TWI705270B - 偏光板及含有偏光板之影像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之偏光板，係包含偏光片及於前述偏光片之至少一面隔著接著層而接著之偏光片保護膜，且下述數式1所示之彈性率係數為13.0至29.0MPa/(N/2mm)：[數式1]彈性率係數={(A+B)/C}/100
式中，A係偏光片保護膜之25℃拉伸彈性率(MPa)，B係接著層之30℃儲存彈性率(MPa)，C係在80℃靜置1小時之偏光片的吸收軸方向之收縮力(N/2mm)。

Description

偏光板及含有偏光板之影像顯示裝置
本發明係關於一種偏光板及含有偏光板之影像顯示裝置，更詳細而言係關於一種對於熱衝擊之耐久性優異的偏光板及含有偏光板之影像顯示裝置。
在液晶顯示裝置(LCD)、電場發光(EL)顯示裝置、電漿顯示裝置(PDP)、電場發射顯示裝置(FED)、OLED等各種影像顯示裝置中所使用之偏光板，一般係包含碘系化合物或二色性偏光物質已吸附定向於聚乙烯醇系(polyvinyl alcohol，PVA)膜之偏光片，並且具有在偏光片之一面依序積層偏光片保護膜，於偏光片之另一面依序積層有偏光片保護膜、欲與其他構件接合之黏著劑層及離型膜之多層構造。
構成偏光板之偏光片係應用於影像顯示裝置，為了提供色再現性優異之影像，基本上被要求兼備高透射率及偏光度。為了使此具體實現，利用將聚乙烯醇系膜本身改質、或使用非昇華性二色性染料取代具有昇華性之碘系偏光元件的方法而製造偏光片。
通常，對於偏光片係在製造步驟中水洗及乾燥後，立即接合保護膜。此係因乾燥後之偏光片物理性強度弱，若暫時將其捲取，則會有在加工方向易破裂等之問題。因此，通常係在乾燥後立即於偏光片塗佈聚乙烯醇系樹脂之水溶液的水系接著劑，隔著此接著劑而於偏光片之兩面同時接合保護膜。
此種偏光板可曝露在製造步驟中、運送中、使用中之環境等多樣溫度環境，故為了即使在此種環境下仍不產生龜裂等缺陷，必須顯現充分耐久性。
因而，偏光板係於製造後進行交互地曝露在低溫環境及高溫環境下之熱衝擊耐久性實驗，但此種熱衝擊耐久性實驗通常係交互地於低溫及高溫之環境下各曝露30分鐘，將如此過程作為1循環，進行100次以上之循環。
此熱衝擊耐久性實驗係當通常之偏光板之情況下，實驗中會在偏光片產生龜裂之嚴苛條件的實驗。
追求開發具有可抑制此種龜裂之優異之熱衝擊耐久性的偏光板，但充分滿足如此要求之偏光板係尚未為人所知。
韓國專利申請案公開第2015-0087062號係揭示一種可降低熱衝擊時之龜裂長度的偏光板，但未能提示滿足上述問題點之方案。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]韓國專利申請案公開第2015-0087062號
本發明之目的係提供一種熱衝擊耐久性優異、且可使偏光片之龜裂顯著降低之偏光板。
1.一種偏光板，係包含偏光片及於前述偏光片之至少一面隔著接著層而接著之偏光片保護膜，且下述數式1所示之彈性率係數為13.0至29.0MPa/(N/2mm)：[數式1]彈性率係數={(A+B)/C}/100
式中，A係偏光片保護膜之25℃拉伸彈性率(MPa)，B係接著層之30℃儲存彈性率(MPa)，C係在80℃靜置1小時之偏光片的吸收軸方向之收縮力(N/2mm)。
2.如上述1所述之偏光板，其中，前述A係1000至4000MPa。
3.如上述1或2所述之偏光板，其中，前述B係1000至4000MPa。
4.如上述1至3中任一項所述之偏光板，其中，前述C係1.0至2.5N/2mm。
5.如上述1至4中任一項所述之偏光板，其中，前述接著層係以光自由基聚合性接著劑組成物或光陽離子聚合性接著劑組成物所形成者。
6.一種影像顯示裝置，係包含如上述1至5中任一項所述之偏光板。
本發明之偏光板係熱衝擊耐久性顯著優異，在曝露於高溫及低溫環境之時，產生龜裂之可能性明顯低。
本發明係關於偏光板及含有偏光板之影像顯示裝置，該偏光板係包含偏光片及於前述偏光片之至少一面隔著接著層而接著之偏光片保護膜，且特定關係式所示之彈性率係數為13.0至29.0MPa/(N/2mm)，藉此，對熱衝擊之耐久性優異。
以下，詳細說明本發明。
本發明之偏光板，係包含偏光片及於前述偏光片之至少一面隔著接著層而接著之偏光片保護膜，且下述數式1所示之彈性率係數為13.0至29.0MPa/(N/2mm)：[數式1]彈性率係數={(A+B)/C}/100
(式中，A係偏光片保護膜之25℃拉伸彈性率(MPa)，B係接著層之30℃儲存彈性率(MPa)，C係在80℃靜置1小時之偏光片的吸收軸方向之收縮力(N/2mm))
本發明之偏光板係藉由偏光片之吸收軸方 向之收縮力、偏光片保護膜之拉伸彈性率及接著層之儲存彈性率滿足如上述之特定關係(彈性率係數為13.0至29.0MPa/(N/2mm))，即使施加熱衝擊，龜裂的產生變少。當曝露於高溫及低溫環境時，在變成高溫時會引起偏光膜之收縮，在返回低溫時經收縮之偏光膜會膨張，在欲回復原來之狀態時易產生龜裂。因此，相對於由在高溫之收縮所蓄積之應力，在常溫附近之偏光片保護膜與接著層之硬度，就抑制龜裂產生而言為重要之特性。
