KR20120110003A - 점착제 조성물 및 점착 시트 - Google Patents

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KR20120110003A
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히로유키 요네야마
히토시 오하시
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린텍 가부시키가이샤
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Abstract

[과제] 소다라임 유리에 대해 첩합(貼合)시킨 상태로, 예를 들면, 80℃의 건조 환경 하에 100시간이라는 소정의 내열 조건 하에 노출한 경우이어도, 근적외선 흡수 성능의 저하를 효과적으로 억제할 수 있는 점착제 조성물 및 그것을 사용한 점착 시트를 제공한다.
[해결 수단] 하기 성분(A)?(C)를 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물 등.
(A) (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부
(B) 이모늄염계 화합물 0.01?30중량부
(C) 산가 조정제 0.1?30중량부

Description

점착제 조성물 및 점착 시트{ADHESIVE COMPOSITION AND ADHESIVE SHEET}
본 발명은, 점착제 조성물 및 점착 시트에 관한 것이다.
특히, 근적외선 흡수 성능의 저하를 효과적으로 억제할 수 있는 점착제 조성물 및 그것을 사용한 점착 시트에 관한 것이다.
종래, 플라스마 디스플레이 패널(PDP)은, 크게 나누어, 발광부인 모듈과, 당해 모듈의 전면에 적층되는 전면 필터로 구성되어 있다.
이 중, 전면 필터는, 모듈로부터 발사되는 광 중 불필요한 광을 차단하거나, 외광의 반사를 방지하여 화상의 시인성을 향상시키거나 하기 위해서 마련되어 있으며, 예를 들면, 근적외선 흡수 필름, 방현(防眩) 필름 및 광확산 필름 등의 각종 필름이나, 이들을 첩합(貼合)하기 위한 점착제 등에 의해 구성되어 있다.
또한, 전면 필터를 구성하는 각종 필름 중 근적외선 흡수 필름은, 모듈로부터 발사되는 근적외선에 기인한 텔레비전의 오작동을 방지하기 위해서 필요하게 된다.
즉, 텔레비전의 리모콘은 근적외선을 사용하여 텔레비전의 조작을 행하고 있기 때문에, 모듈로부터의 발광에 포함되는 근적외선이 디스플레이로부터 그대로 방사된 경우, 리모콘으로부터 발사된 근적외선과의 사이에서 간섭이 생길 가능성이 있기 때문이다.
그래서, 프탈로시아닌계 화합물, 이모늄염계 화합물, 티올 착체(錯體)계 화합물 및 세슘산화텅스텐계 화합물과 같은 근적외선 흡수 색소를 함유시켜 이루어지는 근적외선 흡수 필름이 제안되어 있지만, 특히, 근적외선 흡수 성능이 뛰어난 이모늄계 화합물이 널리 사용되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1).
즉, 특허문헌 1에는, 하기 일반식(1)으로 표시되는 적어도 1종의 화합물, 및, 그것을 함유하는 것을 특징으로 하는 근적외선 흡수 필터 등이 개시되어 있다.
Figure pat00001
(일반식(1) 중, R1?R8은, 각각 동일해도 달라도 좋고, 그 중 적어도 1개는 분기쇄상의 알킬기이며, 환A 및 B는 치환기를 갖고 있어도 좋고, X는 전하를 중화시키기 위해서 필요한 음이온을 나타낸다)
일본 특개2003-96040호 공보(특허청구의 범위)
그러나, 전면 필터의 박층화나 그 제조 공정의 간략화를 목적으로 하여, 인용문헌 1 등에 기재된 이모늄염계 화합물을, 필름에 대해서가 아니라, 점착제에 대해 함유시킨 경우, 소정의 조건 하에서, 근적외선 흡수 성능이 현저하게 저하해버린다는 문제가 보였다.
즉, 이모늄염계 화합물을 함유하는 점착제를 소다라임 유리에 대해 첩합하고, 예를 들면, 80℃의 건조 환경 하에 100시간 노출한 경우, 근적외선 투과율이 현저하게 증가하는 현상이 확인되어 있다.
이러한 현상은, 소다라임 유리에 유래한 나트륨 이온 등이 점착제 중에 침입하여, 이모늄염계 화합물의 분자 구조를 변화시킴으로써 생긴다고 추정된다.
따라서, 소다라임 유리에 대해 첩합시킨 상태로, 소정의 내열 환경 하에 노출한 경우이어도, 근적외선 흡수 성능의 저하를 효과적으로 억제할 수 있는 점착제 조성물이 요구되고 있었다.
그래서, 본 발명자들은, 이상과 같은 사정을 감안하여, 예의 노력한 바, 점착제 조성물에 대해, 이모늄염계 화합물과 함께, 산가 조정제를 소정의 비율로 함유시킴으로써, 소다라임 유리에 유래한 나트륨 이온 등에 의한 이모늄염계 화합물의 분자 구조의 변화를 효과적으로 억제할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시킨 것이다.
즉, 본 발명의 목적은, 소다라임 유리에 대해 첩합시킨 상태로, 소정의 내열 조건 하에 노출한 경우이어도, 근적외선 흡수 성능의 저하를 효과적으로 억제할 수 있는 점착제 조성물 및 그것을 사용한 점착 시트를 제공하는 것에 있다.
본 발명에 의하면, 하기 성분(A)?(C)를 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물이 제공되어, 상술한 문제를 해결할 수 있다.
(A) (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부
(B) 이모늄염계 화합물 0.01?30중량부
(C) 산가 조정제 0.1?30중량부
즉, 본 발명의 점착제 조성물이면, 이모늄염계 화합물과 함께, 산가 조정제를 소정의 비율로 함유하므로, 점착제 조성물 중에 나트륨 이온 등이 침입한 경우이어도, 그것에 의해 이모늄염계 화합물의 구조가 변화하는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.
따라서, 점착제 조성물을 피착물로서의 소다라임 유리에 대해 첩합시킨 상태로, 소정의 내열 환경 하에 노출한 경우이어도, 근적외선 흡수 성능의 저하를 효과적으로 억제할 수 있다.
또, 본 발명에서의 「점착제 조성물」이란, 예를 들면, 미가교의 점착제 조성물이어도, 가교 후의 점착제 조성물이어도, 상술한 조성을 갖는 점착제 조성물이면, 모두 포함되는 넓은 의미이다.
단, 가교제를 함유하는 점착제 조성물에 대해서는, 가교 후의 점착제 조성물을, 특히 「점착제」로 기재하는 경우가 있다.
또한, 본 발명의 점착제 조성물을 구성함에 있어, (B) 성분으로서의 이모늄염계 화합물에 있어서의 극대 흡수 파장을 600?1,200nm의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다.
이와 같이 구성함으로써, 근적외선 흡수 성능의 저하를 보다 효과적으로 억제할 수 있다.
또한, 본 발명의 점착제 조성물을 구성함에 있어, (C) 성분으로서의 산가 조정제의 산가를 50?500KOHmg/g의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다.
이와 같이 구성함으로써, 점착제 조성물 중에 나트륨 이온 등이 침입한 경우이어도, 그것에 의해 이모늄염계 화합물의 구조가 변화하는 것을, 보다 효과적으로 억제할 수 있다.
또한, 본 발명의 점착제 조성물을 구성함에 있어, (C) 성분으로서의 산가 조정제가, 로진 수지 및/또는 로진 수지의 유도체인 것이 바람직하다.
