JPH0397523A - 等方性ポリエステルフイルム - Google Patents
等方性ポリエステルフイルムInfo
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- JPH0397523A JPH0397523A JP23458489A JP23458489A JPH0397523A JP H0397523 A JPH0397523 A JP H0397523A JP 23458489 A JP23458489 A JP 23458489A JP 23458489 A JP23458489 A JP 23458489A JP H0397523 A JPH0397523 A JP H0397523A
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Landscapes
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は等方性ポリエステルフイルムに関し、更に詳し
くは寸法変化及びその面内異方性が極めて少なく、特に
磁気ディスク用途での磁性層塗工時に優れた加工性を与
える等方性二軸配向ポリエステルに関する。
くは寸法変化及びその面内異方性が極めて少なく、特に
磁気ディスク用途での磁性層塗工時に優れた加工性を与
える等方性二軸配向ポリエステルに関する。
く従来技術〉
二軸配向ポリエステルフイルムはその優れた性質から、
種々の工業用途に供せられているが、特に磁気ディスク
.フィルムコンデンサー,写真製版.FPC.メンプレ
ンスイッチ,などの用途ではフイルム面内の機械的性質
, amliillfl!張係数.熱収縮率等の寸法変
化が縦・横方向共にバランスした等方的なフィルムが望
まれる。そこで等方化に関する改良策として、フィルム
製躾工程上のボーイング現象を小さくして温度膨張係数
の面内異方性をある程度小さくして等方化を図ることが
提案されている。例えば、特開昭57−87331号,
特開昭59−139131号,特開平1−150521
号,特開平1一165423号がある。
種々の工業用途に供せられているが、特に磁気ディスク
.フィルムコンデンサー,写真製版.FPC.メンプレ
ンスイッチ,などの用途ではフイルム面内の機械的性質
, amliillfl!張係数.熱収縮率等の寸法変
化が縦・横方向共にバランスした等方的なフィルムが望
まれる。そこで等方化に関する改良策として、フィルム
製躾工程上のボーイング現象を小さくして温度膨張係数
の面内異方性をある程度小さくして等方化を図ることが
提案されている。例えば、特開昭57−87331号,
特開昭59−139131号,特開平1−150521
号,特開平1一165423号がある。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかし、これら従来技術で得られるフィルムは未だ熱収
縮率が大きかったり、等方化が十分でない状況にある。
縮率が大きかったり、等方化が十分でない状況にある。
またこれらはフィルムが加工工程を経る間で受ける等方
変形を考慮したものではない。
変形を考慮したものではない。
〈課題を解決する為の手段〉
本発明の目的は、特に加熱処理の後加工を受ける場合に
おいても、優れた等方性を確保できる二軸配向ポリエス
テルフイルムを提供することにある。
おいても、優れた等方性を確保できる二軸配向ポリエス
テルフイルムを提供することにある。
本発明は、瀉1!K60℃,湿度80%の条件下に72
時問保持したときの面内寸法変化率が±0.02%以下
であり、かつ温度105℃に30分間保持したときの面
内寸法変化率の平均値が0.5%以下であるとともにそ
の面内異方性が±0.1%以下であることを特徴とする
等方性二軸配向ポリエステルフイルムである。
時問保持したときの面内寸法変化率が±0.02%以下
であり、かつ温度105℃に30分間保持したときの面
内寸法変化率の平均値が0.5%以下であるとともにそ
の面内異方性が±0.1%以下であることを特徴とする
等方性二軸配向ポリエステルフイルムである。
本発明におけるポリエステルとは芳香族ジカルボン酸を
主たる酸或分とし、脂肪族グリコールを主たるグリコー
ル成分とするポリエステルである。
主たる酸或分とし、脂肪族グリコールを主たるグリコー
ル成分とするポリエステルである。
かかるポリエステルは実質的に線状であり、そしてフイ
