TWI634169B - 表面處理方法 - Google Patents

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Abstract

本發明的課題是提供一種有用於在由各種材料所成的基材上形成除了具有預定的功能之外還具有優良的磨擦耐久性之功能性膜的處理方法。
上述課題的解決手段是一種在基材上形成功能性膜之方法，該方法包括：在基材上施用基體形成組成物，而形成基體形成組成物膜；藉由在液狀的上述基體形成組成物膜上，施用含有包含功能性賦予基的聚合性化合物之組成物，使基體形成組成物膜含有包含功能性賦予基的聚合性化合物；使所得到的含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的基體形成組成物膜硬化，而形成單層的功能性膜。

Description

表面處理方法
本發明係關於表面處理方法。
以往，為了賦予基材各式各樣的功能，而進行基材的表面處理。例如，在將某種含氟化合物使用在基材的表面處理時，已知可提供優良的撥水性、撥油性、防污性等，由含有包含氟化合物之表面處理劑所得到的層，係作為所謂的功能性薄膜而例如施作於玻璃、塑膠、纖維、建築物資材料等各式各樣的基材。
尤其，近年來，由於丙烯酸樹脂、聚碳酸酯等透明塑膠係質輕、不易破裂且容易加工，而將之擴大利用作為取代無機玻璃之材料。使用如此之樹脂材料的基材，由於一般而言係容易刮傷，故為了賦予耐擦傷性以及耐摩耗性而設置硬塗層。而且，在該硬塗層表面，係例如進行用以賦予如上述之撥水性、撥油性、防污性等功能之處理。
例如，在專利文獻1中揭示一種在基材上塗佈硬塗組成物，乾燥而形成硬塗組成物層，並在此硬塗組成物層上使表面處理用材料成膜而形成表面材料層，其 次，對此等層照射活性能量射線，使此等層同時硬化的方法。
而且，在專利文獻2中揭示一種將含有碳-碳雙鍵之組成物添加到硬塗劑中，而施用於基材的方法，前述含有碳-碳雙鍵之組成物係由(A)將二異氰酸酯三聚物化的三異氰酸酯及(B)由至少2種含有活性氫之化合物組合而成者，前述成分(B)係包含(B-1)至少具有1個的活性氫的全氟聚醚及(B-2)具有活性氫與碳-碳雙鍵之單體所成的組成物硬塗劑。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2003-260761號公報
[專利文獻2]國際公開第2003/002628號公報
近年來，智慧型手機、平板型終端正急速普及中，觸控板的用途正在擴大。就觸控板的用途而言，由於使用者是以指觸碰顯示面板而進行操作，故要求對於磨擦之耐久性。
然而，尤其是在使硬塗劑中表現功能時，以往的處理方法並不一定能滿足逐漸提高的上述要求，特別是不一定能滿足對於磨擦耐久性之要求。
本發明之目的在於提供一種處理方法，其 係有用於在由各種材料所作成的基材形成除了具有預定的功能還具有優良的磨擦耐久性之功能性膜。
本發明人等經過精心研究，結果發現藉由在基材上施用基體形成組成物(例如，硬塗劑)而形成組成物的膜，並在此膜為液狀時施用含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物，可以形成具有高磨擦耐久性之功能性膜，遂而完成本發明。
亦即，依據本發明的第1要旨，可以提供一種在基材上形成功能性膜之方法，該方法包括：在基材上施用基體形成組成物，而形成基體形成組成物膜；藉由在上述基體形成組成物膜上，施用含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物，使基體形成組成物膜含有包含功能性賦予基之聚合性化合物；使所得到的含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的基體形成組成物膜硬化，形成單層的功能性膜之方法。
依據本發明第2要旨，可提供一種功能性膜，其係藉由上述的本發明之功能膜之形成方法所形成者。
依據本發明第3要旨，可以提供一種物品，其係含有基材、與位在該基材上之上述本發明的功能性膜。
依據本發明，藉由在基材上施用基體形成組成物而形成基體形成組成物的膜，並於此膜乾燥之前將 含有功能性賦予基之聚合性化合物添加到上述膜中，之後使其硬化，可以形成磨擦耐久性優良的功能性膜。
以下，說明本發明的方法。
首先，準備基材。
本發明中可使用的基材並無特別限定，可以是有機材料、無機材料、或此等之混合材料的任一種。
例如，在本發明可使用的基材，可以是由玻璃、藍寶石玻璃(sapphire glass)、樹脂(天然或合成樹脂，例如一般的塑膠材料)，金屬(可以是鋁、銅、鐵等金屬單體或合金等複合體)、陶瓷、半導體(矽、鍺等)、纖維(織物、不織布等)、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材、建築構件等任意的適當材料所構成。
較佳係本發明所使用的基材為有機材料的基材，較佳為樹脂基材。作為構成樹脂基材之樹脂並無特別限定，惟可列舉例如：聚碳酸酯樹脂、聚(甲基)丙烯酸酯樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂、三乙醯纖維素樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、聚醯亞胺樹脂、酚醛清漆樹脂、酚樹脂、聚胺酯樹脂、氟樹脂、偏二氯乙烯樹脂等。
作為其他的有機材料，可以列舉：纖維素酯(例如，三乙醯纖維素、二乙醯纖維素、丙醯纖維素、丁醯纖維素、乙醯丙醯纖維素、硝基纖維素)、聚醯胺、聚苯 乙烯(例如，間規聚苯乙烯)、聚烯烴(例如，聚丙烯、聚乙烯、聚甲基戊烯)、聚碸、聚醚碸、聚芳酯、聚醚醯亞胺以及聚醚酮等。
欲製造的物品是光學構件時，構成基材的表面之材料是光學構件用材料，例如可以是透明塑膠等。而且，基材，亦可對應其具體規格等而具有絶緣層、黏著層、保護層、裝飾框架層(I-CON)、霧化膜層、偏光膜、相位差膜，以及液晶顯示模組等。在本發明中，係將該等層、膜統括稱為基材。
基材的形狀並無特別限定，例如可以是板狀、薄膜、其他的形態。而且，欲形成功能性膜的基材之表面區域，只要是基材表面的至少一部分即可，可以對應欲製造的物品之用途以及具體規格等而適當的決定。
其次，在所述基材的表面施用基體形成組成物，形成該基體形成組成物的膜。
上述基體形成組成物只要是含有聚合性化合物者即可，並無特別限定。作為聚合性化合物，只要至少具有1個聚合性不飽和鍵即無特別限定，可列舉例如具有碳-碳雙鍵之基；例如具有丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙烯基、烯丙基、丙烯基、異丙烯基、乙烯基醚基等，或馬來醯亞胺基、或環氧基等之化合物。
較佳者係聚合性化合物是丙烯酸系材料，例如是單官能及/或多官能丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯(以下也將丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯合稱為「(甲基)丙烯酸 酯」)、單官能及/或多官能胺酯(甲基)丙烯酸酯、單官能及/或多官能環氧(甲基)丙烯酸酯之化合物。
丙烯酸系材料可以使用例如：如多元醇的丙烯酸或甲基丙烯酸酯的單官能或多官能的(甲基)丙烯酸酯化合物；由二異氰酸酯與多元醇及丙烯酸或甲基丙烯酸的羥基酯等所合成之多官能的胺酯(甲基)丙烯酸酯化合物。而且在此等之外，可以使用具有丙烯酸酯系的官能基之聚醚樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫醇多烯樹脂等作為聚合性化合物。
作為單官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，可列舉例如：2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羥基丁基(甲基)丙烯酸酯、正-丁基(甲基)丙烯酸酯、異丁基(甲基)丙烯酸酯、第三-丁基(甲基)丙烯酸酯、縮水甘油(甲基)丙烯酸酯、丙烯醯基嗎啉、N-乙烯基吡咯啶酮、四氫糠基丙烯酸酯、環己基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己基(甲基)丙烯酸酯、異冰片基(甲基)丙烯酸酯、異癸基(甲基)丙烯酸酯、月桂基(甲基)丙烯酸酯、十三基(甲基)丙烯酸酯、鯨蠟基(甲基)丙烯酸酯、硬脂基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯、2-乙氧基乙基(甲基)丙烯酸酯、3-甲氧基丁基(甲基)丙烯酸酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、磷酸(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質磷酸(甲基)丙烯酸酯、苯氧基(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質苯氧基(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改質苯氧基(甲基)丙烯酸酯、壬基酚(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質壬基酚(甲基)丙烯酸酯、環氧丙 烷改質壬基酚(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基丙二醇(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-2-羥基丙基鄰苯二甲酸酯、2-羥基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基氫鄰苯二甲酸酯、2-(甲基)丙烯醯基氧丙基氫鄰苯二甲酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧基丙基六氫氫鄰苯二甲酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧基丙基四氫氫鄰苯二甲酸酯、二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、四氟丙基(甲基)丙烯酸酯、六氟丙基(甲基)丙烯酸酯、八氟丙基(甲基)丙烯酸酯、八氟丙基(甲基)丙烯酸酯2-金剛烷及由金剛烷二醇所衍生的具有1價單(甲基)丙烯酸酯之金剛烷基丙烯酸酯等金剛烷衍生物單(甲基)丙烯酸酯等。
作為前述2官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，可列舉例如：乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化己二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等二(甲基)丙烯酸酯等。
作為前述3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合 物，可列舉例如：三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、丙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、參2-羥基乙基三聚異氫酸酯三(甲基)丙烯酸酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯等三(甲基)丙烯酸酯，新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)三(甲基)丙烯酸酯等3官能(甲基)丙烯酸酯化合物和新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二(三羥甲基丙烷)六(甲基)丙烯酸酯等3官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物，和將此等(甲基)丙烯酸酯的一部分以烷基、ε-己內酯取代之多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等。
丙烯酸系材料可為多官能胺酯丙烯酸酯。胺酯丙烯酸酯可藉由使多元醇、多元異氰酸酯及含有羥基的丙烯酸酯反應而得到。具體而言，可以列舉：共榮社化學公司製的UA-306H、UA-306T、UA-306I等；荒川化學工業製的Beamset 575CB等；日本合成化學公司製的UV-1700B、UV-6300B、UV-7600B、UV-7605B、UV-7640B、UV-7650B等；新中村化學公司製的U-4HA、U-6HA、UA-100H、U-6 LPA、U-15HA等，但並不侷限於此。
而且，該等之外，作為聚合性化合物可以使用：具有丙烯酸酯系的官能基之聚醚樹脂、聚酯樹脂、環氧樹脂、醇酸樹脂、螺縮醛樹脂、聚丁二烯樹脂、聚硫 醇多烯樹脂等。
