JPS63288735A - ポリエステルフイルム - Google Patents
ポリエステルフイルムInfo
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- JPS63288735A JPS63288735A JP12255687A JP12255687A JPS63288735A JP S63288735 A JPS63288735 A JP S63288735A JP 12255687 A JP12255687 A JP 12255687A JP 12255687 A JP12255687 A JP 12255687A JP S63288735 A JPS63288735 A JP S63288735A
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Links
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はポリエステルフィルムに関し、更に詳しくは面
内における特性異方性が小ざく、モジュレーションの改
善されたフレキシブルディスクの製造に有用なポリエス
テルフィルムに関する。
内における特性異方性が小ざく、モジュレーションの改
善されたフレキシブルディスクの製造に有用なポリエス
テルフィルムに関する。
[従来技術とその問題点1
磁気記録フレキシブルディスク(以下、フレキシブルデ
ィスクと称する)は、通常、二軸配向ポリエステルフィ
ルムをベースとし、この表面に磁性微粒子をバインダー
とともに塗布して、或いは真空蒸着、スパッタリング、
メッキなどの方法で磁性金属源層を形成して磁性層を設
けることで製造される。
ィスクと称する)は、通常、二軸配向ポリエステルフィ
ルムをベースとし、この表面に磁性微粒子をバインダー
とともに塗布して、或いは真空蒸着、スパッタリング、
メッキなどの方法で磁性金属源層を形成して磁性層を設
けることで製造される。
近年、ディスクを用いた磁気記録・再生装置は磁気記録
の高密度化、高信頼化が進められ、これに伴ってフレキ
シブルディスクにも、(イ)記録に歪みが生じないよう
な機械的強度、(0)記録再生時の不測の熱によって寸
法変化をきたさないような耐熱寸法安定性、(ハ)磁性
層のn層化によって電磁変換特性が低下しないような優
れた表面平坦性、(41〜ラック1周にお(〕る出出入
電電の変動が小さい面内等方性、換言ずれば優れたモジ
ュレーション等の特性がますます要求され、これら特性
の改善されたディスクの開発が要望されている。
の高密度化、高信頼化が進められ、これに伴ってフレキ
シブルディスクにも、(イ)記録に歪みが生じないよう
な機械的強度、(0)記録再生時の不測の熱によって寸
法変化をきたさないような耐熱寸法安定性、(ハ)磁性
層のn層化によって電磁変換特性が低下しないような優
れた表面平坦性、(41〜ラック1周にお(〕る出出入
電電の変動が小さい面内等方性、換言ずれば優れたモジ
ュレーション等の特性がますます要求され、これら特性
の改善されたディスクの開発が要望されている。
これら特性のうち、例えばモジュレーションの改善を、
ディスクの製造過程で磁性層の磁性材料の磁化容易軸を
ランダマイナーを用いて等方化することで行うことが1
2案されている(特開昭60−193137号)。
ディスクの製造過程で磁性層の磁性材料の磁化容易軸を
ランダマイナーを用いて等方化することで行うことが1
2案されている(特開昭60−193137号)。
しかしながら、モジュレーションはベースフィルムの歪
み等によって悪化することがあり、上記提案のように未
固化状態の磁性層をランダマイナーによって無配向化し
てもその効果は小さい。ベースフィルムに起因するモジ
ュレーションの悪化はフレキシブルディスクを温湿度の
変化を伴う雰囲気や、高温度または低温度の雰囲気下で
使用する場合に特に問題となる。この悪化理由として、
二軸配向ポリエステルフィルムは一般に温度や湿度の変
化に伴って1法変化(伸縮)を生じ、しかしこの寸法変
化が等方向に起らないこと、換言すると二軸配向ポリエ
ステルフィルムに温度、湿度の膨張率の異方性があるこ
とが挙げられている。
み等によって悪化することがあり、上記提案のように未
固化状態の磁性層をランダマイナーによって無配向化し
てもその効果は小さい。ベースフィルムに起因するモジ
ュレーションの悪化はフレキシブルディスクを温湿度の
変化を伴う雰囲気や、高温度または低温度の雰囲気下で
使用する場合に特に問題となる。この悪化理由として、
二軸配向ポリエステルフィルムは一般に温度や湿度の変
化に伴って1法変化(伸縮)を生じ、しかしこの寸法変
化が等方向に起らないこと、換言すると二軸配向ポリエ
