フィルムが熱＃張を起こし均一な磁性ｊ−を形成する
ことが困難になる。 また、ＰＥＮフィルムのヤング率としては、６ｒ〕０〜
７５０　ｋｇ／−の範囲にあることが必歎である。ヤン
グ率が６００　ｋｇ／−未満ではＦＤＤの回転数を高く
すると磁気記録媒体がフラッグリングｔおこし磁気ヘッ
ドとの均一な接触が保℃ず記録ミスや再生ミスを起こし
線密度を上げることが困難になる。一方、ヤング率が７
５℃ｋｇ／−を超えると磁気記録媒体と磁気ヘッドとの
接触が強くなりすぎ磁気記録媒体の磁性層を摩耗し℃し
ま５゜ 本発明に於ける磁性層としては、ｒ−ＦｅｔＯ，。 Ｃｏ含有ｒ−ＦｅｌＯ，、微細針状鉄粉やバリウムフェ
ライト粉末を塗設せしめたものであつ℃よく、また、Ｃ
ｏ　＋Ｎｉ　＋Ｃｒ　＋Ｆｅ又はこれらの合金？メン干
。 蒸着又はスパッタリングなどの処理により形成せしめた
もので４ｈつてもよい。ＣＯ含有ｒ−Ｆｅ２０３の塗布
による面内記録のもの又はｃｏ−Ｎｉ合金のスパッタリ
ングによる垂直記録の磁性ｊ−が好ましい。 フｐツビーディスクとしては、９０ｍ以下ｙ）マイクロ
フｐツビーディスクが対象となる。９０ｔｍ７ｆｔ超え
る５１／４インチや８イ／ナデイスクは耐熱性が充分で
ない塩化ビニルジャケットに挿入され℃おり、かつ開放
型の為、使用環境を拡げる効果が期待出来ない。 本発明に於℃用いろＰＥＮフィルムとしてはαｔが３０
　Ｘ　ｌ　Ｏ−”／℃　以下であることが好ましい。Ｆ
ＤＤを構成する鉄やアルミニウムはαｔがはに２５〜３
０　Ｘ　ｌ　Ｏ−’／’Ｃであり、構成材の組合せや構
造によりαｔｔｔ３０Ｘ１０−ワ℃以下に容易に設計出
来るがαｔが３０　Ｘ　Ｉ　Ｌｌ−６／℃′ｌｊｔ超え
ると精密で態率な構造を設計することが困＠ＶＣなる。 更に、ＰＥＮフィルムのあらゆる方向に対してαｔの差
が５　Ｘ　１０−６／℃以下であることが好ましい。即
ち、αｔの最大値と最小値との差が５Ｘ　１０−’／’
Ｃ以上あると、紀碌時と再生時との温度差が大の場合ト
ランク丁れを起こし、トラック密度を高めることがＭＬ
＜なり、ＦＤＤに高価なサーボ機構を組みこむことが必
貴になり、マイク−フロンピーディスクに対応した小型
のＦＤＤ　Ｙ設計することが困難となる。 ＰＥＮフィルムを二軸配向する方法としては、公知の逐
次２軸延伸又は同時２軸延伸のいずれも適用できる。ま
たαｔの差が５　Ｘ　１０−６／℃以下のＰＩ；Ｎフィ
ルムを得ろためには、逐次２軸延伸したフィルムの中央
部分を採用してもよく、同時２軸延伸して広範囲の素材
を採取Ｌ′″Ｃもよいが、逐次２軸延伸したフィルムχ
ステングーにより再熱石垣することにより得られるもの
を使用することもできる。 〔発明の効果〕 本発明は、面内のあらゆる方向に於て、７０℃で１時間
加熱した時の熱収縮率が０．０５％以下とｔさい２軸配
向ＰＥＮフイルムを用いでいるので、室温から高温環境
での使用に於℃もａＪ逆的な熱変形がすもいことに加え
℃熱変形の永久的歪みが実質上なく、又高速回転しても
ヤング率が６００〜７５０ゆ／−のＰＥＮフィルムを用
いているので磁気ヘッドと均一な接触を保てるので、６
０〜７０℃の高温雰囲気下でも線密度とトランク密度を
共に上げた記ｔｔ答瀘の大きいマイクロフロッピー磁気
記録媒体を提供することが出来る。 また、１５０℃で１時間加熱した時の熱収縮率が０．１
〜１．５％の範囲にあり、磁性層を形成しても平坦で真
円のマイクロフロッピー磁気記録媒体が得られる。 史に非磁性基板とＬ″ＣαｔＹ３０Ｘ１０−’／’Ｃ以
下でαｔの差を５　Ｘ　１０−’／’Ｃ以下にすること
゛により、可逆的な熱変形の差をも実質上０に近づけら
