TWI719531B - 離合器裝置及制動裝置 - Google Patents

Abstract

本發明係藉由接觸面61d之摩擦力而將由驅動部30產生之力傳遞至主軸50(輸出部)或切斷上述力向上述主軸50(輸出部)傳遞的離合器裝置39具備抑制殘留物滯留於該接觸面61d的抑制部69。

Description

離合器裝置及制動裝置

本發明係關於一種切換力之傳遞之離合器裝置及制動裝置。

作為具備離合器裝置之制動裝置，已知有專利文獻1中記載之技術。制動裝置具備沿活塞之動力移動之動力傳遞構件(專利文獻1中為導管)、及受到動力傳遞構件之力而移動之輸出部(專利文獻1中為螺旋軸)。若剎車時輸出部移動，則剎車桿進行動作。若設置於剎車桿之剎車片抵接於碟片，則因其反作用力而經由剎車桿將輸出部推回。當如此般剎車作用時，設置於輸出部之離合器螺母之面與動力傳遞構件之面以較強之力接觸。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]國際公開第2013/077273號

又，於制動裝置內之零件之表面，為了抑制磨耗及動作之順利性而 塗佈有潤滑劑。潤滑劑亦可進入輸出部之離合器螺母之面及動力傳遞構件之面。若潤滑劑之殘留物滯留於離合器螺母之面及動力傳遞構件之面，則兩者之摩擦力降低，離合器螺母變得容易旋轉。如此一來，於剎車時將輸出部推回時，有輸出部之移動停止狀態變得不穩定之虞。鑒於此種事況，本發明之目的在於提供一種可提昇制動對象物之制動穩定性的離合器裝置及制動裝置。

(1)根據本發明之一態樣，藉由接觸面之摩擦力將由驅動部產生之力傳遞至輸出部或切斷上述力向上述輸出部傳遞的離合器裝置係具備抑制殘留物滯留於該接觸面的抑制部。

根據該構成，因殘留物滯留於離合器裝置之接觸面得到抑制，故制動時之輸出部之位置穩定，制動對象物之制動穩定性提昇。

(2)於上述離合器裝置中，上述抑制部係形成於上述接觸面及與上述接觸面接觸之被接觸面之至少一者的槽。

根據該構成，因可將殘留物導入至設置於接觸面及被接觸面之至少一者之槽，故可抑制殘留物滯留於接觸面。

(3)於上述離合器裝置中，上述槽延伸至從上述接觸面與上述被接觸面接觸之接觸部離開的位置。

根據該構成，因可將流入槽之殘留物排出至接觸部以外之部位，故可抑制殘留物滯留於接觸部。

(4)於上述離合器裝置中，上述抑制部包含：主槽，其形成於上述接觸面及上述被接觸面之至少一者；及副槽，其與上述主槽交叉。

根據該構成，存在於離開主槽之部分的殘留物流入副槽，此後被導入至主槽。藉此，可遍及主槽周邊之較廣範圍抑制殘留物之滯留。

(5)於上述離合器裝置中，於上述接觸面之周圍設置有抑制上述接觸面中成為上述殘留物而滯留之潤滑劑之進入的進入抑制部。

根據該構成，可抑制潤滑劑進入接觸面。藉此，可抑制潤滑劑滯留於接觸面中。

(6)於上述離合器裝置中，於上述接觸面之周圍，取代設置上述抑制部而設置抑制上述接觸面中成為上述殘留物而滯留之潤滑劑之進入的進入抑制部。根據該構成，可抑制潤滑劑進入接觸面。藉此，可抑制潤滑劑滯留於接觸面。

(7)根據本發明之某一態樣，包含由形成殘留物之潤滑劑潤滑之零件之制動裝置具備上述任一者之離合器裝置。

根據該構成，因可抑制制動裝置內之潤滑劑滯留於離合器裝置之接觸面，故可提昇制動對象物之制動穩定性。

(8)根據本發明之若干個態樣，制動裝置具備：輸出部，其藉由相對於驅動部移動而對制動對象物施加力；傳遞構件，其藉由與設置於上述輸 出部之離合器螺母接觸而將來自上述驅動部之動力傳遞至輸出部；及抑制部，其抑制潤滑劑殘留於設置於上述輸出部之上述離合器螺母之接觸面及上述傳遞構件之被接觸面之至少一者。