ステルフィルムに温度、湿度の膨張率の異方性があるこ
とが挙げられている。
また、フレキシブルディスクはこの上限使用温度を51
.5℃から60℃程度に拡大することが求められ、この
60℃での使用に耐えられるような寸法安定性、電磁変
換特性等を備えることが要望されている。この使用温度
の拡大はベースフィルムの上記寸法変化(伸縮)を大き
くし、また上記異方性を大きくする要因となる。
.5℃から60℃程度に拡大することが求められ、この
60℃での使用に耐えられるような寸法安定性、電磁変
換特性等を備えることが要望されている。この使用温度
の拡大はベースフィルムの上記寸法変化(伸縮)を大き
くし、また上記異方性を大きくする要因となる。
熱収縮率や寸法変化の小さいフレキシブルディスクを得
る手段として、従来から、ベースフィルムやディスクを
裁断し、これら複数枚を重ね合わせた状態で弛緩熱処理
する方法が提案されている(特開昭59−127233
号)。この熱処理は自由収縮の条件下で実施される点で
理想的であるものの、連続的に磁性層を形成したウェア
を処理できず、この為作業性や生産効率が低いという別
の問題をかかえている。
る手段として、従来から、ベースフィルムやディスクを
裁断し、これら複数枚を重ね合わせた状態で弛緩熱処理
する方法が提案されている(特開昭59−127233
号)。この熱処理は自由収縮の条件下で実施される点で
理想的であるものの、連続的に磁性層を形成したウェア
を処理できず、この為作業性や生産効率が低いという別
の問題をかかえている。
[発明の目的]
本発明者らは、この問題を改善すべく鋭意研究した結果
、特定の特性を有するポリエステルフィルムをベースと
すると、長尺のウェブを自由収縮条件を選択することな
く連続的に熱処理することでも熱収縮率1寸法安定性等
を改善できることを知見し、本発明に到達した。
、特定の特性を有するポリエステルフィルムをベースと
すると、長尺のウェブを自由収縮条件を選択することな
く連続的に熱処理することでも熱収縮率1寸法安定性等
を改善できることを知見し、本発明に到達した。
従って、本発明の目的は面内における特性異方性が小さ
くモジュレーションの改善された、殊に室温から60℃
程度の高温度雰囲気に置かれた場合にも寸法変化が実質
的になく、面内の温湿度に対する膨張率差の少ないフレ
キシブルディスクの製造に好適なポリエステルフィルム
を提供することにある。
くモジュレーションの改善された、殊に室温から60℃
程度の高温度雰囲気に置かれた場合にも寸法変化が実質
的になく、面内の温湿度に対する膨張率差の少ないフレ
キシブルディスクの製造に好適なポリエステルフィルム
を提供することにある。
[発明の構成・効果1
本発明の目的は、本発明によれば、フィルムの中心線平
均表面粗さ(Ra)が0.003〜0.015 ilm
であり、温度膨張率の面内異方性が6×10’/’C以
下であり、湿度膨張率の面内異方性が3X10−6/%
RH以下であり、かつ60℃、 80%R11の温湿度
条件下に72時間保持した際の縦方向収縮率が0.05
〜0.2%であってしかも横方向収縮率が該縦方向収縮
率より0.05〜O15%大ぎいことを特徴とするフレ
キシブルディスクの′IA造に供するポリエステルフィ
ルムによって達成される。
均表面粗さ(Ra)が0.003〜0.015 ilm
であり、温度膨張率の面内異方性が6×10’/’C以
下であり、湿度膨張率の面内異方性が3X10−6/%
RH以下であり、かつ60℃、 80%R11の温湿度
条件下に72時間保持した際の縦方向収縮率が0.05
〜0.2%であってしかも横方向収縮率が該縦方向収縮
率より0.05〜O15%大ぎいことを特徴とするフレ
キシブルディスクの′IA造に供するポリエステルフィ
ルムによって達成される。
本発明におけるポリエステルとはポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキ
シレート、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレ
ート等に代表される芳香族ポリエステルであり、このフ
ィルムは二軸延伸を施されたものであって、機械軸方向
(縦方向)及び幅方向(横方向)において機械的特性の
バランスしているもの、いわゆるバランスフィルムであ
る。
レート、ポリエチレン−2,6−ナフタレンジカルボキ
シレート、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレ
ート等に代表される芳香族ポリエステルであり、このフ
ィルムは二軸延伸を施されたものであって、機械軸方向
(縦方向)及び幅方向(横方向)において機械的特性の
バランスしているもの、いわゆるバランスフィルムであ
る。