이와 같이 구성함으로써, (B) 성분으로서의 이모늄염계 화합물의 구조가 변화하는 것을, 보다 효과적으로 억제할 수 있는 한편, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체와의 상용성도 뛰어나므로, 저(低)헤이즈의 점착제 조성물을 얻을 수 있다.
또한, 본 발명의 점착제 조성물을 구성함에 있어, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체가, 1분자 중에 활성 수소기를 2개 이상 갖는 것이 바람직하다.
이와 같이 구성함으로써, (A) 성분끼리를 호적(好適)한 범위로 가교시켜, 점착제 특성을 원하는 범위로 조정할 수 있다.
또한, 본 발명의 점착제 조성물을 구성함에 있어, 또한 (D) 성분으로서, (A) 성분을 가교하기 위한 가교제를 함유함과 함께, (D) 성분의 배합량을, (A) 성분 100중량부에 대해, 0.01?30중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다.
이와 같이 구성함으로써, (A) 성분끼리를 보다 호적한 범위로 가교시켜, 점착제 특성을 원하는 범위로 조정할 수 있다.
또한, 본 발명의 점착제 조성물을 구성함에 있어, 산가를 5?300KOHmg/g의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다.
이와 같이 구성함으로써, 점착제 조성물 중에 나트륨 이온 등이 침입한 경우이어도, 그것에 의해 이모늄염계 화합물의 구조가 변화하는 것을, 효과적으로 더욱 억제할 수 있다.
또한, 본 발명의 다른 태양은, 기재 위에, 하기 성분(A)?(C)를 함유하는 점착제 조성물을 점착제층으로서 구비한 점착 시트이다.
(A) (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부
(B) 이모늄염계 화합물 0.01?30중량부
(C) 산가 조정제 0.1?30중량부
즉, 본 발명의 점착 시트이면, 소정의 점착제층을 구비하므로, 피착물로서의 소다라임 유리에 대해 첩합시킨 상태로, 소정의 내열 조건 하에 노출한 경우이어도, 근적외선 흡수 성능의 저하를 효과적으로 억제할 수 있다.
또한, 본 발명의 점착 시트를 구성함에 있어, 기재가 디스플레이용 광학 필름인 것이 바람직하다.
이와 같이 구성함으로써, 디스플레이로부터 발사되는 근적외선에 기인한 텔레비전의 오작동 등을 효과적으로 억제할 수 있다.
또한, 본 발명의 점착 시트를 구성함에 있어, 기재가 박리 필름임과 함께, 점착제층에 있어서의 당해 박리 필름의 반대면에 대해, 별도의 박리 필름을 적층하여 이루어지는 것이 바람직하다.
이와 같이 구성함으로써, 점착 시트의 취급성을 향상시킬 수 있다.
도 1(a)?(d)는, 점착제 조성물 등의 사용 태양, 및 점착 시트의 제조 방법을 설명하기 위해서 제공하는 도면이다.
도 2는, 점착 시트의 태양을 설명하기 위해서 제공하는 다른 도면이다.
[제1 실시 형태]
본 발명의 제1 실시 형태는, 하기 성분(A)?(C)를 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물이다.
(A) (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부
(B) 이모늄염계 화합물 0.01?30중량부
(C) 산가 조정제 0.1?30중량부
이하, 본 발명의 제1 실시 형태를, 도면을 적절히 참조하여, 구체적으로 설명한다.
1. (A) 성분 : (메타)아크릴산에스테르 중합체
(1) 종류
(A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체는, (메타)아크릴산알킬에스테르, 및 소망에 따라 그 밖의 비닐 단량체를 단량체 성분으로 하고, 그들을 중합하여 얻어지는 중합체이면, 특히 한정되는 것은 아니고, 종래 공지의 것을 사용할 수 있다.
여기서, (메타)아크릴산에스테르는, 아크릴산에스테르 및 메타아크릴산에스테르의 모두를 의미한다.
또한, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체가, 1분자 중에 활성 수소기를 2개 이상 갖는 것이 바람직하다.
보다 구체적으로는, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체를, (메타)아크릴산알킬에스테르(a)와, 분자 내에 활성 수소기를 갖는 비닐 화합물(b)을 함유하는 단량체 성분에 유래한 공중합체로 하는 것이 바람직하다.
이 이유는, 이와 같은 (A) 성분이면, 단량체 성분(a) 및 (b)을 호적한 배합 범위로 공중합시킬 수 있으므로, (A) 성분을 호적한 범위로 가교시켜, 점착제 특성을 원하는 범위로 조정할 수 있기 때문이다.
또, 단량체 성분으로서 (메타)아크릴산알킬에스테르(a)라고 한 경우, 분자 내에 알킬기를 갖고, 또한, 수산기나 카르복시기 등의 관능기를 가지지 않는 (메타)아크릴산알킬에스테르를 의미한다.
또한, (메타)아크릴산알킬에스테르(a)로서는, 그 알킬기의 탄소수가 1?12의 (메타)아크릴산알킬에스테르를 사용하는 것이 바람직하다.
이 이유는, 이러한 알킬기의 탄소수가 12보다도 큰 값이 되면, 측쇄끼리가 배향?결정화함으로써, 얻어지는 점착제 조성물의 점착성이 소실되는 경우가 있기 때문이다.
또한, 이와 같은 알킬기의 탄소수가 1?12의 범위 내의 값인 (메타)아크릴산알킬에스테르로서는, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산프로필, (메타)아크릴산부틸, (메타)아크릴산펜틸, (메타)아크릴산헥실, (메타)아크릴산시클로헥실, (메타)아크릴산2-에틸헥실, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산데실, (메타)아크릴산도데실 등의 1종 단독 또는 2종 이상의 조합으로 이루어지는 단량체를 들 수 있다.
또, 저장 탄성률을 보다 호적한 범위로 조절하기 쉬우므로, (메타)아크릴산알킬에스테르에 있어서의 알킬기의 탄소수를 1?10의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 1?8의 범위 내의 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다.
또한, (메타)아크릴산알킬에스테르(a)는, (메타)아크릴산에스테르 중합체를 구성하는 주성분이기 때문에, 통상, (메타)아크릴산에스테르 중합체를 구성하는 전 단량체의 80?99.99중량%의 범위 내의 값인 것이 바람직하고, 90?99.9중량%의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 95?99.8중량%의 범위 내의 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다.
또한, 알킬기의 탄소수가 1?12의 (메타)아크릴산알킬에스테르 중, 아크릴산n-부틸 및 아크릴산2-에틸헥실, 혹은 어느 한쪽을 포함하는 것이, 특히 바람직하다.
이 이유는, 이들의 (메타)아크릴산알킬에스테르이면, 점착제 조성물의 점착성을 효과적으로 향상시킬 수 있기 때문이다.
뿐만 아니라, 특히 아크릴산2-에틸헥실이면, (메타)아크릴산에스테르 중합체를 저극성화시켜, 소다라임 유리에 기인한 이온이 점착제 조성물 중에 침입하는 것을 효과적으로 억제할 수 있다.
