TWI808505B - 手乾燥裝置及手乾燥系統 - Google Patents
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Abstract
手乾燥裝置(1)係具備手插入部(3)、送風機(10)及UV照射裝置(23)。手插入部(3)係形成手插入空間(5)。手插入部(3)係具有相對於手插入空間(5)開口的通氣孔(6)。送風機(10)係流體連通於通氣孔(6)。送風機(10)係構成為從通氣孔(6)噴出空氣至手插入空間(5)，或從手插入空間(5)吸入空氣至通氣孔(6)。UV照射裝置(23)係將藉由光源所產生的紫外線照射於手插入空間(5)。
Description
本揭示係關於一種手乾燥裝置及手乾燥系統。
一種藉由對於洗手後之潤濕的手噴射氣流以使手乾燥的手乾燥裝置已被廣泛地使用(參照例如專利文獻1)。
專利文獻1：日本特許第6552749號公報
在藉由氣流去除附著在手上的水時，含有細菌或病毒的水滴有可能會飛散至手乾燥裝置之殼體的內部或殼體的外部。此外，附著在殼體之內部的這些水滴，有可能會在之後的人使用手乾燥裝置，而於氣流噴射時，飛散至殼體的外部。
本揭示係為了解決上述的問題而研創者，其目的為提升手乾燥裝置及手乾燥系統的衛生性。
本揭示之手乾燥裝置係具備：手插入部，係形成手插入空間，且具有對於手插入空間形成開口的通氣孔；送風機，係構成為流體連通於通氣孔，且從通氣孔朝手插入空間噴出空氣，或從手插入空間吸入空氣至通氣孔；及UV(UltraViolet，紫外線)照射裝置，係具有光源，且將藉由光源所產生的紫外線照射於手插入空間。
此外，本揭示的手乾燥系統係具備：上述手乾燥裝置，係配置在屬於使用者進入之區域的使用者區域；及存在與否偵測手段，係偵測使用者區域是否有人。
此外，本揭示的手乾燥系統係構成為具備：上述手乾燥裝置；覆蓋部，係可覆蓋上述手乾燥裝置之手插入空間的至少一面；切換部，係可切換為覆蓋部覆蓋手插入空間之至少一面的閉狀態，和可供手插入於手插入空間的開狀態；及靠近偵測手段，係可偵測出閉狀態時手或人已靠近手插入部；且當靠近偵測手段偵測出手或人已靠近手插入部時即成為開狀態。
此外，本揭示的手乾燥系統係構成為具備：上述手乾燥裝置，係配置於屬於使用者進入之區域的使用者區域；及人數偵測手段，係偵測位於使用者區域之人的人數；且在人數為0人的時候，由UV照射裝置照射紫外線，在人數為1人以上的時候，停止UV照射裝置所進行之紫外線的照射。
此外，本揭示的手乾燥系統係具備：上述手乾燥裝置；人識別手段，係辨識相同使用者；人記憶手段，係計數相同使用者的利用次數；及輸出
可變手段，係依據相同使用者之一天的利用次數，而變更UV照射裝置照射紫外線的輸出。
此外，本揭示的手乾燥系統係具備：上述手乾燥裝置；及殺菌裝置，係排出屬於具有殺菌作用的殺菌液。
此外，本揭示的手乾燥系統係具備複數個上述手乾燥裝置，且使複數個上述手乾燥裝置協作。
此外，本揭示的手乾燥系統係具備上述手乾燥裝置、及管理上述手乾燥裝置之管理者所使用的終端，且將上述手乾燥裝置所偵測出的資料傳送至終端。
依據本揭示，將能夠提升手乾燥裝置和手乾燥系統的衛生性。
1,40,45,47,50,52,54,58,59,62:手乾燥裝置
2:本體殼體
2a:前罩蓋
2b:後罩蓋
2c:側邊罩蓋
3:手插入部
3a:插入底部
3b:插入前部
3c:插入後部
3d:插入側部
3e:前方突出部
3f:後方突出部
3g:插入左部
3h:插入右部
3i:山部
3j:開口
3k:凸軸
3m:突出部
3n:配置部
3p:配置面
3q:配置側壁部
3r:插入上部
4:顯示部
5:手插入空間
6:通氣孔
7:手插入開口
8:排水口
9:排水箱
10:送風機
11:馬達
12:渦輪風扇
13:吹出風路
14:前側吹出風路
15:後側吹出風路
16:吸氣口
17:濾波器部
18:吸氣風路
19:第一吹出口部
20:第二吹出口部
21:手偵測部
21a:電極
21b:電極
21c:電極
21d:電極
22:控制部
23:UV照射裝置
24:光源
25:外殼
26:窗部
26a:第一窗部
26b:第二窗部
27:基板
28:散熱器
29:間隔件
30:密封構件
31:固定構件
32:配線
33:螺釘
34:襯套
35:雙面黏貼帶
36:反射部
36a:反射面
36b:背面
36c:反射側壁部
37:組裝體
37a:組裝底部
37b:組裝前部
37c:組裝後部
37g:組裝左部
37h:組裝右部
37i:開口
38:組裝片材
38a:凸本體部
38b:凸形狀部
38c:凹本體部
38d:凹形狀部
38e:位置
39:人偵測部
41:吸引口
42:吸引風路
43:第一水滴去除手段
44:第二水滴去除手段
44a:板狀構件
46:遮蔽體
46a:旋轉軸
46b:壁部
46c:支撐部
48:第一遮蔽體
48a:壁部
48b:齒輪部
48c:支撐部
49:第二遮蔽體
49a:壁部
49b:齒輪部
49c:支撐部
51:遮蔽體
51a:壁部
51b:鉸鏈部
51c:突出部
53:遮蔽體
53a:旋轉軸
55:遮蔽體
55a:壁部
55b:鉸鏈部
56:踏板
57:移動裝置
57a:槓桿
57b:推桿
57c:支點
60:人辨認部
61:加熱器
63:第二光源
64,66,68,71,73,75:手乾燥系統
65:存在與否偵測手段
67:第二光源
69:切換部
70:靠近偵測手段
72:人辨認手段
74:人數偵測手段
76:殺菌裝置
77:排出手段
78:氯化物供給部
79:氯化物保管部
80:旋轉部
81:封閉部
82:排出口
83:壁
84:外框
85:軸部
86:齒輪
87:區隔部
88:間隙
89:整頓部
90:侵入防止部
91:侵入防止支撐部
92:電解水產生手段
93:液量偵測手段
94:濃度偵測手段
95:pH偵測手段
96:水量偵測手段
97:水量調整手段
98:排出水偵測手段
99:氯化物調整手段
100:氯化物量偵測手段
101:處理器
102:記憶體
103:終端
421,422,423:吸引風路
圖1係顯示實施型態1之手乾燥裝置的立體圖。
圖2係實施型態1之手乾燥裝置的前視圖。
圖3係實施型態1之手乾燥裝置的側視圖。
圖4係實施型態1之手乾燥裝置的頂視圖。
圖5係顯示使用者使用實施型態1之手乾燥裝置之狀態的側視圖。
圖6係實施型態1之手乾燥裝置的剖面側視圖。
圖7係顯示實施型態1之手乾燥裝置之第一變形例的立體圖。
圖8係顯示實施型態1之手乾燥裝置之第二變形例的立體圖。
圖9係以從右側朝向左側的視點觀看實施型態1之手乾燥裝置之上部時的圖。
圖10係實施型態1之手乾燥裝置的功能方塊圖。
圖11係顯示實施型態1之手乾燥裝置之處理電路之硬體構成之一例的圖。
圖12係以從右側朝向左側的視點觀看實施型態1之變形例之手乾燥裝置之上部時的圖。
圖13係說明構成實施型態1之手乾燥裝置之手偵測部之相互電容方式之靜電電容感測器之原理的示意圖。
圖14係說明構成實施型態1之手乾燥裝置之手偵測部之相互電容方式之靜電電容感測器之原理的示意圖。
圖15係說明構成實施型態1之手乾燥裝置之手偵測部之相互電容方式之靜電電容感測器之原理的示意圖。
圖16係說明構成實施型態1之手乾燥裝置之手偵測部之相互電容方式之靜電電容感測器之原理的示意圖。
圖17係實施型態1之手乾燥裝置所具備之UV照射裝置的立體圖。
圖18係實施型態1之手乾燥裝置所具備之UV照射裝置的分解立體圖。
圖19係實施型態1之手乾燥裝置所具備之UV照射裝置的前視圖。
圖20係實施型態1之手乾燥裝置所具備之UV照射裝置的後視圖。
圖21係以圖19中之B-B線切斷實施型態1之手乾燥裝置所具備之UV照射裝置而成的剖面圖。
圖22係實施型態1之手乾燥裝置所具備之UV照射裝置的剖面圖。
圖23係顯示實施型態1之手乾燥裝置所具備之UV照射裝置之變形例的剖面圖。
圖24係顯示實施型態1之手乾燥裝置所具備之UV照射裝置之另一變形例的剖面圖。
圖25係顯示實施型態1之手乾燥裝置所具備之UV照射裝置之另一變形例的剖面圖。
圖26係顯示實施型態1之手乾燥裝置所具備之UV照射裝置之另一變形例的剖面圖。
圖27係顯示實施型態1之手乾燥裝置所具備之UV照射裝置之另一變形例的剖面圖。
圖28係反射部的剖面圖。
圖29係顯示相當於反射部之另一型態之組裝體之一例的立體圖。
圖30係顯示將圖29所示之組裝體組裝成立體之前之片材(sheet)的展開圖。
圖31係顯示組裝片材之另一例的展開圖。
圖32係示意性地顯示用以維持已將組裝片材組裝成組裝體後之狀態之構造之例的圖。
圖33係示意性地顯示用以維持已將組裝片材組裝成組裝體後之狀態之構造之例的圖。
圖34係顯示圖31所示之組裝片材之變形例的展開圖。
圖35係實施型態2之手乾燥裝置之示意性的剖面圖。
圖36係實施型態3之手乾燥裝置之上部的側視圖。
圖37係實施型態4之手乾燥裝置之上部的側視圖。
圖38係實施型態5之手乾燥裝置之上部的側視圖。
圖39係實施型態6之手乾燥裝置之示意性的頂視圖。
圖40係實施型態7之手乾燥裝置的側視圖。
圖41係實施型態8之手乾燥裝置的立體圖。
圖42係實施型態8之手乾燥裝置的剖面側視圖。
圖43係實施型態9之手乾燥裝置的功能方塊圖。
圖44係實施型態10之手乾燥裝置的功能方塊圖。
圖45係實施型態11之手乾燥系統的功能方塊圖。
圖46係實施型態11之手乾燥系統所執行之處理之例的流程圖。
圖47係實施型態12之手乾燥系統的功能方塊圖。
圖48係實施型態12之手乾燥系統之所執行之處理之例的流程圖。
圖49係實施型態13之手乾燥系統的功能方塊圖。
圖50係實施型態13之手乾燥系統所執行之處理之例的流程圖。
圖51係實施型態13之手乾燥系統所執行之處理之另一例的流程圖。
圖52係實施型態14之手乾燥系統的功能方塊圖。
圖53係實施型態15之手乾燥系統的功能方塊圖。
圖54係實施型態16之手乾燥系統的功能方塊圖。
圖55係顯示實施型態16之手乾燥系統所具備之氯化物保管部之一例的立體圖。
圖56係顯示實施型態16之手乾燥系統所具備之氯化物保管部之一例的立體圖。
圖57係圖56所示之氯化物保管部的頂視圖。
圖58係圖56所示之氯化物保管部的側視圖。
以下參照圖式來說明實施型態。對於各圖中共通或對應的要素係賦予相同的符號且簡化或省略說明。另外，在本揭示中提及角度的情形下，當有和為360度之優角和劣角的時候，原則上是指劣角的角度，當有和為180度之銳角和鈍角的情形下，原則上是指銳角的角度。此外，以下之實施型態所示的構成，係顯示本揭示之技術思想的一例，可與其他公知技術組合，亦可組合本揭示所記載的複數個技術思想。此外，在不脫離本揭示之要旨的範圍內，亦可省略或變更構成的一部分。
實施型態1
圖1係實施型態1之手乾燥裝置1的立體圖。在以下的說明中，係針對手乾燥裝置1，將「前」、「後」、「左」、「右」、「上」、「下」的方向原則上為以圖1中之箭頭所示方式指定。「前」係相當於對於面對手乾燥裝置1的使用者而言為前面的方向。「後」係相當於對於該使用者而言為後面的方向。「左」係相當於對於該使用者而言為左邊的方向。「右」係相當於對於該使用者而言為右邊的方向。「上」係相當於鉛直上方。「下」
係相當於鉛直下方。在本實施型態中，「前面側」、「正面側」、「使用者側」、「接近使用者之側」係指前側。「背面側」、「後面側」、「壁側」、「遠離使用者之側」係指後側。此外，亦有將左側和右側合稱為「側面」的情形。例如，手乾燥裝置1的正面側係圖1中的前面側。
此外，將以下說明中的用語定義如下。所謂前視係從前側朝向後方觀看的視點。此外，所謂前視係從前側以對於左右方向為垂直之方向的視線觀看時的視點。此外，所謂側視係指從左側朝向右側觀看時的視點、或是從右側朝向左側觀看時的視點。此外，所謂側視係指從左側或右側，以對於前後方向為垂直之方向的視線觀看時的視點。此外，所謂底視係指從下側朝向上側觀看時的視點。此外，所謂底視係指從下側以對於前後方向和左右方向皆垂直之方向的視線觀看時的視點。此外，所謂頂視係指從上側朝向下側觀看時的視點。此外，所謂頂視係指從上側以對於前後方向和左右方向皆垂直之方向的視線觀看時的視點。
圖2係實施型態1之手乾燥裝置1的前視圖。圖3係實施型態1之手乾燥裝置1的側視圖。圖4係實施型態1之手乾燥裝置1的頂視圖。圖5係顯示使用者U使用實施型態1之手乾燥裝置1之狀態之示意的側視圖。圖6係實施型態1之手乾燥裝置1的剖面側視圖，且為沿著圖2中之A-A線的剖面圖。
圖1至圖6所示的手乾燥裝置1係具備：構成外圍的本體殼體2；及收容於本體殼體2中的收容部。手乾燥裝置1係具備使潤濕的手乾燥的功能。本體殼體2係形成手乾燥裝置1的外觀。另外，本體殼體2的一部分係可配置於本體殼體2的內側，收容部的一部分係可露出於外表。
本體殼體2係具備：罩蓋(cover)部；手插入部3；顯示部4；及操作部。罩蓋部係露出於外表的新式樣部分。手插入部3係形成手插入空間5。手插入空間5係供手插入的空間。本實施型態中的手插入空間5係一個空間。在屬於一個空間的手插入空間中，可供插入使用者U的雙手。手插入空間5係例如從手插入部3的上端至下端。手插入空間5係例如從手插入部3的前端至後端。手插入空間5係例如從手插入部3的左端至右端。顯示部4係可例如具有顯示應通報之資訊的顯示器，亦可具有指示燈(indicator lamp)。操作部係供使用者、清掃者或管理者操作的部分。
手插入部3係具有對於手插入空間5開口的通氣孔6。在本實施型態中，係說明從通氣孔6朝手插入空間5噴出空氣之例。若為本實施型態，則可藉由從通氣孔6噴出的氣流吹散附著在手上的水，故能夠使手在更短時間內乾燥。本揭示的手乾燥裝置不限定於此例，亦可為構成為從手插入空間5吸入空氣於通氣孔6者。此時，因為空氣被吸入於通氣孔6而於手插入空間5產生氣流，可藉由該氣流使手乾燥。
手插入部3係配置於手乾燥裝置1的上部。手插入部3係具備插入周圍部及插入底部3a。插入周圍部係具備插入前部3b、插入後部3c及插入側部3d。插入周圍部係除插入底部3a以外的手插入部3。在手插入部3中，插入前部3b係配置於前側，插入後部3c係配置於後側，插入側部3d係配置於左側和右側，插入底部3a係於下側配置於手插入部3的前側。
作為變形例，手插入部3亦可不具備插入側部3d。此外，手插入部3亦可不具備插入前部3b。此外，手插入部3亦可具備配置於上側
的插入上部(未圖示)。此外，亦可為此等可考慮的組合。例如，亦可為無插入前部3b而具有插入上部的手插入部3。此外，亦可為在手插入部3中僅具有插入底部3a者，亦可為僅具有插入上部者。換言之，所謂插入，一般雖意味著插入其中，但在本實施型態中，可包含對於只在一側或一面具有構造物者亦會使用插入這樣的詞句之情形。此外，在本實施型態中，例如，雖可大致明確區別插入底部3a和插入前部3b，但亦可不明確地區別手插入部3的各壁面。例如，手插入部3亦可形成為半球狀。
本實施型態的手插入部3係藉由插入底部3a、插入前部3b、插入後部3c、和插入側部3d來形成手插入空間5。在手插入空間5可配置手。手插入空間5之前後方向的長度、以及手插入空間5之左右方向的長度，係可供配置手之程度的長度。
插入側部3d的上端部係配置在比插入前部3b的上端部和插入後部3c的上端部更低的位置。在本體殼體2的上部或手插入部3的上部形成有手插入開口7。在本體殼體2的上部且為手插入開口7的下方，形成有手插入空間5。手插入空間5係覆蓋從手插入開口7插入之使用者之手之凹狀的空間。
手插入部3係在圖3的側視或沿著圖2中之A-A線之剖面的側視(圖6)中，大致呈現U字形，藉此形成凹狀的手插入空間5。如圖5所示，使用者U係可將手H從上方朝向下方，而從手插入開口7插入於手插入空間5。
在圖3的側視中，面向手插入空間5之插入前部3b的表面，係隨著從上部朝向下部，而從前側朝向後側若干地傾斜。此外，面向手插
入空間5之插入後部3c的表面，係隨著從上部朝向下部，而從前側朝向後側若干地傾斜。
如圖5所示，使用者U係例如站立於手乾燥裝置1的前側，將手H插入於手插入空間5。手插入部3係設置在成人男女之腰部之高度左右的位置。藉由設置上述之插入前部3b和插入後部3c的傾斜，在使用者U將手H從上方插入於手插入空間5時，易於插入手H。
另外，當手之插入方向不同之手乾燥裝置的情形下，係有將手乾燥裝置設置在與圖5所示之例不同之高度的情形。例如，當從前方朝向後方插入手之型態之手乾燥裝置的情形下，手插入部3係配置在成人男女之手肘附近的高度。
插入周圍部係具有相對向的面。插入前部3b係相對於插入後部3c配置在相對向的位置。在插入底部3a的上方設有手插入開口7。如圖4所示，插入側部3d係具備插入左部3g和插入右部3h。插入左部3g係配置在前視觀看時插入前部3b的左側。插入右部3h係配置在前視觀看時插入前部3b的右側。插入左部3g係相對於插入右部3h配置在相對向的位置。
如圖3所示，插入前部3b係具備前方突出部3e。插入後部3c係具備後方突出部3f。前方突出部3e係從正面側，亦即接近使用者之側，也就是從插入前部3b向後側突出的部位。後方突出部3f係從背面側，亦即遠離使用者之側，也就是從插入後部3c向前側突出的部位。前方突出部3e係設於插入前部3b中的上側。後方突出部3f係設於插入後部3c中的上側。
插入前部3b和插入後部3c係與設於手插入部3之最下部的插入底部3a相連著。如此，手插入部3在側視或A-A剖面的側視觀察時，呈現出上部形成開口之有底的剖面U字形。插入底部3a係可相對於水面面呈傾斜。插入前部3b和插入後部3c之面向手插入空間5的表面，係可呈現側視觀察時彎折的形狀或彎曲的形狀。
插入側部3d的上端部係配置在比插入前部3b的上端部和插入後部3c的上端部更接近插入底部3a的位置。插入側部3d的上端部係配置在比插入前部3b的上端部和插入後部3c的上端部更接近插入底部3a之最下部的位置。如此，由於插入側部3d係配置於較低的位置，故手插入部3之左右方向上的兩側呈張開。若為此種本實施型態的手插入部3，則可將使用者的手從上下方向或左右方向，自由地插拔於手插入空間5。
在此，說明實施型態1之手乾燥裝置1的變形例。圖7係顯示實施型態1之手乾燥裝置1之第一變形例的立體圖。圖8係顯示實施型態1之手乾燥裝置1之第二變形例的立體圖。如此等變形例所示，手插入部3係可呈現上面開口之箱型的形狀。如圖7、圖8所示，插入側部3d的上端部亦可為配置在比插入底部3a的上端部或下端部更接近插入前部3b之上端部和插入後部3c之上端部之位置的構造。此時，可抑制水朝左右方向飛散。此外，如圖8所示，插入側部3d的上端亦可配置在與插入前部3b的上端或插入側部3d的上端相等的高度。此外，當插入前部3b之上端的高度與插入後部3c之上端的高度不同時，插入側部3d的上面係可呈傾斜。插入前部3b與插入側部3d較理想為相連著。插入側部3d與插入後部3c較理想為相連著。藉此，水不會從插入前部3b與插入側部3d的間隙洩漏
至外部。當在比插入前部3b、插入後部3c和插入側部3d之上部更低的位置朝水平方向觀看手乾燥裝置1的情形下，手插入空間5係被手插入部3覆蓋。因此，無法辨識手插入空間5。當插入側部3d的高度較高時，例如，當插入側部3d具有與插入前部3b或插入後部3c相等之高度時，從水平方向的任一個方向觀看的情形下，都無法辨識手插入空間5。
另外，亦可將插入前部3b之上端的高度設為比插入後部3c之上端的高度更低。當插入後部3c之上端的高度與插入前部3b之上端的高度為相等高度的情形下，手插入開口7係於側視觀察時相對於水平面呈平行。另一方面，如上所述當插入前部3b之上端的高度比插入後部3c之上端的高度更低時，通過側視觀察時手插入開口7相對於水平面呈傾斜，使得手插入開口7朝向使用者的方向。因此，使用者可更容易地插入手。
此外，手乾燥裝置1亦可具備能夠調整插入側部3d之上端之高度的插入側部調整手段。例如，亦可設有能夠使插入側部3d以使插入側部3d朝鉛直方向滑動的方式進行移動之機構，以作為插入側部調整手段。或者，亦可構成為能夠將插入側部3d拆下，並重新將插入側部3d安裝在不同高度的位置，以作為插入側部調整手段。構成為能夠將插入側部3d拆下，重新安裝插入側部3d的構造，亦可為例如使用了螺釘固定的構造，亦可為使用了不使用螺釘之搭扣配合(snap fit)的構造。插入側部調整手段亦可為可階段性地調整插入側部3d之上端的高度者。例如，插入側部調整手段亦可為可三階段調整插入側部3d之上端的高度為「高」、「中」、「低」者。「高」係可相當於圖8所示的高度，「中」係可相當於圖7所示的高度，「低」係可相當於圖1所示的高度。或者，插入側部調整手段
亦可為可無階段地調整插入側部3d之上端的高度者。當降低插入側部3d之上端的高度時，具有使用者即易於將手從手插入部3的側方放入手插入空間5的優點。當提高插入側部3d之上端的高度時，具有從手吹散的水滴更不易飛散至手插入部3之外部的優點。依據季節或傳染病的危險，藉由插入側部調整手段來改變插入側部3d之上端的高度，藉此兼顧安全性與便利性而更為有利。
圖9係將實施型態1之手乾燥裝置1的上部以從右側朝向左側的視點觀看時的圖。在圖9中，係為了使手乾燥裝置1之構成易於理解而變更一部分的比例尺作了顯示。圖9係使用透視法來呈現。
如圖9所示，在插入底部3a的一部分係設有將插入底部3a之水予以排出的排水口8。排水口8係例如設於插入底部3a中之較低的位置。藉此，使水不易於聚集於插入底部3a，且易於排水。亦即，插入底部3a亦可朝向排水口8呈傾斜。排水口8亦可例如設置複數個。在排水口8中，係設有在本體殼體2內朝上下方向延伸之未圖示之排水路的上端部。在排水路的下端部，係連接有配置於本體殼體2之底部的排水箱(drain tank)9。排水箱9係用以蓄積通過排水路所排出的水。排水箱9係以可相對於本體殼體2之底部拆裝自如之方式安裝。例如，藉由將本體殼體2的底部朝前方拉出，即能夠從手乾燥裝置1拆下排水箱9。亦即，排水箱9的一部分係露出於外表。排水口8係設有斜面讓水下流，附著於插入底部3a的水係流動於排水路而聚積至排水箱9。
手插入部3係可使用例如丙烯腈(acrylonitrile)．丁二烯(butadiene)．苯乙烯(styrene)共聚合成樹脂(ABS樹脂)，或聚丙烯
(polypropylene)等材料來構成。手插入部3的大部分係可由例如ABS樹脂或聚丙烯等材料來構成。形成手插入部3之外觀的部位，係可由例如ABS樹脂或聚丙烯等材料來構成。
如圖1所示，本體殼體2的罩蓋部係具備：前罩蓋2a、後罩蓋2b、及側邊罩蓋2c。前罩蓋2a係配置於前方。後罩蓋2b係配置於後方。側邊罩蓋2c係配置於比前罩蓋2a更後側而且比後罩蓋2b更前側。前罩蓋2a係配置於比後罩蓋2b更前側。前罩蓋2a係配置於比插入前部3b更前側。後罩蓋2b係配置於比插入後部3c更後側。側邊罩蓋2c係配置於側面。側邊罩蓋2c係配置於前罩蓋2a和後罩蓋2b的側面。本體殼體2的罩蓋部係配置於比手插入部3更外側。在本實施型態中，於罩蓋部與手插入部3之間，係配置有收容部的至少一部分。
如圖6所示，在本體殼體2的內部，於手插入部3的下方係配置有產生高速空氣流的送風機10。送風機10係藉由具備有利用電氣作動的馬達11、和藉由馬達11旋轉的渦輪風扇(turbo-fan)12的高壓空氣流產生裝置而構成。送風機10係以將吸氣側作為背面、排氣側作為前面之方式配設。此外，送風機10亦可以將吸氣側作為下面、排氣側作為上面之方式配設。馬達11係例如為無刷馬達(brushless motor)。藉由使用無刷馬達，而易於進行輸出的調整。
手乾燥裝置1係具備吹出口部、吹出風路、吸氣口16及吸氣風路18。吹出口部係例如為從手插入部3的通氣孔6吹出空氣者。吹出口部係例如由複數個噴嘴(nozzle)構成。本實施型態中的吹出口部係具備第一吹出口部19和第二吹出口部20。噴嘴係呈中空的圓筒形狀或中空的角
柱形狀。噴嘴係可彎曲。噴嘴的前端係呈現圓形或矩形形狀。第一吹出口部19係例如配置於插入前部3b。例如，來自第一吹出口部19的吹出風，係以若未吹到手就會到達插入後部3c之方式吹出。第二吹出口部20係例如配置於插入後部3c。例如，來自第二吹出口部20的吹出風，係以若未吹到手就會到達插入前部3b之方式吹出。第一吹出口部19係配置於比第二吹出口部20更前側。在本實施型態中，吹出口部雖如第一吹出口部19和第二吹出口部20設有複數個，但本揭示的手乾燥裝置，亦可為僅具備一個吹出口部。例如，亦可不設有第一吹出口部19，而僅設有第二吹出口部20。此外，第一吹出口部19係可為僅具有一個通氣孔6，亦可為包含複數個通氣孔6。此外，第二吹出口部20係可為僅具有一個通氣孔6，亦可為包含複數個通氣孔6。此外，本揭示的手乾燥裝置係可具備三個以上的吹出口部，例如可具備有第三吹出口部。
吹出風路13係設於送風機10的排氣側。吹出風路13係將從送風機10所產生的空氣流引導至吹出口部的風路。吹出口部和吹出風路13係可具備一個風路，亦可具備複數個風路。在圖6所示之例中，吹出風路13係具備前側吹出風路14和後側吹出風路15。前側吹出風路14係配置於比後側吹出風路15更前側。吹出風路13的至少一部分係例如沿著上下方向形成。例如，吹出風路13的大部分係沿著上下方向形成。
吸氣口16係用以將手乾燥裝置1之外部的空氣引進至內部的開口。吸氣口16係例如形成為格子狀或狹縫(slit)狀。吸氣口16係例如設於本體殼體2的底部。在吸氣口16中可設有濾波器(filter)部17。濾波器部17係例如配置於本體殼體2的內部而且為吸氣口16的附近。藉此，
即可通過濾波器部17引進外氣至吸氣風路18，且可抑制異物的侵入。吸氣風路18係設於送風機10的吸氣側。吸氣風路18係流體連接送風機10和吸氣口16的風路。
吸氣風路18係在本體殼體2的內部中劃分於背面側且朝上下方向形成。吸氣風路18的上部係流體連通於送風機10。吸氣風路18的下部係流體連通於吸氣口16。吸氣風路18的一部分係配置於排水箱9的後側。
送風機10的排氣側係在本體殼體2的內部中朝上下方向相連，且與分支為前面側和背面側所劃分之前側吹出風路14和後側吹出風路15的下方相接。被送風機10高壓化後的高壓空氣，係於與送風機10連接所設置的前側吹出風路14和後側吹出風路15被排出。在前側吹出風路14和後側吹出風路15中，係可作成在分支為前面側和背面側之前面的位置組入加熱器，使通過之高壓空氣升溫的構成。
在前側吹出風路14的上部設有第一吹出口部19。在後側吹出風路15的上部設有第二吹出口部20。第一吹出口部19係設於插入前部3b之上側的前方突出部3e。第二吹出口部20係設於插入後部3c之上側的後方突出部3f。第一吹出口部19和第二吹出口部20係隔著手插入空間5而彼此相對向。第一吹出口部19和第二吹出口部20係可包含朝向斜下方稍微以波狀形成開口的複數個通氣孔6。各通氣孔6係可為沿著手乾燥裝置1的左右方向而水平地配設成一列。
第一吹出口部19和第二吹出口部20係將經由送風機10所產生的高壓空氣轉換為高速氣流，且將該高速氣流作為作動氣流從通氣孔
6朝向手插入空間5噴射。作動氣流係從第一吹出口部19和第二吹出口部20，往手插入空間5的面對方向以比水平方向稍朝下傾斜的角度噴射。作動氣流係將附著在使用者插入於手插入空間5的手腕、手掌或手背上的水朝手插入空間5的下方吹散。
如圖6和圖9所示，在插入前部3b和插入後部3c中內建有手偵測部21。手偵測部21係手偵測手段之例。較佳為手偵測部21係內建於比第一吹出口部19更下方的位置、和比第二吹出口部20更下方的位置。當使用者從手插入開口7將潤濕的手朝向手插入空間5的深處進入時，手偵測部21係偵測所插入的手。如此一來，當手偵測部21偵測到使用者的手已插入於手插入空間5時，即將偵測到使用者之手之內容的手偵測信號輸出至控制部22。關於手偵測部21的詳細內容將後述。
如圖6所示，在本體殼體2內的下方，係設有依據手偵測部21進行之手的偵測而控制送風機10之運轉的控制部22。控制部22係根據從手偵測部21輸出的手偵測信號來控制送風機10的運轉，且使氣流從第一吹出口部19和第二吹出口部20噴出至手插入空間5。
圖10係實施型態1之手乾燥裝置1的功能方塊圖。圖11係顯示實施型態1之手乾燥裝置1之處理電路之硬體構成之一例的圖。控制部22的功能係例如可藉由圖11所示之硬體構成的處理電路來達成。例如，可由圖11所示的處理器(processor)101執行記憶於記憶體(memory)102中的程式來達成控制部22的功能。此外，亦可由複數個處理器和複數個記憶體協作來達成控制部22的功能。此外，亦可構成將控制部22之功能中的
一部分以電子電路之方式安裝，其他部分則使用處理器101和記憶體102來達成。
圖12係以從右側朝向左側的視點觀看實施型態1之變形例之手乾燥裝置1之上部的圖。圖12係使用透視法來呈現。以下說明圖12所示的變形例。在插入底部3a的左端附近、和插入底部3a的右端附近分別設有排水口8。手插入部3係更具備山部3i。山部3i係形成於插入底部3a與插入後部3c之間。山部3i的表面係在左右方向的中央為最高，且以隨著從中央往左方向變低之方式傾斜，及以隨著從中央往右方向變低之方式傾斜。藉此，即可將從手滴落的水沿著山部3i的傾斜而順暢地引導至左右之兩側的排水口8。
接著說明手偵測部21。手偵測部21係使用相互電容方式的靜電電容感測器。另外，本揭示的手偵測部亦可為使用其他方式的偵測手段者。靜電電容感測器係具有：複數個電極；及未圖示的電路部，係連接於各電極以檢測電極間之靜電電容的變化。如圖9所示，在插入前部3b中內建有構成靜電電容感測器的電極21a和電極21b。電極21b係配置於電極21a的下側。在插入後部3c中內建有構成靜電電容感測器的電極21c和電極21d。電極21d係配置於電極21c的下側。電極21a和電極21c係相對向配置。亦即，電極21a和電極21c係配置成主表面彼此隔著手插入空間5而相對向的狀態。電極21b和電極21d係相對向配置。亦即，電極21b和電極21d係配置成主表面彼此隔著手插入空間5而相對向的狀態。在此，「主表面彼此相對向的狀態」係指各電極中之主表面彼此相對向的狀態。
在此，主表面係各電極中之表面中之面積比其他表面更大之主要的表面。
電極21a和電極21b係配置成主表面彼此在平面上位於上下之位置關係的狀態。電極21c和電極21d係配置成主表面彼此在平面上位於上下之位置關係的狀態。亦即，在本實施型態1中，係二組電極組配置成各電極組的第一電極和第二電極在本體殼體2的縱深方向上隔著手插入空間5相對向的狀態，且在各電極組中，一方的電極係配置成與另一電極組中之極性不同的電極於平面上在上下方向上相鄰的狀態。
