TWI813612B

TWI813612B - 光學積層體及顯示裝置

Info

Publication number: TWI813612B
Application number: TW107146469A
Authority: TW
Inventors: 佐瀬光敬; 大家健一郎; 高石悠
Original assignee: 日商住友化學股份有限公司
Priority date: 2017-12-27
Filing date: 2018-12-21
Publication date: 2023-09-01
Also published as: WO2019131489A1; CN111566524B; CN111566524A; JPWO2019131489A1; KR20200103735A; JP7253499B2; TW201934669A

Abstract

本發明關於一種光學積層體，係包含光學膜與接著層，其中，於光學膜及接著層的至少一者中含有1種以上之以下述通式(1)所表示之結構的四氮雜卟啉化合物。

[通式(1)中，R^101a至R^101d及R^102a至R^102d分別獨立地表示可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基，X表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之芳烷基或以通式(X1)至(X4)所表示之基，Y表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基或以通式(Y1)所表示之基]

Description

光學積層體及顯示裝置

本發明係關於光學積層體及使用該光學積層體之顯示裝置。

液晶顯示裝置或有機電致發光(有機EL)顯示裝置等顯示裝置中，係採行以可表現多樣色彩之方式來擴大色域。為了擴大顯示裝置中的色域，為人所知者有使用含有特定染料之膜等而提升色純度者(日本專利第4499960號公報(專利文獻1)、日本特開2016-75892號公報(專利文獻2)等)。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利第4499960號公報

[專利文獻2]日本特開2016-75892號公報

本發明之目的在於提供一種光學積層體及使用該光學積層體之顯示裝置，該光學積層體即使在使用在有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等顯示裝置時，亦可從入射光學積層體之光中吸收於特定波長區域具有吸收波長之光，且同時可實現良好的光學耐久性。

本發明係提供以下所示之光學積層體及顯示裝置。

[1]一種光學積層體，其係包含光學膜與接著層，其中，於前述光學膜及前述接著層的至少一者中含有1種以上之以下述通式(1)所表示之結構的四氮雜卟啉化合物。

[通式(1)中，R^101a至R^101d及R^102a至R^102d分別獨立地表示可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基，X表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之芳烷基或以下述通式(X1)至(X4)所表示之基，

Y表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之芳烷基或以下述通式(Y1)所表示之基，

R²⁰¹、R²⁰²分別獨立地表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之烷氧基、可具有取代基之鐵莘(ferrocene)或可具有取代基之芳氧基，R³⁰¹、R³⁰²分別獨立地表示可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基，R⁴⁰¹表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之烷氧基或可具有取代基之芳氧基，R⁵⁰¹至R⁵⁰³分別獨立地表示可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基，通式(X1)至(X4)及通式(Y1)中的*表示與氧原子之鍵結部位]

[2]如[1]所述之光學積層體，其中，於前述通式(1)中，X表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基或以前述通式(X1)至(X4)所表示之基，Y表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基或以前述通式(Y1)所表示之基， R²⁰¹、R²⁰²分別獨立地表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之烷氧基或可具有取代基之芳氧基。

[3]如[1]或[2]所述之光學積層體，其中，於前述接著層中含有前述四氮雜卟啉化合物。

[4]如[3]所述之光學積層體，其中，前述接著層包含黏著劑層。

[5]如[1]至[4]中任一項所述之光學積層體，其中，於前述光學膜中含有前述四氮雜卟啉化合物。

[6]如[5]所述之光學積層體，其中，前述光學膜為保護膜。

[7]一種顯示裝置，其係具有：[1]至[6]中任一項所述之光學積層體與影像顯示元件，其中，前述光學積層體配置成較前述影像顯示元件更接近觀看側。

[8]如[7]所述之顯示裝置，其係液晶顯示裝置或有機電致發光顯示裝置。

本發明之光學積層體，當使用在有機EL顯示裝置或液晶顯示裝置等顯示裝置時，可從入射光學積層體之光中吸收於特定波長區域具有吸收波長之光，且同時可實現良好的光學耐久性。

1、2‧‧‧影像顯示元件

10‧‧‧光學積層體

11‧‧‧影像顯示元件用黏著劑層(接著層)

12‧‧‧相位差膜(光學膜)

13‧‧‧黏著劑層(接著層)

14‧‧‧第1保護膜(光學膜)

15‧‧‧偏光膜(光學膜)

16‧‧‧第2保護膜(光學膜)

20‧‧‧光學積層體

21‧‧‧影像顯示元件用黏著劑層(接著層)

24‧‧‧第1保護膜(光學膜)

25‧‧‧偏光膜(光學膜)

26‧‧‧第2保護膜(光學膜)

第1圖(a)及(b)為顯示光學積層體的一例之概略剖面圖。

第2圖(a)為顯示有機EL顯示裝置的一例之概略剖面圖，第2圖(b)為顯示液晶顯示裝置的一例之概略剖面圖。

(光學積層體)

光學積層體包含光學膜與接著層，其中，於光學膜及接著層的至少一者中含有1種以上之以後述通式(1)所表示之結構的四氮雜卟啉化合物(以下有時稱為「四氮雜卟啉化合物(1)」)。

光學積層體係於光學膜及接著層的至少任一者中含有四氮雜卟啉化合物(1)。四氮雜卟啉化合物(1)可被含有於構成光學積層體之光學膜及接著層的任一者中，或被含有於兩者以上之中。光學膜或接著層所含有之四氮雜卟啉化合物(1)可為1種或2種以上。此外，於光學膜及接著層中的兩者以上含有四氮雜卟啉化合物(1)時，各者所分別含有之四氮雜卟啉化合物(1)可互為相同或相異。

使光學膜含有四氮雜卟啉化合物(1)之方法並無特別限定。例如可採用：[i]與構成光學膜之樹脂混練並加熱成形為膜狀之方法；[ii]使構成光學膜之樹脂或此樹脂的單體與四氮雜卟啉化合物(1)分散或溶解於有機溶劑，並藉由澆鑄法等而成形為膜狀之方法。此外，[iii]亦可將使四氮雜卟啉化合物(1)分散或溶解於黏合劑樹脂或有機溶劑中而成之塗佈液塗佈於樹脂基材膜，並將此用作為光學膜。光學膜的厚度並無特別限定，例如可設為1μm至200μm。

當光學膜含有四氮雜卟啉化合物(1)時，其含量並無特別限定。例如相對於構成光學膜之基礎聚合物100質量份，可將四氮雜卟啉化合物(1)設為0.001質量份以上，較佳為0.1質量份以上，更佳為0.2質量份以上，此外，可設為10質量份以下，較佳為3質量份以下，更佳為0.5質量份以下。

使接著層含有四氮雜卟啉化合物(1)之方法並無特別限定。例如，在調製構成接著層之接著劑組成物或黏著劑組成物時添加四氮雜卟啉化合物(1)即可。接著層的厚度並無特別限定，例如可設為1μm至100μm。

接著層含有四氮雜卟啉化合物(1)時，其含量亦無特別限定。例如相對於構成接著層所含有之接著劑及/或黏著層之基礎聚合物100質量份，可將四氮雜卟啉化合物(1)設為0.01質量份以上，較佳為0.1質量份以上，更佳為0.2質量份以上，此外，可設為10質量份以下，較佳為5質量份以下，更佳為0.5質量份以下。