れるので、マイクロフロッピー磁気記録媒体でありなが
ら、記憶容量′？！′従来の市販品であ７）８イ／千ｆ
　５１／４イ／チフロツピーデイスクと同等又はそれ以
上に大きくすることが出来る。 〔実施例〕 以丁尖施例に基づいて本発明の実施態様の一部を説明す
る。 なお、本発明における種々の物性値および特性は以下の
如＜Ｌ−’（測定されたものであり、か、　　つ定義さ
れる。 （１）　　収縮率（７０℃Ｘ　１　ｈｒ　）恒温恒湿槽
で無緊張状態、７０”Ｃ，６５％ＲＨに１時間放置し″
ｃ測測定た。原長をｌｏｗ測定した長さをｌとすると （（Ａ’ｏ−１）／ＪｏＪＸ１００（％）で表わす。 （２］　　収縮率（１５Ｕ’ＣＸ］ｈｒ）ギア老化試験
器で無緊張状態、１５Ｃ℃に１時間放置し℃測定した。 ｉｎをｌｏ、測定した長さをｅとすると （（ｌｏ−１Ｉ）／Ａ’ｏ）Ｘ１００（％）で表わす。 ［１１，（２＋項について非磁性基板フィルムの面内に
ついて製膜走行方向を００とし必要に応じ４５°、９０
’、１３５°の方向ニラいテ測定した。 （３）温度膨張係数 真空理工社製熱機械分析装置ｉｉ’ｌ’Ｍ−３０００を
恒温恒湿槽内に置き測定を行う。測定す／プルは予め所
定の条件（例えば８０℃、１２０分）で熱処理を施し、
このサンプルを試験機に取付は温度２０−Ｃ、湿度６０
％ＲＨ（相対湿度）と温度４０℃、Ｉ１１度６０％Ｒ）
ｌとの間での寸法変化を読取ることによって温度膨張保
′ｅｉを測定する。 サンプルの寸法は長さ１５１１＋幅５ｊｍであって２軸
配向フイルムの製膜走行方向、次いで反時計方向に４５
°ずつ１３５°までσ）サンプルを切り出し各角度θに
つ（・ての温度膨張係数αｔｆｔ求める。 （４）　　ヤング率 フイルムン試料巾１０ｍ、長さ１５備に切り、チマンク
間】００絽にして引張速度１０Ｕ／分、チャート速度５
００罪／分にインストーンタイプの万能引張拭躾装置に
て弓１張った。得られた荷ｌ−伸び曲線の立上り６岱の
接線よりヤング単？計算した。 （５）　　ドロップアウト 松下通信工業■製の３．５・ｒ／チ用ＦＤＤＪＵ−３６
２ｔｔ６００贋に改造し恒温恒湿憎に入れ、インクフェ
ースを介して東京工／ジニアリ／グｔａｉ裏のドロンブ
イントロンブアウトカ【７　ｙｐ−３Ｋ−４４４８ＩＣ
接続し”’ｃ：　ン”ｙグバルス乞測定した。 ま丁２５℃、５０％１１−１で薔込周波数２５０Ｋ［ｌ
ｚ、６（ｆｏｒ−の信号をＩ）Ｏトランクに記録し恒温
恒礪槽の雰囲気を７０″０．５０％Ｒ）ｉにかえ、再生
出力５０％以下又は３０％以下のミッシングパルス有無
を測定した。５０％以下のミッシングパルスがない場合
を艮、３０％以下のミッシングパルスはないが５０％以
下のミッシングパルスがある場合を町、３０％以下のミ
ッシングパルスがある場合を不可とした。 また、温度膨張係数の効果を更にみるため、上記記録を
５℃／１０％Ｒ）ｌで行ない再生をｈＯ℃／１０％ＲＨ
で行なつ℃同様にミッシングパルスを測定した。 実施例１ 平均粒子径０．２５μｍの酸化チタ／を０．２重貧％含
有してたる他限粘度０．６８のポリエチレン２．６ナフ
タレンシンカｌレボキシレートのペレツトを１７０℃で
５時間乾ｇｋした。このベンソトを常法に従つ一’ＣＴ
型タイにより溶融押出を行い、厚さ１０８０μｍの未延
伸フィルムを作成して、縦方向に１３５℃で３．７倍、
横方向に１４００で３．９倍逐次２軸延伸を行ない、更
に２３０　’Ｃで３０秒間熱固定を行い、表面粗さ０．
００６μｍで厚み７５μｍのＰＥＮフィルム？作成した
。このフィルムの面内の各方向の４％性ｔｔ表１に示す
Ｏ この様にし℃得られた２＠配向フイルムに、１記組成の
