Plasmatron mit Wasserdampf als Plasmagas und Verfahren zum stabilen Betrieb des Plasmatrons
Beschreibung
Die vorliegende Erfindung betrifft Plasmatrons, die mit Wasserdampf als Plasmagas betrieben werden, sowie ein Verfahren zum stabilen Betrieb derartiger Plasmatrons.
Plasmatrons, die für die chemische StoffWandlung eingesetzt werden, werden überwiegend mit einem gegenüber den Piasmatronmaterialien chemisch inerten Gas als Plasmagas betrieben. Beispielsweise arbeiten Verfahren der Plasmapyrolyse mit Wasserstoff als Plasmagas.
Es ist auch bereits bekannt, für verschiedene chemische Stoffwandlungen und in verschiedenen Leistungsgrößen Wasserdampf aus Plasmagas einzusetzen, z.B. bei der Kohlevergasung (DD-PS 215 325, DE-OS 3 330 750, DE-OS 3 605 715).
Es wurde auch bereits vorgeschlagen, toxische Abprodukte, insbesondere Abprodukte, die flourierte oder chlorierte Kohlenwasserstoffe enthalten, durch chemische Reaktion in einem Wasserdampfplasmastrahl zu vernichten.
In Verbindung mit Untersuchungen zu den chemischen Prozessen auf bestimmten Anwendungsgebieten chemischer Stoffwandlung in einer Wasserstoffplasmaathmosphäre wurde festgestellt, daß diese chemischen Prozesse zum einen durch die Wasserstoffionen und zum anderen durch die Sauerstoffionen des Wasserdampfplasmas bewirkt werden.
Wasserdampfplasmen haben den Vorteil, bei verhältnismäßig niedtigen Temperaturen um ca. 3000°K eine hohe
Konzentration an chemisch reaktiven, hoch angeregten Sauerstoff- und Wasserstoffspezies zu besitzen und dadurch für eine Reihe von Stoffwandlungsprozessen eine besondere Eignung zu besitzen. Bei allen Plasmatrons ist die thermische Belastung hoch, so daß sich infolge thermischer und/oder chemischer Erosion Standzeiten ergeben, die einen kontinuierlichen Betrieb eines Plasmatrons ohne intensive Kühlung verhindern. Dies betrifft in erster Linie die Elektroden, aber auch die Gaskammer, das Piasmatrongehäuse, die Anschlußstutzen und, je nach konstruktiver Ausführung, weitere Bauteile. Als Kühlmittel für derartige Plasmatrons wird üblicherweise Wasser mit einer Temperatur von ca. 20°C verwendet.
Bei Plasmatrons, die unter Verwendung von Wasserdampf als Plasmagas betrieben werden, ist im Unterschied zur Verwendung anderer Plasmagase die Erosion an den Teilen, die dem Lichtbogen ausgesetzt sind bzw. mit diesem in Kontakt stehen, besonders hoch. Diese hohe Erosionsbelastung betrifft also insbesondere die Kathode und die Anode. Der verhältnismäßig hohe Verlust an Elektrodenmasse führt zu niedrigen Standzeiten der Elektroden des Plasmatrons, das mit Wasserdampf als Plasmagas betrieben wird, so daß infolge des häufig notwendigen Elektrodenwechsels ein kontinuierlicher Betrieb praktisch nicht möglich ist.