根據該構成，因可於具備離合器螺母之制動裝置中，抑制潤滑劑殘留於離合器螺母之接觸面及傳遞構件之被接觸面之至少一者，故可提昇制動對象物之制動穩定性。

根據上述離合器裝置及制動裝置，可提昇對於制動對象物之制動穩定性。

1:卡箝裝置

10:卡箝體

11:托架

12:支持構件

12a:本體部

12b:腕部

12c:垂吊部

12d:銷座部

12e:銷座部

12r:支點銷

12s:支點銷

12t:背板用銷

13A:剎車桿

13a:第1桿

13B:剎車桿

13b:第2桿

13c:連結部

13d:銷座部

13e:基端部

13f:基端部

13x:支點部

13y:支點部

14:背板

15:剎車片

16a:銷

16b:銷

20:制動裝置

30:驅動部

31:汽缸

32:外筒

32a:前表面部

32b:後表面部

33:內筒

33a:內筒前部

33b:內筒後部

34:抵接部

35:活塞

35a:輥支承部

36:增力機構

37:增力桿

37a:桿本體

37b:第1輥

37c:第2輥

37d:支軸

39:離合器裝置

40:導管

40A:前構件

40a:輥支承部

40B:後構件

40b:彈簧座部

41:第1賦能構件

41a:前方端

41b:後方端

43:貫通孔

44:蓋體

44a:貫通孔

45:被接觸部

45a:被接觸面

46:彈簧座部

47:止推軸承

50:主軸

50a:連接部

50b:外螺紋

50c:前端面

51:軸心

51a:後端面

52:第2賦能構件

53:止動部

54:導棒

55:旋轉停止構件

55a:孔

61:離合器螺母

61a:筒部

61b:卡合部

61c:孔

61d:接觸面

61e:後齒

61f:內螺紋

61r:基部

61s:圓錐台形部

61x:筒後部

62:位置調整機構

63:約束構件

64:限制部

64a:孔

64b:突出部

64c:前齒

65:第3賦能構件

69:抑制部

70:槽

71:主槽

72:副槽

74:接觸部

79:進入抑制部

81:螺旋槽

82:周槽

83:凹陷

84:貫通孔

85:外部通路

86:外部通路

90:連接構件

90a:連接構件一端部

90b:連接構件另一端部

91:嵌合孔

92:接頭

92a:凸緣

93:賦能構件

94:滾動構件

95:扣環

C:中心軸線

CS:中心軸線

CN:旋轉中心軸

DA:前方

DB:後方

DR:前後方向

SA:壓力室

SB:後部收容室

SI:空間

SP:環狀空間

SR:收容室

ST:軸心內室

SX:空間

圖1係卡箝裝置之立體圖。

圖2係制動裝置之立體圖。

圖3係沿圖2之X-X線之制動裝置之剖視圖。

圖4係沿圖2之Y-Y線之制動裝置之剖視圖。

圖5係導管及其周邊之立體圖。

圖6係包含主軸之構造體之分解立體圖。

圖7係導管及收容於導管內之構造體之分解立體圖。

圖8係通常動作時之沿圖5之Y-Y線之卡箝裝置之局部剖視圖。

圖9係導管位於規定位置時之沿圖5之Y-Y線之卡箝裝置之局部剖視圖。

圖10係擴大動作時之沿圖5之Y-Y線之卡箝裝置之局部剖視圖。

圖11係表示制動時施加於離合器螺母之力之方向的放大剖視圖。

圖12係表示制動解除時施加於離合器螺母之力之方向的放大剖視圖。

圖13係實施形態之離合器螺母之立體圖。

圖14係離合器螺母附近之放大剖視圖。

圖15係第1變化例之離合器螺母之立體圖。

圖16係與第2變化例之離合器螺母相關之被接觸面之放大圖。

圖17係與第3變化例之離合器螺母相關之被接觸面之放大圖。

圖18係與第4變化例之離合器螺母相關之被接觸面之放大圖。

圖19係與第5變化例之離合器螺母相關之被接觸面之放大圖。

圖20係與圖19相關之離合器螺母之剖視圖。

圖21係第6變化例之離合器螺母之立體圖。

參照圖1~圖21，說明卡箝裝置。

軌道車輛之碟片剎車裝置包含將剎車碟片進行制動之卡箝裝置1。剎車碟片係以隨著車輪之旋轉而旋轉之方式與車輪同軸地安裝。卡箝裝置1於軌道車輛中配置於剎車碟片之附近。卡箝裝置1係藉由夾著剎車碟片(制動對象物)而制動車輪。

如圖1所示，卡箝裝置1具備卡箝體10、背板14、14、一對剎車片15、15、及制動裝置20。

卡箝體10具備：托架11，其固定於車輛本體之底面；支持構件12，其安裝於托架11；及一對剎車桿13A、13B，其等安裝於支持構件12。

支持構件12係對於托架11以可繞沿車輛移動方向之軸擺動之方式介隔支點銷12r安裝。支持構件12具有本體部12a、自本體部12a延伸之一對腕部12b、及自本體部12a向車兩側延伸之垂吊部12c。一對腕部12b沿車軸之延長方向排列。於腕部12b設置有內插下述支點銷12s之銷座部12d。於垂吊部12c設置有內插支點銷12r之銷座部12e。

一對剎車桿13A、13B以將支持構件12夾層之方式配置。各剎車桿13A、13B介隔支點銷12s可擺動地安裝於支持構件12。支點銷12s沿相對於支點銷12r之軸方向及車輪之軸方向垂直之方向延伸。

剎車桿13A、13B具有第1桿13a、第2桿13b、連接第1桿13a與第2桿13b之連結部13c、連接第1桿13a與第2桿13b之前端部且內插背板用銷12t的銷座部13d。第1桿13a與第2桿13b排列於沿支點銷12s之中心軸線之方向。支點銷12s插穿位於第1桿13a之支點部13x之貫通孔與位於第2桿13b之支點部13y之貫通孔。於連接第1桿13a與第2桿13b之前端部之銷座部13d安裝有背板14。背板14介隔插穿至銷座部13d之背板用銷12t擺動自由地安裝於剎車桿13A、13B之前端部。背板用銷12t於與支點銷12s相同之方向上延伸。於各背板14安裝有剎車片15。

於一剎車桿13A，於第1桿13a之基端部13e與第2桿13b之基端部13f 之間，介隔銷16a可旋轉地安裝有制動裝置20之驅動部30。

於另一剎車桿13B，於第1桿13a之基端部(未圖示)與第2桿13b之基端部(未圖示)之間，介隔銷16b可旋轉地安裝有制動裝置20之連接構件90(參照圖2)。具體而言，連接構件90之一端部90a可旋轉地連接於一第1桿13a之基端部，連接構件90之另一端部90b可旋轉地連接於另一第2桿13b之基端部。

如圖2及圖3所示，於連接構件90之中間部連接有下述主軸50之前端部。於連接構件90以中心軸線CS為旋轉中心可旋轉地安裝有主軸50。具體而言，於連接構件90之中間部設置嵌合孔91。於主軸50之連接部50a，安裝有具有凸緣92a之接頭92。主軸50之連接部50a與接頭92收容於連接構件90之嵌合孔91。於連接構件90之嵌合孔91之端面與接頭92之凸緣92a之間配置滾動構件94，且接頭92之凸緣92a藉由賦能構件93而按壓至連接構件90之嵌合孔91之端面。賦能構件93之另一側之端部(與按壓嵌合孔91之端面之側為相反側之端部)抵接於安裝於嵌合孔91之開口部之扣環95。

制動裝置20藉由主軸50相對於驅動部30之移動，而對制動對象物切換制動與非制動。

於制動裝置20中，如下所述，主軸50相對於驅動部30進退。藉由主軸50之進退動作，驅動部30與連接構件90接近及分離，隨之，一對剎車桿13A、13B之基端側彼此接近及分離。藉由此種動作，一對剎車桿13A、13B以支點銷12s為支軸旋轉，且以剎車片15夾持及放開剎車碟片。 以此方式，將剎車碟片之旋轉制動。

<制動裝置之構成>

參照圖2~圖21，對制動裝置20進行說明。圖2係表示制動裝置20之外觀。圖2中包含X-X線與中心軸線C之平面與圖5中包含X-X線與中心軸線C之平面一致。圖2中包含Y-Y線與中心軸線C之平面與圖5中包含Y-Y線與中心軸線C之平面一致。制動裝置20之中心軸線C與作為制動裝置20組裝而成之主軸50之中心軸線CS及離合器螺母61之旋轉中心軸CN一致。

