TWI665093B - 偏光板 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種偏光板,其係依序包括:第1保護膜、以聚乙烯醇系樹脂構成之偏光片及黏著劑層,該偏光板之黏著劑層於80℃之損失彈性模數為未達0.06MPa,且於85℃加熱500小時後之吸收軸方向之尺寸收縮量為500μm以下。該偏光板可更包括配置於偏光片與黏著劑層之間的第2保護膜。
Description
本發明係關於一種偏光板,更詳細而言,係關於具備黏著劑層之附有黏著劑層的偏光板。
偏光板係廣泛地使用於液晶顯示裝置等顯示裝置,特別是近年來廣泛地使用於智慧型手機等各式行動機器。作為偏光板者,一般係於偏光片的單面或雙面使用接著劑而貼合有保護膜之構成者。
偏光板通常係使用黏著劑層貼合於顯示裝置的圖像顯示元件(液晶顯示裝置中的液晶單元等)或其他的光學構件。該偏光板係大多作為於其一外面預先積層有黏著劑層之附有黏著劑層的偏光板而進行製造(例如,日本特開2009-073896號公報、日本特開2004-002782號公報以及日本特開2004-224873號公報)。
對附有黏著劑層的偏光板追求特性及外觀形狀等不易因熱而劣化之耐熱性時,以往的附有黏著劑層的偏光板係於施以耐熱試驗時有產生翹曲、或於黏著劑層與其貼合之基材(玻璃基板等)的界面間混入氣泡之問題之情
形。
此處本發明係以提供一種即使施以耐熱試驗,亦難以產生翹曲及氣泡混入之附有黏著劑層的偏光板作為目的。
本發明係提供以下所示之偏光板。
[1]一種偏光板,其係依序包括:第1保護膜、以聚乙烯醇系樹脂構成之偏光片、以及黏著劑層,其中,前述黏著劑層於80℃之損失彈性模數未達0.06MPa,於85℃加熱500小時後之吸收軸方向的尺寸收縮量為500μm以下。
[2]如[1]所述之偏光板,其中,於85℃加熱500小時後之吸收軸方向的尺寸收縮率為小於0.48%。
[3]如[1]或[2]所述之偏光板,其更包括配置於前述偏光片與前述黏著劑層之間的第2保護膜。
[4]如[1]或[2]所述之偏光板,其中,前述黏著劑層係直接積層於前述偏光片之與前述第1保護膜相反側的面。
[5]如[1]至[4]中任一項所述之偏光板,其中,前述黏著劑層係厚度為25μm以下。
若依據本發明,可提供一種附有黏著劑層的偏光板,其係即使施以耐熱試驗,亦難以產生翹曲以及氣泡的混入。
1‧‧‧偏光板
2‧‧‧偏光板
5‧‧‧偏光片
10‧‧‧第1保護膜
15‧‧‧第1接著劑層
20‧‧‧第2保護膜
25‧‧‧第2接著劑層
30‧‧‧黏著劑層
第1圖係表示本發明之偏光板的層構成的一例之示意剖面圖。
第2圖係表示本發明之偏光板的層構成的其他一例之示意剖面圖。
(1)偏光板的構成
本發明之偏光板係附有黏著劑層的偏光板,其係依序包括:第1保護膜、偏光片以及黏著劑層。於第1圖以及第2圖顯示本發明之偏光板的層構成之例。第1圖所示之偏光板1係包括:偏光片5;於偏光片5的一面上隔著第1接著劑層15而積層之第1保護膜10;於偏光片5的另一面上隔著第2接著劑層25而積層之第2保護膜20;於第2保護膜20的外面(與偏光片5相反側的面)積層之黏著劑層30。
第2保護膜20係設置於偏光片5與黏著劑層30之間之根據需要而設置之膜,且省略該膜之層構成的具體例係如第2圖所示。於第2圖所示之偏光板2中,黏著劑層30係直接積層於偏光片5之與第1保護膜10相反側的面。於偏光板1、2中,於黏著劑層30的外面可積層分離構件(separator)。
(2)偏光板的尺寸收縮特性
本發明之偏光板係於85℃加熱500小時後之吸收軸方向的尺寸收縮量為500μm以下,較佳為495μm以下。藉由尺寸收縮量為此範圍內,且黏著劑層30於80℃的損失彈性模數為未達0.06MPa作為前提,於施以耐熱試驗時可有效地抑制翹曲及氣泡混入。將尺寸收縮量設為上述範圍
內,係特別有利於氣泡混入的抑制。尺寸收縮量有愈小為較佳之傾向,惟亦可為例如10μm以上,或50μm以上。