若本發明之彈性率係數未達13.0MPa/(N/2mm)或超過29.0MPa/(N/2mm)，熱衝擊時在偏光片產生龜裂之情形會顯著增加。彈性率係數未達13.0MPa/(N/2mm)時，經由偏光片保護膜及接著層之對偏光片之收縮的抑制會變得不充分而易產生龜裂，彈性率係數超過29.0MPa/(N/2mm)時，偏光片保護膜及接著層變硬，偏光片之收縮所致之變形不會被緩和而易產生龜裂。
<偏光片>
本發明之偏光片係只要為具有可滿足前述彈性率係數之吸收軸方向的收縮力之偏光片即可，無特別限制，而亦可為例如在80℃靜置1小時之時的吸收軸方向之收縮力具有2.5N/2mm以下之收縮力者。可更改善具有2.5N/2mm以下之收縮力之時對熱衝擊之耐久性。又，吸收軸方向之收縮力之下限值可為在80℃靜置1小時之時為1.0N/2mm以上。
本發明之偏光片之吸收軸方向的收縮力， 可調節偏光片之製造時所使用之化合物或延伸比而控制，較佳可在施行最大之延伸及交聯之交聯步驟中進行。例如偏光片之吸收軸方向之收縮力可藉由調節交聯用水溶液之硼化合物之含量或交聯步驟之延伸比來控制。
本發明之偏光片之厚度可為5至30μm，較佳可為10至28μm，更佳可為15至26μm。若偏光片之厚度為上述範圍，可使偏光片之吸收軸方向的低收縮力及操作性併存。
以下，說明本發明之偏光片之製造方法。
本發明之偏光片係由偏光片形成用膜來製造。用以製造偏光片之偏光片形成用膜只要為可在偏光板之製造中使用之高分子膜即可，無特別限制，可使用該領域公知之可由二色性物質(例如碘)染色的膜，例如，可使用聚乙烯醇膜、部分經皂化之聚乙烯醇膜；聚對苯二甲酸乙二酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜、乙烯-乙烯醇共聚物膜、纖維素膜、此等之部分經皂化之膜等親水性高分子膜；或經脫水處理之聚乙烯醇系膜、經脫鹽酸處理之聚氯乙烯系膜等聚烯定向膜；等。此等之中，就不僅在面內使偏光度之均勻性強化之效果優異，並且對碘之染色親和性優異之點而言，以聚乙烯醇系膜為佳。
本發明之偏光片之製造方法可包含：偏光片形成用膜之膨潤步驟、染色步驟、交聯步驟、補色步驟、延伸步驟、水洗步驟及乾燥步驟，可依延伸方法而分類。可舉例如乾式延伸方法、濕式延伸方法、或混合前述2種 延伸方法的混成延伸方法等。以下係以濕式延伸方法為一例而說明本發明之偏光片之製造方法，但不限制於此。
上述步驟之中除去乾燥步驟以外之其餘之步驟可分別由在以從各式各樣之種類的溶液中選出之1種以上溶液充滿的恒溫水槽(bath)內浸漬偏光片形成用膜之狀態來進行。
<膨潤步驟>
膨潤步驟係在使未延伸之偏光片形成用膜染色之前浸漬於以膨潤用水溶液充滿的膨潤槽，除去堆積於偏光片形成用膜之表面上之塵埃或抗結塊劑等雜質，使偏光片形成用膜膨潤，提升延伸效率，防止染色不均勻性，提升偏光片之物性用之步驟。
膨潤用水溶液係無特別限制，可使用該領域公知之膨潤用水溶液，可單獨使用例如水(純水、去離子水)，於其中添加少量之甘油或碘化鉀時，可提升高分子膜之膨潤以及加工性。較佳係相對於膨潤用水溶液100重量%，甘油之含量為5重量%以下，碘化鉀之含量為10重量%以下。
膨潤槽之溫度無特別限制，但可為20至45℃，例如可為25至40℃。
膨潤步驟之執行時間(膨潤槽浸漬時間)係無特別限制，可適用該領域公知之執行時間，例如可為180秒以下，較佳可為90秒以下。浸漬時間為上述範圍之時，可抑制膨潤變成過度飽和狀態，防止偏光片形成用膜因軟 化所致之破裂，在染色步驟中碘之吸附變得均勻，可提升偏光度。
可同時進行膨潤步驟以及延伸步驟，此時，延伸比可為約1.1至3.5倍，但無限制，而較佳可為1.5至3.0倍。若前述延伸比為未達1.1倍，則有可能產生皺紋，超過3.5倍時，初期光學特性可能變脆弱。
<染色步驟>
染色步驟係使偏光片形成用膜浸漬於以含有二色性物質例如碘之染色用水溶液充滿的染色槽，使碘吸附於偏光片形成用膜之步驟。
染色用水溶液係無特別限制而可使用該領域公知之染色用水溶液，可含有水、水溶性有機溶劑或此等之混合溶劑及碘。碘之含量可為於染色用水溶液中為0.4至400mmol/L，但不限制於此，較佳可為0.8至275mmol/L，最佳可為1至200mmol/L。
為了可提高染色效率，染色用水溶液亦可更含有碘化物作為溶解補助劑。碘化物係無限制，可使用該領域公知之碘化物，例如可含有選自由碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦所構成之群組的至少1個，此等之中，就對於水之溶解度大之點而言，以碘化鉀為佳。相對於水100重量%，碘化物之含量可為0.01至10重量%，但無限制，較佳可為0.1至5重量%。
又，為了增加偏光片形成用膜內之碘錯合 物之含量，可於染色槽中相對於水100重量%添加硼酸0.3至5重量%，但不限制於此。染色槽之硼酸未達0.3重量%時，有可能沒有增加PVA-I3 -錯合物及PVA-I5 -錯合物含量之效果，染色槽之硼酸高於5重量%之濃度時，膜之破裂之危險性可能變高。