Für den industriellen Einsatz von Wasserdampf-Plasmatrons ist außerdem die für derartige Plasmatrons spezifische Erscheinung nachteilig, daß in schneller Folge schlagartige Störungen in der Betriebsweise des Plasmatrons auftreten. Diese äußern sich in Schwankungen oder Unterbrechungen des Dampfdurchsatzes, Änderungen der Lichtbogenlänge, stark fluktuierender bzw. schwankender Lichtbogenspannung und -Stromstärke und einer damit einhergehenden, stark
schwankenden Plasmaenthalpie. Dies führt im Plasmareaktor zu Schwankungen in der chemischen Umsetzung, d.h. zu Beeinträchtigungen in der Produktqualität sowie des Wirkungsgrades und der Effizienz des Plasmatrons. Bisher haben auch Maßnahmen, die bei Plasmatrons üblicherweise beschritten werden, nämlich durch Verstärkung der Kühlung die Erosion an den Elektroden zu senken, üblicherweise bei Plasmatrons, die mit Wasserdampf als Plasmagas arbeiten, keine oder jedenfalls keine hinreichende Wirkung gezeigt.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Plasmatron, das mit Wasserdampf als Plasmagas betrieben wird, derart zu verbessern, daß die Standzeit der thermisch .. hpchbeanspruchten Teile des Plasmatrons verlängert wird und ein stabiler, fluktuationsarmer oder -freier Betrieb des Plasmatrons ohne wesentliche Erhöhung der BetriebsaufWendungen erreicht werden kann. Insbesondere sollen die"Unterschiede, die bei Plasmatrons mit Wasserdampfplasmen im Vergleich zu anderen Gasplasmen im Hinblick auf wesentlich höhere Elektrodenerosion sowie starke, nachteilige Betriebsschwankungen bestehen, bei gleichen thermischen Prozeßbedingungen und intensiver Kühlung aller thermisch hoch beanspruchten Teile, insbesondere Elektroden, beseitigt werden.
Der Erfindung liegt ferner die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum stabilen Betrieb eines Plasmatrons, das mit Wasserdampf als Plasmagas betrieben wird, anzugeben, durch das bei intensiver Kühlung aller thermisch hochbeanspruchten Teile, insbesondere der Elektroden des Plasmatrons, und bei im übrigen herkömmlichen thermischen Prozeßbedingungen ein kontinuierlicher Betrieb durch Erhöhung der Standzeiten thermisch hochbeanspruchter Teile des Plasmatrons sowie durch Verringerung oder Vermeidungen von Schwankungen der Betriebsparameter des Plasmatrons
erreicht werden kann. Insbesondere sollen die Ursachen beseitigt werden, die bei Plasmatrons mit Wasserdampf als Plasmagas im Vergleich zu Plasmatrons mit anderen Gasplasmen zu einer wesentlichen höheren Elektrodenerosion und zu Schwankungen in den Betriebsparametern führen, ohne daß andererseits nachteilige Veränderungen der thermischen Prozeßbedingungen oder im Kühlbereich auftreten.
Die vorgenannten Aufgaben werden erfindungsgemäß bei einem Plasmatron mit Wasserdampf als Plasmagas sowie einer Kühleinrichtung mit einem Kühlmittel für thermisch hochbeanspruchte Teile, insbesondere die Elektroden, dadurch gelöst, daß durch Steuerung der Betriebsparameter, -insbesondere der Temperatur der thermisch hochbeanspruchten Teile und/oder der Kondensationstemperatur des Plasraagases eine Kondensation des Plasmagases an den thermisch hochbeanspruchten und daher gekühlten Teilen vermieden ist.
Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung ist zur chemischen Stoff andlung, insbesondere zur TotalVernichtung toxischer, insbesondere chlorierte oder luorierte Kohlenwasserstoffe enthaltende Abprodukte ein Plasmatron verwendet, das mit einem Wasserdampfplasma als Plasmagas arbeitet und dessen thermisch hochbelastete Teile, insbesondere Elektroden, durch Heißwasser als Kühlmittel mit einer Temperatur von zumindest ca. 80°C betrieben wird.
Gemäß einer weiteren, bevorzugten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung können Durchbrüche toxischer Schadstoffe bei deren Behandlung im Plasmatron mit noch größerer Effizienz unterbunden werden, wenn die erfindungsgemäße Kühlung mit Heißwasser bzw. Wasser erhöhter Temperatur kombiniert wird mit einer Senkung der Kondensationstemperatur des Wasserdampfplasmas. Hierzu wird
vorzugsweise Luft als Mischgas verwendet, das in den Plasmadampf des Wasserdampfplasmas eingemischt wird.
