JP2022053506A - 二軸配向ポリエステルフィルム - Google Patents

Abstract

【課題】低温低湿度、低温高湿度、高温低湿度、高温高湿度の全ての温湿度領域で優れた寸法安定性を有し、かつ優れた表面平滑性とスリット性を両立した二軸配向ポリエステルフィルムを安定に提供すること。【解決手段】二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも一方の最外層表面（Ｂ面）において、高さ５０ｎｍ以上の突起個数が５．０万個／ｍｍ２以下、高さ１００ｎｍ以上の突起個数が１．５万個／ｍｍ２以下であり、該層の表面平均粗さＳａＢがもう片方の最外層表面（Ａ面）の表面平均粗さＳａＡよりも大きい二軸配向ポリエステルフィルムとする。【選択図】なし

Description

本発明は、二軸配向ポリエステルフィルムに関するものであり、データストレージなどの塗布型磁気記録媒体のベースフィルムに好適に用いることができる二軸配向ポリエステルフィルムに関するものである。

二軸配向ポリエステルフィルムはその優れた熱特性、寸法安定性、機械特性および表面形態の制御のし易さから各種用途に使用されており、特に磁気記録媒体などの支持体としての有用性がよく知られている。磁気記録媒体には常に高密度記録化が要求される。

高密度記録を達成する方法としては、一般に、トラック数の増加、記録波長の短波長化、テープ長増大の３つの方法がある。

トラック数を多くすると１トラックの幅が狭くなるため、僅かな寸法変化がデータ欠落の原因となることがあり、テープ幅方向の寸法安定性の制御が重要となる。このような寸法変化は、熱収縮等の不可逆的変化と温度、湿度による膨張、収縮等の可逆的変化に分けられる。不可逆的変化はないことが好ましいが、加工工程でアニール等の処理により取り除くことができる。これに対して、可逆的変化は容易に取り除くことができないために、保存時に温度、湿度が変化するとフィルムの膨張や収縮が起こり、記録データが本来あるべき位置からずれることにより、読み取れなくなることがある。

また、記録波長を短波長化した上で、十分な電磁変換特性を実現するためには表面平滑性が求められ、さらに、磁性層の薄膜化や微粒子磁性体を使用し磁性層表面の平滑性をさらに向上させることが有効である。

近年の強磁性六方晶フェライト粉末を用いてなる磁気記録媒体用支持体においては、磁性層や非磁性層、バックコート層、さらには支持体自体の薄膜化に伴い平滑面のみならず走行面の粗面化が制約されている。製造過程で磁気記録媒体としてロール状態で保存する場合、走行面に形成されている突起が磁性面に転写し、平滑な磁性層表面に窪みを形成させたり、支持体の薄膜化に伴い支持体に含有している大きな粒子が平滑面に突き上げられたりして磁性層表面になだらかな凸状のウネリを発生させ磁性層表面の平滑性が低下することによってエラー信号（ミッシングパルス）が発生するといった問題に加えて、次世代用データテープ（例えばＬＴＯ９、ＬＴＯ１０）に用いる場合は、高平滑高容量化に対応したヘッドが採用され、ヘッドのトラック密度の狭小化により感度が向上するため、これまでは問題ではなかったレベルの突起が欠点を引き起こすことが発覚した。これに伴い磁性層並びにバックコート層のさらなる平滑性への要求が高まり、依然としてエラー欠点の低減に至っていない。また、幅方向の寸法安定性向上には幅方向の延伸倍率の高倍化が必須で有り、これに伴いバックコート層表面の突起高さが高くなり易い傾向にあるため、バックコート層の転写による磁性面の平滑性の低下を解消できないのが実情である。

上記課題を解決するために、あらゆる環境変化に対応できるような温湿度領域で優れた寸法安定性を有するポリエステルフィルム（例えば特許文献１、２）が検討されている。また、特定の波長に起因するパワースペクトル密度を規定し、幅方向の寸法安定性を向上させた二軸配向ポリエステルフィルム（例えば特許文献３）や、微細な粒子を含有させて、フィルム表面の粗さや突起高さと個数を制御し磁性層表面への転写を抑制したポリエステルフィルム（例えば特許文献４．５）や、ポリエステルフィルム表面のうねりを特定の範囲内に制御することで優れた巻き取り性と電磁変換特性を両立したポリエステルフィルム（例えば特許文献６）も検討されている。

特開２００５－１６３０２０号公報 特開２０１５－２５０４７号公報 特開２０１８－１５０４６３号公報 特開２０１２－１５３１００号公報 特開２０１３－２００９２７号公報 特開２０１２－１５３０９９号公報 特開２０００－１４１４７５号公報

しかしながら、磁性層薄膜化や強磁性六方晶フェライト粉末などの微粒子磁性体を使用し、次世代データテープ（例えばＬＴＯ９、ＬＴＯ１０）として有用な磁性層表面の平滑性を担保できるための支持体の表面を得られていないのが実状である。さらに、熱に対する寸法安定性とフィルムの剛性を両立させたポリエステルフィルム（例えば特許文献７）が検討されているが、温度膨張については全く考慮されておらず、常温常湿度、低温低湿度、低温高湿度、高温低湿度、高温高湿度などの全ての温湿度領域で優れた寸法変化を有するフィルムには至っていない。

本発明の目的は、低温低湿度、低温高湿度、高温低湿度、高温高湿度の全ての温湿度領域で優れた寸法安定性を有し、かつ優れた表面平滑性とスリット性を両立した二軸配向ポリエステルフィルムを安定に提供することにある。

上記課題を解決するための本発明は、次の各構成を特徴とするものである。

（１）二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも一方の最外層表面（Ｂ面）において、高さ５０ｎｍ以上の突起個数が５．０万個／ｍｍ^２以下、高さ１００ｎｍ以上の突起個数が１．５万個／ｍｍ^２以下であり、該層の表面平均粗さＳａＢがもう片方の最外層表面（Ａ面）の表面平均粗さＳａＡよりも大きい二軸配向ポリエステルフィルム。
（２）（１）に記載の特徴を有する最外層表面（Ｂ面）において、高さ４０ｎｍ以上の突起個数が７．０万個／ｍｍ^２以下である、（１）に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
（３）（１）に記載の特徴を有する最外層表面（Ｂ面）において、高さ３０ｎｍ以上の突起個数が０．５万～１０．０万個／ｍｍ^２以下である、（１）および（２）に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
（４）（１）に記載の特徴を有する最外層表面（Ｂ面）において、高さ３０ｎｍ以上の突起個数が１．５万～１０．０万個／ｍｍ^２以下である、（１）～（３）のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
（５）（１）に記載の特徴を有する最外層表面（Ｂ面）において、高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数が１００万個／ｍｍ^２以上である、（１）～（４）のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
（６）幅方向の湿度膨張係数が４．５～６．５ｐｐｍ／％ＲＨである、（１）～（５）のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
（７）幅方向の温度膨張係数が－３．０～４．０ｐｐｍ／℃以下である、（１）～（６）のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
（８）塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用ベースフィルムに用いられる、（１）～（７）のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、スリット性、低温低湿度、低温高湿度、高温低湿度、高温高湿度の全ての温湿度領域での寸法安定性、かつ優れた表面平滑性に優れた二軸配向ポリエステルフィルムであって、磁気記録媒体、特に次世代データテープとした際に平滑な磁性層を有すると共に温度や湿度の環境変化や保存による寸法変化が小さく、ミッシングパルスなどのエラー欠点の発生が抑制された高密度磁気記録媒体となる二軸配向ポリエステルフィルムを得ることができる。

本発明において用いるポリエステルとしては、例えば、芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸または脂肪族ジカルボン酸などの酸成分やジオール成分を構成単位（重合単位）とするポリマーで構成されたものを用いることができる。

芳香族ジカルボン酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、１，４－ナフタレンジカルボン酸、１，５－ナフタレンジカルボン酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、４，４’－ジフェニルジカルボン酸、４，４’－ジフェニルエーテルジカルボン酸、４，４’－ジフェニルスルホンジカルボン酸等を用いることができ、なかでも好ましくは、テレフタル酸、フタル酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸を用いることができる。脂環族ジカルボン酸成分としては、例えば、シクロヘキサンジカルボン酸等を用いることができる。脂肪族ジカルボン酸成分としては、例えば、アジピン酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を用いることができる。これらの酸成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。

ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，２－プロパンジオール、１，３－プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，２－シクロヘキサンジメタノール、１，３－シクロヘキサンジメタノール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、２，２’－ビス（４’－β－ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン等を用いることができ、なかでも、エチレングリコール、１，４－ブタンジオール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール等を好ましく用いることができ、特に好ましくは、エチレングリコール等を用いることができる。これらのジオール成分は一種のみを用いてもよく、二種以上を併用してもよい。

