JPH0413135B2 - - Google Patents

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JPH0413135B2
JPH0413135B2 JP58003084A JP308483A JPH0413135B2 JP H0413135 B2 JPH0413135 B2 JP H0413135B2 JP 58003084 A JP58003084 A JP 58003084A JP 308483 A JP308483 A JP 308483A JP H0413135 B2 JPH0413135 B2 JP H0413135B2
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JP
Japan
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film
plane
less
stretching
humidity
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP58003084A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59139131A (ja
Inventor
Masaji Watanabe
Takeo Kanezaki
Yoshinojo Tomitaka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Diafoil Co Ltd
Original Assignee
Diafoil Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Diafoil Co Ltd filed Critical Diafoil Co Ltd
Priority to JP58003084A priority Critical patent/JPS59139131A/ja
Publication of JPS59139131A publication Critical patent/JPS59139131A/ja
Publication of JPH0413135B2 publication Critical patent/JPH0413135B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/739Magnetic recording media substrates
    • G11B5/73923Organic polymer substrates
    • G11B5/73927Polyester substrates, e.g. polyethylene terephthalate

Landscapes

  • Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
  • Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、フイルム面内の光学的異方性が小さ
く、且つ過酷な湿熱処理による寸法変化のフイル
ム面内異方性が小さい、磁気デイスク用基体フイ
ルムに適した二軸配向ポリエステルフイルムに関
するものである。 ポリエステル二軸配向フイルムは、その優れた
性質から、種々の工業用途に供せられている。磁
気デイスク用途においては、線膨張係数、湿度膨
張係数、熱収縮率等の寸法変化に関する性質が、
フイルムの縦方向と横方向とでバランスしている
だけでなく、フイルム面内のいずれの方向につい
てもこれらの性質が良好にバランスしていること
が望まれている。しかし通常の遂次二軸延伸方
法、即ちロール法縦延伸に続き、テンター法横延
伸を行う方法によつては、高密度記録用磁気デイ
スクに必要な上記の寸法変化に関する諸性質を良
好に兼ね備えた製品フイルムを得ることは次の理
由により困難であつた。即ち線膨張係数と湿度膨
張係数に関しては、フイルム面内の光学的性質、
例えば屈折率の異方性が小さくなるように延伸倍
率等の製膜条件を注意深く選べば、従来の逐次二
軸延伸方法によつても、各々のフイルム面内異方
性を小さくすることは可能であるが、非可逆的な
寸法変化についてはこれを小さくすることができ
ないからである。非可逆的な寸法変化とは、磁気
デイスクの最も過酷な使用、保存及び輸送環境を
想定した例えば53℃、90%湿度、72時間なる条件
の湿熱処理を施した後のフイルムに見られるとこ
ろのフイルムの伸縮である。通常、このような非
可逆的な寸法変化は、フイルム面内で大きな異方
性を示しており、この寸法変化が大きいフイルム
は高級な磁気デイスク用途、即ち従来より狭いト
ラツク幅を必要とする用途には不向きなのであ
る。又、このような厳しい湿熱処理下での寸法変
化を引き起こすフイルムの内部ひずみは、通常の
保存条件下でも、極めて緩慢な速度で異方的な伸
縮を引き起こすと考えられるから、長期間のうち
にトラツクのずれが起こつて記録密度が制限され
るであろう。非可逆的な寸法変化の大きさは、温
度や湿度の変化による可逆的な寸法変化の大きさ
より一般には大きい。従つて、磁気デイスクの基
体フイルムは線膨張係数、湿度膨張係数のフイル
ム面内異方性が小さいことと同時に、非可逆的寸
法変化のフイルム面内異方性が小さいことも強く
望まれているわけである。 本発明者らは鋭意検討の結果、予めフイルム面
内の屈折率異方性が小さいポリエステル二軸延伸
フイルムに対して、適当な後処理を施すことによ
つて、可逆、非可逆双方のフイルム面内異方性が
小さいフイルムが得られることを見出し、本発明
に到達したものである。即ち、本発明は逐次二軸
延伸、熱固定の後に、120〜170℃で数秒〜数10
秒、70g/mm2以下の低張力下で熱処理を施してな
るフイルムであつて、該フイルムの複屈折率
(Δn)が5×10-3以下であり、53℃、90%湿度、
72時間処理後のフイルムにおける画内寸法率が