尺寸收縮量係在將加熱前的偏光板的吸收軸方向之長度設為L0(μm),加熱後的偏光板的吸收軸方向之長度設為L1(μm)時,以下述式表示:尺寸收縮量(μm)=L0-L1上述吸收軸更具體而言為具有偏光板之偏光片5的吸收軸。尺寸收縮量係針對已將偏光板貼合於玻璃基板之試料進行測定,該具體的測定方法可根據後述實施例之項中所記載的方法進行。
由有效地抑制施以耐熱試驗時的翹曲及氣泡混入的觀點而言,本發明之偏光板,較佳為於85℃加熱500小時後之吸收軸方向的尺寸收縮率為小於0.48%,更佳為0.45%以下。尺寸收縮率係以下述式表示:尺寸收縮率(%)=100×(L0-L1)/L0尺寸收縮率可由上述的尺寸收縮量而得。尺寸收縮量一般為0.1%以上。
作為使吸收軸方向的尺寸收縮量及尺寸收縮率減小至上述的範圍的方法,可列舉例如:(a)藉由使偏光片5的厚度減小,而使偏光片5的吸收軸方向的收縮力減小之方法;(b)藉由調整偏光片5的製作條件(單軸延伸條件、硼酸處理條件、洗淨處理條件、乾燥處理條件或選自該等中的複數條件等),而使偏光片5的吸收軸方向的收縮力減小
之方法;(c)使貼合於偏光片5之第1保護膜10及/或第2保護膜20的彈性模數增大之方法等。關於(b)及(c)的詳細情形係於下述(3)及(4)項進行說明。
(3)偏光片
作為偏光片5者,係並無特別的限定,惟較佳為使用使二色性色素吸附配向於以聚乙烯醇系樹脂構成(較佳為包含聚乙烯醇系樹脂)之膜而製成之偏光膜。如此之偏光片5可藉由包括下述步驟的方法而進行製造:將聚乙烯醇系樹脂膜單軸延伸的步驟;藉由以二色性色素染色聚乙烯醇系樹脂,而使二色性色素吸附之步驟;以硼酸水溶液處理吸附有二色性色素之聚乙烯醇系樹脂膜之步驟;以及在藉由硼酸水溶液之處理後進行洗淨之步驟。
作為聚乙烯醇系樹脂者,可使用聚乙酸乙烯酯系樹脂經皂化者。作為聚乙酸乙烯酯系樹脂者,除了乙酸乙烯酯的同元聚合物之聚乙酸乙烯酯以外,還可舉例如乙酸乙烯酯與可共聚之其他單體的共聚物等。可與乙酸乙烯酯共聚的其他單體之例,包含不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類以及具有銨基的(甲基)丙烯醯胺類等。於本說明書中所謂「(甲基)丙烯酸」係意指選自丙烯酸以及甲基丙烯酸中至少一者。關於「(甲基)丙烯醯基」亦為相同的意義。
聚乙烯醇系樹脂的皂化度一般為85至100莫耳%左右,較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂可經
改質,例如可使用經醛類改質之聚乙烯醇縮甲醛及聚乙烯醇縮乙醛等。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度,一般為1000至10000左右,較佳為1500至5000左右。聚乙烯醇系樹脂的平均聚合度可根據JIS K 6726而求得。
將如此之聚乙烯醇系樹脂經製膜者,可作為偏光片5(偏光膜)的原料膜使用。將聚乙烯醇系樹脂製膜的方法並未特別限定,採用習知的方法。聚乙烯醇系原料膜的膜厚係例如10至150μm左右。
聚乙烯醇系樹脂膜的單軸延伸,可於二色性色素的染色前、與染色同時或染色之後進行。於染色之後進行單軸延伸時,該單軸延伸亦可於硼酸處理之前或硼酸處理中進行。又,亦可以該等的複數階段進行單軸延伸。為了使吸收軸方向的偏光片5(甚至偏光板)的尺寸收縮量及尺寸收縮率減小,較佳為將單軸延伸分別於硼酸處理之前與硼酸處理中進行。
單軸延伸時,可於圓周速率相異的滾輪間進行單軸延伸,亦可使用熱滾輪進行單軸延伸。又,單軸延伸可為於大氣中進行延伸的乾式延伸,亦可為使用溶劑而使聚乙烯醇系樹脂膜在膨潤的狀態下進行延伸之濕式延伸。延伸倍率,一般為3至8倍左右。
以二色性色素染色聚乙烯醇系樹脂膜的方法,係例如採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有二色性色素的水溶液之方法。作為二色性色素可採用碘或二色性有機染料。且,聚乙烯醇系樹脂膜較佳為於染色處理前,施