Zur Lösung der obigen Aufgabe, ein Verfahren zum stabilisierten Betrieb eines mit Wasserdampf als Plasmagas arbeitenden Plasmatrons anzugeben, das eine Erhöhung der Elektrodenstandzeiten sowie einen im wesentlichen fluktuationsfreien Betrieb bei hohem Wirkungsgrad der gewünschten chemischen StoffWandlung gestattet, ist erfindungsgemäß ein Verfahren vorgesehen, derart, daß Betriebsparameter, insbesondere die Temperatur des Kühlmittels und/oder die Zusammensetzung des Plasmagases derart gesteuert werden, daß eine Kondensation des » zumindest im wesentlichen aus Wasserdampf bestehenden .Plasmagases an den gekühlten Teilen des Plasmatrons vermieden wird. Vorzugsweise wird wegen seiner hohen Wärmekapazität und Wärmeabführungsleistung als Kühlmittel Heißwasser verwendet, dessen Kühltemperatur vorzugsweise zumindest 80°C beträgt.
Eine weitere Verbesserung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herabsetzung von Kondensationsproblemen in bezug auf das Wasserdampfplasma an den heißwassergekühlten Teilen des Plasmatrons, insbesondere der vom Lichtbogen thermisch beaufschlagten Anode und Kathode, wird nach einer weiteren, bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens dadurch erreicht, daß die Kühlung der thermisch hochbeanspruchten Teile des Plasmatrons, insbesondere der Elektroden, durch Heißwasser mit einer Temperatur von zumindest 80°C kombiniert wird mit einer Senkung der Kondenstionstemperatur des Plasmagases durch Beimischung eines Gases mit niedriger Kondensationstemperatur. Vorzugsweise wird dem Plasmadampf im Anschluß an die Verdampfungsstufe Luft beigemischt zur Erniedrigung der Kondensationstemperatur des Plasmagasgemisches, wobei die
Kondensationstemperatur der
Wasserdampf-Plasmagaspartialkoiφonente bei z.B. 80°C liegt, während in diesem Fall durch die erfindungsgemäße Elektrodenkühlung mittels Heißwasser eine Elektrodentemperatur von mehr als 80°C gehalten wird.
Überraschenderweise wurde gefunden, daß die für Wasserdampfplasmen typische, stark erhöhte Elektrodenerosion und damit einhergehende Schwankungen in der Arbeitsweise des Plasmareaktors, die bisher einem kontinuierlichen Betrieb von Wasserdampf-Plasmatrons im Wege stehen, dadurch beseitigt werden können, daß anstelle einer Verstärkung der Kühlung der thermisch -hochbeanspruchten Piasmatronteile, insbesondere der , Elektroden, gerade der entgegengesetzte Weg beschritten wird, nämlich eine Begrenzung der Kühlung vorgenommen wird. Es wurde gefunden, daß die bisherigen Probleme in bezug auf die Elektrodenerosion sowie schlagartiger, in schneller Folge auftretender Störungen in der Betriebsweise wie Schwankungen oder Unterbrechungen des Dampfdurchsatzes, Änderung der Lichtbogenlänge, stark schwankender Lichtbogenspannung und -Stromstärke sowie damit eingehender fluktuierender Plasmaenthalpie ihre Ursache in einer explosionsartigen Verdampfung von Wasserdampfkondensat an den stark gekühlten Teilen (Elektroden) unter Einwirkung des Lichtbogens haben. Untersuchungen der Erfinder und Anmelderin haben ergeben, daß diese explosionsartige Verdampfung von durch Kondensation gebildeten Wassertröpfchen unter mechanischem Herausreißen von Material und chemisch-physikalischer Wechselwirkung der flüssigen Wasserphase mit der Elektrodenwandung unter initiierender Einwirkung des Lichtbogens zu kraterartigen Vertiefungen in der Elektrodenoberfläche führt, die bevorzugte Angriffspunkte für die weiteren Erosionen bilden. Überdies wird durch die schlagartige Verdampfung
des Kondensats der kontinuierliche Dampfdurchsatz stark gestört oder kurzzeitig unterbrochen, wodurch es zu den beschriebenen Fluktuationen und Betriebsstörungen des Plasmatrons kommt.