上述基體形成組成物並無特別限定，惟一般而言可以使用能作為硬塗劑或抗反射劑之組成物，例如可以列舉：含有多官能性(甲基)丙烯酸酯的硬塗劑或含有含氟(甲基)丙烯酸酯的抗反射劑。該硬塗劑係例如作成Beamset502H、504H、505A-6、550B、575CB、577、1402(商品名)而由荒川化學工業股份有限公司販售；作為EBECRYL40(商品名)而由Daicel-cytec販售；作為HR 300系列(商品名)而由橫濱橡膠所販售者。上述抗反射劑，係例如作為OPTOOL AR-110(商品名)而由Daikin工業股份有限公司販售。
上述基體形成組成物可以含有溶媒，也可以不含溶媒。在一態樣中，基體形成組成物係不含溶媒。在另一態樣中，基體形成組成物含有溶媒。
上述溶媒並無特別限定，可視所使用的基體形成組成物中的聚合性化合物而適當選擇。例如，溶媒的例子並無特別限定，惟可列舉：己烷、戊烷、辛烷等烴系溶劑；二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、二氯乙烷等氯化烴系溶劑；二乙基醚、二甲氧基乙烷、二甘醇二甲醚(diglyme)、三甘醇二甲醚等醚系溶劑；二乙基草酸酯、乙基丙酮酸酯、乙基-2-羥基丁酸酯、乙基乙醯基乙酸酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、2-羥基異丁酸甲酯、2-羥基異丁酸乙酯等酯系溶劑； 丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚、丙二醇單丁基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸酯、丙二醇單丁基醚乙酸酯、二丙二醇二甲基醚等丙二醇系溶劑；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、2-己酮、環己酮、甲基胺基酮、2-庚酮等酮系溶劑；甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、丁醇、二丙酮醇等醇系溶劑；苯、甲苯、二甲苯、硝基苯等芳香族烴類；氟氯烴(ASAHIKLIN AK-225(商品名)等)、甲基賽璐蘇、乙基賽璐蘇、甲基賽璐蘇乙酸酯、乙基賽璐蘇乙酸酯等賽璐蘇系溶劑等。此等溶媒，可以單獨或作成2種以上的混合物使用。
上述基體形成組成物之有效成分(亦即，聚合性化合物)的濃度並無特別限定，惟例如可以是10至90質量%，較佳係30至80質量%。
上述基體形成組成物，也可以進一步含有其他的成分，例如活性能量射線硬化起始劑。
活性能量射線硬化起始劑，係例如做為藉由350nm以下的波長區域的電磁波，換言之，藉由照射紫外線、電子射線、X射線、γ射線等而開始產生自由基、陽離子等，使組成物中的化合物之硬化性部位(例如，碳-碳雙鍵)開始硬化(亦即，交聯反應)的觸媒而作用者。通常係使用藉由紫外線產生自由基、陽離子者，特別是產生自由基者。
上述組成物之活性能量射線硬化起始劑，係依聚合性化合物的種類、使用的活性能量射線之種類(波 長區域等)與照射強度等而適當選擇，惟於使用一般的紫外線區域之活性能量射時，係例如可例示下述者作為起始劑。
‧苯乙酮系
苯乙酮、氯苯乙酮、二乙氧基苯乙酮、羥基苯乙酮、α-胺基苯乙酮、羥基苯丙酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基丙烷-1-酮等。
‧安息香系
安息香、安息香甲基醚、安息香乙基醚、安息香異丙基醚、安息香異丁基醚、苄基二甲基縮酮等。
‧二苯甲酮系
二苯甲酮、苯甲醯基安息香酸、苯甲醯基安息香酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、羥基二苯甲酮、羥基-丙基二苯甲酮、丙烯酸化二苯甲酮、米其勒酮等
‧氧硫雜蒽酮類(thioxanthone類)
氧硫雜蒽酮、氯氧硫雜蒽酮、甲基氧硫雜蒽酮、二乙基氧硫雜蒽酮、二甲基氧硫雜蒽酮等。
‧其他
二苯基乙二酮(benzil)、α-醯基肟酯、醯基氧化膦、乙醛酸酯、3-酮基香豆素(3-ketocoumarin)、2-乙基蒽醌、樟腦醌、蒽醌等。
該等活性能量射線硬化起始劑，可以單獨使用1種，也可以組合2種以上而使用。
上述活性能量射線硬化起始劑並無特別限定，惟相對於聚合性化合物100質量份，係含有0.01至30 質量份，較佳係含有0.1至20質量份。
上述基體形成組成物，除了上述之外，也可以含有其他的成分，例如抗氧化劑、增黏劑、調平劑、消泡劑、抗靜電劑、防霧劑、紫外線吸收劑、顏料、染料、氧化矽、中空氧化矽等無機微粒子、鋁膏、滑石、玻璃料(glass frit)、金屬粉等填充劑、二丁基羥基甲苯(butylated hydroxytoluene，BHT)、啡噻(PTZ)等聚合抑制劑等。
在一態樣中，上述基體形成組成物也可以含有下述包含功能性賦予基之聚合性化合物。在施用基材之前，藉由使基體形成組成物含有包含功能性賦予基之聚合性化合物，可以使包含功能性賦予基之聚合性化合物分散於基體形成組成物膜的整體中，可以更為增強所得到的功能性膜之功能，且可提高磨擦耐久性。
在基材中施用上述基體形成組成物之方法並無特別限定，例如可以使用：浸漬塗佈、旋轉塗佈、流動塗佈、噴霧塗佈、狹縫塗佈、輥塗佈、凹版塗佈、微凹版塗佈、棒塗佈、模具塗佈、網版印刷及類似的方法。
上述基體形成組成物施用於基材之量並無特別限定，可視所期望的功能性膜之厚度而適當調節。
其次，藉由在上述所形成的基體形成組成物膜上施用含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物，使基體形成組成物膜含有包含功能性賦予基之聚合性化合物。
藉由在液狀的基體形成組成物膜施用含有 包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物，包含功能性賦予基之聚合性化合物係可自基體形成組成物膜的表面向內部擴散、或可以溶解在基體形成組成物膜中。藉由包含功能性賦予基之聚合性化合物擴散或溶解在基體形成組成物膜中，基體形成組成物膜與含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物係指形成1層(單層)。亦即，含有對於基體形成組成物膜施用包含功能性賦予基的聚合性化合物之組成物，可稱之係對基材上的基體形成組成物添加含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物。
本說明書中所謂「單層」，是意指在此層內無積層造成的界面，構成層之成分的組成於跨越層(或膜)的厚度方向整體為一定、或連續地變化之層。本發明中，即使層的上部與下部的組成完全不同，在層的中間部為兩者的組成連續地變化時，亦視作單層。又，組成為連續變化的區域是100nm以上。例如，即使在層的上部之組成為A、下部之組成為B，只要在層的任意區域存在有組成A與組成B為互相混合，沿著厚度方向之組成為跨越100nm以上且連續地由A往B(或由B往A)變化的區域，則將該層視為單層。層的組成，係使用離子束ESCA測定，可以測定深度方向的元素濃度。
一較佳態樣中，由基體形成組成物膜與含有包含功能性賦予基聚合性化合物的組成物所形成的層，係不具有只由含有包含功能性賦予基的聚合性化合物之組成物(或包含功能性賦予基之聚合性化合物)所成的厚度部 分。如此之層，由於含有包含功能性賦予基之聚合性化合物係分散、保持在基體形成組成物中，故耐久性會更高。
其他的較佳態樣中，由基體形成組成物膜與含有包含功能性賦予基的聚合性化合物之組成物所形成的層，係在膜的表面具有只由含有包含功能性賦予基的聚合性化合物的組成物(或包含功能性賦予基的聚合性化合物)所成的厚度部分。藉由在表面具有只由含有包含功能性賦予基的聚合性化合物之組成物(或包含功能性賦予基的聚合性化合物)所成的部分，可最大限度地發揮藉由包含功能性賦予基之聚合性化合物所賦予之功能。
較佳的態樣中，在施用含有包含功能性賦予基聚合性化合物的組成物時，基體形成組成物膜為液狀。液狀是指具有流動性之狀態。具體而言，在施用含有包含功能性賦予基聚合性化合物的組成物時的溫度條件，係意指例如在25℃以錐板式黏度計(JIS K7117-2)所測定之黏度為1Pa‧s以下。
在較佳的態樣中，在施用含有包含功能性賦予基聚合性化合物的組成物時的基體形成組成物膜能含有溶媒。在施用含有包含功能性賦予基聚合性化合物的組成物時，基體形成組成物膜中的溶媒濃度較佳係20質量%以上，更佳係30質量%以上，又更佳係50質量%以上。基體形成組成物膜藉由含有溶媒，能更為促進含有包含功能性賦予基聚合性化合物之組成物對於基體形成組成物膜之擴散或溶解。
在施用含有包含功能性賦予基聚合性化合物的組成物時的基體形成組成物膜，係可以經乾燥步驟，或者也可以未經乾燥步驟。經乾燥步驟時，膜並未完全乾燥，較佳係有某種程度的溶媒殘留，例如有10質量%以上，較佳係有20質量%以上，更佳係有30質量%以上，又更佳係有50質量%以上的溶媒殘留之狀態。乾燥的方法並無特別限定，可以列舉：自然乾燥、送風乾燥、加熱乾燥、減壓乾燥、冷凍乾燥等，而以自然乾燥為佳。
在較佳的態樣中，在施用含有包含功能性賦予基聚合性化合物的組成物時的基體形成組成物膜，係未經乾燥步驟。藉由未經乾燥步驟，可以抑制基體形成組成物膜中的溶媒減少，防止含有包含功能性賦予基聚合性化合物的組成物對於基體形成組成物膜膜的擴散或溶解減低。
在較佳的態樣中，在施用含有包含功能性賦予基聚合性化合物的組成物時的基體形成組成物膜可係未硬化狀態。未硬化狀態除了包括基體組成物中的聚合性化合物為未進行聚合的狀態之外，還包括一部分為沒有進行聚合之狀態，例如整體中一半的聚合性化合物為沒有進行聚合之狀態。較佳係在施用含有包含功能性賦予基聚合性化合物的組成物時，基體形成組成物膜係實際上聚合性化合物沒有進行聚合之狀態。在使基體形成組成物膜硬化之前，藉由添加含有包含功能性賦予基聚合性化合物之組成物，會更加促進含有包含功能性賦予基聚合性化合物的 組成物對於基體形成組成物膜的擴散或溶解。而且，進行如此擴散或溶解之膜是單層者，因為藉由添加後使兩者同時硬化，基體形成組成物中的聚合性化合物與包含功能性賦予基之聚合性化合物會彼此聚合，故可得到更高耐久性的功能性膜。
含有上述功能性賦予基之聚合性化合物，係在分子內具有1個以上的聚合性不飽和基及1個以上的功能性賦予基之化合物。
聚合性不飽和基並無特別限定，惟可列舉例如：丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙烯基、烯丙基、丙烯基、異丙烯基、馬來醯亞胺基、乙烯基醚基等。從反應性優良的觀點來看，係以丙烯醯基、甲基丙烯醯基、乙烯基為佳，以丙烯醯基及甲基丙烯醯基為更佳，又以丙烯醯基為特佳。
功能性賦予基，係意指具有可賦予基材所期望的表面特性之功能之官能基。
功能性賦予基並無特別限定，惟可列舉：1)撥水性及/或撥油性基，2)親水性基，3)折射率變化基，4)紫外線吸收性官能基，5)光安定性官能基，6)生物特性官能基，7)難燃性基，或 8)抗靜電性基。
上述含有功能性賦予基之聚合性化合物為含有撥水性及/或撥油性基之聚合性化合物時，亦即，具有的撥水性及/或撥油性基作為功能性賦予基時，所得到的功能性膜具有撥水性及/或撥油性基。
上述撥水性及/或撥油性基可列舉例如：含氟之基，較佳係全氟基。撥水性及/或撥油性基較佳係氟烷基或氟聚醚基，更佳係全氟烷基或全氟聚醚基。
上述全氟烷基係以下述式表示：F(CnF2n)-[式中，n是1至30的整數，較佳係3至20的整數，更佳係3至15的整數]。
上述全氟烷基，可以是直鏈，也可以是分枝鏈。
一態樣中，撥水性及/或撥油性基可以是由上述全氟烷基脫離1個氟原子而成的2價基，即全氟伸烷基：-(CnF2n)-。
上述全氟聚醚基，係以下述式所表示之基：F(CmF2m)-PFPE-[式中：m是1至16的整數；PFPE表示-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-；a、b、c及d係分別獨立為0或1以上的整數，a、b、 c及d的和至少是1，註以a、b、c或d且以括弧括起之各重覆單元在式中的存在順序為任意]。
較佳係a、b、c及d是各自分別獨立為0以上200以下的整數，例如1至200的整數，更佳係各自獨立為0以上100以下的整數。而且，較佳係a、b、c及d的和為5以上，更佳係10以上，例如10以上100以下。
而且，註以a、b、c或d且以括弧括起之各重覆單元之中，-(OC4F8)-雖可為-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-及-(OCF2CF(C2F5))-中的任一者，惟較佳係-(OCF2CF2CF2CF2)-。-(OC3F6)-雖可為-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-及-(OCF2CF(CF3))-中的任一者，惟較佳係-(OCF2CF2CF2)-。而且，-(OC2F4)-可以是-(OCF2CF2)-及-(OCF(CF3))-之任一者，惟較佳係-(OCF2CF2)-。
一態樣中，PFPE係-(OC3F6)b-(式中，b是1以上200以下，較佳係5以上200以下，更佳係10以上200以下的整數)，較佳係-(OCF2CF2CF2)b-(式中，b是1以上200以下，較佳係5以上200以下，更佳係10以上200以下的整數)，或-(OCF(CF3)CF2)b-(式中，b是1以上200以下，較佳係5以上200以下，更佳係10以上200以下的整數)，又更佳係-(OCF2CF2CF2)b-(式中，b是1以上200以下，較佳係5以上200以下，更佳係10以上200以下的整數)。