在此，所謂「主表面配置於平面上」係指例如電極21c和電極21d之各者中之主表面彼此為平行，且側面彼此相對向的狀態。在本實施型態1中，電極21a、電極21b、電極21c和電極21d係具有相同形狀和相同尺寸的長方體形狀。惟，各電極的形狀和尺寸係可適當變更。
圖13係說明構成實施型態1之手乾燥裝置1之手偵測部21之相互電容方式之靜電電容感測器之原理的示意圖。在相互電容方式的靜電電容感測器中，係具備檢測電極間之靜電電容之變化的電路部，從電路部對傳送電極施加電壓，且在與接接收電極之間形成電場。當指尖靠近時，電場的一部分移至指尖側，在接收電極所偵測到的電場減少，靜電電容亦減少。藉由以電路部檢測電極間之靜電電容的變化，掌握此時之靜電電容的減少，而檢測出指尖的靠近。電路部係記憶有指尖未接近時之電極間的靜電電容。
在圖13中，係顯示手未接近具有配置成主表面彼此相對向之狀態之成對的二個電極21a和電極21b之相互電容方式之靜電電容感測器時之靜電電容感測器的狀態。圖14係說明構成實施型態1之手乾燥裝置1之手偵測部21之相互電容方式之靜電電容感測器之原理的示意圖。在圖
14中，係顯示手接近具有配置成主表面彼此相對向的狀態之成對的二個電極21a和電極21c之相互電容方式之靜電電容感測器時之靜電電容感測器的狀態。
如圖13所示，對於電極21a施加電壓，在與電極21c之間形成電場，且測量形成於電極21a與電極21c之間的靜電電容。如此，藉由將電極21a和電極21c配置成相對向的狀態，且測量電極21a與電極21c之間的靜電電容，即可作為偵測插入於電極21a與電極21c之間之手的感測器來使用。當在電極21a與電極21c之間產生電位差時，即在電極21a與電極21c之間形成電容耦合所致的電場。靜電電容的大小係與電極21a與電極21c之間的距離成反比，故當在此插入金屬之類的導體時，靜電電容即增加。此外，即使是插入介電質或如介電常數比空氣更大之水等物體的情形下，電極21a與電極21c之間的靜電電容亦會變大。
再者，如圖14所示，當例如手之屬於人體之一部分的導體靠近或插入於電極21a與電極21c之間時，電場的一部分被人體誘導，電極21a與電極21c之間的靜電電容即減少。亦即，可視為靠近或插入於電極21a與電極21c之間的人體已接地，故會成為靜電屏蔽的狀態而使電極21a與電極21c之間的靜電電容減少。因此，藉由定期地測量電極21a與電極21c之間的靜電電容來檢測靜電電容的變化，即可偵測手。
圖15係說明構成實施型態1之手乾燥裝置1之手偵測部21之相互電容方式之靜電電容感測器之原理的示意圖。在圖15中，係顯示手未接近具有主表面配置於平面上之成對的二個電極21a和電極21b之相互電容方式之靜電電容感測器時之靜電電容感測器的狀態。圖16係說明構成
實施型態1之手乾燥裝置1之手偵測部21之相互電容方式之靜電電容感測器之原理的示意圖。在圖16中係顯示手接近具有主表面配置於平面上之成對的二個電極21a和電極21c之相互電容方式之靜電電容感測器時之靜電電容感測器的狀態。在此，「主表面彼此配置於平面上」係指電極21a與電極21b之各者中的主表面彼此為平行，且側面彼此相對向的狀態。
如圖15所示，對於電極21a施加電壓，在與電極21b之間形成電場，且測量形成於電極21a與電極21b之間的靜電電容。如此，藉由將電極21a和電極21b配置成表面方向平行的狀態，且測量電極21a與電極21b之間的靜電電容，即可作為偵測靠近電極21a與電極21b之手的感測器來使用。當在電極21a與電極21b之間產生電位差時，即在電極21a與電極21b之間形成電容耦合所致的電場。靜電電容的大小係與電極21a與電極21b之間的距離成反比，故當有金屬之類的導體靠近此時，靜電電容即增加。此外，即使是介電常數比空氣更大之水等之介電質靠近的情形下，電極21a與電極21b之間的靜電電容亦會增加。
在此，如圖16所示，當例如手之屬於人體之一部分的導體靠近電極21a與電極21b時，電場的一部分被人體誘導，電極21a與電極21b之間的靜電電容即減少。亦即，可視為靠近電極21a與電極21b之間的人體已接地，故會成為靜電屏蔽的狀態而使電極21a與電極21b之間的靜電電容減少。因此，藉由定期地測量電極21a與電極21b之間的靜電電容來檢測靜電電容的變化，即可偵測手。亦即，手偵測部21係在不同的位置具備有複數組由不同極性的二個電極所構成的電極組，且從各電極間之靜電電容的變化來偵測插入於手插入空間5中的手。
如前所述，相互電容方式的靜電電容感測器，當介電質或如介電常數比空氣更大之水等物體附著在二個電極之至少一方的表面上時，靜電電容會增加。另一方面，當手等之人體的一部分靠近或插入二個電極間時，靜電電容會減少。藉此，相互電容方式的靜電電容感測器係可區別手靠近或插入於電極間的狀態與水等介電質附著在二個電極之至少一方的表面上之狀態的不同而進行判斷。亦即，相互電容方式的靜電電容感測器，係可精確度良好地辨別手靠近電極間的情形或插入於電極間的情形和水等介電質附著在二個電極之至少一方之表面上的情形。
利用了此種相互電容方式之靜電電容感測器的手偵測部21，係通過偵測電極21a、電極21b、電極21c和電極21d中之二個電極間的靜電電容來進行手的偵測。亦即，手偵測部21係通過將檢測靜電電容之變化之二個電極的組合依序變更為四個類型(pattern)進行切換，從而判定手插入空間5中之手的插入和插入位置。手偵測部21係以類型1至類型4的四個檢測類型來檢測二個電極間之靜電電容的變化。
在類型1中，如圖15和圖16所示，手偵測部21係以既定的周期定期地檢測配置成在平面上沿上下方向相鄰之狀態之電極21a與電極21b之間的靜電電容，藉此檢測電極21a與電極21b之間之靜電電容的變化，而偵測手插入空間5中有無手插入至前面側，亦即偵測手插入空間5中有無手插入至前方突出部3e側。
在類型2中，手偵測部21係以既定的周期定期地檢測配置成在平面上沿上下方向相鄰之狀態之電極21c與電極21d之間的靜電電容，藉此檢測電極21c與電極21d之間之靜電電容的變化，而偵測手插入
空間5中有無手插入至後面側，亦即偵測手插入空間5中有無手插入至後方突出部3f側。此時，電極21c和電極21d，係與圖15和圖16中之電極21a和電極21b同樣地發揮作用。
在類型3中，如圖13和圖14所示，手偵測部21係以既定的周期定期地檢測配置成隔著手插入空間5而相對向之狀態之電極21a與電極21c之間的靜電電容，藉此檢測電極21a與電極21c之間之靜電電容的變化，而偵測有無手插入至手插入空間5中之上側，亦即偵測有無手插入至手插入空間5中之手插入開口7側。
在類型4中，手偵測部21係以既定的周期定期地檢測配置成隔著手插入空間5而相對向之狀態之電極21b與電極21d之間的靜電電容，藉此檢測電極21b與電極21d之間之靜電電容的變化，而偵測有無手插入至手插入空間5中之下側，亦即偵測有無手插入至手插入空間5中之插入底部3a側。此時，電極21b和電極21d係與圖13和圖14中的電極21a和電極21c同樣地發揮作用。
在本實施型態1中，在類型1至類型4的四個檢測類型中，係使用電極21a和電極21d作為正(plus)側的電極，且使用電極21b和電極21c作為負(minus)側的電極。再者，手偵測部21係在以上述的四個檢測類型檢測電極間之靜電電容的變化之際，切換要進行靜電電容之變化之檢測之電極的組合。藉此，即無須在以上述之四種電極的組合偵測各電極間之靜電電容之際，變更各電極的極性，亦即不需進行將各電極之極性變更為正側或變更為負側，而可縮短手的偵測時間。
綜上所述，藉由以手插入空間5中之前面側、後面側、上側、下側的四個點來偵測手插入空間5中有無插入手，從而能夠以縱深方向和上下方向的二維方向來判定手插入空間5中之手的插入位置。藉此，即可偵測手插入空間5中之詳細之手的插入位置。
相互電容方式的靜電電容感測器係需要成對的電極，且為了偵測四個點的靜電電容，需要4×2=8極的八個電極。在本實施型態1中，為了切換成對之電極的組合，可用四個電極來偵測四個點的靜電電容，可獲得抑制電極數之增加的功效。
此外，手偵測部21係使用相互電容方式的靜電電容感測器，故當水等介電質附著於電極的表面上時電極間的靜電電容會增加，而當手等之人體的一部分插入於電極間時，靜電電容則減少。因此，手偵測部21係可精確度良好地辨別手靠近電極間的情形或插入於電極間的情形和水等介電質附著在二個電極之至少一方之表面上的情形。
控制部22係根據從手偵測部21所輸出的手偵測信號資訊來控制送風機10的運轉。控制部22係當手偵測部21偵測到手已插入於手插入空間5的情形下，使送風機10運轉。此外，控制部22係當在手偵測部21中偵測到手未插入於手插入空間5的下側亦未插入於上側的情形下，使送風機10停止。
在送風機10所產生的高壓空氣流，係被引導至屬於設於手插入部3之正面側壁面之手乾燥用管嘴的第一吹出口部19、和屬於設於手插入部3之背面側壁面之手乾燥用管嘴的第二吹出口部20，被作為高速空氣流而從第一吹出口部19和第二吹出口部20噴射至手插入空間5內。再
者，噴射至手插入空間5內的高壓空氣流係吹散附著在插入於手插入空間5之手的水分，藉此使手乾燥。被吹散的水係附著於手插入部3。例如，附著於插入前部3b、插入後部3c和插入側部3d的水係滴落於插入底部3a。插入底部3a的水係從排水口8流動至排水箱9。
控制部22係根據手插入空間5中偵測到手之二個電極的組合，來控制高壓空氣流對於第一吹出口部19和第二吹出口部20之供給的分配。控制部22係通過處理從手偵測部21所輸出的手偵測信號資訊來辨別偵測到手之二個電極的組合，以辨別手插入空間5中之手的插入位置。當在送風機10的運轉中偵測到手插入至手插入空間5中之前面側時，控制部22減弱對於第一吹出口部19的高壓空氣流，且增強對於第二吹出口部20的高壓空氣流。反之，當在送風機10的運轉中偵測到手插入至手插入空間5中之後面側時，控制部22增強對於第一吹出口部19的高壓空氣流，且減弱對於第二吹出口部20的高壓空氣流。通過依據手的插入位置來改變高壓空氣流對於第一吹出口部19和第二吹出口部20之供給量的分配，從而當手插入於手插入空間5中之縱深方向的任何位置時，都能使手的背側與表側均勻一致且有效率地乾燥。
減弱對於第一吹出口部19的高壓空氣流並且增強對於第二吹出口部20之高壓空氣流的方法，或者增強對於第一吹出口部19的高壓空氣流並且減弱對於第二吹出口部20之高壓空氣流的方法並無特別限定。為了要減弱對於第一吹出口部19的高壓空氣流並且增加對於第二吹出口部20的高壓空氣流，只要減少對於前側吹出風路14之高壓空氣流的供給量且增加對於後側吹出風路15之高壓空氣流的供給量即可。反之，為了增
強對於第一吹出口部19的高壓空氣流、減弱對於第二吹出口部20的高壓空氣流，只要增加對於前側吹出風路14之高壓空氣流的供給量，且減少對於後側吹出風路15之高壓空氣流的供給量即可。
上述的控制亦可設置誘導例如在送風機10所產生之高壓空氣流之可動式的誘導板，由控制部22來控制誘導板的方向，以調節對於前側吹出風路14和後側吹出風路15之高壓空氣流的供給量。此外，亦可由控制部22進行封鎖前側吹出風路14的一部分或後側吹出風路15之一部分的控制，來調節對於前側吹出風路14和後側吹出風路15之高壓空氣流的供給量。此外，亦可個別設置前側吹出風路14用的送風機10和後側吹出風路15用的送風機10，由控制部22控制各送風機10中之高壓空氣流的產生量。
綜上所述，本實施型態1的手乾燥裝置1，係在手插入部3的正面側壁面，從正面側觀察時於上側具備電極21a，且從正面側觀看時於下側具備電極21b。此外，在手插入部3的背面側壁面，從正面側觀看時於上側具備電極21c，從正面側觀看時於下側具備電極21d。再者，手偵測部21係切換檢測靜電電容之變化之二個電極的組合，且以手插入空間5中之前面側、後面側、上側、下側的四個點來偵測手插入空間5中有無插入手。
亦即，手乾燥裝置1係檢測配置成主表面彼此隔著手插入空間5而相對向之狀態之二個電極間之靜電電容的變化和配置成在平面上沿上下方向相鄰之狀態之二個電極間之靜電電容的變化，來偵測手插入空間5中有無插入手。藉此，手乾燥裝置1即能夠以縱深方向和上下方向的二
維方向來判定手插入空間5中之手的插入位置。藉此，即能夠偵測出手插入空間5中之詳細之手的插入位置。
再者，控制部22係配合手偵測部21所偵測到之手插入空間5中之手的位置，來控制送風機10的運轉。亦即，控制部22係依據手插入空間5中之手的插入位置來改變對於第一吹出口部19和第二吹出口部20之高壓空氣流之供給量的分配，藉此當手插入於手插入空間5中之縱深方向的任何位置時，都能夠均勻一致地使手的背側和表側乾燥。
此外，手乾燥裝置1係切換檢測靜電電容之變化之成對之電極的組合，故可用四個電極來偵測手插入空間5中之四個點的靜電電容，且可獲得抑制電極數之增加的功效。
因此，本實施型態1的手乾燥裝置1，係可提供一種抑制電極數的增加，且避免裝置的大型化和成本的增加，同時防止水的附著所引起的誤動作，能夠進行配合手之插入位置之最佳運轉之控制之可用性良好的手乾燥裝置。
手乾燥裝置1係更具備UV照射裝置23。UV照射裝置23係例如配置於手插入部3。UV照射裝置23係具備產生光的光源24。UV照射裝置23係將光源24所產生的光照射至手插入空間5。亦即，UV照射裝置23係將光源24所產生的光照射至面向手插入空間5之手插入部3的表面。從UV照射裝置23所發射的光，亦可依情形而照射至手。
UV照射裝置23係照射紫外線。所謂UV係指UltraViolet的簡稱。亦即，所謂UV照射裝置23係指照射紫外線的裝置。一般而言紫外線係波長比可見光線更短之光的總稱，具有大約1nm至400nm之波長
的電磁波。此外，一般100nm至280nm的波長域係稱為UVC，280nm至315nm的波長域係稱為UVB，315nm至400nm的波長域係稱為UAV。
在本揭示中，所謂「微生物」係包含細菌和病毒的至少一方。微生物中係有會危害人體者。紫外線係作用於微生物。在本揭示中，所謂紫外線的殺菌，係被定義為藉由光能量對於微生物的脫氧核糖核酸(deoxyribo nucleic acid，以下稱為「DNA」)本身產生作用，藉此使微生物成為不會繼續增生的去活化狀態，或者減少微生物之數量。此外，在本揭示中，有時以去活化≒殺菌的型態來表現。一般而言，UVB使微生物去活化的能力比UVA更高，且UVC使微生物去活化的能力比UVB更高。尤其是UVC的波長直接破壞DNA的能力較高，藉此使得使微生物去活化的速度更快。再者，在UVC區域之中，尤其以200nm至285nm之波長的殺菌力較高。更具體而言，係以222nm、260nm為中心之波長的殺菌力較高。
UV照射裝置23的主波長係紫外線。換言之，UV照射裝置23所照射之光線中之輸出亦即放射強度最高的波長係紫外線。若為本實施型態，則藉由從UV照射裝置23照射紫外線至手插入部3的表面，可將附著於手插入部3之表面上的微生物予以殺菌。因此，藉由將手進行乾燥時的氣流，即使水滴或霧氣(aerosol，亦稱氣溶膠)飛散至手插入部3之外部的情形下，亦可確實地防止微生物擴散至周圍。因此，衛生性提高。
本實施型態中之UV照射裝置23的光源24係發光二極體(LED)。換言之，光源24係產生紫外線的LED，以下稱為UV-LED。UV-LED不含汞。一般而言，汞具有毒性，而且有不利於環境的一面。由於UV-
LED不含汞，故安全性高，對於環境造成不良影響的危險較小。UV-LED係例如為只有單一波長的輸出為較高者。以下將光源24所產生之光中之放射強度最高的波長稱為「主波長」。光源24所產生之光的主波長亦可為UVA、UVB、UVC之任一者的波段。尤其光源24所產生之光的主波長，較理想為位於殺菌力較高的UVC區域。
光源24所產生之光的主波長較佳為位於220nm至280nm之間。更佳為光源24所產生之光的主波長較理想為位於220nm至225nm的範圍、或者250nm至285nm的範圍。尤佳為光源24所產生之光的主波長較理想為位於255nm至280nm的範圍。若為上述之波長的範圍，則殺菌力特別高，故可用較短時間、或較低輸出、或較少數的光源24而效率良好地進行殺菌。另外，關於較佳之波長的範圍，後述之UV-燈亦復相同。
UV照射裝置23的光源24亦可為燈而非LED。此外，光源24係可為具有汞者，亦可為不具有汞(無汞)者。具有汞者由於效率、輸出較高，故殺菌力較高。此外，無汞燈安全性高，對於環境造成不良影響的危險較小。
一般而言紫外線係看不見的波長。本實施型態之光源24所產生之光的主波長雖為紫外線區域的波長，但光源24所產生的光係可包含可見光區域的波長。例如，光源24係可隨同紫外線產生藍色或紫色的可見光。可見光係可看見的光。例如，在從光源24照射光線之際，使用者可識別所照射的光為何種顏色。例如，觀看光源24之際、或觀看光線之際、或光線照射物體之際，使用者係可識別所照射的光為何種顏色。使用者係例如可識別所照射之光為紅色還是藍色還是紫色。藉此，即可判斷光源24是
點亮還是熄滅。例如，若可得知光源24原來應點亮時而未點亮，則可懷疑為故障。換言之，可提早發現故障。此外，由於UV照射裝置23視規格而定而會危害人體，故會有手乾燥中光源24點亮的狀況非為原來的規格的情形。在這樣的規格中，當手乾燥中光源24點亮的情形下，可達成作出中止使用的判斷。使光源24點亮時之手插入部3的顏色或從UV照射裝置23照射之光的顏色、與光源24熄滅亮時之手插入部3的顏色或從UV照射裝置23照射之光的顏色不同，藉此可達成上述的功效。
手乾燥裝置1係具備一個以上的UV照射裝置23。手乾燥裝置1亦可具備複數個UV照射裝置23。此外，亦可一個UV照射裝置23僅具備一個光源24，亦可一個UV照射裝置23具備複數個光源24。此外，亦可複數個UV照射裝置23具備複數個光源24。當手乾燥裝置1具備複數個光源24的情形下，各個光源24可具有相同的主波長，且各個光源24亦可具有彼此不同的主波長。當使用主波長相同的複數個光源24，例如相同規格的複數個光源24時，有可能使單價更為低廉。此外，當使用主波長不同的複數個光源24時，有可能殺菌速度更為快速。例如，當使用主波長分別為260nm、265nm、275nm的三個光源24時，比起使用三個主波長為265nm的光源24時，殺菌速度更為快速。藉此，即可更有效率地殺菌。
當手乾燥裝置1具備複數個UV照射裝置23時，可將UV照射裝置23配置於手插入部3之彼此相對向的各個部位上。例如，可將UV照射裝置23配置在插入前部3b和相對向於插入前部3b的插入後部3c各者上。此外，亦可將UV照射裝置23配置在插入右部3h和相對向於插入右部3h之插入左部3g的各者上。從一個UV照射裝置23照射的範圍將
會受限。例如，從UV照射裝置23照射之光的大部分係朝向面對UV照射裝置23的面照射。例如，從UV照射裝置23照射之光的至少一部分，係朝向面對UV照射裝置23的面照射。例如，當從插入前部3b朝向插入後部3c從UV照射裝置23照射光的情形下、及插入後部3c的反射率較低的情形下，插入前部3b的照度相較於插入後部3c會降低。相對於此，若插入後部3c亦具備有UV照射裝置23，則插入前部3b的照度變高。如此，通過將UV照射裝置23配置於手插入部3之彼此相對向的各個部位，即可提高手插入部3整體的照度。
UV照射裝置23的至少一部分係相對於手插入空間5露出。例如，光源24係配置在接近手插入部3中之形成手插入空間5之位置的位置。光源24係配置在比前罩蓋2a更後方。光源24係配置在比前罩蓋2a的四個角落更內側。光源24係配置在前視觀看時被前罩蓋2a覆蓋的位置。
在光源24更下方係供配置排水箱9等各種收容部和插入底部3a。光源24係可配置在側視觀看時被插入側部3d覆蓋的位置。此外，亦可為以側視觀看時光源24被插入前部3b或插入後部3c覆蓋之方式，具有插入前部3b或插入後部3c之形狀彎折之構造的外觀或彎曲之構造的外觀。
插入前部3b亦可在光源24更上方，一部分朝後方突出。例如，亦可當光源24配置於插入前部3b的情形下，前方突出部3e係比光源24更突出於後方。
插入後部3c亦可在光源24更上方，一部分朝前方突出。例如，亦可當光源24配置於插入後部3c的情形下，後方突出部3f係比光源24更突出於前方。
插入側部3d亦可在光源24更上方，一部分朝中心側突出。例如，亦可當光源24配置於插入側部3d的情形下，插入側部3d在光源24更上方，一部分朝中心側突出。
用以使包含從光源24照射之紫外線之光線穿透的構件，係稱為窗部26。關於窗部26的詳細內容將後述。光源24和窗部26的雙方、或光源24和窗部26的任一方，係配置在手乾燥裝置1之外觀的前視觀看時無法辨識的位置上。光源24和窗部26的雙方、或光源24和窗部26的任一方，係配置在手乾燥裝置1之外觀的側視觀看時無法辨識的位置上。光源24和窗部26的雙方、或光源24和窗部26的任一方，係配置在手乾燥裝置1之外觀的頂視觀看時無法辨識的位置上。光源24和窗部26的雙方、或光源24和窗部26的任一方，係配置在手乾燥裝置1之外觀的底視觀看時無法辨識的位置上。在本揭示中，所謂光源24和窗部26的雙方、或光源24和窗部26的任一方無法辨識，換言之，係指在被本體殼體2覆蓋的位置，配置有光源24和窗部26的雙方、或光源24和窗部26的任一方之意。若為本實施型態，在手乾燥裝置1的外觀上，無論是前視、後視、側視、頂視、底視，都因為光源24和窗部26的雙方、或光源24和窗部26的任一方被本體殼體2覆蓋，從而無法辨識光源24和窗部26的雙方、或光源24和窗部26的任一方。藉此，即可減低使用者直視光源24和窗部
26的雙方、或光源24和窗部26的任一方的可能性，此外，可降低光線進入眼睛的危險，安全性較高。
光源24和窗部26的雙方、或光源24和窗部26的任一方，亦可配置在從水平方向觀看時無法辨識的位置上。此外，例如圖7或圖8所示，當手插入部3呈現出手插入部3之上表面形成開口之箱型的形狀時，光源24和窗部26的雙方、或光源24和窗部26的任一方，係可配置在從水平方向之0度至360度的任何方向觀看都無法辨識的位置上。亦即，亦可設為從垂直於鉛直線的任何方向觀看手乾燥裝置1時，光源24和窗部26的雙方、或光源24和窗部26的任一方，都被本體殼體2所覆蓋。藉此，即可減低使用者直視光源24和窗部26的雙方、或光源24和窗部26的任一方的可能性，此外，可降低光線進入眼睛的危險，安全性較高。
此外，本實施型態之手乾燥裝置1，係以從本體殼體2的外部，藉由三維空間之所有方向的視線觀看手乾燥裝置1時，亦無法辨識光源24和UV照射裝置23之方式，使光源24和UV照射裝置23被本體殼體2所覆蓋。換言之，假定從光源24或UV照射裝置23朝三維空間內的所有方向發出光線時，光源24和UV照射裝置23被本體殼體2所覆蓋，以使從光源24直接發出至本體殼體2之外部之光線不會存在。藉此，即可更確實地減低來自光源24的光線進入眼睛的危險，安全性更高。
此外，本實施型態之手乾燥裝置1係以從本體殼體2的外部藉由三維空間內之所有方向的視線觀看手乾燥裝置1時，光源24都不被辨識之方式，使光源24被本體殼體2所覆蓋。換言之，假定從光源24已朝三維空間內的所有方向發出光線時，光源24被本體殼體2所覆蓋，以使從光源24
直接發出至本體殼體2之外部的光線不會存在。藉此，即可更確實地減低來自光源24的光線進入眼睛的危險，安全性更高。
另外，光源24和窗部26的雙方、或光源24和窗部26的任一方亦可未必要配置在上述之無法從所有方向辨識的位置上。然而，較理想為盡可能在不易辨識的位置上，配置光源24和窗部26的雙方、或光源24和窗部26的任一方。
在本實施型態中，光源24係例如呈現出長方體形狀。本揭示中之光源24的形狀並無特別限定，例如可為圓柱形狀，亦可為砲彈型的形狀。所謂砲彈型的形狀係例如為將半球形狀和圓柱狀接合而成的形狀。
手插入部3係由ABS樹脂或聚丙烯等材料構成。亦即，手插入部3係有由紫外線之穿透率較低之材料構成的情形。穿透率較低時，光線主要被反射或吸收。光源24係配置於手插入部3與罩蓋部之間。例如，當光源24配置於插入前部3b側的面時，光源24係配置於比插入前部3b更前側而且為前罩蓋2a的後側。亦即，光源24係配置在比手插入部3相對於手插入空間5更遠的位置。因此，當在比光源24更接近手插入空間5的位置具有由穿透性低之材料所構成的手插入部3時，從光源24照射之光線的大部分會被接近手插入空間5側的手插入部3反射或吸收。具體而言，當光源24配置於插入前部3b側的面時，從光源24照射之光線的大部分會被插入前部3b反射或吸收。此時，例如，來自光源24的光線幾乎不會照射至與具有光源24之側相對向之側。因此，配置光源24之側的手插入部3，而且從光源24照射的光線，較理想為對於所照射的區域不設置材料，亦即設置開口，或是配置光穿透性盡量高的構件。如此，用以使包含
從光源24照射之紫外線之光線穿透的構件係稱為窗部26。在本實施型態中，係在手插入部3設置開口，且在開口嵌入窗部26，或以使窗部26靠近開口之方式配置。
光源24係以光軸為中心呈輻射狀發出無數的光線。所謂光軸係例如當光源為長方體的情形下，平行於長方體之厚度方向的方向。所謂厚度方向係指長方體由寬度方向、縱深方向、厚度方向的三個方向構成時，尺寸最小的方向。光源24的射束(beam)角度，係例如可為30度至150度，亦可為360度。光源24的射束角度較佳為50度至140度。所謂射束角度為30度，係顯示例如從垂直於光軸的方向觀看時，從光軸朝一側各傾斜15度的方向。所謂射束角度係指例如設定朝向光軸之方向之放射強度為100%時之放射強度成為50%的角度。例如，所謂射束角度為30度，係顯示從垂直於光軸之方向觀看時，在從光軸朝一側傾斜15度之位置的放射強度為對於光軸方向之放射強度的50%。當射束角度過小時，會有只能照射手插入部3之一部分的可能。當射束角度過大時，則有對於手插入空間5外部之照射量變多的可能。因此，射束角度較理想為不過小且不過大。
光源24的光軸或該光軸的虛擬延長線，係與面向手插入空間5之手插入部3的表面相交。光源24所產生的光線，大多被照射至面向手插入空間5之手插入部3的表面。光源24之光軸的虛擬延長線，係通過面對光源24的面。光源24係可配置成其厚度方向或中心軸平行於水平方向。此外，光源24亦可配置成其厚度方向或中心軸非平行於水平方向。此時，較理想為以光源24之上側的部分比光源24之下側的部分更位於手插入空間5側之方式，以光源24傾斜的姿勢配置。例如，當在接近插入前部
3b之面的位置配置有光源24時，較理想為以光源24之上側的部分比光源24之下側的部分更位於後方側之方式，以光源24傾斜的姿勢配置。若為此種姿勢，則可朝向手插入部3的大約下側照射紫外線，故可更確實地抑制朝向上方之光線的洩漏。此外，可對於水滴之附著量較多的插入底部3a照射紫外線，且可減少從插入底部3a飛散之水滴中所含之微生物的量，衛生性獲得提高。
圖17係實施型態1之手乾燥裝置1所具備之UV照射裝置23的立體圖。圖18係實施型態1之手乾燥裝置1所具備之UV照射裝置23的分解立體圖。圖19係實施型態1之手乾燥裝置1所具備之UV照射裝置23的前視圖。圖20係實施型態1之手乾燥裝置1所具備之UV照射裝置23的後視圖。圖21係以圖19中之B-B線切斷實施型態1之手乾燥裝置1所具備之UV照射裝置23而成的剖面圖。
如圖18所示，UV照射裝置23除光源24外，還具備外殼(case)25、窗部26、基板27、散熱器(heat sink)28、間隔件(spacer)29、密封構件30、固定構件31及配線32。另外，UV照射裝置23的構成零件不限定於此等，亦可適當省略、追加、替代。
外殼25係構成UV照射裝置23之外觀的零件。外殼25係在供安裝窗部26的位置具有開口。在基板27設有光源24。通過從基板27供電給光源24，從而使光源24發光。窗部26係保護光源24。窗部26係從與基板27相反側覆蓋光源24。藉由光源24所產生的光，係在穿透窗部26之後，照射至手插入空間5、和面向手插入空間5之手插入部3的表面。
散熱器28係用以使因為發光而被加熱的光源24和基板27的熱逸散者。圖示之例的散熱器28係具有用以擴大表面積的翼片(fin)。間隔件29係用以保持窗部26與光源24之間的距離者。在基板27與窗部26之間配置有間隔件29。
密封構件30係例如密封外殼25與窗部26間的間隙，藉此保持氣密性和液密性的構件。固定構件31係用以固定複數個構件的位置或位置關係者。固定構件31較佳為相對於UV照射裝置23或手插入部3拆裝自如。固定構件31亦可為用以將UV照射裝置23固定於手乾燥裝置1或手插入部3者。固定構件31亦可為用以將外殼25、散熱器28、基板27中的至少一者予以固定於手乾燥裝置1或手插入部3者。固定構件31亦可為藉由將外殼25、基板27和散熱器28予以緊固而固定該等位置者。固定構件31亦可為藉由將外殼25和散熱器28予以緊固而固定該等位置者。固定構件31亦可為例如圖示之例所示的螺釘。配線32係用以將基板27連接於電源部者。
UV照射裝置23亦可取代散熱器28或除散熱器28外還具備冷卻部。所謂冷卻部係例如為風扇等送風裝置。
如圖21所示，窗部26係對於光源24隔開間隙地配置。該間隙係可為例如0.1mm至50mm左右的距離。藉由窗部26來保護光源24。
圖示之例的窗部26，係呈現圓盤狀或圓形板狀。作為變形例，窗部26亦可為例如呈現長方體形狀者，亦可為呈現透鏡(lens)狀的形
狀者。依據呈現透鏡狀之形狀的窗部26，可將從光源24發出的光予以聚光，且可達成較小的射束角度。
窗部26的厚度係構成較薄。惟較佳為窗部26具有能夠承受在使用者使用手乾燥裝置1之際，或者進行手乾燥裝置1之清掃或保養之際所可能產生之撞擊的厚度。一般而言，當窗部26的厚度增加時，其穿透率有降低的傾向。因此，窗部26的厚度係例如為0.5mm至3mm左右。較佳為窗部26的厚度係1mm至2mm左右。
窗部26係具備入射面、出射面和周面。入射面係供來自光源24的光線入射的面。出射面係與入射面為相反側的面。出射面係使從入射面所射入的光朝向相對向之手插入部3的表面或朝向手插入空間5而射出的面。周面係位於入射面之側邊的面。周面係位於出射面之側邊的面。入射面係可相對於出射面為平行。周面係可相對於入射面和出射面為垂直。從入射面到達出射面的方向係厚度方向。關於厚度方向之窗部26的大小較佳為例如上述之範圍(0.5mm至3mm、或1mm至2mm)。