Die Lösung der der Erfindung zugrundeliegenden Aufgaben besteht in einem Plasmatron, das mit zumindest im wesentlichen Wasserdampf als Plasmagas arbeitet und in einem Verfahren zum stabilen Betrieb desselben mit einer Begrenzung der Kühlung der thermisch hochbelasteten und daher gekühlten Teile des Plasmatrons durch Verwendung von Heißwasser als Kühlmittel mit einer Temperatur von zumindest ca. 80°C. Die Begrenzung der Kühlung wird hierbei « durch alleinige Verminderung der thermischen Triebkraft . zwischen der Elektronenoberfläche, vorzugsweise der Anodeninnenwand, und dem Kühlwasser erreicht.
Eine besonders wirksame Lösung wird nach einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung durch eine Kombination der Begrenzung der Kühlung in Verbindung mit der Verwendung von Heißwasser als Kühlmittel und der gleichzeitigen Senkung der Kondensationstemperatur des Wasserdampfplasmas durch Beimischung eines Gases mit niedrigerer Kondensationstemperatur als derjenigen von Wasserdampf erreicht, wobei die
Kühlwassereintrittstemperatur so gesteuert wird, daß die Oberflächentemperatur von Kathode und Anode des Plasmatrons zumindest nahe derjenigen der dem neuen Wasserdampfpartialdruck entsprechenden Kondensationstemperatur des Plasma-Gasgemisches liegt. Vorzugsweise wird als die Kondensationstemperatur des Wasserdampfplasma verminderndes Gas zusätzlich Luft in den Wasserdampf gemischt.
Weitere, bevorzugte Ausgestaltungen des Plasmatrons sowie
i des Verfahrens zum Betrieb desselben nach der vorliegenden Erfindung sind in den übrigen Unteransprüchen dargelegt.
Die Erfindung wird nachstehend anhand eines Ausführungsbeispieles zur Vernichtung toxischer Abprodukte mit Hilfe einer chemischen Stoffwandlung durch Behandlung in Plasmatrons, die im wesentlichen mit Wasserdampf als Plasmagas betrieben werden, näher erläutert.
Nach dem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung besteht eine Plasmaanlage zur Vernichtung toxischer Abprodukte, vorzugsweise zur chemischen Umwandlung von Abprodukten, die chlorierte oder fluorierte »Kohlenwasserstoffe enthalten, aus 10 Plasmatrons von je 30 -kW Leistung mit den entsprechenden Reaktoren und notwendigen Zusatzaggregaten in herkömmlicher Weise. Die Anlage wird mit 25 kg/h vorgelegtem Dampf mit einer Temperatur von 300°C bei 0,1 Pa als Plasmagas betrieben.
Normalerweise treten trotz intensiver Kühlung der Elektroden bei einer derartigen Anlage erhebliche Schwankungen der Betriebs- und Qualitätsparameter im Plasmatron auf und die Piasmatronanode ist nach verhältnismäßig kurzer Zeit infolge starker Abtragungen nicht mehr verwendbar.
Nach einem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung weist das Plasmatron eine Kühleinrichtung auf, die Kühlwasser als Kühlmittel zur Kühlung der thermisch hochbeanspruchten Teile des Plasmatrons, insbesondere der Anode und Kathode, verwendet.