光學積層體可用於有機電致發光(有機EL)顯示裝置或液晶顯示裝置等顯示裝置，且可貼合於此顯示裝置之影像顯示元件的觀看側而使用。光學積層體若含有各1層以上的光學膜與接著層，則其積層構造並無特別限定，例如可具有第1圖(a)及(b)所示之積層構造。

第1圖(a)及(b)為顯示光學積層體的一例之概略剖面圖。第1圖(a)所示之光學積層體10可使用在有機EL顯示裝置。光學積層體10例如可依序包含：影像顯示元件用黏著劑層11、相位差膜12、黏著劑層13、第1保護膜14、偏光膜15、第2保護膜16。影像顯示元件用黏著劑層11及黏著劑層13皆相當於上述接著層，相位差膜12、第1保護膜14、偏光膜15及第2保護膜16皆相當於上述光學膜。

光學積層體10中的第1保護膜14、偏光膜15及第2保護膜16構成偏光板，第1保護膜14及第2保護膜16可在與偏光膜15之貼合面側具有接著層。影像顯示元件用黏著劑層11係用以貼合於屬於有機EL顯示裝置的影像顯示元件之包含有機EL元件之發光層而使用。於影像顯示元件用黏著劑層11之與相位差膜12為相反側的面，可設置圖中未顯示的分離膜(剝離膜)。

第1圖(b)所示之光學積層體20可使用在液晶顯示裝置。光學積層體20例如可依序包含：影像顯示元件用黏著劑層21、第1保護膜24、偏光膜25、第2保護膜26。影像顯示元件用黏著劑層21相當於上述接著層，第1保護膜24、偏光膜25及第2保護膜26皆相當於上述光學膜。

光學積層體20中的第1保護膜24、偏光膜25及第2保護膜26構成偏光板，第1保護膜24及第2保護膜26可在與偏光膜25之貼合面側具有接著層。影像顯示元件用黏著劑層21係用以貼合於屬於液晶顯示裝置的影像顯示元件之液晶單元而使用。於影像顯示元件用黏著劑層21之與第1保護膜24為相反側的面，可設置圖中未顯示的分離膜(剝離膜)。

於構成第1圖(a)及(b)所示之光學積層體10及20之光學膜及接著層的至少任一者中可含有四氮雜卟啉化合物(1)。第1圖(a)所示之光學積層體10中，例如可於影像顯示元件用黏著劑層11、黏著劑層13、第1保護膜14、第2保護膜16中的一者以上含有上述四氮雜卟啉化合物。第1圖(b)所示之光學積層體20中，例如可於影像顯示元件用黏著劑層21、第1保護膜24、第2保護膜26中的一者以上含有四氮雜卟啉化合物(1)。

第1圖(a)及(b)所示之光學積層體10及20僅為一例，也可為具有上述以外的積層構造者。例如於第2保護膜16、26之與偏光膜15、25為相反側的面，可具有附防眩機能之膜或附表面抗反射機能之膜等其他層。此外，第1保護膜14、24可具有作為相位差膜的機能，第2保護膜16、26可具有防眩機能或表面抗反射機能、作為相位差膜的機能等。

上述光學積層體由於含有四氮雜卟啉化合物(1)，所以可吸收於570至620nm的波長區域具有吸收極大波長之顯示橘色之光。因此，藉由將上述光學積層體積層於顯示裝置之影像顯示元件的觀看側，可從入射光學積層體之光中吸收於570至620nm的波長區域具有吸收波長之光，關於穿透光學積層體之光，相較於入射光學積層體之光，可提升綠色光及紅色光的色純度。於未使用上述光學積層體之以往的顯示裝置中，綠色光與紅色光之分離性不足，但於使用上述光學積層體之顯示裝置中，可令人期待綠色光與紅色光之分離性的提升。此外，藉由將上述光學積層體使用在顯示裝置，可在吸收於570至620nm的波長區域具有吸收波長之光而提升色純度的同時，減少濕熱試驗前後之穿透率的變化而實現良好的光學耐久性。

以下詳細說明構成光學積層體之各構件。

(光學膜)

光學膜可列舉出：偏光膜；為了保護偏光膜等的表面而設置之保護膜；相位差膜；相位差膜以外的光學補償膜；於表面具有凹凸形狀之附防眩機能之膜、附表面抗反射機能之膜；於表面具有反射機能之反射膜；兼具反射機能與穿透機能之半穿透反射膜；光擴散膜；硬塗膜等。光學積層體可含有1種或2種以上之上述光學膜。

偏光膜例如可列舉出於聚乙烯醇系樹脂層配向有碘者、或是配向有液晶化合物與雙色性色素者等。

光學膜為偏光膜以外時之材料並無特別限定，較佳為具有透光性(較佳為光學透明)之熱塑性樹脂。此種熱塑性樹脂例如可列舉出鏈狀聚烯烴系樹脂(聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素及纖維素乙酸酯丙酸酯等纖維素酯系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系樹脂；聚乙烯醇及聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；此等之混合物、共聚物等。本說明書中所謂「(甲基)丙烯酸系」意指「丙烯酸系及甲基丙烯酸系的至少1種」。此等樹脂可含有1種或2種以上之潤滑劑、可塑劑、分散劑、熱穩定劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、抗靜電劑、抗氧化劑、微粒等光擴散劑等添加劑。

(接著層)

接著層可為貼合光學積層體所包含之2片光學膜者，或是用以將光學積層體貼合於例如影像顯示元件等其他構件者。接著層可設為由接著劑所形成之接著劑層、由黏著劑所形成之黏著劑層、或是由接著劑及黏著劑所形成之層。

可使用在接著層之接著劑，例如可列舉出水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑以及此等之組合。水系接著劑例如可列舉出聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系雙液型胺甲酸乙酯系乳化液接著劑等。活性能量線硬化型接著劑為藉由照射紫外線等活性能量線而硬化之接著劑，例如可列舉出含有聚合性化合物及光聚合性起始劑者、含有光反應性樹脂者、含有黏合劑樹脂及光反應性交聯劑者等。上述聚合性化合物可列舉出光硬化性環氧系單體、光硬化性(甲基)丙烯酸系單體、光硬化性胺甲酸乙酯系單體等光聚合性單體，或是來自此等單體之低聚物等。上述光聚合性起始劑可列舉出含有照射紫外線等活性能量線而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性物種之物質者。

可使用在接著層之黏著劑，可使用以往一般所知的黏著劑。黏著劑例如可列舉出(甲基)丙烯酸系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚醯胺系黏著劑、聚醚系黏著劑、氟系黏著劑、橡膠系黏著劑等。此外，也可為活性能量線硬化型黏著劑、熱硬化型黏著劑等。此等當中，從透明性、黏著力、可靠度等觀點來看，可較佳地使用(甲基)丙烯酸系黏著劑。

(甲基)丙烯酸系黏著劑並無特別限定，但係以(甲基)丙烯酸酯為主成分(含有50質量%以上)之聚合物，可為1種(甲基)丙烯酸酯的均聚物，或是(甲基)丙烯酸酯與其他(甲基)丙烯酸酯等之共聚物。(甲基)丙烯酸酯可列舉出(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯等。再者，亦可使極性單體與以此等(甲基)丙烯酸酯為主體之聚合物共聚合。極性單體例如可列舉出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸2-(N,N-二甲基胺基)乙酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等極性官能基之單體。(甲基)丙烯酸系黏著劑可使用重量平均分子量(Mw)為10萬以上者，較佳為60萬以上，通常為250萬以下。