於制動裝置20之說明中，將制動裝置20之主軸50移動之方向(以下稱為「前後方向DR」)中，主軸50自驅動部30伸出之方向稱為「前方DA」，將主軸50進入驅動部30內之方向稱為「後方DB」。將沿以主軸50之中心軸線CS為旋轉中心之圓周的方向稱為「圓周方向」。

又，制動裝置20之各構成要件除特別記載之情形外，包含金屬。例如，制動裝置20之各構成要件藉由鐵、鐵合金、鋁、鋁合金等形成。再者，亦存在該等構成要件之一部分具有樹脂層的情形。例如，下述汽缸31之外表面可進行塗佈。

如圖3及圖4所示，制動裝置20具備驅動部30、離合器裝置39、及相對於驅動部30移動之作為輸出部之主軸50。離合器裝置39具備：導管40(傳遞構件)，其藉由以驅動部30之動力移動而將驅動部30之力傳遞至主軸50；及離合器螺母61，其介置於導管40與主軸50之間，傳遞兩者間之 動力。主軸50藉由相對於驅動部30移動而對剎車碟片(制動對象物)施加力。主軸50通過導管40。連接構件90以上述方式連接於主軸50之前端部。

驅動部30使導管40移動。驅動部30具備汽缸31、於汽缸31內移動之活塞35、及使活塞35之動力增大之增力機構36。

汽缸31具有：外筒32，其具有前表面部32a與後表面部32b；及內筒33。再者，本實施形態中，前表面部32a與內筒33一體構成。後表面部32b構成為與前表面部32a及內筒33成為一體之物體不同之零件。

內筒33以貫通外筒32之前表面部32a之方式設置於外筒32。內筒33之內筒前部33a自外筒32伸出。內筒33之內筒後部33b內插至外筒32。於內筒33內插有導管40。

於外筒32與內筒後部33b之間構成環狀空間SP。活塞35可於前後方向DR移動地配置於環狀空間SP。活塞35為環狀，且將環狀空間SP劃分為前表面部32a側之壓力室SA與後表面部32b側之後部收容室SB。壓力室SA之壓力藉由流體(例如空氣)對壓力室SA之供排而控制。於後部收容室SB配置有增力機構36。

又，於內筒33之內周面設置有將下述限制部64之突出部64b卡合之抵接部34(參照圖4)。抵接部34對限制部64自抵接位置(參照下述)向前方DA 之移動加以限制。

參照圖3~圖5，說明增力機構36。增力機構36使活塞35之按壓力增大後傳遞至導管40。增力機構36具備1個或複數個增力桿37。增力桿37自活塞35向導管40或自導管40向活塞35傳遞動力。增力桿37配置於活塞35及導管40之後方DB。增力桿37具有：桿本體37a，其具有支軸37d；第1輥37b，其將支軸37d夾於其間地設置於一端部；及第2輥37c，其設置於另一端部。第1輥37b抵接於活塞35之輥支承部35a。第2輥37c抵接於導管40之輥支承部40a。從支軸37d至第1輥37b之距離長於從支軸37d至第2輥37c之距離。藉由該構成，增力桿37使施加於第1輥37b之力增大後自第2輥37c輸出。

對驅動部30之動作進行說明。

若對壓力室SA供給空氣，活塞35移動至後方DB，則活塞35將增力桿37之第1輥37b按壓至後方DB。藉此，增力桿37旋轉，第2輥37c將導管40按壓至前方DA。導管40藉由受增力桿37按壓而對抗第1賦能構件41(參照下述)之力移動至前方DA。導管40之朝向前方DA之動力經由離合器螺母61傳遞至主軸50，故主軸50與導管40一同地移動至前方DA(參照下述)。如此一來，一對剎車桿13A、13B之基端側彼此分離，並且一對剎車桿13A、13B之剎車片15彼此靠近，將剎車碟片夾住。藉此，將車輪之旋轉制動。

若自壓力室SA排出空氣，則按壓導管40之增力桿37之按壓力變弱， 故導管40藉由第1賦能構件41(參照下述)之力而移動至後方DB。導管40之朝向後方DB之動力經由離合器螺母61傳遞至主軸50，故主軸50與導管40一同地移動至後方DB。如此一來，一對剎車桿13A、13B之基端側彼此接近，並且一對剎車桿13A、13B之剎車片15分離，自剎車碟片離開。如此一來，將車輪之旋轉制動解除。

參照圖5~圖8，對導管40進行說明。

導管40係相對於汽缸31之內筒33移動。導管40具備前側之前構件40A、及後側之後構件40B(參照圖5)。前構件40A與後構件40B係無法相對移動地緊固。

導管40藉由第1賦能構件41向後方DB賦能。第1賦能構件41配置於內筒33與導管40之間。第1賦能構件41例如包含螺旋彈簧(參照圖5)。第1賦能構件41之前方端41a抵接於內筒33之彈簧座部(未圖示)。第1賦能構件41之後方端41b抵接於導管40之後方DB側之彈簧座部40b(參照圖5)。

如圖5及圖7所示，於導管40，在前後方向DR之中間部分設置有2個貫通孔43。下述限制部64之突出部64b穿過貫通孔43。貫通孔43之圓周方向之寬度長設定為可限制部64之突出部64b可穿過之長度，且構成為限制部64無法繞主軸50旋轉。又，限制部64構成為朝前方移動且配置於抵接位置(參照下述)時，突出部64b卡合於內筒33之抵接部34(參照圖9及下述)。

如圖5及圖7所示，於導管40之前端開口部安裝有將導管40與主軸50之間之間隙封閉之蓋體44。蓋體44設置有穿過主軸50的貫通孔44a(參照圖7)。蓋體44相對於導管40以不於前後方向DR及圓周方向上移動之方式固定。

於導管40中，在蓋體44之後方DB設置與下述離合器螺母61之接觸面61d接觸的被接觸面45a。被接觸面45a朝向前方DA。於蓋體44與被接觸面45a之間設置有收容離合器螺母61之卡合部61b(參照下述)之空間。被接觸面45a構成為被接觸部45之面。被接觸部45相對於導管40以不於前後方向DR及圓周方向上移動之方式固定。