ルム形成性特に溶融成形によるフイルム形成性を有する
。芳香族ジカルボン酸としては、例えばテレフタノレ酸
,ナフタレンジカノレボン酸.イソフタル酸.ジフエノ
キシエタンジカルボン酸,ジフェニルジカルボン酸,ジ
フェニルエーテルジカルボン酸.ジフエニルスルホンジ
カルボン酸,ジフエニノレケトンジカノレボン酸,アン
スラセンジカルボン酸等を挙げることができる。脂肪族
グリコールとしては、例えばエチレングリコール,トリ
メチレングリコール,テトラメチレングリコール,ペン
タメチレングリ]一ル.ヘキサメチレングリコール.デ
カメチレングリコール等の如き炭素数2〜10のポリメ
チレングリコールあるいはシクロヘキサンジメタノール
の如き脂環族ジオール等を挙げることができる。
ルム形成性特に溶融成形によるフイルム形成性を有する
。芳香族ジカルボン酸としては、例えばテレフタノレ酸
,ナフタレンジカノレボン酸.イソフタル酸.ジフエノ
キシエタンジカルボン酸,ジフェニルジカルボン酸,ジ
フェニルエーテルジカルボン酸.ジフエニルスルホンジ
カルボン酸,ジフエニノレケトンジカノレボン酸,アン
スラセンジカルボン酸等を挙げることができる。脂肪族
グリコールとしては、例えばエチレングリコール,トリ
メチレングリコール,テトラメチレングリコール,ペン
タメチレングリ]一ル.ヘキサメチレングリコール.デ
カメチレングリコール等の如き炭素数2〜10のポリメ
チレングリコールあるいはシクロヘキサンジメタノール
の如き脂環族ジオール等を挙げることができる。
本発明において、ポリエステルとしては、例えばアルキ
レンテレフタレート及び/又はアルキレンナフタレート
を主たる構成成分とするものが好ましく用いられる。
レンテレフタレート及び/又はアルキレンナフタレート
を主たる構成成分とするものが好ましく用いられる。
かかるポリエステルのうちでも例えばポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレートはも
ちろんのこと、例えば全ジカルボン酸成分の80モル%
以上がテレフタル酸及び/又は2,6−ナフタレンジカ
ルボン酸であり、全グリコール或分の80モル%以上が
エチレングリコールである共重合体が好ましい。その際
全酸成分の20モル%以下のジカルボン酸はテレフタル
酸及び/又は2.6−ナフタレンジカルボン酸以外の上
記芳香族ジカルボン酸であることができ、あるいは例え
ばアジビン酸.セバチン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸
;シクロヘキサン− 1.4−ジカノレボン酸の如き脂
環族ジカルボン酸等であることができる。
フタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレートはも
ちろんのこと、例えば全ジカルボン酸成分の80モル%
以上がテレフタル酸及び/又は2,6−ナフタレンジカ
ルボン酸であり、全グリコール或分の80モル%以上が
エチレングリコールである共重合体が好ましい。その際
全酸成分の20モル%以下のジカルボン酸はテレフタル
酸及び/又は2.6−ナフタレンジカルボン酸以外の上
記芳香族ジカルボン酸であることができ、あるいは例え
ばアジビン酸.セバチン酸等の如き脂肪族ジカルボン酸
;シクロヘキサン− 1.4−ジカノレボン酸の如き脂
環族ジカルボン酸等であることができる。
また、全グリコール成分の20モル%以下は、エチレン
グリコール以外の上記グリコールであることができ、あ
るいは例えばハイドOキノン、レゾルシン、2.2−ビ
ス(4−ヒドロキシフエニル)ブロバン等の如き芳香族
ジオール;1,4−ジヒド0キシメチルベンゼンの如き
芳香環を含む脂肪族ジオール:ポリエチレングリコール
、ボリプロビレングリコール。ポリテトラメチレングリ
コール等の如きポリアルキレングリコール(ポリオキシ
アルキレングリコール)等であることもできる。
グリコール以外の上記グリコールであることができ、あ
るいは例えばハイドOキノン、レゾルシン、2.2−ビ
ス(4−ヒドロキシフエニル)ブロバン等の如き芳香族
ジオール;1,4−ジヒド0キシメチルベンゼンの如き
芳香環を含む脂肪族ジオール:ポリエチレングリコール
、ボリプロビレングリコール。ポリテトラメチレングリ
コール等の如きポリアルキレングリコール(ポリオキシ
アルキレングリコール)等であることもできる。
また、本発明におけるポリエステルには、例えばヒドロ
キシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸;ω−ヒドロキシカ
プロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシカルボン酸に
由来する成分を、ジカルボン酸成分およびオキシカルボ
ン酸成分の総量に対し20モル%以下で共重合あるいは
結合するものも包含される。
キシ安息香酸の如き芳香族オキシ酸;ω−ヒドロキシカ
プロン酸の如き脂肪族オキシ酸等のオキシカルボン酸に
由来する成分を、ジカルボン酸成分およびオキシカルボ
ン酸成分の総量に対し20モル%以下で共重合あるいは
結合するものも包含される。
さらに本発明におけるポリエステルには実質的に線状で
ある範囲の量、例えば全酸或分に対し2モル%以下の量
で、3官能以上のポリカルボン酸又はボリヒドロキシ化
合物、例えばトリメリット酸.ペンタエリスリトール等
を共重合したものも包含される。
ある範囲の量、例えば全酸或分に対し2モル%以下の量
で、3官能以上のポリカルボン酸又はボリヒドロキシ化
合物、例えばトリメリット酸.ペンタエリスリトール等
を共重合したものも包含される。
上記ポリエステルは、それ自体公知であり、且つそれ自
体公知の方法で製造することができる。
体公知の方法で製造することができる。
上記ポリエステルとしては、0−クロロフェノール中の
溶液として35℃で測定して求めた固有粘度が約0.4
〜0.8のものが好ましい。
溶液として35℃で測定して求めた固有粘度が約0.4
〜0.8のものが好ましい。
本発明におけるポリエステルフイルムは、温度60℃,
湿度80%の条件下に72時問保持したときの面内寸法
変化率が±0.02%以内にあることが必要である。こ
の面内寸法変化率が±0.02%より大きいフイルムで
は、例えば該フイルムを用いて高級磁気ディスクを製造
した場合該ディスクの利用環境下での寸法変化が大きく
、トラックずれのトラブルを起すので好ましくない。
湿度80%の条件下に72時問保持したときの面内寸法
変化率が±0.02%以内にあることが必要である。こ
の面内寸法変化率が±0.02%より大きいフイルムで
は、例えば該フイルムを用いて高級磁気ディスクを製造
した場合該ディスクの利用環境下での寸法変化が大きく
、トラックずれのトラブルを起すので好ましくない。
ポリエステルフイルムの表面に磁性層を塗工する工程で
は、通常磁性層の塗工,乾燥,カレンダ.硬化処理,歪
除去処理等が行なわれる。これら処理では通常60〜1
20℃程度の加熱処理が含まれており、ポリエステルフ
イルムの温度がポリエステルのガラス転移点(Till
)以上となるケースがあり、該フイルムが熱変形をき
たすことが多い。
は、通常磁性層の塗工,乾燥,カレンダ.硬化処理,歪
除去処理等が行なわれる。これら処理では通常60〜1
20℃程度の加熱処理が含まれており、ポリエステルフ
イルムの温度がポリエステルのガラス転移点(Till
)以上となるケースがあり、該フイルムが熱変形をき
たすことが多い。
フイルム面内の熱収縮率が大きい場合や、その面内異方
性が大きい場合は、特に異方収縮によって平面性を著し
く損う。そして磁気ディスクの歪みに起因した、ヘッド
との密着性を悪化することになり、磁気ディスクとして
の機能性を失い、製品の歩留りを低下させる。また、こ
の平面性を回復させる為には、別に歪除去処理等の生産
性を阻害する工程を付加させることが必要となる。
性が大きい場合は、特に異方収縮によって平面性を著し
く損う。そして磁気ディスクの歪みに起因した、ヘッド
との密着性を悪化することになり、磁気ディスクとして
の機能性を失い、製品の歩留りを低下させる。また、こ
の平面性を回復させる為には、別に歪除去処理等の生産
性を阻害する工程を付加させることが必要となる。
本発明におけるポリエステルフイルムは、かかる磁性層
塗■工程に於けるトラブルの解消,生産性の向上をより
一層改善するために、上述した面内寸法変化率の特性を
有すると同時に、105℃で30分間保持したときの面
内寸法変化率が0.5%以下、好ましくは0.3%以下
であると共に面内の寸法変化率の異方性が±0.1%以
内であることが必要である。これにより、上記の製品歩
留りを向上させると共に、最終製品としての高級磁気デ
ィスク用途に最も好ましい特性を得ることができる。
塗■工程に於けるトラブルの解消,生産性の向上をより
一層改善するために、上述した面内寸法変化率の特性を