ポリエステルには、ラウリルアルコール、イソシアン酸フェニル等の単官能化合物が共重合されていてもよいし、トリメリット酸、ピロメリット酸、グリセロール、ペンタエリスリトール、２，４－ジオキシ安息香酸、等の３官能化合物などが、過度に分枝や架橋をせずポリマーが実質的に線状である範囲内で共重合されていてもよい。さらに酸成分、ジオール成分以外に、ｐ－ヒドロキシ安息香酸、ｍ－ヒドロキシ安息香酸、２，６－ヒドロキシナフトエ酸などの芳香族ヒドロキシカルボン酸およびｐ－アミノフェノール、ｐ－アミノ安息香酸などを本発明の効果が損なわれない程度の少量であればさらに共重合せしめることができる。

ポリマーの共重合割合はＮＭＲ法（核磁気共鳴法）や顕微ＦＴ－ＩＲ法（フーリエ変換顕微赤外分光法）を用いて調べることができる。

ポリエステルは、二軸延伸を施せること、および、寸法安定性などの本発明の効果を発現するために、ガラス転移温度が１５０℃未満のものを好適に使用できる。本発明において用いるポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ポリエチレン－２，６－ナフタレート）が好ましく、また、これらの共重合体や変性体でもよく、他の熱可塑性樹脂とのポリマーアロイでもよい。ここでいうポリマーアロイとは高分子多成分系のことであり、共重合によるブロックコポリマーであってもよいし、混合などによるポリマーブレンドでもよい。本発明で用いるポリエステルとしては特に、結晶子サイズや結晶配向度を高めるプロセスが適用しやすいことから主成分がポリエチレンテレフタレートであることがより好ましい。ここで、主成分とはフィルム組成中８０質量％以上であることをいう。

本発明で用いるポリエチレンテレフタレートをポリマーアロイとする場合、他の熱可塑性樹脂は、ポリエステルと相溶するポリマーが好ましく、ポリエーテルイミド樹脂などがより好ましい。ポリエーテルイミド樹脂としては、例えば以下で示すものを用いることができる。

（ただし、上記式中Ｒ_１は、６～３０個の炭素原子を有する２価の芳香族または脂肪族残基、Ｒ_２は６～３０個の炭素原子を有する２価の芳香族残基、２～２０個の炭素原子を有するアルキレン基、２～２０個の炭素原子を有するシクロアルキレン基、および２～８個の炭素原子を有するアルキレン基で連鎖停止されたポリジオルガノシロキサン基からなる群より選択された２価の有機基である。）
上記Ｒ_１、Ｒ_２としては、例えば、下記式群に示される芳香族残基を挙げることができる。

（ｎは２以上の整数、好ましくは２０～５０の整数である。）
本発明では、ポリエステルとの親和性、コスト、溶融成形性等の観点から、２，２－ビス［４－（２，３－ジカルボキシフェノキシ）フェニル］プロパン二無水物とｍ－フェニレンジアミン、またはｐ－フェニレンジアミンとの縮合物である、下記式で示される繰り返し単位を有するポリマーが好ましい。

または

このポリエーテルイミドは、“ウルテム”の商品名で、ＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチック社より入手可能であり、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）１０００」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）１０１０」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）１０４０」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）５０００」、「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）６０００」および「Ｕｌｔｅｍ（登録商標）ＸＨ６０５０」シリーズや「Ｅｘｔｅｍ（登録商標） ＸＨ」および「Ｅｘｔｅｍ（登録商標） ＵＨ」の登録商標名等で知られているものである。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも一方の最外層表面（以降、かかる表面をＢ面、かかすＢ面を有する層をＢ層という場合がある）において、高さ５０ｎｍ以上の突起個数は５．０万個／ｍｍ^２以下であり、好ましくは１．０万～５．０万個／ｍｍ^２、さらに好ましくは１．５万～４．５万個／ｍｍ^２である。高さ５０ｎｍ以上の突起個数が５．０万個／ｍｍ^２を超えると次世代データテープとして巻き取った際にバックコート層表面の微細な凹凸が磁性層表面へ転写するために転写痕の数が多くなり、エラー欠点を発生する場合がある。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも一方の最外層表面（Ｂ面）において、高さ１００ｎｍ以上の突起個数は１．５万個／ｍｍ^２以下であり、好ましくは１．２万個／ｍｍ^２、さらに好ましくは１．０万個／ｍｍ^２以下である。高さ１００ｎｍ以上の突起個数が１．５万個／ｍｍ^２を超えると次世代データテープとして巻き取った際にバックコート層表面の凹凸が磁性層表面へ転写するために大きな転写痕を発生させ、ミッシングパルスが低下する場合がある。

なお、上記した本発明の高さ５０ｎｍ以上の突起個数、あるいは１００ｎｍ以上の突起個数は、後述する測定方法において原子間力顕微鏡測定により求められる基準面からの高さ閾値５０ｎｍ、あるいは１００ｎｍにおける突起個数である。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも一方の最外層表面（Ｂ面）において、高さ４０ｎｍ以上の突起個数は７．０万個／ｍｍ^２以下であることが好ましく、より好ましくは２．０万～７．０万個／ｍｍ^２、さらに好ましくは２．０万～６．０万個／ｍｍ^２である。高さ４０ｎｍ以上の突起個数が７万個／ｍｍ^２を超えると本発明の高さ５０ｎｍ以上の突起個数を５．０万個／ｍｍ^２以下に制御できない場合がある。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも一方の最外層表面（Ｂ面）において、高さ３０ｎｍ以上の突起個数は０．５～１０．０万個／ｍｍ^２以下であることが好ましく、より好ましくは１．５万～１０．０万個／ｍｍ^２、さらに好ましくは２．０万～９．０万個／ｍｍ^２、最も好ましくは３．０万～８．０万個／ｍｍ^２である。高さ３０ｎｍ以上の突起個数が１０．０万個／ｍｍ^２を超えると本発明の高さ５０ｎｍ以上の突起個数を５．０万個／ｍｍ^２以下に制御できない場合がある。また、下限値以下であるとスリット性が悪化するので好ましくない。
本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも一方の最外層表面（Ｂ面）において、高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数が１００万個／ｍｍ^２以上であることが好ましく、より好ましくは１５０万個／ｍｍ^２以上、さらに好ましくは２００万個／ｍｍ^２以上である。高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の微細な突起が多ければ多いほど、次世代データテープとして巻き取った際にバックコート層表面の凹凸が磁性層表面へ転写する応力を分散でき、ミッシングパルスなどのエラー欠点が抑制しやすい。さらに、微細な突起が多数形成されているためにスリット性と表面平滑性の両立が高いレベルで可能となり好ましい。高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数の上限は、製法上の観点より１０００万個／ｍｍ^２以下であるが、当然、粒子を併用する場合の上限はさらに低下する。本発明のスリット性と表面平滑性の両立の観点では、２００～６００万個／ｍｍ^２が好ましい。ここで、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも一方の最外層表面（Ｂ面）の表面粗さはもう片方の最外層表面（以降、かかる表面をＡ面、かかるＡ面を有する層をＡ層という場合がある）の表面粗さよりも大きく、最外層表面（Ｂ面）の表面粗さ（ＳａＢ）は２．０～６．０ｎｍであることが好ましく、２．５～５．０ｎｍであることがより好ましい。表面粗さが下限値以下であるとスリット性が悪化する場合がある。また、上限値を超えると本発明の高さ５０ｎｍ以上や１００ｎｍ以上の突起個数を本発明の範囲内に制御できない場合がある。

また、上述した最外層表面（Ａ面）の表面粗さ（ＳａＡ）は、０．５～３．０ｎｍであることが好ましく、より好ましくは０．５～２．５ｎｍである。最外層表面（Ａ面）は、平滑性を担う表面として機能し、磁気記録媒体とする際は。該Ａ面側に磁性層を設けることが本発明の課題を解消するためには好ましい。最外層表面（Ａ面）の表面粗さが上記の範囲外であると該表面に磁性層を設け磁気記録媒体とした際に走行性やスリット性、ミッシングパルスを両立することが困難となることがある。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの幅方向の湿度膨張係数は４．５～６．５ｐｐｍ／％ＲＨであることが好ましく、より好ましくは５．０～６．３ｐｐｍ／％ＲＨである。湿度膨張係数が６．５ｐｐｍ／％ＲＨより大きいと磁気データを記録・再生する環境において、湿度変化に対してフィルムが幅方向に膨張するため再生不良を起こしやすくなる場合がある。また、湿度膨張係数が４．５ｐｐｍ／％ＲＨより小さい場合は、フィルムの温度膨張係数を本発明の範囲内に制御することが困難となることがある。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの幅方向の温度膨張係数は－３．０～４．０ｐｐｍ／℃であることが好ましく、より好ましくは－１．０～３．０ｐｐｍ／℃である。温度膨張係数が－３．０ｐｐｍ／℃を下回ると磁気データを記録・再生する環境の温度変化に対してフィルムの幅方向への収縮が大きくなる。一方、磁気ヘッドは温度変化に対して膨張（通常７．０ｐｐｍ／℃）するため、相互の寸法変化が大きくなりすぎる再生不良を起こしやすくなる。温度膨張係数が４．０ｐｐｍ／℃を超えると、湿度膨張係数を本発明の範囲内に制御できなくなり、磁気データを記録・再生する環境の温湿度変化に対してフィルムが幅方向に膨張するため再生不良を起こしやすくなる場合がある。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの幅方向の熱収縮率は１．０％以下であることが好ましい。幅方向の熱収縮率が１．０％を超えると、磁気記録媒体の加工工程においてフィルムが幅方向に収縮し、磁気記録媒体表面にシワが発生したり、磁性層表面の平滑性が低下することがある。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、幅方向のヤング率が７．０～１２．０ＧＰａであることが好ましく、７．０～１１．０ＧＰａであることが幅方向の湿度膨張係数の制御の観点からより好ましい。幅方向のヤング率が上記範囲内であると、磁気記録媒体用に用いた場合に磁気記録媒体の記録再生時の環境変化による寸法安定性が良好となる傾向にある。幅方向のヤング率は後述するＴＤ延伸１、２の温度や倍率によって制御することができる。特にトータルのＴＤ倍率が影響し、トータルのＴＤ倍率が高いほどＴＤヤング率が高くなる。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、長手方向のヤング率が３．５～８．０ＧＰａであることが好ましい。長手方向のヤング率が上記範囲内であると、磁気記録媒体用に用いた場合に磁気記録媒体の保管時の張力による保存安定性がより良好となる。長手方向のヤング率のさらに好ましい範囲は３．８～７．０ＧＰａ、さらにより好ましい範囲は４．０～６．０ＧＰａである。長手方向のヤング率はＭＤ延伸倍率で制御することができる。ＭＤ倍率が高いほどＭＤヤング率が高くなる。