以對水的浸漬處理。
作為藉由碘的染色處理者,一般係採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有碘及碘化鉀的水溶液中的方法。於該水溶液中之碘的含量,相對於水每100重量份,可為0.01至1重量份左右。碘化鉀的含量,相對於水每100重量份,可為0.5至20重量份左右。又,該水溶液的溫度可為20至40℃左右。另一方面,作為藉由二色性有機染料的染色處理者,一般係採用將聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有二色性有機染料的水溶液之方法。含有二色性有機染料的水溶液可含有硫酸鈉等無機鹽作為染色助劑。於該水溶液中之二色性有機染料的含量,相對於水每100重量份,可為1×10-4至10重量份左右。該水溶液的溫度可為20至80℃左右。
藉由二色性色素之染色後的硼酸處理可藉由將經染色之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有硼酸的水溶液而進行。於含有硼酸的水溶液中之硼酸的量,相對於水每100重量份,可為0.1至15重量份左右,惟為了減小吸收軸方向的偏光片5(甚至偏光板)的尺寸收縮量及尺寸收縮率,較佳為將含有硼酸的水溶液中的硼酸濃度設定為較低,使偏光片5中的硼含有率減低。又,較佳為將該硼酸濃度的調整、與為了減小尺寸收縮量及尺寸收縮率而較佳地採用之上述的延伸態樣進行組合。含有硼酸的水溶液溫度可為50℃以上,例如50至85℃左右。
使用碘作為二色性色素時,該含有硼酸的水
溶液較佳為含有碘化鉀。於含有硼酸的水溶液中之碘化鉀的量,一般相對於水每100重量份,可為0.1至15重量份左右,惟為了減小尺寸收縮量及尺寸收縮率,較佳為將含有硼酸的水溶液中之碘化鉀濃度設定為較高,故碘化鉀的量相對於水每100重量份,較佳為5至12重量份左右。
硼酸處理後的聚乙烯醇系樹脂膜一般係藉由浸漬於水或碘化鉀水溶液中而進行洗淨處理。亦可組合由水進行之洗淨與由碘化鉀進行之洗淨。為了減小尺寸收縮量及尺寸收縮率,洗淨處理較佳為含有由碘化鉀進行的洗淨處理。於洗淨處理中之水或碘化鉀水溶液的溫度一般為5至40℃左右。浸漬時間一般為1至120秒左右。
於洗淨處理後施以乾燥處理而獲得偏光片5。乾燥處理可使用熱風乾燥機或遠紅外線加熱器、熱滾輪等而進行。乾燥處理的溫度一般為30至100℃左右,惟為了減小尺寸收縮量及尺寸收縮率,較佳為50至80℃。乾燥處理前之膜的水分率,由乾燥效率的觀點而言,較佳為25至55重量%。又,乾燥處理後之膜(偏光片5)的水分率一般為5至35重量%,惟由輸送性的觀點而言,較佳為6至33重量%。
偏光片5的厚度較佳為15μm以下,更佳為12μm以下。藉由使偏光片5的厚度成為15μm以下而可實現偏光板的薄膜化。又如上述,使偏光片5變薄亦有利於尺寸收縮量及尺寸收縮率的減低。偏光片5的厚度一般為5μm以上。
(4)第1及第2保護膜
第1保護膜10及第2保護膜20各自為具有透光性(較佳為光學上的透明)的熱可塑性樹脂,例如可為:鏈狀聚烯烴系樹脂(聚丙烯系樹脂等)、環狀聚烯烴系樹脂(降莰烯系樹脂等)等聚烯烴系樹脂;纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯等纖維素酯系樹脂;聚酯系樹脂;聚碳酸酯系樹脂;(甲基)丙烯酸系樹脂;聚苯乙烯系樹脂;或該等的混合物、共聚物等所構成的膜。偏光板含有第2保護膜20時,第1保護膜10與第2保護膜20係互相可為同種的保護膜,亦可為不同種的保護膜。
第1保護膜10及/或第2保護膜20亦可為相位差膜、亮度提升膜等兼具光學功能之保護膜。例如,藉由將由上述熱可塑性樹脂所構成的膜延伸(單軸延伸或二軸延伸等),或於該膜上形成液晶層等,而可成為已賦予任意相位差值的相位差膜。