參照圖6說明主軸50之支持構造。主軸50(輸出部)係介隔離合器螺母61而相對於導管40定位。

主軸50(輸出部)係藉由軸心51支持，且藉由第2賦能構件52(輸出部賦能構件)朝向前方DA賦能。

軸心51以其長度方向沿著制動裝置20之中心軸線C之方式固定於汽缸31之外筒32之後表面部32b(參照圖3)。軸心51構成為筒狀，且前方DA側開口。於軸心51內，收容有第2賦能構件52。第2賦能構件52包含螺旋彈簧。第2賦能構件52以其長度方向沿著軸心51之中心軸線之方式配置於軸心51內。軸心51之剖面以與下述旋轉停止構件55卡合之方式構成為非圓形(例如，大致六邊形)。又，於軸心51之後端部安裝有用以限制主軸50之後方移動之止動部53。

主軸50以相對於軸心51可於前後方向DR移動且不相對於軸心51旋轉之方式，安裝於軸心51。

主軸50係中空，且後側開口。於主軸50之後端部，以主軸50不旋轉之方式安裝有旋轉停止構件55。旋轉停止構件55具有穿過軸心51之孔55a。孔55a構成為可對於軸心51於圓周方向上卡合，且可於軸心51之長度方向上移動。例如，孔55a之剖面構成為軸心51之剖面之相似形狀(例如，大致六邊形)。藉此，主軸50之旋轉得以限制。

於主軸50內收容有導棒54。導棒54引導第2賦能構件52。導棒54以沿著主軸50之中心軸線CS之方式延伸至後方DB。於主軸50內構成包圍導棒54之筒狀之收容室SR。於主軸50之收容室SR，內插有軸心51。位於主軸50之收容室SR內之導棒54插穿至第2賦能構件52即螺旋彈簧之中心部。第2賦能構件52之前端與主軸50之收容室SR之前端面50c(導棒54之凸緣部)接觸。第2賦能構件52之後端接觸於軸心51之軸心內室ST之後端面51a(參照圖8)。如此一來，主軸50藉由第2賦能構件52向前方DA側賦能。

於主軸50之前方DA側之端部設置連接部50a。如上所述，連接構件90相對於主軸50可旋轉地安裝於主軸50之連接部50a。於主軸50之外周面，設置有與離合器螺母61(參照下述)之內螺紋61f卡合之外螺紋50b。

參照圖7及圖8，對離合器螺母61及離合器螺母61之位置調整機構62進行說明。

離合器螺母61係介置於導管40與主軸50之間，且將導管40之動力傳遞至主軸50。

離合器螺母61具有：筒部61a，其具有孔61c；及卡合部61b(參照圖13)，其設置於筒部61a之外側。主軸50穿過孔61c。於離合器螺母61之孔61c，設置有與主軸50之外螺紋50b卡合之內螺紋61f。

於離合器螺母61之卡合部61b之外周，設置有可與導管40之被接觸面45a接觸之接觸面61d。接觸面61d配置為朝向後方DB且與被接觸面45a對向。於離合器螺母61之後端部設置有與限制部64之前齒64c(參照下述)卡合之齒(以下為「後齒61e」)。

離合器螺母61之前端面與蓋體44之後表面對向。於離合器螺母61之前端面與蓋體44之後表面之間介置有止推軸承47。離合器螺母61由蓋體44之後表面限制朝向前方DA移動，且由導管40之被接觸面45a限制朝向後方DB移動。如此般，離合器螺母61相對於導管40配置於特定位置且可旋轉地得到支持。

位置調整機構62係於特定條件下，相對於主軸50在軸向上調整離合器螺母61之位置。

具體而言，位置調整機構62基於制動移動距離變得長於預先設定之設定距離，使離合器螺母61相對於主軸50之位置移動至後方DB。制動移動距離係導管40從最後方DB之位置(以下為「最後方位置」)至藉由一對 剎車片15、15夾著剎車碟片而對主軸50施加朝向後方DB之力之位置為止之導管40之移動距離。

位置調整機構62包含以避免離合器螺母61旋轉之方式進行約束之約束構件63、及將主軸50向前方DA賦能之第2賦能構件52(參照上述)。約束構件63包含例如下述之限制部64。

限制部64配置於導管40與主軸50之間之空間，且配置於較離合器螺母61更靠後方DB。限制部64具有穿過主軸50之孔64a。於限制部64之前端部設置有與離合器螺母61之後齒61e卡合之齒(以下稱為「前齒64c」)。於限制部64之主體部設置有2個突出部64b。突出部64b延伸至以主軸50之中心軸線CS為中心之圓之徑向外側。突出部64b以上述方式穿過導管40之貫通孔43。貫通孔43之圓周方向之寬度長係突出部64b可插穿之程度，故而，當限制部64與離合器螺母61卡合時，對於離合器螺母61限制繞主軸50之旋轉。

又，限制部64藉由第3賦能構件65，對導管40朝向前方DA賦能。第3賦能構件65配置於導管40內且限制部64之後方DB。第3賦能構件65之前端抵接於限制部64之後端面，且第3賦能構件65之後端與設置於導管40之內周面之後部之彈簧座部46(參照圖8)抵接。

參照圖9，對限制部64之動作進行說明。

當導管40配置於最後方位置時，限制部64藉由第3賦能構件65而向前 方DA賦能，與離合器螺母61卡合。藉由該卡合，離合器螺母61之旋轉被限制。

若導管40移動至前方DA，則導管40內之限制部64亦與導管40一同地移動至前方DA。若導管40自最後方位置朝前方DA移動設定距離到達規定位置(對於內筒33預先設定之位置)，則限制部64之突出部64b抵接於內筒33之抵接部34。藉此，限制部64於突出部64b與內筒33之抵接部34抵接之位置(相對於內筒33之位置。以下為「抵接位置」)，前方移動被限制。若導管40自規定位置進而朝向前方DA移動，則導管40與離合器螺母61一同移動，另一方面，限制部64於抵接位置被制止，因此，離合器螺母61之後端與限制部64之前端離開，兩者之卡合解除。如此一來，離合器螺母61便可進行旋轉。若導管40自較規定位置更靠前方DA處朝向後方DB移動到達規定位置，則離合器螺母61之後齒61e與限制部64之前齒64c卡合，從而離合器螺母61與限制部64卡合。

綜上所述，限制部64之動作如下所示。限制部64於導管40位於較規定位置更靠後方之位置時，限制離合器螺母61之旋轉。又，限制部64於導管40位於較規定位置更靠前方DA之位置時，容許離合器螺母61之旋轉。