染色槽之溫度可為5至42℃，但不限制於此，較佳可為10至35℃。又，在染色槽內之偏光片形成用膜之浸漬時間係無特別限制，可為1至20分鐘，較佳可為2至10分鐘。
在本發明中，可同時進行染色步驟以及延伸步驟，此時，延伸比可為1.01至2.0倍，但不限制於此，較佳可為1.1至1.8倍。
又，包含前述膨潤及前述染色步驟之直到前述染色步驟為止之累積延伸比可為1.2至4.0倍。前述累積延伸比未達1.2倍時，有可能產生膜之皺紋而造成外觀不良，超過4.0倍時，初期光學特性可能變得脆弱。
<交聯步驟>
交聯步驟係為了避免由物理性吸附之碘分子所得之染色性因外部環境而降低，使經染色之偏光片形成用膜浸漬於交聯用水溶液中，使被吸附之碘分子固定的步驟。
作為二色性染料之碘，當交聯反應不充分時，有時會因濕熱環境而碘分子脫離，要求充分之交聯反應。又，為了使偏光片形成用膜之位在分子與分子之間的碘分子定向，提升光學特性，可在交聯步驟中以最大之延 伸比進行延伸。
在本發明中，偏光片之製造方法可進行例如由第1及第2交聯步驟所構成之交聯步驟，前述第1及第2交聯步驟之中的1個以上之步驟可使用含有硼化合物之交聯用水溶液。藉此可提升偏光片之光學特性及色之耐久性。
交聯用水溶液係無特別限制，可使用該領域公知之交聯水溶液，可含有例如屬於溶劑之水、及硼酸或硼酸鈉等硼化合物，亦可更含有可與水一起相互溶解之有機溶劑及碘化物。
硼化合物可藉由對偏光片賦予短交聯鍵及剛直性，並在步驟中抑制於膜產生皺紋，而提升膜之處理性，發揮形成偏光片之碘定向之任務。又，可藉由調節交聯用水溶液之硼化合物之含量以控制偏光片之吸收軸方向之收縮力。具體上若增加硼化合物之含量，可提升吸收軸方向之收縮力，若減少，可降低吸收軸方向之收縮力。
前述硼化合物之含量可適用該領域公知之含量，例如相對於水100重量%，可為1至10重量%，較佳可為2至6重量%。該含量未達1重量%時，有硼化合物之交聯效果減少而難以對偏光片賦予剛直性之情形，超過10重量%時，有無機系交聯劑之交聯反應被過度活性化，且難以有效地進行有機系交聯劑之交聯反應之情形。
在本步驟中，為了保持偏光片之在面內之偏光度的均勻性，又，為了防止經染附之碘的脫附，可使 用碘化物。前述碘化物可為與在前述染色步驟所使用者為相同者，相對於水100重量%，前述碘化物之含量可為0.05至15重量%，但未受限制，較佳可為0.5至15重量%。若該含量未達0.05重量%，則有可能膜內之碘離子脫出而增加偏光片之透射率，超過15重量%時，水溶液內之碘離子會滲透至膜而減少偏光片之透射率。
在本發明中，交聯槽之溫度可為20至70℃，但不受此限制。前述交聯槽中之偏光片形成用膜之浸漬時間可為1秒至15分鐘，但不限於此，較佳可為5秒至10分鐘。
本發明之一實施例的偏光片之製造方法中，在交聯步驟中可同時進行延伸步驟，如同前述，在本交聯步驟中能以最大之延伸比延伸，其後，從降低收縮力之態樣而言，以進行應力緩和為佳。例如，交聯步驟可含有第1交聯步驟及第2交聯步驟，前述第1交聯步驟為高延伸步驟，前述第2交聯步驟可為應力緩和步驟。
例如，前述第1交聯步驟之延伸比可為2.0至3.0倍，較佳可為2.2至2.8倍。
又，前述第2交聯步驟之延伸比可為0.85至1.0倍。
又，前述第1及第2交聯步驟之累積延伸比可為1.5至3.0倍，但不限於此，較佳可為1.98至2.8倍。前述累積延伸比未達1.5倍時，有可能碘之定向效果不充分，超過3.0倍時，因延伸所致之應力會上昇而收縮力可 能增加。
<補色步驟>
本發明之偏光片之製造方法可依需要而更含有補色步驟。經由補色步驟，可使碘錯合物被物理性吸附之偏光片形成用膜中的位於分子與分子之間的碘錯合物在硼酸交聯附近定向而使碘錯合物安定化。又，經由補色步驟，可對前述交聯步驟中之碘錯合物之染色不充分的偏光片形成用膜進行補色。
前述補色步驟之補色用水溶液係含有例如屬於溶劑之水、及硼酸等硼化合物，且可更含有可與水一起相互溶解之有機溶劑及碘化物。
在本發明中，硼化合物可藉由對偏光片賦予短交聯鍵及剛直性，並在步驟中抑制於膜產生皺紋，而提升膜之處理性，發揮形成偏光片之碘定向之任務。
相對於水100重量%，前述硼化合物之含量可為1至10重量%，但不限制於此，較佳可為2至6重量%。其含量未達1重量%時，有硼化合物之交聯效果會減少而難以對偏光片賦予剛直性之情形，超過10重量%時，有無機系交聯劑之交聯反應被過度活性化，且有機系交聯劑之交聯反應難以有效地進行之情形。
在本步驟中，為了保持偏光片之在面內之偏光度的均勻性，又，為了防止經染附之碘的脫附，可使用碘化物。前述碘化物可使用與在前述染色步驟所使用者為相同者，相對於水100重量%，前述碘化物之含量可為 0.05至15重量%，但未受此限制，較佳可為0.5至11重量%。若該含量未達0.05重量%，則有可能膜內之碘離子脫出而增加偏光片之透射率，超過15重量%時，水溶液內之碘離子會滲透至膜而減少偏光片之透射率。
在本發明中，補色槽之溫度可為20至70℃。補色槽中之偏光片形成用膜之浸漬時間可為1秒至15分鐘，但不限於此，較佳可為5秒至10分鐘。