本発明のＢ面の高さ５０ｎｍ以上の突起個数および高さ１００ｎｍ以上の突起個数の制御方法としては、Ｂ層における含有粒子の平均粒子径、添加量、幅方向の延伸倍率、熱固定温度で制御が可能である。特にＢ層に含有する粒子の数平均粒子径は０．３μｍ以下、好ましくは０．０１～０．３μｍの粒径の異なる粒子を２種類以上併用することが重要である。

この場合、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＢ層に好ましく含有される粒子としては特に限定されないが、無機粒子、有機粒子、いずれも用いることができる。具体的な種類としては、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、炭酸カルシウム、湿式シリカ、乾式シリカ、コロイダルシリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナ珪酸塩、カオリン、タルク、モンモリロナイト、アルミナ、ジルコニア等の無機粒子、アクリル酸類、スチレン系樹脂、シリコーン、イミド等を構成成分とする有機粒子、コアシェル型有機粒子などが例示できるが、本発明の高さ５０ｎｍ以上および高さ１００ｎｍ以上の突起個数を制御するには、球形の粒子である有機粒子やコロイダルシリカを添加することが特に好ましい。さらに、走行性とスリット性を改善させるためにアルミナ粒子をＢ層に添加させると効率よく改善できるため好ましい。アルミナ粒子の好ましい添加量は０．１～１．５質量％、さらに好ましくは０．２～１質量％である。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＢ層に添加される粒子の含有量は、０．００５～０．８質量％が好ましく例示され、高さ５０ｎｍ以上の突起個数および高さ１００ｎｍ以上の突起個数を制御する場合は、平均一次粒子径が０．１～０．２μｍの球形の粒子の含有量は０．０～０．２質量％、好ましくは０．０５～０．１５質量％の範囲内とすることが重要である。０．２μｍを越えて０．３μｍ以下の粒子を含有する場合の含有量は０．００５～０．０５質量％、好ましくは０．０１～０．０３質量％である。平均一次粒子径が０．１～０．２μｍの球形の粒子を、０．２質量％を越えて含有すると、本発明の高さ５０ｎｍのおよび高さ１００ｎｍ以上の突起個数を本発明の範囲内に制御することが困難となる場合があり、磁性体用磁気記録媒体（例えばＬＴＯ９，ＬＴＯ１０）として用いたときにエラー欠点が発生する場合があり好ましくない。

本発明のＢ面の高さ５０ｎｍ以上の突起個数および高さ１００ｎｍ以上の突起個数の制御として、上述に記載の通り、平均粒径の異なる粒子を２種類以上併用することが好ましくで、さらに走行性とスリット性の改善のためにアルミナ粒子を併用する態様が例示される。粒子の添加量を低下させれば本発明の各高さの突起個数は低下するがその反面、走行性やスリット性が悪化する。別の態様として、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＢ層表面に高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数を１００万個／ｍｍ^２以上形成することによって、平均粒径の異なる粒子を２種類以上併用することなく本発明の表面平滑性と走行性やスリット性の両立が可能となる。

この場合、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＢ層に好ましく含有される上述に記載の粒子の平均粒子径は０．１～０．３μｍが好ましく、さらに好ましくは０．２～０．３μｍであり、添加量は０．０１～０．１６質量％、好ましくは０．０２～０．１３質量％である。粒子の添加量が多すぎると本発明の高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数を１００万個／ｍｍ^２以上形成することが困難となる場合がある。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＢ層表面に高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数を１００万個／ｍｍ^２以上形成させる方法は特に限定されないが、未延伸シートに大気圧グロー放電によるプラズマ処理を行った後に二軸延伸することが好ましく例示される。ここでいう大気圧とは７００Ｔｏｒｒ～７８０Ｔｏｒｒの範囲である。

大気圧グロー放電処理は、相対する電極とアースロール間に処理対象のフィルムを導き、装置中にプラズマ励起させ電極間においてグロー放電を行うものである。一般的に大気圧グロー放電によるプラズマ処理によって熱可塑性樹脂フィルムの表面を処理する場合、グロー放電によって生じるプラズマのエネルギーによって、フィルム表面の分子鎖の切断や、生じる低分子量体が気化し、フィルム表面が削られる現象（以降、分解除去と称する）が起こる。これによりフィルム表面に微細な突起が形成される。 プラズマ励起性気体とは前記のような条件においてプラズマ励起されうる気体をいう。プラズマ励起性気体としては、例えば、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガス、窒素、二酸化炭素、酸素、またはテトラフルオロメタンのようなフロン類およびそれらの混合物などが挙げられる。また、プラズマ励起性気体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の混合比で組み合わせてもよい。プラズマによって励起された場合に活性が高くなる観点から、窒素、酸素、二酸化炭素のうちの少なくとも１種を含むことが好ましく、窒素を含むことがより好ましい。活性の高いプラズマ励起性気体を用いることで、フィルム表面の分解除去が促進し形成する突起の高さや突起個数が増大する傾向にある。

プラズマ処理における高周波電圧の周波数は１ｋＨｚ～１００ｋＨｚの範囲が好ましい。また、以下方法で求められる放電処理強度（Ｅ値）は、１０～２０００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２の範囲で処理することが突起形成の観点から好ましく、より好ましくは４０～５００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２である。放電処理強度（Ｅ値）が低すぎると、突起が十分に形成されない場合があり、放電処理強度（Ｅ値）が高すぎると、熱可塑性樹脂フィルムにダメージを与えてしまう、または、分解除去が進行し、好ましい突起が形成されない場合がある。
＜放電処理強度（Ｅ値）の求め方＞
Ｅ＝Ｖｐ×Ｉｐ／（Ｓ×Ｗｔ）
Ｅ：Ｅ値（Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２）
Ｖｐ：印加電圧（Ｖ）
Ｉｐ：印加電流（Ａ）
Ｓ：処理速度（ｍ／ｍｉｎ）
Ｗｔ：処理幅（ｍ）
一般的に、大気圧グロー放電によるプラズマ処理によって熱可塑性樹脂フィルム、とくにＰＥＴやＰＥＮのように非晶部と結晶部を持つフィルムの表面を分解除去する場合、柔らかい非晶部から分解除去されていく。結晶部と非晶部を細分化させることで、大気圧グロー放電処理することでより微細な突起を形成することができ、また、結晶部を増やしておくことで柔らかい非晶部が深く削れることで突起高さを高くすることが可能となる。