參照圖8~圖12，對主軸50及離合器螺母61之動作進行說明。

主軸50及離合器螺母61之動作中具有2個態樣。第1係導管40於最後方位置與規定位置之間之範圍(以下為「通常範圍」)內進行往復時之動作 (以下為「通常動作」)。第2係導管40於最後方位置與較規定位置更靠前方DA之位置之間之範圍(以下為「擴大範圍」)內往復時之動作(以下為「擴大動作」)。於擴大動作中，位置調整機構62進行工作，相對於主軸50，調整離合器螺母61之位置。

首先，對通常動作進行說明。

於剎車片15之磨耗較少時，在制動時剎車片15接觸於剎車碟片之前之主軸50之制動移動距離較當初之距離無較大變化。因此，導管40之制動移動距離亦較當初之距離幾乎未變，故而導管40於通常範圍內移動(參照圖8及圖9)。此時，於導管40中，遍及通常範圍內之前後方向DR之全範圍內，以卡合狀態維持離合器螺母61與限制部64。離合器螺母61與限制部64卡合之狀態中，主軸50如下所述地進行動作。

若主軸50與導管40一同地移動至前方DA，剎車片15接觸於剎車碟片(制動對象物)，對主軸50施加反作用力，則主軸50被推向後方DB。如此一來，離合器螺母61之接觸面61d按壓導管40之被接觸面45a。因活塞35之力於前方DA作用於導管40，故以活塞35之力承受反作用力，阻止主軸50之後方移動。以此方式，制動力繼續施加於剎車碟片(制動對象物)。若活塞35之力減弱，導管40移動至後方DB，則主軸50與導管40一同地移動至後方DB，因而，剎車片15自剎車碟片分離，解除車輪之制動。

參照圖10~圖12，對擴大動作進行說明。圖11及圖12之箭頭表示力進行作用之方向。

於剎車片15之磨耗較大時，在制動時剎車片15接觸於剎車碟片之前之主軸50及導管40之制動移動距離較當初之距離擴大。當導管40位於較規定位置更靠前方DA時，離合器螺母61與限制部64之卡合被解除(參照圖10)。此時，主軸50及離合器螺母61如下所述地進行動作。

若於離合器螺母61與限制部64之卡合被解除之狀態下，導管40移動至前方DA，則與之相伴，離合器螺母61與主軸50移動至前方DA。此後，若主軸50移動至前方DA，剎車片15接觸於剎車碟片，則反作用力施加於主軸50，將主軸50推向後方DB。如此一來，離合器螺母61之接觸面61d按壓導管40之被接觸面45a。因活塞35之力於前方DA作用於導管40，故以活塞35之力承受反作用力，阻止主軸50之後方移動(參照圖11)。以此方式，制動力繼續施加於剎車碟片。

此後，活塞35之力減弱，導管40移動至後方DB時，主軸50藉由第2賦能構件52朝向前方DA賦能，藉此，作用於離合器螺母61之力之方向與作用於導管40之力之方向成為相反方向(參照圖12)。藉此，作用於離合器螺母61之接觸面61d與導管40之被接觸面45a之間之按壓力降低，離合器螺母61進行旋轉。因此，若伴隨導管40之後方移動，自蓋體44朝向後方DB之力施加於離合器螺母61，則離合器螺母61一面相對於主軸50旋轉一面移動至後方DB。其間，於離合器螺母61與主軸50之間，力未於沿中心軸線CS之方向上傳遞，故主軸50不未移動至後方。若導管40到達規定位置，則離合器螺母61與限制部64卡合。如此一來，因離合器螺母61之旋轉被限制，故離合器螺母61之位置相對主軸50固定。於離合器螺母61與 限制部64之卡合後，主軸50與導管40一同地移動至後方DB。藉此，剎車片15自剎車碟片分離，車輪之制動被解除。

如上所述，位置調整機構62於導管40進行擴大動作時進行動作。根據位置調整機構62，具有如下效果。若安裝於制動裝置20之主軸50之剎車片15(制動構件)磨耗、或剎車碟片自制動裝置20之剎車片15分離，則制動移動距離變得長於當初之距離。如此一來，從制動裝置20之動作開始至制動為止之回應性降低。該方面於上述構成中，基於制動移動距離變得長於設定距離，而使離合器螺母61相對於主軸50之位置移動至後方DB。藉由該位置調整，主軸50相對於導管40再次配置於前方DA。以此方式，抑制制動移動距離變長，從而抑制制動裝置20之從動作開始至制動為止之回應性之降低。

繼而，於制動時，對承受施加於主軸50之反作用力之被接觸面45a及接觸面61d進行說明。

於通常動作及擴大動作之任一者中，皆於制動時剎車片15接觸於剎車碟片時，該反作用力施加於主軸50。施加於主軸50之力經由離合器螺母61傳遞至導管40。於該傳遞中，導管40之被接觸面45a與離合器螺母61之接觸面61d接觸。於該接觸中，若接觸面61d與被接觸面45a之間之摩擦力較小，則離合器螺母61旋轉，且伴隨該旋轉，主軸50略微前後地移動，故制動力變得不穩定。於主軸50與離合器螺母61之間預先塗佈有潤滑劑，又，於蓋體44與離合器螺母61之間亦塗佈有潤滑劑。因潤滑劑具有流動性，故藉由環境變化(晝夜或季節中之溫度或濕度之變化)之反覆， 潤滑劑可擴散至接觸面61d與被接觸面45a之間。若潤滑劑過多地積存於接觸面61d與被接觸面45a之間，則接觸面61d與被接觸面45a之間之摩擦力變小，從而存在制動變得不穩定之虞。尤其，於擴大動作中，離合器螺母61未受限制部64約束而處於容易旋轉之狀態，若潤滑劑過多地積存於接觸面61d與被接觸面45a之間，則離合器螺母61之旋轉量亦變大，從而主軸50之變動亦變大。

為解決此種課題，而於本實施形態中具有抑制部69。抑制部69抑制殘留物滯留於接觸面61d。

具體而言，於被接觸面45a及接觸面61d之至少一者設置有抑制部69。抑制部69於接觸面61d與被接觸面45a接觸時，於接觸面61d與被接觸面45a之間構成空間。作為抑制部69之例，以槽70構成。抑制部69除槽70外，亦可為貫通孔及凹陷之任一者。