フィルムの厚みは30〜80μm程度が好ましい。
本発明において“温度膨張率の面内異方性″とはフィル
ム面での全方向について温度膨張率を測定したときの該
膨張率の最も大ぎい値(最大値)と最も小さい値(最小
値)との差を意味し、本発明では後述する方法で求める
。また、パ湿度膨張率の面内異方性″とはフィルム面で
の全方向について湿度膨張率を測定したときの該膨張率
の最も大ぎい値(最大値)と最も小さい値(最小値)と
の差を意味し、本発明では後述する方法で求める。
ム面での全方向について温度膨張率を測定したときの該
膨張率の最も大ぎい値(最大値)と最も小さい値(最小
値)との差を意味し、本発明では後述する方法で求める
。また、パ湿度膨張率の面内異方性″とはフィルム面で
の全方向について湿度膨張率を測定したときの該膨張率
の最も大ぎい値(最大値)と最も小さい値(最小値)と
の差を意味し、本発明では後述する方法で求める。
本発明においては、温度膨張率の面内異方性は6x10
−6/’C以下でおる必要があり、これより大きいとフ
レキシブルディスク例えば96TPI (トラック・
パー・インチ)のフレキシブルディスクでオフ1〜ラツ
クを生じるという1ヘラプルが発生する。
−6/’C以下でおる必要があり、これより大きいとフ
レキシブルディスク例えば96TPI (トラック・
パー・インチ)のフレキシブルディスクでオフ1〜ラツ
クを生じるという1ヘラプルが発生する。
また、湿度膨張率の面内異方性は3xlO’/%RH以
下である必要かあり、これより大きいとディスクでの磁
気記録の高密度化が難しくなり、例えば上記96TP
Iのフレキシブルディスクで8600BPI(ピッ1〜
・パー・インチ)程度の記録密度を達成するのか難しく
なる。更に、これら面内異方性が大きいと、トラッキン
グナーボをかけるとぎディスクに対してヘッドが追従で
きなくなる問題もある。温度膨張率の面内異方性や湿度
膨張率の面内異方性が小さいことは、モジュレーション
が小さく、高品質のフレキシブルディスクをgjA造し
得ることになる。この“モジュレーション°゛はJIS
C6291(1983)によって規格化されているもの
であり、本発明のフィルムを用いてのディスクでは10
%以下のモジュレーションを達成できる。
下である必要かあり、これより大きいとディスクでの磁
気記録の高密度化が難しくなり、例えば上記96TP
Iのフレキシブルディスクで8600BPI(ピッ1〜
・パー・インチ)程度の記録密度を達成するのか難しく
なる。更に、これら面内異方性が大きいと、トラッキン
グナーボをかけるとぎディスクに対してヘッドが追従で
きなくなる問題もある。温度膨張率の面内異方性や湿度
膨張率の面内異方性が小さいことは、モジュレーション
が小さく、高品質のフレキシブルディスクをgjA造し
得ることになる。この“モジュレーション°゛はJIS
C6291(1983)によって規格化されているもの
であり、本発明のフィルムを用いてのディスクでは10
%以下のモジュレーションを達成できる。
本発明におけるポリエステルフィルムは、更に、中心線
平均表面粗さ(Ra)が0.003〜0.015 tl
mでおる必要がある。好ましい中心線平均表面粗さ(R
a)は0.005〜0.011 μmである。Raが0
.003μm未満では、表面が平坦すぎて滑り性に劣り
、かつブロッキング現象が起き、またこの現象に起因し
てフィルムにしわが生じたりし、更にまた耐摩耗性に劣
り、同一トラックについて1ooo万回のパスの耐久性
テストに合格できなくなるので、好ましくない。一方R
aが0.015μmより大きくなると、表面が粗れすぎ
て電磁変換特性が低下し、ドロップアウトが多くなるの
で、好ましくない。これらの現象は高密度化されたフレ
キシブルディスクにおいて顕著となる。
平均表面粗さ(Ra)が0.003〜0.015 tl
mでおる必要がある。好ましい中心線平均表面粗さ(R
a)は0.005〜0.011 μmである。Raが0
.003μm未満では、表面が平坦すぎて滑り性に劣り
、かつブロッキング現象が起き、またこの現象に起因し
てフィルムにしわが生じたりし、更にまた耐摩耗性に劣
り、同一トラックについて1ooo万回のパスの耐久性
テストに合格できなくなるので、好ましくない。一方R
aが0.015μmより大きくなると、表面が粗れすぎ
て電磁変換特性が低下し、ドロップアウトが多くなるの
で、好ましくない。これらの現象は高密度化されたフレ
キシブルディスクにおいて顕著となる。
本発明におけるポリエステルフィルムは、更に基準雰囲
気(26℃、65%RH)下にあるものを60℃。
気(26℃、65%RH)下にあるものを60℃。
80%RHの環境下に移し、この環境下に72時間保持
したときのフィルム収縮率が縦方向では0.05〜0.