其他的態樣中，PFPE係-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-(式中，a及b係分別獨立，為0以上30以下的整數，c及d係分別獨立，為1以上200以下，較佳係5以上200以下，更佳係10以上200以下的整數，註以a、b、c或d且以括弧括起之各重覆單元在式中的存在順序為任意)，較佳係-(OCF2CF2CF2CF2)a-(OCF2CF2CF2)b-(OCF2CF2)c-(OCF2)d-。一態樣中，PFPE也可以是-(OC2F4)c-(OCF2)d-(式中，c及d係分別獨立，為1以上200以下，較佳係5以上200以下，更佳係10以上200以下的整數，註以c或d且以括弧括起之各重覆單元在式中的存在順序為任意)。
另一態樣中，PFPE是-(OC2F4-R11)n”-所示之基。式中，R11是選自OC2F4、OC3F6及OC4F8之基，或，由此等基獨立地選擇2個或3個基之組合。由OC2F4、OC3F6及OC4F8獨立地選擇的2個或3個基之組合並無特別之限定，惟可列舉例如：-OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC4F8-、-OC3F6OC2F4-、-OC3F6OC3F6-、-OC3F6OC4F8-、-OC4F8OC4F8-、-OC4F8OC3F6-、-OC4F8OC2F4-、-OC2F4OC2F4OC3F6-、-OC2F4OC2F4OC4F8-、-OC2F4OC3F6OC2F4-、-OC2F4OC3F6OC3F6-、-OC2F4OC4F8OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC2F4-、-OC3F6OC2F4OC3F6-、-OC3F6OC3F6OC2F4-及-OC4F8OC2F4OC2F4-等。上述n”是2至100的整數，較佳係2至50的整數。上述式中，OC2F4、OC3F6及OC4F8可以是直鏈或分枝鏈的任一種，較佳係直鏈。在此態樣中，PFPE 較佳係-(OC2F4-OC3F6)n”-或-(OC2F4-OC4F8)n”-。
一態樣中，撥水性及/或撥油性基可為2價基：-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-。
一個具體的含有撥水性及/或撥油性基之聚合性化合物，係藉由使下述(a)與(b)反應而得到之含有碳-碳雙鍵之化合物(A)：(a)二異氰酸酯的三聚物之聚異氰酸酯；(b)具有活性氫的化合物。
本說明書所用用語中，「活性氫」是意指可作為質子供予異氰酸酯基的氫原子。「含有活性氫基」是意指含有上述活性氫之基，可列舉例如：-OH基、-C(=O)H基、-SH基、-SO3H基、-SO2H基、-SOH基、-NH2基、-NH-基、-SiH基等。
成分(a)是藉由將二異氰酸酯三聚物化而可得到之聚異氰酸酯。該二異氰酸酯的三聚物之聚異氰酸酯，也可作為該等經聚合而成的聚合物而存在。
在較佳的態樣中，成分(a)的二異氰酸酯之三聚物的聚異氰酸酯可為三聚異氫酸酯型聚異氰酸酯。該三聚異氫酸酯型聚異氰酸酯，也可作為該等經聚合而成的聚合物而存在。亦即，三聚異氫酸酯型聚異氰酸酯可以是只具有1個三聚異氫酸酯環的單環式化合物，或者也可以是該單環式化合物經聚合而得之多環式化合物，或該等的混合物。該三聚異氫酸酯型聚異氰酸酯係例如作為 sumidur(註冊商標)N3300(住友Bayer Urethane股份有限公司製)而於市面販售。
為了得到上述(a)二異氰酸酯的三聚物之聚異氰酸酯而使用之二異氰酸酯，並無特別限定，惟，異氰酸酯基與脂肪族基鍵結的二異氰酸酯可列舉例如：六亞甲基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、伸苯二甲基二異氰酸酯、氫化伸苯二甲基二異氰酸酯、二環己基甲烷二異氰酸酯；異氰酸酯基與芳香族基鍵結的二異氰酸酯可列舉例如：甲伸苯基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、多亞甲基多苯基多異氰酸酯、聯甲苯胺二異氰酸酯、萘二異氰酸酯。
作為具體的成分(a)之二異氰酸酯三聚物的聚異氰酸酯，係無特別限定者，惟可列舉具有下述構造之化合物：
如上述，該等聚異氰酸酯可以作為聚合物而存在，例如為六亞甲基二異氰酸酯的三聚異氫酸酯型聚異氰酸酯時，也可以作為具有下述結構之聚合物而存在：
成分(b)是含有(b1)及(b2)而成：(b1)具有活性氫之全氟聚醚；及(b2)具有活性氫與至少1個的碳-碳雙鍵之單體。在較佳的態樣中，成分(b)又含有：(b3)具有活性氫之矽烷化合物。
成分(b1)的具有活性氫之全氟聚醚，係在全氟聚醚基之外，在1個分子末端具有1個含活性氫的基，例如羥基，或在2個末端分別具有1個含活性氫的基之具有羥基的化合物。
成分(b1)的具有活性氫之全氟聚醚並無特別限定，係具有500至12,000，較佳係1,000至10,000，更佳係1,500至8,000的數平均分子量。
更佳係成分(b1)可係以下的通式(b1-i)及(b1-ii)中之任一者所示之至少1種化合物：Rf-PFPE-R1-CH2OH (b1-i)
HOCH2-R1-PFPE-R1-CH2OH (b1-ii)。
上述式(b1-i)及(b1-ii)中，Rf表示可經1個或1個以上的氟所取代之碳數1至16的(例如直鏈或分枝鏈的)烷基，較佳係可經1個或1個以上的氟所取代之碳數 1至3的直鏈或分枝鏈的烷基。更佳係Rf是直鏈。而且，較佳係上述可經1個或1個以上的氟所取代之烷基為藉由末端碳原子為CF2H-、其他所有的碳原子全部經氟所取代之氟烷基或全氟烷基，更佳係全氟烷基，具體而言為-CF3、-CF2CF3或-CF2CF2CF3。
上述式(b1-i)及(b1-ii)中，PFPE是上述的全氟聚醚基，為下述式所示之基：-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-。具有該全氟聚醚基之化合物係能呈現優良的撥水性、撥油性及防污性(例如防止指紋等污物附著)。
上述式(b1-i)及(b1-ii)中，R1係分別獨立地為下述式所示之基：-(Y)f-(CF2)g-(CH2)h-。此式中，Y是二價的極性基。此二價的極性基的例子並無特別限定，惟可以列舉：-COO-、-OCO-、-CONH-、-OCH2CH(OH)CH2-、-CH2CH(OH)CH2O-、-COS-、-SCO-、-O-等，較佳係-COO-、-CONH-、-CH2CH(OH)CH2O-、-O-。而且此式中，f、g及h係分別獨立，為0至50，較佳係0至20，例如為1至20的整數，f、g及h的和至少是1，較佳係1至10。以f、g及h是0至2的整數為較佳，以f=0或1、g=2、h=0或1為更佳。而且，註以f、g及h且以括弧括起之各重覆單元在式中的存在順序為任意。
在較佳的態樣中，成分(b1)是上述式(b1-i)所示之化合物。
RF-PFPE-R1-CH2OH (b1-i)
成分(b2)的具有活性氫與至少1個的碳-碳雙鍵之單體，係以含有活性氫之基為佳，特別是以具有羥基之(甲基)丙烯酸酯及乙烯基單體為佳。
作為成分(b2)的具有活性氫與1個碳-碳雙鍵之單體，並無限定，惟例如可以列舉以下的化合物：HO(CH2CH2)iOCO(R)C=CH2
(式中，R是氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基，i=2至10)，例如，2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、4-羥基丁基(甲基)丙烯酸酯；CH3CH(OH)CH2OCO(R)C=CH2
(式中，R是氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基)，例如，2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯；CH3CH2CH(OH)CH2OCO(R)C=CH2
(式中，R是氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基)，例如，2-羥基丙基(甲基)丙烯酸酯；C6H5OCH2CH(OH)CH2OCO(R)C=CH2
(式中，R是氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基)，例如，2-羥基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯；HOCH2C(CH2OCO(R)C=CH2)3
(式中，R是氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基)，例如，新戊四醇三丙烯酸酯；C(CH2OCO(R)C=CH2)3CH2OCH2C(CH2OCO(R)C=CH2)2 CH2OH
(式中，R是氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基)，例如，二新戊四醇聚丙烯酸酯；HOCH2CH2OCOC6H5OCOCH2CH2OCO(R)C=CH2
(式中，R是氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基)，例如，2-丙烯醯氧基乙基-2-羥基乙基鄰苯二甲酸；H(OCH2CH2)nOCO(R)C=CH2
(式中，n是1至30，R是氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基)，例如，聚(乙二醇)丙烯酸酯H(OCH(CH3)CH2)nOCO(R)C=CH2
(式中，n是1至30，R是氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基)，例如聚(丙二醇)丙烯酸酯烯丙基醇；HO(CH2)kCH=CH2
(k=2至20)；(CH3)3SiCH(OH)CH=CH2；及苯乙烯基酚。
成分(b2)的具有活性氫與2個以上的碳-碳雙鍵之單體並無限定，惟具有碳-碳雙鍵之基係具有下述的基所示之基：-OC(O)-CR2=CH2。
上述式中，R2是氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基，較佳係氫原子或碳數1至3的烷基，更佳係是氫原子或甲基。其中，R2是氫原子或甲基之基，亦即-OC(O)-CH=CH2或-OC(O)-CCH3=CH2，在本說明細書中，亦統稱為「(甲基)丙烯酸酯基」。
較佳的態樣中，成分(b2)的具有活性氫與2個以上的碳-碳雙鍵之單體，係選自下述式所成群組中的至少1種化合物：HO-CH2-C(CH2-OC(O)-CR2=CH2)3；或HO-CH2-C(CH2-OC(O)-CR2=CH2)2-CH2OCH2-C(CH2-OC(O)-CR2=CH2)3(式中，R2是氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基)。
更佳的態樣中，成分(b2)的具有活性氫與2個以上的碳-碳雙鍵之單體，係選自新戊四醇三丙烯酸酯或二新戊四醇六丙烯酸酯所成群組中的至少1種化合物。
成分(b3)的具有活性氫之矽烷化合物，係在1個分子末端具有1個含活性氫的基，例如具有羥基，或在2個末端分別具有1個含活性氫的基，例如具有羥基的化合物。
成分(b3)的具有活性氫之矽烷化合物並無特別限定，係具有100至20,000的數平均分子量，較佳的數平均分子量係500至15,000，更佳的數平均分子量係800至12,000。
較佳係成分(b3)可為下述的通式(b3-i)或 (b3-ii)所示之至少1種化合物：
上述式(b3-i)及(b3-ii)中，R11、R12、R13、R14及R15是各自獨立，為烷基或芳基。
上述烷基並無特別限定，惟可列舉：碳數1至10的烷基及碳數3至20的環烷基，較佳為碳數1至6的烷基。該烷基可以是直鏈，也可以是分枝鏈，惟較佳為直鏈。較佳之具體者，就R11而言是正-丁基，就R12至R15而言是甲基。
上述芳基並無特別限定，惟可列舉碳數6至20的芳基。該芳基可以含有2個或2個以上的環。較佳的芳基是苯基。
上述烷基及芳基，視所需，在其分子鏈或是或環中亦可含有雜原子，例如含有氮原子、氧原子、硫原子。
再者，上述烷基及芳基，視所需，可為經1個或1個以上的取代基所取代之下述者：鹵素；選自可經1個或1個以上的鹵素所取代之C1-6烷基、C2-6烯基、C2-6炔基、C3-10環烷基、C3-10不飽和環烷基、5至10員的雜環基、5至10員的不飽和雜環基、C6-10芳基、5至10員的雜芳基者。
上述式(b3-i)及(b3-ii)中，R16表示2價的有機基。較佳係R16是-(CH2)r-(式中，r是1至20的整數，較佳係1至10的整數)。
上述式(b3-i)及(b3-ii)中，A是含有活性氫之基。A基較佳係-OH基、-C(=O)H基、-SH基、-SO3H基、-SO2H基、-SOH基、-NH2基、-NH-基或-SiH基，較佳係-OH基或-NH2基，更佳係的是-OH基。
上述式(b3-i)及(b3-ii)中，1及n係分別獨立，為0或1；m是1至500的整數，較佳係1至200，更佳係5至150的整數；o是0至20的整數，例如1至20的整數，p是0或1。