參照圖13及圖14，對抑制部69進行說明。再者，圖13於圖式中，將下方設為前方記載有離合器螺母61。於圖15~圖21中，與圖13同樣地將下方設為前方。於圖14中，與圖1等同樣地，於圖式中將上方設為前方記載剖視圖。

如上所述，離合器螺母61具有筒部61a、及卡合部61b。卡合部61b具有基部61r、及以自基部61r朝向後方DB在徑向上變小之方式構成之圓錐台形部61s。圓錐台形部61s之後端連接至筒部61a之中途。再者，於筒部61a中，將較圓錐台形部61s更後側部分稱為「筒後部61x」。筒後部61x之 表面即便於包含接觸面61d與被接觸面45a接觸時在內之任一狀態下，亦不以按壓狀態與其他零件接觸。接觸面61d構成於圓錐台形部61s之外周面。

於本實施形態中，於接觸面61d設置抑制部69。具體而言，抑制部69包含自接觸面61d凹陷之主槽71、及自接觸面61d凹陷之副槽72。主槽71自接觸面61d中之前緣延伸至後方DB，且延伸至筒後部61x之中途。主槽71以沿著包含離合器螺母61之旋轉中心軸CN之平面與接觸面61d之交線之方式延伸。

主槽71於接觸面61d與被接觸面45a接觸時，於接觸面61d與被接觸面45a之間構成空間SI。又，因主槽71延伸至自接觸面61d離開之位置，故空間SI連接於接觸面61d與被接觸面45a之接觸部74之周圍之空間SX。於接觸面61d設置複數個主槽71。複數個主槽71於圓周方向上等間隔排列。主槽71之寬度長較副槽72之寬度長更長，且主槽71之深度深於副槽72之深度。

主槽71中與旋轉中心軸CN正交之平面中之剖面包括例如圓弧、V字、U字、W字、自矩形去除一邊所得之形狀、及自三角形去除一邊所得之形狀等。於離合器螺母61中設置複數個主槽71之情形時，亦存在各主槽71之剖面不同之情形。設置於離合器螺母61之主槽71之數為1以上即可。設置於離合器螺母61之主槽71之數例如為1以上60以下。相鄰之2個主槽71之間之圓周方向上之距離(自主槽71之間隔減去主槽71之寬度長所 得之距離)較佳為長於主槽71之寬度長。其原因在於，若接觸面61d與被接觸面45a之接觸面積過度地減少，則摩擦力降低，離合器螺母61變得容易旋轉。主槽71中圓周方向之寬度長為例如0.1mm以上。主槽71之深度為例如0.1mm以上。

副槽72以與主槽71交叉之方式設置於接觸面61d。副槽72連接於主槽71。例如，副槽72在圓周方向上延伸，將2個主槽71連接。於接觸面61d設置複數個副槽72。複數個副槽72沿接觸面61d中之前後方向DR等間隔地排列。較佳為，於圓周方向上排列之主槽71之間之各個區域中設置複數個副槽72。

副槽72中包含旋轉中心軸CN之平面中之剖面包括例如圓弧、V字、U字、W字、自矩形去除一邊所得之形狀、及自三角形去除一邊所得之形狀等。於離合器螺母61中設置複數個副槽72之情形時，亦存在各副槽72之剖面不同之情形。設置於離合器螺母61之副槽72之數為1以上即可。設置於離合器螺母61之副槽72之數為1以上。於相鄰之2個副槽72之間沿旋轉中心軸CN之方向上之距離(自副槽72之間隔減去副槽72之寬度長所得之距離)較佳為長於副槽72之寬度長。其原因在於，若接觸面61d與被接觸面45a之接觸面積過度地減少，則摩擦力降低，離合器螺母61變得容易旋轉。於副槽72中，沿包含旋轉中心軸CN之平面與接觸面61d之交線之方向之寬度長例如為0.1mm以上。副槽72之深度例如為0.1mm以上。

繼而，對抑制部69之作用進行說明。

若離合器螺母61之接觸面61d與導管40之被接觸面45a接觸，則藉由抑制部69而於接觸面61d與被接觸面45a之間形成空間SI。因此，於接觸面61d與被接觸面45a之接觸時，殘留於被接觸面45a或接觸面61d之潤滑劑以被擠出至藉由抑制部69形成於接觸面61d與被接觸面45a之間之空間SI之方式流入。以此方式，可自接觸面61d與被接觸面45a之間順利地排除潤滑劑，抑制潤滑劑殘留或滯留。又，抑制潤滑劑之殘留物滯留。藉此，於制動時，抑制接觸面61d與被接觸面45a接觸時離合器螺母61之打滑旋轉，從而制動時主軸50之位置穩定，對於制動對象物之制動之穩定性(制動穩定性)提昇。

又，如上所述，藉由接觸面61d與被接觸面45a之接觸而構成之空間SI連接於接觸面61d與被接觸面45a之接觸部74之周圍之空間SX(以下為「外部連接構造」)。因此，潤滑劑之排除量無限制，即便潤滑劑過多存在於接觸面61d與被接觸面45a之間時，制動對象物之制動穩定性亦不降低。

於由抑制部69形成之空間SI為相對於外部之空間SX封閉之空間之情形時，若潤滑劑過多殘留，則無法全部進入該空間內之潤滑劑殘留於接觸面61d與被接觸面45a之間，導致潤滑劑之排除效果中產生極限。若抑制部69之容積增大，則離合器螺母61大型化。與此相對，根據上述構成即外部連接構造，因潤滑劑之排除量無限制，故有助於抑制離合器螺母61之大型化。

進而，抑制部69包含以與主槽71交叉之方式延伸且連接於主槽71的副槽72。因此，於接觸面61d與被接觸面45a之接觸部74中，存在於與主槽71分離之部分中之潤滑劑流入副槽72，此後，被導向主槽71，排出至接觸面61d與被接觸面45a之接觸部74之外部。藉此，與不具有副槽72之構成相比，可遍及主槽71之周邊之較寬範圍有效地將潤滑劑排除至外部。

說明本實施形態之效果。

(1)離合器裝置39係藉由接觸面61d之摩擦力將驅動部30中產生之力傳遞至主軸50(輸出部)或切斷上述力向上述主軸50傳遞的離合器裝置39，且具備抑制殘留物滯留於該接觸面61d的抑制部69。根據該構成，因殘留物滯留於離合器裝置39之接觸面61d得以抑制，故制動時之主軸50(輸出部)之位置穩定，制動對象物之制動穩定性提昇。