當窗部26呈現透鏡狀的形狀時，呈現透鏡狀之曲面的面為入射面和出射面。此外，當窗部26為透鏡狀的形狀時，窗部26具有通過其凸部的中心軸。窗部26的中心軸、或中心軸的虛擬延長線係與光源24交叉。換言之，透鏡狀的窗部26、和光源24係配置於一直線上。窗部26的中心軸、或中心軸的虛擬延長線係可通過其他窗部。換言之，透鏡狀的窗部26和其他窗部係可配置於一直線上。
光源24的發光面較理想為相對於窗部26的入射面為平行。當光源24的發光面相對於窗部26的入射面未平行時，穿透率有可能會降
低，來自窗部26之出射面的光照射至手插入部3或手插入空間5的照度有可能會降低。若光源24的發光面相對於窗部26的入射面為平行，則可確實地抑制穿透率的降低。
光源24的發光面係設置在靠近窗部26之入射面的位置。由於來自光源24的光線呈輻射狀前進，故當光源24與窗部26之入射面的距離變遠時，未射入於窗部26的光線有可能會增加。結果，所照射之手插入部3或手插入空間5的照度有可能會降低。為了使來自光源24的所有光線射入於窗部26，必須隨著光源24與窗部26的距離愈遠，愈增大窗部26的大小。即使隨著光源24與窗部26的距離愈近，窗部26的大小愈小，亦能夠使來自光源24之光線的全部或大部分射入至窗部26，故可提高手插入部3或手插入空間5的照度。
窗部26係以供光源24所產生之紫外線中之至少一部分之波長的紫外線穿透的材料所作成。窗部26較理想為以紫外線之穿透率較高的材料所製作。所謂穿透率係指特定之波長的入射光通過窗部26的比例。未穿透過的入射光係反射或被窗部26所吸收。穿透率、反射率、與吸收率的和係成為100%。例如，窗部26相對於UVA或UVB之波長的穿透率較佳為80%以上，更佳為90%以上。例如，窗部26相對於UVA和UVB之波長中之大部分的穿透率較佳為80%以上，更佳為90%以上。此外，例如，窗部26相對於UVC中之200nm以上之波長的穿透率較佳為80%以上，更佳為90%以上。此外，窗部26相對於UVC中之200nm以上之波長之大部分的穿透率較佳為80%以上，更佳為90%以上。此外，窗部26相對於250nm至285nm之波長的穿透率較佳為80%以上，更佳為90%以上。
此外，窗部26相對於250nm至285nm之波長之大部分的穿透率較佳為80%以上，更佳為90%以上。此外，窗部26相對於光源24之主波長的穿透率較佳為80%以上，更佳為90%以上。
圖22係實施型態1之手乾燥裝置1所具備之UV照射裝置23的剖面圖。手乾燥裝置1或手插入部3或UV照射裝置23係具備螺釘33。螺釘33係相當於用以將UV照射裝置23固定於手插入部3的固定手段。UV照射裝置23係藉由螺釘33等拆裝自如的固定手段而拆裝自如地固定於手插入部3。另外，若為拆裝自如的固定手段，則亦可藉由螺釘33以外的固定手段，將UV照射裝置23固定於手插入部3。在圖22所示之例中，係以從形成於手插入部3的開口3j，相對於手插入空間5露出有窗部26、和相當於窗部26之窗框之部分的外殼25之方式設置有UV照射裝置23。手插入部3係具有從與面向手插入空間5之表面為相反側的背面突出的凸軸3k。透過由螺釘33將外殼25緊固於凸軸3k，而將UV照射裝置23固定於手插入部3。
亦可一個UV照射裝置23具備複數個窗部26。複數個窗部26係可彼此平行地配置，亦可彼此大致平行地配置。圖23係顯示實施型態1之手乾燥裝置1所具備之UV照射裝置23之變形例的剖面圖。圖23所示的UV照射裝置23係具備第一窗部26a和第二窗部26b。第一窗部26a和第二窗部26b係相當於複數個窗部26。第一窗部26a係覆蓋光源24。第二窗部26b係覆蓋第一窗部26a。
光源24、第一窗部26a和第二窗部26b係配置於一直線上。較佳為第二窗部26b係相對於第一窗部26a平行地配置。較佳為第一窗部
26a的入射面係相對於光源24的發光面平行地配置。例如，第一窗部26a和第二窗部26b係配置在與光源24之光軸或光軸之虛擬延長線交叉的位置。一個UV照射裝置23所具備之複數個窗部26中的至少一者，亦可呈現透鏡狀的形狀。第一窗部26a係配置在比第二窗部26b更接近光源24的位置。第二窗部26b係配置在比第一窗部26a更遠離光源24的位置。第二窗部26b係與密封構件30協作，從而防止水或異物侵入於UV照射裝置23的內部和本體殼體2的內部。此外，第二窗部26b係具有防止人的手等接觸光源24的功能。第一窗部26a係具有防止水、異物或人的手等接觸光源24的功能。此外，第一窗部26a係具有保護光源24的功能。
若能保持上述的密封性，更佳為一個UV照射裝置23僅具備一個窗部26的構成。光線的一部分會被窗部26反射或吸收。因此，窗部26的數量愈少，更能夠對於手插入部3或手插入空間5有效率地照射紫外線。尤其，若窗部26為一個，更能夠對於手插入部3或手插入空間5有效率地照射紫外線。
窗部26亦可具有不讓短波長之紫外線穿透的性質。此外，窗部26亦可具有藉由濾波器或帶通(band pass)不讓短波長之紫外線穿透的性質。窗部26亦可具有不讓例如180nm以下之波長穿透的性質。此外，窗部26亦可具有不讓150nm以下之波長穿透的性質。短波長的紫外線有可能會對於人體造成不良影響。通過使用不讓短波長的紫外線穿透之性質的窗部26，安全性更為提高。
窗部26較佳為以UV穿透性高的材料作成。窗部26係可為例如石英玻璃製。窗部26亦可為例如合成石英玻璃。窗部26亦可為例如
阻隔一部分UV的抗UV玻璃(UV cut glass)製。窗部26亦可由例如UV穿透性高的樹脂材料所製作。窗部26亦可為例如氟樹脂製。所謂氟樹脂係例如PFA、FEP、ETFE、PCTFE等。
在窗部26的入射面和出射面的至少一面，亦可形成有反射防止膜。所謂反射防止膜係防止從光源射入於入射面的光反射者，一般被稱為AR塗層(Anti Reflection Coating，防反射塗層)。反射防止膜係為公知技術，故其結構的說明從略。未被反射的光係穿透或被吸收。例如，未被反射之光的大部分係穿透，一部分被吸收。例如石英玻璃相對於UVB區域的穿透率為90%時，當對於單面施行反射防止膜的處理時，穿透率成為94%，當對於雙面施行反射防止膜的處理時，則穿透率成為98%左右。因此，通過將反射防止膜設置於窗部26，從而能夠更有效率地照射紫外線至手插入部3或手插入空間5。不限定於石英玻璃，亦可對於作為窗部26使用的材料施行反射防止膜的處理。例如，亦可對於穿透率雖較一般材料更高，但穿透率不及石英玻璃的氟樹脂施行反射防止膜的處理。藉此，即能夠抑制成本，同時提高穿透率。
窗部26係由例如透明材料、半透明的材料、或透明性高的材料所製作。窗部26係例如由UV穿透率比手插入部3的大部分更高的材料所製作。窗部26係例如由UV穿透率比手插入部3中之面向手插入空間5之部分的大部分更高的材料所製作。
此外，窗部26亦可為已被施行降低特定之波長之放射強度的濾波器處理者。所謂濾波器係例如為帶通濾波器。例如，為了減低對於人體有害的波長，亦可對於窗部26應用濾波器處理。
窗部26係配置在接近手插入部3中之面向手插入空間5之表面的位置。窗部26亦可為藉由與固定構件31或外殼25的協作而提高與手插入部3的氣密性者。窗部26亦可配置成其厚度方向或中心軸平行於水平方向。此外，窗部26亦可配置成其厚度方向或中心軸非平行於水平方向。此時，較理想為以窗部26的上側比窗部26的下側更位於手插入空間5側之方式，以窗部26傾斜的姿勢配置。例如，當在接近插入前部3b之表面的位置配置有窗部26時，較理想為以窗部26之上側比窗部26之下側更位於後方側之方式傾斜的姿勢。此外，在使窗部26傾斜之際，較理想為配置成窗部26的中心軸平行於光源24的光軸。亦即，較理想為光源24的光軸亦傾斜。此時，光源24的光軸係傾斜為水平向下。因此，可朝手插入部3的大致下側照射紫外線，且可抑制光線洩漏至上方。此外，可對於水滴之附著量較多的插入底部3a照射紫外線，且可減低從插入底部3a飛散之水滴中所含之微生物的量，衛生性獲得提高。
窗部26亦可嵌入並固定於設於手插入部3之開口。配置有窗部26之手插入部3的面、與窗部26亦可配置於大致同一面上。窗部26亦可配置在比窗部26之周圍的手插入部3更接近罩蓋部的位置，亦即遠離手插入空間5的位置。換言之，窗部26亦可配置在比窗部26之周圍之手插入部3更凹陷的位置、或更加凹陷的位置。
例如，當窗部26配置於插入前部3b的面時，窗部26係配置在比窗部26之周圍的插入前部3b更接近前罩蓋2a的位置，亦即前方。如此，藉由將窗部26配置在比其周圍的手插入部3更遠離手插入空間5的位置或更凹陷的位置，在插入手時手不易接觸窗部26，且窗部26不易損
傷。藉此，易於防止窗部26的穿透率因為窗部26的損傷等而降低。此外，窗部26之周圍之手插入部3之開口的邊緣，亦可呈現更加突出於手插入空間5側的形狀。藉此，在插入手時手不易接觸窗部26，且易於防止窗部26的損傷。
窗部26和配置窗部26的手插入部3，為了提高緊密性，乃保持著固定的距離。例如，窗部26從手插入部3離開相應於密封構件30之厚度程度的距離。例如，當窗部26的厚度方向或中心軸平行於水平方向時，亦即，當窗部26沿著鉛直方向延伸時，窗部26之周圍的手插入部3亦沿著鉛直方向延伸。另一方面，當如前述之窗部26的上側比窗部26的下側更接近手插入空間5側時，即使在窗部26之周圍的手插入部3中，接近窗部26之上側之位置的手插入部3，亦配置在比接近窗部26之下側之位置的手插入部3更接近手插入空間5的位置。亦即，手插入部3亦可局部地呈現突出於手插入空間5側的形狀。藉此，即可更高水準地保持窗部26與配置窗部26之手插入部3之周圍之間的緊密性。手插入部3之突出的位置與突出之位置的周圍之間，較理想為平滑地形成。藉此，水不易聚集於突出的位置。
窗部26之周邊而且上方的手插入部3，亦可具有朝手插入空間5側突出的突出部。藉此，防止從光源24照射的光線直接朝上方照射。藉此，即可減輕朝向上方之光線的洩漏量。
外殼25係構成UV照射裝置23的外觀者。在外殼25與散熱器28之間，係配置有密封構件30、窗部26、光源24、間隔件29、和基板27。外殼25係以與手插入部3接觸之方式配置。外殼25亦可以經由
固定構件31接觸手插入部3之方式固定。外殼25亦可不經由固定構件31固定於手插入部3。例如，亦可使用壓入或搭扣配合的技術將外殼25固定於手插入部3。或者，亦可藉由由設於外殼25之外周的公螺紋，對於設在形成於手插入部3之開口之內周的母螺紋進行螺合，而將外殼25固定於手插入部3。
UV照射裝置23未必要具備外殼25。外殼25以外之UV照射裝置23的部件亦可固定於手插入部3。外殼25係配置於與手插入部3之表面相等的位置，或是配置於比手插入部3的表面更深的位置。例如，外殼25係相較於外殼25周邊的手插入部3，配置在與手插入空間5之距離為同等的位置，或是離開手插入空間5稍遠距離的位置。藉此，在使用者將手放入手插入空間5時手接觸外殼25的可能性較少，較具衛生性。外殼25係在其中心附近具有開口。該開口係用以使從光源24照射的光通過者。外殼25係可具有用以固定密封構件30的溝。通過將密封構件30嵌入於溝中，從而進行密封構件30往周方向的定位。
UV照射裝置23所具有的固定構件31係例如為螺釘。固定構件31亦可使用螺釘以外的其他者。固定構件31係例如用以將UV照射裝置23固定於手插入部3者。
在本揭示中，亦可設置密封構件以填埋手插入部3與UV照射裝置23間的間隙。該密封構件、和前述的密封構件30以下統稱為「密封構件30」。密封構件30係例如以比手插入部3更柔軟的材料構成。密封構件30係例如以比手插入部3的大部分更柔軟的材料構成。所謂密封構件30亦可為一般被稱為密封圈(packing)、O環、墊圈(gasket)等的部件。
所謂密封構件30係例如為橡膠、矽、彈性體(elastomer)等軟質材。密封構件30亦可為對於手插入部3嵌入成型的一體型部件。UV照射裝置23係經由固定構件31等而固定於手插入部3。密封構件30亦可設置複數個。密封構件30係例如設於手插入部3與外殼25之間，用以將手插入部3和外殼25予以密封者。密封構件30係例如設於手插入部3與窗部26之間，用以將手插入部3和窗部26予以密封者。密封構件30係例如設於在外殼25與窗部26之間，用以將外殼25和窗部26予以密封者。密封構件30係於藉由固定構件31固定UV照射裝置23時剖面稍微被壓潰。例如，密封構件30的剖面積係因為壓縮而減少例如10%至20%左右。如此，藉由密封構件30變形，從而提高密封性。手插入部3係附著有從潤濕的手飛散的水。當無密封構件30時，水有可能會從手插入部3與UV照射裝置23間之些微的間隙，侵入於本體殼體2的內側或UV照射裝置23的內部。當無密封構件30時，水有可能會從外殼25與窗部26間之些微的間隙，侵入於本體殼體2的內側、或UV照射裝置23的內部。當水附著於UV照射裝置23的情形下，有可能會故障。藉由使用上述的密封構件30，即可抑制水的侵入。
散熱器28係用以藉由使基板27和光源24的熱逸散，從而將該等基板27和光源24予以冷卻，且抑制該等基板27和光源24的溫度上升者。散熱器28係安裝在相對於基板27為與光源24相反側的面或該面的附近。散熱器28係固定為直接或間接接觸基板27。基板27的至少一部分或散熱器28的至少一部分，係可配置成暴露於吹出風路或排氣風路。藉此，即可藉由手乾燥裝置1之作動時的氣流而將基板27或散熱器28予
以冷卻。結果，除通常時之自然對流所形成之散熱器28的散熱外，還可在使用者使用手乾燥裝置1時，藉由強制對流更提高散熱效率。此外，當手未插入時，亦可通過將送風機10微風運轉，將基板27或散熱器28予以冷卻。所謂微風運轉係可為帶來與為了藉由由手乾燥裝置1吹送乾燥風至手而使手乾燥所設定的最低風量或最低風速相等的風量或風速的運轉，亦可為帶來比該最低風量或最低風速更低的風量或風速的運轉。或者，所謂微風運轉係可為帶來與為了藉由由手乾燥裝置1吹送乾燥風至手而使手乾燥所設定之運轉中運轉音最安靜之運轉相等的運轉音的運轉，亦可為帶來比該最安靜的運轉更安靜的運轉音的運轉。依據微風運轉，手未插入時亦可將基板27或散熱器28予以冷卻。作為調整風量的手段，若送風機10的馬達為無刷馬達則易於控制風量，故較理想。
基板27係用以使光源24發光者。基板27係電性連接於光源24。基板27係電性連接於電源部。基板27係可呈現板狀的形狀。例如，光源24的光軸係相對於基板27垂直地配置。基板27係可連接有其他各種電子零件或電氣零件。基板27係可具有當施加外力時，例如以單手施力時，不致變形之程度的堅固性。或者，基板27亦可具有以單手施力時會變形之程度的剛性。此外，基板27亦可具有因為自重而彎曲之程度的剛性。例如，若基板27的一部分為1mm以下的厚度，則該部分的剛性降低。例如，若基板27的一部分為0.1mm以下的厚度，則該部分的剛性更降低。此外，只要基板27具有形成有缺口的形狀，則剛性變低。基板27的一部分亦可具有薄膜狀之較薄的部分。若為此種構成，基板27可容易變形，而且，可維持彎曲的狀態。
例如，當要配置二個光源24於平板狀的一個基板27時，光源24的光軸將被平行地配置。然而，若要對手插入部3的整體照射紫外線，係以二個光源24的光軸彼此非平行之方式照射較具效率。此時，通過將一個光源24搭載於一個基板27，且將二個基板27配置不同的角度，而將二個光源24的光軸配置成呈非平行狀態。例如，當上述之基板27的剛性較低時，可在將基板27維持著彎曲的狀態下，作為UV照射裝置23的一零件來使用。藉此，可在將複數個光源24配置於一個基板27之後，將該等複數個光源24的光軸配置為不同的方向。藉此，即可減少基板27的數量，且可達到省空間化。
間隔件29係具有將基板27與窗部26之間的距離保持為一定的功能。間隔件29係例如由樹脂材料或金屬材料所構成。間隔件29的形狀係可為中空的圓筒形狀，亦可為中空的角筒形狀。間隔件29係可具有與窗部26相等的形狀。例如，若窗部26的外形為圓形，則間隔件29的形狀係可為中空的圓筒形狀。此外，若窗部26的外形為長方體形狀，則間隔件29的形狀係可為中空的角筒形狀。在間隔件29的一端側鄰接基板27。在間隔件29的另一端側鄰接窗部26。
間隔件29係具有厚度方向、寬度方向、和長度方向。當間隔件29為中空的圓筒形狀時，關於寬度方向之間隔件29的長度，係相等於關於長度方向之間隔件29的長度。關於厚度方向之間隔件29的長度，係比關於寬度方向之間隔件29的長度更短，而且，比關於長度方向之間隔件29的長度更短。例如，關於彼此正交之x方向、y方向和z方向之三軸中之長度最短之方向的尺寸，係相當於間隔件29之厚度方向的尺寸。間隔件29係在
厚度方向上具有相對向的面。關於厚度方向之間隔件29的長度，係比關於厚度方向之光源24的長度更長。間隔件29係具有沿著厚度方向的軸。間隔件29的軸較理想為與光源24的光軸平行。間隔件29的軸亦可為中心軸。此外，較佳為以光源24之光軸的虛擬延長線、和間隔件29之厚度方向之軸的虛擬延長線通過插入底部3a或相對向之面之方式配置光源24和間隔件29。亦可間隔件29具有中空形狀，在間隔件29的內側、亦即間隔件29的中空部分配置光源24。較佳為以間隔件29的厚度方向與光源24的厚度方向一致或大致一致之方式配置光源24和間隔件29。間隔件29之厚度方向上之一側的面，係相當於接近手插入空間5的面，且相對向於該一側之面的面，係相當於遠離手插入空間5的面。間隔件29和光源24係鄰接於基板27。間隔件29之厚度方向上之遠離手插入空間5的面和光源24之厚度方向上之遠離手插入空間5的面，係鄰接於基板27。換言之，間隔件29之厚度方向上之遠離手插入空間5的面和光源24之厚度方向上之遠離手插入空間5的面，係配置於相同平面上，或是配置於大致相同的平面上。藉由此配置，以及關於厚度方向之間隔件29的長度會比關於厚度方向之光源24的長度更長之態樣的相互關係，間隔件29之厚度方向上之接近手插入空間5的面，係配置在比光源24之厚度方向上之接近手插入空間5的面更接近手插入空間5的位置。藉此，從光源24照射的光線係在比光源24之厚度方向上之接近手插入空間5的面更前側照到間隔件29而反射。
基板27的表面係供光源24安裝。光源24係以被基板27、窗部26和間隔件29包圍之方式配置。藉由此方式，即能夠更確實地防止光源24之
因為來自外部的撞擊造成光源24的破損。間隔件29係能夠以紫外線反射率高的材料所構成。間隔件29亦能夠以反射光源24所產生之光中之至少主波長之光之方式構成。例如，當如間隔件29具有高吸收率時間隔件29的反射率較低的情形下，一部分的光線會被間隔件29所吸收，且到達手插入部3之光線的照度會降低。此外，例如，當如間隔件29具有高穿透率之間隔件29的反射率較低的情形下，為了使從光源24廣範圍地照射的光線照射至手插入部3，需要大小較大的窗部26。當窗部26較大時，為了確保其強度，必須增厚其厚度。當窗部26的厚度增加時，穿透率將會降低。通過使用相對於所使用之光源24所產生之紫外線之波長之反射率較高的間隔件29，即能夠使廣角照射的光線反射，且可抑制窗部26的大小，且可使厚度變薄，且可抑制照度的降低。所謂反射率較高的材料，作為樹脂來說可列舉例如氟樹脂，且作為金屬來說，可列舉施行有鋁、氧化鋁膜(alumite)加工、蒸鍍等表面處理的構件等。所謂反射率較高，係例如相對於光源24之主波長的反射率為80%以上，較佳為90%以上者。或者，所謂反射率較高，亦可為相較於使用於手插入部3的其他材料時，反射率相對較高之意。
另外，間隔件29亦可非為中空的形狀。光源24較理想為被間隔件29包圍360度或全周，但不限定於該種構成。例如，光源24係可被複數個間隔件29所包圍。例如，光源24亦可被隔開間隔設置的複數個間隔件29所包圍。例如，亦可以光源24的中心和光軸為中心，使光源24以涵蓋180度以上的範圍之方式被間隔件29包圍，亦可使光源24以涵蓋270度以上的範圍之方式被間隔件29包圍。間隔件29的形狀亦可非為圓形或角形，
而為例如C字形、U字形或拱門狀般一部分作出缺口的柱形狀。惟，間隔件29的形狀較佳為四方被堵住之中空的圓形或中空的角形。這是因為間隔件29與窗部26或密封構件30協作，而成為水或塵埃不易於進入光源24之構造之故。基於相同的理由，當間隔件29具有一部分作出缺口的形狀時，較佳為該作出缺口的範圍盡量少的形狀。此外，間隔件29之作出缺口之部分的位置，較佳為鉛直方向之下側的位置。例如，可在比光源24之中心更靠鉛直方向之下側的範圍內，具有間隔件29之作出缺口的部分。例如，亦可在關於鉛直方向之位置比光源24之下端更靠下側的範圍內，將間隔件29作出缺口。例如，間隔件29的形狀係可為中空之角柱之底邊亦即下側的部分作出缺口而成之C字形或U字形的形狀。從配置在具有中空之圓筒形狀或中空之角柱形狀之間隔件29之內側亦即中空部分之光源24所照射之光線的一部分，係照到間隔件29而反射。僅一次照到間隔件29而反射的光線係向手插入部3側前進。此時，僅一次照到間隔件29中之鉛直方向之下側之部分而反射，之後未照到間隔件29而朝手插入部3側前進的光線，係朝鉛直方向的上方前進。此種光線不會照到手插入部3，而將會照射至設置有手乾燥裝置1的空間。相對於此，若為鉛直方向之下側的部分作出缺口的間隔件29，則可減少照射至照到間隔件29而反射且照射至設置有手乾燥裝置1之空間的光線。藉此，即可降低位於周邊的人被照到的危險。
UV照射裝置23的固定不限定於固定構件31。例如，固定構件31係可為手乾燥裝置1的一部分，亦可為手插入部3的一部分。固定
構件31係可為外殼25的一部分，亦可為散熱器28一部分。此外，若可固定UV照射裝置23，則亦可不具備固定構件31。
圖24至圖27的各圖係顯示實施型態1之手乾燥裝置1所具備之UV照射裝置23之另一變形例的剖面圖。圖24至圖27之各圖所示之UV照射裝置23的變形例，係不具有外殼25之例。在圖24至圖27之各圖的變形例中，係藉由由螺釘33將散熱器28緊固於手插入部3的凸軸3k，而將UV照射裝置23固定於手插入部3。
在圖24所示之變形例和圖25所示的變形例中，係由密封構件30密封了窗部26與手插入部3的間隙。
圖25至圖27之各圖所示的變形例係不具有間隔件29之例。在此等變形例中，係藉由手插入部3保持著窗部26。
在圖25所示之變形例中，係藉由從凸軸3k朝內周側突出的突出部3m而支撐著窗部26。
圖26和圖27之各圖所示的變形例係不具有密封構件30之例。
在圖26所示之變形例中，係使用襯套34將窗部26安裝於手插入部3。襯套34的外周部係嵌合於形成於手插入部3之開口的內周部。窗部26的外周部係嵌合於襯套34的內周部。襯套34係例如具有類似電纜套筒(cable bush)的構造。襯套34係兼具將窗部26與手插入部3間之間隙予以密封的功能。此時，通過將窗部26從手插入空間5側朝向光源24推入而安裝窗部26。
手乾燥裝置1亦可構成為UV照射裝置23可供進行拆卸。換言之，UV照射裝置23係可構成為可從手乾燥裝置1的手插入部3進行拆卸。此外，亦能夠以手乾燥裝置1中之除UV照射裝置23外的本體部分和UV照射裝置23可進行分離，且可從該本體部分拆下UV照射裝置23之方式構成手乾燥裝置1。手乾燥裝置1亦可構成為可將UV照射裝置23拆下更換為新的UV照射裝置23。如此一來，當光源24達到壽命而性能降低時，即能夠藉由更換為新的UV照射裝置23而使性能恢復。此外，通過更換為新的UV照射裝置23，從而亦能夠恢復窗部26或密封構件30等性能。此外，藉由拆下固定構件31，在維持著外殼25或密封構件30安裝於手乾燥裝置1的狀態下，亦可進行更換光源24或窗部26。換言之，能夠依據拆下的部位，而且視需要易於進行更換UV照射裝置23的整體，或選擇性地更換UV照射裝置23的一部分。此外，藉由將作為固定手段的螺釘33或固定構件31拆下，即可拆下包含光源24的光源部。換言之，藉由複數個方法或複數個部位的拆卸，即可拆下該光源部。如前所述，光源24或窗部26之上側的部分較佳為比光源24或窗部26之下側的部分更位於手插入空間5側。換言之，作為UV照射裝置23整體而言，上側的部分可比下側的部分更位於手插入空間5側。此時，由於在拆下固定構件31而更換光源24或窗部26之際，密封構件30不易落下，故容易進行拆裝與更換的作業。
在圖27所示之變形例中，係使用雙面黏貼帶35將窗部26安裝於手插入部3。窗部26的周緣部係相對於形成於手插入部3之開口的
緣部藉由雙面黏貼帶35接著。窗部26與手插入部3間的間隙係由雙面黏貼帶35所密封。
通過將作為固定手段的螺釘33或固定構件31拆下，即能夠拆下窗部26或UV照射裝置23，如此，手乾燥裝置1可構成為窗部26可供進行拆卸。手乾燥裝置1亦可構成為可將窗部26拆下而更換為新的窗部26。如此一來，當窗部26劣化而穿透率降低時，即能夠藉由更換為新的窗部26而使穿透率恢復。另外，當窗部26與UV照射裝置23為不同個體的情形下，亦可構成為不必拆下UV照射裝置23進行拆卸窗部26。此外，當窗部26為與UV照射裝置23一體的情形下，亦可通過將整個UV照射裝置23更換成新品，從而將窗部26更換為新品。
面向手插入空間5之手插入部3的表面係可呈現白色。或者，面向手插入空間5之手插入部3的表面亦可呈現黑色或黃色。此外插入底部3a的表面係可呈現與插入周圍部之表面不同的顏色。此外，插入底部3a的表面亦可呈現黑色或黃色，插入周圍部的表面亦可呈現與插入底部3a為不同的顏色，例如白色。當藉由來自UV照射裝置23的紫外線照射使手插入部3長時間暴露於紫外線時，手插入部3的顏色有可能變化。尤其當手插入部3為白色時，使用者易於察覺顏色的變化，有可能對於使用者造成不良的印象。對於插入底部3a較佳為重點性地照射紫外線。因此，尤其是插入底部3a的顏色較佳為使用者不易察覺紫外線照射所引起之顏色之變化的顏色、或是不易變色的顏色。
手乾燥裝置1係可更具備構成為依據手偵測部21的偵測使光源24的輸出降低，或是使光源24的輸出為零的輸出變更手段。紫外線
照到人體時會有危害人體的情形。若使輸出變更手段依據手偵測部21偵測到手的情形使光源24的輸出降低或使光源24的輸出為零，則可更確實地防止紫外線照到人體。輸出變更手段係可藉由調整光源24的電流來調整光源24的輸出。本實施型態中的輸出變更手段係可例如藉由控制部22來達成，亦可藉由不同於控制部22的其他控制部(未圖示)來達成。
在此，手偵測部21係可偵測有無插入於手插入部3之手插入空間5的手、或有無配置於手插入部3的手。手乾燥裝置1的控制部22係可構成為當手偵測部21偵測到無手的情形下，由UV照射裝置23照射紫外線。藉由在手插入部3中無手時由UV照射裝置23照射紫外線，能夠更確實地兼具安全性與衛生性。
如圖10所示，手乾燥裝置1亦可更具備人偵測部39。人偵測部39係檢測接近手乾燥裝置1之人體之人偵測手段之例。人偵測部39亦可具有例如設置於本體殼體2的人體感應感測器。另外，本揭示的手乾燥裝置亦可為不具備人偵測手段者。例如，人偵測部39係對於手乾燥裝置1偵測位於比預定之距離更近之位置的人體。例如，人偵測部39係對於手乾燥裝置1偵測位於比預定之距離更近之位置之人體的動作。例如，人偵測部39係對於手乾燥裝置1偵測站在預定之區域的人。例如，人偵測部39係偵測人體的姿勢。例如，人偵測部39係偵測使用者剛要將手放入於手插入部3之手插入空間5之前的姿勢。例如，人偵測部39係偵測單手或單腕、或是雙手或雙腕相比於人以通常的姿勢站立的時候位於前方或上方的情形。例如，人偵測部39係在使用者將手放入於手插入部3的手插入空間
5之際，比手偵測部21偵測到手更快地偵測到使用者的存在者。例如，人偵測部39亦可為偵測手者。
手乾燥裝置1係可更具備構成為依據人偵測部39的偵測使光源24的輸出降低，或是使光源24的輸出為零的輸出變更手段。若使輸出變更手段依據人偵測部39偵測到人的情形使光源24的輸出降低或使光源24的輸出為零，則可更確實地防止紫外線照到人體。
紫外線照射量係與照度和照射時間的乘積成比例。若設照度為一定，則可算出為了將手插入部3內充分殺菌所需之紫外線照射量所對應的照射時間。
UV照射裝置23係當該總計的照射時間變長時，光源24即接近壽命而劣化或穿透率因為窗部26的劣化而降低，而使輸出和照度有可能降低。此外，由於手插入部3的構成材料受到紫外線照射，故有可能劣化。為了盡量避免此等現象，較理想為當UV照射裝置23之一次的照射時間達到了為了將手插入部3內充分殺菌所需的時間時，使光源24的輸出降低、或使光源24的輸出為零。以下將為了將手插入部3內充分殺菌所需之一次的照射時間稱為「必要殺菌時間」。
輸出變更手段係可構成為當手偵測部21未偵測到手之狀態所持續的時間，或人偵測部39未偵測到人的狀態所持續的時間超過基準時，即使光源24的輸出降低或使光源24的輸出為零。當手偵測部21未偵測到手之狀態所持續的時間，或人偵測部39未偵測到人的狀態所持續的時間超過基準時，可視為UV照射裝置23之一次的照射時間已到達了必要殺菌時間。此時，通過使光源24的輸出降低或使光源24的輸出為零，可防
止照射時間過度地變長。因此，在延長光源24的壽命或防止窗部26的穿透率降低，或防止手插入部3之構成材料的劣化方面更為有利。
當手乾燥裝置1具備手偵測部21和人偵測部39雙方時，輸出變更手段亦可構成為當手偵測部21未偵測到手而且人偵測部39未偵測到人之狀態所持續的時間超過基準時，使光源24的輸出降低或使光源24的輸出為零。當手偵測部21未偵測到手而且人偵測部39未偵測到人之狀態所持續的時間超過基準時，可視為UV照射裝置23之一次的照射時間已到達了必要殺菌時間。此時，通過使光源24的輸出降低或使光源24的輸出為零，可防止照射時間過度地變長。因此，在延長光源24的壽命或防止窗部26的穿透率降低，或防止手插入部3之構成材料的劣化方面更為有利。
輸出變更手段或控制部22亦可構成為當UV照射裝置23所進行之紫外線的照射所持續的時間超過基準時，即使光源24的輸出降低或使光源24的輸出為零。藉此，即可防止一次的照射時間過度地變長。因此，在延長光源24的壽命或防止窗部26的穿透率降低，或防止手插入部3之構成材料的劣化方面更為有利。
手乾燥裝置1亦可更具備在UV照射裝置23照射紫外線的時候，通報該內容的照射通報手段。例如，可使用顯示部4作為照射通報手段。例如，在UV照射裝置23照射紫外線的時候，控制部22係可藉由顯示部4來通報使用者正在執行紫外線照射。由於紫外線無法被眼睛看不見，故當無照射通報手段時，使用者有可能無法察覺UV照射裝置23所進
行的紫外線照射是否正在執行。針對此點，依據照射通報手段，使用者可更確實地察覺UV照射裝置23所進行之紫外線照射是否正在執行。