上述式(b3-i)所示之具體化合物，可列舉例如下述的化合物：
而且，成分(b3)，作為含有活性氫之基，也可為具有胺基之矽烷化合物。該化合物並無限定，惟可列舉例如以下者：
成分(b1)與成分(b3)的數平均分子量的比並無特別限定，惟例如是1：5至5：1，較佳係1：3至3：1，更佳係1：3至3：2。藉由將成分(b1)與成分(b3)的數平均分子量的比設成上述範圍，可以更為提高對於不含氟之溶媒的溶解性。
本發明的成分(a)與成分(b)的反應中，成分(a)的異氰酸酯基係與成分(b)的羥基反應而形成胺酯鍵。
本發明中，與成分(a)反應之成分(b1)、成分(b2)及成分(b3)的合計莫耳數，係實質上等於成分(a)中的異氰酸酯基之莫耳數。
在較佳的態樣中，成分(b)是含有成分(b1)、(b2)及(b3)時，相對於成分(a)中的異氰酸酯基9莫耳，反應之成分(b)可以是：成分(b1)0.1至2莫耳，成分(b2)5至8.85莫耳，及成分(b3)0.05至2莫耳。
藉由將成分(b1)至(b3)的量設成上述範圍，會提高表面光滑性、磨擦耐久性、對於不含氟之溶媒的溶解性。
上述的成分(a)與成分(b1)至(b3)的反應方法並無特別限定。例如可以是以1個系來進行反應(亦即，一鍋合成(one-pot synthesis))，或者也可以是用2個系來分別進行反應。
一鍋合成時，例如，可以是在成分(a)中同時添加成分(b1)至(b3)，藉此使該等同時反應，或者也可以是依序添加成分(b1)至(b3)，藉此使該等依序反應。依序添加(而使之反應)時，其添加(反應)的順序並無特別限定。例如，可以是將成分(b1)至(b3)分別以任意的順序添加並反應，而且也可以是將成分(b1)至(b3)之中的2個成分同時添加並使之反應，然後添加剩下的成分並使之反應。較佳可以是添加成分(b1)及(b3)並使之反應，然後，添加成分(b2)並使之反應，或者也可以是添加成分(b1)並使之反應，然後添加成分(b3)並使之反應，最後添加成分(b2)並使之反應。依序添加時，在最後添加的成分可為餘量地添加。
此反應中所使用的溶媒只要會進行反應即可，而無特別限定，可以使用各種氟溶劑、各種泛用溶劑或將該等以任意比率混合的溶劑等，較佳係使用1,1-二氯-1,2,2,3,3-五氟丙烷(HCFC225)。
藉由以一鍋(one pot)進行合成，係不用在各階段精製等，而可將製程簡略化。
以2個系進行反應時，例如，也可以是在1系中，使成分(a)與成分(b1)及(b2)反應而得到第1組成物，在另一系中使成分(a)與成分(b2)及(b3)反應而得到第2組成物，然後，將得到的第1組成物與第2組成物混合，而得到上述組成物。又，在如此操作所得到的上述組成物中，亦可於實質上不存在具有源自成分(b1)的全氟聚醚以及源自成分(b3)的矽烷部位兩者之含有碳-碳雙鍵的化合物，。而且，在各系中之反應順序並無特別限定，例如，可以使成分(a)與成分(b1)(或成分(b3))及(b2)於同時反應，或者也可以使成分(a)與成分(b1)(或成分(b3))反應，然後再與成分(b2)反應，亦可將前述順序顛倒。較佳係使成分(a)與成分(b1)(或成分(b3))反應，然後與成分(b2)反應。
如上所述，藉由在不同的系中進行成分(a)與成分(b1)的反應和成分(a)與成分(b3)的反應，變得可對於各個反應選擇較適合的溶媒等條件。藉由如此的可對於各反應選擇適合之條件，特別是在大規模合成中，與一鍋合成相比係可抑制所得到之製品的變動。詳而言之，一般來說，成分(b1)在氟系溶媒為溶解性，在泛用溶媒為難溶性， 另一方面，成分(b3)在泛用溶媒為溶解性，在氟系溶媒為難溶性。在一鍋合成時，特別是在大規模進行時，因其溶解性不同造成的影響會變得顯著，成分(b1)或成分(b3)的任一成分無法完全地溶解在溶媒中，而難以安定地控制反應(換言之，難以再現性良好地進行反應)。另一方面，以2個系進行反應時，因可對於各自的反應選擇最適合之溶媒，故會變得容易安定地控制反應。換言之，可以良好的再現性進行反應，並且，會變得容易抑制所得到的製品之品質變動。
其他具體的含有撥水性及/或撥油性基之聚合性化合物，係具有硬化性部位之含氟聚合物(B)。
一態樣中，含上述氟原子之聚合物(B)係以下的通式(B1)及(B2)之任一者所示之至少1種含氟聚合物(以下，亦將各個式所示之化合物稱為「含氟聚合物(B1)」、「含氟聚合物(B2)」)：Rf-R41-R42-(R43-(R44)n1-R45-R46)α‧‧‧(B1)
(R46-R45-(R44)n1-R43)α-R42-R41-R42-(R43-(R44)n1-R45-R46)α‧‧‧(B2)。
又另一具體的含有撥水性及/或撥油性基之聚合性化合物，係具有硬化性部位之含氟含矽聚合物(C)。
一態樣中，上述含有含氟含矽聚合物(C)係以下的通式(C1)及(C2)的任一者所示之至少1種含氟含矽 聚合物(以下，亦將各個式所示之化合物稱為「含氟含矽聚合物(C1)」、「含氟含矽聚合物(C2)」)：
上述式(B1)及(C1)中，Rf表示可經1個或1個以上的的氟所取代之碳數1至16的烷基。
上述可經1個或1個以上的的氟所取代之碳數1至16的烷基，係可經1個或1個以上的氟所取代之直鏈或分枝鏈的碳數1至16的烷基，較佳係可經1個或1個以上的氟所取代之直鏈或分枝鏈的碳數1至3的烷基，更佳係可經1個或1個以上的氟所取代之直鏈或分枝鏈的碳數1至3的烷基。較佳係上述可經1個或1個以上的氟所取代之的烷基係末端碳原子為CF2H-而其他所有的碳原子經氟原子全部取代之氟烷基、或全氟烷基，更佳係全氟烷基，具體而言為-CF3、-CF2CF3或-CF2CF2CF3。
上述式(B1)、(B2)、(C1)及(C2)中，R41是上述的全氟聚醚基：-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-。
從得到高撥油性及撥水性之觀點來看，在 上述式(B1)、(B2)、(C1)及(C2)中，式：-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-所示之全氟(聚)醚基的數平均分子量之下限，較佳係約1,000，更佳係約1,500，又更佳係約2,000；從得到對泛用溶劑(不含氟之有機溶媒)的高溶解性之觀點來看，上限較佳係約100,000，更佳係約50,000，又更佳係約10,000。
上述式(B1)、(B2)、(C1)及(C2)中，R42在每次出現時係分別獨立地表示2至10價的有機基。該R42在式(B1)、(B2)、(C1)及(C2)所示之化合物中，係將連結全氟聚醚部(R41)與具有硬化性部位之部(R44)連接子(linker)的一部分解開。因此，該R42基只要是式(B1)、(B2)、(C1)及(C2)所示之化合物能安定地存在者即可為任意的2至10價有機基。而且，對應R42基的價數，式中的α係1至9的整數，例如當R42為2價的有機基時，α是1，R42是7價的有機基時，α是6。
較佳的態樣中，R42是2至4價的有機基，α是1至3，更佳係R42是2價的有機基，α是1。
更佳的態樣中，R42是式：-(Q)d-(CFZ)e-(CH2)f-所示之基。其中，d、e及f是分別獨立地表示0以上50以下的整數，d、e及f的和至少是1，以括弧括起之各重覆單元在式中的存在順序為任意。
上述式中，Q表示氧原子、伸苯基、亞咔唑基(carbazolylene)、-NRa-(式中，Ra表示氫原子或有機基)或2價的極性基，較佳係氧原子或2價的極性基，更佳係 氧原子。
上述Q中之「2價的極性基」並無特別限定，惟可列舉：-C(O)-、-C(=NRb)-及-C(O)NRb-(此等式中，Rb表示氫原子或低級烷基)。該「低級烷基」，例如是碳數1至6的烷基，例如甲基、乙基、正-丙基，此等亦可經1個或1個以上的氟原子取代。
上述式中，Z表示氫原子、氟原子或低級氟烷基，較佳係氟原子。
上述「低級氟烷基」，係例如碳數1至6的氟烷基，較佳係碳數1至3的氟烷基，更佳係碳數1至3的全氟烷基，又更佳係三氟甲基、五氟乙基，又再更佳係三氟甲基。
R42，較佳係以式：-(O)d-(CF2)e-(CH2)f-所示之基(式中，d、e及f與上述為相同意義，以括弧括起之各重覆單元在式中的存在順序為任意)。
上述式：-(O)d-(CF2)e-(CH2)f-所示之基，可列舉例如：-(O)d’-(CF2)e’-(CH2)f’-O-[(CH2)f”-O-]f'''所示之基(式中，d’是0或1，e’、f’及f”係分別獨立地表示1至10的整數，f'''是0或1)。
在另外的理想態樣中，R42可以列舉下述式所示之2價基：-(R61)p’-(Xa)q’-R62-[式中：R61表示單鍵、-(CH2)s’-或鄰-、間-或是對-伸苯基，較 佳係-(CH2)s’-，R62表示單鍵、-(CH2)t’-或鄰-、間-或是對-伸苯基，較佳係-(CH2)t’-，s’是1至20的整數，較佳係1至6的整數，更佳係1至3的整數，又更佳係1或2，t’是1至20的整數，較佳係2至6的整數，更佳係2至3的整數，Xa表示-(Xb)r’-，Xb在每次出現時係分別獨立地表示選自-O-、-S-、鄰-、間-或對-伸苯基、-C(O)O-、-CONR64-、-O-CONR64-、-NR64-、-Si(R63)2-、-(Si(R63)2O)m’-Si(R63)2-及-(CH2)n’-所成群組之基，R63在每次出現時係分別獨立地表示苯基、C1-6烷基或C1-6烷氧基，較佳係C1-6烷基，更佳係甲基，R64在每次出現時係分別獨立地表示氫原子、苯基或C1-6烷基(較佳係甲基)，m’在每次出現時是分別獨立，為1至100的整數，較佳係1至20的整數，n’在每次出現時是分別獨立，為1至20的整數，較佳係1至6的整數，更佳係1至3的整數，r’是1至10的整數，較佳係1至5的整數，更佳係1至3的整數，p’是0或1，q’是0或1，其中，p’及q’的至少一者是1，註以p’或q’且以括弧 括起之各重覆單元在式中的存在順序為任意]。
較佳之上述R42可以是：C1-20伸烷基、-R61-Xc-R62-、或-Xd-R62-[式中，R61及R62與上述為相同意義]。
更佳之上述R42可以是：C1-20伸烷基、-(CH2)s’-Xc-、-(CH2)s’-Xc-(CH2)t’-、-Xd-、或-Xd-(CH2)t’-[式中，s’及t’與上述為相同意義]。
上述式中，Xc表示：-O-、-S-、-C(O)O-、-CONR64-、-O-CONR64-、-Si(R63)2-、-(Si(R63)2)O)m’-Si(R63)2-、-O-(CH2)u’-(Si(R63)2O)m’-Si(R63)2-、-CONR64-(CH2)u’-(Si(R63)2O)m’-Si(R63)2-、-CONR64-(CH2)u’-N(R64)-、或 -CONR64-(鄰-、間-或對-伸苯基)-Si(R63)2-[式中，R63、R64及m’與上述為相同意義，u’是1至20的整數，較佳係2至6的整數，更佳係2至3的整數]。Xc，較佳係-O-。
上述式中，Xd表示：-S-、-C(O)O-、-CONR64-、-CONR64-(CH2)u’-(Si(R63)2O)m’-Si(R63)2-、-CONR64-(CH2)u’-N(R64)-、或-CONR64-(鄰-、間-或對-伸苯基)-Si(R63)2-。
更佳之上述R42可以是：C1-20伸烷基、-(CH2)s’-Xc-(CH2)t’-、或-Xd-(CH2)t’-[式中，各代號與上述為相同意義]。
又更佳之上述R42是：C1-20伸烷基、-(CH2)s’-O-(CH2)t’-、-(CH2)s’-Si(R63)2-(CH2)t’-、-(CH2)s’-(Si(R63)2O)m’-Si(R63)2-(CH2)t’-、-(CH2)s’-O-(CH2)u’-(Si(R63)2O)m’-Si(R63)2-(CH2)t’-、或-(CH2)s’-O-(CH2)t’-Si(R63)2-(CH2)u’-Si(R63)2-(CvH2v)-[式中，各代號與上述為相同意義，v是1至20的整數， 較佳係2至6的整數，更佳係2至3的整數]。
上述式中，-(CvH2v)-可以是直鏈，也可以是分枝鏈，例如可以是：-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH(CH3)-、-CH(CH3)CH2-。
上述R42基可經選自氟原子、C1-3烷基及C1-3氟烷基(較佳係C1-3全氟烷基)之1個或1個以上的取代基所取代。