可與前述補色步驟一起進行延伸步驟，此時，補色步驟之延伸比可為1.01至1.25倍，但不限於此，較佳可為1.05至1.20倍。
若前述延伸比未達1.01倍，則有可能碘錯合物之安定化效果及偏光片形成用膜之定向效果不充分，超過1.25倍時，有因過度之延伸而產生膜之破裂之情形，且生產效率性可能會降低。
<延伸步驟>
在本發明中，延伸步驟係如前述般，可與其他步驟同時進行，亦可另外進行。延伸步驟可至少進行1次，亦可進行複數次。進行複數次時，可在偏光片之製造步驟中之任意步驟分開進行。
在本發明中，偏光片之延伸(吸收軸)方向之收縮力可藉由延伸比調節，較佳係如前述，可藉由交聯步驟中之延伸比來調節。
在本發明之製造方法中，偏光片之總累積延伸比係以5.0至7.0倍為較佳，以5.3至6倍為更佳。
在本說明書中，「累積延伸比」係意指在各步驟中之延伸比的乘積之值。
<水洗步驟>
本發明之偏光片之製造方法可依需要而進一步含有水洗步驟，該水洗步驟係使交聯及延伸結束之偏光片形成用膜浸漬於以水洗用水溶液充滿之水洗槽中，將直至水洗步驟為止之步驟中附著於偏光片形成用膜之如硼酸等不需要的殘留物除去。
在本發明中，水洗用水溶液係無特別限制，可使用該領域公知之水洗用水溶液，例如可為水，亦可於其中更添加碘化物，但不限於此等。
在本發明中，水洗槽之溫度可為10至60℃，但不限定於此，較佳可為15至40℃。
前述水洗步驟係可省略，亦可在每當如前述染色步驟或前述交聯步驟等水洗步驟之前之步驟結束時進行。又，可重複一次以上，其重複次數係無特別限制。
<乾燥步驟>
在本發明之製造方法中，乾燥步驟係使經水洗之偏光片形成用膜乾燥的步驟，藉由因乾燥所產生之內縮(neck-in)，使經染附之碘分子之定向更提升，獲得光學特性優異之偏光片的步驟。又，所謂內縮係膜之寬度變窄。
乾燥方法係無限制，可使用該領域公知之乾燥方法，例如可使用自然乾燥、熱風乾燥、空氣乾燥、加熱乾燥、遠紅外線乾燥、微波乾燥等方法，最近，僅使 在膜內之水活性化而乾燥之微波乾燥係重新被使用，通常主要係使用熱風乾燥。
熱風乾燥之執行溫度係無特別限定，但為了防止偏光片之劣化，以較低之溫度實施為較佳，例如可為20至90℃，較佳可為80℃以下。
前述熱風乾燥之執行時間係無特別限定，例如可進行1至10分鐘。
<偏光片保護膜>
本發明之偏光片保護膜只要為具有可滿足前述彈性率係數之拉伸彈性率的偏光片保護膜即可，無特別限制，例如可為在25℃具有1000至4000MPa之拉伸彈性率者。具有上述範圍之拉伸彈性率時，可更改善對熱衝擊之耐久性。保護膜之拉伸彈性率未達1000MPa時，因和位於保護膜與偏光片之間的接著層之彈性率差而龜裂不良更嚴重，若超過4000MPa，則可能因外部應力(stress)而產生保護膜之龜裂現象。
偏光片保護膜之拉伸彈性率係依保護膜之原料而決定。偏光片保護膜之原料，除了所追求之拉伸彈性率之外，只要為透明性、機械強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性等優異之膜即可，無特別限定，例如可使用包含選自由丙烯酸系樹脂膜、纖維素系樹脂膜、聚烯烴系樹脂膜及聚酯系樹脂膜所構成之群組中的至少1種之各種透明樹脂膜。
前述保護膜之具體例係可舉例如聚(甲基) 丙烯酸甲酯、聚(甲基)丙烯酸乙酯等丙烯酸系樹脂膜；聚對苯二甲酸乙二酯、聚間苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等聚酯系樹脂膜；二乙醯基纖維素、三乙醯基纖維素、纖維素乙酸酯丙酸酯等纖維素系樹脂膜；聚乙烯、聚丙烯、環系或具有降茨烯構造之聚烯烴系、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烴系樹脂膜；等，但不限定於此等。
前述保護膜之厚度係無特別限定，可為10至200μm，較佳可為10至150μm。於偏光片之兩面積層偏光片保護膜時，各保護膜可為具有互為相同或相異之厚度者。
<接著層>
本發明之接著層係使接著劑組成物硬化而形成，使偏光片與保護膜接合。
本發明之接著層係只要為具有可滿足前述彈性率係數之儲存彈性率之接著層即可，無特別限制，例如可為在30℃具有1000至4000MPa之儲存彈性率者。具有上述範圍之儲存彈性率時，可更進一步改善對熱衝擊之耐久性。儲存彈性率未達1000MPa或超過4000MPa時，熱衝擊時有產生龜裂之虞。接著層之儲存彈性率之調節可藉由接著劑組成物之各成分的種類及含量來調節。
接著層之厚度係無特別限定，但以0.01至10μm為較佳，以0.5至5μm為更佳。若接著層之厚度為上述範圍，則難以辨認到異物，接著劑組成物充分硬化且 密著性良好。接著層之厚度可藉由調節後述之接著劑組成物之塗佈厚度而調節。
本發明之接著劑組成物可為光硬化性接著劑組成物或熱硬化性接著劑組成物，考量生產性等之時，以光硬化性接著劑組成物較佳。
光硬化性接著劑組成物可含有光聚合性化合物及光聚合起始劑。
光聚合性化合物可為光自由基聚合性化合物或光陽離子聚合性化合物。