手乾燥裝置1亦可更具備通報手插入部3之衛生狀態的衛生狀態通報手段。例如，可使用顯示部4作為衛生狀態通報手段。控制部22係可將手插入部3的衛生狀態分類為複數個階段進行評估。例如，控制部22係可當前次之手的乾燥結束之後之UV照射裝置23的照射時間已達必要殺菌時間的情形下，評估手插入部3的衛生狀態為最佳，而當前次之手的乾燥結束之後之UV照射裝置23的照射時間超過比必要殺菌時間短的第一基準時間而且未達必要殺菌時間的情形下，評估手插入部3的衛生狀態為良好，而當前次之手的乾燥結束之後之UV照射裝置23的照射時間未達第一基準時間的情形下，評估手插入部3的衛生狀態為不良。控制部22亦可例如藉由顯示部4通報使用者以該方式所評估之手插入部3的衛生狀態。當被衛生狀態通報手段通報了手插入部3的衛生狀態為最佳時，或者當被衛生狀態通報手段通報了手插入部3的衛生狀態為良好時，使用者可更安心地使用手乾燥裝置1。另一方面，當被衛生狀態通報手段通報了手插入部3的衛生狀態為不良時，使用者可藉由採取不使用手乾燥裝置1等對策來避免危險。
圖28係反射部36的剖面圖。手乾燥裝置1係可更具備一個或複數個反射部36。更具體而言，手插入部3係可更具備將從UV照射裝置23所照射之紫外線予以反射的反射部36。反射部36係配置為面向手插入空間5。反射部36係紫外線的反射率較高的構件。在本揭示中，所謂「紫外線的反射率較高」係指相對於特定的紫外線波長、照射於反射部36的波
長或光源24之主波長之光線的反射率相當於50%以上，較佳為相當於80%以上，更佳為相當於90%以上。例如，當10mW的光線射入於反射部36時，反射部36係反射5mW以上，較佳為反射8mW以上，更佳為反射9mW以上。
反射部36之反射的性質係可為鏡面反射或擴散反射的任一者。鏡面反射係如鏡般反射者，為以相對於反射面入射角和反射角相等之方式反射者。例如，鏡面反射係從正面觀看反射部36時會如鏡般清楚地映照出臉部者，觀看反射部36之際影像會清楚地映照者係可簡易地確認為鏡面反射。相對於此，擴散反射係入射的光會被反射面朝各種方向漫反射者，為無光澤或無色澤者、表面粗糙者等。反射部36亦可為具有鏡面反射和擴散反射雙方之反射之性質的構件。
例如，當使用鏡面反射的反射部36時，可使光朝向特定的區域反射。例如，在手插入部3僅配置有一個UV照射裝置23的情形下，當未使用反射時，紫外線有可能不易照射至配置有UV照射裝置23之部分的手插入部3。相對於此，通過在與配置有UV照射裝置23之部分之手插入部3面對之部分之手插入部3配置反射部36，從而能夠將被反射部36所反射的紫外線，照射至配置有UV照射裝置23之部分的手插入部3。例如，當在插入前部3b配置UV照射裝置23，且在插入後部3c配置反射部36的情形下，通過將被反射部36所反射的紫外線照射於插入前部3b，從而可提高插入前部3b的照度。擴散反射係具有朝各種方向漫反射的性質。因此，當使用擴散反射的反射部36的情形下，例如，可提高手插入部3整
體的照度。如上所述，通過設置反射部36即能夠更提高殺菌力。另外，雖已說明了鏡面反射和擴散反射之使用方法的一例，但使用方法不限定於此。
反射部36較理想為使用例如金屬或氟樹脂作為反射率高的材料來製作。所謂金屬係例如為鋁。所謂氟樹脂係例如為聚四氟乙烯(polytetra fluoroethylene)(PTFE)。此外，反射部36係可為例如施行有氧化鋁膜處理、塗層表面處理、塗裝、薄膜貼附、蒸鍍等處理以作為提高反射率的處理者，亦可為施行有複數種處理者。此外，當施行如上所述之提高反射率的處理時，反射部36的質地或母材亦可為反射率低的材料。
反射部36係可為例如板狀的構件。反射部36亦可具備反射面36a、背面36b及反射側壁部36c。反射面36a係可為例如實質長方形的形狀。反射部36亦可為例如實質長方體的形狀。在本揭示中，「實質長方形」或「實質長方體」係包含角落施行有倒角處理者、以及邊呈圓弧狀者。此外，為了固定於手插入部3，亦可於反射部36設有開口、切口、缺口、凹部或凹坑。另外，反射部36的形狀亦可為涵蓋手插入部3的複數個面而配置的形狀。
反射部36的厚度係例如為0.2mm至5mm左右，較佳為0.5mm至3mm左右。相當於關於與反射部36之厚度例如彼此正交之X方向、Y方向和Z方向之三軸中之長度最短的方向之反射部36的大小。
反射部36的背面36b係反射面36a之相反側的面。背面36b係配置在比反射面36a更接近手插入部3的位置。背面36b係直接或間接地連接於手插入部3。所謂間接地連接，係指例如隔著雙面黏貼帶或接著
劑等接著構件來連接。背面36b係大部分為平坦的面。背面36b係相對於反射面36a為實質平行的面。
反射側壁部36c係反射部36的側壁。反射側壁部36c係由複數個側壁所構成。若為例如長方體的反射部36，則除反射面36a和背面36b以外的四面即為反射側壁部36c。反射側壁部36c係相對於反射面36a和背面36b的側壁。反射側壁部36c係可相對於反射面36a和背面36b垂直地形成，亦可呈傾斜。
亦可在手插入部3之插入周圍部之面向手插入空間5之表面中之佔據一半以上面積的區域設置反射部36。反射部36的形狀不限定於平板。例如，反射部36亦可呈現沿著手插入部3的至少一部分彎曲的形狀。例如，反射部36亦可為沿著手插入部3之至少一部分的形狀貼附而使用者。此時，反射部36係例如為片狀或薄膜狀者。若為此種反射部36，則可易於形成配合手插入部3之形狀之複雜之形狀的反射部36。藉此，可使反射部36成為任意的形狀。
作為將反射部36固定於手插入部3的方法來說，可列舉例如利用黏接帶或接著劑等的接著、利用螺釘等的緊固、嵌入、嵌死、嵌合等。
此外，亦可不將反射部36安裝於手插入部3，取而代之由手插入部3本身以反射率高的材料作成者。亦即，亦可將反射部36與手插入部3作成一體。換言之，手插入部3之未面向手插入空間5的背面側，亦可由反射率高的材料來形成。例如，亦可以屬於反射率高的材料的金屬或氟樹脂來作成手插入部3。當將反射部36與手插入部3作成一體的情形
下，具有即使受到使用時所施加的外力、或經年劣化的影響，反射部36也不會從手插入部3脫落剝落或脫落的優點。
反射部36的反射面36a係可位於比反射部36之周邊之手插入部3之表面的位置更突出的位置，亦可位於相同面上的位置，亦可位於更凹陷的位置。反射部36的反射面36a較佳為位於與反射部36之周邊之手插入部3之表面相同面上，更佳為配置在相對於反射部36之周邊之手插入部3的表面凹陷的位置。當反射部36或反射面36a配置在比其周邊之手插入部3的表面更突出的位置時，於使用者將手插入於手插入空間5之際，手有可能會接觸到反射部36。此時，有可能使用者會受傷、反射面36a會被污染或損傷、反射部36會易於從手插入部3剝落。另外，當反射面36a受到污染時，反射率有可能降低。針對此點，藉由將反射部36的反射面36a配置成位於與反射部36之周邊之手插入部3的表面相同面之位置上，或配置成位於相對於反射部36之周邊之手插入部3的表面凹陷的位置，由於手接觸反射部36的可能性降低，故安全性、反射率、及殺菌性能提升。再者，可更確實地保持反射部36對於手插入部3的固定狀態。例如，反射部36的不易剝落性獲得提升。
當在插入底部3a配置有反射部36的情形下，被反射部36所反射的光線有可能會朝向上方射出至手插入部3的外側，而照射至人的臉部等。為了防止此種事態，較理想為在插入底部3a不配置反射部36，而於插入周圍部配置反射部36。反射部36較理想為配置在與配置有UV照射裝置23之部分之手插入部3面對之部分之手插入部3的面。藉此，即可更有效率地藉由反射部36使從UV照射裝置23所照射的光線反射。反
射部36之位置的高度雖無限定，但較理想為配置在比UV照射裝置23更下方的位置。藉此，即可對於手插入部3中之下側的部分照射更多的紫外線。由於手插入部3中的下側，水滴會從上方滴落，故水滴較多。當吹出口部朝向斜下方的情形下，由於風向亦朝斜下方吹，故在手插入部3中的下側，易於附著更多的水滴。水滴塊較大的部位，係藉由高速氣流使水滴變為霧氣而易於飛散於空氣中。有鑑於此等情形，通過將反射部36配置在比UV照射裝置23更下方的位置，從而能夠對於手插入部3中的下側照射更多的紫外線，衛生性更為提升。
當要將反射部36配置於手插入部3時，手插入部3亦可具有用以配置反射部36的配置部3n。配置部3n係可形成於配置反射部36之部分的手插入部3。配置部3n係例如為配置有反射部36之手插入部3的一部分。配置部3n係例如為與配置有反射部36之手插入部3一體成形者。配置部3n係例如為與配置有反射部36的手插入部3相同的構件。
配置部3n係例如具備配置面3p和配置側壁部3q。配置面3p係例如為平坦的面。配置面3p係例如靠近反射部36的背面36b。配置面3p係例如直接或間接地連接於背面36b。配置面3p係例如平行於背面36b的面。若配置面3p為平坦的面，則易於固定反射部36。配置面3p係在供配置反射部36的手插入部3中配置於凹陷的位置。
配置側壁部3q係構成配置部3n的側壁。當要實質地將長方體形狀的反射部36配置於配置部3n時，配置側壁部3q係例如除反射面36a以外形成四面。配置側壁部3q係具有彼此面對的面。配置側壁部3q係可相對於配置面3p呈垂直，亦可傾斜，亦可稍微傾斜。配置側壁部3q
傾斜的方向，係彼此面對之配置側壁部3q之間的距離會隨著從配置面3p遠離而增加的方向。所謂「稍微傾斜」係例如相對於配置面3p之配置側壁部3q的角度為例如90.2度至100度左右，更佳為90.5度至95度左右。若為此種角度，則易於用金屬模具來成型，並且即使反射側壁部36c為相對於反射面36a和背面36b為垂直之面的情形下，不易在配置側壁部3q與反射側壁部36c之間產生間隙。由於不易產生間隙，故塵埃或水不易侵入而維持清潔，並且可更確實地維持相對於配置部3n之反射部36的固定狀態。此外，若配置側壁部3q相對於反射側壁部36c為平行，則塵埃或水不易侵入而維持清潔，並且可更確實地維持相對於配置部3n之反射部36的固定狀態。
配置側壁部3q係配置在比配置面3p更接近供配置反射部36之周邊之手插入部3之表面的位置。當在配置部3n配置有反射部36時，配置側壁部3q係靠近或接觸反射側壁部36c。配置側壁部3q的各面係可配置成相對於靠近或接觸之反射側壁部36c的各面實質地平行。
反射側壁部36c中之反射部36的厚度，例如對於反射面36a呈垂直之方向的厚度，係可比關於與該方向為相同方向之配置側壁部3q之長度亦即深度更短。當在反射部36的背面36b與配置面3p之間設有接著構件的情形下，該接著構件的厚度與反射部36之厚度的和，亦可比配置側壁部3q的上述深度更短。此外，位於配置側壁部3q之遠離配置面3p的位置的端部，係可配置在比反射面36a更接近手插入空間5的位置。如此一來，反射面36a係可配置在比供配置反射部36之附近之手插入部3的表面更凹陷的位置。藉此，手會接觸反射部36的可能性降低，故安全性、反射
率、及殺菌性能提升。再者，可更確實地保持反射部36之對於手插入部3的固定狀態。例如，反射部36的不易剝落性提升。
手乾燥裝置1亦可具備通過將片材組裝成立體所形成的組裝體37以作為上述之反射部36的另一型態。圖29係顯示相當於反射部36之另一型態之組裝體37之一例的立體圖。圖30係顯示在將圖29所示之組裝體37組裝成立體前之片材的展開圖。
組裝體37係可設置於手插入部3。組裝體37係顯示反射部36之另一型態的一例。換言之，組裝體37係反射率高的構件，主要為了提高反射率而設置。組裝體37雖可為樹脂構件，但較理想為以鋁等金屬構件構成。此外，組裝體37亦可為施行有如上述的表面處理以提高反射率者。組裝體37係可安裝於現有製品。例如，組裝體37亦可為可設置於已安裝於洗手間空間之手乾燥裝置1的手插入部3者。組裝體37係可使用雙面黏貼帶、接著劑、螺釘等固定構件而安裝於手插入部3，亦可不使用固定構件而安裝於手插入部3。
組裝體37係適用於在要將反射部36設於面向手插入空間5之手插入部3之表面中的複數個面的情形。例如，組裝體37適用於在要將反射部36設於手插入部3之前側的面、後側的面、左側的面、右側的面及底面中之二個以上的面的情形。
組裝體37係例如由一部件構成。亦即，組裝體37係彎折或具有彎曲以配置於複數個面者。此外，組裝體37係施行有彎折或彎曲等彎曲加工者。
如圖30所示，施行彎曲加工前的組裝體37係板狀構件。在以下的說明中，係將組裝體37之施行彎曲加工之前之板狀的狀態稱為組裝片材38。圖31係顯示組裝片材38之另一例的展開圖。組裝體37和組裝片材38亦可具備組裝底部37a、及組裝周圍部。組裝底部37a係例如在將組裝體37設置於手插入部3之際位於插入底部3a或是面對插入底部3a，或是接觸於插入底部3a。組裝周圍部係位於手插入部3的插入周圍部或面對插入周圍部，或接觸於插入周圍部。在以下的說明中，係將「位於」、「面對」、「接觸於」統稱為「位於」。
組裝周圍部係包含屬於位於插入前部3b之部位的組裝前部37b、屬於位於插入後部3c之部位的組裝後部37c、和屬於位於插入側部3d之部位之組裝側部中的至少一者。組裝前部37b和組裝後部37c係配置在彼此面對的位置。組裝側部係包含屬於位於插入左部3g之部位的組裝左部37g和屬於位於插入右部3h之部位的組裝右部37h中的至少一者。組裝左部37g與組裝右部37h係配置在彼此面對的位置。
在組裝體37中，組裝前部37b與組裝左部37g係相鄰。在組裝體37中，組裝前部37b和組裝左部37g係配置成彼此垂直或接近垂直的方向。在組裝體37中，組裝前部37b與組裝右部37h係相鄰。在組裝體37中，組裝前部37b和組裝右部37h係配置成彼此垂直或接近垂直的方向。在組裝體37中，組裝後部37c與組裝左部37g係相鄰。在組裝體37中，組裝後部37c和組裝左部37g係配置成彼此垂直或接近垂直的方向。在組裝體37中，組裝後部37c和組裝右部37h係相鄰。在組裝體37中，組裝後部37c和組裝右部37h係配置成彼此垂直或接近垂直的方向。
當組裝體37配置於手插入部3時，組裝底部37a係配置成水平或接近水平的方向。當組裝體37設置於手插入部3時，組裝周圍部係配置成平行於鉛直線或接近平行於鉛直線的方向。
形成組裝體37的各個部位，大部分為平面。形成組裝體37的各個部位，係在與鄰接的部位之間具有彎曲部。彎曲部係可含有垂直折彎者。此外，彎曲部亦可為組裝體37中之鄰接的複數個部位所共有的部分。例如，位於組裝前部37b與組裝右部37h之間的彎曲部，係可為組裝前部37b的一部分，亦可為組裝右部37h的一部分，亦可為由組裝前部37b的一部分和組裝右部37h的一部分所構成。
組裝體37和組裝片材38係具備組裝周圍部之複數個部位中的至少一者。換言之，組裝體37和組裝片材38係具備組裝前部37b、組裝後部37c、組裝左部37g、和組裝右部37h中的至少一者。
組裝體37係以手插入部3的主要功能不會受損之方式適當地配置。例如，組裝體37係配置或成形為不會覆蓋吹出口部、配置於手插入部3的各種感測器和排水口8。例如，在組裝體37設置於手插入部3的狀態下，組裝體37的上部係可配置在比吹出口部和各種感測器更低的位置。此外，在組裝體37配置於手插入部3的狀態下，組裝體37的上部係可配置在比吹出口部或各種感測器更上部，且可在組裝體37具備有開口或缺口俾不覆蓋吹出口部或各種感測器。換言之，組裝體37係在設置於手插入部3的狀態下，配置或成形為能夠辨識吹出口部和各種感測器。
圖29所示的組裝體37、和圖30所示的組裝片材38係具備組裝底部37a、組裝後部37c、和組裝左部37g。作為不同之例，組裝體37
亦可為例如不具備組裝底部37a，而具備組裝周圍部之複數個部位中之至少相鄰的二個部位者。
圖31所示的組裝片材38係具備組裝底部37a、組裝前部37b、組裝後部37c、組裝左部37g和組裝右部37h。如此，組裝體37亦可為例如具備組裝周圍部之複數個部位中之至少三個部位、和組裝底部37a者。
組裝片材38亦可為例如板金構件。組裝片材38係由一個構件所構成。在組裝體37和組裝片材38的一個部位、與鄰接於該部位的部位之間設有彎曲部。組裝片材38係以可彎曲之方式由薄板狀者構成。
圖32和圖33係示意性地顯示用以維持已將組裝片材38組裝為組裝體37之狀態之構造之例的圖。組裝片材38係具備圖32所示的凸本體部38a、和圖33所示的凹本體部38c。例如，凸本體部38a和凹本體部38c的各者係相當於組裝底部37a、組裝前部37b、組裝後部37c、組裝左部37g、和組裝右部37h中的任一者。
如圖32所示，凸形狀部38b係形成為從凸本體部38a的一部分突出。凸形狀部38b的數量係可為一個亦可為複數個。
如圖33所示，凹形狀部38d形成於凹本體部38c。凹形狀部38d係相當於凹本體部38c的一部分呈現朝相對於組裝片材38之厚度方向為垂直的方向凹陷的形狀的缺口。凹形狀部38d的數量較佳為與凸形狀部38b的數量相同。
組裝片材38的厚度係例如可涵蓋組裝片材38的整體呈均勻。凸本體部38a、凸形狀部38b、凹本體部38c和凹形狀部38d的厚度方向係與組裝片材38的厚度方向相同的方向。
組裝片材38係通過使彎曲部彎曲而成為立體形狀。此時，在組裝片材38中，凸形狀部38b和凹形狀部38d的位置設成配置在凸形狀部38b和凹形狀部38d會彼此咬合的位置。凸形狀部38b的形狀係鉤型形狀、附有倒鉤的形狀、防止脫落形狀等。凹形狀部38d係呈現咬合於凸形狀部38b的形狀。凸形狀部38b和凹形狀部38d係如拼圖板(jigsaw puzzle)般彼此嵌合。
在以下的說明中，如圖32所示，將垂直於凸本體部38a和凸形狀部38b之厚度方向的方向設為第一方向、垂直於該厚度方向和第一方向雙方的方向設為第二方向。凸形狀部38b係從凸本體部38a朝向第一方向突出。在與凸本體部38a之第一方向的距離為較短之第一距離D1的第一位置中，關於第二方向之凸形狀部38b的長度成為L1。在與凸本體部38a之第一方向的距離為比第一距離D1更長之第二距離D2的第二位置中，關於第二方向之凸形狀部38b的長度係成為比L1更大的L2。亦即，凸形狀部38b係呈現出接近其前端之第二位置的粗細L2比接近根部之第一位置的粗細L1更大的形狀。
例如，凹形狀部38d係從凹本體部38c之特定的邊凹陷而成者。在以下的說明中，如圖33所示，係將從相當於凹本體部38c之中心或重心的位置38e至形成有凹形狀部38d之特定之邊為止的方向設為第三方向、且將垂直於凹本體部38c和凹形狀部38d之厚度方向及第三方向之雙
方的方向設為第四方向。在起自位置38e之第三方向的距離為較短的第三距離D3的第三位置中，關於第四方向之凹形狀部38d的長度係成為L3。在起自位置38e之第三方向的距離為比第三距離D3更長之第四距離D4的第四位置中，關於第四方向之凹形狀部38d的長度係成為比L3更小的L4。亦即，關於在接近凹形狀部38d之開口部之第四位置中之第四方向之凹形狀部38d的寬度L4，係比關於在比第四位置更位於凹形狀部38d之內部之第三位置之第四方向之凹形狀部38d的寬度L3更小。
圖30和圖31所示之例的組裝片材38中，亦設有凸形狀部38b和凹形狀部38d。通過凸形狀部38b和凹形狀部38d彼此咬合，從而達成作為脫落防止構造的功能。結果，如圖29所示，可更穩定地維持組裝體37的立體形狀。
圖34係顯示圖31所示之組裝片材38之變形例的展開圖。在圖34的變形例中，係在組裝底部37a設有實質為長方形的開口37i。開口37i的面積係比除開口37i以外之部分之組裝底部37a的面積更大。通過設置此種開口37i，插入底部3a之表面的大半不會被紫外線反射率高的材料所覆蓋，而會相對於手插入空間5露出。結果，可抑制朝向插入底部3a照射的紫外線朝向上方反射，故可更確實地減低洩漏至手插入空間5之外部的紫外線。
組裝體37較理想為具有配合手插入部3之內部尺寸的外部尺寸，俾在配置於手插入部3時不會對於手插入部3產生間隙。另外，亦可用與圖28相同的構造將組裝體37配置於手插入部3。例如，在組裝體37配置於手插入部3時，組裝體37中之露出於手插入空間5之面的背面係連接於配置
面3p。例如，組裝前部37b、組裝後部37c、組裝左部37g、組裝右部37h的至少一個背面係連接於配置面3p。此時，組裝前部37b、組裝後部37c、組裝左部37g、組裝右部37h的至少一者之背面中之連接於配置面3p之部位的反射側壁部，亦可為對於配置側壁部3q靠近或接觸。換言之，配置側壁部3q亦可位於組裝體37的正上方的位置。換言之，相當於設置組裝體37之位置之手插入部3之插入周圍部的表面，係可配置在相對於鄰接於組裝體37之位置之手插入部3的表面更凹陷的位置。藉此，當配置組裝體37時，組裝體37係配置成位於與組裝體37之周邊之手插入部3之表面相同的面上之位置，或配置成位於相對於組裝體37之周邊之手插入部3之表面凹陷的位置。藉此，手接觸組裝體37之表面或手接觸組裝體37之緣部的可能性變低，故安全性、反射率、及殺菌性能提升。此外，縱使組裝體37與手插入部3的接著變弱，組裝體37亦不會朝上方移動。此外，亦可不接著地將組裝體37直接配置於手插入部3。此時，亦可在組裝體37不會脫離手插入部3的狀態下使用。再者，組裝體37亦可有藉由彈性而恢復成組裝片材的狀態亦即平面形狀之狀態的力作用。此時，由於有配置側壁部3q，故相對於手插入部3的位置不會偏移。
面向手插入空間5的表面亦可包含：第一區域，係對於光源24所產生之光之主波長的光具有70%以上的反射率；及第二區域，係對於光源24所產生之光之主波長的光具有30%以下的反射率。藉此，即能夠藉由將第一區域所反射的紫外線照射至其他區域從而進行廣範圍的照射，並且以第二區域抑制紫外線的反射，從而更確實地減低洩漏至手插入空間5之外部的紫外線。例如，亦可在插入前部3b、插入後部3c、插入左部3g、
插入右部3h中的至少一者設置第一區域，在插入底部3a設置第二區域。亦可藉由設置反射部36來形成第一區域，且將未被反射部36所覆蓋的區域設為第二區域。
另外，手乾燥裝置1亦可為更具有施行有光催化劑處理的部分者。所謂光催化劑係藉由照射光以產生催化劑作用者。例如，當產生催化劑作用時，細菌或病毒會被分解而無害化。所謂光催化劑係例如由氧化鈦所構成。例如，從UV照射裝置23所照射的光線係直接或在反射之後，照射至手乾燥裝置1的至少一部分。茲將此種被UV之光線照射的面稱為被照射面。例如，可對於被照射面的至少一部分施以光催化劑處理。光催化劑處理係可施行於被照射面的表面。此外，亦可為在成型之前的步驟，施以光催化劑材料和樹脂材料的混練，且藉由將該混練後的材料成型後的部件形成被照射面者。例如，當被照射面的材料為樹脂材料時，該材料係可為混練有光催化劑材料者。當為混練有光催化劑材料的材料的情形下，即使表面因為擦拭清掃等而被削去，亦仍易於持續光催化劑功效。被施行有光催化劑處理的被照射面，係當被照射UV的光線時，除至此所述之UV所進行的殺菌作用外，還會藉由催化劑反應而分解細菌或病毒。藉此，細菌或病毒被殺菌且無害化的速度將更為快速。因此，感染危險更為降低。
此外，UV照射裝置23亦可進行空氣的殺菌，亦可進行手乾燥裝置1之內部的殺菌。例如，UV照射裝置23亦可進行手乾燥裝置1之內部之風路的殺菌，亦可朝向手乾燥裝置1內部的液體照射UV進行殺菌。此時亦可提高衛生性。
實施型態2
接著雖將參照圖35來說明實施型態2，惟以與前述之實施型態1的不同點為中心進行說明，共通的說明則予以簡化或省略。此外，對於與前述之要素共通或對應的要素係賦予相同的符號。
圖35係實施型態2之手乾燥裝置40之示意性的剖面圖。此剖面圖係相當於以相對於手乾燥裝置40之前後方向為垂直的平面切斷手乾燥裝置40而成的剖面前視圖。
在實施型態1中，係已說明了藉由送風機10從配置於手乾燥裝置1之底部之吸氣口16吸引氣流，且通過將從吹出口部吹出至手插入空間5的氣流吹到手而使手乾燥之例。在此實施型態1中，微細的水滴有可能會從手插入部3的側邊或上方飛出。依據實施型態2的手乾燥裝置40，即能夠比實施型態1更減低水滴的飛散。
以下記載特別重要的點。以下的點係與實施型態1相同。具有通氣孔6的吹出口部係配置於手插入部3。例如，吹出口部係配置於插入周圍部。例如，吹出口部係配置於插入前部3b或插入後部3c。插入底部3a係形成有排水口8。插入側部3d的上部係可例如配置於與插入前部3b之上部相等的高度，亦可配置於與插入後部3c之上部相等的高度。當送風機10被驅動時，空氣即從吹出口部的通氣孔6吹出。
以下以與實施型態1的不同點為中心進行說明。手乾燥裝置40係具備相對於手插入空間5開口的吸引口41。吸引口41係例如配置於手插入部3。吸引口41亦可配置於相對於吹出口部相鄰之手插入部3的部位。例如，如圖35所示，當吹出口部配置於插入前部3b或插入後部3c時，吸引口41係可配置於插入側部3d。或者，吸引口41亦可配置於插入底部
3a。吸引口41係配置於露出於手插入空間5的位置。圖示之例的吸引口41係配置於比吹出口部更低的位置。惟，吸引口41亦可配置於比吹出口部更高的位置。手乾燥裝置40係可僅具備一個吸引口41，亦可具備複數個吸引口41。例如，如圖示之例，手乾燥裝置40亦可具備有配置於插入左部3g的吸引口41、和配置於插入右部3h的吸引口41。一個吸引口41亦可為由複數個小孔聚集所形成者。藉此，使吸引風速提高，並且可減低使用者誤將手指等插入於吸引口41的可能性，安全性提升。
手乾燥裝置40係具備吸引風路42。吸引風路42係與吸引口41流體連通。換言之，從吸引口41所吸引的空氣係通過吸引風路42。吸引風路42係可具備複數個。例如，亦可具備有與配置於插入左部3g的吸引口41流體連通的吸引風路42，及與配置於插入右部3h之吸引口41流體連通的吸引風路42。
吸引風路42的至少一部分係可配置於本體殼體2的罩蓋部、與手插入部3之間。吸引風路42的至少一部分亦可配置於形成有罩蓋部和手插入部3的區域。例如，吸引風路42係具有配置在側邊罩蓋2c和插入側部3d所形成之區域的部分。例如，吸引風路42係具有配置在左邊的側邊罩蓋2c和插入左部3g所形成之區域的部分。例如，吸引風路42係具有配置在右邊的側邊罩蓋2c和插入右部3h所形成之區域的部分。換言之，罩蓋部和手插入部3係兼具形成吸引風路42的構件。
吸引風路42係配置在與吸引口41相等之高度的位置、或是比吸引口41更低的位置。吸引風路42係對於送風機10的吸氣側直接或間接地連接。換言之，當送風機10作動時，即會產生空氣從手插入空間5
經由吸引風路42而吸引至吸引口41的氣流。吸引風路42亦可與實施型態1所記載之吸氣風路18流體地連接。
若為本實施型態，當將手進行乾燥時，可將手插入空間5的空氣吸入至吸引口41。藉此，即可抑制水滴朝手插入空間5的外部飛出。因此，相較於實施型態1，能夠減低水滴的飛散。
吸引風路42係例如可由吸引風路421、吸引風路422和吸引風路423所構成。吸引風路421的一端係與吸引口41流體連接。吸引風路421的至少一部分係沿著上下方向形成。吸引風路421係使從吸引口41流入的空氣朝下方向移動。吸引風路421的一端係配置於比送風機10更上方。吸引風路421的另一端係配置於比送風機10更下側。
吸引風路422的一端係與吸引風路421的另一端流體連接。吸引風路422的至少一部分係沿著手乾燥裝置40的左右方向或前後方向形成。吸引風路422係具備使通過吸引風路421的空氣移動至手乾燥裝置40之頂視觀看時之中心側的風路。例如，從上方觀看手乾燥裝置40的內部時，吸引風路422的一端係配置在手乾燥裝置40之接近左端、右端、前端、後端之任一端的位置。亦即，從上方觀看手乾燥裝置40的內部時，吸引風路42的一端係配置在不與送風機10重疊的位置。當從上方觀看手乾燥裝置40的內部時，吸引風路422之另一端側的至少一部分，係配置在被送風機10覆蓋的位置。吸引風路422的至少一部分係可沿著水平方向而形成，亦可沿著相對於水平面為傾斜的方向而形成。
吸引風路423的一端係與吸引風路422的另一端流體連接。吸引風路423係例如配置於送風機10的下側。吸引風路423的至少一部
分係沿著上下方向而形成。吸引風路423係具備使通過吸引風路422的空氣移動至上方的風路。吸引風路423係配置在比手乾燥裝置40的左端和右端更接近中心側的位置。吸引風路423的另一端係與送風機10的吸氣側流體連接。
吸引風路422和吸引風路423係可呈現成為一體的形狀。例如，吸引風路422和吸引風路423亦可為當從上方觀看手乾燥裝置40的內部時，使從吸引口41流入的空氣移動至手乾燥裝置40的中心側，同時當從前側觀看手乾燥裝置40的內部時使空氣從下方往上方移動的風路。
在吸引風路421的下方係配置有排水箱9。在吸引風路422和吸引風路423的下方係配置有排水箱9。
當手配置於手插入部3時，送風機10即作動，且從吸引口41吸入的氣流通過吸引風路42和送風機10，從吹出口部吹出至手插入空間5。來自吹出口部的氣流吹到手，將附著於手上的水分吹散。藉由送風機10的作動，在吸引口41產生吸引力，由吸引口41吸引從吹出口部所吹出之空氣的至少一部分。例如從一方向吹至手之氣流的至少一部分，係朝向與一方向實質為垂直的方向移動，從而接近吸引口41且被吸引。
此外，吸引口41係吸引從手或手插入部3被吹散的水滴、以及浮游於手插入空間5的水滴。從吸引口41被吸引的水滴，係藉由後述的水滴去除手段等從空氣分離，且蓄積於排水箱9中。
在從吸引口41被吸引的空氣中，係包含從吹出口部吹出的空氣。從吸引口41被吸引的空氣係藉由送風機10而從吹出口部再度吹出。
因為重力而落在插入底部3a的水滴，和順著插入周圍部的壁面而流下至插入底部3a的水滴係藉由形成於插入底部3a的傾斜面而聚集於排水口8，且從排水口8被回收至排水箱9。除此之外，吸引口41還吸引浮游於手插入空間5的水滴和空氣。藉此，使吹出至手插入空間5之外部的水滴和空氣減少，衛生性提升。
水滴係易於聚積於插入底部3a。聚積於插入底部3a的水滴有可能會飛散。由於從吹出口部朝斜下方吹出的氣流，許多水滴會從手的指尖側亦即下側飛散。當吸引口41位於比吹出口部更低的位置時，可將此等飛散的水滴立刻吸引至吸引口41。因此，衛生性更提升。
另一方面，當吸引口41位於比吹出口部更高的位置時，從手插入部3飛散的水滴或從手飛散的水滴在要移動至手插入空間5的外部時，易於將該水滴吸引至吸引口41。因此，在此情形下亦可提升衛生性。
手乾燥裝置40亦可具備至少一個水滴去除手段。水滴去除手段係從通過吸引風路42的氣流去除水滴。手乾燥裝置40係例如具有第一水滴去除手段43。第一水滴去除手段43係配置於吸引風路422，亦可配置於吸引風路423，亦可配置於吸引風路422與吸引風路423的交界部。