2%であって、横方向では縦方向の値よりも0105〜
0.5%大きいことが必要である。これらの収縮率が上
記範囲外になると、フレキシブルディスクとして60℃
、80%Rtlの環境下に72時間ざらしたときに寸法
変化の異方性が大きくなり、かつモジュレーションが悪
化するようになるので、好ましくない。上述の収縮率を
満足することで、フレキシブルディスクが多少の環境変
化においても追従でき、記録再生の歪みが殆んど生じな
い。好ましい縦方向の収縮率は0.05〜0.15%で
あり、また好ましい横方向の収縮率は縦方向の値よりも
0.05〜0.4%大ぎいことである。
したときのフィルム収縮率が縦方向では0.05〜0.
2%であって、横方向では縦方向の値よりも0105〜
0.5%大きいことが必要である。これらの収縮率が上
記範囲外になると、フレキシブルディスクとして60℃
、80%Rtlの環境下に72時間ざらしたときに寸法
変化の異方性が大きくなり、かつモジュレーションが悪
化するようになるので、好ましくない。上述の収縮率を
満足することで、フレキシブルディスクが多少の環境変
化においても追従でき、記録再生の歪みが殆んど生じな
い。好ましい縦方向の収縮率は0.05〜0.15%で
あり、また好ましい横方向の収縮率は縦方向の値よりも
0.05〜0.4%大ぎいことである。
本発明のポリエステルフィルムはその製法によって限定
されることはない。ポリエステルフィルムの製造は、基
本的には、従来から当業者に知られた方法、或いは当業
界に蓄積された手段によって行うことができる。例えば
、ポリエステルに平均粒径が0.005〜0.5μ程度
、好ましくは0.01〜0.3μm程度の微細な不活性
粒子(例えばシリカ。
されることはない。ポリエステルフィルムの製造は、基
本的には、従来から当業者に知られた方法、或いは当業
界に蓄積された手段によって行うことができる。例えば
、ポリエステルに平均粒径が0.005〜0.5μ程度
、好ましくは0.01〜0.3μm程度の微細な不活性
粒子(例えばシリカ。
アルミナ、アルミナシリケート、ヂタニア、ガラス扮末
等〉を0.008〜1fflff1%含有させることで
フィルムの表面粗さを満足させることが好ましく、更に
説明すると、表面が粗にすぎる場合は不活性粒子の粒径
をより小さなものにするとか、添加量を減するとかの手
段を講するとよい。また、延伸は同時二軸延伸法でも、
逐次二軸延伸法でもよいが、後者がより好ましい。もつ
とも、延伸倍率は温度膨張率、湿度WB服率等の面内異
方性を所定の範囲にする点から選択され、縦方向延伸倍
率を3.4〜3.7倍とし、横方向延伸倍率を縦方向延
伸倍率よりも更に0.1〜0.2倍高くするのが好まし
い。二軸延伸されたフィルムは引続いて緊張下で熱固定
処理を施されるが、60%、 80%R1+での収縮率
(72時間保持)を所定の範囲にするには上記熱固定処
理の途中或いは処理俊にフィルムを横方向に加熱伸長す
せる、例えばステンターのレール間隔を拡大することが
好ましい。好ましい熱固定温度は、ポリエチレンテレフ
タレートの場合200°C〜235℃、ポリエチレン−
2,6−ナフタレンジカルボキシレートの場合200’
C〜245°C,ポリシクロヘキシレンジメチレンテレ
フタレートの場合170℃〜210’Cの程度である。
等〉を0.008〜1fflff1%含有させることで
フィルムの表面粗さを満足させることが好ましく、更に
説明すると、表面が粗にすぎる場合は不活性粒子の粒径
をより小さなものにするとか、添加量を減するとかの手
段を講するとよい。また、延伸は同時二軸延伸法でも、
逐次二軸延伸法でもよいが、後者がより好ましい。もつ
とも、延伸倍率は温度膨張率、湿度WB服率等の面内異
方性を所定の範囲にする点から選択され、縦方向延伸倍
率を3.4〜3.7倍とし、横方向延伸倍率を縦方向延
伸倍率よりも更に0.1〜0.2倍高くするのが好まし
い。二軸延伸されたフィルムは引続いて緊張下で熱固定
処理を施されるが、60%、 80%R1+での収縮率
(72時間保持)を所定の範囲にするには上記熱固定処
理の途中或いは処理俊にフィルムを横方向に加熱伸長す
せる、例えばステンターのレール間隔を拡大することが
好ましい。好ましい熱固定温度は、ポリエチレンテレフ
タレートの場合200°C〜235℃、ポリエチレン−
2,6−ナフタレンジカルボキシレートの場合200’
C〜245°C,ポリシクロヘキシレンジメチレンテレ