Zur Vermeidung von Kondensationserscheinungen aus dem Wasserdampfplasma an den gekühlten Elektroden, insbesondere der Anode, wird die Kühlwassereintrittstemperatur an Anode
und Kathode durch Verringerung der Kühlung in den Kühlwasserkreisläufen der Anlage auf vorzugsweise 80°C erhöht, so daß die thermisch hochbeanspruchten Teile der Plasmatrons einer Heißwasser-Kühlung unterliegen. Bei einer Kühlwassergeschwindigkeit von 50 bis 70 m/s stellt sich eine Kühlwasseraustrittetemperatur von 81 bis 82°C ein. Eine derartige, gegenüber der normalerweise auf Raumtemperatur gehaltenen Kühlwassertemperatur, reduziert die thermische Triebkraft aufgrund der Temperaturdifferenz zwischen der Oberflächentemperatur der Elektrode und der ursprünglichen Kühlwassertemperatur nur unwesentlich, d.h. auch mit Heißwasser kann eine hinreichende Kühlung der Elektroden erreicht werden. Zugleich wird aber die « Kondensation von Wasserdampf aus der . Wasserdampfplasmaathmosphäre an den erfindungsgemäß in begrenzterem Maße gekühlten Elektroden auf ein geringes Maß vermindert, das bei vielen plasmachemischen Prozessen hingenommen werden kann. Diese vorteilhafte Wirkung wird ohne einen erhöhten apparativen oder verfahrenstechnischen Aufwand erreicht. Es tritt im Gegenteil eine Verringerung des Kühlaufwandes für die Plasmatrons ein. Zugleich ergibt sich eine Erhöhung des Wirkungsgrades des jeweiligen Plasmatrons, und zwar durch dessen kontinuierlichen, fluktuationsarmen Betrieb sowie durch Verminderung der erforderlichen Kühlleistung. Gleichzeitig wird die Produktqualität verbessert und die Ausbeute des Verfahrens erhöht. Ein besonderer Vorteil besteht in der Erhöhung der Standzeit der Elektroden durch die drastische Verminderung bzw. Beseitigung der Elektrodenerosion, durch die Elektrodenmaterial eingespart und der Verfügungsgrad der Anlagen beträchtlich erhöht wird.
Nach einem zweiten, bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung in Gestalt der Verwendung von erfindungsgemäß durch Heißwasser mit einer Temperatur von vorzugsweise
Λo zumindest 80°C gekühlten Plasmatrons zur Vernichtung toxischer Abprodukte durch chemische Umwandlung, sind die gegebenenfalls trotz der Reduzierung der Elektrodenkühlung durch Einsatz einer Heißwasserkühlung noch verbleibenden Schwankungen in der Betriebsweise der Plasmatrons nicht vertretbar, da hierdurch, wenn auch in geringem Maße, noch der Austritt toxischer Schadstoffe erfolgen könnte.
Insbesondere für derartige Anwendungen wird daher bevorzugt, die erfindungsgemäße Kühlung der thermisch besonders belasteten Piasmatronteile, insbesondere der Elektroden, mit Heißwasser kombiniert mit einer Senkung der Kondensationstemperatur des Wasserdampf-Plasmagases "anzuwenden. Die Kondensationstemperatur kann durch Zumischen eines Fremdgases mit gegenüber derjenigen von Wasserdampf niedrigerer Kondensationstemperatur zu dem Wasserdampf vermindert werden. Vorzugsweise werden daher in diesem Fall z.B. 62,5 m3/h Luft nach der Verdampfungsstufe in den Plasmadampf eingemischt. Die Kondensationstemperatur der Wasserdampfplasma-Partialkomponente liegt nun bei 80°C. Da die Elektrodentemperatur mit der Elektrodenkühlung nach der vorliegenden Erfindung zumindest in diesem Fall bei vorzugsweise geringfügig mehr als 80°C liegt, kann auf diese Weise eine Kondensation von Wasserdampf vollständig unterbunden werden, so daß die Ursache von Fluktuationen in der Betriebsweise der Plasmatrons vollständig beseitigt sind und ein kontinuierlicher Ablauf der StoffWandlungsprozesse gewährleistet wird. Auf diese Weise lassen sich Durchbrüche toxischer Stoffe durch ein Wasserdampf-Plasmatron vollständig vermeiden.