このため、本発明の熱可塑性樹脂フィルムの前記表面を有する層の固有粘度（ＩＶ）は、０．５０ｄｌ／ｇ以上であることが好ましく、また０．８５ｄｌ／ｇ以下であることが好ましい。ＩＶは、分子鎖の長さを反映した数字であり、分子鎖が本発明の範囲であると、同一分子鎖の中で結晶部と非晶部を明確に形成しやすいため、大気圧グロー放電によるプラズマ処理することでより微細な突起を形成することが容易となるため好ましい。また、ＩＶが０．５０ｄｌ／ｇ未満の場合、分子鎖が短いことで結晶化が進行しやすくなるため、延伸工程で破断が頻発し製膜が困難になる場合がある。また、ＩＶが０．８５ｄｌ／ｇを超える場合は押出不安定になる場合がある。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムのＢ層の積層厚み（ｔ）は、２．０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは１．５μｍ以下である。積層厚みが２．０μｍを超えるとになると高さ５０ｎｍおよび１００ｎｍ以上の突起個数を本発明の範囲内に制御することが困難となる場合がある。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを製造するに際しては、熱固定温度を１９０～２３５℃の範囲内で２段階以上に分けて段階高温熱固定を実施することが重要である。突起高さや表面粗さは、熱固定温度が高温になるほど高く大きくなる傾向があるが、段階高温熱固定を採用することによって、高温熱固定による突起高さと表面粗さの増加を抑制することが可能となる。さらに、熱固定温度を高く設定すると、配向緩和を起こしやすくなるため、本発明の幅方向の湿度膨張係数を制御できなくなる場合があるが、段階高温熱固定を採用することによって、特に幅方向の配向緩和が緩やかとなり本発明の温湿度膨張係数を好ましい範囲内に制御することが可能となる。また、本発明の高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数を１００万個／ｍｍ^２以上形成するためには、熱固定温度は２１０℃以上、好ましくは２２０～２３５℃の範囲内で２段階以上に分けて段階高温熱固定を実施することが重要である。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムの厚みは３．５～４．６μｍの範囲が好ましい。厚みが３．５μｍより小さくなると、剛性や寸法安定性が悪化しテープの腰が不十分となり磁気記録媒体としたときに電磁変換特性が悪化する傾向がある。また、Ｂ層内の含有粒子による平滑面（Ａ面）側への突き上げを抑制しにくくなる。また、４．６μｍより大きいと、テープ１巻あたりのテープ長さが短くなるため、磁気テープの小型化、高容量に対応し難い。厚みの調整方法としては、二軸配向ポリエステルフィルムの製膜の際のポリマーの溶融押出時におけるスクリューの吐出量を調整し、口金から未延伸フィルムの厚みを制御することによって二軸延伸後のフィルム厚みを調節することが可能となる。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを磁気記録媒体用ベースフィルムとして用いる場合は、上記した最外層表面（Ｂ面）側にバックコート層（以下ＢＣ層という）を設けることが高密度磁気記録媒体を得る上で好ましい。磁性層に強磁性六方晶フェライト粉末を用いてなる磁気記録媒体はベースフィルムのみならず磁性層および非磁性下層やＢＣ層自体の厚みも薄膜化の傾向にある。特に、ＢＣ層の厚みが０．４μｍ以下と薄膜化するとＢＣ層表面が支持体に起因する突起の影響を受け易くなり、ＢＣ層表面の平滑性が低下する。Ｂ層表面の特定の高さの突起個数を本発明の範囲に規定することによって、より薄膜化したＢＣ層であってもその表面の平滑性を損なうことなくミッシングパルスをはじめとする微小なエラー欠点の発生頻度の少ない優れた電磁変換特性を発揮できる。

上記したような本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、たとえば次のように製造されるが、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムは、かかる記載方法により得られるフィルムに限定されるものではない。

まず、ポリエステルのペレットを、押出機を用いて溶融し、口金から吐出した後、冷却固化してシート状に成形する。このとき、繊維焼結ステンレス金属フィルターによりポリマーを濾過することが、ポリマー中の未溶融物を除去するために好ましい。

本発明の特徴を阻害しない範囲内であれば、各種添加剤、例えば、相溶化剤、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、結晶核剤、紫外線吸収剤、難燃剤、難燃助剤、顔料、染料、などが添加されてもよい。

続いて、上記シートを長手方向と幅方向を二軸に延伸した後、再度横方向に延伸し熱処理する。表面の突起個数を本発明の好ましい範囲に制御したり、また、幅方向の寸法安定性を本発明の好ましい範囲に制御したりするために、延伸工程は縦横方向の多段延伸および幅方向に再延伸すること、さらに多段階の熱固定処理を施すことが好ましい。幅方向の再延伸により高寸法安定性の磁気テープとして最適な高強度のフィルムが得られ易いために好ましい。しかしながら、幅方向に再延伸すると、粒子周りのボイドが大きくなり、突起高さが高くなる傾向にあるため本発明の高さ５０ｎｍおよび高さ１００ｎｍの突起個数が制御され難い傾向にある。本発明の好ましい表面特性を得るためには、後述する幅方向の延伸温度と延伸倍率、さらに多段階の熱固定温度を採用すると寸法安定性との両立が図れるため好ましい。

延伸形式としては、長手方向に延伸した後に幅方向に２段階で延伸を行うなどの逐次二軸延伸法や同時二軸延伸した後にさらに幅方向に延伸する延伸方法が好ましい。
本発明のＢ面の高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数を１００万個／ｍｍ^２以上形成する場合は
上記シートを延伸する前に大気圧グロー放電プラズマ処理を施し二軸延伸することが好ましい。延伸方法は上述の逐次二軸延伸や同時二軸延伸が適用でき、必要に応じて再延伸も可能である。

以下、本発明のフィルムの製造方法について、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）をポリエステルとして用いた例を代表例として説明する。なお本発明はＰＥＴフィルムに限定されるものではなく、他のポリマーを用いたものものでもよい。例えば、ガラス転移温度や融点の高いポリエチレン－２，６－ナフタレンジカルボキシレートなどを用いてポリエステルフィルムを構成する場合は、以下に示す温度よりも高温で押出や延伸を行えばよい。

まず、ＰＥＴのペレットを製造する。ＰＥＴは、次のいずれかのプロセスで製造される。すなわち、（１）テレフタル酸とエチレングリコールを原料とし、直接エステル化反応によって低分子量のＰＥＴまたはオリゴマーを得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物を触媒に用いた重縮合反応によってポリマーを得るプロセス、（２）ジメチルテレフタレートとエチレングリコールを原料とし、エステル交換反応によって低分子量体を得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物を触媒に用いた重縮合反応によってポリマーを得るプロセスである。

フィルムを構成するＰＥＴに粒子を含有させるには、エチレングリコールに粒子を所定割合にてスラリーの形で分散させ、このエチレングリコールを重合時に添加する方法が好ましい。粒子を添加する際には、例えば、粒子の合成時に得られる水スラリーやアルコールスラリーの粒子を一旦乾燥させることなく添加すると粒子の分散性がよい。ここで高さ１００ｎｍ以上の突起個数を本発明の範囲内に制御するためには、粒子のスラリー濃度を５質量％以下にすることが重要である。添加する粒子が無機粒子の場合は、特定濃度に調整した粒子含有スラリーに平均粒径０．５～０．０５ｍｍのガラスビーズを加え１，０００～５，０００ｒｐｍで１～５時間攪拌することも非常に効果的である。

次に、粒子の水スラリーを直接ＰＥＴペレットと混合し、ベント式二軸混練押出機を用いて、粒子含有量が０．１～０．５質量％となるようにＰＥＴに練り込み粒子マスターペレットを作成することが特に重要である。粒子の含有量を調節する方法としては、上記方法で作成した特定濃度の粒子マスターペレットを製膜時に粒子を実質的に含有しないＰＥＴで希釈して粒子の含有量を調節する方法が好ましい。また、高温熱固定によるフィルム破れの低減にも繋がるため特に重要である。さらに、２種類以上の粒子マスターペレットを用いる場合に、予め所定の所望の含有量になるように配合した後、再度、溶融混練した２段混練粒子マスターを用いて粒子の分散性を向上させると段階高温延伸を行う際のフィルム破れが低減するため好ましく例示される。

次に、得られたＰＥＴのペレットを、１８０℃で３時間以上減圧乾燥した後、固有粘度が低下しないように窒素気流下あるいは減圧下で、２７０～３２０℃に加熱された押出機に供給し、スリット状のダイから押出し、キャスティングロール上で冷却して未延伸フィルムを得る。この際、異物や変質ポリマーを除去するために各種のフィルター、例えば、焼結金属、多孔性セラミック、サンド、金網などの素材からなる高精度フィルターを用いることが好ましい。また、定量供給性を向上させ、所望の積層厚みを得るためにギアポンプを設けることは上記した特徴面を形成する上で極めて好ましい。フィルムを積層するには、２台以上の押出機およびマニホールドまたは合流ブロックを用いて、複数の異なるポリマーを溶融積層するとよい。

次に、このようにして得られた未延伸フィルムを、数本のロールを配置した縦延伸機を用いてロールの周速差を利用して縦方向に延伸し（ＭＤ延伸）、続いてステンターにより横延伸を行い(ＴＤ延伸１)、再度幅方向に延伸（ＴＤ延伸２）する方法について説明する。

なお、本発明において、ＭＤとは二軸配向ポリエステルフィルムの長手方向（縦方向）を示し、ＴＤとは二軸配向ポリエステルフィルムの幅方向（横方向）を示す。

まず、未延伸フィルムをＭＤ方向に延伸する。延伸温度は、用いるポリマーの種類によって異なるが、未延伸フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）を目安として決めることができる。Ｔｇ＋３～Ｔｇ＋３０℃の範囲であることが好ましく、より好ましくはＴｇ＋５℃～Ｔｇ＋２０℃である。上記範囲より延伸温度が低い場合には、フィルム破れが多発して生産性が低下し、二軸延伸後に再度幅方向に延伸する際に安定して延伸することが困難となることがある。ＭＤ延伸倍率は合計の延伸倍率が３．１～６．０倍、好ましくは３．２～５．５倍の範囲内で２段階以上に分けて、好ましくは３段階に分けて多段延伸する。好ましく例示されるＭＤ多段延伸としては、最初のＭＤ延伸１を１．０５～１．５倍、２段目のＭＤ延伸２を１．３～２．５倍、３段目のＭＤ延伸３を１．０２～１．８倍の範囲内で行うことが幅方向に再延伸した際の突起高さの増加を抑制し易くなり好ましい。