フタレートの場合170℃〜210’Cの程度である。
この熱処理の時間は20〜60秒程度であることが好ま
しい。
しい。
本発明のポリエステルフィルムは、この上に磁性層を設
けることで長尺状ウェブとすることができる。このウェ
ブを製造する方法は従来からの方法例えば磁性塗料を用
いる方法を用いることができる。磁性塗料は公知のもの
が使用できる。例えば、T−Fe203の粉末、セルロ
ースアセテ−1〜ブチレート、エポキシ樹脂、レシチン
、シリコーン油等をメチルイソブチルケトン、トルエン
等の溶媒で溶解・分散せしめたものが適用できる。磁性
塗料の乾燥も公知の手段2条件が適用できる。また、磁
性層が平滑化するように施すカレンダー処理も公知の手
段、公知の処理条件を適用することができる。磁性層が
形成された磁気記録媒体の巻取も公知の巻取設備がその
まま使用できる。ウェアの製造過程で、或いは得られる
ウェアを実質的な無緊張上連続的に熱処理(乾燥処理等
)することで熱収縮率、1法安定性の著しく改善された
ものを得ることができる。この熱処理は従来から採用さ
れている条件で行うのが好ましい。例えば、乾燥は10
0〜120℃、無緊張下で行い、ロールにしたのち約6
0℃でエイジングするのが好ましい。
けることで長尺状ウェブとすることができる。このウェ
ブを製造する方法は従来からの方法例えば磁性塗料を用
いる方法を用いることができる。磁性塗料は公知のもの
が使用できる。例えば、T−Fe203の粉末、セルロ
ースアセテ−1〜ブチレート、エポキシ樹脂、レシチン
、シリコーン油等をメチルイソブチルケトン、トルエン
等の溶媒で溶解・分散せしめたものが適用できる。磁性
塗料の乾燥も公知の手段2条件が適用できる。また、磁
性層が平滑化するように施すカレンダー処理も公知の手
段、公知の処理条件を適用することができる。磁性層が
形成された磁気記録媒体の巻取も公知の巻取設備がその
まま使用できる。ウェアの製造過程で、或いは得られる
ウェアを実質的な無緊張上連続的に熱処理(乾燥処理等
)することで熱収縮率、1法安定性の著しく改善された
ものを得ることができる。この熱処理は従来から採用さ
れている条件で行うのが好ましい。例えば、乾燥は10
0〜120℃、無緊張下で行い、ロールにしたのち約6
0℃でエイジングするのが好ましい。
本発明のポリエステルフィルム及び該フィルムを用いが
フレキシブルディスクは次の利点を有する。
フレキシブルディスクは次の利点を有する。
1、 5.25インチのディスクにおいて96丁PI
(トラツタ/インチ〉とするものではサーボ機構なし
でも1〜ラツキングずれによりミッシングパルスを生じ
ない。
(トラツタ/インチ〉とするものではサーボ機構なし
でも1〜ラツキングずれによりミッシングパルスを生じ
ない。
2.60℃までの熱履歴によってモジュレーションの悪
化(10%以上)を生じない。
化(10%以上)を生じない。
3、塗膜の耐久性を低下ざ駐ない。
4、トラッキング量ナーボにより高密度化をはかるに際
してはヘッドの追従性が良好で、ヘッド振動が少なく(
異方性が小さいため)、寿命の低下を生じないベースフ
ィルムとなる。
してはヘッドの追従性が良好で、ヘッド振動が少なく(
異方性が小さいため)、寿命の低下を生じないベースフ
ィルムとなる。
[実施例]
以下に実施例により本発明を詳述する。
なお、特性値の測定は下記のようにして行ったものであ
る。
る。
1、温度膨張率及びその面内異方性
フィルムから30度の角度をずらしながら、幅5mm、
長さ40mmのリンプルを採取し、これら1ナンプルに
ついて真空理工(I木製 熱機械試験器T)l−300
0を用いて、チャック間隔15mmで測定した。
長さ40mmのリンプルを採取し、これら1ナンプルに
ついて真空理工(I木製 熱機械試験器T)l−300
0を用いて、チャック間隔15mmで測定した。
測定の温度範囲は25°C〜70°Cとした。得られた
結果(温度膨張率:αt)の最大値と最小値の差をもっ
て面内異方性とした。
結果(温度膨張率:αt)の最大値と最小値の差をもっ
て面内異方性とした。
2、湿度膨張率及びその面内異方性
フィルムから30度の角度をずらしながら、幅5mm、
長さ40mmのサンプルを採取し、これらナンプルにつ
いて真空理工(I@製 熱機械試験器丁M−3000を
用いて、チャック間隔15mmで測定した。
長さ40mmのサンプルを採取し、これらナンプルにつ
いて真空理工(I@製 熱機械試験器丁M−3000を