(2)於上述離合器裝置39中，抑制部69係形成於接觸面61d及與接觸面61d接觸之被接觸面45a之至少一者之槽70。槽70係例如上述主槽71。根據該構成，因可將殘留物導入設置於接觸面61d及被接觸面45a之至少一者之槽70，故可抑制殘留物滯留於接觸面61d。

(3)於上述離合器裝置39中，例如槽70延伸至自接觸面61d與被接觸面45a接觸之接觸部74分離之位置。根據該構成，因可將流入槽70之殘留物排出至接觸部74以外之處，故可抑制殘留物滯留於接觸部74。

(4)於上述離合器裝置39中，上述抑制部69包含：主槽71，其形成於 接觸面61d及被接觸面45a之至少一者；及副槽72，其與主槽71交叉。根據該構成，存在於與主槽71分離之部分中之殘留物流入副槽72中，此後，導入至主槽71。藉此，可遍及主槽71之周邊之較寬範圍抑制殘留物之滯留。

(5)制動裝置20係包含由形成殘留物之潤滑劑潤滑之零件之裝置，且具備上述構成之離合器裝置39。零件係例如主軸50。根據該構成，因可抑制制動裝置20內之潤滑劑滯留於離合器裝置39之接觸面61d，故可提昇制動對象物之制動穩定性。

(6)制動裝置20具備：主軸50(輸出部)；導管40(傳遞構件)，其藉由與離合器螺母61接觸而將來自驅動部30之動力傳遞至主軸50、及抑制部69。抑制部69抑制潤滑劑殘留於設置於主軸50之離合器螺母61之接觸面61d及導管40(傳遞構件)之被接觸面45a之至少一者。根據該構成，因可於具備離合器螺母61之制動裝置20中，抑制潤滑劑殘留於離合器螺母61之接觸面61d及導管40之被接觸面45a之至少一者，故可提昇制動對象物之制動穩定性。

參照圖15，對離合器螺母61之第1變化例進行說明。

於本變化例中，設置於接觸面61d之抑制部69包含螺旋槽81。螺旋槽81自接觸面61d中之前緣延伸至後方DB，且延伸至筒後部61x之中途。螺旋槽81以與包含離合器螺母61之旋轉中心軸CN之平面與接觸面61d之交線交叉之方式延伸。於接觸面61d與被接觸面45a之接觸時，包含螺旋槽 81之空間SI連接於接觸面61d與被接觸面45a之接觸部74之周圍之空間SX。藉由此種構成，亦可獲得依據實施形態所示之抑制部69之效果。

參照圖16，對離合器螺母61之第2變化例進行說明。

於本變化例中，設置於接觸面61d之抑制部69包含主槽71，且不含副槽72。主槽71具有與實施形態所示之主槽71相同之構造。藉由此種構成，亦可獲得依據實施形態所示之抑制部69之效果。於該變化例中，將離合器螺母61之製造步驟簡化。

參照圖17，對離合器螺母61之第3變化例進行說明。

於本變化例中，設置於接觸面61d之抑制部69具有周槽82。周槽82以沿著垂直於離合器螺母61之旋轉中心軸CN之面與接觸面61d之交線(圓形)之方式延伸。於接觸面61d與被接觸面45a之接觸時，藉包含此種周槽82之空間SI成為環狀。位於周槽82與接觸面61d之交界之邊緣因沿著離合器螺母61之旋轉方向，故而，接觸面61d與被接觸面45a之接觸時之磨耗得以抑制。藉由此種構成，亦可獲得依據實施形態所示之抑制部69之效果。再者，於本變化例中，複數個周槽82亦可藉由通路而連結。又，連結周槽82之通路可延伸至自接觸面61d分離之位置。藉此，便可將潤滑劑排出至接觸面61d與被接觸面45a之接觸部74之周圍之空間SX。

參照圖18，對離合器螺母61之第4變化例進行說明。

於本變化例中，設置於接觸面61d之抑制部69構成為複數個凹陷83。凹陷83設置於接觸面61d之整面。藉由此種構成，亦可獲得依據實施形態 所示之抑制部69之效果。再者，於本變化例中，複數個凹陷83亦可藉由通路而連結。又，連結凹陷83之通路可延伸至與接觸面61d分離之位置。藉此，便可將潤滑劑排出至接觸面61d與被接觸面45a之接觸部74之周圍之空間SX。

參照圖19及圖20，對離合器螺母61之第5變化例進行說明。

於本變化例中，設置於接觸面61d之抑制部69包含與第3變化例同樣之周槽82、及貫通孔84。貫通孔84將周槽82、與接觸面61d和被接觸面45a之接觸部74之周圍之空間SX連接。即，藉由接觸面61d與被接觸面45a之接觸而構成之空間SI連接於接觸部74之周圍之空間SX。藉此，流入周槽82之潤滑劑穿過貫通孔84排出至外部。因此，實質上潤滑劑之排除量中不再有限制，故而，即便存在於接觸面61d與被接觸面45a之間之潤滑劑較多之情形時，潤滑劑殘留於接觸面61d與被接觸面45a之間之情形亦得到抑制。

參照圖21，對離合器螺母61之第6變化例進行說明。

於本變化例中，設置抑制部69。設置於接觸面61d之抑制部69具有與實施形態同樣之構造。進而，於接觸面61d之周圍，設置有抑制潤滑劑進入該接觸面61d之進入抑制部79。例如，於自接觸面61d與被接觸面45a之接觸部74分離之位置，設置槽作為抑制潤滑劑進入接觸部74之進入抑制部79。槽例如構成為下述外部通路85、86。

具體而言，第1外部通路85作為槽設置於筒後部61x之外周面。第2外 部通路86作為槽設置於基部61r之外周面。於第1外部通路85連接主槽71。根據此種構成，潤滑劑積存於外部通路85、86，從而潤滑劑殘留於接觸面61d與被接觸面45a之間之情形得到抑制。又，潤滑劑殘留於離合器螺母61之後齒61e之情形得到抑制。又，於設置有第1外部通路85及第2外部通路86之任一者之情形時，亦可省略主槽71及副槽72。