此等(甲基)丙烯酸系黏著劑雖可單獨使用，但通常與交聯劑併用。交聯劑可列舉出：屬於二價或多價金屬離子且會與羧基形成羧酸金屬鹽者，屬於多胺化合物且會與羧基形成醯胺鍵者，屬於聚環氧化合物或多元醇化合物且會與羧基形成酯鍵者，屬於聚異氰酸酯化合物且會與羧基形成醯胺鍵者等。當中可較佳地使用聚異氰酸酯化合物。

於接著劑或黏著劑中，可更調配各種添加劑。添加劑可列舉出矽烷偶合劑、抗靜電劑、再製劑、黏著性賦予樹脂、抗氧化劑、紫外線吸收劑、消泡劑、腐蝕劑、微粒等光擴散劑等。

(四氮雜卟啉化合物)

四氮雜卟啉化合物(1)具有以下述通式(1)所表示之結構。

R²⁰¹、R²⁰²分別獨立地表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之烷氧基、可具有取代基之鐵莘或可具有取代基之芳氧基，R³⁰¹、R³⁰²分別獨立地表示可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基，R⁴⁰¹表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之烷氧基或可具有取代基之芳氧基，R⁵⁰¹至R⁵⁰³分別獨立地表示可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基，通式(X1)至(X4)及通式(Y1)中的*表示與氧原子之鍵結部位]

上述通式(1)中，R^101a至R^101d及R^102a至R^102d為鍵結於四氮雜卟啉骨架之取代基。

R^101a至R^101d的4個取代基較佳為相同，此外，R^102a至R^102d的4個取代基較佳為相同。

亦即，R^101a與R^102a之組合、R^101b與R^102b之組合、R^101c與R^102c之組合、R^101d與R^102d之組合較佳為相同。

此外，R^101a與R^102a之組合、R^101b與R^102b之組合、R^101c與R^102c之組合、R^101d與R^102d之組合為相同時，存在有R^101a與R^102a、R^101b與R^102b、R^101c與R^102c、R^101d與R^102d之2個取代基的位置關係不同之4種異構物。

上述通式(1)意指包含全部4種異構物。此外，於光學積層體所含有之四氮雜卟啉化合物(1)中，可僅含有此等異構物中的1種，或以混合物之形式含有複數種。

R^101a至R^101d及R^102a至R^102d分別獨立地表示可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基。

作為通式(1)的R^101a至R^101d及R^102a至R^102d之可具有取代基之烷基可列舉出直鏈、分枝或環狀的烷基。

直鏈、分枝或環狀的烷基可列舉出：甲基、乙基、正丙基、正丁基、正戊基、正己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一基、正十二基、正十三基、正十四基、正十五基等直鏈狀烷基；異丙基、異丁基、二級丁基、三級丁基、2-甲基丁基、1-甲基丁基、新戊基、1,2-二甲基丙基、1,1-二甲基丙基、4-甲基戊基、3-甲基戊基、2-甲基戊基、1-甲基戊基、3,3-二甲基丁基、2,3-二甲基丁基、1,3-二甲基丁基、2,2-二甲基丁基、1,2-二甲基丁基、1,1-二甲基丁基、3-乙基丁基、2-乙基丁基、1-乙基丁基、1,1,2-三甲基丙基、1-乙基-2-甲基丙基、2-甲基己基、 3-甲基己基、4-甲基己基、5-甲基己基、1-乙基戊基、2,4-二甲基戊基、2-乙基己基、2,5-二甲基己基、2,5,5-三甲基戊基、2,4-二甲基己基、2,2,4-三甲基戊基、1,1-二甲基己基、1,1,3,3-四甲基丁基、3,5,5-三甲基己基、4-乙基辛基、4-乙基-4,5-二甲基己基、1,3,5,7-四甲基辛基、4-丁基辛基、6,6-二乙基辛基、6-甲基-4-丁基辛基、3,5-二甲基十七基、2,6-二甲基十七基、2,4-二甲基十七基、2,2,5,5-四甲基己基等分枝狀烷基；環戊基、環己基、1-環戊基-2,2-二甲基丙基、1-環戊基-2,2-二甲基丙基、1-環己基-2,2-二甲基丙基等環狀的烷基(環烷基)。此等當中，較佳為碳數1至10之直鏈或分枝的烷基，更佳為三級丁基。

此外，具有取代基之烷基可列舉出烷基之氫原子的一部分或全部經鹵素取代者，其例子可列舉出氯甲基、二氯甲基、氟甲基、三氟甲基、五氟乙基、九氟丁基等。

作為通式(1)的R^101a至R^101d及R^102a至R^102d之可具有取代基之芳基可列舉出苯基、硝基苯基、氰基苯基、羥基苯基、羧基苯基、甲基苯基、二甲基苯基、三甲基苯基、氟苯基、氯苯基、溴苯基、甲氧基苯基、乙氧基苯基、三氟甲基苯基、N,N-二甲基胺基苯基、萘基、硝基萘基、氰基萘基、羥基萘基、甲基萘基、氟萘基、氯萘基、溴萘基、三氟甲基萘基等。

此外，通式(1)中，R^102a至R^102d較佳分別獨立地為以下述通式(R1)所表示之基。

[通式(R1)中，R^601a至R^601e分別獨立地表示氫原子、鹵素原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之烷氧基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之芳氧基，*表示與四氮雜卟啉骨架之鍵結部位]

作為通式(R1)的R^601a至R^601e之可具有取代基之烷基可列舉出被列舉作為R^101a至R^101d及R^102a至R^102d的例子之可具有取代基之烷基。

作為通式(R1)的R^601a至R^601e之可具有取代基之芳基可列舉出被列舉作為R^101a至R^101d及R^102a至R^102d的例子之可具有取代基之芳基。

具體而言，可列舉出苯基、硝基苯基、氰基苯基、羥基苯基、羧基苯基、甲基苯基、二甲基苯基、三甲基苯基、氟苯基、氯苯基、溴苯基、甲氧基苯基、乙氧基苯基、三氟甲基苯基、N,N-二甲基胺基苯基、萘基、硝基萘基、氰基萘基、羥基萘基、甲基萘基、氟萘基、氯萘基、溴萘基、三氟甲基萘基等。

作為通式(R1)的R^601a至R^601e之可具有取代基之烷氧基可列舉出甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、二級丁氧基、三級丁氧基、正戊氧基、異戊氧基、新戊氧基、正己氧基、正環己氧基、正十二氧基等。

烷氧基之氫原子的一部分或全部經鹵素取代者，可列舉出氟甲氧基、二氟甲氧基、三氟甲氧基、1,1,2,2,2-五氟乙氧基、1,1,2,2-四氟乙氧基、1,1,2-三氟乙氧基、1,2,2-三氟乙氧基、2,2,2-三氟乙氧基、2,2-二氟乙氧基、1,2-二氟乙氧基、1,1-二氟乙氧基、2-氟乙氧基、1-氟乙氧基、2,2,3,3-四氟-1-丙氧基、2,2,3,3,3-五氟-1-丙氧基、2,2,3,3,4,4,4-七氟-1-丁氧基、2,2,3,4,4,4-六氟-1-丁氧基、2,2,3,3,4,4,5,5-八氟-1-戊氧基、3,3,4,4,5,5,6,6,6-九氟-1-己氧基、4,4,5,5,6,6,7,7,7-九氟-1-庚氧基、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-十二氟-1-庚氧基、7,7,8,8,8-五氟-1-辛氧基、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-十三氟-1-辛氧基、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9-十六氟-1-壬氧基、4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-十三氟-1-壬氧基、7,7,8,8,9,9,10,10,10-九氟-1-癸氧基、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-十七氟-1-癸氧基、4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-十五氟-1-癸氧基、7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12-十三氟-1-十二氧基、3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12-二十一氟-1-十二氧基、7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,13,13,14,14,14-十七氟-1-十四氧基、1H,1H,2,5-雙(三氟甲基)-3,6-二氧雜十一氟-1-壬氧基、6-(全氟-1-甲基乙基)-1-己氧基、2-(全氟-1-甲基丁基)-1-乙氧基、2-(全氟-3-甲基丁基)乙氧基、2-(全氟-7-甲基辛基)乙氧基、2H-六氟-2-丙氧基、2,2-雙(三氟甲基)-1-丙氧基等。