用いて、チャック間隔15mmで測定した。
30’C,30%RHと30℃、 70%RHとの間の
寸法変化を測定してαhとした。
寸法変化を測定してαhとした。
得られた結果(湿度膨張率:αh)の最大値と最小値の
差をもって面内異方性とした。
差をもって面内異方性とした。
3、表面粗さ(Ra)
中心線平均粗さ: Ra (単位μm)としてJIS−
BO601で定義される値である。本発明では■小板研
究所の触針代表面相ffRf (SURFCORDER
5E−30C)を用いて、触針半径:2μm、測定圧:
0.03(] 、カットオフ値: 0.25mmの条件
下にフィルム表面′IFUさ曲線をかかせ、該フィルム
表面粗さ曲線からその中心線の方向にd111定長さし
の部分を扱き取り、この扱き取り部分の中心線をX軸と
し、縦倍率の方向をY軸として、粗さ曲線をY = f
(X)で表わしたとき次の式で与えられる値(Ra:
μm)をもって示した。
BO601で定義される値である。本発明では■小板研
究所の触針代表面相ffRf (SURFCORDER
5E−30C)を用いて、触針半径:2μm、測定圧:
0.03(] 、カットオフ値: 0.25mmの条件
下にフィルム表面′IFUさ曲線をかかせ、該フィルム
表面粗さ曲線からその中心線の方向にd111定長さし
の部分を扱き取り、この扱き取り部分の中心線をX軸と
し、縦倍率の方向をY軸として、粗さ曲線をY = f
(X)で表わしたとき次の式で与えられる値(Ra:
μm)をもって示した。
本発明では、基準長を2.5mmして5個測定し、値の
大きい方から1個除いた4個の平均値としてRaを表わ
した。
大きい方から1個除いた4個の平均値としてRaを表わ
した。
4、収縮率
フィルムを幅10mm、長さ約500mmのたんざく状
に切り、300mm間隔で標点を付けた。このフィルム
を60’C,80%RHの温湿度条件下に72時間保持
した(自由長)後取り出し、処理前後の標点間の距離の
変化から収縮率を求めた。なお、標点間の長さの測定は
処理前後ともに23°C,60%R1+の条件下で読取
顕微鏡を用いて行った。
に切り、300mm間隔で標点を付けた。このフィルム
を60’C,80%RHの温湿度条件下に72時間保持
した(自由長)後取り出し、処理前後の標点間の距離の
変化から収縮率を求めた。なお、標点間の長さの測定は
処理前後ともに23°C,60%R1+の条件下で読取
顕微鏡を用いて行った。
5、 モジュレーション
東京エンジニアリング■製のPEAK VOLTMET
ER3K−467を用いて測定した。
ER3K−467を用いて測定した。
実施例1
平均粒径0.3μmの酸化チタンを0.5重量%含有V
しめたポリエチレンテレフタレートをTダイから溶融押
出し、急冷ドラム上で冷却同化せしめて未延伸(厚さ1
050μm)フィルムを得た。このフィルムを縦(機械
)方向に3.6倍延伸しく温度85℃)、次いでクリッ
プで両端を把持しテンターオーブン中で横(幅)方向に
3.75倍に延伸しく温度115°C)、続いて215
℃で緊張熱固定した。
しめたポリエチレンテレフタレートをTダイから溶融押
出し、急冷ドラム上で冷却同化せしめて未延伸(厚さ1
050μm)フィルムを得た。このフィルムを縦(機械
)方向に3.6倍延伸しく温度85℃)、次いでクリッ
プで両端を把持しテンターオーブン中で横(幅)方向に
3.75倍に延伸しく温度115°C)、続いて215
℃で緊張熱固定した。
この熱固定は、3つのゾーンからなり、フィルムの流れ
の上流から下流側に向って熱風温度を上昇させるように
し、かつ最後のゾーンでテンターのレール幅を3%拡大
するようにして行った。熱固定処理後のフィルムをテン
ターオーブンより外に出し、厚み75μmの二軸配向フ
ィルムを得た。
の上流から下流側に向って熱風温度を上昇させるように
し、かつ最後のゾーンでテンターのレール幅を3%拡大
するようにして行った。熱固定処理後のフィルムをテン
ターオーブンより外に出し、厚み75μmの二軸配向フ
ィルムを得た。
この二軸配向フィルムのうち全幅の約173の幅を中央
部から採取し、製品(センター採り製品)としlこ。
部から採取し、製品(センター採り製品)としlこ。
この製品の温度膨張率の面内異方性(△αt)は4xl
O−6/℃であり、湿度膨張率の面内異方性(△αh)
は2xlO−6/’CFあり、更ニ60℃、 80%R
Hにおいて72時間保持したときの収縮率は縦方向0.