次に、ステンターを用いて、ＴＤ延伸を行う。ＴＤ延伸１の延伸温度はＴｇ＋１０～Ｔｇ＋２０℃、延伸倍率は３．１～６．０倍、好ましくは３．３～５．５倍である。

次に、再度ＴＤ方向に延伸（ＴＤ延伸２）を行う。ＴＤ延伸２の延伸温度は１８０～２２０℃、好ましくは１９０～２１０℃である。ＴＤ延伸２の延伸倍率は好ましくは１．２～１．７倍であり、より好ましくは１．３～１．６倍である。ＴＤ延伸２の延伸倍率や延伸温度が本発明の範囲外であると温湿度膨張係数を本発明の範囲内に制御できなくなる場合がある。面積倍率は１２～３０倍、好ましくは１４～２５倍である。面積倍率が本発明の範囲外であると温湿度膨張係数の両立が困難となる場合がある。面積倍率が３０倍を超えると温湿度膨張係数を本発明の範囲内に制御できなくなる場合や、高さ５０ｎｍおよび高さ１００ｎｍ以上の突起個数が多くなりすぎる場合がある。面積倍率が１２倍を下回ると、本発明の温湿度膨張係数を得ることが困難となる傾向にある。

次にこの二軸延伸フィルムを幅方向に弛緩しながら熱固定処理する。熱固定処理条件として、熱固定温度は、１９０～２３５℃が好ましく、さらに好ましくは２００～２３０℃である。熱固定温度は２段階以上に分けて段階高温熱固定を施すことが本発明の温湿度膨張係数の両立と高さ５０ｎｍおよび高さ１００ｎｍ以上の突起個数制御、表面粗さ、およびフィルム破れの観点より好ましい。段階高温熱固定の条件は、１段目熱固定温度（ＨＳ１）は（ＴＤ延伸２の延伸温度＋３℃）～（ＴＤ延伸２の延伸温度＋２０℃）が好ましく例示される。２段目熱固定温度（ＨＳ２）は、（ＨＳ１＋５℃）～（ＨＳ１＋１５℃）の範囲が好ましい。３段目熱固定温度（ＨＳ３）は、（ＨＳ２）～（ＨＳ２＋１０℃）の範囲が好ましく、さらに好ましくは、（ＨＳ２＋２℃）～（ＨＳ２＋１０℃）である。本発明の温湿度膨張係数を得るためには、２段目の熱固定温度を２１５℃以上、好ましくは２２０～２３５℃に設定すると制御しやすくなり好ましい。

熱固定処理時間は０．５～１０秒の範囲、弛緩率は幅方向に０．８～２．０％で行うのが好ましい。
次に１３０～１８０℃に調整された冷却ゾーンに導き徐冷した後、フィルムエッジ部を裁断してロールに巻き取り、本発明の二軸配向ポリエステルフィルムを得ることができる。

ＴＤ延伸２の延伸温度と１段目熱固定温度に差があり、熱固定温度が上述の範囲よりも高いとフィルムが緩和しやすくなり、本発明の湿度膨張係数を得ることが困難となり寸法安定性が低下しやすい。さらに、表面平滑性が低下し本発明の表面粗さを得ることが困難となる場合がある。一方で熱固定温度が低すぎると幅方向の寸法安定性を本発明の範囲内に制御できない場合や結晶性が低くなりやすく、磁気記録媒体の製造工程においてベースフィルムの平面性が低下しミッシングパルスやエラー欠点の発生頻度が増加する傾向がある。

次に、磁気記録媒体は例えば次のように製造される。

上記のようにして得られた磁気記録媒体用支持体（二軸配向ポリエステルフィルム）を、たとえば０．１～３ｍ幅にスリットし、速度２０～３００ｍ／ｍｉｎ、張力５０～３００Ｎ／ｍで搬送しながら、一方の面に非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより厚み０．５～１．５μｍ塗布し乾燥後、さらに磁性塗料を厚み０．１～０．３μｍで塗布する。その後、磁性塗料および非磁性塗料が塗布された支持体を磁気配向させ、温度８０～１３０℃で乾燥させる。次いで、反対側の面にバックコートを厚み０．３～０．８μｍで塗布し、カレンダー処理した後、巻き取る。なお、カレンダー処理は、小型テストカレンダー装置（金属ロール、７段）を用い、温度７０～１２０℃、線圧０．５～５ｋＮ／ｃｍで行う。その後、６０～８０℃にて２４～７２時間エージング処理し、１２．６５ｍｍ幅にスリットし、パンケーキを作製する。次いで、このパンケーキから特定の長さ分をカセットに組み込んで、カセットテープ型磁気記録媒体とする。

ここで、磁性塗料などの組成は例えば以下のような組成が挙げられる。

以下、単に「部」と記載されている場合は、「質量部」を意味する。

［磁性層形成塗液］
バリウムフェライト磁性粉末 １００部
〔板径：２０．５ｎｍ、板厚：７．６ｎｍ、板状比：２．７、Ｈｃ：１９１ｋＡ／ｍ（≒２４００Ｏｅ）飽和磁化：４４Ａｍ^２／ｋｇ、ＢＥＴ比表面積：６０ｍ^２／ｇ〕
ポリウレタン樹脂 １２部
質量平均分子量 １０，０００
スルホン酸官能基 ０．５ｍｅｑ／ｇ
α－アルミナ ＨＩＴ６０（住友化学社製） ８部
カーボンブラック ＃５５（旭カーボン社製）粒子サイズ０．０１５μｍ ０．５部
ステアリン酸 ０．５部
ブチルステアレート ２部
メチルエチルケトン １８０部
シクロヘキサノン １００部
［非磁性層形成用塗布液］
非磁性粉体 α酸化鉄 １００部
平均長軸長 ：０．０９μｍ、ＢＥＴ法による比表面積 ５０ｍ^２／ｇ
平均針状比 ： ７
ＤＢＰ吸油量： ２７～３８ｍｌ／１００ｇ
表面処理層 ：Ａｌ_２Ｏ_３ ８質量％
カーボンブラック ２５部
コンダクテックスＳＣ－Ｕ（コロンビアンカーボン社製）
塩化ビニル共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製） １３部
ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部
フェニルホスホン酸 ３．５部
ブチルステアレート １．０部
磁気記録媒体は、例えば、データ記録用途、具体的にはコンピュータデータのバックアップ用途（例えばリニアテープ式の記録媒体（ＬＴＯ８、次世代ＬＴＯテープ（ＬＴＯ９、ＬＴＯ１０））や映像などのデジタル画像の記録用途などに好適に用いることができる。

本発明の二軸配向ポリエステルフィルムが好適に用いられる塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体としては、例えば、磁性層がバリウムフェライト等の強磁性粉末をポリウレタン樹脂等のバインダーに均一に分散させて磁性塗液を作成し、その塗液を塗布して磁性層が形成された塗布型磁気記録媒体を例示することができる。

（物性の測定方法ならびに効果の評価方法）
本発明における特性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである。
（１）幅方向の湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）
フィルムの幅方向に対して、下記条件にて測定を行い、３回の測定結果の平均値を本発明における湿度膨張係数とした。

測定装置 ：大倉インダストリ（株）製 テープ伸び量試験機 １ＴＴＭ１
恒温恒湿槽 ：（株）カトー製 ＴＰ計装 Version 1.04
試料サイズ ：幅 １０ｍｍ × 長さ ２００ｍｍ（サンプル長）
荷重 ：１０ｇ
測定回数 ：３回
温度 ：３０℃
湿度条件 ：＜１＞ ４０％ＲＨで６時間保持
＜２＞ ８０％ＲＨで６時間保持（昇湿レート：０．７％ＲＨ／ｍｉｎ）
＜３＞ ４０％RHに降湿（降湿レート：１．４％ＲＨ／ｍｉｎ）後、６時間保持
＜４＞ ８０％ＲＨに昇湿（昇湿レート：０．７％ＲＨ／ｍｉｎ）
測定（Ｌ_４０）：湿度条件＜３＞の湿度４０％ＲＨ ６時間保持後のサンプル長を計測（Ｌ_４０）
測定（Ｌ_８０）：湿度条件＜４＞の湿度４０％ＲＨから８０％ＲＨまで昇湿（昇湿レート：０．７％ＲＨ／ｍｉｎ）させた時のサンプル長を計測（Ｌ_８０）。

ΔＬ（ｍｍ）：寸法変化量ΔＬ（Ｌ_８０－Ｌ_４０）
次式から湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）を算出した。
湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）＝１０^６×｛（ΔＬ／（測定前のサンプル長×湿度差）｝
測定前のサンプル長＝２００（ｍｍ）
湿度差＝４０（％）（４０→８０％ＲＨ）
湿度条件：２０％ＲＨ下で１時間保持→８０％ＲＨで１時間保持したあと支持体幅方向の寸法変化量ΔＬ（ｍｍ）を測定する。次式から湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）を算出した。