作為通式(R1)的R^601a至R^601e之可具有取代基之芳氧基，例如可列舉出碳數6至20的芳氧基。

具體而言，可列舉出苯氧基、1-萘氧基、2-萘氧基、2-甲基苯氧基、4-甲基苯氧基、4-三級丁基苯氧基、2-甲氧基苯氧基、4-異丙基苯氧基等。

可具有取代基之芳氧基中的取代基並無特別限定，例如可列舉出碳數1至8之直鏈、分枝或環狀的烷基、碳數1至8之直鏈、分枝或環狀的烷氧基、胺基、單或二烷基胺基(烷基的碳數為1至8)、鹵素原子、氰基、羥基、硝基等。

鑑於上述，以通式(R1)所表示之基的具體例可列舉出苯基、甲基苯基、二甲基苯基、三甲基苯基、氟苯基、氯苯基、溴苯基、甲氧基苯基、乙氧基苯基、三氟甲基苯基。

此外，通式(R1)之R^601a至R^601e中的至少1個較佳為氫原子以外的取代基。

此外，以通式(R1)所表示之基較佳係R^601a、R^601c、R^601e中的至少1個分別獨立地經氟原子、氯原子、溴原子、甲基或三氟化甲基(三氟甲基)取代而成者。

具體例子可列舉出2-氟苯基、3-氟苯基、4-氟苯基、2,3-二氟苯基、2,4-二氟苯基、2,5-二氟苯基、2,6-二氟苯基、3,4-二氟苯基、3,5-二氟苯基、2,4,6-三氟苯基、2,3,5,6-四氟苯基、2,3,4,5,6-五氟苯基、2-氯苯基、3-氯苯基、4-氯苯基、2,3-二氯苯基、2,4-二氯苯基、2,5-二氯苯基、2,6-二氯苯基、3,4-二氯苯基、3,5-二氯苯基、2,4,6-三氯苯基、2,3,5,6-四氯苯基、2,3,4,5,6-五氯苯基、2-溴苯基、3-溴苯基、4-溴苯基、2,3-二溴苯基、2,4-二溴苯基、2,5-二溴苯基、2,6-二溴苯基、3,4-二溴苯基、3,5-二溴苯基、2,4,6-三溴苯基、2,3,5,6-四溴苯基、2,3,4,5,6-五溴苯基、2-甲基苯基、3- 甲基苯基、4-甲基苯基、2,3-二甲基苯基、2,4-二甲基苯基、2,5-二甲基苯基、2,6-二甲基苯基、3,4-二甲基苯基、3,5-二甲基苯基、2,4,6-三甲基苯基、2,3,5,6-四甲基苯基、2,3,4,5,6-五甲基苯基、2-三氟甲基苯基、3-三氟甲基苯基、4-三氟甲基苯基、2,3-二(三氟甲基)苯基、2,4-二(三氟甲基)苯基、2,5-二(三氟甲基)苯基、2,6-二(三氟甲基)苯基、3,4-二(三氟甲基)苯基、3,5-二(三氟甲基)苯基、2,4,6-三(三氟甲基)苯基、2,3,5,6-四(三氟甲基)苯基、2,3,4,5,6-五(三氟甲基)苯基等。

並且，此等當中，較佳為2-氟苯基、4-氟苯基、2,4-二氟苯基、2,6-二氟苯基、2-氯苯基、4-氯苯基、2,4-二氯苯基、2,6-二氯苯基、2-溴苯基、4-溴苯基、2,4-二溴苯基、2,6-二溴苯基、2-甲基苯基、4-甲基苯基、2,4-二甲基苯基、2,6-二甲基苯基、2-三氟甲基苯基、4-三氟甲基苯基、2,4-二(三氟甲基)苯基、2,6-二(三氟甲基)苯基。

鍵結於四氮雜卟啉骨架之取代基中，較佳係R^101a至R^101d分別獨立地為可具有取代基之直鏈或分枝的烷基。特佳係R^101a至R^101d皆為三級丁基。

鍵結於四氮雜卟啉骨架之取代基中，較佳係R^102a至R^102d分別獨立地為以上述通式(R1)所表示之基。此外，當R^102a至R^102d為以上述通式(R1)所表示之基時，通式(R1)之R^601a至R^601e中的至少1個較佳為氫原子以外的取代基。

特佳係R^102a至R^102d皆為2-氟苯基。

四氮雜卟啉化合物(1)中，中心金屬為Si，2個O(氧原子)鍵結於Si作為軸配位基，並具備X或Y鍵結於各個O之結構。

以下說明軸配位基之結構的一部分之X及Y之較佳結構的例子。

X與Y可互為相同之基或互為相異之基。

X表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之芳烷基或以下述通式(X1)至(X4)所表示之基。

通式(X1)至(X4)中的*表示與氧原子之鍵結部位。

[R²⁰¹表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之烷氧基、可具有取代基之鐵莘或可具有取代基之芳氧基，R³⁰¹、R³⁰²分別獨立地表示可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基，R⁴⁰¹表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之烷氧基或可具有取代基之芳氧基，R⁵⁰¹至R⁵⁰³分別獨立地表示可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基]

Y表示氫原子、可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之芳烷基或以下述通式(Y1)所表示之基。

通式(Y1)中的*表示與氧原子之鍵結部位。

[R²⁰²表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之烷氧基或可具有取代基之芳氧基]

作為X或Y之可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基可列舉出被列舉作為R^101a至R^101d及R^102a至R^102d的例子之可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基。

以X或Y所表示之可具有取代基之芳烷基可列舉出4-氟苯甲基。

通式(X1)中的R²⁰¹、通式(Y1)中的R²⁰²分別獨立地表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之烷氧基、可具有取代基之鐵莘或可具有取代基之芳氧基。

可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基可列舉出被列舉作為R^101a至R^101d及R^102a至R^102d的例子之可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基。

可具有取代基之烷氧基、可具有取代基之芳氧基可列舉出被列舉作為通式(R1)的R^601a至R^601e之可具有取代基之烷氧基、可具有取代基之芳氧基。

通式(X1)中的R²⁰¹、通式(Y1)中的R²⁰²較佳為苯基、1-乙基戊基、3-硝基苯基、4-羧基苯基、3-羧基苯基、4-羥基苯基、鐵莘等。

通式(X2)中的R³⁰¹、R³⁰²分別獨立地表示可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基。

通式(X3)中的R⁴⁰¹表示可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基、可具有取代基之烷氧基或可具有取代基之芳氧基。