作為鏈狀聚烯烴系樹脂者,除了聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂等鏈狀烯烴的同元聚合物之外,亦可列舉由2種以上的鏈狀烯烴所構成的共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂係以環狀烯烴作為聚合單元所聚合之樹脂的總稱。列舉環狀聚烯烴系樹脂的具體例:環狀烯烴的開環(共)聚合物、環狀烯烴的加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等鏈狀烯烴的共聚物(代表為無規共聚物)以及以不飽和羧酸、或其衍生物使該等改質之接枝共聚物,以及該等的氫化物等。其中,作為環狀烯烴較佳為
使用降莰烯或使用多環降莰烯系單體等降莰烯系單體的降莰烯系樹脂。
纖維素酯系樹脂係纖維素與脂肪酸的酯。纖維素酯系樹脂的具體例係包括纖維素三乙酸酯(TAC)、纖維素二乙酸酯。又,亦可使用該等之共聚物、羥基的一部分被其他取代基修飾者。該等之中,特別佳為TAC。
聚酯系樹脂係具有酯鍵之上述纖維素酯系樹脂以外的樹脂,一般為多元羧酸或其衍生物與多元醇的聚縮合物所構成者。作為多元羧酸或其衍生物者可使用二羧酸或其衍生物,可列舉例如:對酞酸、異酞酸、對酞酸二甲酯、萘二甲酸二甲酯等。作為多元醇者可使用二醇,可列舉例如:乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、環己烷二甲醇等。
聚酯系樹脂的具體例係包括:聚對酞酸乙二酯,聚對酞酸丁二酯,聚萘二甲酸乙二酯,聚萘二甲酸丁二酯,聚對酞酸丙二酯,聚萘二甲酸丙二酯,聚對酞酸環己二甲酯,聚萘二甲酸環己二甲酯。
聚碳酸酯系樹脂係包含經碳酸酯基而鍵結有單體單元的聚合物。聚碳酸酯系樹脂亦可為已修飾聚合物骨架的被稱為改質聚碳酸酯的樹脂,或共聚碳酸酯等。
(甲基)丙烯酸系樹脂係以具有(甲基)丙烯醯基的化合物作為主要構成單體的樹脂。(甲基)丙烯酸系樹脂的具體例係包括例如:聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯;甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物;甲基丙烯
酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物;甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物;(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等);甲基丙烯酸甲酯與具有脂環族烴基之化合物的共聚物(例如,甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。較佳為使用以聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷基酯作為主成分的聚合物,更佳為使用以甲基丙烯酸甲酯作為主成分(50至100重量%,較佳為70至100重量%)的甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
於第1保護膜10的與偏光片5相反側的表面可設置硬塗層、防眩層、抗反射層、抗靜電層、防污層等表面處理層(塗層)及其他的光學層或光學膜。
第1保護膜10及第2保護膜20的厚度,由偏光板的薄型化之觀點而言,較佳為90μm以下,更佳為50μm以下,又更佳為40μm以下。該厚度,由強度及處理性的觀點而言,一般為5μm以上。
如上述,藉由使第1保護膜10及/或第2保護膜20的拉伸彈性模數增大,而可減小於吸收軸方向的偏光板之尺寸收縮量及尺寸收縮率。由所述之觀點而言,第1保護膜10及第2保護膜20於85℃的拉伸彈性模數,較佳為1000至6000MPa,更佳為1500至5500MPa,又更佳為2000至5000MPa。