有すると同時に、105℃で30分間保持したときの面
内寸法変化率が0.5%以下、好ましくは0.3%以下
であると共に面内の寸法変化率の異方性が±0.1%以
内であることが必要である。これにより、上記の製品歩
留りを向上させると共に、最終製品としての高級磁気デ
ィスク用途に最も好ましい特性を得ることができる。
かかる特性を有するポリエステルフイルムは、例えばポ
リエステルを溶融押出し後急冷固化して未延伸フイルム
とし、該未延伸フイルムを縦方向に一軸延伸した後横方
向に延伸する際に、横延伸域で多段階に昇温させ、その
延伸前段温度をTo〜Tg+50℃とし、延伸後段を次
の熱固定温度TCに対し、TC−30℃〜TC+10℃
の範囲で延伸すると共に、熱固定域において温度TCを
T−(ポリエステルの融点)−90℃〜TI −20℃
として、横方向に5〜20%伸長させながら熱固定させ
、次いで、フイルムをTg+30℃以下に一旦冷却させ
た後、横方向を拘束せずに加熱処理することにより横方
向(幅方向〉及び縦方向に弛緩処理させることによって
製造することができる。この1!lml処理は二輪方向
の延伸倍率にもよってその条件が変るが、例えば二輪方
向に3.6{8延伸したポリエチレンテレフタレートフ
イルムの場合加温ガスによる140℃での加熱浮上処理
で、低張力下例えば張力5K’J/aiにて1〜5秒間
両軸方向に弛緩させるとよい。
リエステルを溶融押出し後急冷固化して未延伸フイルム
とし、該未延伸フイルムを縦方向に一軸延伸した後横方
向に延伸する際に、横延伸域で多段階に昇温させ、その
延伸前段温度をTo〜Tg+50℃とし、延伸後段を次
の熱固定温度TCに対し、TC−30℃〜TC+10℃
の範囲で延伸すると共に、熱固定域において温度TCを
T−(ポリエステルの融点)−90℃〜TI −20℃
として、横方向に5〜20%伸長させながら熱固定させ
、次いで、フイルムをTg+30℃以下に一旦冷却させ
た後、横方向を拘束せずに加熱処理することにより横方
向(幅方向〉及び縦方向に弛緩処理させることによって
製造することができる。この1!lml処理は二輪方向
の延伸倍率にもよってその条件が変るが、例えば二輪方
向に3.6{8延伸したポリエチレンテレフタレートフ
イルムの場合加温ガスによる140℃での加熱浮上処理
で、低張力下例えば張力5K’J/aiにて1〜5秒間
両軸方向に弛緩させるとよい。
〈実施例〉
以下,実施例に基づき本発明を更に説明する。
なお、フイルム特性は次の方法で測定した。
〔フイルムの寸法変化率]
測定方向に沿って10M幅, 15(is長のサンプ
ルを切り出し、該サンプルの艮手方向の両端近傍に標点
を付け、処理前にこの標点間距離を測長し、所定の温湿
度に調整されたオーブンに自由端で所定の時間放置する
。これを取り出し室温で調整後、再度標点間距離を測長
し、寸法変化率を求める。
ルを切り出し、該サンプルの艮手方向の両端近傍に標点
を付け、処理前にこの標点間距離を測長し、所定の温湿
度に調整されたオーブンに自由端で所定の時間放置する
。これを取り出し室温で調整後、再度標点間距離を測長
し、寸法変化率を求める。
フイルム面内異方性については、原反フイルムから18
0゜にわたり10゜毎にサンプルを切り出し、これらザ
ンプルを用いて寸法変化率を測定し、これらの最大値と
最小値から求める。
0゜にわたり10゜毎にサンプルを切り出し、これらザ
ンプルを用いて寸法変化率を測定し、これらの最大値と
最小値から求める。
実施例1
ポリエチレンテレフタレートを溶融押出し後急冷固化し
て未延伸フイルムとし、続いて3.6倍に縦延伸した。
て未延伸フイルムとし、続いて3.6倍に縦延伸した。
得られた縦延伸フイルムをテンターに供し、横延伸域で
多段階に昇温し、すなわち前段温度を100℃,後段温
度を170℃から220℃と変化させながら3.6倍に
横延伸し、熱固定域で横方向(幅方向〉に15%伸長さ
せながら215℃で熱固定させた。次いで、熱固定フイ
ルムを100℃以下に一旦冷却させた後、幅方向を拘束
せずに加熱空気による140℃の加熱浮上処理に供し、
張力5K9 / dにて1〜5秒間二輪方向(幅方向及
び縦方向)に弛Il処理させた。
多段階に昇温し、すなわち前段温度を100℃,後段温
度を170℃から220℃と変化させながら3.6倍に
横延伸し、熱固定域で横方向(幅方向〉に15%伸長さ
せながら215℃で熱固定させた。次いで、熱固定フイ