通式(X4)中的R⁵⁰¹至R⁵⁰³分別獨立地表示可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基。

X及Y中之可具有取代基之芳基較佳為以下述通式(2)所表示之基。

[通式(2)中的R⁷⁰¹表示-CO₂ R^701a、可具有取代基之烷氧基、可具有取代基之芳氧基、鹵素原子、硝基、氰基、羥基、含有含氮雜環之基或可具有取代基之烷基，n表示0至5的整數，R^701a表示氫原子、可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基，*表示與氧原子之鍵結部位。n為2以上的整數時，複數個R⁷⁰¹可分別相同或互為相異]

此外，關於四氮雜卟啉化合物(1)，於通式(1)中，X與Y中任一者可為以通式(2)所表示之基，另一者可為其他基。

通式(2)中的n為0至5的整數，n為0時，通式(2)表示苯基。

n為2以上的整數時，複數個R⁷⁰¹可為相同或相異。

n為1時，R⁷⁰¹相對於與氧原子之鍵結部位*之位置較佳為對位。

當R⁷⁰¹為可具有取代基之烷氧基或可具有取代基之芳氧基時，可具有取代基之烷氧基、可具有取代基之芳氧基可列舉出被列舉作為通式(R1)的R^601a至R^601e之可具有取代基之烷氧基、可具有取代基之芳氧基。

當R⁷⁰¹為可具有取代基之烷基時，可具有取代基之烷基可列舉出被列舉作為R^101a至R^101d及R^102a至R^102d的例子之可具有取代基之烷基。

當R⁷⁰¹為-CO₂ R^701a時，若R^701a為氫原子，則-CO₂ R^701a表示羧基，若R^701a為可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基，則-CO₂ R^701a表示醯氧基。

當R^701a為可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基時，可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基可列舉出被列舉作為R^101a至R^101d及R^102a至R^102d的例子之可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基。

以R⁷⁰¹所表示之含有含氮雜環之基可列舉出哌

基(Piperazinyl)等。

此等基當中，以通式(2)所表示之基較佳為4-羧基苯基、3-羥基苯基、3,5-二羥基苯基、3,5-二氟苯基、4-哌

基苯基、4-(3,5-二甲基)羥基苯基、4-(2,3,5-三甲基)羥基苯基、4-三級丁基苯基、3-硝基苯基、3-羧基苯基、4-氰基苯基、4-三氟甲基苯基、苯基，更佳為3-硝基苯基、4-羧基苯基、4-氰基苯基、4-三氟甲基苯基，再更佳為4-羧基苯基或苯基，特佳為4-羧基苯基。

通式(1)中，X及Y較佳係至少任一者為可具有取代基之芳基或以式(X1)所表示之基(較佳係R²⁰¹為可具有取代基之烷基)，更佳係兩者皆分別獨立地為可具有取代基之芳基或以式(X1)所表示之基(較佳係R²⁰¹為可具有取代基之烷基)。

此外，通式(1)中，X及Y較佳係至少任一者為以通式(2)所表示之基，更佳係兩者皆分別獨立地為以通式(2)所表示之基。

通式(1)中，X及Y較佳係兩者皆為3-硝基苯基、4-羧基苯基、4-氰基苯基、4-三氟甲基苯基或苯基，更佳為4-羧基苯基或苯基，特佳係兩者皆為4-羧基苯基。

四氮雜卟啉化合物(1)通常為會吸收590nm附近之顯示橘色之光之化合物，但其吸收極大波長較佳為570至620nm。

四氮雜卟啉化合物(1)的吸收極大波長，可藉由變更鍵結於四氮雜卟啉骨架之取代基而改變。此外，吸收極大波長的較佳上限值為620nm，更佳上限值為615nm。此外，吸收極大波長的較佳下限值為570nm，更佳下限值為575nm。

吸收極大波長可藉由分光光度儀來測定。

關於四氮雜卟啉化合物(1)，於通式(1)中，X及Y之至少任一者較佳為以通式(2)所表示之基。

當X及Y之至少任一者為以通式(2)所表示之基時，由於可抑制來自四氮雜卟啉化合物之螢光發光，所以可防止會對色調造成影響之多餘光線的產生。

螢光強度可藉由使用螢光分光光度儀，並以吸收極大波長作為激發波長來測定螢光光譜而評估，螢光強度以較弱者為佳。

(四氮雜卟啉化合物的製造方法)

四氮雜卟啉化合物(1)可藉由以下步驟來製造。

首先，從以下述通式(4)所表示之1,2-二氰基乙烯化合物的順式物，得到以下述通式(5)所表示之二亞胺基異吡咯衍生物。

得到以通式(4)所表示之1,2-二氰基乙烯化合物的順式物之方法，可採用日本特開平11-043619號公報所記載之方法，得到以通式(5)所表示之二亞胺基異吡咯衍生物之方法，可採用日本特開平02-000665號公報所記載之方法。

[通式(4)及通式(5)中，R¹⁰¹及R¹⁰²分別獨立地表示可具有取代基之烷基或可具有取代基之芳基。具體可列舉出被列舉作為R^101a至R^101d及R^102a至R^102d的例子之可具有取代基之烷基、可具有取代基之芳基]

接著，藉由將以通式(5)所表示之二亞胺基異吡咯衍生物與Si源(例如SiCl₄)混合並加熱來進行環化反應，並進行水解，藉此得到中心金屬為Si之四氮雜卟啉化合物。

在此所得到之四氮雜卟啉化合物係Si的軸配位基為OH基之化合物(通式(1)中的X與Y皆為H之化合物)。

藉由將具有欲取代軸配位基之結構之化合物加入於上述所得到之化合物並進行迴流等之方法，可將X與Y從氫原子取代為其他取代基。

例如，藉由加入羧酸或酚類，使羧基或酚性羥基與Si之軸配位基的OH基之間產生脫水縮合，可將X與Y從氫原子取代為其他取代基。

上述取代中所使用之羧酸、酚類可列舉出脂肪族羧酸、芳香族羧酸、酚類、羥基羧酸等。

具體可列舉出苯甲酸、羥基苯甲酸、硝基苯甲酸、對苯二甲酸、間苯二甲酸、苯酚、乙基己酸、間苯二酚、間苯三酚(phloroglucinol)、3,5-二氟苯酚、1-(4-羥基苯基)哌

、2,6-二甲基對苯二酚、三甲基對苯二酚、4-氟苯甲醇、4-三級丁基苯酚、3-硝基苯酚、4-氰基苯酚、4-三氟甲基苯酚等。此外，上述取代中所使用之化合物亦可使用具有羥基或羧基之鐵莘類。具體可列舉出羥甲基鐵莘、鐵莘羧酸等。

(顯示裝置)

上述光學積層體可適合使用在有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置、無機電致發光(無機EL)顯示裝置、電子放射顯示裝置等顯示裝置。藉由將光學積層體配置在較顯示裝置的影像顯示元件更接近觀看側，入射光學積層體之光中，四氮雜卟啉化合物(1)可吸收於570至620nm的波長區域具有吸收極大波長之顯示橘色之光。藉此，關於穿透光學積層體之光，相較於未穿透光學積層體之情形，綠色光及紅色光的色純度會提高，所以可擴大於顯示裝置中所能夠表現之色域。於未使用上述光學積層體之以往的顯示裝置中，綠色光與紅色光之分離性不足，但於使用上述光學積層體之顯示裝置中，可令人期待綠色光與紅色光之分離性的提升。此外，於使用上述光學積層體之顯示裝置中，可藉由吸收於570至620nm的波長區域具有吸收波長之光而擴大色域，且同時可實現良好的光學耐久性。