또한, 분자 내에 활성 수소기를 갖는 비닐 화합물(b)로서는, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 히드록시부틸(메타)아크릴레이트 등의 분자 내에 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트; 1,4-디(메타)아크릴옥시에틸피로멜리트산, 4-(메타)아크릴옥시에틸트리멜리트산, N-(메타)아크릴로일-p-아미노벤조산, 2-(메타)아크릴로일옥시벤조산, N-(메타)아크릴로일-5-아미노살리실산 등의 분자 내에 카르복시기를 갖는 (메타)아크릴레이트; 아미노에틸(메타)아크릴레이트, 에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 아미노프로필(메타)아크릴레이트, 에틸아미노프로필(메타)아크릴레이트 등의 분자 내에 제1?제2급 아미노기를 갖는 (메타)아크릴레이트; 2-(메틸티오)에틸메타크릴레이트 등의 분자 내에 티올기를 갖는 (메타)아크릴레이트; (메타)아크릴산을 들 수 있다.
또한, 분자 내에 활성 수소기를 갖는 비닐 화합물(b)은, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체 1분자 중에 활성 수소기를 2개 이상 갖도록, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체를 구성하는 전 단량체의 0.01?20중량%의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하고, 0.1?10중량%의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.2?5중량%의 범위 내의 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다.
이 이유는, 분자 내에 활성 수소기를 갖는 비닐 화합물의 함유량이 0.01중량% 미만의 값이 되면, 충분한 가교점을 확보하는 것이 곤란하게 되는 경우가 있기 때문이다. 한편, 분자 내에 활성 수소기를 갖는 비닐 화합물의 함유량이 20중량%를 초과한 값이 되면, 내구성이 저하하는 경우가 있기 때문이다.
또한, 분자 내에 활성 수소기를 갖는 비닐 화합물(b)의 활성 수소기는, 수산기, 제1?제2급 아미노기 또는 티올기인 것이 바람직하고, 수산기인 것이 보다 바람직하다.
이 이유는, 분자 내에 활성 수소기를 갖는 비닐 화합물(b)을, 이러한 구성으로 함으로써, (A) 성분이 카르복시기를 가지지 않게 되어, (A) 성분과, 후술하는 (C) 성분으로서의 산가 조정제와의 기능 분리가 명확하게 되어, 점착력 등의 점착제 특성을 보다 안정화시킬 수 있기 때문이다.
(2) 중량평균 분자량
또한, (A) 성분인 (메타)아크릴산에스테르 중합체의 중량평균 분자량을 20만?200만의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다.
이 이유는, 이러한 중량평균 분자량이 20만 미만의 값이 되면, 점착제 조성물의 내구성이 불충분하게 되는 경우가 있기 때문이다. 한편, 이러한 중량평균 분자량이 200만을 초과한 값이 되면, 점도 증대 등에 의한 가공 적성의 저하를 억제하는 것이 곤란하게 되는 경우가 있기 때문이다.
따라서, (A) 성분인 (메타)아크릴산에스테르 중합체의 중량평균 분자량을 30만?150만의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 50만?120만의 범위 내의 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다.
또, 이러한 중량평균 분자량은, 폴리스티렌 환산에 의한 겔투과 크로마토그래피(GPC)법에 의해 측정할 수 있다.
이상, (메타)아크릴산에스테르 중합체에 대해 설명해왔지만, 본 발명에서의 (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체는, 1종 단독으로 사용해도 되고, 단량체 성분의 조성이나 중량평균 분자량이 다른 2종 이상을 병용해도 된다.
또한, 공중합 형태에 대해서도 특히 제한되는 것은 아니고, 랜덤, 블록, 그래프트 공중합체 중 어느 것이어도 된다.
2. (B) 성분 : 이모늄염계 화합물
(1) 종류
본 발명의 점착제 조성물은, (B) 성분으로서 이모늄염계 화합물을 함유하는 것을 특징으로 한다.
이 이유는, 이모늄염계 화합물을 함유함으로써, 점착제 조성물에 대해 근적외선 흡수 성능을 부여할 수 있기 때문이다.
즉, 근적외선 흡수 성능을 갖는 색소로서는, 이모늄염계 화합물 외에, 프탈로시아닌계 화합물, 티올 착체계 화합물, 세슘산화텅스텐계 화합물 등이 존재하지만, 이들 화합물과 비교하여, 이모늄염계 화합물 쪽이 근적외선 흡수 성능이 뛰어나기 때문이다.
한편, 점착제 조성물 중에 이모늄염계 화합물을 함유시킨 경우, 이러한 점착제 조성물을 소다라임 유리에 대해 첩합하고, 소정의 내열 환경 하에 노출하면, 점착제 조성물에 있어서의 근적외선 흡수 성능이 현저하게 저하해버리는 경향이 있다.
이 점, 본 발명의 점착제 조성물이면, 후술하는 (C) 성분으로서 산가 조정제를 함유함으로써, 이러한 문제를 효과적으로 해결할 수 있다.
또, 이 점에 대한 상세는, (C) 성분의 항에 있어서 상세하게 설명한다.
또한, 이모늄염계 화합물로서는, 예를 들면, N,N,N',N'-테트라키스(p-디메틸아미노페닐)-p-벤조퀴논비스이모늄, N,N,N',N'-테트라키스(p-디에틸아미노페닐)-p-벤조퀴논비스이모늄, N,N,N',N'-테트라키스(p-디-n-프로필아미노페닐)-p-벤조퀴논비스이모늄, N,N,N',N'-테트라키스(p-디-n-부틸아미노페닐)-p-벤조퀴논비스이모늄, N,N,N',N'-테트라키스(p-디-n-헥실아미노페닐)-p-벤조퀴논비스이모늄, N,N,N',N'-테트라키스(p-디-n-펜틸아미노페닐)-p-벤조퀴논비스이모늄 등의 염소산염, 불화붕소산염, 트리플루오로메탄설폰산염, 과염소산염, 질산염, 헥사플루오로안티몬산염 등의 1종 단독, 또는 2종 이상의 조합을 들 수 있다.
또, 점착제 조성물 중에는, 이모늄염계 화합물과 함께, 광흡수 기능을 갖는 화합물을 첨가해도 된다.
이와 같은 화합물로서는, 예를 들면, 금속 착체계 화합물, 시아닌계 화합물, 포르피린계 화합물, 피로메텐계 화합물, 스쿠아릴륨계 화합물 등을 들 수 있다.
(2) 극대 흡수 파장
또한, (B) 성분으로서의 이모늄염계 화합물에 있어서의 극대 흡수 파장을 600?1,200nm의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다.
이 이유는, 이모늄염계 화합물에 있어서의 극대 흡수 파장을 이러한 범위 내의 값으로 함으로써, 근적외선 흡수 성능의 저하를 보다 효과적으로 억제할 수 있기 때문이다.
(3) 배합량
또한, (B) 성분으로서의 이모늄염계 화합물의 배합량을, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부에 대해, 0.01?30중량부의 범위 내의 값으로 하는 것을 특징으로 한다.
이 이유는, 이모늄염계 화합물의 배합량이 0.01중량부 미만의 값이 되면, 점착제 조성물에 대해 충분한 근적외선 흡수 성능을 부여하는 것이 곤란하게 되는 경우가 있기 때문이다. 한편, 이모늄염계 화합물의 배합량이 30중량부를 초과한 값이 되면, 석출하는 경우가 있기 때문이다.
따라서, (B) 성분으로서의 이모늄염계 화합물의 배합량을, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부에 대해, 0.1?20중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.5?15중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다.
3. (C) 성분 : 산가 조정제
본 발명의 점착제 조성물은, (C) 성분으로서 산가 조정제를 함유하는 것을 특징으로 한다.