第一水滴去除手段43係主要去除微細的水滴。第一水滴去除手段43係去除例如5μm以下的粒子或霧氣。第一水滴去除手段43係例如具備空氣過濾器(air filter)。第一水滴去除手段43較佳為具備HEPA過濾器。第一水滴去除手段43係將吸氣流中所含之微細的水滴或微粒子從吸氣流的空氣予以去除進行捕捉。藉由第一水滴去除手段43去除微細的水滴和微粒子後之清淨的空氣，係在通過送風機10之後從吹出口部吹出。
手乾燥裝置40係可更具備改善第一水滴去除手段43之衛生性的衛生性改善手段(未圖示)。衛生性改善手段係例如作用於第一水滴去除手段43。衛生性改善手段係例如配置在第一水滴去除手段43的附近。衛生性改善手段係例如將第一水滴去除手段43加熱的加熱手段。加熱手段係例如為加熱器。由於手乾燥裝置40之重複的使用，當第一水滴去除手段43的水分含量變多時，有可能會雜菌繁殖，且衛生狀態惡化。相對於此，當藉由加熱手段將第一水滴去除手段43加熱時，第一水滴去除手段43的溫度即變高。結果，雜菌的繁殖受到抑制，雜菌的數量減少，衛生性提升。此外，藉由以來自加熱手段的熱使附著於第一水滴去除手段43的水分蒸發，從而可作成雜菌不易繁殖的環境，衛生性提升。此外，對於藉由加熱手段所蒸發的水分，亦可藉由加熱減少雜菌的數量，衛生性提升。
此外，衛生性改善手段亦可為例如UV照射手段。UV照射手段亦可為例如與實施型態1所記載的UV照射裝置23相同者。通過由UV照射手段將紫外線照射至第一水滴去除手段43，即能夠使附著於第一水滴去除手段43的微生物去活化，因此衛生性提升。UV照射手段亦可為例如照射UVA之波長域的紫外線者。UVA係殺菌能力比UVB或UVC低，惟不易使樹脂劣化，對於人體的不良影響亦較低。因此，若為UVA，則可進行長時間照射或恆常照射。
當具有複數個吸引風路42時，例如，當具有連接於插入左部3g之吸引口41的吸引風路42，和連接於插入右部3h之吸引口41的吸引風路42時，可具備將複數個吸引風路42合流為一個的合流部。合流部係可設於比第一水滴去除手段43更上游側。換言之，亦可構成為在來自複
數個吸引風路42的氣流合流之後，藉由第一水滴去除手段43去除水滴。當合流部配置於第一水滴去除手段43的上游側時，第一水滴去除手段43只要一個即可，因此零件數可以較少。或者，合流部亦可設置在比第一水滴去除手段43更下游側。亦可在來自複數個吸引風路42的氣流藉由第一水滴去除手段43去除水滴之後，藉由合流部而合流為一個氣流。
手乾燥裝置40係例如具有第二水滴去除手段44。第二水滴去除手段44係例如可配置於吸引風路421，亦可配置於吸引風路422，亦可配置於吸引風路423，亦可配置於吸引風路421與吸引風路422的交界部，亦可配置於吸引風路422與吸引風路423的交界部。
相較於第一水滴去除手段43，第二水滴去除手段44係用以去除粒徑相對較大的水滴者。第二水滴去除手段44係配置於比第一水滴去除手段43更上游側。換言之，從吸引口41吸引而移動於吸引風路42的空氣係在通過第二水滴去除手段44之後，通過第一水滴去除手段43。之後，此空氣係通過送風機10，且從吹出口部吹出。
第二水滴去除手段44係例如由傾斜部構成。傾斜部係例如包含一個或複數個板狀構件44a。傾斜部的各者，亦即板狀構件44a係構成為薄板狀。複數個板狀構件44a係例如實質地彼此平行地配置。複數個板狀構件44a係例如實質地等間隔地配置。複數個板狀構件44a所形成的傾斜部，係呈現出例如百葉窗板形狀。
板狀構件44a係相對於所配置之位置之吸引風路42的軸方向或該風路之空氣流動的方向傾斜地配置。例如，當吸引風路422配置有板狀構件44a的情形下，係相對於吸引風路422的軸方向或吸引風路422
之空氣之流動的方向呈傾斜地配置板狀構件44a。例如，當吸引風路423配置有板狀構件44a的情形下，係相對於吸引風路423的軸方向或相對於吸引風路423之空氣之流動的方向呈傾斜地配置板狀構件44a。
板狀構件44a係具有高端部和低端部。低端部係配置在比高端部更低的位置。包含高端部和低端部的傾斜面或高端部和低端部所形成的傾斜面，係對於鉛直面傾斜地配置。傾斜面係例如朝比水平面更接近鉛直面的方向配置。例如，水平面與傾斜面所構成的角度係45度至80度左右。較佳為55度至75度左右。
如圖35之例所示，當第二水滴去除手段44配置於吸引風路422時，亦即當在沿著水平方向的吸引風路42配置有第二水滴去除手段44的情形下，複數個板狀構件44a係配置成朝上下方向排列。
手乾燥裝置40係具有頂視觀看時的中心。所謂中心係例如可為重心位置。頂視觀看時之手乾燥裝置40的中心，係可為手乾燥裝置40之左端與手乾燥裝置40之右端的中間，而且手乾燥裝置40之前端與手乾燥裝置40之後端之中間的位置。當第二水滴去除手段44配置於吸引風路422時，板狀構件44a的高端部係配置在比板狀構件44a的低端部更接近頂視觀看時之手乾燥裝置40之中心的位置。此時，吸引風路422係形成朝向中心側而且上方的吸引風路。
在吸引風路421中係形成朝向下方的風路，在吸引風路422中係至少形成朝水平方向移動的風路。此外，吸引風路422係構成為藉由傾斜部亦即板狀構件44a的傾斜面，而成為朝上方向移動的風路。換言之，朝向下方之吸引風路421的氣流，係藉由傾斜部亦即板狀構件44a的傾斜
面而急遽地改變方向為斜上方向。因此，會在氣流從吸引風路421前進至吸引風路422時產生離心力的作用。一般而言，離心力係與質量成比例。換言之，離心力係與體積和密度的乘積成比例。由於水滴密度比空氣更大，故比空氣更易於受到離心力的影響。因此，水滴比空氣更不易通過吸引風路422。此外，上述傾斜面係朝向吸引風路423向斜上方傾斜的面。因此，當附著於傾斜面的水滴聚集而使體積變大時，水滴會因為重力而沿著傾斜面滴落。因此，附著於傾斜面的水滴不易朝向吸引風路423側。因此，水不易進入送風機10，不易故障。此外，含有微生物的水滴亦不易從吹出口部飛散。因此，衛生性更提升。
當第二水滴去除手段44配置於吸引風路423時，亦即當第二水滴去除手段44配置於沿著上下方向的吸引風路42時，傾斜部的複數個板狀構件44a係配置成朝水平方向排列。此情形下亦利用離心力，從而可將水滴從空氣予以更效率良好地分離，且可獲得上述的功效。
另外，手乾燥裝置40亦可從吸引口41以外之處吸引空氣。例如，第一水滴去除手段43的至少一部分係暴露於外氣，手乾燥裝置40亦可從第一水滴去除手段43的下方直接經由第一水滴去除手段43而吸引空氣。從通氣孔6吹出的空氣會有帶熱的情形。由於空氣循環，空氣的溫度有可能會過度上升。通過一併吸引非從通氣孔6所吹出之空氣的外氣，從而可更確實地防止異常的溫度上升。另外，第二水滴去除手段44亦可設置在複數個場所。吸引口41係例如設於插入周圍部。第二水滴去除手段44亦可設於吸引口41的附近。第二水滴去除手段44亦可以與吸引口41成為一體之方式設置。換言之，亦可構成為從吸引口41吸引的空氣，在朝下方移動
於吸引風路42之前，通過第二水滴去除手段44。例如，板狀構件44a係相對於水平面傾斜地配置。例如，板狀構件44a係配置成隨著從吸引口41朝向吸引風路42而朝向上方。例如，板狀構件44a係以從吸引口41吸入的空氣朝上方移動之方式傾斜地配置。如此，由於第二水滴去除手段44配置在吸引口41的附近，或以與吸引口41成為一體之方式設置，使得從手分離之水滴的一部分附著於第二水滴去除手段44。附著於板狀構件44a的水滴係落下至插入底部3a，且從排水口8排出。如此，通過配置第二水滴去除手段44，即能夠抑制流入於吸引風路42的水滴。藉此，附著於第一水滴去除手段43的水分減少，衛生性更為提升。
實施型態3
接著雖參照圖36來說明實施型態3，惟將以與前述之實施型態1的不同點為中心進行說明，共通的說明則予以簡化或省略。此外，對於與前述之共通或對應的要素係賦予相同的符號。
圖36係實施型態3之手乾燥裝置45之上部的側視圖。如圖36所示，手乾燥裝置45係更具備遮蔽體46。手乾燥裝置45係構成為可切換第一狀態和第二狀態。第二狀態係由遮蔽體46覆蓋會成為手進入至手插入空間5之入口之手插入開口7之至少一部分的狀態。第一狀態係手插入開口7中之被遮蔽體46所覆蓋的比例比第二狀態小或成為零的狀態。當在第二狀態中從UV照射裝置23照射紫外線時，遮蔽體46即遮蔽通過手插入開口7而朝向手插入空間5之外部的紫外線。藉此，即可更確實地防止該紫外線照到人體，因此可獲得高安全性。
第一狀態係可將手從手插入開口7插入至手插入空間5的狀態。第一狀態係手插入開口7開放的狀態。第一狀態係遮蔽體46未遮蔽手插入開口7，手插入開口7維持著開放的狀態。第一狀態係當從UV照射裝置23照射著紫外線時，所照射之光線的至少一部分可能會朝比手插入部3更上方照射的狀態。
所謂第二狀態係例如為不推薦將手插入至手插入空間5的狀態。所謂第二狀態係例如手對於手插入空間5的插入實際上困難或不可能的狀態。所謂第二狀態係例如遮蔽體46遮蔽著手插入開口7的狀態。所謂第二狀態係例如比第一狀態，其手插入開口7中之開放的區域實際上更狹窄的狀態。當假定光源24以相等的輸出點亮著的情形下，朝比第二狀態時之手插入部3更上方的紫外線照射量，係比朝比第一狀態時之手插入部3更上方的紫外線照射量更少。
實施型態1的手乾燥裝置1係未具備遮蔽體46。因此，從UV照射裝置23照射之光線的一部分，有可能會從UV照射裝置23朝比手插入部3更上方直接照射，或者，會在被面向手插入空間5之手插入部3的表面或反射部36反射之後朝比手插入部3更上方照射。如此一來，將朝比手插入部3更上方照射之光線之量、照度或照射量定義為「洩漏量」。洩漏量愈少，則周圍的人暴露於紫外線的量就愈少，安全性更為提高。
遮蔽體46係防止紫外線的穿透，且防止紫外線朝手插入空間5的外部放射。遮蔽體46係將特定之紫外線之波長的大部分予以反射或吸收者，更佳為吸收波長的大部分。更具體而言，由遮蔽體46反射或吸收從UV照射裝置23所照射之紫外線區域之波長的大部分。例如，遮蔽體46
係由對於UV照射裝置23之主波長的光線具有20%以下之穿透率的材料所作成，較佳為由具有20%以下之穿透率的材料所作成。例如，遮蔽體46係由將UV照射裝置23之主波長之光線之穿透率和反射率抑制為20%以下，較佳為抑制為10%以下的材料所構成。例如，遮蔽體46係由將UV照射裝置23之主波長之光線之穿透率和吸收率抑制為20%以下，較佳為抑制為10%以下的材料所構成。遮蔽體46的大部分係由樹脂材料或金屬材料所構成。
遮蔽體46係可配置於手插入部3中的上部，亦可配置於比手插入部3更上方。遮蔽體46係配置於比UV照射裝置23更上方。
在本實施型態中，係藉由由遮蔽體46以旋轉軸46a為中心旋轉移動，切換為第一狀態亦即開狀態和第二狀態亦即閉狀態。旋轉軸46a係相對於手乾燥裝置45的左右方向為平行。遮蔽體46係具備壁部46b、及將壁部46b連接於旋轉軸46a的支撐部46c。在圖示之例中，壁部46b係呈現沿著以旋轉軸46a為中心之圓筒面的曲面狀。在第二狀態中，係由壁部46b從上方覆蓋手插入開口7的至少一部分。第一狀態係由壁部46b移動至本體殼體2的前側，且手插入開口7張開。
通過由使用者以手動方式移動遮蔽體46，而切換為第一狀態和第二狀態。
手乾燥裝置45係可具備使遮蔽體46移動的致動器(actuator)(未圖示)。控制部22亦可依據由手偵測部21所作的偵測或由人偵測部39所作的偵測，而驅動該致動器來移動遮蔽體46，藉此自動地切換第一狀態和第二狀態。例如，控制部22亦可依據手偵測部21偵測到手
的情況或人偵測部39偵測到人的情況，從第二狀態切換為第一狀態。此外，控制部22亦可依據手偵測部21未偵測到手的情況或是人偵測部39未偵測到人的情況而從第一狀態切換為第二狀態。
在本實施型態中，手偵測部21係可配置在比遮蔽體46更上方。或者，手乾燥裝置45係除實施型態1的手偵測部21外，還具備配置在比遮蔽體46更上方的手偵測手段，且依據該手偵測手段所進行之手的偵測，而切換第一狀態和第二狀態。
手乾燥裝置45亦可更具備構成為當從第二狀態切換為第一狀態時，使UV照射裝置23之光源24的輸出降低、或使光源24的輸出為零的輸出變更手段。亦即，亦可以在第二狀態時實施UV照射裝置23所進行的紫外線照射，在第一狀態時抑制UV照射裝置23所進行的紫外線照射之方式，藉由該輸出變更手段來控制。藉此，即可更確實地防止來自UV照射裝置23的紫外線照到人體。該輸出變更手段亦可例如藉由控制部22來達成。
以下說明手偵測部21或人偵測部39的偵測狀態、UV照射裝置23之光源24的輸出、和遮蔽體46之動作的關係之例。在剛從由人偵測部39偵測到無人的狀態，變為由人偵測部39偵測到有人的狀態之後，輸出變更手段係使UV照射裝置23之光源24的輸出降低或使光源24的輸出為零。之後，手乾燥裝置45係從第二狀態切換為第一狀態。此外，在剛從由手偵測部21偵測到有手的狀態或由人偵測部39偵測到有人的狀態，變為由手偵測部21偵測到無手的狀態或由人偵測部39偵測到無人的狀態之時點之後，或從該時點起經過預定的時間之後，手乾燥裝置45係從第一狀態切換
為第二狀態。之後、或經過預定的時間之後，輸出變更手段係使UV照射裝置23之光源24的輸出增加、或使光源24為點亮狀態。
在手乾燥裝置45中，亦可設置遮蔽體46作為可拆裝自如的配件(attachment)。通過設置遮蔽體46作為拆裝自如的配件，即能夠對於未具備有遮蔽體46之既有的手乾燥裝置，以附加之方式安裝遮蔽體46。遮蔽體46係例如可為對於手插入部3為可拆裝，亦可為對於本體殼體2為可拆裝。
實施型態4
接著雖參照圖37來說明實施型態4，惟將以與前述之實施型態3的不同點為中心進行說明，共通的說明則予以簡化或省略。此外，對於與前述之共通或對應的要素係賦予相同的符號。實施型態4係遮蔽體的構成與實施型態3有所不同。
圖37係實施型態4之手乾燥裝置47之上部的側視圖。如圖37所示，實施型態4的手乾燥裝置47係具備有第一遮蔽體48和第二遮蔽體49以取代實施型態3的遮蔽體46。如此例所示，在本揭示中，一個手乾燥裝置47亦可具備複數個遮蔽體。第一遮蔽體48係具備壁部48a、齒輪部48b，及將壁部48a連結於齒輪部48b的支撐部48c。第一遮蔽體48係以齒輪部48b為中心旋轉移動。在圖示之例中，壁部48a係呈現沿著以齒輪部48b為中心之圓筒面的曲面狀。
第二遮蔽體49係具備壁部49a、齒輪部49b及將壁部49a連結於齒輪部49b的支撐部49c。第二遮蔽體49係以齒輪部49b為中心旋轉
移動。在圖示之例中，壁部49a係呈現沿著以齒輪部49b為中心之圓筒面的曲面狀。
齒輪部48b和齒輪部49b之各者的旋轉軸係相對於手乾燥裝置47的左右方向為平行。齒輪部48b係咬合齒輪部49b。因此，齒輪部48b係朝與齒輪部49b為相反方向旋轉。因此，第一遮蔽體48和第二遮蔽體49係彼此朝相反方向旋轉。
在第二狀態亦即閉狀態中，係由壁部48a和壁部49a從上方覆蓋手插入開口7的至少一部分。當壁部48a和壁部49a從第二狀態以離開彼此之方式旋轉時，即切換為第一狀態亦即開狀態。在第一狀態中，藉由壁部48a移動至本體殼體2的前側，壁部49a移動至本體殼體2的後側，從而使手插入開口7張開。當壁部48a和壁部49a從第一狀態以彼此接近之方式旋轉時，即切換為第二狀態。
手乾燥裝置47亦可具備使遮蔽體46移動的致動器(未圖示)。該致動器係例如只旋轉驅動齒輪部48b和齒輪部49b的任一方即可。若該致動器只旋轉驅動齒輪部48b和齒輪部49b的任一方，則其旋轉力就會傳遞至齒輪部48b和齒輪部49b的任另一方，從而可使第一遮蔽體48和第二遮蔽體49的雙方旋轉移動。
實施型態5
接著雖參照圖38來說明實施型態5，惟將以與前述之實施型態3的不同點為中心進行說明，共通的說明則予以簡化或省略。此外，對於與前述之共通或對應的要素係賦予相同的符號。實施型態5係遮蔽體的構成與實施型態3有所不同。
圖38係實施型態5之手乾燥裝置50之上部的側視圖。如圖38所示，實施型態5的手乾燥裝置50係具備遮蔽體51以取代實施型態3的遮蔽體46。在圖38中，位於第二狀態之位置的遮蔽體51以實線描繪，而位於第一狀態之位置的遮蔽體51以虛線描繪。
遮蔽體51係具備壁部51a，將壁部51a之基端部連結於本體殼體2之上部之後部的鉸鏈(hinge)部51b，及從壁部51a之前端部突出的突出部51c。遮蔽體51係以鉸鏈部51b為中心旋轉移動。在圖示之例中，壁部51a係呈現平板狀。鉸鏈部51b的旋轉軸係相對於手乾燥裝置50的左右方向為平行。
在第二狀態亦即閉狀態中，係由壁部51a從上方覆蓋手插入開口7的至少一部分。在第二狀態下，壁部51a係呈水平或接近水平。在第二狀態下，突出部51c係從壁部51a的前端部朝下突出。在第二狀態下，突出部51c係連接於本體殼體2之上部的前部。當壁部51a從第二狀態旋轉為其前端部的位置變高時，即切換為第一狀態亦即開狀態。
實施型態6
接著雖參照圖39來說明實施型態6，惟將以與前述之實施型態3的不同點為中心進行說明，共通的說明則予以簡化或省略。此外，對於與前述之共通或對應的要素係賦予相同的符號。實施型態6係遮蔽體的構成與實施型態3有所不同。
圖39係實施型態6之手乾燥裝置52之示意性的頂視圖。如圖39所示，實施型態6的手乾燥裝置52係具備複數個遮蔽體53以取代實施型態3的遮蔽體46。複數個遮蔽體53的各者係呈現實質為長方形的
板狀。複數個遮蔽體53的各者係可以旋轉軸53a為中心旋轉移動。各個旋轉軸53a係可相對於鉛直線為平行。遮蔽體53係經由旋轉軸53a連接於本體殼體2之上部的後部。遮蔽體53的壁面亦可為水行。旋轉軸53a係位於接近遮蔽體53之長度方向之一端的位置。
在第二狀態亦即閉狀態中，各個遮蔽體53係其長度方向平行於手乾燥裝置52的前後方向。在第二狀態下，係複數個遮蔽體53朝相對於其長度方向為垂直的方向排列。在第二狀態下，係複數個遮蔽體53朝手乾燥裝置52的左右方向排列。在第二狀態下，係複數個遮蔽體53從上方覆蓋手插入開口7的至少一部分。
當各個遮蔽體53從第二狀態旋轉例如90度時，即切換為第一狀態亦即開狀態，且手插入開口7張開。在第一狀態下，各個遮蔽體53係其長度方向平行於手乾燥裝置52的左右方向。在第一狀態下，係複數個遮蔽體53朝與其長度方向相同的方向排列。在第一狀態下，於頂視觀察時，各個遮蔽體53係配置成與其他遮蔽體53局部地重疊。
實施型態7
接著雖參照圖40來說明實施型態7，惟將以與前述之實施型態3的不同點為中心進行說明，共通的說明則予以簡化或省略。此外，對於與前述之共通或對應的要素係賦予相同的符號。實施型態7係遮蔽體的構成與實施型態3有所不同。
圖40係實施型態7之手乾燥裝置54的側視圖。如圖40所示，實施型態7的手乾燥裝置54係具備遮蔽體55以取代實施型態3的遮蔽體46。遮蔽體55係具備壁部55a，及將壁部55a的基端部連結於本體
殼體2之上部之後部的鉸鏈部55b。遮蔽體55係以鉸鏈部55b為中心旋轉移動。在圖示之例中，壁部55a係呈現平板狀。鉸鏈部55b的旋轉軸係相對於手乾燥裝置54的左右方向呈平行。
在第二狀態亦即閉狀態下，係由壁部55a從上方覆蓋手插入開口7的至少一部分。在第二狀態下，壁部55a係呈平行，或接近水平。當壁部55a從第二狀態旋轉為其前端部之位置變高時，即切換為第一狀態亦即開狀態。
本實施型態之手乾燥裝置54係更具備踏板(pedal)56，及移動裝置57。移動裝置57係移動遮蔽體55，使其當使用者以腳踩踏踏板56時從第二狀態切換為第一狀態，而當使用者從踏板56移開腳時則從第一狀態切換為第二狀態。若為本實施型態，使用者能夠不以手接觸遮蔽體55下而切換第一狀態和第二狀態。因此，衛生性優異。
為了便於說明，在圖40中，係均以實線及虛線描繪出位於相當於第一狀態之位置的遮蔽體55、踏板56和移動裝置57，及位於相當於第二狀態之位置之位置的遮蔽體55、踏板56和移動裝置57。
踏板56係配置在相當於站立於手乾燥裝置54之前之使用者之腳下的位置。移動裝置57係具備槓桿57a及推桿(push rod)57b。槓桿57a係能夠以支點57c為中心旋轉移動。支點57c的旋轉軸係平行於手乾燥裝置54的左右方向。在槓桿57a的前端部設置有踏板56。當槓桿57a旋轉移動時，踏板56即朝上下方向移動。推桿57b的下端部係連接於槓桿57a的後端部。推桿57b的上端部係在比鉸鏈部55b更前方連接於遮蔽體55的壁部55a。
當使用者從遮蔽體55關閉的第二狀態以腳踩踏踏板56時，槓桿57a的前端部即下降，而槓桿57a的後端部上升。推桿57b係被槓桿57a的後端部推壓而上升。通過由上升之推桿57b的上端部推升壁部55a，從而成為遮蔽體55張開著的第一狀態。當使用者從踏板56移開腳時，遮蔽體55即因為自重而回到原來的位置，因此從第一狀態切換為第二狀態。
若為本實施型態，則可利用使用者之腳的力量使遮蔽體55動作，故可降低消耗電力。
實施型態8
接著雖參照圖41和圖42來說明實施型態8，惟將以與前述之實施型態1的不同點為中心進行說明，共通的說明則予以簡化或省略。此外，對於與前述之共通或對應的要素係賦予相同的符號。
圖41係實施型態8之手乾燥裝置58的立體圖。圖42係實施型態8之手乾燥裝置58的剖面側視圖。此等圖所示之手乾燥裝置58的手插入部3，係構成為由使用者從手乾燥裝置58的正面將手插入於手插入空間5。手插入開口7係朝向手乾燥裝置58的正面開口。手插入部3係具有插入上部3r。插入上部3r係形成手插入空間5的上部。插入上部3r係與插入底部3a面對。面向手插入空間5之插入上部3r的表面係朝向下方。
如圖42所示，在本體殼體2的內部中，於比手插入部3更上方的位置配置有送風機10。構成吹出口部的通氣孔6、手偵測部21和UV照射裝置23係配置於插入上部3r。吹出口部係從通氣孔6朝向下方將氣流向手插入空間5吹出。從UV照射裝置23照射之紫外線的至少一部分
係朝向下方放射。手乾燥裝置58亦可具備將通過吹出風路13的空氣予以加熱的加熱器61。
若為本實施型態，在手乾燥裝置58的外觀上，無論是前視、後視、側視、頂視、底視，都因為光源24被本體殼體2覆蓋，從而無法辨識光源24。藉此，即可減低使用者直視光源24的可能性，此外，可降低光線進入眼睛的危險，安全性較高。
實施型態9
接著雖參照圖43來說明實施型態9，惟將以與前述之實施型態1的不同點為中心進行說明，共通的說明則予以簡化或省略。此外，對於與前述之共通或對應的要素係賦予相同的符號。
圖43係實施型態9之手乾燥裝置59的功能方塊圖。如圖43所示，實施型態9的手乾燥裝置59係具有人辨認部60。人辨認部60係構成為識別複數個使用者。人辨認部60亦可例如使用拍攝使用者之臉部的攝像機，而利用人臉認證技術或人臉辨識技術來識別個人，亦可使用指紋讀取器而利用指紋認證技術或指紋識別技術來識別個人。人辨認部60亦可例如從使用者所持有的員工證、會員證、IC卡、RFID(Radio Frequency Identification，無線射頻辨識系統)標籤等來讀取識別資訊，且將該讀取的識別資訊與預先記憶的識別資訊進行對照，從而進行識別個人。
針對經由人辨認部60所識別之使用者的每一人，控制部22係計數個人於該日使用手乾燥裝置59的次數(以下稱「利用次數」)。在經由人辨認部60所識別之特定的使用者使用手乾燥裝置59的時候，當該使用者之當日的利用次數為基準次數以下的情形下，控制部22係從UV照射
裝置23照射紫外線至該使用者的手。藉此，即能夠藉由紫外線將有可能已附著於該使用者之手的微生物進行殺菌，衛生性獲得提升。
上述基準次數亦可為例如依據健康的成人一日利用洗手間之平均的次數所規定的值。
一般而言，紫外線有可能會對於人體有害，故規定了一日可曝露之紫外線的照射量。較佳為使用下式的關係設定UV照射裝置23的照度和一次的照射時間，以即便在特定之使用者之一日之利用次數已達基準次數的情形下，亦使該日照射於該使用者之手之紫外線的總量成為一日之曝露容許照射量以下。另外，作為一日或八小時的曝露容許照射量來說，例如，可使用根據由日本產業規格之JIS Z8812所規定之TLV(Threshold Limit Values，臨限值)的值，亦可使用比該等更低的值。
一日的曝露容許照射量[mW/cm2]
=被照射面(手)的照度[mJ/cm2]×1日的總照射時間上限[秒]
=被照射面(手)的照度[mJ/cm2]×1次的照射時間[秒]×基準次數
在使用經由人辨認部60所識別之特定之使用者使用手乾燥裝置59的時候，控制部22係構成為當該使用者之當日的利用次數超過基準次數的情形下，比其為基準次數以下的情形，更降低UV照射裝置23之光源24的輸出，或使光源24的輸出為零。藉此，即可更確實地防止照射至使用者之手之紫外線的總量超過一日之曝露容許照射量。
控制部22亦可構成為當經由人辨認部60所識別之特定之使用者之當日的利用次數超過基準次數的情形下，利用次數愈多，就使光源24之輸出愈接近零。
本揭示的手乾燥裝置亦可更具備接收部，該接收部係接收用以控制UV照射裝置23之照射之啟動(on)/關斷(off)的信號。亦可當該接收部接收到設於手乾燥裝置之感測器的偵測信號時，由控制部22來控制UV照射裝置23之照射的啟動/關斷。此外，亦可當該接收部接收到設於手乾燥裝置之外部之感測器的偵測信號時，由控制部22來控制UV照射裝置23之照射的啟動/關斷。該接收部亦可接收來自遠端的信號。例如，亦可當該接收部接收到來自進行手乾燥裝置之管理或維修之管理者所使用之終端103的信號時，由控制部22來控制UV照射裝置23之照射的啟動/關斷。另外，關於終端103將後述。
實施型態10
接著雖參照圖44來說明實施型態10，惟將以與前述之實施型態的不同點為中心進行說明，共通的說明則予以簡化或省略。此外，對於與前述之共通或對應的要素係賦予相同的符號。
圖44係實施型態10之手乾燥裝置62的功能方塊圖。如圖44所示，實施型態10的手乾燥裝置62係具備第二光源63。UV照射裝置23的光源24係相當於第一光源。第二光源63的主波長係比光源24的主波長更長。控制部22係構成為當手偵測部21偵測到手時，不使光源24點亮而使第二光源63點亮。
第二光源63所照射之光的波長係比光源24所照射之光的波長更長，故安全性高。若為本實施型態，手插入或配置於手插入部3的時候，藉由從第二光源63對於該手和手插入部3照射光，即能夠將手安全地進行殺菌。此外，使用者易於辨認到是搭載有UV照射裝置23的手乾燥裝置62，且衛生性高乙事，故可提供使用者安心感。
當光源24的主波長為UVC時，第二光源63的主波長可為UVB、UVA、可見光的任一種。當光源24的主波長為UVB時，第二光源63的主波長可為UVA或可見光。當光源24的主波長為UVA時，第二光源63的主波長可為可見光。另外，第二光源63可與UV照射裝置23成一體，亦可在與UV照射裝置23為不同的位置設置第二光源63。
實施型態11
接著雖參照圖45和圖46來說明實施型態11，惟將以與前述之實施型態的不同點為中心進行說明，共通的說明則予以簡化或省略。此外，對於與前述之共通或對應的要素係賦予相同的符號。
在本揭示中，有時將與手乾燥裝置協作的其他機器和手乾燥裝置統稱為手乾燥系統。另外，「其他機器」係可配置在遠離手乾燥裝置的位置，亦可與手乾燥裝置鄰接地配置，亦可與手乾燥裝置一體地配置。本揭示之手乾燥系統所具備的手乾燥裝置，係可為例如與前述之實施型態1至實施型態10之任一型態之手乾燥裝置相同或類似者。
圖45係實施型態11之手乾燥系統64的功能方塊圖。本揭示的手乾燥裝置係配置在屬於特定之區域的使用者區域。使用者區域係該
手乾燥裝置之使用者有可能會進入的區域。如圖45所示，實施型態10的手乾燥系統64係具備偵測使用者區域中是否有人的存在與否偵測手段65。
在本揭示中，係將包含大便器和小便器的至少一方、手乾燥裝置和洗手台的空間稱為「洗手間空間」。洗手間空間可相當於使用者區域。洗手間空間的出入口可設有門等隔間，亦可無該隔間。在商業設施等中，於進入洗手間空間之前，具有彎曲的通路，而該彎曲的空間有時兼具隔間的作用。此時，可將包含彎曲的空間在內視為洗手間空間，且可將除彎曲的空間以外的空間視為洗手間空間。此外，亦可將多目的洗手間視為洗手間空間。本揭示的使用者區域不限定於洗手間空間。例如，本揭示的使用者區域亦可不配置便器，而為包含手乾燥裝置和洗手台的空間。
存在與否偵測手段65亦可為例用任何原理偵測使用者區域中是否有人者。以下記載存在與否偵測手段65之例。存在與否偵測手段65亦可藉由設置於使用者區域中之例如紅外線感測器般的人體感應感測器來偵測有無人。存在與否偵測手段65亦可藉由處理拍攝使用者區域之攝像機的畫像來偵測有無人。
存在與否偵測手段65亦可藉由偵測使用者區域的明亮度、照射使用者區域之照明裝置之啟動/關斷的至少一方來偵測有無人。使用者可用手動方式來啟動/關斷上述照明裝置，上述照明裝置亦可依據例如紅外線感測器之人體感應感測器的信號而自動地啟動/關斷。若上述照明裝置點亮，則使用者區域變明亮，可判斷出使用者區域中有人。相對於此，若上述照明裝置熄滅，則使用者區域變暗，可判斷使用者區域中無人。
存在與否偵測手段65亦可藉由與上述照明裝置電性連接的電性偵測手段來偵測通電於上述照明裝置的電流值或電壓，從而偵測上述照明裝置的啟動/關斷。
由於存在與否偵測手段65亦可當使用者區域的明亮度比臨限值更高時，上述照明裝置即點亮，故偵測使用者區域中有人，且當使用者區域的明亮度比上述臨限值更低時，上述照明裝置即熄滅，故偵測使用者區域中無人。存在與否偵測手段65亦可偵測使用者區域的照度作為使用者區域的明亮度。此外，手乾燥系統64亦可更具備可調整上述臨限值的臨限值調整手段。上述照明裝置熄滅時之使用者區域的明亮度，有可能會因該使用者區域之周圍的條件而有所不同。例如，在上述照明裝置熄滅的時候，使用者區域有可能會因為從窗進入的日光而某程度地變亮。因此，通過設為可藉由臨限值調整手段來調整用以偵測上述照明裝置是點亮還是熄滅的上述臨限值，即能夠更高精確度地偵測。臨限值調整手段亦可依據從進行手乾燥裝置之管理或為維修之管理者所使用之終端103接收到的資訊來變更上述臨限值。
存在與否偵測手段65亦可藉由偵測從上述照明裝置所照射之特定的波長來偵測使用者區域的明亮度，且依據該特定之波長之使用者區域的明亮度，來偵測有無人。如此一來，不會被使用者區域的明亮度因為日光而變化乙事的影響，可更高精確度地偵測上述照明裝置是點亮還是熄滅。因此，存在與否偵測手段65係可更高精確度地偵測使用者區域中是否有人。