又，進入抑制部79構成為阻止潤滑劑進入接觸部74之障壁(未圖示)。例如，障壁構成為自筒後部61x之外周面於徑向(以旋轉中心軸CN為中心之圓之徑向)上突出之環狀之壁、或包圍筒後部61x之後齒61e之環狀之壁。或，障壁構成為自基部61r之外周面突出之環狀之壁(凸緣)或自基部61r延伸至前方DA之環狀之壁。壁之高度(以旋轉中心軸CN為中心之圓之徑向外側之高度)設為潤滑劑難以越過之高度。若卡箝裝置1安裝於軌道車輛，則離合器螺母61之旋轉中心軸CN成為大致水平，障壁於鉛直方向上延伸。因此，潤滑劑若受障壁阻擋，則朝向下方流動，從而潤滑劑不進入接觸部74。進而，亦可於導管40中，在障壁之附近設置潤滑劑之通路。如此一來，受障壁阻擋之潤滑劑沿導管40之通路擴散。如此一來，潤滑劑不進入接觸部74，從而潤滑劑積存於接觸面61d與被接觸面45a之間之情形得到抑制。

本變化例具有下述效果。

(1)於本變化例之離合器裝置39中，於接觸面61d之周圍設置進入抑制部79。進入抑制部79抑制接觸面61d中成為殘留物而滯留之潤滑劑之進入。根據該構成，可抑制潤滑劑進入接觸面61d。藉此，可抑制潤滑劑滯 留於接觸面61d中。

(2)實施形態之離合器裝置39中，亦可設置本變化例之進入抑制部79而取代抑制部69。根據該構成，可抑制潤滑劑進入接觸面61d。藉此，可抑制潤滑劑滯留於接觸面61d中。

<其他實施形態>

‧上述抑制部69亦可設置於導管40之被接觸面45a。於該情形時，可省略離合器螺母61之接觸面61d之抑制部69。

‧上述抑制部69之構造不限於上述實施形態及各變化例。例如，抑制部69可藉由將被接觸部45一分為二而構成。抑制部69可作為構成被接觸部45之一對半體間之間隙而構成。此種間隙係藉由接觸面61d與被接觸面45a之接觸而構成之空間SI，且成為潤滑劑流動之通路。

‧進而，作為其他例，抑制部69可構成為自離合器螺母61之接觸面61d延伸至孔61c之貫通孔。或，抑制部69可構成為自導管40之被接觸面45a延伸至外部之空間SX之貫通孔。

‧於本實施形態中，離合器螺母61之接觸面61d與導管40之被接觸面45a均構成為相對於主軸50之中心軸線CS傾斜之圓錐台形之側面，但兩面之構造不限於此。例如，兩面均可構成為相對於主軸50之中心軸線CS垂直之平面。

‧於本實施形態中，構成位置調整機構62之約束構件63不限於實施形態所示之限制部64。約束構件63係於導管40位於較規定位置更靠前方DA之位置時，容許離合器螺母61之旋轉者即可。例如，限制部64之突出部64b與內筒33之抵接部34之卡合可如下所述地變更。於內筒33設置將導管40之貫通孔43插穿之突出卡合部，取代限制部64之突出部64b，且突出卡合部可構成為抵接於限制部64之止動部。

‧上述抑制部69亦可適用於無位置調整機構62之制動裝置20。無位置調整機構62之制動裝置20之一例具備導管40、離合器螺母61、及主軸50，且省略限制部64。而且，離合器螺母61以相對於主軸50不易旋轉之方式，省略蓋體44與離合器螺母61之間之止推軸承47。其原因在於，若存在止推軸承47，則因制動解除，導管40進行後方移動時，導致離合器螺母61伴隨導管40之後方移動而相對於主軸50繼續朝向後方移動。即便此種制動裝置20中，亦於本實施形態中說明之通常動作中，因離合器螺母61之接觸面61d與導管40之被接觸面45a接觸而藉由抑制部69之存在，獲得依據實施形態之效果。

‧於本實施形態中，驅動部30為可使導管40於前後方向DR上移動之驅動裝置即可。例如，驅動部30可構成為藉由油壓而使活塞35移動之油壓驅動裝置、以電動致動器直接驅動導管40之機構。

[產業上之可利用性]

本發明可適用於各種離合器、將制動對象物制動之制動裝置。

61:離合器螺母

61a:筒部

61b:卡合部

61c:孔

61d:接觸面

61e:後齒

61f:內螺紋

61r:基部

61s:圓錐台形部

61x:筒後部

69:抑制部

70:槽

71:主槽

72:副槽

CS:中心軸線

CN:旋轉中心軸

DA:前方

DB:後方

DR:前後方向

Claims (8)

1. 一種離合器裝置，其係藉由接觸面與被接觸面之摩擦力將由驅動部產生之力傳遞至構成為沿直線移動方向移動之輸出部或切斷上述力向上述輸出部傳遞者，且具備抑制部，其於上述接觸面與上述被接觸面接觸時，於上述接觸面與上述被接觸面之間構成空間，藉由上述接觸面與上述被接觸面之接觸而將滯留於上述接觸面之殘留物擠出至上述空間，從而抑制殘留物滯留於該接觸面；上述接觸面與上述被接觸面相對於上述輸出部之上述直線移動方向傾斜。
2. 如請求項1之離合器裝置，其中上述抑制部係形成於上述接觸面及與上述接觸面接觸之上述被接觸面之至少一者之槽。
3. 如請求項2之離合器裝置，其中上述槽延伸至從上述接觸面與上述被接觸面接觸之接觸部離開之位置。
4. 如請求項2之離合器裝置，其中上述抑制部包含：主槽，其形成於上述接觸面及上述被接觸面之至少一者；及副槽，其與上述主槽交叉。
5. 如請求項3之離合器裝置，其中上述抑制部包含：主槽，其形成於上述接觸面及上述被接觸面之至少一者；及副槽，其與上述主槽交叉。
6. 如請求項1至5中任一項之離合器裝置，其中於上述接觸面之周圍，設置有抑制上述接觸面中成為上述殘留物而滯留之潤滑劑之進入的進入抑制部。
7. 一種制動裝置，其係包含由形成殘留物之潤滑劑潤滑之零件者，且具備如請求項1至6中任一項之離合器裝置。
8. 一種制動裝置，其具備：輸出部，其藉由相對於驅動部移動而對制動對象物施加力；傳遞構件，其藉由與設置於上述輸出部之離合器螺母接觸而將來自上述驅動部之動力傳遞至上述輸出部；及抑制部，其抑制潤滑劑殘留於設置於上述輸出部之上述離合器螺母之接觸面及上述傳遞構件之被接觸面之至少一者。

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