이 이유는, 산가 조정제를 함유함으로써, 점착제 조성물 중에 나트륨 이온 등이 침입한 경우이어도, 그것에 의해 이모늄염계 화합물의 구조가 변화하는 것을 효과적으로 억제할 수 있기 때문이다.
따라서, 점착제 조성물을 피착물로서의 소다라임 유리에 대해 첩합시킨 상태로, 소정의 내열 환경 하에 노출한 경우이어도, 근적외선 흡수 성능의 저하를 효과적으로 억제할 수 있기 때문이다.
(1) 산가 조정제의 작용
즉, 점착제 조성물 중에 산가 조정제가 함유되어 있지 않은 경우, 소다라임 유리의 구성 성분인 나트륨 이온 등의 이온이, 특히 내열 환경 하에서, 점착제 조성물 중에 침입해가게 된다.
그리고, 이러한 이온에 의해, 근적외선 흡수 색소로서의 이모늄염계 화합물의 구조가 변화해버려, 결과적으로 점착제 조성물 및 그것을 사용하여 제조된 점착 시트에 있어서의 근적외선 흡수 성능이 저하해버리게 된다.
그러나, 점착제 조성물 중에 산가 조정제가 소정의 비율로 함유되어 있는 경우, 소다라임 유리로부터 점착제 조성물 중에 침입해간 이온과, 산가 조정제가 반응함으로써, 이모늄염계 화합물의 구조 변화를 방지할 수 있다고 추정된다.
따라서, 본 발명의 점착제 조성물이면, 피착물로서의 소다라임 유리에 첩합시킨 상태로, 소정의 내열 환경 하에 노출한 경우이어도, 근적외선 흡수 성능의 저하를 효과적으로 억제할 수 있는 것으로 추정된다.
(2) 종류
또한, 산가 조정제의 종류로서는, 그 화합물 자체가 소정의 산가를 가짐으로써, 점착제 조성물에 대한 산가 조정제로서의 기능을 갖는 화합물이면, 특히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 로진 수지, 테르펜 수지, 카르복시산 변성 석유 수지, 알키드 수지, 폴리아미드 수지, 변성 에폭시 수지 및 이들의 유도체로 이루어지는 군에서 선택되는 카르복시기를 함유하는 수지를 들 수 있다.
또한, 상술한 중에서도, 로진 수지 및/또는 로진 수지의 유도체를 사용하는 것이, 특히 바람직하다.
이 이유는, 로진 수지 및/또는 로진 수지의 유도체이면, (B) 성분으로서의 이모늄염계 화합물의 구조가 변화하는 것을, 보다 효과적으로 억제할 수 있는 한편, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체와의 상용성도 뛰어나므로, 저헤이즈의 점착제 조성물을 얻을 수 있기 때문이다.
또한, 로진 수지의 종류로서는, 예를 들면, 검(gum) 로진, 우드 로진, 톨유(tall oil) 로진 중 어느 하나로 이루어지는 수지이어도 된다.
또한, 로진 수지는, 아비에트산, 네오아비에트산, 디히드로아비에트산, 팔루스트르산(palustric acid), 피마르산 및 이소피마르산 등의 수지산을 함유하는 수지인 것이 바람직하다.
또한, 로진 수지의 유도체의 예로서는, 카르복시기의 일부를 폴리올로 에스테르화한 로진에스테르, 불포화 결합의 일부 또는 전부를 수소화한 수소화로진 등인 것이 바람직하다.
(3) 산가
또한, 산가 조정제의 산가를 50?500KOHmg/g의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다.
이 이유는, 산가 조정제의 산가를 이러한 범위 내의 값으로 함으로써, 점착제 조성물 중에 나트륨 이온 등이 침입한 경우이어도, 그것에 의해 이모늄염계 화합물의 구조가 변화하는 것을, 보다 효과적으로 억제할 수 있기 때문이다.
즉, 산가 조정제의 산가가 50KOHmg/g 미만의 값이 되면, 점착제 조성물 중에 침입한 나트륨 이온 등에 의해 이모늄염계 화합물의 구조가 변화하는 것을 억제하는 것이 곤란하게 되어, 그 때문에, 점착제 조성물에 있어서의 근적외선 흡수 성능이 과도하게 저하하는 경우가 있기 때문이다. 한편, 산가 조정제의 산가가 500KOHmg/g를 초과한 값이 되면, 점착제 조성물의 내구성이 저하하는 경우가 있기 때문이다.
따라서, 산가 조정제의 산가를 80?400KOHmg/g의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 100?300KOHmg/g의 범위 내의 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다.
(4) 연화점
또한, 산가 조정제의 연화점을 0℃ 이상의 값으로 하는 것이 바람직하다.
이 이유는, 산가 조정제의 연화점을 0℃ 이상의 값으로 함으로써, 점착제 조성물 중에 안정적으로 유지되기 때문이다.
즉, 산가 조정제의 연화점이 0℃ 미만의 값이 되면, 경시적(經時的)으로 블리드하는 경우가 있다.
따라서, 산가 조정제의 연화점을 30℃ 이상의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 40℃ 이상의 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다.
(5) 배합량
또한, (C) 성분으로서의 산가 조정제의 배합량을, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부에 대해, 0.1?30중량부의 범위 내의 값으로 하는 것을 특징으로 한다.
이 이유는, 산가 조정제의 배합량을 이러한 범위 내의 값으로 함으로써, 점착제 조성물 중에 나트륨 이온 등이 침입한 경우이어도, 그것에 의해 이모늄염계 화합물의 구조가 변화하는 것을, 효과적으로 억제할 수 있기 때문이다.
즉, 산가 조정제의 배합량이 0.1중량부 미만의 값이 되면, 점착제 조성물 중에 침입한 나트륨 이온 등에 의해 이모늄염계 화합물의 구조가 변화하는 것을 억제하는 것이 곤란하게 되어, 그 때문에, 점착제 조성물에 있어서의 근적외선 흡수 성능이 과도하게 저하하는 경우가 있기 때문이다. 한편, 산가 조정제의 배합량이 30중량부를 초과한 값이 되면, 점착제 조성물의 내구성이 저하하는 경우가 있기 때문이다.
따라서, (C) 성분으로서의 산가 조정제의 배합량을, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부에 대해, 1?25중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 3?20중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다.
4. (D) 성분 : 가교제
또한, 본 발명의 점착제 조성물은, 또한 (D) 성분으로서, (A) 성분을 가교하기 위한 가교제를 함유하는 것이 바람직하다.
보다 구체적으로는, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체가 갖는 활성 수소기 등과의 반응성을 갖는 관능기를, 1분자 중에 2개 이상 갖는 가교제를 함유하는 것이 바람직하다.
이 이유는, 이와 같은 가교제를 함유함으로써, (A) 성분끼리를 가교시켜, 점착제 특성을 원하는 범위로 조절할 수 있기 때문이다.
(1) 종류
또한, 활성 수소기와의 반응성을 갖는 관능기를 1분자 중에 2개 이상 갖는 가교제로서는, 다관능 아미노 화합물, 다관능 이소시아네이트 화합물, 다관능 에폭시 화합물 및 다관능 금속 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 화합물인 것이 바람직하다.