作為上述R42的具體例子，可列舉例如：-CH2O(CH2)2-、-CH2O(CH2)3-、-CH2O(CH2)6-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-、-CH2OCF2CHFOCF2-、-CH2OCF2CHFOCF2CF2-、-CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2-、 -CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2--CH2OCH2(CH2)7CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)3-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)3-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH2CH3)2OSi(OCH2CH3)2(CH2)2-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-(CH2)5-、-(CH2)6-、-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、-CONH-(CH2)3-、-CON(CH3)-(CH2)3-、-CON(Ph)-(CH2)3-(式中，Ph意指苯基)、-CONH-(CH2)6-、 -CON(CH3)-(CH2)6-、-CON(Ph)-(CH2)6-(式中，Ph意指苯基)、-CONH-(CH2)2NH(CH2)3-、-CONH-(CH2)6NH(CH2)3-、-CH2O-CONH-(CH2)3-、-CH2O-CONH-(CH2)6-、-S-(CH2)3-、-(CH2)2S(CH2)3-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2--C(O)O-(CH2)3-、-C(O)O-(CH2)6-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)3-、-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-CH2-、-OCH2-、-O(CH2)3-、-OCFHCF2-、 等。
而且，其他的R42基之例，係例如可列舉下述的基： [式中，R41是分別獨立，為氫原子、苯基、碳數1至6的烷基或C1-6烷氧基，較佳係甲基；D是選自-CH2O(CH2)2-、-CH2O(CH2)3-、-CF2O(CH2)3-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-CONH-(CH2)3-、-CON(CH3)-(CH2)3-、-CON(Ph)-(CH2)3-(式中，Ph意指苯基)、及 之基(式中，R42是各自獨立，表示氫原子、C1-6的烷基或C1-6的烷氧基，較佳係甲基或甲氧基，更佳係甲基)，E是-(CH2)n-(n是2至6的整數)，D是在分子主鏈與PFPE鍵結，E是在與PFPE相對的基鍵結]。
另外的R42基的例子，可以列舉下述的基： [式中，R41是各自獨立，為氫原子、苯基、碳數1至6的烷基或C1-6烷氧基，較佳係甲基； 於各R42基，T之中的任意數個，係在分子主鏈與PFPE鍵結之以下的基：-CH2O(CH2)2-、-CH2O(CH2)3-、-CF2O(CH2)3-、-(CH2)2-、-(CH2)3-、-(CH2)4-、-CONH-(CH2)3-、-CON(CH3)-(CH2)3-、-CON(Ph)-(CH2)3-(式中，Ph意指苯基)，或 [式中，R42係分別獨立地表示氫原子、C1-6的烷基或C1-6的烷氧基，較佳係甲基或甲氧基，更佳係甲基]。其他的T，係數個在分子主鏈與PFPE相對的基鍵結的-(CH2)n”-(n”是2至6的整數)，存在剩餘者時，其是分別獨立，為甲基或苯基。
上述式(B1)、(B2)、(C1)及(C2)中，R43表示2價的有機基。
R43基，較佳係直鏈或分枝鏈的碳數1至20的伸烷基，為-C(R43a)(R43b)-。其中，R43a及R43b係分別獨立 地表示氫原子或烷基，較佳係R43a及R43b的一者是烷基。
上述式(B1)、(B2)、(C1)及(C2)中，R44在每次出現時是分別獨立，為R44a或R44b。但是，至少1個R44是R44a。
上述R44a在每次出現時係分別獨立地表示具有硬化性部位之2價有機基。
上述「硬化性部位」並無特別限定，惟可列舉例如：烯丙基、桂皮酸基、山梨酸基、丙烯醯基及甲基丙烯醯基(以下，亦將丙烯醯基及甲基丙烯醯基併稱為「(甲基)丙烯醯基」)。
較佳之硬化性部位是因塗佈對象的材料不同而異，例如，該材料是非晶質的合成樹脂(例如丙烯酸樹脂)時，作為該「硬化性部位」，較佳係烯丙基、桂皮酸基、山梨酸基或CH2=CX1-C(O)-(式中，X1表示氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基)(例如(甲基)丙烯醯基)，更佳係丙烯醯基及甲基丙烯醯基。
R44a較佳係以下述式所示之基：
上述式中，R31在每次出現時，係分別獨立，表示氫原子或烷基。該R31，較佳係氫原子。
上述式中，R32在每次出現時係分別獨立，表示氫原子或烷基。該R32，較佳係甲基或氫原子，更佳係氫原子。
上述式中，R33在每次出現時，係分別獨立，表示具有硬化性部位之有機基。
該硬化性部位係可列舉與上述相同者，惟以CH2=CX1-C(O)-為佳(式中，X1表示氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基)，具體可列舉：CH2=C(CH3)-C(O)-或CH2=CH-C(O)-。
上述式中，Y1表示-O-、-N(Rc)-、伸苯基或亞咔唑基。其中，Rc表示有機基，較佳係烷基。
Y1，較佳係-O-、伸苯基或亞咔唑基，較佳係-O-或伸苯基，更佳係-O-。
上述式中，Y2表示主鏈的原子數為1至16(較佳係2至12，更佳係2至10)之連接子。
該Y2並無特別限定，惟可列舉例如：-(CH2-CH2-O)p1-(p1表示1至10的整數)、-(CHRd)p2-O-(p2是1至40的整數，Rd表示氫原子或甲基)、-(CH2-CH2-O)p3-CO-NH-CH2-CH2-O-(p3表示1至10的整數)。-CH2-CH2-O-CH2-CH2-、-(CH2)p4-(p4表示1至6的整數)、-(CH2)p5-O-CONH-(CH2)p6-(p5表示1至8的整數，較佳 係2或4，p6表示1至6的整數，較佳係3)，或-O-(惟，Y1不是-O-)。
較佳的Y2可以列舉：-(CH2-CH2-O)p1-(p1表示1至10的整數)或-(CHRd)p2-O-(p2是1至40的整數，Rd表示氫原子或甲基)，具體而言為-CH2-CH2-O-。又，此等基係左端與分子主鏈側(Y1側)鍵結，右端與硬化性部位側(R33側)鍵結。
R44a，更佳係以下述式所示之基： 或
上述式中，X1表示氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基，較佳係氫原子或碳數1至10的烷基，例如甲基。上述式中，q1是1至10的整數，較佳係1至5的整數，例如是1或2。q2是1至10的整數，較佳係1至5的整數，例如是2。
上述R44b在每次出現時是分別獨立，為未具硬化性部位的2價有機基。
R44b較佳係-(CHR44c-CR44dR44e)S-。其中，R44c及R44d係分別獨立地表示氫原子或烷基，s是由0到50的整數，R44e基是-Q’-R44f。其中，Q’與上述Q為相同意義，R44f是未具硬化性部位之有機基，後述的基R44g是經由連接子或直接與Q’鍵結的基。
該連接子較佳係：(a)-(CH2-CH2-O)s1-(s1表示1至10的整數，例如2至10的整數)，(b)-(CHR)s2-O-(s2表示1至40的整數之重覆數。R表示氫原子或甲基)，(c)-(CH2-CH2-O)s1-CO-NH-CH2-CH2-O-(s1與上述為相同意義)，(d)-CH2-CH2-O-CH2-CH2-，(e)-(CH2)s3-(s3表示1至6的整數)，或(f)-(CH2)s4-O-CONH-(CH2)s5-(s4表示1至8的整數，較佳係2或4。s5表示1至6的整數，較佳係3)，或(g)-O-(惟，Q’不是-O-)。
R44g較佳係以下的基。
(i)烷基例如：甲基，乙基；(ii)含有經氟所取代之烷基的鏈狀基 例如： (iii)含有選自單環式碳環、二環式碳環、三環式碳環、及四環式碳環所成群組中之1個以上的環狀部之基例如： (iv)含有以1個以上(較佳係1或2個)經羧基所取代之烴基之基例如： (v)含有1個以上(較佳係1個)的胺基之基；(vi)氫原子；(vii)含有咪唑鎓鹽之基例如：
R44g更佳係氫原子或可經氟化且可經由乙烯鏈而鍵結之烷基，又更佳係氫原子、甲氧基乙基、異丁 基或R-CF2-(CF2)s6-(CH2)s7-O-(CH2)2-(R是氟原子或氫原子，s6是0至6的整數及s7是1至6的整數)，更佳係3-(全氟乙基)丙氧基乙基[示性式：CF3-(CF2)-(CH2)3-O-(CH2)2-]。
上述R44中，構成單元R44a與構成單元R44b，各者可以是形成嵌段，也可以是隨機鍵結。
上述式(B1)、(B2)、(C1)及(C2)中，n1是1以上100以下的整數，較佳係1以上50以下的整數，更佳係2以上30以下的整數。
上述式(B1)、(B2)、(C1)及(C2)中，R45表示-O-、-S-、-NH-或單鍵，較佳係-O-。
上述式(B1)、(B2)、(C1)及(C2)中，R46表示Rf-R41-R42(式中，Rf、R41及R42與上述為相同意義)、1價有機基或氫原子。
R46較佳係可經氟所取代的碳數1至10的烷基，更佳係碳數1至6的烷基，又更佳係甲基。
在一態樣中，上述含氟聚合物(B1)及(B2)，分別係以下的通式(B1a)及(B2a)所示之至少1種的含氟聚合物(以下，亦將各個式所示之化合物稱為「含氟聚合物(B1a)」、「含氟聚合物(B2a)」)：
[式中，Rf、R41、R43、R46、X1、Z及n1與上述為相同意義，g是0或1，h是1或2，q1是1以上5以下的整數]。
上述含氟聚合物(B)並無特別限定，惟可具有約5×102至1×105的數平均分子量。從磨擦耐久性的觀點來看，該範圍之內尤以具有約2,000至10,000的數平均分子量為佳。該數平均分子量可以藉由19F-NMR而求得。
作為上述組成物所含有之上述含氟聚合物(B)，除了上述(B1)及(B2)所示之化合物之外，可進一步列舉含有全氟烷基之硬化性氟聚合物、含氟改質丙烯基之硬化性氟聚合物等。如此之化合物，例如可以由DIC股份有限公司取得作成MEGAFACE RS(商品名)系列者。
上述式(C1)及(C2)中，R47在每次出現時是分別獨立，為2至10價的有機基。該R47在式(C1)及(C2)所示之化合物中，連結具有硬化性部位之R44部，與矽氧烷部之連接子的一部分係被解開。因此，該R47基只要是式(C1) 及(C2)所示之化合物可以安定地存在者即可，也可以是任一2至10價的有機基。而且，視R47基的價數，式中的β是1至9的整數，例如R47是2價的有機基時，β是1，R47是7價的有機基時，β是6。
在較佳的態樣中，R47是2至4價的有機基，β是1至3，更佳係R47是2價的有機基，β是1。
較佳的態樣中，R47也可以是關於上述R42之記載的二價有機基。
更佳的態樣中，R47是-(CH2)r”-(式中，r”是1以上20以下的整數)，更佳係-(CH2)r'''-(式中，r'''是1以上10以下的整數)，例如：亞甲基、伸乙基、伸丙基。
上述式(C1)及(C2)中，R51、R52、R53、R54、R55、R56及R57是分別獨立，為烷基、烷氧基或芳基，較佳係烷基。
上述烷基並無特別限定，惟可列舉：碳數1至10的烷基及碳數3至20的環烷基，較佳係碳數1至6的烷基，具體上，就R13而言是正-丁基，就R7至R12而言是甲基。
上述烷氧基並無特別限定，惟可列舉碳數1至10的烷氧基，較佳係碳數1至6的烷氧基。
上述芳基並無特別限定，惟可列舉碳數6至20的芳基。該芳基可含有2個或2個以上的環。較佳的芳基是苯基。
上述烷基、烷氧基及芳基，也可以視所需 而在其分子鏈或環中含有雜原子，例如氮原子、氧原子、硫原子。
再者，上述烷基、烷氧基及芳基，視所需，係可為經1個或1個以上的取代基所取代之下述者：鹵素；選自可經1個或1個以上的鹵素所取代之C1-6烷基、C2-6烯基、C2-6炔基、C3-10環烷基、C3-10不飽和環烷基、5至10員的雜環基、5至10員的不飽和雜環基、C6-10芳基、5至10員的雜芳基者。
上述式(C1)及(C2)中，n3及n4是分別獨立，為0至50的整數，n3與n4的和至少是1以上。n3及n4，較佳係分別獨立，為5至30的整數。
上述式(C1)及(C2)中，n2、n5及n6是分別獨立，為0至500的整數。n2、n5及n6，較佳係分別獨立，為1至200的整數，更佳係10至200的整數。
一態樣中，上述式(C1)及(C2)所示之含氟含矽聚合物，分別係下述式(C1-a)及(C2-a)所示之含氟含矽聚合物：
[式中：Rf、R41、R43、R45、R51、R52、R53、R54、R55、R56、R57、Z、n1、n2、n3、n4、n5及n6與上述式(C1)及(C2)的記載為相同意義；R46’是對應上述式(C1)及(C2)的R46之2價有機基；X1是氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基；f’在每次出現時是分別獨立，為0或1；g’在每次出現時是分別獨立，為1或2；q1在每次出現時是分別獨立，為1至10的整數]。
上述含氟含矽聚合物(C1)並無特別限定，惟可具有約2×102至1×105的數平均分子量。從磨擦耐久性的觀點來看，在該範圍之中，尤以具有約1×103至1×105的數平均分子量為佳。而且，上述含氟含矽聚合物(C2)並無特 別限定，惟可具有約2×102至1×105的數平均分子量。從磨擦耐久性的觀點來看，在該範圍之中，尤以具有約1×103至1×105的數平均分子量為佳。該數平均分子量，可藉由膠體滲透層析(GPC)求得。