第2圖(a)及(b)為顯示具備光學積層體之顯示裝置的一例之概略剖面圖。第2圖(a)所示之顯示裝置為包含第1圖(a)所示之光學積層體10、及影像顯示元件1之有機EL顯示裝置，其中該影像顯示元件1係含有有機EL元件之發光層。光學積層體10可隔著影像顯示元件用黏著劑層11而配置在影像顯示元件1的觀看側。

第2圖(b)所示之顯示裝置為包含第1圖(b)所示之光學積層體20、及影像顯示元件2之液晶顯示裝置，其中該影像顯示元件2係含有液晶層之液晶單元。光學積層體20可隔著影像顯示元件用黏著劑層21而配置在影像顯示元件2的觀看側。

[實施例]

以下顯示實施例及比較例來更具體說明本發明，惟本發明並不限定於此等例子。實施例、比較例中的「%」及「份」在未特別言明時為質量%及質量份。

[重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)的測定]

重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)係藉由GPC(凝膠滲透層析)法來進行。具體而言，將作為管柱之Tosoh股份有限公司製的「TSKgel XL」4根以及昭和電工股份有限公司製且由昭光通商股份有限公司所販售之「Shodex GPC KF-802」1根的合計5根串聯連接並配置於GPC裝置，使用四氫呋喃作為溶析液，並在試樣濃度5mg/mL、試樣導入量100μL、溫度40℃、流速1mL/分鐘的條件下，藉由標準聚苯乙烯換算來測定重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)。根據所得到之測定值來算出多分散度(Mw/Mn)。

[膠體分率的測定]

將實施例及比較例中所得到之黏著劑薄片，於製得後立即於23℃放置7天後，藉由下述(i)至(iv)的步驟來測定膠體分率。

(i)將黏著劑薄片裁切為約8cm×約8cm的大小，並將剝離第2分離膜而暴露出之黏著劑層，與約10cm×約10cm的大小之由SUS304所構成之金屬篩網貼合，然後從該處剝離第1分離膜而得到貼合物。此時將金屬篩網的質量設為Wm[g]。

(ii)量秤上述(i)中所得到之貼合物，將貼合物的質量設為Ws[g]。繼而以包住貼合物的黏著劑層之方式折疊4次，藉由釘書機來固定並量秤，將藉由釘書機所固定之貼合物的質量設為Wb[g]。

(iii)將上述(ii)中藉由釘書機所固定之貼合物放入於玻璃容器，加入乙酸乙酯60mL並浸漬後，於室溫下保管此玻璃容器3天。

(iv)於上述(iii)的保管後，從玻璃容器取出藉由釘書機所固定之貼合物，於溫度120℃乾燥4小時後量秤，將該質量設為Wa[g]。從上述所得到之各質量之值，根據下述式：膠體分率[質量%]=[{Wa-(Wb-Ws)-Wm}/(Ws-Wm)]×100來算出膠體分率。

[黏著力的評估]

(常溫黏著力的測定)

以使偏光膜的吸收軸成為長邊之方式，將實施例及比較例中所得到之附黏著劑之偏光板裁切為150mm×25mm之大小。從經裁切之附黏著劑之偏光板，於長度方向上殘留30mm而剝離第1分離膜，並將所暴露出之黏著劑層貼合於厚度0.7mm之無鹼玻璃基板(Corning公司製的「Eagle XG」)的中央部而得到試驗片。於高壓釜中，將所得到之試驗片於溫度50℃、壓力5kgf/cm²(490.3kPa)下加壓20分鐘後，於溫度23℃、相對濕度55%的環境下保管24小時，並將此用作為評估用樣本(常溫用)。

繼而將評估用樣本(常溫用)的玻璃基板與黏著劑層之間，在長度方向上從端部剝離30mm，並藉由萬能拉伸試驗機(島津製作所股份有限公司製的商品名稱「AGS-50NX」)的夾鉗部來夾持該剝離部分。對此狀態下的評估用樣本(常溫用)，於溫度23℃、相對濕度55%的環境下依據JIS K 6854-2：1999「接著劑-剝離接著強度試驗方法-第2部：180度剝離」，以夾鉗移動速度300mm/分鐘進行180度剝離試驗，求取扣除夾鉗部的30mm後之120mm的長度之平均剝離力，並將此設為常溫黏著力。

(加溫黏著力的測定)

於高壓釜處理後，將上述試驗片於50℃的乾燥環境下放置48小時後，返回溫度23℃、相對濕度55%的環境下，並將此用作為評估用樣本(加溫用)，使用此評估用樣本(加溫用)求取平均剝離力，並將此設為加溫黏著力，除此之外，其他藉由與上述常溫黏著力的測定相同之步驟來求取加溫黏著力。

[光學耐久性評估樣本的製作]

將實施例及比較例中所得到之附黏著劑之偏光板裁切為30mm×30mm的大小，剝離第1分離膜並將所暴露出之黏著劑層貼著於40mm×40mm的無鹼玻璃基板(Corning公司製的「Eagle XG」)，而製作光學耐久性評估用樣本。

[濕熱光學耐久性的評估]

將所製作之光學耐久性評估用樣本於溫度50℃、壓力5kgf/cm²(490.3kPa)下進行20分鐘的高壓釜處理後，測定初期的穿透率(Ts)及最大吸收波長。然後將已測定初期的穿透率(Ts)之光學耐久性評估用樣本投入於溫度60℃、相對濕度90%的環境下240小時後，於溫度23℃、相對濕度55%的環境下靜置24小時，並測定濕熱試驗後之在波長380nm至780nm中的穿透率(Ta)。再者，穿透率的測定皆使用紫外線可見光近紅外線分光光度儀(日本分光股份有限公司製)「V7100」)來進行。

[耐熱光學耐久性的評估]

除了將光學耐久性評估用樣本投入於溫度80℃的環境下240小時之外，其他藉由與濕熱光學耐久性的評估為相同之方法來測定耐熱試驗後之在波長380nm至780nm中的穿透率(Ta)。此外，使用由耐熱試驗的實施前後所得到之穿透率數據所指定之條件(2°視野、C光源)來實施色彩計算，根據L*a*b*色表系而得到耐熱試驗前的亮度L*(s)、單體色相a*(s)、b*(s)，以及耐熱試驗後的亮度L*(a)、單體色相a*(a)、b*(a)。使用下式，從該結果來算出色差(△E*)。再者，穿透率的測定皆使用紫外線可見光近紅外線分光光度儀(日本分光股份有限公司製)「V7100」)來進行。

色差△E*=((L*(a)-L*(s))²+(a*(a)-a*(s))²+(b*(a)-b*(s))²))^1/2

[視感度修正穿透率的相對值評估]

關於[濕熱光學耐久性的評估]中所得到之初期的穿透率(Ts)的於最大吸收波長的穿透率互為相等之實施例1及參考例1，將使用參考例1中所得到之附黏著劑之偏光板4時所得到之視感度修正穿透率設為100，來算出使用實施例1中所得到之附黏著劑之偏光板1時所得到之視感度修正穿透率的相對值。

[製造例1]

((甲基)丙烯酸系樹脂的製造)