또한, 다관능 아미노 화합물로서는, 예를 들면, 메틸화멜라민 수지, 부틸화멜라민 수지 등의 멜라민 수지; 메틸화요소 수지, 부틸화요소 수지 등의 요소 수지; 메틸화벤조구아나민 수지, 부틸화벤조구아나민 수지 등의 벤조구아나민 수지; 에틸렌디아민, 테트라메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민, N,N'-디페닐에틸렌디아민, p-크실릴렌디아민 등의 디아민류 등을 들 수 있다.
또한, 다관능 이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들면, 디페닐메탄디이소시아네이트(MDI), 톨릴렌디이소시아네이트(TDI), 헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI), 이소포론디이소시아네이트(IPDI), 트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트(TMDI), 크실렌디이소시아네이트(XDI), 나프탈렌디이소시아네이트(NDI), 트리메틸올프로판(TMP) 어덕트 TDI, TMP 어덕트 HDI, TMP 어덕트 IPDI, TMP 어덕트 XDI 등을 들 수 있다.
또한, 다관능 에폭시 화합물로서는, 예를 들면, N,N,N',N'-테트라글리시딜메타크실렌디아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산 등을 들 수 있다.
또한, 다관능 금속 화합물로서는, 예를 들면, 알루미늄트리스아세틸아세토네이트, 알루미늄에틸아세토아세테이트?디이소프로필레이트 등의 알루미늄 킬레이트 화합물; 티탄테트라아세틸아세토네이트, 티탄아세틸아세토네이트, 티탄옥틸렌글리콜레이트, 테트라이소프로폭시티탄, 테트라메톡시티탄 등의 티탄킬레이트 화합물; 트리메톡시알루미늄 등을 들 수 있다.
(2) 배합량
또한, (D) 성분으로서의 가교제의 배합량을, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부에 대해, 0.01?30중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다.
이 이유는, 가교제의 배합량이 0.01중량부 미만의 값이 되면, (A) 성분끼리를 충분하게 가교시키는 것이 곤란하게 되어, 충분한 점착력이나 저장 탄성률을 얻는 것이 곤란하게 되는 경우가 있기 때문이다. 한편, 가교제의 배합량이 30중량부를 초과한 값이 되면, (A) 성분끼리의 가교가 과잉으로 되어, 역으로 점착력이 저하하기 쉬워지는 경우가 있기 때문이다.
따라서, (D) 성분으로서의 가교제의 배합량을, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부에 대해, 0.1?20중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 0.5?10중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다.
5. 광경화성 성분
또한, 본 발명의 점착제 조성물은, 광경화성 성분을 함유해도 된다.
즉, 점착제 조성물의 저장 탄성률을 증가시키는 등의 목적에서, 예를 들면, 다관능 (메타)아크릴레이트계 모노머 등의 광경화성 성분을 소정량 함유해도 된다.
구체적으로는, 광경화성 성분의 배합량을, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부에 대해, 0.1?5중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하고, 0.5?3중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다.
또, 광경화성 성분을 소정량 함유하는 경우, 그것에 대응시켜, 소정량의 광중합 개시제를 배합하는 것이 바람직하다.
6. 희석 용제
본 발명의 점착제 조성물에 있어서, 각 성분의 분산성을 개선하거나, 박리 필름 등에 점착제 조성물을 도포할 때에, 적절한 점도로 조정하거나 하는 관점에서, 희석 용제를 사용할 수 있다.
이러한 희석 용제로서는, 예를 들면, 톨루엔, 크실렌, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 메틸에틸케톤, 에틸이소부틸케톤, 메틸알코올, 에틸알코올, 이소프로필알코올 등이 바람직하고, 희석 용제를 가했을 때의 점착제 조성물의 농도는, 5?30중량%의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다.
7. 첨가제
또한, 점착제 조성물에는, 상술한 이외의 성분으로서, 예를 들면, 방청제, 대전 방지제, 자외선 흡수제, 산화 방지제 등을, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한도에서 첨가할 수 있다.
또한, 방청제로서는, 예를 들면, 벤조트리아졸계 화합물, 톨릴트리아졸계 화합물, 트리아졸계 화합물, 인계 화합물, 아질산염계 화합물 등을 들 수 있다.
또한, 이들 첨가제를 가하는 경우에는, 첨가제의 종류에도 의하지만, 그 함유를, (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부에 대해, 0.01?30중량부의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다.
8. 점착제 조성물의 산가
또한, 본 발명의 점착제 조성물의 산가를, 5?300KOHmg/g의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다.
이 이유는, 점착제 조성물의 산가를 이러한 범위 내의 값으로 함으로써, 점착제 조성물 중에 나트륨 이온 등이 침입한 경우이어도, 그것에 의해 이모늄염계 화합물의 구조가 변화하는 것을, 효과적으로 더욱 억제할 수 있기 때문이다.
즉, 점착제 조성물의 산가가 5KOHmg/g 미만의 값이 되면, 점착제 조성물 중에 침입한 나트륨 이온 등에 의해 이모늄염계 화합물의 구조가 변화하는 것을 억제하는 것이 곤란하게 되어, 그 때문에, 점착제 조성물에 있어서의 근적외선 흡수 성능이 과도하게 저하하는 경우가 있기 때문이다. 한편, 점착제 조성물의 산가가 300KOHmg/g를 초과한 값이 되면, 내구성이 저하하는 경우가 있기 때문이다.
따라서, 점착제 조성물의 산가를 10?200KOHmg/g의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 20?100KOHmg/g의 범위 내의 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다.
또, 본 발명에 있어서, 점착제 조성물의 산가란, 시즈닝에 의한 가교를 행하기 전의 단계의 점착제 조성물을 용제에 용해하여 측정되는 산가를 의미한다.
[제2 실시 형태]
본 발명의 제2 실시 형태는, 기재 위에, 하기 성분(A)?(C)를 함유하는 점착제 조성물을 점착제층으로서 구비한 점착 시트이다.
(A) (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부
(B) 이모늄염계 화합물 0.01?30중량부
(C) 산가 조정제 0.1?30중량부
즉, 본 발명의 점착 시트이면, 소정의 점착제층을 구비하므로, 피착물로서의 소다라임 유리에 대해 첩합시킨 상태로, 소정의 내열 환경 하에 노출한 경우이어도, 근적외선 흡수 성능의 저하를 효과적으로 억제할 수 있다.
이하, 본 발명의 제2 실시 형태를, 제1 실시 형태와 다른 점을 중심으로, 도 1 및 2를 참조하면서, 구체적으로 설명한다.
1. 점착제층
점착제 조성물은, 하기 공정(1)?(3)을 거쳐, 소정 특성을 갖는 점착제층으로서 구성할 수 있다.
(1) (A)?(C) 성분을 함유하는 소정의 점착제 조성물을 준비하는 공정
(2) 점착제 조성물을, 박리 필름에 대해 도포하여, 도포층을 형성하는 공정
(3) 점착제 조성물을 가교시켜, 도포층을 점착제층으로 하는 공정
이하, 점착제층을 구성하기에 이르는 공정에 대해, 도면을 적절히 참조하여, 구체적으로 설명한다.
(1) 공정(1) (점착제 조성물의 준비 공정)
공정(1)은, (A)?(C) 성분을 함유하는 소정의 점착제 조성물을 준비하는 공정이다.
보다 구체적으로는, 예를 들면, (A) 성분을 소망에 따라 희석 용제로 희석하고, 교반 하, (B) 성분 및 (C) 성분을 첨가하여, 균일한 혼합액으로 하는 것이 바람직하다.