0.03%以下である磁気デイスク用ポリエステルフ
イルムを要旨とするものである。ここで面内寸法
変化率とは、フイルム面内の全方向における処理
前のフイルムに対する処理後のフイルムの寸法変
化(伸縮の違いは正負符号で表わす)のうち、最
大値と最小値の差の絶対値を、処理前の寸法に対
し%で表示した数値である。 本発明に用いるポリエステルとは、エチレンテ
レフタレート単位を80重量%以上含むポリエステ
ルであつて、残りの20重量%以下は共重合ポリエ
ステルまたは他のポリマーであつてもよい。該ポ
リエステル中には、リン酸、亜リン酸及びそれら
のエステル等の安定剤や二酸化チタン、微粒状シ
リカ、カオリン等の添加剤、滑剤等が含まれてい
てもよい。 本発明は先ず溶融押出によつて得たポリエステ
ル未延伸フイルムを、ロール法によつて縦方向に
80〜110℃で2.5〜4.5倍に延伸し、次いでテンタ
ー法によつて横方向に80〜150℃で2.5〜4.5倍に
延伸した後、200〜240℃で熱固定することによつ
て二軸配向フイルムを得る。複屈折率(Δn)が
5×10-3以下となるようなフイルムが得られる
縦、横延伸条件(温度、倍率)と熱固定条件(温
度、時間)の組み合せは多様であるが、例えば縦
方向に85℃で3.7倍に延伸し、次いで横方向に110
℃で3.6倍に延伸したのち、210℃で10秒間熱固定
すればよい。次に該二軸配向フイルムの特定の湿
熱条件下における面内寸法変化率を0.03%以下と
するには、何らかの後処理が必要である。このよ
うな後処理の方法は、120〜170℃で数秒〜数10
秒、ごく低張力下で熱処理をする方法、その際加
熱だけでなく加湿を併用する方法、フイルムの両
面に金属や高分子の薄膜を形成させる方法等があ
るが、53℃、90%湿度、72時間処理後のフイルム
面内寸法変化率が0.03%以下となるような方法で
あれば、これらの後処理方法に限定されない。な
お、二軸配向フイルムの後処理によつて、非可逆
的寸法変化を引き起こすようなフイルムの内部ひ
ずみは除かれるが、その際フイルムの複屈折率
(Δn)は変化しない。フイルムの厚さは10〜200μ
であるが、この範囲に限定はされない。かくして
得られた磁気デイスク用基体フイルムとしての二
軸配向ポリエステルフイルムの複屈折率(Δn)
が、5×10-3より大きければ、フイルム面内にお
ける線膨張係数、湿度膨張系数の異方性が大きく
なり、高級磁気デイスク用として不適当である。
また53℃、90%湿度、72時間処理後のフイルムの
面内寸法変化率が0.03%より大きい場合には、複
屈折率(Δn)の大きさの如何を問わず、トラツ
クのずれが起こるから磁気デイスク用として好ま
しくない。 本発明方法のポリエステルフイルムは、線膨張
係数、湿度膨張係数のフイルム面内異方性が小さ
く、且つ過酷な湿熱処理による寸法変化のフイル
ム面内異方性が小さいから特に高記録密度を必要
とする磁気デイスク用途に最適である。 以下実施例によつて説明するが、フイルムの諸
性質の測定方法は次の通りである。 (1) 複屈折率(Δn) カールツアイス製偏光顕微鏡により、リター
デーシヨンを測定し、次式により、複屈折率
(Δn)を求めた。 Δn=R/d 但し、 R;リターデーシヨン d;フイルム厚さ (2) 線膨張係数 日本自動制御社製定荷重伸び量測定装置(モ
デル/TL2)を用い、12.7mm幅、250mm長(測
定方向)のサンブル・フイルムに27g/mm2の張
力をかけ、15℃/mmで昇温した際の温度・伸び
図より30〜50℃の2点を直線で結び、その勾配
を求めた。 (3) 湿熱処理及び処理後の寸法変化測定法 側定方向に沿つて10mm幅、50mm長(測定方
向)のサンブルを切り出し、これを長手方向に
沿つて半分に切断し、片方を53℃、90%湿度に
調整されたオーブンに自由端で放置する。未処
理サンプルと処理サンプルとを密着させて並
べ、両端部のずれを顕微鏡で読み取つた。フイ
ルム面内で、180°にわたり10°毎に測定し、ず
れの最大値と最小値の差の絶対値を原長(50
mm)に対する%で表わし、フイルムの面内寸法
変化率とした。なお、伸長をプラス、収縮をマ
イナスで表わした。本実施例においては、寸法
変化の最大値と最小値が得られる方向は、いず
れのサンプルについてもフイルムの縦方向又は
横方向に一致した。 実施例 1 ポリエチレンテレフタレートを溶融押出後に冷
却固化して周連の異なるロール群で縦方向に85℃
で3.7倍延伸し、次いでテンターに導入して、110
℃で3.6倍に横延伸した後、210℃で8秒間熱固定
することによつて、厚さ36μの二軸配向フイルム
(サンプルNo.1)を得た。別途、延伸倍率のみを
変えて、縦方向に3.5倍、横方向に3.8倍延伸して
同一厚さの二軸配向フイルム(サンプルNo.2)を
得た。更に、サンプルNo.1の二軸配向フイルムを
70g/mm2の張力下において150℃、5秒間の熱処
理をロール搬送により熱風炉の中で行い、サンプ
ル・フイルム(No.3)を得た。各フイルムの性質
を第1表に示すが、この中でNo.3フイルムのみ
が、磁気デイスク用に好適であつた。なお、いず
れのサンプルもフイルム幅方向の中央部について
の測定値である。 【表】

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 逐次二軸延伸、熱固定の後に、120〜170℃で
    数秒〜数10秒、70g/mm2以下の低張力下で熱処理
    を施してなるフイルムであつて、該フイルムの複
    屈折率(Δn)が5×10-3以下であり、且つ53℃、
    90%湿度の条件下で72時間処理後のフイルムにお
    ける画内寸法変化率が0.03%以下である磁気デイ
    スク用二軸配向ポリエステルフイルム。
JP58003084A 1983-01-12 1983-01-12 磁気デイスク用ポリエステルフイルム Granted JPS59139131A (ja)

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