光自由基聚合性化合物係可舉例如1至6官能性單體，具體上可舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、甲基丙烯酸2-十二基硫基乙酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、胺基甲酸酯(urethane)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯等1官能性單體；1,3-丁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A-乙二醇二丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基) 丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸二環戊酯、己內酯改質二(甲基)丙烯酸二環戊烯基酯、環氧乙烷改質磷酸二(甲基)丙烯酸酯、雙(2-羥基乙基)三聚異氰酸酯二(甲基)丙烯酸酯、二(丙烯醯氧基乙基)三聚異氰酸酯、二(甲基)丙烯酸烯丙基化環己酯、二羥甲基二環戊烷二丙烯酸酯、環氧乙烷改質六氫鄰苯二甲酸二丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇丙烯酸酯、新戊二醇改質三羥甲基丙烷二丙烯酸酯、金剛烷二丙烯酸酯等2官能性單體；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改質二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、參(2-羥基乙基)三聚異氰酸酯三(甲基)丙烯酸酯、參(丙烯醯氧基乙基)三聚異氰酸酯、三(甲基)丙烯酸甘油酯等3官能性單體；四(甲基)丙烯酸二甘油酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯等4官能性單體；丙酸改質二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯等5官能性單體；及己內酯改質二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等6官能性單體等，此等之中，以1至3官能性單體為佳。此等係可單獨或混合2種以上而使用。
光陽離子聚合性化合物係可舉例如雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂等雙酚型環氧樹脂；苯酚酚醛清漆(phenol novolak)型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂等酚醛清漆型環氧樹脂；脂肪族環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、萘型環氧樹脂、多官能性環氧樹脂、聯苯型環 氧樹脂、縮水甘油基醚型環氧樹脂、縮水甘油基酯型環氧樹脂、縮水甘油基胺型環氧樹脂；經氫化之雙酚A型環氧樹脂等醇型環氧樹脂；溴化環氧樹脂等鹵化環氧樹脂；橡膠改質胺基甲酸酯樹脂、胺基甲酸酯改質環氧樹脂、環氧化聚丁二烯、環氧化苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物、含有環氧基之聚酯樹脂、含有環氧基之聚胺基甲酸酯樹脂、含有環氧基之丙烯酸樹脂等含有環氧基之化合物；苯氧基甲基氧雜環丁烷、3,3-雙(甲氧基甲基)氧雜環丁烷、3,3-雙(苯氧基甲基)氧雜環丁烷、3-乙基-3-(苯氧基甲基)氧雜環丁烷、3-乙基-3-(2-乙基己基氧基甲基)氧雜環丁烷、3-乙基-3-{[3-(三乙氧基矽基)丙氧基]甲基}氧雜環丁烷、苯酚酚醛清漆氧雜環丁烷、1,4-雙{[(3-乙基3-氧雜環丁烷基)甲氧基]甲基}苯等含有氧雜環丁烷基之化合物等，此等係可單獨或混合2種以上而使用。
光聚合起始劑係用以提升硬化反應之效率者，可舉例如乙醯苯系、二苯甲酮系、硫雜蒽酮系、苯偶姻系、苯偶姻烷基醚系等光自由基聚合起始劑；芳香族重氮鹽、芳香族鋶鹽、芳香族碘鋁鹽、苯偶姻磺酸酯等。又，光陽離子聚合起始劑係可舉例如市售製品的Optomer-SP-151、Optomer-SP-170、Optomer-SP-171(旭電化工業公司)、Irgacure-261(Ciba公司)、Shade SI-60L、UVI-6990(Union Carbide公司)、BBI-1C3、MPI-103、TPS-103、DTS-103、NAT-103、NDS-103(綠化學公司)、CPI-110A(San-Apro公司)等。此等係可單獨或混合2種以上而使用。
光聚合起始劑之含量係無特別限定，例如相對於光聚合性化合物100重量份，可含有0.5至10重量份。含量為上述範圍內時，具有適合的硬化速度，具有優異之耐久性。
<偏光板之製造方法>
偏光板之製造可藉由使用前述接著劑組成物將偏光片與偏光片保護膜接合而進行。使用接著劑組成物之偏光片與保護膜之接合可由適合的方法進行，可舉例如藉由流延法、線棒(Meyer bar)塗佈法、凹版塗佈法、旋轉塗佈法、模頭塗佈法、浸漬塗佈法、噴霧法等而於偏光片及/或保護膜之接著面塗佈接著劑組成物，使兩者重疊之方法。所謂流延法，係使屬於被塗布物之偏光片或保護膜朝大概垂直之方向、大概水平方向、或兩者間之斜方向移動，且同時於其表面塗佈接著劑組成物之方法。