계속해서, 얻어진 혼합액에 대해, 소망에 따라 (D) 성분이나 그 밖의 첨가제를 첨가한 후, 균일하게 될 때까지 교반하면서, 원하는 점도가 되도록, 필요에 따라 희석 용제를 더 가함으로써, 점착제 조성물의 용액을 얻는 것이 바람직하다.
또, 각 성분의 상세 및 배합 비율 등은 제1 실시 형태에서 기재한 대로이므로 생략한다.
(2) 공정(2) (점착제 조성물의 도포 공정)
공정(2)은, 도 1(a)에 나타내는 바와 같이, 점착제 조성물을, 박리 필름(2)에 대해 도포하여 도포층(1)을 형성하는 공정이다.
박리 필름(2)으로서는, 예를 들면, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 폴리에테르케톤, 폴리에테르에테르케톤, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리노르보르넨 등의 수지로 이루어지는 수지 필름의 적어도 한쪽의 면에, 실리콘 수지 등으로 이루어지는 박리층을 갖는 것을 바람직하게 들 수 있다.
또, 이러한 박리 필름(2)의 두께는, 통상, 20?150㎛의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다.
또한, 박리 필름(2) 위에 점착제 조성물을 도포하는 방법으로서는, 예를 들면, 바 코팅법, 나이프 코팅법, 롤 코팅법, 블레이드 코팅법, 다이 코팅법, 그라비어 코팅법 등을 사용하여, 용제를 가한 점착제 조성물을 도포하여 도포층(1)(도막)을 형성한 후, 건조시키는 것이 바람직하다.
이 때, 도포층(1)의 두께를, 건조시 기준에 있어서, 1?100㎛의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하고, 5?50㎛의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다.
이 이유는, 도포층(1)의 두께가 너무 얇으면, 충분한 점착 특성이 얻어지지 않는 경우가 있고, 역으로, 너무 두꺼우면, 잔류 용제가 문제가 되는 경우가 있기 때문이다.
또한, 건조 조건으로서는, 통상, 50?150℃이고, 10초?10분의 범위 내로 하는 것이 바람직하다.
(3) 공정(3) (도포층의 가교 공정)
공정(3)은, 점착제 조성물의 도포층(1)을 가교시켜, 도포층(1)을 점착제층(10)으로 하는 공정이다.
즉, 도 1(b)에 나타내는 바와 같이, 박리 필름(2) 위에서 건조시킨 상태의 도포층(1)의 표면에 대해, 디스플레이용 광학 필름 기재 등의 기재(101)를 적층시킨 상태로 가교시켜, 점착제층(10)으로 하는 것이 바람직하다.
혹은, 박리 필름(2) 위에 도포한 점착제 조성물의 도포층(1)을, 먼저 가교시켜, 점착제층(10)으로 한 후, 기재(101)에 대해 적층시켜도 된다.
또한, 도 2에 나타내는 바와 같이, 박리 필름(2)에 대해 점착제 조성물을 도포하여 건조시켜, 도포층(1)을 형성한 후, 또한 별도의 박리 필름(2)을, 도포층(1) 위에 적층시켜, 가교함으로써, 2개의 박리 필름(2)의 박리층측이, 각각 점착제층(10)과 접하도록 하여 협지(挾持)된 점착 시트(100b)도 바람직하다.
또한, 이러한 태양의 점착 시트(100b)는, 박리 필름(2)에 대해 점착제 조성물의 도포층(1)을 형성하여, 건조 및 가교시킨 후에, 또한 별도의 박리 필름(2)을, 점착제층(10)이 된 점착제 조성물 위에 적층시킴으로써, 2개의 박리 필름(2)에 협지된 점착 시트(100b)이어도 된다.
또한, 점착 시트(100b)는, 2개의 박리 필름(2) 중의 한쪽에 있어서의 박리력이, 다른 한쪽에 있어서의 박리력과 다른 것이 바람직하다.
이 이유는, 박리력이 다름으로써, 얻어진 점착 시트(100b)를 사용할 때에, 점착제층(10)을 손상시키지 않고, 한쪽의 박리 필름(2)을 벗길 수 있기 때문이다.
또한, 이러한 태양의 점착 시트(100b)는, 한쪽의 박리 필름(2)을 박리하여, 나타난 점착제층(10)을, 기재(101)에 대해 밀착시켜 첩합함으로써, 점착 시트(100a)를 얻을 수 있다.
이 때, 소망에 따라, 점착제층(10)면 혹은 기재(101)면을, 코로나 처리, 플라스마 처리 및 비누화 처리 등의 표면 처리를 행할 수 있다.
이러한 태양은, 점착제층(10)의 제조와, 이러한 점착제층(10)의 사용이, 다른 장소에서 행해지는 등의 이유에 의해, 점착제층(10)만을 수송하지 않으면 안되는 경우 등에 필요로 된다.
또, 점착제 조성물의 도포층(1)에 있어서의 가교는, 상술한 건조 공정과, 시즈닝 공정을 통하여 행해진다.
이러한 시즈닝 공정의 조건으로서는, 점착제 조성물의 도포층(1)이나 기재(101)에 데미지를 주지 않고, 또한, 점착제 조성물의 도포층(1)을 균일하게 가교하는 관점에서, 20?50℃로 하는 것이 바람직하고, 23?30℃로 하는 것이 보다 바람직하다.
또한, 습도로서는, 30?75%RH로 하는 것이 바람직하고, 45?65%RH로 하는 것이 보다 바람직하다.
또한, 기간으로서는, 3?20일로 하는 것이 바람직하고, 5?14일로 하는 것이 보다 바람직하다.
2. 기재
본 발명에 있어서는, 기재(101)가, 디스플레이용 광학 필름 기재임과 함께, 당해 디스플레이용 광학 기재 필름의 적어도 한쪽에, 상술한 점착제층(10)을 구비하는 것이 바람직하다.
본 발명의 점착 시트(100)에 있어서의 기재(101)로서는, 특히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 폴리비닐알코올, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리카보네이트, 액정 폴리머, 시클로올레핀, 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리페닐렌에테르, 폴리에테르케톤, 폴리에테르에테르케톤, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리페닐렌설피드, 폴리아릴레이트, 아크릴계 수지, 지환식 구조 함유 중합체, 방향족계 중합체 등의 광학 필름 기재를 바람직하게 들 수 있다.
또한, 용도의 면에서 설명하면, 편광판, 편광층 보호 필름, 시야각 확대 필름, 방현 필름, 위상차판, 콘트라스트 향상 필름, 전자파 차단 필름, 자외선 흡수 필름 등의 디스플레이용 광학 필름 기재를 들 수 있다.
또한, 기재(101)의 두께로서는 특히 제약은 없지만, 통상 1?1000㎛의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다.
이 이유는, 이러한 기재(101)의 두께가 1㎛ 미만이 되면, 기계적 강도나 취급성이 과도하게 저하하거나, 균일한 두께로 형성하는 것이 곤란하게 되거나 하는 경우가 있기 때문이다. 한편, 이러한 기재(101)의 두께가 1000㎛를 초과하면, 취급성이 과도하게 저하하거나, 경제적으로 불이익이 되거나 하는 경우가 있기 때문이다.
따라서, 기재(101)의 두께를 5?500㎛의 범위 내의 값으로 하는 것이 보다 바람직하고, 10?200㎛의 범위 내의 값으로 하는 것이 더욱 바람직하다.