在一態樣中，含有上述含碳-碳雙鍵之化合物(A)、含氟聚合物(B)或含氟含矽聚合物(C)之組成物，除了此等化合物之外，也可以包含至少具有1種硬化性部位之含矽聚合物(S)。
上述含矽聚合物(S)可為以下的通式(S1)及(S2)之任一者所示之至少1種含矽聚合物：
上述式(S1)及(S2)中，R71、R72、R73、R74、R75、R76及R77係分別獨立地表示烷基、烷氧基或芳基，較佳係烷基。
上述烷基並無特別限定，惟可列舉：碳數1至10的烷基及碳數3至20的環烷基，較佳係碳數1至6的烷基，具體上，就R71而言是碳數正-丁基，就R72至R77而言是甲基。
上述烷氧基並無特別限定，可以列舉：碳數1至10的烷氧基，較佳係碳數1至6的烷氧基。
上述芳基並無特別限定，惟可列舉：碳數6至20的芳基。該芳基可含有2個或2個以上的環。較佳的芳基是苯基。
上述烷基、烷氧基及芳基，視所需，在其分子鏈或環中也可以含有雜原子，例如氮原子、氧原子、硫原子。
再者，上述烷基、烷氧基及芳基，可視所需而為經1個或1個以上的取代基所取代之下述者：鹵素；選自可經1個或1個以上的鹵素所取代之C1-6烷基、C2-6烯基、C2-6炔基、C3-10環烷基、C3-10不飽和環烷基、5至10員的雜環基、5至10員的不飽和雜環基、C6-10芳基、5至10員的雜芳基者。
上述式(S1)及(S2)中，R78表示2價的有機基。
上述R78，較佳係-(CH2)r”-(式中，r”是1以上20以下的整數，較佳係1以上10以下的整數)，更佳係-(CH2)r”-(式中，r”是1以上10以下的整數)。
上述式(S1)及(S2)中，X1表示氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基。較佳的X1是氫原子或碳數1至10的烷基，例如甲基。
上述式(S1)及(S2)中，n7及n8是分別獨立，為1以上500以下的整數。該n4及n5，較佳係的1以上200以下，更佳係10以上200以下。
上述含矽聚合物(S)並無特別限定，惟具有約500至20,000的數平均分子量。為了提供表面處理層優良的表面光滑性及磨擦耐久性，其數平均分子量是約500以上，例如以約1,000以上為佳。而且，從含氟聚合物或溶劑的相溶性之觀點來看，其較佳之數平均分子量是約20,000以下，而以約15,000以下更佳。
上述含矽聚合物(S)可藉由市售品或以習知的方法製造而取得。市售的上述含矽聚合物(S)並不是限定於後述之例，惟可列舉例如：X-22-164、X-22-164AS、X22-164A、X-22-164A、X-22-164B、X-22-164C、X-22-164E、X-22-174DX、X-22-2426及X-22-2475(信越化學工業股份有限公司製)；FM-7711、FM-7721、FM-7725、FM-0711、FM-0721及FM-0725(JNC股份有限公司製)以及DMS-R05、DMS-R11、DMS-R18、DMS-R22、DMS-R31及DMS-U21(Gelest公司製)。
上述組成物中，上述含碳-碳雙鍵之化合物(A)、含氟聚合物(B)或含氟含矽聚合物(C)與含矽聚合物(S)的重量比是10：1至1：10，較佳係10：1至2：1，例如10：1至3：1，具體而言為約10：1。藉由將比設在如此之範圍，可以提供指紋擦拭性、表面光滑性以及外觀優良的表面處理層。
在上述組成物中，較佳係上述含有碳-碳雙鍵之化合物(A)、含氟聚合物(B)或含氟含矽聚合物(C)相對於此等化合物與含矽聚合物(S)的合計，係含有50質量%以上，更佳係含有60質量%以上。藉由將上述含有碳-碳 雙鍵之化合物(A)、含氟聚合物(B)或含氟含矽聚合物(C)的含量設在此範圍，可以提供透明度更高的表面處理層。又，「透明」只要是一般認知為透明者即可，例如是指霧度值在3%以下者之意。
其他具體的含有撥水性及/或撥油性基之聚合性化合物，可列舉例如選自下述通式(D)、(E)、(F)、(G)及(H)所成群組之至少1種含氟聚合性不飽和化合物。
CH2=CR1COOR2Rf‧‧‧(D)[式中，R1是氫原子或甲基，R2是-CpH2P-、-C(CpH2P+1)H-、-CH2C(CpH2P+1)H-或-CH2CH2O-，Rf是-CnF2n+1、-(CF2)nH、-CnF2N-CF3、-(CF2)pOCnF2nCjH2j+1、-(CF2)pOCmH2mCiH2iH、-N(CpH2p+1)COCnF2n+1、-N(CpH2p+1)SO2CnF2n+1。惟，p是1至10，n是1至16，m是0至10，i是0至16，j是0至10的整數]。
CF2=CFORg‧‧‧(E)[式中Rg表示碳數1至20的氟烷基]。
CH2=CHRg‧‧‧(F)[式中Rg表示碳數1至20的氟烷基]。
CH2=CR3COOR5RjR6OCOCR4=CH2‧‧‧(G)[式中，R3、R4是氫原子或甲基，R5、R6是-CqH2q-、-C(CqH2q+1)H-、-CH2C(CqH2q+1)H-或-CH2CH2O-、Rj是-CtF2t。惟，q是1至10，t是1至16的整數]。
CH2=CHR7COOCH2(CH2Rk)CHOCOCR8=CH2‧‧‧(H) [式中，R7、R8是氫原子或甲基，Rk是-CyF2y+1。惟，y是l至16的整數]。上述的含氟聚合性不飽和化合物，可以列舉以下的具體例。
通式(D)所示的單體，可列舉例如：CF3(CF2)7CH2CH2OCOCH=CH2、CF3CH2OCOCH=CH2、CF3(CF2)4CH2CH2OCOC(CH3)=CH2、C7F15CON(C2H5)CH2OCOC(CH3)=CH2、CF3(CF2)7SO2N(CH3)CH2CH2OCOCH=CH2、CF3(CF2)7SO2N(C3H7)CH2CH2OCOCH=CH2、C2F5SO2N(CF2)7CH2CH2OCOC(CH3)=CH2、(CF3)2CF(CF2)6(CH2)3OCOCH=CH2、(CF3)2CF(CF2)10(CH2)3OCOC(CH3)=CH2、CF3(CF2)4CH(CH3)OCOC(CH3)=CH2、CF3CH2OCH2CH2OCOCH=CH2、C2F5(CH2CH2O)2CH2OCOCH=CH2、(CF3)2CFO(CH2)5OCOCH=CH2、CF3(CF2)4OCH2CH2OCOC(CH3)=CH2、C2F5CON(C2H5)CH2OCOCH=CH2、CF3(CF2)2CON(CH3)CH(CH3)CH2OCOCH=CH2、H(CF2)6C(C2H5)OCOC(CH3)=CH2、H(CF2)8CH2OCOCH=CH2、H(CF2)4CH2OCOCH=CH2、H(CF2)CH2OCOC(CH3)=CH2、CF3(CF2)7SO2N(CH3)CH2CH2OCOC(CH3)=CH2、CF3(CF2)7SO2N(CH3)(CH2)10OCOCH=CH2、C2F5SO2N(C2H5)CH2CH2OCOC(CH3)=CH2、CF3(CF2)7SO2N(CH3)(CH2)4OCOCH=CH2、C2F5SO2N(C2H5)C(C2H5)HCH2OCOCH=CH2等。
而且，通式(E)及(F)所示之氟烷基化烯烴可列舉例如：C3F7CH=CH2、C4F9CH=CH2、C10F21CH=CH2、C3F7OCF=CF2、C7F15OCF=CF2及C8F17OCF=CF2等。
通式(G)及(H)所示之單體可列舉例如：CH2=CHCOOCH2(CF2)3CH2OCOCH=CH2、CH2=CHCOOCH2CH(CH2C8F17)OCOCH=CH2等。
含有撥水性及/或撥油性基之聚合性不飽和化合物，又可以列舉：具有Si-CH3基或-O-Si-CH3基之聚合性不飽和化合物。具體而言，係具有聚矽氧烷鏈(可為具有分枝構造者)之丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，市售品可列舉例如：「Silaplane FM-0711」、「Silaplane FM-0721」、「Silaplane FM-0725」(皆為JNC公司製)等。
上述的組成物，也可以進一步含有下述通式(J)所示之至少1種的含氟油：Rf1-PFPE-Rf2 (J)。
上述式(J)中，Rf1表示可經1個或1個以上的氟所取代之碳數1至16的烷基，Rf2表示氫原子、氟原子或可經1個或1個以上的氟所取代之碳數1至16的烷基。較佳係上述可經1個或1個以上的氟所取代之烷基係末端碳原子為CF2H-且其他的所有碳原子是皆經氟取代之氟烷基或全氟烷基，更佳係全氟烷基。又更佳係Rf1及Rf2是分別獨立，為碳數1至3的全氟烷基。
上述式(J)中，PFPE係以下通式者：-(OC4F8)a’-(OC3F6)b’-(OC2F4)c’-(OCF2)d’- (式中，a’、b’、c’及d’分別表示全氟(聚)醚的4種重覆單元數，係互相獨立，為0至300的整數，較佳係0至200的整數，例如是1至200的整數，a’、b’、c’及d’的和至少是1，較佳係1至300。註以a’、b’、c’或d’且以括弧括起之各重覆單元在式中的存在順序為任意。此等重覆單元之中，-(OC4F8)-可以是-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-及-(OCF2CF(C2F5))-的任一者，惟較佳係-(OCF2CF2CF2CF2)-。-(OC3F6)-也可以是-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-及-(OCF2CF(CF3))-的任一者，較佳係-(OCF2CF2CF2)-。-(OC2F4)也可以是-(OCF2CF2)-及-(OCF(CF3))-的任一者，惟較佳係-(OCF2CF2)-。
較佳的態樣中，含氟油(J)係以下式(J1)至(J3)的任一者所示之至少1種化合物：Rf1-(OCF2CF2CF2)b’-Rf2 (J1)[式中，Rf1及Rf2與式(J)的記載為相同意義；而b’是1至300的整數]
Rf1-(OCF(CF3)CF2)b’-Rf2 (J2)[式中，Rf1及Rf2與式(J)的記載為相同意義；而b’是1至300的整數]或Rf1-(OCF2CF2CF2CF2)a’-(OCF2CF2CF2)b’-(OCF2CF2)c’-(OCF2)d’-Rf2 (J3) [式中，Rf1及Rf2與式(J)的記載為相同意義；a’及b’是分別獨立，為0或1至30的整數，c’及d’是分別獨立，為1至300的整數，在註以a’、b’、c’或d’且以括弧括起之各重覆單元在式中的存在順序為任意]。
上述含氟油(J)，可具有約1,000至30,000的數平均分子量。藉此，可以得到高的表面光滑性。代表性的通式(J1)至(J3)所示之化合物是以具有約1,500以上的數平均分子量為佳。在此等數平均分子量的範圍，可得到高表面光滑性。
上述組成物中，相對於上述含有碳-碳雙鍵之化合物(A)、含氟聚合物(B)或含氟含矽聚合物(C)的合計100質量份，該含氟油(J)可含有例如0至80質量份，較佳係0至40質量份。
上述組成物除了含有上述者之外，也可以含有其他的成分，例如含有矽油。
上述矽油，例如可以使用矽氧烷鍵為2,000以下的直鏈狀或環狀的矽油。直鏈狀的矽油可以是所謂的直鏈矽油及改質矽油。直鏈矽油可以列舉：二甲基矽油、甲基苯基矽油、甲基氫矽油。改質矽油可以列舉：將直鏈矽油藉由聚醚、高級脂肪酸酯、氟烷基、(甲基)丙烯酸酯、胺基、環氧基、羧基、醇等而改質者。環狀的矽油可列舉例如：環狀二甲基矽氧烷油等。
本發明的組成物中，相對於上述含有碳-碳雙鍵之化合物(A)、含氟聚合物(B)或含氟含矽聚合物(C) 的合計100質量份，其矽油例如可以含有0至50質量份，較佳係0至10質量份。
含有上述功能性賦予基的聚合性化合物係含有親水性基的聚合性化合物時，得到的功能性膜具有親水性基。
上述的親水性基，可列舉例如：羧基、磺酸基、磷酸基等酸基；羧基甜菜鹼、磺基甜菜鹼、磷基甜菜鹼等含有甜菜鹼結構之基；聚氧伸乙基、聚氧伸丙基、含有氧伸乙基與氧伸丙基兩者之聚氧伸烷基等聚氧伸烷基；羥基、醯胺基；3級胺基、4級銨鹽等。
作為含有親水性基之聚合性不飽和化合物，可列舉例如：(甲基)丙烯酸或其鹼金屬鹽、胺鹽及銨鹽；伊康酸或其鹼金屬鹽、胺鹽及銨鹽；乙烯基磺酸、烯丙基磺酸、2-磺基乙基(甲基)丙烯酸酯、2-丙烯醯胺基-2-甲基丙烷磺酸、3-磺基丙基(甲基)丙烯酸酯、4-苯乙烯磺酸或此等磺酸的鹼金屬鹽、胺鹽及銨鹽，2-丙烯醯氧基乙基酸磷酸酯、2-甲基丙烯醯氧基乙基酸磷酸酯、2-丙烯醯氧基丙基酸磷酸酯、2-甲基丙烯醯氧基丙基酸磷酸酯、此等磷酸的鹼金屬鹽、胺鹽及銨鹽；甲基丙烯醯氧基乙基-N,N-二甲基-N-(3-磺基丙基)銨甜菜鹼、甲基丙烯醯氧基乙基-N,N-二甲基銨-α-甲基羧基甜菜鹼；聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯；2-羥基乙基(甲基)丙烯酸酯、N-乙烯基-2-吡咯 啶酮、丙烯醯胺、N,N-二甲基丙烯醯胺；羥基乙基丙烯醯胺等N-羥基烷基(甲基)丙烯醯胺；N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二乙基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二甲基胺基丙基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺、2-(甲基丙烯醯氧基)乙基三甲基氯化銨、2-(甲基丙烯醯氧基)乙基三甲基溴化銨、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基-2'-(三甲基銨)乙基磷酸酯、2-(甲基丙烯醯氧基)乙基三甲基銨二甲基磷酸酯等。