存在與否偵測手段65亦可藉由偵測使用者區域之出入口的門、或設於使用者區域內之個人艙室的門是否被鎖住的門上鎖偵測手段來偵測有無人。例如，門上鎖偵測手段亦可偵測設置有大便器之個人艙室的門是否被鎖住。例如，門上鎖偵測手段亦可偵測多目的洗手間之出入口的門是否被鎖住。若門被鎖住，則存在與否偵測手段65可判斷為其中有人。若門未被鎖住，則存在與否偵測手段65可判斷為其中無人。
存在與否偵測手段65係可通過偵測使用者區域的聲音來偵測有無人。例如，存在與否偵測手段65係可偵測門開閉的聲音、便器的水流動的聲音、洗手台之水流動的聲音、人走路的聲音、人的說話聲等，當偵測到聲音時判斷為有人，當未偵測到聲音時判斷為無人。存在與否偵測手段65亦可預先記憶如上所述之特定之聲音之音波的基準波形，且將所偵測到之聲音之音波的波形與基準波形作比較，從而偵測特定的聲音。
手乾燥系統64的控制部22係可構成為當被存在與否偵測手段65偵測到使用者區域中無人時，即由UV照射裝置23照射紫外線。紫外線有時會對於人體有害。當使用者區域中無人期間，通過從UV照射裝置23照射紫外線進行殺菌，從而可更確實地兼具安全性和衛生性。
手乾燥系統64的控制部22亦可構成為當由存在與否偵測手段65偵測到使用者區域中有人時，即使UV照射裝置23之光源24的輸出降低、或使光源24的輸出為零。通過在使用者區域中有人的時候，使UV照射裝置23之光源24的輸出降低，或使光源24的輸出為零，從而可更確實地防止紫外線照到人，故安全性更為提升。
手乾燥系統64的控制部22亦可構成為在由存在與否偵測手段65偵測到使用者區域中無人的時候，當UV照射裝置23之紫外線的照射持續著的時間超過基準時，即使光源24的輸出降低，或使光源24的輸出為零。藉此，即可防止一次的照射時間過度地變長。因此，在延長光源24的壽命，或防止窗部26的穿透率降低，或防止手插入部3之構成材料的劣化方面更為有利。
在本揭示中，亦將UV照射裝置23未照射紫外線的狀態稱為「關斷狀態」。手乾燥系統64的控制部22亦可構成為在從存在與否偵測手段65最後偵測到使用者區域中有人的時點至經過預定時間為止，使UV照射裝置23為關斷狀態。藉此，在使用者區域中有人的時候，即使存在與否偵測手段65一瞬間誤偵測為無人的情形下，亦持續UV照射裝置23的斷開狀態。因此，可更確實地防止紫外線照到人，安全性更為提升。
手乾燥系統64的控制部22亦可組合地實施當在由存在與否偵測手段65偵測到使用者區域中有人的期間使UV照射裝置23為關開狀態，以及從存在與否偵測手段65最後偵測到使用者區域中有人的時點至經過預定時間為止，使UV照射裝置23為關斷狀態。藉此，安全性更為提高。
圖46係顯示實施型態11之手乾燥系統64所執行之處理之例的流程圖。以下根據圖46的流程圖進行說明。在本揭示中，有將使用者區域中有人的狀態稱為「有人環境」，且將使用者區域中無人的狀態稱為「無人環境」的情形。
在圖46的步驟S1中，係當存在與否偵測手段65偵測到為有人環境時，作為步驟S2，控制部22係使UV照射裝置23為關斷狀態。在UV照射裝置23為關斷狀態的時候，作為步驟S3，當存在與否偵測手段65偵測到為無人環境時，作為步驟S4，控制部22係從UV照射裝置23照射紫外線。此外，在步驟S1中，當存在與否偵測手段65未偵測到為有人環境時，或者，當存在與否偵測手段65偵測到為無人環境時，作為步驟S4，控制部22係從UV照射裝置23照射紫外線。此外，在步驟S3中，當存在與否偵測手段65未偵測到為無人環境時，或者，當存在與否偵測手段65偵測到為有人環境時，作為步驟S2，控制部22係使UV照射裝置23為關斷狀態。
在步驟S4之後，作為步驟S5，控制部22係判斷在存在與否偵測手段65偵測到無人環境的狀態下是否經過了預定時間。在存在與否偵測手段65偵測到無人環境的狀態下尚未經過預定時間時，返回步驟S3。當在存在與否偵測手段65偵測到無人環境的狀態下已經過了預定時間時，作為步驟S6，控制部22係通過使光源24的輸出降低，從而使UV照射裝置23的照射強度降低。
在步驟S6之後，在步驟S7中，當存在與否偵測手段65偵測到為有人環境時，作為步驟S8，控制部22係使UV照射裝置23為關斷狀態。相對於此，在步驟S7中，當存在與否偵測手段65未偵測到為有人環境時，或者，當存在與否偵測手段65偵測到為無人環境時，返回步驟S6。
在步驟S8之後，在步驟S9中，當存在與否偵測手段65偵測到為無人環境時，作為步驟S10，控制部22係從UV照射裝置23照射紫外線。相對於此，在步驟S9中，當存在與否偵測手段65未偵測到為無人環境時，或者，當存在與否偵測手段65偵測到為有人環境時，作為步驟S8，控制部22係使UV照射裝置23為關斷狀態。
本揭示之手乾燥裝置的控制部22亦可具備在手偵測部21未偵測到手時驅動送風機10的未插入時驅動模式作為控制模式。未插入時驅動模式係帶來與為了使手乾燥而驅動送風機10時之最低風量或最低風速相等的風量或風速的運轉，或是帶來比最低風量或最低風速更低之風量或風速的運轉。例如，當為未插入時驅動模式的時候，控制部22係以送風機10的旋轉速度等於使手乾燥時之送風機10的旋轉速度，或比使手乾燥時之送風機10之旋轉速度更低之方式驅動送風機10。
當為未插入時驅動模式的時候，控制部22係可從UV照射裝置23照射紫外線。藉此，紫外線即照射於藉由送風機10所產生的氣流，故可將使用者區域的空氣進行殺菌。
本揭示的手乾燥裝置亦可具備將藉由送風機10所產生的氣流予以過濾的空氣過濾器。該過濾器係可為HEPA過濾器。當為未插入時驅動模式的時候，將藉由送風機10所產生的氣流經由空氣過濾器過濾，藉此可將使用者區域的空氣淨化。
控制部22亦可在多數使用者利用了手乾燥裝置之後，執行未插入時驅動模式。藉此，即能夠將有可能因為多數使用者的利用而污染
之使用者區域的空氣予以殺菌或淨化。控制部22係例如可藉由手偵測部21偵測到手的次數來判定是否已有多數的使用者利用。
在本揭示中，控制部22亦可具有管理時刻的計時器功能。此外，控制部22亦可具有管理年月日和星期的日曆功能。
控制部22亦可在一日中之預定的時段來執行未插入時驅動模式。例如，控制部22亦可在深夜或早上的時段來執行未插入時驅動模式。藉此，即能夠在手乾燥裝置被利用之頻率較低的時段執行未插入時驅動模式，而將使用者區域的空氣進行殺菌或淨化。
在手乾燥系統64中，控制部22亦可在存在與否偵測手段65偵測到使用者區域中無人的時候，執行未插入時驅動模式。藉此，即能夠在使用者區域中無人的時候，將使用者區域的空氣予以殺菌或淨化。
實施型態12
接著雖參照圖47和圖48來說明實施型態12，惟將以與前述之實施型態11的不同點為中心進行說明，共通的說明則予以簡化或省略。此外，對於與前述之共通或對應的要素係賦予相同的符號。
圖47係實施型態12之手乾燥系統66的功能方塊圖。如圖47所示，實施型態12的手乾燥系統66係具備第二光源67和在實施型態11中所說明的存在與否偵測手段65。UV照射裝置23的光源24係相當於第一光源。第二光源67的主波長係比光源24的主波長更長。當光源24的主波長為UVC時，第二光源67的主波長可為UVB、UVA、可見光的任一種。當光源24的主波長為UVB時，第二光源67的主波長可為UVA或可見光。當光源24的主波長為UVA時，第二光源67的主波長可為可見光。
第二光源67亦可配置成將光對於手插入部3或手插入空間5進行照射。第二光源67亦可與UV照射裝置23成為一體。例如，光源24的光軸與第二光源67的光軸亦可平行。第二光源67亦可與光源24鄰接。或者，亦可在與UV照射裝置23為不同的位置設置第二光源67。
或者，第二光源67亦可配置成朝向手乾燥裝置的外部照射光。例如，亦可設置第二光源67作為手乾燥裝置之上面之顯示部4的一部分。
在手乾燥系統66中，係構成為在由存在與否偵測手段65偵測到使用者區域中無人的時候，當UV照射裝置23之光源24的點亮持續著的時間超過基準時，控制部22係使光源24熄滅且使第二光源67點亮。第二光源67所照射之光的波長係比光源24所照射之光的波長更長，故對於所照射之光照到之材料的影響較小。當UV照射裝置23之光源24的點亮持續著的時間超過基準的情形下，可推知微生物已減少，故要從UV照射裝置23繼續照射紫外線的必要性較低。因此，當UV照射裝置23之光源24之點亮持續著的時間超過基準時，通過使光源24熄滅且使第二光源67點亮，從而可避免手插入部3或使用者區域之壁等位於可能會被所照射到之光照到之位置上可能會產生的材料的劣化，同時可持續藉由來自第二光源67的紫外線進行殺菌。此外，當第二光源67為照射可見光的情形下，殺菌作用雖較低，但通過使用者觀看來自第二光源67的可見光，即能夠通知使用者殺菌已完成。因此，可提供使用者安心感。
圖48係顯示實施型態12之手乾燥系統66所執行之處理之例的流程圖。以下根據圖48的流程圖進行說明。在圖48的步驟S11中，
當存在與否偵測手段65偵測到為有人環境時，作為步驟S12，控制部22係從第二光源67照射UVA，且使UV照射裝置23為關斷狀態。在步驟S12之後，作為步驟S13，當存在與否偵測手段65偵測到為無人環境時，作為步驟S14，控制部22係停止來自第二光源67之UVA的照射，且從UV照射裝置23照射UVB或UVC。相對於此，在步驟S13中，當存在與否偵測手段65未偵測到為無人環境時，或者，當存在與否偵測手段65偵測到為有人環境時，返回步驟S12。此外，在步驟S11中，當存在與否偵測手段65未偵測到為有人環境時，或者，當存在與否偵測手段65偵測到為無人環境時，作為步驟S14，控制部22係停止來自第二光源67之UVA的照射，且從UV照射裝置23照射UVB或UVC。
在步驟S14之後，作為步驟S15，控制部22係判斷在存在與否偵測手段65偵測到無人環境的狀態下是否經過了預定時間。當在存在與否偵測手段65偵測到無人環境的狀態下尚未經過預定時間的情形下，返回步驟S13。當在存在與否偵測手段65偵測到無人環境的狀態下已經過了預定時間的情形下，作為步驟S16，控制部22係使UV照射裝置23為關斷狀態，且停止UVB或UVC的照射。
在步驟S16之後，作為步驟S17，當存在與否偵測手段65偵測到為有人環境時，作為步驟S18，控制部22係從第二光源67照射UVA。相對於此，在步驟S17中，當存在與否偵測手段65未偵測到為有人環境時，或者，當存在與否偵測手段65偵測到為無人環境時，返回步驟S16。
在步驟S18之後，作為步驟S19，當存在與否偵測手段65偵測到為無人環境時，作為步驟S20，控制部22係從UV照射裝置23照射UVB或UVC。此時，控制部22亦可停止來自第二光源67之UVA的照射。另一方面，在步驟S19中，當存在與否偵測手段65未偵測到為無人環境時，或者，當存在與否偵測手段65偵測到為有人環境時，返回步驟S18。
實施型態13
接著雖參照圖49至圖51來說明實施型態13，惟將以與前述之實施型態的不同點為中心進行說明，共通的說明則予以簡化或省略。此外，對於與前述之共通或對應的要素係賦予相同的符號。
圖49係實施型態13之手乾燥系統68的功能方塊圖。實施型態13之手乾燥系統68係具備可覆蓋手乾燥裝置之手插入空間5之至少一面的覆蓋部(未圖示)。覆蓋部亦可為例如具有與在實施型態3至實施型態7之任一型態中所說明之遮蔽體相同或類似的構成者。
如圖49所示，手乾燥系統68係具備切換部69及靠近偵測手段70。切換部69係具有使覆蓋部動作的致動器。切換部69係以可切換為由覆蓋部覆蓋手插入空間5之至少一面的閉狀態和可將手插入於手插入空間5之開狀態之方式，使覆蓋部動作。
靠近偵測手段70係在覆蓋部為閉狀態時，可偵測出手或人已靠近手插入部3。靠近偵測手段70亦可為具有與前述之人偵測部39相同或類似之構成者。或者，靠近偵測手段70亦可為具有與前述之存在與否
偵測手段65相同或類似之構成者。亦即，靠近偵測手段70亦可偵測使用者區域是有人環境還是無人環境。
本實施型態的靠近偵測手段70係與手偵測部21個別設置者。當手偵測部21偵測到手時，控制部22係通過使送風機10作動而使手乾燥。亦即，手偵測部21所進行之手的偵測係成為使送風機10作動的觸發器。相對於此，靠近偵測手段70係偵測人或手已接近手乾燥裝置者。當人或手接近手乾燥裝置時，靠近偵測手段70係比手偵測部21更先偵測人或手。之後，當手更接近手插入部3時，則由手偵測部21偵測手。
手偵測部21係配置在當覆蓋部為閉狀態時手偵測部21不會偵測到手的位置。例如，在藉由手插入部3與覆蓋部所形成之內側的空間配置手偵測部21。
覆蓋部亦可為覆蓋手插入部3的上面者。覆蓋部所覆蓋的位置係依手乾燥裝置的型態而有不同。例如，若為側面開放的手插入部3，則覆蓋部亦可為覆蓋手插入部3的側面者。此外，若為正面張開的手插入部3，則覆蓋部亦可為覆蓋手插入部3的正面者。此外，亦可為將此等加以組合而成者。亦即，覆蓋部係可為覆蓋手插入部3的複數個面者。此外，亦可具備複數個覆蓋部。亦可構成為複數個覆蓋部分別覆蓋手插入部3的複數個面。
在手乾燥系統68中，控制部22係當靠近偵測手段70偵測到手或人已靠近手插入部3時，即驅動切換部69使覆蓋部成為開狀態。藉此，當手或人靠近手插入部3時，覆蓋部即自動地成為開狀態，故使用者可將手順暢地插入於手插入空間5。
在手乾燥系統68中，控制部22亦可當靠近偵測手段70偵測到手或人未靠近手插入部3的時間持續預定時間時，驅動切換部69使覆蓋部成為閉狀態。再者，控制部22亦可在覆蓋部為閉狀態的時候，從UV照射裝置23照射紫外線。在覆蓋部為閉狀態的時候，當從UV照射裝置23照射紫外線時，紫外線會被覆蓋部所遮蔽，故可防止紫外線輻射至手插入空間5的外部。因此，可兼具更確實地防止紫外線照到人以及將手插入空間5更確實地進行殺菌。
圖50係顯示實施型態13之手乾燥系統68所執行之處理之例的流程圖。以下根據圖50的流程圖進行說明。在本揭示中，係有將上述的「覆蓋部」或「遮蔽體」稱為「蓋」的情形。
在圖50的步驟S21中，當靠近偵測手段70偵測到為有人環境時，作為步驟S22，控制部22係藉由切換部69將蓋設為閉狀態，且從UV照射裝置23照射紫外線。
在步驟S22之後，作為步驟S23，當靠近偵測手段70偵測到為無人環境時，作為步驟S24，控制部22係藉由切換部69將蓋設為開狀態，且從UV照射裝置23照射紫外線。此外，在步驟S21中，當靠近偵測手段70未偵測到為有人環境時，或者，當靠近偵測手段70偵測到為無人環境時，作為步驟S24，控制部22均藉由切換部69將蓋設為開狀態，且從UV照射裝置23照射紫外線。如此，若為本實施型態，則於無人環境的時候，通過將蓋設為開狀態且從UV照射裝置23照射紫外線，從而可確實地防止紫外線照到人，並且亦可將使用者區域的空氣進行殺菌。
在步驟S23中，當靠近偵測手段70未偵測到為無人環境時，或者，當靠近偵測手段70偵測到為有人環境時，返回步驟S22。
在步驟S24之後，作為步驟S25，控制部22係在靠近偵測手段70偵測到無人環境的狀態下判斷是否經過了預定時間。當在靠近偵測手段70偵測到無人環境的狀態下判斷尚未經過預定時間的情形下，返回步驟S23。當在靠近偵測手段70偵測到無人環境的狀態下已經過了預定時間的情形下，作為步驟S26，控制部22係使UV照射裝置23為關斷狀態。此時，控制部22係可使蓋為開狀態，亦可使蓋為閉狀態。
在步驟S26之後，在步驟S27中，當靠近偵測手段70偵測到為有人環境時，作為步驟S28，控制部22係使UV照射裝置23為關斷狀態。相對於此，在步驟S27中，當靠近偵測手段70未偵測到為有人環境時，或者，當靠近偵測手段70偵測到為無人環境時，返回步驟S26。
在步驟S28之後，在步驟S29中，當靠近偵測手段70偵測到為無人環境時，作為步驟S30，控制部22係從UV照射裝置23照射紫外線。相對於此，在步驟S29中，當靠近偵測手段70未偵測到為無人環境時，或者，當靠近偵測手段70偵測到為有人環境時，返回步驟S28。
圖51係顯示實施型態13之手乾燥系統68所執行之處理之另一例的流程圖。以下根據圖51的流程圖進行說明。在步驟S31中，當靠近偵測手段70偵測到為有人環境時，作為步驟S32，控制部22係藉由切換部69使蓋為閉狀態，且從UV照射裝置23照射紫外線。相對於此，在步驟S31中，當靠近偵測手段70未偵測到為有人環境時，或者，當靠近偵測手段70偵測到為無人環境時，控制部22係藉由切換部69使蓋為開狀
態，且從UV照射裝置23照射紫外線。如此，若為本實施型態，於無人環境的時候，通過使蓋為開狀態且從UV照射裝置23照射紫外線，即能夠確實地防止紫外線照到人，同時亦可將使用者區域的空氣進行殺菌。
在步驟S32或步驟S33之後，於步驟S34中，當靠近偵測手段70偵測到人或手、或是當手偵測部21偵測到手時，控制部22係藉由切換部69使蓋為開狀態，且使UV照射裝置23為關斷狀態。
在步驟S35之後，於步驟S36中，當使用者結束手乾燥裝置的使用時，作為步驟S37，控制部22係藉由切換部69使蓋為閉狀態，且從UV照射裝置23照射紫外線。
在步驟S37之後，於步驟S38中，控制部22係判斷靠近偵測手段70是否已偵測到為無人環境。之後，當在靠近偵測手段70偵測到無人環境的狀態下經過了預定時間時，控制部22亦可使UV照射裝置23為關斷狀態。此外，在步驟S34中，當靠近偵測手段70未偵測到人亦未偵測到手，而且手偵測部21未偵測到手時，前進至步驟S38。
實施型態14
接著雖參照圖52來說明實施型態14，惟將以與前述之實施型態的不同點為中心進行說明，共通的說明則予以簡化或省略。此外，對於與前述之共通或對應的要素係賦予相同的符號。
圖52係實施型態14之手乾燥系統71的功能方塊圖。如圖52所示，實施型態14的手乾燥系統71係具備：人辨認手段72，係辨認相同使用者；人記憶手段，係計數相同使用者的利用次數；及輸出可變手段，係依據相同使用者之一日的利用次數而變更UV照射裝置23照射紫外線
的輸出。在本實施型態中，控制部22係相當於人記憶手段和輸出可變手段。
在手乾燥系統71中，係從UV照射裝置23照射紫外線至使用者的手。藉此，即可藉由紫外線將有可能附著於使用者之手上的微生物進行殺菌，衛生性獲得提升。此外，若為手乾燥系統71，則可限制相同使用者從UV照射裝置23一日所曝露之紫外線的量，故安全性提升。
人辨認手段72亦可例如從使用者所持有的員工證、會員證、IC卡、RFID標籤等來讀取識別資訊，且將該讀取的識別資訊與預先記憶的識別資訊進行對照，從而進行識別相同使用者。人辨認手段72亦可例如使用拍攝使用者之臉部的攝像機，利用人臉認證技術或人臉辨識技術來識別相同使用者，亦可使用指紋讀取器，利用指紋認證技術或指紋識別技術來識別相同使用者。人辨認手段72亦可為與前述之人辨認部60相同或類似者。當人辨認手段72辨認為相同人物時，人記憶手段係計數利用次數。
作為第一例，輸出變更手段亦可當相同使用者之一日的利用次數每逢增加就使從UV照射裝置23所照射之紫外線的強度或照度降低。
作為第二例，輸出變更手段亦可當相同使用者之一日的利用次數超過預定的次數時，使從UV照射裝置23所照射之紫外線的強度或照度降低。
作為第三例，輸出變更手段亦可當相同使用者之一日的利用次數超過預定的次數時，使UV照射裝置23之光源24的輸出為零。
手乾燥系統71亦可組合地執行上述第一例至第三例中之任二個控制或三個所有的控制。當其他使用者要使用手乾燥裝置時，當然亦可不執行此等控制。
在手乾燥系統71中，亦可以從UV照射裝置23對於相同使用者照射之紫外線的量成為前述之一日或八小時之曝露容許照射量以下之方式，決定上述預定的次數、從UV照射裝置23照射之紫外線的強度或照度。
實施型態15
接著雖參照圖53來說明實施型態15，惟將以與前述之實施型態的不同點為中心進行說明，共通的說明則予以簡化或省略。此外，對於與前述之共通或對應的要素係賦予相同的符號。
圖53係實施型態15之手乾燥系統73的功能方塊圖。如圖53所示，實施型態15之手乾燥系統73係具備偵測位於使用者區域中之人的人數的人數偵測手段74。控制部22係在位於使用者區域中之人的人數為0人時，控制UV照射裝置23照射紫外線。此外，控制部22係在位於使用者區域中之人的人數為1人以上時，停止UV照射裝置23所進行之紫外線的照射。藉此，即可更確實地防止從UV照射裝置23照射紫外線至人，故安全性更為提升。
人數偵測手段74係可用任何的原理來偵測位於使用者區域中之人的人數。例如，作為人數偵測手段74，可在使用者區域的出入口，配置拍攝動畫的攝像機或熱紅外成像(thermography)，藉由將利用該攝像機或熱紅外成像所拍攝的動畫進行畫像處理，來偵測有無人通過使用者區
域的出入口和該人的移動方向，從而可偵測進入使用者區域的人和從使用者區域離開的人。人數偵測手段74係當人通過出入口而進入了使用者區域時，將所計數的人數增加1。人數偵測手段74係當人通過出入口而從使用者區域離開時，將所計數的人數減1。
當在一個使用者區域中有複數個出入口時，人數偵測手段74係針對各個出入口，偵測進去的人和離開的人，且將該等予以加總，以偵測位於使用者區域中之人的人數。
人數偵測手段74的設置場所不限定於使用者區域的出入口。例如，亦可在使用者區域的天花板等，配置攝像機或熱紅外成像作為人數偵測手段74，且藉由將利用該攝像機或熱紅外成像所拍攝的畫像進行處理，以偵測位於使用者區域中之人的人數。
實施型態16
接著雖參照圖54至圖58來說明實施型態16，惟將以與前述之實施型態的不同點為中心進行說明，共通的說明則予以簡化或省略。此外，對於與前述之共通或對應的要素係賦予相同的符號。另外，在本實施型態中，對於未記載的事項，亦可適當地應用公知技術。
圖54係實施型態16之手乾燥系統75的功能方塊圖。如圖54所示，實施型態16之手乾燥系統75更具備殺菌裝置76。殺菌裝置76係可配置在手乾燥裝置的附近。亦即，殺菌裝置76亦可配置在稍微離開手乾燥裝置的位置。殺菌裝置76亦可與手乾燥裝置一體配置。例如，殺菌裝置76亦可配置在手插入部3。
殺菌裝置76係使用屬於具有殺菌作用之液體的殺菌液來進行殺菌的裝置。在本揭示中，「殺菌液」的用語，亦可改稱為「消毒液」或「洗淨液」。殺菌液係可為使用例如乙醇、離子、次氯酸、次氯酸水、臭氧或電解水等者。殺菌液係可為將例如鹽水、食鹽水或氯化鈉水溶液予以電性分解而成者。殺菌裝置76可為使用複數種的殺菌液者。
殺菌裝置76係具備排出手段77。排出手段77係排出殺菌液。排出手段77係可使殺菌液成為微細粒子而排出。排出手段77係可使殺菌液成為霧化後的粒子而排出。排出手段77係可使殺菌液成為霧沫而排出。亦可構成為在使用複數種殺菌液的殺菌裝置76中，可切換要從排出手段77排出哪一種殺菌液。
排出手段77係可配置在手乾燥裝置的附近，亦可與手乾燥裝置一體地配置，亦可配置在手插入部3。排出手段77係可朝向手插入部3排出殺菌液。排出手段77係可朝向手插入部3所形成之手插入空間5而排出殺菌液。排出手段77係可朝向設置有手乾燥裝置之使用者區域的空間而排出殺菌液。排出手段77係可朝向使用者的手排出殺菌液。排出手段77亦可朝向此等中之二個以上的對象排出殺菌液。
殺菌裝置76係可僅具備一個排出手段77，亦可具備複數個排出手段77。排出手段77係排出水分。具體而言，排出手段77係將水分以散佈、分散、噴霧、噴射、滴下、吐出、發散、擴散、搬運、送風中的至少一種手段來排出。設有複數個之排出手段77的各者係可用彼此不同的方法來排出水分或殺菌液。
例如，排出手段77亦可為以殺菌液滴落於設有排出手段77之手插入部3之面之方式滴下殺菌液者。例如，排出手段77係可為設於插入前部3b，且使從排出手段77滴下的液體朝插入前部3b之下方移動者。此外，排出手段77係可為朝向手插入部3的任一面或手插入部3的複數個面而吐出殺菌液者。此外，排出手段77亦可為朝向配置於手插入部3或手插入空間5的手而吐出殺菌液者。此外，排出手段77亦可為朝向配置於手插入部3或手插入空間5的手而噴霧殺菌液者。此外，排出手段77亦可為對於配置有手插入部3的空間發散已霧化的殺菌液者。
例如，亦可在手插入部3配置複數個排出手段77。亦可在插入前部3b配置複數個排出手段77。亦可在比插入前部3b的中心更左側的位置配置排出手段77，亦可在比插入前部3b的中心更右側的位置配置不同於排出手段77之其他的排出手段77。亦可在插入前部3b中之左側之一半之部分之中心的位置配置排出手段77，亦可在插入前部3b中之右側之一半之部分之中心的位置，配置不同於排出手段77之其他的排出手段77。亦可在使用者將兩手放入於手插入空間5之際，於前視觀看時，在面對左手之手掌之中心的位置配置排出手段77，亦可在面對右手之手掌之中心的位置配置不同於排出手段77之其他的排出手段77。通過如上所述配置排出手段77，於使用者將手放入於手插入部3的手插入空間5之際，從排出手段77排出的殺菌液即易於附著於手上。配置在比插入前部3b之中心更左側之位置的排出手段77，和配置在比插入前部3b之中心更右側之位置的排出手段77，較理想為相對於插入前部3b的中心呈左右對稱。
排出手段77亦可為由複數個微細口形成作為排出口者。藉此，即可由排出手段77如吹霧器般噴霧微細的粒子。例如，排出手段77亦可涵蓋與設有排出手段77之手插入部3之面相面向之面的廣範圍進行噴霧者。例如，亦可在插入前部3b設有排出手段77，且使從排出手段77噴霧之微細的水分附著於插入後部3c。
排出手段77所噴霧的方向不限定於從設有排出手段77的面朝向與該面相面向之面的方向。例如，排出手段77所噴霧的方向亦可為從設有排出手段77之手插入部3的面，朝向位於其側方之面的方向。排出手段77所噴霧的方向，亦可為從設有排出手段77之手插入部3的面朝向位於其下方之面的方向。
亦可在彼此面對之面中之其中一面配置排出手段77，亦可在另一面配置不同於該排出手段77的其他排出手段77。例如，在插入前部3b配置排出手段77，在插入後部3c配置不同於排出手段77的其他排出手段77。藉由如上所述配置排出手段77，可構成為從配置於插入前部3b之排出手段77所排出的殺菌液會附著於插入後部3c，且從配置於插入後部3c之排出手段77所排出的殺菌液會附著於插入前部3b。換言之，可使殺菌液涵蓋手插入部3的廣範圍而附著。
排出手段77係可排出比吹霧器更微細的霧沫。排出手段77亦可排出如從加濕器或噴霧器所放出之霧沫般會漂浮於空氣中之極微細的粒子。例如，排出手段77亦可朝向手插入空間5排出殺菌液的霧沫或粒子。排出手段77亦可朝向配置有手乾燥裝置的空間排出殺菌液的霧沫或粒子。
手乾燥系統75係可藉由控制部22來控制為隨同由風扇等所產生的氣流搬運從排出手段77所排出之霧化後的殺菌液。例如，亦可在排出手段77將殺菌液霧化而排出時，由控制部22使送風機10作動，從而隨同所產生的氣流一併搬運該霧化後的殺菌液。藉此，即能夠使殺菌液到達更廣泛的範圍。
手乾燥裝置亦可具有霧搬運風路，該霧搬運風路係用以將從排出手段77所排出之霧化後的殺菌液，藉由送風機10所產生的氣流進行送風而搬運者。霧搬運風路亦可具備當送風機10驅動的情形下，切換要對於霧搬運風路送風，還是不要對於霧搬運風路送風的霧搬運切換部。亦可使用例如電磁閥來作為霧搬運切換部。霧搬運切換部係當送風機10作動的情形下，切換使空氣流動於霧搬運風路的開狀態和使空氣不流動於霧搬運風路的閉狀態。例如，當要使手乾燥的情形下，控制部22係設霧搬運切換部為閉狀態。當要搬運從排出手段77所排出之霧化後之殺菌液的情形下，控制部22係設霧搬運切換部為開狀態。藉此，即可避免在使手乾燥時，來自通氣孔6的風速降低。
接著說明殺菌裝置76所進行之殺菌的時間點。手乾燥系統75亦可與手偵測部21的偵測協作，進行殺菌裝置76之殺菌。亦即，控制部22係可控制為當手插入於手插入空間5，且手偵測部21偵測到手時，藉由排出手段77來排出殺菌液。茲將以使從排出手段77所排出的殺菌液附著於手上之方式，從排出手段77排出殺菌液的步驟稱為殺菌步驟。利用殺菌步驟使所排出的殺菌液附著於手，而藉此將手進行殺菌。另外，在本揭示中，有時會將當未將手進行殺菌時，將手插入部3之周邊或手乾燥裝
置的周邊進行殺菌乙事稱為殺菌步驟。換言之，亦有將藉由排出手段77排出殺菌液乙事稱為殺菌步驟的情形。
當手插入於手插入空間5，且手偵測部21偵測到手時，控制部22係使送風機10運轉。換言之，當手偵測部21偵測到手的情形下，送風機10的運轉將會啟動。此步驟有時稱為乾燥步驟。藉由乾燥步驟，將插入於手插入空間5的手進行乾燥。
作為第一例，手乾燥系統75係可依序進行殺菌步驟、乾燥步驟。換言之，手乾燥系統75亦可當手偵測部21偵測到手的情形下，在送風機10的運轉啟動之前，藉由排出手段77將殺菌液排出。此外，手乾燥系統75亦可在殺菌步驟開始之後，且於殺菌步驟結束之前，開始乾燥步驟。手乾燥系統75亦可於殺菌步驟結束之後，開始乾燥步驟。手乾燥系統75亦可於殺菌步驟結束之後，經過預定時間之後進行乾燥步驟。
手乾燥系統75亦可在排出手段77剛排出殺菌液之後，使送風機10的運轉啟動。手乾燥系統75較理想為在排出手段77排出殺菌液的時間和送風機10之運轉為啟動的時間之間設有預定的時間、時間差。例如，手乾燥系統75較理想為在殺菌液從排出手段77排出之後，於經過數秒期間之後，使送風機10的運轉啟動。藉此，可獲得以下的功效。在使用者將手放入於手插入空間5之際，當殺菌液從排出手段77排出時，殺菌液會附著於使用者的手。使用者係以摩擦雙手之方式使殺菌液滲入手中。如此一來，即可將手的整體更確實地進行殺菌。在手被殺菌的狀態下，當送風機10啟動吹送乾燥風時，從手飛散之水滴中所含之微生物的數量即減少。因此，在水滴飛散於手插入部3，或水滴飛散於設置有手乾燥裝置之空
間的情形下，亦可使感染危險降低。因此，衛生性提升。另外，在水分附著於手的狀態下，殺菌液的殺菌效果有可能會降低。因此，亦可使用已預先提高濃度的殺菌液。
作為第二例，手乾燥系統75亦可依序進行乾燥步驟、殺菌步驟。例如，手乾燥系統75可在乾燥步驟開始之後，且於乾燥步驟結束之前，開始殺菌步驟。手乾燥系統75可在乾燥步驟結束之後，開始殺菌步驟。手乾燥系統75亦可在藉由送風機10的運轉進行了手的乾燥之後，將從排出手段77排出的殺菌液噴吹於手。例如，手乾燥系統75亦可在乾燥步驟剛結束之後，或乾燥步驟將要結束之前，或正在乾燥步驟的期間，從排出手段77排出殺菌液。在水分附著於手的狀態下，殺菌液的殺菌效果有可能會降低。因此，通過使乾燥風先吹送至手而使手乾燥之後排出殺菌液，可更確實地防止殺菌效果的降低。