接著劑組成物之塗佈厚度係無特別限定，例如能以0.01至10μm，較佳係能以0.5至5μm塗佈。
塗佈接著劑組成物之後，使偏光片與保護膜藉由夾持輥(nip roll)夾持接合。
又，為了提升接著性，可依需要而於偏光片及/或保護膜之表面適當地實施電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、火焰處理、皂化處理等表面處理。皂化處理係可舉例如浸漬於氫氧化鈉、氫氧化鉀等鹼的水溶液之方法。
將偏光片與偏光片保護膜積層之後係實施 乾燥處理。乾燥處理係例如藉由噴霧熱風來進行，但此時之溫度可在50至100度之範圍適當地選擇。乾燥時間通常為30至1,000秒。
本發明之偏光板係不僅可運用於通常之液晶顯示裝置，還可運用於有機電場發光顯示裝置(OLED)、電漿顯示裝置、電場發射顯示裝置等各種之影像顯示裝置。
以下，為了有助於本發明之理解而提出較佳之實施例，但此等之實施例只不過為例示本發明者，並非限制添付之申請專利範圍，該發明領域技術人員應明瞭可於本發明之範疇及技術思想之範圍內對實施例進行各種變更及修正，此等變更及修正當然屬於添付之申請專利範圍。
<實施例1> <接著劑組成物>
調配苯氧基縮水甘油基醚47重量份、3,4-環氧基環己烷甲酸3,4-環氧基環己基甲酯50重量份、光聚合起始劑(CPI-110A，San-Apro公司)3重量份而製造光硬化性樹脂組成物。本接著劑組成物之硬化後之儲存彈性率係1500MPa。
<偏光片>
將皂化度為99.9%以上之透明的未延伸之聚乙烯醇膜(PE60，KURARAY公司)以25℃之水(去離子水)浸漬1分鐘20秒而使其膨潤(膨潤步驟)後，在碘1.25mM/L及相對於水100重量%含有碘化鉀1.25重量%、硼酸0.3重量%之30℃之染色用水溶液中浸漬2分鐘30秒而染色(染色步驟)。此 時，在膨潤及染色步驟中，分別以1.7184倍、1.5214倍之延伸比延伸，以直至染色槽為止之累積延伸比成為2.614倍之方式延伸。
然後，在相對於水100重量%含有碘化鉀15.0重量%、硼酸2重量%之56℃之交聯用水溶液中浸漬26秒鐘而使其交聯(第1交聯步驟)，且同時以2.5倍之延伸比延伸。其後，在相對於水100重量%含有碘化鉀15.0重量%、硼酸2重量%之56℃的交聯用水溶液中浸漬20秒鐘而使其交聯(第2交聯步驟)，且同時以0.85倍之延伸比延伸。
然後，在相對於水100重量%含有碘化鉀5重量%、硼酸2重量%之40℃之補色用水溶液中浸漬10秒(補色步驟)，且同時延伸至1.08倍。
此時，以使膨潤、染色、交聯、及補色步驟之總累積延伸比成為6倍。交聯結束後，聚乙烯醇膜係以去離子水水洗(水洗步驟)之後，在80℃之烘箱乾燥5分鐘(乾燥步驟)而製造透射率42.5%之偏光片。偏光片之厚度係23μm。
<偏光板>
在拉伸彈性率為3900MPa之經電暈處理的厚度60μm之三乙醯基纖維素系膜(富士Film公司)上塗布上述接著劑組成物，在上述已吸附定向碘之偏光片之單面，以使上述接著劑組成物之厚度成為2至3μm之方式，使用夾持輥夾住偏光片與三乙醯基纖維素系膜而使其接合後，以高壓 水銀燈(UVA累積光量500mJ/cm2)使其UV硬化後，接合黏著劑而製造偏光板。
<實施例2至7及比較例1至3>
如下述之表1記載，除了調節保護膜及接著層之彈性率及偏光片之吸收軸方向之收縮力以外，其餘係與實施例1同樣之方法製造偏光板。
保護膜之彈性率係對每個製品各別測定之值。
在實施例5係將實施例1之光聚合起始劑(CPI-110A，San-Apro公司)變更為4重量份，在實施例6係將實施例1之光聚合起始劑(CPI-110A，San-Apro公司)變更為5重量份而調節接著層之彈性率。
變更交聯用水溶液之硼酸含量而調節偏光片之吸收軸方向之收縮力。表1之硼酸含量係意指第1交聯步驟及第2交聯步驟之交聯用水溶液之硼酸含量。
Figure 105135894-A0202-12-0024-3
<試驗例>
以下述之方法測定在上述之實施例及比較例中所製造之偏光片及偏光板之物性。
<1.保護膜之拉伸彈性率之測定>
將保護膜切割為25mm×100mm之大小後，將標點距離設為50mm，以拉伸試驗機(拉伸試驗機，Shimadzu公司) 實施長度方向拉伸試驗，對於S-S曲線初期曲線之切線方向測定強度，將強度值除以剖面積而求出拉伸彈性率。此時，以25℃、4mm/min之速度進行測定。
<2.接著層之儲存彈性率之測定>
在未經電暈處理之環烯烴聚合物(COP)膜(Zeon公司)2片之中的1片之表面，將接著劑組成物以桿塗佈器塗佈成10μm之厚度。其後，使用積層機在塗佈有接著劑組成物之面接合另1片之未經電暈處理的COP膜，以高壓水銀燈(UVA累積光量為500mJ/cm2)進行UV硬化，製作厚度4μm之接著劑膜。