上述含有親水性基之聚合性不飽和化合物中之鹼金屬鹽，可列舉例如：鋰鹽、鈉鹽、鉀鹽等。
含有上述功能性賦予基之聚合性化合物為含有折射率變化基聚合性化合物時，可賦予得到的功能性膜折射率變化。
折射率變化基是具有折射之增量高或增量低之官能基，可列舉例如：苄基、一部分或完全經鹵素化之苄基、或是一部分或完全經鹵素化之烷基、烯基或炔基，含有折射率變化基之聚合性不飽和化合物，可列舉例如：苄基丙烯酸酯、五溴苄基丙烯酸酯、1H,1H,7H-十二氟庚基甲基丙烯酸酯、1H,1H-五氟丁基丙烯酸酯及三氟乙基丙烯酸酯等。
含有上述功能性賦予基之聚合性化合物，為含有紫外線吸收性官能基之聚合性化合物時，得到的功能性膜具有紫外線吸收特性。
含有紫外線吸收性官能基之聚合性不飽和化合物，可列舉例如：2-羥基-4-(3-甲基丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)二苯甲酮、2-羥基-4-(3-丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)二苯甲酮、2,2'-二羥基-4-(3-甲基丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)二苯甲酮、2,2'-二羥基-4-(3-丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)二苯甲酮、2-(2'-羥基-5'-甲基丙烯醯氧基乙基苯基)-2H-苯並三唑等。
含有上述功能性賦予基之聚合性化合物為含有光安定性官能基之聚合性化合物時，得到的功能性膜具有光安定性。
含有光安定性官能基聚合性不飽和化合物，可列舉例如：4-(甲基)丙烯醯氧基-1,2,2,6,6-五甲基哌啶、4-(甲基)丙烯醯氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶、4-氰基-4-(甲基)丙烯醯基胺基-2,2,6,6-四甲基哌啶、1-(甲基)丙烯醯基-4-(甲基)丙烯醯基胺基-2,2,6,6-四甲基哌啶、1-(甲基)丙烯醯基-4-氰基-4-(甲基)丙烯醯基胺基-2,2,6,6-四甲基哌啶、4-巴豆醯氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶、4-巴豆醯基胺基-2,2,6,6-四甲基哌啶、1-巴豆醯基-4-巴豆醯氧基-2,2,6,6-四甲基哌啶等。
含有上述功能性賦予基之聚合性化合物，為含有生物特性官能基之聚合性化合物時，得到的功能性膜具有生物特性。
賦予生物特性之官能基可列舉例如：具有防污特性之基、促進生物系統的成長之基。
含有具有防污特性之基的聚合性不飽和化合物，可列舉例如：銅(II)二丙烯酸酯、銅(II)二甲基丙烯酸酯、二丁基錫蘋果酸酯、錫(II)二丙烯酸酯、錫(II)二甲基丙烯酸酯、三烷基錫甲基丙烯酸酯、鋅二甲基丙烯酸酯等。
促進生物系統成長的基，可列舉例如：琥珀醯亞胺、葡萄糖苷及糖基。具有促進生物系統成長的基之聚合性不飽和化合物，可以列舉：N-醯氧基琥珀醯亞胺及2-甲基丙烯基氧基乙基葡萄糖苷等。
上述含有功能性賦予基之聚合性化合物，為含有難燃性基之聚合性化合物時，得到的功能性膜具有難燃性。
難燃性基可以列舉：含有完全或一部分經氯化或溴化之烷烴或氮或磷之基。
作為含有難燃性基之聚合性不飽和化合物，可以列舉：三溴化新戊基甲基丙烯酸酯、雙(2-甲基丙烯基氧基乙基)磷酸酯、單丙烯基氧基乙基磷酸酯等。
上述含有功能性賦予基之聚合性化合物為含有抗靜電性基的聚合性化合物時，得到的功能性膜具有抗靜電特性。
抗靜電性基可以列舉：第三級胺基、乙氧基化胺基、烷醇醯胺、甘油硬脂酸酯、山梨醇酐、磺酸酯基等。
含有抗靜電性基之聚合性不飽和化合物， 可列舉例如：2-二異丙基胺基乙基甲基丙烯酸酯、3-二甲基胺基新戊基丙烯酸酯或油基雙(2-羥基乙基)胺、硬脂基丙烯酸酯、乙烯基硬脂酸酯等。
含有包含上述功能性賦予基之聚合性化合物的組成物，較佳係含有溶媒。
上述溶媒並無特別限定，可以對應使用的包含功能性賦予基的聚合性化合物而適當選擇。例如，作為溶媒的例子並無特別限定，惟可列舉：己烷、戊烷、辛烷等烴系溶劑；二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、二氯乙烷等氯化烴系溶劑；二乙基醚、二甲氧基乙烷、二甘醇二甲醚、三甘醇二甲醚等醚系溶劑；二乙基草酸酯、丙酮酸乙酯、乙基-2-羥基丁酸酯、乙基乙醯基乙酸酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、2-羥基異丁酸甲酯、2-羥基異丁酸乙酯等酯系溶劑；丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚、丙二醇單丁基醚、丙二醇單甲基醚乙酸酯、丙二醇單乙基醚乙酸酯、丙二醇單丁基醚乙酸酯、二丙二醇二甲基醚等丙二醇系溶劑；丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、2-己酮、環己酮、甲基胺基酮、2-庚酮等酮系溶劑；甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、丁醇、二丙酮醇等醇系溶劑；苯、甲苯、二甲苯、硝基苯等芳香族烴類；碳數5至12的全氟脂肪族烴(例如：全氟己烷、全氟甲基環己烷及全氟-1,3-二甲基環己烷)；聚氟芳香族烴(例如，雙(三氟甲基)苯)；聚氟脂肪族烴；氫氟醚(HFE)(例如，全氟 丙基甲基醚(C3F7OCH3)、全氟丁基甲基醚(C4F9OCH3)、全氟丁基乙基醚(C4F9OC2H5)、全氟己基甲基醚(C2F5CF(OCH3)C3F7)等烷基全氟烷基醚(可以是全氟烷基及烷基是直鏈狀或分枝狀))、氟氯烴(ASAHIKLIN AK-225(商品名)等)、甲基賽璐蘇、乙基賽璐蘇、甲基賽璐蘇乙酸酯、乙基賽璐蘇乙酸酯等賽璐蘇系溶劑等。此等溶媒可以是單獨或可以作成2種以上的混合物而使用。
較佳的態樣中，在含有包含功能性賦予基的聚合性化合物之組成物中，包含功能性賦予基之聚合性化合物的濃度為0.01至5質量%，較佳係0.1至5質量%，更佳係的是0.5至3質量%。藉由設成如此濃度範圍，能進一步促進含有包含功能性賦予基聚合性化合物的組成物對於基體形成組成物膜的擴散或溶解。
上述含有具有功能性賦予基之聚合性化合物的組成物，可以含有溶媒，也可以不含溶媒。在一態樣中，含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物是不含溶媒。在別的態樣中，含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物是含有溶媒。
施用上述含有具有功能性賦予基之聚合性化合物的組成物之方法並無特別限定，例如可使用：浸漬塗佈、旋轉塗佈、流動塗佈、噴霧塗佈、狹縫塗佈、輥塗佈、凹版塗佈、微凹版塗佈、棒塗佈、模具塗佈、網版印刷及類似的方法。
上述含有具有功能性賦予基聚合性化合物 之組成物的施用量並無特別的限定，惟較佳係與先前施用之基體形成組成物為相同的程度。
較佳的態樣中，基體形成組成物與含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物，可為彼此具有相溶性。較佳係以包含功能性賦予基之聚合性化合物與基體組成物為相溶性或對於基體組成物為溶解性為佳。藉由基體形成組成物與含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物彼此為相溶性，可以促進含有包含功能性賦予基之聚合性化合物對於基體形成組成物膜之擴散或溶解。
其次，使所得到的含有包含功能性賦予基之聚合性化合物之基體形成組成物膜硬化。
硬化方法並無特別限定，惟例如可藉由照射活性能量射線，例如照射350nm以下的波長區域的電磁波，換言之，藉由照射紫外線、電子射線、X射線、γ射線等而進行。藉由此電磁波的照射，使膜中的聚合性化合物開始硬化，在此等的化合物間以及在此等化合物與基材之間形成鍵結，而可得到功能性膜。
施用上述含有具有功能性賦予基之聚合性化合物的組成物後，到開始硬化為止的時間，只要係可確保所施用之包含功能性賦予基的聚合性化合物擴散或溶解在基體形成組成物膜中的時間，即無特別限定。較佳係在施用含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物之後到開始硬化為止的時間係30秒至1小時，較佳係1分鐘至30分鐘。
本發明的功能性膜，可為包含功能性賦予基之聚合性化合物偏向存在於膜的表面附近之單層膜。因此，包含功能性賦予基之聚合性化合物在功能性膜的內部中，係與基體形成組成物的聚合性化合物牢固地鍵結，藉由此具有優良的磨擦耐久性。而且，在形成基體形成組成物膜之後，因係施用含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物，故越在表面附近的偏向存在會變得越大，可以更高度地發揮功能。
以上，說明本發明的功能性膜的製造方法，惟並不以此侷限本發明。例如，將基體形成組成物施用在基材之前，也可以將基材進行前處理。
本發明係關於以上述的製造方法可得到之功能性膜，以及在基材與該基材的表面具有本發明的功能性膜而成的物品。
本發明的物品，可以是在最外層具有上述功能性膜，特別是具有撥水性及撥油性之膜的光學構件。
光學構件，除了關於如後述例示之顯示器等的光學構件之外，以列舉各式各樣的光學構件為佳，例如，眼鏡等的透鏡；陰極射線管(CRT；例如電視、個人電腦螢幕)、液晶顯示器、電漿顯示器、有機EL顯示器、無機薄膜EL點矩陣顯示器、背投影式顯示器、螢光顯示管(VFD)、場發射顯示器(FED；Field Emission Display)等顯示器或此等顯示器之前保護板、防爆薄膜、抗反射板、偏光板或防眩板或在該等的表面經實施抗反射膜處理者；行動 電話、可攜式終端等機器之觸控板薄片；藍光(Blu-Ray(註冊商標))碟片、DVD碟片、CD-R、MO等光碟之磁碟面；光纖等。
本發明復關於用以實施上述本發明的製造方法之裝置。
本發明的功能性膜的製造裝置，該裝置具有：基體形成組成物膜形成部，在基材上供給基體形成組成物而形成基體形成組成物膜者；與含功能性賦予基之聚合性化合物供給部，係在上述基體形成組成物膜供給含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物者。
上述基體形成組成物膜的形成部及包含功能性賦予基聚合性化合物之供給部，係具有用以對基材上提供各個組成物之機構，較佳係具有噴嘴。
在一態樣中，上述基體形成組成物膜形成部與包含功能性賦予基聚合性化合物之供給部可為同一處所。例如可係將一個槽體(chamber)兼用作為基體形成組成物膜形成部與包含功能性賦予基之聚合性化合物的供給部。本發明的功能性膜的製造方法中，在基材塗佈基體形成組成物之後，因為不需使之乾燥，可以直接塗佈包含功能性賦予基之聚合性化合物，故無須從裝置取出基板，而可在同一槽體內進行上述2個作業。因此，本發明的製造裝置可以是簡易之構造。
較佳的態樣中，本發明的製造裝置具有槽體，該槽體係具有：對基材提供基體形成組成物之噴嘴、與對基材提供含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物之其他噴嘴；於前述槽體中，在基材上施用基體形成組成物，而形成基體形成組成物膜，其次，在基體形成組成物膜上施用含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物。
以上，係詳述本發明的功能性膜的製造方法，藉由該方法可以得到的功能性膜，具有該功能性膜之物品及用以實施本發明的製造方法之裝置，惟本發明並不侷限於上述例示者。
[實施例]
合成例
於裝附有滴下漏斗、冷凝器、溫度計、攪拌裝置之1L的4頸燒瓶中，將sumidur(註冊商標)N3300(住化Bayer Urethane公司製，NCO基含有率是21.8%，36.6g)溶解到HCFC225(219.4g)中，加入二丁基錫二月桂酸酯(和光純藥公司製，0.30g)，於氮氣氣流下，一邊在40℃中攪拌，一邊滴下至在HCFC 225(60.0g)中溶解有平均組成以：CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)14CF2CF2CH2OH表示之含有全氟聚醚之醇(60.0g)的溶液中，，並攪拌之。滴下羥基乙基丙烯酸酯(19.6g)，並攪拌之。在IR中確認NCO的吸收完全消失。加入二丁基羥基甲苯0.05g，將HCF C225完全去除。 將藉此而得到的組成物(2g)調配Irgacure 184(BASF日本製，0.1g)、ZEORORA(註冊商標)H(日本ZEON公司製，5g)、丙二醇單甲基醚(3g)及甲基異丁基酮(190g)，使之溶解，得到表面處理組成物A。