또한, 기재(101)의 도포층(1)이 형성되는 면측에 표면 처리를 실시하여 있는 것도 바람직하다.
이와 같은 표면 처리로서는, 예를 들면, 프라이머 처리, 코로나 처리, 화염 처리 등을 들 수 있지만, 특히, 프라이머 처리인 것이 바람직하다.
이 이유는, 이와 같은 프라이머층을 형성한 기재(101)를 사용함으로써, 기재(101)에 대한 점착제층(10)의 밀착성을 더욱 향상시킬 수 있기 때문이다.
또, 이와 같은 프라이머층을 구성하는 재료로서는, 셀룰로오스에스테르(예를 들면, 셀룰로오스아세테이트, 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트, 셀룰로오스아세테이트부티레이트, 셀룰로오스니트레이트, 및 그들의 조합), 폴리아크릴, 폴리우레탄, 폴리비닐알코올, 폴리비닐에스테르, 폴리비닐아세탈, 폴리비닐에테르, 폴리비닐케톤, 폴리비닐카르바졸, 폴리비닐부티랄, 및 그들의 조합을 들 수 있다.
또한, 프라이머층의 두께에 대해서도, 특히 한정되지 않지만, 통상, 0.05㎛?10㎛의 범위 내의 값으로 하는 것이 바람직하다.
또, 최종적으로 얻어진 점착 시트(100)를 피착체(200)에 첩합하는 방법으로서는, 도 1(c)?(d)에 나타내는 바와 같이, 우선, 점착제층(10)에 적층하여 있는 박리 필름(2)을 박리하고, 이어서, 나타난 점착제층(10)의 표면을, 피착체(200)에 대해 밀착시킴으로써 첩합하는 것이 바람직하다.
[실시예]
이하, 실시예를 참조하여, 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
[실시예1]
1. 점착제 조성물의 제조
하기 (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부와, (B) 성분으로서의 이모늄염계 화합물(재팬칼릿(주)제, CIR-1085F) 2.4중량부와, (C) 성분으로서의 로진 수지의 유도체A(아라카와가가쿠고교(주)제, 파인크리스탈KE-604, 산가 240KOHmg/g, 연화점 129℃) 17.2중량부와, (D) 성분으로서의 크실릴렌디이소시아네이트계 가교제(도요잉크제조(주), BHS8515) 1.3중량부와, 메틸에틸케톤103.4중량부를 혼합하여, 점착제 조성물을 제조했다.
또, 상술한 배합량 및 표 1 중의 수치는, 고형분 환산된 값을 나타낸다. 단, 용제로서의 메틸에틸케톤에 대해서는 이에 한하지 않는다.
또한, 사용한 이모늄염계 화합물, 산가 조정제 및 가교제는, 표 1 중에 있어서 각각「CIR-1085F」, 「KE-604」 및 「BHS8515」로 표기한다.
또한, (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체는, 아크릴산2-에틸헥실(EHA) 79중량부와, 메타크릴산메틸(MMA) 20중량부와, 아크릴산2-히드록시에틸(HEA) 1중량부를 사용하여, 통상의 방법인 용액 중합법(용매 : 아세트산에틸)에 따라 중합하여, 하기 (A) 성분으로서 나타내는 중량평균 분자량 80만의 (메타)아크릴산에스테르 중합체를 얻었다.
(A) 성분 : EHA/MMA/HEA(79/20/1) Mw=80만
이어서, 얻어진 (메타)아크릴산에스테르 중합체에 대해, 아세트산에틸을 사용하여 그 고형분 농도를 조정하여, 29중량%의 (메타)아크릴산에스테르 중합체 용액으로 했다.
또한, (메타)아크릴산에스테르 중합체의 중량평균 분자량은, 겔침투 크로마토그래피법(이하, GPC법으로 약기한다)으로 측정했다.
즉, 우선, 폴리스티렌을 사용하여 검량선을 작성했다. 이후, 중량평균 분자량은, 폴리스티렌 환산값으로 나타낸다. 이어서, (메타)아크릴산에스테르 중합체 등의 측정 대상의 농도가 1중량%의 테트라히드로푸란(THF) 용액을 준비하여, 도소(주)제, GEL PERMEATION CHROMATOGRAPH HLC-8020(TSKGEL GMHXL, TSKGEL GMHXL, TSKGEL G2000HXL로 이루어지는 3련 칼럼)으로 40℃, THF 용매, 1ml/분의 조건에서 중량평균 분자량을 측정했다. 그리고, 가드 칼럼으로서, 도소(주)제, TSK GUARD COLUMN을 사용했다.
2. 점착제 조성물의 도포
이어서, 두께38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트제 박리 필름(린텍(주)제, SP-PET38T103-1)의 박리층 위에, 얻어진 점착제 조성물을, 건조 후의 두께가 25㎛가 되도록, 나이프식 도공기로 도포하여, 도포층을 형성했다.
이어서, 도포층을 100℃, 1분간의 건조 처리를 실시한 후, 도포층의 노출면에 대해 두께38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트제 박리 필름(린텍(주)제, SP-PET381031)을 첩합했다.
3. 점착제 조성물의 시즈닝
이어서, 상술한 바와 같이 하여 얻어진 점착제 조성물의 도포층과, 2매의 박리 필름으로 이루어지는 적층체를, 23℃, 50%RH의 조건 하에 14일간 방치(시즈닝)하여, 점착제 조성물을 충분하게 가교시켜, 도포층을 점착제층으로 하여, 실시예1의 점착 시트를 얻었다.
4. 평가
(1) 근적외선 투과율의 평가
(1)-1 시험용 샘플의 작성
얻어진 점착 필름으로부터 한쪽의 박리 필름(린텍(주)제, SP-PET381031)을 박리하여, 노출한 점착제층에 대해 PET 필름(도요보세키(주)제, 코스모샤인PET10A4300)을 첩부(貼付)했다.
이어서, 다른 쪽의 박리 필름(린텍(주)제, SP-PET38T103-1)을 박리하여, 노출한 점착제층을 소다라임 유리(니뽄시트글라스(주)제)에 첩부하여, 시험용 샘플(PET 필름/점착제층/소다라임 유리)로 했다.
(1)-2 근적외선 투과율의 측정
얻어진 시험용 샘플의 근적외선 투과율(%)을 측정했다.
즉, 분광 광도계(SHIMADZU(주)제, UV-VIS-NIR SPECTROPHOTOMETER UV-3600)를 사용하여, 파장600?1200nm의 영역의 광에 대한 근적외선 투과율(초기 투과율)을 측정했다.
또한, 80℃, dry의 내열 조건 하에 시험용 샘플을 투입하여, 100시간 후에 취출하고 23℃, 50%RH의 표준 환경 하에 1시간 방치한 후에 있어서도, 분광 광도계를 사용하여, 파장600?1200nm의 영역의 광에 대한 근적외선 투과율(내열 후 투과율)을 측정했다.
또, 파장 850, 900 및 950nm의 광에 대한 초기 투과율 및 내열 후 투과율의 값을, 표 2에 나타낸다.
(1)-3 근적외선 투과율의 변화의 평가
또한, 파장 850, 900 및 950nm의 광에 대한 초기 투과율의 값과, 내열 후 투과율의 값에서, 하기 식(1)에 따라 근적외선 투과율의 변화율(근적외선 투과율 변화율)(%)을 산출했다.