Die Erfindung gibt ein Plasmatron sowie ein Verfahren zum stabilen Betrieb eines Plasmatrons mit Wasserdampf als Plasmagas an, bei denen die für Wasserdampfplasmen typischen Fluktuationen, stoßartige Schwankungen der
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Betriebsbedingungen sowie erhöhte Elektrodenerosion vermieden werden. Dies wird durch eine Begrenzung der Kühlung der thermisch hochbelasteten Piasmatronteile, insbesondere Elektroden, infolge Verwendung von Heißwasser als Kühlmittel erreicht, das mit einer Temperatur von höchst vorzugsweise zumindest 80°C verwendet wird. Auf diese Weise wird die Kondensation von Wasserdampf an stark gekühlten Stellen des Plasmatrons, die unter Einwirkung des Lichtbogens und explosionsartigem Verdampfen des Kondensats zu starken Störungen oder Unterbrechungen des Plasmastrahles sowie durch Herausreißung von Material aus der Elektronenoberfläche zur Elektronenerosion führt, vermieden. Die Erfindung bewirkt dabei nicht nur einen »stabilen Betrieb und lange Elektrodenstandzeiten, sondern -verbessert auch den Wirkungsgrad des Plasmatrons sowie die Ausbeute der plasmachemischen Verfahren. Vorzugsweise kann für bestimmte plasmachemische Prozesse, insbesondere für die Behandlung toxischer Abprodukte, die Wirkung der Heißwasserkühlung der Plasmatronelektroden durch Erniedrigen des Kondensationspunktes der
Wasserdampfplasmaatmosphäre zusätzlich erhöht werden, indem dem Wasserdampf ein Gas gegenüber derjenigen von Wasserdampf niedrigerer Kondensationstemperatur beigemengt wird, so daß die dem nunmehrigen Wasserdampfpartialdruck entsprechende Kondensationstemperatur des Plasmagasgemisches unter der Temperatur liegt, die selbst an den am stärksten gekühlten Stellen des Plasmatrons, den Elektroden, als Oberflächentemperatur gehalten wird, so daß Kondensations- und hieraus resultierende
Kondensatverdampfungserscheinungen im Lichtbogenbereich des Plasmatrons tatsächlich vermieden sind.
Obwohl eine besonders günstige Lösung der der Erfindung zugrundeliegenden Probleme mit Hilfe von Kühlwasser als Kühlmittel, das mit einer Temperatur von zumindest 80°C zur
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Kühlung verwendet wird, erzielt wurde und eine besonders vollständige Lösung des Kondensationsproblemes durch zusätzliche Beimengung von Luft zum Wasserdampf zur Bildung der Plasmagasatmosphäre für eine Herabsetzung der Kondensationstemperatur des Wasserdampf-Plasmagases erreichbar ist, ist die Erfindung hierauf nicht beschränkt. Vielmehr können unter Berücksichtigung der Wärmeabführungskapazität des Kühlmediums, der Druckverhältnisse im Plasmareaktor sowie der jeweiligen Phasenumwandlungspunkte Abweichungen und Modifikationen vorgenommen werden, mit dem Ziel, die aus der Kondensation des Wasserdampfes an gekühlten Piasmatronteilen resultierenden Probleme bei Plasmatrons, die im ^wesentlichen Wasserdampf als Plasmagas enthalten, zu vermeiden, indem durch Wahl der Kühlungsund/oder Kondensationsbedingungen dafür Sorge getragen wird, daß eine Kondensation des Plasmagases oder Gasgemisches oder Teilen desselben an den gekühlten Bereichen, insbesondere den Elektroden des Plasmatrons, unterbleibt.