ルムを100℃以下に一旦冷却させた後、幅方向を拘束
せずに加熱空気による140℃の加熱浮上処理に供し、
張力5K9 / dにて1〜5秒間二輪方向(幅方向及
び縦方向)に弛Il処理させた。
得られたポリエステルフイルムの特性を第1表に示す。
このフイルムは、60℃.80%湿度,72時間の環境
下での寸法変化率は十分低く、105℃,30分間の熱
収も低く、フイルムのセンターからエッジにおけての幅
方向の熱収面内異方性も小さく、加工時の平面性も極め
て良好であり、カール歪等もなく、歪取り工程も不要で
ある。
下での寸法変化率は十分低く、105℃,30分間の熱
収も低く、フイルムのセンターからエッジにおけての幅
方向の熱収面内異方性も小さく、加工時の平面性も極め
て良好であり、カール歪等もなく、歪取り工程も不要で
ある。
比較例1
実施例1の縦延伸フイルムを3.6倍に横延伸する際一
段階の温度、すなわち100℃の温度で行ない、210
℃で幅方向の伸長をすることなく熱固定し、そのまま巻
きとった。
段階の温度、すなわち100℃の温度で行ない、210
℃で幅方向の伸長をすることなく熱固定し、そのまま巻
きとった。
得られたポリエステルフイルムの特性を第1表に示す。
このフイルムは加工時の平面性が悪く、カール等による
製品歩留りが悪く、歪取り工程が必要である。
製品歩留りが悪く、歪取り工程が必要である。
次いでこのフイルムを該熱固定ゾーンと連続して,14
0℃の空気による加熱浮上処理により、走行張力5 K
g / cdにて幅方向及び縦方向に弛緩処理させた。
0℃の空気による加熱浮上処理により、走行張力5 K
g / cdにて幅方向及び縦方向に弛緩処理させた。
得られたポリエステルフイルムの特性を第1表に示す。
このフイルムの中央部は、105℃,30分の熱収値が
最大値/Wk小1a:0,21%/ 0.17%とほぼ
バランスしているが、フイルムのエッジ部では延伸時の
配向角がボーイング現象により大きく歪み、面内配向が
非等方となり、熱収値の最大値/最小埴の0.45%/
0.12%と非等方となり、製品の幅歩留が大きく低
下している。
最大値/Wk小1a:0,21%/ 0.17%とほぼ
バランスしているが、フイルムのエッジ部では延伸時の
配向角がボーイング現象により大きく歪み、面内配向が
非等方となり、熱収値の最大値/最小埴の0.45%/
0.12%と非等方となり、製品の幅歩留が大きく低
下している。
第1表
比較例2
実施例1の縦延伸フイルムを3.6倍に横延伸する際、
延伸温度を一段階の100℃とし、215℃で熱固定し
、咳熱固定ゾーンの後半で幅方向に0.8%の制限収縮
を与えながら、180℃で熱処理した。
延伸温度を一段階の100℃とし、215℃で熱固定し
、咳熱固定ゾーンの後半で幅方向に0.8%の制限収縮
を与えながら、180℃で熱処理した。
〈発明の効果〉
本発明のポリエステルフイルムは湿熱条件下、更に乾熱
条件下での寸法安定性及び等方性に優れ、特に磁気ディ
スク製造での平面性.製品歩留りに優れ、かつ歪取り工
程を不要とするという特徴を有する。このポリエステル
フイルムは、高級磁気ディスクの製造に特に有用である
。
条件下での寸法安定性及び等方性に優れ、特に磁気ディ
スク製造での平面性.製品歩留りに優れ、かつ歪取り工
程を不要とするという特徴を有する。このポリエステル
フイルムは、高級磁気ディスクの製造に特に有用である
。
Claims (1)
- 温度60℃、湿度80%の条件下に72時問保持したと
きの面内寸法変化率が±0.02%以下であり、かつ温
度105℃に30分間保持したときの面内寸法変化率の
平均値が0.5%以下であるとともにその面内異方性が
±0.1%以下であることを特徴とする等方性二軸配向
ポリエステルフィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23458489A JPH0773876B2 (ja) | 1989-09-12 | 1989-09-12 | 等方性ポリエステルフイルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23458489A JPH0773876B2 (ja) | 1989-09-12 | 1989-09-12 | 等方性ポリエステルフイルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0397523A true JPH0397523A (ja) | 1991-04-23 |