作為第三例，手乾燥系統75亦可依第一次殺菌步驟、乾燥步驟、第二次殺菌步驟的順序來進行。如上所述，在使因為洗手等而潤濕的手乾燥之際，當洗手不完全的情形下，附著於手上的微生物有可能會隨著水滴而飛散於手乾燥裝置，或飛散於設置有手乾燥裝置之空間。因此，較理想為在使手乾燥之前進行殺菌。另一方面，當將殺菌液排出於潤濕的手時，殺菌液有可能會稀釋，殺菌效果降低。因此，可在第一次殺菌步驟中藉由殺菌液將手進行殺菌之後，於乾燥步驟中藉由送風機10使手乾燥，且在第二次殺菌步驟中藉由殺菌液將手更進一步地進行殺菌。此時，可更確實地減少微生物隨著水滴而飛散於手乾燥裝置的量或飛散於設置有手乾燥裝置之空間的量，衛生性獲得提升。此外，在乾燥步驟中使手乾燥之後，
通過在第二次殺菌步驟中再度對於手排出殺菌液，從而可更確實地將手進行殺菌。因此，衛生性更為提高。此外，手乾燥系統75雖亦可設為在第一次殺菌步驟中剛排出殺菌液之後使送風機10的運轉啟動，但較理想為於在第一次的殺菌步驟中排出殺菌液的時間和在乾燥步驟中送風機10之運轉啟動的時間之間，設有預定的時間、時間差。例如，手乾燥系統75較理想為在第一次的殺菌步驟中從排出手段77排出殺菌液，於經過數秒期間之後，使送風機10的運轉啟動。
作為第四例，手乾燥系統75亦可依序進行第一次的殺菌步驟、第一次的乾燥步驟、第二次的殺菌步驟、第二次的乾燥步驟。藉由接著第二次的殺菌步驟後進行第二次的乾燥步驟，從而可使使用者的手乾燥。亦即，手不會因為殺菌液而被沾濕，故使用者的舒適性提升。手乾燥系統75亦可在第二次的殺菌步驟開始之後，且於第二次的殺菌步驟結束之前，開始第二次的乾燥步驟。手乾燥系統75亦可在第二次的殺菌步驟結束之後，開始第二次的乾燥步驟。手乾燥系統75亦可在第二次的殺菌步驟結束之後，經過預定時間之後，開始第二次的乾燥步驟。通過如上所述之方式，於在第一次的殺菌步驟中手已被殺菌的狀態下藉由第一次的乾燥步驟使手乾燥，更在第二次的殺菌步驟中將手進行殺菌，從而使附著於手上的微生物更減少，且藉由第二次的乾燥步驟使手更為乾燥。結果，手乾燥裝置的衛生性和設置有手乾燥裝置之空間的衛生性更為提升，並且手成為衛生而且乾燥的狀態。
手乾燥系統75亦可具備通報正在殺菌步驟中的殺菌通報部。例如，顯示部4相當於殺菌通報部。通過由殺菌通報部通報正在殺菌步驟中，使用者可得知正在進行殺菌液的殺菌，獲得安心感。
此外，手乾燥系統75亦可具備通報正在乾燥步驟中的乾燥通報部。例如，顯示部4相當於乾燥通報部。
此外，手乾燥系統75亦可具備步驟通報部。例如，顯示部4相當於步驟通報部。步驟通報部不僅通報正在殺菌步驟中，或通報正在乾燥步驟中，還針對所有步驟進行通報，並且通報目前的步驟是相當於其中的哪一個步驟。例如，當在第一次的殺菌步驟、接著的乾燥步驟、和第二次的殺菌步驟的三個步驟中進行殺菌和乾燥的情形下，步驟通報部可針對三個步驟藉由顯示文字或插圖進行通報，並且以燈等的光等來顯示目前的步驟是相當於其中的哪一個步驟。手乾燥系統75亦可具備配置於手乾燥裝置的監視器或顯示器，或配置於配置有手乾燥裝置之空間之監視器或顯示器作為步驟通報部，且在該監視器或顯示器上顯示上述的文字或插圖。通過設置步驟通報部，使用者能夠易於理解殺菌和乾燥的步驟，且可更安心地使用手乾燥裝置。
手乾燥系統75亦可當在上述的任一步驟中手偵測部21都檢測到手未配置於手插入部3時，使上述的步驟強制地結束。手乾燥系統75係當強制結束時，無論是乾燥步驟還是殺菌步驟都結束步驟，且下個步驟之後的步驟亦不進行。藉此，可避免無用的運轉。
手乾燥系統75亦可具備人偵測手段。手乾燥系統75的人偵測手段亦可為與前述之人偵測部39、存在與否偵測手段65、或靠近偵測手段70相同或類似的構成。
手乾燥系統75亦可在手偵測部21未偵測到手的期間，藉由排出手段77排出殺菌液。手乾燥系統75亦可在人偵測手段未偵測到人的期間，藉由排出手段77排出殺菌液。例如，手乾燥系統75亦可在使用者使用了手乾燥裝置之後，藉由排出手段77排出殺菌液。藉此，即可將使用後的手插入部3進行殺菌，或將配置有手乾燥裝置的空間進行殺菌。此外，當人因為呼吸而吸入漂浮於空氣中之粒徑小的殺菌液時，有可能對於人體造成不良的影響。針對此點，在手偵測部21未偵測到手的期間藉由排出手段77排出殺菌液，或者，在人偵測手段未偵測到人的期間藉由排出手段77排出殺菌液，藉此使對於人體的安全性更為提高。
為了管理者在清掃手乾燥裝置或使用者區域的時候，手乾燥系統75係可構成為可藉由手動方式來操作殺菌裝置76之排出手段77所進行之排出的啟動/關斷。例如，手乾燥系統75係可具備切換手偵測部21之感測(sensing)功能之啟動/關斷的偵測切換手段，和切換人偵測手段之感測功能之啟動/關斷之偵測切換手段之任一方或雙方的偵測切換手段。當藉由偵測切換手段使手偵測部21的感測功能關斷時，即使手放入於手插入部3的手插入空間5，手偵測部21亦不會反應。當藉由偵測切換手段使偵測手段的感測功能關斷時，即使人接近手乾燥裝置，人偵測手段也不會反應。藉此，在管理者清掃手乾燥裝置或使用者區域的時候，不會意外地開始乾燥步驟或殺菌步驟的作動，故可避免無用的運轉。
此外，手乾燥系統75亦可具備殺菌裝置76之排出手段77的連續運轉切換部。手乾燥系統75亦可構成為當使連續運轉切換部為啟動時連續運轉排出手段77，且當使連續運轉切換部關斷時不使殺菌液從排出手段77排出。當排出手段77的連續運轉執行時，從排出手段77持續排出殺菌液。較理想為管理者在清掃手乾燥裝置或使用者區域時以外，先使連續運轉切換部為關斷。在管理者清掃手乾燥裝置或使用者區域的時候，藉由使連續運轉切換部啟動，從而可視需要將從排出手段77排出的殺菌液使用於清掃。換言之，在清掃中，於欲使用殺菌液的時候，將連續運轉切換部暫時地啟動即可。藉此，可減輕進行清掃的人要另行準備殺菌液的負擔，並且可易於使用從排出手段77排出的殺菌液進行清掃。另外，具備有連續運轉切換部的手乾燥系統75，未必需要具備有上述的偵測切換手段。在此情形下，通過將連續運轉切換部設定維持為啟動，不會受限於手偵測部21或人偵測手段的偵測結果，都會從排出手段77持續排出殺菌液，故可將該殺菌液運用在清掃上。
殺菌裝置76亦可具備貯存氯化物之水溶液的貯存部。殺菌裝置76亦可具備：電解水產生手段92，係將貯存於貯存部中的水溶液予以電性分解而產生電解水；及第一排出部，係將在電解水產生手段92所產生之電解水排出至殺菌裝置76的外側。第一排出部係排出手段77的一例。另外，電解水係相當於殺菌液。在本揭示中，當亦包含電解水以外之具有殺菌作用的液體時，係有記載為「殺菌液」的情形。
電解水產生手段92亦可例如藉由將氯化物之水溶液予以電性分解，來產生溶解有次氯酸的電解水。次氯酸亦被稱為「Hypochlorous
Acid」。次氯酸的組成式係例如「HClO」。電解水產生手段92係具備包含正極和復極的電極。電極係設於貯存部內。
電解水產生手段92的電極較理想為由不易溶出於水的材料製作。作為此種材料，可列舉例如鈦、銀。為了促進電性分解，電極可攜載有銦、銀、釕等銀族金屬或其氧化物。電解水中可生成過氧化氫、活性氧、OH自由基等化學種。
電解水產生手段92係可為在正極與負極之間無區隔的一室型，亦可為在正極與負極之間具有區隔的二室型、三室型或多室型。一室型的電解水產生手段92係將在正極側所生成之酸性離子水和在負極側所生成之鹼性離子水予以中和，而產生含有適當濃度之次氯酸的電解水。多室型的電解水產生手段92係在收容正極的室中產生酸性離子水，且在收容負極的室中產生鹼性離子水。
在多室型的電解水產生手段92中，有可能酸性離子水的使用量和鹼性離子水的使用量變得不均衡。此時，有可能必須處理任一方殘留下的離子水。相對於此，一室型的電解水產生手段92無須處理殘留一方的離子水，故便利性提升。
貯存部係可收容水與氯化物的容器。收容於貯存部中的水係可為飲用水或自來水。貯存於貯存部中的氯化物，係例如為氯化鈉(NaCl)、氯化鉀、氯化鎂、氯化鈣中的至少一者。氯化物係可為以粉末、顆粒、錠劑、片劑等固體或固形的狀態供給至貯存部。氯化物亦可為液狀、膠狀者。為了提高對於貯存部供水的便利性及對於貯存部供給氯化物的便利性，可構成為可從殺菌裝置76拆下貯存部。貯存部亦可具備可開閉的罩蓋。當要
打開貯存部的罩蓋或要拆下罩蓋時，可易於將水或氯化物放入於貯存部內。當貯存部不具有罩蓋時，可從貯存部的開口將水或氯化物放入貯存部內。亦可在貯存部所具有的罩蓋設置開口，且從開口放入水或氯化物。若為具有罩蓋的貯存部，則在搬運時水不易於溢出。在貯存部中，亦可設有偵測貯存部內之液體之量的液量偵測手段93，偵測溶出於貯存部內之水溶液中之氯化物之濃度的濃度偵測手段94，和偵測貯存部內之水溶液之pH的pH偵測手段95中的至少一者的偵測手段。
液量偵測手段93亦可為接觸式、或非接觸式的任一者。作為接觸式的液量偵測手段93來說，可列舉例如浮標式、靜電電容式。浮標式的液量偵測手段93係根據設於貯存部內之浮子亦即浮標之鉛直方向上的位置來偵測液位。靜電電容式的液量偵測手段93係通過偵測一對電極間的靜電電容來偵測液位。作為非接觸式的液量偵測手段93來說，係可列舉使用例如電波、超音波或光波而偵測液位者。
亦可將電解水產生手段92的電極兼作為液量偵測手段93來使用。朝鉛直方向延伸的電極，其沒入於液中的部分和曝露於貯存部內之氣體之部分的比例，會隨著貯存部內的液位亦即電解水之液位的變化而變化。當此比例變化時，流動於電極之正極與負極之間的電流值即變化。因此，藉由偵測流動於電極之正極與負極之間之電流值的變化，即可偵測貯存於貯存部中之液體的量。此外，液量偵測手段93亦可例如藉由貯存部的重量，來偵測貯存部內之液體的量。例如，液量偵測手段93亦可對於空的貯存部的重量，依據質量已增加了多少，來偵測貯存部內之液體的量。
濃度偵測手段94係可為例如利用光的折射現象而測量水溶液中之氯化物之濃度的折射儀，亦可為從水溶液中之氯化物之濃度與水溶液之導電率的關係來測量水溶液中之氯化物之濃度的導電率儀。此外，濃度偵測手段94係例如可使用吸光測定法來測量氯濃度。此外，濃度偵測手段94亦可從濁度等其他資訊來推測氯濃度。
pH偵測手段95亦可為使用例如玻璃電極者。pH偵測手段95亦可為使用例如玻璃電極法者。依據pH偵測手段95，即可偵測貯存部內之水溶液的pH在0至14或比其更窄的範圍內為多少。
電解水產生手段92係可設於貯存部內。電解水產生手段92亦可設於貯存部的外部。例如，亦可在連接於第一排出部的液通路設置電解水產生手段92。電解水產生手段92係在貯存於貯存部中之水溶液排出至殺菌裝置76之外部之前產生電解水即可。在本揭示中，所謂「通路」原則上相當於供固體或液體通過的通道。
殺菌裝置76所利用的液體若為不需要電性分解的液體，則殺菌裝置76亦可不具備電解水產生手段92。所謂不需要電性分解的液體，係例如為乙醇。此外，管理者亦可直接放入殺菌液於貯存部中。
亦可構成為從供水管道供給水至殺菌裝置76。換言之，手乾燥裝置亦可連結於供水管道。例如，貯存部亦可經由自動開關閥來連結於供水管道。藉此，即可從供水管道自動地補充水至貯存部。亦可當液量偵測手段93偵測到貯存部內之液位的降低時，即從供水管道自動地供水至貯存部以恢復為預定的液位。亦可當濃度偵測手段94偵測到貯存部內之水溶
液之濃度的上升時，即自動地從供水管道供水至貯存部，以使濃度降低至預定的濃度。
排出手段77亦可具備第一排出部、第二排出部、第三排出部中之至少一個排出部。第一排出部、第二排出部、第三排出部的各者亦可具備用以排出殺菌液的機構部。第一排出部係從貯存部將殺菌液排出至手插入部3的表面或形成手插入空間5的壁面。第二排出部係從貯存部將殺菌液排出至使用者的手。第三排出部係從貯存部將殺菌液排出至設置有手乾燥裝置的空間。
從排出手段77排出的殺菌液係可露出於手乾燥裝置的外表。從排出手段77排出的殺菌液亦可接觸外氣。從排出手段77排出的殺菌液亦可露出於可能與人接觸的位置。
第一排出部亦可具備將殺菌液排出至手插入空間5的第一排出口、第一開閉閥及將殺菌液導向第一排出口的第一液通路。當第一開閉閥打開時，殺菌液往第一排出口排出。當地一開閉閥關閉時，停止殺菌液往第一排出口排出。
第一排出部亦可具備複數個第一排出口。例如，複數個第一排出口係可沿著手插入部3的左右方向及寬度方向而成列地排列。依據以此方式排列的複數個第一排出口，即能夠以殺菌液使手插入部3之較廣的範圍潤濕。此外，第一排出口亦可為沿著手插入部3的左右方向亦即寬度方向而延伸之細長的開口。此外，第一排出口亦可構成為藉由將複數個微細口靠近配置而使整體看起來像是圓形。
第一開閉閥典型上係藉由電磁閥來構成。第一排出部係可通過打開第一開閉閥，從而利用貯存部內之殺菌液的液位、與第一排出口的高低差，亦即水位差來排出殺菌液。第一排出部亦可具備汲取貯存部內之殺菌液的泵以取代第一開閉閥。第一排出口較佳構成為使從第一排出口排出之液體的粒子群包含粒徑為直徑300μm以下之微粒子。此外，第一排出部係可單純為使貯存部內之殺菌液流出的流路。例如，第一排出部係可為單純的細管或孔口(orifice)。在此情形下，以每單位時間之殺菌液的排出量可成為所需之值之方式設定第一排出口之細管的內徑或孔口徑即可。
第二排出部係發揮將殺菌液排出至使用者之手的功能。第二排出部亦可具備將殺菌液排出至使用者之手的第二排出口，進行將殺菌液排出至第二排出口和阻斷排出的第二開閉閥，及引導殺菌液至第二排出口的第二液通路。
第二排出口係可為例如可將殺菌液進行噴霧的管嘴。第二排出部亦可具備複數個第二排出口。例如，複數個第二排出口可配置在插入前部3b。在比插入前部3b的中心更左側的位置可配置第二排出口，在比插入前部3b的中心更右側的位置，可配置不同於上述第二排出口之其他的第二排出口。在插入前部3b中之左側之一半之部分之中心的位置可配置第二排出口，在插入前部3b中之右側之一半之部分之中心的位置可配置不同於上述第二排出口之其他的第二排出口。亦可在使用者將兩手放入於手插入空間5之際，於前視觀看時，在面對左手之手掌之中心的位置配置第二排出口，亦可在面對右手之手掌之中心的位置配置不同於上述第二排出口之其他的第二排出口。通過如上所述配置第二排出口，於使用者將手放入
於手插入部3的手插入空間5之際，從第二排出口排出的殺菌液即易於附著於手上。
第二開閉閥典型上係藉由電磁閥來構成。第二排出部係可通過打開第二開閉閥來利用貯存部內之殺菌液的液位與第一排出口的高低差，亦即水位差而排出殺菌液。第二排出部亦可具備汲取貯存部內之殺菌液的泵以取代第二開閉閥。此外，第二排出部係可單純為使貯存部內之殺菌液流出的流路。例如，第二排出部係可為單純的細管或孔口。在此情形下，係以每單位時間之殺菌液的排出量可成為所需之值之方式設定第二排出口之細管的內徑或孔口徑即可。
排出手段77亦可為不具備第二排出部，而兼具有第二排出部之功能的第一排出部者。亦即，可為由第一排出部可將殺菌液排出至手插入部3，而且，亦可由第一排出部將殺菌液排出至使用者之手者。例如，第一排出部係可具有將複數個微細的第一排出口靠近設置的構造。設於手插入部3之面的第一排出部，亦可至少將殺菌液排出至與該面相面向的面。亦可以從第一排出部呈輻射狀排出殺菌液之方式構成第一排出部。
複數個第一排出部可配置於插入前部3b。在比插入前部3b之中心更左側的位置可配置第一排出部，在比插入前部3b之中心更右側的位置，可配置不同於上述第一排出部之其他的第一排出部。在插入前部3b中之左側之一半之部分之中心的位置可配置第一排出部，在插入前部3b中之右側之一半之部分之中心的位置可配置不同於上述第一排出部的其他第一排出部。配置在比插入前部3b之中心更左側之位置的第一排出部和配置
在比插入前部3b之中心更右側之位置的第一排出部，較理想為相對於插入前部3b的中心呈左右對稱。
當從插入前部3b的面觀看時，在比與插入前部3b相面向之插入後部3c之面更近的位置，配置使用者的手。因此，從第一排出部發射後不久的粒子，會在完全擴散前碰到手。因此，可使噴出之殺菌液大量地碰到手。相對於此，在從第一排出部噴出後的殺菌液碰到插入後部3c的面時，由於比手的位置更遠，故殺菌液已擴散。因此，殺菌液附著在插入後部3c的廣範圍。依據此第一排出部，可將殺菌液排出至使用者的手，亦可排出至手插入部3。因此，可用容易的構成使衛生性更為良好。
第三排出部係發揮將殺菌液散佈至手插入空間5和配置有手乾燥裝置之空間之至少一方之空間的功能。第三排出部亦可具備使殺菌液為霧狀而排出至空間的霧化裝置和引導殺菌液至霧化裝置的第三液通路。
霧化裝置係將霧化後的殺菌液擴散或散佈至空間。霧化裝置係可為將殺菌液予以加熱而使之霧化的加熱式，亦可為藉由超音波使殺菌液振動而使之霧化的超音波式，亦可為使用文土里效應(Venturi effect)的噴霧器，亦可為以吹霧器使殺菌液霧化的方式，亦可為利用電暈放電而使殺菌液霧化的靜電霧化方式，亦可為藉由使之高速旋轉的螺旋槳等使殺菌液擴散而將液滴粉碎的粉碎式。較佳為任何一種霧化方式霧化裝置都以產生包含直徑100μm以下之微粒子之粒子群之方式將殺菌液霧化，更佳為以產生包含直徑10μm以下之微粒子之粒子群之方式將殺菌液霧化。
當排出手段77排出殺菌液至手時，較理想為排出即使人接觸亦較少危害之可安全使用之濃度的殺菌液。當排出手段77將霧化後的殺
菌液向空間噴霧的情形下，較理想為排出即使人吸收到亦較少危害之可安全使用之濃度的殺菌液。
當人吸收到從第二排出部或第三排出部排出之微細的粒子時有可能會出現些微不良的影響。在該種情形下，於手乾燥系統75中，將前述之遮蔽體、覆蓋部或蓋設置於手插入部3，且在遮蔽體、覆蓋部或蓋為閉狀態(第二狀態)的時候，從第二排出部或第三排出部排出殺菌液即可。藉此，雖被限定於手插入部3內，惟仍可進行殺菌。之後，手乾燥系統75係在排出殺菌液後經過預定的時間之後，可將遮蔽體、覆蓋部或蓋自動地返回開狀態(第一狀態)。
第一液通路、第二液通路和第三液通路的各者係例如藉由配管構成。第一液通路、第二液通路和第三液通路係可為從其他液通路分支，亦可分別單獨地連接於貯存部。
貯存部係可接受水與氯化物。貯存部係貯存氯化物的水溶液。殺菌裝置76係可具備用以接收水或其他液體的第一接收口，及用以接收氯化物的第二接收口之至少一方的接收口。第一接收口和第二接收口係可為相同者。換言之，第一接收口和第二接收口係可為兼用者。第一接收口和第二接收口亦可非為開口。
手乾燥系統75亦可具備用以將從第一接收口所接收的液體送至貯存部的液通路。該液通路係連接於貯存部。液通路的開口亦可為第一接收口。手乾燥系統75亦可不具備該液通路。此時，第一接收口係設於貯存部。
在殺菌裝置76構成為具有上部張開的貯存部，且從該上部收入液體於貯存部的情形下，可將貯存部的上部解釋為第一接收口，亦可解釋為不存在第一接收口而從上方收入液體至貯存部。如此，第一接收口未必要是被嚴格定義者。殺菌裝置76亦可不具備第一接收口。
第一接收口亦可為用以接收用以產生電解水的水，例如接收自來水的開口。殺菌裝置76係可從第一接收口接收水以外的液體。殺菌裝置76亦可從第一接收口接收殺菌作用少的液體或無殺菌作用的液體。殺菌裝置76亦可從第一接收口接收殺菌作用少的液體或無殺菌作用的液體，且藉由電解水產生手段92來產生有殺菌作用的液體。殺菌裝置76亦可從第一接收口接收食鹽水或氯化鈉水溶液等屬於鹽水的液體。殺菌裝置76亦可在從第一接收口接收鹽水時，藉由對鹽水進行電性分解，以產生次氯酸水。此時，殺菌裝置76不需要從氯化物的第二接收口接收任何東西。殺菌裝置76亦可從氯化物的第二接收口來接收鹽水，以取代第一接收口。此時，殺菌裝置76不需要從第一接收口接收任何東西。
第一接收口較佳為配置於與貯存部之天花板面相同高度的位置，或配置於比貯存部之天花板面更上方的位置。藉此，從第一接收口接收的液體即因為重力而流動於貯存部。此外，第一接收口亦可配置於貯存部的天花板面。
用以接收氯化物至貯存部的第二接收口亦可設於貯存部。第二接收口較佳為配置在與貯存部之天花板面相同高度的位置，或是配置在比貯存部之天花板面更上方的位置。第二接收口係用以接收氯化物外，還兼具用以接收用以產生電解水的水例如自來水的開口。管理者亦可將水從
第一接收口收入貯存部，且將氯化物從第二接收口收入貯存部。管理者亦可將氯化物已溶於水的水溶液，從第一接收口或第二接收口收入貯存部。
當貯存部為多室型的情形下，較佳為將第一接收口、第二接收口連接於不同的室。
手乾燥系統75亦可具有用以先暫時貯存水的水槽。手乾燥系統75亦可先將從第一接收口所接收的水貯存於水槽。亦可在水槽設有第一接收口。例如，亦可在水槽的天花板面設有第一接收口。水槽較理想為配置在比貯存部更上方的位置。
手乾燥系統75亦可具備將第一接收口連接於水槽的取水通路。取水通路係例如藉由配管形成。從第一接收口流入的水係通過取水通路而貯存於水槽。當手乾燥系統75具備水槽的情形下，液通路將水槽連接於貯存部。從第一接收口流入的水係依序經由取水通路、水槽、液通路且流入於貯存部。液通路亦可設於水槽的下側。液通路亦可設於水槽的下面。
手乾燥系統75更具備用以偵測水槽中之水量的水量偵測手段96及用以調整水槽中之水量的水量調整手段97。水量偵測手段96係例如可設於水槽。水量偵測手段96係可藉由針對前述之液量偵測手段93所說明之偵測方法的任一者來偵測水量。水量調整手段97係可為切換將水從水槽排出至貯存部及停止將從水槽排出至貯存部的手段。水量調整手段97係例如可設在水槽與液通路之任一方或雙方。水量調整手段97係可為例如使用電磁閥或泵者。作為該電磁閥或泵來說，係可應用公知技術或依據上述的架構者。
手乾燥系統75係將濃度偵測手段94、水量偵測手段96、水量調整手段97中之至少二個予以組合地使用，從而可使所希望之量的水移動至貯存部。例如，手乾燥系統75係以水量偵測手段96偵測水量，同時藉由水量調整手段97使水移動至貯存部，從而可高精確度控制要使之移動的水量。此外，手乾燥系統75係以濃度偵測手段94來偵測貯存部內之水溶液的濃度，同時藉由水量調整手段97使水移動至貯存部，從而可高精確度調整貯存部內之水溶液的濃度。手乾燥系統75亦可使用濃度偵測手段94、水量偵測手段96、水量調整手段97之各者使水槽的水移動至貯存部。藉此，即可以更高的精確度來移動水。如此，通過以高精確度使水槽的水移動至貯存部，即可更適當地管理貯存部內之水溶液的濃度或pH。
殺菌裝置76亦可具備氯化物供給部78。氯化物供給部78係用以供給氯化物至貯存部者。氯化物供給部78亦可被設置作為貯存部的一部分。氯化物供給部78亦可具備第二接收口、第一供給路徑、第二供給路徑及氯化物保管部79。氯化物供給部78亦可僅具備第二接收口。第一供給路徑係用以將氯化物從第二接收口移動至氯化物保管部79的通道。第二供給路徑係用以將氯化物從氯化物保管部79移動至貯存部的通道。氯化物保管部79係用以暫時地保管從第二接收口所接收之氯化物者。氯化物保管部79係連接於貯存部。例如，被收入於第二接收口的氯化物，係依序經由第一供給路徑、氯化物保管部79、第二供給路徑而供給至貯存部。
另外，當在氯化物保管部79中設有第二接收口時，亦可不具備有第一供給路徑。當氯化物供給部78構成為具有上部開放的氯化物保管部79，且從其上部收入氯化物至氯化物保管部79的情形下，可將氯化
物保管部79的上部解釋為第二接收口，亦可解釋為不存在第二接收口而從上方收入氯化物至氯化物保管部79。如此，第二接收口未必要是被嚴格定義者。殺菌裝置76亦可不具備第二接收口。
在第二接收口設置於手乾燥系統75的狀態下，可藉由手乾燥系統75的任一個部位來覆蓋第二接收口。藉此，異物不易於侵入於第二接收口，故在防止異物侵入於貯存部方面較為有利。
氯化物供給部78亦可不具備氯化物保管部79。此時，被收入於第二接收口的氯化物係通過第二供給路徑而供給至貯存部。此外，當在貯存部中設有第二接收口的情形下，亦可不具備有第二供給路徑。
手乾燥系統75亦可具有對於殺菌裝置76可拉出或取出第二接收口的構造。或者，手乾燥系統75亦可具有對於殺菌裝置76可將包含第二接收口之氯化物供給部78的至少一部分拉出或取出的構造。依據此構造，將氯化物放入第二接收口之際，可將第二接收口或包含第二接收口之氯化物供給部78的至少一部分拉出或取出，從而更容易地進行作業。
氯化物保管部79係可保管一定數或一定量的氯化物。氯化物保管部79亦可具有自動地排出氯化物的機構。殺菌裝置76亦可具備調整氯化物保管部79內之氯化物之量的氯化物調整手段99。氯化物調整手段99亦可將保管於氯化物保管部79中的氯化物搬運一定量至貯存部。氯化物調整手段99亦可當例如貯存部內之殺菌液的量較少時，從氯化物保管部79將氯化物搬運一定量至貯存部。氯化物調整手段99亦可例如當貯存部內之殺菌液的濃度比預定的值更低時，從氯化物保管部79將氯化物搬運
一定量至貯存部。氯化物調整手段99亦可例如當貯存部內之殺菌液的pH比預定的值更高時，從氯化物保管部79將氯化物搬運一定量至貯存部。
氯化物保管部79亦可保管粒狀的氯化物。以下記載氯化物粒較小之情形之氯化物調整手段99之例。所謂氯化物粒較小的情形，係例如關於粒徑成為最大之方向的長度低於5mm的情形，更佳為3mm以下的情形，尤佳為1mm以下的情形。當此種較小之粒的情形下，氯化物調整手段99係統一將氯化物的複數個粒供給至貯存部。氯化物調整手段99亦可例如具備開閉閥及氯化物量偵測手段100。開閉閥典型上係藉由電磁閥來構成。當打開開閉閥時，氯化物即因為高低差而從氯化物保管部79被搬運至貯存部。
氯化物量偵測手段100亦可偵測氯化物保管部79之中之氯化物的量。氯化物量偵測手段100亦可偵測從氯化物保管部79被搬運至貯存部之氯化物的量。氯化物量偵測手段100亦可例如依據包含氯化物之氯化物保管部79之重量的變化，而偵測從氯化物保管部79被搬運至貯存部之氯化物的量。手乾燥系統75係根據氯化物量偵測手段100的偵測結果而調整開閉閥的開閉動作。另外，手乾燥系統75亦可依據設於貯存部之濃度偵測手段94的偵測結果來調整開閉閥，以取代氯化物量偵測手段100。
以下記載氯化物之粒較大情形之氯化物調整手段99之例。所謂氯化物之粒較大的情形，係例如關於粒徑成為最大之方向的長度為5mm以上的情形。當此種較大之粒的情形下，氯化物調整手段99較佳為將氯化物之粒按每個粒供給至貯存部。另外，在本揭示中，在關於粒徑成
為最大之方向的長度為5mm以上的情形中，氯化物調整手段99亦可將氯化物的複數個粒一併地供給至貯存部。
圖55和圖56係顯示實施型態16之手乾燥系統75所具備之氯化物保管部79之一例的立體圖。圖57係圖56所示之氯化物保管部79的頂視圖。圖58係圖56所示之氯化物保管部79的側視圖。
以下說明圖55至圖58所示的氯化物保管部79。圖示的氯化物保管部79係具有適於將較大粒的氯化物按各粒地搬運至貯存部的氯化物調整手段99。氯化物保管部79的氯化物調整手段99係例如具備旋轉部80、電動機、封閉部81、排出口82及壁83。圖56至圖58係顯示壁83去除後的狀態。
電動機係用以使旋轉部80旋轉者。在圖55至圖58中，係省略了電動機的圖示。電動機係使旋轉部80旋轉預定的旋轉量。電動機亦可具備齒輪。電動機亦可例如為步進馬達(stepping motor)。例如，電動機亦可設置在封閉部81的內部或封閉部81的下方。
封閉部81係相當於氯化物保管部79中之位於較低位置的部分。排出口82係設於氯化物保管部79之下部的孔。排出口82的內徑係較氯化物粒的外徑更大。排出口82係連接於第二供給路徑或貯存部。從排出口82搬運的氯化物係流入於貯存部。排出口82係相當於設於氯化物保管部79之下部的開口或設於封閉部81的開口。壁83係用以使氯化物不會洩漏於氯化物調整手段99的外側者。
旋轉部80係具備外框84、軸部85、齒輪86、區隔部87、和間隙88。軸部85係相當於位於旋轉部80之旋轉中心的軸桿(shaft)。旋
轉部80之齒輪86的中心軸係與軸部85的中心軸一致。旋轉部80的齒輪86係與電動機的齒輪咬合。電動機之齒輪的旋轉係藉由齒輪86傳遞至旋轉部80，使旋轉部80旋轉。
外框84係位於從軸部85朝旋轉部80的半徑方向離開的位置。區隔部87係連結外框84與軸部85之間。從平行於軸部85的方向觀看時，外框84的形狀係例如為圓形。在圖示之例中，複數個區隔部87係設成以軸部85為中心的輻射狀。藉由外框84、軸部85和區隔部87，形成複數個間隙88。複數個區隔部87較佳為針對旋轉部80之周方向的位置等間隔地配置。藉此，即能夠形成彼此相等之形狀的複數個間隙88。
區隔部87的個數、和間隙88的個數係例如可為2個至8個左右，更佳為4個至6個左右。一個間隙88係具有供氯化物放入一粒的空間。區隔部87的數量係可依氯化物之粒的大小而適當地設定。氯化物之粒較理想為外形的參差不齊小到某種程度。
外框84的下部係面對封閉部81的上面。在外框84的內側而且外框84的下側而且相當於軸部85之外側的位置，設有排出口82。在圖示之例中，從平行於軸部85的方向觀看時，排出口82的形狀係圓形。從平行於軸部85的方向觀看時，排出口82的面積較理想為比間隙88的面積更小。排出口82亦可具有從平行於軸部85的方向觀看時，當間隙88重疊在排出口82的情形下，排出口82完全被間隙88包圍的大小。
當粒狀的氯化物從第二接收口被供給至氯化物保管部79時，粒狀的氯化物自由落下，且氯化物會按每個粒配置在各個間隙88。當氯化
物之粒的數量比間隙88的數量更多時，氯化物之粒會堆積在區隔部87的上方，或堆積在配置於間隙88之氯化物之粒的上方。
當旋轉部80藉由電動機的驅動而旋轉時，任一個間隙88即重疊於排出口82的上方。間隙88的內部尺寸與排出口82的內部尺寸係比氯化物之粒的外部尺寸更大。因此，配置在重疊於排出口82之上方之間隙88之氯化物之粒係通過排出口82被搬運至貯存部。如此，通過調整電動機所進行之旋轉部80的旋轉量，從而可調整對於貯存部之氯化物的搬運量。
在某特定之間隙88位於排出口82的上方，且該特定之間隙88內的氯化物從排出口82排出之後，旋轉部80旋轉一次，直到該特定之間隙88再度到達排出口82之上方的期間，配置在其他間隙88的氯化物從排出口82排出。因此，在旋轉部80旋轉一次期間，在該特定的間隙再度裝入氯化物即可。因此，在間隙88內無氯化物的可能性極低。
手乾燥系統75亦可依據氯化物量偵測手段100的偵測結果來調整電動機所進行的旋轉量，藉此而自動地調整對於貯存部之氯化物的供給量。或者，手乾燥系統75亦可依據設於貯存部之濃度偵測手段94的偵測結果來調整電動機所進行之旋轉量，藉此而自動地調整對於貯存部之氯化物的供給量，以取代氯化物量偵測手段100。
如圖55所示，壁83係設於外框84的外側。壁83的一部分係鄰接於旋轉部80的外周面。壁83的上端係位於比外框84的上端更高的位置。由於設有此壁83，故即使氯化物因為旋轉部80的旋轉而移動的情形下，氯化物亦不會散亂至外框84的外部。