而且，將上述得到的組成物(2g)調配Irgacure 184(BASF日本製，0.1g)、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(148.5g)、聚乙二醇二丙烯酸酯(49.5g)，使溶解，得到表面處理組成物B。
實施例1
將硬塗劑(Beamset 575 CB(商品名)，荒川化學工業股份有限公司)(10.0g)溶解到甲基異丁基酮(15g)中，得到40質量%的硬化性組成物。硬化性組成物的黏度是0.4Pa‧s。在聚碳酸酯基材(STELLA，日本Testpanel公司製)使用20號刮棒塗佈硬化性組成物。其次，在硬化性組成物膜上，將上述合成例所調製的表面處理組成物A(32g/m2)進行噴霧塗佈。接著，於70℃中乾燥5分鐘，照射600mJ/cm2的紫外線，使膜硬化，得到功能性膜。
混合三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(100g)及Irgacure 184(BASF日本公司製，5g)，並使溶解，而得到硬化性組成物。得到的硬化性組成物之黏度是0.1Pa‧s。在聚碳酸酯基材(STELLA，日本Testpanel公司製)使用20號刮棒，塗佈硬化性組成物。其次，在硬化性組成物膜上，將上述合成例所調製的表面處理組成物B(32g/m2)進行噴霧塗佈。其次，照射600mJ/cm2的紫外線，使膜硬化，而 得到功能性膜。
比較例1
將硬塗劑(Beamset 575 CB(商品名)，荒川化學工業股份有限公司)(10.0g)溶解到甲基異丁基酮(15g)中，得到40質量%的硬化性組成物。對於得到的硬化性組成物，係在聚碳酸酯基材(STELLA，日本Testpanel公司製)使用20號刮棒，塗佈硬化性組成物。接著，於70℃乾燥5分鐘。於70℃ 5分鐘乾燥後的基體形成組成物膜的固形分濃度是99質量%，其黏度是1.5Pa‧s。乾燥後，在基體形成組成物膜上，將在上述合成例調製的表面處理組成物(32g/m2)進行噴霧塗佈。接著，於70℃乾燥5分鐘，並照射600mJ/cm2的紫外線，使膜硬化，得到功能性膜。
比較例2
將硬塗劑(Beamset 575 CB(商品名)，荒川化學工業股份有限公司製)(10.0g)溶解到甲基異丁基酮(15g)中，得到40質量%的硬化性組成物。對於所得到的硬化性組成物，係於聚碳酸酯基材(STELLA，日本Testpanel公司製)使用20號刮棒，塗佈硬化性組成物。接著，於70℃中乾燥15分鐘。於70℃乾燥15分鐘後的基體形成組成物膜的固形分濃度是100質量%，其黏度是1.6Pa‧s。乾燥後，於基體形成組成物膜上，將上述合成例調製的表面處理組成物(32g/m2)進行噴霧塗佈。接著，於70℃乾燥5分鐘，並照射600mJ/cm2的紫外線，使膜硬化，得到功能性膜。
又，上述基體形成組成物膜的黏度測定， 係藉由測定具有對應的固形分濃度之基體形成組成物的黏度而求得。經過乾燥步驟之基體形成組成物膜(比較例1及2)的黏度，係由乾燥前後的重量差而算出膜的固形分濃度，並藉由在此固形分濃度之基體形成組成物膜的黏度而求得。基體形成組成物的黏度，係在25℃使用CP-20錐，以30rpm測定180秒鐘，並採用安定的值。測定裝置係使用東海八神股份有限公司製的錐板式黏度計CV-1E。
(評估)
橡皮擦耐久性試驗
藉由橡皮擦耐久性試驗，對於在上述的實施例1、2及比較例1、2中形成於基材表面上的功能性膜評估磨擦耐久性。具體而言，係將形成有功能性膜之試樣物品水平配置，使橡皮擦(Kokuyo股份有限公司製，KESH I-70，平面尺寸1cm×1.6cm)與功能性膜的表面接觸，並在其上賦予500gf的負重，之後，以加有負重之狀態使橡皮擦以20mm/秒的速度往返。每往返次數100次測定水的靜接觸角(度)。在接觸角的測定值未達90度時中止評估。將結果表示在表1中。
由上述的結果，確認到：在基材上塗佈基體形成組成物且未經乾燥步驟，而塗佈有表面處理組成物之實施例1及2，係具有較經乾燥步驟之比較例1及2優良的磨擦耐久性。
[產業上之可利用性]
本發明可適合施用在各式各樣的基材表面以形成表面處理層。

Claims (21)

  1. 一種在基材上形成功能性膜之方法，該方法包括：在基材上施用基體形成組成物，而形成基體形成組成物膜；藉由在上述基體形成組成物膜上，施用含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物，使基體形成組成物膜含有包含功能性賦予基之聚合性化合物；使所得到的含有包含功能性賦予基的聚合性化合物之基體形成組成物膜硬化，而形成單層之功能性膜。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之方法，其中，基體形成組成物與含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物為相溶性。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中，在施用含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物時的基體形成組成物膜係液狀。
  4. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中，在施用含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物時的基體形成組成物膜，係含有20質量%以上的溶媒。
  5. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中，在施用含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物時的基體形成組成物膜，係未經乾燥步驟。
  6. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中，施用含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物時的基體形成組成物膜，係未硬化之狀態。
  7. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中，基體形成組成物係含有：為單官能及/或多官能(甲基)丙烯酸酯、單官能及/或多官能胺酯(甲基)丙烯酸酯、單官能及/或多官能環氧基(甲基)丙烯酸酯之化合物的組成物。
  8. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中，功能性賦予基係：1)撥水性及/或撥油性基，2)親水性基，3)折射率變化基，4)紫外線吸收性官能基，5)光安定性官能基，6)生物特性官能基，7)難燃性基，或8)抗靜電性基。
  9. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中，在含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物中，包含功能性賦予基之聚合性化合物的濃度為0.01至5質量%。
  10. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中，包含功能性賦予基之聚合性化合物係含有碳-碳雙鍵之全氟聚醚化合物。
  11. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中，含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物，係藉由 使(a)作為二異氰酸酯的三聚物之聚異氰酸酯與(b)具有活性氫之化合物反應而得到之包含含有碳-碳雙鍵之化合物(A)而成的組成物；成分(b)係(b1)及(b2)的組成物：(b1)具有活性氫之全氟聚醚；(b2)具有活性氫與至少1個碳-碳雙鍵之單體。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之方法，其成分(b)又含有(b3)具有活性氫之矽烷化合物。
  13. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中，包含功能性賦予基之聚合性化合物係至少具有1種硬化性部位之含氟聚合物(B)。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之方法，其中，含氟聚合物(B)係以下通式(B1)及(B2)之任一者所示之至少1種含氟聚合物：Rf-R41-R42-(R43-(R44)n1-R45-R46)α …(B1)(R46-R45-(R44)n1-R43)α-R42-R41-R42-(R43-(R44)n1-R45-R46)α …(B2)式中：Rf表示可經1個或1個以上的氟原子取代之碳數1至16的烷基，R41為下述式所示之基： -(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-(式中，a、b、c及d係分別獨立，為0以上200以下的整數，a、b、c及d之和至少是1，以括弧括起之各重覆單元在式中的存在順序為任意)，R42，在每次出現時係分別獨立地表示2至10價的有機基，R43，在每次出現時係分別獨立地表示2價的有機基，R44在每次出現時係分別獨立地表示R44a或R44b；惟，至少1個R44是R44a，R44a，在每次出現時係分別獨立地表示具有硬化性部位的2價有機基，R44b，在每次出現時係分別獨立地表示未具硬化性部位的2價有機基，R45表示-O-、-S-、-NH-或單鍵，R46表示Rf-R41-R42(式中，Rf、R41及R42與上述為相同意義)、1價的有機基或氫原子，n1是1以上50以下的整數，α是分別獨立地為1至9的整數。
  15. 如申請專利範圍第1或2項所述之方法，其中，包含功能性賦予基之聚合性化合物為至少具有1種硬化性部位的含氟含矽聚合物(C)。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之方法，其中，含氟含矽聚合物(C)係以下的通式(C1)及(C2)之任一者所示之含 氟含矽聚合物： 式中：Rf表示可經1個或1個以上的氟原子所取代之碳數1至16的烷基，R41為下述式所示之基：-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-(式中，a、b、c及d係分別獨立，為0以上200以下的整數，a、b、c及d的和至少是1，以括弧括起的各重覆單元在式中的存在順序為任意)，R42，在每次出現時係分別獨立地表示2至10價的有機基，R43，在每次出現時係分別獨立地表示2價的有機基，R44，在每次出現時係分別獨立地表示R44a或R44b；惟，至少1個R44是R44a，R44a，在每次出現時係分別獨立地表示具有硬化性部位之2價有機基， R44b，在每次出現時係分別獨立地表示未具硬化性部位之2價有機基，R45表示-O-、-S-、-NH-或單鍵，R47，在每次出現時係分別獨立，為2至10價的有機基，R51、R52、R53、R54、R55、R56及R57係分別獨立，為烷基、烷氧基或芳基，n1是1至50的整數，n3及n4係分別獨立，為0至50的整數，n3與n4的和至少是1以上，n2、n5及n6是分別獨立，為0至500的整數，α係分別獨立地為1至9的整數，β係分別獨立地為1至9的整數。
  17. 如申請專利範圍第11項所述之方法，其中，含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物復含有下述式(S1)及(S2)之任一者所示之至少1種的含矽聚合物(S)： 式中： R71、R72、R73、R74、R75、R76及R77係分別獨立地表示烷基、烷氧基或芳基，R78表示2價的有機基，X1表示氫原子、氯原子、氟原子或可經氟所取代之碳數1至10的烷基，n7及n8是分別獨立，為1以上500以下的整數。
  18. 一種功能性膜，其係藉由申請專利範圍第1至17項中任一項所述之方法而形成。
  19. 一種物品，係含有基材、與位在該基材上之申請專利範圍第18項所述之功能性膜。
  20. 一種裝置，其係用以實施申請專利範圍第1至17項中任一項所述之形成功能性膜之方法之裝置，該裝置具有：基體形成組成物膜形成部，係在基材上供給基體形成組成物而形成基體形成組成物膜者；與含功能性賦予基之聚合性化合物的供給部，係在上述基體形成組成物膜供給含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物者。
  21. 如申請專利範圍第20項所述之裝置，其係具有槽體，該槽體係具有：對基材提供基體形成組成物之噴嘴、與對基材提供含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物的其他噴嘴；在前述槽體中，於基材上應用基體形成組成物，形成基體形成組成物膜，其次，在基體形成組成物膜 上應用含有包含功能性賦予基之聚合性化合物的組成物。
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