其後，將接著劑膜從COP膜剝離並切成5.0cm×0.5cm之大小後，以DMA Q800(Dynamic mechanical analyzer，TA公司)測定30℃之儲存彈性率(溫度條件係常溫至200℃)。此時，測定前為了使偏光片維持於平坦之狀態，將最小限度之荷重施加於偏光片之厚度方向而測定。
<3.偏光片之收縮力之測定>
在此，測定偏光片之透射軸方向之寬度每2mm之吸收軸方向的收縮力。將實施例及比較例中所製造之偏光片切割為2mm(透射軸方向)×50mm(吸收軸方向)之大小後，將標點距離設為15mm，在80℃保持等溫狀態靜置1時間，以DMA Q800(Dynamic mechanical analyzer，TA公司)測定長度方向(吸收軸方向)之收縮力。此時，在測定前為了將偏光片維持於平坦之狀態，將最小限度之荷重施加於偏光片之厚度方向而測定。
<4.熱衝擊耐久性之測定>
將實施例及比較例中所製造之偏光板切割為15.0cm(吸收軸(MD)方向)×11cm(透射軸(TD)方向)之大小後，使用黏著劑而接合於玻璃板，進行高壓釜(50℃、20分鐘、5氣壓)處理。放置24小時後，進行熱衝擊試驗(使-40℃、30分鐘及85℃、30分鐘、60分鐘作為1循環)。將所製造之試樣投入烘箱並完成100循環後，確認有無偏光片之龜裂產生(試樣數係各實施例或比較例分別各準備5個)。
Figure 105135894-A0202-12-0026-4
若參照表2，可確認滿足本發明之彈性率係數之範圍的偏光板係當熱衝擊時於偏光片亦完全無龜裂產 生。

Claims (3)

  1. 一種偏光板，係包含偏光片及於前述偏光片之至少一面隔著接著層而接著之偏光片保護膜，且下述數式1所示之彈性率係數為13.0至29.0MPa/(N/2mm)：[數式1]彈性率係數={(A+B)/C}/100式中，A係偏光片保護膜之25℃拉伸彈性率(MPa)且為1000至4000MPa，B係接著層之30℃儲存彈性率(MPa)且為1000至4000MPa，C係在80℃靜置1小時之偏光片的吸收軸方向之收縮力(N/2mm)且為1.0至2.5N/2mm。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板，其中，前述接著層係以光自由基聚合性接著劑組成物或光陽離子聚合性接著劑組成物所形成者。
  3. 一種影像顯示裝置，係包含申請專利範圍第1或2項所述之偏光板。
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7154002B2 (ja) * 2017-05-25 2022-10-17 日東電工株式会社 偏光フィルム、粘着剤層付き偏光フィルム、及び画像表示装置
WO2019097960A1 (ja) * 2017-11-17 2019-05-23 富士フイルム株式会社 液晶表示装置、偏光板および画像表示装置
JP2020157577A (ja) * 2019-03-26 2020-10-01 住友化学株式会社 積層体及び表示装置
JP2020157578A (ja) * 2019-03-26 2020-10-01 住友化学株式会社 積層体及び表示装置
JP2021071713A (ja) * 2019-10-28 2021-05-06 住友化学株式会社 光学積層体及び表示装置
JP7199584B1 (ja) 2022-03-31 2023-01-05 住友化学株式会社 偏光板

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006058560A (ja) * 2004-08-19 2006-03-02 Nitto Denko Corp 保護フィルム付位相差板、その製造方法、保護フィルム付粘着型位相差板および保護フィルム付粘着型光学素材
TW200921162A (en) * 2007-07-12 2009-05-16 Sumitomo Chemical Co Polarizer and optical element
JP2009157361A (ja) * 2007-12-06 2009-07-16 Nitto Denko Corp 偏光板及び画像表示装置
TW201007229A (en) * 2008-05-27 2010-02-16 Nitto Denko Corp Adhesive polarization plate, image display device and methods for manufacturing adhesive polarization plate and image display device
JP2013148806A (ja) * 2012-01-23 2013-08-01 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光フィルムとその製造方法及び偏光板
TW201430085A (zh) * 2012-12-12 2014-08-01 Cheil Ind Inc 用於偏振板的黏合劑膜、黏合劑組合物、偏振板和光學顯示器