13%、横方向0.55%であった。更に、該製品の表
面粗さ(Ra)は0.010μmであった。
O−6/℃であり、湿度膨張率の面内異方性(△αh)
は2xlO−6/’CFあり、更ニ60℃、 80%R
Hにおいて72時間保持したときの収縮率は縦方向0.
13%、横方向0.55%であった。更に、該製品の表
面粗さ(Ra)は0.010μmであった。
この二軸配向フィルム(製品)を基盤とし、次の組成の
磁性塗料を固形分で3q/′rriとなるように塗布し
、120℃ニテ乾燥後引続イテ80°C,300K(]
/cm(線圧)にてカレンダー処理を施した。
磁性塗料を固形分で3q/′rriとなるように塗布し
、120℃ニテ乾燥後引続イテ80°C,300K(]
/cm(線圧)にてカレンダー処理を施した。
磁性塗料の組成
Fe−Coメタル磁性粉 ioo重量部塩ビ
・酢ビ共重合体樹脂 1ol/(ユニオンカーバ
イド社製VAGII)ウレタン樹脂
17〃(グツドリッチ社製ニスチン5701)硬化剤
10 、/(バイエル社
製デスモジュールL−75)酢酸ブチル
14o〃メチルエチルケトン 200
重量部得られたコーテッドウェブをディスク(5,25
インチ)状に打抜き、60℃、 80%RHの雰囲気に
72時間保持した後のフレキシブルディスクのモジュレ
ーションを測定した。この結果を表1に示す。
・酢ビ共重合体樹脂 1ol/(ユニオンカーバ
イド社製VAGII)ウレタン樹脂
17〃(グツドリッチ社製ニスチン5701)硬化剤
10 、/(バイエル社
製デスモジュールL−75)酢酸ブチル
14o〃メチルエチルケトン 200
重量部得られたコーテッドウェブをディスク(5,25
インチ)状に打抜き、60℃、 80%RHの雰囲気に
72時間保持した後のフレキシブルディスクのモジュレ
ーションを測定した。この結果を表1に示す。
この表から明らかなように打扱き直後のフレキシブルデ
ィスクは高温、高湿下に放置されてもモジュレーション
は2%と良好なものであった。
ィスクは高温、高湿下に放置されてもモジュレーション
は2%と良好なものであった。
実施例2
平均粒径0.12μ…のシリカを0.25重量%含付け
しめたポリエブーレンー2,6−ナフタレンジカルポキ
シレーi・を押出機で溶融しTダイより押出し、冷却ド
ラム上で冷却固化ざVて厚み920 (tmの未延伸フ
ィルムを得た。この未延伸フィルムを実施例1と同様に
機械方向に3.4倍1幅方向に3.5倍の条件で延伸し
た後、160℃にて熱固定して一旦ロールに巻取った。
しめたポリエブーレンー2,6−ナフタレンジカルポキ
シレーi・を押出機で溶融しTダイより押出し、冷却ド
ラム上で冷却固化ざVて厚み920 (tmの未延伸フ
ィルムを得た。この未延伸フィルムを実施例1と同様に
機械方向に3.4倍1幅方向に3.5倍の条件で延伸し
た後、160℃にて熱固定して一旦ロールに巻取った。
次いて、このロールをフィルムの両端部を把持しつつ2
20°Cにて熱処理しながら巻返した。この熱処理工程
は延伸熱処理とは逆方向にフィルムを移動させながら加
熱することになり、これによりフィルム面内の異方性が
減少し、Δα【は4xlO’/’Cであり、かつ△αh
は2×10−6 /%R1+でおった。
20°Cにて熱処理しながら巻返した。この熱処理工程
は延伸熱処理とは逆方向にフィルムを移動させながら加
熱することになり、これによりフィルム面内の異方性が
減少し、Δα【は4xlO’/’Cであり、かつ△αh
は2×10−6 /%R1+でおった。
なお、熱処理工程の最終ゾーンでテンターのレール幅を
1%拡大した。jqられたフィルムの厚みは75μmで
あった。
1%拡大した。jqられたフィルムの厚みは75μmで
あった。
この二軸配向フィルムを基盤とし、実施例1と同様にし
て5.25インチのフレキシブル磁気記録媒体を得た。
て5.25インチのフレキシブル磁気記録媒体を得た。
この結果を表1に示す。表1から明らかなように、この
もののモジュレーションは良好であった。
もののモジュレーションは良好であった。
実施例3
ポリマーとしてポリ(1,4−シクロヘキシレンジメチ
レンテレフタレート)85モル%とポリ(1゜4−シク
ロヘキシレンジメチレンイソフタレート)15モル%の
共用合物(P CHD Tと略記する)を使用し、平均
粒径0.3μmの酸化チタンを0.301量%分散uし
めてから、実施例1と同5な条件でキャスティングを実
施し、次いで二軸延伸(但し、機械方向延伸倍率3.6
倍1幅方向延伸倍率3.7倍)し、続いて140’Cで
熱固定処理を行った。更にこのフィルムを両端部を把持
しつつ180℃にて熱処理しながら巻返した。この再ス
テンターの幅はフィルム入口から出口まで一定幅として
変えなかった。
レンテレフタレート)85モル%とポリ(1゜4−シク
ロヘキシレンジメチレンイソフタレート)15モル%の
共用合物(P CHD Tと略記する)を使用し、平均
粒径0.3μmの酸化チタンを0.301量%分散uし
めてから、実施例1と同5な条件でキャスティングを実