JPH0773876B2 JPH0773876B2 (ja) | 1995-08-09 |
Family
ID=16973313
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23458489A Expired - Fee Related JPH0773876B2 (ja) | 1989-09-12 | 1989-09-12 | 等方性ポリエステルフイルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0773876B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5529879A (en) * | 1992-09-25 | 1996-06-25 | Nippon Paper Industries Co., Ltd. | Photosensitive sheet comprising a substrate having a molecular orientation ratio in the range of from 1.0 to 1.4 |
US6004664A (en) * | 1994-11-02 | 1999-12-21 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Film having fine voids and manufacture thereof |
US6124042A (en) * | 1998-02-06 | 2000-09-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Low-heat-shrinkage polyester film and heat-development photographic light-sensitive material using the same |
JP2006292838A (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-26 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 光拡散板用フィルム |
-
1989
- 1989-09-12 JP JP23458489A patent/JPH0773876B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5529879A (en) * | 1992-09-25 | 1996-06-25 | Nippon Paper Industries Co., Ltd. | Photosensitive sheet comprising a substrate having a molecular orientation ratio in the range of from 1.0 to 1.4 |
US6004664A (en) * | 1994-11-02 | 1999-12-21 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Film having fine voids and manufacture thereof |
US6124042A (en) * | 1998-02-06 | 2000-09-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Low-heat-shrinkage polyester film and heat-development photographic light-sensitive material using the same |
JP2006292838A (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-26 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 光拡散板用フィルム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0773876B2 (ja) | 1995-08-09 |
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