WO2015099022A1 (ja) * 2013-12-26 2015-07-02 日東電工株式会社 積層偏光フィルム、その製造方法、積層光学フィルムおよび画像表示装置
TW201527126A (zh) * 2014-01-13 2015-07-16 Dongwoo Fine Chem Co Ltd 偏光板

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3979688B2 (ja) * 1996-11-07 2007-09-19 日本合成化学工業株式会社 偏光フィルムの製造方法
JP2005084506A (ja) * 2003-09-10 2005-03-31 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光フィルムとその製造方法、偏光板および光学積層体
JP4594804B2 (ja) * 2005-06-17 2010-12-08 大倉工業株式会社 偏光フィルムの製造方法
CN100580487C (zh) * 2005-07-21 2010-01-13 柯尼卡美能达精密光学株式会社 亲水性聚合物膜的制造方法
JP5257645B2 (ja) * 2007-10-25 2013-08-07 住友化学株式会社 偏光フィルムの製造方法および偏光板の製造方法
KR101938896B1 (ko) * 2012-04-12 2019-01-16 동우 화인켐 주식회사 편광자의 제조방법 및 이를 이용한 편광판
JPWO2014115897A1 (ja) * 2013-01-28 2017-01-26 住友化学株式会社 偏光フィルムの製造方法
KR101400132B1 (ko) * 2013-10-07 2014-05-30 동우 화인켐 주식회사 편광자의 제조 방법
KR20160070810A (ko) * 2013-11-19 2016-06-20 코니카 미놀타 가부시키가이샤 편광판 및 이것을 사용한 액정 표시 장치
KR101659136B1 (ko) 2014-01-21 2016-09-22 제일모직주식회사 편광판, 이를 위한 편광판용 접착제 조성물 및 이를 포함하는 디스플레이 장치

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006058560A (ja) * 2004-08-19 2006-03-02 Nitto Denko Corp 保護フィルム付位相差板、その製造方法、保護フィルム付粘着型位相差板および保護フィルム付粘着型光学素材
TW200921162A (en) * 2007-07-12 2009-05-16 Sumitomo Chemical Co Polarizer and optical element
JP2009157361A (ja) * 2007-12-06 2009-07-16 Nitto Denko Corp 偏光板及び画像表示装置
TW201007229A (en) * 2008-05-27 2010-02-16 Nitto Denko Corp Adhesive polarization plate, image display device and methods for manufacturing adhesive polarization plate and image display device
JP2013148806A (ja) * 2012-01-23 2013-08-01 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光フィルムとその製造方法及び偏光板
TW201335639A (zh) * 2012-01-23 2013-09-01 Sumitomo Chemical Co 偏光膜與其製造方法及偏光板
CN104094141A (zh) * 2012-01-23 2014-10-08 住友化学株式会社 偏振膜及其制造方法以及偏振板
TW201430085A (zh) * 2012-12-12 2014-08-01 Cheil Ind Inc 用於偏振板的黏合劑膜、黏合劑組合物、偏振板和光學顯示器
WO2015099022A1 (ja) * 2013-12-26 2015-07-02 日東電工株式会社 積層偏光フィルム、その製造方法、積層光学フィルムおよび画像表示装置
TW201531752A (zh) * 2013-12-26 2015-08-16 Nitto Denko Corp 積層偏光薄膜、其製造方法、積層光學薄膜及影像顯示裝置
TW201527126A (zh) * 2014-01-13 2015-07-16 Dongwoo Fine Chem Co Ltd 偏光板

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