施し、次いで二軸延伸(但し、機械方向延伸倍率3.6
倍1幅方向延伸倍率3.7倍)し、続いて140’Cで
熱固定処理を行った。更にこのフィルムを両端部を把持
しつつ180℃にて熱処理しながら巻返した。この再ス
テンターの幅はフィルム入口から出口まで一定幅として
変えなかった。
得られた二軸配向フィルムは、Δαtが5×10−6/
’C,△αhが2X10−6/%RHであって、等方性
のよいフィルムであった。
’C,△αhが2X10−6/%RHであって、等方性
のよいフィルムであった。
更にこのフィルムの60℃、 80%(72時間保持)
における熱収縮率は縦方向0.20%、横方向0.33
%であった。
における熱収縮率は縦方向0.20%、横方向0.33
%であった。
この二軸配向フィルムを基盤とし、実施例2と同様にし
てフレキシブル磁気記録媒体を得た。この結果を表1に
示す。表1から明らかなように、このもののモジュレー
ションは良好であった。
てフレキシブル磁気記録媒体を得た。この結果を表1に
示す。表1から明らかなように、このもののモジュレー
ションは良好であった。
比較例1
実施例1に使用したポリエチレンテレフタレートをキャ
スティング後二軸延伸(但し、機械方向延伸倍率3.6
1幅方向延伸倍率3.1)を施し、更にトーイン(幅方
向の制限収縮)3%の条件で215℃で熱固定した。得
られたフィルムからセンター採りしたものはへαtが4
xlO−’/’C。
スティング後二軸延伸(但し、機械方向延伸倍率3.6
1幅方向延伸倍率3.1)を施し、更にトーイン(幅方
向の制限収縮)3%の条件で215℃で熱固定した。得
られたフィルムからセンター採りしたものはへαtが4
xlO−’/’C。
Δαhが2X10−6/%Rtlであった。また、60
℃。
℃。
80%R11、72時間の寸法変化率は縦方向では0.
12%。
12%。
横方向では0.0%であった。
この二軸配向フィルムを基盤とし、実施例1と同様にし
てフレキシブル磁気記録媒体を得た。この結果を表1に
示ず。このものはモジュレーションの悪いものであった
。
てフレキシブル磁気記録媒体を得た。この結果を表1に
示ず。このものはモジュレーションの悪いものであった
。
Claims (1)
- フィルムの中心線平均表面粗さ(Ra)が0.003〜
0.015μmであり、温度膨張率の面内異方性が6×
10^−^6/℃以下であり、湿度膨張率の面内異方性
が3×10^−^6/%RH以下であり、かつ60℃、
80%RHの温湿度条件下に72時間保持した際の縦方
向収縮率が0.05〜0.2%であってしかも横方向収
縮率が該縦方向収縮率より0.05〜0.5%大きいこ
とを特徴とするフレキシブルディスクの製造に供するポ
リエステルフィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12255687A JPS63288735A (ja) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | ポリエステルフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12255687A JPS63288735A (ja) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | ポリエステルフイルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63288735A true JPS63288735A (ja) | 1988-11-25 |
JPH0530375B2 JPH0530375B2 (ja) | 1993-05-07 |
Family
ID=14838811
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12255687A Granted JPS63288735A (ja) | 1987-05-21 | 1987-05-21 | ポリエステルフイルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63288735A (ja) |
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JPS62124926A (ja) * | 1985-11-27 | 1987-06-06 | Teijin Ltd | ポリエステルフイルム |
-
1987
- 1987-05-21 JP JP12255687A patent/JPS63288735A/ja active Granted
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Also Published As
Publication number | Publication date |
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