保護膜的拉伸彈性模數係如後所述之方式而進行測定。將保護膜以1.5cm寬×15cm長度裁切而獲得試
驗片。接著,使用拉伸試驗機[例如,島津製作所股份有限公司製的AUTOGRAPH AG-1S試驗機]的上下鉗夾,且以使鉗夾間隔成為10cm之方式,夾住上述試驗片的長邊方向之兩端,於85℃的環境下,以拉伸速度50mm/分鐘進行拉伸,從所得的應力-應變曲線之初期直線的斜率,計算出於85℃的拉伸彈性模數。
(5)第1及第2接著劑層
作為形成第1接著劑層15及第2接著劑層25的接著劑者,可使用水系接著劑或活性能量線硬化性接著劑。於偏光板含有第2保護膜20時,形成第1接著劑層15的接著劑與形成第2接著劑層25的接著劑可為同種亦可為不同種。
作為水系接著劑者,可列舉包含聚乙烯醇系樹脂水溶液的接著劑、水系二液型胺基甲酸酯系乳液接著劑等。其中較佳為使用包含聚乙烯醇系樹脂水溶液的水系接著劑。
作為聚乙烯醇系樹脂者,係除了將屬於乙酸乙烯酯的同元聚合物之聚乙酸乙烯酯經皂化處理而得的乙烯醇均聚物之外,亦可使用:將乙酸乙烯酯和可與其共聚合之其他單體的共聚物經皂化處理而得的聚乙烯醇系共聚物、或將該等的羥基經部份改質的改質聚乙烯醇系聚合物等。水系接著劑,可含有多元醛、水溶性環氧化合物、三聚氰胺系化合物、氧化鋯化合物、鋅化合物等添加劑。
使用水系接著劑時,較佳為於貼合偏光片5
與保護膜後,為了除去水系接著劑中所含有的水而施以使其乾燥之乾燥步驟。乾燥步驟後,可設置例如以20至45℃左右的溫度進行熟化的熟化步驟。
所謂上述活性能量線硬化性接著劑係指藉由照射紫外線等活性能量線而硬化之接著劑,可列舉例如:含有聚合性化合物及光聚合起始劑者、含有光反應性樹脂者、含有黏結劑樹脂及光反應性交聯劑者等。作為聚合性化合物者,可列舉例如:光硬化性環氧系單體、光硬化性(甲基)丙烯酸系單體、光硬化性胺基甲酸酯系單體等光聚合性單體、或來自光聚合性單體的寡聚物。作為光聚合起始劑者,可列舉例如:含有藉由紫外線等活性能量線之照射而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基等活性種的物質者。作為含有聚合性化合物及光聚合起始劑的活性能量線硬化性接著劑,較佳可使用含有光硬化性環氧系單體及光陽離子聚合起始劑者。
使用活性能量線硬化性接著劑時,貼合偏光片5與保護膜後,根據需要進行乾燥步驟,接著進行藉由照射活性能量線而使活性能量線硬化性接著劑硬化的硬化步驟。活性能量線的光源並無特別地限定,惟較佳為具有波長400nm以下的發光分布之紫外線,可使用例如:低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵化物燈等。
(6)黏著劑層
黏著劑層30可積層於第2保護膜20的外面或偏光片
5的外面上,一般為直接積層於第2保護膜20的外面(第1圖之例),或直接積層於偏光片5的外面(第2圖之例)。黏著劑層30可為了貼合偏光板於顯示裝置的圖像顯示元件(液晶顯示裝置中的液晶單元等)或其他的光學構件而採用。
黏著劑層30可由以(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、酯系、聚矽氧系、聚乙烯醚系等樹脂作為主成分的黏著劑組成物而構成。其中,較佳為透明性、耐候性、耐熱性等優異的以(甲基)丙烯酸系樹脂作為底聚物(base polymer)的黏著劑組成物。
作為上述(甲基)丙烯酸系底聚物者,較佳為使用例如(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯系底聚物,或使用2種以上該等的(甲基)丙烯酸酯的共聚合系底聚物。底聚物較佳為使其與極性單體共聚合。作為極性單體者,可列舉例如:(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺乙酯,(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等,具有羧基、羥基、醯胺基、胺基、環氧基等的單體。