將作為溶劑之乙酸乙酯81.8份與作為單體之丙烯酸丁酯69.5份、丙烯酸甲酯20.0份、丙烯酸2-羥乙酯1.0份、丙烯酸2-(2-苯氧基乙氧基)乙酯8.0份、N-丁氧基甲基丙烯醯胺0.6份以及丙烯酸0.9份之混合溶液裝入於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機之反應容器中，在藉由氮氣來取代反應容器內的空氣而設為不含氧的同時，將內溫升溫至55℃。然後添加全量之使偶氮雙異丁腈(聚合起始劑)0.14份溶解於乙酸乙酯10份中而成之溶液。於此溶液的添加後1小時內將內溫保持在55℃，繼而在將內溫保持在55℃的同時以添加速度17.3份/hr將乙酸乙酯連續地加入於反應容器內，在(甲基)丙烯酸系樹脂的濃度成為35%之時點，停止乙酸乙酯的添加並進行8小時的聚合。最後以使(甲基)丙烯酸系樹脂的濃度成為20%之方式添加乙酸乙酯，而調製出(甲基)丙烯酸系樹脂的乙酸乙酯溶液。對所得到之(甲基)丙烯酸系樹脂測定重量平均分子量(Mw)及多分散度(Mw/Mn)時，重量平均分子量(Mw)為143萬，多分散度(Mw/Mn)為4.5。

[製造例2]

(以式(I)所表示之結構之四氮雜卟啉化合物的製造)

從已藉由與日本特開平11-043619所記載之方法相同的方法而得到之2-三級丁基-3-(2-氟苯基)順丁烯二腈(以式(x)所表示之化合物)(11.4g)，以與日本特開平02-000665所記載之方法相同的方法，而得到以式(y)所表示之二亞胺基異吡咯衍生物(8.2g)。

繼而將喹啉(quinoline)(20ml)、SiCl₄(2.38g)裝入於安裝有冷卻管、溫度計、攪拌機之反應器中，於120℃加入二亞胺基異吡咯衍生物2.45g，並於150℃進行3小時的反應。將反應液於80℃投入於稀鹽酸中並過濾析出物，以甲醇洗淨，而得到以通式(1)所表示之結構的四氮雜卟啉化合物中R^101a至R^101d皆為三級丁基，且R^102a至R^102d皆為2-氟苯基，並且X及Y皆為氫原子之化合物(a)0.8g。

繼而將化合物(a)(2.0g)、均三甲苯(mesitylene)(10ml)、4-羥基苯甲酸(1.5g)裝入於安裝有冷卻管、溫度計、攪拌機之25ml反應器中，進行2小時的迴流。放置冷卻後將反應液濃縮，並藉由二氧化矽凝膠管柱層析來進行精製，而得到以式(I)所表示之結構的四氮雜卟啉化合物1.2g。

[參考製造例1]

(以式(II)所表示之四氮雜卟啉化合物的製造)

藉由日本特開平11-43619所記載之方法來合成。

[實施例1]

(1)黏著劑組成物1的調製

相對於製造例1中所得到之(甲基)丙烯酸系樹脂的固形份100份，混合以固形份換算為0.4份之交聯劑(從Tosoh股份有限公司所取得之「Coronate L」(甲苯二異氰酸酯之三羥甲基丙烷加成物的乙酸乙酯溶液：固形份濃度75質量%))、0.5份之矽烷化合物(從信越化學工業股份有限公司所取得之「KBM-403」(3-環氧丙氧基丙基三甲氧矽烷)、2.3份之作為抗靜電劑之N-己基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸鹽、0.25份之以式(I)所示之四氮雜卟啉化合物，然後以使固形份濃度成為14%之方式添加乙酸乙酯，而調製出黏著劑組成物1的溶液。

(2)黏著劑薄片1的製作

於經脫模處理之由聚對苯二甲酸乙二酯膜所構成之第1分離膜(從Lintec股份有限公司所取得之「PLR-382190」)的脫膜處理面，使用塗抹器(applicator)，以使乾燥後的厚度成為20μm之方式塗佈黏著劑組成物1，並於100℃乾燥1分鐘而製作黏著劑層。將經脫模處理之由聚對苯二甲酸乙二酯膜所構成之第2分離膜(從Lintec股份有限公司所取得之「PLR-251130」)的脫膜處理面貼合於此黏著劑層上，而形成黏著劑薄片1。使用所得到之黏著劑薄片1來測定膠體分率。其結果如第1表所示。

(3)附黏著劑層之偏光板1的製作

於在經單軸拉伸之聚乙烯醇膜吸附配向有碘之厚度23μm之偏光膜的單面，隔著活性能量線硬化性接著劑貼合由(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之厚度60μm的保護膜，並於另一面隔著活性能量線硬化性接著劑貼合由(甲基)丙烯酸系樹脂所構成之厚度40μm的相位差膜，藉此製作偏光板。

於經脫模處理之由聚對苯二甲酸乙二酯膜所構成之第1分離膜(從Lintec股份有限公司所取得之「PLR-382190」)的脫膜處理面，以與黏著劑薄片1相同方式而製作黏著劑層。藉由層合機將所製作之黏著劑層的露出面與所製作之偏光板之相位差膜的外表面貼合後，於溫度23℃、相對濕度65%的環境下進行7天的熟化，而得到附黏著劑層之偏光板1。使用所得到之附黏著劑層之偏光板1來評估黏著力、最大吸收波長及濕熱光學耐久性。其結果如第1表所示。此外，亦進行視感度修正穿透率的相對值評估。其結果如第2表所示。

[實施例2]

(1)黏著劑組成物2的調製

除了將以式(I)所示之四氮雜卟啉化合物的添加量設為0.5份之外，其他與實施例1的(1)所記載之步驟相同而調製出黏著劑組成物2。

(2)黏著劑薄片2的製作

除了使用黏著劑組成物2來取代黏著劑組成物1之外，其他與實施例1的(2)所記載之步驟相同而得到黏著劑薄片2。使用所得到之黏著劑薄片2來測定膠體分率。其結果如第1表所示。

(3)附黏著劑層之偏光板2的製作

除了使用黏著劑薄片2來取代黏著劑薄片1之外，其他與實施例1的(3)所記載之步驟相同而得到附黏著劑層之偏光板2。使用所得到之附黏著劑層之偏光板2來評估黏著力、最大吸收波長及濕熱光學耐久性。其結果如第1表所示。

[比較例1]

(1)黏著劑組成物3的調製

除了不添加以式(I)所示之四氮雜卟啉化合物之外，其他與實施例1的(1)所記載之步驟相同而調製出黏著劑組成物3。

(2)黏著劑薄片3的製作

除了使用黏著劑組成物3來取代黏著劑組成物1之外，其他與實施例1的(2)所記載之步驟相同而得到黏著劑薄片3。使用所得到之黏著劑薄片3來測定膠體分率。其結果如第1表所示。

(3)附黏著劑層之偏光板3的製作

除了使用黏著劑薄片3來取代黏著劑薄片1之外，其他與實施例1的(3)所記載之步驟相同而得到附黏著劑層之偏光板3。使用所得到之附黏著劑層之偏光板3來評估黏著力及濕熱光學耐久性。其結果如第1表所示。

[參考例1]

(1)黏著劑組成物4的調製

除了將以式(II)所示之四氮雜卟啉化合物的添加量設為0.28份來取代以式(I)所示之四氮雜卟啉化合物之外，其他與實施例1的(1)所記載之步驟相同而調製出黏著劑組成物4。