湿度膨張係数（ｐｐｍ／％ＲＨ）＝１０^６×｛（ΔＬ／２００）／（８０－４０）｝。

（２）幅方向の温度膨張係数（ｐｐｍ／℃）
試料サイズ ：フィルム長手方向４ｍｍ×フィルム幅方向１２．６ｍｍ
測定装置 ：（株）リガク製 微小定荷重熱膨張計
測定モード ：等速昇温測定
測定温度範囲：１０℃～５０℃
昇温速度 ：２℃／分
測定雰囲気 ：窒素中
Reference ：石英ガラス
負荷荷重 ：０．５ｇ（圧縮荷重）
測定方向 ：幅方向（ＴＤ）
計算式 ：温度膨張係数＝｛(ΔL/L₀)_T1－(ΔL/L₀)_T2｝／ΔT（T1-T2）
＊ΔLは膨張長さ、L0は初期試料長、ΔTは温度差。

（３）高さ５０ｎｍ以上および高さ１００ｎｍ以上、高さ４０ｎｍ以上、高さ３０ｎｍ以上、高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数（個／ｍｍ^２）
原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて、場所を変えて２０視野測定を行った。サンプルセットは、カンチレバーの走査方向に対して垂直方向（Ｙ軸方向）がサンプルフィルムの長手方向（長手方向とは、フィルムの製造工程においてフィルムが走行する方向）となるようにサンプルをセットして、以下のＡＦＭ測定条件にて測定する。得られた画像について、付属の解析ソフト（ＮａｎｏＳｃｏｐｅ Ａｎａｌｙｓｉｓ Ｖｅｒｓｉｏｎ １．４０）を用い解析する。得られるフィルム表面のＨｅｉｇｈｔ Ｓｅｎｓｏｒ画像を下記するＦｌａｔｔｅｎ処理のみを施した後、Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ａｎａｌｙｓｉｓ解析モードを下記の通り設定することで、フィルム表面の基準面が自動的に決定される。該基準面から、突起高さの閾値（Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ Ｈｅｉｇｈｔ）を５０ｎｍに定めて得られる突起個数（Ｍｅａｎ列－Ｔｏｔａｌ Ｃｏｕｎｔ行の値）求める。２０視野のそれぞれの突起個数を合算し、２０視野の総面積における総突起個数を求める。この総突起個数を１ｍｍ^２当たりに換算した数値を、高さ５０ｎｍ以上の突起個数とする。引き続き、突起高さの閾値を１００ｎｍに設定して高さ１００ｎｍ以上の突起個数を求める。同様に、突起高さの閾値を４０ｎｍ、３０ｎｍ、１０ｎｍ、１ｎｍに設定して各高さの突起個数を求める。１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数は、１ｎｍの突起個数から１０ｎｍの突起個数を引いた値を１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数とした。
［ＡＦＭ測定条件］
・装置：Ｂｒｕｋｅｒ社製 原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）
Ｄｉｍｅｎｔｉｏｎ Ｉｃｏｎ ｗｉｔｈ ＳｃａｎＡｓｙｓｔ
・カンチレバー ：窒化ケイ素製プローブ ＳｃａｎＡｓｙｓｔ Ａｉｒ
・走査モード ：ＳｃａｎＡｓｙｓｔ
・走査速度 ：０．８Ｈｚ
・走査方向 ：後述する方法にて作製した測定サンプルの幅方向に走査を行う
・測定視野 ：５０μｍ四方
・サンプルライン ：５１２
・ＬＰ Ｄｅｆｌｅｃｔｉｏｎ ＢＷ ：４０ ｋＨｚ
・サンプル調整 ：２３℃、６５％ＲＨ、２４時間静置
・ＡＦＭ測定環境 ：２３℃、６５％ＲＨ
・サンプル測定回数 ：各サンプル同士が少なくとも５μｍ以上離れるように場所を変え、２０回測定を行う。
［Ｆｌａｔｔｅｎ処理条件］
・Ｆｌａｔｔｅｎ Ｏｒｄｅｒ ：３ｒｄ
・Ｆｌａｔｔｅｎ Ｚ Ｔｈｒｅｓｈｈｏｌｄｉｎｇ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ
：Ｎｏ ｔｈｅｒｅｓｈｏｌｄｉｎｇ
・Ｆｉｎｄ Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ ｆｏｒ ：ｔｈｅ ｗｈｏｌｅ ｉｍａｇｅ
・Ｆｌａｔｔｅｎ Ｚ Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ ％ ：０．００ ％
・Ｍａｒｋ Ｅｘｃｌｕｄｅｄ Ｄａｔａ ：Ｙｅｓ
［Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ａｎａｌｙｓｉｓモード設定条件］
（Ｄｅｔｅｃｔタブ）
・Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ Ｈｅｉｇｈｔ ：１ｎｍ、１０ｎｍ，３０ｎｍ，４０ｎｍ、５０ｎｍ、１００ｎｍ
・Ｆｅａｔｕｒｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ ：Ａｂｏｖｅ
・Ｘ Ａｘｉｓ ：Ａｂｓｏｌｕｔｅ
・Ｎｕｍｂｅｒ Ｈｉｓｔｏｇｒａｍ Ｂｉｎｓ ：５１２
・Ｈｉｓｔｏｇｒａｍ Ｆｉｌｔｅｒ Ｃｕｔｏｆｆ ：０．００ ｎｍ
・Ｍｉｎ Ｐｅａｋ ｔｏ Ｐｅａｋ ：１．００ ｎｍ
・Ｌｅｆｔ Ｐｅａｋ Ｃｕｔｏｆｆ ：０．０００００％
・Ｒｉｇｈｔ Ｐｅａｋ Ｃｕｔｏｆｆ ：０．０００００％
（Ｍｏｄｉｆｙタブ）
・Ｂｅｕｇｈｂｉｒｈｏｏｄ Ｓｉｚｅ ：３
・Ｎｕｍｂｅｒ Ｐｉｘｅｌｓ Ｏｆｆ ：１
・一切のＤｉｌａｔｅ／Ｅｒｏｄｅ操作を行わない。
（Ｓｅｌｅｃｔタブ）
・Ｉｍａｇｅ Ｃｕｒｓｏｒ Ｍｏｄｅ：Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ｓｅｌｅｃｔ
・Ｂｏｕｎｄ Ｐａｒｔｉｃｌｅｓ ：Ｙｅｓ
・Ｎｏｎ－Ｒｅｐｒｅｓｅｎｔａｔｉｖｅ Ｐａｒｔｉｃｌｅｓ ：Ｙｅｓ
・Ｈｅｉｇｈｔ Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ ：Ｒｅｌａｔｉｖｅ Ｔｏ Ｔｈｒｅｓｈｏｌｄ
・Ｎｕｍｂｅｒ Ｈｉｓｔｏｇｒａｍ Ｂｉｎｓ ：５０
・前記数値を求めるに際し、解析画像中の特定のピーク、エリアを選択しない。
・Ｄｉａｍｅｔｅｒ、Ｈｅｉｇｈｔ、Ａｒｅａ全てのヒストグラムで特定の場所を選択しない。

（４）ヤング率
ＡＳＴＭ－Ｄ８８２（１９９７年）に準拠してフィルムのヤング率を測定した。なお、インストロンタイプの引張試験機を用い、条件は下記のとおりとした。５回の測定結果の平均値を本発明におけるヤング率とした。

測定装置：インストロン社製超精密材料試験機ＭＯＤＥＬ５８４８
試料サイズ：
フィルム幅方向のヤング率測定の場合
フィルム長手方向２ｍｍ×フィルム幅方向１２．６ｍｍ
（つかみ間隔はフィルム幅方向に８ｍｍ）
フィルム長手方向のヤング率測定の場合
フィルム幅方向２ｍｍ×フィルム長手方向１２．６ｍｍ
（つかみ間隔はフィルム長手方向に８ｍｍ）
引張り速度：１ｍｍ／分
測定環境：温度２３℃、湿度６５％ＲＨ
測定回数：５回。

（５）表面平均粗さ（ＳａＡ）、（ＳａＢ）
フィルムの両面について、前記（３）に記載の装置を用いて、同条件にて場所を変えて２０視野の測定を実施し、変換処理を施した後、付帯の解析ソフトにおいて各視野の表面平均粗さ（Ｓａ）を求めた。各面について２０視野の平均値を求め、表面平均粗さが小さい側の表面粗さをＳａＡ（かかる表面をＡ面）、表面平均粗さが大きい側の表面粗さをＳａＢ（かかる表面をＢ面）とした。

（６）積層厚み（μｍ）
以下の条件にて断面観察を場所を変えて１０視野行い、得られた厚み（μｍ）の平均値を算出しＡ層の厚み（μｍ）とした。

測定装置：透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ） 日立製Ｈ－７１００ＦＡ型
測定条件：加速電圧 １００ｋＶ
測定倍率：１万倍
試料調整：超薄膜切片法
観察面 ：ＴＤ－ＺＤ断面（ＴＤ：幅方向、ＺＤ：厚み方向）
測定回数：１視野につき３点、１０視野を測定する。