黏著劑組成物一般係進一步含有交聯劑。作為交聯劑者,可例示:為2價以上的金屬離子且與羧基之間形成羧酸金屬鹽者;為聚胺化合物且與羧基之間形成醯胺鍵者;為聚環氧化合物或多元醇且與羧基之間形成酯鍵者;為聚異氰酸酯化合物且與羧基之間形成醯胺鍵者。其
中,較佳為聚異氰酸酯化合物。
黏著劑組成物可包括:單體成分或寡聚物成分等比底聚物更低分子量的化合物;用以賦予光散射性的微粒子;珠粒;底聚物以外的樹脂;黏著性賦予劑;填充劑;抗氧化劑;紫外線吸收劑;顏料;著色劑等添加劑。
黏著劑層30可藉由例如將上述黏著劑組成物的有機溶劑稀釋液塗佈於基材上,並使其乾燥而形成。基材可為第2保護膜20、偏光片5、分離構件等。
黏著劑層30係於80℃顯示未達0.06MPa的損失彈性模數者。藉由損失彈性模數於此範圍內,且偏光板的尺寸收縮量為500μm以下作為前提,而可有效地抑制於施以耐熱試驗時的翹曲及氣泡混入。使損失彈性模數成為上述範圍內係特別有利於偏光板之翹曲的抑制。損失彈性模數,由翹曲抑制的觀點而言有愈小愈佳的傾向,較佳為0.055MPa以下。損失彈性模數的下限可為例如0.01MPa或0.03MPa。損失彈性模數的測定方法可依照後述之實施例之項中記載的方法進行。
用以調整損失彈性模數為上述範圍內的方法,可列舉:於底聚物中增加降低其玻璃轉移溫度之單體的含量的方法;或者添加上述低分子量的化合物至黏著劑組成物中,或增加低分子量的化合物之添加量的方法。
黏著劑層30的厚度可為1至40μm,惟由確保良好的黏著性的觀點而言,較佳為10μm以上,更佳為15μm以上。又,由偏光板的薄膜化的觀點而言,黏著劑
層30的厚度較佳為25μm以下。
於偏光板中的黏著劑層30的外面可積層分離構件。分離構件係用以保護黏著劑層30之表面直到將黏著劑層30貼合至其他構件為止而暫時黏貼之膜,可使用例如已對包含聚對酞酸乙二酯等透明樹脂的膜施以聚矽氧系等脫模劑處理者。
(7)偏光板的製造方法
藉由根據常法於上述偏光片5(偏光膜)的一面上隔著第1接著劑層15而貼合第1保護膜10,並於另一面貼合黏著劑層,而可獲得於單面貼合有保護膜的附有黏著劑層的偏光板2(參照第2圖)。另一方面,藉由一邊於偏光片5的一面隔著第1接著劑層15而貼合第1保護膜10,一邊於另一面隔著第2接著劑層25而貼合第2保護膜20,而獲得於偏光片5的兩面貼合有保護膜的偏光板後,藉由於第2保護膜20的外面積層黏著劑層30,而可獲得於兩面貼合有保護膜之附有黏著劑層的偏光板1(參照第1圖)。第1保護膜10及第2保護膜20的貼合可同時,亦可逐次。
貼合黏著劑層30之前的保護膜已貼合於偏光片5的單面或雙面之偏光板,係不限於在由單個(單獨)膜所構成之偏光片5上貼合保護膜的方法,亦可利用用以支撐製作步驟中的聚乙烯醇系樹脂層及偏光片的基材膜而進行製作。該方法係例如揭示於日本特開2012-103466號公報等。此時,保護膜已貼合於偏光片5的單面的偏光板係可藉由例如含有按下述步驟順序之方法而製造:
藉由於基材膜的至少一面塗佈含有聚乙烯醇系樹脂的塗佈液後,使其乾燥而形成聚乙烯醇系樹脂層,進而獲得積層膜的樹脂層形成步驟;將積層膜單軸延伸而獲得延伸膜的延伸步驟;藉由將延伸膜的聚乙烯醇系樹脂層以二色性色素染色而形成偏光片5,進而獲得偏光性積層膜的染色步驟;於偏光性積層膜的偏光片5上貼合第1保護膜10而獲得貼合膜的第1貼合步驟;自貼合膜剝離除去基材膜,而獲得保護膜已貼合於偏光片5的單面之偏光板的剝離步驟。
製作保護膜已貼合於偏光片5的兩面的偏光板時,於剝離步驟後,更包括在保護膜已貼合於偏光片5的單面之偏光板的偏光片5側的面上貼合第2保護膜20的第2貼合步驟。