(2)黏著劑薄片4的製作

除了使用黏著劑組成物4來取代黏著劑組成物1之外，其他與實施例1的(2)所記載之步驟相同而得到黏著劑薄片4。

(3)附黏著劑層之偏光板4的製作

除了使用黏著劑薄片4來取代黏著劑薄片1之外，其他與實施例1的(3)所記載之步驟相同而得到附黏著劑層之偏光板4。使用所得到之附黏著劑層之偏光板4來進行最大吸收波長的測定及視感度修正穿透率的相對值評估。其結果如第2表所示。

如第1表所示，可得知實施例1及2之黏著劑薄片1及2之黏著劑層的膠體分率、黏著力良好，相較於比較例1之附黏著劑層之偏光板3，實施例1及2之附黏著劑層之偏光板1及2在濕熱條件下的光學耐久性良好。此外，如第2表所示，可得知實施例1之黏著劑薄片1於595nm具有吸收極大波長，且相較於參考例1之附黏著劑層之偏光板4，使用了黏著劑薄片1的黏著劑層之附黏著劑層之偏光板1能夠抑制視感度修正穿透率的降低。

[製造例3]

((甲基)丙烯酸系樹脂B的製造)

將作為溶劑之乙酸乙酯81.8份與作為單體之丙烯酸丁酯69.6份、丙烯酸甲酯20.0份、丙烯酸2-羥乙酯1.0份、丙烯酸2-苯氧基乙酯8.0份、丙烯酸2-甲氧基乙酯1.0份以及丙烯酸0.4份之混合溶液裝入於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌機之反應容器中，除此之外，其他藉由與製造例1相同之聚合方法，而調製出(甲基)丙烯酸系樹脂的乙酸乙酯溶液。對所得到之(甲基)丙烯酸系樹脂測定重量平均分子量(Mw)及多分散度(Mw/Mn)時，重量平均分子量(Mw)為135萬，多分散度(Mw/Mn)為5.1。

[製造例4]

除了將4-羥基苯甲酸變更為3-硝基苯甲酸之外，其他與製造例2相同而得到以下述式所表示之化合物。

[製造例5]

除了將4-羥基苯甲酸變更為間苯二甲酸，並將均三甲苯變更為二甲基乙醯胺之外，其他與製造例2相同而得到以下述式所表示之化合物。

[製造例6]

將化合物(a)9.0g、甲苯20ml、4-三級丁基苯酚8.1g裝入於安裝有冷卻管、溫度計、攪拌機之反應器中，於100℃進行3小時的反應。藉由二氧化矽凝膠管柱來進行精製，而得到以下述式所表示之化合物。

[製造例7]

除了將4-羥基苯甲酸變更為苯酚之外，其他與製造例2相同而得到以下述式所表示之化合物。

[實施例3]

(1)黏著劑組成物5的調製

相對於製造例3中所得到之(甲基)丙烯酸系樹脂B的固形份100份，混合0.6份之交聯劑(從Tosoh股份有限公司所取得之「Coronate HXR」；六亞甲基二異氰酸酯之異三聚氰酸酯改質體)、0.5份之矽烷化合物(從信越化學工業股份有限公司所取得之「KBM-403」；3-環氧丙氧基丙基三甲氧矽烷)、3份之作為抗靜電劑之N-己基-4-甲基吡啶鎓六氟磷酸鹽、0.25份之製造例4中所合成之四氮雜卟啉化合物，然後以使固形份濃度成為14%之方式添加乙酸乙酯，而調製出黏著劑組成物5的溶液。

(2)附黏著劑層之偏光板5的製作

於經脫模處理之由聚對苯二甲酸乙二酯膜所構成之第1分離膜(從Lintec股份有限公司所取得之「PLR-382190」)的脫膜處理面，使用塗抹器，以使乾燥後的厚度成為20μm之方式塗佈黏著劑組成物5，並於100℃乾燥1分鐘而製作黏著劑層。藉由層合機將所製作之黏著劑層的露出面以及以與實施例1的(3)所記載之步驟相同方式所製作之偏光板之相位差膜的外表面貼合後，於溫度23℃、相對濕度65%的環境下進行7天的熟化，而得到附黏著劑層之偏光板5。使用所得到之附黏著劑層之偏光板5來評估黏著力、最大吸收波長、濕熱光學耐久性及耐熱光學耐久性。其結果如第3表所示。

[實施例4]

(1)黏著劑組成物6的調製

除了使用製造例2中所合成之四氮雜卟啉化合物來取代製造例4中所合成之四氮雜卟啉化合物之外，其他與實施例3的(1)所記載之步驟相同而調製出黏著劑組成物6。

(2)附黏著劑層之偏光板6的製作

除了使用黏著劑組成物6來取代黏著劑組成物5之外，其他與實施例3的(2)所記載之步驟相同而得到附黏著劑層之偏光板6。使用所得到之附黏著劑層之偏光板6來評估黏著力、最大吸收波長、濕熱光學耐久性及耐熱光學耐久性。其結果如第3表所示。

[實施例5]

(1)黏著劑組成物7的調製

除了使用製造例5中所合成之四氮雜卟啉化合物來取代製造例4中所合成之四氮雜卟啉化合物之外，其他與實施例3的(1)所記載之步驟相同而調製出黏著劑組成物7。

(2)附黏著劑層之偏光板7的製作

除了使用黏著劑組成物7來取代黏著劑組成物5之外，其他與實施例3的(2)所記載之步驟相同而得到附黏著劑層之偏光板7。使用所得到之附黏著劑層之偏光板7來評估黏著力、最大吸收波長、濕熱光學耐久性及耐熱光學耐久性。其結果如第3表所示。

[實施例6]

(1)黏著劑組成物8的調製

除了使用製造例6中所合成之四氮雜卟啉化合物來取代製造例4中所合成之四氮雜卟啉化合物之外，其他與實施例3的(1)所記載之步驟相同而調製出黏著劑組成物8。

(2)附黏著劑層之偏光板8的製作

除了使用黏著劑組成物8來取代黏著劑組成物5之外，其他與實施例3的(2)所記載之步驟相同而得到附黏著劑層之偏光板8。使用所得到之附黏著劑層之偏光板8來評估黏著力、最大吸收波長、濕熱光學耐久性及耐熱光學耐久性。其結果如第3表所示。

[實施例7]

(1)黏著劑組成物9的調製

除了使用製造例7中所合成之四氮雜卟啉化合物來取代製造例4中所合成之四氮雜卟啉化合物之外，其他與實施例3的(1)所記載之步驟相同而調製出黏著劑組成物9。

(2)附黏著劑層之偏光板9的製作

除了使用黏著劑組成物9來取代黏著劑組成物5之外，其他與實施例3的(2)所記載之步驟相同而得到附黏著劑層之偏光板9。使用所得到之附黏著劑層之偏光板9來評估黏著力、最大吸收波長、濕熱光學耐久性及耐熱光學耐久性。其結果如第3表所示。

[比較例2]

(1)黏著劑組成物10的調製

除了不添加製造例4中所合成之四氮雜卟啉化合物之外，其他與實施例3的(1)所記載之步驟相同而調製出黏著劑組成物10。

(2)附黏著劑層之偏光板10的製作

除了使用黏著劑組成物10來取代黏著劑組成物5之外，其他與實施例3的(2)所記載之步驟相同而得到附黏著劑層之偏光板10。使用所得到之附黏著劑層之偏光板10來評估黏著力、最大吸收波長、濕熱光學耐久性及耐熱光學耐久性。其結果如第3表所示。