（７）粒子の数平均粒子径および凝集粒子の平均１次粒子径
フィルム断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、１万倍で観察する。この時、写真上で１ｃｍ以下の粒子が確認できた場合はＴＥＭ観察倍率を５万倍に変えて観察する。ＴＥＭの切片厚さは約１００ｎｍとし、場所を変えて１００視野測定し、写真に撮影された分散した粒子全てについて等価円相当径をもとめ、横軸に等価円相当径を、縦軸に粒子の個数として粒子の個数分布をプロットし、そのピーク値の等価円相当径を粒子の平均粒径とした。ここで、１万倍で観察した写真上に凝集粒子が確認できた場合は上記プロットに含めない。フィルム中に粒子径の異なる２種類以上の粒子が存在する場合、上記等価円相当径の個数分布は２個以上のピークを有する分布となる。この場合は、それぞれのピーク値をそれぞれの粒子の平均粒径とする。

凝集粒子の平均１次粒子径は、上記の装置を用いて２０万倍で観察する。凝集粒子１００個について、凝集粒子を構成する個々の１次粒子の等価円相当径をもとめ、上記と同様の方法でプロットし、ピーク値の等価円相当径を凝集粒子の平均１次粒子径とする。

（８）ミッシングパルス発生頻度
１ｍ幅にスリットしたフィルムを、張力２００Ｎで搬送させ、支持体の一方の表面に下記に従って磁性塗料および非磁性塗料を塗布し１２．６５ｍｍ幅にスリットし、パンケーキを作成する。次いで、このパンケーキから長さ２００ｍ分をカセットに組み込んで、磁気テープとした。

（以下、「部」とあるのは「質量部」を意味する。）
磁性層形成用塗布液
バリウムフェライト磁性粉末 １００部
（板径：２０．５ｎｍ、板厚：７．６ｎｍ、
板状比：２．７、Ｈｃ：１９１ｋＡ／ｍ（≒２４００Ｏｅ）
飽和磁化：４４Ａｍ^２／ｋｇ、ＢＥＴ比表面積：６０ｍ^２／ｇ）
ポリウレタン樹脂 １２部
質量平均分子量 １０，０００
スルホン酸官能基 ０．５ｍｅｑ／ｇ
α－アルミナ ＨＩＴ６０（住友化学社製） ８部
カーボンブラック ＃５５（旭カーボン社製）
粒子サイズ０．０１５μｍ ０．５部
ステアリン酸 ０．５部
ブチルステアレート ２部
メチルエチルケトン １８０部
シクロヘキサノン １００部
非磁性層形成用塗布液
非磁性粉体 α酸化鉄 ８５部
平均長軸長 ： ０．０９μｍ、ＢＥＴ法による比表面積 ５０ｍ^２／ｇ
平均針状比 ： ７
ＤＢＰ吸油量： ２７～３８ｍｌ／１００ｇ
表面処理層 ： Ａｌ_２Ｏ_３ ８質量％
カーボンブラック １５部
“コンダクテックス”（登録商標）ＳＣ－Ｕ（コロンビアンカーボン社製）
ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ２２部
フェニルホスホン酸 ３部
シクロヘキサノン １４０部
メチルエチルケトン １７０部
ブチルステアレート １部
ステアリン酸 ２部
上記の塗布液のそれぞれについて、各成分をニ－ダで混練した。０．５ｍｍφのジルコニアビーズを分散部の容積に対し６５％充填する量を入れた横型サンドミルに、塗布液をポンプで通液し、２，０００ｒｐｍで１２０分間（実質的に分散部に滞留した時間）、分散させた。得られた分散液にポリイソシアネ－トを非磁性層の塗料には５．０部、磁性層の塗料には２．５部を加え、さらにメチルエチルケトン３部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。

得られた非磁性層形成用塗布液を、ＰＥＴフィルム上に乾燥後の厚さが０．８μｍになるように塗布乾燥させた後、磁性層形成用塗布液を乾燥後の磁性層の厚さが０．０７μｍになるように塗布を行い、磁性層がまだ湿潤状態にあるうちに６，０００Ｇ（６００ｍＴ）の磁力を持つコバルト磁石と６，０００Ｇ（６００ｍＴ）の磁力を持つソレノイドにより配向させ乾燥させた。その後、カレンダ後の厚みが０．３５μｍとなるようにバックコート層（カーボンブラック 平均粒子サイズ：１７ｎｍ １００部、炭酸カルシウム平均粒子サイズ：４０ｎｍ ８０部、αアルミナ 平均粒子サイズ：２００ｎｍ ５部をポリウレタン樹脂、ポリイソシアネートに分散）を塗布した。次いでカレンダで温度９０℃、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）にてカレンダ処理を行った後、６５℃で、７２時間キュアリングした。さらに、スリット品の送り出し、巻き取り装置を持った装置に不織布とカミソリブレードが磁性面に押し当たるように取り付け、テープクリーニング装置で磁性層の表面のクリーニングを行い、磁気テープを得た。

上記により得られた磁気テープカートリッジ（磁気テープ全長５００ｍ）をＩＢＭ社製ＬＴＯ－７ドライブにセットし、磁気テープを張力０．５５Ｎ、走行速度８ｍ/秒で１，５００往復走行させた。

上記走行後の磁気テープカートリッジをリファレンスドライブ（ＩＢＭ社製ＬＴＯ７ドライブ）にセットし、磁気テープを走行させて記録再生を行った。走行中の再生信号を外部ＡＤ（Ａｎａｌｏｇ／Ｄｉｇｉｔａｌ）変換装置に取り込み、再生信号振幅が平均（全トラックでの測定値の平均）に対して８０％以上低下した信号をミッシングパルスとして、その発生頻度を磁気テープ全長で除して、磁気テープの単位長さ当たりのミッシングパルス発生頻度（単位：回／ｍ）として求めた。ミッシングパルス発生頻度が２．５回／ｍ以下のテープを信頼性の高い磁気テープとし、ミッシングパルス発生頻度が２．５回／ｍを超えて発生するテープを不良とし、以下の基準で判断した。

ＡＡ：ミッシングパルス発生頻度が１．５回／ｍ未満
Ａ：ミッシングパルス発生頻度が１．５回／ｍ以上、２．０回／ｍ未満
Ｂ：ミッシングパルス発生頻度が２．０回／ｍ以上、２．５回／ｍ未満
Ｃ：ミッシングパルス発生頻度が２．５回／ｍ以上。

（９）ＳＮＲ（Ｓｉｇｎａｌ－ｔｏ－ｎｏｉｓｅ ｒａｔｉｏ）
上記（８）にて作製した磁気テープを下記条件で磁気信号をテープ長手方向に記録し、３０℃、６０％ＲＨ雰囲気下に７日間放置した後、磁気抵抗効果型（ＭＲ；Ｍａｇｎｅｔｏｒｅｓｉｓｔｉｖｅ）ヘッドで再生した。再生信号を シバソク製スペクトラムアナライザーで周波数分析し、３００ｋｆｃｉの出力と、０～６ ００ｋｆｃｉ範囲で積分したノイズとの比をＳＮＲとし、磁気テープの電磁変換特性をＳＮＲで評価した。
記録再生条件
記録：記録トラック幅５μｍ
記録ギャップ０．１７μｍ
ヘッド飽和磁束密度Ｂｓ１．８Ｔ
再生：再生トラック幅０．４μｍ
シールド間距離（ｓｈ－ｓｈ距離）０．０８μｍ
記録波長：３００ｋｆｃｉ
判断基準
５： ノイズがほぼなく、シグナルが良好でエラーも見られず、実用上問題なし。
４： ノイズが小さく、シグナルが良好で、実用上問題なし。
３： ノイズが見られるが、シグナルが良好なため、実用上問題なし。
２： ノイズが大きく、シグナルが不明瞭で、実用上問題あり。
１： ノイズとシグナルの区別ができないか記録できておらず、実用上問題あり。
（１０）スリット性
フィルムを幅１ｍにスリットする際、スリット速度を変更しフィルム端部の切れ味を目視にて以下に示す方法により評価した。なお、Ｃをスリット性不良と判断した。

Ａ：速度５０ｍ／分以上で端部が歪になることなくスリット可能。

Ｂ：速度３０ｍ／分以上５０ｍ/分未満で端部が歪になることなくスリット可能。

Ｃ：速度３０ｍ/分未満でフィルム表面にシワが発生し端部が歪になる。

次の実施例に基づき、本発明の実施形態を説明する。なお、ここでポリエチレンテレフタレートをＰＥＴ、ポリエチレンナフタレートをＰＥＮ、ポリエーテルイミドをＰＥＩと表記する。

（１）ＰＥＴペレットの作製：テレフタル酸ジメチル１９４質量部とエチレングリコール１２４質量部とをエステル交換反応装置に仕込み、内容物を１４０℃に加熱して溶解した。その後、内容物を撹拌しながら酢酸マグネシウム四水和物０．３質量部および三酸化アンチモン０．０５質量部を加え、１４０～２３０℃でメタノールを留出しつつエステル交換反応を行った。次いで、リン酸トリメチルの５質量％エチレングリコール溶液を０．５質量部（リン酸トリメチルとして０．０２５質量部）とリン酸二水素ナトリウム２水和物の５質量％エチレングリコール溶液を０．３質量部（リン酸二水素ナトリウム２水和物として０．０１５質量部）添加した。