以下,列舉實施例及比較例並進一步具體地說明本發明,惟本發明並不限定於該等例。以下例中,偏光片及保護膜的厚度係使用Nikon股份有限公司製的Digital micrometer「MH-15M」進行測定。
(製造例1:偏光片1的製作)
將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%之厚度30μm的聚乙烯醇膜[kuraray股份有限公司製的「VF-PE#3000」]浸漬於37℃的純水後,以30℃浸漬於碘/碘化鉀/水的重量比為0.04/1.5/100的水溶液中進行染色處理。之後,以56.5
℃浸漬於碘化鉀/硼酸/水的重量比為12/3.6/100的水溶液中進行硼酸處理。接著,以10℃的純水洗淨後,於85℃進行乾燥處理,而製作於單軸延伸聚乙烯醇膜吸附配向有碘的厚度約12μm的偏光片1。單軸延伸主要係在碘染色及硼酸處理步驟進行。以聚乙烯醇膜作為基準的延伸倍率係4.8倍。
(製造例2:偏光片2的製作)
除了使用平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%之厚度60μm的聚乙烯醇膜[kuraray股份有限公司製的「VF-PE6000」]及將以聚乙烯醇膜作為基準的延伸倍率設為5.3倍以外其他係與製造例1同樣地進行,製作於單軸延伸聚乙烯醇膜吸附配向有碘的厚度約23μm的偏光片2。
<實施例1>
(1)接著劑的調製
相對於水100重量份,溶解羧基改質聚乙烯醇[kuraray股份有限公司製的「KL-318」]3重量份而調製出聚乙烯醇水溶液。於所得之水溶液中將水溶性聚醯胺環氧樹脂[田岡化學工業股份有限公司製的「Sumirez Resin 650(30)」,固形份濃度30重量%]以相對於水100重量份,為1.5重量份的比例進行混合,而獲得水系接著劑。
(2)對於偏光片的保護膜之貼合
作為於偏光片貼合之保護膜,準備以下的保護膜:第1保護膜:附有硬塗層的纖維素三乙酸酯(TAC)膜[凸版印刷股份有限公司製的「25KCHCN-TC」,厚度32μ
m],第2保護膜:環狀聚烯烴系樹脂膜[日本ZEON股份有限公司製的「ZF14」,厚度23μm]。
將貼合面已經施以皂化處理的第1保護膜隔著上述調製之水系接著劑而貼合於以製造例1所製作的偏光片1的單面,並於另一面隔著相同水系接著劑貼合第2保護膜,藉由通過一對貼合滾輪間而進行壓接。接著,以80℃的烘箱乾燥5分鐘,而獲得於兩面積層有保護膜的偏光板。
(3)黏著劑層的形成
將於丙烯酸丁酯與丙烯酸的共聚物中調配有胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物並進一步添加有異氰酸酯系交聯劑與作為抗靜電劑的離子性化合物的有機溶劑溶液黏著劑a,塗佈至上述製作之偏光板的第2保護膜的外面,製作附有黏著劑層A的偏光板。黏著劑層A的厚度係20μm。於黏著劑層A之上積層分離構件(已施以脫模處理的厚度38μm之聚對酞酸乙二酯膜)。之後,使該偏光板熟化7日。
<實施例2>
與實施例1同樣地進行,而獲得於兩面積層有保護膜之偏光板。將於丙烯酸丁酯與丙烯酸的共聚物中添加有異氰酸酯系交聯劑與作為抗靜電劑的離子性化合物的有機溶劑溶液黏著劑c,塗佈至上述製作之偏光板的第2保護膜的外面,製作附有黏著劑層C的偏光板。黏著劑層C的厚度係20μm。於黏著劑層C之上積層分離構件(已施以脫模
處理的厚度38μm之聚對酞酸乙二酯膜)。之後,使該偏光板熟化7日。
<比較例1>
除了使用以製造例2所製作的偏光片2取代偏光片1,並使用附有硬塗層的TAC膜[凸版印刷股份有限公司製的「40CHC」,厚度44μm]作為第1保護膜之外,其他係與實施例1同樣地進行,製作附有黏著劑層A的偏光板。
<比較例2>