이어서, 얻어진 근적외선 투과율 변화율의 값을, 하기 기준에 따라 평가했다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.
○ : 근적외선 투과율 변화율이 4.0% 미만의 값
× : 근적외선 투과율 변화율이 4.0% 이상의 값
[수 1]
Figure pat00002
(2) 점착제 조성물의 산가의 평가
시료로서 얻어진 시즈닝 전의 점착제 조성물 0.3g(고형분)를 정확하게 칭량하고, 용매로서 톨루엔을 가하여, 점착제 조성물의 1중량% 용액을 얻었다.
이어서, 얻어진 용액에 대해, 지시약으로서의 페놀프탈레인/알코올 용액을 2?3방울 가한 후, 0.1N 수산화칼륨/알코올 용액으로 적정하여, 용액의 적색이 약 30초에서 사라지지 않게 되었을 때를 종점으로 하고, 이 때의 적정량과 시료 중량으로부터 산가(KOHmg/g)를 구했다. 얻어진 결과를 표 1에 나타낸다.
또, 산가 조정제의 산가도, 점착제 조성물의 산가와 같이 하여 측정했다.
[실시예2]
실시예2에서는, 점착제 조성물을 제조할 때에, (A) 성분으로서 하기 (메타)아크릴산에스테르 중합체를 사용한 외에는, 실시예1과 같이 점착 시트를 제조하여, 평가했다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.
또, BA는 아크릴산n-부틸을 의미한다.
(A) 성분 : BA/MMA/HEA(79/20/1) Mw=80만
[실시예3]
실시예3에서는, 점착제 조성물을 제조할 때에, (C) 성분으로서 로진 수지의 유도체B(아라카와가가쿠고교(주)제, 파인크리스탈KR-614, 산가 175KOHmg/g, 연화점 89℃)를 사용한 외에는, 실시예1과 같이 점착 시트를 제조하여, 평가했다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.
또, 사용한 산가 조정제는, 표 1 중에 있어서 「KR-614」로 표기한다.
[실시예4]
실시예4에서는, 점착제 조성물을 제조할 때에, (C) 성분으로서 로진 수지의 유도체C(아라카와가가쿠고교(주)제, 파인크리스탈KR-85, 산가 170KOHmg/g, 연화점 84℃)를 사용한 외에는, 실시예1과 같이 점착 시트를 제조하여, 평가했다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.
또, 사용한 산가 조정제는, 표 1 중에 있어서 「KR-85」로 표기한다.
[실시예5]
실시예5에서는, 점착제 조성물을 제조할 때에, 방청제로서의 1-[N,N-비스(2-에틸헥실)아미노메틸]벤조트리아졸(죠호쿠가가쿠(주)제) 1.7중량부와, 자외선 흡수제(시프로가세이(주)제, SEESORB107) 6.9중량부를 더 첨가한 외에는, 실시예1과 같이 점착 시트를 제조하여, 평가했다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.
또, 사용한 방청제 및 자외선 흡수제는, 표 1 중에 있어서 각각「벤트리」 및 「SEESORB」로 표기한다.
[실시예6]
실시예6에서는, 점착제 조성물을 제조할 때에, (A) 성분으로서 하기 (메타)아크릴산에스테르 중합체를 사용한 외에는, 실시예1과 같이 점착 시트를 제조하여, 평가했다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.
(A) 성분 : EHA/MMA/HEA(77/20/3) Mw=80만
[실시예7]
실시예7에서는, 점착제 조성물을 제조할 때에, (A) 성분으로서 하기 (메타)아크릴산에스테르 중합체를 사용한 외에는, 실시예1과 같이 점착 시트를 제조하여, 평가했다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.
(A) 성분 : EHA/MMA/HEA(79.5/20/0.5) Mw=80만
[비교예1]
비교예1에서는, 점착제 조성물을 제조할 때에, 산가 조정제인 (C) 성분을 가하지 않은 외에는, 실시예1과 같이 점착 시트를 제조하여, 평가했다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.
[표 1]
Figure pat00003
[표 2]
Figure pat00004
또, 표 2에서, 다음의 사항을 알 수 있다.
실시예1?7의 점착제 조성물은, 파장 850, 900 및 950nm의 광에 대한 근적외선 투과율의 변화율이 4.0% 미만이며, 모두 양호하였다.
한편, 비교예1의 점착제 조성물은, 파장 850nm의 광에 대한 근적외선 투과율의 변화율이 4.0 이상으로 높고, 근적외선 흡수 성능의 저하가 확인되었다.
이상, 상술한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 점착제 조성물에 대해, 이모늄염계 화합물과 함께, 산가 조정제를 소정의 비율로 함유시킴으로써, 소다라임 유리에 유래한 나트륨 이온 등에 의한 이모늄염계 화합물의 분자 구조의 변화를 효과적으로 억제할 수 있게 되었다.
그 결과, 소다라임 유리에 대해 첩합시킨 상태로, 소정의 내열 조건 하에 노출한 경우이어도, 근적외선 흡수 성능의 저하를 효과적으로 억제할 수 있는 점착제 조성물을 얻을 수 있게 되었다.
따라서, 본 발명의 점착제 조성물 등은, 플라스마 디스플레이 패널 등에 적용되는 근적외선 흡수 점착 시트의 고품질화에, 현저하게 기여하는 것이 기대된다.
1 : 도포층, 2 : 박리 필름, 10 : 점착제층, 101 : 기재, 200 : 피착체

Claims (10)

  1. 하기 성분(A)?(C)를 함유하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
    (A) (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부
    (B) 이모늄염계 화합물 0.01?30중량부
    (C) 산가 조정제 0.1?30중량부
  2. 제1항에 있어서,
    상기 (B) 성분으로서의 이모늄염계 화합물에 있어서의 극대 흡수 파장을 600?1,200nm의 범위 내의 값으로 하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 (C) 성분으로서의 산가 조정제의 산가를 50?500KOHmg/g의 범위 내의 값으로 하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 (C) 성분으로서의 산가 조정제가, 로진 수지 및/또는 로진 수지의 유도체인 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 (A) 성분으로서의 (메타)아크릴산에스테르 중합체가, 1분자 중에 활성 수소기를 2개 이상 갖는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
  6. 제1항에 있어서,
    또한 (D) 성분으로서, 상기 (A) 성분을 가교하기 위한 가교제를 함유함과 함께, 상기 (D) 성분의 배합량을, 상기 (A) 성분 100중량부에 대해, 0.01?30중량부의 범위 내의 값으로 하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
  7. 제1항에 있어서,
    산가를 5?300KOHmg/g의 범위 내의 값으로 하는 것을 특징으로 하는 점착제 조성물.
  8. 기재 위에, 하기 성분(A)?(C)를 함유하는 점착제 조성물을 점착제층으로서 구비한 점착 시트.
    (A) (메타)아크릴산에스테르 중합체 100중량부
    (B) 이모늄염계 화합물 0.01?30중량부
    (C) 산가 조정제 0.1?30중량부
  9. 제8항에 있어서,
    상기 기재가 디스플레이용 광학 필름인 것을 특징으로 하는 점착 시트.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 기재가 박리 필름임과 함께, 상기 점착제층에 있어서의 당해 박리 필름의 반대면에 대해, 별도의 박리 필름을 적층하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 점착 시트.
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