トリメチルリン酸のエチレングリコール溶液を添加すると反応内容物の温度が低下する。そこで余剰のエチレングリコールを留出させながら反応内容物の温度が２３０℃に復帰するまで撹拌を継続した。このようにしてエステル交換反応装置内の反応内容物の温度が２３０℃に達した後、反応内容物を重合装置へ移行した。

移行後、反応系を２３０℃から２７５℃まで徐々に昇温するとともに、圧力を０．１ｋＰａまで下げた。最終温度、最終圧力到達までの時間はともに６０分とした。最終温度、最終圧力に到達した後、２時間（重合を始めて３時間）反応させたところ、重合装置の撹拌トルクが所定の値（重合装置の仕様によって具体的な値は異なるが、本重合装置にて固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートが示す値を所定の値とした）を示した。そこで反応系を窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水にストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度０．６２のポリエチレンテレフタレートのＰＥＴペレットを得た（原料－１）。

（２－ａ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料－１）を９０質量部と平均粒径０．４５μｍの架橋ポリスチレン粒子の１０質量％水スラリーを１０質量部（架橋ポリスチレン粒子として１質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、架橋ポリスチレン粒子を１質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料－２ａ）を得た。

（２－ｂ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料－１）を９０質量部と平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子の５質量％水スラリーを１０質量部（架橋ポリスチレン粒子として０．５質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、架橋ポリスチレン粒子を０．５質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料－２ｂ）を得た。

（２－ｃ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料－１）を９０質量部と平均粒径０．１５μｍの架橋ポリスチレン粒子の５質量％水スラリーを１０質量部（架橋ポリスチレン粒子として０．５質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、架橋ポリスチレン粒子を０．５質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料－２ｃ）を得た。

（２－ｄ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料－１）を９４質量部と平均粒径０．０６０μｍのコロイダルシリカ粒子の５質量％水スラリーに平均粒径０．０５ｍｍのガラスビーズを加え１，０００ｒｐｍで２時間攪拌した後ろ過しガラスビーズを除去した水スラリーを６質量部（コロイダルシリカ粒子として０．３質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、コロイダルシリカ粒子を０．３質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料－２ｄ）を得た。

（２－ｅ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料－１）を９０質量部と平均粒径０．２０μｍのコロイダルシリカ粒子の５質量％水スラリーに平均粒径０．０５ｍｍのガラスビーズを加え３，０００ｒｐｍで２時間攪拌した後ろ過しガラスビーズを除去した水スラリーを１０質量部（コロイダルシリカ粒子として０．５質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、コロイダルシリカ粒子を０．５質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料－２ｅ）を得た。

（２－ｆ）粒子含有ＰＥＴペレットの作製：２８０℃に加熱された同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機に、上述のＰＥＴペレット（原料－１）を９０質量部と１次平均粒径０．０２μｍのアルミナ粒子の１０質量％水スラリーに平均粒径０．５ｍｍのジルコニアビーズを加え３，０００ｒｐｍで２時間攪拌した後ろ過しジルコニアビーズを除去した水スラリーを１０質量部（アルミナ粒子として１質量部）を供給し、ベント孔を１ｋＰａ以下の減圧度に保持し水分を除去し、アルミナ粒子を１質量％含有する固有粘度０．６２の粒子含有ペレット（原料－２ｆ）を得た。

（３）２成分組成物（ＰＥＴ／ＰＥＩ）ペレットの作製：温度２８０℃に加熱されたニーディングパドル混練部を３箇所設けた同方向回転タイプのベント式２軸混練押出機（日本製鋼所製、スクリュー直径３０ｍｍ、スクリュー長さ／スクリュー直径＝４５．５）に、上記方法で得られたＰＥＴペレット（原料－１）とＳＡＢＩＣイノベーティブプラスチック社製のＰＥＩ“Ｕｌｔｅｍ”（登録商標）１０１０のペレットを供給して、剪断速度１００ｓｅｃ^－１、滞留時間１分にて溶融押出し、ＰＥＩを５０質量％含有した２成分組成物ペレットを得た。なお、作製した２成分組成物ペレットのガラス転移温度は１５０℃であった（原料－３）。

（実施例１）
押出機Ｅ１、Ｅ２の２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｅ１には、Ａ層原料として、ＰＥＴペレット（原料－１）を２９質量部、２成分組成物ペレット（原料－３）４質量部、平均粒径０．０６μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料－２ｄ）６７質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、ＰＥＴペレット（原料－１）５２質量部、２成分組成物ペレット（原料－３）４質量部、平均粒径０．２０μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料－２ｅ）４０質量部、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料－２ｂ）４質量部、を配合し、１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝８｜１とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。

この積層未延伸フィルムを表２に示す条件にて延伸、熱固定を実施し、フィルムエッジを除去し、コア上に巻き取って厚さ４．５μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの製膜安定性は良好であり、物性評価したところ、表４に示すように、磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。

以下、表に各実施例、比較例の原料組成、製膜条件、二軸配向ポリエステルフィルムの物性、磁気テープの特性等を示す。

（実施例２～４）
表に示す粒子処方となるように、Ｂ層原料および延伸条件を変更して厚さ４．５μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの製膜安定性は良好であり、物性評価したところ、表に示すように、磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。

（実施例５）
押出機Ｅ１、Ｅ２の２台を用い、２８０℃に加熱された押出機Ｅ１には、Ａ層原料として、ＰＥＴペレット（原料－１）を２９質量部、２成分組成物ペレット（原料－３）４質量部、平均粒径０．０６μｍのコロイダルシリカ粒子含有ペレット（原料－２ｄ）６７質量部を１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。同じく２８０℃に加熱された押出機Ｅ２には、Ｂ層原料として、ＰＥＴペレット（原料－１）９２質量部、２成分組成物ペレット（原料－３）４質量部、平均粒径０．３０μｍの架橋ポリスチレン粒子含有ペレット（原料－２ｂ）４質量部、を配合し、１８０℃で３時間減圧乾燥した後に供給した。これらを２層積層するべくＴダイ中で積層厚み比（Ａ層｜Ｂ層）＝８｜１とし、Ｂ層側がキャストドラム面側になるように合流させ、表面温度２５℃のキャストドラムに静電荷を印加させながら密着冷却固化し、積層未延伸フィルムを作製した。

この積層未延伸フィルムを相対する電極とアースロール間に導き、装置中に窒素ガスを導入し、Ｅ値が３００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ^２となる条件で大気圧グロー放電プラズマ処理をＢ層側に行った。
表２に示す条件にて延伸、熱固定を実施し、フィルムエッジを除去し、コア上に巻き取って厚さ４．３μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの製膜安定性は良好であり、物性評価したところ、表４に示すように、磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。

（実施例６）
表に示す粒子処方となるように、Ｂ層原料を変更した以外は実施例５と同様にして厚さ４．３μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。得られた二軸配向ポリエステルフィルムの製膜安定性は良好であり、物性評価したところ、表に示すように、磁気テープとして使用した際に優れた特性を有していた。

（比較例１～４）
表に示す粒子処方となるように、Ｂ層原料を変更し、実施例1と同様にして厚さ４．５μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。

（比較例５）
表に示す粒子処方となるように、AおよびＢ層原料を変更し、２段目の幅延伸倍率を変更した以外は実施例１と同様にして厚さ４．５μｍの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。

Claims (8)

1. 二軸配向ポリエステルフィルムの少なくとも一方の最外層表面（Ｂ面）において、高さ５０ｎｍ以上の突起個数が５．０万個／ｍｍ^２以下、高さ１００ｎｍ以上の突起個数が１．５万個／ｍｍ^２以下であり、該層の表面平均粗さＳａＢがもう片方の最外層表面（Ａ面）の表面平均粗さＳａＡよりも大きい二軸配向ポリエステルフィルム。
2. 請求項１に記載の特徴を有する最外層表面（Ｂ面）において、高さ４０ｎｍ以上の突起個数が７．０万個／ｍｍ^２以下である、請求項１に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
3. 請求項１に記載の特徴を有する最外層表面（Ｂ面）において、高さ３０ｎｍ以上の突起個数が０．５万～１０．０万個／ｍｍ^２以下である、請求項１および２に記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
4. 請求項１に記載の特徴を有する最外層表面（Ｂ面）において、高さ３０ｎｍ以上の突起個数が１．５万～１０．０万個／ｍｍ^２以下である、請求項１～３のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
5. 請求項１に記載の特徴を有する最外層表面（Ｂ面）において、高さ１ｎｍ以上１０ｎｍ未満の突起個数が１００万個／ｍｍ^２以上である請求項１～４のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
6. 幅方向の湿度膨張係数が４．５～６．５ｐｐｍ／％ＲＨである、請求項１～５のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
7. 幅方向の温度膨張係数が－３．０～４．０ｐｐｍ／℃以下である、請求項１～６のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。
8. 塗布型デジタル記録方式の磁気記録媒体用ベースフィルムに用いられる、請求項１～７のいずれかに記載の二軸配向ポリエステルフィルム。