磁性塗布液を２．０μの厚さに金石した。 （磁性塗布液う １−　Ｆｅ、０．　　（Ｇｏ　２０％含有）　　　　　
　　２（ＪＯｊｌ［ｇ部塩化ビニール−酢酸ビニル共重
合樹脂 （ＵＣＣ袈ＶＡＧＨ）　　　　　　　３０嵐重部ポリウ
レタン（日本ポリウレタン 工業装ＰＰ−８８）　　　　　　　　２０ｆｉｔ部イン
シアネート化合物（日本ボリウレ タンエ莱製コロネート）ＩＬ）　　　　４０重量部カー
ボン（平均サイズ０．５μグ）　　　　２０３ｉ量部ジ
メチルシｐキサン　　　　　　　　　　２重量部トルエ
ン　　　　　　　　　　　　　　７０重量部メチルエナ
ルグトン　　　　　　　　　７０ｉｔＭシクジヘキサノ
ン　　　　　　　　　　７０重量部上記！ｌ！ｉ科を充
分に混合攪拌し″Ｃ塗布処理に供した。 次いで塗布面にカレンターロール処理を施した。その後
外径８８．９ｍのフレキシブルディスクに打抜き、テス
１−ＦＤＤに挿入し雰囲気２５℃、５０％Ｒ）ｌから７
０℃、５０％Ｒｆ（へ変化させた時のミッシングパルス
を測定した。その時のミンシングパルス有無？：我１に
示すが、５０％以下のミッシングパルスも発生せ丁艮好
であった。また、評価後のフレキシブルディスク表面を
ｍ察したが、摩耗浅もな（良好であった。 実施例２．比較例１〜４ 実施例１におい℃、熱固定温度を２１０℃とした時を実
施例２として１９０℃とした時を比較例１とＬ′″Ｃ結
果を表−１に示す。 次に実施例Ｉにおいて未延伸厚みを１３２０μｍとし℃
、縦Ｘ横Ｙ　４．Ｉ　Ｘ　４．３倍に延伸した場合？比
較例２とし毛、矢に比較例１ＯＰＥＮ〕イルムを２３０
℃、３０秒間でタテ方向にロールを用い弛緩熱処理を追
加した場合を比較例３と０１表−１に示す。 更に実施例１におい℃極限粘度０．６５のポリエチレン
テレフタレートのベレツト”３（用いた場合を比較例４
としＣｆ１−１に示す。 その結果は、実施例２を除きいずれも満足丁べきもので
なかった。 実施例３ 実施例１に於℃横延伸及び熱固定として公知のステンタ
ーを用いた場合を実施例３として表−２ＩＣ示すが、雰
囲気を５℃、１０％Ｒ）１から６０℃、１０％ＫＭへ変
化させた時のドジツプアウトカウンターの測定結果は再
生出力３０％以下の５７シングパルスがなく使用可であ
った。 実施例４ 実施例３における熱固定温度’に１９０℃とし、一旦巻
とったＰＥＮフィルムｔ２テンターにより熱固定温度２
３０　”Ｃで３０秒関再熱処理した結果を実施例４とし
て表−２に示すが、再生出力５０％以下のミンシングパ
ルスもなく非常に良好であった。 表−２

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）二軸配向ポリエチレンナフタレートフィルムを非磁
   性基板とし、該基板の少なくとも一表面に磁性層を設け
   てなる磁気記録媒体であつて、該基板となるフィルムは
   その面内のあらゆる方向において７０℃で１時間加熱し
   たときの熱収縮率が０．０５％以下であり、１５０℃で
   １時間加熱したときの熱収縮率が０．１〜１．５％の範
   囲にあり、かつヤング率が６００〜７５０ｋｇ／ｍｍ＾
   ２の範囲にあることを特徴とする直径が９０ｍｍ以下の
   磁気記録媒体からなるマイクロフロッピーディスク。 ２）面内のあらゆる方向における温度膨張係数が３０×
   １０＾−＾６／℃以下であり、最大値を示す温度膨張係
   数と最小値を示す温度膨張係数との差が５×１０＾−＾
   ６／℃以下である二軸配向フィルムを非磁性基板とした
   特許請求の範囲第１項記載のマイクロフロッピーディス
   ク。