旋轉部80亦可更具備整頓部89。整頓部89係配置在外框84的上方，或區隔部87的上方，或間隙88的上方。整頓部89係與旋轉部80一體地旋轉。整頓部89係例如從軸部85朝向外周方向突出。整頓部89係例如具有棒狀或板狀的形狀。複數個整頓部89亦可設於旋轉部80。整頓部89的數量亦可比區隔部87的數量更少。通過設置整頓部89，即可易於更確實地將氯化物按每個粒放入間隙88。當氯化物大量地供給至氯化物保管部79時，氯化物有可能不會進入間隙88，而使氯化物在間隙88的上方堵塞。當整頓部89與旋轉部80一同旋轉時，氯化物保管部79內的氯化物會被整頓部89攪拌。結果，氯化物被順暢地收納於間隙88。整頓部89之形狀、大小、個數等規格係可適當地調整為讓氯化物適當地進入間隙88。藉此，氯化物進入間隙88的確實性更為提高。
氯化物調整手段99亦可更具備侵入防止部90和侵入防止支撐部91。亦可設有複數個侵入防止部90。侵入防止部90係配置於排出口82的上方。侵入防止部90係設置為頂視觀看時覆蓋排出口82的至少一部分，侵入防止部90係用以防止複數個氯化物之粒一次侵入排出口82者。侵入防止部90係用以防止氯化物從侵入防止部90的上方侵入於排出口82者。
侵入防止部90係位於區隔部87的上方。侵入防止部90係位於間隙88的上方。侵入防止部90係被設置作為與旋轉部80為不同個體的構件。亦即，即使旋轉部80旋轉侵入防止部90也不會旋轉。
侵入防止部90係設於比整頓部89更下方。較理想為在旋轉部80旋轉的時候，侵入防止部90不會接觸外框84、軸部85、間隙88、
區隔部87和整頓部89。侵入防止部90係可為棒狀的構件，亦可為板狀的構件，亦可為如彈簧般的彈性體。
侵入防止部90係可阻礙位於間隙88之上方的氯化物亦即位在重疊於配置在間隙88之氯化物之上的氯化物會旋轉移動至排出口82之上方的位置。侵入防止部90亦可具有會使位於間隙88之上方的氯化物亦即位在重疊於配置在間隙88之氯化物之上的氯化物朝侵入防止部90之上方移動的形狀。
藉由設置侵入防止部90，位於排出口82之上方而且侵入防止部90之下方之氯化物之粒的數量最大被限制為一個。藉此，即可更確實地防止二個以上之氯化物之粒從排出口82一次被排出。
在適當之量的氯化物被氯化物保管部79保管的狀態下，只要適當地調整大小等為使氯化物確實地位於間隙88，則氯化物被排出的量就會與電動機之齒輪的旋轉量成比例。因此，殺菌裝置76即使不具備氯化物量偵測手段100和液量偵測手段93，亦可用高精確度來調整來自氯化物保管部79之氯化物的排出量。
侵入防止部90的形狀較佳為氯化物不會穩定地停留在侵入防止部90之上方的形狀。若氯化物可穩定地停留於侵入防止部90的上方，則即使間隙88具有讓氯化物進入之空間的情形下，氯化物亦有可能不會進入間隙88。因此，對於氯化物保管部79供給氯化物的頻率有可能會增加。從此觀點來看，侵入防止部90的形狀較佳為圓筒形狀，或侵入防止部90之上面為呈傾斜的形狀。藉此，氯化物將不會穩定地停留在侵入防止部90的上方。當侵入防止部90為彈簧等彈性體的情形下，氯化物要停留於侵入
防止部90之上方之際，侵入防止部90會產生撓曲或晃動等。因此，氯化物不易穩定地停留在侵入防止部90的上方，故較佳。此外，當侵入防止部90為如線圈彈簧般的彈性體時，由於侵入防止部90呈螺旋形狀，故氯化物不易停留於侵入防止部90的上方，故較佳。
當侵入防止部90為彈性體的情形下，例如，在氯化物從上方接觸侵入防止部90的時候，侵入防止部90雖會些許變形，但侵入防止部90較理想為具有足以讓氯化物進入排出口82而侵入防止部90不致變形之程度的剛性。
或者，亦可當侵入防止部90為彈性體的情形下，例如，以在氯化物從上方接觸侵入防止部90的時候，侵入防止部90雖會變形，但侵入防止部90會被配置於下方的區隔部87支撐住而抑制侵入防止部90的變形，藉此以使得氯化物不會進入排出口82之方式，來設定侵入防止部90的剛性和位置關係。
此外，若侵入防止部90為彈性體，則在配置於間隙88的氯化物重疊著的時候，氯化物的中心若位於較彈性體更下側，則彈性體會將氯化物往下側彈推，若氯化物的中心位於比彈性體更上側，則彈性體會將氯化物往上側彈推。換言之，可為正確配置於間隙88的氯化物會被排出至排出口82，且堆積在正確配置於間隙88之氯化物之上方的氯化物，一直到正確地配置於間隙88前都不會排出至排出口82的構造。
侵入防止支撐部91係用以支撐侵入防止部90者。如圖55所示，侵入防止部90係例如設於壁83的外側。此時，在形成於壁83的孔上設置侵入防止部90，或供侵入防止部90進入，或供侵入防止部90插
入。或者，侵入防止部90與壁83可成為一體。另外，為使整頓部89可使附著在侵入防止部90之上方的氯化物落下，整頓部89的形狀和侵入防止部90的形狀係可為經適當調整後者。
綜上所述，殺菌裝置76亦可為從所供給的水和與該水個別供給的氯化物來產生氯化物水溶液，且將該氯化物水溶液進行電性分解，藉此產生成為殺菌液的電解水者。如此，殺菌裝置76可產生殺菌液，故具有管理者不需要準備殺菌液的優點。
在本揭示中，係有將聚積於排水箱9的液體稱為「排出水」的情形。排出水係附著於手上的水滴或殺菌液通過排水口8而流入於排水箱9者。手乾燥系統75亦可具備偵測聚積於排水箱9的排出水的排出水偵測手段98。
排出水偵測手段98亦可偵測排水箱9內之排出水的量已到達預定之臨限值的情形或已超過了該臨限值的情形。排出水偵測手段98亦可直接或間接地偵測預定之量的排出水已聚積於排水箱9的情形。所謂「直接偵測」係例如偵測排出水偵測手段98聚積於排水箱9之排出水的量，亦即排出水的體積。所謂「間接偵測」係例如偵測排出水偵測手段98偵測排水箱9的重量，或聚積於排水箱9之排出水的重量已達到預定的重量以上。所謂「間接偵測」係例如由偵測接觸到液體之情形的感測器，偵測與液體的接觸達預定之時間以上的情形。此預定的時間係防止因為晃動所導致的誤偵測，故較佳為例如一秒以上的時間。如此，排出水偵測手段98係可偵測聚積於排水箱9之液體的量、液體的液位、液體的重量等。此外，排出水偵測手段98亦可偵測重量、距離、信號的有無、信號之接收的有無等。
手乾燥系統75亦可具備通報排出水偵測手段98之偵測結果的排出水通報部。例如，顯示部4可相當於排出水通報部，後述的終端103可相當於排出水通報部。若為一般的手乾燥裝置，則作為定期性之手乾燥裝置的清理，只要例如一天一次或一周一次等，進行相應於使用頻率的清掃，則排出水就不會從排水箱9溢出。然而，在具備有殺菌裝置76的手乾燥系統75中，除從手去除後的水以外，從殺菌裝置76排出之殺菌液的一部分亦有可能從排水口8流入於排水箱9。藉此，排出水即有可能會比通常的手乾燥裝置更快地聚積於排水箱9。結果，排水箱9有可能會滿水。通過藉由排出水偵測手段98偵測排出水，且藉由排出水通報部通報管理者，從而可防止排出水過度聚積於排水箱9及排出水溢出。藉此，管理者可適當地管理手乾燥系統75。
另外，亦可構成為排水口8連接於下水道的流路，以取代將手乾燥裝置的排水口8連接於排水箱9。藉此，從殺菌裝置76排出的殺菌液、以及從手去除後的水，係從排水口8直接流至下水道。因此，可在設置手乾燥裝置的場所，使用大量的殺菌液。例如，即使安全性高但殺菌力低的殺菌液，亦可通過大量使用來提高衛生性。
液量偵測手段93、水量偵測手段96、排出水偵測手段98和氯化物量偵測手段100的各者，係直接或間接地偵測對象物的量已達到預定的臨限值的情形或超過了預定的臨限值的情形。此等偵測手段不限定於偵測對象物的量本身。此等偵測手段係可用任何原理來偵測對象物的量。所謂「間接偵測」係相當於例如不直接偵測量，而從不同於量的指標或值，經過換算、試算、推估或概算來偵測量。此等偵測手段亦可偵測特定之對
象之重量、距離、變化量、信號的有無、信號之接收的有無等任何一者來偵測對象物。此等偵測手段亦可為藉由例如測壓儀(load cell)、或彈簧的變位來偵測者。氯化物量偵測手段100係可為稱為氯化物偵測部者，液量偵測手段93係可為稱為液偵測部者，水量偵測手段96係可為稱為水偵測部者。
本揭示的手乾燥系統係可構成為包含複數台的手乾燥裝置，且由該等複數台的手乾燥裝置協作者。例如，手乾燥系統75亦可根據各個手乾燥裝置中之UV照射裝置23的照射時間或殺菌裝置76噴霧殺菌液的時間等，而個別地判斷各個手乾燥裝置之手插入部3的衛生狀態。亦可構成為複數台手乾燥裝置的各者具備控制部22，且各個手乾燥裝置的控制部22彼此進行通訊。或者，亦可構成為由一個控制部22控制複數台手乾燥裝置的動作。
複數台之手乾燥裝置的控制部22，亦可共有關於各個手乾燥裝置之手插入部3之衛生狀態的資訊。或者，亦可構成為將關於各個手乾燥裝置之手插入部3之衛生狀態的資訊集中於後述的終端103。此時，終端103亦可將關於分析手插入部3之衛生狀態後之結果的資訊傳送至各個手乾燥裝置。通過如上所述之方式，即能夠判別複數台手乾燥裝置中之目前的衛生狀態為最良好的手乾燥裝置，或判別目前的衛生狀態為良好之複數台的手乾燥裝置。
亦可藉由前述的衛生狀態通報手段來通報哪一個手乾燥裝置相當於目前之衛生狀態為良好的一個或複數個手乾燥裝置。此外，手乾燥系統75亦可使在配置於配置有手乾燥裝置之空間的監視器或顯示器作
為衛生狀態通報手段。亦可通報目前之衛生狀態為良好的手乾燥裝置是哪一個。藉此，使用者即能夠易於掌握目前之衛生狀態為良好的手乾燥裝置是哪一個，因此可選擇目前之衛生狀態為良好的手乾燥裝置進行使用。因此，衛生性提高。
使複數台手乾燥裝置協作的手乾燥系統，亦可控制各手乾燥裝置之UV照射裝置23的動作時間點，使所有手乾燥裝置的UV照射裝置23不會同時照射紫外線。例如，使複數台手乾燥裝置協作的手乾燥系統係可控制為當複數台手乾燥裝置之中有正在從UV照射裝置23照射紫外線中的手乾燥裝置存在時，不要從其他至少一台手乾燥裝置的UV照射裝置23照射紫外線。藉此，即可防止所有手乾燥裝置同時成為無法使用的事態發生，因此對於使用者而言便利性提升。
在本揭示中，係有將管理或維修手乾燥裝置、手乾燥系統、或殺菌裝置76的人、業者、公司等單純記載為「管理者」的情形。在本揭示中，手乾燥系統75或手乾燥裝置亦可藉由與管理者所使用的終端103通訊而與終端103協作。終端103亦可具有用以顯示資料或資訊的顯示器。終端103亦可具有可供相當於管理者之人操作的操作部。亦可構成為通過由相當於管理者的人操作終端103，對於手乾燥裝置或殺菌裝置76進行外部輸入資訊，從而可進行手乾燥裝置或殺菌裝置76之操作或控制。
終端103亦可構成為藉由例如智慧型手機(smartphone)或平板(tablet)等攜帶型終端構成，亦可構成作為個人電腦(personal computer)的顯示器。終端103亦可為可拆裝自如地設置於手乾燥裝置者。
在以下的說明中，有將氯化物量偵測手段100、液量偵測手段93、水量偵測手段96、排出水偵測手段98、pH偵測手段95、濃度偵測手段94或其他偵測手段的偵測結果、其他測量部的測量結果、有關於手插入部3之衛生狀態的資訊、殺菌步驟或乾燥步驟中之強制結束之時間點的資料、有關於UV照射裝置23的資訊、有關於手乾燥裝置的資訊、及有關於殺菌裝置76的資訊統稱為「各種資料」的情形。終端103係可將相當於各種資料中之至少一者的資料或資訊予以顯示於顯示器。
所謂殺菌步驟或乾燥步驟中之強制結束之時間點的資料，係關於手是在哪一個時間點從手插入部3抽出的資料。所謂有關於UV照射裝置23的資訊，係可包含例如光源24的總計點亮時間、每一小時之光源24的點亮時間、每一日之光源24的點亮時間、每月之光源24的點亮時間、每年之光源24之點亮時間中之至少一者的資訊。
終端103亦可將各種資料經由通訊介面裝置取得且顯示於顯示器。終端103亦可定期地取得各種資料。所謂「定期地」係可包含一秒以內之間隔等極短的間隔。
例如，手乾燥裝置或殺菌裝置76係可經由通訊介面裝置將各種資料傳送至外部的終端103，且使之顯示於終端103的顯示器。藉此，例如管理手乾燥裝置或殺菌裝置76之管理者等第三者從包含手乾燥裝置之房間等空間的外部，亦可確認關於手乾燥裝置或殺菌裝置76的各種資料。
終端103係可取得或確認關於複數台手乾燥裝置、或複數台殺菌裝置76的各種資料。此外，能夠取得或確認關於複數台手乾燥裝置、
或複數台殺菌裝置76之各種資料的終端103，亦可設置複數台。藉由以上述之方式，易於管理和活用各種資料。
在上述之例中，管理者係可視需要主動地確認終端103的顯示器，從而掌握各種資料。不限定於此例，手乾燥系統75亦可具有用以藉由終端103將關於各種資料的資訊更確實地通知管理者的通知手段。通知手段係可在各種資料的任一個值達到預定的臨限值或超過預定的臨限值，或低於預定的臨限值時通知管理者。通知手段亦可藉由使用終端103所產生之聲音、振動、顯示、光等中的一者，或複合地使用二者以上來通知管理者。例如，當UV照射裝置23之光源24的總計點亮時間超過了預定的時間時，終端103亦可藉由通知手段通知管理者。亦可從手乾燥裝置或殺菌裝置76發出通知資訊，且由終端103接收該通知資訊，由通知手段進行通知。或者，亦可由終端103從手乾燥裝置或殺菌裝置76接收各種資料，且依據終端103從該接收之各種資料判斷的結果，而由通知手段進行通知。
手乾燥裝置或殺菌裝置76亦可具備接受來自外部之輸入的接收部。接收部係具備接受外部輸入的外部輸入接受部。接收部係藉由例如既有技術來接受來自外部的輸入。例如，接收該輸入的方法係可為使用無線、紅外線、感測器等者。例如，手乾燥裝置或殺菌裝置76亦可藉由由接收部的外部輸入接受部接受來自外部的輸入，來進行電解水產生手段92之開關的啟動/關斷的切換、連續運轉切換部的啟動/關斷、偵測切換手段的啟動/關斷亦即手偵測部21或人偵測手段之感知功能的啟動/關斷、從氯化物保管部79至貯存部之氯化物之供給和供給停止的切換、送風機
10之運轉的切換、前述之各種偵測部所作的偵測。依據此構成，即可藉由外部輸入來控制手乾燥裝置或殺菌裝置76的各種動作。
此外，終端103亦可對於複數個手乾燥裝置或複數個殺菌裝置76進行外部輸入，且由複數個手乾燥裝置或複數個殺菌裝置76的外部輸入接受部接受來自外部的輸入。藉此，使複數個手乾燥裝置或複數個殺菌裝置76易於使用。
此外，亦可根據終端103所取得的各種資料，自動地對於手乾燥裝置或殺菌裝置76實施外部輸入，且由手乾燥裝置或殺菌裝置76的外部輸入接受部接受來自外部的輸入。
此外，亦可根據終端103所取得之複數個手乾燥裝置或複數個殺菌裝置76之各種資料，自動地對於複數個手乾燥裝置或複數個殺菌裝置76實施外部輸入，且由複數個手乾燥裝置或複數個殺菌裝置76的外部輸入接受部接受來自外部的輸入。
通過以上述之方式，例如當有配置有複數個手乾燥裝置的空間時，可藉由UV照射裝置23或殺菌裝置76的驅動，將使用者誘導至衛生性更高的手乾燥裝置。例如，亦可將使用者誘導至最後手乾燥裝置使用後經過的時間較長，衛生性較高的手乾燥裝置。作為誘導使用者的方法，可在衛生性較高之手乾燥裝置的顯示部4上，輸出能夠令使用者理解衛生性高的情形的顯示。此外，亦可在配置於具有複數個手乾燥裝置之空間的顯示器或監視器等，顯示可使用哪一個手乾燥裝置。顯示器或監視器等係具備接收部。顯示器或監視器等係可依據從終端103自動送來的資訊而顯示上述的顯示內容。
手乾燥裝置或殺菌裝置76的各功能係可藉由處理電路來達成。例如，亦可具備用以進行使藉由各偵測手段所取得之資料顯示於終端103之控制的處理電路。處理電路係可為專用的硬體，亦可為具備有執行儲存於記憶體中之程式的CPU(Central Processing Unit，中央處理單元)者。
另外，亦可將上述之複數個實施型態中之可供組合的二個以上予以組合而實施。
1:手乾燥裝置
2:本體殼體
2a:前罩蓋
2b:後罩蓋
3:手插入部
3b:插入前部
3c:插入後部
3d:插入側部
3e:前方突出部
3f:後方突出部
3g:插入左部
5:手插入空間
6:通氣孔
9:排水箱
10:送風機
11:馬達
12:渦輪風扇
13:吹出風路
14:前側吹出風路
15:後側吹出風路
16:吸氣口
17:濾波器部
18:吸氣風路
19:第一吹出口部
20:第二吹出口部
21:手偵測部
21a:電極
21b:電極
21c:電極
21d:電極
22:控制部
23:UV照射裝置
Claims (52)
- 一種手乾燥裝置，係具備：手插入部，係形成手插入空間，且具有對於前述手插入空間開口的通氣孔；送風機，係構成為流體連通於前述通氣孔，且從前述通氣孔朝前述手插入空間噴出空氣，或從前述手插入空間吸入空氣至前述通氣孔；及UV照射裝置，係具有光源，且將藉由前述光源所產生的紫外線照射於前述手插入空間；前述UV照射裝置更具備：基板，係設置有前述光源；窗部，係從與前述基板為相反側覆蓋前述光源，且供前述紫外線穿透；及間隔件，係於前述基板與前述窗部之間配置成不會擋到前述光源的光軸，且用以將前述基板與前述窗部之間的距離保持為一定；前述間隔件係構成為將前述光源所產生之光中之至少放射強度為最高之波長的光予以反射。
- 如請求項1所述之手乾燥裝置，其中，前述送風機係構成為從前述通氣孔噴出空氣至前述手插入空間。
- 如請求項2所述之手乾燥裝置，更具備對於前述手插入空間形成開口的吸引口；前述送風機係構成為從前述手插入空間吸入空氣至前述吸引口。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，更具備手偵測手段和人偵測手段的任一方或雙方，以及輸出變更手段，前述手偵測手段係偵測插入於前述手插入部的手或配置於前述手插入部之手，前述人偵 測手段係偵測靠近前述手乾燥裝置之人體，前述輸出變更手段係依據前述手偵測手段所進行的偵測或前述人偵測手段所進行的偵測，使前述光源的輸出降低或使前述光源的輸出為零。
- 如請求項4所述之手乾燥裝置，其中，前述輸出變更手段係構成為當前述手偵測手段未偵測到手之狀態持續著的時間，或前述人偵測手段未偵測到人的狀態持續著的時間超過基準時，即使前述光源的輸出降低，或使前述光源的輸出為零。
- 如請求項4所述之手乾燥裝置，係具備前述手偵測手段和前述人偵測手段之雙方，前述輸出變更手段係當前述手偵測手段未偵測到手而且前述人偵測手段未偵測到人的狀態持續著的時間超過基準時，即使前述光源的輸出降低或使前述光源的輸出為零。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，係構成為當前述UV照射裝置所進行之前述紫外線的照射持續著的時間超過基準時，即使前述光源的輸出降低或使前述光源的輸出為零。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，更具備照射通報手段，該照射通報手段係在前述UV照射裝置照射前述紫外線的時候通報正在執行紫外線照射之意旨。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，更具備衛生狀態通報手段，該衛生狀態通報手段係通報前述手插入部的衛生狀態。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，其中，前述光源係可產生位於UVC區域之波長之紫外線的發光二極體。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，其中，前述光源係發光二極體； 前述光源所產生之光中之放射強度最高的波長為220nm至280nm之間。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，更具備防止手接觸到前述光源的窗部；來自前述光源的前述紫外線係穿透前述窗部而照射於前述手插入空間；前述窗部為可供拆卸。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，其中，前述UV照射裝置更具備防止手接觸到前述光源的窗部；來自前述光源的前述紫外線係穿透前述窗部而照射於前述手插入空間；前述UV照射裝置為可供拆卸。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，更具備：第一窗部，係覆蓋前述光源；及第二窗部，係覆蓋前述第一窗部；前述光源、前述第一窗部及前述第二窗部係配置在一直線上。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，其中，前述光源係隨同前述紫外線一併產生可見光；前述光源點亮時之前述手插入部之顏色或從前述UV照射裝置照射之光的顏色，係與前述光源熄滅時之前述手插入部之顏色或從前述UV照射裝置照射之光的顏色不同。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，更具備形成前述手乾燥裝置之外表的本體殼體； 在前述外表上，無論是前視、後視、側視、頂視、底視，前述光源都被前述本體殼體覆蓋。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，更具備形成前述手乾燥裝置之外表的本體殼體；在從垂直於鉛直線的任何方向觀看前述手乾燥裝置時，前述光源都被前述本體殼體覆蓋。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，其中，面向前述手插入空間之表面的至少一部分，其相對於前述光源所產生之光中之放射強度最高之波長之光的反射率為70%以上。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，其中，面向前述手插入空間的表面係具有第一區域及第二區域；前述第一區域係相對於前述光源所產生之光中之放射強度最高之波長之光具有70%以上的反射率；前述第二區域係相對於前述光源所產生之光中之放射強度最高之波長之光具有30%以下的反射率。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，更具備設置成面向前述手插入空間的反射部；前述反射部係由氟樹脂或金屬所作成。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，更具備設置成面向前述手插入空間的反射部；前述反射部的反射面係位於與前述反射部之周邊之前述手插入部的表面相同的面上，或相對於前述反射部之周邊之前述手插入部的前述表面凹陷。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，更具備設置成面向前述手插入空間的反射部；前述手乾燥裝置係具備藉由將片材組裝成立體所形成的組裝體作為前述反射部。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，更具備遮蔽體；前述手乾燥裝置係構成為可切換第一狀態及第二狀態；前述第二狀態係由前述遮蔽體覆蓋成為手進入前述手插入空間之入口之手插入開口之至少一部分的狀態；前述第一狀態係前述手插入開口中之被前述遮蔽體覆蓋的比例比前述第二狀態小或成為零的狀態。
- 如請求項23所述之手乾燥裝置，係構成為當從前述第二狀態切換為前述第一狀態時，使前述光源的輸出降低或使前述光源的輸出為零。
- 如請求項23所述之手乾燥裝置，更具備：踏板；及移動裝置，係移動前述遮蔽體，使其當以腳踩踏前述踏板時即從前述第二狀態切換為前述第一狀態，當從前述踏板移開腳時即從前述第一狀態切換為前述第二狀態。
- 如請求項23所述之手乾燥裝置，其中，前述遮蔽體係被設置作為可供拆裝自如的配件。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，具備形成前述手乾燥裝置之外表的本體殼體； 前述光源和前述UV照射裝置係被前述本體殼體覆蓋著，以使即使從前述本體殼體的外部以三維空間內之所有方向的視線觀看前述手乾燥裝置時，前述光源和前述UV照射裝置都不會被辨識出。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，具備形成前述手乾燥裝置之外表的本體殼體；前述光源和前述UV照射裝置係被前述本體殼體覆蓋著，以使當假定從前述光源或前述UV照射裝置朝三維空間內的所有方向發出光線時，不會存在從前述光源直接朝前述本體殼體之外部送出的光線。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，具備手偵測手段，該手偵測手段係偵測插入於前述手插入部的手，或偵測有無配置在前述手插入部的手；前述手乾燥裝置係構成為當偵測到無前述手時前述UV照射裝置照射前述紫外線。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，具備接收部，該接收部係接收用以控制前述UV照射裝置所進行之照射之啟動/關斷的信號。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，其中，前述光源係第一光源；該手乾燥裝置係具備：第二光源，係具有比前述第一光源之主波長更長的主波長；及手偵測手段，係偵測插入於前述手插入部的手，或偵測配置於前述手插入部的手；前述手乾燥裝置係構成為當前述手偵測手段偵測到手時，不使前述第一光源點亮而使前述第二光源點亮。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，具備： 手偵測手段，係偵測插入於前述手插入部的手，或偵測配置於前述手插入部的手；及未插入時驅動模式，係在前述手偵測手段未偵測到手的時候驅動前述送風機：前述未插入時驅動模式係帶來與為了使手乾燥而驅動前述送風機時之最低風量或最低風速相等的風量或風速的運轉，或是帶來比前述最低風量或前述最低風速更低之風量或風速的運轉。
- 如請求項1至3中任一項所述之手乾燥裝置，其中，前述手插入部係具備插入側部；前述手乾燥裝置係具備可調整前述插入側部之上端之高度的插入側部調整手段。
- 一種手乾燥系統，係具備：請求項1至33中任一項所述之手乾燥裝置，係配置在屬於使用者進入之區域的使用者區域；及存在與否偵測手段，係偵測前述使用者區域中是否有人。
- 如請求項34所述之手乾燥系統，構成為當偵測到前述使用者區域中無人時，前述UV照射裝置即照射前述紫外線。
- 如請求項34所述之手乾燥系統，構成為當偵測到前述使用者區域中有人時，即使前述UV照射裝置之前述光源的輸出降低或使前述光源的輸出為零。
- 如請求項34所述之手乾燥系統，構成為在偵測到前述使用者區域中無人的時候，當前述UV照射裝置所進行之前述紫外線的照射持續著的時間超過基準時，即使前述光源的輸出降低或使前述光源的輸出為零。
- 如請求項34所述之手乾燥系統，其中，前述光源係第一光源；前述手乾燥裝置係具備第二光源，該第二光源係具有比前述第一光源的主波長更長的主波長；前述手乾燥系統係構成為在偵測到前述使用者區域中無人的時候，當前述第一光源之點亮持續著的時間超過基準時，即使前述第一光源熄滅且使前述第二光源點亮。
- 如請求項34所述之手乾燥系統，其中，前述存在與否偵測手段係藉由偵測前述使用者區域的明亮度和照射前述使用者區域之照明裝置之啟動/關斷的至少一方，而偵測前述使用者區域中是否有人。
- 如請求項34所述之手乾燥系統，其中，前述存在與否偵測手段係當前述使用者區域的明亮度比臨限值更高時即偵測為前述使用者區域中有人，當前述明亮度比前述臨限值更低時即偵測為前述使用者區域中無人；前述手乾燥系統係具備可調整前述臨限值的臨限值調整手段。
- 一種手乾燥系統，係具備：請求項1至22中任一項所述之手乾燥裝置；覆蓋部，係可覆蓋前述手乾燥裝置之前述手插入空間之至少一面；切換部，係可切換為由前述覆蓋部覆蓋前述手插入空間之前述至少一面的閉狀態和可將手插入於前述手插入空間的開狀態；及靠近偵測手段，係在前述閉狀態的時候，可偵測手或人已靠近前述手插入部；前述手乾燥系統係構成為當前述靠近偵測手段偵測到手或人已靠近前述手插入部時成為前述開狀態。
- 一種手乾燥系統，係具備：請求項1至33中任一項所述之手乾燥裝置，係配置在屬於使用者進入之區域的使用者區域；及人數偵測手段，係偵測位於前述使用者區域之人的人數；前述手乾燥系統係構成為在前述人數為0人的時候，由前述UV照射裝置照射前述紫外線，在前述人數為1人以上的時候，停止由前述UV照射裝置所進行之前述紫外線的照射。
- 一種手乾燥系統，係具備：請求項1至33中任一項所述之手乾燥裝置；人辨認手段，係辨認相同使用者；人記憶手段，係計數相同使用者的利用次數；及輸出可變手段，係依據相同使用者之一日的利用次數而變更前述UV照射裝置照射前述紫外線的輸出。
- 一種手乾燥系統，係具備：請求項1至33中任一項所述之手乾燥裝置；及殺菌裝置，係對前述手乾燥裝置的前述手插入部排出屬於具有殺菌作用之液體的殺菌液。
- 如請求項44所述之手乾燥系統，係依序進行：藉由驅動前述送風機而使手乾燥的乾燥步驟，及從前述殺菌裝置排出前述殺菌液以使前述殺菌液附著於該手的殺菌步驟。
- 如請求項44所述之手乾燥系統，係可實施：藉由驅動前述送風機而使手乾燥的乾燥步驟，及從前述殺菌裝置排出前述殺菌液以使前述殺菌液附著於該手的殺菌步驟； 且依序進行：第一次的前述殺菌步驟、第一次的前述乾燥步驟、第二次的前述殺菌步驟、第二次的前述乾燥步驟。
- 如請求項44所述之手乾燥系統，其中，前述殺菌裝置係從所供給的水和與該水個別供給的氯化物來產生氯化物水溶液，且將該氯化物水溶液進行電性分解，藉此產生前述殺菌液。
- 如請求項47所述之手乾燥系統，其中，前述殺菌裝置係具備：貯存部，係可貯存水；及氯化物供給部，係將前述氯化物自動地供給至前述貯存部。
- 如請求項44所述之手乾燥系統，其中，前述殺菌裝置係可將前述殺菌液予以霧化而排出；前述手乾燥系統係可動作為藉由前述送風機所產生的氣流來搬運經霧化所排出的前述殺菌液。
- 如請求項44所述之手乾燥系統，係具備：排水箱，係聚積從手去除後的水和從前述殺菌裝置排出的前述殺菌液；及排出水偵測手段，係偵測屬於聚積於前述排水箱中之液體的排出水。
- 一種手乾燥系統，係具備複數個請求項1至33中任一項所述之手乾燥裝置；前述手乾燥系統係使前述複數個前述手乾燥裝置協作。
- 一種手乾燥系統，係具備：請求項1至33中任一項所述之手乾燥裝置；及終端，係供管理前述手乾燥裝置的管理者使用；前述手乾燥系統係將前述手乾燥裝置偵測到的資料傳送至前述終端。
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