除了使用偏光片2取代偏光片1以外其他係與實施例1同樣地進行,而獲得於兩面積層有保護膜的偏光板。將於丙烯酸丁酯與丙烯酸的共聚物中調配有胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物並進一步添加有異氰酸酯系交聯劑的有機溶劑溶液黏著劑b,塗佈至上述製作之偏光板的第2保護膜的外面,而製作附有黏著劑層B的偏光板。黏著劑層B的厚度係20μm。於黏著劑層B之上積層分離構件(已施以脫模處理的厚度38μm之聚對酞酸乙二酯膜)。之後,使該偏光板熟化7日。
[黏著劑層的損失彈性模數及偏光板的尺寸收縮特性之測定]
(1)黏著劑層的損失彈性模數G’’
針對重疊黏著劑層而成為厚度100μm的試料,使用Anton Paar股份有限公司製的動態黏彈性裝置「MCR301」,在溫度80℃、頻率1Hz、初期應變1N的條件下進行測定。治具係使用平行板。
(2)偏光板的尺寸收縮特性
於85℃加熱500小時後之吸收軸方向的尺寸收縮量以如下述之方式進行測定。自所得之附有黏著劑層的偏光板裁切出試驗片。試驗片的形狀係設為長邊與延伸方向(偏光片的吸收軸方向)平行的長邊200mm×短邊150mm。自試驗片將分離構件剝離,隔著其黏著劑層貼合於玻璃基板。將此貼合有試驗片的玻璃基板於85℃乾燥環境下加熱500小時。由加熱前偏光板之吸收軸方向(長邊方向)的長度L0(=200mm),加熱後偏光板之吸收軸方向的長度L1,根據下述式求取尺寸收縮量:尺寸收縮量(μm)=L0-L1結果如表1所示。L0及L1係將貼合有試驗片的玻璃基板以偏光板向上之方式放置於台上,使用Nikon股份有限公司製的二維測定器「NEXIV VMR-12072」進行測定。
又,根據下述式求取尺寸收縮率:尺寸收縮率(%)=100×(L0-L1)/L0結果一併顯示於表1。
[評價試驗]
(1)偏光板的翹曲之評價
將於85℃加熱500小時後之偏光板的翹曲量以如下述之方式進行測定。自所得之附有黏著劑層的偏光板將分離構件剝離,隔著其黏著劑層貼合於玻璃基板。於85℃乾燥環境下加熱500小時後,以偏光板向上之方式放置於台上,藉由尺測定翹曲最大的部份之距離台面的高度,將該
高度作為翹曲量。翹曲量未達0.5mm時記為A(翹曲量小),0.5mm以上時記為B(翹曲量大)。結果如表1所示。
(2)氣泡產生之評價
自所得之附有黏著劑層的偏光板裁切出試驗片。試驗片的形狀係成為長邊與延伸方向(偏光片的吸收軸方向)平行的長邊200mm×短邊150mm。自試驗片將分離構件剝離,隔著其黏著劑層貼合於玻璃基板。將此貼合有試驗片的玻璃基板於85℃乾燥環境下加熱500小時。自玻璃基板側以放大鏡觀察玻璃基板與黏著劑層的界面中是否有混入氣泡之情形。未發現氣泡時記為A,發現氣泡時記為B。結果如表1所示。
Claims (6)
- 一種偏光板,其係依序包括:第1保護膜、以聚乙烯醇系樹脂構成之偏光片、以及由以(甲基)丙烯酸系、橡膠系、胺基甲酸酯系、酯系、聚矽氧系或聚乙烯醚系樹脂作為主成分的黏著劑組成物所構成之黏著劑層,其中,前述黏著劑層於80℃之損失彈性模數為0.03MPa以上且未達0.06MPa,製作成長邊與偏光片的吸收軸方向平行的長邊200mm×短邊150mm之試驗片並隔著前述黏著劑層貼合於玻璃基板,在露出前述第1保護膜側之狀態下,於85℃加熱500小時後之吸收軸方向的尺寸收縮量為500μm以下。
- 如申請專利範圍第1項所述之偏光板,其係於前述第1保護膜的與偏光片相反側的表面具備硬塗層、防眩層、抗反射層、抗靜電層或防污層。
- 如申請專利範圍第1項所述之偏光板,其中,於85℃加熱500小時後之吸收軸方向的尺寸收縮率為小於0.48%。
- 如申請專利範圍第1項所述之偏光板,其更包括配置於前述偏光片與前述黏著劑層之間的第2保護膜。
- 如申請專利範圍第1項所述之偏光板,其中,前述黏著劑層係直接積層於前述偏光片之與前述第1保護膜相反側的面。
- 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述之偏光板,其中,前述黏著劑層之厚度為25μm以下。
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